WO2016059990A1 - 電子線滅菌設備 - Google Patents

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WO2016059990A1
WO2016059990A1 PCT/JP2015/078148 JP2015078148W WO2016059990A1 WO 2016059990 A1 WO2016059990 A1 WO 2016059990A1 JP 2015078148 W JP2015078148 W JP 2015078148W WO 2016059990 A1 WO2016059990 A1 WO 2016059990A1
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WO
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electron beam
shielding
chamber
shielding wall
upstream
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Application number
PCT/JP2015/078148
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English (en)
French (fr)
Inventor
万晶 佐々木
孝康 横林
真一 武田
Original Assignee
日立造船株式会社
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Publication date
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Priority to US15/518,883 priority patent/US10252830B2/en
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Priority to JP2016554039A priority patent/JP6635931B2/ja
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    • B65B55/02—Sterilising, e.g. of complete packages
    • B65B55/04—Sterilising wrappers or receptacles prior to, or during, packaging
    • B65B55/08—Sterilising wrappers or receptacles prior to, or during, packaging by irradiation
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    • A61L2202/20—Targets to be treated
    • A61L2202/23—Containers, e.g. vials, bottles, syringes, mail

Definitions

  • the present invention relates to an electron beam sterilization facility that sterilizes containers for foods and drinks, pharmaceuticals, and the like by electron beam irradiation.
  • a device for irradiating a container with an electron beam is used as a device for reliably sterilizing the container.
  • the container can be reliably sterilized, X-rays, which are dangerous for living organisms, are generated by irradiating the container with an electron beam.
  • the structure which does not leak the generated X-rays dangerously by having shielded X-rays enough is proposed (for example, refer patent document 1).
  • a cylindrical shielding body for shielding X-rays is mounted on a turning table that conveys a container to a circular path. Yes.
  • FIG. 11 of the said patent document 1 X-ray
  • an object of the present invention is to provide an electron beam sterilization facility that can be speeded up and reduced in size without leaking X-rays in a dangerous manner.
  • an electron beam sterilization facility is an electron beam sterilization facility that sterilizes by irradiating an electron beam while transporting the container.
  • An electron beam sterilization facility comprising: a sterilization chamber, and a shielding chamber that receives the container from the sterilization chamber and shields radiation generated by irradiation of the electron beam,
  • the shielding chamber has an upstream opening for receiving the container from the sterilization chamber, and a downstream opening for delivering the container to the outside of the shielding chamber;
  • a holder for holding the container in the shielding chamber, a swivel table for transporting the container held by the holder by a circular path, and non-contact with the swivel table and shielding radiation from the sterilization chamber
  • a shielding wall is provided, The shielding wall faces the upstream opening or the downstream opening and has a larger area than the upstream opening or the downstream opening.
  • An electron beam sterilization facility is the electron beam sterilization facility according to the first aspect of the invention, wherein the holder is attached to the peripheral portion of the turning table and is outward from the peripheral portion of the turning table. Is to hold the container, The shielding wall is disposed outward from the peripheral edge of the swivel table and inward from the circular path through which the container is transported by the swivel table.
  • the shielding wall in the electron beam sterilization facility according to the first or second invention is made higher than the upper ends of the upstream opening and the downstream opening.
  • the shielding wall in the electron beam sterilization facility according to the first or second invention faces the upstream opening and has an upstream area larger than the upstream opening. It has a side shielding wall and a downstream shielding wall that faces the downstream opening and has a larger area than the downstream opening.
  • the electron beam sterilization facility according to the fifth aspect of the invention is the electron beam sterilization facility according to the fourth aspect of the invention, wherein a ventilation space is formed between the upstream shielding wall and the downstream shielding wall.
  • the electron beam sterilization facility according to the sixth aspect of the invention is characterized in that the upstream shielding wall and the downstream shielding wall in the electron beam sterilization facility according to the fourth aspect of the invention are all straight lines connecting the upstream opening and the downstream opening. It is located so as to block.
  • the electron beam sterilization facility according to the seventh invention is the electron beam sterilization facility according to the fourth invention, wherein all straight lines connecting the upstream opening and the end of the upstream shielding wall, the downstream opening, and the downstream side. All straight lines connecting the ends of the shielding walls do not intersect in the shielding room.
  • X-rays can be made faster and smaller without leaking without danger.
  • FIG. 5 is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. 4.
  • FIG. 3 is a sectional view taken along line BB in FIG.
  • FIG. 7 is a CC arrow view of FIG. 6.
  • It is a top view which shows the modification of the shielding room.
  • It is a top view which shows the modification of the introduction star wheel in the same electron beam sterilization equipment.
  • the electron beam sterilization facility is generally a facility for sterilization by irradiation of an electron beam while transporting a container.
  • a preform body P that is, a raw material body before being formed into a plastic bottle B by blow molding
  • a test tube shape (longitudinal section with an open upper end u). (Surface U-shaped) will be described.
  • This electron beam sterilization facility has roughly five chambers as shown in FIG. These five chambers are, in order from the upstream side of the path of the preform body P to be conveyed, the supply chamber 1 to which the preform body P is supplied from the outside, and the outer surface sterilization that sterilizes the outer surface of the preform body P with an electron beam.
  • a shielding chamber 6 that prevents the sterilization
  • a sorting chamber 9 that discharges the preform body P (hereinafter simply referred to as a defective product) with insufficient sterilization.
  • the floor, wall, and ceiling are made of a material that shields X-rays.
  • the supply chamber 1 includes an introduction cylinder 11 for introducing the preform body P, and an introduction star wheel 21 (which is an example of a swivel conveyance plate) that starts conveying the preform body P introduced by the introduction cylinder 11. .
  • the outer surface sterilization chamber 4 has an outer surface sterilization unit 41 that receives the preform body P from the introduction star wheel 21 and sterilizes the outer surface with an electron beam.
  • the outer surface sterilization unit 41 includes an elliptical path transporter 42 that transports the preform body P received from the introduction star wheel 21 to an elliptical path, and an electron on the outer surface of the preform body P that is transported by the elliptical path transporter 42.
  • an external electron beam irradiation device 45 that irradiates a line (transverse cross section is substantially rectangular).
  • the elliptical path transfer device 42 spans two outer surface sterilization star wheels 43 disposed near one end side and the other end side of the outer surface electron beam irradiation device 45, and these two outer surface sterilization star wheels 43. And an endless transport belt 44 for transporting the preform body P.
  • the inner surface sterilization chamber 5 receives the preform body P from the elliptical path transfer device 42 and transports it to the circular path, and receives the preform body P from the turning path table 51 and transfers the inner surface to the electron beam. And an inner surface sterilization unit 52 for sterilization.
