WO2016043471A1 - 대면적 샘플용 x선 홀로그래피 현미경 측정장치 및 측정방법 - Google Patents

대면적 샘플용 x선 홀로그래피 현미경 측정장치 및 측정방법 Download PDF

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    • G03H5/00—Holographic processes or apparatus using particles or using waves other than those covered by groups G03H1/00 or G03H3/00 for obtaining holograms; Processes or apparatus for obtaining an optical image from them

Definitions

  • the present invention relates to a microscope measuring apparatus and a measuring method, and more particularly, to an X-ray holography microscope measuring apparatus and a measuring method for large area samples.
  • X-ray Fourier transform holography is a microscopic measurement method that measures the interference between a diffraction occurring in an object and a reference wave to reconstruct an object.
  • a coherent X-ray source 1 irradiates a sample 2
  • a hologram is formed through interference of light passing through the sample 3 and the reference 3 placed on the sample surface .
  • Fourier transform holography Since the measured hologram is converted to the image of the sample through Fourier transform, Fourier transform holography has advantages of high resolution, reliability, and promptness.
  • the distance constraint is required for phase separation.
  • the distance between the sample 2 and the reference 3 must be equal to or larger than the sample size.
  • the distance constraint also increases proportionally, so that the required irradiation area becomes larger in proportion to the size of the sample.
  • the present invention provides an X-ray holographic microscope measuring apparatus and a measuring method for a large area sample which can remarkably reduce the distance between the reference and the sample by eliminating the autocorrelation signal of the sample and disabling the distance constraint between the reference and the sample do.
  • the present invention also provides an X-ray holographic microscope measurement method for a large area sample, in which the distance between the reference and the sample is reduced within the same X-ray irradiation range, thereby increasing the size of the observable sample.
  • An X-ray holographic microscope measuring apparatus for a large area sample includes an X-ray light source unit including a metal plate for generating X-rays of a specific wavelength and a pumping laser for exciting the metal plate; A filtering unit for filtering unnecessary wavelengths of the light sources generated in the X-ray light source unit; A sample portion on which a sample is placed to irradiate a filtered X-ray light source; And a detector for obtaining a hologram image from the X-ray light source irradiated on the sample and generating a reconstructed hologram image through the obtained plurality of hologram image differences.
  • the filtering unit includes a metal filter having a set transmittance at a wavelength range of 1 nm to 100 nm.
  • the sample portion further comprises a blocking mask.
  • a focusing unit for focusing the X-ray light source generated in the X-ray light source unit.
  • An X-ray holographic microscope measuring method for a large area sample includes obtaining a hologram diffraction image for obtaining an autocorrelation signal of a sample without a reference; Adding a reference to the sample to obtain a hologram image; Comparing the images by Fourier transforming the two holograms; And reconstructing the hidden sample image through the two image differences.
  • an X-ray holographic microscope measuring method for a large area sample comprising the steps of: preparing a sample having a reference; obtaining a hologram diffraction image for obtaining an autocorrelation signal from a sample with the reference closed; Obtaining a hologram image of the sample from which the reference is exposed; Comparing the images by Fourier transforming the two holograms; And reconstructing the hidden sample image through the two image differences.
  • the reference is closed by a blocking mask.
  • the distance between the sample and the reference must be greater than or equal to the sample size.
  • the distance constraint also increases proportionally, so that the required irradiation area increases in proportion to the size of the sample.
  • the distance between the reference and the sample can be drastically reduced by eliminating the autocorrelation signal of the sample and disabling the distance constraint between the reference and the sample, thereby enabling the measurement of a large-area sample. It is also possible to drastically reduce the exposure time required to acquire the hologram image of the same sample as compared with the conventional method.
  • 1 is a schematic view showing a microscopic measuring method using general X-ray Fourier transform holography.
  • FIG. 2 is a schematic view showing a measuring device of a general Fourier transform holography.
