WO2014091560A1

WO2014091560A1 - ネマチック液晶組成物及びこれを用いた液晶表示素子

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Publication number: WO2014091560A1
Application number: PCT/JP2012/082085
Authority: WO
Inventors: 河村　丞治; 根岸　真; 雅裕丹羽
Original assignee: Dic株式会社
Priority date: 2012-12-11
Filing date: 2012-12-11
Publication date: 2014-06-19
Also published as: US9321960B2; JPWO2014091560A1; US20150001444A1; JP5376094B1

Abstract

一般式（ｉ）で表される化合物及び一般式（ｉｉ）で表される化合物を含有する組成物。（式中、Ｘ^ｉ１～Ｘ^ｉ６はそれぞれ独立して水素原子、フッ素原子又は塩素原子を表し、Ｘ^ｉｉ１～Ｘ^ｉｉ４はそれぞれ独立して水素原子、フッ素原子又は塩素原子を表す。）

Description

ネマチック液晶組成物及びこれを用いた液晶表示素子

　本発明は、特に液晶表示材料として有用な誘電性異方性（Δε）が正の値を示すネマチック液晶組成物及びこれを用いた液晶表示素子に関する。

　液晶表示素子は、時計、電卓をはじめとして、各種測定機器、自動車用パネル、ワードプロセッサー、電子手帳、プリンター、コンピューター、テレビ、時計、広告表示板等に用いられるようになっている。液晶表示方式としては、その代表的なものにＴＮ（ツイステッド・ネマチック）型、ＳＴＮ（スーパー・ツイステッド・ネマチック）型、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）を用いた垂直配向型やＩＰＳ（イン・プレーン・スイッチング）型等がある。これらの液晶表示素子に用いられる液晶組成物は水分、空気、熱、光などの外的刺激に対して安定であること、また、室温を中心としてできるだけ広い温度範囲で液晶相を示し、低粘性であり、かつ駆動電圧が低いことが求められる。更に液晶組成物は個々の表示素子にとって誘電率異方性（Δε）、屈折率異方性（Δｎ）等を最適な値とするために、数種類から数十種類の化合物から構成されている。

　ＴＮ型、ＳＴＮ型又はＩＰＳ（イン・プレーン・スイッチング）型等の水平配向型ディスプレイではΔεが正の液晶組成物が用いられている。また、Δεが正の液晶組成物を電圧無印加時に垂直に配向させ、横電界を印加することで表示する駆動方式も報告されており、Δεが正の液晶組成物の必要性は更に高まっている。
　またこれらの駆動方式において低電圧駆動、高速応答、広い動作温度範囲が求められている。すなわち、Δεが正で絶対値が大きく、粘度（η）が小さく、高いネマチック相－等方性液体相転移温度（Ｔｎｉ）が要求されている。また、Δｎとセルギャップ（ｄ）との積であるΔｎ×ｄの設定から、液晶組成物のΔｎをセルギャップに合わせて適当な範囲に調節する必要がある。加えて液晶表示素子をテレビ等へ応用する場合においては高速応答性が重視されるため、回転粘性（γ１）の小さい液晶組成物が要求される。

　液晶組成物の構成として、例えば、下記式（Ａ－１ａ）～（Ａ－１ｂ）で表される化合物及び式（Ｂ－１ａ）～（Ｂ－１ｃ）で表される化合物を含む液晶組成物（特許文献１参照）

や、下記式（Ａ－３）で表される化合物、式（Ａ－２ａ）～（Ａ－２ｂ）で表される化合物及び式（Ｂ－２ａ）で表される化合物を含む液晶組成物（特許文献２参照）

の開示がされている。これらの液晶組成物の特徴として、Δεが正の液晶化合物の環構造が３個であることや連結基として－ＣＦ_２Ｏ－構造を有することが挙げられる。

　一方で、液晶表示素子の用途が拡大するに至り、その使用方法、製造方法にも大きな変化が見られる。これらの変化に対応するためには、従来知られているような基本的な物性値以外の特性を最適化することが求められるようになった。すなわち、液晶組成物を使用する液晶表示素子はＶＡ型やＩＰＳ型等が広く使用されるに至り、その大きさも５０型以上の超大型サイズの表示素子が実用化されるに至り使用されるようになった。基板サイズの大型化に伴い、液晶組成物の基板への注入方法も従来の真空注入法から滴下注入（ＯＤＦ：Ｏｎｅ　Ｄｒｏｐ　Ｆｉｌｌ）法が注入方法の主流となったが、液晶組成物を基板に滴下した際の滴下痕が表示品位の低下を招く問題が表面化するに至った。

　更に、ＯＤＦ法による液晶表示素子製造工程においては、液晶表示素子のサイズに応じて最適な液晶注入量を滴下する必要がある。注入量のずれが最適値から大きくなると、あらかじめ設計された液晶表示素子の屈折率や駆動電界のバランスが崩れ、斑発生やコントラスト不良などの表示不良が生じる。
　特に、最近流行しているスマートフォンに多用される小型液晶表示素子は、最適な液晶注入量が少ないために最適値からのずれを一定範囲内に制御すること自体が難しい。
　従って、液晶表示素子の歩留まり高く保持するために、例えば、液晶滴下時に生じる滴下装置内の急激な圧力変化や衝撃に対する影響が少なく、長時間にわたって安定的に液晶を滴下し続けることが可能な性能も必要である。

　このように、ＴＦＴ素子等で駆動するアクティブマトリックス駆動液晶表示素子に使用される液晶組成物においては、高速応答性能等の液晶表示素子として求められている特性や性能を維持しつつ、従来から重視されてきた高い比抵抗値又は高い電圧保持率を有することや光や熱等の外部刺激に対して安定であるという特性に加えて、液晶表示素子の製造方法を考慮した開発が求められてきている。

特開２００８－７７５２号公報（実施例１）特開２０１１－１５３２０２号公報（実施例３）

　本発明が解決しようとする課題は、Δεが正の値を示し、熱や光に対して安定な組成物を提供することにある。

　本発明者は、種々の化合物を検討し、特定の化合物を組み合わせることにより前記課題を解決することができることを見出し、本発明を完成するに至った。
　すなわち、本発明は、下記一般式（ｉ）で表される化合物及び下記一般式（ｉｉ）で表される化合物を含有する組成物を提供する。

（式中、Ｘ^ｉ１～Ｘ^ｉ６はそれぞれ独立して水素原子、フッ素原子又は塩素原子を表し、Ｘ^ｉｉ１～Ｘ^ｉｉ４はそれぞれ独立して水素原子、フッ素原子又は塩素原子を表す。）

　本発明の組成物は、低い粘性を得ることができ、低温で安定なネマチック相を示し、加熱後及びＵＶ照射後の比抵抗や電圧保持率の変化が極めて小さいため、製品の実用性が高く、これを用いたＴＮ型等の液晶表示素子は高速応答を達成できる。また液晶表示素子製造工程において安定的に性能を発揮できるため、工程起因の表示不良が抑制されて歩留まり高く製造できるので、非常に有用である。

