WO2016015911A1 - Electronic component and method for producing an electronic component - Google Patents

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WO2016015911A1
WO2016015911A1 PCT/EP2015/063207 EP2015063207W WO2016015911A1 WO 2016015911 A1 WO2016015911 A1 WO 2016015911A1 EP 2015063207 W EP2015063207 W EP 2015063207W WO 2016015911 A1 WO2016015911 A1 WO 2016015911A1
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frame
wafer
carrier
electrical connection
electronic
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PCT/EP2015/063207
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Boris Eichenberg
Georg Bogner
Ralf Staub
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Osram Opto Semiconductors Gmbh
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Definitions

  • At least one object of certain embodiments is to provide an electronic component. At least another object of certain embodiments is to provide a method for manufacturing an electronic component.
  • the carrier element may have an electrical connection surface on the mounting side, on which the at least one electrical semiconductor chip is mounted and electrically connected.
  • the electrical connection surface has at least two electrical connection elements, on which the at least one electronic semiconductor chip is mounted and electrically connected.
  • the electrical connection surfaces can be formed in particular by metal layers. These can be structured in a suitable form so that the at least one electronic semiconductor chip can be mounted and electrically connected.
  • Connection surfaces can be, for example, by a direct
  • Forming connection elements of the electrical connection surface may include or be made of gold.
  • the carrier element may have additional contact elements, such as conductor tracks and / or
  • vias are electrical vias
  • the electronic component has at least one frame element which is mounted on the
  • Frame element is in particular a separate component, which is provided individually or in a composite, which can then be divided, before assembly.
  • the composite can be, for example, a wafer composite in which a Frame wafer is provided which has a plurality of contiguous frame elements.
  • the frame element is not a component which is formed by a molding process on the carrier element or together with the carrier element, as for example in a molding process such as a
  • Injection molding, transfer molding, compression molding or a similar process would be the case.
  • the at least one frame element is arranged laterally next to the electronic semiconductor chip.
  • a lateral direction here denotes a direction along the main extension plane of the mounting side of the carrier element. This means that the at least one frame element in a plan view of the mounting side of the support member laterally next to the at least one
  • the at least one frame element may be formed such that it does not completely enclose the at least one electronic semiconductor chip in the lateral direction. In other words, this means that the at least one frame element does not form a frame that completely surrounds the semiconductor chip. In this case, apart from at least one side of the at least one electronic semiconductor chip, no part of the at least one frame element is arranged.
  • the at least one frame element in the case of a plan view of the mounting surface may have the shape of a beam, ie a straight shape along a main extension direction, such that the frame element is arranged on one side of the at least one semiconductor chip.
  • the frame member on two sides of the at least one Semiconductor chips can be arranged.
  • the at least one frame member may also have a C-like shape
  • the frame member may be disposed on three sides of the at least one semiconductor chip. Does the electronic component a plurality of
  • Frame elements they may also be formed and arranged on the support member, that the at least one electronic semiconductor chip in a lateral direction is not completely from the plurality of frame members
  • the at least one frame element is electrically conductive.
  • Frame element is present through the frame member.
  • the at least one frame element is mounted on the electrical connection surface. This may mean in particular that the at least one frame element on an electrical connection element
  • Semiconductor chips can be carried through the at least one frame element.
  • the at least one frame element on a side facing the carrier element a first metallic surface and on the side facing away from the carrier element a second metallic
  • the metallic surfaces can be the same and thus have the same metal.
  • metal and “metal” means a single metallic element or even a mixture or alloy of several metallic elements.
  • the first metallic surface and the second metallic surface of different metals.
  • at least one of the metallic surfaces can be formed by a metal layer.
  • the frame element has a base body, on which at least one metal layer is applied, which forms one of the metallic surfaces.
  • the at least one frame member may comprise a silicon body on which the first and second metallic surfaces are formed by metal layers. In other words, this means that the main body on the first side, the support element
  • the at least one frame element a first metal layer, which forms the first metallic surface, and on the second, the carrier element facing away from a second metal layer, which forms the second metallic surface.
  • the at least one frame element a first metal layer, which forms the first metallic surface, and on the second, the carrier element facing away from a second metal layer, which forms the second metallic surface.
  • Metal layer is applied.
  • the metallic body are formed while the other metallic surface of the at least one frame member is formed by a metal layer, which is applied to the metallic base body.
  • the metallic main body may also have, as the first and second metallic surfaces, in each case a metal layer applied to the metallic main body.
  • one or more further metal layers may be arranged, which in particular have a diffusion barrier between them
  • metallic body and the metal layer can form.
  • materials for the metallic base body and the metal layer in particular compounds with materials selected from Ni, Ti, W and N are suitable, such as, for example, Ni, Ti, TiW and TiWN.
  • a corresponding carrier which has different metallizations, is about 250% more expensive than a corresponding carrier with only one due to the considerably higher production costs
  • the problem of multiple metallization can be avoided by the at least one frame member.
  • the at least one frame element as the first metallic surface, which faces the carrier element, a metal, for example in the form of a metallization, which are compatible with the carrier element and in particular for electrical
  • Terminal surface is.
  • the side facing away from the carrier element may have a correspondingly formed second metallic surface corresponding to the second metallization required for external contacting. This can do that
  • Frame element can be mounted with the same technique on the mounting side of the support member as the at least one electronic semiconductor chip, while the side facing away from the support member of the at least one frame member may have a provided for an external contacting other metallization.
  • the at least one frame element can form a kind of "rewiring chip" whose use on the carrier element does not require the provision of multiple metallization with complex methods described with the same method as the at least one electronic semiconductor chip can be mounted. This allows
  • metallizations can be achieved. Furthermore, in the event that the side facing away from the carrier element of the at least one frame member is provided for external contacting of the electronic component, a higher compared to the mounting side of the support member contact surface can be provided, which, for example, after casting or embedding of the at least one electronic semiconductor chip with or in a potting material can still be exposed, so no additional
  • a frame wafer can be provided, which forms the base body of a plurality of frame elements.
  • a silicon wafer or a metal wafer can be provided.
  • On the wafer may be on one or both main surfaces of a metal layer to form a desired metallic surface
  • Separation of the frame wafer into individual frame elements can take place before or after assembly of this on a carrier wafer, so that the frame elements either in one
  • Wafer composite or can be mounted as individual components. According to a further embodiment, two of the
  • connection elements on and on each of the two electrical connection elements a frame member is mounted.
  • the electrical connection surface can be even more
  • the frame elements can in particular be arranged on the carrier element such that the at least one semiconductor chip is arranged between the frame elements in the lateral direction. In particular, the frame elements can thus be arranged laterally from the at least one electronic semiconductor chip.
  • the frame elements preferably have at least the same height as the semiconductor chip. are on the at least one
  • Frame elements preferably have a height which is at least as great as the total height of the semiconductor chip with the additional layers and elements applied thereto. Is between the frame elements and on the at least one semiconductor chip and optionally on another
  • each of the frame members is electrically conductive with the respective one
  • each of the frame elements can be used for electrical contacting of the respective underlying electrical connection element in the manner described above.
  • the at least one frame element is mounted on the mounting side and in particular on the electrical connection surface by means of soldering, anodic bonding or gluing.
  • soldering eutectic soldering may be used.
  • the carrier element is a silicon carrier.
  • the carrier element comprises or is made of silicon.
  • the carrier element can be formed by a silicon substrate, which can be produced by singulation of a carrier wafer in the form of a silicon wafer. Compared to other support materials such as ceramics are
  • a silicon carrier for example in a wafer process, can be metallized on the mounting side in a structured manner by means of well-established methods in order to form electrical connecting surfaces.
  • silicon offers one for electronic components
  • the carrier element is a circuit board, such as a printed circuit board (“printed circuit board ”) or a ceramic carrier
  • the carrier element can thus be provided with the electrical connection surface.
  • Ceramic carrier for example
  • Support substrates have suitable ceramic material or be it.
  • Connecting surface of the support member has a plurality of
  • the electrical connection surface may have a suitable number of electrical connection elements, which enables a respectively separate electrical connection or else a series or parallel connection of the plurality of electronic semiconductor chips.
  • the electrical connection surface is structured in electrical connection elements such that a plurality of electronic
  • the at least one electronic semiconductor chip is optoelectronic
  • Semiconductor chip formed This may mean in particular that the electronic semiconductor chip is used as a light-emitting or light-detecting semiconductor chip, ie
  • the at least one electronic semiconductor chip can also be embodied as a purely electronic semiconductor chip and can not fulfill optoelectronic functions.
  • ESD ESD protection diode
  • a potting material is arranged above the at least one semiconductor chip.
  • the potting material may be a plastic material that encloses the at least one semiconductor chip and thus protects it against external influences.
  • the potting material can fulfill further or other functions, for example in the case of a light-emitting
  • the potting material may in particular have a height which is less than or equal to the height of the at least one frame element.
  • the potting material is preferably disposed between the frame members and over the at least one semiconductor chip.
  • the potting material can be applied, for example, by casting or injection molding.
  • an optical element is arranged above the at least one semiconductor chip.
  • the optical element may for example be a transparent
  • the optical element can be mounted on the at least one frame element.
  • the at least one frame element and preferably the two frame elements on sides of the electronic component can protect the at least one electronic semiconductor chip and optionally a wiring to the
  • the at least one and preferably the two frame elements as
  • Contrast agents for example, in headlight applications such as car headlights, such as a dipped beam used, and also serve as a housing for casting the at least one semiconductor chip.
  • the at least one semiconductor chip Depending on the required further processing in the system, the at least one
  • Frame element can be configured with different metallizations or metallic surfaces.
  • the at least one frame element as below
  • a method for producing an electronic component is a
  • Carrier wafer provided.
  • the carrier wafer may in particular be formed by a plurality of still connected carrier elements.
  • the carrier wafer through a silicon wafer, a ceramic wafer or a
  • connection surfaces can be or are applied to the carrier wafer. This may mean that the carrier wafer, for example in the case of a printed circuit board assembly, is already provided with connection surfaces or, in the case of a silicon or ceramic wafer, is provided with connection surfaces.
  • the carrier wafer for example in the case of a printed circuit board assembly, is already provided with connection surfaces or, in the case of a silicon or ceramic wafer, is provided with connection surfaces.
  • a frame member can be mounted on the carrier wafer with the pads.
  • a plurality of frame members can be mounted on the carrier wafer with the pads. These can, as described above, provided as a composite, for example in the form of a frame wafer, or as individual components and on the
  • Carrier wafers are mounted. Furthermore, at least one electronic semiconductor chip can be mounted on each of the electrical connection surfaces. The assembly of
  • each of the electronic components has a carrier element, formed from a part of the carrier wafer. Furthermore, each of the isolated electronic components at least one
  • a method for producing an electronic component is a
  • Carrier wafer provided with electrical pads, each having at least two electrical connection elements on a mounting side of the carrier wafer.
  • Pad can have two frame elements so on the
  • Carrier wafers are mounted on each of the electrical pads respectively on two of the at least two
  • each case a frame element is mounted. Furthermore, at least one electronic semiconductor chip is mounted on each of the electrical connection surfaces.
  • a plurality of electronic components is formed, each of the electronic components a carrier element, formed by a part of the carrier wafer, and on the at least two electrical connection elements of
  • Connection surface each having a frame element can be especially for the case
  • frame elements are used, which, as described above, have a metallic base body.
  • a first silicon wafer is provided as carrier wafer for producing an electronic component.
  • Carrier elements are formed. On the carrier wafer formed by the first silicon wafer, electrically, electrically, and
  • Pads are applied with at least two electrical connection elements on a mounting side.
  • a second silicon wafer is provided as a frame wafer, are introduced into the openings. The openings are arranged such that they at a mounting of the frame wafer forming the second
  • Silicon wafer at least partially over the electrical
  • connection surfaces are arranged.
  • the electrical connection surfaces are at least partially exposed after the mounting of the second silicon wafer on the first silicon wafer due to the openings in the second silicon wafer.
  • the frame wafer is mounted on the carrier wafer.
  • the assembly can be done as described above in connection with the at least one frame element, so for example by soldering, such as eutectic soldering, by anodic bonding or by gluing.
  • soldering such as eutectic soldering
  • Terminal surfaces will be at least an electronic one
  • Silicon wafers are divided into a variety of electronic components, each of the electronic
  • Components comprises a support member which is formed by a part of the carrier wafer forming the first
  • Silicon wafer and at least one frame member which is formed by a part of the frame wafer forming second silicon wafer.
  • the assembly of the at least one electronic semiconductor chip can take place before or after the division of the silicon wafers mounted on one another respectively. Preferably, however, an assembly of the electronic semiconductor chips takes place before the cutting in the wafer composite.
  • a first metallic surface passes through
  • Carrier wafer is turned away, a second metallic surface are formed by applying a metal layer.
  • the formation of the second metallic surface can in this case take place before or after the division of the wafers mounted on one another.
  • LED arrays such as those used in automotive headlamps, are now widely carriers for semiconductor light-emitting chips are used on which to produce necessary properties such as a shutter edge or a homogeneous
  • Bonding techniques common to silicon wafers such as anodic or eutectic bonding
  • Semiconductor chip further layers to be adjusted.
  • the openings in the second silicon wafer can be formed in a precise manner, for example by etching.
  • Silicon wafer suitable metal layers are applied to form desired metallic surfaces, so that on the one hand a mounting of the second silicon wafer on the first silicon wafer, in particular on the electrical pads, and on the other hand, the provision of a desired surface for later external contacting of the individual electronic components can be made possible.
  • an aluminum layer can be applied for a later aluminum wire bonding.
  • FIGS. 1A and 1B are schematic representations of a
  • FIGS. 2A and 2B are schematic representations of
  • Figures 3A and 3B are schematic representations of frame elements according to others
  • Figure 4 is a schematic representation of an electronic circuit
  • FIGS. 5A to 5C are schematic representations of
  • FIGS. 6A and 6B are schematic representations of
  • identical, identical or identically acting elements can each be provided with the same reference numerals.
  • the illustrated elements and their proportions with each other are not to be regarded as true to scale, but individual elements, such as layers, components, components and areas, for better representation and / or better understanding may be exaggerated.
  • FIGS. 1A and 1B are schematic representations of an electronic component 100 according to FIG.
  • FIG. 1A shows a
  • Figure 1B shows a schematic three-dimensional view of the electronic component 100.
  • the electronic component 100 has a carrier element 1, which on an assembly side 10 an electrical
  • the carrier element 1 may be, for example, a ceramic carrier or a silicon carrier, on which the electrical connection elements 11 for forming the
  • the electrical connection elements 11 may comprise or be one or more layers comprising one or more materials, for example selected from gold, copper and tin, for example a gold layer, a gold-tin layer or a copper layer. Such materials are particularly suitable for the
  • a printed circuit board is formed.
  • At least one electronic semiconductor chip 3 is arranged and mounted on the electrical connection surface.
  • three electronic semiconductor chips 3 are shown purely by way of example, each of which is embodied as light-emitting semiconductor chips and which in operation emit light of an ultraviolet to blue wavelength purely by way of example.
  • Semiconductor chips 3 and the wavelength conversion layers 4 generated light is formed.
