WO2016129897A1 - 도전시트 및 도전패턴 - Google Patents

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송병훈
금동기
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    • H05K2201/10151—Sensor

Definitions

  • the present invention relates to a conductive sheet and a conductive pattern, and more particularly to a conductive sheet and a conductive pattern that can improve the conductivity.
  • the touch panel may be largely classified into a resistive touch panel and a capacitive touch panel.
  • the glass and the electrode are short-circuited by the pressure of the input device to detect the position.
  • the capacitive touch panel detects a change in capacitance between electrodes when a finger touches and detects a position thereof.
  • the resistive touch panel may be degraded due to repeated use, and scratches may occur. Accordingly, interest in capacitive touch panels with excellent durability and long lifespan is increasing.
  • the capacitive touch panel is defined as an effective area capable of inputting a touch command and an invalid area outside the effective area.
  • the electrode pattern formed in the effective region is formed of a transparent conductive material so as to transmit light from the display device.
  • the electrode pattern is formed of indium tin oxide (ITO).
  • ITO indium tin oxide
  • the indium tin oxide has a high sheet resistance, a high material cost, and an instability of indium supply and demand in the raw material market, and has a problem that cannot be used in a flexible display device which is a recent trend.
  • 1 is a view of a transparent electrode formed of a conventional silver nanowire.
  • the aspect ratio of the silver nanowire 200 is limited by the limitation of the material and the manufacturing process, and is manufactured to a small diameter of 100 nm for high transmittance, resulting in a relatively short length of 5 ⁇ m to 10 ⁇ m.
  • Silver nano wire 200 was applied to the transparent electrode.
  • the silver nanowire 200 requires a high conductivity in order to be applied to the transparent electrode, but in the case of the conventional silver nanowire 200, due to the short length, there is a problem in that the conductivity is low due to a large disconnection between the silver nanowires 200. .
  • the organic film 210 is present on the surface of each silver nano wire 200, so that resistance of the contact region between the silver nano wires 200 increases, and the silver nano wires 210 are electrically connected to each other. In order to add a separate treatment process there was a problem that the manufacturing cost rises.
  • One object of the present invention is to provide a conductive sheet and a conductive pattern to improve conductivity while maintaining light transmittance.
  • Another object of the present invention is to provide a conductive sheet and a conductive pattern to reduce the manufacturing cost.
  • a conductive sheet according to an aspect of the present invention includes a first nanostructure and a second nanostructure disposed to cross each other, wherein a thickness of an intersection region of the first nanostructure and the second nanostructure is the first nanostructure. And 0.6 times to 0.9 times the sum of the thicknesses of the non-cross region of the second nanostructure.
  • a conductive pattern including at least one unit conductive pattern for forming one touch pixel in the conductive pattern in the unit conductive pattern, the first nanostructure and the second are arranged to cross each other.
  • the thickness of the cross region of the first nanostructure and the second nanostructure is 0.6 to 0.9 times the sum of the thickness of the non-cross region of the first nanostructure and the second nanostructure.
  • the nanostructures of the conductive sheet and the conductive pattern are formed to have a long length by the field emission method, the cross-regions between the nanostructures can be increased to improve conductivity.
  • the cross region of the nanostructure of the conductive sheet and the conductive pattern is formed during the polymer removal process, a separate treatment process can be omitted, thereby reducing the manufacturing cost.
  • 1 is a view of a transparent electrode formed of a conventional silver nanowire.
  • FIG. 2 is an enlarged view of an intersection area of a conventional silver nanowire.
  • FIG 3 is a top view illustrating the conductive sheet according to the embodiment.
  • FIG. 4 is an enlarged view of region A of FIG. 3.
  • 5 is a view showing an electric field emission value according to the embodiment.
  • FIG. 6 is a view illustrating a part of an electrode pattern according to an embodiment.
  • FIG. 7 is an exploded perspective view illustrating a touch panel according to an embodiment.
  • FIG. 8 is a top view illustrating a touch panel according to an embodiment.
  • FIG. 9 is a perspective view of a display device to which a touch panel is applied according to an exemplary embodiment.
  • a conductive sheet according to an aspect of the present invention includes a first nanostructure and a second nanostructure disposed to cross each other, wherein a thickness of an intersection region of the first nanostructure and the second nanostructure is the first nanostructure. And 0.6 times to 0.9 times the sum of the thicknesses of the non-cross region of the second nanostructure.
  • the conductive sheet may include a matrix accommodating the first nanostructure and the second nanostructure, and the matrix may directly contact the first nanostructure and the second nanostructure.
  • the first nanostructure and the second nanostructure may be electrically connected to each other by the cross region.
  • the first nanostructure and the second nanostructure may be formed by spinning a mixed solution of a metal material and a polymer, and the cross region may be formed by removing the polymer after spinning.
  • the width of the crossing area may be 1.2 to 1.8 times greater than the width of the non-crossing area.
  • the first nanostructure and the second nanostructure may have an aspect ratio of 100,000 or more.
  • the first nanostructure and the second nanostructure may be formed by field emission.
  • the first nanostructure may have the same cross-sectional area in the cross region and the non-cross region.
  • the first nanostructure and the first nanostructure and the first conductive layer are arranged to cross each other in the unit conductive pattern. 2 nanostructures, wherein the thickness of the intersection region of the first nanostructure and the second nanostructure is 0.6 to 0.9 times the sum of the thicknesses of the non-cross region of the first nanostructure and the second nanostructure.
  • the first nanostructure has a first end and a second end, wherein the first end meets at the first side and the first side of the conductive pattern, and the second end is the second side and the second side of the conductive pattern. Meet at a point, the distance between the first point and the second point may be shorter than the length of the first nanostructure.
  • the first side surface and the second side surface may be adjacent to each other.
  • the first side and the second side may be opposite sides.
  • the conductive pattern may include a matrix accommodating the first nanostructure and the second nanostructure, and the matrix may directly contact the first nanostructure and the second nanostructure.
  • the first nanostructure and the second nanostructure may be electrically connected to each other by the cross region.
  • the first nanostructure and the second nanostructure may be formed by spinning a mixed solution of a metal material and a polymer, and the cross region may be formed by removing the polymer after spinning.
  • the width of the crossing area may be 1.2 to 1.8 times greater than the width of the non-crossing area.
  • the first nanostructure and the second nanostructure may be formed by field emission.
  • the first nanostructure may have the same cross-sectional area in the cross region and the non-cross region.
  • the first nanostructure may meet at least one or more points with a straight line connecting between the first point and the second point.
  • FIG 3 is a top view illustrating the conductive sheet according to the embodiment.
  • the conductive sheet 1 may include a plurality of nanostructures 10 and a matrix 20.
  • the nanostructure 10 may be a nanofiber having an aspect ratio of 100,000 or more.
  • the width of the nanostructure 10 may be 1um or less.
  • the nanostructure 10 may include a metal material.
  • the metal material may include silver, gold, copper, nickel, gold-plated silver, platinum, and palladium.
  • the nanostructure 10 may be defined as a silver nanostructure.
  • the nanostructure 10 may be formed of only a metal material.
  • the nanostructure 10 is formed in a small width and can not be seen by the naked eye, the conductive sheet 1 including the nanostructure 10 is ensured high light transmittance.
  • the matrix 20 constitutes a main body of the conductive sheet 1, and refers to a solid state material in which the nanostructure 10 is dispersed or embedded therein.
  • the matrix 20 may serve to protect the nanostructure 10 from the outside.
  • the matrix 20 may prevent oxidation of the nanostructure 10.
  • the matrix 20 may provide adhesion when the conductive sheet 1 is attached to another member such as a substrate.
  • the nanostructure 10 may be in direct contact with the matrix 20. That is, the outer surface of the nanostructure 10 may be in direct contact with the matrix 20.
  • the matrix 20 may comprise a conductive polymer. When the matrix 20 includes a conductive polymer, the matrix 20 may provide a path of charge transfer. The matrix 20 may serve as an auxiliary electrode when the conductive sheet 1 is used as an electrode because the matrix 20 provides a path of charge transfer.
  • the conductive polymer may be polyacetylene, polythiophene, polypyrrole, polyparaphenylin, polyparaphenylene vinylene, PEDOT: PSS, and carbon nanotubes, but are not limited thereto.
  • each nanostructure 10 may have a plurality of intersection points such as an A region in relation to other nanostructures 10. Can be.
  • FIG. 4 is an enlarged view of region A of FIG. 3.
  • 4A is a top view of the region A of FIG. 3, and
  • FIG. 4B is a cross-sectional view taken along the line X-X ′ of FIG. 4A.
  • the plurality of nanostructures 10 may include a first nanostructure 11 and a second nanostructure 13.
  • the plurality of nanostructures 10 may be formed in a cylindrical shape.
  • the first nanostructure 11 may cross the second nanostructure 13.
  • a region where the first nanostructure 11 and the second nanostructure 13 intersect may be defined as an intersection region 15.
  • the first nanostructure 11 includes a first noncross region 11a and a first cross region 11b
  • the second nanostructure 13 includes a second noncross region 13a and a second cross region. Region 13b may be included.
  • the first intersecting region 11b and the second intersecting region 13b form an intersecting region 15 as a region where the first nanostructure 11 and the second nanostructure 13 cross each other.
  • the first nanostructure 11 and the second nanostructure 13 are electrically connected at the cross region 15. That is, the first cross section 11b and the second cross section 13b are electrically connected to each other.
  • the first non-difference region 11a and the second non-difference region 13a may have the same width.
  • the first non-difference region 11a and the second non-difference region 13a may have the same thickness.
  • the same width and the same thickness may be included in the case of having the same value as well as designing the same value in the design, but a difference occurs within the error range during the process.
