WO2016031709A1 - Nail cosmetic, artificial nail, and nail art kit - Google Patents
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Abstract
The purpose of this invention is to provide a nail cosmetic having excellent adhesiveness and excellent peeling properties, an artificial nail using the nail cosmetic, and a nail art kit including the nail cosmetic. The nail cosmetic is characterized by containing a compound having at least two (meth)acrylamide groups. It is preferable that the nail cosmetic further include a photopolymerization initiator. Also, it is preferable that the nail cosmetic further include a polymer and/or an oligomer. Additionally, it is preferable that the nail cosmetic further include an ethylenically unsaturated compound other than the compound having at least two (meth)acrylamide groups.
Description
本発明は、爪化粧料、人工爪、及び、ネイルアートキットに関する。
The present invention relates to nail cosmetics, artificial nails, and nail art kits.
近年、手や足の爪にデザインを施すネイルアートに対する人気が高まり、爪(自爪)に合成樹脂製の人工爪(付け爪、ネイルチップ等)を形成する技術が発展している(特許文献1参照)。特に最近、ウレタン系樹脂と光重合性モノマーとを含むジェル状の装飾用硬化性組成物を爪に塗布した後、紫外線を照射して硬化させた人工爪と呼ばれる爪装飾が、仕上がりがクリアである、爪との密着性が高く長持ちする、アクリル系樹脂のような臭いがない、等の理由から注目を集めている(特許文献2)。
このようなジェル状の装飾用硬化性組成物として、25℃において液状であるアクリルアミドモノマーを用いた組成物が知られている(特許文献3)。
一方、(メタ)アクリルアミド基を2つ以上有する化合物と重合開始剤とを含有する硬化性組成物が知られている(特許文献4)。 In recent years, the popularity of nail art for designing hands and toenails has increased, and technology for forming synthetic resin artificial nails (fake nails, nail tips, etc.) on nails (self nails) has been developed (Patent Literature). 1). Recently, a nail decoration called an artificial nail that has been cured by irradiating ultraviolet rays after applying a gel-like decorative curable composition containing a urethane-based resin and a photopolymerizable monomer to the nail has a clear finish. It has attracted attention for reasons such as high adhesion with nails and long-lastingness, and no odor like acrylic resin (Patent Document 2).
As such a gel-like decorative curable composition, a composition using an acrylamide monomer that is liquid at 25 ° C. is known (Patent Document 3).
On the other hand, a curable composition containing a compound having two or more (meth) acrylamide groups and a polymerization initiator is known (Patent Document 4).
このようなジェル状の装飾用硬化性組成物として、25℃において液状であるアクリルアミドモノマーを用いた組成物が知られている(特許文献3)。
一方、(メタ)アクリルアミド基を2つ以上有する化合物と重合開始剤とを含有する硬化性組成物が知られている(特許文献4)。 In recent years, the popularity of nail art for designing hands and toenails has increased, and technology for forming synthetic resin artificial nails (fake nails, nail tips, etc.) on nails (self nails) has been developed (Patent Literature). 1). Recently, a nail decoration called an artificial nail that has been cured by irradiating ultraviolet rays after applying a gel-like decorative curable composition containing a urethane-based resin and a photopolymerizable monomer to the nail has a clear finish. It has attracted attention for reasons such as high adhesion with nails and long-lastingness, and no odor like acrylic resin (Patent Document 2).
As such a gel-like decorative curable composition, a composition using an acrylamide monomer that is liquid at 25 ° C. is known (Patent Document 3).
On the other hand, a curable composition containing a compound having two or more (meth) acrylamide groups and a polymerization initiator is known (Patent Document 4).
本発明が解決しようとする課題は、密着性に優れ、かつ剥離性に優れる爪化粧料、並びに、上記爪化粧料を用いた人工爪、及び、上記爪化粧料を含むネイルアートキットを提供することである。
The problem to be solved by the present invention is to provide a nail cosmetic excellent in adhesion and exfoliation, an artificial nail using the nail cosmetic, and a nail art kit including the nail cosmetic. That is.
上記課題は、下記<1>、<13>又は<14>に記載の手段により達成された。好ましい実施態様である<2>~<12>と共に以下に示す。
<1>(メタ)アクリルアミド基を2つ以上有する化合物を含有することを特徴とする爪化粧料、
<2>上記(メタ)アクリルアミド基を2つ以上有する化合物が、下記式1~式4のいずれかで表される化合物である、<1>に記載の爪化粧料、 The above object has been achieved by the means described in <1>, <13> or <14> below. It is shown below together with <2> to <12> which are preferred embodiments.
<1> A nail cosmetic comprising a compound having two or more (meth) acrylamide groups,
<2> The nail cosmetic according to <1>, wherein the compound having two or more (meth) acrylamide groups is a compound represented by any one of the following formulas 1 to 4:
<1>(メタ)アクリルアミド基を2つ以上有する化合物を含有することを特徴とする爪化粧料、
<2>上記(メタ)アクリルアミド基を2つ以上有する化合物が、下記式1~式4のいずれかで表される化合物である、<1>に記載の爪化粧料、 The above object has been achieved by the means described in <1>, <13> or <14> below. It is shown below together with <2> to <12> which are preferred embodiments.
<1> A nail cosmetic comprising a compound having two or more (meth) acrylamide groups,
<2> The nail cosmetic according to <1>, wherein the compound having two or more (meth) acrylamide groups is a compound represented by any one of the following formulas 1 to 4:
式1中、Rはそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、Raはそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基又は複素環基を表し、Laはそれぞれ独立に、単結合又は2価の連結基を表し、Zaはq+1価の有機基を表し、qは1~6の整数を表す。
In Formula 1, each R independently represents a hydrogen atom or a methyl group, each R a independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, and each L a independently represents a single bond or Z represents a q + 1 valent organic group, and q represents an integer of 1 to 6.
式2中、R5はそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、Lbはそれぞれ独立に、炭素原子数1~8のアルキレン基を表し、k及びpはそれぞれ独立に、0又は1を表し、jはそれぞれ独立に、0~8の整数を表す。
In Formula 2, each R 5 independently represents a hydrogen atom or a methyl group, each L b independently represents an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, and k and p each independently represents 0 or 1 J represents an integer of 0 to 8 independently.
式3中、R7はそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、tはそれぞれ独立に、1~8の整数を表し、uは0~5の整数を表す。
In Formula 3, each R 7 independently represents a hydrogen atom or a methyl group, each t independently represents an integer of 1 to 8, and u represents an integer of 0 to 5.
式4中、Zbはポリオールのヒドロキシル基から水素原子をv個除いた残基を表し、vは3~6の整数を表し、R8はそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、Lcはそれぞれ独立に、炭素原子数1~8のアルキレン基を表す。
In Formula 4, Z b represents a residue obtained by removing v hydrogen atoms from the hydroxyl group of the polyol, v represents an integer of 3 to 6, R 8 independently represents a hydrogen atom or a methyl group, L Each c independently represents an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms.
<3>上記(メタ)アクリルアミド基を2つ以上有する化合物が、上記式1で表される化合物である、<2>に記載の爪化粧料、
<4>上記(メタ)アクリルアミド基を2つ以上有する化合物が、上記式2で表される化合物である、<2>に記載の爪化粧料、
<5>光重合開始剤を更に含む、<1>~<4>のいずれか1つに記載の爪化粧料、
<6>上記光重合開始剤が、アセトフェノン化合物、ベンゾフェノン化合物、チオキサントン化合物、ホスフィンオキシド化合物、メタロセン化合物、及び、ロフィンダイマー化合物よりなる群から選ばれた少なくとも1種の化合物である、<5>に記載の爪化粧料、
<7>ポリマー及び/又はオリゴマーを更に含む、<1>~<6>のいずれか1つに記載の爪化粧料、
<8>上記ポリマー及び/又はオリゴマーが、下記式C-1で表される構造及び/若しくはアミノ基を有するポリマー並びに/又はオリゴマーである、<7>に記載の爪化粧料、 <3> The nail cosmetic according to <2>, wherein the compound having two or more (meth) acrylamide groups is a compound represented by the above formula 1.
<4> The nail cosmetic according to <2>, wherein the compound having two or more (meth) acrylamide groups is a compound represented by the above formula 2.
<5> A nail cosmetic according to any one of <1> to <4>, further comprising a photopolymerization initiator,
<6> The photopolymerization initiator is at least one compound selected from the group consisting of an acetophenone compound, a benzophenone compound, a thioxanthone compound, a phosphine oxide compound, a metallocene compound, and a lophine dimer compound, in <5> Nail cosmetics as described,
<7> The nail cosmetic according to any one of <1> to <6>, further comprising a polymer and / or an oligomer,
<8> The nail cosmetic according to <7>, wherein the polymer and / or oligomer is a polymer and / or oligomer having a structure represented by the following formula C-1 and / or an amino group:
<4>上記(メタ)アクリルアミド基を2つ以上有する化合物が、上記式2で表される化合物である、<2>に記載の爪化粧料、
<5>光重合開始剤を更に含む、<1>~<4>のいずれか1つに記載の爪化粧料、
<6>上記光重合開始剤が、アセトフェノン化合物、ベンゾフェノン化合物、チオキサントン化合物、ホスフィンオキシド化合物、メタロセン化合物、及び、ロフィンダイマー化合物よりなる群から選ばれた少なくとも1種の化合物である、<5>に記載の爪化粧料、
<7>ポリマー及び/又はオリゴマーを更に含む、<1>~<6>のいずれか1つに記載の爪化粧料、
<8>上記ポリマー及び/又はオリゴマーが、下記式C-1で表される構造及び/若しくはアミノ基を有するポリマー並びに/又はオリゴマーである、<7>に記載の爪化粧料、 <3> The nail cosmetic according to <2>, wherein the compound having two or more (meth) acrylamide groups is a compound represented by the above formula 1.
<4> The nail cosmetic according to <2>, wherein the compound having two or more (meth) acrylamide groups is a compound represented by the above formula 2.
<5> A nail cosmetic according to any one of <1> to <4>, further comprising a photopolymerization initiator,
<6> The photopolymerization initiator is at least one compound selected from the group consisting of an acetophenone compound, a benzophenone compound, a thioxanthone compound, a phosphine oxide compound, a metallocene compound, and a lophine dimer compound, in <5> Nail cosmetics as described,
<7> The nail cosmetic according to any one of <1> to <6>, further comprising a polymer and / or an oligomer,
<8> The nail cosmetic according to <7>, wherein the polymer and / or oligomer is a polymer and / or oligomer having a structure represented by the following formula C-1 and / or an amino group:
式C-1中、波線部分はそれぞれ独立に、他の構造との結合位置を表す。
In the formula C-1, the wavy line part independently represents the bonding position with another structure.
<9>上記(メタ)アクリルアミド基を2つ以上有する化合物以外のエチレン性不飽和化合物を更に含む、<1>~<8>のいずれか1つに記載の爪化粧料、
<10>上記エチレン性不飽和化合物が、アクリル酸、メタクリル酸、N,N-ジメチルアクリルアミド、N,N-ジエチルアクリルアミド、モルホリンアクリルアミド、N-ヒドロキシエチルアクリルアミド、N-ビニルピロリドン、N-ビニルカプロラクタム、2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタクリレート、3-ヒドロキシプロピルアクリレート、3-ヒドロキシプロピルメタクリレート、2-ヒドロキシプロピルアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタクリレート、2-ヒドロキシブチルアクリレート、2-ヒドロキシブチルメタクリレート、4-ヒドロキシブチルアクリレート、及び、グリセリンモノメタクリレートよりなる群から選ばれた化合物を少なくとも含む、<9>に記載の爪化粧料、
<11>溶剤を更に含む、<1>~<10>のいずれか1つに記載の爪化粧料、
<12>上記溶剤が、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、1-プロパノール、1-ブタノール、2-ブタノール、t-ブチルアルコール、2-メチル-1-プロパノール、1-メトキシ-2-プロパノール、酢酸、及び、アセトニトリルよりなる群から選ばれた化合物を少なくとも含む、<11>に記載の爪化粧料、
<13><1>~<12>のいずれか1つに記載の爪化粧料から形成された層を有する人工爪、
<14><1>~<12>のいずれか1つに記載の爪化粧料を含むネイルアートキット。 <9> The nail cosmetic according to any one of <1> to <8>, further including an ethylenically unsaturated compound other than the compound having two or more (meth) acrylamide groups,
<10> The ethylenically unsaturated compound is acrylic acid, methacrylic acid, N, N-dimethylacrylamide, N, N-diethylacrylamide, morpholine acrylamide, N-hydroxyethylacrylamide, N-vinylpyrrolidone, N-vinylcaprolactam, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 3-hydroxypropyl acrylate, 3-hydroxypropyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 2-hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxybutyl methacrylate, 4- The nail cosmetic according to <9>, comprising at least a compound selected from the group consisting of hydroxybutyl acrylate and glycerin monomethacrylate,
<11> A nail cosmetic according to any one of <1> to <10>, further comprising a solvent,
<12> The solvent is water, methanol, ethanol, isopropanol, 1-propanol, 1-butanol, 2-butanol, t-butyl alcohol, 2-methyl-1-propanol, 1-methoxy-2-propanol, acetic acid, And a nail cosmetic according to <11>, comprising at least a compound selected from the group consisting of acetonitrile,
<13> An artificial nail having a layer formed from the nail cosmetic according to any one of <1> to <12>
<14> A nail art kit comprising the nail cosmetic according to any one of <1> to <12>.
<10>上記エチレン性不飽和化合物が、アクリル酸、メタクリル酸、N,N-ジメチルアクリルアミド、N,N-ジエチルアクリルアミド、モルホリンアクリルアミド、N-ヒドロキシエチルアクリルアミド、N-ビニルピロリドン、N-ビニルカプロラクタム、2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタクリレート、3-ヒドロキシプロピルアクリレート、3-ヒドロキシプロピルメタクリレート、2-ヒドロキシプロピルアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタクリレート、2-ヒドロキシブチルアクリレート、2-ヒドロキシブチルメタクリレート、4-ヒドロキシブチルアクリレート、及び、グリセリンモノメタクリレートよりなる群から選ばれた化合物を少なくとも含む、<9>に記載の爪化粧料、
<11>溶剤を更に含む、<1>~<10>のいずれか1つに記載の爪化粧料、
<12>上記溶剤が、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、1-プロパノール、1-ブタノール、2-ブタノール、t-ブチルアルコール、2-メチル-1-プロパノール、1-メトキシ-2-プロパノール、酢酸、及び、アセトニトリルよりなる群から選ばれた化合物を少なくとも含む、<11>に記載の爪化粧料、
<13><1>~<12>のいずれか1つに記載の爪化粧料から形成された層を有する人工爪、
<14><1>~<12>のいずれか1つに記載の爪化粧料を含むネイルアートキット。 <9> The nail cosmetic according to any one of <1> to <8>, further including an ethylenically unsaturated compound other than the compound having two or more (meth) acrylamide groups,
<10> The ethylenically unsaturated compound is acrylic acid, methacrylic acid, N, N-dimethylacrylamide, N, N-diethylacrylamide, morpholine acrylamide, N-hydroxyethylacrylamide, N-vinylpyrrolidone, N-vinylcaprolactam, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 3-hydroxypropyl acrylate, 3-hydroxypropyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 2-hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxybutyl methacrylate, 4- The nail cosmetic according to <9>, comprising at least a compound selected from the group consisting of hydroxybutyl acrylate and glycerin monomethacrylate,
<11> A nail cosmetic according to any one of <1> to <10>, further comprising a solvent,
<12> The solvent is water, methanol, ethanol, isopropanol, 1-propanol, 1-butanol, 2-butanol, t-butyl alcohol, 2-methyl-1-propanol, 1-methoxy-2-propanol, acetic acid, And a nail cosmetic according to <11>, comprising at least a compound selected from the group consisting of acetonitrile,
<13> An artificial nail having a layer formed from the nail cosmetic according to any one of <1> to <12>
<14> A nail art kit comprising the nail cosmetic according to any one of <1> to <12>.
本発明によれば、密着性に優れ、かつ剥離性に優れる爪化粧料、並びに、上記爪化粧料を用いた人工爪、及び、上記爪化粧料を含むネイルアートキットを提供することができた。
According to the present invention, it was possible to provide a nail cosmetic excellent in adhesion and exfoliation, an artificial nail using the nail cosmetic, and a nail art kit including the nail cosmetic. .
以下、本発明について詳細に説明する。
なお、本明細書中、「xx~yy」の記載は、xx及びyyを含む数値範囲を表す。
「(メタ)アクリルアミド」等は、「アクリルアミド及び/又はメタクリルアミド」等と同義であり、以下同様とする。
また、本発明において、「質量%」と「重量%」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
また、本発明においては、好ましい態様の2以上の組み合わせは、より好ましい態様である。
本明細書において、式で表される化合物における基の表記に関して、置換あるいは無置換を記していない場合、当該基が更に置換基を有することが可能な場合には、他に特に規定がない限り、無置換の基のみならず置換基を有する基も包含する。例えば、式において、「Rはアルキル基、アリール基又は複素環基を表す」との記載があれば、「Rは無置換アルキル基、置換アルキル基、無置換アリール基、置換アリール基、無置換複素環基又は置換複素環基を表す」ことを意味する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail.
In the present specification, the description of “xx to yy” represents a numerical range including xx and yy.
“(Meth) acrylamide” and the like are synonymous with “acrylamide and / or methacrylamide” and the like.
In the present invention, “mass%” and “wt%” are synonymous, and “part by mass” and “part by weight” are synonymous.
Moreover, in this invention, the combination of 2 or more of a preferable aspect is a more preferable aspect.
In this specification, regarding the notation of a group in a compound represented by the formula, if it is not substituted or unsubstituted, and the group can further have a substituent, unless otherwise specified, In addition to an unsubstituted group, a group having a substituent is also included. For example, in the formula, if there is a description that “R represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group”, “R is an unsubstituted alkyl group, a substituted alkyl group, an unsubstituted aryl group, a substituted aryl group, an unsubstituted group” Represents a heterocyclic group or a substituted heterocyclic group.
なお、本明細書中、「xx~yy」の記載は、xx及びyyを含む数値範囲を表す。
「(メタ)アクリルアミド」等は、「アクリルアミド及び/又はメタクリルアミド」等と同義であり、以下同様とする。
また、本発明において、「質量%」と「重量%」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
また、本発明においては、好ましい態様の2以上の組み合わせは、より好ましい態様である。
本明細書において、式で表される化合物における基の表記に関して、置換あるいは無置換を記していない場合、当該基が更に置換基を有することが可能な場合には、他に特に規定がない限り、無置換の基のみならず置換基を有する基も包含する。例えば、式において、「Rはアルキル基、アリール基又は複素環基を表す」との記載があれば、「Rは無置換アルキル基、置換アルキル基、無置換アリール基、置換アリール基、無置換複素環基又は置換複素環基を表す」ことを意味する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail.
In the present specification, the description of “xx to yy” represents a numerical range including xx and yy.
“(Meth) acrylamide” and the like are synonymous with “acrylamide and / or methacrylamide” and the like.
In the present invention, “mass%” and “wt%” are synonymous, and “part by mass” and “part by weight” are synonymous.
Moreover, in this invention, the combination of 2 or more of a preferable aspect is a more preferable aspect.
In this specification, regarding the notation of a group in a compound represented by the formula, if it is not substituted or unsubstituted, and the group can further have a substituent, unless otherwise specified, In addition to an unsubstituted group, a group having a substituent is also included. For example, in the formula, if there is a description that “R represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group”, “R is an unsubstituted alkyl group, a substituted alkyl group, an unsubstituted aryl group, a substituted aryl group, an unsubstituted group” Represents a heterocyclic group or a substituted heterocyclic group.
(爪化粧料)
本発明の爪化粧料は、(メタ)アクリルアミド基を2つ以上有する化合物を含有することを特徴とする。
本発明の爪化粧料は、マニキュア、ペディキュア等のネイルポリッシュや、ジェルネイルを形成する組成物としてだけでなく、ネイルコート等の爪保護剤としても好適に用いることができる。
本発明の爪化粧料は、人工爪におけるプライマー層、ベース層、カラー層、及び/又は、トップ層のいずれにも好適に用いることができる。中でも、プライマー層又はベース層用爪化粧料として好適に用いることができ、ベース層用爪化粧料としてより好適に用いることができる。
また、本発明の爪化粧料は、光硬化性組成物であることが好ましい。
本発明の人工爪は、本発明の爪化粧料により形成された層を有する人工爪である。 (Nail cosmetics)
The nail cosmetic of the present invention is characterized by containing a compound having two or more (meth) acrylamide groups.
The nail cosmetic of the present invention can be suitably used not only as a nail polish such as nail polish or pedicure, or as a composition for forming a gel nail, but also as a nail protectant such as a nail coat.
The nail cosmetic of the present invention can be suitably used for any of a primer layer, a base layer, a color layer, and / or a top layer in an artificial nail. Especially, it can use suitably as a primer layer or a nail cosmetic for base layers, and can use it more suitably as a nail cosmetic for base layers.
The nail cosmetic of the present invention is preferably a photocurable composition.
The artificial nail of the present invention is an artificial nail having a layer formed by the nail cosmetic of the present invention.
本発明の爪化粧料は、(メタ)アクリルアミド基を2つ以上有する化合物を含有することを特徴とする。
本発明の爪化粧料は、マニキュア、ペディキュア等のネイルポリッシュや、ジェルネイルを形成する組成物としてだけでなく、ネイルコート等の爪保護剤としても好適に用いることができる。
本発明の爪化粧料は、人工爪におけるプライマー層、ベース層、カラー層、及び/又は、トップ層のいずれにも好適に用いることができる。中でも、プライマー層又はベース層用爪化粧料として好適に用いることができ、ベース層用爪化粧料としてより好適に用いることができる。
また、本発明の爪化粧料は、光硬化性組成物であることが好ましい。
本発明の人工爪は、本発明の爪化粧料により形成された層を有する人工爪である。 (Nail cosmetics)
The nail cosmetic of the present invention is characterized by containing a compound having two or more (meth) acrylamide groups.
The nail cosmetic of the present invention can be suitably used not only as a nail polish such as nail polish or pedicure, or as a composition for forming a gel nail, but also as a nail protectant such as a nail coat.
The nail cosmetic of the present invention can be suitably used for any of a primer layer, a base layer, a color layer, and / or a top layer in an artificial nail. Especially, it can use suitably as a primer layer or a nail cosmetic for base layers, and can use it more suitably as a nail cosmetic for base layers.
The nail cosmetic of the present invention is preferably a photocurable composition.
The artificial nail of the present invention is an artificial nail having a layer formed by the nail cosmetic of the present invention.
<(メタ)アクリルアミド基を2つ以上有する化合物>
本発明の爪化粧料は、(メタ)アクリルアミド基を2つ以上有する化合物(以下、「特定化合物」ともいう。)を含有する。
本発明に用いられる(メタ)アクリルアミド基を2つ以上有する化合物としては、以下の式Aで表される基を分子内に2つ以上有する化合物であればいずれも好適に使用することができる。 <Compound having two or more (meth) acrylamide groups>
The nail cosmetic of the present invention contains a compound having two or more (meth) acrylamide groups (hereinafter also referred to as “specific compound”).
As the compound having two or more (meth) acrylamide groups used in the present invention, any compound having two or more groups represented by the following formula A in the molecule can be suitably used.
本発明の爪化粧料は、(メタ)アクリルアミド基を2つ以上有する化合物(以下、「特定化合物」ともいう。)を含有する。
本発明に用いられる(メタ)アクリルアミド基を2つ以上有する化合物としては、以下の式Aで表される基を分子内に2つ以上有する化合物であればいずれも好適に使用することができる。 <Compound having two or more (meth) acrylamide groups>
The nail cosmetic of the present invention contains a compound having two or more (meth) acrylamide groups (hereinafter also referred to as “specific compound”).
As the compound having two or more (meth) acrylamide groups used in the present invention, any compound having two or more groups represented by the following formula A in the molecule can be suitably used.
式A中、R1は水素原子又はメチル基を表し、*は他の構造との結合位置を表す。
In Formula A, R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, and * represents a bonding position with another structure.
また、(メタ)アクリルアミド基を2つ以上有する化合物の(メタ)アクリルアミド基は、窒素原子上に水素原子だけでなく、1価の有機基を有していてもよいが、上記式Aのように水素原子であることが好ましい。上記1価の有機基としては、アルキル基、アリール基又は複素環基が好ましく挙げられ、アルキル基がより好ましく挙げられる。上記1価の有機基の炭素原子数は、1~14であることが好ましく、1~8であることがより好ましい。
(メタ)アクリルアミド基を2つ以上有する化合物は、アクリルアミド基のみを有していても、メタクリルアミド基のみを有していても、アクリルアミド基及びメタクリルアミド基の両方を有していてもよい。
(メタ)アクリルアミド基を2つ以上有する化合物は、(メタ)アクリルアミド基を2~6つ有する化合物であることが好ましく、(メタ)アクリルアミド基を2~4つ有する化合物であることがより好ましく、(メタ)アクリルアミド基を3又は4つ有する化合物であることが更に好ましく、(メタ)アクリルアミド基を4つ有する化合物であることが特に好ましい。
(メタ)アクリルアミド基を2つ以上有する化合物としては、以下の式1~式4のいずれかで表される化合物を含むことが好ましく、以下の式1~式4のいずれかで表される化合物であることよりが好ましい。
まず、式1で表される化合物について説明する。 Further, the (meth) acrylamide group of the compound having two or more (meth) acrylamide groups may have not only a hydrogen atom but also a monovalent organic group on the nitrogen atom. It is preferably a hydrogen atom. As said monovalent organic group, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group is mentioned preferably, An alkyl group is mentioned more preferably. The number of carbon atoms of the monovalent organic group is preferably 1-14, and more preferably 1-8.
A compound having two or more (meth) acrylamide groups may have only an acrylamide group, may have only a methacrylamide group, or may have both an acrylamide group and a methacrylamide group.
The compound having two or more (meth) acrylamide groups is preferably a compound having 2 to 6 (meth) acrylamide groups, more preferably a compound having 2 to 4 (meth) acrylamide groups, A compound having 3 or 4 (meth) acrylamide groups is more preferable, and a compound having 4 (meth) acrylamide groups is particularly preferable.
The compound having two or more (meth) acrylamide groups preferably includes a compound represented by any one of the following formulas 1 to 4, and a compound represented by any one of the following formulas 1 to 4. Is more preferable.
First, the compound represented by Formula 1 will be described.
