WO2014161232A1 - 液晶面板、显示装置以及液晶面板的制造方法 - Google Patents

液晶面板、显示装置以及液晶面板的制造方法 Download PDF

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Definitions

  • Liquid crystal panel display device, and manufacturing method of liquid crystal panel
  • Figs. 1 and 2 show the direction of light propagation.
  • the black matrix 80 is usually further broadened in design to reduce the light leakage caused by the alignment deviation, but this method is at the expense of the aperture ratio, and at the same time, the light is reduced to another extent. Transmittance rate. Summary of the invention
  • the orientation of the liquid crystal molecules corresponding to the thin film transistor region is different from the orientation of the liquid crystal molecules corresponding to the pixel display region.
  • FIG. 3 is a schematic structural view of a liquid crystal panel in a state where no voltage is applied according to the first embodiment of the present invention
  • FIG. 6 is a schematic structural view of a liquid crystal panel in a voltage-increasing state according to a second embodiment of the present invention
  • FIG. 7 is a schematic structural view of a liquid crystal panel in a state where no voltage is applied according to a third embodiment of the present invention
  • a liquid crystal panel includes an array substrate 10, an opposite substrate 20 disposed opposite to the array substrate 10 and disposed opposite the array substrate 20, and a liquid crystal layer 30 disposed between the array substrate 10 and the opposite substrate 20.
  • the array substrate 10 and the opposite substrate 20 are disposed in parallel, and the liquid crystal layer 30 is filled in the space between the array substrate 10 and the opposite substrate 20.
  • the array substrate 10 includes a plurality of gate lines (not shown), a plurality of data lines 70, a plurality of gate lines and a plurality of data lines 70 defining a plurality of pixel units, and the pixel unit includes a pixel display area 1 and a thin film transistor. Area (not shown).