  • the first non-difference region 11a and the second non-difference region 13a may be formed to have a first width w1.
  • the first non-difference region 11a and the second non-difference region 13a may be formed to have a first thickness h1.
  • the crossing area 15 may be formed to have a thickness smaller than the sum of the thicknesses of the first non-crossing area 11a and the second non-crossing area 13a. That is, the cross region 15 may be formed to have a second thickness h2 that is less than twice the first thickness h1.
  • the intersecting area 15 may be formed to have a width greater than the width of the first non-crossing area 11a and the second non-crossing area 13a. That is, the first cross region 11b and the second cross region 13b may be formed to have a second width w2 greater than the first width w1.
  • the first crossing area 11b has a smaller thickness and a larger width than the first non-crossing area 11a, but the first crossing area 11b has the same cross-sectional area as the first non-crossing area 11a.
  • the first nanostructure 11 including the first intersecting region 11b and the first non-crossing region 11a may have the same cross-sectional area in all regions.
  • the cross-sectional areas of the first cross-sectional area 11b and the first non-crossing area 11a not only have the same value in numerical value, but are designed to have the same value in design, but also include a case where a cross-sectional area within an error range occurs during the process.
  • the XX ′ direction of the first nanostructure 11 is referred to as a longitudinal direction, and when the first nanostructure 11 is divided into the same length, each divided region may have the same volume.
  • the first cross region 11b is divided into arbitrary lengths, and the first non-cross region 11a is divided into the arbitrary lengths, the first cross region 11b is divided into a portion of the divided first cross region 11b.
  • a portion of the first non-difference region 11a may have the same volume.
  • the second cross region 13b has a smaller thickness and a larger width than the second non-cross region 13a, but the second cross region 13b has the same cross-sectional area as the second non-cross region 13a.
  • the second nanostructure 13 including the second intersecting region 13b and the second non-crossing region 13a may have the same cross-sectional area in all regions.
  • the cross-sectional areas of the second cross region 13b and the second non-crossing region 13a have not only the same numerical value but also have the same value in design, but also include the case where the cross-sectional area within the error range occurs during the process. can do.
  • the direction in which the second nanostructure 13 extends is called a longitudinal direction, and when the second nanostructure 13 is divided into the same length, each divided region may have the same volume. That is, when the second cross region 13b is divided into arbitrary lengths, and the second non-cross region 13a is divided into the arbitrary lengths, the second cross region 13b is divided into a part of the divided second cross region 13b. Portions of the second non-difference region 13a may have the same volume.
  • 5 is a view showing an electric field emission value according to the embodiment.
  • the electric field radiator 30 includes a nozzle 31, a syringe 32, a syringe pump 33, a power supply 34, and a collector 35.
  • the nozzle 31 may be connected to the syringe 32, and the syringe 32 may be connected to the syringe pump 33.
  • the spinning solution is injected into the syringe 32, and the syringe pump 33 provides pressure to the syringe 32.
  • the spinning solution injected into the syringe 32 may deliver the spinning solution to the nozzle 31 by the pressure from the syringe pump 33.
  • the spinning solution may include a metal material and a polymer.
  • the spinning solution may be a mixed solution of the metal material and the polymer.
  • the syringe pump 33 may serve to constantly adjust the amount of the spinning solution radiated through the nozzle 31 by adjusting the pressure provided to the syringe 32.
  • the power supply unit 34 may be electrically connected to the nozzle 31 and the collector 35, and the power supply unit 34 may supply a voltage to the nozzle 31 and the collector 35.
  • the nozzle 31 and the collector 35 When a voltage is applied to the nozzle 31 and the collector 35 by the power supply 34, an electric field is formed between the nozzle 31 and the collector 35, and the intensity of the electric field is determined by the radiation solution. In the case of surface tension, the charged spinning solution is formed at the end of the nozzle 31.
  • the nanofibers 40 are injected in the direction of the collector 35 in the ground direction.
  • the method of producing the nanofibers 40 of this process is called electric field radiation.
  • the field emission method is described as an example of the method of generating the nanofibers 40, but the present invention is not limited thereto.
  • the nanofibers 40 generated through the field emission method may include a metal material and a polymer.
  • the polymer of the nanofiber 40 may be removed to form the nanostructure 10 including only the metal material of FIGS. 3 and 4.
  • the nanostructure 10 having a thin width can be formed, thereby improving the light transmittance of the conductive sheet 1.
  • the nanostructure 10 having a large aspect ratio and consequently a long length can be formed, thereby increasing the number of intersecting nanostructures 10 per unit number of nanostructures 10.
  • charge transfer paths between the nanostructures 10 increase, resulting in an effect of improving conductivity of the entire conductive sheet 1. have. That is, the intersections between the different nanostructures 10 are electrically connected to each other, thereby increasing the conductivity of the entire conductive sheet 1.
  • the polymer of the nanofibers 40 may be removed through heat treatment.
  • the first nanostructure 11 and the second nanostructure 13 may be electrically connected at the cross region 15. That is, part of the first cross-section 11b and the second cross-section 13b are melted by the heat applied during the polymer removal process, so that the first cross-section 11b and the second cross-section 13b are the first.
  • the width is larger than that of the non-crossing region 11a and the second non-crossing region 13a.
  • a portion of the first cross-section 11b and the second cross-section 13b is melted and solidified by the heat applied during the polymer removal, and the first cross-section 11b and the second cross-section 13b are solidified. May solidify integrally. Since the first cross-section 11b and the second cross-section 13b are solidified integrally, the cross-section 15 may have a level of electrical conductivity similar to that of the non-crossing region.
  • the width of the first cross region 11b and the second cross region 13b may be 1.2 to 1.8 times larger than the width of the first non-crossing region 11a and the second non-crossing region 13a.
  • the cross region 15 may be formed to have a thickness smaller than the sum of the thicknesses of the first non-cross region 11a and the second non-cross region 13a by the heat of the polymer removal process.
  • the thickness of the intersecting region 15 may be 0.6 to 0.9 times the sum of the thicknesses of the first non-crossing region 11a and the second non-crossing region 13a.
  • the charge transfer between the intersecting nanostructures 10 is smooth and thus the contact resistance is reduced.
  • the conductivity of the entire conductive sheet 1 is improved.
  • the stability of the conductive sheet 1 may be improved.
  • the bonding force between the first crossover region 11b and the second crossover region 13b is improved, so that a portion of the nanostructure 10 may be damaged by external impact. It is possible to prevent the departure.
  • the thickness of the crossover region 15 is formed to be greater than 0.9 times the sum of the thicknesses of the non-crossing regions, the contact resistance reduction effect is small, so that the effect of improving conductivity becomes small.
  • the conductivity improvement effect of the conductive sheet 1 can be obtained through a polymer removal process, so that the conductivity can be improved by a simple method compared to the cross region treatment process of silver nanowires having an organic film on the surface. Can be saved.
  • the polymer removal and cross-sectional treatment can be simultaneously performed in a single process, thereby improving production yield.
  • the thickness of the cross region 15 In order to form the thickness of the cross region 15 to be less than 0.6 times the sum of the thickness of the non-cross region, a separate cross region treatment process is required after the polymer removal process. In this case, a separate treatment process is added to increase the manufacturing cost and lower the manufacturing yield.
  • the conductivity can be improved, manufacturing cost can be reduced, and manufacturing yield can be improved.
  • FIG. 6 is a view illustrating a part of an electrode pattern according to an embodiment.
  • FIG. 6 illustrates one nanostructure on a portion of the electrode pattern and omits the remaining nanostructures, but a plurality of nanostructures are formed on a portion of the electrode pattern.
  • the electrode pattern 51 may be formed by patterning the conductive sheet 1.
  • the electrode pattern 51 may be formed by patterning the conductive sheet 1 through a photolithography process. Since the conductive sheet 1 is formed by patterning the electrode pattern 51, the conductive sheet 1 may include a nanostructure 10 and a matrix 20.
  • the electrode pattern 51 may have a quadrangular shape.
  • the electrode pattern 51 may have a first side surface 51a, a second side surface 51b, a third side surface 51c, and a fourth side surface 51d.
  • the first side surface 51a is defined as a surface facing the third side surface 51c and the second side surface 51b is defined as a surface facing the fourth side surface 51d.
  • the second side surface 51b is a surface adjacent to the first side surface 51a and the third side surface 51c
  • the fourth side surface 51d is the first side surface 51a and the third side surface 51c. Is adjacent to.
  • the electrode pattern 51 is illustrated in a rectangular shape, but the electrode pattern 51 may have various shapes in addition to the rectangular shape, and the shape of the electrode pattern 51 is not limited to the rectangular shape.
  • the first to fourth side surfaces 51a to 51d may be cross-sections patterned by a photolithography process.
  • the nanostructure 10 may also have a cross section patterned by a photolithography process. That is, the nanostructure 10 passing through the surface patterned by the photolithography process may be patterned to have a cross section.
  • the nanostructure 10 having both ends of the nanostructure 10 patterned may include a first end 10a and a second end 10b that contact the side surfaces of the electrode pattern 51.
  • the first end 10a and the second end 10b meet at the side surface of the electrode pattern 51 and at the first point P and the second point Q, respectively.
  • the first point P may be located on the first side surface 51a
  • the second point Q may be located on the second side surface 51b.
  • the first end 10a of the nanostructure 10 meets at the first side surface 51a and the first point P
  • the second end 10b of the nanostructure 10 has the second side surface 51b.
  • Meet at the second point (Q) the first end 10a and the second end 10b of the nanostructure 10 may meet the adjacent first side surface 51a and the second side surface 51b of the electrode pattern 51, respectively.
