WO2017033340A1 - 液晶パネル、液晶表示装置及び液晶パネルの製造方法 - Google Patents

液晶パネル、液晶表示装置及び液晶パネルの製造方法 Download PDF

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substrate
crystal panel
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gate wiring
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直樹 小谷
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堺ディスプレイプロダクト株式会社
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    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
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    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G02F1/1368—Active matrix addressed cells in which the switching element is a three-electrode device

Definitions

  • the present invention relates to a liquid crystal panel, a liquid crystal display device, and a method for manufacturing a liquid crystal panel, each including a substrate on which one side of a gate wiring and a source wiring are sequentially provided, and a counter substrate disposed to face the substrate.
  • the liquid crystal display device has a structure in which liquid crystal is sealed between two so-called TFT substrates and a CF substrate.
  • TFT substrates In the case where the distance between the TFT substrate and the CF substrate is not kept constant, luminance unevenness occurs. Therefore, many liquid crystal display devices are provided with a spacer between the TFT substrate and the CF substrate.
  • the opposing surfaces are covered with an alignment film.
  • an alignment film As described above, when the spacer is displaced from the original position, there is a risk of hitting the alignment film around the original position, which may cause damage, and in this case, an alignment error of liquid crystal molecules occurs, resulting in color unevenness. .
  • Patent Document 1 a hole penetrating the laminate is formed in the substrate on which the laminate including the alignment film is formed in order to correspond to the spacer, and the spacer is placed inside the hole.
  • a liquid crystal display in which the position of the spacer can be prevented from shifting by positioning.
  • an object of the present invention is to provide a substrate in which a gate wiring and a source wiring are sequentially provided on one side, and a counter substrate disposed to face the substrate.
  • a liquid crystal panel provided, when the holding member that holds the gap between the substrate and the counter substrate is displaced, it is possible to prevent the tip portion of the holding member from damaging the substrate and causing problems in image display.
  • An object of the present invention is to provide a liquid crystal panel, a liquid crystal display device, and a method for manufacturing the liquid crystal panel.
  • a liquid crystal panel according to the present invention is a liquid crystal panel comprising a substrate provided with gate wiring and source wiring on one surface side, and a counter substrate disposed to face the substrate, and is projected from the counter substrate, And a stop projection provided between the gate wiring and the counter substrate to prevent displacement of the holding member.
  • the holding protrusion prevents the holding member from being displaced, and when the holding member is displaced, the tip of the holding member may damage the substrate, causing a problem in image display. Can be prevented.
  • the liquid crystal panel according to the present invention is characterized in that the stop protrusion is formed to surround the tip of the holding member at a position corresponding to the gate wiring in the facing direction of the substrate and the counter substrate.
  • the stop protrusion is formed so as to surround the front end of the holding member in the facing direction of the substrate and the counter substrate, thereby preventing displacement of the holding member.
  • a pedestal pattern corresponding to the stop protrusion is formed on the upper side of the gate wiring in the facing direction, and the stop protrusion is formed by an insulating film covering the base pattern. It is characterized by.
  • the stop protrusion is formed by the insulating film covering the pedestal pattern, a separate process for forming the stop protrusion is not required.
  • the liquid crystal panel according to the present invention is characterized in that the pedestal pattern is made of the same material as the source wiring.
  • the pedestal pattern is made of the same material as the source wiring, that is, the pedestal pattern is formed in the formation process of the source wiring, it is a separate step for forming the pedestal pattern. No process is required.
  • an insulating film and a semiconductor film of the gate wiring are interposed between the base pattern and the gate wiring, and the holding member is positioned between the base patterns. It is characterized by.
  • the stop projection formed at a location related to the pedestal pattern is in the opposing direction. Therefore, since the holding member is positioned between the pedestal patterns, displacement of the holding member can be prevented by the stop protrusion.
  • a liquid crystal display device includes the liquid crystal panel according to any one of the foregoing inventions and a light source that irradiates light to the liquid crystal panel, and uses the light from the light source to display an image on the liquid crystal panel. It is characterized by displaying.
  • the liquid crystal panel is irradiated with light from the light source, and an image is displayed on the liquid crystal panel.
  • the method for manufacturing a liquid crystal panel according to the present invention includes a substrate and a counter substrate disposed opposite to the substrate, wherein a gate wiring and a source wiring are provided on one surface side of the substrate facing the counter substrate, and the counter
  • a protrusion that prevents the holding member from being displaced is provided between the gate wiring and the counter substrate.
  • the stop protrusion is formed between the gate wiring and the counter substrate.
  • the projecting step includes a step of forming an insulating film on the gate wiring, and a semiconductor film is selectively formed on one surface of the insulating film facing the counter substrate.
  • a source wiring step for forming the source wiring a step of forming a pedestal pattern corresponding to the stop protrusion on one surface of the semiconductor film facing the counter substrate during the source wiring step, Forming a transparent insulating film covering the insulating film of the gate wiring, the semiconductor film, and the pedestal pattern wiring.
  • the insulating film is formed on the gate wiring, and the semiconductor film is selectively formed on one surface of the insulating film facing the counter substrate.