  • all electronic semiconductor chips 3 or just some of these other optoelectronic semiconductor chips may be, such as
  • semiconductor laser diode chips For example, semiconductor laser diode chips or
  • a protective diode chip 5 is provided and mounted on the pad, which protects the electronic semiconductor chips 3 from electrostatic
  • the electronic semiconductor chips 3 and the protection diode chip 5 may vary depending on
  • Series connection of the electronic semiconductor chip 3 is through the two outer, in the illustration shown far left and rightmost arranged electrical
  • the protective diode chip 5 is in corresponding manner parallel to the series circuit of
  • the electronic component has at least one frame element 2.
  • the frame elements 2 are as
  • the electronic component 100 has two frame elements 2, which are laterally adjacent to the electronic semiconductor chips
  • the frame elements 2 are bar-shaped, so that each of the frame elements in each case faces one side of the electronic semiconductor chip 3.
  • Frame elements 2 thus do not form the semiconductor chips 3 completely enclosing frame.
  • two of the four in the embodiment shown a total of four
  • the assembly of the frame elements 2 can in particular
  • the frame elements 2 facing the carrier element 1 a metallic surface which is suitable in the same way as the
  • the side facing away from the support member 1 of the frame members 2 also has a metallic surface, which may be different from the carrier element 1 facing metallic surface and in particular for an external electrical contacting of the electronic component 100 is provided.
  • the frame members 2 are electrically conductive and have, for example, a
  • Silicon basic body or a metallic base body so that in particular an electrical line between the carrier element 1 facing surface and the
  • Carrier element 1 facing away from the surface through the respective frame element 2 can be carried out. Thereby and by the mounting of the frame members 2 provided therefor
  • electrical connection elements 11 may be an electrical
  • the frame elements 2 form a kind of "rewiring chips" which, on their surface facing the carrier element 1, are compatible with the electrical connection surface and on the surface facing away from the carrier element 1
  • the frame elements 2 may, for example, a height
  • FIGS. 2A and 2B show further exemplary embodiments of electronic components 100, which in addition to the components and components described above
  • Potting material 6 have, in which the electronic
  • FIG. 2A shows a sectional view through a corresponding one
  • the frame elements 2 in this embodiment have a greater height than the combination of the semiconductor chips 3 with the wavelength conversion layers 4 arranged thereon.
  • the potting material 6 extends to the
  • Carrier element 1 facing away from the upper side of the frame members 2, so that they are free of the potting material 6 and thereby the external contact easily accessible, while the semiconductor chips 3 and the
  • Wavelength conversion layers 4 are completely enveloped.
  • the potting material 6 has, in particular, a plastic material which can be applied, for example, by casting or injection molding and which serves to protect the
  • the plastic material of the potting material 6 may contain additional substances and / or materials by which the optical or other properties of the potting material can be adapted in a manner known to those skilled in the art.
  • the frame elements 2 may, for example, also have the same height as the combination of the semiconductor chips 3 and the wavelength conversion layers 4, so that the Carrier element 1 facing away from the top
  • Carrier element 1 facing away from the upper sides of the frame members 2 are not covered by the potting material 6, as in
  • Embodiment of Figure 2B is shown in a plan view.
  • FIGS. 3A and 3B show exemplary embodiments of FIG.
  • the frame element 2 according to the embodiment of Figure 3A has a base body 20 which comprises or consists of silicon. On the body 20 are metallic
  • the frame element 2 in contrast to the embodiment of Figure 3A has a base body 20 which by a metallic
  • Body is formed.
  • a metal layer 23 is applied to the base body 20, which forms the second metallic surface 22, while the first metallic surface 21 is formed by the metallic base body itself.
  • the first and second metallic surfaces 21, 22 may also be interchanged, or a metal layer may be present to form both metallic surfaces 21, 22.
  • the metallic base body by copper or a
  • Copper compound may be formed while the metal layer 23 comprises or consists of aluminum. Between the metallic base body 20 and the metal layer 23 further layers, in particular for example as
  • Diffusion barrier formed layers be arranged.
  • Frame elements 2 is mounted.
  • the optical element 7 through a transparent cover plate, a diffuser plate, a wavelength conversion element, a
  • Lens or a combination thereof may be formed.
  • Component 100 of the embodiment of Figure 4 a Potting material 6, as described in connection with Figures 2A and 2B, have.
  • Pads are applied with at least two electrical connection elements 11 on a mounting side.
  • the application of the electrical connection surfaces by means known in the silicon process technology
  • Allow metal layers For the sake of clarity, only one electrical connection element 11 is provided with a reference symbol. Each of the pads is associated with a later electronic component.
  • a frame wafer 9 is in the form of a second
  • Silicon wafer provided. This has openings 90 which, for example, by etching the silicon material of
  • Frame wafer 9 can be produced.
  • the openings 90 are arranged so that they are in an assembly of the
  • Frame wafer 9 are arranged on the carrier wafer 8 at least partially over the electrical connection surfaces, so that these after mounting the frame wafer 9 on the
  • Carrier wafer 8 are at least partially exposed. Such an assembled state is shown in Fig. 5C.
  • the assembly of the frame wafer 9 on the carrier wafer 8 takes place for example by eutectic soldering, anodic bonding or gluing. This can be done on a surface of the carrier wafer 8
  • Frame wafer 9 which faces after the assembly of the frame wafer 9 on the carrier wafer 8 to the carrier wafer 8, prior to assembly as described above first metallic
  • Carrier wafer 8 for example, a ceramic wafer with a correspondingly applied metallization for formation
  • circuit board such as a printed circuit board, provided on which electronic semiconductor devices and frame elements and other components, for example, as described in connection with the previous embodiments,
  • one frame element can be mounted on two of the at least two electrical connection elements on each of the electrical connection surfaces.
  • Applied components can be a variety of electronic components 100, as in connection with the previous
  • the isolated electronic components 100 have a potting material 6, then they can be cast together in conjunction with the potting material 6.
  • a common border 102 shown in FIG. 6A for example in the form of a silicone bead around the area corresponding to the later electronic components, can be used
  • a potting material 6 can be applied, as shown in FIG. 6B. This makes it possible to encapsulate a variety of electronic components in Individual processes, as practiced in the prior art, to avoid.

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Abstract

Disclosed is an electronic component (100) comprising a support element (1) which has, on a mounting side (10), an electrical land comprising at least two electrical connecting elements (11), on which land at least one electronic semiconductor chip (3) is mounted and electrically connected. At least one frame element (2) is mounted on the mounting side (10). Also disclosed are methods for producing electronic components (100).

Description

Beschreibung description
Elektronisches Bauelement und Verfahren zur Herstellung eines elektronischen Bauelements Electronic component and method for producing an electronic component
Diese Patentanmeldung beansprucht die Priorität der deutschen Patentanmeldung 10 2014 110 614.8, deren Offenbarungsgehalt hiermit durch Rückbezug aufgenommen wird. This patent application claims the priority of German Patent Application 10 2014 110 614.8, the disclosure of which is hereby incorporated by reference.
Es werden ein elektronisches Bauelement und Verfahren zur Herstellung von elektronischen Bauelementen angegeben. An electronic component and method for the production of electronic components are specified.
Zumindest eine Aufgabe von bestimmten Ausführungsformen ist es, ein elektronisches Bauelement anzugeben. Zumindest eine weitere Aufgabe von bestimmten Ausführungsformen ist es, ein Verfahren zur Herstellung eines elektronischen Bauelements anzugeben . At least one object of certain embodiments is to provide an electronic component. At least another object of certain embodiments is to provide a method for manufacturing an electronic component.
Diese Aufgaben werden durch einen Gegenstand und durch These tasks are governed by an object and by
Verfahren gemäß den unabhängigen Patentansprüchen gelöst. Vorteilhafte Ausführungsformen und Weiterbildungen des Method solved according to the independent claims. Advantageous embodiments and further developments of
Gegenstands und des Verfahrens sind in den abhängigen Subject matter and the procedure are in the dependent
Ansprüchen gekennzeichnet und gehen weiterhin aus der Claims and continue to go from the
nachfolgenden Beschreibung und den Zeichnungen hervor. following description and the drawings.
Gemäß zumindest einer Ausführungsform weist ein According to at least one embodiment, a
elektronisches Bauelement ein Trägerelement auf, auf dem zumindest ein elektronischer Halbleiterchip montiert ist. Insbesondere kann das Trägerelement auf der Montageseite eine elektrische Anschlussfläche aufweisen, auf der der zumindest eine elektrische Halbleiterchip montiert und elektrisch angeschlossen ist. Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist die elektrische Anschlussfläche zumindest zwei elektrische Anschlusselemente auf, auf der der zumindest eine elektronische Halbleiterchip montiert und elektrisch angeschlossen ist. Die elektrischen Anschlussflächen können insbesondere durch Metallschichten gebildet werden. Diese können in einer geeigneten Form strukturiert sein, sodass der zumindest eine elektronische Halbleiterchip montiert und elektrisch angeschlossen werden kann. Der elektrische Anschluss des zumindest einen electronic component on a support member on which at least one electronic semiconductor chip is mounted. In particular, the carrier element may have an electrical connection surface on the mounting side, on which the at least one electrical semiconductor chip is mounted and electrically connected. According to a further embodiment, the electrical connection surface has at least two electrical connection elements, on which the at least one electronic semiconductor chip is mounted and electrically connected. The electrical connection surfaces can be formed in particular by metal layers. These can be structured in a suitable form so that the at least one electronic semiconductor chip can be mounted and electrically connected. The electrical connection of the at least one
elektronischen Halbleiterchips an die elektrischen electronic semiconductor chips to the electrical
Anschlussflächen kann beispielsweise durch eine direkte  Connection surfaces can be, for example, by a direct
Montage des Halbleiterchips auf zumindest eines oder auch zwei der elektrischen Anschlusselemente erfolgen, Assembly of the semiconductor chip on at least one or two of the electrical connection elements,
beispielsweise durch Löten oder durch Kleben mittels eines elektrisch leitenden Klebers. Weiterhin kann ein elektrischer Anschluss des zumindest einen elektronischen Halbleiterchips zu zumindest einer der elektrischen Anschlussflächen for example, by soldering or by gluing by means of an electrically conductive adhesive. Furthermore, an electrical connection of the at least one electronic semiconductor chip to at least one of the electrical connection surfaces
alternativ oder zusätzlich mittels einer Bondkontaktierung, also mit Hilfe eines Bonddrahts, erfolgen. Die alternatively or additionally by means of a bonding contact, so with the help of a bonding wire done. The
Metallschichten, die die zumindest zwei elektrischen Metal layers containing the at least two electrical
Anschlusselemente der elektrischen Anschlussfläche bilden, können beispielsweise Gold aufweisen oder daraus sein.  Forming connection elements of the electrical connection surface, for example, may include or be made of gold.
Weiterhin kann das Trägerelement zusätzliche Kontaktelemente aufweisen, wie beispielsweise Leiterbahnen und/oder Furthermore, the carrier element may have additional contact elements, such as conductor tracks and / or
elektrische Durchkontaktierungen („Vias"). electrical vias ("vias").
Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist das elektronische Bauelement zumindest ein Rahmenelement auf, das auf der According to a further embodiment, the electronic component has at least one frame element which is mounted on the
Montageseite des Trägerelements montiert ist. Das Mounting side of the support element is mounted. The
Rahmenelement ist insbesondere ein separates Bauteil, das einzeln oder in einem Verbund, der anschließend zerteilt werden kann, vor der Montage bereitgestellt wird. Der Verbund kann beispielsweise ein Waferverbund sein, bei dem ein Rahmenwafer bereitgestellt wird, der eine Mehrzahl von zusammenhängenden Rahmenelementen aufweist. Insbesondere handelt es sich bei dem Rahmenelement um kein Bauteil, das durch ein formgebendes Verfahren auf dem Trägerelement oder zusammen mit dem Trägerelement ausgebildet wird, wie dies beispielsweise bei einem Formprozess wie etwa einem Frame element is in particular a separate component, which is provided individually or in a composite, which can then be divided, before assembly. The composite can be, for example, a wafer composite in which a Frame wafer is provided which has a plurality of contiguous frame elements. In particular, the frame element is not a component which is formed by a molding process on the carrier element or together with the carrier element, as for example in a molding process such as a
Spritzguss-, Spritzpress-, Formpressverfahren oder einem ähnlichen Verfahren der Fall wäre. Injection molding, transfer molding, compression molding or a similar process would be the case.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist das zumindest eine Rahmenelement lateral neben dem elektronischen Halbleiterchip angeordnet. Eine laterale Richtung bezeichnet hierbei eine Richtung entlang der Haupterstreckungsebene der Montageseite des Trägerelements. Das bedeutet, dass das zumindest eine Rahmenelement bei einer Aufsicht auf die Montageseite des Trägerelements seitlich neben dem zumindest einen According to a further embodiment, the at least one frame element is arranged laterally next to the electronic semiconductor chip. A lateral direction here denotes a direction along the main extension plane of the mounting side of the carrier element. This means that the at least one frame element in a plan view of the mounting side of the support member laterally next to the at least one
