DE102015109953A1 - Production of electronic components - Google Patents

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Abstract

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen von elektronischen Bauelementen. Das Verfahren umfasst ein Bereitstellen einer Metallfolie, ein Anordnen der Metallfolie auf einem Hilfsträger, und ein Strukturieren der auf dem Hilfsträger angeordneten Metallfolie in separate Anschlusselemente. Weiter vorgesehen sind ein Ausbilden eines Formkörpers mit Ausnehmungen auf dem Hilfsträger und den Anschlusselementen, ein Anordnen von Halbleiterchips auf Anschlusselementen in den Ausnehmungen des Formkörpers, ein Entfernen des Hilfsträgers und ein Durchtrennen des Formkörpers zum Bilden von vereinzelten elektronischen Bauelementen. Die Erfindung betrifft des Weiteren ein elektronisches Bauelement.The invention relates to a method for producing electronic components. The method comprises providing a metal foil, arranging the metal foil on an auxiliary carrier, and structuring the metal foil arranged on the auxiliary carrier into separate connection elements. Furthermore, provision is made for forming a shaped body having recesses on the auxiliary carrier and the connecting elements, arranging semiconductor chips on connecting elements in the recesses of the shaped body, removing the auxiliary carrier and severing the shaped body to form individual electronic components. The invention further relates to an electronic component.

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen von elektronischen Bauelementen. Die Erfindung betrifft des Weiteren ein elektronisches Bauelement.The invention relates to a method for producing electronic components. The invention further relates to an electronic component.

Elektronische Bauelemente wie beispielsweise optoelektronische Bauelemente zum Erzeugen von Lichtstrahlung können in Form von QFN Packages (Quad Flat No Leads) verwirklicht sein. In einem herkömmlichen Verfahren zum Herstellen solcher Bauelemente wird ein metallischer Leiterrahmen bereitgestellt, welcher aus Kupfer ausgebildet und mit einer metallischen Beschichtung versehen sein kann, und welcher mit einer Formmasse zum Bilden eines Formkörpers umspritzt wird. Der Leiterrahmen weist Anschlussflächen und die Anschlussflächen verbindende Verbindungsstege (sogenannte Tie Bars oder Support Bars) auf. Der Formkörper wird mit Ausnehmungen ausgebildet, über welche die Anschlussflächen an einer Vorderseite freigestellt sind. An diesen Stellen werden Halbleiterchips auf den Anschlussflächen angeordnet und mit den Anschlussflächen elektrisch verbunden. Die Rückseiten der Anschlussflächen bleiben ebenfalls frei, wodurch die hergestellten Bauelemente für eine Oberflächenmontage geeignet sind. Nach dem Anordnen der Halbleiterchips werden weitere Prozesse wie ein Verfüllen der Ausnehmungen mit einer Vergussmasse und ein Vereinzeln des auf diese Weise erzeugten Bauelementverbunds durchgeführt.Electronic components such as optoelectronic components for generating light radiation can be implemented in the form of QFN packages (Quad Flat No Leads). In a conventional method of manufacturing such devices, a metallic lead frame is provided which may be formed of copper and provided with a metallic coating and which is overmolded with a molding compound to form a molding. The lead frame has connection surfaces and connection bars connecting the connection surfaces (so-called tie bars or support bars). The molded body is formed with recesses over which the connection surfaces are exposed on a front side. At these locations, semiconductor chips are arranged on the pads and electrically connected to the pads. The backs of the pads also remain free, making the manufactured devices suitable for surface mounting. After arranging the semiconductor chips, further processes are carried out, such as filling the recesses with a potting compound and singulating the component composite produced in this way.

Beim Vereinzeln erfolgt ein Durchtrennen des Formkörpers und der Verbindungsstege des Leiterrahmens, also ein Durchtrennen einer inhomogenen Materialkombination. Dieser Vorgang wird mit Hilfe eines Sägeprozesses durchgeführt. Die inhomogene Materialkombination begrenzt die mögliche Sägegeschwindigkeit, um saubere Außenkanten der Bauelemente zu erzeugen. Daher ist das Durchtrennen mit einem hohen Zeit- und Kostenaufwand verbunden. When separating takes place a severing of the molding and the connecting webs of the lead frame, so a severing of an inhomogeneous combination of materials. This process is carried out by means of a sawing process. The inhomogeneous combination of materials limits the possible sawing speed to produce clean outer edges of the components. Therefore, the cutting is associated with a high time and cost.

Beim Vereinzeln der Bauelemente kann es gegebenenfalls zu einem Verschmieren von Material der Verbindungsstege kommen. Hierdurch besteht die Gefahr von Kurzschlüssen. Des Weiteren reichen die Verbindungsstege bei den vereinzelten Bauelementen bis zu deren Außenseiten, und sind daher anfällig für eine Korrosion.When separating the components, it may possibly come to a smearing of material of the connecting webs. This creates the risk of short circuits. Furthermore, the connecting webs in the isolated components extend to the outer sides, and are therefore prone to corrosion.

Von Nachteil ist ferner, dass bei einer thermomechanischen Belastung sowie auch bei einer chemischen Belastung Spalte zwischen den Verbindungsstegen und dem Formkörper entstehen können. Aufgrund der zu den Außenseiten reichenden Verbindungsstege ist es daher möglich, dass schädliche und die Bauelemente beeinträchtigende Substanzen (zum Beispiel Flussmittel, Lotmittel, usw.) über die Spalte in das Innere der Bauelemente eindringen können.It is also disadvantageous that gaps can arise between the connecting webs and the molded body in the case of a thermomechanical load as well as under a chemical load. Due to the connecting webs reaching to the outside, it is therefore possible for harmful substances which impair the components (for example flux, solder, etc.) to penetrate into the interior of the components via the gaps.

Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht darin, eine Lösung für eine verbesserte Herstellung elektronischer Bauelemente anzugeben.The object of the present invention is to provide a solution for an improved production of electronic components.

Diese Aufgabe wird durch die Merkmale der unabhängigen Patentansprüche gelöst. Weitere vorteilhafte Ausführungsformen der Erfindung sind in den abhängigen Ansprüchen angegeben.This object is solved by the features of the independent claims. Further advantageous embodiments of the invention are specified in the dependent claims.

Gemäß einem Aspekt der Erfindung wird ein Verfahren zum Herstellen von elektronischen Bauelementen vorgeschlagen. Das Verfahren umfasst ein Bereitstellen einer Metallfolie, ein Anordnen der Metallfolie auf einem Hilfsträger, und ein Strukturieren der auf dem Hilfsträger angeordneten Metallfolie in separate Anschlusselemente. Weiter vorgesehen sind ein Ausbilden eines Formkörpers mit Ausnehmungen auf dem Hilfsträger und den Anschlusselementen, ein Anordnen von Halbleiterchips auf Anschlusselementen in den Ausnehmungen des Formkörpers, ein Entfernen des Hilfsträgers und ein Durchtrennen des Formkörpers zum Bilden von vereinzelten elektronischen Bauelementen.According to one aspect of the invention, a method for producing electronic components is proposed. The method comprises providing a metal foil, arranging the metal foil on an auxiliary carrier, and structuring the metal foil arranged on the auxiliary carrier into separate connection elements. Furthermore, provision is made for forming a shaped body having recesses on the auxiliary carrier and the connecting elements, arranging semiconductor chips on connecting elements in the recesses of the shaped body, removing the auxiliary carrier and severing the shaped body to form individual electronic components.

Bei dem Verfahren werden separate metallische Anschlusselemente ausgebildet, indem eine Metallfolie auf einem temporär verwendeten Hilfsträger angeordnet und die Metallfolie nachfolgend einer Strukturierung unterzogen wird. Separat bedeutet, dass die Anschlusselemente räumlich voneinander getrennt und nicht durch Material der Anschlusselemente bzw. der zugrunde liegenden Metallfolie miteinander verbunden sind. In the method, separate metallic connection elements are formed by arranging a metal foil on a temporary auxiliary carrier and subsequently subjecting the metal foil to structuring. Separately means that the connection elements are spatially separated from each other and not interconnected by material of the connection elements or the underlying metal foil.

Im Anschluss an das Strukturieren der Metallfolie auf dem Hilfsträger werden weitere Schritte, d.h. Ausbilden eines Formkörpers mit Ausnehmungen, Anordnen von Halbleiterchips auf Anschlusselementen in den Ausnehmungen des Formkörpers, Entfernen des Hilfsträgers und Vereinzeln des auf diese Weise erzeugten Bauelementverbunds durchgeführt. Diese Schritte können in der vorgenannten Reihenfolge durchgeführt werden. Following the patterning of the metal foil on the submount, further steps, i. Forming a shaped body with recesses, arranging semiconductor chips on connecting elements in the recesses of the shaped body, removing the subcarrier and separating the component composite produced in this way carried out. These steps can be performed in the above order.

Hiervon abweichend kann eine andere Reihenfolge vorgesehen sein. Beispielsweise kann das Entfernen des Hilfsträgers nicht nach, sondern vor dem Anordnen von Halbleiterchips auf Anschlusselementen durchgeführt werden. Hierauf wird weiter unten noch näher eingegangen.Deviating from this, a different order can be provided. For example, the removal of the subcarrier can not be performed after, but before arranging semiconductor chips on connection elements. This will be discussed in more detail below.

Nach dem Strukturieren der Metallfolie können die separaten Anschlusselemente von dem Hilfsträger gehalten bzw. getragen werden, so dass die weitere Prozessierung bzw. das Ausbilden des Formkörpers erfolgen kann. Der Hilfsträger kann darüber hinaus für ein rückseitiges Abdichten der Anschlusselemente beim Ausbilden des Formkörpers sorgen, so dass ein Verunreinigen von Rückseiten der Anschlusselemente vermieden werden kann.After the structuring of the metal foil, the separate connecting elements can be held or carried by the auxiliary carrier so that the further processing or the formation of the shaped body can take place. The subcarrier can also be used for a backside sealing of the Provide connecting elements in the formation of the molding, so that contamination of backs of the connection elements can be avoided.

Das Ausbilden von separaten Anschlusselementen anstelle der Verwendung eines metallischen Leiterrahmens mit Anschlussflächen und Verbindungsstegen macht es möglich, zum Vereinzeln des Bauelementverbunds lediglich den Formkörper zu durchtrennen. Auf diese Weise kann dieser Prozess einfach und schnell durchgeführt werden. Hierdurch sind ein hoher Fertigungsdurchsatz und infolgedessen eine Kosteneinsparung möglich.The formation of separate connection elements instead of the use of a metallic lead frame with connecting surfaces and connecting webs makes it possible to separate only the shaped body for separating the component composite. In this way, this process can be done easily and quickly. As a result, a high production throughput and consequently a cost savings are possible.

Der Bauelementverbund kann ferner, bedingt durch das Ausbilden der separaten Anschlusselemente anstelle der Verwendung eines Leiterrahmens, mit einer hohen Packungsdichte verwirklicht werden. Dies führt ebenfalls zu einer Kosteneinsparung.Further, the component composite can be realized with a high packing density due to the formation of the separate terminal members instead of the use of a lead frame. This also leads to a cost saving.

Ein Durchtrennen lediglich des Formkörpers führt des Weiteren dazu, dass die vereinzelten elektronischen Bauelemente keine zur Außenseite reichenden Verbindungsstege aufweisen. Daher können die Bauelemente korrosionsstabil und unempfindlich gegenüber Kurzschlüssen sein. Auch können die Bauelemente eine hohe Dichtigkeit besitzen, so dass ein Eindringen schädlicher Substanzen in das Bauteilinnere vermieden werden kann.A severing of only the shaped body further leads to the fact that the isolated electronic components have no reaching to the outside connecting webs. Therefore, the devices may be corrosion resistant and insensitive to short circuits. Also, the components can have a high density, so that penetration of harmful substances into the component interior can be avoided.

Im Folgenden werden weitere mögliche Ausführungsformen und Details des Verfahrens und der mit Hilfe des Verfahrens hergestellten elektronischen Bauelemente näher beschrieben.In the following, further possible embodiments and details of the method and of the electronic components produced by means of the method will be described in more detail.

In einer Ausführungsform erfolgt das Durchtrennen des Formkörpers zur Vereinzelung des Bauelementverbunds durch Sägen. Dies ist mit einer hohen Sägegeschwindigkeit von zum Beispiel bis zu 500mm/s möglich. Bei einem herkömmlichen Herstellungsverfahren wird das Sägen durch die hier vorliegende inhomogene Materialkombination (Formkörper, Verbindungsstege) hingegen mit einer weit geringeren Sägegeschwindigkeit, zum Beispiel von nur etwa 50mm/s, durchgeführt.In one embodiment, the cutting of the shaped body for separating the component composite by sawing takes place. This is possible with a high sawing speed of, for example, up to 500mm / s. In a conventional manufacturing process, however, sawing is carried out by the inhomogeneous material combination (shaped bodies, connecting webs) present here at a much lower sawing speed, for example of only about 50 mm / s.

Für das Durchtrennen des Formkörpers können anstelle von Sägen auch andere Prozesse in Betracht kommen. Möglich sind zum Beispiel ein Laserschneiden oder ein Wasserstrahlschneiden.For the cutting of the shaped body, other processes may also be considered instead of sawing. Possible are for example a laser cutting or a water jet cutting.

Die hergestellten elektronischen Bauelemente können sogenannte QFN Packages (Quad Flat No Leads) sein, welche für eine Oberflächenmontage (SMT, Surface Mounting Technology) geeignet sind. Hierbei können die metallischen Anschlusselemente an einer Rückseite der Bauelemente freiliegen. Mit Hilfe der Anschlusselemente können die Bauelemente beispielsweise auf eine Leiterplatte gelötet werden. Die Anschlusselemente können, bedingt durch das zugrunde liegende Strukturieren der Metallfolie, in Form von flächigen Schichtelementen bzw. Anschlussflächen (Bondpads) verwirklicht sein.The electronic components produced may be so-called QFN packages (Quad Flat No Leads), which are suitable for surface mounting (SMT, Surface Mounting Technology). In this case, the metallic connection elements can be exposed on a rear side of the components. With the help of the connection elements, the components can be soldered, for example, to a printed circuit board. Due to the underlying structuring of the metal foil, the connection elements can be realized in the form of laminar layer elements or bonding pads.

Die hergestellten elektronischen Bauelemente können des Weiteren Einzelchip-Bauelemente sein. Hierbei können die Bauelemente jeweils einen aus dem Formkörper hervorgegangenen Gehäusekörper mit einer Ausnehmung, mehrere bzw. zwei separate und rückseitig freiliegende Anschlusselemente, und einen Halbleiterchip aufweisen. Der Halbleiterchip kann in der Ausnehmung des Gehäusekörpers auf einem Anschlusselement angeordnet sein.The manufactured electronic components may furthermore be single-chip components. In this case, the components may in each case have a housing body having a recess which emerges from the molded body, a plurality of or two separate and rearwardly exposed connection elements, and a semiconductor chip. The semiconductor chip can be arranged in the recess of the housing body on a connection element.

Das Entfernen des Hilfsträgers kann, wie oben angedeutet wurde, nach dem Ausbilden des Formkörpers und vor dem Anordnen von Halbleiterchips auf Anschlusselementen durchgeführt werden. Nach dem Ausbilden des Formkörpers können die Anschlusselemente über den Formkörper zusammen gehalten werden, so dass der Hilfsträger in Bezug auf diese Funktion entbehrlich sein kann. Das Entfernen des Hilfsträgers kann auch nach dem Anordnen von Halbleiterchips auf Anschlusselementen und vor dem Durchtrennen des Formkörpers durchgeführt werden. The removal of the auxiliary carrier can, as indicated above, be carried out after forming the shaped body and before arranging semiconductor chips on connecting elements. After forming the shaped body, the connecting elements can be held together via the shaped body, so that the auxiliary carrier can be dispensable with respect to this function. The removal of the auxiliary carrier can also be carried out after the arrangement of semiconductor chips on connecting elements and before the cutting of the shaped body.

Die bereitgestellte Metallfolie kann eine Dicke in einem Bereich von 30µm bis 500µm aufweisen. The provided metal foil may have a thickness in a range of 30μm to 500μm.