  • the inner surface sterilization unit 52 is provided on the inner surface sterilization turning table 53 for transporting the preform body P in a circular path, and the inner surface sterilization turning table 53 is provided at a predetermined central angle (for example, 18 °, that is, 0.1 ⁇ rad) pitch.
  • Elevating device (not shown) that can raise and lower the preform body P, and the same number of elevating devices are provided directly above the elevating device, and an electron beam (the cross section is substantially circular) on the inner surface of the preform body P
  • an inner surface electron beam irradiation device (not shown).
  • Each of these inner surface electron beam irradiation devices includes a nozzle that irradiates an electron beam downward from a lower end portion.
  • Each of these inner surface electron beam irradiation devices is configured to move in a circular path at the same rotational speed as the lifting device so as to be positioned immediately above the corresponding lifting device.
  • the lifting device raises the preform body P to insert a nozzle into the opening of the preform body P, and lowers the preform body P in this state to pull out the nozzle from the opening of the preform body P.
  • the state in which the nozzle is removed from the opening of the preform body P is a state in which the preform body P can be received and delivered by the other turning tables 51 and 71.
  • the shielding chamber 6 includes a sterile turning table 71 that receives the preform P from the inner surface sterilization turning table 53 and transports the preform body P to a circular path, and a shielding wall 81 that shields the X-rays that have entered from the inner surface sterilization chamber 5.
  • a sterile turning table 71 that receives the preform P from the inner surface sterilization turning table 53 and transports the preform body P to a circular path
  • a shielding wall 81 that shields the X-rays that have entered from the inner surface sterilization chamber 5.
  • the sorting chamber 9 receives the preform body P from the aseptic swivel table 71 and transports it to the circular path while sorting the defective product and the other, and the sorting swivel table 91 from the sorting swivel table 91 to the non-defective product. It has a lead-out turning table 93 that receives the reformed body P, transports it to the circular path, and leads it to the outside. A discharge port 92 for discharging defective products is formed on the floor of the sorting chamber 9 below a part of the circular path of the sorting swivel table 91.
  • the sorting swivel table 91 is configured to drop the defective product on the discharge port 92 when the preform P conveyed along the circular path is determined to be defective.
  • the lead-out swivel table 93 is also for supplying other than the defective product of the preform body P to the external equipment F (for example, equipment for blow molding).
  • the turning table described above that is, the turning table 51, the inner surface sterilizing table 53, the aseptic table 71, the sorting table 91, and the outlet table 93 have a fixed central angle (for example, 18 °, 0.
  • a gripping tool 74 (which is an example of a holding tool) that grips the preform body P at a pitch of 1 ⁇ rad) is provided. These gripping tools 74 grip the neck portion n (see FIG. 1) of the preform body P at the position where the preform body P is received from the upstream side and conveyed by a circular path, and the preform body P is received downstream. The gripping is released at the handing position. As a result, the preform body P is smoothly received and delivered from the upstream side to the downstream side.
  • the lifting device provided on the inner surface sterilization turning table 53 can lift and lower the preform body P together with the gripper 74.
  • ozone is generated by causing a chemical reaction of the air by an electron beam. If ozone stays inside the electron beam sterilization facility 10, it will cause the electron beam sterilization facility 10 to corrode. For this reason, the electron beam sterilization facility 10 is provided with a ventilation device (not shown) that discharges internal ozone to the outside by a pressure difference.
  • the shielding chamber 6 is divided into an inner chamber sterilization chamber 5 and a sorting chamber 9 which are adjacent chambers by a partition wall 61 as shown in FIGS.
  • the partition wall 61 is made of a material that shields X-rays.
  • the partition wall 61 has an upstream opening 62 for receiving the preform body P from the inner surface sterilization turning table 53 of the inner surface sterilization chamber 5, and the preform from the aseptic turning table 71.
  • a downstream opening 63 for transferring the body P to the sorting swivel table 91 of the sorting chamber 9 is formed.
  • Each of the upstream side opening 62 and the downstream side opening 63 has a minimum space for receiving and transferring the preform body P in order to prevent X-ray leakage.
  • the aseptic swivel table 71 has a circular plate 72 as a substantially horizontally arranged table, and as shown in FIG. 5, the circular plate 72 is swiveled around a vertical axis 7v (a central axis 7v of the circular plate 72). And a shaft 73.
  • the drive shaft 73 has a lower end connected to a drive device (not shown) provided below the floor of the shielding chamber 6 and an upper end connected to the circular plate 72.
  • the gripper 74 provided on the aseptic turning table 71 is connected to the connection plate 75 extending from the upper surface at the peripheral edge of the aseptic turning table 71 to the outside of the central shaft 7v.
  • a hanging body 76 that extends downward from the outer end of the plate 75 and a pair of gripping arms 77 that can grip the preform body P outside the hanging body 76. Due to the configuration of the gripping tool 74, the position where the preform body P is gripped is outside and below the circular plate 72 of the aseptic turning table 71. For this reason, the upstream opening 62 is also lower than the circular plate 72 of the sterile turning table 71.
  • the shielding wall 81 faces the upstream opening 62 and has an upstream shielding wall 82 having a larger area than the upstream opening 62 and the downstream opening 63.
  • the downstream shielding wall 83 has a larger area than the downstream opening 63.
  • Both the upstream shielding wall 82 and the downstream shielding wall 83 are arranged outward to the extent that they do not barely contact the gripping tool 74. Therefore, as shown in FIG. 4, the upstream shielding wall 82 and the downstream shielding wall 83 have an arc shape centering on the central axis 7v in plan view and cover the upstream opening 62 and the downstream opening 63, respectively. It becomes such an arrangement. Further, as shown in FIG.
  • the heights of the upstream shielding wall 82 and the downstream shielding wall 83 are set higher than at least the upstream opening 62 and the downstream opening 63, respectively. It is made not to touch.
  • the upstream shielding wall 82 and the downstream shielding wall 83 are not in contact with not only the gripper 74 but also the aseptic turning table 71.
  • the upstream shielding wall 82 and the downstream shielding wall 83 are not connected to each other and are completely separated as shown in FIG. That is, a space through which gas (ozone) can pass, that is, a ventilation space 84 is formed between the upstream shielding wall 82 and the downstream shielding wall 83.
  • the ventilation space 84 has a shape and a size such that the flow of gas (ozone) from the upstream opening 62 to the downstream opening 63 (or vice versa) is smooth, that is, the gas (ozone) is in the shielding chamber 6. It is preferable that the shape and size are less likely to stay.