  • FIG. 3 is a flowchart showing a microscopic measuring method using X-ray Fourier transform holography according to the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 4 is a flowchart showing a microscopic measuring method using X-ray Fourier transform holography according to a second embodiment of the present invention.
  • FIG. 5 is a schematic view showing the principle of measurement of the Fourier transform holography according to the present invention.
  • Fig. 2 shows a measuring apparatus for Fourier transform holography according to the present invention.
  • the Fourier transform holography measuring apparatus includes an X-ray source 10, a focusing unit 20, a filtering unit 30, a sample unit 40, and a detector 50.
  • the X-ray light source unit 10 serves as a base for generating an X-ray light source (light source) and irradiating the sample 41 with the X-ray light source unit 10.
  • the X-ray light source unit 10 includes a metal plate 11 for generating X-rays of a specific wavelength, Pumping laser.
  • High-purity silver (Ag) can be used for the metal plate 11 to generate a wavelength of 13 nm in which the x-ray optical system is well developed.
  • the focusing unit 20 takes out and collects the generated X-ray light source and irradiates the sample with the X-ray light source.
  • the focusing unit 20 may use a molybdenum (Mo) / silicon (Si) multilayer thin film mirror to extract the light from the X-ray light source, and a concave lens Can be applied.
  • Mo molybdenum
  • Si silicon
  • the filtering unit 30 filters the wavelengths excluding the wavelengths required by the present invention among the X-ray light sources irradiated with the sample 41.
  • the filtering unit 30 is for filtering a light source of unnecessary wavelength other than the desired wavelength, and a metal filter having a high transmittance at 1 nm to 100 nm can be used.
  • the sample portion 40 is a sample on which a sample to be measured is seated, and a sample 41 for obtaining a hologram image in which a reference is not formed and a hologram image in which a reference is formed is seated.
  • the sample portion 40 may include a blocking mask 43 (shown in FIG. 4) that can hide the reference from the sample in the reference state.
  • the detection unit 50 makes a diffraction pattern from a radiated X-ray light source and quantitatively measures the intensity of radiation at various spatial frequency positions and the like.
  • the hologram image is generated based on the diffraction information thus measured.
  • the detection unit 50 compares the two generated hologram images, and generates a reconstructed hologram image of the sample through the compared image difference.
  • FIG. 3 is a view schematically showing a first embodiment of a method for measuring an X-ray holographic microscope for large-area samples according to the present invention
  • FIG. 5 is a schematic view of a hologram image obtained through such a method.
  • the microscopic measuring method includes the steps of obtaining a hologram image of the sample (S11 to S16), Fourier transforming the hologram and comparing the converted image (S17) And restoring the image (S18).
  • the step of acquiring the hologram image of the sample is roughly divided into two steps.
  • a sample having no reference is prepared and fixed to the sample unit 40 (S11), a step S12 of obtaining a hologram diffraction image for obtaining an autocorrelation signal of a sample having no reference, (S14), adding a reference using a separate tool (S15), and obtaining a hologram image of the reference-generated sample (S16).
  • the holograms of the sample having no reference and the sample having the reference are respectively converted based on the Fourier expressions, and the two hologram images thus converted are compared.
  • step S18 of restoring the sample image the image of the hidden sample is restored through the two hologram image differences.
  • a hologram image of (c) can be obtained through a Fourier transform on a reference (a) sample, (d) a Fourier transform on a sample without reference is made (d) The hologram image of FIG. Then, when the detection unit detects the difference of the image of (d) from the image of (b), it can recover the hidden image (e) of the sample.
  • the hidden image of the sample can be restored even if the distance between the sample and the reference is close to each other.
  • the constraint on the constraint can be minimized.
  • Fig. 4 is a view schematically showing a second embodiment of the X-ray holographic microscope measuring method for large area samples according to the present invention.
  • the microscope measuring method according to the second embodiment includes the steps of obtaining a hologram image of a sample (S21 to S25), Fourier transforming the hologram and comparing the converted image (S26) And restoring the image (S27), which is similar to the first embodiment.