In einer weiteren Ausführungsform weist die bereitgestellte Metallfolie eine metallische Basisschicht auf, welche mit einer metallischen Schicht beschichtet ist. Die hieraus hervorgehenden metallischen Anschlusselemente sind in entsprechender Weise mit der metallischen Schicht beschichtet. Aufgrund der Beschichtung können die Anschlusselemente lötfähig und geeignet für ein Anschließen von Bonddrähten sein. Bei der Basisschicht kann es sich zum Beispiel um eine Schicht bzw. Folie aus Kupfer handeln. Die hierauf angeordnete metallische Schicht kann einschichtig oder mehrschichtig in Form eines Stapels aus mehreren Teilschichten ausgebildet sein. Das Beschichten kann mit Hilfe von einem, oder bei einer mehrschichtigen Ausgestaltung mit Hilfe von mehreren aufeinanderfolgenden Metallisierungsverfahren durchgeführt werden.In a further embodiment, the metal foil provided has a metallic base layer which is coated with a metallic layer. The resulting metallic connection elements are coated in a corresponding manner with the metallic layer. Due to the coating, the connection elements can be solderable and suitable for connecting bonding wires. The base layer may be, for example, a layer or foil made of copper. The metallic layer arranged thereon may be formed as a single layer or as a multilayer in the form of a stack of several partial layers. The coating can be carried out by means of one or, in the case of a multilayered embodiment, by means of a plurality of successive metallization processes.

In Bezug auf eine Ausgestaltung der Anschlusselemente mit einer solchen lötfähigen Beschichtung kann ferner folgende Ausführungsform in Betracht kommen. Hierbei werden die Anschlusselemente nach dem Ausbilden des Formkörpers und vor dem Anordnen von Halbleiterchips mit einer metallischen Schicht beschichtet. Das Beschichten erfolgt derart, dass lediglich die Anschlusselemente mit der metallischen Schicht beschichtet werden. Dies kann mit Hilfe von einem, oder bei einer mehrschichtigen Ausgestaltung mit Hilfe von mehreren aufeinanderfolgenden Metallisierungsverfahren durchgeführt werden. Die Vorgehensweise, das Ausbilden des Formkörpers vor dem Ausbilden einer lötfähigen Beschichtung durchzuführen, macht es möglich, eine gute Haftung zwischen dem Formkörper und den Anschlusselementen zu erzielen. Auch können gegebenenfalls vorliegende Spalte zwischen den Anschlusselementen und dem Formkörper durch das Beschichten geschlossen werden. Hierdurch können die elektronischen Bauelemente auf zuverlässige Weise mit einer hohen Dichtigkeit gefertigt werden. Vor dem Beschichten der Anschlusselemente kann der Hilfsträger entfernt werden.With regard to an embodiment of the connection elements with such a solderable coating, the following embodiment may also be considered. In this case, the connecting elements are coated with a metallic layer after the formation of the shaped body and before the arrangement of semiconductor chips. Coating takes place in such a way that only the connection elements are coated with the metallic layer. This can be done with the help of one, or in a multi-layered design with the help of several successive metallization be performed. The procedure of forming the molded body prior to forming a solderable coating makes it possible to achieve good adhesion between the molded body and the terminal members. It is also possible for any gaps between the connection elements and the shaped body to be closed by the coating. As a result, the electronic components can be manufactured in a reliable manner with a high density. Before coating the connection elements, the auxiliary carrier can be removed.

In Bezug auf die vorgenannte Ausführungsform kann die bereitgestellte Metallfolie, welche auf dem Hilfsträger in die separaten metallischen Anschlusselemente strukturiert wird, eine unbeschichtete metallische Folie aus zum Beispiel Kupfer sein. Hierdurch kann das Vorliegen einer guten Haftung zwischen dem Formkörper und den Anschlusselementen weiter begünstigt werden. With regard to the aforementioned embodiment, the provided metal foil, which is patterned on the auxiliary carrier into the separate metallic connection elements, may be an uncoated metallic foil of, for example, copper. In this way, the presence of a good adhesion between the molded body and the connecting elements can be further promoted.

Mögliche Beispiele für die oben angegebenen und zum Beschichten eingesetzten Metallisierungsverfahren sind Elektroplattieren (Electroplating) oder eine stromlose chemische Abscheidung (Electroless Plating). Possible examples of the plating methods given above and used for coating are electroplating or electroless plating.

In einer weiteren Ausführungsform ist der Hilfsträger eine Trägerfolie. Die Trägerfolie kann eine Kunststofffolie sein, welche an einer Seite eine Klebstoffschicht aufweist. In dieser Ausgestaltung kann das Anordnen der Metallfolie auf dem Hilfsträger ein Auflaminieren der Trägerfolie auf die Metallfolie umfassen. Die Verwendung einer Trägerfolie macht es möglich, das Verfahren auf einfache und kostengünstige Weise durchzuführen. Auch lässt sich mit Hilfe einer Trägerfolie ein zuverlässiges rückseitiges Abdichten der Anschlusselemente erzielen.In a further embodiment, the auxiliary carrier is a carrier film. The carrier film may be a plastic film which has an adhesive layer on one side. In this embodiment, arranging the metal foil on the auxiliary carrier may comprise laminating the carrier foil to the metal foil. The use of a carrier film makes it possible to carry out the process in a simple and cost-effective manner. Also can be achieved with the help of a carrier film, a reliable back sealing of the connection elements.

In einer weiteren Ausführungsform wird das Strukturieren der Metallfolie in die separaten Anschlusselemente mit Hilfe eines Ätzprozesses durchgeführt. Hierbei kann es sich um einen nasschemischen Ätzprozess handeln. Im Hinblick auf einen solchen Prozess kann eine ätzbeständige Trägerfolie als Hilfsträger zur Anwendung kommen. Möglich ist zum Beispiel die Verwendung einer Folie aus Polyimid oder Polyethylenterephthalat, welche an einer Seite eine Klebstoffschicht aufweist. In a further embodiment, the structuring of the metal foil into the separate connection elements is carried out with the aid of an etching process. This can be a wet-chemical etching process. With regard to such a process, an etch-resistant carrier film may be used as a subcarrier. For example, it is possible to use a film of polyimide or polyethylene terephthalate which has an adhesive layer on one side.

Vor dem Strukturieren der Metallfolie mittels Ätzen kann eine Ätzmaske wie zum Beispiel eine Fotolackmaske auf der Metallfolie ausgebildet werden. Möglich ist es auch, den Ätzprozess unter Anwendung einer mechanischen Maskierung der Metallfolie durchzuführen.Before patterning the metal foil by etching, an etching mask such as a photoresist mask may be formed on the metal foil. It is also possible to carry out the etching process using mechanical masking of the metal foil.

In einer weiteren Ausführungsform umfasst das Ausbilden des Formkörpers mit den Ausnehmungen ein Durchführen eines Form- bzw. Moldprozesses. In diesem Prozess wird eine geeignete Formmasse auf den Hilfsträger und die hierauf befindlichen Anschlusselemente aufgebracht. Die Formmasse kann ein Kunststoffmaterial, zum Beispiel ein Epoxidmaterial oder Silikonmaterial, umfassen. Des Weiteren kann die Formmasse einen darin enthaltenen partikelförmigen Füllstoff, beispielsweise SiO2-Partikel und TiO2-Partikel, umfassen. Durch die SiO2-Partikel kann der Formkörper einen kleinen thermischen Ausdehnungskoeffizienten aufweisen, und auf diese Weise an den thermischen Ausdehnungskoeffizienten der Anschlusselemente angepasst sein. Mit Hilfe der TiO2-Partikel kann eine Weißfärbung des Formkörpers erzielt werden. Nach dem Ausbilden des Formkörpers kann gegebenenfalls ein zusätzlicher Prozess zum Entfernen von Rückständen der Formmasse auf Vorderseiten der Anschlusselemente durchgeführt werden (Deflashing).In a further embodiment, forming the shaped body with the recesses comprises performing a molding process. In this process, a suitable molding compound is applied to the auxiliary carrier and the connecting elements located thereon. The molding compound may comprise a plastic material, for example an epoxy material or silicone material. Furthermore, the molding compound may comprise a particulate filler contained therein, for example, SiO 2 particles and TiO 2 particles. As a result of the SiO 2 particles, the shaped body can have a small coefficient of thermal expansion, and in this way can be adapted to the thermal expansion coefficients of the connecting elements. With the help of TiO2 particles, a white coloration of the molding can be achieved. After the formation of the molded body, an additional process for removing residues of the molding compound on front sides of the connecting elements may optionally be performed (deflashing).

Der Formprozess kann ein Spritzpressprozess (Transfer Molding) sein. Möglich ist ferner ein folienunterstützter Spritzpressprozess (Film Assisted Transfer Molding). Hierbei sind die Formkerne eines Werkzeugteils eines Moldwerkzeugs für eine bessere Abdichtung mit einer Folie ummantelt. Auf diese Weise kann erzielt werden, dass die Anschlusselemente mit einer hohen Zuverlässigkeit vorderseitig nicht mit unerwünschten Rückständen der Formmasse bedeckt werden. The molding process may be a transfer molding process. Also possible is a film-assisted transfer molding process (Film Assisted Transfer Molding). Here, the mandrels of a tool part of a Moldwerkzeugs are sheathed for better sealing with a film. In this way it can be achieved that the connection elements are not covered with high reliability front side with unwanted residues of the molding compound.

Der Formkörper kann derart ausgebildet werden, dass über jede Ausnehmung des Formkörpers jeweils wenigstens zwei Anschlusselemente an einer Vorderseite teilweise freigestellt sind. Innerhalb jeder Ausnehmung kann jeweils zwischen zwei Anschlusselementen ein stegförmiger Teil des Formkörpers vorhanden sein, welcher eine geringere Dicke besitzen kann als ein die dazugehörige Ausnehmung umgebender Teil des Formkörpers.The shaped body can be formed in such a way that in each case at least two connecting elements on a front side are partially exposed over each recess of the shaped body. Within each recess may be present between each two connecting elements a web-shaped part of the molding, which may have a smaller thickness than a surrounding recess of the associated recess of the molding.

In Bezug auf die oben erwähnte Herstellung von Einzelchip-Bauelementen kann in jeder Ausnehmung des Formkörpers ein entsprechender Halbleiterchip angeordnet werden. With regard to the above-mentioned production of single-chip components, a corresponding semiconductor chip can be arranged in each recess of the molded body.

Für die verwendeten Halbleiterchips können unterschiedliche Ausgestaltungen in Betracht kommen. Es ist zum Beispiel möglich, dass die Halbleiterchips einen Vorderseitenkontakt und einen Rückseitenkontakt aufweisen. Hierbei kann ein in einer Ausnehmung des Formkörpers platzierter Halbleiterchip mit dem Rückseitenkontakt elektrisch und mechanisch mit einem Anschlusselement verbunden werden. Eine Verbindung kann über eine geeignete Verbindungsschicht, zum Beispiel eine Lotschicht, eine Schicht eines elektrisch leitfähigen Klebstoffs oder eine gesinterte Schicht aus zum Beispiel Silber, hergestellt werden. Der Vorderseitenkontakt eines Halbleiterchips kann über eine Verbindungsstruktur, zum Beispiel einen Bonddraht, mit einem weiteren Anschlusselement verbunden werden.For the semiconductor chips used, different configurations may be considered. For example, it is possible for the semiconductor chips to have a front-side contact and a back-side contact. In this case, a semiconductor chip placed in a recess of the molded body can be electrically and mechanically connected to the rear contact with a connection element. A compound may be formed via a suitable bonding layer, for example a solder layer, a layer of an electrically conductive adhesive or a sintered layer of, for example, silver, getting produced. The front-side contact of a semiconductor chip can be connected to a further connection element via a connection structure, for example a bonding wire.

Es können alternativ Halbleiterchips verwendet werden, welche zum Beispiel zwei Rückseitenkontakte oder zwei Vorderseitenkontakte aufweisen. In der ersten Variante kann ein Halbleiterchip mit den zwei Rückseitenkontakten auf zwei Anschlusselementen angeordnet und mit diesen über eine entsprechende Verbindungsschicht (beispielsweise eine Lotschicht, eine Schicht eines leitfähigen Klebstoffs oder eine gesinterte Schicht aus zum Beispiel Silber) verbunden werden. In der zweiten Variante kann ein Halbleiterchip auf einem Anschlusselement angeordnet werden, kann einer der zwei Vorderseitenkontakte über eine Verbindungsstruktur bzw. einen Bonddraht an dasselbe Anschlusselement und der andere Vorderseitenkontakt über eine weitere Verbindungsstruktur bzw. einen weiteren Bonddraht an ein weiteres Anschlusselemente angeschlossen werden. Alternativ können drei Anschlusselemente für einen Halbleiterchip vorgesehen sein, von denen zwei Anschlusselemente zur Verbindung mit den Vorderseitenkontakten, und ein weiteres Anschlusselement zum Befestigen des Halbleiterchips genutzt werden.Alternatively, semiconductor chips may be used which, for example, have two rear side contacts or two front side contacts. In the first variant, a semiconductor chip with the two rear side contacts can be arranged on two connection elements and connected to them via a corresponding connection layer (for example a solder layer, a layer of a conductive adhesive or a sintered layer of, for example, silver). In the second variant, a semiconductor chip can be arranged on a connection element, one of the two front side contacts can be connected to a further connection element via a connection structure or a bonding wire to the same connection element and the other front side contact via a further connection structure or a further bonding wire. Alternatively, three connection elements may be provided for one semiconductor chip, of which two connection elements are used for connection to the front side contacts, and a further connection element is used for fastening the semiconductor chip.

In einer weiteren Ausführungsform wird eine Vergussmasse in die Ausnehmungen des Formkörpers eingebracht. Dieser Schritt kann nach dem Anordnen von Halbleiterchips auf Anschlusselementen in den Ausnehmungen des Formkörpers, sowie vor einem Entfernen des Hilfsträgers durchgeführt werden. Mit Hilfe der Vergussmasse können die Halbleiterchips verkapselt und dadurch vor äußeren Einflüssen geschützt werden.In a further embodiment, a potting compound is introduced into the recesses of the shaped body. This step can be carried out after arranging semiconductor chips on connecting elements in the recesses of the shaped body, as well as before a removal of the auxiliary carrier. With the help of the potting compound, the semiconductor chips can be encapsulated and thereby protected from external influences.

Bei dem Verfüllen der Ausnehmungen des Formkörpers kann der Hilfsträger ebenfalls für ein rückseitiges Abdichten der Anschlusselemente sorgen, so dass trotz gegebenenfalls vorliegender Spalte zwischen dem Formkörper und den Anschlusselementen ein Verunreinigen von Rückseiten der Anschlusselemente vermieden werden kann.When filling the recesses of the molding, the auxiliary carrier can also provide for a backside sealing of the connection elements, so that despite possibly present gaps between the molding and the connection elements contamination of back sides of the connection elements can be avoided.

In einer weiteren Ausführungsform handelt es sich bei den hergestellten elektronischen Bauelementen um optoelektronische Bauelemente. In entsprechender Weise werden optoelektronische Halbleiterchips auf Anschlusselementen in den Ausnehmungen des Formkörpers angeordnet.In a further embodiment, the electronic components produced are optoelectronic components. In a corresponding manner, optoelectronic semiconductor chips are arranged on connecting elements in the recesses of the shaped body.

In Bezug auf die vorgenannte Ausführungsform können optoelektronische Halbleiterchips zur Anwendung kommen, welche zum Erzeugen von Lichtstrahlung ausgebildet sind. Hierbei kann es sich um Leuchtdiodenchips handeln.With respect to the aforementioned embodiment, optoelectronic semiconductor chips may be used, which are designed to generate light radiation. These can be light-emitting diode chips.

Bei Verwendung von optoelektronischen strahlungsemittierenden Halbleiterchips kann es ferner in Betracht kommen, eine Vergussmasse in die Ausnehmungen des Formkörpers einzubringen, welche ein strahlungsdurchlässiges Verguss- bzw. Kunststoffmaterial, zum Beispiel ein Silikonmaterial, aufweist. Die Vergussmasse kann zusätzlich in dem Vergussmaterial eingebettete Leuchtstoffpartikel zur Strahlungskonversion aufweisen. Auf diese Weise kann die Vergussmasse wenigstens einen Teil einer im Betrieb von den Halbleiterchips erzeugten Lichtstrahlung konvertieren.When using optoelectronic radiation-emitting semiconductor chips, it may also be considered to introduce a potting compound into the recesses of the shaped body, which has a radiation-permeable potting or plastic material, for example a silicone material. The potting compound may additionally comprise embedded in the potting material phosphor particles for radiation conversion. In this way, the potting compound can convert at least part of a light radiation generated by the semiconductor chips during operation.