  • the pedestal pattern is formed on one surface of the semiconductor film facing the counter substrate, and an insulating film of the gate wiring, the semiconductor film, and a transparent insulating film that covers the pedestal pattern are formed. At this time, the stop protrusion is formed.
  • the method for manufacturing a liquid crystal panel according to the present invention is characterized in that the semiconductor film includes a semiconductor film containing impurities and a semiconductor film containing no impurities.
  • the semiconductor film is formed, for example, by laminating a semiconductor film not containing impurities and a semiconductor film containing impurities in this order.
  • the displacement of the holding member is prevented by the stop protrusion, and when the holding member is displaced, the tip of the holding member may damage the substrate, causing a problem in image display. Can be prevented.
  • the television receiver according to the embodiment it is a plan view of the substrate showing the main configuration of the TFT substrate and the CF substrate. It is process drawing explaining the manufacturing method of the TFT substrate of the television receiver which concerns on this Embodiment. It is process drawing explaining the manufacturing method of the TFT substrate of the television receiver which concerns on this Embodiment. It is process drawing explaining the manufacturing method of the TFT substrate of the television receiver which concerns on this Embodiment. It is process drawing explaining the manufacturing method of the TFT substrate of the television receiver which concerns on this Embodiment. It is process drawing explaining the manufacturing method of the TFT substrate of the television receiver which concerns on this Embodiment. It is process drawing explaining the manufacturing method of the TFT
  • the liquid crystal panel and the liquid crystal display device according to the embodiment of the present invention are applied to a television receiver having a so-called edge-type backlight will be described in detail with reference to the drawings.
  • the present invention is not limited to a television receiver having an edge type backlight, but can be applied to a television receiver having a direct type backlight.
  • FIG. 1 is a front view showing an external appearance of a television receiver according to the embodiment
  • FIG. 2 is an exploded perspective view showing a main configuration of the television receiver according to the embodiment.
  • Reference numeral 100 in the figure denotes the television receiver according to the first embodiment.
  • the television receiver 100 includes a rectangular liquid crystal display panel 2 (liquid crystal panel) that displays an image on one surface of the front side.
  • the liquid crystal display panel 2 includes a holding member 23 described later.
  • An optical sheet 3 and a light source device 1 are disposed on the back side of the liquid crystal display panel 2.
  • the light source device 1 includes a light source unit 14 (light source), a light guide plate 11, and a reflection sheet 12.
  • the optical sheet 3 is disposed so that one surface thereof faces the other surface of the liquid crystal display panel 2, and the light guide plate 11 is disposed so that one surface thereof faces the other surface of the optical sheet 3. 12 is arranged so that one surface thereof faces the other surface of the light guide plate 11.
  • a bezel 4 is provided on the peripheral side of the liquid crystal display panel 2, the optical sheet 3, and the light source device 1, and the peripheral portion of the liquid crystal display panel 2 is covered with the bezel 4.
  • the bezel 4 has a rectangular cylindrical shape that follows the shape of the one surface 21 of the liquid crystal display panel 2 visually recognized by the user.
  • the bezel 4 has a rectangular display window 41 opened at one end on the liquid crystal display panel 2 side. The user can visually recognize an image displayed on the one surface 21 of the liquid crystal display panel 2 through the display window 41.
  • the edge from the edge of the one end of the bezel 4 to the edge of the display window 41 has a predetermined width.
  • a hollow rectangular frame portion 42 is provided around the one end portion of the bezel 4.
  • the peripheral portion of one surface 21 is covered with the frame portion 42 of the bezel 4.
  • FIG. 3 is a partial cross-sectional view showing the periphery of the holding member 23 in the liquid crystal display panel 2 of the television receiver 100 according to the embodiment.
  • the TFT substrate 24 side is the lower side and the CF substrate 22 side is the upper side.
  • the liquid crystal display panel 2 includes a TFT substrate 24 (substrate) and a CF substrate 22 (counter substrate) facing each other, and polarizing plates (not shown) are provided on the lower side of the TFT substrate 24 and the upper side of the CF substrate 22, respectively. These polarizing plates are arranged so that their polarization axes are orthogonal to each other.
  • FIG. 4 is a plan view of the substrate showing the main configuration of the TFT substrate 24 and the CF substrate 22 in the television receiver 100 according to the embodiment.
  • the TFT substrate 24 has a substrate 247 made of a transparent material such as glass or plastic.
  • a case where the substrate 247 is a glass substrate will be described as an example.
  • a gate wiring 246, a gate insulating film 245, a semiconductor film 244, a pedestal pattern 243 corresponding to a stop projection 241 described later, and a transparent insulating film 242 (insulating) Film On the upper surface side of the glass substrate 247 facing the CF substrate 22, a gate wiring 246, a gate insulating film 245, a semiconductor film 244, a pedestal pattern 243 corresponding to a stop projection 241 described later, and a transparent insulating film 242 (insulating) Film).
  • a plurality of gate wirings 246 are formed on the upper surface of the glass substrate 247.