(メタ)アクリルアミド基を2つ以上有する化合物は、アクリルアミド基のみを有していても、メタクリルアミド基のみを有していても、アクリルアミド基及びメタクリルアミド基の両方を有していてもよい。
(メタ)アクリルアミド基を2つ以上有する化合物は、(メタ)アクリルアミド基を2~6つ有する化合物であることが好ましく、(メタ)アクリルアミド基を2~4つ有する化合物であることがより好ましく、(メタ)アクリルアミド基を3又は4つ有する化合物であることが更に好ましく、(メタ)アクリルアミド基を4つ有する化合物であることが特に好ましい。
(メタ)アクリルアミド基を2つ以上有する化合物としては、以下の式1~式4のいずれかで表される化合物を含むことが好ましく、以下の式1~式4のいずれかで表される化合物であることよりが好ましい。
まず、式1で表される化合物について説明する。 Further, the (meth) acrylamide group of the compound having two or more (meth) acrylamide groups may have not only a hydrogen atom but also a monovalent organic group on the nitrogen atom. It is preferably a hydrogen atom. As said monovalent organic group, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group is mentioned preferably, An alkyl group is mentioned more preferably. The number of carbon atoms of the monovalent organic group is preferably 1-14, and more preferably 1-8.
A compound having two or more (meth) acrylamide groups may have only an acrylamide group, may have only a methacrylamide group, or may have both an acrylamide group and a methacrylamide group.
The compound having two or more (meth) acrylamide groups is preferably a compound having 2 to 6 (meth) acrylamide groups, more preferably a compound having 2 to 4 (meth) acrylamide groups, A compound having 3 or 4 (meth) acrylamide groups is more preferable, and a compound having 4 (meth) acrylamide groups is particularly preferable.
The compound having two or more (meth) acrylamide groups preferably includes a compound represented by any one of the following formulas 1 to 4, and a compound represented by any one of the following formulas 1 to 4. Is more preferable.
First, the compound represented by Formula 1 will be described.
式1中、Rはそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、Raはそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基又は複素環基を表し、Laはそれぞれ独立に、単結合又は2価の連結基を表し、Zaはq+1価の有機基を表し、qは1~6の整数を表す。
In Formula 1, each R independently represents a hydrogen atom or a methyl group, each R a independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, and each L a independently represents a single bond or Z represents a q + 1 valent organic group, and q represents an integer of 1 to 6.
同一分子内に存在するRは、同じでも異なってもよいが、全て同じであることが好ましく、全て同じ水素原子であることがより好ましい。
Raはそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基であることが好ましく、水素原子又は無置換のアルキル基であることがより好ましく、水素原子であることが更に好ましい。
同一分子内に存在するRaは、同じでも異なってもよいが、全て同じであることが好ましい。
Raがアルキル基である場合、その炭素原子数は1~8であることが好ましい。上記アルキル基は、直鎖であっても、分岐していてもよい。上記アルキル基として、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、t-ブチル基、及び、2-エチルへキシル基が挙げられる。
Raがアリール基である場合、その炭素原子数は6~14であることが好ましい。上記アリール基として、例えば、フェニル基、及び、ナフチル基が挙げられる。
Raが複素環基である場合、上記複素環は、芳香族複素環でも、非芳香族複素環でもよい。また、単環でも縮環でもよい。上記複素環としては、環構成原子に酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を含む環であることが好ましく、また、5員環又は6員環であることが好ましい。上記複素環として、例えば、ピロール環、イミダゾール環、ピラゾール環、ピリジン環、トリアジン環、インドール環、チオフェン環、フラン環、ピペラジン環、ピペリジン環、及び、モルホリン環が挙げられる。 Rs present in the same molecule may be the same or different, but are preferably all the same and more preferably all the same hydrogen atoms.
Each R a is preferably independently a hydrogen atom or an alkyl group, more preferably a hydrogen atom or an unsubstituted alkyl group, and even more preferably a hydrogen atom.
R a present in the same molecule may be the same or different but are preferably all the same.
When R a is an alkyl group, the number of carbon atoms is preferably 1-8. The alkyl group may be linear or branched. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, a t-butyl group, and a 2-ethylhexyl group.
When R a is an aryl group, the number of carbon atoms is preferably 6 to 14. Examples of the aryl group include a phenyl group and a naphthyl group.
When R a is a heterocyclic group, the heterocyclic ring may be an aromatic heterocyclic ring or a non-aromatic heterocyclic ring. Further, it may be a single ring or a condensed ring. The heterocyclic ring is preferably a ring containing an oxygen atom, a sulfur atom or a nitrogen atom as a ring constituent atom, and is preferably a 5-membered ring or a 6-membered ring. Examples of the heterocyclic ring include a pyrrole ring, an imidazole ring, a pyrazole ring, a pyridine ring, a triazine ring, an indole ring, a thiophene ring, a furan ring, a piperazine ring, a piperidine ring, and a morpholine ring.
Raはそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基であることが好ましく、水素原子又は無置換のアルキル基であることがより好ましく、水素原子であることが更に好ましい。
同一分子内に存在するRaは、同じでも異なってもよいが、全て同じであることが好ましい。
Raがアルキル基である場合、その炭素原子数は1~8であることが好ましい。上記アルキル基は、直鎖であっても、分岐していてもよい。上記アルキル基として、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、t-ブチル基、及び、2-エチルへキシル基が挙げられる。
Raがアリール基である場合、その炭素原子数は6~14であることが好ましい。上記アリール基として、例えば、フェニル基、及び、ナフチル基が挙げられる。
Raが複素環基である場合、上記複素環は、芳香族複素環でも、非芳香族複素環でもよい。また、単環でも縮環でもよい。上記複素環としては、環構成原子に酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を含む環であることが好ましく、また、5員環又は6員環であることが好ましい。上記複素環として、例えば、ピロール環、イミダゾール環、ピラゾール環、ピリジン環、トリアジン環、インドール環、チオフェン環、フラン環、ピペラジン環、ピペリジン環、及び、モルホリン環が挙げられる。 Rs present in the same molecule may be the same or different, but are preferably all the same and more preferably all the same hydrogen atoms.
Each R a is preferably independently a hydrogen atom or an alkyl group, more preferably a hydrogen atom or an unsubstituted alkyl group, and even more preferably a hydrogen atom.
R a present in the same molecule may be the same or different but are preferably all the same.
When R a is an alkyl group, the number of carbon atoms is preferably 1-8. The alkyl group may be linear or branched. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, a t-butyl group, and a 2-ethylhexyl group.
When R a is an aryl group, the number of carbon atoms is preferably 6 to 14. Examples of the aryl group include a phenyl group and a naphthyl group.
When R a is a heterocyclic group, the heterocyclic ring may be an aromatic heterocyclic ring or a non-aromatic heterocyclic ring. Further, it may be a single ring or a condensed ring. The heterocyclic ring is preferably a ring containing an oxygen atom, a sulfur atom or a nitrogen atom as a ring constituent atom, and is preferably a 5-membered ring or a 6-membered ring. Examples of the heterocyclic ring include a pyrrole ring, an imidazole ring, a pyrazole ring, a pyridine ring, a triazine ring, an indole ring, a thiophene ring, a furan ring, a piperazine ring, a piperidine ring, and a morpholine ring.
Laは、アルキレン基、エチニレン基、アリーレン基、2価の複素環基、-O-、-S-、-N(Ra)-、-C(=O)-、-SO-、-SO2-又はこれらを組み合わせた基(例えば、-アルキレン-O-、-O-C(=O)-、-C(=O)-O-、-C(=O)-N(Ra)-、-N(Ra)-C(=O)-、-SO2-N(Ra)-、-N(Ra)-SO2-など)が好ましく、-O-、アルキレン基又はこれらの基を組み合わせた基を少なくとも部分構造に有する連結基がより好ましく、-O-、アルキレン基又はこれらの基を組み合わせた基のみからなる場合が更に好ましい。上記La中におけるRaは、式1中のRaと同義であり、好ましい態様も同様である。同一分子内に存在するLaは、同じでも異なってもよいが、全て同じであることが好ましい。
これらの基は置換基を有していてもよく、上記置換基としては、アルキル基、アリール基、及び、ヒドロキシル基が好ましい。
上記アルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、へプチレン基、オクチレン基、及び、ノニレン基が挙げられる。
上記アリーレン基としては、フェニレン基、及び、ナフチレン基が挙げられる。
上記2価の複素環基における複素環としては、芳香族複素環であっても、非芳香族複素環であってもよく、単環であっても、縮合環であってもよい。上記複素環としては、環構成原子が酸素原子、硫黄原子又は窒素原子のいずれかのヘテロ原子を含む環が好ましく、また、5員環又は6員環の複素環が好ましい。このような複素環として具体的には、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、トリアジン環、キノリン環、イソキノリン環、キナゾリン環、シンノリン環、フタラジン環、キノキサリン環、ピロール環、インドール環、フラン環、ベンゾフラン環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピラゾール環、イミダゾール環、ベンズイミダゾール環、トリアゾール環、オキサゾール環、ベンズオキサゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、イソチアゾール環、ベンズイソチアゾール環、チアジアゾール環、イソオキサゾール環、ベンズイソオキサゾール環、ピロリジン環、ピペリジン環、ピペラジン環、イミダゾリジン環、及び、チアゾリン環などが挙げられる。
なお、上記具体例では、2つの結合位置を省略した複素環の形で例示したが、2つの結合位置は限定されるものではなく、例えば、ピリジン環であれば、2~6位のいずれか2つであり、例えば、ピリジン-2,4-ジイル、ピリジン-2,6-ジイルとなる。3位、4位で置換することが可能である。
2価の複素環基としては、2価の芳香族複素環基が好ましく、2価の芳香族複素環基の複素環としては、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、トリアジン環、ピラゾール環、イミダゾール環、ベンズイミダゾール環、トリアゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、イソチアゾール環、ベンズイソチアゾール環、又は、チアジアゾール環が好ましい。これらの複素環は、置換基を有していてもよく、置換基の例としては、アルキル基、アリール基、及び、アルコキシ基等が挙げられる。 L a represents an alkylene group, an ethynylene group, an arylene group, a divalent heterocyclic group, —O—, —S—, —N (R a ) —, —C (═O) —, —SO—, —SO 2- or a combination thereof (for example, -alkylene-O—, —O—C (═O) —, —C (═O) —O—, —C (═O) —N (R a ) —) , —N (R a ) —C (═O) —, —SO 2 —N (R a ) —, —N (R a ) —SO 2 —, etc.) are preferred, —O—, an alkylene group or these More preferred is a linking group having at least a partial group as a combination of groups, more preferably —O—, an alkylene group, or a combination of these groups alone. R a in L a has the same meaning as R a in Formula 1, and the preferred embodiment is also the same. L a present in the same molecule may be the same or different but are preferably all the same.
These groups may have a substituent, and as the substituent, an alkyl group, an aryl group, and a hydroxyl group are preferable.
Examples of the alkylene group include a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a butylene group, a pentylene group, a hexylene group, a heptylene group, an octylene group, and a nonylene group.
Examples of the arylene group include a phenylene group and a naphthylene group.
The heterocyclic ring in the divalent heterocyclic group may be an aromatic heterocyclic ring, a non-aromatic heterocyclic ring, a monocyclic ring or a condensed ring. The heterocyclic ring is preferably a ring in which the ring-constituting atoms include any of an oxygen atom, a sulfur atom or a nitrogen atom, and a 5-membered or 6-membered heterocyclic ring is preferred. Specific examples of such heterocycle include pyridine ring, pyrazine ring, pyrimidine ring, pyridazine ring, triazine ring, quinoline ring, isoquinoline ring, quinazoline ring, cinnoline ring, phthalazine ring, quinoxaline ring, pyrrole ring, indole ring, Furan ring, benzofuran ring, thiophene ring, benzothiophene ring, pyrazole ring, imidazole ring, benzimidazole ring, triazole ring, oxazole ring, benzoxazole ring, thiazole ring, benzothiazole ring, isothiazole ring, benzisothiazole ring, thiadiazole And a ring, an isoxazole ring, a benzisoxazole ring, a pyrrolidine ring, a piperidine ring, a piperazine ring, an imidazolidine ring, and a thiazoline ring.
In the above specific examples, the examples are shown in the form of a heterocyclic ring in which two bonding positions are omitted, but the two bonding positions are not limited. For example, in the case of a pyridine ring, any one of positions 2 to 6 is used. For example, pyridine-2,4-diyl and pyridine-2,6-diyl. Substitution at the 3rd and 4th positions is possible.
As the divalent heterocyclic group, a divalent aromatic heterocyclic group is preferable, and as the heterocyclic ring of the divalent aromatic heterocyclic group, a pyridine ring, a pyrazine ring, a pyrimidine ring, a pyridazine ring, a triazine ring, a pyrazole A ring, imidazole ring, benzimidazole ring, triazole ring, thiazole ring, benzothiazole ring, isothiazole ring, benzisothiazole ring, or thiadiazole ring is preferable. These heterocycles may have a substituent, and examples of the substituent include an alkyl group, an aryl group, and an alkoxy group.
これらの基は置換基を有していてもよく、上記置換基としては、アルキル基、アリール基、及び、ヒドロキシル基が好ましい。
上記アルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、へプチレン基、オクチレン基、及び、ノニレン基が挙げられる。
上記アリーレン基としては、フェニレン基、及び、ナフチレン基が挙げられる。
上記2価の複素環基における複素環としては、芳香族複素環であっても、非芳香族複素環であってもよく、単環であっても、縮合環であってもよい。上記複素環としては、環構成原子が酸素原子、硫黄原子又は窒素原子のいずれかのヘテロ原子を含む環が好ましく、また、5員環又は6員環の複素環が好ましい。このような複素環として具体的には、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、トリアジン環、キノリン環、イソキノリン環、キナゾリン環、シンノリン環、フタラジン環、キノキサリン環、ピロール環、インドール環、フラン環、ベンゾフラン環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピラゾール環、イミダゾール環、ベンズイミダゾール環、トリアゾール環、オキサゾール環、ベンズオキサゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、イソチアゾール環、ベンズイソチアゾール環、チアジアゾール環、イソオキサゾール環、ベンズイソオキサゾール環、ピロリジン環、ピペリジン環、ピペラジン環、イミダゾリジン環、及び、チアゾリン環などが挙げられる。
なお、上記具体例では、2つの結合位置を省略した複素環の形で例示したが、2つの結合位置は限定されるものではなく、例えば、ピリジン環であれば、2~6位のいずれか2つであり、例えば、ピリジン-2,4-ジイル、ピリジン-2,6-ジイルとなる。3位、4位で置換することが可能である。
2価の複素環基としては、2価の芳香族複素環基が好ましく、2価の芳香族複素環基の複素環としては、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、トリアジン環、ピラゾール環、イミダゾール環、ベンズイミダゾール環、トリアゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、イソチアゾール環、ベンズイソチアゾール環、又は、チアジアゾール環が好ましい。これらの複素環は、置換基を有していてもよく、置換基の例としては、アルキル基、アリール基、及び、アルコキシ基等が挙げられる。 L a represents an alkylene group, an ethynylene group, an arylene group, a divalent heterocyclic group, —O—, —S—, —N (R a ) —, —C (═O) —, —SO—, —SO 2- or a combination thereof (for example, -alkylene-O—, —O—C (═O) —, —C (═O) —O—, —C (═O) —N (R a ) —) , —N (R a ) —C (═O) —, —SO 2 —N (R a ) —, —N (R a ) —SO 2 —, etc.) are preferred, —O—, an alkylene group or these More preferred is a linking group having at least a partial group as a combination of groups, more preferably —O—, an alkylene group, or a combination of these groups alone. R a in L a has the same meaning as R a in Formula 1, and the preferred embodiment is also the same. L a present in the same molecule may be the same or different but are preferably all the same.
These groups may have a substituent, and as the substituent, an alkyl group, an aryl group, and a hydroxyl group are preferable.
Examples of the alkylene group include a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a butylene group, a pentylene group, a hexylene group, a heptylene group, an octylene group, and a nonylene group.
Examples of the arylene group include a phenylene group and a naphthylene group.
The heterocyclic ring in the divalent heterocyclic group may be an aromatic heterocyclic ring, a non-aromatic heterocyclic ring, a monocyclic ring or a condensed ring. The heterocyclic ring is preferably a ring in which the ring-constituting atoms include any of an oxygen atom, a sulfur atom or a nitrogen atom, and a 5-membered or 6-membered heterocyclic ring is preferred. Specific examples of such heterocycle include pyridine ring, pyrazine ring, pyrimidine ring, pyridazine ring, triazine ring, quinoline ring, isoquinoline ring, quinazoline ring, cinnoline ring, phthalazine ring, quinoxaline ring, pyrrole ring, indole ring, Furan ring, benzofuran ring, thiophene ring, benzothiophene ring, pyrazole ring, imidazole ring, benzimidazole ring, triazole ring, oxazole ring, benzoxazole ring, thiazole ring, benzothiazole ring, isothiazole ring, benzisothiazole ring, thiadiazole And a ring, an isoxazole ring, a benzisoxazole ring, a pyrrolidine ring, a piperidine ring, a piperazine ring, an imidazolidine ring, and a thiazoline ring.
In the above specific examples, the examples are shown in the form of a heterocyclic ring in which two bonding positions are omitted, but the two bonding positions are not limited. For example, in the case of a pyridine ring, any one of positions 2 to 6 is used. For example, pyridine-2,4-diyl and pyridine-2,6-diyl. Substitution at the 3rd and 4th positions is possible.
As the divalent heterocyclic group, a divalent aromatic heterocyclic group is preferable, and as the heterocyclic ring of the divalent aromatic heterocyclic group, a pyridine ring, a pyrazine ring, a pyrimidine ring, a pyridazine ring, a triazine ring, a pyrazole A ring, imidazole ring, benzimidazole ring, triazole ring, thiazole ring, benzothiazole ring, isothiazole ring, benzisothiazole ring, or thiadiazole ring is preferable. These heterocycles may have a substituent, and examples of the substituent include an alkyl group, an aryl group, and an alkoxy group.
Zaは、q+1価の脂肪族基であることが好ましく、q+1価の脂肪族炭化水素基であることがより好ましい。
Zaの炭素原子数は、1~10が好ましく、1~8がより好ましく、1~4が更に好ましく、1が特に好ましい。 Z a is more preferably preferably q + 1 valent aliphatic group, a q + 1 valent aliphatic hydrocarbon group.
Z a number of carbon atoms is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 8, more preferably 1 to 4, 1 is particularly preferred.
Zaの炭素原子数は、1~10が好ましく、1~8がより好ましく、1~4が更に好ましく、1が特に好ましい。 Z a is more preferably preferably q + 1 valent aliphatic group, a q + 1 valent aliphatic hydrocarbon group.
Z a number of carbon atoms is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 8, more preferably 1 to 4, 1 is particularly preferred.
上記式1で表される化合物は、下記式1-1で表される化合物であることが好ましい。
The compound represented by the above formula 1 is preferably a compound represented by the following formula 1-1.
式1-1中、Rbは水素原子、アルキル基又は-La-N(Ra)-C(=O)-C(R)=CH2を表し、Rはそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、Raはそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基又は複素環基を表し、Laはそれぞれ独立に、単結合又は2価の連結基を表す。
In Formula 1-1, R b represents a hydrogen atom, an alkyl group, or —L a —N (R a ) —C (═O) —C (R) ═CH 2, and each R independently represents a hydrogen atom or Represents a methyl group, each R a independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, and each L a independently represents a single bond or a divalent linking group.
式1-1におけるR、Ra及びLaはそれぞれ、上記式1におけるR、Ra及びLbと同義であり、好ましい態様も同様である。
Rbにおけるアルキル基は、炭素原子数が1~10のアルキル基であることが好ましく、上記アルキル基は、置換基を有してもよい。このような置換基としては、例えば、アルキル基、アルケニル基、アリール基、複素環基、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、複素環アミノ基、アシル基、アルキル又はアリールのオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルキル又はアリールスルホニル基、アルキル又はアリールスルホンアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、及び、シアノ基などが挙げられる。
Rbは、-La-N(Ra)-C(=O)-C(R)=CH2であることが好ましい。すなわち、式1-1で表される化合物は、下記式1-2で表される化合物であることが好ましい。 R, R a and L a in Formula 1-1 have the same meanings as R, R a and L b in Formula 1, respectively, and preferred embodiments are also the same.
The alkyl group for R b is preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and the alkyl group may have a substituent. Examples of such substituents include alkyl groups, alkenyl groups, aryl groups, heterocyclic groups, halogen atoms, hydroxyl groups, alkoxy groups, aryloxy groups, alkylthio groups, arylthio groups, amino groups, alkylamino groups, and aryl groups. An amino group, a heterocyclic amino group, an acyl group, an alkyl or aryl oxycarbonyl group, an acyloxy group, an acylamino group, an alkyl or arylsulfonyl group, an alkyl or arylsulfonamido group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, and a cyano group. Can be mentioned.
R b is preferably —L a —N (R a ) —C (═O) —C (R) ═CH 2 . That is, the compound represented by Formula 1-1 is preferably a compound represented by Formula 1-2 below.
Rbにおけるアルキル基は、炭素原子数が1~10のアルキル基であることが好ましく、上記アルキル基は、置換基を有してもよい。このような置換基としては、例えば、アルキル基、アルケニル基、アリール基、複素環基、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、複素環アミノ基、アシル基、アルキル又はアリールのオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルキル又はアリールスルホニル基、アルキル又はアリールスルホンアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、及び、シアノ基などが挙げられる。
Rbは、-La-N(Ra)-C(=O)-C(R)=CH2であることが好ましい。すなわち、式1-1で表される化合物は、下記式1-2で表される化合物であることが好ましい。 R, R a and L a in Formula 1-1 have the same meanings as R, R a and L b in Formula 1, respectively, and preferred embodiments are also the same.
The alkyl group for R b is preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and the alkyl group may have a substituent. Examples of such substituents include alkyl groups, alkenyl groups, aryl groups, heterocyclic groups, halogen atoms, hydroxyl groups, alkoxy groups, aryloxy groups, alkylthio groups, arylthio groups, amino groups, alkylamino groups, and aryl groups. An amino group, a heterocyclic amino group, an acyl group, an alkyl or aryl oxycarbonyl group, an acyloxy group, an acylamino group, an alkyl or arylsulfonyl group, an alkyl or arylsulfonamido group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, and a cyano group. Can be mentioned.
R b is preferably —L a —N (R a ) —C (═O) —C (R) ═CH 2 . That is, the compound represented by Formula 1-1 is preferably a compound represented by Formula 1-2 below.
式1-2中、Rはそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、Raはそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基又は複素環基を表し、Laはそれぞれ独立に、単結合又は2価の連結基を表す。
In Formula 1-2, each R independently represents a hydrogen atom or a methyl group, each R a independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, and each L a independently represents a single atom. Represents a bond or a divalent linking group.
式1-2におけるR、Ra及びLaはそれぞれ、上記式1におけるR、Ra及びLaと同義であり、好ましい態様も同様である。
また、上記式1で表される化合物は、下記式1-3で表される化合物であることが特に好ましい。 Each R, R a and L a in Formula 1-2 is synonymous with R, R a and L a in the formula 1, preferred embodiment is also the same.
The compound represented by the above formula 1 is particularly preferably a compound represented by the following formula 1-3.
また、上記式1で表される化合物は、下記式1-3で表される化合物であることが特に好ましい。 Each R, R a and L a in Formula 1-2 is synonymous with R, R a and L a in the formula 1, preferred embodiment is also the same.
The compound represented by the above formula 1 is particularly preferably a compound represented by the following formula 1-3.
式1-3中、R4はそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、L1はそれぞれ独立に、2価の連結基を表し、L2はそれぞれ独立に、少なくとも2つの炭素原子を介して連結する、炭素原子数2~4の直鎖又は分岐のアルキレン基を表し、wはそれぞれ独立に、2又は3を表し、x、y及びzはそれぞれ独立に、0~6の整数を表す。
In Formula 1-3, each R 4 independently represents a hydrogen atom or a methyl group, each L 1 independently represents a divalent linking group, and each L 2 independently via at least two carbon atoms. A linear or branched alkylene group having 2 to 4 carbon atoms connected to each other, w is independently 2 or 3, and x, y and z are each independently an integer of 0 to 6. .
R4は、水素原子であることが好ましい。同一分子内に存在するR4は、同じでも異なってもよいが、全て同じであることが好ましい。
L1における2価の連結基の好ましい態様は、上記Laにおける2価の連結基における好ましい態様と同様である。同一分子内に存在するL1は、同じでも異なってもよいが、全て同じであることが好ましい。
L1がアルキレン基であるとき、その炭素原子数は1~6であることが好ましく、1~3であることがより好ましく、1であることが特に好ましい。
L1がアリーレン基であるとき、その炭素原子数は6~14であることが好ましく、6~10であることがより好ましく、6であることが特に好ましい。上記アリーレン基は、置換基を有していてもよく、置換基の例としては、アルキル基、及び、アルコキシ基等が挙げられる。
中でも、L1はそれぞれ独立に、アルキレン基であることが好ましい。
式1-3において、wは2又は3である。複数のwは同一であることが好ましい。また、CwH2wは直鎖アルキレン基であっても、分岐を有するアルキレン基であってもよい。
式1-3において、x、y及びzはそれぞれ独立に、0~5の整数であることが好ましく、0~3の整数であることがより好ましい。
また、x+y+zの総数は、0~18の整数であることが好ましく、0~15の整数であることがより好ましく、0~9の整数であることが更に好ましい。 R 4 is preferably a hydrogen atom. R 4 present in the same molecule may be the same or different, but it is preferable that they are all the same.
A preferred embodiment of the divalent linking group for L 1 is the same as the preferred embodiment in divalent linking group for the L a. L 1 existing in the same molecule may be the same or different, but it is preferable that they are all the same.
When L 1 is an alkylene group, the number of carbon atoms is preferably 1 to 6, more preferably 1 to 3, and particularly preferably 1.
When L 1 is an arylene group, the number of carbon atoms is preferably 6 to 14, more preferably 6 to 10, and particularly preferably 6. The arylene group may have a substituent, and examples of the substituent include an alkyl group and an alkoxy group.
Among them, L 1 are each independently preferably an alkylene group.
In Formula 1-3, w is 2 or 3. The plurality of w are preferably the same. C w H 2w may be a linear alkylene group or a branched alkylene group.
In Formula 1-3, x, y, and z are each independently preferably an integer of 0 to 5, and more preferably an integer of 0 to 3.
The total number of x + y + z is preferably an integer of 0 to 18, more preferably an integer of 0 to 15, and still more preferably an integer of 0 to 9.
L1における2価の連結基の好ましい態様は、上記Laにおける2価の連結基における好ましい態様と同様である。同一分子内に存在するL1は、同じでも異なってもよいが、全て同じであることが好ましい。
L1がアルキレン基であるとき、その炭素原子数は1~6であることが好ましく、1~3であることがより好ましく、1であることが特に好ましい。
L1がアリーレン基であるとき、その炭素原子数は6~14であることが好ましく、6~10であることがより好ましく、6であることが特に好ましい。上記アリーレン基は、置換基を有していてもよく、置換基の例としては、アルキル基、及び、アルコキシ基等が挙げられる。
中でも、L1はそれぞれ独立に、アルキレン基であることが好ましい。
式1-3において、wは2又は3である。複数のwは同一であることが好ましい。また、CwH2wは直鎖アルキレン基であっても、分岐を有するアルキレン基であってもよい。
式1-3において、x、y及びzはそれぞれ独立に、0~5の整数であることが好ましく、0~3の整数であることがより好ましい。
また、x+y+zの総数は、0~18の整数であることが好ましく、0~15の整数であることがより好ましく、0~9の整数であることが更に好ましい。 R 4 is preferably a hydrogen atom. R 4 present in the same molecule may be the same or different, but it is preferable that they are all the same.