In einer weiteren Ausführungsform umfasst das Verfahren ein Ausbilden von Vertiefungen in der Metallfolie vor dem Anordnen der Metallfolie auf dem Hilfsträger. Die Vertiefungen werden an einer ersten Seite der Metallfolie ausgebildet. Bei dem Strukturieren der Metallfolie in die separaten Anschlusselemente wird Material der Metallfolie ausgehend von einer zu der ersten Seite entgegen gesetzten zweiten Seite der Metallfolie im Bereich der Vertiefungen entfernt. Dies erfolgt derart, dass die Anschlusselemente am Rand eine Verankerungsstruktur zur Verankerung des Formkörpers aufweisen. Auch auf diese Weise kann eine gute Haftung bzw. Verbindung zwischen dem Formkörper und den Anschlusselementen erzielt werden, da aufgrund der Verankerungsstruktur ein mechanischer Formschluss entstehen kann.In another embodiment, the method includes forming recesses in the metal foil prior to placing the metal foil on the submount. The recesses are formed on a first side of the metal foil. In structuring the metal foil into the separate connection elements, material of the metal foil is removed starting from a second side of the metal foil opposite the first side in the region of the depressions. This takes place in such a way that the connection elements have an anchoring structure for anchoring the shaped body at the edge. In this way, a good adhesion or connection between the molded body and the connecting elements can be achieved, since due to the anchoring structure, a mechanical positive connection can arise.

Vor dem Strukturieren in die Anschlusselemente kann die mit den Vertiefungen versehene Metallfolie mit der ersten Seite auf dem Hilfsträger angeordnet werden. Bei der ersten und zweiten Seite der Metallfolie kann es sich um entgegen gesetzte Hauptseiten der Metallfolie handeln. Before structuring into the connecting elements, the metal foil provided with the depressions can be arranged with the first side on the auxiliary carrier. The first and second sides of the metal foil may be opposite major sides of the metal foil.

Die Vertiefungen können zusammenhängend bzw. ineinander übergehend und in Form eines Gitters in der Metallfolie ausgebildet werden. Hierdurch können von den Vertiefungen umschlossene Bereiche der Metallfolie gebildet werden, welche den nachfolgend ausgebildeten Anschlusselementen entsprechende Formen besitzen können.The recesses may be continuous and formed in the form of a grid in the metal foil. In this way, regions of the metal foil enclosed by the depressions can be formed, which can have corresponding shapes to the subsequently formed connection elements.

Das Ausbilden der Vertiefungen kann mit Hilfe eines Ätzprozesses durchgeführt werden.The formation of the depressions can be carried out with the aid of an etching process.

In Bezug auf die Verankerungsstruktur kann das Strukturieren der Metallfolie in die Anschlusselemente derart erfolgen, dass hierbei Material in Entfernungsbereichen entfernt wird, welche eine kleinere Breite aufweisen als die zuvor ausgebildeten Vertiefungen. Auf diese Weise können die durch das Strukturieren erzeugten separaten Anschlusselemente am Rand eine Stufenform aufweisen, welche als Verankerungsstruktur dienen kann.With regard to the anchoring structure, the structuring of the metal foil into the connection elements can take place in such a way that material is removed in removal regions which have a smaller width than the previously formed depressions. In this way, the separate connection elements produced by structuring can have a step shape at the edge, which can serve as anchoring structure.

Für das Verfahren können ferner weitere Merkmale und Details zur Anwendung kommen. Beispielsweise lässt sich das Verfahren auch derart durchführen, dass Multichip-Bauelemente hergestellt werden, welche mehrere Halbleiterchips aufweisen. Derartige Bauelemente können zum Beispiel jeweils einen aus dem Formkörper hervorgegangenen Gehäusekörper mit mehreren separaten Ausnehmungen aufweisen, in welchen Halbleiterchips auf entsprechenden Anschlusselementen angeordnet sein können. Further features and details for the method may also be used. For example, the method can also be carried out in such a way that multichip components are produced which have a plurality of semiconductor chips. Such components may, for example, in each case have a housing body which emerges from the molded body and has a plurality of separate recesses in which semiconductor chips can be arranged on corresponding connection elements.

Auch lassen sich Multichip-Bauelemente fertigen, welche jeweils einen aus dem Formkörper hervorgegangenen Gehäusekörper mit einer gemeinsamen Ausnehmung für mehrere Halbleiterchips aufweisen. Mehrere Halbleiterchips können hierbei auf einzelnen, oder auch auf einem oder mehreren gemeinsamen Anschlusselementen angeordnet sein. Des Weiteren können mehrere und in einer gemeinsamen Ausnehmung des Formkörpers platzierte Halbleiterchips untereinander elektrisch verbunden sein, zum Beispiel mit Hilfe von Bonddrähten.It is also possible to manufacture multichip components which each have a housing body which emerges from the molded body and has a common recess for a plurality of semiconductor chips. In this case, a plurality of semiconductor chips can be arranged on individual, or even on one or more common connection elements. Furthermore, a plurality of semiconductor chips placed in a common recess of the molded body can be electrically connected to one another, for example with the aid of bonding wires.

In Bezug auf den verwendeten Hilfsträger sind ebenfalls weitere Ausgestaltungen denkbar. Beispielsweise kann als Hilfsträger eine Trägerfolie zum Einsatz kommen, welche auf einem festen Träger angeordnet ist oder wird, um eine höhere Stabilität zur Verfügung zu stellen. Die Trägerfolie kann wie oben angegeben ausgebildet sein. Der feste Träger kann zum Beispiel ein metallbasierter Träger, ein Glasträger oder ein kunststoffbasierter Träger sein. Hierbei kann das Anordnen der Trägerfolie auf den festen Träger vor oder nach dem Anordnen der Metallfolie auf der Trägerfolie erfolgen. Eine Befestigung der Trägerfolie auf dem festen Träger kann mittels eines Klebstoffs verwirklicht sein. In diesem Zusammenhang kann ferner eine beidseitig klebende Klebefolie zwischen der Trägerfolie und dem festen Träger zur Anwendung kommen. Nach dem Ausbilden des Formkörpers bzw. nach dem Verfüllen einer Vergussmasse kann ein Entfernen der Trägerfolie und des festen Trägers erfolgen. With regard to the auxiliary carrier used, further embodiments are also conceivable. For example, as a subcarrier, a carrier foil can be used, which is or is arranged on a solid support in order to provide a higher stability. The carrier film may be formed as indicated above. The solid support can be, for example, a metal-based support, a glass support or a plastic-based support. In this case, the arrangement of the carrier film on the solid support can be carried out before or after the arrangement of the metal foil on the carrier film. An attachment of the carrier film on the solid support can be realized by means of an adhesive. In this context, a double-sided adhesive film between the support film and the solid support may further be used. After the formation of the molding or after the filling of a potting compound, the carrier film and the solid support can be removed.

Gemäß einem weiteren Aspekt der Erfindung wird ein elektronisches Bauelement vorgeschlagen, welches durch Durchführen des oben angegebenen Verfahrens oder einer oder mehrerer Ausführungsformen des Verfahrens hergestellt ist. Das Bauelement weist einen durch das Durchtrennen aus dem Formkörper hervorgegangenen Gehäusekörper auf. Ferner weist das Bauelement eine umlaufende Mantelfläche auf, welche ausschließlich durch den Gehäusekörper, und damit die Formmasse, gebildet ist. An die Mantelfläche heranreichende Verbindungsstege liegen somit nicht vor. Daher kann das Bauelement korrosionsstabil und unempfindlich gegenüber Kurzschlüssen sein. Diese Ausgestaltung ist eine Folge des Ausbildens von separaten Anschlusselementen und des Durchtrennens lediglich des Formkörpers.According to a further aspect of the invention, an electronic component is proposed, which is produced by carrying out the above-mentioned method or one or more embodiments of the method. The component has a housing body which has emerged from the molding by cutting. Furthermore, the component has a circumferential lateral surface, which is formed exclusively by the housing body, and thus the molding compound. On the lateral surface zoom reaching connecting webs are therefore not available. Therefore, the device may be corrosion resistant and insensitive to short circuits. This embodiment is a consequence of the formation of separate connection elements and the severing of only the shaped body.

Unter den hier verwendeten Ausdruck Mantelfläche fällt der laterale Rand bzw. Randbereich des Bauelements. Die Mantelfläche, welche zwischen einer Vorder- und einer Rückseite des Bauelements vorliegt, kann sich aus sämtlichen lateralen Außenseiten bzw. Seitenflanken/-flächen des Bauelements zusammensetzen. Das gemäß dem Verfahren hergestellte Bauelement kann zum Beispiel in der Aufsicht eine rechteckige Kontur bzw. insgesamt eine Quaderform aufweisen, so dass sich die Mantelfläche aus vier rechtwinklig aneinandergrenzenden Seitenwänden bzw. Seitenflächen zusammensetzen kann.The lateral boundary or edge region of the component falls under the expression lateral surface used here. The lateral surface, which is present between a front and a rear side of the component, can be composed of all the lateral outer sides or side flanks / surfaces of the component. The component produced according to the method may, for example, in plan view, have a rectangular contour or, as a whole, a parallelepiped shape, so that the lateral surface can be composed of four side walls or side surfaces which adjoin one another at right angles.

Es wird darauf hingewiesen, dass oben mit Bezug auf das Herstellungsverfahren genannte Aspekte und Details auch bei dem elektronischen Bauelement zur Anwendung kommen können. In dieser Hinsicht kann der Gehäusekörper des Bauelements wenigstens eine Ausnehmung aufweisen. Das Bauelement kann wenigstens zwei separate und an einer Rückseite freiliegende Anschlusselemente, und wenigstens einen Halbleiterchip aufweisen. Der Halbleiterchip kann in der bzw. in einer Ausnehmung des Gehäusekörpers auf wenigstens einem metallischen Anschlusselement angeordnet sein. Die wenigstens eine Ausnehmung kann ferner mit einer Vergussmasse verfüllt sein. Das Bauelement kann ein Einzelchip-Bauelement oder auch ein Multichip-Bauelement sein. Des Weiteren kann das Bauelement ein optoelektronisches Bauelement sein.It should be noted that aspects and details mentioned above with reference to the manufacturing method can also be applied to the electronic component. In this regard, the housing body of the device may have at least one recess. The component may have at least two separate terminal elements which are exposed on a rear side, and at least one semiconductor chip. The semiconductor chip can be arranged in or in a recess of the housing body on at least one metallic connection element. The at least one recess can also be filled with a potting compound. The component may be a single-chip component or else a multi-chip component. Furthermore, the component can be an optoelectronic component.

Die vorstehend erläuterten und/oder in den Unteransprüchen wiedergegebenen vorteilhaften Aus- und Weiterbildungen der Erfindung können – außer zum Beispiel in Fällen eindeutiger Abhängigkeiten oder unvereinbarer Alternativen – einzeln oder aber auch in beliebiger Kombination miteinander zur Anwendung kommen.The advantageous embodiments and further developments of the invention explained above and / or reproduced in the subclaims can be used individually or else in any desired combination with one another except, for example, in cases of clear dependencies or incompatible alternatives.

Die oben beschriebenen Eigenschaften, Merkmale und Vorteile dieser Erfindung, sowie die Art und Weise, wie diese erreicht werden, werden klarer und deutlicher verständlich in Zusammenhang mit der folgenden Beschreibung von Ausführungsbeispielen, die im Zusammenhang mit den schematischen Zeichnungen näher erläutert werden. Es zeigen:The above-described characteristics, features and advantages of this invention, as well as the manner in which they are achieved, will become clearer and more clearly understood in connection with the following description of exemplary embodiments, which are explained in more detail in connection with the schematic drawings. Show it:

1 bis 12 einen möglichen Verfahrensablauf zur Herstellung elektronischer Bauelemente, in welchem eine Metallfolie auf einer Trägerfolie angeordnet und in separate Anschlusselemente strukturiert wird, ein Formkörper mit Ausnehmungen ausgebildet wird, Halbleiterchips in den Ausnehmungen auf Anschlusselementen angeordnet werden, die Ausnehmungen mit einer Vergussmasse verfüllt werden und ein Vereinzeln durchgeführt wird; 1 to 12 a possible process sequence for the production of electronic components, in which a metal foil is arranged on a carrier foil and structured into separate connection elements, a shaped body with recesses is formed, semiconductor chips are arranged in the recesses on connection elements, the recesses are filled with a potting compound and a singulation is performed becomes;

13 bis 19 einen weiteren möglichen Verfahrensablauf zur Herstellung elektronischer Bauelemente, in welchem im Unterschied zu dem Verfahrensablauf der 1 bis 12 Anschlusselemente nach dem Ausbilden des Formkörpers metallisiert werden; 13 to 19 Another possible procedure for the production of electronic components, in which, in contrast to the procedure of the 1 to 12 Connection elements are metallized after forming the shaped body;

20 bis 28 einen weiteren möglichen Verfahrensablauf zur Herstellung elektronischer Bauelemente, in welchem im Unterschied zu dem Verfahrensablauf der 1 bis 12 vor dem Anordnen der Metallfolie auf der Trägerfolie Vertiefungen in der Metallfolie ausgebildet werden; und 20 to 28 Another possible procedure for the production of electronic components, in which, in contrast to the procedure of the 1 to 12 prior to arranging the metal foil on the carrier foil depressions are formed in the metal foil; and

29 bis 36 einen weiteren möglichen Verfahrensablauf zur Herstellung elektronischer Bauelemente, in welchem im Unterschied zu dem Verfahrensablauf der 20 bis 28 Anschlusselemente nach dem Ausbilden des Formkörpers metallisiert werden. 29 to 36 Another possible procedure for the production of electronic components, in which, in contrast to the procedure of the 20 to 28 Connection elements are metallized after forming the shaped body.

Anhand der folgenden schematischen Figuren werden mögliche Ausführungsformen eines Verfahrens zum Herstellen von elektronischen Bauelementen beschrieben. Hierbei können aus der Halbleitertechnik und aus der Fertigung elektronischer Bauelemente bekannte Prozesse durchgeführt werden und in diesen Gebieten übliche Materialien zum Einsatz kommen, so dass hierauf nur teilweise eingegangen wird. In gleicher Weise können die Bauelemente zusätzlich zu gezeigten und beschriebenen Komponenten mit weiteren Komponenten und Strukturen gefertigt werden. Es wird ferner darauf hingewiesen, dass die Figuren lediglich schematischer Natur sind und nicht maßstabsgetreu sind. In diesem Sinne können in den Figuren gezeigte Komponenten und Strukturen zum besseren Verständnis übertrieben groß oder verkleinert dargestellt sein.Possible embodiments of a method for producing electronic components will be described with reference to the following schematic figures. In this case, known processes can be carried out from semiconductor technology and from the production of electronic components, and customary materials can be used in these areas, so that this is only partially discussed. In the same way, the components can be manufactured in addition to components shown and described with other components and structures. It is further noted that the figures are merely schematic in nature and are not to scale. In this sense, components and structures shown in the figures may be exaggerated or oversized for clarity.

Die 1 bis 12 zeigen ein mögliches Verfahren zum Herstellen von elektronischen Bauelementen 100. Bei den Bauelementen 100 handelt es sich um oberflächenmontierbare Einzelchip-Bauelemente, welche jeweils in Form eines QFN Packages (Quad Flat No Leads) verwirklicht sind. Jedes Bauelement 100 weist einen einzelnen Halbleiterchip 150 auf. Bei den Bauelementen 100 kann es sich um strahlungsemittierende optoelektronische Bauelemente 100 handeln. In dieser Ausgestaltung kommen optoelektronische Halbleiterchips 150 zur Anwendung, welche zur Strahlungserzeugung ausgebildet sind. The 1 to 12 show a possible method for manufacturing electronic components 100 , With the components 100 These are surface-mountable single-chip components, which are each realized in the form of a QFN package (Quad Flat No Leads). Every component 100 has a single semiconductor chip 150 on. With the components 100 can be radiation-emitting optoelectronic components 100 act. In this embodiment, optoelectronic semiconductor chips are used 150 for use, which are designed for generating radiation.

In dem Verfahren wird ein Verbund aus zusammenhängenden Bauelementen gefertigt, welcher nachfolgend in die Bauelemente 100 vereinzelt wird. Die 1 bis 12 veranschaulichen das Verfahren anhand von seitlichen Darstellungen und Aufsichtsdarstellungen. Es wird darauf hingewiesen, dass anstelle der in den Figuren gezeigten Gegebenheiten ein wesentlich größerer Verbund gefertigt werden kann. Die Figuren können in diesem Sinne als ausschnittsweise Darstellungen des Verfahrens aufgefasst werden.In the method, a composite of contiguous components is produced, which subsequently in the components 100 is isolated. The 1 to 12 illustrate the method by means of lateral representations and supervisory presentations. It should be noted that instead of the conditions shown in the figures, a much larger bond can be made. The figures can be understood in this sense as a partial representation of the process.

