DE102015109953A1 - Production of electronic components - Google Patents
Production of electronic components Download PDFInfo
- Publication number
- DE102015109953A1 DE102015109953A1 DE102015109953.5A DE102015109953A DE102015109953A1 DE 102015109953 A1 DE102015109953 A1 DE 102015109953A1 DE 102015109953 A DE102015109953 A DE 102015109953A DE 102015109953 A1 DE102015109953 A1 DE 102015109953A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- metal foil
- shaped body
- recesses
- connection elements
- molding
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 118
- 239000011888 foil Substances 0.000 claims abstract description 107
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 95
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 95
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 79
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 71
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 49
- 238000004382 potting Methods 0.000 claims description 41
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 34
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 21
- 230000005693 optoelectronics Effects 0.000 claims description 15
- 238000004873 anchoring Methods 0.000 claims description 13
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 71
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 58
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 16
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 16
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 15
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 14
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 14
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 11
- 238000001721 transfer moulding Methods 0.000 description 10
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 9
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 9
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 9
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 8
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 7
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 7
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 7
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 7
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 5
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 5
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 5
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 5
- 238000003631 wet chemical etching Methods 0.000 description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 4
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 4
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 4
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 4
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002313 adhesive film Substances 0.000 description 3
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 3
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 3
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 3
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 2
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 2
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003698 laser cutting Methods 0.000 description 2
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 2
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 2
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 2
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 230000002277 temperature effect Effects 0.000 description 1
- 230000000930 thermomechanical effect Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/48—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
- H01L33/483—Containers
- H01L33/486—Containers adapted for surface mounting
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/48—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
- H01L33/62—Arrangements for conducting electric current to or from the semiconductor body, e.g. lead-frames, wire-bonds or solder balls
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/48247—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/93—Batch processes
- H01L2224/95—Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips
- H01L2224/97—Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips the devices being connected to a common substrate, e.g. interposer, said common substrate being separable into individual assemblies after connecting
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/181—Encapsulation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2933/00—Details relating to devices covered by the group H01L33/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2933/0008—Processes
- H01L2933/0033—Processes relating to semiconductor body packages
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2933/00—Details relating to devices covered by the group H01L33/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2933/0008—Processes
- H01L2933/0033—Processes relating to semiconductor body packages
- H01L2933/0066—Processes relating to semiconductor body packages relating to arrangements for conducting electric current to or from the semiconductor body
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen von elektronischen Bauelementen. Das Verfahren umfasst ein Bereitstellen einer Metallfolie, ein Anordnen der Metallfolie auf einem Hilfsträger, und ein Strukturieren der auf dem Hilfsträger angeordneten Metallfolie in separate Anschlusselemente. Weiter vorgesehen sind ein Ausbilden eines Formkörpers mit Ausnehmungen auf dem Hilfsträger und den Anschlusselementen, ein Anordnen von Halbleiterchips auf Anschlusselementen in den Ausnehmungen des Formkörpers, ein Entfernen des Hilfsträgers und ein Durchtrennen des Formkörpers zum Bilden von vereinzelten elektronischen Bauelementen. Die Erfindung betrifft des Weiteren ein elektronisches Bauelement.The invention relates to a method for producing electronic components. The method comprises providing a metal foil, arranging the metal foil on an auxiliary carrier, and structuring the metal foil arranged on the auxiliary carrier into separate connection elements. Furthermore, provision is made for forming a shaped body having recesses on the auxiliary carrier and the connecting elements, arranging semiconductor chips on connecting elements in the recesses of the shaped body, removing the auxiliary carrier and severing the shaped body to form individual electronic components. The invention further relates to an electronic component.
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen von elektronischen Bauelementen. Die Erfindung betrifft des Weiteren ein elektronisches Bauelement.The invention relates to a method for producing electronic components. The invention further relates to an electronic component.
Elektronische Bauelemente wie beispielsweise optoelektronische Bauelemente zum Erzeugen von Lichtstrahlung können in Form von QFN Packages (Quad Flat No Leads) verwirklicht sein. In einem herkömmlichen Verfahren zum Herstellen solcher Bauelemente wird ein metallischer Leiterrahmen bereitgestellt, welcher aus Kupfer ausgebildet und mit einer metallischen Beschichtung versehen sein kann, und welcher mit einer Formmasse zum Bilden eines Formkörpers umspritzt wird. Der Leiterrahmen weist Anschlussflächen und die Anschlussflächen verbindende Verbindungsstege (sogenannte Tie Bars oder Support Bars) auf. Der Formkörper wird mit Ausnehmungen ausgebildet, über welche die Anschlussflächen an einer Vorderseite freigestellt sind. An diesen Stellen werden Halbleiterchips auf den Anschlussflächen angeordnet und mit den Anschlussflächen elektrisch verbunden. Die Rückseiten der Anschlussflächen bleiben ebenfalls frei, wodurch die hergestellten Bauelemente für eine Oberflächenmontage geeignet sind. Nach dem Anordnen der Halbleiterchips werden weitere Prozesse wie ein Verfüllen der Ausnehmungen mit einer Vergussmasse und ein Vereinzeln des auf diese Weise erzeugten Bauelementverbunds durchgeführt.Electronic components such as optoelectronic components for generating light radiation can be implemented in the form of QFN packages (Quad Flat No Leads). In a conventional method of manufacturing such devices, a metallic lead frame is provided which may be formed of copper and provided with a metallic coating and which is overmolded with a molding compound to form a molding. The lead frame has connection surfaces and connection bars connecting the connection surfaces (so-called tie bars or support bars). The molded body is formed with recesses over which the connection surfaces are exposed on a front side. At these locations, semiconductor chips are arranged on the pads and electrically connected to the pads. The backs of the pads also remain free, making the manufactured devices suitable for surface mounting. After arranging the semiconductor chips, further processes are carried out, such as filling the recesses with a potting compound and singulating the component composite produced in this way.
Beim Vereinzeln erfolgt ein Durchtrennen des Formkörpers und der Verbindungsstege des Leiterrahmens, also ein Durchtrennen einer inhomogenen Materialkombination. Dieser Vorgang wird mit Hilfe eines Sägeprozesses durchgeführt. Die inhomogene Materialkombination begrenzt die mögliche Sägegeschwindigkeit, um saubere Außenkanten der Bauelemente zu erzeugen. Daher ist das Durchtrennen mit einem hohen Zeit- und Kostenaufwand verbunden. When separating takes place a severing of the molding and the connecting webs of the lead frame, so a severing of an inhomogeneous combination of materials. This process is carried out by means of a sawing process. The inhomogeneous combination of materials limits the possible sawing speed to produce clean outer edges of the components. Therefore, the cutting is associated with a high time and cost.
Beim Vereinzeln der Bauelemente kann es gegebenenfalls zu einem Verschmieren von Material der Verbindungsstege kommen. Hierdurch besteht die Gefahr von Kurzschlüssen. Des Weiteren reichen die Verbindungsstege bei den vereinzelten Bauelementen bis zu deren Außenseiten, und sind daher anfällig für eine Korrosion.When separating the components, it may possibly come to a smearing of material of the connecting webs. This creates the risk of short circuits. Furthermore, the connecting webs in the isolated components extend to the outer sides, and are therefore prone to corrosion.
Von Nachteil ist ferner, dass bei einer thermomechanischen Belastung sowie auch bei einer chemischen Belastung Spalte zwischen den Verbindungsstegen und dem Formkörper entstehen können. Aufgrund der zu den Außenseiten reichenden Verbindungsstege ist es daher möglich, dass schädliche und die Bauelemente beeinträchtigende Substanzen (zum Beispiel Flussmittel, Lotmittel, usw.) über die Spalte in das Innere der Bauelemente eindringen können.It is also disadvantageous that gaps can arise between the connecting webs and the molded body in the case of a thermomechanical load as well as under a chemical load. Due to the connecting webs reaching to the outside, it is therefore possible for harmful substances which impair the components (for example flux, solder, etc.) to penetrate into the interior of the components via the gaps.
Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht darin, eine Lösung für eine verbesserte Herstellung elektronischer Bauelemente anzugeben.The object of the present invention is to provide a solution for an improved production of electronic components.
Diese Aufgabe wird durch die Merkmale der unabhängigen Patentansprüche gelöst. Weitere vorteilhafte Ausführungsformen der Erfindung sind in den abhängigen Ansprüchen angegeben.This object is solved by the features of the independent claims. Further advantageous embodiments of the invention are specified in the dependent claims.
Gemäß einem Aspekt der Erfindung wird ein Verfahren zum Herstellen von elektronischen Bauelementen vorgeschlagen. Das Verfahren umfasst ein Bereitstellen einer Metallfolie, ein Anordnen der Metallfolie auf einem Hilfsträger, und ein Strukturieren der auf dem Hilfsträger angeordneten Metallfolie in separate Anschlusselemente. Weiter vorgesehen sind ein Ausbilden eines Formkörpers mit Ausnehmungen auf dem Hilfsträger und den Anschlusselementen, ein Anordnen von Halbleiterchips auf Anschlusselementen in den Ausnehmungen des Formkörpers, ein Entfernen des Hilfsträgers und ein Durchtrennen des Formkörpers zum Bilden von vereinzelten elektronischen Bauelementen.According to one aspect of the invention, a method for producing electronic components is proposed. The method comprises providing a metal foil, arranging the metal foil on an auxiliary carrier, and structuring the metal foil arranged on the auxiliary carrier into separate connection elements. Furthermore, provision is made for forming a shaped body having recesses on the auxiliary carrier and the connecting elements, arranging semiconductor chips on connecting elements in the recesses of the shaped body, removing the auxiliary carrier and severing the shaped body to form individual electronic components.
Bei dem Verfahren werden separate metallische Anschlusselemente ausgebildet, indem eine Metallfolie auf einem temporär verwendeten Hilfsträger angeordnet und die Metallfolie nachfolgend einer Strukturierung unterzogen wird. Separat bedeutet, dass die Anschlusselemente räumlich voneinander getrennt und nicht durch Material der Anschlusselemente bzw. der zugrunde liegenden Metallfolie miteinander verbunden sind. In the method, separate metallic connection elements are formed by arranging a metal foil on a temporary auxiliary carrier and subsequently subjecting the metal foil to structuring. Separately means that the connection elements are spatially separated from each other and not interconnected by material of the connection elements or the underlying metal foil.
Im Anschluss an das Strukturieren der Metallfolie auf dem Hilfsträger werden weitere Schritte, d.h. Ausbilden eines Formkörpers mit Ausnehmungen, Anordnen von Halbleiterchips auf Anschlusselementen in den Ausnehmungen des Formkörpers, Entfernen des Hilfsträgers und Vereinzeln des auf diese Weise erzeugten Bauelementverbunds durchgeführt. Diese Schritte können in der vorgenannten Reihenfolge durchgeführt werden. Following the patterning of the metal foil on the submount, further steps, i. Forming a shaped body with recesses, arranging semiconductor chips on connecting elements in the recesses of the shaped body, removing the subcarrier and separating the component composite produced in this way carried out. These steps can be performed in the above order.
Hiervon abweichend kann eine andere Reihenfolge vorgesehen sein. Beispielsweise kann das Entfernen des Hilfsträgers nicht nach, sondern vor dem Anordnen von Halbleiterchips auf Anschlusselementen durchgeführt werden. Hierauf wird weiter unten noch näher eingegangen.Deviating from this, a different order can be provided. For example, the removal of the subcarrier can not be performed after, but before arranging semiconductor chips on connection elements. This will be discussed in more detail below.
Nach dem Strukturieren der Metallfolie können die separaten Anschlusselemente von dem Hilfsträger gehalten bzw. getragen werden, so dass die weitere Prozessierung bzw. das Ausbilden des Formkörpers erfolgen kann. Der Hilfsträger kann darüber hinaus für ein rückseitiges Abdichten der Anschlusselemente beim Ausbilden des Formkörpers sorgen, so dass ein Verunreinigen von Rückseiten der Anschlusselemente vermieden werden kann.After the structuring of the metal foil, the separate connecting elements can be held or carried by the auxiliary carrier so that the further processing or the formation of the shaped body can take place. The subcarrier can also be used for a backside sealing of the Provide connecting elements in the formation of the molding, so that contamination of backs of the connection elements can be avoided.
Das Ausbilden von separaten Anschlusselementen anstelle der Verwendung eines metallischen Leiterrahmens mit Anschlussflächen und Verbindungsstegen macht es möglich, zum Vereinzeln des Bauelementverbunds lediglich den Formkörper zu durchtrennen. Auf diese Weise kann dieser Prozess einfach und schnell durchgeführt werden. Hierdurch sind ein hoher Fertigungsdurchsatz und infolgedessen eine Kosteneinsparung möglich.The formation of separate connection elements instead of the use of a metallic lead frame with connecting surfaces and connecting webs makes it possible to separate only the shaped body for separating the component composite. In this way, this process can be done easily and quickly. As a result, a high production throughput and consequently a cost savings are possible.
Der Bauelementverbund kann ferner, bedingt durch das Ausbilden der separaten Anschlusselemente anstelle der Verwendung eines Leiterrahmens, mit einer hohen Packungsdichte verwirklicht werden. Dies führt ebenfalls zu einer Kosteneinsparung.Further, the component composite can be realized with a high packing density due to the formation of the separate terminal members instead of the use of a lead frame. This also leads to a cost saving.
Ein Durchtrennen lediglich des Formkörpers führt des Weiteren dazu, dass die vereinzelten elektronischen Bauelemente keine zur Außenseite reichenden Verbindungsstege aufweisen. Daher können die Bauelemente korrosionsstabil und unempfindlich gegenüber Kurzschlüssen sein. Auch können die Bauelemente eine hohe Dichtigkeit besitzen, so dass ein Eindringen schädlicher Substanzen in das Bauteilinnere vermieden werden kann.A severing of only the shaped body further leads to the fact that the isolated electronic components have no reaching to the outside connecting webs. Therefore, the devices may be corrosion resistant and insensitive to short circuits. Also, the components can have a high density, so that penetration of harmful substances into the component interior can be avoided.
Im Folgenden werden weitere mögliche Ausführungsformen und Details des Verfahrens und der mit Hilfe des Verfahrens hergestellten elektronischen Bauelemente näher beschrieben.In the following, further possible embodiments and details of the method and of the electronic components produced by means of the method will be described in more detail.
In einer Ausführungsform erfolgt das Durchtrennen des Formkörpers zur Vereinzelung des Bauelementverbunds durch Sägen. Dies ist mit einer hohen Sägegeschwindigkeit von zum Beispiel bis zu 500mm/s möglich. Bei einem herkömmlichen Herstellungsverfahren wird das Sägen durch die hier vorliegende inhomogene Materialkombination (Formkörper, Verbindungsstege) hingegen mit einer weit geringeren Sägegeschwindigkeit, zum Beispiel von nur etwa 50mm/s, durchgeführt.In one embodiment, the cutting of the shaped body for separating the component composite by sawing takes place. This is possible with a high sawing speed of, for example, up to 500mm / s. In a conventional manufacturing process, however, sawing is carried out by the inhomogeneous material combination (shaped bodies, connecting webs) present here at a much lower sawing speed, for example of only about 50 mm / s.
Für das Durchtrennen des Formkörpers können anstelle von Sägen auch andere Prozesse in Betracht kommen. Möglich sind zum Beispiel ein Laserschneiden oder ein Wasserstrahlschneiden.For the cutting of the shaped body, other processes may also be considered instead of sawing. Possible are for example a laser cutting or a water jet cutting.