elektronischen Halbleiterchip angeordnet ist. Insbesondere kann das zumindest eine Rahmenelement so ausgebildet sein, dass es den zumindest einen elektronischen Halbleiterchip in lateraler Richtung nicht vollständig umschließt. Das bedeutet mit anderen Worten, dass das zumindest eine Rahmenelement keinen den Halbleiterchip vollständig umgebenden Rahmen bildet. In diesem Fall ist neben zumindest einer Seite des zumindest einen elektronischen Halbleiterchips kein Teil des zumindest einen Rahmenelements angeordnet. Beispielsweise kann das zumindest eine Rahmenelement bei einer Aufsicht auf die Montagefläche die Form eines Balkens, also eine gerade Form entlang einer Haupterstreckungsrichtung, aufweisen, sodass das Rahmenelement hierbei an einer Seite des zumindest einen Halbleiterchips angeordnet ist. Weiterhin kann das Rahmenelement bei einer Aufsicht auf die Montageseite electronic semiconductor chip is arranged. In particular, the at least one frame element may be formed such that it does not completely enclose the at least one electronic semiconductor chip in the lateral direction. In other words, this means that the at least one frame element does not form a frame that completely surrounds the semiconductor chip. In this case, apart from at least one side of the at least one electronic semiconductor chip, no part of the at least one frame element is arranged. For example, the at least one frame element in the case of a plan view of the mounting surface may have the shape of a beam, ie a straight shape along a main extension direction, such that the frame element is arranged on one side of the at least one semiconductor chip. Furthermore, the frame element in a supervision of the mounting side
beispielsweise auch eine L-artige Form aufweisen, sodass das Rahmenelement an zwei Seiten des zumindest einen Halbleiterchips angeordnet sein kann. Darüber hinaus kann das zumindest eine Rahmenelement auch eine C-artige Form For example, also have an L-like shape, so that the frame member on two sides of the at least one Semiconductor chips can be arranged. In addition, the at least one frame member may also have a C-like shape
aufweisen, sodass das Rahmenelement an drei Seiten des zumindest einen Halbleiterchips angeordnet sein kann. Weist das elektronische Bauelement eine Mehrzahl von have, so that the frame member may be disposed on three sides of the at least one semiconductor chip. Does the electronic component a plurality of
Rahmenelementen auf, so können diese ebenfalls so ausgebildet und auf dem Trägerelement angeordnet sein, dass der zumindest eine elektronische Halbleiterchip in einer lateralen Richtung nicht vollständig von der Mehrzahl der Rahmenelemente Frame elements, they may also be formed and arranged on the support member, that the at least one electronic semiconductor chip in a lateral direction is not completely from the plurality of frame members
umschlossen ist. is enclosed.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist das zumindest eine Rahmenelement elektrisch leitend. Das bedeutet mit anderen Worten, dass das zumindest eine Rahmenelement zumindest eines oder mehrere Materialien aufweist, die elektrisch leitend sind, sodass bevorzugt eine elektrisch leitende Verbindung zwischen zwei sich gegenüberliegenden Seiten des According to a further embodiment, the at least one frame element is electrically conductive. In other words, this means that the at least one frame element has at least one or more materials that are electrically conductive, so that preferably an electrically conductive connection between two opposite sides of the
Rahmenelements durch das Rahmenelement hindurch vorliegt. Frame element is present through the frame member.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist das zumindest eine Rahmenelement auf der elektrischen Anschlussfläche montiert. Dies kann insbesondere bedeuten, dass das zumindest eine Rahmenelement auf einem elektrischen Anschlusselement According to a further embodiment, the at least one frame element is mounted on the electrical connection surface. This may mean in particular that the at least one frame element on an electrical connection element
montiert ist, sodass eine elektrische Verbindung zwischen der elektrischen Anschlussfläche, insbesondere dem entsprechenden elektrischen Anschlusselement, und dem Rahmenelement is mounted, so that an electrical connection between the electrical connection surface, in particular the corresponding electrical connection element, and the frame element
vorliegt. Hierdurch kann es mit Vorteil möglich sein, dass eine elektrische Kontaktierung des zumindest einen is present. As a result, it may be possible with advantage that an electrical contacting of the at least one
Halbleiterchips durch das zumindest eine Rahmenelement hindurch erfolgen kann. Semiconductor chips can be carried through the at least one frame element.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist das zumindest eine Rahmenelement auf einer dem Trägerelement zugewandten Seite eine erste metallische Oberfläche und auf der dem Trägerelement abgewandten Seite eine zweite metallische According to a further embodiment, the at least one frame element on a side facing the carrier element a first metallic surface and on the side facing away from the carrier element a second metallic
Oberfläche auf. Die metallischen Oberflächen können gleich sein und somit ein gleiches Metall aufweisen. Hier und im Folgenden bedeutet „metallisch" und „Metall" ein einzelnes metallisches Element oder auch eine Mischung oder Legierung aus mehreren metallischen Elementen. Besonders bevorzugt weisen die erste metallische Oberfläche und die zweite metallische Oberfläche voneinander verschiedene Metalle auf. Hierbei kann zumindest eine der metallischen Oberflächen durch eine Metallschicht gebildet werden. Surface on. The metallic surfaces can be the same and thus have the same metal. Here and below, "metallic" and "metal" means a single metallic element or even a mixture or alloy of several metallic elements. Particularly preferably, the first metallic surface and the second metallic surface of different metals. In this case, at least one of the metallic surfaces can be formed by a metal layer.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist das Rahmenelement einen Grundkörper auf, auf dem zumindest eine Metallschicht aufgebracht ist, die eine der metallischen Oberflächen bildet. Beispielsweisekann das zumindest eine Rahmenelement einen Grundkörper aus Silizium aufweisen, auf dem die erste und zweite metallische Oberfläche durch Metallschichten gebildet werden. Das bedeutet mit anderen Worten, dass der Grundkörper auf der ersten Seite, dem Trägerelement According to a further embodiment, the frame element has a base body, on which at least one metal layer is applied, which forms one of the metallic surfaces. For example, the at least one frame member may comprise a silicon body on which the first and second metallic surfaces are formed by metal layers. In other words, this means that the main body on the first side, the support element
zugewandten Seite eine erste Metallschicht aufweist, die die erste metallische Oberfläche bildet, und auf der zweiten, dem Trägerelement abgewandten Seite eine zweite Metallschicht, die die zweite metallische Oberfläche bildet. Alternativ hierzu kann das zumindest eine Rahmenelement einen facing side, a first metal layer, which forms the first metallic surface, and on the second, the carrier element facing away from a second metal layer, which forms the second metallic surface. Alternatively, the at least one frame element a
metallischen Grundkörper aufweisen, wobei auf zumindest einer Seite, ausgewählt aus der dem Trägerelement zugewandten Seite und der dem Trägerelement abgewandten Seite, eine have metallic base body, wherein on at least one side, selected from the carrier element facing side and the side facing away from the carrier element, a
Metallschicht aufgebracht ist. Somit kann eine der ersten metallischen Oberfläche und der zweiten metallischen Metal layer is applied. Thus, one of the first metallic surface and the second metallic one
Oberfläche beispielsweise durch eine Oberfläche des Surface, for example, by a surface of the
metallischen Grundkörpers gebildet werden, während die andere metallische Oberfläche des zumindest einen Rahmenelements durch eine Metallschicht gebildet wird, die auf dem metallischen Grundkörper aufgebracht ist. Alternativ hierzu kann der metallische Grundkörper auch als erste und zweite metallische Oberfläche jeweils eine auf den metallischen Grundkörper aufgebrachte Metallschicht aufweisen. Zwischen dem metallischen Grundkörper und einer darauf aufgebrachten Metallschicht, die eine metallische Oberfläche bildet, können eine oder mehrere weitere Metallschichten angeordnet sein, die insbesondere eine Diffusionsbarriere zwischen dem metallic body are formed while the other metallic surface of the at least one frame member is formed by a metal layer, which is applied to the metallic base body. As an alternative to this, the metallic main body may also have, as the first and second metallic surfaces, in each case a metal layer applied to the metallic main body. Between the metallic base body and a metal layer applied thereon, which forms a metallic surface, one or more further metal layers may be arranged, which in particular have a diffusion barrier between them
metallischen Grundkörper und der Metallschicht bilden können. Hierzu können sich, je nach Wahl der Materialien für den metallischen Grundkörper und die Metallschicht, insbesondere Verbindungen mit Materialien ausgewählt aus Ni, Ti, W und N eignen, so etwa beispielsweise Ni, Ti, TiW und TiWN. metallic body and the metal layer can form. For this purpose, depending on the choice of materials for the metallic base body and the metal layer, in particular compounds with materials selected from Ni, Ti, W and N are suitable, such as, for example, Ni, Ti, TiW and TiWN.
Insbesondere für den Fall, dass die erste metallische Especially in the event that the first metallic
Oberfläche und die zweite metallische Oberfläche des Surface and the second metallic surface of the
zumindest einen Rahmenelements voneinander verschiedene at least one frame element different from each other
Metalle aufweisen, kann das Problem gelöst werden, zwei unterschiedliche Metallisierungsvarianten auf demselben Having metals, the problem can be solved, two different metallization variants on the same
Träger für einen Halbleiterchip bereitzustellen. Ein solches Problem kann sich beispielsweise dann stellen, wenn zum  To provide carrier for a semiconductor chip. Such a problem can arise, for example, if for
Montieren einzelner diskreter Bauteile, also insbesondere des zumindest einen elektronischen Halbleiterchips, eine Mounting individual discrete components, ie in particular of the at least one electronic semiconductor chip, a
bestimmte metallische Oberfläche erforderlich ist, während gleichzeitig zum externen elektrischen Anschluss des Trägers eine andere metallische Oberfläche benötigt wird. certain metallic surface is required while at the same time the external electrical connection of the carrier, a different metallic surface is needed.
Beispielsweise kann zum eutektischen Bonden einzelner For example, for eutectic bonding of individual
diskreter Bauteile wie etwa dem zumindest einen discrete components such as the at least one
elektronischen Halbleiterchips mit einem Gold-Zinn-Lot eine Goldoberfläche erforderliche sein, während gleichzeitig zur externen Verdrahtung des Trägers Aluminiumdrähte zum Einsatz kommen, welche eine Aluminiumoberfläche erfordern. Bei herkömmlichen Bauelementen wird dieses Problem dadurch gelöst, dass auf derselben Trägeroberfläche mittels electronic gold-tin solder may require a gold surface, while at the same time aluminum wires are used for external wiring of the substrate requiring an aluminum surface. at conventional components, this problem is solved in that on the same carrier surface by means of
mehrfacher Metallisierung und entsprechender multiple metallization and corresponding
Strukturierungsschritte die entsprechenden unterschiedlichen Metalloberflächen bereitgestellt werden. Ein entsprechender Träger, der verschiedene Metallisierungen aufweist, ist durch den erheblich höheren Fertigungsaufwand etwa um 250% teurer als ein entsprechender Träger mit nur einer  Structuring steps are provided the corresponding different metal surfaces. A corresponding carrier, which has different metallizations, is about 250% more expensive than a corresponding carrier with only one due to the considerably higher production costs
Metallisierungsvariante . Metallization variant.
Bei dem hier beschriebenen elektronischen Bauelement kann das Problem der Mehrfachmetallisierung durch das zumindest eine Rahmenelement vermieden werden. Hierzu kann das zumindest eine Rahmenelement als erste metallische Oberfläche, die dem Trägerelement zugewandt ist, ein Metall, beispielsweise in Form einer Metallisierung, aufweisen, das kompatibel zum Trägerelement und insbesondere zur elektrischen In the electronic component described here, the problem of multiple metallization can be avoided by the at least one frame member. For this purpose, the at least one frame element as the first metallic surface, which faces the carrier element, a metal, for example in the form of a metallization, which are compatible with the carrier element and in particular for electrical
Anschlussfläche ist. Die dem Trägerelement abgewandte Seite kann entsprechend der zur externen Kontaktierung geforderten zweiten Metallisierung eine entsprechend ausgebildete zweite metallische Oberfläche aufweisen. Hierdurch kann das Terminal surface is. The side facing away from the carrier element may have a correspondingly formed second metallic surface corresponding to the second metallization required for external contacting. This can do that
Rahmenelement mit der gleichen Technik auf der Montageseite des Trägerelements montiert werden wie der zumindest eine elektronische Halbleiterchip, während die dem Trägerelement abgewandte Seite des zumindest einen Rahmenelements eine für eine externe Kontaktierung vorgesehene andere Metallisierung aufweisen kann. Dadurch kann das zumindest eine Rahmenelement eine Art „Umverdrahtungschip" bilden, durch dessen Einsatz auf dem Trägerelement nicht mit aufwändigen Verfahren eine Mehrfachmetallisierung bereitgestellt werden muss. So kann eine komplexe Mehrfachmetallisierung des Trägerelements durch eine einfache Chipprozessierung ersetzt werden, da das zumindest eine Rahmenelement wie vorab beschrieben mit demselben Verfahren wie der zumindest eine elektronische Halbleiterchip montiert werden kann. Hierdurch können Frame element can be mounted with the same technique on the mounting side of the support member as the at least one electronic semiconductor chip, while the side facing away from the support member of the at least one frame member may have a provided for an external contacting other metallization. As a result, the at least one frame element can form a kind of "rewiring chip" whose use on the carrier element does not require the provision of multiple metallization with complex methods described with the same method as the at least one electronic semiconductor chip can be mounted. This allows
deutliche Kostenvorteile im Vergleich zu herkömmlichen significant cost advantages compared to conventional ones
Mehrfachmetallisierungen erreicht werden. Weiterhin kann für den Fall, dass die dem Trägerelement abgewandte Seite des zumindest einen Rahmenelements zur externen Kontaktierung des elektronischen Bauelements vorgesehen ist, eine im Vergleich zur Montageseite des Trägerelements erhöhte Kontaktfläche bereitgestellt werden, die auch beispielsweise nach einem Vergießen oder Einbetten des zumindest einen elektronischen Halbleiterchips mit beziehungsweise in ein Vergussmaterial noch freiliegen kann, sodass keine zusätzlichen Multiple metallizations can be achieved. Furthermore, in the event that the side facing away from the carrier element of the at least one frame member is provided for external contacting of the electronic component, a higher compared to the mounting side of the support member contact surface can be provided, which, for example, after casting or embedding of the at least one electronic semiconductor chip with or in a potting material can still be exposed, so no additional
Prozessschritte zur Freilegung von Kontaktflächen zur Process steps to expose contact surfaces to
externen Verdrahtung des Trägerelements durchgeführt werden müssen. external wiring of the support element must be performed.
Zur Herstellung des zumindest einen Rahmenelements kann beispielsweise ein Rahmenwafer bereitgestellt werden, der den Grundkörper einer Vielzahl von Rahmenelementen bildet. To produce the at least one frame element, for example, a frame wafer can be provided, which forms the base body of a plurality of frame elements.