Bei dem Verfahren wird eine Metallfolie 110 bereitgestellt, welche in 1 von der Seite gezeigt ist. Eine Dicke der Metallfolie 110 kann in einem Bereich von 30µm bis 500µm liegen. Die Metallfolie 110 weist eine metallische Basisschicht 111 auf, welche vorder- und rückseitig mit einer metallischen Schicht 112 beschichtet ist. Die Schicht 111 kann zum Beispiel aus Cu ausgebildet sein. Mit Hilfe der hierauf angeordneten metallischen Schicht 112 kann erzielt werden, dass metallische Anschlusselemente 131, 132, welche in dem Verfahren durch Strukturieren der Metallfolie 110 gebildet werden (vgl. die 3, 4), eine lötfähige und zum Anschließen von Bonddrähten 151 geeignete Oberfläche aufweisen. In the process, a metal foil 110 provided in which 1 shown from the side. A thickness of the metal foil 110 can be in a range of 30μm to 500μm. The metal foil 110 has a metallic base layer 111 on which front and back with a metallic layer 112 is coated. The layer 111 may be formed of Cu, for example. With the help of the arranged thereon metallic layer 112 can be achieved that metallic connection elements 131 . 132 , which in the process by structuring the metal foil 110 be formed (see the 3 . 4 ), a solderable and for connecting bonding wires 151 have suitable surface.

Die metallische Schicht 112 kann einschichtig aus zum Beispiel Ag ausgebildet sein. Möglich ist auch eine nicht dargestellte mehrschichtige Ausgestaltung in Form eines Stapels aus mehreren Teilschichten, zum Beispiel aus Ni, Ag oder Ni, Pd, Au oder Ni, Au. Die metallische Schicht 112 kann mit Hilfe von einem oder mehreren aufeinanderfolgenden Metallisierungsverfahren auf der Schicht 111 erzeugt sein. Ein Beispiel für ein Metallisierungsverfahren ist Elektroplattieren (Electroplating).The metallic layer 112 may be formed in one layer of Ag, for example. Also possible is a multi-layered embodiment, not shown, in the form of a stack of several partial layers, for example of Ni, Ag or Ni, Pd, Au or Ni, Au. The metallic layer 112 can with the help of one or more consecutive metallization on the layer 111 be generated. An example of a metallization process is electroplating.

Die bereitgestellte Metallfolie 110 wird, wie in 2 gezeigt ist, auf einer als Hilfsträger dienenden Trägerfolie 120 angeordnet. Dieser Vorgang erfolgt durch Auflaminieren der Trägerfolie 120 auf die Metallfolie 110. Bei der Trägerfolie 120 handelt es sich um eine Kunststofffolie, welche an einer Seite eine nicht dargestellte Klebstoffschicht aufweist. Mit dieser Seite wird die Trägerfolie 120 auf die Metallfolie 110 aufgeklebt. The provided metal foil 110 will, as in 2 is shown on serving as a subcarrier carrier film 120 arranged. This process is carried out by laminating the carrier film 120 on the metal foil 110 , In the carrier film 120 it is a plastic film which has a non-illustrated adhesive layer on one side. This page is the carrier film 120 on the metal foil 110 glued.

Im Hinblick auf einen nachfolgend durchgeführten Ätzprozess ist die Trägerfolie 120 ätzbeständig ausgeführt. Zu diesem Zweck kann es sich bei der Trägerfolie 120 zum Beispiel um eine mit einer Klebstoffschicht versehene Folie aus PI (Polyimid) oder PET (Polyethylenenterephthalat) handeln.With regard to a subsequent etching process is the carrier film 120 etch resistant. For this purpose, it may be in the carrier film 120 For example, be provided with an adhesive layer film of PI (polyimide) or PET (polyethylene terephthalate).

In dem Ätzprozess wird die auf der Trägerfolie 120 angeordnete Metallfolie 110, wie in 3 von der Seite und in 4 in der Aufsicht gezeigt ist, in separate flächige Anschlusselemente 131, 132 mit unterschiedlichen lateralen Abmessungen strukturiert. Die metallischen Anschlusselemente 131, 132 sind räumlich voneinander getrennt, und nicht durch Material der Anschlusselemente 131, 132 bzw. der zugrunde liegenden Metallfolie 110 miteinander verbunden. In the etching process, the on the support film 120 arranged metal foil 110 , as in 3 from the side and in 4 is shown in the plan, in separate flat connection elements 131 . 132 structured with different lateral dimensions. The metallic connection elements 131 . 132 are spatially separated, and not by material of the connection elements 131 . 132 or the underlying metal foil 110 connected with each other.

Wie in der Aufsichtsdarstellung von 4 veranschaulicht ist, können die Anschlusselemente 131, 132 mit einer Rechteckform und in Form eines Rasters aus Zeilen und Spalten auf der Trägerfolie 120 ausgebildet werden. Die Anschlusselemente 131, 132 besitzen eine flächige Struktur, und werden daher im Folgenden als Anschlussflächen (Bondpads) bezeichnet. Des Weiteren werden die größeren Anschlussflächen 131 als erste Anschlussflächen 131, und die kleineren Anschlussflächen 132 als zweite Anschlussflächen 132 bezeichnet. Für jedes der in dem Verfahren hergestellten Bauelemente 100 ist jeweils ein Paar aus einer ersten und einer zweiten Anschlussfläche 131, 132 vorgesehen. As in the supervisory presentation of 4 is illustrated, the connection elements 131 . 132 with a rectangular shape and in the form of a grid of rows and columns on the carrier film 120 be formed. The connection elements 131 . 132 have a planar structure, and are therefore referred to below as pads (bond pads). Furthermore, the larger pads 131 as first connection surfaces 131 , and the smaller pads 132 as second connection surfaces 132 designated. For each of the components manufactured in the process 100 Each is a pair of first and second pads 131 . 132 intended.

Bei dem Ätzprozess handelt es sich um einen nasschemischen Ätzprozess, welcher mit einem geeigneten Ätzmittel durchgeführt wird. Dies hat zur Folge, dass die metallischen Anschlussflächen 131, 132 am Rand die in 3 angedeuteten isotropen verrundeten Ätzflanken aufweisen. Vor dem eigentlichen Strukturieren der Metallfolie 110 kann eine Ätzmaske, zum Beispiel eine Fotolackmaske, auf der Metallfolie 110 ausgebildet und nach dem Ätzen wieder von dieser entfernt werden. Zum Schützen von Bereichen der Metallfolie 110, welche nicht von dem Ätzmittel angegriffen werden sollen, kann alternativ auch eine mechanische Maskierung zur Anwendung kommen (jeweils nicht dargestellt).The etching process is a wet-chemical etching process which is carried out with a suitable etchant. This has the consequence that the metallic pads 131 . 132 on the edge the in 3 have indicated isotropic rounded Ätzflanken. Before the actual structuring of the metal foil 110 For example, an etch mask, for example a photoresist mask, may be applied to the metal foil 110 trained and removed after etching again from this. To protect areas of the metal foil 110 which are not to be attacked by the etchant, alternatively, a mechanical masking can be used (not shown).

Das Ausbilden der separaten Anschlussflächen 131, 132 anstelle der herkömmlichen Verwendung eines Leiterahmens mit Anschlussflächen und Verbindungsstegen bietet die Möglichkeit, die Anschlussflächen 131, 132 mit kleinen Abständen zueinander auszubilden. Dadurch kann der Bauelementverbund mit einer hohen Packungsdichte gefertigt werden.Forming the separate pads 131 . 132 instead of the conventional use of a ladder frame with pads and tie bars offers the possibility of the pads 131 . 132 form with small distances to each other. As a result, the component composite can be manufactured with a high packing density.

Nach dem Ausbilden der Anschlussflächen 131, 132 wird, wie in 5 von der Seite und in 6 in der Aufsicht gezeigt ist, ein zusammenhängender Formkörper 140 auf der Trägerfolie 120 und den hierauf befindlichen Anschlussflächen 131, 132 ausgebildet. Zu diesem Zweck wird ein Formprozess, beispielsweise ein Spritzpressprozess (Transfer Molding) durchgeführt, in welchem eine Formmasse (Mold Compound) auf die Trägerfolie 120 und die Anschlussflächen 131, 132 aufgebracht wird. Dieser Prozess wird mit Hilfe eines nicht dargestellten Werkzeugs durchgeführt. Bei dem Ausbilden des Formkörpers 140 kann die Trägerfolie 120 ein rückseitiges Abdichten der Anschlussflächen 131, 132 bewirken, so dass die Anschlussflächen 131, 132 rückseitig nicht mit der Formmasse bedeckt werden. After forming the pads 131 . 132 will, as in 5 from the side and in 6 is shown in the plan, a contiguous molded body 140 on the carrier foil 120 and the pads thereon 131 . 132 educated. For this purpose, a molding process, for example a transfer molding process (transfer molding) is carried out, in which a molding compound (molding compound) on the carrier film 120 and the connection surfaces 131 . 132 is applied. This process is performed using a tool, not shown. In the formation of the shaped body 140 can the carrier film 120 a back-sealing of the connection surfaces 131 . 132 effect, leaving the pads 131 . 132 not covered on the back with the molding compound.

Die Formmasse kann ein Kunststoffmaterial, zum Beispiel ein Epoxidmaterial oder Silikonmaterial, umfassen. Die Formmasse kann des Weiteren hochgefüllt sein mit einem partikelförmigen Füllstoff (nicht dargestellt). Bei dem Füllmaterial kann es sich um SiO2-Partikel und TiO2-Partikel handeln. Durch die SiO2-Partikel kann der Formkörper 140 einen kleinen thermischen Ausdehnungskoeffizienten aufweisen, und auf diese Weise an den thermischen Ausdehnungskoeffizienten der metallischen Anschlussflächen 131, 132 angepasst sein. Durch die TiO2-Partikel kann der Formkörper 140 eine weiße Farbe aufweisen. Nach dem Aufbringen kann die Formmasse ausgehärtet werden.The molding compound may comprise a plastic material, for example an epoxy material or silicone material. The molding compound may further be highly filled with a particulate filler (not shown). The filler may be SiO 2 particles and TiO 2 particles. Due to the SiO 2 particles, the shaped body 140 have a small coefficient of thermal expansion, and in this way the thermal expansion coefficient of the metallic pads 131 . 132 be adjusted. Due to the TiO2 particles, the molded body 140 have a white color. After application, the molding compound can be cured.

Der Formkörper 140 wird mit Kavitäten bzw. Ausnehmungen 141 ausgebildet, über welche die Anschlussflächen 131, 132 an einer Vorderseite freigelegt sind. Jede Ausnehmung 141 ist einem Paar aus einer ersten und einer zweiten Anschlussfläche 131, 132 zugeordnet, so dass diese vorderseitig freigestellt sind. Hierfür werden die Ausnehmungen 141 entsprechend des Rasters der Anschlussflächen 131, 132 ausgebildet. Am Rand der Ausnehmungen 141 sind die Anschlussflächen 131, 132 vorderseitig zum Teil von dem Formkörper 140 bedeckt.The molded body 140 is with cavities or recesses 141 formed, over which the connection surfaces 131 . 132 are exposed on a front side. Every recess 141 is a pair of first and second pads 131 . 132 assigned so that they are exempted front. For this purpose, the recesses 141 according to the grid of the connection surfaces 131 . 132 educated. At the edge of the recesses 141 are the connection surfaces 131 . 132 on the front part of the molding 140 covered.

Die Ausnehmungen 141 weisen eine sich in einer Richtung weg von den Anschlussflächen 131, 132 aufweitende Form mit schräg zu den Anschlussflächen 131, 132 verlaufenden Seitenwänden auf, so dass die Ausnehmungen 141 bei den gefertigten Bauelementen 100 als Reflektoren dienen können. Von oben betrachtet können die Ausnehmungen 141, wie in 6 gezeigt ist, eine rechteckige Kontur mit abgerundeten Ecken aufweisen. The recesses 141 point in a direction away from the pads 131 . 132 widening shape with an angle to the connection surfaces 131 . 132 extending side walls, so that the recesses 141 in the finished components 100 can serve as reflectors. Seen from above, the recesses can 141 , as in 6 is shown to have a rectangular contour with rounded corners.

Der Formkörper 140 befindet sich auch seitlich neben bzw. zwischen den Anschlussflächen 131, 132, und reicht an diesen Stellen an die Trägerfolie 120 heran. Hierzu gehören rückseitige Abschnitte eines die Ausnehmungen 141 umgebenden und Seitenwände der Ausnehmungen 141 bildenden Teil des Formkörpers 140, sowie zwischen den Anschlussflächen 131, 132 vorhandene Stege 142 des Formkörpers 140. Die Stege 142 besitzen eine geringere Dicke als der die Ausnehmungen 141 umgebende Teil des Formkörpers 140. Wie in 5 gezeigt ist, können die Stege 142 die gleiche Dicke aufweisen wie die Anschlussflächen 131, 132.The molded body 140 is also located next to or between the connection surfaces 131 . 132 , And reaches at these points to the carrier film 120 approach. These include back sections of the recesses 141 surrounding and side walls of the recesses 141 forming part of the molding 140 , as well as between the connection surfaces 131 . 132 existing bridges 142 of the molding 140 , The bridges 142 have a smaller thickness than the recesses 141 surrounding part of the molding 140 , As in 5 shown, the webs can 142 have the same thickness as the pads 131 . 132 ,

Es ist möglich, dass die Anschlussflächen 131, 132 nach dem Durchführen des Formprozesses vorderseitig unerwünschte Rückstände der Formmasse aufweisen (nicht dargestellt). Solche Rückstände können nachfolgend in einem weiteren Prozess (Deflashing) entfernt werden.It is possible that the connection surfaces 131 . 132 after performing the molding process on the front side undesirable residues of the molding compound (not shown). Such residues can subsequently be removed in a further process (deflashing).

Dies kann gegebenenfalls vermieden werden, indem das Ausbilden des Formkörpers 140 mit Hilfe eines folienunterstützten Spritzpressprozesses (Film Assisted Transfer Molding) durchgeführt wird. Hierbei sind die Formkerne eines Werkzeugteils des eingesetzten Werkzeugs für eine bessere Abdichtung mit einer Folie ummantelt. Auf diese Weise kann erzielt werden, dass die Anschlussflächen 131, 132 vorderseitig keine unerwünschten Rückstände der Formmasse aufweisen.This can optionally be avoided by forming the molding 140 using a film assisted transfer molding process (Film Assisted Transfer Molding). Here, the mandrels of a tool part of the tool used for a better Sealing coated with a foil. In this way it can be achieved that the connection surfaces 131 . 132 have no unwanted residues of the molding compound on the front side.

Anschließend werden, wie in 7 von der Seite und in 8 in der Aufsicht gezeigt ist, ungehäuste Halbleiterchips 150 innerhalb der Ausnehmungen 141 des Formkörpers 140 auf den ersten Anschlussflächen 131 angeordnet und über Bonddrähte 151 an die zweiten Anschlussflächen 132 angeschlossen. Wie oben angedeutet wurde, kann es sich bei den Halbleiterchips 150 um strahlungsemittierende optoelektronische Halbleiterchips 150 handeln. Möglich ist zum Beispiel die Verwendung von Leuchtdiodenchips. Subsequently, as in 7 from the side and in 8th shown in the top view, unhoused semiconductor chips 150 within the recesses 141 of the molding 140 on the first pads 131 arranged and over bonding wires 151 to the second pads 132 connected. As indicated above, the semiconductor chips may be 150 to radiation-emitting optoelectronic semiconductor chips 150 act. It is possible, for example, the use of LED chips.

In der in den Figuren angedeuteten Ausgestaltung weisen die Halbleiterchips 150 jeweils einen Vorderseitenkontakt und einen Rückseitenkontakt auf. Über die Rückseitenkontakte und nicht gezeigte Verbindungsschichten, zum Beispiel Lotschichten oder Schichten eines elektrisch leitfähigen Klebstoffs, werden die Halbleiterchips 150 elektrisch und mechanisch mit den ersten Anschlussflächen 131 verbunden. Die Vorderseitenkontakte der Halbleiterchips 150 werden über die Bonddrähte 151 elektrisch mit den zweiten Anschlussflächen 132 verbunden.In the arrangement indicated in the figures, the semiconductor chips 150 in each case a front side contact and a back contact. About the backside contacts and connecting layers, not shown, for example, solder layers or layers of an electrically conductive adhesive, the semiconductor chips 150 electrically and mechanically with the first connection surfaces 131 connected. The front-side contacts of the semiconductor chips 150 Be over the bonding wires 151 electrically with the second pads 132 connected.