A preferred embodiment of the divalent linking group for L 1 is the same as the preferred embodiment in divalent linking group for the L a. L 1 existing in the same molecule may be the same or different, but it is preferable that they are all the same.
When L 1 is an alkylene group, the number of carbon atoms is preferably 1 to 6, more preferably 1 to 3, and particularly preferably 1.
When L 1 is an arylene group, the number of carbon atoms is preferably 6 to 14, more preferably 6 to 10, and particularly preferably 6. The arylene group may have a substituent, and examples of the substituent include an alkyl group and an alkoxy group.
Among them, L 1 are each independently preferably an alkylene group.
In Formula 1-3, w is 2 or 3. The plurality of w are preferably the same. C w H 2w may be a linear alkylene group or a branched alkylene group.
In Formula 1-3, x, y, and z are each independently preferably an integer of 0 to 5, and more preferably an integer of 0 to 3.
The total number of x + y + z is preferably an integer of 0 to 18, more preferably an integer of 0 to 15, and still more preferably an integer of 0 to 9.
式1で表される化合物の具体例を下記に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
Specific examples of the compound represented by Formula 1 are shown below, but the present invention is not limited thereto.
これら具体例の中でも、化合物1-a、1-b、1-c、1-g、1-h、又は、1-iがより好ましく、化合物1-aが特に好ましい。
Among these specific examples, compounds 1-a, 1-b, 1-c, 1-g, 1-h or 1-i are more preferable, and compound 1-a is particularly preferable.
続いて、式2で表される化合物について説明する。
Subsequently, the compound represented by Formula 2 will be described.
式2中、R5はそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、Lbはそれぞれ独立に、炭素原子数1~8のアルキレン基を表し、k及びpはそれぞれ独立に、0又は1を表し、jはそれぞれ独立に、0~8の整数を表す。
In Formula 2, each R 5 independently represents a hydrogen atom or a methyl group, each L b independently represents an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, and k and p each independently represents 0 or 1 J represents an integer of 0 to 8 independently.
R5は、水素原子であることが好ましい。同一分子内に存在するR5は、同じでも異なってもよいが、全て同じであることが好ましい。
Lbは、直鎖アルキレン基であっても、分岐を有するアルキレン基であってもよい。
Lbの炭素原子数は、2~5であることが好ましく、3又は4であることが更に好ましい。同一分子内に存在するLbは、同じでも異なってもよいが、全て同じであることが好ましい。
k及びpは、1であることが好ましい。
jはそれぞれ独立に、2~6の整数であることが好ましく、2~4の整数であることがより好ましい。 R 5 is preferably a hydrogen atom. R 5 present in the same molecule may be the same or different, but it is preferable that they are all the same.
L b may be a linear alkylene group or a branched alkylene group.
L b preferably has 2 to 5 carbon atoms, and more preferably 3 or 4. L b existing in the same molecule may be the same or different, but it is preferable that they are all the same.
k and p are preferably 1.
j is independently an integer of 2 to 6, and more preferably an integer of 2 to 4.
Lbは、直鎖アルキレン基であっても、分岐を有するアルキレン基であってもよい。
Lbの炭素原子数は、2~5であることが好ましく、3又は4であることが更に好ましい。同一分子内に存在するLbは、同じでも異なってもよいが、全て同じであることが好ましい。
k及びpは、1であることが好ましい。
jはそれぞれ独立に、2~6の整数であることが好ましく、2~4の整数であることがより好ましい。 R 5 is preferably a hydrogen atom. R 5 present in the same molecule may be the same or different, but it is preferable that they are all the same.
L b may be a linear alkylene group or a branched alkylene group.
L b preferably has 2 to 5 carbon atoms, and more preferably 3 or 4. L b existing in the same molecule may be the same or different, but it is preferable that they are all the same.
k and p are preferably 1.
j is independently an integer of 2 to 6, and more preferably an integer of 2 to 4.
式2で表される化合物の具体例を下記に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
Specific examples of the compound represented by Formula 2 are shown below, but the present invention is not limited thereto.
これら具体例の中でも、化合物2-a、2-b、2-c、2-d、2-e、又は、2-pがより好ましく、化合物2-a、又は、2-cが特に好ましい。
Among these specific examples, the compounds 2-a, 2-b, 2-c, 2-d, 2-e, and 2-p are more preferable, and the compounds 2-a and 2-c are particularly preferable.
続いて、式3で表される化合物について説明する。
Subsequently, the compound represented by Formula 3 will be described.
式3中、R7はそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、tはそれぞれ独立に、1~8の整数を表し、uは0~5の整数を表す。
In Formula 3, each R 7 independently represents a hydrogen atom or a methyl group, each t independently represents an integer of 1 to 8, and u represents an integer of 0 to 5.
R7は、水素原子であることが好ましい。同一分子内に存在するR7は同じであっても異なってもよいが、同じであることが好ましい。
tはそれぞれ独立に、1~5の整数であることが好ましく、2~4の整数であることがより好ましい。
CtH2tで表されるアルキレン基は、直鎖アルキレン基であっても、分岐を有するアルキレン基であってもよいが、直鎖アルキレン基であることが好ましい。
uは、0~3の整数であることが好ましく、0~2の整数であることがより好ましく、0又は1であることが特に好ましい。
式3で表される化合物は、下記式3-1及び式3-2のいずれかで表される化合物であることが好ましい。なお、式3-1及び式3-2におけるR7は、式3におけるR7と同義であり、好ましい態様も同様である。 R 7 is preferably a hydrogen atom. R 7 present in the same molecule may be the same or different, but is preferably the same.
Each t is independently preferably an integer of 1 to 5, more preferably an integer of 2 to 4.
The alkylene group represented by C t H 2t may be a linear alkylene group or a branched alkylene group, but is preferably a linear alkylene group.
u is preferably an integer of 0 to 3, more preferably an integer of 0 to 2, and particularly preferably 0 or 1.
The compound represented by the formula 3 is preferably a compound represented by any one of the following formulas 3-1 and 3-2. R 7 in formula 3-1 and formula 3-2 has the same meaning as R 7 in formula 3, and the preferred embodiments are also the same.
tはそれぞれ独立に、1~5の整数であることが好ましく、2~4の整数であることがより好ましい。
CtH2tで表されるアルキレン基は、直鎖アルキレン基であっても、分岐を有するアルキレン基であってもよいが、直鎖アルキレン基であることが好ましい。
uは、0~3の整数であることが好ましく、0~2の整数であることがより好ましく、0又は1であることが特に好ましい。
式3で表される化合物は、下記式3-1及び式3-2のいずれかで表される化合物であることが好ましい。なお、式3-1及び式3-2におけるR7は、式3におけるR7と同義であり、好ましい態様も同様である。 R 7 is preferably a hydrogen atom. R 7 present in the same molecule may be the same or different, but is preferably the same.
Each t is independently preferably an integer of 1 to 5, more preferably an integer of 2 to 4.
The alkylene group represented by C t H 2t may be a linear alkylene group or a branched alkylene group, but is preferably a linear alkylene group.
u is preferably an integer of 0 to 3, more preferably an integer of 0 to 2, and particularly preferably 0 or 1.
The compound represented by the formula 3 is preferably a compound represented by any one of the following formulas 3-1 and 3-2. R 7 in formula 3-1 and formula 3-2 has the same meaning as R 7 in formula 3, and the preferred embodiments are also the same.
式3で表される化合物の具体例を下記に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
Specific examples of the compound represented by Formula 3 are shown below, but the present invention is not limited thereto.
続いて、式4で表される化合物について説明する。
Subsequently, the compound represented by Formula 4 will be described.
式4中、Zbはポリオールのヒドロキシル基から水素原子をv個除いた残基を表し、vは3~6の整数を表し、R8はそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、Lcはそれぞれ独立に、炭素原子数1~8のアルキレン基を表す。
In Formula 4, Z b represents a residue obtained by removing v hydrogen atoms from the hydroxyl group of the polyol, v represents an integer of 3 to 6, R 8 independently represents a hydrogen atom or a methyl group, L Each c independently represents an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms.
Zbにおける上記ポリオールとしては、ヒドロキシル基を3~6個有する多価アルコールが好ましく、ヒドロキシル基を3~5個有する多価アルコールがより好ましく、ヒドロキシル基を3又は4個有する多価アルコールが更に好ましい。上記ポリオールの炭素原子数は、3~12であることが好ましく、3~10であることがより好ましく、3~6であることが特に好ましい。また、上記ポリオールは、2分子以上の多価アルコール化合物が分子間縮合(脱水)して形成される多価アルコール縮合体化合物であってもよい。
上記ポリオールの具体例としては、グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン、キシリトール、ソルビトール、エリスリトール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、マンニトール、及び、トリス(2-ヒドロキシエチル)イソシアヌレート等が挙げられる。中でも、グリセリン、エリスリトール、又は、ペンタエリスリトールが好ましい。
vは、3~5の整数であることが好ましく、3又は4であることがより好ましい。
R8は、水素原子であることが好ましい。複数のR8は同一であることが好ましい。
Lcは、直鎖アルキレン基であっても、分岐を有するアルキレン基であってもよい。
Lcは、炭素原子数2~5のアルキレン基であることが好ましく、炭素原子数3又は4のアルキレン基であることがより好ましい。複数のLcは同一であることが好ましい。 The polyol in Z b is preferably a polyhydric alcohol having 3 to 6 hydroxyl groups, more preferably a polyhydric alcohol having 3 to 5 hydroxyl groups, and further a polyhydric alcohol having 3 or 4 hydroxyl groups. preferable. The polyol has preferably 3 to 12 carbon atoms, more preferably 3 to 10 carbon atoms, and particularly preferably 3 to 6 carbon atoms. The polyol may be a polyhydric alcohol condensate compound formed by condensation (dehydration) of two or more polyhydric alcohol compounds.
Specific examples of the polyol include glycerin, trimethylolethane, trimethylolpropane, ditrimethylolpropane, xylitol, sorbitol, erythritol, pentaerythritol, dipentaerythritol, mannitol, and tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate. Can be mentioned. Among these, glycerin, erythritol, or pentaerythritol is preferable.
v is preferably an integer of 3 to 5, and more preferably 3 or 4.
R 8 is preferably a hydrogen atom. The plurality of R 8 are preferably the same.
L c may be a linear alkylene group or a branched alkylene group.
L c is preferably an alkylene group having 2 to 5 carbon atoms, and more preferably an alkylene group having 3 or 4 carbon atoms. The plurality of L c are preferably the same.
上記ポリオールの具体例としては、グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン、キシリトール、ソルビトール、エリスリトール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、マンニトール、及び、トリス(2-ヒドロキシエチル)イソシアヌレート等が挙げられる。中でも、グリセリン、エリスリトール、又は、ペンタエリスリトールが好ましい。
vは、3~5の整数であることが好ましく、3又は4であることがより好ましい。
R8は、水素原子であることが好ましい。複数のR8は同一であることが好ましい。
Lcは、直鎖アルキレン基であっても、分岐を有するアルキレン基であってもよい。
Lcは、炭素原子数2~5のアルキレン基であることが好ましく、炭素原子数3又は4のアルキレン基であることがより好ましい。複数のLcは同一であることが好ましい。 The polyol in Z b is preferably a polyhydric alcohol having 3 to 6 hydroxyl groups, more preferably a polyhydric alcohol having 3 to 5 hydroxyl groups, and further a polyhydric alcohol having 3 or 4 hydroxyl groups. preferable. The polyol has preferably 3 to 12 carbon atoms, more preferably 3 to 10 carbon atoms, and particularly preferably 3 to 6 carbon atoms. The polyol may be a polyhydric alcohol condensate compound formed by condensation (dehydration) of two or more polyhydric alcohol compounds.
Specific examples of the polyol include glycerin, trimethylolethane, trimethylolpropane, ditrimethylolpropane, xylitol, sorbitol, erythritol, pentaerythritol, dipentaerythritol, mannitol, and tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate. Can be mentioned. Among these, glycerin, erythritol, or pentaerythritol is preferable.
v is preferably an integer of 3 to 5, and more preferably 3 or 4.
R 8 is preferably a hydrogen atom. The plurality of R 8 are preferably the same.
L c may be a linear alkylene group or a branched alkylene group.
L c is preferably an alkylene group having 2 to 5 carbon atoms, and more preferably an alkylene group having 3 or 4 carbon atoms. The plurality of L c are preferably the same.
式4で表される化合物は、下記式4-1及び式4-2のいずれかで表される化合物であることが好ましい。なお、式4-1及び式4-2におけるR8は、式4におけるR8と同義であり、好ましい態様も同様である。
The compound represented by the formula 4 is preferably a compound represented by any one of the following formulas 4-1 and 4-2. R 8 in formula 4-1 and formula 4-2 has the same meaning as R 8 in formula 4, and the preferred embodiments are also the same.
式4で表される化合物の具体例を下記に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
Specific examples of the compound represented by Formula 4 are shown below, but the present invention is not limited thereto.
これら化合物の中でも、(メタ)アクリルアミド基を2つ以上有する化合物としては、式1及び式2のいずれかで表される化合物が好ましく、式1で表される化合物が特に好ましい。
Among these compounds, the compound having two or more (meth) acrylamide groups is preferably a compound represented by either Formula 1 or Formula 2, and a compound represented by Formula 1 is particularly preferred.
(メタ)アクリルアミド基を2つ以上有する化合物は、骨格当たりの(メタ)アクリルアミド基の割合が大きく密である多官能モノマーであり、高い重合能ないし硬化能を有する。
本発明の爪化粧料中、(メタ)アクリルアミド基を2つ以上有する化合物の含有量は、特に制限はないが、爪化粧料の全量に対し、質量基準で、0.5~99質量%であることが好ましく、1.0~95質量%であることがより好ましく、2.0~90質量%であることが更に好ましい。上記範囲であると、爪への密着力が向上し持続性がよくなる。 A compound having two or more (meth) acrylamide groups is a polyfunctional monomer having a large and dense ratio of (meth) acrylamide groups per skeleton, and has high polymerization ability or curing ability.
The content of the compound having two or more (meth) acrylamide groups in the nail cosmetic of the present invention is not particularly limited, but is 0.5 to 99% by mass based on the mass with respect to the total amount of the nail cosmetic. It is preferably from 1.0 to 95% by mass, more preferably from 2.0 to 90% by mass. Within the above range, the adhesion to the nail is improved and the sustainability is improved.
本発明の爪化粧料中、(メタ)アクリルアミド基を2つ以上有する化合物の含有量は、特に制限はないが、爪化粧料の全量に対し、質量基準で、0.5~99質量%であることが好ましく、1.0~95質量%であることがより好ましく、2.0~90質量%であることが更に好ましい。上記範囲であると、爪への密着力が向上し持続性がよくなる。 A compound having two or more (meth) acrylamide groups is a polyfunctional monomer having a large and dense ratio of (meth) acrylamide groups per skeleton, and has high polymerization ability or curing ability.
The content of the compound having two or more (meth) acrylamide groups in the nail cosmetic of the present invention is not particularly limited, but is 0.5 to 99% by mass based on the mass with respect to the total amount of the nail cosmetic. It is preferably from 1.0 to 95% by mass, more preferably from 2.0 to 90% by mass. Within the above range, the adhesion to the nail is improved and the sustainability is improved.
<光重合開始剤>
本発明の爪化粧料は、光重合開始剤を含有することが好ましく、光ラジカル重合開始剤を含有することがより好ましい。
光重合開始剤としては、公知の光重合開始剤であれば好適に使用することができる。以下に光重合開始剤の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
アセトフェノン化合物(例えば、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオフェノン、4’-イソプロピル-2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオフェノン、2-メチル-1-〔4-(メチルチオ)フェニル〕-2-モルホリノ-1-プロパン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルホリノフェニル)ブタン-1-オン、1-[4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル]-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オン、1-[4-(2-(2-ヒドロキシエトキシ)エトキシ)フェニル]-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等);
ベンゾフェノン化合物(例えば、4,4’-ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、3,3-ジメチル-4-メトキシ-ベンゾフェノン等);
アントラキノン化合物(例えば、アントラキノン、2-メチルアントラキノン、2-エチルアントラキノン、tert-ブチルアントラキノン等);
チオキサントン化合物(例えば、2-クロロチオキサントン、ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、ジイソプロピルチオキサントン等);
トリハロアルキル化合物(例えば、2,4,6-(トリクロロメチル)トリアジン、2,4-トリクロロメチル-6-(4-メトキシフェニル)トリアジン、トリブロモメチルフェニルスルホン等);
ロフィンダイマー化合物(例えば、2-(o-クロロフェニル)-4,5-ジフェニルイミダゾリル二量体);
アクリジン化合物(例えば、9-フェニルアクリジン、1,7-ビス(9-アクリジニル)ヘプタン、1,5-ビス(9-アクリジニル)ペンタン、1,3-ビス(9-アクリジニル)プロノパン);
ホスフィンオキシド化合物(例えば、トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド等);
メタロセン化合物(例えば、ビスシクロペンタジエニルビス(ジフルオロピリルフェニル)チタニウム等);
オニウム塩化合物(例えば、ビス(4-t-ブチルフェニル)ヨードニウムトシレート、トリフェニルスルホニウムトシレート等)。 <Photopolymerization initiator>
The nail cosmetic of the present invention preferably contains a photopolymerization initiator, and more preferably contains a photoradical polymerization initiator.
As a photoinitiator, if it is a well-known photoinitiator, it can be used conveniently. Although the specific example of a photoinitiator is shown below, this invention is not limited to these.
Acetophenone compounds (eg, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, 4'-isopropyl-2-hydroxy-2-methylpropiophenone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-1-propane, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one, 1- [4 -(2-hydroxyethoxy) phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 1- [4- (2- (2-hydroxyethoxy) ethoxy) phenyl] -2-hydroxy-2 -Methyl-1-propan-1-one, benzoin, benzoin methyl ether, etc.);
Benzophenone compounds (eg 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone, 3,3-dimethyl-4-methoxy-benzophenone, etc.);
Anthraquinone compounds (for example, anthraquinone, 2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, tert-butylanthraquinone, etc.);
A thioxanthone compound (for example, 2-chlorothioxanthone, diethylthioxanthone, isopropylthioxanthone, diisopropylthioxanthone, etc.);
Trihaloalkyl compounds (eg, 2,4,6- (trichloromethyl) triazine, 2,4-trichloromethyl-6- (4-methoxyphenyl) triazine, tribromomethylphenylsulfone, etc.);
Lophine dimer compounds (eg, 2- (o-chlorophenyl) -4,5-diphenylimidazolyl dimer);
Acridine compounds (eg, 9-phenylacridine, 1,7-bis (9-acridinyl) heptane, 1,5-bis (9-acridinyl) pentane, 1,3-bis (9-acridinyl) pronopane);
Phosphine oxide compounds (eg trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide);
Metallocene compounds (for example, biscyclopentadienylbis (difluoropyrylphenyl) titanium, etc.);
Onium salt compounds (for example, bis (4-tert-butylphenyl) iodonium tosylate, triphenylsulfonium tosylate, etc.).
本発明の爪化粧料は、光重合開始剤を含有することが好ましく、光ラジカル重合開始剤を含有することがより好ましい。
光重合開始剤としては、公知の光重合開始剤であれば好適に使用することができる。以下に光重合開始剤の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
アセトフェノン化合物(例えば、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオフェノン、4’-イソプロピル-2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオフェノン、2-メチル-1-〔4-(メチルチオ)フェニル〕-2-モルホリノ-1-プロパン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルホリノフェニル)ブタン-1-オン、1-[4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル]-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オン、1-[4-(2-(2-ヒドロキシエトキシ)エトキシ)フェニル]-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等);
ベンゾフェノン化合物(例えば、4,4’-ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、3,3-ジメチル-4-メトキシ-ベンゾフェノン等);
アントラキノン化合物(例えば、アントラキノン、2-メチルアントラキノン、2-エチルアントラキノン、tert-ブチルアントラキノン等);
チオキサントン化合物(例えば、2-クロロチオキサントン、ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、ジイソプロピルチオキサントン等);
トリハロアルキル化合物(例えば、2,4,6-(トリクロロメチル)トリアジン、2,4-トリクロロメチル-6-(4-メトキシフェニル)トリアジン、トリブロモメチルフェニルスルホン等);
ロフィンダイマー化合物(例えば、2-(o-クロロフェニル)-4,5-ジフェニルイミダゾリル二量体);
アクリジン化合物(例えば、9-フェニルアクリジン、1,7-ビス(9-アクリジニル)ヘプタン、1,5-ビス(9-アクリジニル)ペンタン、1,3-ビス(9-アクリジニル)プロノパン);
ホスフィンオキシド化合物(例えば、トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド等);
メタロセン化合物(例えば、ビスシクロペンタジエニルビス(ジフルオロピリルフェニル)チタニウム等);
オニウム塩化合物(例えば、ビス(4-t-ブチルフェニル)ヨードニウムトシレート、トリフェニルスルホニウムトシレート等)。 <Photopolymerization initiator>
The nail cosmetic of the present invention preferably contains a photopolymerization initiator, and more preferably contains a photoradical polymerization initiator.
As a photoinitiator, if it is a well-known photoinitiator, it can be used conveniently. Although the specific example of a photoinitiator is shown below, this invention is not limited to these.
Acetophenone compounds (eg, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, 4'-isopropyl-2-hydroxy-2-methylpropiophenone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-1-propane, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one, 1- [4 -(2-hydroxyethoxy) phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 1- [4- (2- (2-hydroxyethoxy) ethoxy) phenyl] -2-hydroxy-2 -Methyl-1-propan-1-one, benzoin, benzoin methyl ether, etc.);
Benzophenone compounds (eg 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone, 3,3-dimethyl-4-methoxy-benzophenone, etc.);
Anthraquinone compounds (for example, anthraquinone, 2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, tert-butylanthraquinone, etc.);
A thioxanthone compound (for example, 2-chlorothioxanthone, diethylthioxanthone, isopropylthioxanthone, diisopropylthioxanthone, etc.);
Trihaloalkyl compounds (eg, 2,4,6- (trichloromethyl) triazine, 2,4-trichloromethyl-6- (4-methoxyphenyl) triazine, tribromomethylphenylsulfone, etc.);
Lophine dimer compounds (eg, 2- (o-chlorophenyl) -4,5-diphenylimidazolyl dimer);
Acridine compounds (eg, 9-phenylacridine, 1,7-bis (9-acridinyl) heptane, 1,5-bis (9-acridinyl) pentane, 1,3-bis (9-acridinyl) pronopane);
Phosphine oxide compounds (eg trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide);
Metallocene compounds (for example, biscyclopentadienylbis (difluoropyrylphenyl) titanium, etc.);
Onium salt compounds (for example, bis (4-tert-butylphenyl) iodonium tosylate, triphenylsulfonium tosylate, etc.).
光重合開始剤としては、露光に使用する光源が発する光の波長に合わせて適宜選択することができるが、アセトフェノン化合物、ベンゾフェノン化合物、チオキサントン化合物、ホスフィンオキシド化合物、メタロセン化合物、及び、ロフィンダイマー化合物よりなる群から選ばれた少なくとも1種の化合物であることが好ましく、アセトフェノン化合物、ベンゾフェノン化合物、チオキサントン化合物、及び、ホスフィンオキシド化合物よりなる群から選ばれた少なくとも1種の化合物であることがより好ましい。
また、光重合開始剤としては、爪化粧料の組成に合わせて適宜選択することができる。具体的には、使用する光重合開始剤を、特定化合物、下記記載の特定化合物以外のエチレン性不飽和化合物、及び/又は、溶剤に溶解するように選択することが好ましい。 As the photopolymerization initiator, it can be appropriately selected according to the wavelength of light emitted from the light source used for exposure, but from acetophenone compounds, benzophenone compounds, thioxanthone compounds, phosphine oxide compounds, metallocene compounds, and lophine dimer compounds Preferably, the compound is at least one compound selected from the group consisting of: acetophenone compounds, benzophenone compounds, thioxanthone compounds, and at least one compound selected from the group consisting of phosphine oxide compounds.
Further, the photopolymerization initiator can be appropriately selected according to the composition of the nail cosmetic. Specifically, the photopolymerization initiator to be used is preferably selected so as to be dissolved in a specific compound, an ethylenically unsaturated compound other than the specific compound described below, and / or a solvent.
また、光重合開始剤としては、爪化粧料の組成に合わせて適宜選択することができる。具体的には、使用する光重合開始剤を、特定化合物、下記記載の特定化合物以外のエチレン性不飽和化合物、及び/又は、溶剤に溶解するように選択することが好ましい。 As the photopolymerization initiator, it can be appropriately selected according to the wavelength of light emitted from the light source used for exposure, but from acetophenone compounds, benzophenone compounds, thioxanthone compounds, phosphine oxide compounds, metallocene compounds, and lophine dimer compounds Preferably, the compound is at least one compound selected from the group consisting of: acetophenone compounds, benzophenone compounds, thioxanthone compounds, and at least one compound selected from the group consisting of phosphine oxide compounds.
Further, the photopolymerization initiator can be appropriately selected according to the composition of the nail cosmetic. Specifically, the photopolymerization initiator to be used is preferably selected so as to be dissolved in a specific compound, an ethylenically unsaturated compound other than the specific compound described below, and / or a solvent.
これら光重合開始剤は、1種類のみを使用してもよいし、2種以上を混合して使用してもよい。
本発明の爪化粧料における光重合開始剤の含有量は、爪化粧料の全質量に対し、0.1~20質量%が好ましく、0.5~15質量%がより好ましく、1~10質量%が特に好ましい。上記範囲であると、硬化物の密着性により優れる。 These photopolymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.
The content of the photopolymerization initiator in the nail cosmetic of the present invention is preferably 0.1 to 20% by mass, more preferably 0.5 to 15% by mass, and more preferably 1 to 10% by mass with respect to the total mass of the nail cosmetic. % Is particularly preferred. It is excellent in the adhesiveness of hardened | cured material as it is the said range.
本発明の爪化粧料における光重合開始剤の含有量は、爪化粧料の全質量に対し、0.1~20質量%が好ましく、0.5~15質量%がより好ましく、1~10質量%が特に好ましい。上記範囲であると、硬化物の密着性により優れる。 These photopolymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.
The content of the photopolymerization initiator in the nail cosmetic of the present invention is preferably 0.1 to 20% by mass, more preferably 0.5 to 15% by mass, and more preferably 1 to 10% by mass with respect to the total mass of the nail cosmetic. % Is particularly preferred. It is excellent in the adhesiveness of hardened | cured material as it is the said range.