Insbesondere kann beispielsweise ein Siliziumwafer oder ein Metallwafer bereitgestellt werden. Auf den Wafer kann auf einer oder beiden Hauptoberflächen eine Metallschicht zur Ausbildung einer gewünschten metallischen Oberfläche In particular, for example, a silicon wafer or a metal wafer can be provided. On the wafer may be on one or both main surfaces of a metal layer to form a desired metallic surface
aufgebracht werden. Durch Vereinzelung eines solchen Wafers, der gegebenenfalls auf einer oder beiden Hauptoberflächen Metallschichten aufweist, kann eine Vielzahl von hier be applied. By singulating such a wafer, which optionally has metal layers on one or both main surfaces, a plurality of ones can be used here
beschriebenen Rahmenelementen hergestellt werden. Die described frame elements are produced. The
Vereinzelung des Rahmenwafers in einzelne Rahmenelemente kann vor oder nach einer Montage dieses auf einem Trägerwafer erfolgen, so dass die Rahmenelemente entweder in einem Separation of the frame wafer into individual frame elements can take place before or after assembly of this on a carrier wafer, so that the frame elements either in one
Waferverbund oder auch als einzelne Bauteile montiert werden können . Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist auf zwei der Wafer composite or can be mounted as individual components. According to a further embodiment, two of the
zumindest zwei elektrischen Anschlusselemente jeweils ein Rahmenelement montiert. Mit anderen Worten weist die at least two electrical connection elements each mounted a frame element. In other words, the
elektrische Anschlussfläche zwei elektrische electrical connection surface two electrical
Anschlusselemente auf und auf jedem der zwei elektrischen Anschlusselemente ist ein Rahmenelement montiert. Hierbei kann die elektrische Anschlussfläche noch weitere Connection elements on and on each of the two electrical connection elements, a frame member is mounted. Here, the electrical connection surface can be even more
Anschlusselemente aufweisen. Somit kann die elektrische Have connecting elements. Thus, the electric
Anschlussfläche ein erstes elektrisches Anschlusselement aufweisen, auf dem ein erstes Rahmenelement montiert ist, sowie ein zweites elektrisches Anschlusselement, auf dem ein zweites Rahmenelement montiert ist. Die Rahmenelemente können insbesondere so auf dem Trägerelement angeordnet sein, dass der zumindest eine Halbleiterchip in lateraler Richtung zwischen den Rahmenelementen angeordnet ist. Insbesondere können die Rahmenelemente somit seitlich vom zumindest einen elektronischen Halbleiterchip angeordnet sein. Bevorzugt weisen die Rahmenelemente mindestens die gleiche Höhe wie der Halbleiterchip auf. sind auf dem zumindest einen Pad have a first electrical connection element on which a first frame member is mounted, and a second electrical connection element on which a second frame member is mounted. The frame elements can in particular be arranged on the carrier element such that the at least one semiconductor chip is arranged between the frame elements in the lateral direction. In particular, the frame elements can thus be arranged laterally from the at least one electronic semiconductor chip. The frame elements preferably have at least the same height as the semiconductor chip. are on the at least one
elektronischen Halbleiterchip eine oder mehrere zusätzliche Schichten oder Elemente aufgebracht, beispielsweise eine oder mehrere Wellenlängenkonversionsschichten, so weisen die electronic semiconductor chip one or more additional layers or elements applied, for example, one or more wavelength conversion layers, so have the
Rahmenelemente bevorzugt eine Höhe auf, die mindestens genauso groß ist wie die Gesamthöhe des Halbleiterchips mit den darauf zusätzlich aufgebrachten Schichten und Elementen ist. Wird zwischen den Rahmenelementen und auf dem zumindest einen Halbleiterchip und gegebenenfalls auf weiteren Frame elements preferably have a height which is at least as great as the total height of the semiconductor chip with the additional layers and elements applied thereto. Is between the frame elements and on the at least one semiconductor chip and optionally on another
Schichten oder Elementen, die auf dem Halbleiterchip Layers or elements on the semiconductor chip
angeordnet sind, ein Vergussmaterial angeordnet, so kann bei einer entsprechend großen Höhe der Rahmenelemente are arranged, a potting material arranged so can at a correspondingly high height of the frame members
sichergestellt werden, dass die dem Trägerelement abgewandte Seite der Rahmenelemente nicht vom Vergussmaterial bedeckt wird und dadurch kontaktierbar bleibt. Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist jedes der Rahmenelemente elektrische leitend mit dem jeweiligen ensure that the side facing away from the support element of the frame elements is not covered by the potting material and thereby remains contactable. According to another embodiment, each of the frame members is electrically conductive with the respective one
elektrischen Anschlusselement verbunden, auf dem es montiert ist. Dadurch kann jedes der Rahmenelemente zur elektrischen Kontaktierung des jeweiligen darunterliegenden elektrischen Anschlusselements in der weiter oben beschriebenen Art und Weise dienen. Gemäß zumindest einer weiteren Ausführungsform wird das zumindest eine Rahmenelement mittels Löten, anodischem Bonden oder Kleben auf der Montageseite und insbesondere auf der elektrischen Anschlussfläche montiert. Im Falle von Löten kann beispielsweise eutektisches Löten verwendet werden. connected electrical connection element on which it is mounted. As a result, each of the frame elements can be used for electrical contacting of the respective underlying electrical connection element in the manner described above. In accordance with at least one further embodiment, the at least one frame element is mounted on the mounting side and in particular on the electrical connection surface by means of soldering, anodic bonding or gluing. For example, in the case of soldering, eutectic soldering may be used.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist das Trägerelement ein Siliziumträger. Das bedeutet mit anderen Worten, dass das Trägerelement Silizium aufweist oder daraus ist. Insbesondere kann das Trägerelement durch ein Siliziumsubstrat gebildet werden, das durch Vereinzelung eines Trägerwafers in Form eines Siliziumwafers herstellbar ist. Im Vergleich zu anderen Trägermaterialien wie beispielsweise Keramiken sind According to a further embodiment, the carrier element is a silicon carrier. In other words, this means that the carrier element comprises or is made of silicon. In particular, the carrier element can be formed by a silicon substrate, which can be produced by singulation of a carrier wafer in the form of a silicon wafer. Compared to other support materials such as ceramics are
Siliziumwafer billiger und mit einer größeren Fläche Silicon wafers cheaper and with a larger area
herstellbar. Darüber hinaus lässt sich ein Siliziumträger, beispielsweise in einem Waferprozess , mittels gut etablierten Methoden auf der Montageseite strukturiert metallisieren, um elektrische Anschlussflächen auszubilden. Darüber hinaus bietet Silizium einen für elektronische Bauelemente produced. In addition, a silicon carrier, for example in a wafer process, can be metallized on the mounting side in a structured manner by means of well-established methods in order to form electrical connecting surfaces. In addition, silicon offers one for electronic components
ausreichend und je nach Anwendung auch erforderlich niedrigen Wärmewiderstand. sufficient and depending on the application also required low thermal resistance.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist das Trägerelement eine Platine, wie etwa eine gedruckte Leiterplatte („printed circuit board") oder ein Keramikträger. Im Falle einer According to a further embodiment, the carrier element is a circuit board, such as a printed circuit board ("printed circuit board ") or a ceramic carrier
Platine kann das Trägerelement somit mit der elektrischen Anschlussfläche bereitgestellt werden. Im Falle eines Board, the carrier element can thus be provided with the electrical connection surface. in case of a
Keramikträgers kann das Trägerelement beispielsweise Ceramic carrier, the carrier element, for example
Aluminiumnitrid, Aluminiumoxid oder ein anderes, für Aluminum nitride, aluminum oxide or another, for
Trägersubstrate geeignetes Keramikmaterial aufweisen oder daraus sein.  Support substrates have suitable ceramic material or be it.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform sind auf der According to a further embodiment are on the
Anschlussfläche des Trägerelements eine Mehrzahl von Connecting surface of the support member has a plurality of
elektrischen Halbleiterchips montiert und elektrisch electrical semiconductor chips mounted and electrically
angeschlossen. Hierzu kann die elektrische Anschlussfläche eine geeignete Anzahl von elektrischen Anschlusselementen aufweisen, die einen jeweils separaten elektrischen Anschluss oder auch eine Serien- oder Parallelschaltung der Mehrzahl der elektronischen Halbleiterchips ermöglicht. In einer besonders bevorzugten Ausführungsform ist die elektrische Anschlussfläche derart in elektrische Anschlusselemente strukturiert, dass eine Mehrzahl von elektronischen connected. For this purpose, the electrical connection surface may have a suitable number of electrical connection elements, which enables a respectively separate electrical connection or else a series or parallel connection of the plurality of electronic semiconductor chips. In a particularly preferred embodiment, the electrical connection surface is structured in electrical connection elements such that a plurality of electronic
Halbleiterchips durch die elektrische Anschlussfläche in Serie oder parallel verschaltet sind. Durch zwei Semiconductor chips through the electrical connection surface in series or in parallel are interconnected. Divided by two
Rahmenelemente, die auf voneinander elektrisch getrennten elektrischen Anschlusselementen montiert sind, kann die Frame elements which are mounted on mutually electrically separate electrical connection elements, the
Serien- oder Parallelschaltung der Mehrzahl der Series or parallel connection of the majority of
elektronischen Halbleiterchips in der oben beschriebenen Weise elektrisch kontaktiert werden. electronic semiconductor chips are electrically contacted in the manner described above.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist der zumindest eine elektronische Halbleiterchip als optoelektronischer According to a further embodiment, the at least one electronic semiconductor chip is optoelectronic
Halbleiterchip ausgebildet. Das kann insbesondere bedeuten, dass der elektronische Halbleiterchip als Licht emittierender oder Licht detektierender Halbleiterchip, also als Semiconductor chip formed. This may mean in particular that the electronic semiconductor chip is used as a light-emitting or light-detecting semiconductor chip, ie
Leuchtdiodenchip, Laserdiodenchip oder Fotodiodenchip, ausgebildet ist. Weiterhin kann der zumindest eine elektronische Halbleiterchip auch als rein elektronischer Halbleiterchip ausgebildet sein und keine optoelektronische Funktionen erfüllen. Beispielsweise kann der zumindest eine elektronische Halbleiterchip in diesem Fall als LED chip, laser diode chip or photodiode chip, is trained. Furthermore, the at least one electronic semiconductor chip can also be embodied as a purely electronic semiconductor chip and can not fulfill optoelectronic functions. For example, the at least one electronic semiconductor chip in this case as
Leistungshalbleiter, Transistor oder integrierter Schaltkreis ausgebildet sein. Sind auf dem Trägerelement mehrere  Power semiconductor, transistor or integrated circuit to be formed. Are more on the support element
elektronische Halbleiterchips vorhanden, so können diese gleich oder verschieden ausgebildet sein. Weiterhin kann zusätzlich einem oder einer Mehrzahl von elektronischen electronic semiconductor chips present, they may be the same or different. Furthermore, in addition to one or a plurality of electronic
Halbleiterchips zusätzlich auf dem Trägerelement ein Semiconductor chips additionally on the support element
Schutzelement gegen elektrostatische Entladungen wie etwa eine ESD-Schutzdiode (ESD: „electrostatic discharge") montiert sein. Protective element against electrostatic discharges such as an ESD protection diode (ESD: "electrostatic discharge") to be mounted.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist über dem zumindest einen Halbleiterchip ein Vergussmaterial angeordnet. Das Vergussmaterial kann insbesondere ein Kunststoffmaterial sein, das den zumindest einen Halbleiterchip umhüllt und somit vor äußeren Einflüssen schützen kann. Weiterhin kann das Vergussmaterial weitere oder andere Funktionen erfüllen, beispielsweise im Falle eines Licht emittierenden According to a further embodiment, a potting material is arranged above the at least one semiconductor chip. In particular, the potting material may be a plastic material that encloses the at least one semiconductor chip and thus protects it against external influences. Furthermore, the potting material can fulfill further or other functions, for example in the case of a light-emitting
Halbleiterchips eine Wellenlängenkonversion durch ein im Vergussmaterial enthaltenes Wellenlängenkonversionsmaterial. Wie oben beschrieben, kann das Vergussmaterial insbesondere eine Höhe aufweisen, die geringer als oder gleich groß wie die Höhe des zumindest einen Rahmenelements ist. Sind Semiconductor chips, a wavelength conversion by a wavelength conversion material contained in the potting material. As described above, the potting material may in particular have a height which is less than or equal to the height of the at least one frame element. are
zumindest zwei Rahmenelemente auf dem Trägerelement at least two frame elements on the carrier element
angeordnet, so ist das Vergussmaterial bevorzugt zwischen den Rahmenelementen und über dem zumindest einen Halbleiterchip angeordnet. Das Vergussmaterial kann beispielsweise durch Vergießen oder Spritzguss aufgebracht werden. Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist über dem zumindest einen Halbleiterchip ein optisches Element angeordnet. Das optische Element kann beispielsweise eine transparente arranged, the potting material is preferably disposed between the frame members and over the at least one semiconductor chip. The potting material can be applied, for example, by casting or injection molding. According to a further embodiment, an optical element is arranged above the at least one semiconductor chip. The optical element may for example be a transparent
Abdeckung, eine Linse, eine Diffusorplatte, ein Cover, a lens, a diffuser plate, a
Wellenlängenkonversionselement oder eine Kombination hieraus sein. Besonders bevorzugt kann das optische Element auf dem zumindest einen Rahmenelement montiert sein. Wavelength conversion element or a combination thereof. Particularly preferably, the optical element can be mounted on the at least one frame element.
Das zumindest eine Rahmenelement und bevorzugt die zwei Rahmenelemente an Seiten des elektronischen Bauelements können den zumindest einen elektronischen Halbleiterchip schützen sowie gegebenenfalls eine Verdrahtung zum The at least one frame element and preferably the two frame elements on sides of the electronic component can protect the at least one electronic semiconductor chip and optionally a wiring to the
elektrischen Anschluss dieses. Weiterhin kann das zumindest eine und bevorzugt die zwei Rahmenelemente als electrical connection of this. Furthermore, the at least one and preferably the two frame elements as
Kontrastbildner beispielsweise in Scheinwerferanwendungen wie KFZ-Scheinwerfern, etwa für ein Abblendlicht, verwendet werden und dienen darüber hinaus als Gehäuse zum Vergießen des zumindest einen Halbleiterchips. Je nach erforderlicher Weiterverarbeitung im System kann das zumindest eine  Contrast agents, for example, in headlight applications such as car headlights, such as a dipped beam used, and also serve as a housing for casting the at least one semiconductor chip. Depending on the required further processing in the system, the at least one
Rahmenelement mit unterschiedlichen Metallisierungen bzw. metallischen Oberflächen ausgestaltet werden. Zusätzlich kann das zumindest eine Rahmenelement, wie weiter unten Frame element can be configured with different metallizations or metallic surfaces. In addition, the at least one frame element, as below
beschrieben, zur Befestigung eines optischen Elements oder einer Abdeckung genutzt werden. described used to attach an optical element or a cover.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform wird bei einem Verfahren zur Herstellung eines elektronischen Bauelements eine According to a further embodiment, in a method for producing an electronic component, a
Mehrzahl von elektronischen Bauelementen in einem Plurality of electronic components in one
Verbundprozess hergestellt. Die vorab und im Folgenden beschriebenen Merkmale und Ausführungsformen gelten Composite process made. The features and embodiments described above and below apply
gleichermaßen für das elektronische Bauelement wie auch das Verfahren zur Herstellung des elektronischen Bauelements. Gemäß einer weiteren Ausführungsform wird bei einem Verfahren zur Herstellung eines elektronischen Bauelements ein equally for the electronic component as well as the method for producing the electronic component. According to a further embodiment, in a method for producing an electronic component is a
Trägerwafer bereitgestellt. Der Trägerwafer kann insbesondere durch eine Mehrzahl noch zusammenhängender Trägerelemente gebildet sein. Beispielsweise kann der Trägerwafer durch einen Siliziumwafer, einen Keramikwafer oder einen Carrier wafer provided. The carrier wafer may in particular be formed by a plurality of still connected carrier elements. For example, the carrier wafer through a silicon wafer, a ceramic wafer or a
Leiterplattenverbund gebildet sein. Weiterhin kann auf dem Trägerwafer eine Mehrzahl von Anschlussflächen aufgebracht sein oder werden. Das kann bedeuten, dass der Trägerwafer, beispielsweise im Falle eines Leiterplattenverbunds, bereits mit Anschlussflächen bereitgestellt wird oder im Falle eines Silizium- oder Keramikwafers mit Anschlussflächen versehen wird. Jede der Anschlussflächen, die untereinander PCB composite be formed. Furthermore, a plurality of connection surfaces can be or are applied to the carrier wafer. This may mean that the carrier wafer, for example in the case of a printed circuit board assembly, is already provided with connection surfaces or, in the case of a silicon or ceramic wafer, is provided with connection surfaces. Each of the pads that intercommunicate