本発明の液晶表示素子の断面図である。１００～１０５を備えた基板を「バックプレーン」、２００～２０５を備えた基板を「フロントプレーン」と称している。フォトマスクパターンとしてブラックマトリックス上に形成する柱状スペーサ作成用パターンを使用した露光処理工程の図である。

　本発明の組成物は、下記一般式（ｉ）で表される化合物を含有する。

　前記一般式（ｉ）中、Ｘ^ｉ１～Ｘ^ｉ６はそれぞれ独立して水素原子、フッ素原子又は塩素原子を表す。
　前記一般式（ｉ）におけるＸ^ｉ１～Ｘ^ｉ６のうち少なくとも１個がフッ素原子であることが好ましい。具体的には、例えば下記式（ｉ－１）～（ｉ－２５）で表される化合物が挙げられる。

　前記式（ｉ－１）～（ｉ－２５）で表される化合物のうち、式（ｉ－１）～（ｉ－１０）で表される化合物が好ましく、式（ｉ－１）、式（ｉ－２）、式（ｉ－４）及び式（ｉ－５）で表される化合物が好ましく、式（ｉ－１）及び式（ｉ－２）で表される化合物が好ましく、式（ｉ－１）で表される化合物が好ましい。
　前記一般式（ｉ）で表される化合物は、１種類だけを含有していても２種類以上含有していても良いが、求められる性能に応じて適宜組み合わせることが好ましい。本発明の組成物は、一般式（ｉ）で表される化合物の中から１種～３種含有することが好ましく、１種～２種含有することがさらに好ましい。
　一般式（ｉ）で表される化合物の含有量は、組成物全量に対して３質量％以上であることが好ましく、５質量％以上が更に好ましく、３０質量％以下が好ましく、２０質量％以下がより好ましく、１５質量％以下がより好ましく、１０質量％以下が更に好ましい。

　本発明の組成物は、下記一般式（ｉｉ）で表される化合物を含有する。

　前記一般式（ｉｉ）中、Ｘ^ｉｉ１～Ｘ^ｉｉ４はそれぞれ独立して水素原子、フッ素原子又は塩素原子を表す。
　前記一般式（ｉｉ）におけるＸ^ｉｉ１～Ｘ^ｉｉ４のうち少なくとも１個がフッ素原子であることが好ましい。具体的には、例えば下記式（ｉｉ－１）～（ｉｉ－１３）で表される化合物が挙げられる。

　前記式（ｉｉ－１）～（ｉｉ－１３）で表される化合物のうち、式（ｉｉ－１）～（ｉ－５）で表される化合物が好ましく、式（ｉｉ－１）、式（ｉｉ－２）及び式（ｉｉ－４）で表される化合物が好ましく、式（ｉｉ－１）及び式（ｉｉ－２）で表される化合物が好ましく、式（ｉｉ－１）で表される化合物が好ましい。
　前記一般式（ｉｉ）で表される化合物は、１種類だけを含有していても２種類以上含有していても良いが、求められる性能に応じて適宜組み合わせることが好ましい。本発明の組成物は、一般式（ｉｉ）で表される化合物の中から１種～３種含有することが好ましく、１種～２種含有することがさらに好ましい。
　一般式（ｉｉ）で表される化合物の含有量は、組成物全量に対して３質量％以上であることが好ましく、５質量％以上が好ましく、７質量％以上がより好ましく、８質量％以上が更に好ましく、３０質量％以下が好ましく、２０質量％以下がより好ましく、１５質量％以下がより好ましく、１０質量％以下が更に好ましい。

　本発明の組成物は、前記一般式（ｉ）で表される化合物及び前記一般式（ｉｉ）で表される化合物を含有することが好ましい。
　一般式（ｉ）で表される化合物は、分子両端の２つの側鎖が異なるアルキル基（エチル基及びｎ－プロピル基）であり、一般式（ｉｉ）で表される化合物は、分子両端の２つの側鎖が同じアルキル基（ｎ－プロピル基）である。これらを併用することにより、液晶組成物のネマチック相の温度範囲がより広く、また、保存安定性も向上する。一般式（ｉ）で表される化合物及び一般式（ｉｉ）で表される化合物が、共融混合物となる組み合わせ及び組成比を選択することもできる。共融混合物においては、融点が極小値をとり、各成分の個々の融点よりも著しく低い共融点を示す。液晶組成物が他の化合物を含有する場合においても、一般式（ｉ）で表される化合物及び一般式（ｉｉ）で表される化合物を含有することにより、保存中における化合物の析出を抑制し、保存安定性を向上することができる。
　一般式（ｉ）におけるＸ^ｉ１～Ｘ^ｉ６と一般式（ｉｉ）におけるＸ^ｉｉ１～Ｘ^ｉｉ４との組み合わせは任意であるが、一般式（ｉ）で表される化合物と一般式（ｉｉ）で表される化合物とが、側鎖のアルキル基の長さのみが異なる、同族体どうしの組み合わせであってもよい。すなわち、
（ア）一般式（ｉｉ）におけるＸ^ｉｉ１が一般式（ｉ）におけるＸ^ｉ１に等しく、一般式（ｉｉ）におけるＸ^ｉｉ２が一般式（ｉ）におけるＸ^ｉ２に等しく、一般式（ｉｉ）におけるＸ^ｉｉ３が一般式（ｉ）におけるＸ^ｉ３に等しく、一般式（ｉｉ）におけるＸ^ｉｉ４が一般式（ｉ）におけるＸ^ｉ４に等しく、一般式（ｉ）におけるＸ^ｉ５及びＸ^ｉ６が水素原子である、又は、
（イ）一般式（ｉｉ）におけるＸ^ｉｉ１が一般式（ｉ）におけるＸ^ｉ６に等しく、一般式（ｉｉ）におけるＸ^ｉｉ２が一般式（ｉ）におけるＸ^ｉ５に等しく、一般式（ｉｉ）におけるＸ^ｉｉ３が一般式（ｉ）におけるＸ^ｉ４に等しく、一般式（ｉｉ）におけるＸ^ｉｉ４が一般式（ｉ）におけるＸ^ｉ３に等しく、一般式（ｉ）におけるＸ^ｉ１及びＸ^ｉ２が水素原子であってもよい。
　また、一般式（ｉｉ）で表される化合物では、Ｘ^ｉｉ１及びＸ^ｉｉ２が水素原子であることにより、側鎖を含むベンゼン環を対称的にすることができる。
　一般式（ｉ）で表される化合物と一般式（ｉｉ）で表される化合物の合計の含有量は、組成物全量に対して５質量％以上であることが好ましく、１０質量％以上が好ましく、１３質量％以上が更に好ましく、３０質量％以下が好ましく、２５質量％以下がより好ましく、２０質量％以下がより好ましく、１８質量％以下が更に好ましい。
　一般式（ｉ）で表される化合物と一般式（ｉｉ）で表される化合物の好ましい組み合わせとしては、式（ｉ－１）で表される化合物と式（ｉｉ－１）で表される化合物の組み合わせである。式（ｉｉ－１）で表される化合物はＴｎｉも高く、またターフェニル骨格の真ん中のベンゼン環に対し左右に置換する置換基が同一であるため、容易に製造することができるため、安価に入手可能である。しかし、この化合物は液晶組成物に添加した際に結晶になりやすい性質があるため、液晶組成物からの析出の問題がある。しかし、側鎖のアルキル基の炭素数のみ異なる一般式（ｉ）で表される化合物とともに使用することにより、析出が抑えられることが分かった。