Die hergestellten elektronischen Bauelemente können sogenannte QFN Packages (Quad Flat No Leads) sein, welche für eine Oberflächenmontage (SMT, Surface Mounting Technology) geeignet sind. Hierbei können die metallischen Anschlusselemente an einer Rückseite der Bauelemente freiliegen. Mit Hilfe der Anschlusselemente können die Bauelemente beispielsweise auf eine Leiterplatte gelötet werden. Die Anschlusselemente können, bedingt durch das zugrunde liegende Strukturieren der Metallfolie, in Form von flächigen Schichtelementen bzw. Anschlussflächen (Bondpads) verwirklicht sein.The electronic components produced may be so-called QFN packages (Quad Flat No Leads), which are suitable for surface mounting (SMT, Surface Mounting Technology). In this case, the metallic connection elements can be exposed on a rear side of the components. With the help of the connection elements, the components can be soldered, for example, to a printed circuit board. Due to the underlying structuring of the metal foil, the connection elements can be realized in the form of laminar layer elements or bonding pads.
Die hergestellten elektronischen Bauelemente können des Weiteren Einzelchip-Bauelemente sein. Hierbei können die Bauelemente jeweils einen aus dem Formkörper hervorgegangenen Gehäusekörper mit einer Ausnehmung, mehrere bzw. zwei separate und rückseitig freiliegende Anschlusselemente, und einen Halbleiterchip aufweisen. Der Halbleiterchip kann in der Ausnehmung des Gehäusekörpers auf einem Anschlusselement angeordnet sein.The manufactured electronic components may furthermore be single-chip components. In this case, the components may in each case have a housing body having a recess which emerges from the molded body, a plurality of or two separate and rearwardly exposed connection elements, and a semiconductor chip. The semiconductor chip can be arranged in the recess of the housing body on a connection element.
Das Entfernen des Hilfsträgers kann, wie oben angedeutet wurde, nach dem Ausbilden des Formkörpers und vor dem Anordnen von Halbleiterchips auf Anschlusselementen durchgeführt werden. Nach dem Ausbilden des Formkörpers können die Anschlusselemente über den Formkörper zusammen gehalten werden, so dass der Hilfsträger in Bezug auf diese Funktion entbehrlich sein kann. Das Entfernen des Hilfsträgers kann auch nach dem Anordnen von Halbleiterchips auf Anschlusselementen und vor dem Durchtrennen des Formkörpers durchgeführt werden. The removal of the auxiliary carrier can, as indicated above, be carried out after forming the shaped body and before arranging semiconductor chips on connecting elements. After forming the shaped body, the connecting elements can be held together via the shaped body, so that the auxiliary carrier can be dispensable with respect to this function. The removal of the auxiliary carrier can also be carried out after the arrangement of semiconductor chips on connecting elements and before the cutting of the shaped body.
Die bereitgestellte Metallfolie kann eine Dicke in einem Bereich von 30µm bis 500µm aufweisen. The provided metal foil may have a thickness in a range of 30μm to 500μm.
In einer weiteren Ausführungsform weist die bereitgestellte Metallfolie eine metallische Basisschicht auf, welche mit einer metallischen Schicht beschichtet ist. Die hieraus hervorgehenden metallischen Anschlusselemente sind in entsprechender Weise mit der metallischen Schicht beschichtet. Aufgrund der Beschichtung können die Anschlusselemente lötfähig und geeignet für ein Anschließen von Bonddrähten sein. Bei der Basisschicht kann es sich zum Beispiel um eine Schicht bzw. Folie aus Kupfer handeln. Die hierauf angeordnete metallische Schicht kann einschichtig oder mehrschichtig in Form eines Stapels aus mehreren Teilschichten ausgebildet sein. Das Beschichten kann mit Hilfe von einem, oder bei einer mehrschichtigen Ausgestaltung mit Hilfe von mehreren aufeinanderfolgenden Metallisierungsverfahren durchgeführt werden.In a further embodiment, the metal foil provided has a metallic base layer which is coated with a metallic layer. The resulting metallic connection elements are coated in a corresponding manner with the metallic layer. Due to the coating, the connection elements can be solderable and suitable for connecting bonding wires. The base layer may be, for example, a layer or foil made of copper. The metallic layer arranged thereon may be formed as a single layer or as a multilayer in the form of a stack of several partial layers. The coating can be carried out by means of one or, in the case of a multilayered embodiment, by means of a plurality of successive metallization processes.
In Bezug auf eine Ausgestaltung der Anschlusselemente mit einer solchen lötfähigen Beschichtung kann ferner folgende Ausführungsform in Betracht kommen. Hierbei werden die Anschlusselemente nach dem Ausbilden des Formkörpers und vor dem Anordnen von Halbleiterchips mit einer metallischen Schicht beschichtet. Das Beschichten erfolgt derart, dass lediglich die Anschlusselemente mit der metallischen Schicht beschichtet werden. Dies kann mit Hilfe von einem, oder bei einer mehrschichtigen Ausgestaltung mit Hilfe von mehreren aufeinanderfolgenden Metallisierungsverfahren durchgeführt werden. Die Vorgehensweise, das Ausbilden des Formkörpers vor dem Ausbilden einer lötfähigen Beschichtung durchzuführen, macht es möglich, eine gute Haftung zwischen dem Formkörper und den Anschlusselementen zu erzielen. Auch können gegebenenfalls vorliegende Spalte zwischen den Anschlusselementen und dem Formkörper durch das Beschichten geschlossen werden. Hierdurch können die elektronischen Bauelemente auf zuverlässige Weise mit einer hohen Dichtigkeit gefertigt werden. Vor dem Beschichten der Anschlusselemente kann der Hilfsträger entfernt werden.With regard to an embodiment of the connection elements with such a solderable coating, the following embodiment may also be considered. In this case, the connecting elements are coated with a metallic layer after the formation of the shaped body and before the arrangement of semiconductor chips. Coating takes place in such a way that only the connection elements are coated with the metallic layer. This can be done with the help of one, or in a multi-layered design with the help of several successive metallization be performed. The procedure of forming the molded body prior to forming a solderable coating makes it possible to achieve good adhesion between the molded body and the terminal members. It is also possible for any gaps between the connection elements and the shaped body to be closed by the coating. As a result, the electronic components can be manufactured in a reliable manner with a high density. Before coating the connection elements, the auxiliary carrier can be removed.
In Bezug auf die vorgenannte Ausführungsform kann die bereitgestellte Metallfolie, welche auf dem Hilfsträger in die separaten metallischen Anschlusselemente strukturiert wird, eine unbeschichtete metallische Folie aus zum Beispiel Kupfer sein. Hierdurch kann das Vorliegen einer guten Haftung zwischen dem Formkörper und den Anschlusselementen weiter begünstigt werden. With regard to the aforementioned embodiment, the provided metal foil, which is patterned on the auxiliary carrier into the separate metallic connection elements, may be an uncoated metallic foil of, for example, copper. In this way, the presence of a good adhesion between the molded body and the connecting elements can be further promoted.
Mögliche Beispiele für die oben angegebenen und zum Beschichten eingesetzten Metallisierungsverfahren sind Elektroplattieren (Electroplating) oder eine stromlose chemische Abscheidung (Electroless Plating). Possible examples of the plating methods given above and used for coating are electroplating or electroless plating.
In einer weiteren Ausführungsform ist der Hilfsträger eine Trägerfolie. Die Trägerfolie kann eine Kunststofffolie sein, welche an einer Seite eine Klebstoffschicht aufweist. In dieser Ausgestaltung kann das Anordnen der Metallfolie auf dem Hilfsträger ein Auflaminieren der Trägerfolie auf die Metallfolie umfassen. Die Verwendung einer Trägerfolie macht es möglich, das Verfahren auf einfache und kostengünstige Weise durchzuführen. Auch lässt sich mit Hilfe einer Trägerfolie ein zuverlässiges rückseitiges Abdichten der Anschlusselemente erzielen.In a further embodiment, the auxiliary carrier is a carrier film. The carrier film may be a plastic film which has an adhesive layer on one side. In this embodiment, arranging the metal foil on the auxiliary carrier may comprise laminating the carrier foil to the metal foil. The use of a carrier film makes it possible to carry out the process in a simple and cost-effective manner. Also can be achieved with the help of a carrier film, a reliable back sealing of the connection elements.