  • the second embodiment differs from the first embodiment in the step of acquiring the hologram image of the sample.
  • a sample in which a reference has already been formed is prepared (S21), and the step of exposing or closing the reference as necessary is further included.
  • a reference is closed using a blocking mask to prevent the reference from being exposed (S21), and then an X-ray source is irradiated to obtain a holographic diffraction image for obtaining an autocorrelation signal of a sample obscured by a reference ), The blocking mask 43 is removed, and the reference is exposed (S24), and the hologram image for the sample is obtained by irradiating the X-ray light source. (S25)
  • an X-ray source is irradiated in a state in which the reference is exposed, and a hologram image is obtained for the sample. Then, the X-ray source is irradiated once again with the reference being closed using a blocking mask, A hologram diffraction image for signal acquisition can be obtained.
  • the holograms of the sample in which the reference is closed and the sample in which the reference is exposed are respectively converted based on the Fourier expressions (S26), and the two hologram images subjected to the Fourier transform are compared. The image is restored (S27).

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Abstract

본 발명은 대면적 샘플용 X선 홀로그래피 현미경 측정장치 및 측정방법을 개시한다. 개시된 본 발명은 레퍼런스가 없는 샘플의 자기상관(autocorrelation) 신호 획득용 홀로그램 회절 이미지를 얻는 단계; 상기 샘플에 레퍼런스를 추가하여 홀로그램 이미지를 얻는 단계; 2개의 홀로그램을 퓨리에 변환하여 이미지를 비교하는 단계; 2개의 이미지 차를 통하여 숨겨진 샘플 이미지를 복원하는 단계;를 포함한다.

Description

대면적 샘플용 X선 홀로그래피 현미경 측정장치 및 측정방법
본 발명은 현미경 측정장치 및 측정방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 대면적 샘플용 X선 홀로그래피 현미경 측정장치 및 측정방법에 관한 것이다.
X선 퓨리에 변환 홀로그래피는 물체에서 일어나는 회절과 레퍼런스 파와의 간섭을 측정하여 물체를 복원해내는 현미경 측정방법이다.
도 1을 참고하면, 결맞음성을 가진 X선 광원(1)이 샘플(2)을 조사하면, 샘플면에 위치한 레퍼런스(3)와 샘플(2)을 통과한 빛의 간섭을 통하여 홀로그램을 형성한다.
측정된 홀로그램은 퓨리에 변환을 통하여 샘플의 이미지로 전환되기 때문에 퓨리에 변환 홀로그래피는 높은 분해능, 신뢰성, 신속성의 장점을 갖는다.
그런데, 올바른 홀로그래피 이미지 획득을 위해서는 상 분리를 위한 거리 제약 조건을 가지고 있으며, 이를 위해 샘플(2)과 레퍼런스(3) 사이에 거리가 샘플 크기 이상이 되어야 한다.
샘플(2)의 크기가 커지면 거리 제약 조건도 비례하여 커지기 때문에 필요한 조사 영역이 샘플의 크기에 비례하여 커진다.
이에 주어진 X선 광원을 퓨리에 변환 홀로그래피에 적용하여 대면적 샘플을 관찰하는데 다음과 같은 문제점이 발생한다.
거리 제약 조건에 따른 넓은 조사 면적으로 단위 면적당 조도 감소가 발생하며, 이로 인한 분해능 감소 발생 또는 노출 시간 증대가 필요하고, 거리 제약 조건에 의해 홀로그램 획득에 필요한 노출 시간 증대는 엑스선 이미징 시스템의 이용 비용 증가 및 샘플의 변질, 디텍터의 수명 감소 등의 부작용을 발생시킨다.
넓은 조사 면적으로 인한 샘플 주변부 및 레퍼런스를 조사하는 엑스선 광원의 결맞음성 저하에 의한 분해능의 감소를 초래한다.