  • a gate insulating film 245 that insulates the gate wiring 246 is formed on the upper surface side of the gate wiring 246 and the upper surface of the glass substrate 247.
  • the gate insulating film 245 includes SiNx.
  • a semiconductor film 244 is selectively formed on the upper surface of the gate insulating film 245. More specifically, a semiconductor film 244 is partially formed at a position corresponding to the gate wiring 246 in the facing direction of the CF substrate 22 and the TFT substrate 24. That is, the semiconductor film 244 is formed at four positions with a predetermined distance from one gate wiring 246.
  • the semiconductor film 244 has two layers. One of the two layers is a semiconductor layer containing no impurity, and the other is a semiconductor layer containing an impurity.
  • the one semiconductor layer includes genuine amorphous silicon, and the other semiconductor layer includes n-type amorphous silicon.
  • the one semiconductor layer and the other semiconductor layer are formed in this order on the upper surface of the gate insulating film 245.
  • a base pattern 243 is formed on the upper surface of each semiconductor film 244. That is, the base pattern 243 is formed at a position corresponding to the semiconductor film 244 in the facing direction of the CF substrate 22 and the TFT substrate 24 (hereinafter simply referred to as the facing direction). In other words, the pedestal pattern 243 is formed at a position in alignment with the gate wiring 246 and the semiconductor film 244 in the facing direction.
  • the pedestal pattern 243 is a pattern that serves as a pedestal for forming the stop protrusion 241 and is formed when the source wiring is formed, and thus is made of the same material as the source wiring.
  • the portion where the semiconductor film 244 and the base pattern 243 are laminated protrudes in the facing direction as compared with the other portions, particularly at the position corresponding to the gate wiring 246.
  • a transparent insulating film 242 is formed on the upper surface side of the base pattern 243 and the source wiring (not shown). More specifically, the upper surface of the pedestal pattern 243, the side surfaces of the pedestal pattern 243 and the semiconductor film 244, and the upper surface of the gate insulating film 245 (excluding the portion where the semiconductor film 244 and the pedestal pattern 243 are formed) are transparent insulating film 242. Covered by.
  • the transparent insulating film 242 includes, for example, a resin material.
  • An alignment film (not shown) is formed on the upper surface side of the transparent insulating film 242.
  • stop projections 241 are formed in the opposite direction at positions corresponding to the base pattern 243 in the transparent insulating film 242. In other words, each stop protrusion 241 protrudes from the upper surface side of the base pattern 243. As will be described later, the holding member 23 is positioned between the stop protrusions 241 and 241 and surrounded by the four stop protrusions 241 (see FIG. 4).
  • the CF substrate 22 includes a glass substrate 221, a black matrix 223, a color filter 222, a common electrode 224, and a holding member 23.
  • a black matrix 223 made of, for example, a black resin material is formed on the lower surface of the glass substrate 221 arranged to face the TFT substrate 24.
  • the black matrix 223 forms a so-called light shielding region. That is, the light emitted from the light source device 1 is incident on the liquid crystal L through the active area shown in FIG. 4, but cannot pass through the light-shielding area shown in FIG. 4, so that the influence of the holding member 23 can be prevented.
  • the light shielding region related to the black matrix 223 is formed so as to cover the gate wiring 246, the base pattern 243, and the stop projection 241 in the facing direction.
  • a color filter 222 relating to red (R), green (G), and blue (B) (not shown) is formed on the lower surface side of the glass substrate 221.
  • a common electrode 224 is formed below the black matrix 223 and the color filter 222, and the common electrode 224 is made of, for example, ITO.
  • the lower surface of the common electrode 224 and the holding member 23 are covered with a vertical alignment film (not shown).
  • a holding member 23 is provided on the lower surface of the common electrode 224 so as to protrude toward the TFT substrate 24 so as to keep the distance between the TFT substrate 24 and the CF substrate 22 constant.
  • the holding member 23 is made of, for example, an insulating resin, and has a columnar shape whose diameter is reduced toward the protruding tip.
  • the holding member 23 is provided at a position corresponding to the gate wiring 246 in the facing direction. More specifically, the holding member 23 is located between the pedestal pattern 243 and the pedestal pattern 243 at a position facing the gate wiring 246 in the facing direction. As a result, the tip of the holding member 23 is surrounded by the four stop projections 241.
  • the holding member 23 can be prevented from being displaced in advance. For example, when the liquid crystal display panel 2 or the television receiver 100 is transported or handled, there is a possibility that the position of the front end portion of the holding member 23 is shifted from the original position due to vibration, impact, or the like.
  • the front end portion of the holding member 23 moves from the original position, and hits the alignment film of the TFT substrate 24 in the active region and damages the alignment film. Turn on. In such a case, an alignment abnormality of liquid crystal molecules occurs, and light unevenness appears on one surface 21 of the liquid crystal display panel 2.
  • the distal end portion of the holding member 23 is surrounded by the plurality of stop protrusions 241 as described above, movement (displacement) of the distal end portion of the holding member 23 is performed. ) Is suppressed by the stop protrusions 241, 241,. Therefore, as described above, it is possible to prevent light unevenness from appearing on the one surface 21 of the liquid crystal display panel 2 and to maintain good display quality.