  • the upstream shielding wall 82 and the downstream shielding wall 83 are arranged so as to completely shield the space where the upstream opening 62 and the downstream opening 63 are linearly connected, respectively.
  • the upstream shielding wall 82 and the downstream shielding wall 83 are disposed at positions that block all straight lines connecting the upstream opening 62 and the downstream opening 63.
  • the upstream shielding wall 82 and the downstream shielding wall 83 include a straight line 2 connecting the end of the upstream opening 62 and the end of the upstream shielding wall 82, and the end of the downstream opening 63 and the downstream shielding wall 83.
  • the straight line 3 that connects the end portions of the shield chamber 6 is arranged at a position that does not intersect with the shielding chamber 6.
  • all straight lines connecting the upstream opening 62 and the end of the upstream shielding wall 82 do not intersect with all straight lines connecting the downstream opening 63 and the end of the downstream shielding wall 83 in the shielding chamber 6.
  • This arrangement is configured to reflect all X-rays that have entered from the upstream opening 62 to the shielding wall 81, the partition wall 61, and the like three or more times before reaching the downstream opening 63.
  • the introduction star wheel 21 has a star wheel plate 22 arranged substantially horizontally, and a drive for turning the star wheel plate 22 around a vertical axis 1v (a central axis 1v of the star wheel plate 22). And a shaft 23.
  • the drive shaft 23 has a lower end connected to a drive device (not shown) provided below the floor of the supply chamber 1 and an upper end connected to the star wheel plate 22.
  • the introduction star wheel 21 is connected to a guide 13 for sliding the preform body P by its own weight from the introduction cylinder 11 to the upstream end of the star wheel plate 22.
  • the introduction star wheel 21 is provided with a shielding portion 30 that shields X-rays that have entered from the outer surface sterilization chamber 4.
  • the shielding portion 30 is attached to the lower surface of the star wheel plate 22 and surrounds the entire periphery of the drive shaft 23.
  • the shielding short tube 31 (which is an example of a cylindrical shielding body) and an opening on the downstream side of the introduction tube 11 ( Hereinafter, it has a shielding housing 35 that extends from above the supply port 12 to the vicinity of the upper surface of the star wheel plate 22.
  • the shielding short cylinder 31 prevents X-rays that have entered from the outer surface sterilization chamber 4 from reaching the lower half of the supply port 12, and the shielding housing 35 has X-rays that have entered from the outer surface sterilization chamber 4 as a supply port.
  • the upper half of 12 is not reached. For this reason, it can be said that the shielding short cylinder 31 and the shielding housing 35 prevent the X-rays in the supply chamber 1 from leaking outside the electron beam sterilization facility 10 through the introduction cylinder 11 while being dangerous.
  • the introduction cylinder 11 is made of a material that shields X-rays. Further, the inclination angle and length of the introduction cylinder 11 are designed so that the upper end of the supply port 12 (that is, the opening on the downstream side of the introduction cylinder 11) is lower than the lower end of the opening on the upstream side of the introduction cylinder 11. . For this reason, even if the X-ray reaches the supply port, it is shielded by the introduction tube 11. In other words, it can be said that the introduction cylinder 11 prevents X-rays in the supply chamber 1 from leaking outside the electron beam sterilization facility 10 while being dangerous.
  • the shielding short cylinder 31 includes a large-diameter outer arc-shaped shielding plate 32 and a small-diameter inner arc-shaped shielding plate 33, as shown in FIG.
  • Each of the outer arc-shaped shielding plate 32 and the inner arc-shaped shielding plate 33 has a common arc center at the center axis 1v of the star wheel plate 22, a center angle of 180 ° or more in plan view, and the center axis 1v. And have portions w overlapping each other.
  • the outer arc-shaped shielding plate 32 and the inner arc-shaped shielding plate 33 are not connected to each other and are completely separated. That is, a space through which gas (ozone) can pass, that is, a ventilation space 34 is formed between the outer arc-shaped shielding plate 32 and the inner arc-shaped shielding plate 33.
  • the ventilation space 34 is shaped and sized so that the flow of gas (ozone) from the outer surface sterilization chamber 4 to the supply port 12 (or vice versa) is smooth, that is, the gas (ozone) stays in the supply chamber 1. It is preferable that the shape and size be difficult to do.
  • the inner arc-shaped shielding plate 33 has a large diameter so as not to contact the outer arc-shaped shielding plate 32, and the outer arc-shaped shielding plate 32 has a large diameter so as not to contact the preform body P.
  • the shielding housing 35 includes a horizontal portion 36 that protrudes substantially horizontally from above the supply port 12 to above the introduction star wheel 21, and a vertical portion that hangs down from above the supply star wheel in the flange portion. Part 37.
  • the lower end of the vertical portion 37 is positioned below to such an extent that it hardly barely contacts the introduction star wheel 21 and the preform body P conveyed thereto.
  • the preform P supplied to the supply chamber 1 is sequentially transferred to the outer surface sterilization chamber 4, the inner surface sterilization chamber 5, the shielding chamber 6, and the sorting chamber 9.
  • the preform body P is sterilized by the electron beam in the outer surface sterilization chamber 4 and the inner surface is sterilized by the electron beam in the inner surface sterilization chamber 5.
  • the electron beam is applied to the preform body P as sterilization by an electron beam, thereby generating X-rays.
  • ozone is generated by causing a chemical reaction of the air by an electron beam.
  • the X-rays generated in the outer surface sterilization chamber 4 and the inner surface sterilization chamber 5 enter the shielding chamber 6 and the supply chamber 1 which are adjacent chambers and attempt to leak outside the electron beam sterilization facility 10. However, since the X-rays are shielded by the shielding chamber 6 and the supply chamber 1, they do not leak to the outside in a dangerous manner. On the other hand, ozone generated in the outer surface sterilization chamber 4 and the inner surface sterilization chamber 5 also enters the shielding chamber 6 and the supply chamber 1 having complicated structures such as the shielding wall 81 and the shielding portion 30.
  • the ozone in the shielding chamber 6 and the supply chamber 1 flows smoothly through the ventilation spaces 84 and 34, so that it does not easily stay in the shielding chamber 6 and the supply chamber 1, and is discharged outside the electron beam sterilization facility 10 by the ventilation device. .
  • X-rays that have entered from the upstream opening 62 are shielded by the shielding wall 81, and the shielding wall 81, the partition wall 61, and the like (the floor, walls, and ceiling of the shielding room 6). And also attenuate). Also, all the X-rays that have entered from the upstream opening 62 are reflected by the shielding wall 81 and the partition wall 61 three times or more before reaching the downstream opening 63 due to the configuration of the shielding wall 81 described above. It is attenuated to the extent that there is no.