  • the distance between the first point P and the second point Q is shorter than the length of the nanostructure 10 including the first end 10a and the second end 10b. Since the probability that the nanostructure 10 has a linear shape is extremely small, the distance between the first point P and the second point Q may include a first end 10a and a second end 10b.
  • the first point P may be located on the first side surface 51a, and the second point Q may correspond to the third side surface (ie, in FIG. 6B). 51c). That is, the first end 10a of the nanostructure 10 meets at the first side surface 51a and the first point P, and the second end 10b of the nanostructure 10 has the third side surface 51c. Meet at the second point (Q). In other words, the first end 10a and the second end 10b of the nanostructure 10 may meet the opposing first side 51a and the third side 51c of the electrode pattern 51, respectively. .
  • the distance between the first point P and the second point Q is shorter than the length of the nanostructure 10 including the first end 10a and the second end 10b. Since the probability that the nanostructure 10 has a linear shape is extremely small, the distance between the first point P and the second point Q may include a first end 10a and a second end 10b. Shorter than the length of the structure 10.
  • the nanostructure 10 may have a large aspect ratio, and as a result, may have a long length to generate a first end 10a and a second end 10b that meet different sides of the electrode pattern 51.
  • a straight line connecting the first point P and the second point Q may cross the nanostructure 10. That is, when a straight line is connected between the first point P and the second point Q, the straight line and the nanostructure 10 may cross at least one point.
  • the crossing point may be a point other than the first point P and the second point Q.
  • the nanostructure 10 may have a curved shape in which the shape is not defined, the nanostructure 10 may be formed between the first point P and the first end P between the first end 10a and the second end 10b. There may be an area that intersects the straight line between the two points Q. The straight line between the first point P and the second point Q may be a virtual line.
  • the number of intersecting nanostructures 10 per unit number of nanostructures 10 increases.
  • charge transfer paths between the nanostructures 10 increase, and as a result, the conductivity of the electrode pattern 51 may be improved. There is.
  • FIG. 7 is an exploded perspective view illustrating a touch panel according to an embodiment
  • FIG. 8 is a top view illustrating a touch panel according to an embodiment.
  • the touch panel according to the embodiment may include a first substrate 50, a second substrate 60, a cover substrate 70, and a printed circuit board 80.
  • the second substrate 60 is located under the cover substrate 70, and the first substrate 50 is located under the second substrate 60.
  • the cover substrate 70 may be attached to the second substrate 60.
  • the cover substrate 70 and the second substrate 60 may be bonded using an adhesive material such as an optical clear adhesive (OCA).
  • OCA optical clear adhesive
  • the first substrate 50 may be attached to the second substrate 60.
  • the first substrate 50 may be bonded to the second substrate 60 using an adhesive material such as an optical clear adhesive (OCA).
  • OCA optical clear adhesive
  • the first substrate 50 and the second substrate 60 may include plastic such as polyethylene terephthalate (PET).
  • PET polyethylene terephthalate
  • An electrode pattern and a wiring pattern may be formed on the first substrate 50 and the second substrate 60.
  • the first electrode pattern 51 and the first wiring pattern 53 may be formed on the first substrate 50, and the second electrode pattern 61 and the second wiring pattern may be formed on the second substrate 60. 63) can be formed.
  • the first electrode pattern 51 may be formed in a first direction.
  • the first electrode pattern 51 may be electrically connected to the first wiring pattern 53.
  • the second electrode pattern 61 may be formed in a second direction.
  • the second direction may be a direction crossing the first direction.
  • the second electrode pattern 61 may be formed in a direction crossing the first electrode pattern 51.
  • the second electrode pattern 61 may be electrically connected to the second wiring pattern 63.
  • the touch panel may include an effective area AA and an invalid area UA.
  • the effective area AA refers to an area in which a user's touch command can be input, and the invalid area UA is not activated even when a user's touch located outside the effective area AA is activated. This means an area that is not made.
  • the effective area AA and the invalid area UA of the touch panel may correspond to the display area and the non-display area of the display device.
  • the display area is an area for displaying an image and the non-display area is an area for not displaying an image. Therefore, the effective area AA of the touch panel should be configured as an area that can transmit light, and the invalid area UA of the touch panel can be configured as an area that does not transmit light.
  • a plurality of electrode patterns may be formed in the effective area AA.
  • a plurality of first electrode patterns 51 may be formed in the effective area AA of the first substrate 50, and a plurality of second electrode patterns may be formed in the effective area AA of the second substrate 60. 61 may be formed.
  • a plurality of wiring patterns may be formed in the invalid area UA.
  • a plurality of first wiring patterns 53 may be formed in the non-effective area UA of the first substrate 50, and a plurality of second wirings may be formed in the non-effective area UA of the second substrate 60.
  • Pattern 63 may be formed.
  • the first electrode pattern 51 may be electrically connected to the first wiring pattern 53.
  • the first electrode pattern 51 may be integrally formed with the first wiring pattern 53, and the first electrode pattern 51 may be formed separately from the first wiring pattern 53.
  • the second electrode pattern 61 may be electrically connected to the second wiring pattern 63.
  • the second electrode pattern 61 may be integrally formed with the second wiring pattern 63, and the second electrode pattern 61 may be formed separately from the second wiring pattern 63.
  • the first electrode pattern 51 and the second electrode pattern 61 may be electrode patterns shown in FIG. 6.
  • the first electrode pattern 51 and the second electrode pattern 61 may be a collection of unit electrode patterns illustrated in FIG. 6. That is, the first electrode pattern 51 and the second electrode pattern 61 may have a structure in which a plurality of unit electrode patterns are connected.
  • the first electrode pattern 51 and the second electrode pattern 61 may include at least one or more of the plurality of unit conductive patterns to form one touch pixel.
  • the first electrode pattern 51 is described as an example, but the second electrode pattern 61 may also have the same shape. That is, the first electrode pattern 51 and the second electrode pattern 61 may include a nanostructure and a matrix. As described above, since the nanostructure has a long length through a large aspect ratio, it is possible to provide an electrode pattern having high conductivity. Since the first electrode pattern 51 and the second electrode pattern 61 have high conductivity, RC delay can be reduced, so that the signal transmitted by the first electrode pattern 51 and the second electrode pattern 61 can be reduced. Distortion can be prevented. This has the effect of improving the sensitivity and reliability of the touch sensed by the touch panel.
  • the present invention is not limited thereto and the electrode patterns may be formed in various shapes such as a bar shape.
  • the cover substrate 70 may include glass or plastic.
  • the cover substrate 70 may include tempered glass, semi-tempered glass, soda-lime glass, tempered plastic or soft plastic.
  • the printed circuit board 80 may be attached to the first substrate 50 and the second substrate 60.
  • the printed circuit board 80 may be attached to one side of the first substrate 50 and the second substrate 60.
  • the printed circuit board 80 may be attached to one side of the first substrate 50 and the second substrate 60 to be electrically connected to the first wiring pattern 53 and the second wiring pattern 63.
  • An anisotropic conductive film (ACF) may be applied to one side of the first substrate 50 and the second substrate 60 attached to the printed circuit board 80.
  • the printed circuit board 80 may apply a voltage to the first wiring pattern 53 and the second wiring pattern 63 by the anisotropic conductive film.
  • the printed circuit board 80 may be a flexible printed circuit board (FPCB) that can be flexed well.
  • the printed circuit board 80 may be provided with a controller for receiving and controlling a sensing signal from the first and second electrode patterns 51 and 61 through the first and second wiring patterns 53 and 63. have.
  • the controller may omit the distortion signal compensation process by detecting the touch by receiving the non-distorted sensing signal and calculating the touch, and may detect the touch through a faster calculation.
  • FIG. 9 is a perspective view of a display device to which a touch panel is applied according to an exemplary embodiment.
  • the display device 100 may include an input button 110 for inputting a command from the outside, a camera 120 for capturing still images and videos, and a speaker 130 for outputting voice.
  • the display device 100 may include the touch panel and the display panel (not shown) described above.
  • the touch panel may be formed on the front surface of the display panel (not shown) so that the cover glass 70 may be exposed on the upper surface of the display device 100.
  • the display panel (not shown) may be attached to the touch panel.
  • the display panel may display an image.
  • the display panel may be a liquid crystal display panel or an organic light emitting display panel, and may be applied to various products such as a mobile phone, a TV, and a navigation device.
  • the display device is described as an apparatus to which the touch panel according to the embodiments of the present invention is applied as an example, the apparatus to which the touch panel according to the embodiments of the present invention is applied is not limited thereto. It can be used in various products such as a vehicle touch input device.

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Abstract

본 발명의 일 양상에 따른 도전시트는, 서로 교차하며 배치되는 제1 나노 구조체 및 제2 나노 구조체를 포함하고, 상기 제1 나노 구조체와 제2 나노 구조체의 교차영역의 두께는 상기 제1 나노 구조체와 제2 나노 구조체의 비교차영역의 두께의 합의 0.6 배 내지 0.9배이다.

Description

도전시트 및 도전패턴
본 발명은 도전시트 및 도전패턴에 관한 것으로, 보다 상세하게는 전도성을 향상시킬 수 있는 도전시트 및 도전패턴에 관한 것이다.
최근 다양한 전자 제품에서 디스플레이 장치에 표시된 화상에 손가락 또는 스타일러스(stylus) 등의 입력 장치를 접촉하는 방식으로 입력을 하는 터치 패널이 적용되고 있다.
이러한 터치 패널은 크게 저항막 방식의 터치 패널과 정전 용량 방식의 터치 패널로 구분될 수 있다. 저항막 방식의 터치 패널은 입력 장치의 압력에 의하여 유리와 전극이 단락되어 위치가 검출된다. 정전 용량 방식의 터치 패널은 손가락이 접촉했을 때 전극 사이의 정전 용량이 변화하는 것을 감지하여 위치가 검출된다.