　本発明の液晶組成物は、一般式（Ｌ）で表される化合物を１種類または２種類以上含有することもできる。

（式中、Ｒ^Ｌ１及びＲ^Ｌ２はそれぞれ独立して炭素原子数１～８のアルキル基を表し、該アルキル基中の１個又は非隣接の２個以上の－ＣＨ_２－はそれぞれ独立して－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－によって置換されていてもよく、
　ＯＬは０、１、２又は３を表し、
　Ｂ^Ｌ１、Ｂ^Ｌ２及びＢ^Ｌ３はそれぞれ独立して
（ａ）　１，４－シクロヘキシレン基（この基中に存在する１個の－ＣＨ_２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ_２－は－Ｏ－に置き換えられてもよい。）及び
（ｂ）　１，４－フェニレン基（この基中に存在する１個の－ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の－ＣＨ＝は－Ｎ＝に置き換えられてもよい。）
からなる群より選ばれる基を表し、上記の基（ａ）、基（ｂ）はそれぞれ独立してシアノ基、フッ素原子又は塩素原子で置換されていても良く、
　Ｌ^Ｌ１及びＬ^Ｌ２はそれぞれ独立して単結合、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－（ＣＨ_２）_４－、－ＯＣＨ_２－、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＯＣＦ_２－、－ＣＦ_２Ｏ－、－ＣＨ＝Ｎ－Ｎ＝ＣＨ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－又は－Ｃ≡Ｃ－を表し、
　ＯＬが２又は３であってＬ^Ｌ２が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良く、ＯＬが２又は３であってＢ^Ｌ３が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良いが、ただし、一般式（ｉ）で表される化合物及び一般式（ｉｉ）で表される化合物を除く。）
　組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの所望の性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。また、本発明の別の実施形態では３種類である。さらに、本発明の別の実施形態では４種類である。さらに、本発明の別の実施形態では５種類である。さらに、本発明の別の実施形態では６種類である。さらに、本発明の別の実施形態では７種類である。さらに、本発明の別の実施形態では８種類である。さらに、本発明の別の実施形態では９種類である。さらに、本発明の別の実施形態では１０種類以上である。

　本発明の液晶組成物において、一般式（Ｌ）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。
　好ましい含有量の下限値は、本発明の液晶組成物の総量に対して、例えば本発明の一つの実施形態としては１％である。あるいは本発明の別の実施形態では１０％である。また、本発明の別の実施形態では２０％である。さらに、本発明の別の実施形態では３０％である。さらに、本発明の別の実施形態では４０％である。さらに、本発明の別の実施形態では５０％である。さらに、本発明の別の実施形態では５５％である。さらに、本発明の別の実施形態では６０％である。さらに、本発明の別の実施形態では６５％である。さらに、本発明の別の実施形態では７０％である。さらに、本発明の別の実施形態では７５％である。さらに、本発明の別の実施形態では８０％である。
　さらに、好ましい含有量の上限値は、本発明の液晶組成物の総量に対して、例えば本発明の一つの形態では９５％である。また、本発明の別の実施形態では８５％である。さらに、本発明の別の実施形態では７５％である。さらに、本発明の別の実施形態では６５％である。さらに、本発明の別の実施形態では５５％である。さらに、本発明の別の実施形態では４５％である。さらに、本発明の別の実施形態では３５％である。さらに、本発明の別の実施形態では２５％である。
　本発明の液晶組成物の粘度を低く保ち、応答速度が速い液晶組成物が必要な場合は上記の下限値が高く上限値が高いことが好ましい。さらに、本発明の液晶組成物のＴｎｉを高く保ち、温度安定性の良い液晶組成物が必要な場合は上記の下限値が高く上限値が高いことが好ましい。また、駆動電圧を低く保つために誘電率異方性を大きくしたいときは、上記の下限値を低く上限値が低いことが好ましい。
　Ｒ^Ｌ１及びＲ^Ｌ２は、それが結合する環構造がフェニル基（芳香族）である場合には、直鎖状の炭素原子数１～５のアルキル基、直鎖状の炭素原子数１～４（またはそれ以上）のアルコキシ基及び炭素原子数４～５のアルケニル基が好ましく、それが結合する環構造がシクロヘキサン、ピラン及びジオキサンなどの飽和した環構造の場合には、直鎖状の炭素原子数１～５のアルキル基、直鎖状の炭素原子数１～４（またはそれ以上）のアルコキシ基及び直鎖状の炭素原子数２～５のアルケニル基が好ましい。
　一般式（Ｌ）で表される化合物は液晶組成物の化学的な安定性が求められる場合には塩素原子をその分子内に有さないことが好ましい。

　一般式（Ｌ）で表される化合物は、例えば、一般式（Ｉ）で表される化合物群から選ばれる化合物が好ましい。

（式中、Ｒ^１１およびＲ^１２はそれぞれ独立して炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数１～５のアルコキシ基または炭素原子数２～５のアルケニル基を表し、Ａ^１１およびＡ^１２はそれぞれ独立して１，４－シクロヘキシレン基、１，４－フェニレン基、２－フルオロ－１，４－フェニレン基または３－フルオロ－１，４－フェニレン基を表す。）
　組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。また、本発明の別の実施形態では３種類である。さらに、本発明の別の実施形態では４種類である。さらに、本発明の別の実施形態では５種類である。さらに、本発明の別の実施形態では６種類以上である。

　本発明の液晶組成物において、一般式（Ｉ）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。
　好ましい含有量の下限値は、本発明の液晶組成物の総量に対して、例えば本発明の一つの実施形態としては３％である。あるいは本発明の別の実施形態では１５％である。また、本発明の別の実施形態では１８％である。さらに、本発明の別の実施形態では２０％である。さらに、本発明の別の実施形態では２９％である。さらに、本発明の別の実施形態では３５％である。さらに、本発明の別の実施形態では４２％である。さらに、本発明の別の実施形態では４７％である。さらに、本発明の別の実施形態では５３％である。さらに、本発明の別の実施形態では５６％である。さらに、本発明の別の実施形態では６０％である。さらに、本発明の別の実施形態では６５％である。
　さらに、好ましい含有量の上限値は、本発明の液晶組成物の総量に対して、例えば本発明の一つの形態では７５％である。また、本発明の別の実施形態では６５％である。さらに、本発明の別の実施形態では５５％である。さらに、本発明の別の実施形態では５０％である。さらに、本発明の別の実施形態では４５％である。さらに、本発明の別の実施形態では４０％である。さらに、本発明の別の実施形態では３５％である。さらに、本発明の別の実施形態では３０％である。
　本発明の液晶組成物の粘度を低く保ち、応答速度が速い液晶組成物が必要な場合は上記の下限値が高く上限値が高いことが好ましい。さらに、本発明の液晶組成物のＴｎｉを高く保ち、温度安定性の良い液晶組成物が必要な場合は上記の下限値が中庸で上限値が中庸であることが好ましい。また、駆動電圧を低く保つために誘電率異方性を大きくしたいときは、上記の下限値を低く上限値が低いことが好ましい。