<ポリマー及び/又はオリゴマー>
本発明の爪化粧料は、ポリマー及び/又はオリゴマーを含有することが好ましい。
本発明に用いられるポリマー及び/又はオリゴマーの重量平均分子量は、2,000以上300,000以下であることが好ましく、3,000以上200,000以下がより好ましく、4,000以上150,000以下であることが更に好ましく、5,000以上100,000以下であることが特に好ましい。上記範囲であると、得られる硬化物の密着性及び経時安定性に優れる。
なお、本発明においては、重量平均分子量が2,000以上5,000未満であるものをオリゴマーといい、重量平均分子量が5,000以上であるものをポリマーというものとする。
本発明におけるポリマー及びオリゴマーの重量平均分子量の測定方法は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法によりポリスチレン標準又はポリエチレンオキサイド標準で測定するものとする。 <Polymer and / or oligomer>
The nail cosmetic of the present invention preferably contains a polymer and / or an oligomer.
The weight average molecular weight of the polymer and / or oligomer used in the present invention is preferably 2,000 to 300,000, more preferably 3,000 to 200,000, and more preferably 4,000 to 150,000. More preferably, it is 5,000 or more and 100,000 or less. It is excellent in the adhesiveness and temporal stability of the hardened | cured material as it is the said range.
In the present invention, those having a weight average molecular weight of 2,000 or more and less than 5,000 are referred to as oligomers, and those having a weight average molecular weight of 5,000 or more are referred to as polymers.
In the present invention, the weight average molecular weight of the polymer and oligomer is measured by a gel permeation chromatography method using a polystyrene standard or a polyethylene oxide standard.
本発明の爪化粧料は、ポリマー及び/又はオリゴマーを含有することが好ましい。
本発明に用いられるポリマー及び/又はオリゴマーの重量平均分子量は、2,000以上300,000以下であることが好ましく、3,000以上200,000以下がより好ましく、4,000以上150,000以下であることが更に好ましく、5,000以上100,000以下であることが特に好ましい。上記範囲であると、得られる硬化物の密着性及び経時安定性に優れる。
なお、本発明においては、重量平均分子量が2,000以上5,000未満であるものをオリゴマーといい、重量平均分子量が5,000以上であるものをポリマーというものとする。
本発明におけるポリマー及びオリゴマーの重量平均分子量の測定方法は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法によりポリスチレン標準又はポリエチレンオキサイド標準で測定するものとする。 <Polymer and / or oligomer>
The nail cosmetic of the present invention preferably contains a polymer and / or an oligomer.
The weight average molecular weight of the polymer and / or oligomer used in the present invention is preferably 2,000 to 300,000, more preferably 3,000 to 200,000, and more preferably 4,000 to 150,000. More preferably, it is 5,000 or more and 100,000 or less. It is excellent in the adhesiveness and temporal stability of the hardened | cured material as it is the said range.
In the present invention, those having a weight average molecular weight of 2,000 or more and less than 5,000 are referred to as oligomers, and those having a weight average molecular weight of 5,000 or more are referred to as polymers.
In the present invention, the weight average molecular weight of the polymer and oligomer is measured by a gel permeation chromatography method using a polystyrene standard or a polyethylene oxide standard.
本発明に用いることができるポリマー及び/又はオリゴマーの構造については、特に制限はなく、任意の構造であればよい。例えば、鎖状構造、枝分かれ(分岐)構造、星型構造、架橋構造、網状構造などが挙げられる。
ポリマー及び/又はオリゴマーの種類については、特に制限はなく、公知のポリマー種(ポリ(メタ)アクリル酸エステル、ポリ(メタ)アクリル酸アミド、ポリウレタン、ポリエステル、ポリエーテル、ポリウレア、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリスチレン、ポリアルキレン、ポリビニル等)が使用できる。
上記ポリマー及び/又はオリゴマーは、ラジカル重合可能な、エチレン性不飽和基を有していることが好ましい。
上記ポリマー及び/又はオリゴマーは、以下の式C-1で表される構造を有するポリマー及び/又はオリゴマーであることが好ましく、式C-1で表される構造をポリマー主鎖中に有するポリマー及び/又はオリゴマーであることが特に好ましい。上記態様であると、密着性が特に優れる。 There is no restriction | limiting in particular about the structure of the polymer and / or oligomer which can be used for this invention, What is necessary is just an arbitrary structure. Examples thereof include a chain structure, a branched (branched) structure, a star structure, a crosslinked structure, and a network structure.
The type of polymer and / or oligomer is not particularly limited, and known polymer species (poly (meth) acrylic acid ester, poly (meth) acrylic acid amide, polyurethane, polyester, polyether, polyurea, polycarbonate, polyamide, polystyrene) , Polyalkylene, polyvinyl and the like).
The polymer and / or oligomer preferably has an ethylenically unsaturated group capable of radical polymerization.
The polymer and / or oligomer is preferably a polymer and / or oligomer having a structure represented by the following formula C-1, and a polymer having a structure represented by the formula C-1 in the polymer main chain and Particularly preferred is an oligomer. Adhesiveness is particularly excellent in the above embodiment.
ポリマー及び/又はオリゴマーの種類については、特に制限はなく、公知のポリマー種(ポリ(メタ)アクリル酸エステル、ポリ(メタ)アクリル酸アミド、ポリウレタン、ポリエステル、ポリエーテル、ポリウレア、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリスチレン、ポリアルキレン、ポリビニル等)が使用できる。
上記ポリマー及び/又はオリゴマーは、ラジカル重合可能な、エチレン性不飽和基を有していることが好ましい。
上記ポリマー及び/又はオリゴマーは、以下の式C-1で表される構造を有するポリマー及び/又はオリゴマーであることが好ましく、式C-1で表される構造をポリマー主鎖中に有するポリマー及び/又はオリゴマーであることが特に好ましい。上記態様であると、密着性が特に優れる。 There is no restriction | limiting in particular about the structure of the polymer and / or oligomer which can be used for this invention, What is necessary is just an arbitrary structure. Examples thereof include a chain structure, a branched (branched) structure, a star structure, a crosslinked structure, and a network structure.
The type of polymer and / or oligomer is not particularly limited, and known polymer species (poly (meth) acrylic acid ester, poly (meth) acrylic acid amide, polyurethane, polyester, polyether, polyurea, polycarbonate, polyamide, polystyrene) , Polyalkylene, polyvinyl and the like).
The polymer and / or oligomer preferably has an ethylenically unsaturated group capable of radical polymerization.
The polymer and / or oligomer is preferably a polymer and / or oligomer having a structure represented by the following formula C-1, and a polymer having a structure represented by the formula C-1 in the polymer main chain and Particularly preferred is an oligomer. Adhesiveness is particularly excellent in the above embodiment.
波線部分はそれぞれ独立に、他の構造との結合位置を表す。
The wavy line parts independently represent the coupling position with other structures.
本発明に用いられるポリマー及び/又はオリゴマーの具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるわけではない。
Specific examples of the polymer and / or oligomer used in the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.
表1における各ユニット欄に記載の数値は、各ユニットを形成する化合物由来のモノマー単位のモル比を表す。
表1に記載の各ユニットを形成する化合物の詳細を、以下に示す。
TDI:トリレンジイソシアネート
Diol-9:2,2-ビス(4-ヒドロキシシクロヘキシル)プロパン
Diol-5:ポリブチレングリコール(Mw:2,000)
HEMA:2-ヒドロキシエチルメタクリレート
HPMA:2-ヒドロキシプロピルメタクリレート
MDI:ビス(4-イソシアナトフェニル)メタン
HDI:ヘキサメチレンジイソシアネート
Diol-6:ポリプロピレングリコール(Mw:1,000)
Diol-10:グリセリンモノメタクリレート
MMA:メチルメタクリレート
BMA:n-ブチルメタクリレート
ADPA:アジピン酸ジクロリド
Diol-5’:1,4-ブタンジオール
ニトロセルロース:DHX40-70(稲畑産業(株)製)
Diamine-2:ポリプロピレングリコールジアミン(Mw:2,000) The numerical value described in each unit column in Table 1 represents the molar ratio of monomer units derived from the compounds forming each unit.
The detail of the compound which forms each unit of Table 1 is shown below.
TDI: Tolylene diisocyanate Diol-9: 2,2-bis (4-hydroxycyclohexyl) propane Diol-5: Polybutylene glycol (Mw: 2,000)
HEMA: 2-hydroxyethyl methacrylate HPMA: 2-hydroxypropyl methacrylate MDI: bis (4-isocyanatophenyl) methane HDI: hexamethylene diisocyanate Diol-6: polypropylene glycol (Mw: 1,000)
Diol-10: glycerin monomethacrylate MMA: methyl methacrylate BMA: n-butyl methacrylate ADPA: adipic acid dichloride Diol-5 ′: 1,4-butanediol nitrocellulose: DHX40-70 (manufactured by Inabata Sangyo Co., Ltd.)
Diamin-2: Polypropylene glycol diamine (Mw: 2,000)
表1に記載の各ユニットを形成する化合物の詳細を、以下に示す。
TDI:トリレンジイソシアネート
Diol-9:2,2-ビス(4-ヒドロキシシクロヘキシル)プロパン
Diol-5:ポリブチレングリコール(Mw:2,000)
HEMA:2-ヒドロキシエチルメタクリレート
HPMA:2-ヒドロキシプロピルメタクリレート
MDI:ビス(4-イソシアナトフェニル)メタン
HDI:ヘキサメチレンジイソシアネート
Diol-6:ポリプロピレングリコール(Mw:1,000)
Diol-10:グリセリンモノメタクリレート
MMA:メチルメタクリレート
BMA:n-ブチルメタクリレート
ADPA:アジピン酸ジクロリド
Diol-5’:1,4-ブタンジオール
ニトロセルロース:DHX40-70(稲畑産業(株)製)
Diamine-2:ポリプロピレングリコールジアミン(Mw:2,000) The numerical value described in each unit column in Table 1 represents the molar ratio of monomer units derived from the compounds forming each unit.
The detail of the compound which forms each unit of Table 1 is shown below.
TDI: Tolylene diisocyanate Diol-9: 2,2-bis (4-hydroxycyclohexyl) propane Diol-5: Polybutylene glycol (Mw: 2,000)
HEMA: 2-hydroxyethyl methacrylate HPMA: 2-hydroxypropyl methacrylate MDI: bis (4-isocyanatophenyl) methane HDI: hexamethylene diisocyanate Diol-6: polypropylene glycol (Mw: 1,000)
Diol-10: glycerin monomethacrylate MMA: methyl methacrylate BMA: n-butyl methacrylate ADPA: adipic acid dichloride Diol-5 ′: 1,4-butanediol nitrocellulose: DHX40-70 (manufactured by Inabata Sangyo Co., Ltd.)
Diamin-2: Polypropylene glycol diamine (Mw: 2,000)
本発明に用いられるポリマー及び/又はオリゴマーとしては、アミノ基を有するポリマー及び/又はオリゴマーであることも好ましい。
アミノ基としては、1級、2級、3級のいずれのアミノ基でも使用することができるが、ポリマー及び/又はオリゴマーの製造しやすさ、得られる硬化膜の密着性及び除去性、並びに、経時安定性の観点から、3級アミノ基であることが好ましい。
ポリマー及び/又はオリゴマーにおけるアミノ基、特に3級アミノ基の導入位置としては、側鎖、主鎖内部、主鎖末端のいずれでもよく、2種以上の位置に導入されていてもよい。
3級アミノ基としては、以下の式C-2又は式C-3で表される基であることが好ましい。 The polymer and / or oligomer used in the present invention is preferably a polymer and / or oligomer having an amino group.
As the amino group, any of primary, secondary, and tertiary amino groups can be used. However, ease of production of the polymer and / or oligomer, adhesion and removability of the resulting cured film, and From the viewpoint of stability over time, a tertiary amino group is preferable.
The introduction position of amino groups, particularly tertiary amino groups, in the polymer and / or oligomer may be any of the side chain, the inside of the main chain, and the end of the main chain, and may be introduced at two or more positions.
The tertiary amino group is preferably a group represented by the following formula C-2 or C-3.
アミノ基としては、1級、2級、3級のいずれのアミノ基でも使用することができるが、ポリマー及び/又はオリゴマーの製造しやすさ、得られる硬化膜の密着性及び除去性、並びに、経時安定性の観点から、3級アミノ基であることが好ましい。
ポリマー及び/又はオリゴマーにおけるアミノ基、特に3級アミノ基の導入位置としては、側鎖、主鎖内部、主鎖末端のいずれでもよく、2種以上の位置に導入されていてもよい。
3級アミノ基としては、以下の式C-2又は式C-3で表される基であることが好ましい。 The polymer and / or oligomer used in the present invention is preferably a polymer and / or oligomer having an amino group.
As the amino group, any of primary, secondary, and tertiary amino groups can be used. However, ease of production of the polymer and / or oligomer, adhesion and removability of the resulting cured film, and From the viewpoint of stability over time, a tertiary amino group is preferable.
The introduction position of amino groups, particularly tertiary amino groups, in the polymer and / or oligomer may be any of the side chain, the inside of the main chain, and the end of the main chain, and may be introduced at two or more positions.
The tertiary amino group is preferably a group represented by the following formula C-2 or C-3.
式C-2中、RC1及びRC2はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素原子数1~10のアルキル基を表し、LC1は二価の連結基を表し、RC1、RC2及びLC1よりなる群から選ばれた少なくとも2つが互いに連結して環を形成してもよく、波線部分は他の構造との結合位置を表す。
式C-3中、RC3は、水素原子又は炭素原子数1~10のアルキル基を表し、LC2及びLC3はそれぞれ独立に、二価の連結基を表し、RC3、LC2及びLC3よりなる群から選ばれた少なくとも2つが互いに連結して環を形成してもよく、波線部分はそれぞれ独立に、他の構造との結合位置を表す。 In formula C-2, R C1 and R C2 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, L C1 represents a divalent linking group, R C1 , R C2 and L C1 At least two members selected from the group consisting of these groups may be linked to each other to form a ring, and the wavy line portion represents a bonding position with another structure.
In Formula C-3, R C3 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, L C2 and L C3 each independently represent a divalent linking group, and R C3 , L C2 and L C3 At least two members selected from the group consisting of C3 may be connected to each other to form a ring, and each wavy line portion independently represents a bonding position with another structure.
式C-3中、RC3は、水素原子又は炭素原子数1~10のアルキル基を表し、LC2及びLC3はそれぞれ独立に、二価の連結基を表し、RC3、LC2及びLC3よりなる群から選ばれた少なくとも2つが互いに連結して環を形成してもよく、波線部分はそれぞれ独立に、他の構造との結合位置を表す。 In formula C-2, R C1 and R C2 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, L C1 represents a divalent linking group, R C1 , R C2 and L C1 At least two members selected from the group consisting of these groups may be linked to each other to form a ring, and the wavy line portion represents a bonding position with another structure.
In Formula C-3, R C3 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, L C2 and L C3 each independently represent a divalent linking group, and R C3 , L C2 and L C3 At least two members selected from the group consisting of C3 may be connected to each other to form a ring, and each wavy line portion independently represents a bonding position with another structure.
式C-2におけるRC1及びRC2はそれぞれ独立に、酸水溶液への溶解性と耐水性とのバランスの観点から、炭素原子数1~10のアルキル基であることが好ましく、炭素原子数1~6のアルキル基であることがより好ましく、炭素原子数1~4のアルキル基であることが更に好ましく、炭素原子数1又は2のアルキル基であることが特に好ましい。
式C-2におけるLC1としては、単結合、炭素原子数1~20のアルキレン基(置換基を有してもよく、一部の炭素原子がヘテロ原子で置き換えられてもよい。)、炭素原子数1~20のアリーレン基(置換基を有してもよく、一部の炭素原子がヘテロ原子で置き換えられてもよい。)が挙げられ、単結合、炭素原子数1~20のアルキレン基、炭素原子数2~20のオキシアルキレン基又は炭素原子数2~20のポリオキシアルキレン基であることが好ましく、炭素原子数1~20のアルキレン基又は炭素原子数2~20のポリオキシアルキレン基であることが更に好ましく、炭素原子数1~20のアルキレン基であることが特に好ましく、炭素原子数1~10のアルキレン基であることが最も好ましい。
式C-2において、RC1、RC2及びLC1よりなる群から選ばれた少なくとも2つは互いに連結して環を形成してもよい。 R C1 and R C2 in formula C-2 are each independently preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms from the viewpoint of the balance between solubility in an aqueous acid solution and water resistance, It is more preferably an alkyl group having ˜6, more preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and particularly preferably an alkyl group having 1 or 2 carbon atoms.
L C1 in formula C-2 is a single bond, an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms (which may have a substituent, and part of the carbon atoms may be replaced with a hetero atom), carbon And an arylene group having 1 to 20 atoms (which may have a substituent, and some carbon atoms may be replaced by a hetero atom), a single bond, and an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms. And preferably an oxyalkylene group having 2 to 20 carbon atoms or a polyoxyalkylene group having 2 to 20 carbon atoms, and an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms or a polyoxyalkylene group having 2 to 20 carbon atoms. Is more preferable, an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms is particularly preferable, and an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms is most preferable.
In the formula C-2, at least two selected from the group consisting of R C1 , R C2 and L C1 may be connected to each other to form a ring.
式C-2におけるLC1としては、単結合、炭素原子数1~20のアルキレン基(置換基を有してもよく、一部の炭素原子がヘテロ原子で置き換えられてもよい。)、炭素原子数1~20のアリーレン基(置換基を有してもよく、一部の炭素原子がヘテロ原子で置き換えられてもよい。)が挙げられ、単結合、炭素原子数1~20のアルキレン基、炭素原子数2~20のオキシアルキレン基又は炭素原子数2~20のポリオキシアルキレン基であることが好ましく、炭素原子数1~20のアルキレン基又は炭素原子数2~20のポリオキシアルキレン基であることが更に好ましく、炭素原子数1~20のアルキレン基であることが特に好ましく、炭素原子数1~10のアルキレン基であることが最も好ましい。
式C-2において、RC1、RC2及びLC1よりなる群から選ばれた少なくとも2つは互いに連結して環を形成してもよい。 R C1 and R C2 in formula C-2 are each independently preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms from the viewpoint of the balance between solubility in an aqueous acid solution and water resistance, It is more preferably an alkyl group having ˜6, more preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and particularly preferably an alkyl group having 1 or 2 carbon atoms.
L C1 in formula C-2 is a single bond, an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms (which may have a substituent, and part of the carbon atoms may be replaced with a hetero atom), carbon And an arylene group having 1 to 20 atoms (which may have a substituent, and some carbon atoms may be replaced by a hetero atom), a single bond, and an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms. And preferably an oxyalkylene group having 2 to 20 carbon atoms or a polyoxyalkylene group having 2 to 20 carbon atoms, and an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms or a polyoxyalkylene group having 2 to 20 carbon atoms. Is more preferable, an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms is particularly preferable, and an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms is most preferable.
In the formula C-2, at least two selected from the group consisting of R C1 , R C2 and L C1 may be connected to each other to form a ring.
式C-3におけるRC3は、酸水溶液への溶解性と耐水性とのバランスの観点から、炭素原子数1~10のアルキル基であることが好ましく、炭素原子数1~6のアルキル基であることがより好ましく、炭素原子数1~4のアルキル基であることが更に好ましい。
式C-3におけるLC2及びLC3としてはそれぞれ独立に、単結合、炭素原子数1~20のアルキレン基(置換基を有してもよく、一部の炭素原子がヘテロ原子で置き換えられてもよい。)、炭素原子数1~20のアリーレン基(置換基を有してもよく、一部の炭素原子がヘテロ原子で置き換えられてもよい。)が挙げられ、単結合、炭素原子数1~20のアルキレン基、炭素原子数2~20のオキシアルキレン基又は炭素原子数2~20のポリオキシアルキレン基であることが好ましく、炭素原子数1~20のアルキレン基又は炭素原子数2~20のポリオキシアルキレン基であることが更に好ましく、炭素原子数1~20のアルキレン基であることが特に好ましく、炭素原子数1~10のアルキレン基であることが最も好ましい。
式C-3において、RC3、LC2及びLC3よりなる群から選ばれた少なくとも2つは互いに連結して環を形成してもよい。 R C3 in formula C-3 is preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms from the viewpoint of the balance between solubility in an aqueous acid solution and water resistance, and is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. More preferably, it is more preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
L C2 and L C3 in Formula C-3 are each independently a single bond or an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms (which may have a substituent, and some of the carbon atoms are replaced with heteroatoms. And an arylene group having 1 to 20 carbon atoms (which may have a substituent, and some of the carbon atoms may be replaced by a hetero atom). An alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, an oxyalkylene group having 2 to 20 carbon atoms, or a polyoxyalkylene group having 2 to 20 carbon atoms is preferable, and an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms or 2 to 20 carbon atoms is preferable. More preferably, it is a 20 polyoxyalkylene group, particularly preferably an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, and most preferably an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms.
In the formula C-3, at least two selected from the group consisting of R C3 , L C2 and L C3 may be connected to each other to form a ring.
式C-3におけるLC2及びLC3としてはそれぞれ独立に、単結合、炭素原子数1~20のアルキレン基(置換基を有してもよく、一部の炭素原子がヘテロ原子で置き換えられてもよい。)、炭素原子数1~20のアリーレン基(置換基を有してもよく、一部の炭素原子がヘテロ原子で置き換えられてもよい。)が挙げられ、単結合、炭素原子数1~20のアルキレン基、炭素原子数2~20のオキシアルキレン基又は炭素原子数2~20のポリオキシアルキレン基であることが好ましく、炭素原子数1~20のアルキレン基又は炭素原子数2~20のポリオキシアルキレン基であることが更に好ましく、炭素原子数1~20のアルキレン基であることが特に好ましく、炭素原子数1~10のアルキレン基であることが最も好ましい。
式C-3において、RC3、LC2及びLC3よりなる群から選ばれた少なくとも2つは互いに連結して環を形成してもよい。 R C3 in formula C-3 is preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms from the viewpoint of the balance between solubility in an aqueous acid solution and water resistance, and is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. More preferably, it is more preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
L C2 and L C3 in Formula C-3 are each independently a single bond or an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms (which may have a substituent, and some of the carbon atoms are replaced with heteroatoms. And an arylene group having 1 to 20 carbon atoms (which may have a substituent, and some of the carbon atoms may be replaced by a hetero atom). An alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, an oxyalkylene group having 2 to 20 carbon atoms, or a polyoxyalkylene group having 2 to 20 carbon atoms is preferable, and an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms or 2 to 20 carbon atoms is preferable. More preferably, it is a 20 polyoxyalkylene group, particularly preferably an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, and most preferably an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms.
In the formula C-3, at least two selected from the group consisting of R C3 , L C2 and L C3 may be connected to each other to form a ring.
本発明に用いられるポリマー及び/又はオリゴマーのアミン価は、0.1~10mmol/gであることが好ましく、0.25~9mmol/gであることがより好ましく、0.5~8mmol/gであることが更に好ましい。上記範囲であると、密着性と除去性により優れる。
なお、アミン価の測定方法としては、例えば、試料をビーカーにはかりとり、酢酸を加え、撹拌して溶解させて、測定温度を25℃に調整後、滴定試薬として0.1N過塩素酸酢酸溶液を用いて、滴定装置で滴定することにより、求めることができる。アミン価は、滴定した際に消費される過塩素酸の量を、試料(固形分)1g当たりのモル数で表したものである。 The amine value of the polymer and / or oligomer used in the present invention is preferably 0.1 to 10 mmol / g, more preferably 0.25 to 9 mmol / g, and 0.5 to 8 mmol / g. More preferably it is. It is excellent in adhesiveness and removability as it is the said range.
As a method for measuring the amine value, for example, a sample is weighed in a beaker, acetic acid is added, and the mixture is stirred and dissolved. After adjusting the measurement temperature to 25 ° C., 0.1N perchloric acid acetic acid solution as a titration reagent And can be obtained by titrating with a titration apparatus. The amine value is the amount of perchloric acid consumed when titrated, expressed as the number of moles per gram of sample (solid content).
なお、アミン価の測定方法としては、例えば、試料をビーカーにはかりとり、酢酸を加え、撹拌して溶解させて、測定温度を25℃に調整後、滴定試薬として0.1N過塩素酸酢酸溶液を用いて、滴定装置で滴定することにより、求めることができる。アミン価は、滴定した際に消費される過塩素酸の量を、試料(固形分)1g当たりのモル数で表したものである。 The amine value of the polymer and / or oligomer used in the present invention is preferably 0.1 to 10 mmol / g, more preferably 0.25 to 9 mmol / g, and 0.5 to 8 mmol / g. More preferably it is. It is excellent in adhesiveness and removability as it is the said range.
As a method for measuring the amine value, for example, a sample is weighed in a beaker, acetic acid is added, and the mixture is stirred and dissolved. After adjusting the measurement temperature to 25 ° C., 0.1N perchloric acid acetic acid solution as a titration reagent And can be obtained by titrating with a titration apparatus. The amine value is the amount of perchloric acid consumed when titrated, expressed as the number of moles per gram of sample (solid content).
本発明に用いられるアミノ基を有するポリマー及び/又はオリゴマーの具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
Specific examples of the polymer and / or oligomer having an amino group used in the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.
表2における各ユニット欄に記載の数値は、各ユニットを形成する化合物由来のモノマー単位のモル比を表す。
表2に記載の各ユニットを形成する化合物の詳細を、以下に示す。
IPDI:イソホロンジイソシアネート
TDI:トリレンジイソシアネート
HDI:ヘキサメチレンジイソシアネート
MDI:ビス(4-イソシアナトフェニル)メタン
Diol-1:3-ジメチルアミノ-1,2-プロパンジオール
Diol-2:1,5-ペンタンジオールと1,6-ヘキサンジオールとからなるポリカーボネートジオール(Mw:2,000)
Diol-3:N-ブチルジエタノールアミン
Diol-4:1,5-ペンタンジオール
Diol-5:ポリブチレングリコール(Mw:2,000)
Diol-6:ポリプロピレングリコール(Mw:1,000)
Diol-7:3-ジエチルアミノ-1,2-プロパンジオール
Diol-8:1,4-ブタンジオール
Diamine-1:3,3-ジアミノ-N-メチルジプロピルアミン
Diamine-2:ポリプロピレングリコールジアミン(Mw:2,000)
ADPA:アジピン酸ジクロリド
DMAPAm:3-ジメチルアミノプロピルアクリルアミド
CHAm:N-シクロヘキシルアクリルアミド
DMAEM:2-ジメチルアミノエチルメタクリレート
BMA:n-ブチルメタクリレート
HEMA:2-ヒドロキシエチルメタクリレート
IPA:2-ヒドロキシプロパン
DMPA:3-ジメチルアミノプロピルアミン The numerical value described in each unit column in Table 2 represents the molar ratio of the monomer units derived from the compound forming each unit.