  • the X-rays that have entered from the outer surface sterilization chamber 4 are shielded by the shielding portion 30 and the shielding portion 30 and the like (the floor, walls, and ceiling of the supply chamber 1 are also It is reflected and attenuated. Further, all the X-rays that have entered from the outer surface sterilization chamber 4 are reflected to the shielding part 30 or the like three times or more before reaching the supply port 12 by the configuration of the shielding part 30 described above, so that there is no danger. Attenuated.
  • the shielding wall 81 which is a heavy object, is not attached to the aseptic turning table 71, so that the other turning tables 51, 53, 91, and 93 together with the aseptic turning table 71 are at high speed. It will be rotated by, and it can speed up.
  • the X-rays are sufficiently shielded only by the shielding chamber 6 and the supply chamber 1, other chambers and structures for shielding the X-rays are not required, and the size can be reduced. Furthermore, since the number of chambers can be reduced, it becomes difficult for ozone to stay inside the electron beam sterilization facility 10, so that corrosion can be prevented.
  • preform body P was demonstrated as an example of a container, PET bottle B and another container may be sufficient.
  • the gripping tool 74 has been described as an example of the holding tool.
  • the holding tool 74 is not limited to this, and any holding tool may be used.
  • the shielding wall 81 is arranged outward to the extent that it does not barely contact the gripping tool 74.
  • the portion attached to the aseptic turning table 71 of the connection plate 75 (that is, the aseptic turning table). 71, and the shielding wall 81 only needs to be disposed outward from the peripheral edge of the aseptic turning table 71.
  • the shielding wall of the sorting chamber 9 has not been described.
  • the partition wall 61 that separates the shielding chamber 6 and the sorting chamber 9 is used.
  • a shielding wall 95 may be provided in line symmetry with the downstream shielding wall 83. With this configuration, X-rays are further sufficiently shielded. If the shielding wall 95 of the sorting chamber 9 is provided, the downstream shielding wall 83 may not be provided.
  • the shielding wall of the inner surface sterilization chamber 5 was not demonstrated, as shown in the inner surface sterilization chamber 5 of FIG. 8, the partition wall 61 which divides the inner surface sterilization chamber 5 and the shielding chamber 6 is used.
  • the shielding wall 55 may be provided in line symmetry with the upstream shielding wall 82. With this configuration, X-rays are further sufficiently shielded. If the shielding wall 55 of the inner surface sterilization chamber 5 is provided, the upstream shielding wall 82 may not be provided.
  • the shielding short cylinder 31 is described as being composed of the large-diameter outer arc-shaped shielding plate 32 and the small-diameter inner arc-shaped shielding plate 33.
  • the arc-shaped shielding plates 32 ′ and 33 ′ may be used as long as they have the ventilation space 34 and the overlapping portion w.