본 발명은 샘플의 자기상관 신호를 제거하여, 레퍼런스와 샘플 사이의 거리 제약 조건을 무력화함으로써, 레퍼런스와 샘플의 거리를 획기적으로 줄일 수 있는 대면적 샘플용 X선 홀로그래피 현미경 측정장치 및 측정방법을 제공한다.
또한, 본 발명은 같은 엑스선 조사 범위 내에서, 레퍼런스와 샘플 사이의 거리가 줄어들어 관찰 가능한 샘플의 크기를 증가시킬 수 있도록 한 대면적 샘플용 X선 홀로그래피 현미경 측정방법을 제공한다.
일 실시예에 의한 대면적 샘플용 X선 홀로그래피 현미경 측정장치는, 특정 파장의 X선을 발생시키는 금속판과, 상기 금속판을 여기시키는 펌핑 레이저를 포함하는 X선 광원부; 상기 X선 광원부에서 생성된 광원 중 필요 없는 파장을 필터링하는 필터링부; 필터링된 X선 광원을 조사하도록 샘플이 거치되는 샘플부; 상기 샘플에 조사된 X선 광원으로부터 홀로그램 이미지를 획득하고, 획득된 복수의 홀로그램 이미지 차를 통해 복원된 홀로그램 이미지를 생성하는 검출부;를 포함한다.
일 실시예에 따르면, 상기 필터링부는 1nm∼100nm의 파장대에서 설정 투과율을 갖는 금속필터를 포함하는 것을 특징으로 한다.
일 실시예에 따르면, 상기 샘플부는 블록킹 마스크를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
일 실시예에 따르면, 상기 X선 광원부에서 생성된 X선 광원을 집속하는 집속부를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
일 실시예에 따른 대면적 샘플용 X선 홀로그래피 현미경 측정방법은, 레퍼런스가 없는 샘플의 자기상관(autocorrelation) 신호 획득용 홀로그램 회절 이미지를 얻는 단계; 상기 샘플에 레퍼런스를 추가하여 홀로그램 이미지를 얻는 단계; 2개의 홀로그램을 퓨리에 변환하여 이미지를 비교하는 단계; 2개의 이미지 차를 통하여 숨겨진 샘플 이미지를 복원하는 단계;를 포함한다.
다른 실시예에 따른 대면적 샘플용 X선 홀로그래피 현미경 측정방법은, 레퍼런스가 구비된 샘플을 준비하고, 상기 레퍼런스가 폐쇄된 상태의 샘플로부터 자기상관(autocorrelation) 신호 획득용 홀로그램 회절 이미지를 얻는 단계; 상기 레퍼런스가 노출된 샘플의 홀로그램 이미지를 얻는 단계; 2개의 홀로그램을 퓨리에 변환하여 이미지를 비교하는 단계; 2개의 이미지 차를 통하여 숨겨진 샘플 이미지를 복원하는 단계;를 포함한다.
다른 실시예에 따르면, 블록킹 마스크에 의해 레퍼런스를 폐쇄하는 것을 특징으로 한다.
올바른 홀로그래피 이미지 획득을 위해서는 상 분리를 위한 거리 제약 조건이 있으며, 이를 위해 샘플과 레퍼런스 사이의 거리가 샘플 크기 이상이 되어야 한다. 샘플의 크기가 커지면 거리 제약 조건도 비례하여 커지기 때문에 필요한 조사 영역이 샘플의 크기에 비례하여 커진다.
본 발명에 따르면, 샘플의 자기상관 신호를 제거하여 레퍼런스와 샘플 사이의 거리 제약 조건을 무력화함으로써 레퍼런스와 샘플의 거리를 획기적으로 줄일 수 있으므로, 대면적 샘플의 측정을 가능케 한다. 또한 기존의 방법에 비하여 동일한 샘플의 홀로그램 이미지 획득에 필요한 노출 시간을 획기적으로 줄이는 것을 가능하게 한다.
도 1은 일반적인 X선 퓨리에 변환 홀로그래피를 이용한 현미경 측정방법을 도시한 개략도.