voneinander elektrisch isoliert oder auch elektrisch electrically isolated from each other or electrically
miteinander verbunden sein können, gehört zu einem späteren jeweiligen elektronischen Bauelement. Auf dem Trägerwafer mit den Anschlussflächen kann eine Mehrzahl von Rahmenelementen montiert werden. Diese können, wie weiter oben beschrieben ist, als Verbund, beispielsweise im Form eines Rahmenwafers , oder als einzelne Bauteile bereitgestellt und auf dem can be connected to each other, belongs to a later respective electronic component. On the carrier wafer with the pads, a plurality of frame members can be mounted. These can, as described above, provided as a composite, for example in the form of a frame wafer, or as individual components and on the
Trägerwafer montiert werden. Weiterhin kann auf jeder der elektrischen Anschlussflächen zumindest ein elektronischer Halbleiterchip montiert werden. Die Montage der  Carrier wafers are mounted. Furthermore, at least one electronic semiconductor chip can be mounted on each of the electrical connection surfaces. The assembly of
elektronischen Halbleiterchips erfolgt bevorzugt, bevor der Trägerwafer zur Bildung einzelner elektronischer Bauelemente zerteilt wird. Zur Bildung einer Vielzahl von elektronischen Bauelementen wird der Trägerwafer zerteilt, wobei jedes der elektronischen Bauelemente ein Trägerelement, gebildet aus einem Teil des Trägerwafers , aufweist. Weiterhin weist jedes der vereinzelten elektronischen Bauelemente zumindest einelectronic semiconductor chip is preferably carried out before the carrier wafer is divided to form individual electronic components. To form a plurality of electronic components, the carrier wafer is divided, wherein each of the electronic components has a carrier element, formed from a part of the carrier wafer. Furthermore, each of the isolated electronic components at least one
Rahmenelement auf der jeweiligen Anschlussfläche auf. Für den Fall, dass die Rahmenelemente in Form eines Rahmenwafers im Verbund aufgebracht wurden, kann das Zerteilen des Rahmenwafers gleichzeitig mit dem Zerteilen des Trägerwafers erfolgen . Frame element on the respective pad on. In the event that the frame members have been applied in the form of a frame wafer in the composite, the cutting of the Frame wafer simultaneously with the division of the carrier wafer.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform wird bei einem Verfahren zur Herstellung eines elektronischen Bauelements ein According to a further embodiment, in a method for producing an electronic component is a
Trägerwafer mit elektrischen Anschlussflächen bereitgestellt, die jeweils zumindest zwei elektrische Anschlusselemente auf einer Montageseite des Trägerwafers aufweisen. Pro Carrier wafer provided with electrical pads, each having at least two electrical connection elements on a mounting side of the carrier wafer. Per
Anschlussfläche können zwei Rahmenelemente so auf dem Pad can have two frame elements so on the
Trägerwafer montiert werden, dass auf jeder der elektrischen Anschlussflächen jeweils auf zwei der zumindest zwei Carrier wafers are mounted on each of the electrical pads respectively on two of the at least two
elektrischen Anschlusselemente jeweils ein Rahmenelement montiert wird. Weiterhin wird zumindest ein elektronischer Halbleiterchip auf jeder der elektrischen Anschlussflächen montiert. Durch ein Zerteilen des Trägerwafers wird eine Vielzahl von elektronischen Bauelementen gebildet, wobei jedes der elektronischen Bauelemente ein Trägerelement, gebildet durch einen Teil des Trägerwafers, und auf den zumindest zwei elektrischen Anschlusselementen der electrical connection elements in each case a frame element is mounted. Furthermore, at least one electronic semiconductor chip is mounted on each of the electrical connection surfaces. By dividing the carrier wafer, a plurality of electronic components is formed, each of the electronic components a carrier element, formed by a part of the carrier wafer, and on the at least two electrical connection elements of
Anschlussfläche jeweils ein Rahmenelement aufweist. Ein derartiges Verfahren kann insbesondere für den Fall Connection surface each having a frame element. Such a method can be especially for the case
vorteilhaft sein, dass Rahmenelemente verwendet werden, die, wie weiter oben beschrieben, einen metallischen Grundkörper aufweisen . be advantageous that frame elements are used, which, as described above, have a metallic base body.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform wird zur Herstellung eines elektronischen Bauelements als Trägerwafer ein erster Siliziumwafer bereitgestellt. Durch den ersten Siliziumwafer kann eine Mehrzahl von noch nicht vereinzelten According to a further embodiment, a first silicon wafer is provided as carrier wafer for producing an electronic component. By the first silicon wafer, a plurality of not yet isolated
Trägerelementen gebildet werden. Auf dem durch den ersten Siliziumwafer gebildeten Trägerwafer können elektrische Carrier elements are formed. On the carrier wafer formed by the first silicon wafer, electrical
Anschlussflächen mit jeweils zumindest zwei elektrischen Anschlusselementen auf einer Montageseite aufgebracht werden. Insbesondere kann eine Vielzahl von elektrischen Anschlussflächen aufgebracht werden, die nach einem späteren Vereinzelungsprozess jeweils ein Teil eines elektronischen Bauelements sind. Weiterhin wird ein zweiter Siliziumwafer als Rahmenwafer bereitgestellt, in den Öffnungen eingebracht werden. Die Öffnungen sind dabei derart angeordnet, dass sie bei einer Montage des den Rahmenwafer bildenden zweiten Pads are applied with at least two electrical connection elements on a mounting side. In particular, it is possible to apply a multiplicity of electrical connection surfaces, which are each a part of an electronic component after a subsequent singulation process. Furthermore, a second silicon wafer is provided as a frame wafer, are introduced into the openings. The openings are arranged such that they at a mounting of the frame wafer forming the second
Siliziumwafers auf dem den Trägerwafer bildenden ersten Silicon wafer on the carrier wafer forming the first
Siliziumwafer zumindest teilweise über den elektrischen Silicon wafer at least partially over the electrical
Anschlussflächen angeordnet sind. Mit anderen Worten liegen die elektrischen Anschlussflächen nach der Montage des zweiten Siliziumwafers auf dem ersten Siliziumwafer aufgrund der Öffnungen im zweiten Siliziumwafer zumindest teilweise frei. Der Rahmenwafer wird auf dem Trägerwafer montiert. Die Montage kann dabei wie oben in Verbindung mit dem zumindest einen Rahmenelement beschrieben erfolgen, also beispielsweise durch Löten, wie etwa eutektisches Löten, durch anodisches Bonden oder durch Kleben. Auf jeder der elektrischen Connection surfaces are arranged. In other words, the electrical connection surfaces are at least partially exposed after the mounting of the second silicon wafer on the first silicon wafer due to the openings in the second silicon wafer. The frame wafer is mounted on the carrier wafer. The assembly can be done as described above in connection with the at least one frame element, so for example by soldering, such as eutectic soldering, by anodic bonding or by gluing. On each of the electrical
Anschlussflächen wird zumindest ein elektronischer Terminal surfaces will be at least an electronic one
Halbleiterchip montiert. Die aufeinander montierten Semiconductor chip mounted. The mounted on each other
Siliziumwafer werden in eine Vielzahl von elektronischen Bauelementen zerteilt, wobei jedes der elektronischen  Silicon wafers are divided into a variety of electronic components, each of the electronic
Bauelemente ein Trägerelement aufweist, das gebildet wird durch einen Teil des den Trägerwafer bildenden ersten Components comprises a support member which is formed by a part of the carrier wafer forming the first
Siliziumwafers, und zumindest ein Rahmenelement, das gebildet wird durch einen Teil des den Rahmenwafer bildenden zweiten Siliziumwafers . Besonders bevorzugt weist jedes der Silicon wafer, and at least one frame member which is formed by a part of the frame wafer forming second silicon wafer. Particularly preferably, each of the
elektronischen Bauelemente auf zwei der zumindest zwei elektrischen Anschlusselementen der Anschlussfläche jeweils ein Rahmenelement auf, das durch jeweils einen Teil des zweiten Siliziumwafers gebildet wird. Die Montage des zumindest einen elektronischen Halbleiterchips kann vor oder nach dem Zerteilen der aufeinander montierten Siliziumwafer erfolgen. Bevorzugt erfolgt eine Montage der elektronischen Halbleiterchips jedoch vor dem Zerteilen im Waferverbund . electronic components on two of the at least two electrical connection elements of the connection surface in each case a frame element, which is formed by a respective part of the second silicon wafer. The assembly of the at least one electronic semiconductor chip can take place before or after the division of the silicon wafers mounted on one another respectively. Preferably, however, an assembly of the electronic semiconductor chips takes place before the cutting in the wafer composite.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform wird vor der Montage des zweiten Rahmenwafers auf dem Trägerwafer auf einer Oberfläche des Rahmenwafers, die nach der Montage dem Trägerwafer zugewandt ist, eine erste metallische Oberfläche durch According to a further embodiment, before mounting the second frame wafer on the carrier wafer on a surface of the frame wafer, which faces the carrier wafer after assembly, a first metallic surface passes through
Aufbringen einer Metallschicht ausgebildet. Alternativ oder zusätzlich kann auf einer Oberfläche des Rahmenwafers, die nach der Montage des Rahmenwafers auf dem Trägerwafer demApplying a metal layer is formed. Alternatively or additionally, on a surface of the frame wafer, which after assembly of the frame wafer on the carrier wafer the
Trägerwafer abgewandt ist, eine zweite metallische Oberfläche durch Aufbringen einer Metallschicht ausgebildet werden. Das Ausbilden der zweiten metallischen Oberfläche kann hierbei vor oder nach dem Zerteilen der aufeinander montierten Wafer erfolgen. Carrier wafer is turned away, a second metallic surface are formed by applying a metal layer. The formation of the second metallic surface can in this case take place before or after the division of the wafers mounted on one another.
Beispielsweise bei so genannten „High-Power-LEDs" oder For example, in so-called "high-power LEDs" or
LED-Arrays (LED: „light emitting diode") , wie sie etwa in Automobil-Frontscheinwerfern zur Anwendung kommen, kommen heutzutage weit Träger für Licht emittierende Halbleiterchips zum Einsatz auf denen zur Erzeugung notwendiger Eigenschaften wie etwa einer Shutter-Kante oder eines homogenen LED arrays (LED: "light emitting diode"), such as those used in automotive headlamps, are now widely carriers for semiconductor light-emitting chips are used on which to produce necessary properties such as a shutter edge or a homogeneous
Abstrahlungsbildes weitere Materialien in speziellen Radiating image of other materials in special
Prozessen aufgebracht werden müssen. Diese Prozesse sind oft teuer, da sie pro LED-Array einzeln durchgeführt werden müssen, beispielsweise das Aufkleben eines Rahmens oder das Aufbringen eines Vergusses. Eine Kostenreduktion kann hierbei lediglich über die Materialkosten oder über die Processes must be applied. These processes are often expensive because they must be performed individually per LED array, such as the sticking of a frame or the application of a potting. A cost reduction can here only about the material costs or on the
Prozessgeschwindigkeit angestrebt werden. Bei dem vorab beschriebenen auf Siliziumwafern basierenden Verfahren werden anstelle von Einzelträgern und einzeln aufgeklebten Rahmen die hier beschriebenen Siliziumwafer verwendet, die die oben beschriebenen Vorteile aufweisen. Dadurch ist es möglich, eine Vielzahl elektronischer Bauelemente in gut beherrschbaren Prozessen für die Herstellung von geeigneten Packages für Halbleiterchips zu verwenden. Außerdem lässt dieses Verfahren eine hohe Prozessgeschwindigkeit zu. Process speed to be sought. In the above-described silicon wafer-based method, instead of single carriers and individually adhered frames, the silicon wafers described herein having the advantages described above are used. This makes it possible to use a variety of electronic components in well-controlled processes for the production of suitable packages for semiconductor chips. In addition, this method allows a high process speed.
Verbindungstechniken, die üblich sind für Siliziumwafer wie beispielsweise anodisches oder eutektisches Bonden Bonding techniques common to silicon wafers such as anodic or eutectic bonding
versprechen eine hohe Stabilität. Beabsichtigte Aufbauhöhen können durch eine geeignete Wahl des ersten und insbesondere auch des zweiten Siliziumwafers äußerst präzise eingehalten werden. Insbesondere kann die Dicke des zweiten promise a high stability. Intended assembly heights can be maintained extremely precisely by a suitable choice of the first and in particular also of the second silicon wafer. In particular, the thickness of the second
Siliziumwafers auf die Höhe des zumindest einen Silicon wafer at the height of at least one
Halbleiterchips inklusive gegebenenfalls auf dem Semiconductor chips included on the
Halbleiterchip weiterer Schichten angepasst werden. Die Öffnungen im zweiten Siliziumwafer können in präziser Weise beispielsweise durch Ätzen ausgebildet werden. Semiconductor chip further layers to be adjusted. The openings in the second silicon wafer can be formed in a precise manner, for example by etching.
Wie oben für das zumindest eine Rahmenelement beschrieben ist, können auf den Hauptoberflächen des zweiten As described above for the at least one frame element, on the main surfaces of the second
Siliziumwafers geeignete Metallschichten zur Ausbildung gewünschter metallischer Oberflächen aufgebracht werden, sodass zum einen eine Montage des zweiten Siliziumwafers auf dem ersten Siliziumwafer, insbesondere auf den elektrischen Anschlussflächen, und zum anderen die Bereitstellung einer gewünschten Oberfläche zur späteren externen Kontaktierung der einzelnen elektronischen Bauelemente ermöglicht werden kann. Beispielsweise kann eine Goldschicht oder eine Silicon wafer suitable metal layers are applied to form desired metallic surfaces, so that on the one hand a mounting of the second silicon wafer on the first silicon wafer, in particular on the electrical pads, and on the other hand, the provision of a desired surface for later external contacting of the individual electronic components can be made possible. For example, a gold layer or a
goldhaltige Schicht auf der dem ersten Siliziumwafer gold-containing layer on the first silicon wafer
zugewandten Seite des zweiten Siliziumwafers aufgebracht werden, während auf der gegenüberliegenden Seite des zweiten Siliziumwafers beispielsweise eine Aluminiumschicht für ein späteres Aluminium-Wirebonden aufgebracht werden kann. facing side of the second silicon wafer, while on the opposite side of the second silicon wafer, for example, an aluminum layer can be applied for a later aluminum wire bonding.
Dadurch erhält man mit wenigen Schritten einen großflächigen Nutzen („Panel") zur Weiterverarbeitung in üblichen Backend- Prozessen und umgeht somit den Einzelprozess des Rahmenklebens . As a result, in just a few steps you get a large-scale benefit ("panel") for further processing in the usual backend Processes and thus bypasses the single process of frame gluing.
Der Schwachpunkt bei herkömmlichen siliziumbasierten The weak point with conventional silicon-based
Bauelementen, dass die Zyklusstabilität einer Lötverbindung von Siliziumgehäusen aufgelötet auf Metallkernplatinen nicht sonderlich hoch ist, kann dadurch umgangen werden, dass das elektronische Bauelement auf eine Metallwärmesenke geklebt wird und der elektrische Anschluss durch Drahtkontaktierungen über die Oberfläche des zumindest einen Rahmenelements erfolgen kann. Components that the cycle stability of a solder joint of silicon casings soldered on metal core boards is not particularly high, can be circumvented by the electronic component is glued to a metal heat sink and the electrical connection can be made by wire contacts over the surface of the at least one frame member.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform werden die According to another embodiment, the
elektronischen Halbleiterchips vor dem Zerteilen des electronic semiconductor chips before dividing the
Trägerwafers mit einem oben beschriebenen Vergussmaterial umhüllt . Carrier wafer wrapped with a potting material described above.
Weitere Vorteile, vorteilhafte Ausführungsformen und Further advantages, advantageous embodiments and
Weiterbildungen ergeben sich aus den im Folgenden in Further developments emerge from the following in
Verbindung mit den Figuren beschriebenen Compound described with the figures
Ausführungsbeispielen . Exemplary embodiments.
Es zeigen: Figuren 1A und 1B schematische Darstellungen eines In the figures: FIGS. 1A and 1B are schematic representations of a
elektronischen Bauelements gemäß einem  electronic component according to a
Ausführungsbeispiel ,  Embodiment,
Figuren 2A und 2B schematische Darstellungen von Figures 2A and 2B are schematic representations of
elektronischen Bauelementen gemäß weiteren Ausführungsbeispielen, Figuren 3A und 3B schematische Darstellungen von Rahmenelementen gemäß weiteren electronic components according to further embodiments, Figures 3A and 3B are schematic representations of frame elements according to others
Ausführungsbeispielen, Figur 4 eine schematische Darstellung eines elektronischen  Embodiments, Figure 4 is a schematic representation of an electronic
Bauelements gemäß einem weiteren  Component according to another
Ausführungsbeispiel ,  Embodiment,
Figuren 5A bis 5C schematische Darstellungen von FIGS. 5A to 5C are schematic representations of
Verfahrensschritten eines Verfahrens zur Herstellung eines elektronischen Bauelements gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel und  Method steps of a method for producing an electronic component according to a further embodiment and
Figuren 6A und 6B schematische Darstellungen von Figures 6A and 6B are schematic representations of
Verfahrensschritten eines Verfahrens zur Herstellung eines elektronischen Bauelements gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel.  Method steps of a method for producing an electronic component according to a further embodiment.