  • the number of the arc-shaped shielding plates is not limited to two, and may be three or more, and may have an integrated structure as long as the ventilation space 34 has a notch.
  • the shape of the shielding wall 81 has been described.
  • the shape is not limited to this, and at least faces either the upstream opening 62 or the downstream opening 63. What is necessary is just to have an area larger than the upstream opening 62 or the downstream opening 63.
  • the hanging body 76 of the gripper 74 has not been described in detail, but the hanging body 76 may be made of a material that shields X-rays. With this configuration, X-rays are further sufficiently shielded.

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Abstract

　内面電子線照射装置が配置された内面滅菌室（５）と、内面滅菌室（５）からプリフォーム体（Ｐ）を受け取ると共に電子線の照射で発生するＸ線を遮蔽する遮蔽室（６）とを備える電子線滅菌設備である。遮蔽室（６）が、プリフォーム体（Ｐ）を受け取る上流側開口（６２）と、プリフォーム体（Ｐ）を受け渡す下流側開口（６３）とを有する。遮蔽室（６）に、プリフォーム体（Ｐ）を把持する把持具（７４）と、把持されたプリフォーム体（Ｐ）を円経路で搬送する無菌旋回テーブル（７１）と、無菌旋回テーブル（７１）に非接触であってＸ線を遮蔽する遮蔽壁（８１）とが設けられる。遮蔽壁（８１）が、上流側開口（６２）［または下流側開口（６３）］に面して上流側開口（６２）［または下流側開口（６３）］よりも面積が大きいものである。

Description

電子線滅菌設備
　本発明は、飲食品用や医薬品用などの容器などを電子線の照射により滅菌する電子線滅菌設備に関するものである。
　飲食品用の容器を取り扱う企業は、その容器の滅菌が不十分ゆえに食中毒事件を引き起こすと、社会からの信用が大きく失墜することになる。このため、飲食品用の容器には、飲食品の安全性が重要視される先進諸国で、確実な滅菌が必要である。
　現在では、容器を確実に滅菌するための装置として、容器に電子線を照射する装置が採用されている。このような装置では、容器を確実に滅菌できるものの、容器に電子線を照射することで、生物にとって危険な放射線であるＸ線が発生する。このため、上記装置において、Ｘ線が十分に遮蔽されることで、発生したＸ線を危険なまま漏らさない構造が提案されている（例えば、特許文献１参照）。この特許文献１に記載の構造では、特許文献１の図６に示すように、容器を円経路に搬送する旋回テーブルの上に、Ｘ線を遮蔽するための円筒状の遮蔽体が取り付けられている。これにより、上記特許文献１の図１１に示すように、Ｘ線が十分に遮蔽される。
国際公開第２０１３／０５８２０４号
　ところで、近年では、より短時間で多くの容器に電子線を照射する装置が望まれており、言い換えれば、高速化された装置が望まれている。しかしながら、上記特許文献に記載の装置だと、旋回テーブルの上に重量物である遮蔽体が取り付けられているので、旋回テーブルを高速で回転させられず、高速化することができない。また、旋回テーブルに取り付けられた遮蔽体は重量物なので、旋回テーブルの安定した回転のためにも、遮蔽体（円筒状）は小径に制限される。このため、上記特許文献１に記載の装置だと、Ｘ線を十分に遮蔽するために、上記特許文献１の図１１に示すように、遮蔽体が取り付けられた旋回テーブルが多く必要となり、必然的に各旋回テーブルを収納するための室も多く必要となる。したがって、上記特許文献１に記載の装置だと、多くの旋回テーブルおよび室のために、大型化することになる。
　そこで、本発明は、Ｘ線が危険なまま漏れることなく、高速化および小型化することができる電子線滅菌設備を提供することを目的とする。
　上記課題を解決するため、第１の発明に係る電子線滅菌設備は、容器を搬送しながら電子線の照射により滅菌する電子線滅菌設備において、容器に電子線を照射する電子線照射装置が配置された滅菌室と、この滅菌室から上記容器を受け取るとともに上記電子線の照射により発生する放射線を遮蔽する遮蔽室とを備える電子線滅菌設備であって、
　上記遮蔽室が、上記滅菌室から上記容器を受け取る上流側開口と、上記容器を当該遮蔽室の外部に受け渡す下流側開口とを有し、
　上記遮蔽室に、上記容器を保持する保持具と、この保持具に保持された上記容器を円経路で搬送する旋回テーブルと、この旋回テーブルに非接触であるとともに上記滅菌室からの放射線を遮蔽する遮蔽壁とが設けられ、
　上記遮蔽壁が、上流側開口または下流側開口に面して当該上流側開口または下流側開口よりも面積が大きいものである。
　また、第２の発明に係る電子線滅菌設備は、第１の発明に係る電子線滅菌設備において、保持具が、上記旋回テーブルの周縁部に取り付けられるとともに、上記旋回テーブルの周縁部から外方で上記容器を保持するものであり、
　遮蔽壁が、上記旋回テーブルの周縁部から外方で且つ、上記旋回テーブルで容器が搬送される円経路より内方に配置されるものである。
　さらに、第３の発明に係る電子線滅菌設備は、第１または第２の発明に係る電子線滅菌設備における遮蔽壁が、上流側開口および下流側開口の上端よりも高くされるものである。
　加えて、第４の発明に係る電子線滅菌設備は、第１または第２の発明に係る電子線滅菌設備における遮蔽壁が、上流側開口に面して当該上流側開口よりも面積が大きい上流側遮蔽壁と、下流側開口に面して当該下流側開口よりも面積が大きい下流側遮蔽壁とを有するものである。
　また、第５の発明に係る電子線滅菌設備は、第４の発明に係る電子線滅菌設備において、上流側遮蔽壁と下流側遮蔽壁との間に、通気空間が形成されるものである。
　また、第６の発明に係る電子線滅菌設備は、第４の発明に係る電子線滅菌設備における上流側遮蔽壁および下流側遮蔽壁が、上流側開口と下流側開口とを結ぶ全ての直線を遮るように位置するものである。
　また、第７の発明に係る電子線滅菌設備は、第４の発明に係る電子線滅菌設備において、上流側開口と上流側遮蔽壁の端部を結ぶ全ての直線と、下流側開口と下流側遮蔽壁の端部を結ぶ全ての直線とが、遮蔽室で交差しないものである。