  • the pretilt angle of the first alignment layer 3 of the thin film transistor region is the same as the pretilt angle of the second alignment portion 32.
  • the first alignment layer described in the embodiment of the present invention includes the first alignment portion and the second alignment portion, that is, the first alignment portion and the second alignment portion are a part of the first alignment layer.
  • the second alignment layer described in the embodiment of the present invention includes the third alignment portion and the fourth alignment portion, that is, the third alignment portion and the fourth alignment portion are part of the second alignment layer.
  • the pretilt angle of the alignment layer (orientation portion) is the angle of the slope of the surface groove of the alignment layer (orientation portion), and determines the pretilt angle of the liquid crystal molecules.
  • the orientation direction of the alignment layer (orientation portion) refers to the direction in which the alignment layer is rubbed during the rubbing alignment treatment.
  • Step 3 Align the array substrate 10 with the opposite substrate 20.
  • the material of the first protective layer 13 and the material of the second protective layer 23 are both quartz.

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Abstract

提供了液晶面板、显示装置以及液晶面板的制造方法。根据实施例的液晶面板中，像素显示区域（1）对应的液晶分子（40）的取向与布线区域（2）对应的液晶分子（40）的取向不相同，以使对液晶面板加电时，像素显示区域（1）对应的液晶分子（40）的偏转角度与布线区域（2）对应的液晶分子（40）的偏转角度不一致。根据实施例的显示装置包括该液晶面板。根据实施例的液晶面板的制造方法包括使阵列基板（10）上的布线区域（2）的取向层的预倾角大于像素显示区域（1）的取向层的预倾角。

Description

液晶面板、 显示装置以及液晶面板的制造方法 技术领域
本发明的实施例涉及一种液晶面板、显示装置以及液晶面板的制造方法。 背景技术
近些年来， 液晶显示器（TFT-LCD )以其轻薄化的特点逐步取代了阴极 射线管显示器（CRT ) 。 通常， 液晶显示器包括液晶面板和背光模组。 如图 1、 图 2所示， 常见的液晶面板包括阵列基板 10、 与阵列基板 10平行设置的 相对基板 20, 阵列基板与相对基板之间填充有液晶层 30。 在阵列基板 10上 靠近液晶层 30—侧和相对基板 20上靠近液晶层 30—侧分别涂布取向层并分 别进行取向处理， 以使液晶层 30的液晶分子 40取向并形成初始预倾角。 阵 列基板 10上设置有像素显示区域 1以及布线区域 2, 相对基板 20上则设置 有黑矩阵 80和彩色滤光层 90。 在阵列基板 10的外侧面和相对基板 20的外 侧面分别贴附有起偏器和检偏器（图中未示出） ， 以使背光模组发出的光线 成为线性偏振光。 当对液晶面板加电，液晶层 30的液晶分子 40将发生偏转， 液晶面板显示图像。