저항막 방식의 터치 패널은 반복 사용에 의하여 성능이 저하될 수 있으며 스크래치(scratch)가 발생될 수 있다. 이에 의해 내구성이 뛰어나고 수명이 긴 정전 용량 방식의 터치 패널에 대한 관심이 높아지고 있다.
상기 정전 용량 방식의 터치 패널은 터치 명령 입력이 가능한 유효영역과 상기 유효영역 외곽의 비유효 영역으로 정의된다. 상기 유효영역에 형성되는 전극패턴은 디스플레이 장치로부터의 광을 투과시킬 수 있도록 투명한 도전물질로 형성된다.
종래에는 상기 전극패턴이 인듐-주석 산화물(indium tin oxide, ITO)로 형성되었다. 상기 인듐-주석 산화물은 면저항이 높고, 재료 비용이 높으며, 또한 원료 시장에서의 인듐 수급이 불안정한 한계가 있으며, 최근의 추세인 플렉서블 표시장치에 사용되지 못하는 문제가 있다.
최근에는 상기 인듐-주석 산화물(indium tin oxide, ITO)을 대체하기 위해 은나노 와이어와 같은 투명전극 물질에 대한 연구가 이루어지고 있다.
도 1은 종래의 은나노 와이어로 형성된 투명전극에 대한 도면이다.
도 1을 참조하면, 종래에는 물질과 제조공정의 제약에 의해 은나노 와이어(200)의 종횡비가 제한되고, 고투과율을 위해 100nm 수준의 작은 직경으로 제조하여, 결과적으로 5um 내지 10um의 비교적 짧은 길이의 은나노 와이어(200)를 투명전극에 적용하였다.
상기 은나노 와이어(200)가 투명전극에 적용되기 위해서는 높은 전도도가 요구되나 종래의 은나노 와이어(200)의 경우에는 짧은 길이로 인해 각각의 은나노 와이어(200) 간의 단선이 많아 전도도가 낮아지는 문제점이 있었다.
또한, 도 2와 같이 각각의 은나노 와이어(200)의 표면에는 유기막(210)이 존재하여, 은나노 와이어(200) 간의 접촉영역의 저항이 증가하고, 각각의 은나노 와이어(210)를 전기적으로 연결하기 위해 별도의 처리공정이 추가되어 제조단가가 상승하는 문제점이 있었다.
본 발명의 일 과제는 광투과성을 유지하면서 전도성을 향상시키는 도전시트 및 도전패턴을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 과제는 제조단가를 절감하는 도전시트 및 도전패턴을 제공하는 것이다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제가 상술한 과제로 제한되는 것은 아니며, 언급되지 아니한 과제들은 본 명세서 및 첨부된 도면으로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
본 발명의 일 양상에 따른 도전시트는, 서로 교차하며 배치되는 제1 나노 구조체 및 제2 나노 구조체를 포함하고, 상기 제1 나노 구조체와 제2 나노 구조체의 교차영역의 두께는 상기 제1 나노 구조체와 제2 나노 구조체의 비교차영역의 두께의 합의 0.6 배 내지 0.9배이다.
본 발명의 다른 양상에 따른 하나의 터치화소를 형성하는 단위 도전패턴을 적어도 하나 이상 포함하는 도전패턴에 있어서, 상기 단위 도전패턴 내에서도전패턴에 있어서, 서로 교차하며 배치되는 제1 나노 구조체 및 제2 나노 구조체를 포함하고, 상기 제1 나노 구조체와 제2 나노 구조체의 교차영역의 두께는 상기 제1 나노 구조체와 제2 나노 구조체의 비교차영역의 두께의 합의 0.6 배 내지 0.9배이다.
본 발명의 과제의 해결 수단이 상술한 해결 수단들로 제한되는 것은 아니며, 언급되지 아니한 해결 수단들은 본 명세서 및 첨부된 도면으로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
본 발명에 의하면, 도전시트 및 도전패턴의 나노 구조체가 전계방사법으로 긴 길이로 형성됨으로써 나노 구조체간의 교차영역이 증가하여 전도성을 향상시킬 수 있다.
또 본 발명에 의하면, 도전시트 및 도전패턴의 나노 구조체의 교차영역이 폴리머 제거과정에서 형성되므로 별도의 처리과정을 생략할 수 있어 제조단가를 절감할 수 있다.
본 발명의 효과가 상술한 효과들로 제한되는 것은 아니며, 언급되지 아니한 효과들은 본 명세서 및 첨부된 도면으로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확히 이해될 수 있을 것이다.
도 1은 종래의 은나노 와이어로 형성된 투명전극에 대한 도면이다.
도 2는 종래의 은나노 와이어의 교차영역에 대한 확대도이다.
도 3은 실시 예에 따른 도전시트를 나타내는 상면도이다.
도 4는 도 3의 A영역을 확대한 도면이다.
도 5는 실시 예에 따른 전계방사장치를 나타내는 도면이다.
도 6은 실시 예에 따른 전극패턴의 일부를 나타내는 도면이다.
도 7은 실시 예에 따른 터치패널을 나타내는 분해사시도이다.
도 8은 실시 예에 따른 터치패널을 나타내는 상면도이다.
도 9는 실시 예에 따른 터치패널이 적용되는 표시장치에 대한 사시도이다.
본 명세서에 기재된 실시 예는 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명의 사상을 명확히 설명하기 위한 것이므로, 본 발명이 본 명세서에 기재된 실시 예에 의해 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 범위는 본 발명의 사상을 벗어나지 아니하는 수정 예 또는 변형 예를 포함하는 것으로 해석되어야 한다.
본 명세서에서 사용되는 용어는 본 발명에서의 기능을 고려하여 가능한 현재 널리 사용되고 있는 일반적인 용어를 선택하였으나 이는 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자의 의도, 관례 또는 새로운 기술의 출현 등에 따라 달라질 수 있다. 다만, 이와 달리 특정한 용어를 임의의 의미로 정의하여 사용하는 경우에는 그 용어의 의미에 관하여 별도로 기재할 것이다. 따라서 본 명세서에서 사용되는 용어는 단순한 용어의 명칭이 아닌 그 용어가 가진 실질적인 의미와 본 명세서의 전반에 걸친 내용을 토대로 해석되어야 한다.
본 명세서에 첨부된 도면은 본 발명을 용이하게 설명하기 위한 것으로 도면에 도시된 형상은 본 발명의 이해를 돕기 위하여 필요에 따라 과장되어 표시된 것일 수 있으므로 본 발명이 도면에 의해 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에서 본 발명에 관련된 공지의 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에 이에 관한 자세한 설명은 필요에 따라 생략하기로 한다.
본 발명의 일 양상에 따른 도전시트는, 서로 교차하며 배치되는 제1 나노 구조체 및 제2 나노 구조체를 포함하고, 상기 제1 나노 구조체와 제2 나노 구조체의 교차영역의 두께는 상기 제1 나노 구조체와 제2 나노 구조체의 비교차영역의 두께의 합의 0.6 배 내지 0.9배이다.
상기 도전시트는 상기 제1 나노 구조체와 제2 나노 구조체를 수용하는 매트릭스를 포함하고, 상기 매트릭스는 상기 제1 나노 구조체 및 제2 나노 구조체와 직접 접촉할 수 있다.
상기 제1 나노 구조체와 제2 나노 구조체는 상기 교차영역에 의해 서로 전기적으로 연결될 수 있다.
상기 제1 나노 구조체와 제2 나노 구조체는 금속물질과 폴리머의 혼합용액이 방사되어 형성된 것이며, 상기 교차영역은 방사 후 상기 폴리머가 제거되어 형성될 수 있다.
상기 교차영역의 폭은 상기 비교차영역의 폭보다 1.2배 내지 1.8배 클 수 있다.
상기 제1 나노 구조체와 제2 나노 구조체는 10만이상의 종횡비를 가질 수 있다.
상기 제1 나노 구조체 및 제2 나노 구조체는 전계방사법에 의해 형성될 수 있다.
상기 제1 나노 구조체는 상기 교차영역과 비교차 영역에서 동일한 단면적을 가질 수 있다.
본 발명의 다른 양상에 따른 도전패턴에 있어서, 하나의 터치화소를 형성하는 단위 도전패턴을 적어도 하나 이상 포함하는 도전패턴에 있어서, 상기 단위 도전패턴 내에서 서로 교차하며 배치되는 제1 나노 구조체 및 제2 나노 구조체를 포함하고, 상기 제1 나노 구조체와 제2 나노 구조체의 교차영역의 두께는 상기 제1 나노 구조체와 제2 나노 구조체의 비교차영역의 두께의 합의 0.6 배 내지 0.9배이다.
상기 제1 나노 구조체는 제1 단과 제2 단을 구비하고, 상기 제1 단은 상기 도전패턴의 제1 측면과 제1 점에서 만나고, 상기 제2 단은 상기 도전 패턴의 제2 측면과 제2 점에서 만나며, 상기 제1 점과 상기 제2 점 사이의 거리는 상기 제1 나노 구조체의 길이보다 짧을 수 있다.
상기 제1 측면과 상기 제2 측면은 서로 인접하는 측면일 수 있다.
상기 제1 측면과 상기 제2 측면은 서로 대향하는 측면일 수 있다.
상기 도전패턴은 상기 제1 나노 구조체와 제2 나노 구조체를 수용하는 매트릭스를 포함하고, 상기 매트릭스는 상기 제1 나노 구조체 및 제2 나노 구조체와 직접 접촉할 수 있다.
상기 제1 나노 구조체와 제2 나노 구조체는 상기 교차영역에 의해 서로 전기적으로 연결될 수 있다.
상기 제 1 나노 구조체와 제 2 나노 구조체는 금속물질과 폴리머의 혼합용액이 방사되어 형성된 것이며, 상기 교차영역은 방사 후 상기 폴리머가 제거되어 형성될 수 있다.
상기 교차영역의 폭은 상기 비교차영역의 폭보다 1.2배 내지 1.8배 클 수 있다.
상기 제1 나노 구조체 및 제2 나노 구조체는 전계방사법에 의해 형성될 수 있다.
상기 제1 나노 구조체는 상기 교차영역과 비교차 영역에서 동일한 단면적을 가질 수 있다.
상기 제1 나노 구조체는 상기 제1 점과 제2 점 사이를 연결하는 직선과 적어도 하나 이상의 점에서 만날 수 있다.
이하, 본 발명의 실시 예에 따른 도전시트에 대하여 설명한다.
도 3은 실시 예에 따른 도전시트를 나타내는 상면도이다.
도 3을 참조하면, 실시 예에 따른 도전시트(1)는 다수의 나노 구조체(10) 및 매트릭스(20)를 포함할 수 있다.
상기 나노 구조체(10)는 종횡비가 10만이상인 나노 파이버일 수 있다. 상기 나노 구조체(10)의 폭은 1um이하일 수 있다.
상기 나노 구조체(10)는 금속물질을 포함할 수 있다. 상기 금속물질은 은(silver), 금(gold), 구리(copper), 니켈(nickel), 금-도금 은(goldplated silver), 백금(platinum) 및 팔라듐(palladium)을 포함할 수 있다. 상기 나노 구조체(10)가 은을 포함하는 경우 상기 나노 구조체(10)를 은나노 구조체라 정의할 수 있다. 또는, 상기 나노 구조체(10)는 금속물질만으로 형성될 수도 있다.
상기 나노 구조체(10)는 작은 폭으로 형성되어 육안으로 시인할 수 없고, 상기 나노 구조체(10)를 포함하는 도전시트(1)는 높은 광투과성이 보장된다.
상기 매트릭스(20)는 상기 도전시트(1)의 본체를 구성하고, 상기 나노 구조체(10)가 내부로 분산되거나 내장되는 고체상태의 재료를 지칭한다.
상기 매트릭스(20)는 외부로부터 상기 나노 구조체(10)를 보호하는 역할을 할 수 있다. 상기 매트릭스(20)는 상기 나노 구조체(10)의 산화를 방지할 수 있다. 상기 매트릭스(20)는 상기 도전시트(1)가 기판 등의 다른 부재에 부착되는 경우 접착력을 제공할 수도 있다.
상기 나노 구조체(10)는 상기 매트릭스(20)와 직접 접촉할 수 있다. 즉, 상기 나노 구조체(10)의 외면은 상기 매트릭스(20)와 직접 접촉할 수 있다.
상기 매트릭스(20)는 전도성 폴리머를 포함할 수 있다. 상기 매트릭스(20)가 전도성 폴리머를 포함하는 경우 상기 매트릭스(20)는 전하의 이동경로를 제공할 수 있다. 상기 매트릭스(20)가 전하의 이동경로를 제공함으로써 상기 도전시트(1)가 전극으로 사용되는 경우 상기 매트릭스(20)는 보조전극의 역할을 할 수 있다.
상기 전도성 폴리머는 폴리아세틸렌, 폴리티오펜, 폴리피롤, 폴리파라페닐린, 폴리파라페닐렌 비닐렌, PEDOT:PSS 및 탄소 나노튜브 등이 사용될 수 있으며, 이에 한정하지 않는다.
상기 다수의 나노 구조체(10)는 종횡비가 10만 이상으로, 길이가 긴 구조로 형성되므로, 각각의 나노 구조체(10)는 다른 나노 구조체(10)와의 관계에서 A영역과 같은 다수의 교차점을 가질 수 있다.
도 4는 도 3의 A영역을 확대한 도면이다. 도 4a는 도 3의 A영역에 대한 상면도이고, 도 4b는 도 4a를 X-X`를 따라 절단한 단면도이다.
도 4를 참조하면, 실시 예에 따른 다수의 나노 구조체(10)는 제1 나노 구조체(11) 및 제2 나노 구조체(13)를 포함할 수 있다. 상기 다수의 나노 구조체(10)는 원기둥 형상으로 형성될 수 있다.
상기 제1 나노 구조체(11)는 상기 제2 나노 구조체(13)와 교차할 수 있다. 상기 제1 나노 구조체(11)와 상기 제2 나노 구조체(13)가 교차하는 영역을 교차영역(15)으로 정의할 수 있다.
상기 제1 나노 구조체(11)는 제1 비교차영역(11a) 및 제1 교차영역(11b)을 포함하고, 상기 제2 나노 구조체(13)는 제2 비교차영역(13a) 및 제2 교차영역(13b)을 포함할 수 있다.
상기 제1 교차영역(11b) 및 제2 교차영역(13b)은 상기 제1 나노 구조체(11)와 제2 나노 구조체(13)가 교차하는 영역으로 교차영역(15)을 구성한다. 상기 제1 나노 구조체(11) 및 제2 나노 구조체(13)는 상기 교차영역(15)에서 전기적으로 연결된다. 즉, 상기 제1 교차영역(11b) 및 제2 교차영역(13b)은 전기적으로 연결된다.
상기 제1 비교차영역(11a)과 상기 제2 비교차영역(13a)은 동일한 폭을 가질 수 있다. 상기 제1 비교차영역(11a)과 상기 제2 비교차영역(13a)은 동일한 두께를 가질 수 있다. 상기 동일한 폭과 동일한 두께는 동일한 값을 가지는 경우 뿐만 아니라, 설계상 동일한 값으로 설계하였으나, 공정시 오차 범위 내의 차이 값이 발생하는 경우도 포함할 수 있다.
상기 제1 비교차영역(11a) 및 상기 제2 비교차영역(13a)은 제1 폭(w1)으로 형성될 수 있다. 상기 제1 비교차영역(11a) 및 상기 제2 비교차영역(13a)은 제1 두께(h1)로 형성될 수 있다.
상기 교차영역(15)은 상기 제1 비교차영역(11a) 및 제2 비교차영역(13a)의 두께의 합보다 작은 두께로 형성될 수 있다. 즉, 상기 교차영역(15)은 제1 두께(h1)의 2배보다 작은 제2 두께(h2)로 형성될 수 있다.
상기 교차영역(15)은 상기 제1 비교차영역(11a) 및 제2 비교차영역(13a)의 폭보다 큰 폭으로 형성될 수 있다. 즉, 상기 제1 교차영역(11b) 및 제2 교차영역(13b)은 제1 폭(w1) 보다 큰 제2 폭(w2)으로 형성될 수 있다.
상기 교차영역(15)에서 상기 제1 교차영역(11b)과 제2 교차영역(13b)의 접촉시 두께가 줄어들고 두께가 줄어드는 만큼 폭이 늘어난다.
상기 제1 교차영역(11b)은 상기 제1 비교차영역(11a)에 비해 작은 두께를 가지고 큰 폭을 가지나, 상기 제1 교차영역(11b)은 상기 제1 비교차영역(11a)과 동일한 단면적을 가질 수 있다. 즉, 상기 제1 교차영역(11b)의 임의의 지점에서 상기 제1 두께(h1) 방향으로 절단한 단면적은 상기 제1 비교차영역(11b)의 임의의 지점에서 상기 제2 두께(h2) 방향으로 절단한 단면적과 동일할 수 있다.
결론적으로 상기 제1 교차영역(11b)과 제1 비교차영역(11a)을 포함하는 제1 나노 구조체(11)는 전 영역에서 동일한 단면적을 가질 수 있다. 상기 제1 교차영역(11b)과 제1 비교차영역(11a)의 단면적은 수치상 동일한 값을 가지는 경우 뿐만 아니라, 설계상으로는 동일한 값으로 설계하였으나, 공정시 오차 범위 내의 단면적 차이가 발생하는 경우도 포함할 수 있다.상기 제1 나노 구조체(11)의 X-X`방향을 길이방향이라 하고, 상기 제1 나노 구조체(11)를 동일한 길이로 분할하는 경우 각각의 분할된 영역은 동일한 부피를 가질 수 있다. 즉, 상기 제1 교차영역(11b)을 임의의 길이로 분할하고, 상기 제1 비교차 영역(11a)을 상기 임의의 길이로 분할하면, 분할된 제1 교차영역(11b)의 일부분과 분할된 제1 비교차 영역(11a)의 일부분은 동일한 부피를 가질 수 있다.
상기 제2 교차영역(13b)은 상기 제2 비교차영역(13a)에 비해 작은 두께를 가지고 큰 폭을 가지나, 상기 제2 교차영역(13b)은 상기 제2 비교차영역(13a)과 동일한 단면적을 가질 수 있다. 즉, 상기 제2 교차영역(13b)의 임의의 지점에서 상기 제2 두께(h2) 방향으로 절단한 단면적은 상기 제2 비교차영역(13b)의 임의의 지점에서 상기 제2 두께(h2) 방향으로 절단한 단면적과 동일할 수 있다.
결론적으로 상기 제2 교차영역(13b)과 제2 비교차영역(13a)을 포함하는 제2 나노 구조체(13)는 전 영역에서 동일한 단면적을 가질 수 있다. 상기 제2 교차영역(13b)과 제2 비교차영역(13a)의 단면적은 수치상 동일한 값을 가지는 경우 뿐만 아니라, 설계상으로는 동일한 값으로 설계하였으나, 공정시 오차 범위 내의 단면적 차이가 발생하는 경우도 포함할 수 있다.