In einer weiteren Ausführungsform wird das Strukturieren der Metallfolie in die separaten Anschlusselemente mit Hilfe eines Ätzprozesses durchgeführt. Hierbei kann es sich um einen nasschemischen Ätzprozess handeln. Im Hinblick auf einen solchen Prozess kann eine ätzbeständige Trägerfolie als Hilfsträger zur Anwendung kommen. Möglich ist zum Beispiel die Verwendung einer Folie aus Polyimid oder Polyethylenterephthalat, welche an einer Seite eine Klebstoffschicht aufweist. In a further embodiment, the structuring of the metal foil into the separate connection elements is carried out with the aid of an etching process. This can be a wet-chemical etching process. With regard to such a process, an etch-resistant carrier film may be used as a subcarrier. For example, it is possible to use a film of polyimide or polyethylene terephthalate which has an adhesive layer on one side.
Vor dem Strukturieren der Metallfolie mittels Ätzen kann eine Ätzmaske wie zum Beispiel eine Fotolackmaske auf der Metallfolie ausgebildet werden. Möglich ist es auch, den Ätzprozess unter Anwendung einer mechanischen Maskierung der Metallfolie durchzuführen.Before patterning the metal foil by etching, an etching mask such as a photoresist mask may be formed on the metal foil. It is also possible to carry out the etching process using mechanical masking of the metal foil.
In einer weiteren Ausführungsform umfasst das Ausbilden des Formkörpers mit den Ausnehmungen ein Durchführen eines Form- bzw. Moldprozesses. In diesem Prozess wird eine geeignete Formmasse auf den Hilfsträger und die hierauf befindlichen Anschlusselemente aufgebracht. Die Formmasse kann ein Kunststoffmaterial, zum Beispiel ein Epoxidmaterial oder Silikonmaterial, umfassen. Des Weiteren kann die Formmasse einen darin enthaltenen partikelförmigen Füllstoff, beispielsweise SiO2-Partikel und TiO2-Partikel, umfassen. Durch die SiO2-Partikel kann der Formkörper einen kleinen thermischen Ausdehnungskoeffizienten aufweisen, und auf diese Weise an den thermischen Ausdehnungskoeffizienten der Anschlusselemente angepasst sein. Mit Hilfe der TiO2-Partikel kann eine Weißfärbung des Formkörpers erzielt werden. Nach dem Ausbilden des Formkörpers kann gegebenenfalls ein zusätzlicher Prozess zum Entfernen von Rückständen der Formmasse auf Vorderseiten der Anschlusselemente durchgeführt werden (Deflashing).In a further embodiment, forming the shaped body with the recesses comprises performing a molding process. In this process, a suitable molding compound is applied to the auxiliary carrier and the connecting elements located thereon. The molding compound may comprise a plastic material, for example an epoxy material or silicone material. Furthermore, the molding compound may comprise a particulate filler contained therein, for example, SiO 2 particles and TiO 2 particles. As a result of the SiO 2 particles, the shaped body can have a small coefficient of thermal expansion, and in this way can be adapted to the thermal expansion coefficients of the connecting elements. With the help of TiO2 particles, a white coloration of the molding can be achieved. After the formation of the molded body, an additional process for removing residues of the molding compound on front sides of the connecting elements may optionally be performed (deflashing).
Der Formprozess kann ein Spritzpressprozess (Transfer Molding) sein. Möglich ist ferner ein folienunterstützter Spritzpressprozess (Film Assisted Transfer Molding). Hierbei sind die Formkerne eines Werkzeugteils eines Moldwerkzeugs für eine bessere Abdichtung mit einer Folie ummantelt. Auf diese Weise kann erzielt werden, dass die Anschlusselemente mit einer hohen Zuverlässigkeit vorderseitig nicht mit unerwünschten Rückständen der Formmasse bedeckt werden. The molding process may be a transfer molding process. Also possible is a film-assisted transfer molding process (Film Assisted Transfer Molding). Here, the mandrels of a tool part of a Moldwerkzeugs are sheathed for better sealing with a film. In this way it can be achieved that the connection elements are not covered with high reliability front side with unwanted residues of the molding compound.
Der Formkörper kann derart ausgebildet werden, dass über jede Ausnehmung des Formkörpers jeweils wenigstens zwei Anschlusselemente an einer Vorderseite teilweise freigestellt sind. Innerhalb jeder Ausnehmung kann jeweils zwischen zwei Anschlusselementen ein stegförmiger Teil des Formkörpers vorhanden sein, welcher eine geringere Dicke besitzen kann als ein die dazugehörige Ausnehmung umgebender Teil des Formkörpers.The shaped body can be formed in such a way that in each case at least two connecting elements on a front side are partially exposed over each recess of the shaped body. Within each recess may be present between each two connecting elements a web-shaped part of the molding, which may have a smaller thickness than a surrounding recess of the associated recess of the molding.
In Bezug auf die oben erwähnte Herstellung von Einzelchip-Bauelementen kann in jeder Ausnehmung des Formkörpers ein entsprechender Halbleiterchip angeordnet werden. With regard to the above-mentioned production of single-chip components, a corresponding semiconductor chip can be arranged in each recess of the molded body.
Für die verwendeten Halbleiterchips können unterschiedliche Ausgestaltungen in Betracht kommen. Es ist zum Beispiel möglich, dass die Halbleiterchips einen Vorderseitenkontakt und einen Rückseitenkontakt aufweisen. Hierbei kann ein in einer Ausnehmung des Formkörpers platzierter Halbleiterchip mit dem Rückseitenkontakt elektrisch und mechanisch mit einem Anschlusselement verbunden werden. Eine Verbindung kann über eine geeignete Verbindungsschicht, zum Beispiel eine Lotschicht, eine Schicht eines elektrisch leitfähigen Klebstoffs oder eine gesinterte Schicht aus zum Beispiel Silber, hergestellt werden. Der Vorderseitenkontakt eines Halbleiterchips kann über eine Verbindungsstruktur, zum Beispiel einen Bonddraht, mit einem weiteren Anschlusselement verbunden werden.For the semiconductor chips used, different configurations may be considered. For example, it is possible for the semiconductor chips to have a front-side contact and a back-side contact. In this case, a semiconductor chip placed in a recess of the molded body can be electrically and mechanically connected to the rear contact with a connection element. A compound may be formed via a suitable bonding layer, for example a solder layer, a layer of an electrically conductive adhesive or a sintered layer of, for example, silver, getting produced. The front-side contact of a semiconductor chip can be connected to a further connection element via a connection structure, for example a bonding wire.
Es können alternativ Halbleiterchips verwendet werden, welche zum Beispiel zwei Rückseitenkontakte oder zwei Vorderseitenkontakte aufweisen. In der ersten Variante kann ein Halbleiterchip mit den zwei Rückseitenkontakten auf zwei Anschlusselementen angeordnet und mit diesen über eine entsprechende Verbindungsschicht (beispielsweise eine Lotschicht, eine Schicht eines leitfähigen Klebstoffs oder eine gesinterte Schicht aus zum Beispiel Silber) verbunden werden. In der zweiten Variante kann ein Halbleiterchip auf einem Anschlusselement angeordnet werden, kann einer der zwei Vorderseitenkontakte über eine Verbindungsstruktur bzw. einen Bonddraht an dasselbe Anschlusselement und der andere Vorderseitenkontakt über eine weitere Verbindungsstruktur bzw. einen weiteren Bonddraht an ein weiteres Anschlusselemente angeschlossen werden. Alternativ können drei Anschlusselemente für einen Halbleiterchip vorgesehen sein, von denen zwei Anschlusselemente zur Verbindung mit den Vorderseitenkontakten, und ein weiteres Anschlusselement zum Befestigen des Halbleiterchips genutzt werden.Alternatively, semiconductor chips may be used which, for example, have two rear side contacts or two front side contacts. In the first variant, a semiconductor chip with the two rear side contacts can be arranged on two connection elements and connected to them via a corresponding connection layer (for example a solder layer, a layer of a conductive adhesive or a sintered layer of, for example, silver). In the second variant, a semiconductor chip can be arranged on a connection element, one of the two front side contacts can be connected to a further connection element via a connection structure or a bonding wire to the same connection element and the other front side contact via a further connection structure or a further bonding wire. Alternatively, three connection elements may be provided for one semiconductor chip, of which two connection elements are used for connection to the front side contacts, and a further connection element is used for fastening the semiconductor chip.