上述液晶面板中， 相对基板 20上设置的黑矩阵 80用来阻挡背光模组发 出的， 经过阵列基板 10上的布线区域 2及 TFT驱动部分的光线， 以此提高 显示的对比度，防止混色和增加颜色的纯度。通常黑矩阵 80的设计宽度大于 阵列基板 10上的布线的宽度， 但是在实际生产过程中， 阵列基板 10与相对 基板 20对盒时，往往存在对位偏差，导致阵列基板 10和相对基板 20对位贴 合不良， 以致黑矩阵 80发生侧移， 不能很好的遮挡阵列基板 10上的布线及 TFT驱动部分。 图 1、 图 2中的空心箭头示出了光线传播方向， 当对上述液 晶面板通电时， 光线从黑矩阵 80的边缘漏出， 由此产生漏光现象。对于上述 问题， 通常在设计上将黑矩阵 80进一步加宽以减少对位偏差带来的漏光现 象， 但是这种做法是以牺牲开口率为代价的， 同时在另一种程度上也降低了 光线的透过率。 发明内容
本发明的目的之一在于提供一种既能防止产生漏光现象， 又可以提高开 口率及光线透过率的液晶面板、 显示装置以及液晶面板的制造方法。
根据本发明的一个实施例提供一种液晶面板， 包括阵列基板、 相对基板 以及位于所述阵列基板和所述相对基板之间的液晶层， 所述阵列基板上包括 多条栅线、 多条数据线， 所述多条栅线和所述多条数据线限定出多个像素单 元， 所述像素单元包括像素显示区域以及薄膜晶体管区域， 所述像素显示区 域对应的液晶分子的取向与所述栅线、 数据线所在的布线区域对应的液晶分 子的取向不相同， 以使对所述液晶面板加电时， 所述像素显示区域对应的液 晶分子的偏转角度与所述布线区域对应的液晶分子的偏转角度不一致。
在一个示例中， 所述薄膜晶体管区域对应的液晶分子的取向与所述像素 显示区域对应的液晶分子的取向不同。
在一个示例中， 所述薄膜晶体管区域对应的液晶分子的取向与布线区域 对应的液晶分子的取向相同。
在一个示例中， 所述布线区域对应的液晶分子的取向保持与所述阵列基 板、 所述相对基板垂直。
在一个示例中， 取向保持与所述阵列基板、 所述相对基板垂直的液晶分 子形成所述液晶层内的垂直取向区域， 所述垂直取向区域的宽度等于或大于 所述阵列基板的布线区域的宽度。
在一个示例中， 所述垂直取向区域的宽度与所述阵列基板的布线区域的 宽度差值不超过 1微米。
在一个示例中， 所述阵列基板靠近液晶层一侧设置有第一取向层， 所述 第一取向层包括位置与像素显示区域对应的第一取向部以及位置与布线区域 对应的第二取向部， 所述第二取向部的预倾角不同于所述第一取向部的预倾 角。
在一个示例中， 所述相对基板靠近液晶层一侧设置有第二取向层， 所述 第二取向层包括与第一取向部对应的第三取向部以及与第二取向部对应的第 四取向部， 所述第四取向部的预倾角不同于所述第三取向部的预倾角。
在一个示例中，所述第二取向部的预倾角大于所述第一取向部的预倾角， 以使布线区域的液晶分子的预倾角大于所述像素显示区域对应的液晶分子的 预倾角。
在一个示例中，所述第四取向部的预倾角大于所述第三取向部的预倾角。 在一个示例中， 所述薄膜晶体管区域的第一取向层的预倾角与第二取向 部的预倾角相同。
在一个示例中， 所述第一取向部的取向方向与所述第三取向部的取向方 向垂直， 所述第二取向部的取向方向与所述第四取向部的取向方向平行。
根据本发明的另一个实施例提供一种显示装置， 包括本发明任一实施例 的液晶面板。
根据本发明的再一个实施例提供一种液晶面板的制造方法， 包括以下步 骤：
步骤一、 在阵列基板上涂布取向层材料， 形成第一取向层， 在相对基板 上涂布取向层材料， 形成第二取向层， 分别对阵列基板上的第一取向层和相 对基板上的第二取向层进行摩擦取向；
步骤二、 在所述阵列基板上的像素显示区域的表面覆盖第一保护层， 利 用倾斜蒸镀法使所述阵列基板上的布线区域的取向层的预倾角大于所述像素 显示区域的取向层的预倾角， 去除所述第一保护层；
步骤三、 将所述阵列基板与所述相对基板对盒。
在一个示例中， 所述步骤二还包括在所述相对基板上的与所述阵列基板 上的像素显示区域对应的第一区域的表面覆盖第二保护层， 利用倾斜蒸镀法 改变所述相对基板上的与所述阵列基板上的布线区域对应的第二区域的取向 层的取向方向， 使第二区域的取向层的预倾角大于第一区域的取向层的预倾 角， 去除所述第二保护层。