　さらに、一般式（Ｉ）で表される化合物は一般式（Ｉ－１）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^１１およびＲ^１２はそれぞれ独立して炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数１～５のアルコキシ基または炭素原子数２～５のアルケニル基を表す。）
　組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。また、本発明の別の実施形態では３種類である。さらに、本発明の別の実施形態では４種類である。さらに、本発明の別の実施形態では５種類以上である。

　本発明の液晶組成物において、一般式（Ｉ－１）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。
　好ましい含有量の下限値は、本発明の液晶組成物の総量に対して、例えば本発明の一つの実施形態としては３％である。あるいは本発明の別の実施形態では１５％である。また、本発明の別の実施形態では１８％である。さらに、本発明の別の実施形態では２５％である。さらに、本発明の別の実施形態では２９％である。さらに、本発明の別の実施形態では３１％である。さらに、本発明の別の実施形態では３５％である。さらに、本発明の別の実施形態では４３％である。さらに、本発明の別の実施形態では４７％である。さらに、本発明の別の実施形態では５０％である。さらに、本発明の別の実施形態では５３％である。さらに、本発明の別の実施形態では５６％である。
　さらに、好ましい含有量の上限値は、本発明の液晶組成物の総量に対して、例えば本発明の一つの形態では７０％である。また、本発明の別の実施形態では６０％である。さらに、本発明の別の実施形態では５０％である。さらに、本発明の別の実施形態では４５％である。さらに、本発明の別の実施形態では４０％である。さらに、本発明の別の実施形態では３５％である。さらに、本発明の別の実施形態では３０％である。さらに、本発明の別の実施形態では２６％である。
　本発明の液晶組成物の粘度を低く保ち、応答速度が速い液晶組成物が必要な場合は上記の下限値が高く上限値が高いことが好ましい。さらに、本発明の液晶組成物のＴｎｉを高く保ち、温度安定性の良い液晶組成物が必要な場合は上記の下限値が中庸で上限値が中庸であることが好ましい。また、駆動電圧を低く保つために誘電率異方性を大きくしたいときは、上記の下限値を低く上限値が低いことが好ましい。

　さらに、一般式（Ｉ－１）で表される化合物は一般式（Ｉ－１－１）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。

（式中Ｒ^１２はそれぞれ独立して炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～５のアルコキシ基を表す。）
　本発明の液晶組成物において、一般式（Ｉ－１－１）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。好ましい含有量の下限値は、本発明の液晶組成物の総量に対して、例えば本発明の一つの実施形態としては２％である。あるいは本発明の別の実施形態では４％である。また、本発明の別の実施形態では７％である。さらに、本発明の別の実施形態では１１％である。さらに、本発明の別の実施形態では１３％である。さらに、本発明の別の実施形態では１５％である。さらに、本発明の別の実施形態では１７％である。さらに、本発明の別の実施形態では２０％である。さらに、本発明の別の実施形態では２５％である。さらに、本発明の別の実施形態では３０％である。さらに、本発明の別の実施形態では３２％である。さらに、本発明の別の実施形態では３５％である。
　さらに、好ましい含有量の上限値は、本発明の液晶組成物の総量に対して、例えば本発明の一つの形態では６０％である。また、本発明の別の実施形態では５０％である。さらに、本発明の別の実施形態では４０％である。さらに、本発明の別の実施形態では３５％である。さらに、本発明の別の実施形態では３０％である。さらに、本発明の別の実施形態では２５％である。さらに、本発明の別の実施形態では２０％である。さらに、本発明の別の実施形態では１５％である。

　さらに、一般式（Ｉ－１－１）で表される化合物は、式（１．１）から式（１．３）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式（１．２）または式（１．３）で表される化合物であることが好ましく、特に、式（１．３）で表される化合物であることが好ましい。

　式（１．２）または式（１．３）で表される化合物がそれぞれ単独で使われる場合は、式（１．２）で表される化合物の含有量は高めであることが応答速度の改善に効果があり、式（１．３）で表される化合物の含有量は下記に示す範囲が応答速度の速く電気的、光学的に信頼性が高い液晶組成物ができるので好ましい。
　式（１．３）で表される化合物を、本発明の液晶組成物の総量に対して１質量％以上含有することが好ましく、２質量％以上含有することが更に好ましく、４質量％以上含有することが特に好ましい。また、最大に含有できる比率としては、３５質量％以下が好ましく、２５質量％以下がより好ましく、２０質量％以下がさらに好ましい。

　さらに、一般式（Ｉ－１）で表される化合物は一般式（Ｉ－１－２）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。

（式中Ｒ^１２はそれぞれ独立して炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数１～５のアルコキシ基または炭素原子数２～５のアルケニル基を表す。）
　組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。また、本発明の別の実施形態では３種類である。

　本発明の液晶組成物において、一般式（Ｉ－１－２）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。好ましい含有量の下限値は、本発明の液晶組成物の総量に対して、例えば本発明の一つの実施形態としては７％である。あるいは本発明の別の実施形態では１５％である。また、本発明の別の実施形態では１８％である。さらに、本発明の別の実施形態では２１％である。さらに、本発明の別の実施形態では２４％である。さらに、本発明の別の実施形態では２７％である。さらに、本発明の別の実施形態では３０％である。さらに、本発明の別の実施形態では３４％である。さらに、本発明の別の実施形態では３７％である。さらに、本発明の別の実施形態では４１％である。さらに、本発明の別の実施形態では４７％である。さらに、本発明の別の実施形態では５０％である。
　さらに、好ましい含有量の上限値は、本発明の液晶組成物の総量に対して、例えば本発明の一つの実施形態では６０％である。また、本発明の別の実施形態では５５％である。さらに、本発明の別の実施形態では４５％である。さらに、本発明の別の実施形態では４０％である。さらに、本発明の別の実施形態では３５％である。さらに、本発明の別の実施形態では３０％である。さらに、本発明の別の実施形態では２５％である。さらに、本発明の別の実施形態では２０％である。

　さらに、一般式（Ｉ－１－２）で表される化合物は、式（２．１）から式（２．５）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式（２．２）から式（２．５）で表される化合物であることが好ましい。特に、式（２．２）で表される化合物は本発明の液晶組成物の応答速度を特に改善するため好ましい。また、応答速度よりも高いＴｎｉを求めるときは、式（２．３）または式（２．４）で表される化合物を用いることが好ましい。式（２．４）および式（２．５）で表される化合物の含有量は、低温での溶解度を良くするために３０％以上にすることは好ましくない。