　上記電子線滅菌設によると、Ｘ線が危険なまま漏れることなく、高速化および小型化することができる。
本発明の実施の形態に係る電子線滅菌設備で滅菌される容器を示す側面図である。 同電子線滅菌設備の全体構成を示す概略平面図である。 同電子線滅菌設備における遮蔽室の斜視図である。 同遮蔽室の平面図である。 図４のＡ－Ａ断面図である。 図２のＢ－Ｂ断面図である。 図６のＣ－Ｃ矢視図である。 同遮蔽室の変形例を示す平面図である。 同電子線滅菌設備における導入スターホイールの変形例を示す平面図である。
　以下、本発明の実施の形態に係る電子線滅菌設備について図面に基づき説明する。上記電子線滅菌設備は、概略的に説明すると、容器を搬送しながら電子線の照射により滅菌する設備である。なお以下では、図１に示すように、容器の一例として、プリフォーム体Ｐ、つまり、ブロー成形によりペットボトルＢに成形される前の原料体であって試験管形状（上端ｕが開口した縦断面Ｕ字形状）のものについて説明する。
　この電子線滅菌設備は、図２に示すように、概略的に５つの室を有する。これら５つの室は、搬送されるプリフォーム体Ｐの経路の上流側から順に、外部からプリフォーム体Ｐが供給される供給室１と、プリフォーム体Ｐの外面を電子線により滅菌する外面滅菌室４と、上記プリフォーム体Ｐの内面を電子線により滅菌する内面滅菌室５と、プリフォーム体Ｐに電子線を照射することで発生するＸ線（放射線の一例である）が外部に漏れないようにする遮蔽室６と、上記滅菌が不十分なプリフォーム体Ｐ（以下、単に不良品という）を排出する選別室９とである。なお、上記５つの室１，４，５，６，は、それぞれの床、壁および天井がＸ線を遮蔽する材料により構成されている。
　上記供給室１は、プリフォーム体Ｐを導入する導入筒１１と、この導入筒１１で導入されたプリフォーム体Ｐを搬送し始める導入スターホイール２１（旋回搬送板の一例である）とを有する。
　上記外面滅菌室４は、導入スターホイール２１からプリフォーム体Ｐを受け取ってその外面を電子線により滅菌する外面滅菌部４１を有する。この外面滅菌部４１は、導入スターホイール２１から受け取ったプリフォーム体Ｐを楕円経路に搬送する楕円経路搬送機４２と、この楕円経路搬送機４２で搬送されているプリフォーム体Ｐの外面に電子線（横断面が略矩形状）を照射する外面電子線照射装置４５とを具備する。上記楕円経路搬送機４２は、上記外面電子線照射装置４５の一端側近傍および他端側近傍に配置された２つの外面滅菌用スターホイール４３と、これら２つの外面滅菌用スターホイール４３に掛け渡されてプリフォーム体Ｐを搬送する無端状搬送帯４４とを備える。
　上記内面滅菌室５は、上記楕円経路搬送機４２からプリフォーム体Ｐを受け取って円経路に搬送する転向旋回テーブル５１と、この転向旋回テーブル５１からプリフォーム体Ｐを受け取ってその内面を電子線により滅菌する内面滅菌部５２とを有する。この内面滅菌部５２は、プリフォーム体Ｐを円経路に搬送する内面滅菌用旋回テーブル５３と、この内面滅菌用旋回テーブル５３に所定の中心角（例えば１８°つまり０．１πrad）ピッチで設けられてプリフォーム体Ｐを昇降させ得る昇降装置（図示省略）と、これら昇降装置の直上方に当該昇降装置と同数だけ設けられてプリフォーム体Ｐの内面に電子線（横断面が略円形状）を照射する内面電子線照射装置（図示省略）とを具備する。これら内面電子線照射装置は、それぞれ、下端部から電子線を下方に照射するノズルを備える。これら内面電子線照射装置は、いずれも、対応する上記昇降装置の直上方に位置するように、当該昇降装置と同じ回転速度で円経路に移動するように構成される。上記昇降装置は、プリフォーム体Ｐを上昇させることにより、プリフォーム体Ｐの開口にノズルを挿入させ、この状態のプリフォーム体Ｐを下降させることにより、プリフォーム体Ｐの開口からノズルを抜くものである。プリフォーム体Ｐの開口からノズルが抜かれた状態は、他の旋回テーブル５１，７１でプリフォーム体Ｐの受け取りおよび受け渡しができる状態である。
　上記遮蔽室６は、上記内面滅菌用旋回テーブル５３からプリフォーム体Ｐを受け取って円経路に搬送する無菌旋回テーブル７１と、内面滅菌室５から侵入した上記Ｘ線を遮蔽する遮蔽壁８１とを有する。
　上記選別室９は、上記無菌旋回テーブル７１からプリフォーム体Ｐを受け取って円経路に搬送しつつ不良品とそれ以外に選別する選別旋回テーブル９１と、この選別旋回テーブル９１から不良品以外のプリフォーム体Ｐを受け取って円経路に搬送し外部に導出する導出旋回テーブル９３とを有する。上記選別室９の床には、上記選別旋回テーブル９１での円経路の一部における下方に、不良品を排出するための排出口９２が形成されている。上記選別旋回テーブル９１は、この円経路で搬送されているプリフォーム体Ｐが不良品と判断されると、上記排出口９２の上で当該不良品を落とすようにされている。上記導出旋回テーブル９３は、プリフォーム体Ｐの不良品以外を、外部の設備Ｆ（例えばブロー成型のための設備）に供給するものでもある。
　ところで、上述した旋回テーブル、すなわち、転向旋回テーブル５１、内面滅菌用旋回テーブル５３、無菌旋回テーブル７１、選別旋回テーブル９１、および導出旋回テーブル９３には、一定の中心角（例えば１８°つまり０．１πrad）ピッチでプリフォーム体Ｐを把持する把持具７４（保持具の一例である）が設けられる。これら把持具７４は、上流側からプリフォーム体Ｐを受け取り円経路で搬送する位置において、当該プリフォーム体Ｐのネック部ｎ（図１参照）を把持し、下流側へプリフォーム体Ｐを受け渡す位置において、上記把持を解除するものである。これにより、上流側から下流側へのプリフォーム体Ｐの受け取りおよび受け渡しが、滑らかに行われる。なお、上記内面滅菌用旋回テーブル５３に設けられた昇降装置は、上記把持具７４ごとプリフォーム体Ｐを昇降させ得るものである。
　また、上記外面滅菌室４および内面滅菌室５では、その空気が電子線により化学反応を起こすことで、オゾンが生成される。オゾンは、電子線滅菌設備１０の内部に滞留すると、電子線滅菌設備１０を腐食させる原因になる。このため、電子線滅菌設備１０には、内部のオゾンを外部に気圧差で排出する通気装置（図示省略）が設けられている。
　以下、本発明の要旨である遮蔽室６の構成について図３～図５に基づき詳細に説明する。
　上記遮蔽室６は、図３～図５に示すように、仕切壁６１によって、隣接する室である内面滅菌室５および選別室９に区分けされている。この仕切壁６１は、Ｘ線を遮蔽する材料により構成されている。また、上記仕切壁６１には、上記内面滅菌室５の内面滅菌用旋回テーブル５３からプリフォーム体Ｐを上記無菌旋回テーブル７１が受け取るための上流側開口６２と、上記無菌旋回テーブル７１からプリフォーム体Ｐを上記選別室９の選別旋回テーブル９１に受け渡すための下流側開口６３とが形成されている。これら上流側開口６２および下流側開口６３は、それぞれ、Ｘ線の漏れを防止するために、プリフォーム体Ｐの受け取りおよび受け渡しのための最小限の空間にされている。
　上記無菌旋回テーブル７１は、略水平に配置されたテーブルとしての円形板７２と、図５に示すように、この円形板７２を鉛直軸７ｖ（円形板７２の中心軸７ｖ）周りに旋回させる駆動軸７３とを有する。この駆動軸７３は、下端が上記遮蔽室６の床の下方に設けられた駆動装置（図示省略）に接続されるとともに、上端が上記円形板７２に接続される。
　上記無菌旋回テーブル７１に設けられる把持具７４は、図３および図５に示すように、上記無菌旋回テーブル７１の周縁部における上面から上記中心軸７ｖの外方に亘る接続板７５と、この接続板７５の外端部から下方に亘る垂下体７６と、この垂下体７６の外方でプリフォーム体Ｐを把持し得る一対の把持アーム７７とを有する。上記把持具７４の構成により、プリフォーム体Ｐが把持される位置は、無菌旋回テーブル７１の円形板７２より外方で且つ下方となる。このため、上流側開口６２も、無菌旋回テーブル７１の円形板７２よりも下方となる。
　上記遮蔽壁８１は、図４および図５に示すように、上流側開口６２に面して当該上流側開口６２よりも面積が大きい上流側遮蔽壁８２と、下流側開口６３に面して当該下流側開口６３よりも面積が大きい下流側遮蔽壁８３とからなる。これら上流側遮蔽壁８２および下流側遮蔽壁８３は、いずれも、上記把持具７４に辛うじて接触しない程度まで外方に配置される。このため、上流側遮蔽壁８２および下流側遮蔽壁８３は、図４に示すように、平面視が上記中心軸７ｖを中心にした円弧状で、それぞれ上流側開口６２および下流側開口６３を覆うような配置となる。また、上流側遮蔽壁８２および下流側遮蔽壁８３の高さは、図５に示すように、それぞれ、少なくとも上流側開口６２および下流側開口６３よりも高くされ、好ましくは上記把持具７４に辛うじて接触しない程度にされる。上流側遮蔽壁８２および下流側遮蔽壁８３は、上記把持具７４だけでなく上記無菌旋回テーブル７１にも非接触である。
　上流側遮蔽壁８２および下流側遮蔽壁８３は、図４に示すように、互いに接続されず、完全に分離している。すなわち、上流側遮蔽壁８２と下流側遮蔽壁８３との間に、気体（オゾン）が通過し得る空間、つまり通気空間８４が形成されている。この通気空間８４は、上流側開口６２から下流側開口６３まで（またはその逆）の気体（オゾン）の流れがスムーズになるような形状および大きさ、すなわち、遮蔽室６に気体（オゾン）が滞留しにくい形状および大きさであることが好ましい。しかし、上流側遮蔽壁８２および下流側遮蔽壁８３は、それぞれ、上流側開口６２および下流側開口６３が直線的に接続された空間を完全に遮るように配置される。言い換えれば、上流側遮蔽壁８２および下流側遮蔽壁８３は、上流側開口６２と下流側開口６３とを結ぶ全ての直線を遮るような位置に配置される。また、上流側遮蔽壁８２および下流側遮蔽壁８３は、上流側開口６２の端部と上流側遮蔽壁８２の端部を結ぶ直線２と、下流側開口６３の端部と下流側遮蔽壁８３の端部を結ぶ直線３とが、遮蔽室６で交差しない位置に配置される。言い換えれば、上流側開口６２と上流側遮蔽壁８２の端部を結ぶ全ての直線と、下流側開口６３と下流側遮蔽壁８３の端部を結ぶ全ての直線とが、遮蔽室６で交差しない。この配置は、上流側開口６２から侵入した全てのＸ線を、下流側開口６３に至るまでに、３回以上遮蔽壁８１および仕切壁６１などに反射させる構成である。
　以下、本発明のもう一つの要旨である供給室１の構成について図６および図７に基づき詳細に説明する。
　上記導入スターホイール２１は、図６に示すように、略水平に配置されたスターホイール板２２と、このスターホイール板２２を鉛直軸１ｖ（スターホイール板２２の中心軸１ｖ）周りに旋回させる駆動軸２３とを有する。この駆動軸２３は、下端が上記供給室１の床の下方に設けられた駆動装置（図示省略）に接続されるとともに、上端が上記スターホイール板２２に接続される。
　上記導入スターホイール２１には、上記導入筒１１からスターホイール板２２の上流端まで、プリフォーム体Ｐを自重により滑らせて案内する案内具１３が接続される。また、上記導入スターホイール２１には、外面滅菌室４から侵入したＸ線を遮蔽する遮蔽部３０が設けられる。
　上記遮蔽部３０は、スターホイール板２２の下面に取り付けられて上記駆動軸２３の全周囲を囲う遮蔽短筒３１（筒状遮蔽体の一例である）と、導入筒１１の下流側における開口（以下、単に供給口１２という）の上方からスターホイール板２２の上面近傍に至る遮蔽庇体３５とを有する。上記遮蔽短筒３１は外面滅菌室４から侵入したＸ線が供給口１２の下半分に到達しないようにするものであり、上記遮蔽庇体３５は外面滅菌室４から侵入したＸ線が供給口１２の上半分に到達しないようにするものである。このため、上記遮蔽短筒３１および遮蔽庇体３５は、供給室１のＸ線が危険なまま導入筒１１を介して電子線滅菌設備１０の外部に漏れないようにするものといえる。
　さらに、上記導入筒１１は、Ｘ線を遮蔽する材料により構成されている。また、供給口１２（つまり導入筒１１の下流側における開口）の上端が導入筒１１の上流側における開口の下端よりも低くなるように、導入筒１１の傾斜角度および長さが設計されている。このため、Ｘ線は、供給口に到達しても、導入筒１１により遮蔽されることになる。言い換えれば、上記導入筒１１は、供給室１のＸ線が危険なまま電子線滅菌設備１０の外部に漏れないようにするものといえる。
　上記遮蔽短筒３１は、図７に示すように、大径の外側円弧状遮蔽板３２と、小径の内側円弧状遮蔽板３３とからなる。外側円弧状遮蔽板３２および内側円弧状遮蔽板３３は、いずれも、円弧中心が上記スターホイール板２２の中心軸１ｖで共通し、平面視で中心角が１８０°以上であり、上記中心軸１ｖから見て互いに重複する部分ｗを有する。
　外側円弧状遮蔽板３２および内側円弧状遮蔽板３３は、互いに接続されず、完全に分離している。すなわち、外側円弧状遮蔽板３２と内側円弧状遮蔽板３３の間に、気体（オゾン）が通過し得る空間、つまり通気空間３４が形成されている。この通気空間３４は、外面滅菌室４から供給口１２まで（またはその逆）の気体（オゾン）の流れがスムーズになるような形状および大きさ、すなわち、供給室１に気体（オゾン）が滞留しにくい形状および大きさであることが好ましい。しかし、内側円弧状遮蔽板３３は外側円弧状遮蔽板３２に接触しない程度に大径にされ、外側円弧状遮蔽板３２は辛うじてプリフォーム体Ｐに接触しない程度に大径にされる。
　上記遮蔽庇体３５は、図６に示すように、上記供給口１２の上方から導入スターホイール２１の上方まで略水平に突出した水平部３６と、庇部における供給スターホイールの上方から垂下する垂直部３７とを具備する。この垂直部３７の下端は、導入スターホイール２１およびこれに搬送されるプリフォーム体Ｐに辛うじて接触しない程度まで下方に位置する。
　以下、上記電子線滅菌設備１０の作用について説明する。
　図２に示すように、供給室１に供給されたプリフォーム体Ｐは、順次、外面滅菌室４、内面滅菌室５、遮蔽室６、および選別室９に搬送され、この選別室９から外部の設備Ｆに供給される。この搬送において、プリフォーム体Ｐは、外面が外面滅菌室４で電子線により滅菌され、内面が内面滅菌室５で電子線により滅菌される。そして、外面滅菌室４および内面滅菌室５では、電子線による滅菌として、プリフォーム体Ｐに電子線が照射され、これによりＸ線が発生してしまう。また、外面滅菌室４および内面滅菌室５では、その空気が電子線により化学反応を起こすことで、オゾンが生成されてしまう。