  • 5A to 5E are process diagrams illustrating a method for manufacturing the TFT substrate 24 of the television receiver 100 according to the present embodiment.
  • a gate metal film is formed on the upper surface of the glass substrate 247, and a gate wiring 246 is formed by patterning the gate metal.
  • a SiNx layer as the gate insulating film 245 and a semiconductor film to be the semiconductor film 244 are formed by chemical vapor deposition (CVD) (see FIG. 5A).
  • a patterning process is performed on the semiconductor film by photolithography and dry etching to form a semiconductor film 244 (see FIG. 5B).
  • a Cu film as a base layer 243 and a source layer of such source wiring is deposited on the upper side of the semiconductor film 244 by sputtering (see FIG. 5C).
  • patterning is performed on the source layer (Cu film) by photolithography and wet etching to form a base pattern 243 and source wiring (not shown) (see FIG. 5D).
  • an organic film is applied and subjected to exposure, development, and baking, thereby forming the transparent insulating film 242 and the stop protrusion 241. (See FIG. 5E).
  • the portion formed by stacking the semiconductor film 244 and the pedestal pattern 243 protrudes in the opposite direction from the other portions, and the transparent insulating film 242 is formed accordingly. Accordingly, a stop protrusion 241 is formed at the protruding portion of the transparent insulating film 242.
  • the process can be further shortened.
  • the holding member 23 is provided at a position corresponding to the gate wiring 246 in the facing direction has been described as an example, but the present invention is not limited thereto.
  • the holding member 23 may be provided at a position corresponding to the pedestal pattern 243.

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Abstract

一面側にゲート配線（２４６）及びソース配線が設けられた基板（２４）と、該基板（２４）と対向配置された対向基板（２２）とを備える液晶パネル（２）において、前記対向基板（２２）から突設され、前記基板（２４）との間隔を保持する保持部材（２３）と、前記ゲート配線（２４６）と前記対向基板（２２）との間に設けられ、前記保持部材（２３）の変位を防止する止め突起（２４１）とを備え、前記止め突起（２４１）によって、前記保持部材（２３）の変位が防止され、該保持部材（２３）が変位する際、該保持部材（２３）の先端部が前記基板（２４）を傷つけて画像表示において不具合が生じることを防止する。

Description

液晶パネル、液晶表示装置及び液晶パネルの製造方法
　本発明は、一面側にゲート配線及びソース配線が順に設けられた基板と、該基板と対向配置された対向基板とを備える液晶パネル、液晶表示装置及び液晶パネルの製造方法に関する。
　液晶表示装置はいわゆるＴＦＴ基板及びＣＦ基板の２枚の透明基板の間に液晶を封入した構造を有している。ＴＦＴ基板及びＣＦ基板の間の間隔が一定に保持されない場合、輝度ムラが生じることから、液晶表示装置の多くはＴＦＴ基板及びＣＦ基板の間にスペーサを設けている。