　本発明の液晶組成物において、式（２．２）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総量に対して５質量％以上であることが好ましく、１０質量％であることがより好ましく、１４質量％以上であることがより好ましく、１７質量％以上であることがより好ましく、１９質量％以上であることがより好ましく、２２質量％以上であることがより好ましく、２５質量％以上であることがより好ましく、２７質量％以上であることがより好ましく、３０質量％以上であることが特に好ましい。また、最大に含有できる比率としては、５５質量％以下が好ましく、５０質量％以下がより好ましく、４５質量％以下がさらに好ましく、４０質量％以下がさらに好ましく、３６質量％以下が特に好ましい。

　本願発明の液晶組成物は、更に、一般式（Ｉ－１－２）で表される化合物と類似した構造を有する式（２．５）で表される化合物を含有することもできる。

　低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて式（２．５）で表される化合物の含有量を調整することが好ましく、この化合物を本発明の液晶組成物の総量に対して１１質量％以上含有することが好ましく、１５質量％以上含有することがさらに好ましく、２３質量％以上含有することがさらに好ましく、２６質量％以上含有することが更に好ましく、２８質量％以上含有することが特に好ましい。

　さらに、一般式（Ｉ）で表される化合物は一般式（Ｉ－２）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^１３およびＲ^１４はそれぞれ独立して炭素原子数１～５のアルキル基を表す。）
　組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて組み合わせる。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。また、本発明の別の実施形態では３種類である。
　本発明の液晶組成物において、一般式（Ｉ－２）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。好ましい含有量の下限値は、本発明の液晶組成物の総量に対して、例えば本発明の一つの実施形態としては３％である。あるいは本発明の別の実施形態では４％である。また、本発明の別の実施形態では１５％である。さらに、本発明の別の実施形態では２５％である。さらに、本発明の別の実施形態では３０％である。さらに、本発明の別の実施形態では３５％である。さらに、本発明の別の実施形態では３８％である。さらに、本発明の別の実施形態では４０％である。さらに、本発明の別の実施形態では４２％である。さらに、本発明の別の実施形態では４５％である。さらに、本発明の別の実施形態では４７％である。さらに、本発明の別の実施形態では５０％である。
　さらに、好ましい含有量の上限値は、本発明の液晶組成物の総量に対して、例えば本発明の一つの形態では６０％である。また、本発明の別の実施形態では５５％である。さらに、本発明の別の実施形態では４５％である。さらに、本発明の別の実施形態では４０％である。さらに、本発明の別の実施形態では３０％である。さらに、本発明の別の実施形態では２０％である。さらに、本発明の別の実施形態では１５％である。さらに、本発明の別の実施形態では５％である。さらに、一般式（Ｉ－２）で表される化合物は、式（３．１）から式（３．４）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式（３．１）、式（３．３）または式（３．４）で表される化合物であることが好ましい。特に、式（３．２）で表される化合物は本発明の液晶組成物の応答速度を特に改善するため好ましい。また、応答速度よりも高いＴｎｉを求めるときは、式（３．３）または式（３．４）で表される化合物を用いることが好ましい。式（３．３）および式（３．４）で表される化合物の含有量は、低温での溶解度を良くするために２０％以上にすることは好ましくない。

　さらに、一般式（Ｉ－２）で表される化合物は、式（３．１）から式（３．４）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式（３．１）、式（３．３）および／または式（３．４）で表される化合物であることが好ましい。

　本発明の液晶組成物において、式（３．３）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総量に対して２質量％以上であることが好ましく、３質量％であることがより好ましく、４質量％以上であることがより好ましく、１０質量％以上であることがより好ましく、１２質量％以上であることがより好ましく、１４質量％以上であることがより好ましく、１６質量％以上であることがより好ましく、２０質量％以上であることがより好ましく、２３質量％以上であることがより好ましく、２６質量％以上であることがより好ましく、３０質量％以上であることが特に好ましい。また、最大に含有できる比率としては、４０質量％以下が好ましく、３７質量％以下がより好ましく、３４質量％以下がさらに好ましく、３２質量％以下が特に好ましい。

　さらに、一般式（Ｉ）で表される化合物は一般式（Ｉ－３）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^１３は炭素原子数１～５のアルキル基を表し、Ｒ^１５は炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）
　組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて組み合わせる。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。また、本発明の別の実施形態では３種類である。
　本発明の液晶組成物において、一般式（Ｉ－３）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。好ましい含有量の下限値は、本発明の液晶組成物の総量に対して、例えば本発明の一つの実施形態としては３％である。あるいは本発明の別の実施形態では４％である。また、本発明の別の実施形態では１５％である。さらに、本発明の別の実施形態では２５％である。さらに、本発明の別の実施形態では３０％である。さらに、本発明の別の実施形態では３５％である。さらに、本発明の別の実施形態では３８％である。さらに、本発明の別の実施形態では４０％である。さらに、本発明の別の実施形態では４２％である。さらに、本発明の別の実施形態では４５％である。さらに、本発明の別の実施形態では４７％である。さらに、本発明の別の実施形態では５０％である。
　さらに、好ましい含有量の上限値は、本発明の液晶組成物の総量に対して、例えば本発明の一つの形態では６０％である。また、本発明の別の実施形態では５５％である。さらに、本発明の別の実施形態では４５％である。さらに、本発明の別の実施形態では４０％である。さらに、本発明の別の実施形態では３０％である。さらに、本発明の別の実施形態では２０％である。さらに、本発明の別の実施形態では１５％である。さらに、本発明の別の実施形態では５％である。
　低温での溶解性を重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、反対に、応答速度を重視する場合は含有量を少なめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。

　さらに、一般式（Ｉ－３）で表される化合物は、式（４．１）から式（４．３）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式（４．３）で表される化合物であることが好ましい。

　式（４．３）で表される化合物を、本発明の液晶組成物の総量に対して２質量％以上であることが好ましく、４質量％であることがより好ましく、６質量％以上であることがより好ましく、８質量％以上であることがより好ましく、１０質量％以上であることがより好ましく、１２質量％以上であることがより好ましく、１４質量％以上であることがより好ましく、１６質量％以上であることがより好ましく、１８質量％以上であることがより好ましく、２０質量％以上であることがより好ましく、２２質量％以上であることが特に好ましい。また、最大に含有できる比率としては、３０質量％以下が好ましく、２５質量％以下がより好ましく、２４質量％以下がさらに好ましく、２３質量％以下が特に好ましい。