　外面滅菌室４および内面滅菌室５で発生したＸ線は、隣接する室である遮蔽室６および供給室１に侵入して、電子線滅菌設備１０の外部に漏れようとする。しかしながら、上記Ｘ線は、これら遮蔽室６および供給室１で遮蔽されるので、危険なまま外部には漏れない。一方で、外面滅菌室４および内面滅菌室５で生成されたオゾンも、遮蔽壁８１および遮蔽部３０などの複雑な構造を有する遮蔽室６および供給室１に侵入する。しかしながら、遮蔽室６および供給室１のオゾンは、通気空間８４，３４によりスムーズに流れるので、遮蔽室６および供給室１に滞留しにくく、通気装置により電子線滅菌設備１０の外部に排出される。
　以下、遮蔽室６および供給室１を個別に着目して説明する。
　遮蔽室６において、図４に示すように、上流側開口６２から侵入したＸ線は、遮蔽壁８１により遮蔽されるとともに、遮蔽壁８１および仕切壁６１など（遮蔽室６の床、壁および天井も含む）に反射して減衰する。また、上流側開口６２から侵入した全てのＸ線は、上述した遮蔽壁８１の構成により、下流側開口６３に至るまでに、３回以上遮蔽壁８１および仕切壁６１などに反射するので、危険の無い程度にまで減衰される。
　供給室１において、図２および図６に示すように、外面滅菌室４から侵入したＸ線は、遮蔽部３０により遮蔽されるとともに、遮蔽部３０など（供給室１の床、壁および天井も含む）に反射して減衰する。また、外面滅菌室４から侵入した全てのＸ線は、上述した遮蔽部３０の構成により、供給口１２に至るまでに、３回以上遮蔽部３０などに反射するので、危険の無い程度にまで減衰される。
　このように、上記電子線滅菌設備１０によると、重量物である遮蔽壁８１が無菌旋回テーブル７１に取り付けられていないので、無菌旋回テーブル７１とともに他の旋回テーブル５１，５３，９１，９３も高速で回転させられることになり、高速化することができる。
　また、遮蔽室６および供給室１のみでＸ線を十分に遮蔽するので、Ｘ線を遮蔽するための他の室や構造が不要となり、小型化することができる。さらに、室を少なくすることができることにより、電子線滅菌設備１０の内部にオゾンが滞留しにくくなるので、腐食を防止することができる。
　加えて、通気空間３４，８４により、電子線滅菌設備１０の内部にオゾンが滞留しにくくなるので、腐食を防止することができる。
　ところで、上記実施の形態では、容器の一例として、プリフォーム体Ｐについて説明したが、ペットボトルＢや他の容器であってもよい。
　また、上記実施の形態では、保持具の一例として把持具７４について説明したが、これに限定されるものではなく、容器を保持するものであればよい。
　さらに、上記実施の形態では、遮蔽壁８１が把持具７４に辛うじて接触しない程度まで外方に配置されるとして説明したが、接続板７５の無菌旋回テーブル７１に取り付けられた部分（つまり無菌旋回テーブル７１の周縁部）における下方であってもよく、遮蔽壁８１が無菌旋回テーブル７１の周縁部から外方に配置されていればよい。
　加えて、上記実施の形態では、選別室９の遮蔽壁については説明しなかったが、図８の選別室９に示すように、遮蔽室６および選別室９を区分けする仕切壁６１に対して下流側遮蔽壁８３と線対称に遮蔽壁９５が設けられてもよい。この構成により、Ｘ線がさらに十分に遮蔽される。なお、選別室９の遮蔽壁９５が設けられるのであれば、下流側遮蔽壁８３がなくてもよい。
　また、上記実施の形態では、内面滅菌室５の遮蔽壁については説明しなかったが、図８の内面滅菌室５に示すように、内面滅菌室５および遮蔽室６を区分けする仕切壁６１に対して上流側遮蔽壁８２と線対称に遮蔽壁５５が設けられてもよい。この構成により、Ｘ線がさらに十分に遮蔽される。なお、内面滅菌室５の遮蔽壁５５が設けられるのであれば、上流側遮蔽壁８２がなくてもよい。
　また、上記実施の形態では、遮蔽短筒３１は、大径の外側円弧状遮蔽板３２と、小径の内側円弧状遮蔽板３３とからなるとして説明したが、図９に示すように、同径の円弧状遮蔽板３２’，３３’からなるものでもよく、通気空間３４および重複する部分ｗとを有していればよい。また、円弧状遮蔽板は、２つとは限られず、３つ以上であってもよく、通気空間３４としての切欠きを有するのであれば一体型の構造であってもよい。
　また、上記実施の形態では、遮蔽壁８１の形状について説明したが、これに限定されるものではなく、少なくとも、上流側開口６２または下流側開口６３のいずれかに面して、面している上流側開口６２または下流側開口６３よりも面積が大きいものであればよい。
　また、上記実施の形態では、把持具７４の垂下体７６について詳しく説明しなかったが、垂下体７６がＸ線を遮蔽する材料により構成されていてもよい。この構成により、Ｘ線がさらに十分に遮蔽される。

Claims (7)

  1. 　容器を搬送しながら電子線の照射により滅菌する電子線滅菌設備において、容器に電子線を照射する電子線照射装置が配置された滅菌室と、この滅菌室から上記容器を受け取るとともに上記電子線の照射により発生する放射線を遮蔽する遮蔽室とを備える電子線滅菌設備であって、
    　上記遮蔽室が、上記滅菌室から上記容器を受け取る上流側開口と、上記容器を当該遮蔽室の外部に受け渡す下流側開口とを有し、
    　上記遮蔽室に、上記容器を保持する保持具と、この保持具に保持された上記容器を円経路で搬送する旋回テーブルと、この旋回テーブルに非接触であるとともに上記滅菌室からの放射線を遮蔽する遮蔽壁とが設けられ、
    　上記遮蔽壁が、上流側開口または下流側開口に面して当該上流側開口または下流側開口よりも面積が大きいものであることを特徴とする電子線滅菌設備。
  2. 　保持具が、上記旋回テーブルの周縁部に取り付けられるとともに、上記旋回テーブルの周縁部から外方で上記容器を保持するものであり、
    　遮蔽壁が、上記旋回テーブルの周縁部から外方で且つ、上記旋回テーブルで容器が搬送される円経路より内方に配置されるものであることを特徴とする請求項１に記載の電子線滅菌設備。
  3. 　遮蔽壁が、上流側開口および下流側開口の上端よりも高くされるものであることを特徴とする請求項１または２に記載の電子線滅菌設備。
  4. 　遮蔽壁が、上流側開口に面して当該上流側開口よりも面積が大きい上流側遮蔽壁と、下流側開口に面して当該下流側開口よりも面積が大きい下流側遮蔽壁とを有することを特徴とする請求項１または２に記載の電子線滅菌設備。
  5. 　上流側遮蔽壁と下流側遮蔽壁との間に、通気空間が形成されることを特徴とする請求項４に記載の電子線滅菌設備。
  6. 　上流側遮蔽壁および下流側遮蔽壁が、上流側開口と下流側開口とを結ぶ全ての直線を遮るように位置するものであることを特徴とする請求項４に記載の電子線滅菌設備。
  7. 　上流側開口と上流側遮蔽壁の端部を結ぶ全ての直線と、下流側開口と下流側遮蔽壁の端部を結ぶ全ての直線とが、遮蔽室で交差しないことを特徴とする請求項４に記載の電子線滅菌設備。
     
PCT/JP2015/078148 2014-10-14 2015-10-05 電子線滅菌設備 WO2016059990A1 (ja)

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