In einer weiteren Ausführungsform wird eine Vergussmasse in die Ausnehmungen des Formkörpers eingebracht. Dieser Schritt kann nach dem Anordnen von Halbleiterchips auf Anschlusselementen in den Ausnehmungen des Formkörpers, sowie vor einem Entfernen des Hilfsträgers durchgeführt werden. Mit Hilfe der Vergussmasse können die Halbleiterchips verkapselt und dadurch vor äußeren Einflüssen geschützt werden.In a further embodiment, a potting compound is introduced into the recesses of the shaped body. This step can be carried out after arranging semiconductor chips on connecting elements in the recesses of the shaped body, as well as before a removal of the auxiliary carrier. With the help of the potting compound, the semiconductor chips can be encapsulated and thereby protected from external influences.
Bei dem Verfüllen der Ausnehmungen des Formkörpers kann der Hilfsträger ebenfalls für ein rückseitiges Abdichten der Anschlusselemente sorgen, so dass trotz gegebenenfalls vorliegender Spalte zwischen dem Formkörper und den Anschlusselementen ein Verunreinigen von Rückseiten der Anschlusselemente vermieden werden kann.When filling the recesses of the molding, the auxiliary carrier can also provide for a backside sealing of the connection elements, so that despite possibly present gaps between the molding and the connection elements contamination of back sides of the connection elements can be avoided.
In einer weiteren Ausführungsform handelt es sich bei den hergestellten elektronischen Bauelementen um optoelektronische Bauelemente. In entsprechender Weise werden optoelektronische Halbleiterchips auf Anschlusselementen in den Ausnehmungen des Formkörpers angeordnet.In a further embodiment, the electronic components produced are optoelectronic components. In a corresponding manner, optoelectronic semiconductor chips are arranged on connecting elements in the recesses of the shaped body.
In Bezug auf die vorgenannte Ausführungsform können optoelektronische Halbleiterchips zur Anwendung kommen, welche zum Erzeugen von Lichtstrahlung ausgebildet sind. Hierbei kann es sich um Leuchtdiodenchips handeln.With respect to the aforementioned embodiment, optoelectronic semiconductor chips may be used, which are designed to generate light radiation. These can be light-emitting diode chips.
Bei Verwendung von optoelektronischen strahlungsemittierenden Halbleiterchips kann es ferner in Betracht kommen, eine Vergussmasse in die Ausnehmungen des Formkörpers einzubringen, welche ein strahlungsdurchlässiges Verguss- bzw. Kunststoffmaterial, zum Beispiel ein Silikonmaterial, aufweist. Die Vergussmasse kann zusätzlich in dem Vergussmaterial eingebettete Leuchtstoffpartikel zur Strahlungskonversion aufweisen. Auf diese Weise kann die Vergussmasse wenigstens einen Teil einer im Betrieb von den Halbleiterchips erzeugten Lichtstrahlung konvertieren.When using optoelectronic radiation-emitting semiconductor chips, it may also be considered to introduce a potting compound into the recesses of the shaped body, which has a radiation-permeable potting or plastic material, for example a silicone material. The potting compound may additionally comprise embedded in the potting material phosphor particles for radiation conversion. In this way, the potting compound can convert at least part of a light radiation generated by the semiconductor chips during operation.
In einer weiteren Ausführungsform umfasst das Verfahren ein Ausbilden von Vertiefungen in der Metallfolie vor dem Anordnen der Metallfolie auf dem Hilfsträger. Die Vertiefungen werden an einer ersten Seite der Metallfolie ausgebildet. Bei dem Strukturieren der Metallfolie in die separaten Anschlusselemente wird Material der Metallfolie ausgehend von einer zu der ersten Seite entgegen gesetzten zweiten Seite der Metallfolie im Bereich der Vertiefungen entfernt. Dies erfolgt derart, dass die Anschlusselemente am Rand eine Verankerungsstruktur zur Verankerung des Formkörpers aufweisen. Auch auf diese Weise kann eine gute Haftung bzw. Verbindung zwischen dem Formkörper und den Anschlusselementen erzielt werden, da aufgrund der Verankerungsstruktur ein mechanischer Formschluss entstehen kann.In another embodiment, the method includes forming recesses in the metal foil prior to placing the metal foil on the submount. The recesses are formed on a first side of the metal foil. In structuring the metal foil into the separate connection elements, material of the metal foil is removed starting from a second side of the metal foil opposite the first side in the region of the depressions. This takes place in such a way that the connection elements have an anchoring structure for anchoring the shaped body at the edge. In this way, a good adhesion or connection between the molded body and the connecting elements can be achieved, since due to the anchoring structure, a mechanical positive connection can arise.
Vor dem Strukturieren in die Anschlusselemente kann die mit den Vertiefungen versehene Metallfolie mit der ersten Seite auf dem Hilfsträger angeordnet werden. Bei der ersten und zweiten Seite der Metallfolie kann es sich um entgegen gesetzte Hauptseiten der Metallfolie handeln. Before structuring into the connecting elements, the metal foil provided with the depressions can be arranged with the first side on the auxiliary carrier. The first and second sides of the metal foil may be opposite major sides of the metal foil.
Die Vertiefungen können zusammenhängend bzw. ineinander übergehend und in Form eines Gitters in der Metallfolie ausgebildet werden. Hierdurch können von den Vertiefungen umschlossene Bereiche der Metallfolie gebildet werden, welche den nachfolgend ausgebildeten Anschlusselementen entsprechende Formen besitzen können.The recesses may be continuous and formed in the form of a grid in the metal foil. In this way, regions of the metal foil enclosed by the depressions can be formed, which can have corresponding shapes to the subsequently formed connection elements.
Das Ausbilden der Vertiefungen kann mit Hilfe eines Ätzprozesses durchgeführt werden.The formation of the depressions can be carried out with the aid of an etching process.
In Bezug auf die Verankerungsstruktur kann das Strukturieren der Metallfolie in die Anschlusselemente derart erfolgen, dass hierbei Material in Entfernungsbereichen entfernt wird, welche eine kleinere Breite aufweisen als die zuvor ausgebildeten Vertiefungen. Auf diese Weise können die durch das Strukturieren erzeugten separaten Anschlusselemente am Rand eine Stufenform aufweisen, welche als Verankerungsstruktur dienen kann.With regard to the anchoring structure, the structuring of the metal foil into the connection elements can take place in such a way that material is removed in removal regions which have a smaller width than the previously formed depressions. In this way, the separate connection elements produced by structuring can have a step shape at the edge, which can serve as anchoring structure.
Für das Verfahren können ferner weitere Merkmale und Details zur Anwendung kommen. Beispielsweise lässt sich das Verfahren auch derart durchführen, dass Multichip-Bauelemente hergestellt werden, welche mehrere Halbleiterchips aufweisen. Derartige Bauelemente können zum Beispiel jeweils einen aus dem Formkörper hervorgegangenen Gehäusekörper mit mehreren separaten Ausnehmungen aufweisen, in welchen Halbleiterchips auf entsprechenden Anschlusselementen angeordnet sein können. Further features and details for the method may also be used. For example, the method can also be carried out in such a way that multichip components are produced which have a plurality of semiconductor chips. Such components may, for example, in each case have a housing body which emerges from the molded body and has a plurality of separate recesses in which semiconductor chips can be arranged on corresponding connection elements.
Auch lassen sich Multichip-Bauelemente fertigen, welche jeweils einen aus dem Formkörper hervorgegangenen Gehäusekörper mit einer gemeinsamen Ausnehmung für mehrere Halbleiterchips aufweisen. Mehrere Halbleiterchips können hierbei auf einzelnen, oder auch auf einem oder mehreren gemeinsamen Anschlusselementen angeordnet sein. Des Weiteren können mehrere und in einer gemeinsamen Ausnehmung des Formkörpers platzierte Halbleiterchips untereinander elektrisch verbunden sein, zum Beispiel mit Hilfe von Bonddrähten.It is also possible to manufacture multichip components which each have a housing body which emerges from the molded body and has a common recess for a plurality of semiconductor chips. In this case, a plurality of semiconductor chips can be arranged on individual, or even on one or more common connection elements. Furthermore, a plurality of semiconductor chips placed in a common recess of the molded body can be electrically connected to one another, for example with the aid of bonding wires.