　さらに、一般式（Ｉ）で表される化合物は一般式（Ｉ－４）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^１１およびＲ^１２はそれぞれ独立して炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数４～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて組み合わせる。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。
　本発明の液晶組成物において、一般式（Ｉ－４）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。好ましい含有量の下限値は、本発明の液晶組成物の総量に対して、例えば本発明の一つの実施形態としては３％である。あるいは本発明の別の実施形態では５％である。また、本発明の別の実施形態では６％である。さらに、本発明の別の実施形態では８％である。さらに、本発明の別の実施形態では１０％である。さらに、本発明の別の実施形態では１２％である。さらに、本発明の別の実施形態では１５％である。さらに、本発明の別の実施形態では２０％である。さらに、本発明の別の実施形態では２５％である。さらに、本発明の別の実施形態では３０％である。さらに、本発明の別の実施形態では３５％である。さらに、本発明の別の実施形態では４０％である。
　さらに、好ましい含有量の上限値は、本発明の液晶組成物の総量に対して、例えば本発明の一つの形態では５０％である。また、本発明の別の実施形態では４０％である。さらに、本発明の別の実施形態では３５％である。さらに、本発明の別の実施形態では３０％である。さらに、本発明の別の実施形態では２０％である。さらに、本発明の別の実施形態では１５％である。さらに、本発明の別の実施形態では１０％である。さらに、本発明の別の実施形態では５％である。
　高い複屈折率を得る場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、反対に、高いＴｎｉを重視する場合は含有量を少なめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。

　さらに、一般式（Ｉ－４）で表される化合物は、式（５．１）から式（５．４）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式（５．２）から式（５．４）で表される化合物であることが好ましい。

　式（５．４）で表される化合物を、本発明の液晶組成物の総量に対して２質量％以上であることが好ましく、４質量％であることがより好ましく、６質量％以上であることがより好ましく、７質量％以上であることがより好ましく、８質量％以上であることが特に好ましい。また、最大に含有できる比率としては、３０質量％以下が好ましく、２５質量％以下がより好ましく、２０質量％以下がさらに好ましく、１８質量％以下が特に好ましい。

　さらに、一般式（Ｉ）で表される化合物は一般式（Ｉ－５）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^１１およびＲ^１２はそれぞれ独立して炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）
　組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて組み合わせる。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。
　本発明の液晶組成物において、一般式（Ｉ－５）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。好ましい含有量の下限値は、本発明の液晶組成物の総量に対して、例えば本発明の一つの実施形態としては１％である。あるいは本発明の別の実施形態では５％である。また、本発明の別の実施形態では８％である。さらに、本発明の別の実施形態では１１％である。さらに、本発明の別の実施形態では１３％である。さらに、本発明の別の実施形態では１５％である。さらに、本発明の別の実施形態では１７％である。さらに、本発明の別の実施形態では２０％である。さらに、本発明の別の実施形態では２５％である。さらに、本発明の別の実施形態では３０％である。さらに、本発明の別の実施形態では３５％である。さらに、本発明の別の実施形態では４０％である。
　さらに、好ましい含有量の上限値は、本発明の液晶組成物の総量に対して、例えば本発明の一つの形態では５０％である。また、本発明の別の実施形態では４０％である。さらに、本発明の別の実施形態では３５％である。さらに、本発明の別の実施形態では３０％である。さらに、本発明の別の実施形態では２０％である。さらに、本発明の別の実施形態では１５％である。さらに、本発明の別の実施形態では１０％である。さらに、本発明の別の実施形態では５％である。
　低温での溶解性を重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、反対に、応答速度を重視する場合は含有量を少なめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。

　さらに、一般式（Ｉ－５）で表される化合物は、式（６．１）から式（６．７）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式（６．３）、式（６．４）および式（６．６）で表される化合物であることが好ましい。

　例えば、式（６．６）で表される化合物を、本発明の液晶組成物の総量に対して２質量％以上であることが好ましく、４質量％であることがより好ましく、５質量％以上であることがより好ましく、６質量％以上であることがより好ましく、９質量％以上であることがより好ましく、１２質量％以上であることがより好ましく、１４質量％以上であることがより好ましく、１６質量％以上であることがより好ましく、１８質量％以上であることがより好ましく、２０質量％以上であることがより好ましく、２２質量％以上であることが特に好ましい。また、最大に含有できる比率としては、３０質量％以下が好ましく、２５質量％以下がより好ましく、２４質量％以下がさらに好ましく、２３質量％以下が特に好ましい。

　低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて式（６．７）で表される化合物の含有量を調整することが好ましく、この化合物を本発明の液晶組成物の総量に対して２質量％以上含有することが好ましく、３質量％含有することがさらに好ましく、５質量％含有することがさらに好ましく、７質量％以上含有することが特に好ましい。

　さらに、一般式（Ｉ）で表される化合物は一般式（Ｉ－６）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^１１およびＲ^１２はそれぞれ独立して炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数４～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表し、Ｘ^１１およびＸ^１２はそれぞれ独立してフッ素原子または水素原子を表し、Ｘ^１１またはＸ^１２のどちらか一方はフッ素原子である。）
　一般式（Ｉ－６）で表される化合物を、本発明の液晶組成物の総量に対して２質量％以上であることが好ましく、４質量％であることがより好ましく、５質量％以上であることがより好ましく、６質量％以上であることがより好ましく、９質量％以上であることがより好ましく、１２質量％以上であることがより好ましく、１４質量％以上であることがより好ましく、１６質量％以上であることがより好ましく、１８質量％以上であることがより好ましく、２０質量％以上であることがより好ましく、２２質量％以上であることが特に好ましい。また、最大に含有できる比率としては、３０質量％以下が好ましく、２５質量％以下がより好ましく、２４質量％以下がさらに好ましく、２３質量％以下が特に好ましい。

　さらに、一般式（Ｉ－６）で表される化合物は、式（７．１）で表される化合物であることが好ましい。

　さらに、一般式（Ｉ）で表される化合物は一般式（Ｉ－７）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^１１およびＲ^１２はそれぞれ独立して炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表し、Ｘ^１２はそれぞれ独立してフッ素原子または塩素原子を表す。）
　一般式（Ｉ－７）で表される化合物を、本発明の液晶組成物の総量に対して１質量％以上であることが好ましく、２質量％であることがより好ましく、３質量％以上であることがより好ましく、４質量％以上であることがより好ましく、６質量％以上であることがより好ましく、８質量％以上であることがより好ましく、１０質量％以上であることがより好ましく、１２質量％以上であることがより好ましく、１５質量％以上であることがより好ましく、１８質量％以上であることがより好ましく、２１質量％以上であることが特に好ましい。また、最大に含有できる比率としては、３０質量％以下が好ましく、２５質量％以下がより好ましく、２４質量％以下がさらに好ましく、２２質量％以下が特に好ましい。

　さらに、一般式（Ｉ－７）で表される化合物は、式（８．１）で表される化合物であることが好ましい。

　さらに、一般式（Ｉ）で表される化合物は一般式（Ｉ－８）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^１６およびＲ^１７はそれぞれ独立して炭素原子数２～５のアルケニル基を表す。）
　組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて、１種類から３種類組み合わせることが好ましい。
　一般式（Ｉ－８）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて、本発明の液晶組成物の総量に対して５質量％以上であることが好ましく、１０質量％であることがより好ましく、１５質量％以上であることがより好ましく、２０質量％以上であることがより好ましく、２５質量％以上であることがより好ましく、３０質量％以上であることがより好ましく、３５質量％以上であることがより好ましく、４０質量％以上であることがより好ましく、４５質量％以上であることがより好ましく、５０質量％以上であることがより好ましく、５５質量％以上であることが特に好ましい。また、最大に含有できる比率としては、６５質量％以下が好ましく、６０質量％以下がより好ましく、５８質量％以下がさらに好ましく、５６質量％以下が特に好ましい。