Nach dem Anordnen und Kontaktieren der Halbleiterchips 150 wird, wie in 9 gezeigt ist, eine Vergussmasse 160 in die Ausnehmungen 141 des Formkörpers 140 eingebracht. Jede Ausnehmung 141 kann vollständig mit der Vergussmasse 160 verfüllt werden. Die Vergussmasse 160 umgibt die Halbleiterchips 150 und die Bonddrähte 151, und bildet eine diese Komponenten 150, 151 vor äußeren Einflüssen schützende Verkapselung.After arranging and contacting the semiconductor chips 150 will, as in 9 is shown, a potting compound 160 in the recesses 141 of the molding 140 brought in. Every recess 141 Can be completely with the potting compound 160 be filled. The potting compound 160 surrounds the semiconductor chips 150 and the bonding wires 151 , and forms one of these components 150 . 151 Protected from external influences encapsulation.

Das Einbringen der Vergussmasse 160 in die Ausnehmungen 141 kann zum Beispiel durch Vergießen erfolgen. Auch bei diesem Prozess kann die Trägerfolie 120 ein rückseitiges Abdichten der Anschlussflächen 131, 132 bewirken, so dass trotz gegebenenfalls vorliegender Spalte zwischen dem Formkörper 140 und den Anschlussflächen 131, 132 ein Verunreinigen von Rückseiten der Anschlussflächen 131, 132 mit der Vergussmasse 160 vermieden werden kann.The introduction of the potting compound 160 in the recesses 141 can be done by casting, for example. Also in this process, the carrier film 120 a back-sealing of the connection surfaces 131 . 132 cause, so that despite the presence of any gaps between the molding 140 and the connection surfaces 131 . 132 contamination of back surfaces of the pads 131 . 132 with the potting compound 160 can be avoided.

Bei strahlungsemittierenden Halbleiterchips 150 kann eine Vergussmasse 160 zur Anwendung kommen, welche ein strahlungsdurchlässiges Vergussmaterial, zum Beispiel ein Silikonmaterial, aufweist. Die Vergussmasse 160 kann in diesem Zusammenhang ferner nicht nur zur Verkapselung, sondern auch zur Strahlungskonversion eingesetzt werden. Hierfür kann die Vergussmasse 160 zusätzlich in dem strahlungsdurchlässigen Vergussmaterial eingebettete Leuchtstoffpartikel zur Strahlungskonversion aufweisen (nicht dargestellt). Auf diese Weise kann die Vergussmasse 160 wenigstens einen Teil einer im Betrieb von den Halbleiterchips 150 erzeugten Lichtstrahlung konvertieren (Volumenkonversion).In radiation-emitting semiconductor chips 150 can be a potting compound 160 be used, which has a radiation-permeable potting material, for example, a silicone material. The potting compound 160 can be used in this context, not only for encapsulation, but also for radiation conversion. For this purpose, the potting compound 160 additionally in the radiation-permeable potting embedded phosphor particles for radiation conversion (not shown). In this way, the potting compound 160 at least a portion of an operating of the semiconductor chips 150 Convert converted light radiation (volume conversion).

Es ist darüber hinaus möglich, dass bei den strahlungsemittierenden Halbleiterchips 150 auf einer Vorderseite nicht gezeigte Konversionsschichten bzw. Konversionselemente zur Strahlungskonversion zum Einsatz kommen (Oberflächenkonversion). Solche Konversionsschichten können zum Beispiel nach dem Anordnen der Halbleiterchips 150 in den Ausnehmungen 141 bzw. nach dem Drahtbonden und vor dem Verfüllen der Vergussmasse 160 auf den Halbleiterchips 150 angeordnet werden. In dieser Ausgestaltung kann die Vergussmasse 160 lediglich ein strahlungsdurchlässiges Vergussmaterial aufweisen.It is also possible that in the case of the radiation-emitting semiconductor chips 150 Conversion layers not shown on a front side or conversion elements for radiation conversion are used (surface conversion). Such conversion layers may, for example, after the arrangement of the semiconductor chips 150 in the recesses 141 or after wire bonding and before filling the potting compound 160 on the semiconductor chips 150 to be ordered. In this embodiment, the potting compound 160 only have a radiation-permeable potting material.

Ferner kann es bei der oben beschriebenen Verwendung einer Vergussmasse 160 mit Leuchtstoffpartikeln in Betracht kommen, die Leuchtstoffpartikel durch Gravitation oder Einsatz einer Zentrifuge absedimentieren zu lassen, so dass die Leuchtstoffpartikel in Form einer Schicht auf der Oberfläche der Halbleiterchips 150 liegen können (nicht dargestellt). Dadurch kann eine bessere Entwärmung erzielt werden, so dass ein Betrieb bei höheren Temperaturen möglich ist. Furthermore, in the case of the above-described use of a potting compound 160 With phosphor particles are eligible to let the phosphor particles settle by gravity or use of a centrifuge, so that the phosphor particles in the form of a layer on the surface of the semiconductor chip 150 can lie (not shown). As a result, a better heat dissipation can be achieved, so that operation at higher temperatures is possible.

Im Anschluss hieran bzw. nach einem Aushärten der Vergussmasse 160 wird die Trägerfolie 120 von dem Bauelementverbund entfernt, so dass der in 10 gezeigte Verfahrenszustand vorliegt. Dies kann durch Abziehen der Trägerfolie 120 von dem Bauelementverbund erfolgen. In diesem Zusammenhang kann ausgenutzt werden, dass die Trägerfolie 120 in dem zuvor durchgeführten und mit einer Temperatureinwirkung verbundenen Formprozess ihre Klebewirkung weitgehend verlieren kann.Following this or after curing of the potting compound 160 becomes the carrier film 120 removed from the component composite, so that the in 10 shown process state is present. This can be done by peeling off the carrier film 120 take place from the component composite. In this context, can be exploited that the carrier film 120 in the previously performed and associated with a temperature effect forming process can largely lose their adhesive effect.

Nach dem Entfernen der Trägerfolie 120 wird, wie in 11 von der Seite und in 12 in der Aufsicht gezeigt ist, der Bauelementverbund in separate elektronische bzw. optoelektronische Bauelemente 100 vereinzelt. Für das Vereinzeln wird lediglich der Formkörper 140 durchtrennt, wodurch dieser Prozess einfach und schnell durchgeführt werden kann. Diese Vorgehensweise wird durch die Ausgestaltung mit den separaten metallischen Anschlussflächen 131, 132 ermöglicht.After removing the carrier film 120 will, as in 11 from the side and in 12 is shown in the plan, the component composite in separate electronic or optoelectronic devices 100 sporadically. For the singling is only the molding 140 which makes this process easy and quick. This approach is the design with the separate metallic pads 131 . 132 allows.

Wie in den 11, 12 dargestellt ist, kann das Durchtrennen entlang von in der Aufsicht senkrecht zueinander orientierten Trennlinien 190 und in Bereichen des Formkörpers 140 zwischen den Ausnehmungen 141 durchgeführt werden. Dadurch weisen die vereinzelten Bauelemente 100 eine Quaderform und in der Aufsicht eine rechteckige Kontur auf.As in the 11 . 12 can be shown, the cutting along along in the plan view perpendicular to each other oriented dividing lines 190 and in areas of the molding 140 between the recesses 141 be performed. As a result, the isolated components 100 a Cuboid shape and in the plan a rectangular contour.

Das Durchtrennen des Formkörpers 140 kann zum Beispiel durch Sägen erfolgen. Dies ist mit einer hohen Sägegeschwindigkeit von zum Beispiel bis zu 500mm/s möglich. Alternativ lässt sich das Durchtrennen des Formkörpers 140 mittels anderer Prozesse wie zum Beispiel Laserschneiden oder Wasserstrahlschneiden durchführen.The severing of the molding 140 can be done for example by sawing. This is possible with a high sawing speed of, for example, up to 500mm / s. Alternatively, it is possible to cut through the shaped body 140 using other processes such as laser cutting or water jet cutting.

Bei den vereinzelten Bauelementen 100 handelt es sich um Einzelchip-Bauelemente. Die Bauelemente 100 weisen jeweils einen aus dem Formkörper 140 hervorgegangenen Gehäusekörper 145 mit einer Ausnehmung 141, zwei separate und an einer Rückseite freiliegende Anschlussflächen 131, 132 und einen Halbleiterchip 150 auf. Der Halbleiterchip 150 ist in der Ausnehmung 141 des Gehäusekörpers 145 auf einer ersten Anschlussfläche 131 angeordnet, über einen Bonddraht 151 an eine zweite Anschlussfläche 132 angeschlossen, und von der in die Ausnehmung 141 eingebrachten Vergussmasse 160 umgeben. Die Vergussmasse 160 bildet bei den Bauelementen 100 jeweils einen Teil einer Vorderseite. Mit Hilfe der rückseitig freiliegenden Anschlussflächen 131, 132 können die Bauelemente 100 mittels Löten bzw. Wiederaufschmelzlöten auf einer Leiterplatte angeordnet werden (nicht dargestellt).For the isolated components 100 are single-chip components. The components 100 each have one from the molding 140 emerged housing body 145 with a recess 141 , two separate and on a back exposed pads 131 . 132 and a semiconductor chip 150 on. The semiconductor chip 150 is in the recess 141 of the housing body 145 on a first connection surface 131 arranged over a bonding wire 151 to a second pad 132 connected, and from the into the recess 141 introduced potting compound 160 surround. The potting compound 160 forms at the components 100 each part of a front side. With the help of the rear exposed connection surfaces 131 . 132 can the components 100 be arranged by soldering or reflow soldering on a circuit board (not shown).

Jedes Bauelement 100 weist zwischen der Vorder- und der Rückseite eine umlaufende Mantelfläche 147 auf, welche ausschließlich durch den Gehäusekörper 145 gebildet ist. Bei dem hier gezeigten Ausführungsbeispiel setzt sich die Mantelfläche 147 der Bauelemente 100 aus vier rechtwinklig aneinandergrenzenden Seitenwänden zusammen. An die Mantelfläche 147 heranreichende Verbindungsstege aus Kupfer sind nicht vorhanden. Daher sind die Bauelemente 100 korrosionsstabil und unempfindlich gegenüber Kurzschlüssen.Every component 100 has between the front and the back of a circumferential surface 147 on, which exclusively by the housing body 145 is formed. In the embodiment shown here, the lateral surface is set 147 of the components 100 composed of four right-angled adjoining side walls. To the lateral surface 147 Approaching connecting bridges made of copper are not available. Therefore, the components 100 corrosion resistant and insensitive to short circuits.

Im Folgenden werden mögliche Varianten und Abwandlungen des anhand der 1 bis 12 erläuterten Verfahrens beschrieben. Übereinstimmende Merkmale und Aspekte sowie gleiche und gleich wirkende Komponenten werden im Folgenden nicht erneut detailliert beschrieben. Für Details hierzu wird stattdessen auf die vorstehende Beschreibung Bezug genommen. Des Weiteren wird auf die Möglichkeit hingewiesen, Merkmale von zwei oder mehreren Ausführungsformen miteinander zu kombinieren.The following are possible variants and modifications of the basis of the 1 to 12 described method described. Matching features and aspects as well as equal and equivalent components will not be described again in detail below. For details, reference is made to the above description instead. Furthermore, attention is drawn to the possibility of combining features of two or more embodiments with one another.

Die 13 bis 19 zeigen anhand von seitlichen Darstellungen ein weiteres mögliches Verfahren zum Herstellen von oberflächenmontierbaren (opto)elektronischen Einzelchip-Bauelementen 100. Bei diesem Verfahren wird eine metallische Schicht 112 erst in einem späteren Verfahrensstadium ausgebildet. Dementsprechend kann der Verfahrensablauf der 13 bis 19 als Postplating-Verfahren bezeichnet werden, wohingegen der zuvor erläuterte Verfahrensablauf der 1 bis 12 als Preplating-Verfahren bezeichnet werden kann.The 13 to 19 show on the basis of side views another possible method for producing surface mount (opto) electronic single-chip devices 100 , In this process, a metallic layer 112 only trained at a later stage of the procedure. Accordingly, the procedure of the 13 to 19 be referred to as a post-plating process, whereas the previously explained procedure of the 1 to 12 can be referred to as preplating method.

Bei dem Verfahren wird, wie in 13 gezeigt ist, eine Metallfolie 110 bereitgestellt und auf einer ätzbeständigen Trägerfolie 120 angeordnet. Dies kann durch Auflaminieren der Trägerfolie 120 auf die Metallfolie 110 erfolgen. Die bereitgestellte Metallfolie 110 ist unbeschichtet und weist daher lediglich eine metallische Schicht 111 aus zum Beispiel Cu auf.In the method, as in 13 shown is a metal foil 110 provided and on an etch-resistant carrier film 120 arranged. This can be done by laminating the carrier film 120 on the metal foil 110 respectively. The provided metal foil 110 is uncoated and therefore has only a metallic layer 111 out of, for example, Cu.

Nachfolgend wird ein nasschemischer Ätzprozess durchgeführt, in welchem die auf der Trägerfolie 120 angeordnete Metallfolie 110, wie in 14 gezeigt ist, in separate flächige Anschlusselemente bzw. Anschlussflächen 131, 132 strukturiert wird. Der Ätzprozess kann mit Hilfe einer Ätzmaske wie zum Beispiel einer Fotolackmaske oder unter Anwendung einer mechanischen Maskierung durchgeführt werden. Von oben betrachtet können die Anschlussflächen 131, 132 die in 4 gezeigte Struktur aufweisen.Subsequently, a wet-chemical etching process is carried out, in which the on the carrier film 120 arranged metal foil 110 , as in 14 is shown in separate flat connection elements or connection surfaces 131 . 132 is structured. The etching process may be performed by means of an etching mask such as a photoresist mask or by using mechanical masking. Seen from above, the connection surfaces 131 . 132 in the 4 have shown structure.

Nach dem Ausbilden der Anschlussflächen 131, 132 wird, wie in 15 gezeigt ist, ein zusammenhängender Formkörper 140 auf der Trägerfolie 120 und den hierauf angeordneten Anschlussflächen 131, 132 ausgebildet. Der Formkörper 140 weist Ausnehmungen 141 auf, über welche die Anschlussflächen 131, 132 vorderseitig freigestellt sind. Jede Ausnehmung 141 ist einem Paar aus einer ersten Anschlussfläche 131 und einer zweiten Anschlussfläche 132 zugeordnet. Zwischen einem solchen Paar aus Anschlussflächen 131, 132 ist jeweils ein Steg 142 des Formkörpers 140 vorhanden. Von oben betrachtet können die in 6 gezeigten Gegebenheiten vorliegen. Das Ausbilden des Formkörpers 140 kann mit Hilfe eines Formprozesses, beispielsweise eines Spritzpressprozesses, durchgeführt werden.After forming the pads 131 . 132 will, as in 15 is shown, a contiguous shaped body 140 on the carrier foil 120 and the connecting surfaces arranged thereon 131 . 132 educated. The molded body 140 has recesses 141 on, over which the pads 131 . 132 are free on the front side. Every recess 141 is a pair of a first pad 131 and a second pad 132 assigned. Between such a pair of pads 131 . 132 is each a jetty 142 of the molding 140 available. Seen from above, the in 6 present circumstances shown. The formation of the shaped body 140 can be carried out with the aid of a molding process, for example a transfer molding process.

Nachfolgend kann gegebenenfalls ein Prozess zum Entfernen von unerwünschten, auf den Anschlussflächen 131, 132 vorderseitig vorhandenen Rückständen einer Formmasse des Formkörpers 140 (sofern vorhanden) durchgeführt werden.Following may optionally include a process for removing unwanted, on the pads 131 . 132 on the front existing residues of a molding material of the molding 140 (if available).

Im Anschluss hieran wird die Trägerfolie 120 von dem Verbund umfassend die Anschlussflächen 131, 132 und den Formkörper 140 entfernt, und werden die Anschlussflächen 131, 132 bzw. deren Schichtmaterial 111, wie in 16 gezeigt ist, mit einer metallischen Schicht 112 beschichtet. Bei dieser Vorgehensweise wird ausgenutzt, dass die Anschlussflächen 131, 132 nach dem Ausbilden des Formkörpers 140 über den Formkörper 140 zusammengehalten werden können, so dass die Trägerfolie 120 hierfür entbehrlich ist. Zum Entfernen kann die Trägerfolie 120 abgezogen werden.This is followed by the carrier film 120 from the composite comprising the pads 131 . 132 and the shaped body 140 removed, and become the pads 131 . 132 or their layer material 111 , as in 16 is shown with a metallic layer 112 coated. This approach exploits the fact that the connection surfaces 131 . 132 after forming the molding 140 over the molding 140 can be held together so that the carrier film 120 is dispensable for this. To remove the carrier film 120 subtracted from.