도 2는 일반적인 퓨리에 변환 홀로그래피의 측정장치를 도시한 개략도.
도 3은 본 발명의 제1 실시예에 의한 X선 퓨리에 변환 홀로그래피를 이용한 현미경 측정방법을 도시한 흐름도.
도 4는 본 발명의 제2 실시예에 의한 X선 퓨리에 변환 홀로그래피를 이용한 현미경 측정방법을 도시한 흐름도.
도 5는 본 발명에 의한 퓨리에 변환 홀로그래피의 측정 원리를 도시한 개략도.
이하에서는, 본 발명에 의한 대면적 샘플용 X선 홀로그래피 현미경 측정방법의 실시예를 첨부 도면을 참고하여 설명한다.
도 2는 본 발명에 의한 퓨리에 변환 홀로그래피의 측정장치를 도시하고 있다.
도 2를 참고하면, 본 발명에 의한 퓨리에 변환 홀로그래피 측정장치는 X선 광원부(10), 집속부(20), 필터링부(30), 샘플부(40), 검출부(50)를 포함한다.
X선 광원부(10)는 X선 광원(光源)을 생성하여 샘플(41)에 조사하는 토대가 되는 것으로, 특정 파장의 엑스선을 발생시키는 금속판(11)과, 금속판(11)을 여기시킬 수 있는 펌핑 레이저를 포함한다.
금속판(11)은 엑스선 광학계가 잘 발달되어 있는 13nm의 파장을 발생시키기 위하여 고순도의 은(Ag)을 사용할 수 있다.
집속부(20)는 발생된 X선 광원을 취출 및 집광하여 샘플로 조사하는 역할을 한다. 예컨대, 집속부(20)는 X선 광원으로부터의 빛을 취출하기 위하여 몰리브데늄(Mo)/실리콘(Si) 다층박막 거울을 사용할 수 있고, 빛의 방사(放射)를 집광할 수 있도록 오목렌즈가 적용될 수 있다.
필터링부(30)는 샘플(41)로 조사되는 X선 광원 중 본 발명에서 요구되는 파장을 제외한 파장을 필터링해 준다.
즉, 필터링부(30)는 원하는 파장 이외의 필요 없는 파장의 광원을 필터링하기 위한 것으로, 1nm∼100nm에서 높은 투과율을 갖는 금속필터가 사용될 수 있다. 예컨대 20nm∼60nm에서 높은 투과율을 갖는 알루미늄 필터 또는 7∼15nm에서 높은 투과율을 갖는 지르코늄 필터(Zr filter)를 포함할 수 있다.
샘플부(40)는 측정하고자 하는 샘플이 안착되는 것으로, 레퍼런스가 형성되지 않은 홀로그램 이미지와 레퍼런스가 형성된 홀로그램 이미지를 획득하기 위한 샘플(41)이 안착된다.
샘플부(40)는 레퍼런스가 형성된 상태의 샘플로부터 레퍼런스를 가려줄 수 있는 블록킹 마스크(blocking mask, 도 4에 도시)(43)를 포함할 수 있다.
검출부(50)는 방사된 X선 광원으로부터 회절 무늬를 만들고, 그 갖가지 공간주파수 위치에 있어서의 방사(放射)의 강도, 기타를 정량적(定量的)으로 측정하게 된다. 이와 같이 측정된 회절 정보를 토대로 홀로그램 이미지를 생성한다.
또한, 검출부(50)는 생성된 2개의 홀로그램 이미지를 비교하고, 비교된 이미지 차를 통해 샘플의 복원된 홀로그램 이미지를 생성한다.
도 3은 본 발명에 의한 대면적 샘플용 X선 홀로그래피 현미경 측정방법의 제1 실시예를 개략적으로 도시한 도면이고, 도 5는 이러한 방법을 통해 얻는 홀로그램 이미지를 개략적으로 보인 도면이다.