　しかしながら、このような従来の液晶表示装置においては、該液晶表示装置の組み立て、運搬等の取り扱いの際、該液晶表示装置の液晶パネルに、振動、衝撃、外部圧力などが加わり、前記スペーサが本来の位置から変位する場合があった。
　一般にＴＦＴ基板及びＣＦ基板においては、夫々の対向面が配向膜によって覆われている。しかし、上述したように、スペーサが本来の位置から変位する際には、本来の位置の周辺の配向膜に当たって傷つける虞があり、斯かる場合、液晶分子の配向異常が発生するので色ムラが生じる。
　これに対しては、特許文献１において、配向膜を含む積層体が形成されている基板に、スペーサに対応するため、前記積層体を貫通する孔を形成し、該孔の内部に該スペーサを位置させることにより、スペーサの位置がずれることを防止できる液晶表示が開示されている。
特開２０１１－２２５３５号公報
　しかしながら、特許文献１に係る液晶表示装置においては、スペーサの位置がずれることを防止するために、該スペーサが挿入される孔を基板に形成する工程を別に設ける必要があり、斯かる液晶表示装置の製造工程が複雑となり、かつ、製造コストが高くなるという問題がある。
　本発明は、斯かる事情に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、一面側にゲート配線及びソース配線が順に設けられた基板と、該基板と対向配置された対向基板とを備える液晶パネルにおいて、前記基板と前記対向基板との間隔を保持する保持部材が変位する際、該保持部材の先端部が前記基板を傷つけ、画像表示において不具合が生じることが未然に防ぐことができる液晶パネル、液晶表示装置及び液晶パネルの製造方法を提供することにある。
　本発明に係る液晶パネルは、一面側にゲート配線及びソース配線が設けられた基板と、該基板と対向配置された対向基板とを備える液晶パネルにおいて、前記対向基板から突設され、前記基板との間隔を保持する保持部材と、前記ゲート配線と前記対向基板との間に設けられ、前記保持部材の変位を防止する止め突起とを備えることを特徴とする。
　本発明にあっては、前記止め突起によって、前記保持部材の変位が防止され、該保持部材が変位する際、該保持部材の先端部が前記基板を傷つけ、画像表示において不具合が生じることが未然に防止できる。
　本発明に係る液晶パネルは、前記止め突起は、前記基板及び前記対向基板の対向方向にて、前記ゲート配線と対応する位置に、前記保持部材の先端を囲むように形成されていることを特徴とする。
　本発明にあっては、前記止め突起は、前記基板及び前記対向基板の対向方向にて、前記保持部材の先端を囲むように形成されることにより、該保持部材の変位を防止する。
　本発明に係る液晶パネルは、前記対向方向にて、前記ゲート配線の上側に、前記止め突起に対応する台座パターンが形成されており、前記止め突起は、前記台座パターンを覆う絶縁膜によって形成されていることを特徴とする。
　本発明にあっては、前記止め突起が前記台座パターンを覆う前記絶縁膜によって形成されるので、該止め突起を形成するための別段の工程を必要としない。
　本発明に係る液晶パネルは、前記台座パターンは前記ソース配線と同材料からなることを特徴とする。
　本発明にあっては、前記台座パターンが前記ソース配線と同材料からなるので、即ち、前記台座パターンが前記ソース配線の形成工程にて形成されるので、前記台座パターンを形成するための別段の工程を必要としない。
　本発明に係る液晶パネルは、前記台座パターンと前記ゲート配線との間には、該ゲート配線の絶縁膜及び半導体膜が介在しており、前記保持部材は前記台座パターン同士の間に位置することを特徴とする。
　本発明にあっては、前記台座パターンと前記ゲート配線との間に前記絶縁膜及び前記半導体膜が介在しているので、前記台座パターンに係る箇所に形成される前記止め突起は、前記対向方向にて、他に比べて突出することとなり、前記台座パターン同士の間に前記保持部材が位置することにより、該保持部材の変位が前記止め突起によって防止できる。
　本発明に係る液晶表示装置は、前述の発明の何れかに記載の液晶パネルと、該液晶パネルに光を照射する光源とを備え、前記光源からの光を用いて、前記液晶パネルに画像を表示することを特徴とする。
　本発明にあっては、前記光源からの光が前記液晶パネルに照射され、該液晶パネルに画像が表示される。
　本発明に係る液晶パネルの製造方法は、基板と、該基板と対向配置された対向基板とを備え、該対向基板と対向する前記基板の一面側にゲート配線及びソース配線が設けられ、前記対向基板には前記基板との間隔を保持する保持部材が突設されている液晶パネルの製造方法において、前記保持部材の変位を防止する止め突起を前記ゲート配線と前記対向基板との間に設ける突起工程を含むことを特徴とする。
　本発明にあっては、前記基板の一面側に前記ゲート配線及び前記ソース配線が設けられた後、前記止め突起が前記ゲート配線と前記対向基板との間に形成される。
　本発明に係る液晶パネルの製造方法は、前記突起工程は、前記ゲート配線に対して絶縁膜を形成する工程と、前記絶縁膜にて前記対向基板と対向する一面に半導体膜を選択的に形成する工程と、前記ソース配線を形成するソース配線工程と、前記ソース配線工程の際、前記半導体膜の前記対向基板と対向する一面に、前記止め突起に対応する台座パターンを形成する工程と、前記ゲート配線の絶縁膜、前記半導体膜、及び前記台座パターン配線を覆う透明絶縁膜を形成する工程とを含むことを特徴とする。