In den Ausführungsbeispielen und Figuren können gleiche, gleichartige oder gleich wirkende Elemente jeweils mit denselben Bezugszeichen versehen sein. Die dargestellten Elemente und deren Größenverhältnisse untereinander sind nicht als maßstabsgerecht anzusehen, vielmehr können einzelne Elemente, wie zum Beispiel Schichten, Bauteile, Bauelemente und Bereiche, zur besseren Darstellbarkeit und/oder zum besseren Verständnis übertrieben groß dargestellt sein. In the exemplary embodiments and figures, identical, identical or identically acting elements can each be provided with the same reference numerals. The illustrated elements and their proportions with each other are not to be regarded as true to scale, but individual elements, such as layers, components, components and areas, for better representation and / or better understanding may be exaggerated.
In den Figuren 1A und 1B sind schematische Darstellungen eines elektronischen Bauelements 100 gemäß einem FIGS. 1A and 1B are schematic representations of an electronic component 100 according to FIG
Ausführungsbeispiel gezeigt. Die Figur 1A zeigt eine Embodiment shown. FIG. 1A shows a
Explosionsdarstellung, während die Figur 1B eine schematische dreidimensionale Ansicht des elektronischen Bauelements 100 zeigt . Das elektronische Bauelement 100 weist ein Trägerelement 1 auf, das auf einer Montageseite 10 eine elektrische Exploded view, while Figure 1B shows a schematic three-dimensional view of the electronic component 100. The electronic component 100 has a carrier element 1, which on an assembly side 10 an electrical
Anschlussfläche, gebildet durch elektrische Anschlusselemente 11, aufweist. Das Trägerelement 1 kann beispielsweise ein Keramikträger oder ein Siliziumträger sein, auf dem die elektrischen Anschlusselemente 11 zur Bildung der Pad, formed by electrical connection elements 11, comprising. The carrier element 1 may be, for example, a ceramic carrier or a silicon carrier, on which the electrical connection elements 11 for forming the
elektrischen Anschlussfläche in Form von Metallschichten aufgebracht sind. Beispielsweise können die elektrischen Anschlusselemente 11 eine oder mehrere Schichten mit einem oder mehreren Materialien beispielsweise ausgewählt aus Gold, Kupfer und Zinn aufweisen oder daraus sein, also etwa eine Goldschicht, eine Gold-Zinn-Schicht oder eine Kupferschicht. Derartige Materialien eignen sich besonders gut für die electrical connection surface in the form of metal layers are applied. For example, the electrical connection elements 11 may comprise or be one or more layers comprising one or more materials, for example selected from gold, copper and tin, for example a gold layer, a gold-tin layer or a copper layer. Such materials are particularly suitable for the
Montage elektronischer Halbleiterchips auf den elektrischen Anschlusselementen 11 mittels eutektischen Lötens. Weiterhin ist es auch möglich, dass das Trägerelement 1 mit der Mounting electronic semiconductor chips on the electrical connection elements 11 by means of eutectic soldering. Furthermore, it is also possible that the carrier element 1 with the
elektrischen Anschlussfläche durch eine Platine wie electrical connection surface through a circuit board like
beispielsweise eine gedruckte Leiterplatte gebildet wird. For example, a printed circuit board is formed.
Auf der elektrischen Anschlussfläche ist zumindest ein elektronischer Halbleiterchip 3 angeordnet und montiert. Im gezeigten Ausführungsbeispiel sind rein beispielhaft drei elektronische Halbleiterchips 3 gezeigt, die jeweils als Licht emittierende Halbleiterchips ausgebildet sind und die im Betrieb rein beispielhaft Licht mit einer ultravioletten bis blauen Wellenlänge abstrahlen. Zur Konversion zumindest eines Teils des von den Halbleiterchips 3 im Betrieb At least one electronic semiconductor chip 3 is arranged and mounted on the electrical connection surface. In the exemplary embodiment shown, three electronic semiconductor chips 3 are shown purely by way of example, each of which is embodied as light-emitting semiconductor chips and which in operation emit light of an ultraviolet to blue wavelength purely by way of example. For conversion of at least a part of the semiconductor chip 3 in operation
erzeugten Lichts sind auf diesen generated light are on this
Wellenlängenkonversionsschichten 4 aufgebracht, sodass das elektronische Bauelement 100 im Betrieb mischfarbiges Licht abstrahlen kann, das durch das von den elektronischen Wavelength conversion layers 4 applied so that the electronic device 100 can emit mixed-colored light in operation, by the electronic
Halbleiterchips 3 und den Wellenlängenkonversionsschichten 4 erzeugte Licht gebildet wird. Alternativ hierzu können alle elektronischen Halbleiterchips 3 oder auch nur einige dieser andere optoelektronische Halbleiterchips sein, wie Semiconductor chips 3 and the wavelength conversion layers 4 generated light is formed. Alternatively, all electronic semiconductor chips 3 or just some of these other optoelectronic semiconductor chips may be, such as
beispielsweise Halbleiter-Laserdiodenchips oder For example, semiconductor laser diode chips or
Fotodiodenchips. Weiterhin ist es auch denkbar, dass Photodiode chip. Furthermore, it is also conceivable that
zumindest ein elektronischer Halbleiterchip 3 keine at least one electronic semiconductor chip 3 none
optoelektronischen Eigenschaften aufweist und beispielsweise als Leistungshalbleiter-Bauelement, Transistor oder has optoelectronic properties and, for example, as a power semiconductor device, transistor or
integrierter Schaltkreis ausgebildet ist. Zusätzlich zu den elektronischen Halbleiterchips 3 ist ein Schutzdiodenchip 5 vorhanden und auf der Anschlussfläche montiert, der die elektronischen Halbleiterchips 3 vor elektrostatischen integrated circuit is formed. In addition to the electronic semiconductor chips 3, a protective diode chip 5 is provided and mounted on the pad, which protects the electronic semiconductor chips 3 from electrostatic
Entladungen schützt. Beispielsweise können die elektronischen Halbleiterchips 3 und der Schutzdiodenchip 5 je nach Protects discharges. For example, the electronic semiconductor chips 3 and the protection diode chip 5 may vary depending on
Materialien der Anschlussfläche des Trägerelements 1 und der Anschlussflächen der Chips mittels eines Gold-Zinn-Lots aufgelötet werden. Alternativ hierzu ist beispielsweise auch ein Kleben mit einem elektrisch leitenden Klebstoff möglich. Die elektrischen Anschlusselemente 11 der elektrischen Materials of the pad of the support member 1 and the pads of the chips are soldered by means of a gold-tin solder. Alternatively, for example, an adhesive bonding with an electrically conductive adhesive is possible. The electrical connection elements 11 of the electrical
Anschlussfläche sind derart ausgebildet, dass die Pad are formed such that the
elektronischen Halbleiterchips 3, die mit einer Seite direkt elektrisch leitend mit der elektrischen Anschlussfläche verbunden werden und über jeweils einen Bonddraht auf der anderen Seite elektrisch kontaktiert werden, in Serie electronic semiconductor chip 3, which are connected to one side directly electrically conductively connected to the electrical connection surface and are electrically contacted via a respective bonding wire on the other side, in series
miteinander verschaltet sind. Eine Kontaktierung der interconnected with each other. A contact of the
Serienschaltung der elektronischen Halbleiterchips 3 ist durch die beiden äußeren, in der gezeigten Darstellung ganz links und ganz rechts angeordneten elektrischen Series connection of the electronic semiconductor chip 3 is through the two outer, in the illustration shown far left and rightmost arranged electrical
Anschlusselemente 11 der insgesamt vier elektrisch Connection elements 11 of the four electrical
voneinander isoliert ausgebildeten elektrischen isolated electrical trained
Anschlusselemente 11 möglich. Der Schutzdiodenchip 5 ist in entsprechender Weise parallel zur Serienschaltung der Connection elements 11 possible. The protective diode chip 5 is in corresponding manner parallel to the series circuit of
elektronischen Halbleiterchips 3 verschaltet. interconnected electronic semiconductor chip 3.
Weiterhin weist das elektronische Bauelement zumindest ein Rahmenelement 2 auf. Die Rahmenelemente 2 sind als Furthermore, the electronic component has at least one frame element 2. The frame elements 2 are as
selbsttragende Bauteile ausgebildet, die vor der Montage auf dem Trägerelement 1 als Einzelbauteile oder in einem Verbund bereitgestellt werden. Im gezeigten Ausführungsbeispiel weist das elektronische Bauelement 100 zwei Rahmenelemente 2 auf, die seitlich neben den elektronischen Halbleiterchips formed self-supporting components, which are provided prior to assembly on the carrier element 1 as individual components or in a composite. In the exemplary embodiment shown, the electronic component 100 has two frame elements 2, which are laterally adjacent to the electronic semiconductor chips
angeordnet sind, sodass sich die elektronischen are arranged so that the electronic
Halbleiterchips 3 zwischen den zwei Rahmenelementen 2 Semiconductor chips 3 between the two frame elements 2
befinden. Die Rahmenelemente 2 sind balkenförmig ausgebildet, sodass jedes der Rahmenelemente jeweils einer Seite der elektronischen Halbleiterchips 3 zugewandt ist. Die are located. The frame elements 2 are bar-shaped, so that each of the frame elements in each case faces one side of the electronic semiconductor chip 3. The
Rahmenelemente 2 bilden damit keinen die Halbleiterchips 3 vollständig umschließenden Rahmen. Insbesondere ist auf zwei der im gezeigten Ausführungsbeispiel insgesamt vier  Frame elements 2 thus do not form the semiconductor chips 3 completely enclosing frame. In particular, two of the four in the embodiment shown a total of four
elektrischen Anschlusselemente 4 jeweils eines der electrical connection elements 4 each one of
Rahmenelemente 2 montiert. Frame elements 2 mounted.
Die Montage der Rahmenelemente 2 kann insbesondere in The assembly of the frame elements 2 can in particular
derselben Weise wie die Montage der Halbleiterchips 3 the same way as the mounting of the semiconductor chips. 3
erfolgen, sodass für die Montage der Halbleiterchips 3 und der Rahmenelemente 2 keine unterschiedlichen Prozesse take place, so that for the assembly of the semiconductor chips 3 and the frame elements 2 no different processes
verwendet werden müssen. Hierzu weisen die Rahmenelemente 2 dem Trägerelement 1 zugewandt eine metallische Oberfläche auf, die geeignet ist, in derselben Weise wie die must be used. For this purpose, the frame elements 2 facing the carrier element 1, a metallic surface which is suitable in the same way as the
Halbleiterchips 3 auf der Anschlussfläche montiert zu werden. Die dem Trägerelement 1 abgewandte Seite der Rahmenelemente 2 weist ebenfalls eine metallische Oberfläche auf, die von der dem Trägerelement 1 zugewandten metallischen Oberfläche verschieden sein kann und insbesondere für eine externe elektrische Kontaktierung des elektronischen Bauelements 100 vorgesehen ist. Die Rahmenelemente 2 sind elektrisch leitend ausgebildet und weisen beispielsweise einen Semiconductor chips 3 to be mounted on the pad. The side facing away from the support member 1 of the frame members 2 also has a metallic surface, which may be different from the carrier element 1 facing metallic surface and in particular for an external electrical contacting of the electronic component 100 is provided. The frame members 2 are electrically conductive and have, for example, a
Siliziumgrundkörper oder einen metallischen Grundkörper auf, sodass insbesondere eine elektrische Leitung zwischen der dem Trägerelement 1 zugewandten Oberfläche und der dem  Silicon basic body or a metallic base body, so that in particular an electrical line between the carrier element 1 facing surface and the
Trägerelement 1 abgewandten Oberfläche durch das jeweilige Rahmenelement 2 hindurch erfolgen kann. Dadurch und durch die Montage der Rahmenelemente 2 auf dafür vorgesehene Carrier element 1 facing away from the surface through the respective frame element 2 can be carried out. Thereby and by the mounting of the frame members 2 provided therefor
elektrische Anschlusselemente 11 kann eine elektrische electrical connection elements 11 may be an electrical
Kontaktierung des elektronischen Bauelements 100 und Contacting the electronic component 100 and
insbesondere der elektronischen Halbleiterchips 3 über die dem Trägerelement 1 abgewandte Oberfläche der Rahmenelemente 2 erfolgen. Weitere Merkmale, insbesondere zum Aufbau und den Materialien der Rahmenelemente 2, sind weiter unten in in particular of the electronic semiconductor chip 3 via the support element 1 facing away from the surface of the frame elements 2 done. Further features, in particular for the construction and the materials of the frame elements 2, are further down in FIG
Verbindung mit den Figuren 3A und 3B beschrieben. Compound described with Figures 3A and 3B.
Die Rahmenelemente 2 bilden eine Art „Umverdrahtungschips" , die auf ihrer dem Trägerelement 1 zugewandten Oberfläche kompatibel zur elektrischen Anschlussfläche und auf der dem Trägerelement 1 abgewandten Oberfläche kompatibel zur The frame elements 2 form a kind of "rewiring chips" which, on their surface facing the carrier element 1, are compatible with the electrical connection surface and on the surface facing away from the carrier element 1
Anschlusstechnik zum elektrischen Kontaktieren des Connection technology for electrically contacting the
elektronischen Bauelements 100 sind. Dadurch ist es möglich, wie oben im allgemeinen Teil beschrieben ist, komplexe electronic device 100 are. This makes it possible, as described above in the general part, complex
Mehrfachmetallisierungen einer Platine durch eine einfache chipartige Prozessierung zu ersetzen, die deutliche To replace multiple metallizations of a board by a simple chip-type processing, the significant
Kostenvorteile erwarten lässt. Expect cost advantages.
Die Rahmenelemente 2 können beispielsweise eine Höhe The frame elements 2 may, for example, a height
aufweisen, die mindestens so groß ist wie die Gesamthöhe der Kombination der Halbleiterchips 3 mit den darauf angeordneten Wellenlängenkonversionsschichten 4. Dadurch können die which is at least as large as the total height of the combination of the semiconductor chips 3 with the wavelength conversion layers 4 arranged thereon
Rahmenelemente 2 zum Schutz der Halbleiterchips 3 dienen und/oder beispielsweise auch im Hinblick auf die Lichtabstrahlung der Halbleiterchips 3 eine Art Shutter-Kante bilden . In den Figuren 2A und 2B sind weitere Ausführungsbeispiele für elektronische Bauelemente 100 gezeigt, die zusätzlich zu den vorab beschriebenen Komponenten und Bauteilen ein Frame elements 2 serve to protect the semiconductor chips 3 and / or for example also with regard to the light emission of the semiconductor chips 3 form a kind of shutter edge. FIGS. 2A and 2B show further exemplary embodiments of electronic components 100, which in addition to the components and components described above
Vergussmaterial 6 aufweisen, in das die elektronischen Potting material 6 have, in which the electronic
Halbleiterchips 3 eingebettet sind. Die Figur 2A zeigt dabei eine Schnittdarstellung durch ein entsprechendes Semiconductor chips 3 are embedded. FIG. 2A shows a sectional view through a corresponding one
elektronische Bauelement 100, aus der ersichtlich ist, dass die Rahmenelemente 2 in diesem Ausführungsbeispiel eine größere Höhe als die Kombination der Halbleiterchips 3 mit den darauf angeordneten Wellenlängenkonversionsschichten 4 aufweisen. Das Vergussmaterial 6 reicht bis zur dem electronic component 100, from which it can be seen that the frame elements 2 in this embodiment have a greater height than the combination of the semiconductor chips 3 with the wavelength conversion layers 4 arranged thereon. The potting material 6 extends to the
Trägerelement 1 abgewandten Oberseite der Rahmenelemente 2, sodass diese frei vom Vergussmaterial 6 sind und dadurch der externen Kontaktierung ohne Weiteres zugänglich sind, während die Halbleiterchips 3 und die  Carrier element 1 facing away from the upper side of the frame members 2, so that they are free of the potting material 6 and thereby the external contact easily accessible, while the semiconductor chips 3 and the
Wellenlängenkonversionsschichten 4 komplett umhüllt sind. Das Vergussmaterial 6 weist insbesondere ein Kunststoffmaterial auf, das beispielsweise durch Vergießen oder Spritzguss aufgebracht werden kann und das zum Schutz der Wavelength conversion layers 4 are completely enveloped. The potting material 6 has, in particular, a plastic material which can be applied, for example, by casting or injection molding and which serves to protect the
Halbleiterchips 3 im fertigen elektronischen Bauelement 100 dient. Das Kunststoffmaterial des Vergussmaterials 6 kann zusätzliche Stoffe und/oder Materialien enthalten, durch die die optischen oder andere Eigenschaften des Vergussmaterials in dem Fachmann bekannter Weise angepasst werden können. Alternativ zu dem in Figur 2A gezeigten Ausführungsbeispiel können die Rahmenelemente 2 beispielsweise auch dieselbe Höhe aufweisen wie die Kombination der Halbleiterchips 3 und der Wellenlängenkonversionsschichten 4, sodass die dem Trägerelement 1 abgewandte Oberseite der Semiconductor chips 3 in the finished electronic component 100 is used. The plastic material of the potting material 6 may contain additional substances and / or materials by which the optical or other properties of the potting material can be adapted in a manner known to those skilled in the art. As an alternative to the exemplary embodiment shown in FIG. 2A, the frame elements 2 may, for example, also have the same height as the combination of the semiconductor chips 3 and the wavelength conversion layers 4, so that the Carrier element 1 facing away from the top
Wellenlängenkonversionsschichten 4 wie auch die dem Wavelength conversion layers 4 as well as the
Trägerelement 1 abgewandten Oberseiten der Rahmenelemente 2 nicht vom Vergussmaterial 6 bedeckt sind, wie im Carrier element 1 facing away from the upper sides of the frame members 2 are not covered by the potting material 6, as in
Ausführungsbeispiel der Figur 2B in einer Aufsicht gezeigt ist . Embodiment of Figure 2B is shown in a plan view.
Die in Verbindung mit den Figuren 2A und 2B beschriebenen Höhenverhältnisse der Rahmenelemente 2 und der The height ratios of the frame elements 2 and the. Described in connection with FIGS. 2A and 2B
Halbleiterchips 3 mit den Wellenlängenkonversionsschichten 4 gelten entsprechend auch für den Fall, dass weitere oder keine zusätzlichen Schichten auf den Halbleiterchips 3 vorhanden sind. In den Figuren 3A und 3B sind Ausführungsbeispiele für Semiconductor chips 3 with the wavelength conversion layers 4 also apply correspondingly to the case in which further or no additional layers are present on the semiconductor chips 3. FIGS. 3A and 3B show exemplary embodiments of FIG
Rahmenelemente 2 gezeigt. Frame elements 2 shown.
Das Rahmenelement 2 gemäß dem Ausführungsbeispiel der Figur 3A weist einen Grundkörper 20 auf, der Silizium aufweist oder daraus besteht. Auf dem Grundkörper 20 sind metallische The frame element 2 according to the embodiment of Figure 3A has a base body 20 which comprises or consists of silicon. On the body 20 are metallic
Oberflächen 21, 22 ausgebildet, wobei die erste metallische Oberfläche 21 rein beispielhaft die dem Trägerelement  Surfaces 21, 22 formed, wherein the first metallic surface 21 purely by way of example the the support element
zugewandte Oberfläche des Rahmenelements 2 ist, während die zweite metallische Oberfläche 22 die dem Trägerelement abgewandte Oberfläche des Rahmenelements 2 bildet. Die metallischen Oberflächen 21, 22 werden im gezeigten facing surface of the frame member 2, while the second metallic surface 22 forms the carrier element facing away from the surface of the frame member 2. The metallic surfaces 21, 22 are shown in FIG
Ausführungsbeispiel durch Metallschichten 23, 24 gebildet, die entsprechend der Anschlussarten, wie sie in Verbindung mit den Figuren 1A und 1B beschrieben sind, ausgebildet sind. So kann die Metallschicht 23, die die erste metallische Embodiment formed by metal layers 23, 24, which are formed according to the connection types, as described in connection with Figures 1A and 1B. Thus, the metal layer 23, which is the first metallic
Oberfläche 21 bildet, beispielsweise Gold aufweisen oder aus Gold sein, während die zweite metallische Oberfläche 22 durch eine Metallschicht 24 mit oder aus Aluminium gebildet wird. Für eine Kontaktierung mittels Goldbonddrähten kann als zweite Metallschicht 24 beispielsweise auch eine goldhaltige Schicht oder eine Goldschicht aufgebracht werden. Das Rahmenelement 2 gemäß dem Ausführungsbeispiel der Figur 3B weist im Gegensatz zum Ausführungsbeispiel der Figur 3A einen Grundkörper 20 auf, der durch einen metallischen Surface 21 forms, for example, have gold or be of gold, while the second metallic surface 22 is formed by a metal layer 24 with or made of aluminum. For contacting by means of gold bonding wires, a gold-containing layer or a gold layer can, for example, also be applied as the second metal layer 24. The frame element 2 according to the embodiment of Figure 3B, in contrast to the embodiment of Figure 3A has a base body 20 which by a metallic
Grundkörper gebildet wird. Rein beispielhaft ist auf dem Grundkörper 20 nur eine Metallschicht 23 aufgebracht, die die zweite metallische Oberfläche 22 bildet, während die erste metallische Oberfläche 21 durch den metallischen Grundkörper selbst gebildet wird. Alternativ hierzu können die erste und zweite metallische Oberfläche 21, 22 auch vertauscht sein oder es kann zur Bildung beider metallischer Oberflächen 21, 22 jeweils eine Metallschicht vorhanden sein. Beispielsweise kann der metallische Grundkörper durch Kupfer oder eine Body is formed. By way of example only a metal layer 23 is applied to the base body 20, which forms the second metallic surface 22, while the first metallic surface 21 is formed by the metallic base body itself. Alternatively, the first and second metallic surfaces 21, 22 may also be interchanged, or a metal layer may be present to form both metallic surfaces 21, 22. For example, the metallic base body by copper or a
Kupferverbindung gebildet werden, während die Metallschicht 23 Aluminium aufweist oder daraus besteht. Zwischen dem metallischen Grundkörper 20 und der Metallschicht 23 können weitere Schichten, insbesondere beispielsweise als Copper compound may be formed while the metal layer 23 comprises or consists of aluminum. Between the metallic base body 20 and the metal layer 23 further layers, in particular for example as
Diffusionsbarriere ausgebildete Schichten, angeordnet sein.  Diffusion barrier formed layers, be arranged.
In Figur 4 ist ein weiteres Ausführungsbeispiel für ein elektronisches Bauelement 100 in einer Explosionsdarstellung gezeigt, das zusätzlich zu den in Verbindung mit dem In Figure 4, a further embodiment of an electronic component 100 is shown in an exploded view, in addition to those in connection with the
Ausführungsbeispiel der Figuren 1A und 1B beschriebenen  Embodiment of Figures 1A and 1B described
Bauteilen ein optisches Element 7 aufweist, das auf den Having components an optical element 7, which on the
Rahmenelementen 2 montiert ist. Beispielsweise kann das optische Element 7 durch eine transparente Abdeckplatte, eine Diffusorplatte, ein Wellenlängenkonversionselement, eineFrame elements 2 is mounted. For example, the optical element 7 through a transparent cover plate, a diffuser plate, a wavelength conversion element, a
Linse oder eine Kombination hieraus gebildet sein. Zusätzlich zu einem optischen Element 7 kann das elektronische Lens or a combination thereof may be formed. In addition to an optical element 7, the electronic
Bauelement 100 des Ausführungsbeispiels der Figur 4 ein Vergussmaterial 6, wie in Verbindung mit den Figuren 2A und 2B beschrieben ist, aufweisen. Component 100 of the embodiment of Figure 4 a Potting material 6, as described in connection with Figures 2A and 2B, have.
In Verbindung mit den Figuren 5A bis 5C sind In conjunction with Figures 5A to 5C are
Verfahrensschritte eines Verfahrens zur Herstellung eines elektronischen Bauelements gemäß einem Ausführungsbeispiel gezeigt . Process steps of a method for producing an electronic component according to an embodiment shown.
Wie in Figur 5A gezeigt ist, wird in einem ersten As shown in Figure 5A, in a first
Verfahrensschritt ein Trägerwafer 8 in Form eines ersten Siliziumwafers bereitgestellt, auf den elektrische Process step, a carrier wafer 8 in the form of a first silicon wafer provided on the electrical
Anschlussflächen mit jeweils zumindest zwei elektrischen Anschlusselementen 11 auf einer Montageseite aufgebracht werden. Das Aufbringen der elektrischen Anschlussflächen erfolgt mittels in der Siliziumprozesstechnik bekannter Pads are applied with at least two electrical connection elements 11 on a mounting side. The application of the electrical connection surfaces by means known in the silicon process technology
Maßnahmen, die eine strukturierte Aufbringung von Measures involving a structured application of
Metallschichten ermöglichen. Der Übersichtlichkeit halber ist lediglich ein elektrisches Anschlusselement 11 mit einem Bezugszeichen versehen. Jede der Anschlussflächen ist einem späteren elektronischen Bauelement zugeordnet. Allow metal layers. For the sake of clarity, only one electrical connection element 11 is provided with a reference symbol. Each of the pads is associated with a later electronic component.
In einem weiteren Verfahrensschritt, wie in Figur 5B gezeigt ist, wird ein Rahmenwafer 9 in Form eines zweiten In a further method step, as shown in FIG. 5B, a frame wafer 9 is in the form of a second
Siliziumwafers bereitgestellt. Dieser weist Öffnungen 90 auf, die beispielsweise durch Ätzen des Siliziummaterials desSilicon wafer provided. This has openings 90 which, for example, by etching the silicon material of
Rahmenwafers 9 hergestellt werden können. Die Öffnungen 90 sind so angeordnet, dass sie bei einer Montage des Frame wafer 9 can be produced. The openings 90 are arranged so that they are in an assembly of the
Rahmenwafers 9 auf dem Trägerwafer 8 zumindest teilweise über den elektrischen Anschlussflächen angeordnet sind, sodass diese nach einer Montage des Rahmenwafers 9 auf dem Frame wafer 9 are arranged on the carrier wafer 8 at least partially over the electrical connection surfaces, so that these after mounting the frame wafer 9 on the
Trägerwafer 8 zumindest teilweise frei liegen. Ein solcher zusammengefügter Zustand ist in Figur 5C gezeigt. Die Montage des Rahmenwafers 9 auf dem Trägerwafer 8 erfolgt beispielsweise durch eutektisches Löten, anodisches Bonden oder Kleben. Hierzu kann auf einer Oberfläche des Carrier wafer 8 are at least partially exposed. Such an assembled state is shown in Fig. 5C. The assembly of the frame wafer 9 on the carrier wafer 8 takes place for example by eutectic soldering, anodic bonding or gluing. This can be done on a surface of the
Rahmenwafers 9, die nach der Montage des Rahmenwafers 9 auf dem Trägerwafer 8 dem Trägerwafer 8 zugewandt ist, vor der Montage eine wie vorab beschriebene erste metallische Frame wafer 9, which faces after the assembly of the frame wafer 9 on the carrier wafer 8 to the carrier wafer 8, prior to assembly as described above first metallic
Oberfläche durch Aufbringen einer Metallschicht ausgebildet werden. Weiterhin ist es auch möglich, dass vor oder nach der Montage des Rahmenwafers 9 auf dem Trägerwafer 8 auf der nach der Montage dem Trägerwafer 8 abgewandten Seite des  Surface can be formed by applying a metal layer. Furthermore, it is also possible that before or after assembly of the frame wafer 9 on the carrier wafer 8 on the side facing away from the carrier wafer 8 after assembly
Rahmenwafers 9 eine zweite metallische Oberfläche durch Frame wafer 9 a second metallic surface by
Aufbringen einer weiteren Metallschicht ausgebildet wird.  Applying a further metal layer is formed.
Auf den freiliegenden Anschlussflächen mit den elektrischen Anschlusselementen 11 können elektronische Halbleiterchips 3 sowie weitere Komponenten, wie in Verbindung mit den On the exposed pads with the electrical connection elements 11, electronic semiconductor chips 3 and other components, as in connection with the
vorherigen Figuren beschrieben ist, montiert werden. previously described figures are mounted.
Durch ein gemeinsames Zerteilen der aufeinander montierten Wafer 8, 9 kann eine Vielzahl von elektronischen Bauelementen gebildet werden, wie sie in Verbindung mit den vorherigen Ausführungsbeispielen beschrieben sind. By jointly dividing the mounted wafers 8, 9, a plurality of electronic components can be formed, as described in connection with the previous embodiments.
Sollen die fertiggestellten elektronischen Bauelemente ein Vergussmaterial, wie in Verbindung mit den Figuren 2A und 2B beschrieben ist, aufweisen, kann das Vergießen mit dem If the finished electronic components, a casting material, as described in connection with Figures 2A and 2B, have, the casting with the
Vergussmaterial im Waferverbund vor dem Zerteilen erfolgen, sodass alle elektronischen Bauelemente des Waferverbunds gleichzeitig mit dem Vergussmaterial vergossen werden können. In Verbindung mit den Figuren 6A und 6B ist ein weiteres Potting material in the wafer composite before dividing done so that all electronic components of the wafer composite can be cast simultaneously with the potting material. In connection with Figures 6A and 6B is another
Verfahren zur Herstellung eines elektronischen Bauelements beschrieben . Die späteren vereinzelten elektronischen Bauelemente 100, von denen eines rein beispielhaft mit einem Bezugszeichen Method for producing an electronic component described. The later isolated electronic components 100, one of which is purely by way of example with a reference numeral
versehen ist, werden in Form eines Nutzens 101 („Panel") gefertigt, wie in Figur 6A gezeigt ist. Hierzu wird ein are made in the form of a benefit 101 ("panel"), as shown in Figure 6A
Trägerwafer 8, beispielsweise ein Keramikwafer mit einer entsprechend aufgebrachten Metallisierung zur Bildung Carrier wafer 8, for example, a ceramic wafer with a correspondingly applied metallization for formation
elektrischer Anschlussflächen oder eine Platine, wie etwa eine bedruckte Leiterplatte, bereitgestellt, auf denen elektronische Halbleiterbauelemente und Rahmenelemente sowie weitere Bauteile, beispielsweise wie in Verbindung mit den vorherigen Ausführungsbeispielen beschrieben sind, electrical pads or a circuit board, such as a printed circuit board, provided on which electronic semiconductor devices and frame elements and other components, for example, as described in connection with the previous embodiments,
aufgebracht werden. Insbesondere können, wie in Verbindung mit den Figuren 1A und 1B beschrieben ist, auf jeder der elektrischen Anschlussflächen jeweils ein Rahmenelement auf zwei der zumindest zwei elektrischen Anschlusselemente montiert werden. be applied. In particular, as described in connection with FIGS. 1A and 1B, in each case one frame element can be mounted on two of the at least two electrical connection elements on each of the electrical connection surfaces.