　さらに、一般式（Ｉ－８）で表される化合物は、式（９．１）から式（９．１０）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式（９．２）、式（９．４）および式（９．７）で表される化合物であることが好ましい。

　さらに、一般式（Ｌ）で表される化合物は、例えば一般式（ＩＩ）で表される化合物から選ばれる化合物であることが好ましい。

（Ｒ^２１およびＲ^２２はそれぞれ独立して炭素原子数２～５のアルケニル基、炭素原子数１～５のアルキル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表し、Ａ^２は１，４－シクロヘキシレン基または１，４－フェニレン基を表し、Ｑ^２は単結合、－ＣＯＯ－、－ＣＨ_２－ＣＨ_２－または－ＣＦ_２Ｏ－を表す。）
　組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて組み合わせる。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。また、本発明のさらに別の実施形態では３種類である。さらに、本発明の別の実施形態では４種類以上である。
　本発明の液晶組成物において、一般式（ＩＩ）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。好ましい含有量の下限値は、本発明の液晶組成物の総量に対して、例えば本発明の一つの実施形態としては３％である。あるいは本発明の別の実施形態では５％である。また、本発明の別の実施形態では７％である。さらに、本発明の別の実施形態では１０％である。さらに、本発明の別の実施形態では１４％である。さらに、本発明の別の実施形態では１６％である。さらに、本発明の別の実施形態では２０％である。さらに、本発明の別の実施形態では２３％である。さらに、本発明の別の実施形態では２６％である。さらに、本発明の別の実施形態では３０％である。さらに、本発明の別の実施形態では３５％である。さらに、本発明の別の実施形態では４０％である。
　さらに、好ましい含有量の上限値は、本発明の液晶組成物の総量に対して、例えば本発明の一つの形態では５０％である。また、本発明の別の実施形態では４０％である。さらに、本発明の別の実施形態では３５％である。さらに、本発明の別の実施形態では３０％である。さらに、本発明の別の実施形態では２０％である。さらに、本発明の別の実施形態では１５％である。さらに、本発明の別の実施形態では１０％である。さらに、本発明の別の実施形態では５％である。

　さらに、一般式（ＩＩ）で表される化合物は、例えば一般式（ＩＩ－１）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。

（Ｒ^２１およびＲ^２２はそれぞれ独立して炭素原子数２～５のアルケニル基、炭素原子数１～５のアルキル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）
　一般式（ＩＩ－１）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて調整することが好ましく、４質量％以上が好ましく、８質量％以上であることがより好ましく、１２質量％以上であることが更に好ましい。また、最大に含有できる比率としては、２４質量％以下が好ましく、１８質量％以下がより好ましく、１４質量％以下がさらに好ましい。

　さらに、一般式（ＩＩ－１）で表される化合物は、例えば式（１０．１）で表される化合物であることが好ましい。

　さらに、一般式（ＩＩ）で表される化合物は、例えば一般式（ＩＩ－２）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。

（Ｒ^２３は炭素原子数２～５のアルケニル基を表し、Ｒ^２４は炭素原子数１～５のアルキル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）
　組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて組み合わせる。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類以上である。
　本発明の液晶組成物において、一般式（ＩＩ－２）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。好ましい含有量の下限値は、本発明の液晶組成物の総量に対して、例えば本発明の一つの実施形態としては３％である。あるいは本発明の別の実施形態では５％である。また、本発明の別の実施形態では７％である。さらに、本発明の別の実施形態では１０％である。さらに、本発明の別の実施形態では１４％である。さらに、本発明の別の実施形態では１６％である。さらに、本発明の別の実施形態では２０％である。さらに、本発明の別の実施形態では２３％である。さらに、本発明の別の実施形態では２６％である。さらに、本発明の別の実施形態では３０％である。さらに、本発明の別の実施形態では３５％である。さらに、本発明の別の実施形態では４０％である。
　さらに、好ましい含有量の上限値は、本発明の液晶組成物の総量に対して、例えば本発明の一つの形態では５０％である。また、本発明の別の実施形態では４０％である。さらに、本発明の別の実施形態では３５％である。さらに、本発明の別の実施形態では３０％である。さらに、本発明の別の実施形態では２０％である。さらに、本発明の別の実施形態では１５％である。さらに、本発明の別の実施形態では１０％である。さらに、本発明の別の実施形態では５％である。

　さらに、一般式（ＩＩ－２）で表される化合物は、例えば式（１１．１）から式（１１．３）で表される化合物であることが好ましい。

　低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて、式（１１．１）で表される化合物を含有していても、式（１１．２）で表される化合物を含有していても、式（１１．１）で表される化合物と式（１１．２）で表される化合物との両方を含有していても良いし、式（１１．１）から式（１１．３）で表される化合物を全て含んでいても良い。式（１１．１）または式（１１．２）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総量に対して３質量％であることが好ましく、５質量％以上であることがより好ましく、７質量％以上であることがより好ましく、９質量％以上であることがより好ましく、１１質量％以上であることがより好ましく、１２質量％以上であることがより好ましく、１３質量％以上であることが更に好ましく、１８質量％以上であることが更に好ましく、２１質量％以上であることが特に好ましい。また、最大に含有できる比率としては、４０質量％以下が好ましく、３０質量％以下がより好ましく、２５質量％以下がさらに好ましい。また、式（１１．２）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総量に対して３質量％であることが好ましく、５質量％以上であることがより好ましく、８質量％以上であることが更に好ましく、１０質量％以上であることが更に好ましく、１２質量％以上であることが更に好ましく、１５質量％以上であることが更に好ましく、１７質量％以上であることが更に好ましく、１９質量％以上であることが特に好ましい。また、最大に含有できる比率としては、４０質量％以下が好ましく、３０質量％以下がより好ましく、２５質量％以下がさらに好ましい。式（１１．１）で表される化合物と式（１１．２）で表される化合物との両方を含有する場合は、両方の化合物の合計が本発明の液晶組成物の総量に対して１５質量％以上であることが好ましく、１９質量％以上であることがより好ましく、２４質量％以上であることが更に好ましく、３０質量％以上であることが特に好ましい。また、最大に含有できる比率としては、４５質量％以下が好ましく、４０質量％以下がより好ましく、３５質量％以下がさらに好ましい。

　さらに、一般式（ＩＩ）で表される化合物は、例えば一般式（ＩＩ－３）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。