　本発明にあっては、前記突起工程では、前記ゲート配線に対して前記絶縁膜が形成され、該絶縁膜にて前記対向基板と対向する一面に前記半導体膜が選択的に形成され、次いでの前記ソース配線工程の際、該半導体膜にて前記対向基板と対向する一面に前記台座パターンが形成され、前記ゲート配線の絶縁膜、前記半導体膜、及び前記台座パターンを覆う透明絶縁膜が形成され、この時、前記止め突起が形成される。
　本発明に係る液晶パネルの製造方法は、前記半導体膜は不純物を含む半導体膜及び不純物を含まない半導体膜を有することを特徴とする。
　本発明にあっては、前記半導体膜は、例えば、不純物を含まない半導体膜と、不純物を含む半導体膜とをこの順に積層することにより形成される。
　本発明によれば、前記止め突起によって、前記保持部材の変位が防止され、該保持部材が変位する際、該保持部材の先端部が前記基板を傷つけ、画像表示において不具合が生じることが未然に防止できる。
実施の形態に係るテレビジョン受像機の外観を示す正面図である。 実施の形態に係るテレビション受像機の要部構成を示す分解斜視図である。 実施の形態に係るテレビジョン受像機の液晶表示パネルにおける、保持部材の周辺を示す部分断面図である。 実施の形態に係るテレビジョン受像機において、ＴＦＴ基板及びＣＦ基板の要部構成を示す基板の平面図である。 本実施の形態に係るテレビジョン受像機のＴＦＴ基板の製造方法を説明する工程図である。 本実施の形態に係るテレビジョン受像機のＴＦＴ基板の製造方法を説明する工程図である。 本実施の形態に係るテレビジョン受像機のＴＦＴ基板の製造方法を説明する工程図である。 本実施の形態に係るテレビジョン受像機のＴＦＴ基板の製造方法を説明する工程図である。 本実施の形態に係るテレビジョン受像機のＴＦＴ基板の製造方法を説明する工程図である。
　以下に、本発明の実施の形態に係る液晶パネル及び液晶表示装置をいわゆるエッジ型のバックライトを備えたテレビジョン受像機に適用した場合を例として、図面に基づいて詳述する。しかし、本発明はエッジ型のバックライトを備えたテレビジョン受像機に限るものでなく、直下型のバックライトを備えたテレビジョン受像機にも適用可能であることは言うまでもない。
　図１は実施の形態に係るテレビジョン受像機の外観を示す正面図であり、図２は実施の形態に係るテレビション受像機の要部構成を示す分解斜視図である。図中符号１００は、実施の形態１に係るテレビジョン受像機を示す。
　テレビジョン受像機１００は、図１に示したように、表側の一面に映像を表示する矩形の液晶表示パネル２（液晶パネル）を備えている。液晶表示パネル２は後述する保持部材２３を備えている。また、液晶表示パネル２の裏側には、光学シート３及び光源装置１が配置されている。光源装置１は、光源部１４（光源）と、導光板１１と、反射シート１２とを備えている。
　光学シート３はその一面が液晶表示パネル２の他面と対向するように配置されており、また、導光板１１はその一面が光学シート３の他面と対向するように配置され、更に反射シート１２はその一面が導光板１１の他面と対向するように配置されている。
　一方、液晶表示パネル２、光学シート３及び光源装置１の周縁側にはベゼル４が設けられており、液晶表示パネル２の周縁部はベゼル４によって覆われている。ベゼル４は、ユーザによって視認される液晶表示パネル２の一面２１の形状に倣う矩形の筒形状をなしている。ベゼル４は液晶表示パネル２側の一端部に矩形の表示窓４１が開口している。ユーザは表示窓４１を介して液晶表示パネル２の一面２１に表示される画像を視認することができる。
　更に、ベゼル４の前記一端部の縁から表示窓４１の縁までは所定の幅を有している。換言すれば、ベゼル４の前記一端部の内側には中空矩形の額縁部４２が周設されている。液晶表示パネル２は、一面２１の周縁部がベゼル４の額縁部４２によって覆われている。
　図３は実施の形態に係るテレビジョン受像機１００の液晶表示パネル２における、保持部材２３の周辺を示す部分断面図である。以下においては、説明の便宜上、後述するＴＦＴ基板２４及びＣＦ基板２２において、ＴＦＴ基板２４側を下方とし、ＣＦ基板２２側を上方とする。
　液晶表示パネル２は互いに対向するＴＦＴ基板２４（基板）及びＣＦ基板２２（対向基板）を備えており、ＴＦＴ基板２４の下側及びＣＦ基板２２の上側には夫々偏光板（図示せず）が配置されており、これら偏光板は、偏光軸が相互直交するように配置されている。
　ＴＦＴ基板２４及びＣＦ基板２２の間には、例えば、垂直配向型液晶Ｌが封入されている。また、ＴＦＴ基板２４及びＣＦ基板２２は保持部材２３によって間の間隔が一定に保たれている。
　図４は実施の形態に係るテレビジョン受像機１００において、ＴＦＴ基板２４及びＣＦ基板２２の要部構成を示す基板の平面図である。
　ＴＦＴ基板２４は、ガラス又はプラスチック等の透明材料からなる基板２４７を有している。以下においては、基板２４７がガラス基板である場合を例として説明する。ＣＦ基板２２と対向するガラス基板２４７の上面側には、ゲート配線２４６と、ゲート絶縁膜２４５と、半導体膜２４４と、後述の止め突起２４１に対応する台座パターン２４３と、透明絶縁膜２４２（絶縁膜）とが順に形成されている。
　すなわち、ガラス基板２４７の前記上面には、複数本のゲート配線２４６が形成されている。また、ゲート配線２４６の上面側及びガラス基板２４７の前記上面には、ゲート配線２４６を絶縁するゲート絶縁膜２４５が形成されている。例えば、ゲート絶縁膜２４５はＳｉＮｘを含む。