Das Beschichten erfolgt derart, dass lediglich die Anschlussflächen 131, 132 bzw. freiliegende und nicht von dem Formkörper 140 bedeckte Oberflächenbereiche der Anschlussflächen 131, 132 mit der metallischen Schicht 112 versehen werden, wie in 16 anhand der vorder- und rückseitig auf den Anschlussflächen 131, 132 angeordneten metallischen Schicht 112 deutlich wird. Die metallische Schicht 112 kann einschichtig oder mehrschichtig in Form eines Stapels aus mehreren Teilschichten ausgebildet sein. Aufgrund der metallischen Schicht 112 können die Anschlussflächen 131, 132 eine lötfähige und zum Anschließen von Bonddrähten 151 geeignete Oberfläche aufweisen. Coating takes place in such a way that only the connection surfaces 131 . 132 or exposed and not from the molding 140 covered surface areas of the pads 131 . 132 with the metallic layer 112 be provided, as in 16 based on the front and back of the pads 131 . 132 arranged metallic layer 112 becomes clear. The metallic layer 112 may be formed in a single-layered or multi-layered form in the form of a stack of several partial layers. Due to the metallic layer 112 can the pads 131 . 132 a solderable and for connecting bonding wires 151 have suitable surface.

Das Beschichten der Anschlussflächen 131, 132 mit der metallischen Schicht 112 kann mit Hilfe von einem oder mehreren aufeinanderfolgenden Metallisierungsverfahren durchgeführt werden. Ein Beispiel für ein Metallisierungsverfahren ist eine stromlose chemische Abscheidung (Electroless Plating).Coating the connection surfaces 131 . 132 with the metallic layer 112 can be performed by means of one or more sequential metallization processes. An example of a metallization process is electroless plating.

In dieser Verfahrensvariante wird der Formkörper 140 ausschließlich auf dem Schichtmaterial 111 (zum Beispiel Cu) der Anschlussflächen 131, 132 und nicht auf der nachträglich ausgebildeten metallischen Schicht 112 angeordnet. Auf diese Weise kann eine gute Haftung zwischen dem Formkörper 140 und den Anschlussflächen 131, 132 zur Verfügung gestellt werden. Darüber hinaus können durch das Beschichten gegebenenfalls vorliegende Spalte zwischen dem Formkörper 140 und den Anschlussflächen 131, 132 geschlossen werden, so dass sich die gefertigten Bauelemente 100 durch eine hohe Dichtigkeit auszeichnen können.In this process variant, the shaped body 140 exclusively on the layer material 111 (For example, Cu) of the pads 131 . 132 and not on the subsequently formed metallic layer 112 arranged. In this way, a good adhesion between the molding 140 and the connection surfaces 131 . 132 to provide. In addition, by the coating optionally present gaps between the molding 140 and the connection surfaces 131 . 132 be closed, so that the finished components 100 characterized by a high density.

Anschließend werden, wie in 17 gezeigt ist, Halbleiterchips 150 innerhalb der Ausnehmungen 141 des Formkörpers 140 auf den beschichteten ersten Anschlussflächen 131 angeordnet und über Bonddrähte 151 elektrisch mit den beschichteten zweiten Anschlussflächen 132 verbunden. Hierbei kann es sich um strahlungsemittierende Chips bzw. Leuchtdiodenchips handeln. Von oben betrachtet können die in 8 gezeigten Gegebenheiten vorliegen.Subsequently, as in 17 shown is semiconductor chips 150 within the recesses 141 of the molding 140 on the coated first pads 131 arranged and over bonding wires 151 electrically with the coated second pads 132 connected. These may be radiation-emitting chips or light-emitting diode chips. Seen from above, the in 8th present circumstances shown.

Nachfolgend werden die Ausnehmungen 141 des Formkörpers 140, wie in 18 gezeigt ist, mit einer Vergussmasse 160 verfüllt. Im Hinblick auf strahlungsemittierende Halbleiterchips 150 kann die Vergussmasse 160 ein strahlungsdurchlässiges Vergussmaterial sowie gegebenenfalls darin eingebettete Leuchtstoffpartikel umfassen.Below are the recesses 141 of the molding 140 , as in 18 is shown with a potting compound 160 filled. With regard to radiation-emitting semiconductor chips 150 can the potting compound 160 a radiation-permeable potting material and optionally embedded therein phosphor particles.

Im Anschluss hieran wird der Bauelementverbund, wie in 19 gezeigt ist, in separate elektronische bzw. optoelektronische Bauelemente 100 vereinzelt. Für das Vereinzeln, welches von oben betrachtet entsprechend 12 erfolgen kann, wird lediglich der Formkörper 140 entlang von Trennlinien 190 in Bereichen des Formkörpers 140 zwischen den Ausnehmungen 141 durchtrennt. Dieser Vorgang kann zum Beispiel durch Sägen erfolgen.Following this is the component composite, as in 19 is shown in separate electronic or optoelectronic components 100 sporadically. For singling, which viewed from above accordingly 12 can be done, only the shaped body 140 along dividing lines 190 in areas of the molding 140 between the recesses 141 severed. This process can be done for example by sawing.

Die 20 bis 28 zeigen anhand von seitlichen Darstellungen und einer Aufsichtsdarstellung einen weiteren möglichen Verfahrensablauf zum Herstellen von oberflächenmontierbaren (opto)elektronischen Einzelchip-Bauelementen 100. Bei diesem Verfahren werden Anschlusselemente 131, 132 mit einer randseitigen Verankerungsstruktur ausgebildet.The 20 to 28 show on the basis of side views and a top view another possible process flow for the manufacture of surface mount (opto) electronic single-chip devices 100 , In this process, connecting elements 131 . 132 formed with a marginal anchoring structure.

Bei dem Verfahren wird, wie in 20 gezeigt ist, eine Metallfolie 110 bereitgestellt. Die Metallfolie 110 weist eine metallische Basisschicht 111 aus zum Beispiel Cu auf, welche vollständig mit einer metallischen Schicht 112 beschichtet ist. Die metallische Schicht 112, welche zum Bereitstellen einer lötfähigen und zum Anschließen von Bonddrähten 151 geeigneten Oberfläche dient, kann einschichtig oder mehrschichtig ausgebildet sein.In the method, as in 20 shown is a metal foil 110 provided. The metal foil 110 has a metallic base layer 111 from, for example, Cu on, which completely with a metallic layer 112 is coated. The metallic layer 112 which is used for providing a solderable and for connecting bonding wires 151 suitable surface, may be formed as a single-layered or multi-layered.

Nachfolgend werden, wie in 21 gezeigt ist, an einer Seite bzw. Hauptseite Vertiefungen 195 in der Metallfolie 110 ausgebildet. Hierzu kann ein Ätzprozess unter Verwendung einer entsprechenden Maskierung der Metallfolie 110 durchgeführt werden. Die Vertiefungen 195 können mit einer Ätztiefe ausgebildet werden, welche mehr als halb so groß ist wie eine Dicke der Metallfolie 110. Des Weiteren werden die Vertiefungen 195 in Form eines zusammenhängenden Gitters in der Metallfolie 110 ausgebildet, wodurch von den Vertiefungen 195 umschlossene Bereiche 191, 192 der Metallfolie 110 gebildet werden. Dies ist zur besseren Veranschaulichung ergänzend in der Aufsichtsdarstellung von 22 dargestellt. Die Bereiche 191, 192 der Metallfolie 110 werden mit Formen ausgebildet, welche nachfolgend ausgebildeten Anschlusselementen 131, 132 entsprechen. In diesem Sinne werden jeweils Paare aus einem größeren Bereich 191 und einem kleineren Bereich 192 ausgebildet, wobei die Bereiche 191, 192 in einem Raster aus Zeilen und Spalten angeordnet sind.Below are, as in 21 is shown on one side or main side recesses 195 in the metal foil 110 educated. For this purpose, an etching process using a corresponding masking of the metal foil 110 be performed. The wells 195 can be formed with an etch depth which is more than half the thickness of the metal foil 110 , Furthermore, the depressions 195 in the form of a coherent grid in the metal foil 110 formed, whereby from the depressions 195 enclosed areas 191 . 192 the metal foil 110 be formed. This is for better illustration in addition to the supervisory presentation of 22 shown. The areas 191 . 192 the metal foil 110 are formed with molds, which subsequently formed connection elements 131 . 132 correspond. In this sense, couples are each from a larger area 191 and a smaller area 192 formed, with the areas 191 . 192 arranged in a grid of rows and columns.

Nach dem Ausbilden der halbgeätzten Vertiefungen 195 wird die Metallfolie 110, wie in 23 gezeigt ist, mit der die Vertiefungen 195 aufweisenden Seite auf einer ätzbeständigen Trägerfolie 120 angeordnet. Dies kann durch Auflaminieren der Trägerfolie 120 auf die Metallfolie 110 erfolgen.After forming the half-etched pits 195 becomes the metal foil 110 , as in 23 shown with the wells 195 having side on an etch-resistant carrier film 120 arranged. This can be done by laminating the carrier film 120 on the metal foil 110 respectively.

Anschließend wird ein nasschemischer Ätzprozess durchgeführt, in welchem die auf der Trägerfolie 120 angeordnete Metallfolie 110, wie in 24 gezeigt ist, in separate flächige Anschlusselemente bzw. Anschlussflächen 131, 132 strukturiert wird. Hierbei kommt eine Ätzmaske wie zum Beispiel eine Fotolackmaske oder eine mechanische Maskierung zur Anwendung. Von oben betrachtet können die Anschlussflächen 131, 132 die in 4 gezeigte Struktur aufweisen.Subsequently, a wet-chemical etching process is carried out, in which the on the carrier film 120 arranged metal foil 110 , as in 24 is shown in separate flat Connection elements or connection surfaces 131 . 132 is structured. Here, an etching mask such as a photoresist mask or a mechanical masking is used. Seen from above, the connection surfaces 131 . 132 in the 4 have shown structure.

Bei dem Ätzprozess zum Ausbilden der Anschlussflächen 131, 132 wird Material der Metallfolie 110 im Bereich der Vertiefungen 195 ausgehend von einer Seite der Metallfolie 110 entfernt, welche entgegen gesetzt ist zu der Seite der Metallfolie 110 mit den Vertiefungen 195. Hierdurch wird überschüssiges Schichtmaterial im Bereich der zuvor erzeugten Vertiefungen 195 entfernt, so dass die separaten Anschlussflächen 131, 132 auf der Trägerfolie 120 gebildet werden. Das Ätzen zum Bilden der Anschlussflächen 131, 132 wird in Ätzbereichen durchgeführt, welche eine kleinere Breite aufweisen als die zuvor ausgebildeten Vertiefungen 195. Dies hat zur Folge, dass die Anschlussflächen 131, 132, wie in 24 gezeigt ist, am Rand eine umlaufende Stufenform besitzen, welche als Verankerungsstruktur dienen kann.In the etching process for forming the pads 131 . 132 becomes material of the metal foil 110 in the area of the depressions 195 starting from one side of the metal foil 110 which is opposite to the side of the metal foil 110 with the wells 195 , As a result, excess layer material in the region of the previously generated depressions 195 removed, leaving the separate pads 131 . 132 on the carrier foil 120 be formed. The etching to form the pads 131 . 132 is performed in Ätzbereichen, which have a smaller width than the previously formed wells 195 , As a result, the pads 131 . 132 , as in 24 is shown at the edge have a circumferential step shape, which can serve as anchoring structure.

Nach dem Ausbilden der Anschlussflächen 131, 132 wird, wie in 25 gezeigt ist, ein zusammenhängender Formkörper 140 auf der Trägerfolie 120 und den hierauf befindlichen Anschlussflächen 131, 132 ausgebildet. Der Formkörper 140 weist Ausnehmungen 141 auf, über welche die Anschlussflächen 131, 132 vorderseitig freigelegt sind. Jede Ausnehmung 141 ist einem Paar aus einer ersten Anschlussfläche 131 und einer zweiten Anschlussfläche 132 zugeordnet. Von oben betrachtet können die in 6 gezeigten Gegebenheiten vorliegen. Das Ausbilden des Formkörpers 140 kann mit Hilfe eines Formprozesses, beispielsweise eines Spritzpressprozesses, durchgeführt werden.After forming the pads 131 . 132 will, as in 25 is shown, a contiguous shaped body 140 on the carrier foil 120 and the pads thereon 131 . 132 educated. The molded body 140 has recesses 141 on, over which the pads 131 . 132 exposed on the front. Every recess 141 is a pair of a first pad 131 and a second pad 132 assigned. Seen from above, the in 6 present circumstances shown. The formation of the shaped body 140 can be carried out with the aid of a molding process, for example a transfer molding process.

Aufgrund der stufenförmigen Ränder der Anschlussflächen 131, 132 kann eine Verankerung zwischen dem Formkörper 140 und den Anschlussflächen 131, 132, und dadurch eine verbesserte mechanische Verbindung zwischen diesen Bestandteilen 131, 132, 140 ermöglicht werden. Die stufenförmige Gestalt der Anschlussflächen 131, 132 am Rand führt des Weiteren dazu, dass seitlich neben bzw. zwischen den Anschlussflächen 131, 132 befindliche Bestandteile des Formkörpers 140 wie rückseitige Abschnitte eines die Ausnehmungen 141 umgebenden und Seitenwände der Ausnehmungen 141 bildenden Teils des Formkörpers 140 und Stege 142 eine von den zuvor erläuterten Verfahrensabläufen abweichende Form besitzen.Due to the stepped edges of the connection surfaces 131 . 132 can be an anchoring between the molding 140 and the connection surfaces 131 . 132 , and thereby an improved mechanical connection between these components 131 . 132 . 140 be enabled. The stepped shape of the connection surfaces 131 . 132 on the edge also leads to the side next to or between the pads 131 . 132 contained components of the molding 140 like back sections of a recesses 141 surrounding and side walls of the recesses 141 forming part of the molding 140 and footbridges 142 have a different form from the previously described procedures.

Nach dem Ausbilden des Formkörpers 140 kann gegebenenfalls ein Prozess zum Entfernen von unerwünschten, auf den Anschlussflächen 131, 132 vorderseitig vorhandenen Rückständen einer Formmasse des Formkörpers 140 (sofern vorhanden) durchgeführt werden.After forming the shaped body 140 Optionally, a process for removing unwanted, on the pads 131 . 132 on the front existing residues of a molding material of the molding 140 (if available).

Anschließend werden, wie in 26 gezeigt ist, Halbleiterchips 150 innerhalb der Ausnehmungen 141 des Formkörpers 140 auf den ersten Anschlussflächen 131 angeordnet und über Bonddrähte 151 elektrisch an die zweiten Anschlussflächen 132 angeschlossen. Hierbei können strahlungsemittierende Chips bzw. Leuchtdiodenchips zur Anwendung kommen. Von oben betrachtet können die in 8 gezeigten Gegebenheiten vorliegen.Subsequently, as in 26 shown is semiconductor chips 150 within the recesses 141 of the molding 140 on the first pads 131 arranged and over bonding wires 151 electrically to the second pads 132 connected. In this case, radiation-emitting chips or light-emitting diode chips can be used. Seen from above, the in 8th present circumstances shown.

Im Anschluss hieran werden die Ausnehmungen 141 des Formkörpers 140, wie in 27 gezeigt ist, mit einer Vergussmasse 160 verfüllt. Die Vergussmasse 160 kann ein strahlungsdurchlässiges Vergussmaterial sowie gegebenenfalls darin enthaltene Leuchtstoffpartikel umfassen.Following this are the recesses 141 of the molding 140 , as in 27 is shown with a potting compound 160 filled. The potting compound 160 may comprise a radiation-permeable potting material and optionally contained therein phosphor particles.

Nachfolgend wird der Bauelementverbund, wie in 28 gezeigt ist, in separate (opto)elektronische Bauelemente 100 vereinzelt. Für das Vereinzeln, welches von oben betrachtet entsprechend 12 erfolgen kann, wird lediglich der Formkörper 140 entlang von Trennlinien 190 in Bereichen des Formkörpers 140 zwischen den Ausnehmungen 141 durchtrennt. Das Vereinzeln kann mittels Sägen erfolgen.Subsequently, the component composite, as in 28 is shown in separate (opto) electronic components 100 sporadically. For singling, which viewed from above accordingly 12 can be done, only the shaped body 140 along dividing lines 190 in areas of the molding 140 between the recesses 141 severed. The separation can be done by means of sawing.