The detail of the compound which forms each unit of Table 2 is shown below.
IPDI: isophorone diisocyanate TDI: tolylene diisocyanate HDI: hexamethylene diisocyanate MDI: bis (4-isocyanatophenyl) methane Diol-1: 3-dimethylamino-1,2-propanediol Diol-2: 1,5-pentanediol And 1,6-hexanediol polycarbonate diol (Mw: 2,000)
Diol-3: N-butyldiethanolamine Diol-4: 1,5-pentanediol Diol-5: Polybutylene glycol (Mw: 2,000)
Diol-6: Polypropylene glycol (Mw: 1,000)
Diol-7: 3-diethylamino-1,2-propanediol Diol-8: 1,4-butanediol Diamin-1: 3,3-diamino-N-methyldipropylamine Diamine-2: polypropylene glycol diamine (Mw: 2,000)
ADPA: adipic acid dichloride DMAPAm: 3-dimethylaminopropyl acrylamide CHAm: N-cyclohexyl acrylamide DMAEM: 2-dimethylaminoethyl methacrylate BMA: n-butyl methacrylate HEMA: 2-hydroxyethyl methacrylate IPA: 2-hydroxypropane DMPA: 3- Dimethylaminopropylamine
表2に記載の各ユニットを形成する化合物の詳細を、以下に示す。
IPDI:イソホロンジイソシアネート
TDI:トリレンジイソシアネート
HDI:ヘキサメチレンジイソシアネート
MDI:ビス(4-イソシアナトフェニル)メタン
Diol-1:3-ジメチルアミノ-1,2-プロパンジオール
Diol-2:1,5-ペンタンジオールと1,6-ヘキサンジオールとからなるポリカーボネートジオール(Mw:2,000)
Diol-3:N-ブチルジエタノールアミン
Diol-4:1,5-ペンタンジオール
Diol-5:ポリブチレングリコール(Mw:2,000)
Diol-6:ポリプロピレングリコール(Mw:1,000)
Diol-7:3-ジエチルアミノ-1,2-プロパンジオール
Diol-8:1,4-ブタンジオール
Diamine-1:3,3-ジアミノ-N-メチルジプロピルアミン
Diamine-2:ポリプロピレングリコールジアミン(Mw:2,000)
ADPA:アジピン酸ジクロリド
DMAPAm:3-ジメチルアミノプロピルアクリルアミド
CHAm:N-シクロヘキシルアクリルアミド
DMAEM:2-ジメチルアミノエチルメタクリレート
BMA:n-ブチルメタクリレート
HEMA:2-ヒドロキシエチルメタクリレート
IPA:2-ヒドロキシプロパン
DMPA:3-ジメチルアミノプロピルアミン The numerical value described in each unit column in Table 2 represents the molar ratio of the monomer units derived from the compound forming each unit.
The detail of the compound which forms each unit of Table 2 is shown below.
IPDI: isophorone diisocyanate TDI: tolylene diisocyanate HDI: hexamethylene diisocyanate MDI: bis (4-isocyanatophenyl) methane Diol-1: 3-dimethylamino-1,2-propanediol Diol-2: 1,5-pentanediol And 1,6-hexanediol polycarbonate diol (Mw: 2,000)
Diol-3: N-butyldiethanolamine Diol-4: 1,5-pentanediol Diol-5: Polybutylene glycol (Mw: 2,000)
Diol-6: Polypropylene glycol (Mw: 1,000)
Diol-7: 3-diethylamino-1,2-propanediol Diol-8: 1,4-butanediol Diamin-1: 3,3-diamino-N-methyldipropylamine Diamine-2: polypropylene glycol diamine (Mw: 2,000)
ADPA: adipic acid dichloride DMAPAm: 3-dimethylaminopropyl acrylamide CHAm: N-cyclohexyl acrylamide DMAEM: 2-dimethylaminoethyl methacrylate BMA: n-butyl methacrylate HEMA: 2-hydroxyethyl methacrylate IPA: 2-hydroxypropane DMPA: 3- Dimethylaminopropylamine
本発明に用いられるポリマー及び/又はオリゴマーとしては、水溶性のポリマー及び/又はオリゴマーも好適に使用することができる。
水溶性のポリマー及び/又はオリゴマーとしては、蒸留水100gに対して0.1g以上溶解するポリマー及び/又はオリゴマーが好ましく、0.2g以上溶解するポリマー及び/又はオリゴマーがより好ましく、0.5g以上溶解するポリマー及び/又はオリゴマーが特に好ましい。上記範囲の水溶性を有することにより、水を使用した爪化粧料を製造することが容易になる。 As the polymer and / or oligomer used in the present invention, a water-soluble polymer and / or oligomer can also be suitably used.
The water-soluble polymer and / or oligomer is preferably a polymer and / or oligomer that dissolves by 0.1 g or more with respect to 100 g of distilled water, more preferably a polymer and / or oligomer that dissolves by 0.2 g or more, and 0.5 g or more. Soluble polymers and / or oligomers are particularly preferred. By having water solubility in the above range, it becomes easy to produce nail cosmetics using water.
水溶性のポリマー及び/又はオリゴマーとしては、蒸留水100gに対して0.1g以上溶解するポリマー及び/又はオリゴマーが好ましく、0.2g以上溶解するポリマー及び/又はオリゴマーがより好ましく、0.5g以上溶解するポリマー及び/又はオリゴマーが特に好ましい。上記範囲の水溶性を有することにより、水を使用した爪化粧料を製造することが容易になる。 As the polymer and / or oligomer used in the present invention, a water-soluble polymer and / or oligomer can also be suitably used.
The water-soluble polymer and / or oligomer is preferably a polymer and / or oligomer that dissolves by 0.1 g or more with respect to 100 g of distilled water, more preferably a polymer and / or oligomer that dissolves by 0.2 g or more, and 0.5 g or more. Soluble polymers and / or oligomers are particularly preferred. By having water solubility in the above range, it becomes easy to produce nail cosmetics using water.
本発明に用いられる水溶性のポリマー及び/又はオリゴマーとしては、カルボン酸(塩)基、スルホン酸(塩)基、リン酸(塩)基、ホスホン酸(塩)基、4級アンモニウム塩基、ヒドロキシル基、カルボン酸アミド基、及び、ポリエチレングリコール鎖よりなる群から選ばれる官能基を有するポリマー及び/又はオリゴマーであることが好ましい。
カルボン酸(塩)基、スルホン酸(塩)基、リン酸(塩)基、ホスホン酸(塩)基の対カチオンとしては、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属カチオン、カルシウム、マグネシウム等のアルカリ土類金属カチオン、アンモニウムカチオン、ホスホニウムカチオンが好ましく、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属カチオンが特に好ましい。
4級アンモニウム塩基のアンモニウム基のアルキル基としては、メチル基、エチル基が好ましい。また、対アニオンとしては、塩化物イオン、臭化物イオン等のハロゲン化物イオン、硫酸アニオン、硝酸アニオン、リン酸アニオン、スルホン酸アニオン、カルボン酸アニオン、炭酸アニオンが好ましく、ハロゲン化物イオン、スルホン酸アニオン、カルボン酸アニオンが特に好ましい。
カルボン酸アミド基の窒素上の置換基としては、炭素原子数8以下のアルキル基であることが好ましく、炭素原子数6以下のアルキル基であることが特に好ましい。
ポリエチレングリコール鎖の連結鎖長としては、2以上が好ましく、4以上が特に好ましい。 Examples of water-soluble polymers and / or oligomers used in the present invention include carboxylic acid (salt) groups, sulfonic acid (salt) groups, phosphoric acid (salt) groups, phosphonic acid (salt) groups, quaternary ammonium bases, hydroxyl groups. A polymer and / or oligomer having a functional group selected from the group consisting of a group, a carboxylic acid amide group, and a polyethylene glycol chain is preferred.
The counter cation of the carboxylic acid (salt) group, sulfonic acid (salt) group, phosphoric acid (salt) group, phosphonic acid (salt) group is an alkali metal cation such as sodium or potassium, or an alkaline earth such as calcium or magnesium. Metal cations, ammonium cations and phosphonium cations are preferred, and alkali metal cations such as sodium and potassium are particularly preferred.
The alkyl group of the ammonium group of the quaternary ammonium base is preferably a methyl group or an ethyl group. The counter anion is preferably a halide ion such as chloride ion or bromide ion, sulfate anion, nitrate anion, phosphate anion, sulfonate anion, carboxylate anion, carbonate anion, halide ion, sulfonate anion, Carboxylic acid anions are particularly preferred.
The substituent on the nitrogen of the carboxylic acid amide group is preferably an alkyl group having 8 or less carbon atoms, and particularly preferably an alkyl group having 6 or less carbon atoms.
The connecting chain length of the polyethylene glycol chain is preferably 2 or more, and particularly preferably 4 or more.
カルボン酸(塩)基、スルホン酸(塩)基、リン酸(塩)基、ホスホン酸(塩)基の対カチオンとしては、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属カチオン、カルシウム、マグネシウム等のアルカリ土類金属カチオン、アンモニウムカチオン、ホスホニウムカチオンが好ましく、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属カチオンが特に好ましい。
4級アンモニウム塩基のアンモニウム基のアルキル基としては、メチル基、エチル基が好ましい。また、対アニオンとしては、塩化物イオン、臭化物イオン等のハロゲン化物イオン、硫酸アニオン、硝酸アニオン、リン酸アニオン、スルホン酸アニオン、カルボン酸アニオン、炭酸アニオンが好ましく、ハロゲン化物イオン、スルホン酸アニオン、カルボン酸アニオンが特に好ましい。
カルボン酸アミド基の窒素上の置換基としては、炭素原子数8以下のアルキル基であることが好ましく、炭素原子数6以下のアルキル基であることが特に好ましい。
ポリエチレングリコール鎖の連結鎖長としては、2以上が好ましく、4以上が特に好ましい。 Examples of water-soluble polymers and / or oligomers used in the present invention include carboxylic acid (salt) groups, sulfonic acid (salt) groups, phosphoric acid (salt) groups, phosphonic acid (salt) groups, quaternary ammonium bases, hydroxyl groups. A polymer and / or oligomer having a functional group selected from the group consisting of a group, a carboxylic acid amide group, and a polyethylene glycol chain is preferred.
The counter cation of the carboxylic acid (salt) group, sulfonic acid (salt) group, phosphoric acid (salt) group, phosphonic acid (salt) group is an alkali metal cation such as sodium or potassium, or an alkaline earth such as calcium or magnesium. Metal cations, ammonium cations and phosphonium cations are preferred, and alkali metal cations such as sodium and potassium are particularly preferred.
The alkyl group of the ammonium group of the quaternary ammonium base is preferably a methyl group or an ethyl group. The counter anion is preferably a halide ion such as chloride ion or bromide ion, sulfate anion, nitrate anion, phosphate anion, sulfonate anion, carboxylate anion, carbonate anion, halide ion, sulfonate anion, Carboxylic acid anions are particularly preferred.
The substituent on the nitrogen of the carboxylic acid amide group is preferably an alkyl group having 8 or less carbon atoms, and particularly preferably an alkyl group having 6 or less carbon atoms.
The connecting chain length of the polyethylene glycol chain is preferably 2 or more, and particularly preferably 4 or more.
本発明に用いられる水溶性のポリマー及び/又はオリゴマーの具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
Specific examples of the water-soluble polymer and / or oligomer used in the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.
表3における各ユニット欄に記載の数値は、各ユニットを形成する化合物由来のモノマー単位のモル比を表す。
表3に記載の各ユニットを形成する化合物の詳細を、以下に示す。
MDI:ビス(4-イソシアナトフェニル)メタン
Diol-6:ポリプロピレングリコール(Mw:1,000)
Diol-11:2,2-ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸ナトリウム
Diol-10:グリセリンモノメタクリレート
TDI:トリレンジイソシアネート
Diol-12:ポリエチレングリコール(Mw:2,000)
Diol-9:2,2-ビス(4-ヒドロキシシクロヘキシル)プロパン
HEMA:2-ヒドロキシエチルメタクリレート The numerical value described in each unit column in Table 3 represents the molar ratio of the monomer units derived from the compounds forming each unit.
The detail of the compound which forms each unit of Table 3 is shown below.
MDI: Bis (4-isocyanatophenyl) methane Diol-6: Polypropylene glycol (Mw: 1,000)
Diol-11: 2,2-bis (hydroxymethyl) propionate sodium Diol-10: glycerol monomethacrylate TDI: tolylene diisocyanate Diol-12: polyethylene glycol (Mw: 2,000)
Diol-9: 2,2-bis (4-hydroxycyclohexyl) propane HEMA: 2-hydroxyethyl methacrylate
表3に記載の各ユニットを形成する化合物の詳細を、以下に示す。
MDI:ビス(4-イソシアナトフェニル)メタン
Diol-6:ポリプロピレングリコール(Mw:1,000)
Diol-11:2,2-ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸ナトリウム
Diol-10:グリセリンモノメタクリレート
TDI:トリレンジイソシアネート
Diol-12:ポリエチレングリコール(Mw:2,000)
Diol-9:2,2-ビス(4-ヒドロキシシクロヘキシル)プロパン
HEMA:2-ヒドロキシエチルメタクリレート The numerical value described in each unit column in Table 3 represents the molar ratio of the monomer units derived from the compounds forming each unit.
The detail of the compound which forms each unit of Table 3 is shown below.
MDI: Bis (4-isocyanatophenyl) methane Diol-6: Polypropylene glycol (Mw: 1,000)
Diol-11: 2,2-bis (hydroxymethyl) propionate sodium Diol-10: glycerol monomethacrylate TDI: tolylene diisocyanate Diol-12: polyethylene glycol (Mw: 2,000)
Diol-9: 2,2-bis (4-hydroxycyclohexyl) propane HEMA: 2-hydroxyethyl methacrylate
なお、式C’で表されるポリマーにおける括弧の右下の数字は、モル比を表す。
The number on the lower right of the parenthesis in the polymer represented by the formula C ′ represents the molar ratio.
本発明に用いられるポリマー及び/又はオリゴマーは、公知の方法(例:ラジカル重合、重縮合等)により製造することができる。
これらポリマー及び/又はオリゴマーは、1種類のみを使用してもよいし、2種以上を混合して使用してもよい。
本発明に用いられる爪化粧料におけるポリマー及び/又はオリゴマーの含有量は、爪化粧料の全質量に対し、0質量%を超え90質量%が好ましく、5~80質量%がより好ましく、10~70質量%が更に好ましい。上記範囲であると、硬化物の密着性及び除去性により優れる。 The polymer and / or oligomer used in the present invention can be produced by a known method (eg, radical polymerization, polycondensation, etc.).
These polymers and / or oligomers may be used alone or in combination of two or more.
The content of the polymer and / or oligomer in the nail cosmetic used in the present invention is more than 0% by mass, preferably 90% by mass, more preferably 5 to 80% by mass with respect to the total mass of the nail cosmetic. 70 mass% is still more preferable. It is excellent in the adhesiveness and removal property of hardened | cured material as it is the said range.
これらポリマー及び/又はオリゴマーは、1種類のみを使用してもよいし、2種以上を混合して使用してもよい。
本発明に用いられる爪化粧料におけるポリマー及び/又はオリゴマーの含有量は、爪化粧料の全質量に対し、0質量%を超え90質量%が好ましく、5~80質量%がより好ましく、10~70質量%が更に好ましい。上記範囲であると、硬化物の密着性及び除去性により優れる。 The polymer and / or oligomer used in the present invention can be produced by a known method (eg, radical polymerization, polycondensation, etc.).
These polymers and / or oligomers may be used alone or in combination of two or more.
The content of the polymer and / or oligomer in the nail cosmetic used in the present invention is more than 0% by mass, preferably 90% by mass, more preferably 5 to 80% by mass with respect to the total mass of the nail cosmetic. 70 mass% is still more preferable. It is excellent in the adhesiveness and removal property of hardened | cured material as it is the said range.
<(メタ)アクリルアミド基を2つ以上有する化合物以外のエチレン性不飽和化合物>
本発明に用いられる(メタ)アクリルアミド基を2つ以上有する化合物以外のエチレン性不飽和化合物(以下、単に「その他のエチレン性不飽和化合物」)としては、(メタ)アクリルアミド基を2つ以上有する化合物以外であり、かつラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも1つ有する化合物であればいずれも好適に使用することができるが、分子量2,000以下のエチレン性不飽和化合物が好ましく、また、常温・常圧において液体であるエチレン性不飽和化合物が好ましい。
その他のエチレン性不飽和化合物としては、単官能エチレン性不飽和化合物及び/又は2~6官能エチレン性不飽和化合物であることが好ましく、単官能エチレン性不飽和化合物及び/又は2官能エチレン性不飽和化合物であることがより好ましく、単官能エチレン性不飽和化合物であることが更に好ましい。
本発明に用いられるその他のエチレン性不飽和化合物としては、アミノ基を有するエチレン性不飽和化合物が挙げられる。
上記アミノ基としては、1級、2級、3級のいずれのアミノ基でも使用することができるが、ラジカル重合性モノマーの経時安定性、並びに、得られる硬化膜の密着性及び除去性の観点から、3級アミノ基であることが好ましい。
3級アミノ基としては、上記式C-2又は式C-3で表される基であることが好ましい。
その他のエチレン性不飽和化合物としては、アミノ基及び上記式C-1で表される構造を有するエチレン性不飽和化合物であることが好ましい。上記態様であると、密着性と水性溶液での除去性が特に優れる。 <An ethylenically unsaturated compound other than a compound having two or more (meth) acrylamide groups>
The ethylenically unsaturated compound other than the compound having two or more (meth) acrylamide groups used in the present invention (hereinafter simply referred to as “other ethylenically unsaturated compound”) has two or more (meth) acrylamide groups. Any compound that is not a compound and has at least one ethylenically unsaturated bond capable of radical polymerization can be suitably used, but an ethylenically unsaturated compound having a molecular weight of 2,000 or less is preferred, An ethylenically unsaturated compound that is liquid at normal temperature and pressure is preferred.
The other ethylenically unsaturated compound is preferably a monofunctional ethylenically unsaturated compound and / or a bifunctional to hexafunctional ethylenically unsaturated compound, and is preferably a monofunctional ethylenically unsaturated compound and / or a bifunctional ethylenically unsaturated compound. It is more preferably a saturated compound, and even more preferably a monofunctional ethylenically unsaturated compound.
Examples of other ethylenically unsaturated compounds used in the present invention include ethylenically unsaturated compounds having an amino group.
As the amino group, any of primary, secondary, and tertiary amino groups can be used. From the viewpoint of the temporal stability of the radical polymerizable monomer and the adhesion and removability of the resulting cured film. Therefore, a tertiary amino group is preferable.
The tertiary amino group is preferably a group represented by the above formula C-2 or C-3.
The other ethylenically unsaturated compound is preferably an ethylenically unsaturated compound having an amino group and a structure represented by the formula C-1. In the above embodiment, adhesion and removability with an aqueous solution are particularly excellent.
本発明に用いられる(メタ)アクリルアミド基を2つ以上有する化合物以外のエチレン性不飽和化合物(以下、単に「その他のエチレン性不飽和化合物」)としては、(メタ)アクリルアミド基を2つ以上有する化合物以外であり、かつラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも1つ有する化合物であればいずれも好適に使用することができるが、分子量2,000以下のエチレン性不飽和化合物が好ましく、また、常温・常圧において液体であるエチレン性不飽和化合物が好ましい。
その他のエチレン性不飽和化合物としては、単官能エチレン性不飽和化合物及び/又は2~6官能エチレン性不飽和化合物であることが好ましく、単官能エチレン性不飽和化合物及び/又は2官能エチレン性不飽和化合物であることがより好ましく、単官能エチレン性不飽和化合物であることが更に好ましい。
本発明に用いられるその他のエチレン性不飽和化合物としては、アミノ基を有するエチレン性不飽和化合物が挙げられる。
上記アミノ基としては、1級、2級、3級のいずれのアミノ基でも使用することができるが、ラジカル重合性モノマーの経時安定性、並びに、得られる硬化膜の密着性及び除去性の観点から、3級アミノ基であることが好ましい。
3級アミノ基としては、上記式C-2又は式C-3で表される基であることが好ましい。
その他のエチレン性不飽和化合物としては、アミノ基及び上記式C-1で表される構造を有するエチレン性不飽和化合物であることが好ましい。上記態様であると、密着性と水性溶液での除去性が特に優れる。 <An ethylenically unsaturated compound other than a compound having two or more (meth) acrylamide groups>
The ethylenically unsaturated compound other than the compound having two or more (meth) acrylamide groups used in the present invention (hereinafter simply referred to as “other ethylenically unsaturated compound”) has two or more (meth) acrylamide groups. Any compound that is not a compound and has at least one ethylenically unsaturated bond capable of radical polymerization can be suitably used, but an ethylenically unsaturated compound having a molecular weight of 2,000 or less is preferred, An ethylenically unsaturated compound that is liquid at normal temperature and pressure is preferred.
The other ethylenically unsaturated compound is preferably a monofunctional ethylenically unsaturated compound and / or a bifunctional to hexafunctional ethylenically unsaturated compound, and is preferably a monofunctional ethylenically unsaturated compound and / or a bifunctional ethylenically unsaturated compound. It is more preferably a saturated compound, and even more preferably a monofunctional ethylenically unsaturated compound.
Examples of other ethylenically unsaturated compounds used in the present invention include ethylenically unsaturated compounds having an amino group.
As the amino group, any of primary, secondary, and tertiary amino groups can be used. From the viewpoint of the temporal stability of the radical polymerizable monomer and the adhesion and removability of the resulting cured film. Therefore, a tertiary amino group is preferable.
The tertiary amino group is preferably a group represented by the above formula C-2 or C-3.
The other ethylenically unsaturated compound is preferably an ethylenically unsaturated compound having an amino group and a structure represented by the formula C-1. In the above embodiment, adhesion and removability with an aqueous solution are particularly excellent.
本発明に用いられるアミノ基を有するエチレン性不飽和化合物の具体例としては、2-ジメチルアミノエチルメタクリレート、3-ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、2-ジエチルアミノエチルメタクリレート、4-ジメチルアミノメチルスチレン、N-ブチルビス(2-メタクリロイルオキシエチル)アミン、1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジンメタクリレート等が挙げられる。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。
Specific examples of the ethylenically unsaturated compound having an amino group used in the present invention include 2-dimethylaminoethyl methacrylate, 3-dimethylaminopropyl acrylamide, 2-diethylaminoethyl methacrylate, 4-dimethylaminomethylstyrene, N-butylbis. (2-methacryloyloxyethyl) amine, 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidine methacrylate and the like. However, the present invention is not limited to these.
また、本発明に用いられるその他のエチレン性不飽和化合物としては、アミノ基を有しないエチレン性不飽和化合物が挙げられる。
アミノ基を有しないエチレン性不飽和化合物の具体例としては、(メタ)アクリル酸;メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、グリセリンモノメタクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート等の単官能(メタ)アクリル酸エステル類;2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド、N,N-ジメチルアクリルアミド、N,N-ジエチルアクリルアミド、イソプロピルアクリルアミド、モルホリンアクリルアミド、等の単官能(メタ)アクリル酸アミド類;N-ビニルピロリドン、N-ビニルカプロラクタム等のN-ビニルアミド類;スチレン、4-アセトキシスチレン、4-カルボキシスチレン等のスチレン類;エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、カルドエポキシジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、等の多官能(メタ)アクリル酸エステル類;ジイソシアネートとヒドロキシル基含有(メタ)アクリル酸誘導体と任意にジオール類とからなるウレタン(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Moreover, as another ethylenically unsaturated compound used for this invention, the ethylenically unsaturated compound which does not have an amino group is mentioned.
Specific examples of the ethylenically unsaturated compound having no amino group include (meth) acrylic acid; methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate. Monofunctional (meth) acrylic acid esters such as 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, glycerin monomethacrylate, isobornyl (meth) acrylate; 2-hydroxyethyl (meth) acrylamide, N, N-dimethylacrylamide, N, N Monofunctional (meth) acrylic amides such as diethyl acrylamide, isopropyl acrylamide, morpholine acrylamide, etc .; N-vinyl amides such as N-vinyl pyrrolidone, N-vinyl caprolactam; styrene, 4-acetoxystyrene, -Styrenes such as carboxystyrene; ethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate , Pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, cardoepoxy di Polyfunctional (meth) acrylic esters such as (meth) acrylate and neopentyl glycol di (meth) acrylate; including diisocyanate and hydroxyl group (Meth) urethane (meth) acrylate consisting of acrylic acid derivatives and optionally diols.
アミノ基を有しないエチレン性不飽和化合物の具体例としては、(メタ)アクリル酸;メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、グリセリンモノメタクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート等の単官能(メタ)アクリル酸エステル類;2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド、N,N-ジメチルアクリルアミド、N,N-ジエチルアクリルアミド、イソプロピルアクリルアミド、モルホリンアクリルアミド、等の単官能(メタ)アクリル酸アミド類;N-ビニルピロリドン、N-ビニルカプロラクタム等のN-ビニルアミド類;スチレン、4-アセトキシスチレン、4-カルボキシスチレン等のスチレン類;エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、カルドエポキシジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、等の多官能(メタ)アクリル酸エステル類;ジイソシアネートとヒドロキシル基含有(メタ)アクリル酸誘導体と任意にジオール類とからなるウレタン(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Moreover, as another ethylenically unsaturated compound used for this invention, the ethylenically unsaturated compound which does not have an amino group is mentioned.
Specific examples of the ethylenically unsaturated compound having no amino group include (meth) acrylic acid; methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate. Monofunctional (meth) acrylic acid esters such as 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, glycerin monomethacrylate, isobornyl (meth) acrylate; 2-hydroxyethyl (meth) acrylamide, N, N-dimethylacrylamide, N, N Monofunctional (meth) acrylic amides such as diethyl acrylamide, isopropyl acrylamide, morpholine acrylamide, etc .; N-vinyl amides such as N-vinyl pyrrolidone, N-vinyl caprolactam; styrene, 4-acetoxystyrene, -Styrenes such as carboxystyrene; ethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate , Pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, cardoepoxy di Polyfunctional (meth) acrylic esters such as (meth) acrylate and neopentyl glycol di (meth) acrylate; including diisocyanate and hydroxyl group (Meth) urethane (meth) acrylate consisting of acrylic acid derivatives and optionally diols.
その他のエチレン性不飽和化合物の中でも、(メタ)アクリル酸、N,N-ジメチルアクリルアミド、N,N-ジエチルアクリルアミド、モルホリンアクリルアミド、N-2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド、N-ビニルピロリドン、N-ビニルカプロラクタム、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、3-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、グリセリンモノメタクリレートが好ましく、(メタ)アクリル酸、N,N-ジメチルアクリルアミド、N-2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、グリセリンモノメタクリレートが特に好ましい。上記化合物を使用することにより、特定化合物がよく溶解するために爪化粧料の製造が容易になる。
Among other ethylenically unsaturated compounds, (meth) acrylic acid, N, N-dimethylacrylamide, N, N-diethylacrylamide, morpholine acrylamide, N-2-hydroxyethyl (meth) acrylamide, N-vinylpyrrolidone, N -Vinylcaprolactam, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, glycerin monomethacrylate are preferred, (meth) acrylic acid, N, N-dimethylacrylamide, N-2-hydroxyethyl (meth) acrylamide, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, and glycerin monomethacrylate are particularly preferred. The use of the above compound facilitates the production of nail cosmetics because the specific compound dissolves well.
その他のエチレン性不飽和化合物は、1種類のみを使用してもよいし、2種以上を混合して使用してもよい。
本発明の爪化粧料におけるその他のエチレン性不飽和化合物の含有量は、爪化粧料の全質量に対し、0質量%を超え90質量%が好ましく、5~80質量%がより好ましく、10~70質量%が更に好ましい。
また、(メタ)アクリルアミド基を2つ以上有する化合物とその他のエチレン性不飽和化合物との混合比率は、その他のエチレン性不飽和化合物100質量部に対して、(メタ)アクリルアミド基を2つ以上有する化合物が5~200質量部であることが好ましく、7~150質量部であることがより好ましく、10~100質量部であることが更に好ましい。上記範囲であると、硬化物の密着性及び除去性により優れ、また、爪化粧料の製造が容易になる。 Other ethylenically unsaturated compounds may be used alone or in combination of two or more.
The content of the other ethylenically unsaturated compound in the nail cosmetic of the present invention is preferably more than 0% by mass and more than 90% by mass, more preferably 5 to 80% by mass with respect to the total mass of the nail cosmetic. 70 mass% is still more preferable.
Moreover, the mixing ratio of the compound having two or more (meth) acrylamide groups and the other ethylenically unsaturated compound is two or more (meth) acrylamide groups with respect to 100 parts by mass of the other ethylenically unsaturated compound. The amount of the compound is preferably 5 to 200 parts by mass, more preferably 7 to 150 parts by mass, and still more preferably 10 to 100 parts by mass. Within the above range, the cured product is more excellent in adhesion and removability, and the production of nail cosmetics is facilitated.
本発明の爪化粧料におけるその他のエチレン性不飽和化合物の含有量は、爪化粧料の全質量に対し、0質量%を超え90質量%が好ましく、5~80質量%がより好ましく、10~70質量%が更に好ましい。
また、(メタ)アクリルアミド基を2つ以上有する化合物とその他のエチレン性不飽和化合物との混合比率は、その他のエチレン性不飽和化合物100質量部に対して、(メタ)アクリルアミド基を2つ以上有する化合物が5~200質量部であることが好ましく、7~150質量部であることがより好ましく、10~100質量部であることが更に好ましい。上記範囲であると、硬化物の密着性及び除去性により優れ、また、爪化粧料の製造が容易になる。 Other ethylenically unsaturated compounds may be used alone or in combination of two or more.
The content of the other ethylenically unsaturated compound in the nail cosmetic of the present invention is preferably more than 0% by mass and more than 90% by mass, more preferably 5 to 80% by mass with respect to the total mass of the nail cosmetic. 70 mass% is still more preferable.
Moreover, the mixing ratio of the compound having two or more (meth) acrylamide groups and the other ethylenically unsaturated compound is two or more (meth) acrylamide groups with respect to 100 parts by mass of the other ethylenically unsaturated compound. The amount of the compound is preferably 5 to 200 parts by mass, more preferably 7 to 150 parts by mass, and still more preferably 10 to 100 parts by mass. Within the above range, the cured product is more excellent in adhesion and removability, and the production of nail cosmetics is facilitated.
<溶剤>
本発明の爪化粧料においては、(メタ)アクリルアミド基を2つ以上有する化合物を溶解させる又は爪化粧料の塗りやすさを調整するために、溶剤を含有してもよい。
溶剤としては、1気圧(1,013.25hPa)における沸点が50~150℃である溶剤が好ましく、1気圧における沸点が60~140℃である溶剤がより好ましい。上記範囲の沸点を有する溶剤を使用することにより、爪化粧料の濃度変動が抑制でき、塗布後の乾燥が良好になる。
溶剤としては、水、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、1-プロパノール、1-ブタノール、2-ブタノール、t-ブチルアルコール、2-メチル-1-プロパノール、1-メトキシ-2-プロピルアルコール等のアルコール類、ヘキサン、ヘプタン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジフェニルエーテル等のエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、γ-ブチロラクトン等のエステル類、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン、N-エチルピロリドン等のアミド類、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート類、テトラメチルウレア、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン等のウレア類、クロロホルム、ジクロロメタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、トリエチルアミン、酢酸、アセトニトリル、ニトロメタン、ジメチルスルホキシド等の公知の溶剤が挙げられる。
これら溶剤の中でも、水、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、1-プロパノール、1-ブタノール、2-ブタノール、t-ブチルアルコール、2-メチル-1-プロパノール、1-メトキシ-2-プロピルアルコール、酢酸、及び/又は、アセトニトリルが好ましく、水、エタノール、イソプロピルアルコール、及び/又は、酢酸がより好ましい。上記溶剤を使用することにより、(メタ)アクリルアミド基を2つ以上有する化合物が溶解し易くなり、爪化粧料の製造が容易になる。 <Solvent>
The nail cosmetic of the present invention may contain a solvent in order to dissolve a compound having two or more (meth) acrylamide groups or to adjust the ease of application of the nail cosmetic.
As the solvent, a solvent having a boiling point of 50 to 150 ° C. at 1 atm (1,013.25 hPa) is preferable, and a solvent having a boiling point of 60 to 140 ° C. at 1 atm is more preferable. By using a solvent having a boiling point in the above range, the concentration variation of the nail cosmetic can be suppressed, and drying after application becomes good.
Solvents include alcohols such as water, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, 1-propanol, 1-butanol, 2-butanol, t-butyl alcohol, 2-methyl-1-propanol, 1-methoxy-2-propyl alcohol, etc. , Hydrocarbons such as hexane, heptane, toluene, xylene, ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dimethoxyethane, diphenyl ether, esters such as methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, γ-butyrolactone, acetone, Ketones such as methyl ethyl ketone and cyclohexanone, amides such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone and N-ethylpyrrolidone, dimethyl carbonate, diethyl Carbonates such as boronate, propylene carbonate, ureas such as tetramethylurea, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, halogenated hydrocarbons such as chloroform, dichloromethane, chlorobenzene, triethylamine, acetic acid, acetonitrile, nitromethane, Known solvents such as dimethyl sulfoxide can be mentioned.
Among these solvents, water, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, 1-propanol, 1-butanol, 2-butanol, t-butyl alcohol, 2-methyl-1-propanol, 1-methoxy-2-propyl alcohol, acetic acid, And / or acetonitrile is preferable, and water, ethanol, isopropyl alcohol, and / or acetic acid are more preferable. By using the solvent, the compound having two or more (meth) acrylamide groups is easily dissolved, and the production of nail cosmetics is facilitated.
本発明の爪化粧料においては、(メタ)アクリルアミド基を2つ以上有する化合物を溶解させる又は爪化粧料の塗りやすさを調整するために、溶剤を含有してもよい。
溶剤としては、1気圧(1,013.25hPa)における沸点が50~150℃である溶剤が好ましく、1気圧における沸点が60~140℃である溶剤がより好ましい。上記範囲の沸点を有する溶剤を使用することにより、爪化粧料の濃度変動が抑制でき、塗布後の乾燥が良好になる。
溶剤としては、水、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、1-プロパノール、1-ブタノール、2-ブタノール、t-ブチルアルコール、2-メチル-1-プロパノール、1-メトキシ-2-プロピルアルコール等のアルコール類、ヘキサン、ヘプタン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジフェニルエーテル等のエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、γ-ブチロラクトン等のエステル類、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン、N-エチルピロリドン等のアミド類、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート類、テトラメチルウレア、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン等のウレア類、クロロホルム、ジクロロメタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、トリエチルアミン、酢酸、アセトニトリル、ニトロメタン、ジメチルスルホキシド等の公知の溶剤が挙げられる。
これら溶剤の中でも、水、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、1-プロパノール、1-ブタノール、2-ブタノール、t-ブチルアルコール、2-メチル-1-プロパノール、1-メトキシ-2-プロピルアルコール、酢酸、及び/又は、アセトニトリルが好ましく、水、エタノール、イソプロピルアルコール、及び/又は、酢酸がより好ましい。上記溶剤を使用することにより、(メタ)アクリルアミド基を2つ以上有する化合物が溶解し易くなり、爪化粧料の製造が容易になる。 <Solvent>
The nail cosmetic of the present invention may contain a solvent in order to dissolve a compound having two or more (meth) acrylamide groups or to adjust the ease of application of the nail cosmetic.
As the solvent, a solvent having a boiling point of 50 to 150 ° C. at 1 atm (1,013.25 hPa) is preferable, and a solvent having a boiling point of 60 to 140 ° C. at 1 atm is more preferable. By using a solvent having a boiling point in the above range, the concentration variation of the nail cosmetic can be suppressed, and drying after application becomes good.
Solvents include alcohols such as water, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, 1-propanol, 1-butanol, 2-butanol, t-butyl alcohol, 2-methyl-1-propanol, 1-methoxy-2-propyl alcohol, etc. , Hydrocarbons such as hexane, heptane, toluene, xylene, ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dimethoxyethane, diphenyl ether, esters such as methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, γ-butyrolactone, acetone, Ketones such as methyl ethyl ketone and cyclohexanone, amides such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone and N-ethylpyrrolidone, dimethyl carbonate, diethyl Carbonates such as boronate, propylene carbonate, ureas such as tetramethylurea, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, halogenated hydrocarbons such as chloroform, dichloromethane, chlorobenzene, triethylamine, acetic acid, acetonitrile, nitromethane, Known solvents such as dimethyl sulfoxide can be mentioned.
Among these solvents, water, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, 1-propanol, 1-butanol, 2-butanol, t-butyl alcohol, 2-methyl-1-propanol, 1-methoxy-2-propyl alcohol, acetic acid, And / or acetonitrile is preferable, and water, ethanol, isopropyl alcohol, and / or acetic acid are more preferable. By using the solvent, the compound having two or more (meth) acrylamide groups is easily dissolved, and the production of nail cosmetics is facilitated.
溶剤は、1種単独で含有していても、2種以上を含有していてもよい。
本発明の爪化粧料における溶剤の含有量は、爪化粧料の全質量に対し、0質量%を超え80質量%が好ましく、5~70質量%がより好ましく、10~60質量%が更に好ましい。上記範囲であると、爪化粧料の塗布性と乾燥性が良好になる。
また、(メタ)アクリルアミド基を2つ以上有する化合物と溶剤との混合比率は、溶剤100質量部に対して、(メタ)アクリルアミド基を2つ以上有する化合物が5~200質量部であることが好ましく、7~150質量部であることがより好ましく、10~100質量部であることが更に好ましい。上記範囲であると、爪化粧料の製造が容易になる。 The solvent may contain 1 type individually, or may contain 2 or more types.
The content of the solvent in the nail cosmetic of the present invention is more than 0% by mass, preferably 80% by mass, more preferably 5 to 70% by mass, and still more preferably 10 to 60% by mass with respect to the total mass of the nail cosmetic. . When it is in the above range, the applicability and drying properties of the nail cosmetic are improved.
The mixing ratio of the compound having two or more (meth) acrylamide groups and the solvent is 5 to 200 parts by mass of the compound having two or more (meth) acrylamide groups with respect to 100 parts by mass of the solvent. The amount is preferably 7 to 150 parts by mass, more preferably 10 to 100 parts by mass. When it is in the above range, the production of nail cosmetics becomes easy.
本発明の爪化粧料における溶剤の含有量は、爪化粧料の全質量に対し、0質量%を超え80質量%が好ましく、5~70質量%がより好ましく、10~60質量%が更に好ましい。上記範囲であると、爪化粧料の塗布性と乾燥性が良好になる。
また、(メタ)アクリルアミド基を2つ以上有する化合物と溶剤との混合比率は、溶剤100質量部に対して、(メタ)アクリルアミド基を2つ以上有する化合物が5~200質量部であることが好ましく、7~150質量部であることがより好ましく、10~100質量部であることが更に好ましい。上記範囲であると、爪化粧料の製造が容易になる。 The solvent may contain 1 type individually, or may contain 2 or more types.
The content of the solvent in the nail cosmetic of the present invention is more than 0% by mass, preferably 80% by mass, more preferably 5 to 70% by mass, and still more preferably 10 to 60% by mass with respect to the total mass of the nail cosmetic. . When it is in the above range, the applicability and drying properties of the nail cosmetic are improved.
The mixing ratio of the compound having two or more (meth) acrylamide groups and the solvent is 5 to 200 parts by mass of the compound having two or more (meth) acrylamide groups with respect to 100 parts by mass of the solvent. The amount is preferably 7 to 150 parts by mass, more preferably 10 to 100 parts by mass. When it is in the above range, the production of nail cosmetics becomes easy.
<その他の成分>
本発明の爪化粧料には、上記成分の他に、必要に応じて、公知の化合物を添加することができる。具体的には、増感剤、重合禁止剤、顔料、染料、香料、紫外線(UV)吸収剤、抗酸化剤、充填剤、各種エラストマー、可塑剤、増粘剤、チクソトロピー付与剤、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤、キレート化剤、難燃剤、界面活性剤等の添加剤が挙げられる。
本発明の爪化粧料は、上記の成分を用いて公知の方法で混合して製造することができる。本発明の爪化粧料の各成分の組み合わせとしては、
(メタ)アクリルアミド基を2つ以上有する化合物+光重合開始剤+ポリマー及び/又はオリゴマー+その他のエチレン性不飽和化合物、
(メタ)アクリルアミド基を2つ以上有する化合物+光重合開始剤+ポリマー及び/又はオリゴマー+溶剤、
(メタ)アクリルアミド基を2つ以上有する化合物+光重合開始剤+ポリマー及び/又はオリゴマー+その他のエチレン性不飽和化合物+溶剤、
の組み合わせが好ましい。その他の成分を添加する場合でも、当該組み合わせに添加することが好ましい。この組み合わせにより、爪化粧料の製造が容易になり、塗布性が良好になる。 <Other ingredients>
In addition to the above components, a known compound can be added to the nail cosmetic of the present invention as necessary. Specifically, sensitizers, polymerization inhibitors, pigments, dyes, fragrances, ultraviolet (UV) absorbers, antioxidants, fillers, various elastomers, plasticizers, thickeners, thixotropic agents, silane couplings And additives such as an agent, a titanate coupling agent, a chelating agent, a flame retardant, and a surfactant.
The nail cosmetic of the present invention can be produced by mixing the above ingredients by a known method. As a combination of each component of the nail cosmetic of the present invention,
Compound having two or more (meth) acrylamide groups + photopolymerization initiator + polymer and / or oligomer + other ethylenically unsaturated compound,
Compound having two or more (meth) acrylamide groups + photopolymerization initiator + polymer and / or oligomer + solvent,
Compound having two or more (meth) acrylamide groups + photopolymerization initiator + polymer and / or oligomer + other ethylenically unsaturated compound + solvent,
The combination of is preferable. Even when other components are added, they are preferably added to the combination. This combination facilitates the production of nail cosmetics and improves the applicability.
本発明の爪化粧料には、上記成分の他に、必要に応じて、公知の化合物を添加することができる。具体的には、増感剤、重合禁止剤、顔料、染料、香料、紫外線(UV)吸収剤、抗酸化剤、充填剤、各種エラストマー、可塑剤、増粘剤、チクソトロピー付与剤、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤、キレート化剤、難燃剤、界面活性剤等の添加剤が挙げられる。
本発明の爪化粧料は、上記の成分を用いて公知の方法で混合して製造することができる。本発明の爪化粧料の各成分の組み合わせとしては、
(メタ)アクリルアミド基を2つ以上有する化合物+光重合開始剤+ポリマー及び/又はオリゴマー+その他のエチレン性不飽和化合物、
(メタ)アクリルアミド基を2つ以上有する化合物+光重合開始剤+ポリマー及び/又はオリゴマー+溶剤、
(メタ)アクリルアミド基を2つ以上有する化合物+光重合開始剤+ポリマー及び/又はオリゴマー+その他のエチレン性不飽和化合物+溶剤、
の組み合わせが好ましい。その他の成分を添加する場合でも、当該組み合わせに添加することが好ましい。この組み合わせにより、爪化粧料の製造が容易になり、塗布性が良好になる。 <Other ingredients>
In addition to the above components, a known compound can be added to the nail cosmetic of the present invention as necessary. Specifically, sensitizers, polymerization inhibitors, pigments, dyes, fragrances, ultraviolet (UV) absorbers, antioxidants, fillers, various elastomers, plasticizers, thickeners, thixotropic agents, silane couplings And additives such as an agent, a titanate coupling agent, a chelating agent, a flame retardant, and a surfactant.
The nail cosmetic of the present invention can be produced by mixing the above ingredients by a known method. As a combination of each component of the nail cosmetic of the present invention,
Compound having two or more (meth) acrylamide groups + photopolymerization initiator + polymer and / or oligomer + other ethylenically unsaturated compound,
Compound having two or more (meth) acrylamide groups + photopolymerization initiator + polymer and / or oligomer + solvent,
Compound having two or more (meth) acrylamide groups + photopolymerization initiator + polymer and / or oligomer + other ethylenically unsaturated compound + solvent,
The combination of is preferable. Even when other components are added, they are preferably added to the combination. This combination facilitates the production of nail cosmetics and improves the applicability.
<爪化粧料の施術方法>
本発明の爪化粧料を用いた爪化粧料の施術方法としては、爪、他の爪化粧料が施された爪、人工爪等の対象物上に本発明の爪化粧料を塗布した後、光照射して硬化物を形成する方法が好ましく挙げられる。
本発明の爪化粧料を対象物上に塗布する方法としては、特に制限はなく、公知の方法により行えばよいが、刷毛や筆等を使用して塗布する方法、スプレー塗布、インクジェット塗布、バーコーター塗布、回転塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等が挙げられる。
本発明の爪化粧料の対象物上の塗布厚は、用途によって異なるが、1nm~1mmが好ましく、10nm~0.5mmがより好ましく、100nm~0.25mmが更に好ましい。上記範囲であると、より良好な密着性と除去性とが実現される。
本発明の爪化粧料を対象物に塗布した後、光照射する方法としては、特に制限はなく、公知の光源(例えば、太陽光、高圧水銀灯、蛍光灯、UVランプ、LEDランプ、LEDレーザー等)を用いた公知の光照射方法(例えば、全面露光、走査露光等)が使用できる。光照射時間は、本発明の爪化粧料が硬化する限り特に制限はない。
対象物上に爪化粧料の硬化物を形成する方法としては、上記の方法を繰り返し実施することもできる。
本発明の爪化粧料を硬化した硬化膜の除去方法は、公知の方法により除去することができる。具体的には、ヤスリ等により研磨する方法、彫刻刀やナイフ等により削る方法、アセトンで湿らせた綿により硬化膜を覆い数分間放置して脆化させた後に棒等で剥離又は砕く方法、特定のpHを有する水溶液に数分間浸漬して脆化させた後にピンセット等で剥離したり棒で押しはがしたりする方法、及び、それらを組み合わせた方法が挙げられる。
特に、本発明の爪化粧料を硬化した硬化膜の爪からの除去方法は、アセトンで湿らせた綿により硬化膜を覆い数分間放置して脆化させた後に棒等で剥離又は砕く方法、特定のpHを有する水溶液に数分間浸漬して脆化させた後にピンセット等で剥離したり棒で押しはがしたりする方法、及び、それらを組み合わせた方法が好ましく挙げられ、特定のpHを有する水溶液に数分間浸漬して脆化させた後にピンセット等で剥離したり棒で押しはがしたりする方法がより好ましく挙げられる。 <Nail cosmetic treatment method>
As a nail cosmetic treatment method using the nail cosmetic of the present invention, after applying the nail cosmetic of the present invention on an object such as a nail, a nail coated with other nail cosmetics, an artificial nail, A method of forming a cured product by light irradiation is preferred.
The method for applying the nail cosmetic of the present invention onto an object is not particularly limited and may be carried out by a known method, but a method using a brush or brush, spray coating, ink jet coating, bar Examples include coater coating, spin coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating.
The coating thickness on the object of the nail cosmetic of the present invention varies depending on the use, but is preferably 1 nm to 1 mm, more preferably 10 nm to 0.5 mm, and further preferably 100 nm to 0.25 mm. Within the above range, better adhesion and removability are realized.
There is no restriction | limiting in particular as a method of irradiating light after apply | coating the nail | claw cosmetics of this invention to a target object, For example, a well-known light source (For example, sunlight, a high pressure mercury lamp, a fluorescent lamp, a UV lamp, an LED lamp, LED laser, etc. ) Using a known light irradiation method (for example, full surface exposure, scanning exposure, etc.) can be used. The light irradiation time is not particularly limited as long as the nail cosmetic of the present invention is cured.
As a method of forming a cured product of the nail cosmetic on the object, the above method can be repeated.
The method for removing the cured film obtained by curing the nail cosmetic of the present invention can be removed by a known method. Specifically, a method of polishing with a file, a method of cutting with a sword or knife, a method of peeling or crushing with a stick etc. after covering the cured film with cotton moistened with acetone and leaving it embrittled for several minutes, Examples thereof include a method of immersing in an aqueous solution having a specific pH for several minutes, embrittlement, and then peeling with a tweezers or the like or peeling with a stick, and a method of combining them.
In particular, the method of removing from the nail of the cured film obtained by curing the nail cosmetic of the present invention is a method in which the cured film is covered with cotton moistened with acetone, left to embrittle for several minutes, and then peeled or crushed with a stick or the like. A method of peeling by tweezers or exfoliating with a tweezer or the like after being immersed in an aqueous solution having a specific pH for several minutes, and a method of combining them, and a combination thereof are preferably mentioned. A method of peeling by tweezers or peeling off with a stick after embedding by embedding for several minutes or more preferable.
本発明の爪化粧料を用いた爪化粧料の施術方法としては、爪、他の爪化粧料が施された爪、人工爪等の対象物上に本発明の爪化粧料を塗布した後、光照射して硬化物を形成する方法が好ましく挙げられる。
本発明の爪化粧料を対象物上に塗布する方法としては、特に制限はなく、公知の方法により行えばよいが、刷毛や筆等を使用して塗布する方法、スプレー塗布、インクジェット塗布、バーコーター塗布、回転塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等が挙げられる。
本発明の爪化粧料の対象物上の塗布厚は、用途によって異なるが、1nm~1mmが好ましく、10nm~0.5mmがより好ましく、100nm~0.25mmが更に好ましい。上記範囲であると、より良好な密着性と除去性とが実現される。
本発明の爪化粧料を対象物に塗布した後、光照射する方法としては、特に制限はなく、公知の光源(例えば、太陽光、高圧水銀灯、蛍光灯、UVランプ、LEDランプ、LEDレーザー等)を用いた公知の光照射方法(例えば、全面露光、走査露光等)が使用できる。光照射時間は、本発明の爪化粧料が硬化する限り特に制限はない。
対象物上に爪化粧料の硬化物を形成する方法としては、上記の方法を繰り返し実施することもできる。
本発明の爪化粧料を硬化した硬化膜の除去方法は、公知の方法により除去することができる。具体的には、ヤスリ等により研磨する方法、彫刻刀やナイフ等により削る方法、アセトンで湿らせた綿により硬化膜を覆い数分間放置して脆化させた後に棒等で剥離又は砕く方法、特定のpHを有する水溶液に数分間浸漬して脆化させた後にピンセット等で剥離したり棒で押しはがしたりする方法、及び、それらを組み合わせた方法が挙げられる。
特に、本発明の爪化粧料を硬化した硬化膜の爪からの除去方法は、アセトンで湿らせた綿により硬化膜を覆い数分間放置して脆化させた後に棒等で剥離又は砕く方法、特定のpHを有する水溶液に数分間浸漬して脆化させた後にピンセット等で剥離したり棒で押しはがしたりする方法、及び、それらを組み合わせた方法が好ましく挙げられ、特定のpHを有する水溶液に数分間浸漬して脆化させた後にピンセット等で剥離したり棒で押しはがしたりする方法がより好ましく挙げられる。 <Nail cosmetic treatment method>
As a nail cosmetic treatment method using the nail cosmetic of the present invention, after applying the nail cosmetic of the present invention on an object such as a nail, a nail coated with other nail cosmetics, an artificial nail, A method of forming a cured product by light irradiation is preferred.
The method for applying the nail cosmetic of the present invention onto an object is not particularly limited and may be carried out by a known method, but a method using a brush or brush, spray coating, ink jet coating, bar Examples include coater coating, spin coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating.
The coating thickness on the object of the nail cosmetic of the present invention varies depending on the use, but is preferably 1 nm to 1 mm, more preferably 10 nm to 0.5 mm, and further preferably 100 nm to 0.25 mm. Within the above range, better adhesion and removability are realized.
There is no restriction | limiting in particular as a method of irradiating light after apply | coating the nail | claw cosmetics of this invention to a target object, For example, a well-known light source (For example, sunlight, a high pressure mercury lamp, a fluorescent lamp, a UV lamp, an LED lamp, LED laser, etc. ) Using a known light irradiation method (for example, full surface exposure, scanning exposure, etc.) can be used. The light irradiation time is not particularly limited as long as the nail cosmetic of the present invention is cured.
As a method of forming a cured product of the nail cosmetic on the object, the above method can be repeated.
The method for removing the cured film obtained by curing the nail cosmetic of the present invention can be removed by a known method. Specifically, a method of polishing with a file, a method of cutting with a sword or knife, a method of peeling or crushing with a stick etc. after covering the cured film with cotton moistened with acetone and leaving it embrittled for several minutes, Examples thereof include a method of immersing in an aqueous solution having a specific pH for several minutes, embrittlement, and then peeling with a tweezers or the like or peeling with a stick, and a method of combining them.
In particular, the method of removing from the nail of the cured film obtained by curing the nail cosmetic of the present invention is a method in which the cured film is covered with cotton moistened with acetone, left to embrittle for several minutes, and then peeled or crushed with a stick or the like. A method of peeling by tweezers or exfoliating with a tweezer or the like after being immersed in an aqueous solution having a specific pH for several minutes, and a method of combining them, and a combination thereof are preferably mentioned. A method of peeling by tweezers or peeling off with a stick after embedding by embedding for several minutes or more preferable.
<人工爪>
本発明の人工爪は、本発明の爪化粧料により形成された層を有する人工爪であり、本発明の爪化粧料を乾燥及び/又は光硬化して形成された層を有する人工爪であることが好ましい。
本発明の人工爪は、マニキュア、ペディキュア等のネイルポリッシュや、ジェルネイルとして好適である。
本発明の人工爪は、少なくとも一部が本発明の爪化粧料により形成されていればよく、他の層や構造を有していてもよく、人工爪全体が本発明の爪化粧料により形成されていてもよい。
本発明の爪化粧料により形成された層は、本発明の人工爪におけるプライマー層、ベース層、カラー層、及び/又は、トップ層のいずれにも好適に用いることができる。
また、本発明の人工爪は、本発明の爪化粧料により形成された層を1層のみ有していても、2層以上有していてもよい。
中でも、除去性の観点から、本発明の爪化粧料により形成した少なくとも1層が爪と接している層であることが好ましい。
また、本発明の人工爪における本発明の爪化粧料により形成された層の厚さは、特に制限はないが、10~2,000μmであることが好ましく、20~1,500μmであることがより好ましく、20~1,000μmが更に好ましい。 <Artificial nails>
The artificial nail of the present invention is an artificial nail having a layer formed by the nail cosmetic of the present invention, and an artificial nail having a layer formed by drying and / or photocuring the nail cosmetic of the present invention. It is preferable.
The artificial nail of the present invention is suitable for nail polish such as manicure and pedicure, and gel nail.
The artificial nail of the present invention only needs to be at least partially formed of the nail cosmetic of the present invention, and may have other layers and structures, and the entire artificial nail is formed of the nail cosmetic of the present invention. May be.
The layer formed of the nail cosmetic of the present invention can be suitably used for any of the primer layer, base layer, color layer, and / or top layer in the artificial nail of the present invention.
In addition, the artificial nail of the present invention may have only one layer formed by the nail cosmetic of the present invention, or may have two or more layers.
Among these, from the viewpoint of removability, at least one layer formed from the nail cosmetic of the present invention is preferably a layer in contact with the nail.
Further, the thickness of the layer formed by the nail cosmetic of the present invention in the artificial nail of the present invention is not particularly limited, but is preferably 10 to 2,000 μm, and more preferably 20 to 1,500 μm. More preferred is 20 to 1,000 μm.
本発明の人工爪は、本発明の爪化粧料により形成された層を有する人工爪であり、本発明の爪化粧料を乾燥及び/又は光硬化して形成された層を有する人工爪であることが好ましい。
本発明の人工爪は、マニキュア、ペディキュア等のネイルポリッシュや、ジェルネイルとして好適である。
本発明の人工爪は、少なくとも一部が本発明の爪化粧料により形成されていればよく、他の層や構造を有していてもよく、人工爪全体が本発明の爪化粧料により形成されていてもよい。
本発明の爪化粧料により形成された層は、本発明の人工爪におけるプライマー層、ベース層、カラー層、及び/又は、トップ層のいずれにも好適に用いることができる。
また、本発明の人工爪は、本発明の爪化粧料により形成された層を1層のみ有していても、2層以上有していてもよい。
中でも、除去性の観点から、本発明の爪化粧料により形成した少なくとも1層が爪と接している層であることが好ましい。
また、本発明の人工爪における本発明の爪化粧料により形成された層の厚さは、特に制限はないが、10~2,000μmであることが好ましく、20~1,500μmであることがより好ましく、20~1,000μmが更に好ましい。 <Artificial nails>
The artificial nail of the present invention is an artificial nail having a layer formed by the nail cosmetic of the present invention, and an artificial nail having a layer formed by drying and / or photocuring the nail cosmetic of the present invention. It is preferable.
The artificial nail of the present invention is suitable for nail polish such as manicure and pedicure, and gel nail.
The artificial nail of the present invention only needs to be at least partially formed of the nail cosmetic of the present invention, and may have other layers and structures, and the entire artificial nail is formed of the nail cosmetic of the present invention. May be.
The layer formed of the nail cosmetic of the present invention can be suitably used for any of the primer layer, base layer, color layer, and / or top layer in the artificial nail of the present invention.
In addition, the artificial nail of the present invention may have only one layer formed by the nail cosmetic of the present invention, or may have two or more layers.
Among these, from the viewpoint of removability, at least one layer formed from the nail cosmetic of the present invention is preferably a layer in contact with the nail.
Further, the thickness of the layer formed by the nail cosmetic of the present invention in the artificial nail of the present invention is not particularly limited, but is preferably 10 to 2,000 μm, and more preferably 20 to 1,500 μm. More preferred is 20 to 1,000 μm.
<ネイルアートキット>
本発明のネイルアートキットは、本発明の爪化粧料を含み、本発明の爪化粧料と、それらを爪に施術するための1種以上の道具とを含むことが好ましい。
本発明のネイルアートキットにおける本発明の爪化粧料の好ましい態様は、上述したものと同様である。
爪に施術するための道具の具体例としては、人工爪を除去する除去液、カラー用又はトップ用等の本発明の爪化粧料以外の爪化粧料、ファイル等の爪用やすり、爪化粧料を塗布するための平筆等の筆や刷毛、UVライト等の露光装置、拭き取り又は洗浄用液、拭き取り用ワイプ、ネイルブラシ、ダストブラシ、爪の長さ出しに使用するネイルフォーム、アクリル樹脂製、ガラス製、金属製又は天然石製等の装飾用ストーン、ネイルシール、グリッターやホログラム等の装飾用パウダー、カッター、へら、スティック、ピンセット、爪同士の接触を防ぐため指の間隔を広げるセパレーター等が挙げられるが、これらに制限されないが、除去液を少なくとも含むことが好ましい。 <Nail Art Kit>
The nail art kit of the present invention includes the nail cosmetic of the present invention, and preferably includes the nail cosmetic of the present invention and one or more tools for applying them to the nails.
The preferred embodiments of the nail cosmetic of the present invention in the nail art kit of the present invention are the same as those described above.
Specific examples of tools for performing treatment on nails include removal liquids for removing artificial nails, nail cosmetics other than the nail cosmetics of the present invention, such as for collars and tops, nail files such as files, and nail cosmetics Brushes and brushes such as flat brushes, UV light exposure devices, wiping or cleaning liquids, wiping wipes, nail brushes, dust brushes, nail foams used for lengthening nails, acrylic resin Decorative stones made of glass, metal or natural stone, nail seals, decorative powders such as glitter and holograms, cutters, spatulas, sticks, tweezers, separators that increase finger spacing to prevent contact between nails Although it is mentioned, although it is not restricted to these, it is preferable to contain a removal liquid at least.
本発明のネイルアートキットは、本発明の爪化粧料を含み、本発明の爪化粧料と、それらを爪に施術するための1種以上の道具とを含むことが好ましい。
本発明のネイルアートキットにおける本発明の爪化粧料の好ましい態様は、上述したものと同様である。
爪に施術するための道具の具体例としては、人工爪を除去する除去液、カラー用又はトップ用等の本発明の爪化粧料以外の爪化粧料、ファイル等の爪用やすり、爪化粧料を塗布するための平筆等の筆や刷毛、UVライト等の露光装置、拭き取り又は洗浄用液、拭き取り用ワイプ、ネイルブラシ、ダストブラシ、爪の長さ出しに使用するネイルフォーム、アクリル樹脂製、ガラス製、金属製又は天然石製等の装飾用ストーン、ネイルシール、グリッターやホログラム等の装飾用パウダー、カッター、へら、スティック、ピンセット、爪同士の接触を防ぐため指の間隔を広げるセパレーター等が挙げられるが、これらに制限されないが、除去液を少なくとも含むことが好ましい。 <Nail Art Kit>
The nail art kit of the present invention includes the nail cosmetic of the present invention, and preferably includes the nail cosmetic of the present invention and one or more tools for applying them to the nails.
The preferred embodiments of the nail cosmetic of the present invention in the nail art kit of the present invention are the same as those described above.
Specific examples of tools for performing treatment on nails include removal liquids for removing artificial nails, nail cosmetics other than the nail cosmetics of the present invention, such as for collars and tops, nail files such as files, and nail cosmetics Brushes and brushes such as flat brushes, UV light exposure devices, wiping or cleaning liquids, wiping wipes, nail brushes, dust brushes, nail foams used for lengthening nails, acrylic resin Decorative stones made of glass, metal or natural stone, nail seals, decorative powders such as glitter and holograms, cutters, spatulas, sticks, tweezers, separators that increase finger spacing to prevent contact between nails Although it is mentioned, although it is not restricted to these, it is preferable to contain a removal liquid at least.
以下実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例における形態に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」及び「%」は質量基準である。
なお、実施例で使用した化合物1-a、1-b、1-c、1-g、1-h、1-i、2-a、2-b、2-c、2-d、2-e、2-h、3-a、3-h、4-a及び4-eは、上述した化合物1-a、1-b、1-c、1-g、1-h、1-i、2-a、2-b、2-c、2-d、2-e、2-h、3-a、3-h、4-a及び4-eとそれぞれ同じ化合物である。
また、実施例で使用したポリマーP-9は、上述したポリマーP-9と同じポリマーである。 EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to the forms in these examples. Unless otherwise specified, “part” and “%” are based on mass.
The compounds 1-a, 1-b, 1-c, 1-g, 1-h, 1-i, 2-a, 2-b, 2-c, 2-d, 2- e, 2-h, 3-a, 3-h, 4-a and 4-e are the above-mentioned compounds 1-a, 1-b, 1-c, 1-g, 1-h, 1-i, 2-a, 2-b, 2-c, 2-d, 2-e, 2-h, 3-a, 3-h, 4-a and 4-e are the same compounds.
The polymer P-9 used in the examples is the same polymer as the polymer P-9 described above.
なお、実施例で使用した化合物1-a、1-b、1-c、1-g、1-h、1-i、2-a、2-b、2-c、2-d、2-e、2-h、3-a、3-h、4-a及び4-eは、上述した化合物1-a、1-b、1-c、1-g、1-h、1-i、2-a、2-b、2-c、2-d、2-e、2-h、3-a、3-h、4-a及び4-eとそれぞれ同じ化合物である。
また、実施例で使用したポリマーP-9は、上述したポリマーP-9と同じポリマーである。 EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to the forms in these examples. Unless otherwise specified, “part” and “%” are based on mass.
The compounds 1-a, 1-b, 1-c, 1-g, 1-h, 1-i, 2-a, 2-b, 2-c, 2-d, 2- e, 2-h, 3-a, 3-h, 4-a and 4-e are the above-mentioned compounds 1-a, 1-b, 1-c, 1-g, 1-h, 1-i, 2-a, 2-b, 2-c, 2-d, 2-e, 2-h, 3-a, 3-h, 4-a and 4-e are the same compounds.
The polymer P-9 used in the examples is the same polymer as the polymer P-9 described above.
(実施例1及び比較例1)
1.爪化粧料の調製
撹拌装置を備えた容器内に、下記に記載の組成を収容した後、撹拌装置を用いて均一になるまで混合し、爪化粧料1及び2をそれぞれ得た。 (Example 1 and Comparative Example 1)
1. Preparation of nail cosmetics After containing the composition described below in a container equipped with a stirring device, the nail cosmetics 1 and 2 were obtained by mixing until uniform using a stirring device.
1.爪化粧料の調製
撹拌装置を備えた容器内に、下記に記載の組成を収容した後、撹拌装置を用いて均一になるまで混合し、爪化粧料1及び2をそれぞれ得た。 (Example 1 and Comparative Example 1)
1. Preparation of nail cosmetics After containing the composition described below in a container equipped with a stirring device, the nail cosmetics 1 and 2 were obtained by mixing until uniform using a stirring device.
<爪化粧料1>
・化合物1-a:10質量部
・1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(光重合開始剤、Ciba社製、IRGACURE184):8質量部
・ジフェニル(2,4,6-トリメチルベンゾイル)フォスフィンオキサイド(光重合開始剤、BASF社製、ルシリンTPO):2質量部
・ポリマーP-1:100質量部
・2-ヒドロキシエチルアクリレート:42質量部
・アクリル酸:14質量部
・N,N-ジメチルアクリルアミド:14質量部 <Nail cosmetic 1>
Compound 1-a: 10 parts by mass 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (photopolymerization initiator, manufactured by Ciba, IRGACURE 184): 8 parts by mass Diphenyl (2,4,6-trimethylbenzoyl) phosphine oxide (photopolymerization) Initiator, manufactured by BASF, Lucillin TPO): 2 parts by mass, polymer P-1: 100 parts by mass, 2-hydroxyethyl acrylate: 42 parts by mass, acrylic acid: 14 parts by mass, N, N-dimethylacrylamide: 14 parts by mass Part
・化合物1-a:10質量部
・1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(光重合開始剤、Ciba社製、IRGACURE184):8質量部
・ジフェニル(2,4,6-トリメチルベンゾイル)フォスフィンオキサイド(光重合開始剤、BASF社製、ルシリンTPO):2質量部
・ポリマーP-1:100質量部
・2-ヒドロキシエチルアクリレート:42質量部
・アクリル酸:14質量部
・N,N-ジメチルアクリルアミド:14質量部 <Nail cosmetic 1>
Compound 1-a: 10 parts by mass 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (photopolymerization initiator, manufactured by Ciba, IRGACURE 184): 8 parts by mass Diphenyl (2,4,6-trimethylbenzoyl) phosphine oxide (photopolymerization) Initiator, manufactured by BASF, Lucillin TPO): 2 parts by mass, polymer P-1: 100 parts by mass, 2-hydroxyethyl acrylate: 42 parts by mass, acrylic acid: 14 parts by mass, N, N-dimethylacrylamide: 14 parts by mass Part
<爪化粧料2>
・ヒドロキシエチルアクリルアミド:10質量部
・1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(光重合開始剤、Ciba社製、IRGACURE184):8質量部
・ジフェニル(2,4,6-トリメチルベンゾイル)フォスフィンオキサイド(光重合開始剤、BASF社製、ルシリンTPO):2質量部
・ポリマーP-1:100質量部
・イソボルニルメタアクリレート:35質量部
・ビスフェノールA-エチレンオキサイド(EO)付加物ジアクリレート(大阪有機化学工業(株)製、EOの繰り返し数n=2):30質量部 <Nail cosmetic 2>
Hydroxyethyl acrylamide: 10 parts by mass 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (photopolymerization initiator, Ciba, IRGACURE 184): 8 parts by mass Diphenyl (2,4,6-trimethylbenzoyl) phosphine oxide (initiated photopolymerization) Agent, manufactured by BASF, Lucillin TPO): 2 parts by mass, polymer P-1: 100 parts by mass, isobornyl methacrylate: 35 parts by mass, bisphenol A-ethylene oxide (EO) adduct diacrylate (Osaka Organic Chemical Industry) Co., Ltd., EO repetition number n = 2): 30 parts by mass
・ヒドロキシエチルアクリルアミド:10質量部
・1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(光重合開始剤、Ciba社製、IRGACURE184):8質量部
・ジフェニル(2,4,6-トリメチルベンゾイル)フォスフィンオキサイド(光重合開始剤、BASF社製、ルシリンTPO):2質量部
・ポリマーP-1:100質量部
・イソボルニルメタアクリレート:35質量部
・ビスフェノールA-エチレンオキサイド(EO)付加物ジアクリレート(大阪有機化学工業(株)製、EOの繰り返し数n=2):30質量部 <Nail cosmetic 2>
Hydroxyethyl acrylamide: 10 parts by mass 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (photopolymerization initiator, Ciba, IRGACURE 184): 8 parts by mass Diphenyl (2,4,6-trimethylbenzoyl) phosphine oxide (initiated photopolymerization) Agent, manufactured by BASF, Lucillin TPO): 2 parts by mass, polymer P-1: 100 parts by mass, isobornyl methacrylate: 35 parts by mass, bisphenol A-ethylene oxide (EO) adduct diacrylate (Osaka Organic Chemical Industry) Co., Ltd., EO repetition number n = 2): 30 parts by mass
2.下地層(ベース層)の形成
次いで、手の爪に対し、爪化粧料1又は2を刷毛にて塗布した後、ジェルネイル専用UV装置(36W)を用いて光硬化(60秒露光)させて、下地層をそれぞれ形成した。形成した下地層の厚さはそれぞれ、約100μmであった。 2. Formation of base layer (base layer) Next, nail cosmetic 1 or 2 was applied to the nail of the hand with a brush, and then photocured (60-second exposure) using a gel nail UV device (36W). Each of the underlayers was formed. Each of the formed underlayers had a thickness of about 100 μm.
次いで、手の爪に対し、爪化粧料1又は2を刷毛にて塗布した後、ジェルネイル専用UV装置(36W)を用いて光硬化(60秒露光)させて、下地層をそれぞれ形成した。形成した下地層の厚さはそれぞれ、約100μmであった。 2. Formation of base layer (base layer) Next, nail cosmetic 1 or 2 was applied to the nail of the hand with a brush, and then photocured (60-second exposure) using a gel nail UV device (36W). Each of the underlayers was formed. Each of the formed underlayers had a thickness of about 100 μm.
3.ジェルネイル層の形成
次いで、得られた下地層に対し、市販のカルジェル#CG-03 フレッシュピンク(モガブルック社製)を刷毛で塗布した後、ジェルネイル専用UV装置紫外線ランプ(36W)で1分間照射した。その後、トップ層として市販のトップジェル(モガブルック社製)を刷毛で塗布し、同様に紫外線ランプ(36W)で2分間照射した。形成したジェルネイル層を目視で観察したところ、完全に固化していた。カラー層とトップ層とを合わせた膜厚はそれぞれ、約250μmであった。 3. Formation of gel nail layer Next, after applying commercially available calgel # CG-03 fresh pink (manufactured by Mogabrook Co., Ltd.) with a brush to the obtained underlayer, irradiation was performed with a UV device ultraviolet lamp (36 W) exclusively for gel nail for 1 minute. did. Thereafter, a commercially available top gel (manufactured by Mogabrook Co., Ltd.) was applied as a top layer with a brush and similarly irradiated with an ultraviolet lamp (36 W) for 2 minutes. When the formed gel nail layer was visually observed, it was completely solidified. The total thickness of the color layer and the top layer was about 250 μm.
次いで、得られた下地層に対し、市販のカルジェル#CG-03 フレッシュピンク(モガブルック社製)を刷毛で塗布した後、ジェルネイル専用UV装置紫外線ランプ(36W)で1分間照射した。その後、トップ層として市販のトップジェル(モガブルック社製)を刷毛で塗布し、同様に紫外線ランプ(36W)で2分間照射した。形成したジェルネイル層を目視で観察したところ、完全に固化していた。カラー層とトップ層とを合わせた膜厚はそれぞれ、約250μmであった。 3. Formation of gel nail layer Next, after applying commercially available calgel # CG-03 fresh pink (manufactured by Mogabrook Co., Ltd.) with a brush to the obtained underlayer, irradiation was performed with a UV device ultraviolet lamp (36 W) exclusively for gel nail for 1 minute. did. Thereafter, a commercially available top gel (manufactured by Mogabrook Co., Ltd.) was applied as a top layer with a brush and similarly irradiated with an ultraviolet lamp (36 W) for 2 minutes. When the formed gel nail layer was visually observed, it was completely solidified. The total thickness of the color layer and the top layer was about 250 μm.
4.評価
(1)密着性
(1)-1 耐外力
得られた爪/下地層/ジェルネイル層の積層体における密着性を、耐外力の観点から評価した。すなわち、下地層及びジェルネイル層を備えた爪の先端部を、市販のゴムシート上に30回こすり付けた後の先端部の変化を、下記基準に沿って評価した。得られた結果を表4に示す。なお、下地層とジェルネイル層との間における剥離はいずれも確認されなかった。
4:外観に変化が確認されなかった。
3:爪と下地層との間に、若干の剥離が確認された。
2:爪と下地層との間に、一部の剥離が確認され、外観の一部に白化が確認された。
1:爪と下地層との間に、顕著な剥離が確認され、外観の全体に白化が確認された。 4). Evaluation (1) Adhesiveness (1) -1 External Resistance The adhesiveness of the obtained nail / underlayer / gel nail layer laminate was evaluated from the viewpoint of external resistance. That is, the change of the tip after rubbing the tip of the nail provided with the base layer and the gel nail layer 30 times on a commercially available rubber sheet was evaluated according to the following criteria. Table 4 shows the obtained results. In addition, none of the peeling between the underlayer and the gel nail layer was confirmed.
4: No change in appearance was confirmed.
3: Slight peeling was confirmed between the nail and the base layer.
2: Partial peeling was confirmed between the nail and the base layer, and whitening was confirmed in part of the appearance.
1: Remarkable peeling was confirmed between the nail and the base layer, and whitening was confirmed in the entire appearance.
(1)密着性
(1)-1 耐外力
得られた爪/下地層/ジェルネイル層の積層体における密着性を、耐外力の観点から評価した。すなわち、下地層及びジェルネイル層を備えた爪の先端部を、市販のゴムシート上に30回こすり付けた後の先端部の変化を、下記基準に沿って評価した。得られた結果を表4に示す。なお、下地層とジェルネイル層との間における剥離はいずれも確認されなかった。
4:外観に変化が確認されなかった。
3:爪と下地層との間に、若干の剥離が確認された。
2:爪と下地層との間に、一部の剥離が確認され、外観の一部に白化が確認された。
1:爪と下地層との間に、顕著な剥離が確認され、外観の全体に白化が確認された。 4). Evaluation (1) Adhesiveness (1) -1 External Resistance The adhesiveness of the obtained nail / underlayer / gel nail layer laminate was evaluated from the viewpoint of external resistance. That is, the change of the tip after rubbing the tip of the nail provided with the base layer and the gel nail layer 30 times on a commercially available rubber sheet was evaluated according to the following criteria. Table 4 shows the obtained results. In addition, none of the peeling between the underlayer and the gel nail layer was confirmed.
4: No change in appearance was confirmed.
3: Slight peeling was confirmed between the nail and the base layer.
2: Partial peeling was confirmed between the nail and the base layer, and whitening was confirmed in part of the appearance.
1: Remarkable peeling was confirmed between the nail and the base layer, and whitening was confirmed in the entire appearance.
(1)-2 耐温水
また、得られた爪/下地層/ジェルネイル層の積層体における密着性を、耐温水の観点から評価した。すなわち、爪に対して下地層及びジェルネイル層が形成された状態の手を、約40℃の温水で、石鹸を用いずに普通に洗い、洗い終わった後、タオル性素材により拭きとる作業を1日に30回行い、これを7日間継続した後の外観変化を、下記基準に沿って評価した。得られた結果を表4に示す。なお、下地層とジェルネイル層との間における剥離はいずれも確認されなかった。
4:外観に変化が確認されなかった。
3:爪と下地層との間に、若干の剥離が確認された。
2:爪と下地層との間に、一部の剥離が確認され、外観の一部に白化が確認された。
1:爪と下地層との間に、顕著な剥離が確認され、外観の全体に白化が確認された。 (1) -2 Warm-resistant water Further, the adhesion of the obtained nail / underlayer / gel nail layer laminate was evaluated from the viewpoint of warm water. That is, the hands with the base layer and the gel nail layer formed on the nails are usually washed with warm water of about 40 ° C. without using soap, and after the washing is finished, the hands are wiped with a towel material. It was performed 30 times a day, and the appearance change after this was continued for 7 days was evaluated according to the following criteria. Table 4 shows the obtained results. In addition, none of the peeling between the underlayer and the gel nail layer was confirmed.
4: No change in appearance was confirmed.
3: Slight peeling was confirmed between the nail and the base layer.
2: Partial peeling was confirmed between the nail and the base layer, and whitening was confirmed in part of the appearance.
1: Remarkable peeling was confirmed between the nail and the base layer, and whitening was confirmed in the entire appearance.
また、得られた爪/下地層/ジェルネイル層の積層体における密着性を、耐温水の観点から評価した。すなわち、爪に対して下地層及びジェルネイル層が形成された状態の手を、約40℃の温水で、石鹸を用いずに普通に洗い、洗い終わった後、タオル性素材により拭きとる作業を1日に30回行い、これを7日間継続した後の外観変化を、下記基準に沿って評価した。得られた結果を表4に示す。なお、下地層とジェルネイル層との間における剥離はいずれも確認されなかった。
4:外観に変化が確認されなかった。
3:爪と下地層との間に、若干の剥離が確認された。
2:爪と下地層との間に、一部の剥離が確認され、外観の一部に白化が確認された。
1:爪と下地層との間に、顕著な剥離が確認され、外観の全体に白化が確認された。 (1) -2 Warm-resistant water Further, the adhesion of the obtained nail / underlayer / gel nail layer laminate was evaluated from the viewpoint of warm water. That is, the hands with the base layer and the gel nail layer formed on the nails are usually washed with warm water of about 40 ° C. without using soap, and after the washing is finished, the hands are wiped with a towel material. It was performed 30 times a day, and the appearance change after this was continued for 7 days was evaluated according to the following criteria. Table 4 shows the obtained results. In addition, none of the peeling between the underlayer and the gel nail layer was confirmed.
4: No change in appearance was confirmed.
3: Slight peeling was confirmed between the nail and the base layer.
2: Partial peeling was confirmed between the nail and the base layer, and whitening was confirmed in part of the appearance.
1: Remarkable peeling was confirmed between the nail and the base layer, and whitening was confirmed in the entire appearance.
(1)-3 耐石鹸
また、得られた爪/下地層/ジェルネイル層の積層体における密着性を、耐石鹸の観点から評価した。すなわち、爪に対して下地層及びジェルネイル層が形成された状態の手を、約40℃の水で、薬用石鹸ミューズ(登録商標)(レキットベンキーザー・ジャパン(株)製)を用いて普通に洗い、洗い終わった後、タオル性素材により拭きとる作業を1日に30回行い、これを3日間継続した後の外観変化を、下記基準に沿って評価した。得られた結果を表4に示す。なお、下地層とジェルネイル層との間における剥離はいずれも確認されなかった。
4:外観に変化が確認されなかった。
3:爪と下地層との間に、若干の剥離が確認された。
2:爪と下地層との間に、一部の剥離が確認され、外観の一部に白化が確認された。
1:爪と下地層との間に、顕著な剥離が確認され、外観の全体に白化が確認された。 (1) -3 Soap Resistance The adhesion of the obtained nail / underlayer / gel nail layer laminate was evaluated from the viewpoint of soap resistance. That is, using a medicinal soap Muse (registered trademark) (manufactured by Rekit Benkieser Japan Co., Ltd.) with water of about 40 ° C. in a state where the base layer and the gel nail layer are formed on the nails. Then, after the washing was completed, the work of wiping with a towel material was performed 30 times a day, and the appearance change after continuing this for 3 days was evaluated according to the following criteria. Table 4 shows the obtained results. In addition, none of the peeling between the underlayer and the gel nail layer was confirmed.
4: No change in appearance was confirmed.
3: Slight peeling was confirmed between the nail and the base layer.
2: Partial peeling was confirmed between the nail and the base layer, and whitening was confirmed in part of the appearance.
1: Remarkable peeling was confirmed between the nail and the base layer, and whitening was confirmed in the entire appearance.