상기 제2 나노 구조체(13)가 연장된 방향을 길이방향이라 하고, 상기 제2 나노 구조체(13)를 동일한 길이로 분할하는 경우 각각의 분할된 영역은 동일한 부피를 가질 수 있다. 즉, 상기 제2 교차영역(13b)을 임의의 길이로 분할하고, 상기 제2 비교차 영역(13a)을 상기 임의의 길이로 분할하면, 분할된 제2 교차영역(13b)의 일부분과 분할된 제2 비교차 영역(13a)의 일부분은 동일한 부피를 가질 수 있다.
도 5는 실시 예에 따른 전계방사장치를 나타내는 도면이다.
도 5를 참조하면, 실시 예에 따른 전계방사장치(30)는 노즐(31), 주사기(32), 주사기 펌프(33), 전원 공급부(34) 및 컬렉터(35)를 포함한다.
상기 노즐(31)은 상기 주사기(32)와 연결되고, 상기 주사기(32)는 주사기 펌프(33)와 연결될 수 있다. 상기 주사기(32)에는 방사용액이 주입되고, 상기 주사기 펌프(33)는 상기 주사기(32)로 압력을 제공한다. 상기 주사기(32)에 주입된 방사용액은 상기 주사기 펌프(33)로부터의 압력에 의해 상기 방사용액을 상기 노즐(31)로 전달할 수 있다.
상기 방사용액은 금속물질 및 폴리머를 포함할 수 있다. 상기 방사용액은 상기 금속물질과 폴리머의 혼합용액일 수 있다.
상기 주사기 펌프(33)는 상기 주사기(32)로 제공되는 압력을 조절하여 상기 노즐(31)을 통해 방사되는 방사용액의 양을 일정하게 조절하는 역할을 할 수 있다.
상기 전원 공급부(34)는 상기 노즐(31) 및 컬렉터(35)와 전기적으로 연결되고, 상기 전원 공급부(34)는 상기 노즐(31) 및 컬렉터(35)에 전압을 공급할 수 있다.
상기 전원 공급부(34)에 의해 상기 노즐(31) 및 컬렉터(35)에 전압이 가해지면, 상기 노즐(31)과 컬렉터(35) 사이에는 전계가 형성되고, 상기 전계의 세기가 상기 방사용액의 표면 장력과 같은 경우 전하를 띈 방사용액은 상기 노즐(31)의 끝부분에 맺히게 된다.
이 때, 상기 방사용액이 가지고 있는 표면장력 이상의 전압을 걸어주면 접지방향인 컬렉터(35) 방향으로 나노 섬유(40)가 분사된다. 이러한 과정의 나노 섬유(40) 생성방법을 전계방사법이라 한다.
실시 예에서는 나노 섬유(40) 생성방법으로 전계방사법을 예로 들어 설명하였으나, 이에 한정하지는 않는다.
상기 전계방사법을 통해 전원 공급부(34)로부터의 전압과 상기 주사기 펌프(33)를 통해 주입되는 압력을 조절함으로써 얇은 폭을 가지고, 종횡비가 긴 나노 섬유(40)를 생성할 수 있다.
상기 전계방사법을 통해 생성된 나노 섬유(40)는 금속물질 및 폴리머를 포함할 수 있다.
이후 상기 나노 섬유(40)의 폴리머를 제거하여 도 3 및 도 4의 금속물질만을 포함하는 나노 구조체(10)를 형성할 수 있다.
상기의 과정을 통해 얇은 폭을 가지는 나노 구조체(10)를 형성할 수 있어 도전시트(1)의 광투과율이 향상되는 효과가 있다.
또한, 종횡비가 큰, 결과적으로 길이가 긴 나노 구조체(10)를 형성할 수 있어 단위 개수의 나노 구조체(10)당 교차하는 나노 구조체(10)의 개수가 증가한다. 단위 개수의 나노 구조체(10)당 교차하는 나노 구조체(10)의 개수가 증가함으로써 나노 구조체(10) 사이의 전하 이동경로가 많아져, 결과적으로 도전시트(1) 전체의 전도성이 향상되는 효과가 있다. 즉, 서로 다른 나노 구조체(10)가 전기적으로 연결되는 교차점이 많아져 도전시트(1) 전체의 전도성이 향상되는 효과가 있다.
상기 나노 섬유(40)의 폴리머는 열처리를 통해 제거될 수 있다.
상기 나노 섬유(40)의 폴리머 제거과정에서 상기 제1 나노 구조체(11) 및 제2 나노 구조체(13)는 상기 교차영역(15)에서 전기적으로 연결될 수 있다. 즉, 상기 폴리머 제거과정에서 가해지는 열에 의해 상기 제1 교차영역(11b) 및 제2 교차영역(13b)의 일부가 녹아 상기 제1 교차영역(11b) 및 제2 교차영역(13b)은 제1 비교차영역(11a) 및 제2 비교차영역(13a)에 비해 폭이 커진다. 상기 폴리머 제거과정에서 가해지는 열에 의해 상기 제1 교차영역(11b) 및 제2 교차영역(13b)의 일부가 녹은 후 응고되는 과정에서 상기 제1 교차영역(11b) 및 제2 교차영역(13b)은 일체로 응고될 수 있다. 상기 제1 교차영역(11b) 및 제2 교차영역(13b)이 일체로 응고됨으로써 상기 교차영역(15)은 비교차영역과 유사한 수준의 전기전도성을 가질 수 있다.
상기 제1 교차영역(11b) 및 제2 교차영역(13b)의 폭은 상기 제1 비교차영역(11a) 및 제2 비교차영역(13a)의 폭보다 1.2 배 내지 1.8배 커질 수 있다.
또한, 상기 폴리머 제거과정에서의 열에 의해 상기 교차영역(15)은 제1 비교차영역(11a) 및 제2 비교차영역(13a)의 두께의 합보다 작은 두께로 형성될 수 있다.
상기 교차영역(15)의 두께는 상기 제1 비교차영역(11a) 및 제2 비교차영역(13a)의 두께의 합의 0.6배 내지 0.9배일 수 있다.
상기 교차영역(15)의 폭을 비교차영역에 비해 1.2배 내지 1.8배 커지도록 형성하고, 두께를 비교차영역의 두께의 합의 0.6배 내지 0.9배로 형성함으로써 교차하는 나노 구조체(10)간의 접촉면적이 커지고, 이를 통해, 교차하는 나노 구조체(10) 간의 전하이동이 원활해지며 이에 따라 접촉저항이 감소한다. 교차하는 나노 구조체(10) 간의 접촉저항이 감소함으로써 도전시트(1) 전체의 전도성이 향상되는 효과가 있다. 또한, 나노 구조체(10)간의 접촉면적이 커짐으로써 도전시트(1)의 안정성이 향상될 수 있는 효과가 있다.
즉, 교차하는 나노 구조체(10)의 일부가 녹은 후 응고되는 과정에서 제1 교차영역(11b) 및 제2 교차영역(13b) 간의 결합력이 향상되어 외부 충격에 의해 나노 구조체(10)의 일부가 이탈되는 것을 방지할 수 있다.
상기 교차영역(15)의 두께를 상기 비교차영역의 두께의 합의 0.9배 초과로 형성한다면 접촉저항 감소효과가 적어 전도성 향상이 효과가 작아진다.
실시 예에서는 이러한 도전시트(1)의 전도성 향상 효과를 폴리머 제거과정을 통해 얻을 수 있어 표면에 유기막이 존재하는 은나노 와이어의 교차영역 처리과정에 비해 간이한 방법으로 전도성을 향상시킬 수 있어 제조단가를 절감할 수 있다. 또한, 한번의 과정으로 폴리머 제거와 교차영역의 처리를 동시에 실시할 수 있어 제조수율이 향상되는 효과가 있다.
상기 교차영역(15)의 두께를 상기 비교차영역의 두께의 합의 0.6배 미만으로 형성하기 위해서는 폴리머 제거과정 이후에 별도의 교차영역 처리과정이 필요하다. 이 경우 별도의 처리과정이 추가되어 제조단가가 상승하고, 제조 수율이 저하된다.
따라서, 상기 교차영역(15)의 두께를 비교차영역의 두께의 합의 0.6배 내지 0.9배로 형성함으로써, 전도성을 향상시킬 수 있고, 제조단가를 절감하고, 제조수율을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
도 6은 실시 예에 따른 전극패턴의 일부를 나타내는 도면이다.
도 6에서는 전극패턴의 일부에 하나의 나노 구조체를 도시하고 나머지 나노 구조체를 생략하여 도시하였을 뿐 전극패턴의 일부에는 다수의 나노 구조체가 형성되어 있다.
도 6을 참조하면, 상기 전극패턴(51)은 상기 도전시트(1)를 패터닝하여 형성될 수 있다. 상기 전극패턴(51)은 도전시트(1)를 포토리소그래피 공정을 통해 패터닝하여 형성할 수 있다. 상기 도전시트(1)는 상기 전극패턴(51)을 패터닝하여 형성하므로 나노 구조체(10) 및 매트릭스(20)를 포함할 수 있다.
상기 전극패턴(51)은 사각형상을 가질 수 있다. 상기 전극패턴(51)은 제1 측면(51a), 제2 측면(51b), 제3 측면(51c) 및 제4 측면(51d)을 가질 수 있다. 상기 제1 측면(51a)은 제3 측면(51c)과 대향하는 면이고, 상기 제2 측면(51b)은 제4 측면(51d)과 대향하는 면으로 정의된다. 상기 제2 측면(51b)은 상기 제1 측면(51a) 및 제3 측면(51c)과 인접하는 면이고, 상기 제4 측면(51d)은 상기 제1 측면(51a) 및 제3측면(51c)과 인접하는 면이다. 도면에서는 전극패턴(51)을 사각형상으로 도시하여 설명하였으나, 상기 전극패턴(51)은 사각형상 외에 다양한 형상을 가질 수 있고, 상기 전극패턴(51)의 형상은 사각형상에 한정되지 않는다.