In Bezug auf den verwendeten Hilfsträger sind ebenfalls weitere Ausgestaltungen denkbar. Beispielsweise kann als Hilfsträger eine Trägerfolie zum Einsatz kommen, welche auf einem festen Träger angeordnet ist oder wird, um eine höhere Stabilität zur Verfügung zu stellen. Die Trägerfolie kann wie oben angegeben ausgebildet sein. Der feste Träger kann zum Beispiel ein metallbasierter Träger, ein Glasträger oder ein kunststoffbasierter Träger sein. Hierbei kann das Anordnen der Trägerfolie auf den festen Träger vor oder nach dem Anordnen der Metallfolie auf der Trägerfolie erfolgen. Eine Befestigung der Trägerfolie auf dem festen Träger kann mittels eines Klebstoffs verwirklicht sein. In diesem Zusammenhang kann ferner eine beidseitig klebende Klebefolie zwischen der Trägerfolie und dem festen Träger zur Anwendung kommen. Nach dem Ausbilden des Formkörpers bzw. nach dem Verfüllen einer Vergussmasse kann ein Entfernen der Trägerfolie und des festen Trägers erfolgen. With regard to the auxiliary carrier used, further embodiments are also conceivable. For example, as a subcarrier, a carrier foil can be used, which is or is arranged on a solid support in order to provide a higher stability. The carrier film may be formed as indicated above. The solid support can be, for example, a metal-based support, a glass support or a plastic-based support. In this case, the arrangement of the carrier film on the solid support can be carried out before or after the arrangement of the metal foil on the carrier film. An attachment of the carrier film on the solid support can be realized by means of an adhesive. In this context, a double-sided adhesive film between the support film and the solid support may further be used. After the formation of the molding or after the filling of a potting compound, the carrier film and the solid support can be removed.
Gemäß einem weiteren Aspekt der Erfindung wird ein elektronisches Bauelement vorgeschlagen, welches durch Durchführen des oben angegebenen Verfahrens oder einer oder mehrerer Ausführungsformen des Verfahrens hergestellt ist. Das Bauelement weist einen durch das Durchtrennen aus dem Formkörper hervorgegangenen Gehäusekörper auf. Ferner weist das Bauelement eine umlaufende Mantelfläche auf, welche ausschließlich durch den Gehäusekörper, und damit die Formmasse, gebildet ist. An die Mantelfläche heranreichende Verbindungsstege liegen somit nicht vor. Daher kann das Bauelement korrosionsstabil und unempfindlich gegenüber Kurzschlüssen sein. Diese Ausgestaltung ist eine Folge des Ausbildens von separaten Anschlusselementen und des Durchtrennens lediglich des Formkörpers.According to a further aspect of the invention, an electronic component is proposed, which is produced by carrying out the above-mentioned method or one or more embodiments of the method. The component has a housing body which has emerged from the molding by cutting. Furthermore, the component has a circumferential lateral surface, which is formed exclusively by the housing body, and thus the molding compound. On the lateral surface zoom reaching connecting webs are therefore not available. Therefore, the device may be corrosion resistant and insensitive to short circuits. This embodiment is a consequence of the formation of separate connection elements and the severing of only the shaped body.
Unter den hier verwendeten Ausdruck Mantelfläche fällt der laterale Rand bzw. Randbereich des Bauelements. Die Mantelfläche, welche zwischen einer Vorder- und einer Rückseite des Bauelements vorliegt, kann sich aus sämtlichen lateralen Außenseiten bzw. Seitenflanken/-flächen des Bauelements zusammensetzen. Das gemäß dem Verfahren hergestellte Bauelement kann zum Beispiel in der Aufsicht eine rechteckige Kontur bzw. insgesamt eine Quaderform aufweisen, so dass sich die Mantelfläche aus vier rechtwinklig aneinandergrenzenden Seitenwänden bzw. Seitenflächen zusammensetzen kann.The lateral boundary or edge region of the component falls under the expression lateral surface used here. The lateral surface, which is present between a front and a rear side of the component, can be composed of all the lateral outer sides or side flanks / surfaces of the component. The component produced according to the method may, for example, in plan view, have a rectangular contour or, as a whole, a parallelepiped shape, so that the lateral surface can be composed of four side walls or side surfaces which adjoin one another at right angles.
Es wird darauf hingewiesen, dass oben mit Bezug auf das Herstellungsverfahren genannte Aspekte und Details auch bei dem elektronischen Bauelement zur Anwendung kommen können. In dieser Hinsicht kann der Gehäusekörper des Bauelements wenigstens eine Ausnehmung aufweisen. Das Bauelement kann wenigstens zwei separate und an einer Rückseite freiliegende Anschlusselemente, und wenigstens einen Halbleiterchip aufweisen. Der Halbleiterchip kann in der bzw. in einer Ausnehmung des Gehäusekörpers auf wenigstens einem metallischen Anschlusselement angeordnet sein. Die wenigstens eine Ausnehmung kann ferner mit einer Vergussmasse verfüllt sein. Das Bauelement kann ein Einzelchip-Bauelement oder auch ein Multichip-Bauelement sein. Des Weiteren kann das Bauelement ein optoelektronisches Bauelement sein.It should be noted that aspects and details mentioned above with reference to the manufacturing method can also be applied to the electronic component. In this regard, the housing body of the device may have at least one recess. The component may have at least two separate terminal elements which are exposed on a rear side, and at least one semiconductor chip. The semiconductor chip can be arranged in or in a recess of the housing body on at least one metallic connection element. The at least one recess can also be filled with a potting compound. The component may be a single-chip component or else a multi-chip component. Furthermore, the component can be an optoelectronic component.
Die vorstehend erläuterten und/oder in den Unteransprüchen wiedergegebenen vorteilhaften Aus- und Weiterbildungen der Erfindung können – außer zum Beispiel in Fällen eindeutiger Abhängigkeiten oder unvereinbarer Alternativen – einzeln oder aber auch in beliebiger Kombination miteinander zur Anwendung kommen.The advantageous embodiments and further developments of the invention explained above and / or reproduced in the subclaims can be used individually or else in any desired combination with one another except, for example, in cases of clear dependencies or incompatible alternatives.
Die oben beschriebenen Eigenschaften, Merkmale und Vorteile dieser Erfindung, sowie die Art und Weise, wie diese erreicht werden, werden klarer und deutlicher verständlich in Zusammenhang mit der folgenden Beschreibung von Ausführungsbeispielen, die im Zusammenhang mit den schematischen Zeichnungen näher erläutert werden. Es zeigen:The above-described characteristics, features and advantages of this invention, as well as the manner in which they are achieved, will become clearer and more clearly understood in connection with the following description of exemplary embodiments, which are explained in more detail in connection with the schematic drawings. Show it:
Anhand der folgenden schematischen Figuren werden mögliche Ausführungsformen eines Verfahrens zum Herstellen von elektronischen Bauelementen beschrieben. Hierbei können aus der Halbleitertechnik und aus der Fertigung elektronischer Bauelemente bekannte Prozesse durchgeführt werden und in diesen Gebieten übliche Materialien zum Einsatz kommen, so dass hierauf nur teilweise eingegangen wird. In gleicher Weise können die Bauelemente zusätzlich zu gezeigten und beschriebenen Komponenten mit weiteren Komponenten und Strukturen gefertigt werden. Es wird ferner darauf hingewiesen, dass die Figuren lediglich schematischer Natur sind und nicht maßstabsgetreu sind. In diesem Sinne können in den Figuren gezeigte Komponenten und Strukturen zum besseren Verständnis übertrieben groß oder verkleinert dargestellt sein.Possible embodiments of a method for producing electronic components will be described with reference to the following schematic figures. In this case, known processes can be carried out from semiconductor technology and from the production of electronic components, and customary materials can be used in these areas, so that this is only partially discussed. In the same way, the components can be manufactured in addition to components shown and described with other components and structures. It is further noted that the figures are merely schematic in nature and are not to scale. In this sense, components and structures shown in the figures may be exaggerated or oversized for clarity.