Durch Zerteilen des Trägerwafers 8 mit den darauf By dividing the carrier wafer 8 with the on it
aufgebrachten Komponenten kann eine Vielzahl elektronischer Bauelemente 100, wie in Verbindung mit den vorherigen Applied components can be a variety of electronic components 100, as in connection with the previous
Ausführungsbeispielen erläutert, hergestellt werden. Embodiments explained, are produced.
Sollen die vereinzelten elektronischen Bauelemente 100 ein Vergussmaterial 6 aufweisen, so können diese gemeinsam im Verbund mit dem Vergussmaterial 6 vergossen werden. Hierzu kann eine in Figur 6A gezeigte gemeinsame Umrandung 102 beispielsweise in Form einer Silikonraupe um den den späteren elektronischen Bauelementen entsprechenden Bereich If the isolated electronic components 100 have a potting material 6, then they can be cast together in conjunction with the potting material 6. For this purpose, a common border 102 shown in FIG. 6A, for example in the form of a silicone bead around the area corresponding to the later electronic components, can be used
aufgebracht werden. In den durch die Umrandung 102 umgrenzten Bereich kann ein Vergussmaterial 6 aufgebracht werden, wie in Figur 6B gezeigt ist. Dadurch ist es möglich, den Verguss einer Vielzahl von elektronischen Bauelementen in Einzelprozessen, wie sie im Stand der Technik praktiziert werden, zu vermeiden. be applied. In the region bounded by the border 102, a potting material 6 can be applied, as shown in FIG. 6B. This makes it possible to encapsulate a variety of electronic components in Individual processes, as practiced in the prior art, to avoid.
Die in Verbindung mit den Figuren beschriebenen The ones described in connection with the figures
Ausführungsbeispiele können, auch wenn nicht explizit beschrieben, dass die in Verbindung mit den Figuren Embodiments may, although not explicitly described, that in conjunction with FIGS
beschriebenen Ausführungsbeispiele weitere oder alternative Merkmale gemäß den im allgemeinen Teil beschriebenen described embodiments further or alternative features according to those described in the general part
Ausführungsformen aufweisen. Have embodiments.
Die Erfindung ist nicht durch die Beschreibung anhand der Ausführungsbeispiele auf diese beschränkt. Vielmehr umfasst die Erfindung jedes neue Merkmal sowie jede Kombination von Merkmalen, was insbesondere jede Kombination von Merkmalen in den Patentansprüchen beinhaltet, auch wenn dieses Merkmal oder diese Kombination selbst nicht explizit in den The invention is not limited by the description based on the embodiments of these. Rather, the invention encompasses every new feature as well as every combination of features, which in particular includes any combination of features in the patent claims, even if this feature or combination itself is not explicitly described in the claims
Patentansprüchen oder Ausführungsbeispielen angegeben ist. Claims or embodiments is given.

Claims

Patentansprüche claims
1. Elektronisches Bauelement (100) mit einem Trägerelement (1), das auf einer Montageseite (10) eine elektrische Anschlussfläche mit zumindest zwei elektrischen 1. Electronic component (100) with a carrier element (1), on a mounting side (10) has an electrical connection surface with at least two electrical
Anschlusselementen (11) aufweist, auf der zumindest ein elektronischer Halbleiterchip (3) montiert und  Having connecting elements (11), mounted on the at least one electronic semiconductor chip (3) and
elektrisch angeschlossen ist, wobei auf der Montageseite (10) zumindest ein Rahmenelement (2) montiert ist.  is electrically connected, wherein on the mounting side (10) at least one frame element (2) is mounted.
2. Bauelement (100) nach Anspruch 1, wobei das zumindest eine Rahmenelement (2) elektrisch leitend ist. 2. The component (100) according to claim 1, wherein the at least one frame element (2) is electrically conductive.
3. Bauelement (100) nach Anspruch 1 oder 2, wobei das 3. The device (100) according to claim 1 or 2, wherein the
zumindest eine Rahmenelement (2) den zumindest einen elektronischen Halbleiterchip (3) in lateraler Richtung nicht vollständig umschließt.  at least one frame element (2) does not completely surround the at least one electronic semiconductor chip (3) in the lateral direction.
4. Bauelement (100) nach einem der vorherigen Ansprüche, wobei das zumindest eine Rahmenelement (2) auf einer dem Trägerelement (1) zugewandten Seite eine erste 4. The component (100) according to any one of the preceding claims, wherein the at least one frame element (2) on a the carrier element (1) side facing a first
metallische Oberfläche (21) und auf der dem  metallic surface (21) and on the
Trägerelement (1) abgewandten Seite eine zweite  Carrier element (1) facing away from a second
metallische Oberfläche (22) aufweist.  metallic surface (22).
5. Bauelement (100) nach Anspruch 4, wobei die erste 5. The device (100) according to claim 4, wherein the first
metallische Oberfläche und die zweite metallische  metallic surface and the second metallic
Oberfläche voneinander verschiedene Metalle aufweisen.  Surface of different metals have.
6. Bauelement (100) nach Anspruch 4 oder 5, wobei das 6. The component (100) according to claim 4 or 5, wherein the
zumindest eine Rahmenelement (2) einen Grundkörper (20) aus Silizium aufweist, auf dem die metallischen Oberflächen (21, 22) durch Metallschichten (23, 24) gebildet werden. at least one frame element (2) has a base body (20) of silicon on which the metallic Surfaces (21, 22) by metal layers (23, 24) are formed.
7. Bauelement (100) nach Anspruch 4 oder 5, wobei das 7. The device (100) according to claim 4 or 5, wherein the
zumindest eine Rahmenelement (2) einen metallischen Grundkörper (20) aufweist und zumindest eine der ersten und zweiten metallischen Oberflächen (21, 22) durch eine auf dem metallischen Grundkörper (20) aufgebrachte  at least one frame element (2) has a metallic base body (20) and at least one of the first and second metallic surfaces (21, 22) is applied by a metal body (20) applied on the metallic base body (20)
Metallschicht (23, 24) gebildet wird.  Metal layer (23, 24) is formed.
8. Bauelement (100) nach einem der vorherigen Ansprüche, wobei auf zwei der zumindest zwei elektrischen 8. The component (100) according to one of the preceding claims, wherein two of the at least two electrical
Anschlusselemente (11) jeweils ein Rahmenelement (2) montiert ist und jedes der Rahmenelemente (2) elektrisch leitend mit dem jeweiligen elektrischen Anschlusselement (11) verbunden ist, auf dem es montiert ist.  Connection elements (11) is mounted in each case a frame element (2) and each of the frame elements (2) is electrically conductively connected to the respective electrical connection element (11) on which it is mounted.
9. Bauelement (100) nach Anspruch 8, wobei über dem 9. The device (100) according to claim 8, wherein over the
zumindest einen Halbleiterchip (3) und zwischen den Rahmenelementen (2) ein Vergussmaterial (6) angeordnet ist .  at least one semiconductor chip (3) and between the frame elements (2) a potting material (6) is arranged.
10. Bauelement (100) nach einem der vorherigen Ansprüche, wobei das zumindest eine Rahmenelement (2) mittels Löten, anodischem Bonden oder Kleben auf dem 10. The component (100) according to one of the preceding claims, wherein the at least one frame element (2) by means of soldering, anodic bonding or gluing on the
Trägerelement (1) montiert ist.  Carrier element (1) is mounted.
11. Bauelement (100) nach einem der Ansprüche 1 bis 10, 11. The component (100) according to one of claims 1 to 10,
wobei das Trägerelement (1) ein Siliziumträger ist.  wherein the carrier element (1) is a silicon carrier.
Bauelement (100) nach einem der Ansprüche 1 bis 10, wobei das Trägerelement (1) eine Platine oder ein Component (100) according to one of claims 1 to 10, wherein the carrier element (1) a board or a
Keramikträger ist. Bauelement (100) nach einem der vorherigen Ansprüche, wobei die Anschlusselemente (11) durch Metallschichten gebildet werden. Ceramic carrier is. Component (100) according to one of the preceding claims, wherein the connection elements (11) are formed by metal layers.
Bauelement (100) nach einem der vorherigen Ansprüche, wobei der zumindest eine elektronische Halbleiterchip (3) ein optoelektronischer Halbleiterchip ist. Component (100) according to one of the preceding claims, wherein the at least one electronic semiconductor chip (3) is an optoelectronic semiconductor chip.
Bauelement (100) nach einem der vorherigen Ansprüche, wobei über dem zumindest einen Halbleiterchip (3) ein optisches Element (7) angeordnet ist, das auf dem zumindest einen Rahmenelement (7) montiert ist. Component (100) according to one of the preceding claims, wherein over the at least one semiconductor chip (3) an optical element (7) is arranged, which is mounted on the at least one frame element (7).
Verfahren zur Herstellung eines elektronischen Method for producing an electronic
Bauelements (100) mit den Schritten: Device (100) with the steps:
Bereitstellen eines Trägerwafers (8) mit elektrischen Anschlussflächen, die jeweils zumindest zwei elektrische Anschlusselemente (11) auf einer Montageseite (10) des Trägerwafers (8) aufweisen,  Providing a carrier wafer (8) with electrical connection surfaces, each having at least two electrical connection elements (11) on a mounting side (10) of the carrier wafer (8),
Montieren von jeweils einem Rahmenelement (2) auf zwei der zumindest zwei elektrischen Anschlusselemente (2) jeder der elektrischen Anschlussflächen,  Mounting one frame element (2) on each of two of the at least two electrical connection elements (2) of each of the electrical connection surfaces,
Montierten von jeweils zumindest einem elektronischen Halbleiterchip (3) auf jeder der elektrischen Mounted in each case at least one electronic semiconductor chip (3) on each of the electrical
Anschlussflächen, Pads
Zerteilen des Trägerwafers (8) zur Bildung einer  Dicing the carrier wafer (8) to form a
Vielzahl von elektronischen Bauelementen (100), wobei jedes der elektronischen Bauelemente (100) ein A plurality of electronic components (100), each of the electronic components (100)
Trägerelement (1), gebildet durch einen Teil des Carrier element (1), formed by a part of the
Trägerwafers (8), und auf zwei der zumindest zwei elektrischen Anschlusselementen (11) der Anschlussfläche jeweils ein Rahmenelement (2) aufweist. Verfahren zur Herstellung eines elektronischen Carrier wafer (8), and on two of the at least two electrical connection elements (11) of the pad in each case a frame element (2). Method for producing an electronic
Bauelements (100) mit den Schritten: Device (100) with the steps:
Bereitstellen eines ersten Siliziumwafers als Providing a first silicon wafer as
Trägerwafer (8), Carrier wafer (8),
Aufbringen von elektrischen Anschlussflächen mit jeweils zumindest zwei elektrischen Anschlusselementen (11) auf einer Montageseite (10) des Trägerwafers (8),  Application of electrical connection surfaces, each with at least two electrical connection elements (11) on a mounting side (10) of the carrier wafer (8),
Bereitstellen eines zweiten Siliziumwafers als Providing a second silicon wafer as
Rahmenwafer (9), in den Öffnungen (90) eingebracht werden, die bei einer Montage des Rahmenwafers (9) auf dem Trägerwafer (8) zumindest teilweise über den Frame wafer (9) are introduced into the openings (90), which at least partially over the. When mounting the frame wafer (9) on the carrier wafer (8)
elektrischen Anschlussflächen angeordnet sind, electrical connection surfaces are arranged,
Montieren des Rahmenwafers (9) auf dem Trägerwafer (8), Montierten von jeweils zumindest einem elektronischen Halbleiterchip (3) auf jeder der elektrischen Mounting the frame wafer (9) on the carrier wafer (8), mounting each of at least one electronic semiconductor chip (3) on each of the electrical ones
Anschlussflächen, Pads
Zerteilen der aufeinander montierten Siliziumwafer zur Bildung einer Vielzahl von elektronischen Bauelementen (100), wobei jedes der elektronischen Bauelemente (100) ein Trägerelement (1), gebildet durch einen Teil des Trägerwafers (8), und auf zwei der zumindest zwei elektrischen Anschlusselementen (11) der Anschlussfläche jeweils ein Rahmenelement (2), gebildet durch Teile des Rahmenwafers (9), aufweist.  Dividing the stacked silicon wafers to form a plurality of electronic components (100), each of the electronic components (100) comprising a carrier element (1) formed by a part of the carrier wafer (8) and two of the at least two electrical connection elements (11 ) of the pad each have a frame member (2) formed by parts of the frame wafer (9).
Verfahren nach Anspruch 17, bei dem auf einer Oberfläche des Rahmenwafers (9), die nach der Montage des A method according to claim 17, wherein on a surface of the frame wafer (9), which after assembly of the
Rahmenwafers (9) auf dem Trägerwafer (8) dem Trägerwafer (8) zugewandt ist, vor der Montage eine erste Frame wafer (9) on the carrier wafer (8) facing the carrier wafer (8), before mounting a first
metallische Oberfläche durch Aufbringen einer metallic surface by applying a
Metallschicht ausgebildet wird. Verfahren nach Anspruch 17 oder 18, bei dem auf einer Oberfläche des Rahmenwafers (9), die nach der Montage des Rahmenwafers (9) auf dem Trägerwafer (8) dem ersten Trägerwafer (8) abgewandt ist, eine zweite metallische Oberfläche durch Aufbringen einer Metallschicht Metal layer is formed. A method according to claim 17 or 18, wherein on a surface of the frame wafer (9) facing away from the first carrier wafer (8) on the carrier wafer (8) after mounting the frame wafer (9), a second metallic surface is formed by applying a metal layer
ausgebildet wird. is trained.
Verfahren nach einem der Ansprüche 17 bis 19, bei dem die elektronischen Halbleiterchips (3) vor dem Zerteilen mit einem Vergussmaterial (6) vergossen werden. Method according to one of Claims 17 to 19, in which the electronic semiconductor chips (3) are cast with a potting material (6) prior to dicing.
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20090242923A1 (en) * 2008-03-28 2009-10-01 M/A-Com, Inc. Hermetically Sealed Device with Transparent Window and Method of Manufacturing Same
US20100308350A1 (en) * 2008-08-26 2010-12-09 Jeffrey Bisberg LED Chip-Based Lighting Products And Methods Of Building

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101662038B1 (en) * 2010-05-07 2016-10-05 삼성전자 주식회사 chip package
WO2012165647A1 (en) * 2011-06-01 2012-12-06 Canon Kabushiki Kaisha Semiconductor device

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20090242923A1 (en) * 2008-03-28 2009-10-01 M/A-Com, Inc. Hermetically Sealed Device with Transparent Window and Method of Manufacturing Same
US20100308350A1 (en) * 2008-08-26 2010-12-09 Jeffrey Bisberg LED Chip-Based Lighting Products And Methods Of Building

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