Das zuvor beschriebene Verfahren der 20 bis 28 kann in gleicher Weise derart abgewandelt werden, dass eine metallische Schicht 112 erst in einem späteren Verfahrensstadium ausgebildet wird. Ein solches als Postplating-Verfahren bezeichnetes Vorgehen, bei welchem Anschlusselemente 131, 132 mit einer randseitigen Verankerungsstruktur erzeugt werden, wird im Folgenden anhand der 29 bis 36 beschrieben. In diesem Sinne kann der vorhergehende Verfahrensablauf der 20 bis 28 als Preplating-Verfahren bezeichnet werden.The previously described method of 20 to 28 can be modified in the same way that a metallic layer 112 is formed only at a later stage of the procedure. Such a procedure known as the post-plating method, in which connection elements 131 . 132 be generated with a marginal anchoring structure is described below with reference to the 29 to 36 described. In this sense, the previous procedure of the 20 to 28 be referred to as preplating method.

Bei dem Verfahren wird, wie in 29 gezeigt ist, eine Metallfolie 110 bereitgestellt. Die bereitgestellten Metallfolie 110 ist unbeschichtet und weist daher lediglich eine metallische Schicht 111 aus zum Beispiel Cu auf.In the method, as in 29 shown is a metal foil 110 provided. The provided metal foil 110 is uncoated and therefore has only a metallic layer 111 out of, for example, Cu.

Nachfolgend werden, wie in 30 gezeigt ist, an einer Seite Vertiefungen 195 in der Metallfolie 110 ausgebildet. Dies kann mit Hilfe eines Ätzprozesses unter Einsatz einer entsprechenden Maskierung der Metallfolie 110 durchgeführt werden. Die Vertiefungen 195 können mit einer Ätztiefe mehr als halb so groß wie eine Dicke der Metallfolie 110 erzeugt werden. Ferner werden die Vertiefungen 195 in Form eines Gitters in der Metallfolie 110 ausgebildet, wodurch von den Vertiefungen 195 umschlossene Bereiche 191, 192 der Metallfolie 110 gebildet werden. Die Bereiche 191, 192 besitzen Formen entsprechend nachfolgend ausgebildeten Anschlusselementen 131, 132. Es werden jeweils Paare aus einem größeren Bereich 191 und einem kleineren Bereich 192 ausgebildet, welche in einem Raster aus Zeilen und Spalten angeordnet sind. Von oben betrachtet können die Vertiefungen 195 und die Bereiche 191, 192 die in 22 gezeigte Struktur aufweisen.Below are, as in 30 is shown, on one side depressions 195 in the metal foil 110 educated. This can be done by means of an etching process using an appropriate masking of the metal foil 110 be performed. The wells 195 can have an etch depth more than half the thickness of the metal foil 110 be generated. Further, the pits become 195 in the form of a grid in the metal foil 110 formed, whereby from the depressions 195 enclosed areas 191 . 192 the metal foil 110 educated become. The areas 191 . 192 have shapes according to subsequently formed connection elements 131 . 132 , There are pairs from a larger area 191 and a smaller area 192 formed, which are arranged in a grid of rows and columns. Seen from above, the depressions can 195 and the areas 191 . 192 in the 22 have shown structure.

Im Anschluss an das Ausbilden der halbgeätzten Vertiefungen 195 wird die Metallfolie 110 mit der die Vertiefungen 195 aufweisenden Seite auf einer ätzbeständigen Trägerfolie 120 angeordnet und einer Strukturierung unterzogen, so dass, wie in 31 gezeigt ist, separate flächige Anschlusselemente bzw. Anschlussflächen 131, 132 gebildet werden. Das Anordnen kann durch Auflaminieren der Trägerfolie 120 auf die Metallfolie 110 erfolgen. Das Strukturieren der Metallfolie 110 wird mit Hilfe eines nasschemischen Ätzprozesses unter Verwendung einer Ätzmaske, zum Beispiel einer Fotolackmaske, oder einer mechanischen Maskierung durchgeführt. Von oben betrachtet können die Anschlussflächen 131, 132 die in 4 gezeigte Struktur aufweisen.Following the formation of the half-etched pits 195 becomes the metal foil 110 with the wells 195 having side on an etch-resistant carrier film 120 arranged and subjected to a structuring, so that, as in 31 is shown, separate flat connection elements or connection surfaces 131 . 132 be formed. The placing can be done by laminating the carrier foil 120 on the metal foil 110 respectively. The structuring of the metal foil 110 is performed by means of a wet chemical etching process using an etching mask, for example a photoresist mask, or a mechanical masking. Seen from above, the connection surfaces 131 . 132 in the 4 have shown structure.

Bei dem Ätzprozess wird Material der Metallfolie 110 im Bereich der Vertiefungen 195 ausgehend von einer Seite der Metallfolie 110 entfernt, welche entgegen gesetzt ist zu der Seite der Metallfolie 110 mit den Vertiefungen 195. Auch erfolgt in diesem Prozess ein Ätzen mit einer gegenüber den Vertiefungen 195 geringeren Ätzbreite, wodurch die Anschlussflächen 131, 132 am Rand eine umlaufende und als Verankerungsstruktur dienende Stufenform aufweisen.In the etching process, material becomes the metal foil 110 in the area of the depressions 195 starting from one side of the metal foil 110 which is opposite to the side of the metal foil 110 with the wells 195 , Also, in this process, etching is performed with one opposite the pits 195 lower etching width, reducing the contact surfaces 131 . 132 have on the edge of a circumferential and serving as an anchoring structure step shape.

Im Anschluss hieran wird, wie in 32 gezeigt ist, ein zusammenhängender Formkörper 140 auf der Trägerfolie 120 und den darauf angeordneten Anschlussflächen 131, 132 ausgebildet. Hierbei ermöglichen die stufenförmigen Ränder der Anschlussflächen 131, 132 eine Verankerung und dadurch eine verbesserte mechanische Verbindung zwischen dem Formkörper 140 und den Anschlussflächen 131, 132. Der Formkörper 140 weist Ausnehmungen 141 auf, über welche die Anschlussflächen 131, 132 vorderseitig freigestellt sind. Jede Ausnehmung 141 ist einem Paar aus einer ersten Anschlussfläche 131 und einer zweiten Anschlussfläche 132 zugeordnet. Zwischen einem solchen Paar aus Anschlussflächen 131, 132 befindet sich jeweils ein Steg 142 des Formkörpers 140. Von oben betrachtet können die in 6 gezeigten Gegebenheiten vorliegen. Das Ausbilden des Formkörpers 140 kann mit Hilfe eines Formprozesses, beispielsweise eines Spritzpressprozesses, durchgeführt werden.Following this, as in 32 is shown, a contiguous shaped body 140 on the carrier foil 120 and the pads arranged thereon 131 . 132 educated. In this case, the stepped edges of the connection surfaces 131 . 132 an anchoring and thereby an improved mechanical connection between the molding 140 and the connection surfaces 131 . 132 , The molded body 140 has recesses 141 on, over which the pads 131 . 132 are free on the front side. Every recess 141 is a pair of a first pad 131 and a second pad 132 assigned. Between such a pair of pads 131 . 132 there is a footbridge 142 of the molding 140 , Seen from above, the in 6 present circumstances shown. The formation of the shaped body 140 can be carried out with the aid of a molding process, for example a transfer molding process.

Nach dem Ausbilden des Formkörpers 140 kann gegebenenfalls ein Prozess zum Entfernen von unerwünschten, auf den Anschlussflächen 131, 132 vorderseitig vorhandenen Rückständen einer Formmasse des Formkörpers 140 (sofern vorhanden) durchgeführt werden.After forming the shaped body 140 Optionally, a process for removing unwanted, on the pads 131 . 132 on the front existing residues of a molding material of the molding 140 (if available).

Nachfolgend wird die Trägerfolie 120 von dem Verbund umfassend die Anschlussflächen 131, 132 und den Formkörper 140 entfernt bzw. abgezogen, und werden die Anschlussflächen 131, 132 bzw. deren Schichtmaterial 111, wie in 33 gezeigt ist, mit einer metallischen Schicht 112 beschichtet. Das Beschichten erfolgt derart, dass die metallische Schicht 112 lediglich auf den Anschlussflächen 131, 132 bzw. auf freiliegenden und nicht von dem Formkörper 140 bedeckten Oberflächenbereichen der Anschlussflächen 131, 132 ausgebildet wird. The following is the carrier film 120 from the composite comprising the pads 131 . 132 and the shaped body 140 removed or subtracted, and become the pads 131 . 132 or their layer material 111 , as in 33 is shown with a metallic layer 112 coated. The coating takes place in such a way that the metallic layer 112 only on the pads 131 . 132 or on exposed and not on the molding 140 covered surface areas of the pads 131 . 132 is trained.

Die metallische Schicht 112, welche einschichtig oder mehrschichtig erzeugt werden kann, verleiht den Anschlussflächen 131, 132 eine lötfähige und zum Anschließen von Bonddrähten 151 geeignete Oberfläche. Das Beschichten wird mit Hilfe von einem oder mehreren aufeinanderfolgenden Metallisierungsverfahren durchgeführt.The metallic layer 112 , which can be produced in a single-layered or multi-layered, gives the connection surfaces 131 . 132 a solderable and for connecting bonding wires 151 suitable surface. The coating is carried out by means of one or more sequential metallization processes.

Anschließend werden, wie in 34 gezeigt ist, Halbleiterchips 150 innerhalb der Ausnehmungen 141 des Formkörpers 140 auf den beschichteten ersten Anschlussflächen 131 angeordnet und über Bonddrähte 151 an die beschichteten zweiten Anschlussflächen 132 angeschlossen. Hierbei können strahlungsemittierende Chips bzw. Leuchtdiodenchips eingesetzt werden. Von oben betrachtet können die in 8 gezeigten Gegebenheiten vorliegen.Subsequently, as in 34 shown is semiconductor chips 150 within the recesses 141 of the molding 140 on the coated first pads 131 arranged and over bonding wires 151 to the coated second pads 132 connected. In this case, radiation-emitting chips or light-emitting diode chips can be used. Seen from above, the in 8th present circumstances shown.

Nachfolgend werden die Ausnehmungen 141 des Formkörpers 140, wie in 35 gezeigt ist, mit einer Vergussmasse 160 verfüllt. Die Vergussmasse 160 kann ein strahlungsdurchlässiges Vergussmaterial sowie gegebenenfalls darin enthaltene Leuchtstoffpartikel umfassen.Below are the recesses 141 of the molding 140 , as in 35 is shown with a potting compound 160 filled. The potting compound 160 may comprise a radiation-permeable potting material and optionally contained therein phosphor particles.

Im Anschluss hieran wird der Bauelementverbund, wie in 36 gezeigt ist, in separate (opto)elektronische Bauelemente 100 vereinzelt. Das Vereinzeln, welches von oben betrachtet entsprechend 12 erfolgen kann, wird derart durchgeführt, dass lediglich der Formkörper 140 entlang von Trennlinien 190 in Bereichen des Formkörpers 140 zwischen den Ausnehmungen 141 durchtrennt wird. Dies kann mittels Sägen erfolgen.Following this is the component composite, as in 36 is shown in separate (opto) electronic components 100 sporadically. The singling, which viewed from above accordingly 12 can be carried out, is carried out such that only the shaped body 140 along dividing lines 190 in areas of the molding 140 between the recesses 141 is severed. This can be done by sawing.

Die anhand der Figuren erläuterten Ausführungsformen stellen bevorzugte bzw. beispielhafte Ausführungsformen der Erfindung dar. Neben den beschriebenen und abgebildeten Ausführungsformen sind weitere Ausführungsformen vorstellbar, welche weitere Abwandlungen und/oder Kombinationen von Merkmale umfassen können. Es ist zum Beispiel möglich, anstelle der oben angegebenen Materialien andere Materialien zu verwenden.The embodiments explained with reference to the figures represent preferred or exemplary embodiments of the invention. In addition to the described and illustrated embodiments, further embodiments are conceivable which may comprise further modifications and / or combinations of features. For example, it is possible to use other materials instead of the above materials.

Auch können Komponenten und Strukturen, zum Beispiel Anschlusselemente 131, 132 sowie Ausnehmungen 141 eines Formkörpers 140, mit anderen Formen und Geometrien verwirklicht werden. Beispielsweise können anstelle von rechteckförmigen Ausnehmungen 141 in der Aufsicht runde bzw. ovale Ausnehmungen ausgebildet werden. Also, components and structures, for example, connection elements 131 . 132 as well as recesses 141 a shaped body 140 to be realized with other shapes and geometries. For example, instead of rectangular recesses 141 in the supervision round or oval recesses are formed.

Es kann ferner in Betracht kommen, eine verwendete Trägerfolie 120 auf einem weiteren festen Träger anzuordnen, um eine höhere Stabilität zur Verfügung zu stellen. Dies kann nach oder auch vor dem Anordnen einer zu strukturierenden Metallfolie 110 auf der Trägerfolie 120 und vor dem Ausbilden eines Formkörpers 140 erfolgen. Der feste Träger kann zum Beispiel ein metallbasierter Träger, ein Glasträger oder auch ein kunststoffbasierter Träger sein. Das Anordnen der Trägerfolie 120 auf dem festen Träger kann zum Beispiel mittels Kleben erfolgen. Hierbei kann eine beidseitig klebende Klebefolie zwischen der Trägerfolie 120 und dem festen Träger zur Anwendung kommen. Nach dem Ausbilden des Formkörpers 140 bzw. nach dem Verfüllen einer Vergussmasse 160 können die Trägerfolie 120 und der feste Träger entfernt werden. Das Ablösen dieser Bestandteile lässt sich begünstigen, wenn als Klebefolie eine sogenannte Thermorelease-Folie eingesetzt wird, welche ihre Haftwirkung unter Temperatureinwirkung verlieren kann. In diesem Zusammenhang kann eine Thermorelease-Folie verwendet werden, bei welcher ein Thermorelease-Prozess (Aufschäumen) bei einer Temperatur erfolgt, welche größer ist als eine bei dem Form- bzw. Moldprozess vorhandene Temperatur. Dadurch kann erreicht werden, dass die Thermorelease-Folie ihre Haftwirkung nicht bereits bei dem Ausbilden des Formkörpers 140 verliert.It may also be considered, a carrier sheet used 120 on another solid support to provide greater stability. This can be after or even before arranging a metal foil to be structured 110 on the carrier foil 120 and before forming a shaped article 140 respectively. The solid support can be, for example, a metal-based support, a glass carrier or also a plastic-based carrier. The arrangement of the carrier film 120 on the solid support can be done for example by gluing. This can be a double-sided adhesive film between the carrier film 120 and the solid support. After forming the shaped body 140 or after filling a potting compound 160 can the carrier film 120 and the solid support is removed. The detachment of these constituents can be favored if the adhesive film used is a so-called thermorelease film, which can lose its adhesive effect under the action of temperature. In this connection, a thermorelease film may be used in which a thermorelease process (foaming) occurs at a temperature greater than a temperature present in the molding process. It can thereby be achieved that the thermorelease film does not already have its adhesive effect during the formation of the shaped body 140 loses.

Weitere mögliche Abwandlungen sind in Bezug auf die verwendbaren Halbleiterchips 150 möglich. Es können zum Beispiel Halbleiterchips 150 zum Einsatz kommen, welche zwei Rückseitenkontakte aufweisen. In einer solchen Ausgestaltung können für die Halbleiterchips 150 jeweils zwei Anschlusselemente 131, 132 vorgesehen sein. Hierbei kann jeder Halbleiterchip 150 mit den zwei Rückseitenkontakten auf zwei Anschlusselementen 131, 132 angeordnet und mit diesen verbunden werden.Other possible modifications are with respect to the usable semiconductor chips 150 possible. It can, for example, semiconductor chips 150 come used, which have two backside contacts. In such an embodiment, for the semiconductor chips 150 two connection elements each 131 . 132 be provided. In this case, each semiconductor chip 150 with the two backside contacts on two connectors 131 . 132 be arranged and connected with these.