Die
In dem Verfahren wird ein Verbund aus zusammenhängenden Bauelementen gefertigt, welcher nachfolgend in die Bauelemente
Bei dem Verfahren wird eine Metallfolie
Die metallische Schicht
Die bereitgestellte Metallfolie
Im Hinblick auf einen nachfolgend durchgeführten Ätzprozess ist die Trägerfolie
In dem Ätzprozess wird die auf der Trägerfolie
Wie in der Aufsichtsdarstellung von
Bei dem Ätzprozess handelt es sich um einen nasschemischen Ätzprozess, welcher mit einem geeigneten Ätzmittel durchgeführt wird. Dies hat zur Folge, dass die metallischen Anschlussflächen
Das Ausbilden der separaten Anschlussflächen
Nach dem Ausbilden der Anschlussflächen
Die Formmasse kann ein Kunststoffmaterial, zum Beispiel ein Epoxidmaterial oder Silikonmaterial, umfassen. Die Formmasse kann des Weiteren hochgefüllt sein mit einem partikelförmigen Füllstoff (nicht dargestellt). Bei dem Füllmaterial kann es sich um SiO2-Partikel und TiO2-Partikel handeln. Durch die SiO2-Partikel kann der Formkörper
Der Formkörper
Die Ausnehmungen
Der Formkörper
Es ist möglich, dass die Anschlussflächen
Dies kann gegebenenfalls vermieden werden, indem das Ausbilden des Formkörpers
Anschließend werden, wie in
In der in den Figuren angedeuteten Ausgestaltung weisen die Halbleiterchips
Nach dem Anordnen und Kontaktieren der Halbleiterchips
Das Einbringen der Vergussmasse
Bei strahlungsemittierenden Halbleiterchips
Es ist darüber hinaus möglich, dass bei den strahlungsemittierenden Halbleiterchips
Ferner kann es bei der oben beschriebenen Verwendung einer Vergussmasse
Im Anschluss hieran bzw. nach einem Aushärten der Vergussmasse
Nach dem Entfernen der Trägerfolie
Wie in den
Das Durchtrennen des Formkörpers
Bei den vereinzelten Bauelementen
Jedes Bauelement
Im Folgenden werden mögliche Varianten und Abwandlungen des anhand der
Die
Bei dem Verfahren wird, wie in
Nachfolgend wird ein nasschemischer Ätzprozess durchgeführt, in welchem die auf der Trägerfolie
Nach dem Ausbilden der Anschlussflächen
Nachfolgend kann gegebenenfalls ein Prozess zum Entfernen von unerwünschten, auf den Anschlussflächen
Im Anschluss hieran wird die Trägerfolie
Das Beschichten erfolgt derart, dass lediglich die Anschlussflächen
Das Beschichten der Anschlussflächen
In dieser Verfahrensvariante wird der Formkörper
Anschließend werden, wie in
Nachfolgend werden die Ausnehmungen
Im Anschluss hieran wird der Bauelementverbund, wie in
Die
Bei dem Verfahren wird, wie in
Nachfolgend werden, wie in
Nach dem Ausbilden der halbgeätzten Vertiefungen
Anschließend wird ein nasschemischer Ätzprozess durchgeführt, in welchem die auf der Trägerfolie
Bei dem Ätzprozess zum Ausbilden der Anschlussflächen
Nach dem Ausbilden der Anschlussflächen
Aufgrund der stufenförmigen Ränder der Anschlussflächen
Nach dem Ausbilden des Formkörpers
Anschließend werden, wie in
Im Anschluss hieran werden die Ausnehmungen
Nachfolgend wird der Bauelementverbund, wie in
Das zuvor beschriebene Verfahren der
Bei dem Verfahren wird, wie in
Nachfolgend werden, wie in
Im Anschluss an das Ausbilden der halbgeätzten Vertiefungen
Bei dem Ätzprozess wird Material der Metallfolie
Im Anschluss hieran wird, wie in
Nach dem Ausbilden des Formkörpers
Nachfolgend wird die Trägerfolie
Die metallische Schicht
Anschließend werden, wie in
Nachfolgend werden die Ausnehmungen
Im Anschluss hieran wird der Bauelementverbund, wie in
Die anhand der Figuren erläuterten Ausführungsformen stellen bevorzugte bzw. beispielhafte Ausführungsformen der Erfindung dar. Neben den beschriebenen und abgebildeten Ausführungsformen sind weitere Ausführungsformen vorstellbar, welche weitere Abwandlungen und/oder Kombinationen von Merkmale umfassen können. Es ist zum Beispiel möglich, anstelle der oben angegebenen Materialien andere Materialien zu verwenden.The embodiments explained with reference to the figures represent preferred or exemplary embodiments of the invention. In addition to the described and illustrated embodiments, further embodiments are conceivable which may comprise further modifications and / or combinations of features. For example, it is possible to use other materials instead of the above materials.
Auch können Komponenten und Strukturen, zum Beispiel Anschlusselemente
Es kann ferner in Betracht kommen, eine verwendete Trägerfolie
Weitere mögliche Abwandlungen sind in Bezug auf die verwendbaren Halbleiterchips
Ferner können Halbleiterchips
Für Halbleiterchips
Das Verfahren bzw. dessen unterschiedliche Ausführungsformen können nicht nur in Bezug auf eine Herstellung optoelektronischer Bauelemente zur Anwendung kommen, sondern lassen sich auch zur Fertigung anderer elektronischer Bauelemente verwenden. Daher können anstelle von optoelektronischen Halbleiterchips andere Halbleiterchips eingesetzt werden.The method or its different embodiments can not only be used in relation to the production of optoelectronic components, but can also be used for the manufacture of other electronic components. Therefore, other semiconductor chips can be used instead of optoelectronic semiconductor chips.
Eine weitere mögliche Abwandlung besteht darin, anstelle von Einzelchip-Bauelementen Multichip-Bauelemente zu fertigen, welche mehrere Halbleiterchips
Hierfür kann zum Beispiel der in den
Möglich ist des Weiteren die Herstellung von Multichip-Bauelementen, welche jeweils einen Gehäusekörper mit einer gemeinsamen Ausnehmung, und mehrere innerhalb der gemeinsamen Ausnehmung angeordnete Halbleiterchips
Obwohl die Erfindung im Detail durch bevorzugte Ausführungsbeispiele näher illustriert und beschrieben wurde, so ist die Erfindung nicht durch die offenbarten Beispiele eingeschränkt und andere Variationen können vom Fachmann hieraus abgeleitet werden, ohne den Schutzumfang der Erfindung zu verlassen.While the invention has been further illustrated and described in detail by way of preferred embodiments, the invention is not limited by the disclosed examples, and other variations can be derived therefrom by those skilled in the art without departing from the scope of the invention.
BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS
- 100100
- Bauelement module
- 110110
- Metallfolie metal foil
- 111111
- Schicht, Schichtmaterial Layer, layer material
- 112112
- Schicht layer
- 115115
- Vertiefung deepening
- 120120
- Trägerfolie support film
- 131, 132131, 132
- Anschlussfläche terminal area
- 140140
- Formkörper moldings
- 141141
- Ausnehmung recess
- 142142
- Steg web
- 145145
- Gehäusekörper housing body
- 147147
- Mantelfläche lateral surface
- 150150
- Halbleiterchip Semiconductor chip
- 151151
- Bonddraht bonding wire
- 160160
- Vergussmasse potting compound
- 190190
- Trennlinie parting line
- 191, 192191, 192
- Bereich Area
- 195195
- Vertiefung deepening
Claims (9)
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102015109953.5A DE102015109953A1 (en) | 2015-06-22 | 2015-06-22 | Production of electronic components |
PCT/EP2016/064421 WO2016207220A1 (en) | 2015-06-22 | 2016-06-22 | Production of electronic components |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102015109953.5A DE102015109953A1 (en) | 2015-06-22 | 2015-06-22 | Production of electronic components |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE102015109953A1 true DE102015109953A1 (en) | 2016-12-22 |
Family
ID=56194487
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE102015109953.5A Withdrawn DE102015109953A1 (en) | 2015-06-22 | 2015-06-22 | Production of electronic components |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE102015109953A1 (en) |
WO (1) | WO2016207220A1 (en) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102016112293A1 (en) * | 2016-07-05 | 2018-01-11 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | METHOD FOR PRODUCING AN OPTOELECTRONIC COMPONENT AND OPTOELECTRONIC COMPONENT |
DE102017105017A1 (en) | 2017-03-09 | 2018-09-13 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | PREPARATION OF RADIATION-EMITTING COMPONENTS |
DE102017128457A1 (en) * | 2017-11-30 | 2019-06-06 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | MANUFACTURE OF OPTOELECTRONIC COMPONENTS |
EP3675142A4 (en) * | 2017-09-04 | 2021-04-07 | Suncall Corporation | Method for manufacturing bus bar assembly |
EP3675141A4 (en) * | 2017-09-08 | 2021-04-07 | Suncall Corporation | Bus bar assembly |
WO2024000267A1 (en) * | 2022-06-29 | 2024-01-04 | Ams-Osram International Gmbh | Method for producing at least one optoelectronic device and optoelectronic device |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102019220215A1 (en) * | 2019-12-19 | 2021-06-24 | OSRAM Opto Semiconductors Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Method of manufacturing semiconductor components and semiconductor components |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102008024704A1 (en) * | 2008-04-17 | 2009-10-29 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Optoelectronic component and method for producing an optoelectronic component |
US20120138967A1 (en) * | 2010-12-07 | 2012-06-07 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Led package and method for manufacturing the same |
DE102011056700A1 (en) * | 2011-12-20 | 2013-06-20 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Process for the production of optoelectronic semiconductor components, lead frame composite and optoelectronic semiconductor component |
US20130343067A1 (en) * | 2011-02-28 | 2013-12-26 | Nichia Corporation | Light emitting device |
DE102012109905A1 (en) * | 2012-10-17 | 2014-04-17 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Method for producing a multiplicity of optoelectronic semiconductor components |
DE102013100711A1 (en) * | 2013-01-24 | 2014-07-24 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Method for producing a multiplicity of optoelectronic components and optoelectronic component |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100817030B1 (en) * | 2006-12-01 | 2008-03-26 | 주식회사 케이이씨 | Semiconductor package and fabricating method thereof |
KR101867106B1 (en) * | 2010-03-30 | 2018-06-12 | 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 | Resin-attached leadframe for led, semiconductor device, method for manufacturing semiconductor device and method for manufacturing resin-attached leadframe for led |
CN102820384B (en) * | 2011-06-08 | 2015-10-07 | 展晶科技(深圳)有限公司 | The manufacture method of package structure for LED |
CN102881779A (en) * | 2011-07-15 | 2013-01-16 | 展晶科技(深圳)有限公司 | Method for manufacturing light emitting diode packaging structure |
TW201431128A (en) * | 2013-01-29 | 2014-08-01 | Delta Electronics Inc | Light-emitting element and manufacturing method thereof |
-
2015
- 2015-06-22 DE DE102015109953.5A patent/DE102015109953A1/en not_active Withdrawn
-
2016
- 2016-06-22 WO PCT/EP2016/064421 patent/WO2016207220A1/en active Application Filing
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102008024704A1 (en) * | 2008-04-17 | 2009-10-29 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Optoelectronic component and method for producing an optoelectronic component |
US20120138967A1 (en) * | 2010-12-07 | 2012-06-07 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Led package and method for manufacturing the same |
US20130343067A1 (en) * | 2011-02-28 | 2013-12-26 | Nichia Corporation | Light emitting device |
DE102011056700A1 (en) * | 2011-12-20 | 2013-06-20 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Process for the production of optoelectronic semiconductor components, lead frame composite and optoelectronic semiconductor component |
DE102012109905A1 (en) * | 2012-10-17 | 2014-04-17 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Method for producing a multiplicity of optoelectronic semiconductor components |
DE102013100711A1 (en) * | 2013-01-24 | 2014-07-24 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Method for producing a multiplicity of optoelectronic components and optoelectronic component |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102016112293A1 (en) * | 2016-07-05 | 2018-01-11 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | METHOD FOR PRODUCING AN OPTOELECTRONIC COMPONENT AND OPTOELECTRONIC COMPONENT |
DE102017105017A1 (en) | 2017-03-09 | 2018-09-13 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | PREPARATION OF RADIATION-EMITTING COMPONENTS |
US10608146B2 (en) | 2017-03-09 | 2020-03-31 | Osram Oled Gmbh | Production of radiation-emitting components |
EP3675142A4 (en) * | 2017-09-04 | 2021-04-07 | Suncall Corporation | Method for manufacturing bus bar assembly |
EP3675141A4 (en) * | 2017-09-08 | 2021-04-07 | Suncall Corporation | Bus bar assembly |
CN114334233A (en) * | 2017-09-08 | 2022-04-12 | 新确有限公司 | Bus bar assembly |
CN114334233B (en) * | 2017-09-08 | 2024-06-11 | 新确有限公司 | Bus assembly |
DE102017128457A1 (en) * | 2017-11-30 | 2019-06-06 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | MANUFACTURE OF OPTOELECTRONIC COMPONENTS |
US11784062B2 (en) | 2017-11-30 | 2023-10-10 | Osram Oled Gmbh | Production of optoelectronic components |
WO2024000267A1 (en) * | 2022-06-29 | 2024-01-04 | Ams-Osram International Gmbh | Method for producing at least one optoelectronic device and optoelectronic device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2016207220A1 (en) | 2016-12-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE102015109953A1 (en) | Production of electronic components | |
DE102009006826B4 (en) | Semiconductor device and method for manufacturing a semiconductor device | |
EP0911886B1 (en) | Manufacturing method for an optoelectronic device | |
DE112015001114B4 (en) | Manufacture of optoelectronic components and optoelectronic components | |
EP2606510B1 (en) | Method for producing at least one optoelectronic semiconductor component | |
DE112018005740B4 (en) | Production of optoelectronic components and optoelectronic component | |
WO2017032772A1 (en) | Laser component and method for producing same | |
WO2014060355A2 (en) | Method for producing a multiplicity of optoelectronic semiconductor components | |
DE102015111492B4 (en) | Components and methods for manufacturing components | |
DE102014102184A1 (en) | Production of an optoelectronic component | |
DE102016118990A1 (en) | SENSOR | |
WO2018065534A1 (en) | Production of sensors | |
DE102015106444A1 (en) | Optoelectronic component arrangement and method for producing a multiplicity of optoelectronic component arrangements | |
WO2017016945A1 (en) | Semiconductor element and method for production thereof | |
WO2017129698A1 (en) | Production of a multi-chip component | |
DE102015107515A1 (en) | Method for machining a leadframe and leadframe | |
DE102014102183A1 (en) | Production of optoelectronic components | |
WO2015132380A1 (en) | Optoelectronic component and method for the production thereof | |
DE112006003664T5 (en) | Production of a QFN package for an integrated circuit | |
WO2021023577A1 (en) | Method for separating components from a component bundle, and component | |
DE112016000307B4 (en) | Lead frame and method for producing a chip housing and method for producing an optoelectronic component | |
DE102019127791B4 (en) | Package with separate substrate sections and method for manufacturing a package | |
DE102017105017A1 (en) | PREPARATION OF RADIATION-EMITTING COMPONENTS | |
DE102019112778B4 (en) | Batch production of packages using a layer separated into carriers after attachment of electronic components | |
WO2021122112A1 (en) | Method for producing semiconductor components, and semiconductor component |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R163 | Identified publications notified | ||
R119 | Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee |