WO2015075838A1 - レーザ装置、及びレーザ装置にチャンバを増設する方法 - Google Patents

レーザ装置、及びレーザ装置にチャンバを増設する方法 Download PDF

Info

Publication number
WO2015075838A1
WO2015075838A1 PCT/JP2013/081642 JP2013081642W WO2015075838A1 WO 2015075838 A1 WO2015075838 A1 WO 2015075838A1 JP 2013081642 W JP2013081642 W JP 2013081642W WO 2015075838 A1 WO2015075838 A1 WO 2015075838A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
optical system
chamber
frame
amplifier
power supply
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
PCT/JP2013/081642
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
川筋　康文
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Gigaphoton Inc
Original Assignee
Gigaphoton Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Gigaphoton Inc filed Critical Gigaphoton Inc
Priority to PCT/JP2013/081642 priority Critical patent/WO2015075838A1/ja
Priority to JP2015548955A priority patent/JP6283036B2/ja
Publication of WO2015075838A1 publication Critical patent/WO2015075838A1/ja
Priority to US15/146,259 priority patent/US10250007B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Ceased legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02—Constructional details
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/23—Arrangements of two or more lasers not provided for in groups H01S3/02 - H01S3/22, e.g. tandem arrangements of separate active media
    • H01S3/2308—Amplifier arrangements, e.g. MOPA
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05G—X-RAY TECHNIQUE
    • H05G2/00—Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
    • H05G2/001—Production of X-ray radiation generated from plasma
    • H05G2/008—Production of X-ray radiation generated from plasma involving an energy-carrying beam in the process of plasma generation
    • H05G2/0082—Production of X-ray radiation generated from plasma involving an energy-carrying beam in the process of plasma generation the energy-carrying beam being a laser beam
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/005—Optical devices external to the laser cavity, specially adapted for lasers, e.g. for homogenisation of the beam or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/005—Optical devices external to the laser cavity, specially adapted for lasers, e.g. for homogenisation of the beam or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
    • H01S3/0071—Beam steering, e.g. whereby a mirror outside the cavity is present to change the beam direction

Definitions

  • the present disclosure relates to a laser device and a method of adding a chamber to the laser device.
  • an extreme ultraviolet (EUV) light generation device that generates extreme ultraviolet (EUV) light with a wavelength of about 13 nm and a reduced projection reflection optical system (Reduced Projection Reflective Optics) are provided to meet the demand for fine processing of 32 nm or less.
  • EUV extreme ultraviolet
  • Reduced Projection Reflective Optics Reduced Projection Reflective Optics
  • an LPP Laser Produced Plasma
  • DPP laser-excited plasma
  • SR Synchrotron Radiation
  • a laser apparatus includes a frame, a first amplifier positioned on the frame, and a first incident optical system positioned on the frame, and a pulse laser beam generated by an external device.
  • the first incident optical system that is incident on the first amplifier and the first emission optical system that is positioned on the frame, and the pulse laser beam emitted from the first amplifier in the first direction is different from the first direction.
  • a first emission optical system that emits light in the second direction.
  • a laser apparatus includes a first chamber configured to pass a pulse laser beam generated by an external device and emit the pulse laser beam in a first direction, and a pulse laser emitted from the first chamber
  • a third chamber configured to pass light and emit in the first direction, and a first optical configured to emit pulse laser light emitted from the third chamber in a second direction different from the first direction
  • a second optical system configured to emit a pulse laser beam emitted from the system and the first optical system in a third direction substantially opposite to the first direction and different from the second direction
  • a fourth chamber configured to pass the pulse laser beam emitted from the two optical system and emit it in the third direction; and a pulse chamber emitted from the fourth chamber to emit the laser beam in the third direction.
  • a second chamber has, may be provided.
  • a method is a method of adding a third chamber and a fourth chamber to a laser device including a first chamber and a second chamber, (A1) a first chamber that allows pulsed laser light generated by an external device to pass through and is emitted in the first direction; and (A2) emits pulsed laser light emitted from the first chamber in a second direction that is different from the first direction. And (A3) a second optical system that emits the pulse laser beam emitted from the first optical system in a third direction that is substantially opposite to the first direction and different from the second direction. (A4) The first optical system in the laser apparatus comprising: a second chamber that passes the pulsed laser beam emitted from the second optical system and emits the pulsed laser beam in the third direction.
  • a laser apparatus includes an amplifier having a plurality of first electrical connection terminals, a power supply apparatus having a plurality of second electrical connection terminals and supplying power to the amplifier, and an amplifier A positioning mechanism for positioning the amplifier and the power supply apparatus such that the amplifier is disposed at a first position of the frame and the power supply apparatus is disposed at a second position of the frame. And a plurality of third electrical connection terminals disposed so as to be in contact with the plurality of first electrical connection terminals respectively when the amplifier is disposed at the first position, and the power supply device at the second position.
  • a laser apparatus includes an amplifier having a plurality of first electrical connection terminals, a power supply apparatus having a plurality of second electrical connection terminals and supplying power to the amplifier, and an amplifier A positioning mechanism for positioning the amplifier and the power supply apparatus such that the amplifier is disposed at a first position of the frame and the power supply apparatus is disposed at a second position of the frame. And a connection member attached to the amplifier and the power supply apparatus when the amplifier is disposed at the first position and the power supply apparatus is disposed at the second position, the connection member being an amplifier And a plurality of third electrical connection terminals that respectively contact the plurality of first electrical connection terminals when attached to the power supply device, and the connection member is attached to the amplifier and the power supply device.
  • a plurality of fourth electrical connection terminals that are in contact with the plurality of second electrical connection terminals respectively, and a plurality of third electrical connection terminals and a plurality of fourth electrical connection terminals that are electrically connected to each other. And a plurality of conductive members that are connected to each other.
  • FIG. 1 schematically shows the configuration of an exemplary LPP type EUV light generation system.
  • FIG. 2 is a side view of the EUV light generation system according to the first embodiment.
  • FIG. 3 is a plan view of the laser apparatus shown in FIG. 4A is an enlarged plan view of the fixing mechanism shown in FIG.
  • FIG. 4B is an internal perspective view of FIG. 4A and shows a cross section of a part of the frame and the fixing mechanism.
  • FIG. 5 is a plan view showing a specific example of the incident optical system and the outgoing optical system in the laser apparatus shown in FIG. 6A and 6B are plan views showing an example of an additional amplifier in the laser apparatus shown in FIG.
  • FIG. 1 schematically shows the configuration of an exemplary LPP type EUV light generation system.
  • FIG. 2 is a side view of the EUV light generation system according to the first embodiment.
  • FIG. 3 is a plan view of the laser apparatus shown in FIG. 4A is an enlarged plan view of the fixing mechanism shown in FIG.
  • FIG. 7A is a side view of the laser apparatus according to the first example of the second embodiment.
  • FIG. 7B is a front view of the laser apparatus shown in FIG. 7A.
  • FIG. 8A is a side view of a laser device according to a second example of the second embodiment.
  • FIG. 8B is a front view of the laser apparatus shown in FIG. 8A.
  • FIG. 9A is a plan view of a laser apparatus according to a third example of the second embodiment.
  • FIG. 9C is a side view of the laser apparatus according to the third example of the second embodiment.
  • 9B and 9D are front views of the laser apparatus shown in FIG. 9C.
  • 10A and 10B are front views of a laser apparatus according to a fourth example of the second embodiment.
  • 11A to 11D are front views of a laser apparatus according to a fifth example of the second embodiment.
  • 12A and 12B are front views of a laser apparatus according to a sixth example of the second embodiment.
  • 13A and 13B each show an example of a plurality of electrical connection terminals.
  • a target supply unit may output a target to reach a plasma generation region.
  • the laser device irradiates the target with pulsed laser light, whereby the target becomes plasma, and EUV light can be emitted from this plasma.
  • the laser device may include (A1) a first amplifier that allows the pulse laser beam output from the external device in the first direction to pass through and is emitted in the first direction. Further, the laser device may include (A2) a first optical system that emits the pulsed laser light emitted from the first chamber in a second direction different from the first direction. The laser device may further include (A3) a second optical system that emits the pulsed laser light emitted from the first optical system in a third direction that is substantially opposite to the first direction. In addition, the laser device may include (A4) a second amplifier that allows the pulsed laser light emitted from the second optical system to pass through and be emitted in the third direction.
  • the first optical system in the laser device is an optical system that emits the pulsed laser light emitted from the first chamber in the first direction.
  • the first optical system may be changed.
  • a third amplifier for passing the pulse laser beam emitted from the first optical system and emitting it in the first direction may be added to this laser device.
  • a third optical system that emits pulsed laser light emitted from the third chamber in the second direction may be added to the laser device.
  • a fourth optical system that emits pulsed laser light emitted from the third optical system in the third direction may be added to the laser device.
  • a fourth amplifier that allows the pulse laser beam emitted from the fourth optical system to pass through and emit in the third direction may be added to the laser device.
  • a laser device includes an amplifier having a plurality of first electrical connection terminals, a power supply device having a plurality of second electrical connection terminals and supplying power to the amplifier, and an amplifier And a frame on which the power supply device is arranged.
  • the frame may include a positioning mechanism that positions the amplifier and the power supply device such that the amplifier is disposed at the first position of the frame and the power supply device is disposed at the second position of the frame.
  • the frame may have a plurality of third electrical connection terminals arranged so as to come into contact with the plurality of first electrical connection terminals, respectively, when the amplifier is arranged at the first position.
  • the frame may include a plurality of fourth electrical connection terminals disposed so as to come into contact with the plurality of second electrical connection terminals, respectively, when the power supply device is disposed at the second position.
  • the frame may have a plurality of conductive members that electrically connect the plurality of third electrical connection terminals and the plurality of fourth electrical connection terminals, respectively.
  • the amplifier when the amplifier is disposed at the first position of the frame and the power supply device is disposed at the second position of the frame, the amplifier can be electrically connected to the power supply device.
  • electrical connection becomes possible simply by placing the amplifier and the power supply device on the frame, and the difficulty in moving and aligning the large and heavy amplifier and power supply device can be reduced.
  • FIG. 1 schematically shows a configuration of an exemplary LPP type EUV light generation system.
  • the EUV light generation apparatus 1 may be used together with at least one laser apparatus 3.
  • a system including the EUV light generation apparatus 1 and the laser apparatus 3 is referred to as an EUV light generation system 11.
  • the EUV light generation apparatus 1 may include an EUV chamber 2 and a target supply unit 26.
  • the EUV chamber 2 may be sealable.
  • the target supply unit 26 may be attached so as to penetrate the wall of the EUV chamber 2, for example.
  • the material of the target substance supplied from the target supply unit 26 may include, but is not limited to, tin, terbium, gadolinium, lithium, xenon, or a combination of any two or more thereof.
  • the wall of the EUV chamber 2 may be provided with at least one through hole.
  • a window 21 may be provided in the through hole, and the pulse laser beam 32 output from the laser device 3 may pass through the window 21.
  • an EUV collector mirror 23 having a spheroidal reflecting surface may be disposed inside the EUV chamber 2.
  • the EUV collector mirror 23 may have first and second focal points.
  • On the surface of the EUV collector mirror 23, for example, a multilayer reflective film in which molybdenum and silicon are alternately laminated may be formed.
  • the EUV collector mirror 23 is preferably arranged such that, for example, the first focal point thereof is located in the plasma generation region 25 and the second focal point thereof is located at the intermediate focal point (IF) 292.
  • a through hole 24 may be provided at the center of the EUV collector mirror 23, and the pulse laser beam 33 may pass through the through hole 24.
  • the EUV light generation apparatus 1 may include an EUV light generation control unit 5, a target sensor 4, and the like.
  • the target sensor 4 may have an imaging function and may be configured to detect the presence, trajectory, position, speed, and the like of the target 27.
  • the EUV light generation apparatus 1 may include a connection unit 29 that allows the inside of the EUV chamber 2 and the inside of the exposure apparatus 6 to communicate with each other.
  • a wall 291 in which an aperture is formed may be provided inside the connection portion 29. The wall 291 may be arranged such that its aperture is located at the second focal position of the EUV collector mirror 23.
  • the EUV light generation apparatus 1 may include a laser beam traveling direction control unit 34, a laser beam focusing mirror 22, a target recovery unit 28 for recovering the target 27, and the like.
  • the laser beam traveling direction control unit 34 may include an optical element for defining the traveling direction of the laser beam and an actuator for adjusting the position, posture, and the like of the optical element.
  • the pulse laser beam 31 output from the laser device 3 passes through the window 21 as the pulse laser beam 32 through the laser beam traveling direction control unit 34 and enters the EUV chamber 2. May be.
  • the pulsed laser light 32 may travel through the EUV chamber 2 along at least one laser light path, be reflected by the laser light collecting mirror 22, and be irradiated to at least one target 27 as pulsed laser light 33.
  • the target supply unit 26 may be configured to output the target 27 toward the plasma generation region 25 inside the EUV chamber 2.
  • the target 27 may be irradiated with at least one pulse included in the pulse laser beam 33.
  • the target 27 irradiated with the pulsed laser light is turned into plasma, and radiation light 251 can be emitted from the plasma.
  • the EUV collector mirror 23 may reflect the EUV light included in the emitted light 251 with a higher reflectance than light in other wavelength ranges.
  • the reflected light 252 including the EUV light reflected by the EUV collector mirror 23 may be condensed at the intermediate condensing point 292 and output to the exposure apparatus 6.
  • a single target 27 may be irradiated with a plurality of pulses included in the pulse laser beam 33.
  • the EUV light generation controller 5 may be configured to control the entire EUV light generation system 11.
  • the EUV light generation controller 5 may be configured to process image data of the target 27 imaged by the target sensor 4.
  • the EUV light generation control unit 5 may be configured to control at least one of, for example, control of the timing for outputting the target 27 and control of the output direction of the target 27.
  • the EUV light generation control unit 5 controls at least one of, for example, control of the oscillation timing of the laser device 3, control of the traveling direction of the pulse laser light 32, and control of the focusing position of the pulse laser light 33. It may be configured.
  • the various controls described above are merely examples, and other controls may be added as necessary.
  • FIG. 2 is a side view of the EUV light generation system 11 according to the first embodiment. In FIG. 2, some components are shown in cross section.
  • FIG. 3 is a plan view of the laser apparatus 3 shown in FIG. In FIG. 3, the illustration of the power supply device is omitted, and a chamber, an incident optical system, an output optical system, and the like provided below the power supply device are shown.
  • the Z direction may be a direction parallel to the gravity direction.
  • the Y direction may be a first direction in which pulsed laser light is emitted from the oscillator OSC toward the first incident optical system IS1 in the laser device 3.
  • the X direction may be a second direction in which pulsed laser light is emitted from the third emission optical system OS3a toward the fourth incident optical system IS4a in the laser device 3.
  • the ⁇ Y direction which is substantially opposite to the first direction, may be a third direction in which pulsed laser light is emitted from the fourth incident optical system IS4a toward the fourth chamber C4 in the laser device 3.
  • the Z direction, the Y direction, and the X direction may be orthogonal to each other.
  • the exposure apparatus 6 and the EUV chamber 2 may be located on the second floor including the clean room. At least a part of the laser beam traveling direction control unit 34 and the laser device 3 may be located on the first floor below the second floor.
  • the laser apparatus 3 may include an oscillator OSC, a first chamber C1, a second chamber C2, a third chamber C3, and a fourth chamber C4.
  • An incident optical system and an output optical system may be disposed on both sides in the Y-axis direction of each of the first to fourth chambers C1 to C4.
  • Each incident optical system may be configured to cause the pulse laser beam to enter the chamber.
  • Each emission optical system may be configured to emit pulsed laser light emitted from the chamber in a predetermined direction.
  • the oscillator OSC may output pulsed laser light in the Y direction.
  • the pulse laser beam is approximately in the order of the first incident optical system IS1, the first chamber C1, the first output optical system OS1, the third input optical system IS3, the third chamber C3, and the third output optical system OS3a. You may proceed in the Y direction.
  • the third emission optical system OS3a may emit the pulse laser beam emitted from the third chamber C3 in the X direction.
  • the fourth incident optical system IS4a may emit the pulse laser beam emitted from the third emission optical system OS3a in the -Y direction.
  • the pulse laser beam is approximately in the order of the fourth incident optical system IS4a, the fourth chamber C4, the fourth emission optical system OS4, the second incident optical system IS2, the second chamber C2, and the second emission optical system OS2. You may proceed in the -Y direction.
  • Each chamber may constitute an amplifier having an amplification region, and each pulse laser beam may be amplified when passing the pulse laser beam.
  • An example of an amplifier may be a triaxial orthogonal amplifier.
  • the three-axis orthogonal amplifier may mean an amplifier in which the direction in which the laser gas serving as the amplification medium flows, the discharge direction for exciting the laser gas, and the extraction direction of the amplified pulsed laser light are substantially orthogonal.
  • the second emission optical system OS2 may emit the pulse laser beam toward the laser beam traveling direction control unit 34 in the ⁇ Y direction.
  • the laser beam traveling direction control unit 34 may cause the pulsed laser beam to enter the EUV chamber 2 provided on the second floor.
  • At least a part of the laser beam traveling direction control unit 34 and the oscillator OSC may be positioned on the frame F0.
  • the oscillator OSC may be configured to be movable with respect to the frame F0 by the moving mechanism R0a and the moving mechanism R0b (see FIG. 3).
  • the take-out direction for maintaining the oscillator OSC is indicated by an arrow X1 in FIG.
  • At least a part of the laser beam traveling direction control unit 34 may be configured to be movable with respect to the frame F0 by the moving mechanism R0c and the moving mechanism R0d.
  • An extraction direction for maintaining at least a part of the laser beam traveling direction control unit 34 is indicated by an arrow X2 in FIG.
  • the first chamber C1, the first incident optical system IS1, and the first emission optical system OS1 may be positioned on the frame F11.
  • the first chamber C1 may be configured to be movable with respect to the frame F11 by the moving mechanism R1a and the moving mechanism R1b.
  • the take-out direction for maintaining the first chamber C1 is indicated by an arrow X3 in FIG.
  • the second chamber C2, the second incident optical system IS2, and the second emission optical system OS2 may be positioned on the frame F12.
  • the second chamber C2 may be configured to be movable with respect to the frame F12 by the moving mechanism R2a and the moving mechanism R2b.
  • the take-out direction for maintaining the second chamber C2 is indicated by an arrow X4 in FIG.
  • the third chamber C3, the third incident optical system IS3, and the third emission optical system OS3a may be positioned on the frame F23.
  • the third chamber C3 may be configured to be movable with respect to the frame F23 by the moving mechanism R3a and the moving mechanism R3b.
  • the take-out direction for maintaining the third chamber C3 is indicated by an arrow X5 in FIG.
  • the fourth chamber C4, the fourth incident optical system IS4a, and the fourth emission optical system OS4 may be positioned on the frame F24.
  • the fourth chamber C4 may be configured to be movable with respect to the frame F24 by the moving mechanism R4a and the moving mechanism R4b.
  • the take-out direction for maintaining the fourth chamber C4 is indicated by an arrow X6 in FIG.
  • a power supply device may be disposed above each of the first to fourth chambers C1 to C4.
  • FIG. 2 shows a state in which the power supply device PS2 that supplies power to the second chamber C2 is positioned in the frame F12, and the power supply device PS4 that supplies power to the fourth chamber C4 is positioned in the frame F24.
  • the power supply device PS2 may be configured to be movable with respect to the frame F12 by the moving mechanism R2c and the moving mechanism R2d.
  • the power supply device PS4 may be configured to be movable with respect to the frame F24 by the moving mechanism R4c and the moving mechanism R4d.
  • a power supply device (not shown) for supplying power to the first chamber C1 and a power supply device (not shown) for supplying power to the third chamber C3 may be similarly arranged.
  • the frame F11 for positioning the first chamber C1 and the frame F12 for positioning the second chamber C2 may be configured to be separable. However, the frame F11 and the frame F12 may be fixed to each other by the fixing mechanism M11a and the fixing mechanism M11b. In the present disclosure, the frame F11 and the frame F12 that are fixed to each other are collectively referred to as a first frame.
  • the frame F23 for positioning the third chamber C3 and the frame F24 for positioning the fourth chamber C4 may be configured to be separable. However, the frame F23 and the frame F24 may be fixed to each other by the fixing mechanism M22a and the fixing mechanism M22b. In the present disclosure, the frame F23 and the frame F24 fixed to each other are collectively referred to as a second frame.
  • the frame F0 for positioning at least a part of the laser beam traveling direction control unit 34 and the oscillator OSC, and the first frame including the frame F11 and the frame F12 may be configured to be separable. However, the frame F0 and the first frame may be fixed to each other by the fixing mechanism M01a and the fixing mechanism M01b.
  • the first frame combining the frame F11 and the frame F12 and the second frame combining the frame F23 and the frame F24 may be configured to be separable. However, the first frame and the second frame may be fixed to each other by the fixing mechanism M12a and the fixing mechanism M12b.
  • a plurality of small dampers SD01, SD02, and SD03 may be attached to the bottom surface of the frame F0.
  • a plurality of small dampers SD11, SD12, and SD13 may be attached to the bottom surface of the first frame that combines the frame F11 and the frame F12.
  • a plurality of small dampers SD21, SD22, and SD23 may be attached to the bottom surface of the second frame that combines the frame F23 and the frame F24.
  • dampers BD1, BD2, and BD3 may be attached. These dampers may have a function of elastically supporting the frame and absorbing vibration generated in the laser device 3. These dampers may be constituted by an air suspension device.
  • FIG. 4A is an enlarged plan view of the fixing mechanism M12b shown in FIG. 4B is an internal perspective view of FIG. 4A and shows a cross section of a part of the frames F12 and F24 and the fixing mechanism M12b.
  • the frames F12 and F24 may include a square columnar pipe.
  • the fixing mechanism M12b may include a bolt 35, a nut 36, and a washer 37.
  • the bolt 35 may penetrate through a through hole formed in the joint surface of the frames F12 and F24 from the inside of the frame F12 to the inside of the frame F24.
  • the bolt 35 may pass through the washer 37 inside the frame F12 and may be screwed into the nut 36 inside the frame F24.
  • the fixing mechanism M12b not only the fixing mechanism M12b but the other fixing mechanisms M01a, M01b, M11a, M11b, M12a, M22a, and M22b may be the same. These fixing mechanisms can be arranged not only at the locations shown in FIG. 3 but also at other locations to fix the frames together.
  • FIG. 5 is a plan view showing a specific example of the incident optical system and the outgoing optical system in the laser apparatus 3 shown in FIG.
  • the first emission optical system OS1 may include a beam splitter 43, an optical sensor 44, and a high reflection mirror 45.
  • the beam splitter 43 may reflect a part of the pulsed laser light emitted from the first chamber C1 with a high reflectivity and transmit the remaining part.
  • the high reflection mirror 45 may emit the pulse laser beam reflected by the beam splitter 43 with a high reflectance from the first emission optical system OS1 by reflecting the pulse laser light with a high reflectance.
  • the traveling direction of the pulsed laser light reflected and emitted by the high reflection mirror 45 may be parallel to the traveling direction of the pulsed laser light emitted from the first chamber C1.
  • the traveling direction of the pulse laser light may be the Y direction.
  • the optical sensor 44 may detect a part of the pulse laser beam that has passed through the beam splitter 43.
  • the optical sensor 44 may detect the energy of pulsed laser light, for example.
  • the optical sensor 44 may detect the position and direction of the pulsed laser beam or the wavefront of the pulsed laser beam in addition to or instead of detecting the energy.
  • the optical sensor 44 may output the detection result to the control unit 51.
  • the control unit 51 may be included in the EUV light generation control unit 5.
  • the first incident optical system IS1 may constitute a beam adjuster including a first adjustment mirror 41 and a second adjustment mirror 42.
  • the first adjustment mirror 41 may reflect the pulsed laser light output from an external device such as the oscillator OSC with a high reflectance.
  • the second adjusting mirror 42 may cause the pulsed laser light reflected by the first adjusting mirror 41 to be reflected at a high reflectance so as to be incident from the first incident optical system IS1 into the first chamber C1.
  • the traveling direction of the pulsed laser light reflected by the second adjusting mirror 42 and entering the first chamber C1 may be substantially parallel to the traveling direction of the pulsed laser light output from the external device.
  • the traveling direction of the pulse laser light may be the Y direction.
  • Each of the first adjustment mirror 41 and the second adjustment mirror 42 may be provided with an actuator. By controlling these actuators by the control unit 51, the pulse laser light reflected by the respective mirrors may be adjusted.
  • the first adjustment mirror 41 and the second adjustment mirror 42 may adjust the optical path of the pulse laser beam.
  • the first adjustment mirror 41 and the second adjustment mirror 42 may adjust the wavefront of the pulsed laser light in addition to or instead of adjusting the optical path of the pulsed laser light.
  • the control unit 51 may control the actuators of the first adjustment mirror 41 and the second adjustment mirror 42 based on the detection result output from the optical sensor 44.
  • the second and fourth emission optical systems OS2 and OS4 may have the same configuration as that of the first emission optical system OS1 except that the second emission optical system OS2 and OS4 are arranged opposite to the first emission optical system OS1 in the Y direction. Good.
  • the third output optical system OS3a may include a beam splitter 43, an optical sensor 44, and a high reflection mirror 45, similarly to the first output optical system OS1.
  • the third emission optical system OS3a may further include a high reflection mirror 46.
  • the high reflection mirror 46 may emit the pulse laser beam reflected in the Y direction by the high reflection mirror 45 from the third emission optical system OS3a by reflecting the pulse laser light in the X direction.
  • a fourth incident optical system IS4a may be disposed in the optical path of the pulse laser beam emitted from the third emission optical system OS3a.
  • the high reflection mirror 46 may be arranged in a separate housing from the beam splitter 43, the optical sensor 44, and the high reflection mirror 45.
  • the second and third incident optical systems IS2 and IS3 are the same as the first incident optical system IS1 except that the second incident optical system IS2 is disposed opposite to the first incident optical system IS1 in the Y direction. You may have the same structure.
  • the fourth incident optical system IS4a may include a first adjustment mirror 41 and a second adjustment mirror 42, similarly to the first incident optical system IS1.
  • the fourth incident optical system IS4a may further include a high reflection mirror 40.
  • the high reflection mirror 40 causes the pulse laser beam reflected in the X direction by the high reflection mirror 46 of the third emission optical system OS3a to be incident on the first adjustment mirror 41 by reflecting in the -Y direction. Also good.
  • the fourth incident optical system IS4a may cause the pulse laser beam to enter the fourth chamber C4 in the ⁇ Y direction.
  • the high reflection mirror 40 may be arranged in a separate housing from the first adjustment mirror 41 and the second adjustment mirror 42.