在一个示例中， 所述制造方法还包括在所述步骤二和所述步骤三之间将 液晶滴注在所述阵列基板或所述相对基板的形成有取向层的表面上； 或者在 所述步骤三之后将液晶注入到所述阵列基板与所述相对基板之间。
根据本发明实施例的液晶面板， 通过改变像素显示区域对应的液晶分子 以及布线区域对应的液晶分子的取向方向， 使像素显示区域对应的液晶分子 的偏转一直与布线区域对应的液晶分子的偏转不一致， 利用布线区域对应的 液晶分子的偏转紊乱阻挡光线。 即使在进行对盒工艺时， 阵列基板与相对基 板产生对位偏差， 黑矩阵没有遮挡到像素显示区域的边缘， 布线区域对应的 紊乱的液晶分子阻挡了光线， 从而减少暗态显示时， 像素显示区域与布线区 域之间的漏光现象， 提高了对比度。 相对于现有技术， 本发明的液晶面板的 黑矩阵的宽度可以缩小一些， 这样就提高了开口率， 同时改善了透过率。
本发明实施例中所述的第一取向层包括第一取向部和第二取向部， 即第 一取向部和第二取向部是第一取向层的一部分。 本发明实施例中所述的第二 取向层包括第三取向部和第四取向部， 即第三取向部和第四取向部是第二取 向层的一部分。 取向层（取向部） 的预倾角是取向层（取向部）表面沟槽斜 面的角度， 决定了液晶分子的预倾角。 取向层（取向部） 的取向方向指对取 向层进行摩擦取向处理时摩擦的方向。 附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案， 下面将对实施例的附图作 筒单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅涉及本发明的一些实施例， 而非对本发明的限制。
图 1为现有技术的液晶面板的在不加电压状态的结构示意图；
图 2为现有技术的液晶面板的在加电压状态的结构示意图；
图 3 为根据本发明第一实施例的液晶面板在不加电压状态的结构示意 图；
图 4为根据本发明第一实施例的液晶面板在加电压状态的结构示意图； 图 5 为根据本发明第二实施例的液晶面板在不加电压状态的结构示意 图；
图 6为根据本发明第二实施例的液晶面板在加电压状态的结构示意图； 图 7为根据本发明第三实施例液晶面板在不加电压状态的结构示意图； 图 8为根据本发明实施例的液晶面板的制造方法的流程示意图。 具体实施方式
为使本发明实施例的目的、 技术方案和优点更加清楚， 下面将结合本发 明实施例的附图，对本发明实施例的技术方案进行清楚、 完整地描述。显然， 所描述的实施例是本发明的一部分实施例， 而不是全部的实施例。 基于所描 述的本发明的实施例， 本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获 得的所有其他实施例， 都属于本发明保护的范围。
根据本发明实施例的液晶面板适用于 TN显示模式。
如图 3所示， 根据本发明实施例的液晶面板， 包括阵列基板 10、 与阵列 基板 10相对设置并且对盒的相对基板 20、设置于阵列基板 10和相对基板 20 之间的液晶层 30。 阵列基板 10和相对基板 20平行设置， 液晶层 30填充于 阵列基板 10和相对基板 20之间的空隙内。阵列基板 10上包括多条栅线（图 中未示出） 、 多条数据线 70, 多条栅线和多条数据线 70限定出多个像素单 元， 像素单元包括像素显示区域 1以及薄膜晶体管区域（图中未示出） 。 栅 线、 数据线 70所在的区域称为布线区域 2。 相对基板 20上设置有黑矩阵 80 和彩色滤光层 90, 黑矩阵 80用来阻挡背光模组发出的， 经过阵列基板 10上 的布线区域 2及薄膜晶体管驱动部分的光线。 像素显示区域 1对应的液晶分 子 40的取向与栅线、数据线 70所在的布线区域 2对应的液晶分子 40的取向 不相同，以使对液晶面板加电时，像素显示区域 1对应的液晶分子 40的偏转 角度与布线区域 2对应的液晶分子 40的偏转角度不一致。本发明的液晶面板 的实施例， 通过改变像素显示区域对应的液晶分子以及布线区域对应的液晶 分子的取向方向， 使像素显示区域对应的液晶分子的偏转一直与布线区域对 应的液晶分子的偏转不一致， 利用布线区域对应的液晶分子的偏转紊乱阻挡 光线。 即使在进行对盒工艺时， 阵列基板与相对基板产生对位偏差， 黑矩阵 没有遮挡到像素显示区域的边缘， 布线区域对应的紊乱的液晶分子阻挡了光 线， 因此不会产生漏光。 而且相对于现有技术， 本发明的液晶面板的实施例 的黑矩阵的宽度可以缩小一些， 这样就提高了开口率， 同时改善了透过率。
根据本发明实施例的液晶面板， 薄膜晶体管区域对应的液晶分子的取向 与像素显示区域 1对应的液晶分子 40的取向不同。
根据本发明实施例的液晶面板， 薄膜晶体管区域对应的液晶分子的取向 与布线区域 2对应的液晶分子 40的取向相同。
液晶面板实现显示功能， 需要对液晶面板施加不同的电压以呈现不同的 灰度。 本发明实施例附图中的加电指对液晶面板施加最大电压， 即使液晶分 子偏转最大角度时需要施加的电压。
实施例一
结合图 3、 图 4所示， 本发明的液晶面板的实施例， 其中， 布线区域 2 对应的液晶分子 40的取向保持与阵列基板 10、 相对基板 20垂直。
根据本发明实施例的液晶面板， 取向保持与阵列基板 10、 相对基板 20 垂直的液晶分子 40形成液晶层 30内的垂直取向区域 52,垂直取向区域的 52 宽度等于或大于阵列基板 10的布线区域 2的宽度。
根据本发明实施例的液晶面板， 垂直取向区域 52的宽度与阵列基板 10 的布线区域 2的宽度差值不超过 1微米。
根据本发明实施例的液晶面板在不加电时， 像素显示区域 1对应的液晶 分子 40呈现 90。 扭曲； 而布线区域 2对应的液晶分子 40与阵列基板 10、 相对基板 20垂直。
无论对液晶面板加电或不加电，布线区域 2对应的液晶分子 40均保持与 阵列基板 10、相对基板 20垂直。 图 3、 图 4中的空心箭头示出了光线传播方 向， 当阵列基板 10、 相对基板 20的对盒产生偏差， 垂直的液晶分子 40阻止 了光线由黑矩阵 80的边缘漏出， 这样黑矩阵 80的宽度可以缩小一些， 这样 就提高了液晶面板的开口率， 同时改善了透过率。
根据本发明实施例的液晶面板，垂直取向区域 52的宽度也可以大于阵列 基板 10的布线区域 2的宽度， 由于液晶分子 40的长轴只有十几纳米， 所以 垂直取向区域 52的宽度不必过分大于布线区域 2的宽度， 垂直取向区域 52 的宽度过宽， 由于边界效应的存在， 也会引起像素显示区域 1对应的液晶分 子 40的偏转紊乱，因此设置垂直取向区域 52的宽度大于阵列基板 10的布线 区域 2的宽度的范围不超过 1微米，这样同时也减少了黑矩阵 80的宽度，提 高了像素开口率。
实施例二
结合图 5、 图 6所示， 根据本发明实施例的液晶面板， 阵列基板 10靠近 液晶层 30—侧设置有第一取向层 3,第一取向层 3上形成有位置与像素显示 区域 1对应的第一取向部 31以及位置与布线区域 1对应的第二取向部 32, 第二取向部 32的预倾角不同于第一取向部 31的预倾角。
根据本发明实施例的液晶面板， 相对基板 20靠近液晶层 30—侧设置有 第二取向层 4,第二取向层 4上形成有与第一取向部 31对应的第三取向部 41 以及与第二取向部 32对应的第四取向部 42,第四取向部 42的预倾角不同于 第三取向部 41的预倾角。 根据本发明实施例的液晶面板，第二取向部 32的预倾角大于第一取向部 31的预倾角， 以使布线区域 2的液晶分子 40的预倾角大于像素显示区域 1 对应的液晶分子 40的预倾角。
根据本发明实施例的液晶面板，第四取向部 42的预倾角大于第三取向部 41的预倾角。
根据本发明实施例的液晶面板， 薄膜晶体管区域的第一取向层 3的预倾 角与第二取向部 32的预倾角相同。
通过这样设计，保证像素显示区域 1对应的液晶分子 40的取向与布线区 域 2对应的液晶分子 40的取向不相同， 从而实现发明目的。
本发明的实施例以扭曲向列型 （ Twisted Nematic, TN )常白模式为例。 根据本发明实施例的液晶面板在不加电时， 像素显示区域 1对应的液晶分子 40呈现 90。 扭曲， 布线区域 2对应的液晶分子也呈现 90。 扭曲； 像素显示 区域 1对应的液晶分子 40的预倾角小于布线区域 2的液晶分子 40的预倾角。 背光模组发出的光线经过下偏振片 （起偏器） （图中未示出） 变为线性偏振 光， 线性偏振光经过液晶分子呈现 90° 扭曲的液晶层 30, 光线的偏振方向 旋转 90° , 可以通过上偏振片 （检偏器） （上偏振片的透光轴方向与下偏振 片的透光轴方向垂直） ， 液晶面板呈现亮态。
根据本发明实施例的液晶面板在加电时， 像素显示区域 1对应的液晶分 子 40以及布线区域 2对应的液晶分子 40均与阵列基板 10、 相对基板 20垂 直。 此时线性偏振光经过液晶层 30, 光线的偏振方向不改变， 无法通过上偏 振片， 液晶面板呈现暗态。
在现有技术中， 由于像素显示区域 1与布线区域 2的电场的不一致， 加 电时， 布线区域 2对应的液晶分子仍呈现扭曲， 线性偏振光通过布线区域的 液晶层偏振方向改变，若无黑矩阵或对盒偏差导致黑矩阵无法遮挡布线区域， 则有光线可透过上偏振片， 造成漏光。 本发明实施例中， 布线区域 2的液晶 分子的预倾角大于像素显示区域 1的液晶分子的预倾角。 当加电时， 虽然像 素显示区域 1与布线区域 2的电场的不一致（布线区域 2的电场通常较弱一 些） ， 布线区域 2对应的液晶分子 40与像素显示区域 1对应的液晶分子 40 的偏转角度也不一致， 这样恰好使布线区域 2对应的液晶分子可以呈现垂直 阵列基板 10的状态， 不改变线性偏振光的偏振方向，从而不会发生漏光。 图 5、 图 6 中的空心箭头示出了光线传播方向， 当阵列基板 10与相对基板 20 对盒产生偏差时， 垂直的液晶分子 40阻止了光线由黑矩阵 80的边缘漏出， 这样黑矩阵 80的宽度可以缩小一些，这样就提高了液晶面板的开口率， 同时 改善了透过率。
实施例三
结合图 7所示，本实施例与实施例二的区别在于，第一取向部 31的取向 方向与第三取向部 41的取向方向垂直， 第二取向部 32的取向方向与第四取 向部 42的取向方向平行。
根据本发明实施例的液晶面板，第二取向部 32的取向方向与第四取向部 42的取向方向可以正向平行， 也可以反向平行。
根据本发明实施例的液晶面板在不加电时， 像素显示区域 1对应的液晶 分子 40呈现 90。 扭曲； 布线区域 2对应的液晶分子 40不呈现 90。 扭曲。 光线经过下偏振片变为线性偏振光， 线性偏振光经过像素显示区域的液晶分 子呈现 90° 扭曲的液晶层 30, 光线的偏振方向旋转 90° , 可以通过上偏振 片， 液晶面板呈现亮态。 线性偏振光经过布线区域 2的液晶层不改变光线的 偏振方向。
根据本发明实施例的液晶面板在加电时， 像素显示区域 1对应的液晶分 子 40状态改变， 布线区域 2对应的液晶分子 40偏转但不呈现 90。 扭曲， 不 改变线性偏振光的偏振方向， 这时液晶面板呈现暗态， 图 7中的空心箭头示 出了光线传播方向， 当阵列基板 10与相对基板 20对盒产生偏差时， 不呈现 90° 扭曲的液晶分子 40同样阻止了光线由黑矩阵 80的边缘漏出， 这样黑矩 阵 80的宽度可以缩小一些，这样就提高了液晶面板的开口率， 同时改善了透 过率。
本发明实施例中所述的第一取向层包括第一取向部和第二取向部， 即第 一取向部和第二取向部是第一取向层的一部分。 本发明实施例中所述的第二 取向层包括第三取向部和第四取向部， 即第三取向部和第四取向部是第二取 向层的一部分。 取向层（取向部） 的预倾角是取向层（取向部）表面沟槽斜 面的角度， 决定了液晶分子的预倾角。 取向层（取向部） 的取向方向指对取 向层进行摩擦取向处理时摩擦的方向。
根据本发明实施例的显示装置包括根据本发明任一实施例的液晶面板。 根据本发明实施例的显示装置可以为： 液晶面板、 电子纸、 液晶电视、 液晶显示器、数码相框、手机、平板电脑等任何具有显示功能的产品或部件。
如图 8所示，根据本发明实施例的液晶面板的制造方法， 包括以下步骤： 步骤一、 在阵列基板 10上涂布取向层材料， 形成第一取向层 3, 在形成 黑矩阵 80的相对基板 20上涂布取向层材料， 形成第二取向层 4, 分别对阵 列基板 10上的第一取向层 3和相对基板 20上的第二取向层 4进行摩擦取向； 步骤二、在阵列基板 10上的像素显示区域 1的表面覆盖第一保护层 13, 利用倾斜蒸镀法使阵列基板 10上的布线区域 2的取向层的预倾角大于像素显 示区域 1的取向层的预倾角， 去除第一保护层 13;
步骤三、 将阵列基板 10与相对基板 20对盒。
根据本发明实施例的液晶面板的制造方法， 步骤二还包括：
在相对基板 20上的与阵列基板 10上的像素显示区域 1对应的第一区域 7的表面覆盖第二保护层 23 ,利用倾斜蒸镀法改变相对基板 20上的与所述阵 列基板 10上的布线区域 2对应的第二区域 8的取向层的取向方向，使第二区 域 8的取向层的预倾角大于第一区域 7的取向层的预倾角， 去除第二保护层 23。
另外， 根据本发明实施例的液晶面板的制造方法还包括形成液晶层的步 骤。 例如， 本发明施加液晶的方法包括但不限于滴注法和注入法。 例如， 可 以在上述步骤二和步骤三之间， 将液晶滴注在阵列基板 10或相对基板 20的 形成有取向层的表面上； 或者在步骤三之后向阵列基板 10与相对基板 20之 间的空间注入液晶
根据本发明实施例的液晶面板的制造方法， 利用倾斜蒸镀法使阵列基板 10上的布线区域 2的取向层的预倾角大于像素显示区域 1 的取向层的预倾 角， 以及利用倾斜蒸镀法改变相对基板 20上的与所述阵列基板 10上的布线 区域 2对应的第二区域 8的取向层的取向方向时， 蒸镀角的范围均在 5° 到 20° 范围内。
根据本发明实施例的液晶面板的制造方法，第一保护层 13的材料、第二 保护层 23的材料均为石英。
以上所述仅是本发明的示范性实施方式， 而非用于限制本发明的保护范 围， 本发明的保护范围由所附的权利要求确定。

Claims

权利要求书
1.一种液晶面板， 包括阵列基板、 与所述阵列基板对盒的相对基板以及 位于所述阵列基板和所述相对基板之间的液晶层， 所述阵列基板上包括多条 栅线、 多条数据线， 所述多条栅线和所述多条数据线限定出多个像素单元， 所述像素单元包括像素显示区域以及薄膜晶体管区域，
其中， 所述像素显示区域对应的液晶分子的取向与所述栅线、 数据线所 在的布线区域对应的液晶分子的取向不相同， 以使对所述液晶面板加电时， 所述像素显示区域对应的液晶分子的偏转角度与所述布线区域对应的液晶分 子的偏转角度不一致。
2.根据权利要求 1所述的液晶面板， 其中， 所述薄膜晶体管区域对应的 液晶分子的取向与所述像素显示区域对应的液晶分子的取向不同。
3.根据权利要求 1或 2所述的液晶面板， 其中， 所述薄膜晶体管区域对 应的液晶分子的取向与布线区域对应的液晶分子的取向相同。
4.根据权利要求 1-3中任一项所述的液晶面板， 其中， 所述布线区域对 应的液晶分子的取向保持与所述阵列基板、 所述相对基板垂直。
5.根据权利要求 4所述的液晶面板， 其中， 取向保持与所述阵列基板、 所述相对基板垂直的液晶分子形成所述液晶层内的垂直取向区域， 所述垂直 取向区域的宽度等于或大于所述阵列基板的布线区域的宽度。
6.根据权利要求 5所述的液晶面板， 其中， 所述垂直取向区域的宽度与 所述阵列基板的布线区域的宽度差值不超过 1微米。
7.根据权利要求 1-6中任一项所述的液晶面板， 其中， 所述阵列基板靠 近液晶层一侧设置有第一取向层， 所述第一取向层包括位置与像素显示区域 对应的第一取向部以及位置与布线区域对应的第二取向部， 所述第二取向部 的预倾角不同于所述第一取向部的预倾角。
8.根据权利要求 7所述的液晶面板， 其中， 所述相对基板靠近液晶层一 侧设置有第二取向层， 所述第二取向层包括与第一取向部对应的第三取向部 以及与第二取向部对应的第四取向部， 所述第四取向部的预倾角不同于所述 第三取向部的预倾角。
9.根据权利要求 8所述的液晶面板， 其中， 所述第二取向部的预倾角大 于所述第一取向部的预倾角， 以使布线区域的液晶分子的预倾角大于所述像 素显示区域对应的液晶分子的预倾角。
10.根据权利要求 8所述的液晶面板， 其中， 所述第四取向部的预倾角 大于所述第三取向部的预倾角。
11.根据权利要求 9所述的液晶面板， 其中， 所述薄膜晶体管区域的第 一取向层的预倾角与第二取向部的预倾角相同。
12.根据权利要求 8所述的液晶面板， 其中， 所述第一取向部的取向方 向与所述第三取向部的取向方向垂直， 所述第二取向部的取向方向与所述第 四取向部的取向方向平行。
13.—种显示装置， 包括如 1-12任一项所述的液晶面板。
14. 一种液晶面板的制造方法， 包括以下步骤：
步骤一、 在阵列基板上涂布取向层材料， 形成第一取向层， 在相对基板 上涂布取向层材料， 形成第二取向层， 分别对阵列基板上的第一取向层和相 对基板上的第二取向层进行摩擦取向；
步骤二、 在所述阵列基板上的像素显示区域的表面覆盖第一保护层， 利 用倾斜蒸镀法使所述阵列基板上的布线区域的取向层的预倾角大于所述像素 显示区域的取向层的预倾角， 去除所述第一保护层；
步骤三、 将所述阵列基板与所述相对基板对盒。
15.根据权利要求 14所述的液晶面板的制造方法， 其中， 所述步骤二还 包括在所述相对基板上的与所述阵列基板上的像素显示区域对应的第一区域 的表面覆盖第二保护层， 利用倾斜蒸镀法改变所述相对基板上的与所述阵列 基板上的布线区域对应的第二区域的取向层的取向方向， 使第二区域的取向 层的预倾角大于第一区域的取向层的预倾角， 去除所述第二保护层。
16.根据权利要求 14或 15所述的液晶面板的制造方法， 还包括在所述 步骤二和所述步骤三之间将液晶滴注在所述阵列基板或所述相对基板的形成 有取向层的表面上； 或者在所述步骤三之后将液晶注入到所述阵列基板与所 述相对基板之间。
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