　また、ゲート絶縁膜２４５の上面には半導体膜２４４が選択的に形成されている。より詳しくは、ＣＦ基板２２及びＴＦＴ基板２４の対向方向において、ゲート配線２４６に対応する位置に、半導体膜２４４が部分的に形成されている。すなわち、１つのゲート配線２４６に対して、４箇所に半導体膜２４４が互いに所定距離を隔てて形成されている。
　半導体膜２４４は２つの層を有している。該２つの層のうち一方は、不純物を含まない半導体層であり、他方は不純物を含む半導体層である。例えば、前記一方の半導体層は真正型アモルファスシリコンを含み、前記他方の半導体層はｎ型アモルファスシリコンを含む。前記一方の半導体層及び前記他方の半導体層は、ゲート絶縁膜２４５の上面に、この順にて形成されている。
　各半導体膜２４４の上面には台座パターン２４３が夫々形成されている。すなわち、ＣＦ基板２２及びＴＦＴ基板２４の対向方向（以下、単に対向方向という。）において、半導体膜２４４に対応する位置には、台座パターン２４３が形成されている。換言すれば、前記対向方向にてゲート配線２４６及び半導体膜２４４と整合する箇所に、台座パターン２４３が隔てて形成されている。
　ここで、台座パターン２４３は、止め突起２４１の形成のための台座となるパターンであり、斯かるソース配線の形成の際に形成されるので、該ソース配線と同一の材料からなる。
　以上によって、特にゲート配線２４６に対応する位置では、半導体膜２４４及び台座パターン２４３が積層された部分が、他の部分に比べて前記対向方向において突出していることとなる。
　更に、台座パターン２４３及びソース配線（図示せず）の上面側には透明絶縁膜２４２が形成されている。より詳しくは、台座パターン２４３の前記上面、台座パターン２４３及び半導体膜２４４の側面、ゲート絶縁膜２４５の前記上面（半導体膜２４４及び台座パターン２４３が形成された部分を除く。）は透明絶縁膜２４２によって覆われている。透明絶縁膜２４２は、例えば、樹脂材料を含む。また、透明絶縁膜２４２の上面側は配向膜（図示せず）が形成されている。
　また、透明絶縁膜２４２の内、台座パターン２４３と対応する位置には、前記対向方向にて止め突起２４１が形成されている。換言すれば、各止め突起２４１は台座パターン２４３の上面側に突設されている。後述するように、保持部材２３は止め突起２４１と止め突起２４１との間に位置され、４箇所の止め突起２４１によって囲まれている（図４参照）。
　一方、ＣＦ基板２２は、ガラス基板２２１と、ブラックマトリクス２２３と、カラーフィルタ２２２と、コモン電極２２４と、保持部材２３とを有している。ＴＦＴ基板２４と対向配置されたガラス基板２２１の下面には、例えば、黒色樹脂材料からなるブラックマトリクス２２３が形成されている。ブラックマトリクス２２３はいわゆる遮光領域を形成する。すなわち、光源装置１から発せられた光は、図４に示すアクティブ領域を介して液晶Ｌに入射されが、図４に示す遮光領域は通過できないので、保持部材２３の影響を防ぐことができる。
　また、ブラックマトリクス２２３に係る遮光領域は、前記対向方向において、ゲート配線２４６、台座パターン２４３及び止め突起２４１を覆う範囲となるように形成されている。
　ガラス基板２２１の下面側には、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）（図示せず）に係るカラーフィルタ２２２が形成されている。ブラックマトリクス２２３及びカラーフィルタ２２２の下側にはコモン電極２２４が形成されており、コモン電極２２４は、例えば、ＩＴＯからなる。コモン電極２２４の下面及び保持部材２３は垂直配向膜（図示せず）によって覆われている。
　なお、コモン電極２２４の下面には、ＴＦＴ基板２４とＣＦ基板２２との間隔を一定に保持する保持部材２３がＴＦＴ基板２４に向けて突設されている。保持部材２３は、例えば、絶縁性の樹脂からなり、突出先を向けて縮径する円柱状をなしている。
　また、保持部材２３は、前記対向方向においてゲート配線２４６に対応する位置に設けられている。より詳しくは、保持部材２３は、前記対向方向にてゲート配線２４６と対向する位置であって、台座パターン２４３及び台座パターン２４３の間に設けられている。これによって、保持部材２３の先端部は４箇所の止め突起２４１によって囲まれている。
　本実施の形態に係る液晶表示パネル２においては、以上のような構成を有することから、保持部材２３が変位することを未然に防止することが出来る。例えば、液晶表示パネル２又はテレビジョン受像機１００を運搬等取り扱う際に、振動、衝撃等により保持部材２３の先端部の位置が元の位置からずれる可能性がある。
　このように、保持部材２３の先端部の位置がずれた場合は、保持部材２３の先端部が元の位置から移動して、前記アクティブ領域のＴＦＴ基板２４の前記配向膜に当たって該配向膜に傷をつける。このような場合は液晶分子の配向異常が発生し、液晶表示パネル２の一面２１に光のムラが表れる。
　しかしなから本実施の形態に係る液晶表示パネル２においては、以上のように保持部材２３の先端部が複数の止め突起２４１によって囲まれていることから、保持部材２３の先端部の移動（変位）が止め突起２４１，２４１，…２４１、によって抑制される。従って、上述したように、光のムラが液晶表示パネル２の一面２１に表れることを未然に防止することができ、良好な表示品質を保つことができる。