  • the third emission optical system OS3a may have substantially the same configuration as the first, second, and fourth emission optical systems OS1, OS2, and OS4 except that the third reflection optical system OS3a includes the high reflection mirror 46. Good.
  • the third emission optical system OS3a may function as the first optical system in the present disclosure.
  • the housing that houses the first emission optical system OS1 may have the same shape as the housing that houses the third emission optical system OS3a. That is, the housing for housing the first output optical system OS1 may be provided with the mirror fixing mechanism 46a at a position corresponding to the position of the high reflection mirror 46 of the third output optical system OS3a. The same may be applied to the housings for housing the second and fourth emission optical systems OS2 and OS4.
  • the fourth incident optical system IS4a may have substantially the same configuration as the first, second, and third incident optical systems IS1, IS2, and IS3 except that the fourth incident optical system IS4a includes the high reflection mirror 40.
  • the fourth incident optical system IS4a may function as the second optical system in the present disclosure.
  • the housing that houses the second incident optical system IS2 may have the same shape as the housing that houses the fourth incident optical system IS4a. That is, the housing for housing the second incident optical system IS2 may be provided with the mirror fixing mechanism 40a at a position corresponding to the position of the high reflection mirror 40 of the fourth incident optical system IS4a.
  • the case for housing the first and third incident optical systems IS1 and IS3 may be the same.
  • control units 52, 53, and 54 may be the same as the configuration and function of the control unit 51.
  • FIGS. 6A and 6B are plan views showing an example of adding amplifiers in the laser apparatus 3 shown in FIG.
  • FIG. 6B shows a laser device 3a in which two amplifiers are added to the laser device 3 shown in FIG. 6A.
  • the configurations of the frames F0, F11, F12, F23, and F24 may be the same between the laser device 3 shown in FIG. 6A and the laser device 3a shown in FIG. 6B.
  • the configuration and arrangement of the oscillator OSC and the laser beam traveling direction control unit 34 may be the same.
  • the configuration and arrangement of the first to fourth chambers C1 to C4 may be the same.
  • the configuration and arrangement of the first, second, and fourth emission optical systems OS1, OS2, and OS4 may be the same.
  • the configuration and arrangement of the first, second, and third incident optical systems IS1, IS2, and IS3 may be the same.
  • the third emission optical system OS3a shown in FIG. 6A may be changed to the third emission optical system OS3 that does not have the high reflection mirror 46 (see FIG. 5) in FIG. 6B. That is, the third emission optical system OS3 in FIG. 6B may have the same configuration as the first, second, and fourth emission optical systems OS1, OS2, and OS4. Alternatively, in the third emission optical system OS3 in FIG. 6B, the high reflection mirror 46 of the third emission optical system OS3a in FIG. 6A is outside the optical path of the pulsed laser light between the third chamber C3 and the fourth chamber C4. It may be moved to.
  • the third emission optical system OS3a may function as the first optical system in the present disclosure.
  • the fourth incident optical system IS4a shown in FIG. 6A may be changed to the fourth incident optical system IS4 that does not have the high reflection mirror 40 (see FIG. 5) in FIG. 6B. That is, the fourth incident optical system IS4 in FIG. 6B may have the same configuration as the first, second, and third incident optical systems IS1, IS2, and IS3. Alternatively, in the fourth incident optical system IS4 in FIG. 6B, the high reflection mirror 40 of the fourth incident optical system IS4a in FIG. 6A is outside the optical path of the pulsed laser light between the third chamber C3 and the fourth chamber C4. It may be moved to.
  • the fourth incident optical system IS4a may function as the second optical system in the present disclosure.
  • frames F35 and F36 may be added.
  • a fifth chamber C5, a fifth incident optical system IS5, a fifth emission optical system OS5a, and a power supply device (not shown) for supplying power to the fifth chamber C5 may be positioned.
  • a sixth chamber C6, a sixth incident optical system IS6a, a sixth emission optical system OS6, and a power supply device (not shown) for supplying power to the sixth chamber C6 may be positioned.
  • the frames F35 and F36 may have the same configuration as the frames F11 and F12 and the frames F23 and F24.
  • the frame F35 and the frame F36 may be fixed to each other by a fixing mechanism (not shown).
  • the frame F35 and the frame F36 fixed to each other are collectively referred to as a third frame.
  • a plurality of small dampers may be attached to the bottom surface of the third frame. In FIG. 6A and FIG. 6B, illustration of the small damper is omitted.
  • the second frame combining the frame F23 and the frame F24 and the third frame combining the frame F35 and the frame F36 may be configured to be separable. However, the second frame and the third frame may be fixed to each other by a fixing mechanism (not shown). Note that the large dampers BD2 and BD3 shown in FIG. 6A may be moved to the bottom surfaces of the frame F35 and the frame F36, respectively, in FIG. 6B.
  • the fifth chamber C5 and the sixth chamber C6 may have the same configuration as the second chamber C2 and the fourth chamber C4.
  • the second chamber C2 and the fourth chamber C4 have a structure that can withstand the energy of the pulsed laser light sequentially amplified in the first, third, fifth, and sixth chambers C1, C3, C5, and C6. It is desirable.
  • the fifth incident optical system IS5 may have the same configuration as the first, second, and third incident optical systems IS1, IS2, and IS3.
  • the sixth emission optical system OS6 may have the same configuration as the first, second, and fourth emission optical systems OS1, OS2, and OS4.
  • the fifth emission optical system OS5a may have the same configuration as the third emission optical system OS3a shown in FIGS. 5 and 6A.
  • the fifth emission optical system OS5a includes an optical system having the same configuration as the first, second, fourth, and sixth emission optical systems OS1, OS2, OS4, and OS6, and a high reflection mirror 46 (FIG. 5). (See also).
  • the high reflection mirror 46 included in the fifth emission optical system OS5a is the high reflection mirror 46 removed from the third emission optical system OS3a shown in FIG. 6A or the high reflection mirror 40 removed from the fourth incident optical system IS4a. May be reused.
  • the fifth emission optical system OS5a may function as the third optical system in the present disclosure.
  • the sixth incident optical system IS6a may have the same configuration as the fourth incident optical system IS4a shown in FIGS. 5 and 6A. That is, the sixth incident optical system IS6a includes an optical system having the same configuration as the first, second, third, and fifth incident optical systems IS1, IS2, IS3, and IS5, and a high reflection mirror 40 (FIG. 5). (See also).
  • the high reflection mirror 40 included in the sixth incident optical system IS6a is the high reflection mirror 46 removed from the fourth incident optical system IS4a shown in FIG. 6A or the high reflection mirror 46 removed from the third emission optical system OS3a. May be reused.
  • the sixth incident optical system IS6a may function as the fourth optical system in the present disclosure.
  • an amplifier can be added by adding the third frame and parts to be mounted on the third frame.
  • the configuration and arrangement of the first frame, the second frame, and the components mounted on these frames need not be changed except for the two high reflection mirrors 40 and 46.
  • the arrangement of the EUV chamber 2 (see FIG. 2) and the like need not be changed. This can reduce the need to realign already installed equipment.
  • each of the first to sixth chambers C1 to C6 may constitute an amplifier, and one of the first to sixth chambers C1 to C6 may not be an amplifier. Further, the configurations of the incident optical system and the outgoing optical system are not limited to those described above. A mode of changing the third emission optical system OS3a and the fourth incident optical system IS4a when adding the fifth and sixth chambers C5 and C6 is not limited to the above.
  • the case where the fifth and sixth chambers C5 and C6 are added to the laser apparatus 3 including the first to fourth chambers C1 to C4 has been described.
  • the laser apparatus 3a including the first to sixth chambers C1 to C6 is included in The same may be applied when adding seventh and eighth chambers (not shown).
  • the reverse procedure can be performed.
  • FIG. 7A is a side view of a laser device according to a first example of the second embodiment.
  • FIG. 7B is a front view of the laser apparatus shown in FIG. 7A. 7A and 7B, one frame F of the plurality of frames F11, F12, F23, and F24 included in the laser apparatus 3 shown in FIGS. 2 and 3 is representatively shown. 7A and 7B, one amplification unit including one chamber C positioned on one frame F, one power supply device PS, one incident optical system IS, and one output optical system OS is representative. Has been shown.
  • the laser device according to the second embodiment may include a plurality of amplification units shown in FIGS. 7A and 7B.
  • the shelf boards 71 and 72 may be fixed to the frame F.
  • the chamber C may be positioned at a first position on the shelf board 71, and movement mechanisms Ra and Rb may be provided between the chamber C and the shelf board 71.
  • a support portion ISb may be further provided on the shelf plate 71, and the incident optical system IS may be supported and positioned by the support portion ISb.
  • a support portion OSb may be further provided on the shelf plate 71, and the output optical system OS may be supported and positioned by the support portion OSb.
  • the power supply device PS may be positioned at a second position on the shelf board 72, and the moving mechanisms Rc and Rd may be provided between the power supply apparatus PS and the shelf board 72.
  • the moving mechanisms Ra and Rb may include a rail installed on the shelf board 71 and a plurality of wheels W1, W2, and W4 provided in the chamber C.
  • the moving mechanisms Rc and Rd may include a rail installed on the shelf board 72 and a plurality of wheels W5, W6, and W8 provided on the power supply device PS. In each moving mechanism, the number of the plurality of wheels may be arbitrary.
  • the chamber C and the power supply device PS may be configured to be movable by moving the wheel along the rail.
  • the moving mechanism may include a wheel (not shown) installed on the shelf 71 or 72 and a rail (not shown) provided in the chamber C or the power supply device PS.
  • the chamber C or the power supply device PS may be configured to be movable by relatively moving the wheels along the rail.
  • the moving mechanisms Ra, Rb, Rc, and Rd do not have to use rails, and need not use wheels.
  • the chamber C and the power supply device PS can be taken out from the frame F in the X direction by the moving mechanisms Ra, Rb, Rc, Rd.
  • the chamber C and the power supply device PS can be installed in the frame F by moving in the ⁇ X direction by the moving mechanism.
  • the chamber C may include a first connector 61 on a side surface located at the end in the ⁇ X direction.
  • the first connector 61 may include a plurality of first electrical connection terminals for receiving power supply from the power supply device PS.
  • the power supply device PS may include a second connector 62 on the side surface located at the terminal end in the ⁇ X direction.
  • the second connector 62 may include a plurality of second electrical connection terminals for supplying power to the chamber C.
  • the fixed plate 66 and the fixed plate 67 may be fixed to the end in the ⁇ X direction in the internal space of the frame F.
  • the third connector 63 may be disposed on the fixing plate 66 at a position facing the first connector 61 of the chamber C when the chamber C is accommodated in the frame F.
  • the first connector 61 and the third connector 63 may be connected.
  • the movement of the chamber C in the ⁇ X direction can be restricted.
  • the third connector 63 may include a plurality of third electrical connection terminals. When the first connector 61 and the third connector 63 are connected, the plurality of first electrical connection terminals and the plurality of third electrical connection terminals may contact each other.
  • the fourth connector 64 may be disposed on the fixing plate 67 at a position facing the second connector 62 of the power supply device PS when the power supply device PS is accommodated in the frame F.
  • the second connector 62 and the fourth connector 64 may be connected. Then, when the second connector 62 and the fourth connector 64 are connected, the movement of the power supply device PS in the ⁇ X direction can be restricted.
  • the fourth connector 64 may include a plurality of fourth electrical connection terminals. When the second connector 62 and the fourth connector 64 are connected, the plurality of second electrical connection terminals and the plurality of fourth electrical connection terminals may contact each other. Examples of the plurality of electrical connection terminals will be described later with reference to FIGS. 13A and 13B.
  • the plurality of third electrical connection terminals included in the third connector 63 and the plurality of fourth electrical connection terminals included in the fourth connector 64 are electrically connected by the plurality of conductive members 65, respectively. Also good.
  • power is supplied from the power supply device PS to the chamber C via the plurality of conductive members 65. Supply is possible.
  • Fixing members 73 and 74 may be attached to the frame F on the side surface located at the end in the X direction.
  • a positioning mechanism for positioning the chamber C is constituted by the moving mechanisms Ra and Rb for restricting the movement in directions other than the direction along the X axis, the third connector 63 fixed to the fixing plate 66, and the fixing member 73. May be.
  • the movement of the power supply device PS in the X direction can be restricted by attaching the fixing member 74 to the frame F with a bolt. Accordingly, the moving mechanism Rc and Rd for restricting movement other than the direction along the X axis, the fourth connector 64 fixed to the fixing plate 67, and the fixing member 74 constitute a positioning mechanism for positioning the power supply device PS. May be.
  • FIG. 8A is a side view of a laser apparatus according to a second example of the second embodiment.
  • FIG. 8B is a front view of the laser apparatus shown in FIG. 8A.
  • 8A and 8B also typically show one frame F and one amplification unit.
  • the moving mechanisms Re and Rf of the power supply device PS may be different from the moving mechanism in the first example.
  • the shelf plate 72 may not be provided.
  • support plates 75 and 76 may be fixed to the end in the Y direction and the end in the ⁇ Y direction in the internal space of the frame F.
  • the support plate 75 may support the moving mechanism Re
  • the support plate 76 may support the moving mechanism Rf.
  • the movement mechanisms Re and Rf may support the power supply device PS at both ends in the Y direction and the ⁇ Y direction of the power supply device PS, and may move the power supply device PS along the X axis. Other points may be the same as in the first example.
  • FIG. 9A is a plan view of a laser apparatus according to a third example of the second embodiment.
  • FIG. 9C is a side view of the laser apparatus according to the third example of the second embodiment.
  • 9B and 9D are front views of the laser apparatus shown in FIG. 9C.
  • FIG. 9B shows a state immediately before the chamber C is positioned, and
  • FIGS. 9C and 9D show a state where the chamber C is positioned.
  • 9A to 9D also typically show one frame F and one amplification unit.
  • illustration of the power supply device PS, its moving mechanism and positioning mechanism is omitted.
  • the positioning mechanism of the chamber C and the arrangement of the first connector 61a and the third connector 63a may be different from those in the first example.
  • an elevating mechanism that elevates and lowers the chamber C may be further provided.
  • a kinematic mount including first to third mounts 81 to 83 is arranged on the shelf 71 to position the chamber C. It may be.
  • first to third leg portions 84 to 86 having a hemispherical lower end portion may be arranged.
  • a conical depression may be formed on the upper surface of the first mount 81.
  • the first mount 81 can position the first leg 84 at one point when the first leg 84 is placed on the upper surface thereof.
  • a groove along the Y direction may be formed on the upper surface of the second mount 82. This groove may have a V-shaped cross section perpendicular to the Y direction.
  • the second mount 82 can restrict the movement of the second leg 85 in a direction other than the direction along the Y axis when the second leg 85 is placed on the upper surface thereof.
  • the upper surface of the third mount 83 may have a planar shape perpendicular to the Z direction.
  • the third mount 83 can restrict the movement of the third leg 86 in the direction along the Z-axis when the third leg 86 is placed on the upper surface thereof.
  • the position and posture of the chamber C can be determined by kinematic mounts including the first to third mounts 81 to 83.
  • the chamber C may include elevating mechanisms 87 and 88.
  • the elevating mechanisms 87 and 88 can elevate and lower the casing of the chamber C by expanding and contracting the distance between the wheels W2 and W4 and the casing of the chamber C, respectively.
  • the elevating mechanism can be provided not only on the wheels W2 and W4 but also on the wheel W1 and other wheels not shown.
  • the chamber C may be moved by the moving mechanisms Ra and Rb until the first to third legs 84 to 86 of the chamber C reach positions above the first to third mounts 81 to 83, respectively. At this time, the chamber C may be moved to the first position by being lowered by the lifting mechanisms 87 and 88.
  • a first connector 61 a including a plurality of first electrical connection terminals may be arranged on the bottom surface of the chamber C.
  • a third connector 63 a including a plurality of third electrical connection terminals may be disposed on the upper surface of the shelf board 71.
  • the first connector 61a and the third connector 63a may be arranged so that the first connector 61a and the third connector 63a are connected when the chamber C is positioned at the first position.
  • the moving mechanism of the power supply device PS may be configured as in the second example.
  • a kinematic mount may be used, or the fixing member 74 may be used as in the first example.
  • FIGS. 10A and 10B are front views of a laser apparatus according to a fourth example of the second embodiment.
  • FIG. 10A shows a state immediately before the chamber C is positioned
  • FIG. 10B shows a state where the chamber C is positioned and the chamber C and the power supply device PS are electrically connected.
  • 10A and 10B, one frame F and one amplification unit are also representatively shown.
  • the configuration for electrically connecting the chamber C and the power supply device PS may be different from that in the first example.
  • the fixed plate 66 and the fixed plate 67 may not be provided with the third connector 63, the fourth connector 64, and the plurality of conductive members 65.
  • the chamber C may include a positioning protrusion 68 on the side surface located at the end in the ⁇ X direction. As shown in FIG. 10B, when the positioning protrusion 68 contacts the fixing plate 66, the movement of the chamber C in the ⁇ X direction is restricted, and the chamber C can be positioned at the first position.
  • the chamber C may include a first connector 61b including a plurality of first electrical connection terminals on a side surface located at the end in the X direction.
  • the power supply device PS may include a positioning projection 69 on the side surface located at the end in the ⁇ X direction. As shown in FIG. 10B, when the positioning protrusion 69 contacts the fixing plate 67, the movement of the power supply device PS in the ⁇ X direction is restricted, and the power supply device PS can be positioned at the second position.
  • the power supply device PS may include a second connector 62b including a plurality of second electrical connection terminals on a side surface located at the end in the X direction.
  • the connecting member 60 shown in FIG. 10A is attached to the chamber C and the power supply device PS with bolts (not shown) in a state where the chamber C is arranged at the first position and the power supply device PS is arranged at the second position. May be.
  • the connection member 60 may include a third connector 63b including a plurality of third electrical connection terminals and a fourth connector 64b including a plurality of fourth electrical connection terminals.
  • the third connector 63b may be connected to the first connector 61b
  • the fourth connector 64b may be connected to the second connector 62b.
  • the third connector 63b and the fourth connector 64b may be disposed on the connection member 60 so as to have a positional relationship corresponding to the first connector 61b and the second connector 62b.
  • the plurality of third electrical connection terminals included in the third connector 63b and the plurality of fourth electrical connection terminals included in the fourth connector 64b are electrically connected to each other by the plurality of conductive members 65b. Also good. As a result, power can be supplied from the power supply device PS to the chamber C.
  • the moving mechanism of the power supply device PS may be configured as in the second example.
  • the positioning mechanism of the chamber C may be configured as in the third example, and an elevating mechanism may be added. Or you may provide a fixing member like a 1st example.
  • FIGS. 11A to 11D are front views of a laser apparatus according to a fifth example of the second embodiment.
  • FIG. 11A shows a state in which the chamber C is being transported to be accommodated in the frame F.
  • FIG. 11B shows a state where the chamber C is accommodated in the frame F.
  • FIG. 11C further shows a state where the power supply device PS is being transported to be accommodated in the frame F.
  • FIG. 11D further shows a state in which the power supply device PS is accommodated in the frame F.
  • one frame F and one amplification unit are representatively shown.
  • chamber C may be carried by carriage CA1.
  • a kinematic mount including the first to third mounts 81 to 83 described with reference to FIGS. 9A to 9D may be arranged on the cart CA1.
  • the chamber C may be positioned on the carriage CA1 by the first to third mounts 81 to 83 during transportation by the carriage CA1.
  • a movement mechanism Rg may be arranged on the carriage CA1.
  • connection mechanism Rh may connect the moving mechanism Rg disposed on the carriage CA1 and the moving mechanism Rb disposed on the frame F.
  • the casing of the chamber C may be raised on the carriage CA1 by the lifting mechanisms 87 and 88. Thereby, the chamber C can be released from the positioning by the first to third mounts 81 to 83 and can be moved by the moving mechanism Rg.
  • the chamber C may be moved into the frame F by the moving mechanism Rg, the connecting mechanism Rh, and the moving mechanism Rb.
  • the lifting mechanism 87 and 88 lift the casing of the chamber C. It may be lowered.
  • the chamber C is positioned at the first position in the frame F, and the first connector 61a and the third connector 63a can be connected.
  • the connection mechanism Rh may be removed to retract the carriage CA1.
  • the power supply device PS may be transported by a carriage CA2.
  • the carriage CA2 may include an elevating device 80.
  • a movement mechanism Rg may be arranged on the carriage CA2.
  • the power supply device PS mounted on the cart CA2 may be raised together with the moving mechanism Rg by the lifting device 80. .
  • the height of the moving mechanism Rg and the height of the moving mechanism Rd arranged on the frame F may be matched.
  • the worker may arrange the connection mechanism Rh between the carriage CA2 and the frame F.
  • the connection mechanism Rh may connect the moving mechanism Rg disposed on the carriage CA2 and the moving mechanism Rd disposed on the frame F.
  • the power supply device PS may be moved into the frame F by the movement mechanism Rg, the connection mechanism Rh, and the movement mechanism Rd. Thereby, the power supply device PS can be accommodated in the second position, and the second connector 62 and the fourth connector 64 can be connected. Thereafter, the connection mechanism Rh may be removed to retract the carriage CA2.
  • a procedure reverse to the procedure described above may be performed.
  • the positioning of the chamber C may be performed as in the first example.
  • the moving mechanism of the power supply device PS may be configured as in the second example. Or you may provide a fixing member like a 1st example.
  • the electrical connection between the chamber C and the power supply device PS may be performed as in the fourth example.
  • FIGS. 12A and 12B are front views of a laser apparatus according to a sixth example of the second embodiment.
  • FIG. 12A shows a state where the chamber C and the power supply device PS are being transported to be accommodated in the frame F.
  • FIG. 12B shows a state where the chamber C and the power supply device PS are accommodated in the frame F. 12A and 12B, one frame F and one amplification unit are representatively shown.
  • a second method for accommodating the chamber C and the power supply device PS in the frame F is shown.
  • these may be carried by the carriage CA1.
  • a kinematic mount including the first to third mounts 81 to 83 described with reference to FIGS. 9A to 9D may be arranged on the cart CA1.
  • a movement mechanism Rg may be arranged on the carriage CA1.
  • connection mechanism Rh may connect the moving mechanism Rg disposed on the carriage CA1 and the moving mechanism Rb disposed on the frame F.
  • the casing of the chamber C and the power supply device PS may be raised on the carriage CA1 by the lifting mechanisms 87 and 88. Thereby, the chamber C and the power supply device PS are released from the positioning by the first to third mounts 81 to 83, and can be moved by the moving mechanism Rg.
  • the chamber C and the power supply device PS may be moved into the frame F by the movement mechanism Rg, the connection mechanism Rh, and the movement mechanism Rb.
  • the lifting and lowering mechanisms 87 and 88 cause the housing of the chamber C and The power supply device PS may be lowered.
  • the chamber C can be arranged at the first position in the frame F, and the power supply device PS can be arranged at the second position in the frame F above the chamber C.
  • the first connector 61a and the third connector 63a may be connected, and the second connector 62 and the fourth connector 64 may be connected.
  • the connection mechanism Rh may be removed to retract the carriage CA1.
  • the electrical connection between the chamber C and the power supply device PS may be performed as in the first or fourth example.
  • the electrical connection between the chamber C and the power supply device PS is performed directly by a connector (not shown) provided on the upper surface of the chamber C and a connector (not shown) provided on the bottom surface of the power supply device PS. May be made.
  • the positioning of the chamber C may be performed as in the first example.
  • a carriage CA2 having a lifting device may be used.
  • FIGS. 13A and 13B each show an example of multiple electrical connection terminals.
  • the planar arrangement of the plurality of electrical connection terminals shown in FIG. 13A and the planar arrangement of the plurality of electrical connection terminals shown in FIG. 13B are bilaterally symmetric and are arranged and fitted to face each other. Have a relationship. If the plurality of electrical connection terminals included in the first connector 61 are those illustrated in FIG. 13A, the plurality of electrical connection terminals included in the third connector 63 are as illustrated in FIG. 13B. If the plurality of electrical connection terminals included in the fourth connector 64 is as shown in FIG. 13A, the plurality of electrical connection terminals included in the second connector 62 is as shown in FIG. 13B.
  • a plurality of electrical connection terminals shown in FIG. 13A includes a high voltage connection part 91a including one high voltage terminal, a high voltage connection part 92a including another high voltage terminal, and a three-phase power supply connection part including three terminals.
  • 93a and a signal line connecting portion 94a including a large number of signal line terminals may be included.
  • Positioning pins may be located at both ends of each connecting portion.
  • a plurality of electrical connection terminals shown in FIG. 13B includes a high voltage connection part 91b including one high voltage terminal, a high voltage connection part 92b including another high voltage terminal, and a three-phase power supply connection part including three terminals. 93b and a signal line connecting portion 94b including a large number of signal line terminals may be included. Pin holes that fit into the positioning pins described above may be located at both ends of each connecting portion.
  • the plurality of electrical connection terminals shown in FIG. 13A are plugs (male)
  • the plurality of electrical connection terminals shown in FIG. 13B may be sockets (female).
  • the male and female are mixed in one connector, it is only necessary that the other connector fits into it.
  • the work load for electrically connecting the chamber C and the power supply device PS by arranging the chamber C and the power supply device PS at the respective positions can be reduced. Accordingly, labor for installing the chamber C and the power supply device PS can be saved.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Lasers (AREA)