상기 매트릭스(20)가 도전시트(1)의 본체를 구성하므로 상기 제1 내지 제4 측면(51a 내지 51d)은 포토리소그래피 공정에 의해 패터닝된 단면일 수 있다.
상기 나노 구조체(10) 또한 포토리소그래피 공정에 의해 패터닝된 단면을 가질 수 있다. 즉, 상기 포토리소그래피 공정에 의해 패터닝된 면을 지나는 나노 구조체(10)는 패터닝되어 단면을 가질 수 있다.
상기 나노 구조체(10) 중 양단이 패터닝된 나노 구조체(10)는 상기 전극패턴(51)의 측면과 접하는 제1 단(10a) 및 제2 단(10b)을 포함할 수 있다. 상기 제1 단(10a)과 상기 제2 단(10b)은 각각 상기 전극패턴(51)의 측면과 제1 점(P) 및 제2 점(Q)에서 만난다.
예를 들어, 도 6a에서 상기 제1 점(P)은 상기 제1 측면(51a) 상에 위치할 수 있고, 상기 제2 점(Q)은 상기 제2 측면(51b) 상에 위치할 수 있다. 즉, 상기 나노 구조체(10)의 제1 단(10a)은 제1 측면(51a)과 제1 점(P)에서 만나고, 상기 나노 구조체의 제2 단(10b)은 제2 측면(51b)과 제2 점(Q)에서 만날 수 있다. 다시 말해, 상기 나노 구조체(10)의 제1 단(10a) 및 제2 단(10b)은 전극패턴(51)의 인접하는 제1 측면(51a) 및 제2 측면(51b)과 각각 만날 수 있다.
상기 제1 점(P)과 제2 점(Q) 사이의 거리는 제1 단(10a) 및 제2 단(10b)을 포함하는 나노 구조체(10)의 길이보다 짧다. 상기 나노 구조체(10)가 직선 형상을 가지는 확률은 극히 작으므로 상기 제1 점(P)과 제2 점(Q) 사이의 거리는 제1 단(10a) 및 제2 단(10b)을 포함하는 나노 구조체(10)의 길이보다 짧다.다른 예로, 도 6b에서 상기 제1 점(P)은 상기 제1 측면(51a) 상에 위치할 수 있고, 상기 제2 점(Q)은 상기 제3 측면(51c) 상에 위치할 수 있다. 즉, 상기 나노 구조체(10)의 제1 단(10a)은 제1 측면(51a)과 제1 점(P)에서 만나고, 상기 나노 구조체의 제2 단(10b)은 제3 측면(51c)과 제2 점(Q)에서 만날 수 있다. 다시 말해, 상기 나노 구조체(10)의 제1 단(10a) 및 제2 단(10b)은 전극패턴(51)의 대향하는 제1 측면(51a) 및 제3 측면(51c)과 각각 만날 수 있다.
상기 제1 점(P)과 제2점(Q) 사이의 거리는 제1 단(10a) 및 제2 단(10b)을 포함하는 나노 구조체(10)의 길이보다 짧다. 상기 나노 구조체(10)가 직선 형상을 가지는 확률은 극히 작으므로 상기 제1 점(P)과 제2 점(Q) 사이의 거리는 제1 단(10a) 및 제2 단(10b)을 포함하는 나노 구조체(10)의 길이보다 짧다.
상기 나노 구조체(10)는 종횡비가 크고, 결과적으로 길이가 길어 전극패턴(51)의 서로 다른 측면과 만나는 제1 단(10a)과 제2 단(10b)이 생성될 수 있다.
도시하지는 않았지만, 상기 제1 점(P)과 제2 점(Q) 사이를 잇는 직선은 상기 나노 구조체(10)와 교차할 수도 있다. 즉, 상기 제1 점(P)과 제2 점(Q) 사이를 잇는 직선을 긋는 경우 상기 직선과 상기 나노 구조체(10)는 적어도 한 점에서 교차할 수 있다. 상기 교차하는 점은 상기 제1 점(P)과 제2 점(Q) 이외의 점일 수 있다.
상기 나노 구조체(10)는 형상이 정해지지 않은 곡선 형상을 가질 수 있으므로, 상기 나노 구조체(10)는 상기 제1 단(10a) 및 제2 단(10b) 사이에서 상기 제1 점(P)과 제2 점(Q) 사이의 직선과 교차하는 영역이 존재할 수 있다. 상기 제1 점(P)과 제2 점(Q) 사이의 직선은 가상의 선일 수 있다.
길이가 긴 나노 구조체(10)를 형성함으로써 단위 개수의 나노 구조체(10)당 교차하는 나노 구조체(10)의 개수가 증가한다. 단위 개수의 나노 구조체(10)당 교차하는 나노 구조체(10)의 개수가 증가함으로써 나노 구조체(10) 사이의 전하 이동경로가 많아져, 결과적으로 전극패턴(51)의 전도성이 향상될 수 있는 효과가 있다.
도 7은 실시 예에 따른 터치패널을 나타내는 분해사시도이고, 도 8은 실시 예에 따른 터치패널을 나타내는 상면도이다.
도 7및 도 8을 참조하면, 실시 예에 따른 터치패널은 제1 기판(50), 제2 기판(60), 커버 기판(70) 및 인쇄회로기판(80)을 포함할 수 있다.
상기 제2 기판(60)은 상기 커버 기판(70)의 하부에 위치하고, 상기 제1 기판(50)은 상기 제2 기판(60)의 하부에 위치한다.
상기 커버 기판(70)은 상기 제2 기판(60)에 부착될 수 있다. 상기 커버 기판(70)과 상기 제2 기판(60)은 광학 투명 접착제(Optical Clear Adhesive, OCA) 등의 접착 물질을 이용하여 접착될 수 있다.
상기 제1 기판(50)은 상기 제2 기판(60)에 부착될 수 있다. 상기 제1 기판(50)은 상기 제2 기판(60)과 광학 투명 접착제(Optical Clear Adhesive, OCA) 등의 접착 물질을 이용하여 접착될 수 있다.
상기 제1 기판(50) 및 제2 기판(60)은 폴리 에틸렌 테레프탈레이트(poly ethylene terephthalate, PET) 등의 플라스틱을 포함할 수 있다.
상기 제1 기판(50) 및 제2 기판(60)에는 전극패턴 및 배선패턴이 형성될 수 있다.
상기 제1 기판(50)에는 제1 전극패턴(51) 및 제1 배선패턴(53)이 형성될 수 있고, 상기 제2 기판(60)에는 제2 전극패턴(61) 및 제2 배선패턴(63)이 형성될 수 있다.
상기 제1 전극패턴(51)은 제1 방향으로 형성될 수 있다. 상기 제1 전극패턴(51)은 상기 제1 배선패턴(53)과 전기적으로 연결될 수 있다.
상기 제2 전극패턴(61)은 제2 방향으로 형성될 수 있다. 상기 제2 방향은 상기 제1 방향과 교차하는 방향일 수 있다. 상기 제2 전극패턴(61)은 상기 제1 전극패턴(51)과 교차하는 방향으로 형성될 수 있다. 상기 제2 전극패턴(61)은 상기 제2 배선패턴(63)과 전기적으로 연결될 수 있다.
상기 터치패널은 유효영역(AA) 및 비유효영역(UA)을 포함할 수 있다.
상기 유효영역(AA)은 사용자의 터치 명령 입력이 가능한 영역을 의미하며, 상기 비유효 영역(UA)은 상기 유효영역(AA)의 외곽에 위치하는 사용자의 터치가 이루어짐에도 활성화되지 않아 터치 명령 입력이 이루어지지 않는 영역을 의미한다.
상기 터치패널이 표시패널에 부착되어 사용되는 경우 상기 터치패널의 유효 영역(AA) 및 비유효 영역(UA)은 표시장치의 표시영역 및 비표시 영역과 대응될 수 있다. 상기 표시 영역은 화상을 표시하는 영역이고 상기 비표시 영역은 화상을 표시하지 않는 영역이다. 따라서, 상기 터치패널의 유효 영역(AA)은 광을 투과할 수 있는 영역으로 구성되어야 하고, 상기 터치패널의 비유효 영역(UA)은 광을 투과하지 않는 영역으로 구성될 수 있다.
상기 유효영역(AA)에는 다수의 전극패턴이 형성될 수 있다. 상기 제1 기판(50)의 유효 영역(AA)에는 다수의 제1 전극패턴(51)이 형성될 수 있고, 상기 제2 기판(60)의 유효 영역(AA)에는 다수의 제2 전극패턴(61)이 형성될 수 있다.
상기 비유효 영역(UA)에는 다수의 배선패턴이 형성될 수 있다. 상기 제1 기판(50)의 비유효 영역(UA)에는 다수의 제1 배선패턴(53)이 형성될 수 있고, 상기 제2 기판(60)의 비유효 영역(UA)에는 다수의 제2 배선패턴(63)이 형성될 수 있다.
상기 제1 전극패턴(51)은 상기 제1 배선패턴(53)과 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 제1 전극패턴(51)은 상기 제1 배선패턴(53)과 일체로 형성될 수도 있고, 상기 제1 전극패턴(51)은 상기 제1 배선패턴(53)과 별개로 형성될 수도 있다.
상기 제2 전극패턴(61)은 상기 제2 배선패턴(63)과 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 제2 전극패턴(61)은 상기 제2 배선패턴(63)과 일체로 형성될 수도 있고, 상기 제2 전극패턴(61)은 상기 제2 배선패턴(63)과 별개로 형성될 수도 있다.