また、得られた爪/下地層/ジェルネイル層の積層体における密着性を、耐石鹸の観点から評価した。すなわち、爪に対して下地層及びジェルネイル層が形成された状態の手を、約40℃の水で、薬用石鹸ミューズ(登録商標)(レキットベンキーザー・ジャパン(株)製)を用いて普通に洗い、洗い終わった後、タオル性素材により拭きとる作業を1日に30回行い、これを3日間継続した後の外観変化を、下記基準に沿って評価した。得られた結果を表4に示す。なお、下地層とジェルネイル層との間における剥離はいずれも確認されなかった。
4:外観に変化が確認されなかった。
3:爪と下地層との間に、若干の剥離が確認された。
2:爪と下地層との間に、一部の剥離が確認され、外観の一部に白化が確認された。
1:爪と下地層との間に、顕著な剥離が確認され、外観の全体に白化が確認された。 (1) -3 Soap Resistance The adhesion of the obtained nail / underlayer / gel nail layer laminate was evaluated from the viewpoint of soap resistance. That is, using a medicinal soap Muse (registered trademark) (manufactured by Rekit Benkieser Japan Co., Ltd.) with water of about 40 ° C. in a state where the base layer and the gel nail layer are formed on the nails. Then, after the washing was completed, the work of wiping with a towel material was performed 30 times a day, and the appearance change after continuing this for 3 days was evaluated according to the following criteria. Table 4 shows the obtained results. In addition, none of the peeling between the underlayer and the gel nail layer was confirmed.
4: No change in appearance was confirmed.
3: Slight peeling was confirmed between the nail and the base layer.
2: Partial peeling was confirmed between the nail and the base layer, and whitening was confirmed in part of the appearance.
1: Remarkable peeling was confirmed between the nail and the base layer, and whitening was confirmed in the entire appearance.
(2)剥離性
得られた爪/下地層/ジェルネイル層の積層体における剥離性を評価した。すなわち、下地層及びジェルネイル層が形成された爪に対して、アセトンを含んだ布を巻き付けて15分放置した後、市販のオレンジスティックにて軽く擦り、剥離できるかどうかを確認した。同作業を1サイクルとして、剥離できない場合は、同様のサイクルを繰り返し実施し、剥離するまでに必要なサイクルにて下記基準で評価した。得られた結果を表4に示す。なお、下地層とジェルネイル層との間における剥離はいずれも確認されなかった。
4:1回のサイクルで、爪から下地層及びジェルネイル層の積層体が剥離した。
3:2回のサイクルで、爪から下地層及びジェルネイル層の積層体が剥離した。
2:3回のサイクルで、爪から下地層及びジェルネイル層の積層体が剥離した。
1:3回のサイクルでも、爪から下地層及びジェルネイル層の積層体が剥離しなかった。 (2) Peelability The peelability of the obtained nail / underlayer / gel nail layer laminate was evaluated. That is, the nail | claw in which the base layer and the gel nail layer were formed was wound with a cloth containing acetone and allowed to stand for 15 minutes, and then lightly rubbed with a commercially available orange stick to confirm whether it could be peeled off. When the same operation was regarded as one cycle and peeling was not possible, the same cycle was repeated and evaluated according to the following criteria in cycles necessary until peeling. Table 4 shows the obtained results. In addition, none of the peeling between the underlayer and the gel nail layer was confirmed.
The laminate of the underlayer and the gel nail layer peeled from the nail in a cycle of 4: 1 times.
3: The laminate of the base layer and the gel nail layer peeled from the nail in two cycles.
2: The laminate of the base layer and the gel nail layer peeled from the nail in three cycles.
1: The laminate of the base layer and the gel nail layer did not peel from the nail even after three cycles.
得られた爪/下地層/ジェルネイル層の積層体における剥離性を評価した。すなわち、下地層及びジェルネイル層が形成された爪に対して、アセトンを含んだ布を巻き付けて15分放置した後、市販のオレンジスティックにて軽く擦り、剥離できるかどうかを確認した。同作業を1サイクルとして、剥離できない場合は、同様のサイクルを繰り返し実施し、剥離するまでに必要なサイクルにて下記基準で評価した。得られた結果を表4に示す。なお、下地層とジェルネイル層との間における剥離はいずれも確認されなかった。
4:1回のサイクルで、爪から下地層及びジェルネイル層の積層体が剥離した。
3:2回のサイクルで、爪から下地層及びジェルネイル層の積層体が剥離した。
2:3回のサイクルで、爪から下地層及びジェルネイル層の積層体が剥離した。
1:3回のサイクルでも、爪から下地層及びジェルネイル層の積層体が剥離しなかった。 (2) Peelability The peelability of the obtained nail / underlayer / gel nail layer laminate was evaluated. That is, the nail | claw in which the base layer and the gel nail layer were formed was wound with a cloth containing acetone and allowed to stand for 15 minutes, and then lightly rubbed with a commercially available orange stick to confirm whether it could be peeled off. When the same operation was regarded as one cycle and peeling was not possible, the same cycle was repeated and evaluated according to the following criteria in cycles necessary until peeling. Table 4 shows the obtained results. In addition, none of the peeling between the underlayer and the gel nail layer was confirmed.
The laminate of the underlayer and the gel nail layer peeled from the nail in a cycle of 4: 1 times.
3: The laminate of the base layer and the gel nail layer peeled from the nail in two cycles.
2: The laminate of the base layer and the gel nail layer peeled from the nail in three cycles.
1: The laminate of the base layer and the gel nail layer did not peel from the nail even after three cycles.
(実施例2~16)
爪化粧料1において、化合物1-aを表5に記載の化合物に変更した以外は同様にして爪化粧料を作製し、実施例1と同様に評価した。結果を表5に示す。 (Examples 2 to 16)
A nail cosmetic was prepared in the same manner as in nail cosmetic 1, except that compound 1-a was changed to the compounds shown in Table 5, and evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 5.
爪化粧料1において、化合物1-aを表5に記載の化合物に変更した以外は同様にして爪化粧料を作製し、実施例1と同様に評価した。結果を表5に示す。 (Examples 2 to 16)
A nail cosmetic was prepared in the same manner as in nail cosmetic 1, except that compound 1-a was changed to the compounds shown in Table 5, and evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 5.
(実施例17及び比較例2)
撹拌装置を備えた容器内に、下記に記載の組成を収容した後、撹拌装置を用いて均一になるまで混合し、爪化粧料3を得た。 (Example 17 and Comparative Example 2)
The composition described below was placed in a container equipped with a stirring device, and then mixed until uniform using a stirring device to obtain nail cosmetic 3.
撹拌装置を備えた容器内に、下記に記載の組成を収容した後、撹拌装置を用いて均一になるまで混合し、爪化粧料3を得た。 (Example 17 and Comparative Example 2)
The composition described below was placed in a container equipped with a stirring device, and then mixed until uniform using a stirring device to obtain nail cosmetic 3.
<爪化粧料3>
・化合物1-a:80質量部
・1-[4-(2-(2-ヒドロキシエトキシ)エトキシ)フェニル]-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オン(特開2000-186242号公報の記載を参照して合成した。):11質量部
・ポリマーP-23:100質量部
・水:165質量部
・2-プロパノール:12質量部 <Nail cosmetic 3>
Compound 1-a: 80 parts by mass 1- [4- (2- (2-hydroxyethoxy) ethoxy) phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one (Japanese Patent Laid-Open No. 2000-186242) ): 11 parts by mass, polymer P-23: 100 parts by mass, water: 165 parts by mass, 2-propanol: 12 parts by mass
・化合物1-a:80質量部
・1-[4-(2-(2-ヒドロキシエトキシ)エトキシ)フェニル]-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オン(特開2000-186242号公報の記載を参照して合成した。):11質量部
・ポリマーP-23:100質量部
・水:165質量部
・2-プロパノール:12質量部 <Nail cosmetic 3>
Compound 1-a: 80 parts by mass 1- [4- (2- (2-hydroxyethoxy) ethoxy) phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one (Japanese Patent Laid-Open No. 2000-186242) ): 11 parts by mass, polymer P-23: 100 parts by mass, water: 165 parts by mass, 2-propanol: 12 parts by mass
<下地層(ベース層)の形成>
得られた爪化粧料3を0.25g、爪状に型取りしたアルミ基材上に刷毛を使って塗布し、紫外線ランプ(36W)を2分間照射した。こうして下地層を形成したアルミ基材を作製した。
硬化膜厚を測定するためにエタノールで下地層表面を洗浄した後、形成した被膜を目視で観察したところ、完全に固化していた。また、この時の膜厚は、約150μm(±10μm)であった。 <Formation of base layer (base layer)>
0.25 g of the obtained nail cosmetic 3 was applied onto an aluminum substrate shaped like a nail using a brush, and irradiated with an ultraviolet lamp (36 W) for 2 minutes. Thus, an aluminum base material on which an underlayer was formed was produced.
After the surface of the underlayer was washed with ethanol in order to measure the cured film thickness, the formed film was visually observed to be completely solidified. The film thickness at this time was about 150 μm (± 10 μm).
得られた爪化粧料3を0.25g、爪状に型取りしたアルミ基材上に刷毛を使って塗布し、紫外線ランプ(36W)を2分間照射した。こうして下地層を形成したアルミ基材を作製した。
硬化膜厚を測定するためにエタノールで下地層表面を洗浄した後、形成した被膜を目視で観察したところ、完全に固化していた。また、この時の膜厚は、約150μm(±10μm)であった。 <Formation of base layer (base layer)>
0.25 g of the obtained nail cosmetic 3 was applied onto an aluminum substrate shaped like a nail using a brush, and irradiated with an ultraviolet lamp (36 W) for 2 minutes. Thus, an aluminum base material on which an underlayer was formed was produced.
After the surface of the underlayer was washed with ethanol in order to measure the cured film thickness, the formed film was visually observed to be completely solidified. The film thickness at this time was about 150 μm (± 10 μm).
<ジェルネイル層の形成>
下地層を形成したアルミ基材上に、カラー層として市販のカルジェル#CG-03 フレッシュピンク(モガブルック社製)を刷毛で塗布・紫外線ランプ(36W)で1分間照射した。その後、トップ層として市販のトップジェル(モガブルック社製)を刷毛で塗布し、同様に紫外線ランプ(36W)で2分間照射した。こうして爪化粧料3を下地層に有するジェルネイル層を備えたアルミ基材1を作製した。形成したジェルネイル層を目視で観察したところ、完全に固化していた。カラー層とトップ層とを合わせた膜厚は約250μmであった。
同様にして爪化粧料2を下地層に用いたアルミ基材2を作製し、上記と同様の方法により密着性と剥離性を評価した。結果を表6に示す。 <Formation of gel nail layer>
A commercially available calgel # CG-03 fresh pink (manufactured by Mogabrook Co., Ltd.) was applied as a color layer to the aluminum base material on which the underlayer was formed with a brush and irradiated with an ultraviolet lamp (36 W) for 1 minute. Thereafter, a commercially available top gel (manufactured by Mogabrook Co., Ltd.) was applied as a top layer with a brush and similarly irradiated with an ultraviolet lamp (36 W) for 2 minutes. In this way, an aluminum substrate 1 having a gel nail layer having the nail cosmetic 3 as a base layer was produced. When the formed gel nail layer was visually observed, it was completely solidified. The total film thickness of the color layer and the top layer was about 250 μm.
In the same manner, an aluminum base material 2 using the nail cosmetic 2 as a base layer was produced, and adhesion and peelability were evaluated by the same method as described above. The results are shown in Table 6.
下地層を形成したアルミ基材上に、カラー層として市販のカルジェル#CG-03 フレッシュピンク(モガブルック社製)を刷毛で塗布・紫外線ランプ(36W)で1分間照射した。その後、トップ層として市販のトップジェル(モガブルック社製)を刷毛で塗布し、同様に紫外線ランプ(36W)で2分間照射した。こうして爪化粧料3を下地層に有するジェルネイル層を備えたアルミ基材1を作製した。形成したジェルネイル層を目視で観察したところ、完全に固化していた。カラー層とトップ層とを合わせた膜厚は約250μmであった。
同様にして爪化粧料2を下地層に用いたアルミ基材2を作製し、上記と同様の方法により密着性と剥離性を評価した。結果を表6に示す。 <Formation of gel nail layer>
A commercially available calgel # CG-03 fresh pink (manufactured by Mogabrook Co., Ltd.) was applied as a color layer to the aluminum base material on which the underlayer was formed with a brush and irradiated with an ultraviolet lamp (36 W) for 1 minute. Thereafter, a commercially available top gel (manufactured by Mogabrook Co., Ltd.) was applied as a top layer with a brush and similarly irradiated with an ultraviolet lamp (36 W) for 2 minutes. In this way, an aluminum substrate 1 having a gel nail layer having the nail cosmetic 3 as a base layer was produced. When the formed gel nail layer was visually observed, it was completely solidified. The total film thickness of the color layer and the top layer was about 250 μm.
In the same manner, an aluminum base material 2 using the nail cosmetic 2 as a base layer was produced, and adhesion and peelability were evaluated by the same method as described above. The results are shown in Table 6.
(実施例18及び比較例3)
撹拌装置を備えた容器内に、下記に記載の組成を収容した後、撹拌装置を用いて均一になるまで混合し、爪化粧料4を得た。 (Example 18 and Comparative Example 3)
The composition described below was accommodated in a container equipped with a stirring device, and then mixed until uniform using a stirring device to obtain nail cosmetic 4.
撹拌装置を備えた容器内に、下記に記載の組成を収容した後、撹拌装置を用いて均一になるまで混合し、爪化粧料4を得た。 (Example 18 and Comparative Example 3)
The composition described below was accommodated in a container equipped with a stirring device, and then mixed until uniform using a stirring device to obtain nail cosmetic 4.
<爪化粧料4>
・化合物1-a:10質量部
・ジフェニル(2,4,6-トリメチルベンゾイル)フォスフィンオキサイド(BASF社製、ルシリンTPO):11質量部
・ポリマーP-16:100質量部
・2-ヒドロキシエチルアクリレート:42質量部
・アクリル酸:14質量部
・N,N-ジメチルアクリルアミド:14質量部 <Nail cosmetic 4>
Compound 1-a: 10 parts by mass Diphenyl (2,4,6-trimethylbenzoyl) phosphine oxide (BASF Corp., Lucyrin TPO): 11 parts by mass Polymer P-16: 100 parts by mass 2-hydroxyethyl Acrylate: 42 parts by mass Acrylic acid: 14 parts by mass N, N-dimethylacrylamide: 14 parts by mass
・化合物1-a:10質量部
・ジフェニル(2,4,6-トリメチルベンゾイル)フォスフィンオキサイド(BASF社製、ルシリンTPO):11質量部
・ポリマーP-16:100質量部
・2-ヒドロキシエチルアクリレート:42質量部
・アクリル酸:14質量部
・N,N-ジメチルアクリルアミド:14質量部 <Nail cosmetic 4>
Compound 1-a: 10 parts by mass Diphenyl (2,4,6-trimethylbenzoyl) phosphine oxide (BASF Corp., Lucyrin TPO): 11 parts by mass Polymer P-16: 100 parts by mass 2-hydroxyethyl Acrylate: 42 parts by mass Acrylic acid: 14 parts by mass N, N-dimethylacrylamide: 14 parts by mass
<下地層(ベース層)の形成>
得られた爪化粧料4を0.25g、爪状に型取りしたアルミ基材上に刷毛を使って塗布し、紫外線ランプ(36W)を2分間照射した。こうして下地層を形成したアルミ基材を作製した。
硬化膜厚を測定するためにエタノールで下地層表面を洗浄した後、形成した被膜を目視で観察したところ、完全に固化していた。また、この時の膜厚は、約150μm(±10μm)であった。 <Formation of base layer (base layer)>
The obtained nail cosmetic 4 was applied to a 0.25 g nail-shaped aluminum substrate using a brush and irradiated with an ultraviolet lamp (36 W) for 2 minutes. Thus, an aluminum base material on which an underlayer was formed was produced.
After the surface of the underlayer was washed with ethanol in order to measure the cured film thickness, the formed film was visually observed to be completely solidified. The film thickness at this time was about 150 μm (± 10 μm).
得られた爪化粧料4を0.25g、爪状に型取りしたアルミ基材上に刷毛を使って塗布し、紫外線ランプ(36W)を2分間照射した。こうして下地層を形成したアルミ基材を作製した。
硬化膜厚を測定するためにエタノールで下地層表面を洗浄した後、形成した被膜を目視で観察したところ、完全に固化していた。また、この時の膜厚は、約150μm(±10μm)であった。 <Formation of base layer (base layer)>
The obtained nail cosmetic 4 was applied to a 0.25 g nail-shaped aluminum substrate using a brush and irradiated with an ultraviolet lamp (36 W) for 2 minutes. Thus, an aluminum base material on which an underlayer was formed was produced.
After the surface of the underlayer was washed with ethanol in order to measure the cured film thickness, the formed film was visually observed to be completely solidified. The film thickness at this time was about 150 μm (± 10 μm).
<ジェルネイル層の形成>
下地層を形成したアルミ基材上に、カラー層として市販のカルジェル#CG-03 フレッシュピンク(モガブルック社製)を刷毛で塗布・紫外線ランプ(36W)で1分間照射した。その後、トップ層として市販のトップジェル(モガブルック社製)を刷毛で塗布し、同様に紫外線ランプ(36W)で2分間照射した。こうして爪化粧料4を下地層に有するジェルネイル層を備えたアルミ基材3を作製した。形成したジェルネイル層を目視で観察したところ、完全に固化していた。カラー層とトップ層とを合わせた膜厚は約250μmであった。
同様にして爪化粧料2を下地層に用いたアルミ基材2を作製し、上記と同様の方法により密着性を評価した。また、剥離性については下記の方法により評価した。結果を表7に示す。 <Formation of gel nail layer>
A commercially available calgel # CG-03 fresh pink (manufactured by Mogabrook Co., Ltd.) was applied as a color layer to the aluminum base material on which the underlayer was formed with a brush and irradiated with an ultraviolet lamp (36 W) for 1 minute. Thereafter, a commercially available top gel (manufactured by Mogabrook Co., Ltd.) was applied as a top layer with a brush and similarly irradiated with an ultraviolet lamp (36 W) for 2 minutes. In this way, an aluminum substrate 3 provided with a gel nail layer having the nail cosmetic 4 as a base layer was produced. When the formed gel nail layer was visually observed, it was completely solidified. The total film thickness of the color layer and the top layer was about 250 μm.
Similarly, an aluminum base material 2 using the nail cosmetic 2 as a base layer was produced, and adhesion was evaluated by the same method as described above. The peelability was evaluated by the following method. The results are shown in Table 7.
下地層を形成したアルミ基材上に、カラー層として市販のカルジェル#CG-03 フレッシュピンク(モガブルック社製)を刷毛で塗布・紫外線ランプ(36W)で1分間照射した。その後、トップ層として市販のトップジェル(モガブルック社製)を刷毛で塗布し、同様に紫外線ランプ(36W)で2分間照射した。こうして爪化粧料4を下地層に有するジェルネイル層を備えたアルミ基材3を作製した。形成したジェルネイル層を目視で観察したところ、完全に固化していた。カラー層とトップ層とを合わせた膜厚は約250μmであった。
同様にして爪化粧料2を下地層に用いたアルミ基材2を作製し、上記と同様の方法により密着性を評価した。また、剥離性については下記の方法により評価した。結果を表7に示す。 <Formation of gel nail layer>
A commercially available calgel # CG-03 fresh pink (manufactured by Mogabrook Co., Ltd.) was applied as a color layer to the aluminum base material on which the underlayer was formed with a brush and irradiated with an ultraviolet lamp (36 W) for 1 minute. Thereafter, a commercially available top gel (manufactured by Mogabrook Co., Ltd.) was applied as a top layer with a brush and similarly irradiated with an ultraviolet lamp (36 W) for 2 minutes. In this way, an aluminum substrate 3 provided with a gel nail layer having the nail cosmetic 4 as a base layer was produced. When the formed gel nail layer was visually observed, it was completely solidified. The total film thickness of the color layer and the top layer was about 250 μm.
Similarly, an aluminum base material 2 using the nail cosmetic 2 as a base layer was produced, and adhesion was evaluated by the same method as described above. The peelability was evaluated by the following method. The results are shown in Table 7.
<剥離性>
得られたアルミ基材のジェルネイル層表面及び先端に対してファイル(爪用のヤスリ)で傷をつける。その後、下記記載の除去液(40℃)に2分浸漬し、2分経過後に浸漬中で木製のスパチュラを用いて押しはがし剥離施術を行い、基材からの除去しやすさを下記評価基準により評価した。
-評価基準-
4:容易に除去が可能であった。
3:除去が可能であった。
2:除去が可能であったが、若干の残膜が残り除去液を使用して拭き取った。
1:除去不可であった。 <Peelability>
The surface of the gel nail layer and the tip of the obtained aluminum substrate are scratched with a file (file for nails). Then, it is immersed in the removal liquid (40 ° C.) described below for 2 minutes, and after 2 minutes, it is peeled off using a wooden spatula during immersion, and the ease of removal from the substrate is determined according to the following evaluation criteria. evaluated.
-Evaluation criteria-
4: Easily removable.
3: Removal was possible.
2: Although removal was possible, some remaining film remained and wiped off using the removal liquid.
1: It was not removable.
得られたアルミ基材のジェルネイル層表面及び先端に対してファイル(爪用のヤスリ)で傷をつける。その後、下記記載の除去液(40℃)に2分浸漬し、2分経過後に浸漬中で木製のスパチュラを用いて押しはがし剥離施術を行い、基材からの除去しやすさを下記評価基準により評価した。
-評価基準-
4:容易に除去が可能であった。
3:除去が可能であった。
2:除去が可能であったが、若干の残膜が残り除去液を使用して拭き取った。
1:除去不可であった。 <Peelability>
The surface of the gel nail layer and the tip of the obtained aluminum substrate are scratched with a file (file for nails). Then, it is immersed in the removal liquid (40 ° C.) described below for 2 minutes, and after 2 minutes, it is peeled off using a wooden spatula during immersion, and the ease of removal from the substrate is determined according to the following evaluation criteria. evaluated.
-Evaluation criteria-
4: Easily removable.
3: Removal was possible.
2: Although removal was possible, some remaining film remained and wiped off using the removal liquid.
1: It was not removable.
Claims (14)
- (メタ)アクリルアミド基を2つ以上有する化合物を含有することを特徴とする
爪化粧料。 A nail cosmetic comprising a compound having two or more (meth) acrylamide groups. - 前記(メタ)アクリルアミド基を2つ以上有する化合物が、下記式1~式4のいずれかで表される化合物である、請求項1に記載の爪化粧料。
- 前記(メタ)アクリルアミド基を2つ以上有する化合物が、前記式1で表される化合物である、請求項2に記載の爪化粧料。 The nail cosmetic according to claim 2, wherein the compound having two or more (meth) acrylamide groups is a compound represented by the formula 1.
- 前記(メタ)アクリルアミド基を2つ以上有する化合物が、前記式2で表される化合物である、請求項2に記載の爪化粧料。 The nail cosmetic according to claim 2, wherein the compound having two or more (meth) acrylamide groups is a compound represented by the formula 2.
- 光重合開始剤を更に含む、請求項1~4のいずれか1項に記載の爪化粧料。 The nail cosmetic according to any one of claims 1 to 4, further comprising a photopolymerization initiator.
- 前記光重合開始剤が、アセトフェノン化合物、ベンゾフェノン化合物、チオキサントン化合物、ホスフィンオキシド化合物、メタロセン化合物、及び、ロフィンダイマー化合物よりなる群から選ばれた少なくとも1種の化合物である、請求項5に記載の爪化粧料。 The nail according to claim 5, wherein the photopolymerization initiator is at least one compound selected from the group consisting of an acetophenone compound, a benzophenone compound, a thioxanthone compound, a phosphine oxide compound, a metallocene compound, and a lophine dimer compound. Cosmetics.
- ポリマー及び/又はオリゴマーを更に含む、請求項1~6のいずれか1項に記載の爪化粧料。 The nail cosmetic according to any one of claims 1 to 6, further comprising a polymer and / or an oligomer.
- 前記ポリマー及び/又はオリゴマーが、下記式C-1で表される構造及び/若しくはアミノ基を有するポリマー並びに/又はオリゴマーである、請求項7に記載の爪化粧料。
- 前記(メタ)アクリルアミド基を2つ以上有する化合物以外のエチレン性不飽和化合物を更に含む、請求項1~8のいずれか1項に記載の爪化粧料。 The nail cosmetic according to any one of claims 1 to 8, further comprising an ethylenically unsaturated compound other than the compound having two or more (meth) acrylamide groups.
- 前記エチレン性不飽和化合物が、アクリル酸、メタクリル酸、N,N-ジメチルアクリルアミド、N,N-ジエチルアクリルアミド、モルホリンアクリルアミド、N-ヒドロキシエチルアクリルアミド、N-ビニルピロリドン、N-ビニルカプロラクタム、2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタクリレート、3-ヒドロキシプロピルアクリレート、3-ヒドロキシプロピルメタクリレート、2-ヒドロキシプロピルアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタクリレート、2-ヒドロキシブチルアクリレート、2-ヒドロキシブチルメタクリレート、4-ヒドロキシブチルアクリレート、及び、グリセリンモノメタクリレートよりなる群から選ばれた化合物を少なくとも含む、請求項9に記載の爪化粧料。 The ethylenically unsaturated compound is acrylic acid, methacrylic acid, N, N-dimethylacrylamide, N, N-diethylacrylamide, morpholine acrylamide, N-hydroxyethylacrylamide, N-vinylpyrrolidone, N-vinylcaprolactam, 2-hydroxy Ethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 3-hydroxypropyl acrylate, 3-hydroxypropyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 2-hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxybutyl methacrylate, 4-hydroxybutyl acrylate The nail cosmetic according to claim 9, comprising at least a compound selected from the group consisting of glycerin monomethacrylate.
- 溶剤を更に含む、請求項1~10のいずれか1項に記載の爪化粧料。 The nail cosmetic according to any one of claims 1 to 10, further comprising a solvent.
- 前記溶剤が、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、1-プロパノール、1-ブタノール、2-ブタノール、t-ブチルアルコール、2-メチル-1-プロパノール、1-メトキシ-2-プロパノール、酢酸、及び、アセトニトリルよりなる群から選ばれた化合物を少なくとも含む、請求項11に記載の爪化粧料。 The solvent is water, methanol, ethanol, isopropanol, 1-propanol, 1-butanol, 2-butanol, t-butyl alcohol, 2-methyl-1-propanol, 1-methoxy-2-propanol, acetic acid, and acetonitrile. The nail cosmetic according to claim 11, comprising at least a compound selected from the group consisting of:
- 請求項1~12のいずれか1項に記載の爪化粧料から形成された層を有する人工爪。 An artificial nail having a layer formed from the nail cosmetic according to any one of claims 1 to 12.
- 請求項1~12のいずれか1項に記載の爪化粧料を含むネイルアートキット。 A nail art kit comprising the nail cosmetic according to any one of claims 1 to 12.
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