Abstract

このレーザ装置は、フレームと、フレームに位置決めされた第１増幅器と、フレームに位置決めされた第１の入射光学系であって、外部機器で生成されたパルスレーザ光を、第１増幅器に入射させる第１の入射光学系と、フレームに位置決めされた第１の出射光学系であって、第１増幅器から第１方向に出射したパルスレーザ光を、第１方向と異なる第２方向に出射させる第１の出射光学系と、を備えていてもよい。

Description

レーザ装置、及びレーザ装置にチャンバを増設する方法
　本開示は、レーザ装置、及びレーザ装置にチャンバを増設する方法に関する。
　近年、半導体プロセスの微細化に伴って、半導体プロセスの光リソグラフィにおける転写パターンの微細化が急速に進展している。次世代においては、７０ｎｍ～４５ｎｍの微細加工、さらには３２ｎｍ以下の微細加工が要求されるようになる。このため、例えば３２ｎｍ以下の微細加工の要求に応えるべく、波長１３ｎｍ程度の極端紫外（ＥＵＶ）光を生成する極端紫外（ＥＵＶ）光生成装置と縮小投影反射光学系（Reduced Projection Reflective Optics）とを組み合わせた露光装置の開発が期待されている。
　ＥＵＶ光生成装置としては、ターゲット物質にレーザ光を照射することによって生成されるプラズマを用いたＬＰＰ（Laser Produced Plasma：レーザ励起プラズマ）方式の装置と、放電によって生成されるプラズマを用いたＤＰＰ（Discharge Produced Plasma）方式の装置と、軌道放射光を用いたＳＲ（Synchrotron Radiation）方式の装置との３種類の装置が提案されている。
概要
　本開示の１つの観点に係るレーザ装置は、フレームと、フレームに位置決めされた第１増幅器と、フレームに位置決めされた第１の入射光学系であって、外部機器で生成されたパルスレーザ光を、第１増幅器に入射させる第１の入射光学系と、フレームに位置決めされた第１の出射光学系であって、第１増幅器から第１方向に出射したパルスレーザ光を、第１方向と異なる第２方向に出射させる第１の出射光学系と、を備えてもよい。
　本開示の他の１つの観点に係るレーザ装置は、外部機器で生成されたパルスレーザ光を通過させ第１方向に出射させるように構成された第１チャンバと、第１チャンバから出射したパルスレーザ光を通過させ第１方向に出射させるように構成された第３チャンバと、第３チャンバから出射したパルスレーザ光を、第１方向と異なる第２方向に出射させるように構成された第１光学系と、第１光学系から出射したパルスレーザ光を、第１方向と実質的に逆方向であり且つ第２方向と異なる第３方向に出射させるように構成された第２光学系と、第２光学系から出射したパルスレーザ光を通過させ第３方向に出射させるように構成された第４チャンバと、第４チャンバから出射したパルスレーザ光を通過させ第３方向に出射させるように構成された第２チャンバと、を備えてもよい。
　本開示の他の１つの観点に係る方法は、第１チャンバ及び第２チャンバを備えるレーザ装置に、第３チャンバ及び第４チャンバを増設する方法であって、
　(A1)外部機器で生成されたパルスレーザ光を通過させ第１方向に出射させる第１チャンバと、(A2)第１チャンバから出射したパルスレーザ光を、第１方向と異なる第２方向に出射させる第１光学系と、(A3)第１光学系から出射したパルスレーザ光を、第１方向と実質的に逆方向であり且つ第２方向と異なる第３方向に出射させる第２光学系と、(A4)第２光学系から出射したパルスレーザ光を通過させ第３方向に出射させる第２チャンバと、を備えるレーザ装置における第１光学系が、第１チャンバから出射したパルスレーザ光を第１方向に出射させる光学系となるように、第１光学系を変更すること（Ａ）と、
　(B1)第１光学系から出射したパルスレーザ光を通過させ第１方向に出射させる第３チャンバと、(B2)第３チャンバから出射したパルスレーザ光を第２方向に出射させる第３光学系と、(B3)第３光学系から出射したパルスレーザ光を第３方向に出射させる第４光学系と、(B4)第４光学系から出射したパルスレーザ光を通過させ第３方向に出射させる第４チャンバと、を追加すること（Ｂ）と、
　レーザ装置における第２光学系が、第４チャンバから出射したパルスレーザ光を第２チャンバに向けて第３方向に出射させる光学系となるように、第２光学系を変更すること（Ｃ）と、
を含んでもよい。
　本開示の他の１つの観点に係るレーザ装置は、複数の第１の電気接続端子を有する増幅器と、複数の第２の電気接続端子を有し、増幅器に電力を供給する電源装置と、増幅器及び電源装置が配置されるフレームであって、増幅器が当該フレームの第１の位置に、電源装置が当該フレームの第２の位置にそれぞれ配置されるように、増幅器及び電源装置を位置決めする位置決め機構と、増幅器が第１の位置に配置されているときに複数の第１の電気接続端子とそれぞれ接触するように配置された複数の第３の電気接続端子と、電源装置が第２の位置に配置されているときに複数の第２の電気接続端子とそれぞれ接触するように配置された複数の第４の電気接続端子と、複数の第３の電気接続端子と複数の第４の電気接続端子とをそれぞれ電気的に接続する複数の導電部材と、を有するフレームと、を備えてもよい。
　本開示の他の１つの観点に係るレーザ装置は、複数の第１の電気接続端子を有する増幅器と、複数の第２の電気接続端子を有し、増幅器に電力を供給する電源装置と、増幅器及び電源装置が配置されるフレームであって、増幅器が当該フレームの第１の位置に、電源装置が当該フレームの第２の位置にそれぞれ配置されるように、増幅器及び電源装置を位置決めする位置決め機構を有するフレームと、増幅器が第１の位置に配置され、且つ、電源装置が第２の位置に配置されているときに、増幅器及び電源装置に取り付けられる接続部材であって、当該接続部材が増幅器及び電源装置に取り付けられているときに複数の第１の電気接続端子とそれぞれ接触する複数の第３の電気接続端子と、当該接続部材が増幅器及び電源装置に取り付けられているときに複数の第２の電気接続端子とそれぞれ接触する複数の第４の電気接続端子と、複数の第３の電気接続端子と複数の第４の電気接続端子とをそれぞれ電気的に接続する複数の導電部材と、を有する接続部材と、を備えてもよい。
　本開示のいくつかの実施形態を、単なる例として、添付の図面を参照して以下に説明する。
図１は、例示的なＬＰＰ式のＥＵＶ光生成システムの構成を概略的に示す。 図２は、第１の実施形態に係るＥＵＶ光生成システムの側面図である。 図３は、図２に示されるレーザ装置の平面図である。 図４Ａは、図３に示される固定機構の拡大平面図である。図４Ｂは、図４Ａの内部透視図であり、フレーム及び固定機構の一部の断面を示す。 図５は、図３に示されるレーザ装置における入射光学系及び出射光学系の具体例を示す平面図である。 図６Ａ及び図６Ｂは、図３に示されるレーザ装置における増幅器の増設例を示す平面図である。 図７Ａは、第２の実施形態の第１の例に係るレーザ装置の側面図である。図７Ｂは、図７Ａに示されるレーザ装置の正面図である。 図８Ａは、第２の実施形態の第２の例に係るレーザ装置の側面図である。図８Ｂは、図８Ａに示されるレーザ装置の正面図である。 図９Ａは、第２の実施形態の第３の例に係るレーザ装置の平面図である。図９Ｃは、第２の実施形態の第３の例に係るレーザ装置の側面図である。図９Ｂ及び図９Ｄは、図９Ｃに示されるレーザ装置の正面図である。 図１０Ａ及び図１０Ｂは、第２の実施形態の第４の例に係るレーザ装置の正面図である。 図１１Ａ～図１１Ｄは、第２の実施形態の第５の例に係るレーザ装置の正面図である。 図１２Ａ及び図１２Ｂは、第２の実施形態の第６の例に係るレーザ装置の正面図である。 図１３Ａ及び図１３Ｂは、それぞれ、複数の電気接続端子の例を示す。
実施形態
＜内容＞
１．概要
２．ＥＵＶ光生成システムの全体説明
　２．１　構成
　２．２　動作
３．増幅器を増設可能なレーザ装置
　３．１　全体構成
　３．２　フレームへの位置決め
　３．３　フレーム同士の固定
　３．４　入射光学系及び出射光学系
　３．５　増幅器の増設
４．増幅器と電源装置とが接続可能なレーザ装置
　４．１　第１の例
　　４．１．１　移動機構
　　４．１．２　電気接続端子
　　４．１．３　位置決め機構
　４．２　第２の例
　４．３　第３の例
　　４．３．１　位置決め機構
　　４．３．２　昇降機構
　　４．３．３　コネクタの配置
　４．４　第４の例
　４．５　第５の例
　４．６　第６の例
　４．７　複数の電気接続端子
　以下、本開示の実施形態について、図面を参照しながら詳しく説明する。以下に説明される実施形態は、本開示のいくつかの例を示すものであって、本開示の内容を限定するものではない。また、各実施形態で説明される構成及び動作の全てが本開示の構成及び動作として必須であるとは限らない。なお、同一の構成要素には同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。
１．概要
　ＬＰＰ式のＥＵＶ光生成装置においては、ターゲット供給部がターゲットを出力し、プラズマ生成領域に到達させてもよい。ターゲットがプラズマ生成領域に到達した時点で、レーザ装置がターゲットにパルスレーザ光を照射することにより、ターゲットがプラズマ化し、このプラズマからＥＵＶ光が放射され得る。
　高出力のＥＵＶ光を生成するために、ターゲットに照射されるパルスレーザ光を生成するためのレーザ装置を高出力化することが必要となり得る。このため、複数段の増幅器を直列に並べたり、既に設置された複数の増幅器を有するレーザ装置をさらに高出力化するために、追加の増幅器を増設したりすることが考えられる。増幅器を増設する場合に、既に設置された増幅器を動かしてしまうと、既に設置された増幅器をアライメントし直す必要が生じ得る。また、増幅器、及び増幅器に電力を供給するための電源装置は、大型で重いため、移動やアライメントが容易でない場合がある。
　本開示の１つの観点によれば、レーザ装置が、(A1)外部機器から第１方向に出力されたパルスレーザ光を通過させ第１方向に出射させる第１増幅器を備えてもよい。また、レーザ装置が、(A2)第１チャンバから出射したパルスレーザ光を、第１方向と異なる第２方向に出射させる第１光学系を備えてもよい。また、レーザ装置が、(A3)第１光学系から出射したパルスレーザ光を、第１方向と実質的に逆方向である第３方向に出射させる第２光学系を備えてもよい。また、レーザ装置が、(A4)第２光学系から出射したパルスレーザ光を通過させ第３方向に出射させる第２増幅器を備えてもよい。
　このレーザ装置に第３及び第４増幅器を増設する際には、このレーザ装置における第１光学系が、第１チャンバから出射したパルスレーザ光を第１方向に出射させる光学系となるように、第１光学系を変更してもよい。
　さらに、このレーザ装置に、(B1)第１光学系から出射したパルスレーザ光を通過させ第１方向に出射させる第３増幅器を追加してもよい。また、このレーザ装置に、(B2)第３チャンバから出射したパルスレーザ光を第２方向に出射させる第３光学系を追加してもよい。また、このレーザ装置に、(B3)第３光学系から出射したパルスレーザ光を第３方向に出射させる第４光学系を追加してもよい。また、このレーザ装置に、(B4)第４光学系から出射したパルスレーザ光を通過させ第３方向に出射させる第４増幅器を追加してもよい。
　そして、このレーザ装置における第２光学系が、第４チャンバから出射したパルスレーザ光を第２チャンバに向けて第３方向に出射させる光学系となるように、第２光学系を変更してもよい。
　この観点によれば、増幅器を増設する場合に、既に設置された増幅器を動かさなくても済むことが期待できる。従って、既に設置された機器をアライメントし直す必要性が低減され得る。
　本開示の別の観点によれば、レーザ装置が、複数の第１の電気接続端子を有する増幅器と、複数の第２の電気接続端子を有して増幅器に電力を供給する電源装置と、増幅器及び電源装置が配置されるフレームと、を備えてもよい。
　この観点において、フレームは、増幅器が当該フレームの第１の位置に、電源装置が当該フレームの第２の位置にそれぞれ配置されるように、増幅器及び電源装置を位置決めする位置決め機構を有してもよい。また、フレームは、増幅器が第１の位置に配置されているときに複数の第１の電気接続端子とそれぞれ接触するように配置された複数の第３の電気接続端子を有してもよい。また、フレームは、電源装置が第２の位置に配置されているときに複数の第２の電気接続端子とそれぞれ接触するように配置された複数の第４の電気接続端子を有してもよい。また、フレームは、複数の第３の電気接続端子と複数の第４の電気接続端子とをそれぞれ電気的に接続する複数の導電部材を有してもよい。
　この観点によれば、増幅器が当該フレームの第１の位置に、電源装置が当該フレームの第２の位置にそれぞれ配置されたときに、増幅器が電源装置に電気的に接続され得る。これにより、増幅器と電源装置とをフレームに配置するだけで電気的な接続が可能となるので、大型で重い増幅器及び電源装置の移動やアライメントの困難性を低減し得る。
２．ＥＵＶ光生成システムの全体説明
　２．１　構成
　図１に、例示的なＬＰＰ式のＥＵＶ光生成システムの構成を概略的に示す。ＥＵＶ光生成装置１は、少なくとも１つのレーザ装置３と共に用いられてもよい。本願においては、ＥＵＶ光生成装置１及びレーザ装置３を含むシステムを、ＥＵＶ光生成システム１１と称する。図１に示し、かつ、以下に詳細に説明するように、ＥＵＶ光生成装置１は、ＥＵＶチャンバ２、ターゲット供給部２６を含んでもよい。ＥＵＶチャンバ２は、密閉可能であってもよい。ターゲット供給部２６は、例えば、ＥＵＶチャンバ２の壁を貫通するように取り付けられてもよい。ターゲット供給部２６から供給されるターゲット物質の材料は、スズ、テルビウム、ガドリニウム、リチウム、キセノン、又は、それらの内のいずれか２つ以上の組合せを含んでもよいが、これらに限定されない。
　ＥＵＶチャンバ２の壁には、少なくとも１つの貫通孔が設けられていてもよい。その貫通孔には、ウインドウ２１が設けられてもよく、ウインドウ２１をレーザ装置３から出力されるパルスレーザ光３２が透過してもよい。ＥＵＶチャンバ２の内部には、例えば、回転楕円面形状の反射面を有するＥＵＶ集光ミラー２３が配置されてもよい。ＥＵＶ集光ミラー２３は、第１及び第２の焦点を有し得る。ＥＵＶ集光ミラー２３の表面には、例えば、モリブデンとシリコンとが交互に積層された多層反射膜が形成されていてもよい。ＥＵＶ集光ミラー２３は、例えば、その第１の焦点がプラズマ生成領域２５に位置し、その第２の焦点が中間集光点（ＩＦ）２９２に位置するように配置されるのが好ましい。ＥＵＶ集光ミラー２３の中央部には貫通孔２４が設けられていてもよく、貫通孔２４をパルスレーザ光３３が通過してもよい。
　ＥＵＶ光生成装置１は、ＥＵＶ光生成制御部５、ターゲットセンサ４等を含んでもよい。ターゲットセンサ４は、撮像機能を有してもよく、ターゲット２７の存在、軌跡、位置、速度等を検出するよう構成されてもよい。
　また、ＥＵＶ光生成装置１は、ＥＵＶチャンバ２の内部と露光装置６の内部とを連通させる接続部２９を含んでもよい。接続部２９内部には、アパーチャが形成された壁２９１が設けられてもよい。壁２９１は、そのアパーチャがＥＵＶ集光ミラー２３の第２の焦点位置に位置するように配置されてもよい。
　さらに、ＥＵＶ光生成装置１は、レーザ光進行方向制御部３４、レーザ光集光ミラー２２、ターゲット２７を回収するためのターゲット回収部２８等を含んでもよい。レーザ光進行方向制御部３４は、レーザ光の進行方向を規定するための光学素子と、この光学素子の位置、姿勢等を調整するためのアクチュエータとを備えてもよい。
　２．２　動作
　図１を参照に、レーザ装置３から出力されたパルスレーザ光３１は、レーザ光進行方向制御部３４を経て、パルスレーザ光３２としてウインドウ２１を透過してＥＵＶチャンバ２内に入射してもよい。パルスレーザ光３２は、少なくとも１つのレーザ光経路に沿ってＥＵＶチャンバ２内を進み、レーザ光集光ミラー２２で反射されて、パルスレーザ光３３として少なくとも１つのターゲット２７に照射されてもよい。
　ターゲット供給部２６は、ターゲット２７をＥＵＶチャンバ２内部のプラズマ生成領域２５に向けて出力するよう構成されてもよい。ターゲット２７には、パルスレーザ光３３に含まれる少なくとも１つのパルスが照射されてもよい。パルスレーザ光が照射されたターゲット２７はプラズマ化し、そのプラズマから放射光２５１が放射され得る。ＥＵＶ集光ミラー２３は、放射光２５１に含まれるＥＵＶ光を、他の波長域の光に比べて高い反射率で反射してもよい。ＥＵＶ集光ミラー２３によって反射されたＥＵＶ光を含む反射光２５２は、中間集光点２９２で集光され、露光装置６に出力されてもよい。なお、１つのターゲット２７に、パルスレーザ光３３に含まれる複数のパルスが照射されてもよい。
　ＥＵＶ光生成制御部５は、ＥＵＶ光生成システム１１全体の制御を統括するよう構成されてもよい。ＥＵＶ光生成制御部５は、ターゲットセンサ４によって撮像されたターゲット２７のイメージデータ等を処理するよう構成されてもよい。また、ＥＵＶ光生成制御部５は、例えば、ターゲット２７を出力するタイミングの制御、ターゲット２７の出力方向の制御の内少なくとも一つを制御するよう構成されてもよい。さらに、ＥＵＶ光生成制御部５は、例えば、レーザ装置３の発振タイミングの制御、パルスレーザ光３２の進行方向の制御、パルスレーザ光３３の集光位置の制御の内少なくとも一つを制御するよう構成されてもよい。上述の様々な制御は単なる例示に過ぎず、必要に応じて他の制御が追加されてもよい。
３．増幅器を増設可能なレーザ装置
　３．１　全体構成
　図２は、第１の実施形態に係るＥＵＶ光生成システム１１の側面図である。図２において、一部の構成要素についてはそれらの断面が示されている。図３は、図２に示されるレーザ装置３の平面図である。図３において、電源装置の図示は省略され、電源装置の下方に設けられたチャンバ、入射光学系及び出射光学系等が示されている。
　以下の説明において、Ｚ方向は重力方向に平行な方向であってもよい。Ｙ方向は、レーザ装置３において発振器ＯＳＣから第１の入射光学系ＩＳ１に向けてパルスレーザ光が出射される第１方向であってもよい。Ｘ方向は、レーザ装置３において第３出射光学系ＯＳ３ａから第４入射光学系ＩＳ４ａに向けてパルスレーザ光が出射される第２方向であってもよい。第１方向と実質的に逆方向である－Ｙ方向は、レーザ装置３において第４入射光学系ＩＳ４ａから第４チャンバＣ４に向けてパルスレーザ光が出射される第３方向であってもよい。Ｚ方向、Ｙ方向及びＸ方向は、互いに直交していてもよい。
　露光装置６及びＥＵＶチャンバ２は、クリーンルームを含む第２フロアに位置していてもよい。レーザ光進行方向制御部３４の少なくとも一部及びレーザ装置３は、第２フロアの階下の第１フロアに位置していてもよい。
　図３に示されるように、レーザ装置３は、発振器ＯＳＣと、第１チャンバＣ１と、第２チャンバＣ２と、第３チャンバＣ３と、第４チャンバＣ４と、を含んでいてもよい。第１～第４チャンバＣ１～Ｃ４の各々のＹ軸方向の両側には、入射光学系及び出射光学系が配置されてもよい。入射光学系及び出射光学系の構成例については図５を参照しながら後述する。それぞれの入射光学系は、チャンバにパルスレーザ光を入射させるように構成されていてもよい。それぞれの出射光学系は、チャンバから出射したパルスレーザ光を所定方向に出射させるように構成されていてもよい。
　発振器ＯＳＣは、パルスレーザ光をＹ方向に出力してもよい。パルスレーザ光は、第１の入射光学系ＩＳ１、第１チャンバＣ１、第１の出射光学系ＯＳ１、第３の入射光学系ＩＳ３、第３チャンバＣ３、第３の出射光学系ＯＳ３ａの順でほぼＹ方向に進んでもよい。第３の出射光学系ＯＳ３ａは、第３チャンバＣ３から出射したパルスレーザ光をＸ方向に出射させてもよい。第４の入射光学系ＩＳ４ａは、第３の出射光学系ＯＳ３ａから出射したパルスレーザ光を－Ｙ方向に出射させてもよい。パルスレーザ光は、第４の入射光学系ＩＳ４ａ、第４チャンバＣ４、第４の出射光学系ＯＳ４、第２の入射光学系ＩＳ２、第２チャンバＣ２、第２の出射光学系ＯＳ２の順でほぼ－Ｙ方向に進んでもよい。
　それぞれのチャンバは、増幅領域を有する増幅器を構成し、パルスレーザ光を通過させるときにそれぞれパルスレーザ光を増幅してもよい。増幅器の例としては、三軸直交型の増幅器が挙げられ得る。三軸直交型の増幅器は、増幅媒体となるレーザガスの流れる方向と、レーザガスを励起するための放電方向と、増幅されたパルスレーザ光の取り出し方向とが、ほぼ直交する増幅器を意味し得る。
　第２の出射光学系ＯＳ２は、パルスレーザ光をレーザ光進行方向制御部３４に向けて－Ｙ方向に出射させてもよい。レーザ光進行方向制御部３４は、第２フロアに設けられたＥＵＶチャンバ２にパルスレーザ光を入射させてもよい。
　３．２　フレームへの位置決め
　レーザ光進行方向制御部３４の少なくとも一部及び発振器ＯＳＣは、フレームＦ０に位置決めされていてもよい。発振器ＯＳＣは、移動機構Ｒ０ａ及び移動機構Ｒ０ｂ（図３参照）によって、フレームＦ０に対して移動可能に構成されてもよい。発振器ＯＳＣをメンテナンスするための取り出し方向が、図３に矢印Ｘ１で示されている。レーザ光進行方向制御部３４の少なくとも一部は、移動機構Ｒ０ｃ及び移動機構Ｒ０ｄによって、フレームＦ０に対して移動可能に構成されてもよい。レーザ光進行方向制御部３４の少なくとも一部をメンテナンスするための取り出し方向が、図３に矢印Ｘ２で示されている。
　第１チャンバＣ１、第１の入射光学系ＩＳ１及び第１の出射光学系ＯＳ１は、フレームＦ１１に位置決めされていてもよい。第１チャンバＣ１は、移動機構Ｒ１ａ及び移動機構Ｒ１ｂによって、フレームＦ１１に対して移動可能に構成されてもよい。第１チャンバＣ１をメンテナンスするための取り出し方向が、図３に矢印Ｘ３で示されている。
　第２チャンバＣ２、第２の入射光学系ＩＳ２及び第２の出射光学系ＯＳ２は、フレームＦ１２に位置決めされていてもよい。第２チャンバＣ２は、移動機構Ｒ２ａ及び移動機構Ｒ２ｂによって、フレームＦ１２に対して移動可能に構成されてもよい。第２チャンバＣ２をメンテナンスするための取り出し方向が、図３に矢印Ｘ４で示されている。
　第３チャンバＣ３、第３の入射光学系ＩＳ３及び第３の出射光学系ＯＳ３ａは、フレームＦ２３に位置決めされていてもよい。第３チャンバＣ３は、移動機構Ｒ３ａ及び移動機構Ｒ３ｂによって、フレームＦ２３に対して移動可能に構成されてもよい。第３チャンバＣ３をメンテナンスするための取り出し方向が、図３に矢印Ｘ５で示されている。
　第４チャンバＣ４、第４の入射光学系ＩＳ４ａ及び第４の出射光学系ＯＳ４は、フレームＦ２４に位置決めされていてもよい。第４チャンバＣ４は、移動機構Ｒ４ａ及び移動機構Ｒ４ｂによって、フレームＦ２４に対して移動可能に構成されてもよい。第４チャンバＣ４をメンテナンスするための取り出し方向が、図３に矢印Ｘ６で示されている。
　第１～第４チャンバＣ１～Ｃ４の各々の上方には、電源装置が配置されてもよい。図２には、第２チャンバＣ２に電力を供給する電源装置ＰＳ２がフレームＦ１２に位置決めされ、第４チャンバＣ４に電力を供給する電源装置ＰＳ４がフレームＦ２４に位置決めされた様子が示されている。電源装置ＰＳ２は、移動機構Ｒ２ｃ及び移動機構Ｒ２ｄによって、フレームＦ１２に対して移動可能に構成されてもよい。電源装置ＰＳ４は、移動機構Ｒ４ｃ及び移動機構Ｒ４ｄによって、フレームＦ２４に対して移動可能に構成されてもよい。第１チャンバＣ１に電力を供給する電源装置（図示せず）及び第３チャンバＣ３に電力を供給する電源装置（図示せず）も、同様に配置されてよい。
　３．３　フレーム同士の固定
　第１チャンバＣ１を位置決めするフレームＦ１１と第２チャンバＣ２を位置決めするフレームＦ１２とは、分離可能に構成されていてもよい。但し、フレームＦ１１とフレームＦ１２とは、固定機構Ｍ１１ａ及び固定機構Ｍ１１ｂによって互いに固定されていてもよい。本開示においては、互いに固定されたフレームＦ１１とフレームＦ１２とを併せて、第１フレームと称する。
　第３チャンバＣ３を位置決めするフレームＦ２３と第４チャンバＣ４を位置決めするフレームＦ２４とは、分離可能に構成されていてもよい。但し、フレームＦ２３とフレームＦ２４とは、固定機構Ｍ２２ａ及び固定機構Ｍ２２ｂによって互いに固定されていてもよい。本開示においては、互いに固定されたフレームＦ２３とフレームＦ２４とを併せて、第２フレームと称する。
　レーザ光進行方向制御部３４の少なくとも一部及び発振器ＯＳＣを位置決めするフレームＦ０と、フレームＦ１１とフレームＦ１２とを併せた第１フレームとは、分離可能に構成されていてもよい。但し、フレームＦ０と第１フレームとは、固定機構Ｍ０１ａ及び固定機構Ｍ０１ｂによって互いに固定されていてもよい。
　フレームＦ１１とフレームＦ１２とを併せた第１フレームと、フレームＦ２３とフレームＦ２４とを併せた第２フレームとは、分離可能に構成されていてもよい。但し、第１フレームと第２フレームとは、固定機構Ｍ１２ａ及び固定機構Ｍ１２ｂによって互いに固定されていてもよい。
　フレームＦ０の底面には、複数の小ダンパーＳＤ０１、ＳＤ０２及びＳＤ０３が取り付けられていてもよい。フレームＦ１１とフレームＦ１２とを併せた第１フレームの底面には、複数の小ダンパーＳＤ１１、ＳＤ１２及びＳＤ１３が取り付けられていてもよい。フレームＦ２３とフレームＦ２４とを併せた第２フレームの底面には、複数の小ダンパーＳＤ２１、ＳＤ２２及びＳＤ２３が取り付けられていてもよい。
　フレームＦ０、第１フレーム及び第２フレームは、互いに固定され、一体化されているので、この一体化されたフレームＦ０、第１フレーム及び第２フレームの底面に、複数の大ダンパーＢＤ１、ＢＤ２及びＢＤ３が取り付けられていてもよい。これらのダンパーは、フレームを弾性的に支持し、レーザ装置３において生じた振動を吸収する機能を有してもよい。これらのダンパーは、エアーサスペンション装置によって構成されてもよい。
　図４Ａは、図３に示される固定機構Ｍ１２ｂの拡大平面図である。図４Ｂは、図４Ａの内部透視図であり、フレームＦ１２及びＦ２４及び固定機構Ｍ１２ｂの一部の断面を示す。フレームＦ１２及びＦ２４は、四角柱状のパイプを含んでもよい。固定機構Ｍ１２ｂは、ボルト３５と、ナット３６と、ワッシャー３７とを含んでもよい。
　ボルト３５は、フレームＦ１２及びＦ２４の接合面に形成された貫通孔を、フレームＦ１２の内部からフレームＦ２４の内部まで貫通してもよい。ボルト３５は、フレームＦ１２の内部においてワッシャー３７を貫通し、フレームＦ２４の内部においてナット３６にねじ込まれていてもよい。固定機構Ｍ１２ｂに限らず、他の固定機構Ｍ０１ａ、Ｍ０１ｂ、Ｍ１１ａ、Ｍ１１ｂ、Ｍ１２ａ、Ｍ２２ａ、Ｍ２２ｂも同様でよい。これらの固定機構は、図３に示される箇所だけでなく、フレーム同士を固定するために他の箇所にも配置されることができる。
　３．４　入射光学系及び出射光学系
　図５は、図３に示されるレーザ装置３における入射光学系及び出射光学系の具体例を示す平面図である。第１の出射光学系ＯＳ１は、ビームスプリッタ４３と、光センサ４４と、高反射ミラー４５とを含んでもよい。ビームスプリッタ４３は、第１チャンバＣ１から出射したパルスレーザ光の一部を高い反射率で反射し、残りの一部を透過させてもよい。高反射ミラー４５は、ビームスプリッタ４３によって高い反射率で反射されたパルスレーザ光を、高い反射率で反射することにより、第１の出射光学系ＯＳ１から出射させてもよい。高反射ミラー４５によって反射されて出射するパルスレーザ光の進行方向は、第１チャンバＣ１から出射したパルスレーザ光の進行方向と平行であってもよい。このパルスレーザ光の進行方向は、Ｙ方向であってよい。
　光センサ４４は、ビームスプリッタ４３を透過したパルスレーザ光の一部を検出してもよい。光センサ４４は、例えば、パルスレーザ光のエネルギーを検出してもよい。光センサ４４は、エネルギーの検出に加えて、又はその代わりに、パルスレーザ光の位置及び方向、あるいは、パルスレーザ光の波面を検出してもよい。光センサ４４は、検出結果を制御部５１に出力してもよい。制御部５１は、ＥＵＶ光生成制御部５に含まれるものでもよい。
　第１の入射光学系ＩＳ１は、第１調節ミラー４１と第２調節ミラー４２とを含むビーム調節器を構成してもよい。第１調節ミラー４１は、発振器ＯＳＣなどの外部機器から出力されたパルスレーザ光を高い反射率で反射してもよい。第２調節ミラー４２は、第１調節ミラー４１によって反射されたパルスレーザ光を高い反射率で反射することにより、第１の入射光学系ＩＳ１から第１チャンバＣ１内に入射させてもよい。第２調節ミラー４２によって反射されて第１チャンバＣ１内に入射するパルスレーザ光の進行方向は、外部機器から出力されたパルスレーザ光の進行方向とほぼ平行であってもよい。このパルスレーザ光の進行方向は、Ｙ方向であってよい。
　第１調節ミラー４１と第２調節ミラー４２との各々にはアクチュエータが設けられてもよい。これらのアクチュエータが、制御部５１によって制御されることにより、それぞれのミラーによって反射されるパルスレーザ光が調節されてもよい。第１調節ミラー４１と第２調節ミラー４２とは、パルスレーザ光の光路を調節してもよい。第１調節ミラー４１と第２調節ミラー４２とは、パルスレーザ光の光路の調節に加えて、又はその代わりに、パルスレーザ光の波面を調節してもよい。制御部５１は、光センサ４４から出力された検出結果に基づいて、第１調節ミラー４１と第２調節ミラー４２との各々のアクチュエータを制御してもよい。
　第２及び第４の出射光学系ＯＳ２及びＯＳ４は、第１の出射光学系ＯＳ１とＹ方向において逆向きに配置される他は、第１の出射光学系ＯＳ１と同一の構成を有してもよい。第３の出射光学系ＯＳ３ａは、第１の出射光学系ＯＳ１と同様に、ビームスプリッタ４３と、光センサ４４と、高反射ミラー４５とを含んでもよい。
　第３の出射光学系ＯＳ３ａは、さらに、高反射ミラー４６を含んでもよい。高反射ミラー４６は、高反射ミラー４５によってＹ方向に反射されたパルスレーザ光を、Ｘ方向に向けて反射することにより、第３の出射光学系ＯＳ３ａから出射させてもよい。第３の出射光学系ＯＳ３ａから出射したパルスレーザ光の光路に、第４の入射光学系ＩＳ４ａが配置されていてもよい。なお、第３の出射光学系ＯＳ３ａにおいて、高反射ミラー４６は、ビームスプリッタ４３、光センサ４４及び高反射ミラー４５とは別の筐体に配置されてもよい。
　第２の入射光学系ＩＳ２が第１の入射光学系ＩＳ１とＹ方向において逆向きに配置される他は、第２及び第３の入射光学系ＩＳ２及びＩＳ３は、第１の入射光学系ＩＳ１と同一の構成を有してもよい。第４の入射光学系ＩＳ４ａは、第１の入射光学系ＩＳ１と同様に、第１調節ミラー４１と第２調節ミラー４２とを含んでもよい。
　第４の入射光学系ＩＳ４ａは、さらに、高反射ミラー４０を含んでもよい。高反射ミラー４０は、第３の出射光学系ＯＳ３ａの高反射ミラー４６によってＸ方向に反射されたパルスレーザ光を、－Ｙ方向に向けて反射することにより、第１調節ミラー４１に入射させてもよい。第４の入射光学系ＩＳ４ａは、パルスレーザ光を－Ｙ方向に向けて第４チャンバＣ４内に入射させてもよい。なお、第４の入射光学系ＩＳ４ａにおいて、高反射ミラー４０は、第１調節ミラー４１及び第２調節ミラー４２とは別の筐体に配置されてもよい。
　以上のように、第３の出射光学系ＯＳ３ａは、高反射ミラー４６を備える他は、第１、第２、第４の出射光学系ＯＳ１、ＯＳ２、ＯＳ４とほぼ同様の構成を有してもよい。第３の出射光学系ＯＳ３ａは、本開示における第１光学系として機能してもよい。また、第１の出射光学系ＯＳ１を収容する筐体は、第３の出射光学系ＯＳ３ａを収容する筐体と同一の形状を有してもよい。すなわち、第１の出射光学系ＯＳ１を収容する筐体には、第３の出射光学系ＯＳ３ａの高反射ミラー４６の位置に相当する位置に、ミラー固定機構４６ａが設けられていてもよい。第２、第４の出射光学系ＯＳ２、ＯＳ４を収容する筐体も、同様でよい。
　また、第４の入射光学系ＩＳ４ａは、高反射ミラー４０を備える他は、第１、第２、第３の入射光学系ＩＳ１、ＩＳ２、ＩＳ３とほぼ同様の構成を有してもよい。第４の入射光学系ＩＳ４ａは、本開示における第２光学系として機能してもよい。また、第２の入射光学系ＩＳ２を収容する筐体は、第４の入射光学系ＩＳ４ａを収容する筐体と同一の形状を有してもよい。すなわち、第２の入射光学系ＩＳ２を収容する筐体には、第４の入射光学系ＩＳ４ａの高反射ミラー４０の位置に相当する位置に、ミラー固定機構４０ａが設けられていてもよい。第１、第３の入射光学系ＩＳ１、ＩＳ３を収容する筐体も、同様でよい。
　制御部５２、５３、５４の構成及び機能は、制御部５１の構成及び機能と同様でよい。
　３．５　増幅器の増設
　図６Ａ及び図６Ｂは、図３に示されるレーザ装置３における増幅器の増設例を示す平面図である。図６Ａに示されるレーザ装置３に対し、図６Ｂは２つの増幅器が増設されたレーザ装置３ａを示している。
　図６Ａに示されるレーザ装置３と図６Ｂに示されるレーザ装置３ａとで、フレームＦ０、Ｆ１１、Ｆ１２、Ｆ２３及びＦ２４の構成は同一でよい。発振器ＯＳＣ及びレーザ光進行方向制御部３４の構成及び配置も同一でよい。第１～第４チャンバＣ１～Ｃ４の構成及び配置も同一でよい。第１、第２、第４の出射光学系ＯＳ１、ＯＳ２、ＯＳ４の構成及び配置も同一でよい。第１、第２、第３の入射光学系ＩＳ１、ＩＳ２、ＩＳ３の構成及び配置も同一でよい。
　図６Ａに示される第３の出射光学系ＯＳ３ａは、図６Ｂにおいては、高反射ミラー４６（図５参照）を有しない第３の出射光学系ＯＳ３に変更されてもよい。すなわち、図６Ｂにおける第３の出射光学系ＯＳ３は、第１、第２、第４の出射光学系ＯＳ１、ＯＳ２、ＯＳ４と同一の構成を有してもよい。あるいは、図６Ｂにおける第３の出射光学系ＯＳ３は、図６Ａにおける第３の出射光学系ＯＳ３ａの高反射ミラー４６が、第３チャンバＣ３と第４チャンバＣ４との間のパルスレーザ光の光路外に移動させられたものでもよい。第３の出射光学系ＯＳ３ａは、本開示における第１光学系として機能してもよい。
　図６Ａに示される第４の入射光学系ＩＳ４ａは、図６Ｂにおいては、高反射ミラー４０（図５参照）を有しない第４の入射光学系ＩＳ４に変更されてもよい。すなわち、図６Ｂにおける第４の入射光学系ＩＳ４は、第１、第２、第３の入射光学系ＩＳ１、ＩＳ２、ＩＳ３と同一の構成を有してもよい。あるいは、図６Ｂにおける第４の入射光学系ＩＳ４は、図６Ａにおける第４の入射光学系ＩＳ４ａの高反射ミラー４０が、第３チャンバＣ３と第４チャンバＣ４との間のパルスレーザ光の光路外に移動させられたものでもよい。第４の入射光学系ＩＳ４ａは、本開示における第２光学系として機能してもよい。
　図６Ｂにおいては、図６Ａに示される構成に加えて、フレームＦ３５及びＦ３６が追加されてもよい。フレームＦ３５には、第５チャンバＣ５、第５の入射光学系ＩＳ５、第５の出射光学系ＯＳ５ａ、及び、第５チャンバＣ５に電力を供給する電源装置（図示せず）が位置決めされてもよい。フレームＦ３６には、第６チャンバＣ６、第６の入射光学系ＩＳ６ａ、第６の出射光学系ＯＳ６、及び、第６チャンバＣ６に電力を供給する電源装置（図示せず）が位置決めされてもよい。
　フレームＦ３５及びＦ３６は、フレームＦ１１及びＦ１２や、フレームＦ２３及びＦ２４と同様の構成でもよい。フレームＦ３５とフレームＦ３６とは、固定機構（図示せず）によって互いに固定されていてもよい。本開示においては、互いに固定されたフレームＦ３５とフレームＦ３６とを併せて、第３フレームと称する。第３フレームの底面には、複数の小ダンパーが取り付けられていてもよい。図６Ａ及び図６Ｂにおいては、小ダンパーの図示は省略されている。
　フレームＦ２３とフレームＦ２４とを併せた第２フレームと、フレームＦ３５とフレームＦ３６とを併せた第３フレームとは、分離可能に構成されていてもよい。但し、第２フレームと第３フレームとは、固定機構（図示せず）によって互いに固定されていてもよい。なお、図６Ａに示される大ダンパーＢＤ２及びＢＤ３は、図６ＢにおいてはそれぞれフレームＦ３５及びフレームＦ３６の底面に移動されていてもよい。
　第５チャンバＣ５及び第６チャンバＣ６は、第２チャンバＣ２や第４チャンバＣ４と同様の構成でもよい。なお、第２チャンバＣ２や第４チャンバＣ４は、第１、第３、第５、第６チャンバＣ１、Ｃ３、Ｃ５、Ｃ６において順次増幅されたパルスレーザ光のエネルギーに耐え得る構造を有していることが望ましい。
　第５の入射光学系ＩＳ５は、第１、第２、第３の入射光学系ＩＳ１、ＩＳ２、ＩＳ３と同一の構成を有してもよい。
　第６の出射光学系ＯＳ６は、第１、第２、第４の出射光学系ＯＳ１、ＯＳ２、ＯＳ４と同一の構成を有してもよい。
　第５の出射光学系ＯＳ５ａは、図５及び図６Ａに示される第３の出射光学系ＯＳ３ａと同一の構成を有してもよい。すなわち、第５の出射光学系ＯＳ５ａは、第１、第２、第４、第６の出射光学系ＯＳ１、ＯＳ２、ＯＳ４、ＯＳ６と同一の構成を有する光学系に、高反射ミラー４６（図５参照）を追加したものでもよい。第５の出射光学系ＯＳ５ａに含まれる高反射ミラー４６は、図６Ａに示される第３の出射光学系ＯＳ３ａから取り除いた高反射ミラー４６又は第４の入射光学系ＩＳ４ａから取り除いた高反射ミラー４０を再利用したものでもよい。第５の出射光学系ＯＳ５ａは、本開示における第３光学系として機能してもよい。
　第６の入射光学系ＩＳ６ａは、図５及び図６Ａに示される第４の入射光学系ＩＳ４ａと同一の構成を有してもよい。すなわち、第６の入射光学系ＩＳ６ａは、第１、第２、第３、第５の入射光学系ＩＳ１、ＩＳ２、ＩＳ３、ＩＳ５と同一の構成を有する光学系に、高反射ミラー４０（図５参照）を追加したものでもよい。第６の入射光学系ＩＳ６ａに含まれる高反射ミラー４０は、図６Ａに示される第４の入射光学系ＩＳ４ａから取り除いた高反射ミラー４０又は第３の出射光学系ＯＳ３ａから取り除いた高反射ミラー４６を再利用したものでもよい。第６の入射光学系ＩＳ６ａは、本開示における第４光学系として機能してもよい。
　以上の構成によれば、第３フレーム及び第３フレームに搭載する部品を追加することにより、増幅器の増設が可能となる。このとき、第１フレーム、第２フレーム及びこれらのフレームに搭載した部品の構成及び配置は、２枚の高反射ミラー４０、４６以外はほとんど変更しなくてもよい。さらに、フレームＦ０及びフレームＦ０に搭載した部品の構成及び配置を変更しなくてもよいので、ＥＵＶチャンバ２（図２参照）などの配置も変更しなくてよい。これにより、既に設置された機器をアライメントし直す必要性が低減され得る。
　上述の説明において、第１～第６チャンバＣ１～Ｃ６のそれぞれが増幅器を構成していてもよいし、第１～第６チャンバＣ１～Ｃ６のうちの１つは、増幅器でなくてもよい。
　また、入射光学系及び出射光学系の構成は、上述のものに限定されない。第５及び第６チャンバＣ５及びＣ６を増設する場合に第３出射光学系ＯＳ３ａ及び第４入射光学系ＩＳ４ａを変更する態様も、上述のものに限定されない。
　また、第１～第４チャンバＣ１～Ｃ４を含むレーザ装置３に第５及び第６チャンバＣ５及びＣ６を増設する場合について説明したが、第１～第６チャンバＣ１～Ｃ６を含むレーザ装置３ａに第７及び第８チャンバ（図示せず）を増設する場合も同様でよい。また、第１及び第２チャンバＣ１及びＣ２を含むレーザ装置（図示せず）に第３及び第４チャンバＣ３及びＣ４を増設して、上述のレーザ装置３とする場合も同様でよい。
　また、増設の場合に限らず、例えば第１～第６チャンバＣ１～Ｃ６を含むレーザ装置３ａから第５及び第６チャンバＣ５及びＣ６を取り除く場合には、上記と逆の手順によることができる。
４．増幅器と電源装置とが接続可能なレーザ装置
　４．１　第１の例
　図７Ａは、第２の実施形態の第１の例に係るレーザ装置の側面図である。図７Ｂは、図７Ａに示されるレーザ装置の正面図である。図７Ａ及び図７Ｂにおいては、図２及び図３に示されるレーザ装置３に含まれる複数のフレームＦ１１、Ｆ１２、Ｆ２３、Ｆ２４のうちの１つのフレームＦが代表的に示されている。そして、図７Ａ及び図７Ｂにおいては、１つのフレームＦに位置決めされた１つのチャンバＣ、１つの電源装置ＰＳ、１つの入射光学系ＩＳ、１つの出射光学系ＯＳを含む１つの増幅ユニットが代表的に示されている。図２及び図３に示されるレーザ装置３と同様に、第２の実施形態に係るレーザ装置は、図７Ａ及び図７Ｂに示される増幅ユニットを複数含んでいてもよい。
　４．１．１　移動機構
　フレームＦには、棚板７１及び７２が固定されていてもよい。棚板７１の上の第１の位置にチャンバＣが位置決めされ、チャンバＣと棚板７１との間に移動機構Ｒａ及びＲｂが設けられていてもよい。棚板７１の上には、さらに、支持部ＩＳｂが設けられ、支持部ＩＳｂによって入射光学系ＩＳが支持及び位置決めされてもよい。棚板７１の上には、さらに、支持部ＯＳｂが設けられ、支持部ＯＳｂによって出射光学系ＯＳが支持及び位置決めされてもよい。棚板７２の上の第２の位置に電源装置ＰＳが位置決めされ、電源装置ＰＳと棚板７２との間に移動機構Ｒｃ及びＲｄが設けられていてもよい。
　移動機構Ｒａ及びＲｂは、棚板７１に設置されたレールと、チャンバＣに設けられた複数の車輪Ｗ１、Ｗ２、Ｗ４とを含んでもよい。移動機構Ｒｃ及びＲｄは、棚板７２に設置されたレールと、電源装置ＰＳに設けられた複数の車輪Ｗ５、Ｗ６、Ｗ８とを含んでもよい。それぞれの移動機構において、複数の車輪の数は任意でよい。レールに沿って車輪が動くことにより、チャンバＣや電源装置ＰＳが移動可能に構成されてもよい。
　あるいは、移動機構は、棚板７１又は７２に設置された車輪（図示せず）と、チャンバＣ又は電源装置ＰＳに設けられたレール（図示せず）とを含んでもよい。この場合、レールに沿って車輪が相対的に動くことによって、チャンバＣ又は電源装置ＰＳが移動可能に構成されてもよい。
　移動機構Ｒａ、Ｒｂ、Ｒｃ、Ｒｄは、レールを用いたものでなくてもよく、車輪を用いたものでなくてもよい。移動機構Ｒａ、Ｒｂ、Ｒｃ、Ｒｄにより、チャンバＣ及び電源装置ＰＳは、フレームＦからＸ方向に取り出され得る。逆に、チャンバＣ及び電源装置ＰＳは、移動機構によって－Ｘ方向に移動することにより、フレームＦ内に設置され得る。
　４．１．２　電気接続端子
　チャンバＣは、その－Ｘ方向の終端に位置する側面に、第１コネクタ６１を備えていてもよい。第１コネクタ６１は、電源装置ＰＳから電力の供給を受けるための複数の第１の電気接続端子を含んでもよい。電源装置ＰＳは、その－Ｘ方向の終端に位置する側面に、第２コネクタ６２を備えていてもよい。第２コネクタ６２は、チャンバＣに電力を供給するための複数の第２の電気接続端子を含んでもよい。
　フレームＦの内部空間における－Ｘ方向の終端に、固定板６６及び固定板６７が固定されていてもよい。
　固定板６６には、チャンバＣがフレームＦ内に収容されたときにチャンバＣの第１コネクタ６１と対向する位置に、第３コネクタ６３が配置されていてもよい。チャンバＣがフレームＦ内の第１の位置に配置されたとき、第１コネクタ６１と第３コネクタ６３とが接続されてもよい。そして、第１コネクタ６１と第３コネクタ６３とが接続されたときに、チャンバＣの－Ｘ方向への移動が規制され得る。第３コネクタ６３は、複数の第３の電気接続端子を含んでもよい。第１コネクタ６１と第３コネクタ６３とが接続されたときに、複数の第１の電気接続端子と複数の第３の電気接続端子とがそれぞれ接触してもよい。
　固定板６７には、電源装置ＰＳがフレームＦ内に収容されたときに電源装置ＰＳの第２コネクタ６２と対向する位置に、第４コネクタ６４が配置されていてもよい。電源装置ＰＳがフレームＦ内の第２の位置に配置されたとき、第２コネクタ６２と第４コネクタ６４とが接続されてもよい。そして、第２コネクタ６２と第４コネクタ６４とが接続されたときに、電源装置ＰＳの－Ｘ方向への移動が規制され得る。第４コネクタ６４は、複数の第４の電気接続端子を含んでもよい。第２コネクタ６２と第４コネクタ６４とが接続されたときに、複数の第２の電気接続端子と複数の第４の電気接続端子とがそれぞれ接触してもよい。複数の電気接続端子の例については、図１３Ａ及び図１３Ｂを参照しながら後述する。
　第３コネクタ６３に含まれる複数の第３の電気接続端子と、第４コネクタ６４に含まれる複数の第４の電気接続端子とは、複数の導電部材６５によって、それぞれ電気的に接続されていてもよい。第１コネクタ６１と第３コネクタ６３とが接続され、且つ、第２コネクタ６２と第４コネクタ６４とが接続されると、複数の導電部材６５を介して、電源装置ＰＳからチャンバＣに電力を供給可能となる。
　４．１．３　位置決め機構
　フレームＦには、そのＸ方向の終端に位置する側面に、固定部材７３及び７４が取り付け可能となっていてもよい。
　チャンバＣが第１の位置に配置された状態で、フレームＦに固定部材７３をボルトで取り付けることにより、チャンバＣのＸ方向への移動が規制され得る。従って、Ｘ軸に沿った方向以外の移動を規制する移動機構Ｒａ及びＲｂと、固定板６６に固定された第３コネクタ６３と、固定部材７３とで、チャンバＣを位置決めする位置決め機構が構成されてもよい。
　電源装置ＰＳが第２の位置に配置された状態で、フレームＦに固定部材７４をボルトで取り付けることにより、電源装置ＰＳのＸ方向への移動が規制され得る。従って、Ｘ軸に沿った方向以外の移動を規制する移動機構Ｒｃ及びＲｄと、固定板６７に固定された第４コネクタ６４と、固定部材７４とで、電源装置ＰＳを位置決めする位置決め機構が構成されてもよい。
　４．２　第２の例
　図８Ａは、第２の実施形態の第２の例に係るレーザ装置の側面図である。図８Ｂは、図８Ａに示されるレーザ装置の正面図である。図８Ａ及び図８Ｂにおいても、１つのフレームＦ及び１つの増幅ユニットが代表的に示されている。
　第２の例においては、電源装置ＰＳの移動機構Ｒｅ及びＲｆが第１の例における移動機構と異なってもよい。また、棚板７２は設けなくてもよい。図８Ａに示されるように、フレームＦの内部空間におけるＹ方向の終端及び－Ｙ方向の終端に、支持板７５及び７６が固定されていてもよい。支持板７５には移動機構Ｒｅが支持され、支持板７６には移動機構Ｒｆが支持されてもよい。移動機構Ｒｅ及びＲｆは、電源装置ＰＳのＹ方向及び－Ｙ方向の両端において、電源装置ＰＳを支持し、且つ電源装置ＰＳをＸ軸に沿って移動可能としてもよい。
　他の点については、第１の例と同様でよい。
　４．３　第３の例
　図９Ａは、第２の実施形態の第３の例に係るレーザ装置の平面図である。図９Ｃは、第２の実施形態の第３の例に係るレーザ装置の側面図である。図９Ｂ及び図９Ｄは、図９Ｃに示されるレーザ装置の正面図である。図９Ｂは、チャンバＣが位置決めされる直前の状態を示し、図９Ｃ及び図９Ｄは、チャンバＣが位置決めされた状態を示す。図９Ａ～図９Ｄにおいても、１つのフレームＦ及び１つの増幅ユニットが代表的に示されている。図９Ａにおいて、電源装置ＰＳや、その移動機構及び位置決め機構の図示は省略されている。
　第３の例においては、チャンバＣの位置決め機構と、第１コネクタ６１ａ及び第３コネクタ６３ａの配置とが、第１の例におけるものと異なってもよい。第３の例においては、さらに、チャンバＣを昇降させる昇降機構が備えられていてもよい。
　４．３．１　位置決め機構
　図９Ａ～図９Ｄに示されるように、チャンバＣを位置決めするために、棚板７１の上に、第１～第３マウント８１～８３を含むキネマティックマウントが配置されていてもよい。チャンバＣの底面には、半球状の下端部を有する第１～第３脚部８４～８６が配置されていてもよい。
　第１マウント８１の上面には、円錐状の窪みが形成されていてもよい。第１マウント８１は、その上面に第１脚部８４が載せられたときに、第１脚部８４を１点に位置決めし得る。第２マウント８２の上面には、Ｙ方向に沿った溝が形成されていてもよい。この溝は、Ｙ方向に垂直な断面がＶ字状であってもよい。第２マウント８２は、その上面に第２脚部８５が載せられたときに、第２脚部８５のＹ軸に沿った方向以外の移動を規制し得る。第３マウント８３の上面は、Ｚ方向に垂直な平面状であってもよい。第３マウント８３は、その上面に第３脚部８６が載せられたときに、第３脚部８６のＺ軸に沿った方向の移動を規制し得る。第１～第３マウント８１～８３を含むキネマティックマウントにより、チャンバＣの位置及び姿勢が決定され得る。
　４．３．２　昇降機構
　図９Ｂ及び図９Ｄに示されるように、チャンバＣは、昇降機構８７及び８８を有していてもよい。昇降機構８７及び８８は、それぞれ車輪Ｗ２及びＷ４とチャンバＣの筐体との間の距離を伸縮させることにより、チャンバＣの筐体を昇降させ得る。昇降機構は、車輪Ｗ２及びＷ４の他に、車輪Ｗ１や図示されない他の車輪にも備えられ得る。
　移動機構Ｒａ及びＲｂにより、チャンバＣの第１～第３脚部８４～８６がそれぞれ第１～第３マウント８１～８３の上方の位置に達するまで、チャンバＣが移動させられてもよい。このとき、昇降機構８７及び８８によってチャンバＣが降下させられることにより、チャンバＣが第１の位置に位置決めされてもよい。
　４．３．３　コネクタの配置
　図９Ｂ及び図９Ｄに示されるように、チャンバＣの底面に、複数の第１の電気接続端子を含む第１コネクタ６１ａが配置されていてもよい。また、棚板７１の上面に、複数の第３の電気接続端子を含む第３コネクタ６３ａが配置されていてもよい。チャンバＣが第１の位置に位置決めされたときに第１コネクタ６１ａと第３コネクタ６３ａとが接続されるように、第１コネクタ６１ａと第３コネクタ６３ａとが配置されていてもよい。
　他の点については、第１の例と同様でよい。あるいは、第３の例において、電源装置ＰＳの移動機構を第２の例のように構成してもよい。電源装置ＰＳの位置決めについては、キネマティックマウントを用いてもよいし、第１の例のように固定部材７４を用いてもよい。
　４．４　第４の例
　図１０Ａ及び図１０Ｂは、第２の実施形態の第４の例に係るレーザ装置の正面図である。図１０Ａは、チャンバＣが位置決めされる直前の状態を示し、図１０Ｂは、チャンバＣが位置決めされ、且つ、チャンバＣと電源装置ＰＳとが電気的に接続された状態を示す。図１０Ａ及び図１０Ｂにおいても、１つのフレームＦ及び１つの増幅ユニットが代表的に示されている。
　第４の例においては、チャンバＣと電源装置ＰＳとを電気的に接続するための構成が、第１の例におけるものと異なってもよい。固定板６６及び固定板６７には、第３コネクタ６３、第４コネクタ６４及び複数の導電部材６５が、設けられていなくてもよい。
　チャンバＣは、その－Ｘ方向の終端に位置する側面に、位置決め突起６８を備えていてもよい。図１０Ｂに示されるように、位置決め突起６８が固定板６６に接したときに、チャンバＣの－Ｘ方向への移動が規制され、チャンバＣが第１の位置に位置決めされ得る。チャンバＣは、そのＸ方向の終端に位置する側面に、複数の第１の電気接続端子を含む第１コネクタ６１ｂを備えていてもよい。
　電源装置ＰＳは、その－Ｘ方向の終端に位置する側面に、位置決め突起６９を備えていてもよい。図１０Ｂに示されるように、位置決め突起６９が固定板６７に接したときに、電源装置ＰＳの－Ｘ方向への移動が規制され、電源装置ＰＳが第２の位置に位置決めされ得る。電源装置ＰＳは、そのＸ方向の終端に位置する側面に、複数の第２の電気接続端子を含む第２コネクタ６２ｂを備えていてもよい。
　チャンバＣが第１の位置に配置され、電源装置ＰＳが第２の位置に配置された状態で、図１０Ａに示される接続部材６０がチャンバＣ及び電源装置ＰＳにボルト（図示せず）で取り付けられてもよい。接続部材６０は、複数の第３の電気接続端子を含む第３コネクタ６３ｂと、複数の第４の電気接続端子を含む第４コネクタ６４ｂと、を含んでもよい。接続部材６０がチャンバＣ及び電源装置ＰＳに取り付けられたときに、第１コネクタ６１ｂに第３コネクタ６３ｂが接続され、第２コネクタ６２ｂに第４コネクタ６４ｂが接続されてもよい。第１コネクタ６１ｂと第２コネクタ６２ｂとに対応する位置関係となるように、第３コネクタ６３ｂと第４コネクタ６４ｂとが接続部材６０に配置されていてもよい。
　第３コネクタ６３ｂに含まれる複数の第３の電気接続端子と、第４コネクタ６４ｂに含まれる複数の第４の電気接続端子とは、複数の導電部材６５ｂによって、それぞれ電気的に接続されていてもよい。これにより、電源装置ＰＳからチャンバＣに電力を供給可能となる。
　他の点については、第１の例と同様でよい。あるいは、第４の例において、電源装置ＰＳの移動機構を第２の例のように構成してもよい。あるいは、第４の例において、チャンバＣの位置決め機構を第３の例のように構成し、昇降機構を付加してもよい。あるいは、第１の例のように固定部材を備えてもよい。
　４．５　第５の例
　図１１Ａ～図１１Ｄは、第２の実施形態の第５の例に係るレーザ装置の正面図である。図１１Ａは、チャンバＣをフレームＦに収容するために運搬している状態を示す。図１１Ｂは、チャンバＣがフレームＦに収容される状態を示す。図１１Ｃは、さらに、電源装置ＰＳをフレームＦに収容するために運搬している状態を示す。図１１Ｄは、さらに、電源装置ＰＳがフレームＦに収容される状態を示す。図１１Ａ～図１１Ｄにおいても、１つのフレームＦ及び１つの増幅ユニットが代表的に示されている。
　第５の例においては、チャンバＣ及び電源装置ＰＳをフレームＦに収容する第１の方法が示される。図１１Ａに示されるように、チャンバＣは、台車ＣＡ１によって運搬されてもよい。台車ＣＡ１には、図９Ａ～図９Ｄを参照しながら説明した第１～第３マウント８１～８３を含むキネマティックマウントが配置されていてもよい。チャンバＣは、台車ＣＡ１による運搬中においては、第１～第３マウント８１～８３によって台車ＣＡ１に位置決めされていてもよい。さらに、台車ＣＡ１には、移動機構Ｒｇが配置されていてもよい。
　図１１Ｂに示されるように、チャンバＣを搭載した台車ＣＡ１がフレームＦの脇に到達したとき、作業者は、台車ＣＡ１とフレームＦとの間に接続機構Ｒｈを配置してもよい。接続機構Ｒｈは、台車ＣＡ１に配置されている移動機構Ｒｇと、フレームＦに配置されている移動機構Ｒｂとを接続するものでもよい。
　次に、昇降機構８７及び８８により、チャンバＣの筐体を台車ＣＡ１上で上昇させてもよい。これにより、チャンバＣは第１～第３マウント８１～８３による位置決めから開放され、移動機構Ｒｇによって移動可能となり得る。
　次に、移動機構Ｒｇ、接続機構Ｒｈ及び移動機構Ｒｂにより、チャンバＣをフレームＦの内部に移動させてもよい。チャンバＣの第１～第３脚部８４～８６がそれぞれフレームＦ内の第１～第３マウント８１～８３の上方の位置に達したとき、昇降機構８７及び８８により、チャンバＣの筐体を下降させてもよい。これにより、チャンバＣがフレームＦ内の第１の位置に位置決めされ、且つ、第１コネクタ６１ａと第３コネクタ６３ａとが接続され得る。その後、接続機構Ｒｈを取り外して台車ＣＡ１を退避させてもよい。
　図１１Ｃに示されるように、電源装置ＰＳは、台車ＣＡ２によって運搬されてもよい。台車ＣＡ２は、昇降装置８０を備えていてもよい。さらに、台車ＣＡ２には、移動機構Ｒｇが配置されていてもよい。
　図１１Ｄに示されるように、電源装置ＰＳを搭載した台車ＣＡ２がフレームＦの脇に到達したとき、昇降装置８０により、台車ＣＡ２に搭載された電源装置ＰＳを移動機構Ｒｇとともに上昇させてもよい。移動機構Ｒｇの高さと、フレームＦに配置されている移動機構Ｒｄの高さとが一致するようにしてもよい。次に、作業者は、台車ＣＡ２とフレームＦとの間に接続機構Ｒｈを配置してもよい。接続機構Ｒｈは、台車ＣＡ２に配置されている移動機構Ｒｇと、フレームＦに配置されている移動機構Ｒｄとを接続するものでもよい。
　次に、移動機構Ｒｇ、接続機構Ｒｈ及び移動機構Ｒｄにより、電源装置ＰＳをフレームＦの内部に移動させてもよい。これにより、電源装置ＰＳを第２の位置に収容し、第２コネクタ６２と第４コネクタ６４とを接続させることができる。その後、接続機構Ｒｈを取り外して台車ＣＡ２を退避させてもよい。電源装置ＰＳ又はチャンバＣをフレームＦから取り出すときは、それぞれを収容した上記の手順と逆の手順を行ってもよい。
　他の点については、第３の例と同様でよい。あるいは、第５の例において、チャンバＣの位置決めを第１の例のように行ってもよい。あるいは、第５の例において、電源装置ＰＳの移動機構を第２の例のように構成してもよい。あるいは、第１の例のように固定部材を備えてもよい。あるいは、第５の例において、チャンバＣと電源装置ＰＳとの電気的接続を第４の例のように行ってもよい。
　４．６　第６の例
　図１２Ａ及び図１２Ｂは、第２の実施形態の第６の例に係るレーザ装置の正面図である。図１２Ａは、チャンバＣ及び電源装置ＰＳをフレームＦに収容するために運搬している状態を示す。図１２Ｂは、チャンバＣ及び電源装置ＰＳがフレームＦに収容される状態を示す。図１２Ａ及び図１２Ｂにおいても、１つのフレームＦ及び１つの増幅ユニットが代表的に示されている。
　第６の例においては、チャンバＣ及び電源装置ＰＳをフレームＦに収容する第２の方法が示される。図１２Ａに示されるように、チャンバＣの上に電源装置ＰＳが載せられた状態で、これらが台車ＣＡ１によって運搬されてもよい。台車ＣＡ１には、図９Ａ～図９Ｄを参照しながら説明した第１～第３マウント８１～８３を含むキネマティックマウントが配置されていてもよい。さらに、台車ＣＡ１には、移動機構Ｒｇが配置されていてもよい。
　図１２Ｂに示されるように、チャンバＣ及び電源装置ＰＳを搭載した台車ＣＡ１がフレームＦの脇に到達したとき、作業者は、台車ＣＡ１とフレームＦとの間に接続機構Ｒｈを配置してもよい。接続機構Ｒｈは、台車ＣＡ１に配置されている移動機構Ｒｇと、フレームＦに配置されている移動機構Ｒｂとを接続するものでもよい。
　次に、昇降機構８７及び８８により、チャンバＣの筐体及び電源装置ＰＳを台車ＣＡ１上で上昇させてもよい。これにより、チャンバＣ及び電源装置ＰＳは第１～第３マウント８１～８３による位置決めから開放され、移動機構Ｒｇによって移動可能となり得る。
　次に、移動機構Ｒｇ、接続機構Ｒｈ及び移動機構Ｒｂにより、チャンバＣ及び電源装置ＰＳをフレームＦの内部に移動させてもよい。チャンバＣの第１～第３脚部８４～８６がそれぞれフレームＦ内の第１～第３マウント８１～８３の上方の位置に達したとき、昇降機構８７及び８８により、チャンバＣの筐体及び電源装置ＰＳを下降させてもよい。
　これにより、チャンバＣがフレームＦ内の第１の位置に、電源装置ＰＳがチャンバＣの上であってフレームＦ内の第２の位置に、それぞれ配置され得る。このとき、第１コネクタ６１ａ及び第３コネクタ６３ａが接続され、且つ、第２コネクタ６２及び第４コネクタ６４が接続されてもよい。その後、接続機構Ｒｈを取り外して台車ＣＡ１を退避させてもよい。電源装置ＰＳ及びチャンバＣをフレームＦから取り出すときは、これらを収容した上記の手順と逆の手順を行ってもよい。
　他の点については、第３の例と同様でよい。あるいは、第６の例において、チャンバＣと電源装置ＰＳとの電気的接続を第１又は第４の例のように行ってもよい。あるいは、チャンバＣと電源装置ＰＳとの電気的接続は、チャンバＣの上面に設けられたコネクタ（図示せず）と、電源装置ＰＳの底面に設けられたコネクタ（図示せず）とにより、直接なされてもよい。また、第６の例において、チャンバＣの位置決めを第１の例のように行ってもよい。あるいは、第６の例において、昇降装置を有する台車ＣＡ２が用いられてもよい。
　４．７　複数の電気接続端子
　図１３Ａ及び図１３Ｂは、それぞれ、複数の電気接続端子の例を示す。図１３Ａに示される複数の電気接続端子の平面的な配置と、図１３Ｂに示される複数の電気接続端子の平面的な配置とは左右対称になっており、互いに対向して配置され嵌まり合う関係を有する。第１コネクタ６１に含まれる複数の電気接続端子が図１３Ａに示されるものであるとすれば、第３コネクタ６３に含まれる複数の電気接続端子は図１３Ｂに示されるものとなる。第４コネクタ６４に含まれる複数の電気接続端子が図１３Ａに示されるものであるとすれば、第２コネクタ６２に含まれる複数の電気接続端子は図１３Ｂに示されるものとなる。
　図１３Ａに示される複数の電気接続端子は、１つの高電圧端子を含む高電圧接続部９１ａと、別の高電圧端子を含む高電圧接続部９２ａと、３つの端子を含む三相電源接続部９３ａと、多数の信号線端子を含む信号線接続部９４ａとを含んでもよい。それぞれの接続部の両端には、位置決めピンが位置していてもよい。
　図１３Ｂに示される複数の電気接続端子は、１つの高電圧端子を含む高電圧接続部９１ｂと、別の高電圧端子を含む高電圧接続部９２ｂと、３つの端子を含む三相電源接続部９３ｂと、多数の信号線端子を含む信号線接続部９４ｂとを含んでもよい。それぞれの接続部の両端には、上述の位置決めピンと嵌まり合うピン穴が位置していてもよい。
　また、例えば図１３Ａに示される複数の電気接続端子がプラグ（オス）であれば、図１３Ｂに示される複数の電気接続端子はソケット（メス）であってもよい。また、一方のコネクタにオスメスが混在していても、他方のコネクタがそれと嵌まり合うようになっていればよい。
　第２の実施形態によれば、チャンバＣ及び電源装置ＰＳをそれぞれの位置に配置し、チャンバＣと電源装置ＰＳとを電気的に接続する作業負荷が軽減され得る。従って、チャンバＣ及び電源装置ＰＳの設置作業が省力化され得る。
　上記の説明は、制限ではなく単なる例示を意図したものである。従って、添付の特許請求の範囲を逸脱することなく本開示の実施形態に変更を加えることができることは、当業者には明らかであろう。
　本明細書及び添付の特許請求の範囲全体で使用される用語は、「限定的でない」用語と解釈されるべきである。例えば、「含む」又は「含まれる」という用語は、「含まれるものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。「有する」という用語は、「有するものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。また、本明細書及び添付の特許請求の範囲に記載される修飾句「１つの」は、「少なくとも１つ」又は「１又はそれ以上」を意味すると解釈されるべきである。

Claims (15)

  1. 　フレームと、
    　前記フレームに位置決めされた第１増幅器と、
    　前記フレームに位置決めされた第１の入射光学系であって、外部機器で生成されたパルスレーザ光を、前記第１増幅器に入射させる前記第１の入射光学系と、
    　前記フレームに位置決めされた第１の出射光学系であって、前記第１増幅器から第１方向に出射したパルスレーザ光を、前記第１方向と異なる第２方向に出射させる前記第１の出射光学系と、
    を備えるレーザ装置。
  2. 　前記フレームに位置決めされた第２増幅器と、
    　前記フレームに位置決めされた第２の入射光学系であって、前記第１の出射光学系から前記第２方向に出射したパルスレーザ光を、前記第１方向と実質的に逆方向であり且つ前記第２方向と異なる第３方向に向けて前記第２増幅器に入射させる前記第２の入射光学系と、
    　前記フレームに位置決めされた第２の出射光学系であって、前記第２増幅器から前記第３方向に出射したパルスレーザ光を、前記第３方向に出射させる前記第２の出射光学系と、
    をさらに備える請求項１記載のレーザ装置。
  3. 　前記第１の出射光学系は光センサを含み、
    　前記第１の入射光学系は前記光センサからの出力に基づいて制御されるビーム調節器を含む、
    請求項１記載のレーザ装置。
  4. 　外部機器で生成されたパルスレーザ光を通過させ第１方向に出射させるように構成された第１チャンバと、
    　前記第１チャンバから出射したパルスレーザ光を通過させ前記第１方向に出射させるように構成された第３チャンバと、
    　前記第３チャンバから出射したパルスレーザ光を、前記第１方向と異なる第２方向に出射させるように構成された第１光学系と、
    　前記第１光学系から出射したパルスレーザ光を、前記第１方向と実質的に逆方向であり且つ前記第２方向と異なる第３方向に出射させるように構成された第２光学系と、
    　前記第２光学系から出射したパルスレーザ光を通過させ前記第３方向に出射させるように構成された第４チャンバと、
    　前記第４チャンバから出射したパルスレーザ光を通過させ前記第３方向に出射させるように構成された第２チャンバと、
    を備えるレーザ装置。
  5. 　前記第１～前記第４チャンバのうちの少なくとも３つは、それぞれパルスレーザ光を増幅して通過させるように構成された、請求項４記載のレーザ装置。
  6. 　前記第１チャンバ及び前記第２チャンバが位置決めされた第１フレームと、
    　前記第３チャンバ及び前記第４チャンバが位置決めされ、前記第１フレームと分離可能に構成された第２フレームと、
    　前記第１フレームと前記第２フレームとを互いに固定する固定機構と、
    をさらに備える請求項４記載のレーザ装置。
  7. 　前記固定機構によって互いに固定された前記第１フレームと前記第２フレームとを、弾性的に支持するダンパーをさらに備える、請求項６記載のレーザ装置。
  8. 　第１チャンバ及び第２チャンバを備えるレーザ装置に、第３チャンバ及び第４チャンバを増設する方法であって、
    　(A1)外部機器で生成されたパルスレーザ光を通過させ第１方向に出射させる前記第１チャンバと、
    　(A2)前記第１チャンバから出射したパルスレーザ光を、前記第１方向と異なる第２方向に出射させる第１光学系と、
    　(A3)前記第１光学系から出射したパルスレーザ光を、前記第１方向と実質的に逆方向であり且つ前記第２方向と異なる第３方向に出射させる第２光学系と、
    　(A4)前記第２光学系から出射したパルスレーザ光を通過させ前記第３方向に出射させる前記第２チャンバと、
    を備える前記レーザ装置における前記第１光学系が、前記第１チャンバから出射したパルスレーザ光を前記第１方向に出射させる光学系となるように、前記第１光学系を変更すること（Ａ）と、
    　(B1)前記第１光学系から出射したパルスレーザ光を通過させ前記第１方向に出射させる前記第３チャンバと、
    　(B2)前記第３チャンバから出射したパルスレーザ光を前記第２方向に出射させる第３光学系と、
    　(B3)前記第３光学系から出射したパルスレーザ光を前記第３方向に出射させる第４光学系と、
    　(B4)前記第４光学系から出射したパルスレーザ光を通過させ前記第３方向に出射させる前記第４チャンバと、
    を追加すること（Ｂ）と、
    　前記レーザ装置における前記第２光学系が、前記第４チャンバから出射したパルスレーザ光を前記第２チャンバに向けて前記第３方向に出射させる光学系となるように、前記第２光学系を変更すること（Ｃ）と、
    を含む方法。
  9. 　前記第１～前記第４チャンバのうちの少なくとも３つは、それぞれパルスレーザ光を増幅して通過させるように構成された、請求項８記載の方法。
  10. 　前記第１光学系が、前記第１チャンバから出射したパルスレーザ光を前記第２方向に出射させる第１ミラーを含み、
    　前記第２光学系が、前記第１光学系から出射したパルスレーザ光を前記第３方向に出射させる第２ミラーを含み、
    　前記第１光学系を変更すること（Ａ）及び前記第２光学系を変更すること（Ｃ）が、前記第１ミラー及び前記第２ミラーを、前記第１チャンバと前記第２チャンバとの間のパルスレーザ光の光路から取り除くことを含む、請求項８記載の方法。
  11. 　前記第３光学系は、前記第３チャンバから出射したパルスレーザ光を、前記第２方向に出射させる第３ミラーを含み、
    　前記第４光学系は、前記第３光学系から出射したパルスレーザ光を、前記第３方向に出射させる第４ミラーを含み、
    　前記第１ミラー及び前記第２ミラーのうちの少なくとも１つを、前記第３ミラー及び前記第４ミラーのうちの少なくとも１つとして再利用する、請求項１０記載の方法。
  12. 　複数の第１の電気接続端子を有する増幅器と、
    　複数の第２の電気接続端子を有し、前記増幅器に電力を供給する電源装置と、
    　前記増幅器及び前記電源装置が配置されるフレームであって、
    　　前記増幅器が当該フレームの第１の位置に、前記電源装置が当該フレームの第２の位置にそれぞれ配置されるように、前記増幅器及び前記電源装置を位置決めする位置決め機構と、
    　　前記増幅器が前記第１の位置に配置されているときに前記複数の第１の電気接続端子とそれぞれ接触するように配置された複数の第３の電気接続端子と、
    　　前記電源装置が前記第２の位置に配置されているときに前記複数の第２の電気接続端子とそれぞれ接触するように配置された複数の第４の電気接続端子と、
    　　前記複数の第３の電気接続端子と前記複数の第４の電気接続端子とをそれぞれ電気的に接続する複数の導電部材と、
    を有する前記フレームと、
    を備えるレーザ装置。
  13. 　前記増幅器を重力方向と交差する方向に移動させる移動機構をさらに備え、
    　前記複数の第１の電気接続端子は前記増幅器の側面に位置する、
    請求項１２記載のレーザ装置。
  14. 　前記増幅器を昇降させる昇降機構をさらに備え、
    　前記複数の第１の電気接続端子は前記増幅器の底面に位置する、
    請求項１２記載のレーザ装置。
  15. 　複数の第１の電気接続端子を有する増幅器と、
    　複数の第２の電気接続端子を有し、前記増幅器に電力を供給する電源装置と、
    　前記増幅器及び前記電源装置が配置されるフレームであって、
    　　前記増幅器が当該フレームの第１の位置に、
    　　前記電源装置が当該フレームの第２の位置に
    それぞれ配置されるように、前記増幅器及び前記電源装置を位置決めする位置決め機構を有する前記フレームと、
    　前記増幅器が前記第１の位置に配置され、且つ、前記電源装置が前記第２の位置に配置されているときに、前記増幅器及び前記電源装置に取り付けられる接続部材であって、
    　　当該接続部材が前記増幅器及び前記電源装置に取り付けられているときに前記複数の第１の電気接続端子とそれぞれ接触する複数の第３の電気接続端子と、
    　　当該接続部材が前記増幅器及び前記電源装置に取り付けられているときに前記複数の第２の電気接続端子とそれぞれ接触する複数の第４の電気接続端子と、
    　　前記複数の第３の電気接続端子と前記複数の第４の電気接続端子とをそれぞれ電気的に接続する複数の導電部材と、
    を有する前記接続部材と、
    を備えるレーザ装置。
PCT/JP2013/081642 2013-11-25 2013-11-25 レーザ装置、及びレーザ装置にチャンバを増設する方法 Ceased WO2015075838A1 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/JP2013/081642 WO2015075838A1 (ja) 2013-11-25 2013-11-25 レーザ装置、及びレーザ装置にチャンバを増設する方法
JP2015548955A JP6283036B2 (ja) 2013-11-25 2013-11-25 レーザ装置、及びレーザ装置にチャンバを増設する方法
US15/146,259 US10250007B2 (en) 2013-11-25 2016-05-04 Laser apparatus and method for adding chamber to laser apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/JP2013/081642 WO2015075838A1 (ja) 2013-11-25 2013-11-25 レーザ装置、及びレーザ装置にチャンバを増設する方法

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
US15/146,259 Continuation US10250007B2 (en) 2013-11-25 2016-05-04 Laser apparatus and method for adding chamber to laser apparatus

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2015075838A1 true WO2015075838A1 (ja) 2015-05-28

Family

ID=53179140

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2013/081642 Ceased WO2015075838A1 (ja) 2013-11-25 2013-11-25 レーザ装置、及びレーザ装置にチャンバを増設する方法

Country Status (3)

Country Link
US (1) US10250007B2 (ja)
JP (1) JP6283036B2 (ja)
WO (1) WO2015075838A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018150530A1 (ja) * 2017-02-17 2018-08-23 ギガフォトン株式会社 極端紫外光生成装置

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102024105689A1 (de) * 2024-02-28 2025-08-28 TRUMPF Lasersystems for Semiconductor Manufacturing SE Vorrichtung zum Verstärken von Laserstrahlung und Verfahren zum Betrieb einer Vorrichtung zum Verstärken von Laserstrahlung
DE102024105688A1 (de) * 2024-02-28 2025-08-28 TRUMPF Lasersystems for Semiconductor Manufacturing SE Vorrichtung zum Verstärken von Laserstrahlung und Verfahren zum Einstellen eines möglichst formstabilen Zustands eines Grundgestells einer Vorrichtung zum Verstärken von Laserstrahlung

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02275686A (ja) * 1988-11-15 1990-11-09 Lambda Physik Forschungs & Entwickl Gmbh ガス放電レーザー
JP2006128157A (ja) * 2004-10-26 2006-05-18 Komatsu Ltd 極端紫外光源装置用ドライバレーザシステム
WO2011102534A2 (en) * 2010-02-19 2011-08-25 Gigaphoton Inc. Laser device, extreme ultraviolet light generation device, and method for maintaining the devices
WO2012114178A2 (en) * 2011-02-23 2012-08-30 Gigaphoton Inc. Optical device, laser apparatus, and extreme ultraviolet light generation system
WO2012132675A1 (en) * 2011-03-30 2012-10-04 Gigaphoton Inc. Laser apparatus
JP2013229562A (ja) * 2012-03-29 2013-11-07 Gigaphoton Inc レーザ装置、および、レーザ装置の製造方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20050271110A1 (en) * 2003-08-22 2005-12-08 Rainer Paetzel Excimer laser system with stable beam output
JP5429950B2 (ja) * 2007-10-17 2014-02-26 ギガフォトン株式会社 レーザ装置

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02275686A (ja) * 1988-11-15 1990-11-09 Lambda Physik Forschungs & Entwickl Gmbh ガス放電レーザー
JP2006128157A (ja) * 2004-10-26 2006-05-18 Komatsu Ltd 極端紫外光源装置用ドライバレーザシステム
WO2011102534A2 (en) * 2010-02-19 2011-08-25 Gigaphoton Inc. Laser device, extreme ultraviolet light generation device, and method for maintaining the devices
WO2012114178A2 (en) * 2011-02-23 2012-08-30 Gigaphoton Inc. Optical device, laser apparatus, and extreme ultraviolet light generation system
WO2012132675A1 (en) * 2011-03-30 2012-10-04 Gigaphoton Inc. Laser apparatus
JP2013229562A (ja) * 2012-03-29 2013-11-07 Gigaphoton Inc レーザ装置、および、レーザ装置の製造方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018150530A1 (ja) * 2017-02-17 2018-08-23 ギガフォトン株式会社 極端紫外光生成装置
JPWO2018150530A1 (ja) * 2017-02-17 2019-12-12 ギガフォトン株式会社 極端紫外光生成装置
US10716198B2 (en) 2017-02-17 2020-07-14 Gigaphoton Inc. Extreme ultraviolet light generation apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
JP6283036B2 (ja) 2018-02-21
US10250007B2 (en) 2019-04-02
JPWO2015075838A1 (ja) 2017-03-16
US20160248213A1 (en) 2016-08-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8759804B2 (en) Chamber apparatus and extreme ultraviolet light generation system
JP5758750B2 (ja) 極端紫外光生成システム
TWI580319B (zh) 極端紫外光產生設備
KR101898750B1 (ko) 극자외선광 생성 장치
US9229192B2 (en) Mirror device
JP6283036B2 (ja) レーザ装置、及びレーザ装置にチャンバを増設する方法
US20110168925A1 (en) Source-collector module with GIC mirror and LPP EUV light source
US9325150B2 (en) Alignment system and extreme ultraviolet light generation system
KR20140023927A (ko) 정전기 클램프 장치 및 리소그래피 장치
CN104937494A (zh) 用于光刻设备的衬底支撑件和光刻设备
US20250314977A1 (en) Optical system and lithography system
JP2013048202A (ja) レーザシステム
US8698113B2 (en) Chamber apparatus and extreme ultraviolet (EUV) light generation apparatus including the chamber apparatus
JP6557661B2 (ja) 極端紫外光生成装置
TWI480706B (zh) An exposure apparatus, a method of assembling the same, and a method of manufacturing the same
JP6232462B2 (ja) アライメントシステム
Tichenor et al. Performance upgrades in the EUV engineering test stand
Yoshioka et al. Tin DPP source collector module (SoCoMo): status of Beta products and HVM developments
US11281114B2 (en) Projection exposure apparatus for semiconductor lithography
TWI694310B (zh) 陶瓷元件之間力合連接的連接配置及力合連接的方法
CN110291462A (zh) 设备和操作设备的方法
JP6152549B2 (ja) レーザ装置、および、レーザ装置の製造方法
JP2017097375A (ja) 極端紫外光生成装置
JP2008182057A (ja) 露光装置
JP2009252848A (ja) 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 13897787

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2015548955

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 13897787

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1