　以下においては、本実施の形態に係るＴＦＴ基板２４を製造する方法について説明する。図５Ａ～Ｅは本実施の形態に係るテレビジョン受像機１００のＴＦＴ基板２４の製造方法を説明する工程図である。
　先ず、ガラス基板２４７の上面にゲート金属の成膜が行われ、該ゲート金属に対してパターニング処理が施されることにより、ゲート配線２４６が形成される。続いて、化学蒸着法（ＣＶＤ）により、ゲート絶縁膜２４５としてのＳｉＮｘ層と、半導体膜２４４にすべく半導体膜とが成膜される（図５Ａ参照）。
　次に、フォトリソグラフィー及びドライエッチングにより、前記半導体膜に対してパターニング処理が行われ、半導体膜２４４が形成される（図５Ｂ参照）。
　次いで、スパッタリングにて、台座パターン２４３及び斯かるソース配線のソースレイヤーとしてのＣｕ膜が半導体膜２４４の上側に蒸着される（図５Ｃ参照）。
　また、フォトリソグラフィー及びウェットエッチングにより、前記ソースレイヤー（Ｃｕ膜）に対してパターニング処理が行われ、台座パターン２４３及びソース配線（図示せず）が形成される（図５Ｄ参照）。
　台座パターン２４３及び前記ソース配線の上側に、透明絶縁膜２４２にすべく、例えば、有機膜が塗布され、露光、現像、焼成の処理を施すことにより、透明絶縁膜２４２及び止め突起２４１が形成される（図５Ｅ参照）。
　この際、上述したように、半導体膜２４４及び台座パターン２４３の積層による部分が他の部分よりも前記対向方向にて突出しており、透明絶縁膜２４２はこれに応じて形成される。従って、透明絶縁膜２４２において、斯かる突出の箇所には、止め突起２４１が形成される。
　以上に記載したように、本実施の形態では、止め突起２４１を形成するための別段の工程を設ける必要がなく、止め突起２４１のための台座パターン２４３の形成も、斯かるソース配線の際に、共に行われるので、更に工程を短くすることが出来る。
　以上の記載においては、保持部材２３が、前記対向方向において、ゲート配線２４６と対応する位置に設けられた場合を例に挙げて説明したが、本発明はこれに限るものでない。例えば、保持部材２３が台座パターン２４３と対応する位置に設けられた構成であっても良い。
　２　液晶表示パネル
　３　ＣＦ基板
　４　ＴＦＴ基板
　１４　光源部
　２３　保持部材
　１００　テレビジョン受像機
　２４１　止め突起
　２４２　透明絶縁膜
　２４３　台座パターン
　２４４　半導体膜
　２４５　ゲート絶縁膜
　２４６　ゲート配線

Claims (9)

  1. 　一面側にゲート配線及びソース配線が設けられた基板と、該基板と対向配置された対向基板とを備える液晶パネルにおいて、
    　前記対向基板から突設され、前記基板との間隔を保持する保持部材と、
    　前記ゲート配線と前記対向基板との間に設けられ、前記保持部材の変位を防止する止め突起とを備えることを特徴とする液晶パネル。
  2. 　前記止め突起は、
    　前記基板及び前記対向基板の対向方向にて、前記ゲート配線と対応する位置に、前記保持部材の先端を囲むように形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶パネル。
  3. 　前記対向方向にて、前記ゲート配線の上側に、前記止め突起に対応する台座パターンが形成されており、
    　前記止め突起は、前記台座パターンを覆う絶縁膜によって形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶パネル。
  4. 　前記台座パターンは前記ソース配線と同材料からなることを特徴とする請求項３に記載の液晶パネル。
  5. 　前記台座パターンと前記ゲート配線との間には、該ゲート配線の絶縁膜及び半導体膜が介在しており、
    　前記保持部材は前記台座パターン同士の間に位置することを特徴とする請求項３に記載の液晶パネル。
  6. 　請求項１から５の何れかに記載の液晶パネルと、
    　該液晶パネルに光を照射する光源とを備え、
    　前記光源からの光を用いて、前記液晶パネルに画像を表示することを特徴とする液晶表示装置。
  7. 　基板と、該基板と対向配置された対向基板とを備え、該対向基板と対向する前記基板の一面側にゲート配線及びソース配線が設けられ、前記対向基板には前記基板との間隔を保持する保持部材が突設されている液晶パネルの製造方法において、
    　前記保持部材の変位を防止する止め突起を前記ゲート配線と前記対向基板との間に設ける突起工程を含むことを特徴とする液晶パネルの製造方法。
  8. 　前記突起工程は、
    　前記ゲート配線に対して絶縁膜を形成する工程と、
    　前記絶縁膜にて前記対向基板と対向する一面に半導体膜を選択的に形成する工程と、
    　前記ソース配線を形成するソース配線工程と、
    　前記ソース配線工程の際、前記半導体膜の前記対向基板と対向する一面に、前記止め突起に対応する台座パターンを形成する工程と、
    　前記ゲート配線の絶縁膜、前記半導体膜、及び前記台座パターン配線を覆う透明絶縁膜を形成する工程と
    　を含むことを特徴とする請求項７に記載の液晶パネルの製造方法。　
  9. 　前記半導体膜は不純物を含む半導体膜及び不純物を含まない半導体膜を有することを特徴とする請求項８に記載の液晶パネルの製造方法。
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