Ferner können Halbleiterchips 150 mit zwei Vorderseitenkontakten eingesetzt werden. In einer solchen Ausgestaltung können ebenfalls jeweils zwei Anschlusselemente 131, 132 für die Halbleiterchips 150 vorgesehen sein. Hierbei kann jeder Halbleiterchip 150 auf einem Anschlusselement 131 angeordnet, und kann einer der zwei Vorderseitenkontakte über einen Bonddraht 151 an dasselbe Anschlusselement 131 angeschlossen werden. Der andere Vorderseitenkontakt kann über einen weiteren Bonddraht 151 mit einem weiteren Anschlusselement 132 verbunden werden.Furthermore, semiconductor chips 150 to be used with two front side contacts. In such an embodiment, two connection elements can likewise each be used 131 . 132 for the semiconductor chips 150 be provided. In this case, each semiconductor chip 150 on a connection element 131 arranged, and may be one of the two front-side contacts via a bonding wire 151 to the same connection element 131 be connected. The other front contact can be via another bonding wire 151 with another connection element 132 get connected.

Für Halbleiterchips 150 mit zwei Vorderseitenkontakten können auch jeweils drei Anschlusselemente vorgesehen sein. Auf diese Weise kann jeder Halbleiterchips 150 auf einem Anschlusselement angeordnet werden, und können die Vorderseitenkontakte über Bonddrähte 151 mit zwei weiteren Anschlusselementen verbunden werden.For semiconductor chips 150 with two front contacts can also be provided in each case three connection elements. In this way, each semiconductor chip 150 can be arranged on a connection element, and can the front side contacts via bonding wires 151 be connected with two other connection elements.

Das Verfahren bzw. dessen unterschiedliche Ausführungsformen können nicht nur in Bezug auf eine Herstellung optoelektronischer Bauelemente zur Anwendung kommen, sondern lassen sich auch zur Fertigung anderer elektronischer Bauelemente verwenden. Daher können anstelle von optoelektronischen Halbleiterchips andere Halbleiterchips eingesetzt werden.The method or its different embodiments can not only be used in relation to the production of optoelectronic components, but can also be used for the manufacture of other electronic components. Therefore, other semiconductor chips can be used instead of optoelectronic semiconductor chips.

Eine weitere mögliche Abwandlung besteht darin, anstelle von Einzelchip-Bauelementen Multichip-Bauelemente zu fertigen, welche mehrere Halbleiterchips 150 aufweisen. Solche Bauelemente können zum Beispiel jeweils einen aus einem Formkörper 140 hervorgegangenen Gehäusekörper mit mehreren separaten Ausnehmungen 141 aufweisen, in welchen Halbleiterchips 150 auf entsprechenden Anschlusselementen angeordnet sein können.Another possible modification is to manufacture multichip components instead of single-chip components, which comprise a plurality of semiconductor chips 150 exhibit. For example, such components may each comprise one of a shaped body 140 emerged housing body with several separate recesses 141 in which semiconductor chips 150 can be arranged on corresponding connection elements.

Hierfür kann zum Beispiel der in den 10, 18, 27, 35 abgebildete Bauelementverbund durch eine entsprechende Wahl der Trennlinien 190 in Multichip-Bauelemente mit mehreren Ausnehmungen 141, und nicht in die gezeigten Bauelemente 100, vereinzelt werden. Bei solchen Multichip-Bauelementen können die in den Ausnehmungen 141 angeordneten Halbleiterchips 150 separat betrieben werden.For this purpose, for example, in the 10 . 18 . 27 . 35 Pictured component composite by an appropriate choice of the dividing lines 190 in multi-chip components with multiple recesses 141 , and not in the components shown 100 to be isolated. In such multi-chip devices can in the recesses 141 arranged semiconductor chips 150 operated separately.

Möglich ist des Weiteren die Herstellung von Multichip-Bauelementen, welche jeweils einen Gehäusekörper mit einer gemeinsamen Ausnehmung, und mehrere innerhalb der gemeinsamen Ausnehmung angeordnete Halbleiterchips 150 aufweisen. Mehrere Halbleiterchips 150 können auf einzelnen, oder auch auf einem oder mehreren gemeinsamen Anschlusselementen angeordnet sein. Das Verfahren kann hierfür derart durchgeführt werden, dass im Bereich einer Ausnehmung des Formkörpers 140 jeweils eine Mehrzahl an Anschlusselementen vorhanden ist. Auch können mehrere in einer gemeinsamen Ausnehmung des Formkörpers 140 angeordnete Halbleiterchips 150 untereinander elektrisch verbunden werden, zum Beispiel mit Hilfe von Bonddrähten 151.It is furthermore possible to produce multi-chip components, each of which has a housing body with a common recess, and a plurality of semiconductor chips arranged within the common recess 150 exhibit. Several semiconductor chips 150 can be arranged on a single, or even on one or more common connection elements. The method can be carried out for this purpose in such a way that in the region of a recess of the shaped body 140 in each case a plurality of connecting elements is present. Also, several can in a common recess of the molding 140 arranged semiconductor chips 150 electrically connected to each other, for example by means of bonding wires 151 ,

Obwohl die Erfindung im Detail durch bevorzugte Ausführungsbeispiele näher illustriert und beschrieben wurde, so ist die Erfindung nicht durch die offenbarten Beispiele eingeschränkt und andere Variationen können vom Fachmann hieraus abgeleitet werden, ohne den Schutzumfang der Erfindung zu verlassen.While the invention has been further illustrated and described in detail by way of preferred embodiments, the invention is not limited by the disclosed examples, and other variations can be derived therefrom by those skilled in the art without departing from the scope of the invention.

BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS

100100
Bauelement module
110110
Metallfolie metal foil
111111
Schicht, Schichtmaterial Layer, layer material
112112
Schicht layer
115115
Vertiefung deepening
120120
Trägerfolie support film
131, 132131, 132
Anschlussfläche terminal area
140140
Formkörper moldings
141141
Ausnehmung recess
142142
Steg web
145145
Gehäusekörper housing body
147147
Mantelfläche lateral surface
150150
Halbleiterchip Semiconductor chip
151151
Bonddraht bonding wire
160160
Vergussmasse potting compound
190190
Trennlinie parting line
191, 192191, 192
Bereich Area
195195
Vertiefung deepening

Claims (9)

Verfahren zum Herstellen von elektronischen Bauelementen (100), umfassend: Bereitstellen einer Metallfolie (110); Anordnen der Metallfolie (110) auf einem Hilfsträger (120); Strukturieren der auf dem Hilfsträger (120) angeordneten Metallfolie (110) in separate Anschlusselemente (131, 132); Ausbilden eines Formkörpers (140) mit Ausnehmungen (141) auf dem Hilfsträger (120) und den Anschlusselementen (131, 132); Anordnen von Halbleiterchips (150) auf Anschlusselementen (131) in den Ausnehmungen (141) des Formkörpers (140); Entfernen des Hilfsträgers (120); und Durchtrennen des Formkörpers (140) zum Bilden von vereinzelten elektronischen Bauelementen (100).Method for producing electronic components ( 100 ), comprising: providing a metal foil ( 110 ); Arranging the metal foil ( 110 ) on a subcarrier ( 120 ); Structuring the on the subcarrier ( 120 ) arranged metal foil ( 110 ) in separate connection elements ( 131 . 132 ); Forming a shaped body ( 140 ) with recesses ( 141 ) on the subcarrier ( 120 ) and the connection elements ( 131 . 132 ); Arranging semiconductor chips ( 150 ) on connection elements ( 131 ) in the recesses ( 141 ) of the shaped body ( 140 ); Removing the subcarrier ( 120 ); and severing the shaped body ( 140 ) for forming isolated electronic components ( 100 ). Verfahren nach Anspruch 1, wobei die bereitgestellte Metallfolie (110) eine metallische Basisschicht (111) aufweist, welche mit einer metallischen Schicht (112) beschichtet ist.The method of claim 1, wherein the provided metal foil ( 110 ) a metallic base layer ( 111 ), which with a metallic layer ( 112 ) is coated. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Anschlusselemente (131, 132) nach dem Ausbilden des Formkörpers (140) und vor dem Anordnen von Halbleiterchips (150) mit einer metallischen Schicht (112) beschichtet werden. Method according to one of the preceding claims, wherein the connecting elements ( 131 . 132 ) after forming the shaped body ( 140 ) and before arranging semiconductor chips ( 150 ) with a metallic layer ( 112 ) are coated. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der Hilfsträger (120) eine Trägerfolie ist.Method according to one of the preceding claims, wherein the subcarrier ( 120 ) is a carrier film. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei das Strukturieren der Metallfolie (110) in die separaten Anschlusselemente (131, 132) mit Hilfe eines Ätzprozesses durchgeführt wird.Method according to one of the preceding claims, wherein the structuring of the metal foil ( 110 ) in the separate connection elements ( 131 . 132 ) is performed by means of an etching process. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, weiter umfassend Einbringen einer Vergussmasse (160) in die Ausnehmungen (141) des Formkörpers (140).Method according to one of the preceding claims, further comprising introducing a potting compound ( 160 ) into the recesses ( 141 ) of the shaped body ( 140 ). Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, weiter umfassend Ausbilden von Vertiefungen (195) in der Metallfolie (110) vor dem Anordnen der Metallfolie (110) auf dem Hilfsträger (120), wobei die Vertiefungen (195) an einer ersten Seite der Metallfolie (110) ausgebildet werden, und wobei bei dem Strukturieren der Metallfolie (110) in die separaten Anschlusselemente (131, 132) Material der Metallfolie (110) ausgehend von einer zu der ersten Seite entgegen gesetzten zweiten Seite der Metallfolie (110) im Bereich der Vertiefungen (195) entfernt wird, so dass die Anschlusselemente (131, 132) am Rand eine Verankerungsstruktur zur Verankerung des Formkörpers (140) aufweisen.Method according to one of the preceding claims, further comprising forming depressions ( 195 ) in the metal foil ( 110 ) before placing the metal foil ( 110 ) on the subcarrier ( 120 ), the depressions ( 195 ) on a first side of the metal foil ( 110 ), and wherein in structuring the metal foil ( 110 ) in the separate connection elements ( 131 . 132 ) Material of the metal foil ( 110 ) starting from a second side of the metal foil opposite the first side ( 110 ) in the area of the depressions ( 195 ) is removed, so that the connection elements ( 131 . 132 ) at the edge of an anchoring structure for anchoring the shaped body ( 140 ) exhibit. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die elektronischen Bauelemente (100) optoelektronische Bauelemente sind, und wobei optoelektronische Halbleiterchips (150) auf Anschlusselementen (131) in den Ausnehmungen (141) des Formkörpers (140) angeordnet werden.Method according to one of the preceding claims, wherein the electronic components ( 100 ) are optoelectronic components, and wherein optoelectronic semiconductor chips ( 150 ) on connection elements ( 131 ) in the recesses ( 141 ) of the shaped body ( 140 ) to be ordered. Elektronisches Bauelement (100), hergestellt durch Durchführen eines Verfahrens nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei das elektronische Bauelement (100) einen durch das Durchtrennen aus dem Formkörper (140) hervorgegangenen Gehäusekörper (145) aufweist, und wobei das elektronische Bauelement (100) eine umlaufende Mantelfläche (147) aufweist, welche ausschließlich durch den Gehäusekörper (145) gebildet ist. Electronic component ( 100 ) produced by carrying out a method according to one of the preceding claims, wherein the electronic component ( 100 ) one by the severing from the shaped body ( 140 ) emerged housing body ( 145 ), and wherein the electronic component ( 100 ) a circumferential lateral surface ( 147 ), which exclusively through the housing body ( 145 ) is formed.
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102016112293A1 (en) * 2016-07-05 2018-01-11 Osram Opto Semiconductors Gmbh METHOD FOR PRODUCING AN OPTOELECTRONIC COMPONENT AND OPTOELECTRONIC COMPONENT
DE102017105017A1 (en) 2017-03-09 2018-09-13 Osram Opto Semiconductors Gmbh PREPARATION OF RADIATION-EMITTING COMPONENTS
DE102017128457A1 (en) * 2017-11-30 2019-06-06 Osram Opto Semiconductors Gmbh MANUFACTURE OF OPTOELECTRONIC COMPONENTS
EP3675142A4 (en) * 2017-09-04 2021-04-07 Suncall Corporation Method for manufacturing bus bar assembly
EP3675141A4 (en) * 2017-09-08 2021-04-07 Suncall Corporation Bus bar assembly
WO2024000267A1 (en) * 2022-06-29 2024-01-04 Ams-Osram International Gmbh Method for producing at least one optoelectronic device and optoelectronic device

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102019220215A1 (en) * 2019-12-19 2021-06-24 OSRAM Opto Semiconductors Gesellschaft mit beschränkter Haftung Method of manufacturing semiconductor components and semiconductor components

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102008024704A1 (en) * 2008-04-17 2009-10-29 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optoelectronic component and method for producing an optoelectronic component
US20120138967A1 (en) * 2010-12-07 2012-06-07 Kabushiki Kaisha Toshiba Led package and method for manufacturing the same
DE102011056700A1 (en) * 2011-12-20 2013-06-20 Osram Opto Semiconductors Gmbh Process for the production of optoelectronic semiconductor components, lead frame composite and optoelectronic semiconductor component
US20130343067A1 (en) * 2011-02-28 2013-12-26 Nichia Corporation Light emitting device
DE102012109905A1 (en) * 2012-10-17 2014-04-17 Osram Opto Semiconductors Gmbh Method for producing a multiplicity of optoelectronic semiconductor components
DE102013100711A1 (en) * 2013-01-24 2014-07-24 Osram Opto Semiconductors Gmbh Method for producing a multiplicity of optoelectronic components and optoelectronic component

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100817030B1 (en) * 2006-12-01 2008-03-26 주식회사 케이이씨 Semiconductor package and fabricating method thereof
KR101867106B1 (en) * 2010-03-30 2018-06-12 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 Resin-attached leadframe for led, semiconductor device, method for manufacturing semiconductor device and method for manufacturing resin-attached leadframe for led
CN102820384B (en) * 2011-06-08 2015-10-07 展晶科技(深圳)有限公司 The manufacture method of package structure for LED
CN102881779A (en) * 2011-07-15 2013-01-16 展晶科技(深圳)有限公司 Method for manufacturing light emitting diode packaging structure
TW201431128A (en) * 2013-01-29 2014-08-01 Delta Electronics Inc Light-emitting element and manufacturing method thereof

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102008024704A1 (en) * 2008-04-17 2009-10-29 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optoelectronic component and method for producing an optoelectronic component
US20120138967A1 (en) * 2010-12-07 2012-06-07 Kabushiki Kaisha Toshiba Led package and method for manufacturing the same
US20130343067A1 (en) * 2011-02-28 2013-12-26 Nichia Corporation Light emitting device
DE102011056700A1 (en) * 2011-12-20 2013-06-20 Osram Opto Semiconductors Gmbh Process for the production of optoelectronic semiconductor components, lead frame composite and optoelectronic semiconductor component
DE102012109905A1 (en) * 2012-10-17 2014-04-17 Osram Opto Semiconductors Gmbh Method for producing a multiplicity of optoelectronic semiconductor components
DE102013100711A1 (en) * 2013-01-24 2014-07-24 Osram Opto Semiconductors Gmbh Method for producing a multiplicity of optoelectronic components and optoelectronic component

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102016112293A1 (en) * 2016-07-05 2018-01-11 Osram Opto Semiconductors Gmbh METHOD FOR PRODUCING AN OPTOELECTRONIC COMPONENT AND OPTOELECTRONIC COMPONENT
DE102017105017A1 (en) 2017-03-09 2018-09-13 Osram Opto Semiconductors Gmbh PREPARATION OF RADIATION-EMITTING COMPONENTS
US10608146B2 (en) 2017-03-09 2020-03-31 Osram Oled Gmbh Production of radiation-emitting components
EP3675142A4 (en) * 2017-09-04 2021-04-07 Suncall Corporation Method for manufacturing bus bar assembly
EP3675141A4 (en) * 2017-09-08 2021-04-07 Suncall Corporation Bus bar assembly
CN114334233A (en) * 2017-09-08 2022-04-12 新确有限公司 Bus bar assembly
CN114334233B (en) * 2017-09-08 2024-06-11 新确有限公司 Bus assembly
DE102017128457A1 (en) * 2017-11-30 2019-06-06 Osram Opto Semiconductors Gmbh MANUFACTURE OF OPTOELECTRONIC COMPONENTS
US11784062B2 (en) 2017-11-30 2023-10-10 Osram Oled Gmbh Production of optoelectronic components
WO2024000267A1 (en) * 2022-06-29 2024-01-04 Ams-Osram International Gmbh Method for producing at least one optoelectronic device and optoelectronic device

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Publication number Publication date
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