도 3 및 도 5를 참고하면, 제1 실시예에 의한 현미경 측정방법은 샘플의 홀로그램 이미지를 획득하는 단계(S11~S16), 홀로그램을 퓨리에 변환하고 변환된 이미지를 비교하는 단계(S17), 샘플 이미지를 복원하는 단계(S18)를 포함한다.
샘플의 홀로그램 이미지를 획득하는 단계는 크게 2단계로 이루어진다.
즉, 레퍼런스가 없는 샘플을 준비하여 샘플부(40)에 고정시킨 후(S11) 레퍼런스가 없는 샘플의 자기상관(autocorrelation) 신호 획득용 홀로그램 회절 이미지를 얻는 단계(S12)와, 그 샘플을 샘플부로부터 분리하고(S14) 별도의 툴(tool)을 이용하여 레퍼런스를 추가한 후(S15) 레퍼런스가 생성된 샘플의 홀로그램 이미지를 얻는 단계(S16)를 포함한다.
홀로그램을 퓨리에 변환하는 단계(S17)에서는, 레퍼런스가 없는 샘플 및 레퍼런스가 있는 샘플의 홀로그램을 각각 퓨리에 수식에 근거하여 변환하고, 변환된 2개의 홀로그램 이미지를 비교하게 된다.
샘플 이미지를 복원하는 단계(S18)에서는, 2개의 홀로그램 이미지 차를 통하여 숨겨진 샘플의 이미지를 복원하게 된다.
즉, 도 5를 참고하면, 레퍼런스가 형성된 (a) 샘플에 대한 퓨리에 변환을 통해 (c)의 홀로그램 이미지를 얻을 수 있고, 레퍼런스가 형성되지 않은 (b) 샘플에 대한 퓨리에 변환을 통해 (d)의 홀로그램 이미지를 얻을 수 있다. 이후, 검출부에서 (b)의 이미지로부터 (d)의 이미지의 차이를 검출하게 되면 샘플의 숨겨진 이미지 (e)를 복원할 수 있는 것이다.
이와 같이, 레퍼런스가 형성된 샘플과 레퍼런스가 형성되지 않은 샘플을 이용하여 각각 변환된 홀로그램 이미지 차를 이용함으로써 샘플과 레퍼런스의 거리가 가까워도 샘플의 숨겨진 이미지를 복원할 수 있으며, 이로 인해 샘플의 크기에 대한 제약 조건이 최소화될 수 있는 것이다.
도 4는 본 발명에 의한 대면적 샘플용 X선 홀로그래피 현미경 측정방법의 제2 실시예를 개략적으로 도시한 도면이다.
도 4 및 도 5를 참고하면, 제2 실시예에 의한 현미경 측정방법은 샘플의 홀로그램 이미지를 획득하는 단계(S21~S25), 홀로그램을 퓨리에 변환하고 변환된 이미지를 비교하는 단계(S26), 샘플 이미지를 복원하는 단계(S27)를 포함하며, 이는 제1 실시예와 유사하다.
다만, 제2 실시예에서는 샘플의 홀로그램 이미지를 획득하는 단계에서 제1 실시예와 차이가 있다.
즉, 제2 실시예에서는 미리 레퍼런스를 형성한 샘플을 준비하고(S21), 필요에 따라 레퍼런스를 노출시키거나 폐쇄하는 단계가 더 포함된다.
예컨대 레퍼런스가 형성된 샘플이 안착되면, 레퍼런스가 노출되지 않도록 블록킹 마스크를 이용하여 레퍼런스를 폐쇄한 후(S21) X선 광원을 조사하여 레퍼런스가 가려진 샘플의 자기상관 신호 획득용 홀로그램 회절 이미지를 얻고(S23), 다음으로 블록킹 마스크(43)를 제거하여 레퍼런스가 노출된 상태에서(S24) X선 광원을 조사하여 그 샘플에 대한 홀로그램 이미지를 얻을 수 있다.(S25)
또는, 레퍼런스가 노출된 상태에서 X선 광원을 조사하여 그 샘플에 대해 홀로그램 이미지를 얻은 후, 블록킹 마스크를 이용하여 레퍼런스를 폐쇄한 상태에서 다시 한번 X선 광원을 조사하여 레퍼런스가 가려진 샘플의 자기상관 신호 획득용 홀로그램 회절 이미지를 얻을 수도 있다.
그 후, 레퍼런스가 폐쇄된 샘플 및 레퍼런스가 노출된 샘플의 홀로그램을 각각 퓨리에 수식에 근거하여 변환하고(S26), 퓨리에 변환된 2개의 홀로그램 이미지를 비교한 후, 2개의 이미지 차를 통하여 숨겨진 샘플의 이미지를 복원하게 된다(S27).
지금까지 본 발명에 따른 대면적 샘플용 X선 홀로그래피 현미경 측정장치 및 측정방법에 관한 구체적인 실시예에 관하여 설명하였으나, 본 발명의 범위에서 벗어나지 않는 한도 내에서는 여러 가지 실시 변형이 가능함은 자명하다.
그러므로 본 발명의 범위에는 설명된 실시예에 국한되어서는 안 되며, 후술하는 특허청구범위뿐만 아니라 이 특허청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.
즉, 전술된 실시예는 모든 면에서 예시적인 것이며, 한정적인 것이 아닌 것으로 이해되어야 하며, 본 발명의 범위는 상세한 설명보다는 후술될 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 그 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.

Claims (7)

  1. 특정 파장의 X선을 발생시키는 금속판과, 상기 금속판을 여기시키는 펌핑 레이저를 포함하는 X선 광원부;
    상기 X선 광원부에서 생성된 광원 중 필요 없는 파장을 필터링하는 필터링부;
    필터링된 X선 광원을 조사하도록 샘플이 거치되는 샘플부;
    상기 샘플에 조사된 X선 광원으로부터 홀로그램 이미지를 획득하고, 획득된 복수의 홀로그램 이미지 차를 통해 복원된 홀로그램 이미지를 생성하는 검출부;
    를 포함하는 대면적 샘플용 X선 홀로그래피 현미경 측정장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 필터링부는 1nm∼100nm의 파장대에서 설정 투과율을 갖는 금속필터를 포함하는 것을 특징으로 하는 대면적 샘플용 X선 홀로그래피 현미경 측정장치.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 샘플부는 블록킹 마스크를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 대면적 샘플용 X선 홀로그래피 현미경 측정장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 X선 광원부에서 생성된 X선 광원을 집속하는 집속부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 대면적 샘플용 X선 홀로그래피 현미경 측정장치.
  5. (a) 레퍼런스가 없는 샘플의 자기상관(autocorrelation) 신호 획득용 홀로그램 회절 이미지를 얻는 단계;
    (b) 상기 샘플에 레퍼런스를 추가하여 홀로그램 이미지를 얻는 단계;
    (c) 2개의 홀로그램을 퓨리에 변환하여 이미지를 비교하는 단계;
    (d) 2개의 이미지 차를 통하여 숨겨진 샘플 이미지를 복원하는 단계;
    를 포함하는 대면적 샘플용 X선 홀로그래피 현미경 측정방법.
  6. (a) 레퍼런스가 구비된 샘플을 준비하고, 상기 레퍼런스가 폐쇄된 상태의 샘플로부터 자기상관(autocorrelation) 신호 획득용 홀로그램 회절 이미지를 얻는 단계;
    (b) 상기 레퍼런스가 노출된 샘플의 홀로그램 이미지를 얻는 단계;
    (c) 2개의 홀로그램을 퓨리에 변환하여 이미지를 비교하는 단계;
    (d) 2개의 이미지 차를 통하여 숨겨진 샘플 이미지를 복원하는 단계;
    를 포함하는 대면적 샘플용 X선 홀로그래피 현미경 측정방법.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 (a)단계에서 블록킹 마스크에 의해 레퍼런스가 폐쇄되는 것을 특징으로 하는 대면적 샘플용 X선 홀로그래피 현미경 측정방법.
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