상기 제1 전극패턴(51) 및 제2 전극패턴(61)은 도 6에서 도시한 전극패턴일 수 있다. 상기 제1 전극패턴(51) 및 제2 전극패턴(61)은 도 6에서 도시한 단위 전극패턴의 집합체일 수 있다. 즉, 상기 제1 전극패턴(51) 및 제2 전극패턴(61)은 다수의 단위 전극패턴이 연결된 구조를 가질 수 있다. 상기 제1 전극패턴(51) 및 제2 전극패턴(61)은 상기 다수의 단위 도전패턴 중 적어도 하나 이상을 포함하여 하나의 터치화소를 형성할 수 있다.
도 6에서는 상기 제1 전극패턴(51)을 예로 들어 설명하였으나, 상기 제2 전극패턴(61) 또한 동일한 형상을 가질 수 있다. 즉, 상기 제1 전극패턴(51)및 제2 전극패턴(61)은 나노 구조체 및 매트릭스를 포함할 수 있다. 전술한 바 대로, 상기 나노 구조체는 큰 종횡비를 통해 긴 길이를 가지므로, 고전도성을 가지는 전극패턴을 제공할 수 있다. 상기 제1 전극패턴(51) 및 제2 전극패턴(61)이 고전도성을 가짐으로써 RC지연을 줄일 수 있어, 제1 전극패턴(51) 및 제2 전극패턴(61)에 의해 전달되는 신호의 왜곡을 방지할 수 있다. 이로써 상기 터치패널에 의해 감지되는 터치의 감도 및 신뢰성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
도면에서는 상기 전극패턴을 마름모 형상으로 연결된 것을 도시하였으나, 이에 한정하지 않고, 상기 전극패턴은 바형상등 여러 형상으로 형성될 수 있다.
상기 커버 기판(70)은 유리 또는 플라스틱을 포함할 수 있다. 상기 커버 기판(70)은 강화 유리, 반강화유리, 소다라임 유리, 강화 플락스틱 또는 연성 플라스틱을 포함할 수 있다.
상기 인쇄회로기판(80)은 상기 제1 기판(50) 및 제2 기판(60)에 부착될 수 있다. 상기 인쇄회로기판(80)은 상기 제1 기판(50) 및 제2 기판(60)의 일 측에 부착될 수 있다. 상기 인쇄회로기판(80)은 상기 제1 기판(50) 및 제2 기판(60)의 일측에 부착되어 상기 제1 배선패턴(53) 및 제2 배선패턴(63)과 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 인쇄회로기판(80)과 부착되는 상기 제1 기판(50) 및 제2 기판(60)의 일 측에는 이방성 전도성 필름(Anisotropic Conductive Film, ACF)이 도포될 수 있다. 상기 인쇄회로기판(80)은 상기 이방성 전도성 필름에 의해 상기 제1 배선패턴(53) 및 제2 배선패턴(63)에 전압을 인가할 수 있다.
상기 인쇄회로기판(80)은 잘 휘어질 수 있는 연성회로기판(Flexible Printed Circuit Board, FPCB)일 수 있다. 상기 인쇄회로기판(80)에는 상기 제1 및 제2 배선패턴(53, 63)을 통해 상기 제1 및 제2 전극패턴(51, 61)으로부터 센싱 신호를 전달받고 이를 제어하는 제어부가 형성될 수 있다.
상기 제어부는 왜곡되지 않은 상기 센싱신호를 전달받아 연산하여 터치를 검출함으로써 왜곡신호 보상과정을 생략할 수 있고, 보다 빠른 연산을 통해 터치를 검출할 수 있는 효과가 있다.
도 9는 실시 예에 따른 터치패널이 적용되는 표시장치에 대한 사시도이다.
도 9를 참조하면 상기 표시장치(100)에는 외부로부터 명령 입력을 위한 입력버튼(110), 정지영상 및 동영상 촬영을 위한 카메라(120) 및 음성을 출력하는 스피커(130)가 형성될 수 있다.
상기 표시장치(100)는 앞서 설명한 터치패널 및 표시패널(미도시)을 포함할 수 있다. 상기 터치패널은 상기 표시패널(미도시)의 전면에 형성되어 상기 표시장치(100)의 상면으로 커버 글라스(70)가 노출될 수 있다. 상기 표시패널(미도시)은 상기 터치패널에 부착될 수 있다.
상기 표시패널(미도시)은 화상을 표시할 수 있다. 상기 표시패널(미도시)은 액정표시패널 또는 유기발광 표시패널일 수 있으며, 모바일 폰, TV, 네비게이션 장치 등 다양한 제품에 적용될 수 있다.
본 발명의 실시예들에 따른 터치패널이 적용되는 장치로 표시장치를 예로 들어 설명하였으나, 본 발명의 실시예들에 따른 터치패널이 적용되는 장치는 이에 한정되지 않고, 키패드, 노트북용 터치 패드, 차량용 터치 입력 장치 등 다양한 제품에 이용될 수 있다.
상기에서는 본 발명에 따른 실시예를 기준으로 본 발명의 구성과 특징을 설명하였으나 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 본 발명의 사상과 범위 내에서 다양하게 변경 또는 변형할 수 있음은 본 발명이 속하는 기술분야의 당업자에게 명백한 것이며, 따라서 이와 같은 변경 또는 변형은 첨부된 특허청구범위에 속함을 밝혀둔다.

Claims (19)

  1. 서로 교차하며 배치되는 제1 나노 구조체 및 제2 나노 구조체를 포함하고,
    상기 제1 나노 구조체와 제2 나노 구조체의 교차영역의 두께는 상기 제1 나노 구조체와 제2 나노 구조체의 비교차영역의 두께의 합의 0.6 배 내지 0.9배인
    도전시트.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 도전시트는 상기 제1 나노 구조체와 제2 나노 구조체를 수용하는 매트릭스를 포함하고,
    상기 매트릭스는 상기 제1 나노 구조체 및 제2 나노 구조체와 직접 접촉하는
    도전시트.
  3. 제1 항에 있어서,
    상기 제1 나노 구조체와 제2 나노 구조체는 상기 교차영역에 의해 서로 전기적으로 연결되는
    도전시트.
  4. 제1 항에 있어서,
    상기 제 1 나노 구조체와 제 2 나노 구조체는 금속물질과 폴리머의 혼합용액이 방사되어 형성된 것이며, 상기 교차영역은 방사 후 상기 폴리머가 제거되어 형성되는
    도전시트.
  5. 제1 항에 있어서,
    상기 교차영역의 폭은 상기 비교차영역의 폭보다 1.2배 내지 1.8배 큰
    도전시트.
  6. 제1 항에 있어서,
    상기 제1 나노 구조체와 제2 나노 구조체는 10만이상의 종횡비를 가지는
    도전시트.
  7. 제1 항에 있어서,
    상기 제1 나노 구조체 및 제2 나노 구조체는 전계방사법에 의해 형성되는
    도전시트.
  8. 제1 항에 있어서,
    상기 제1 나노 구조체는 상기 교차영역과 비교차 영역에서 동일한 단면적을 가지는 도전시트.
  9. 하나의 터치화소를 형성하는 단위 도전패턴을 적어도 하나 이상 포함하는 도전패턴에 있어서,
    상기 단위 도전패턴 내에서 서로 교차하며 배치되는 제1 나노 구조체 및 제2 나노 구조체를 포함하고,
    상기 제1 나노 구조체와 제2 나노 구조체의 교차영역의 두께는 상기 제1 나노 구조체와 제2 나노 구조체의 비교차영역의 두께의 합의 0.6 배 내지 0.9배인
    도전패턴.
  10. 제9 항에 있어서,
    상기 제1 나노 구조체는 제1 단과 제2 단을 구비하고,
    상기 제1 단은 상기 도전패턴의 제1 측면과 제1 점에서 만나고,
    상기 제2 단은 상기 도전 패턴의 제2 측면과 제2 점에서 만나며,
    상기 제1 점과 상기 제2 점 사이의 거리는 상기 제1 나노 구조체의 길이보다 짧은
    도전패턴.
  11. 제10 항에 있어서,
    상기 제1 측면과 상기 제2 측면은 서로 인접하는 측면인
    도전패턴.
  12. 제10 항에 있어서,
    상기 제1 측면과 상기 제2 측면은 서로 대향하는 측면인
    도전패턴.
  13. 제9 항에 있어서,
    상기 도전패턴은 상기 제1 나노 구조체와 제2 나노 구조체를 수용하는 매트릭스를 포함하고,
    상기 매트릭스는 상기 제1 나노 구조체 및 제2 나노 구조체와 직접 접촉하는
    도전패턴.
  14. 제9 항에 있어서,
    상기 제1 나노 구조체와 제2 나노 구조체는 상기 교차영역에 의해 서로 전기적으로 연결되는
    도전패턴.
  15. 제9 항에 있어서,
    상기 제 1 나노 구조체와 제 2 나노 구조체는 금속물질과 폴리머의 혼합용액이 방사되어 형성된 것이며, 상기 교차영역은 방사 후 상기 폴리머가 제거되어 형성되는
    도전패턴.
  16. 제9 항에 있어서,
    상기 교차영역의 폭은 상기 비교차영역의 폭보다 1.2배 내지 1.8배 큰
    도전패턴.
  17. 제9 항에 있어서,
    상기 제1 나노 구조체 및 제2 나노 구조체는 전계방사법에 의해 형성되는
    도전패턴.
  18. 제9 항에 있어서,
    상기 제1 나노 구조체는 상기 교차영역과 비교차 영역에서 동일한 단면적을 가지는
    도전패턴.
  19. 제10 항에 있어서,
    상기 제1 나노 구조체는 상기 제1 점과 제2 점 사이를 연결하는 직선과 적어도 하나 이상의 점에서 만나는
    도전패턴.
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