（Ｒ^２５は炭素原子数１～５のアルキル基を表し、Ｒ^２４は炭素原子数１～５のアルキル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）
　組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて、これらの化合物の中から１種～３種類含有することが好ましい。
　一般式（ＩＩ－３）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。好ましい含有量の下限値として、例えば、本発明の液晶組成物の総量に対して２％であることが好ましく、５％であることがより好ましく、８％であることがより好ましく、１１％であることがより好ましく、１４％であることがより好ましく、１７％であることがより好ましく、２０％であることがより好ましく、２３％であることがより好ましく、２６％であることがさらに好ましく、２９％であることが特に好ましい。また、好ましい含有量の上限値として、例えば、本発明の液晶組成物の総量に対して４５％であることが好ましく、４０％であることがより好ましく、３５％であることがより好ましく、３０％であることがより好ましく、２５％であることがより好ましく、２０％であることがより好ましく、１５％であることが更に好ましく、１０％であることが特に好ましい。

　さらに、一般式（ＩＩ－３）で表される化合物は、例えば式（１２．１）から式（１２．３）で表される化合物であることが好ましい。

　低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて、式（１２．１）で表される化合物を含有していても、式（１２．２）で表される化合物を含有していても、式（１２．１）で表される化合物と式（１２．２）で表される化合物との両方を含有していても良い。式（１２．１）または式（１１．２）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総量に対して３質量％であることが好ましく、５質量％以上であることがより好ましく、７質量％以上であることがより好ましく、９質量％以上であることがより好ましく、１１質量％以上であることがより好ましく、１２質量％以上であることがより好ましく、１３質量％以上であることが更に好ましく、１８質量％以上であることが更に好ましく、２１質量％以上であることが特に好ましい。また、最大に含有できる比率としては、４０質量％以下が好ましく、３０質量％以下がより好ましく、２５質量％以下がさらに好ましい。また、式（１２．２）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総量に対して３質量％であることが好ましく、５質量％以上であることがより好ましく、８質量％以上であることが更に好ましく、１０質量％以上であることが更に好ましく、１２質量％以上であることが更に好ましく、１５質量％以上であることが更に好ましく、１７質量％以上であることが更に好ましく、１９質量％以上であることが特に好ましい。また、最大に含有できる比率としては、４０質量％以下が好ましく、３０質量％以下がより好ましく、２５質量％以下がさらに好ましい。式（１２．１）で表される化合物と式（１２．２）で表される化合物との両方を含有する場合は、両方の化合物の合計が本発明の液晶組成物の総量に対して１５質量％以上であることが好ましく、１９質量％以上であることがより好ましく、２４質量％以上であることが更に好ましく、３０質量％以上であることが特に好ましい。また、最大に含有できる比率としては、４５質量％以下が好ましく、４０質量％以下がより好ましく、３５質量％以下がさらに好ましい。
　また、式（１２．３）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総量に対して０．０５質量％以上であることが好ましく、０．１質量％以上であることがより好ましく、０．２質量％以上であることが更に好ましい。また、最大に含有できる比率としては、２質量％以下が好ましく、１質量％以下がより好ましく、０．５質量％以下がさらに好ましい。式（１２．３）で表される化合物は、光学活性化合物であってもよい。

　さらに、一般式（ＩＩ－３）で表される化合物は、例えば一般式（ＩＩ－３－１）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。

（Ｒ^２５は炭素原子数１～５のアルキル基を表し、Ｒ^２６は炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）
　組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて、これらの化合物の中から１種～３種類含有することが好ましい。
　一般式（ＩＩ－３－１）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて調整することが好ましく、１質量％以上が好ましく、４質量％以上であることがより好ましく、８質量％以上であることが更に好ましい。また、最大に含有できる比率としては、２４質量％以下が好ましく、１８質量％以下がより好ましく、１４質量％以下がさらに好ましい。

　さらに、一般式（ＩＩ－３－１）で表される化合物は、例えば式（１３．１）から式（１３．４）で表される化合物であることが好ましく、特に、式（１３．３）で表される化合物であることが好ましい。

　さらに、一般式（ＩＩ）で表される化合物は、例えば一般式（ＩＩ－４）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。

（Ｒ^２１およびＲ^２２はそれぞれ独立して炭素原子数２～５のアルケニル基、炭素原子数１～５のアルキル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）
これらの化合物のうち１種類だけを含有していても２種類以上含有していても良いが、求められる性能に応じて適宜組み合わせることが好ましい。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて、これらの化合物の中から１種～２種類含有することが好ましく、１種～３種類含有することが特に好ましい。
　一般式（ＩＩ－４）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総量に対して１質量％以上であることが好ましく、２質量％以上であることがより好ましく、３質量％以上であることがより好ましく、４質量％以上であることがより好ましく、５質量％以上であることが特に好ましい。また、最大に含有できる比率としては、１５質量％以下が好ましく、１２質量％以下がより好ましく、７質量％以下がさらに好ましい。

　さらに、一般式（ＩＩ－４）で表される化合物は、例えば式（１４．１）から式（１４．５）で表される化合物であることが好ましく、特に、式（１４．２）または／および式（１４．５）で表される化合物であることが好ましい。

　さらに、一般式（Ｌ）で表される化合物は、一般式（ＩＩＩ）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。

（Ｒ^３１およびＲ^３２はそれぞれ独立して炭素原子数２～５のアルケニル基、炭素原子数１～５のアルキル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）
一般式（ＩＩＩ）で表される化合物の含有量は、求められる溶解性や複屈折率などを考慮して、本発明の液晶組成物の総量に対して３質量％以上含有することが好ましく、６質量％以上含有することがより好ましく、７質量％以上含有することが更に好ましい。また、最大に含有できる比率としては、２５質量％以下が好ましく、２０質量％以下がより好ましく、１５質量％以下がさらに好ましい。

　さらに、一般式（ＩＩＩ）で表される化合物は、例えば式（１５．１）又は式（１５．２）で表される化合物であることが好ましく、特に、式（１５．１）で表される化合物であることが好ましい。

　さらに、一般式（ＩＩＩ）で表される化合物は、一般式（ＩＩＩ－１）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。

（Ｒ^３３は炭素原子数２～５のアルケニル基を表し、Ｒ^３２はそれぞれ独立して炭素原子数１～５のアルキル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）
　低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて含有量を調整することが好ましく、４質量％以上が好ましく、６質量％以上であることがより好ましく、１０質量％以上であることが更に好ましい。また、最大に含有できる比率としては、２３質量％以下が好ましく、１８質量％以下がより好ましく、１３質量％以下がさらに好ましい。

　一般式（ＩＩＩ－１）で表される化合物は、たとえば式（１６．１）または式（１６．２）で表される化合物であることが好ましい。

　さらに、一般式（ＩＩＩ）で表される化合物は、一般式（ＩＩＩ－２）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。

（Ｒ^３１は炭素原子数１～５のアルキル基を表し、Ｒ^３４は炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）
　一般式（ＩＩＩ－２）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて調整することが好ましく、４質量％以上が好ましく、６質量％以上であることがより好ましく、１０質量％以上であることが更に好ましい。また、最大に含有できる比率としては、２３質量％以下が好ましく、１８質量％以下がより好ましく、１３質量％以下がさらに好ましい。

　さらに、一般式（ＩＩＩ－２）で表される化合物は、たとえば式（１７．１）から式（１７．３）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、特に式（１７．３）で表される化合物であることが好ましい。

　更に、一般式（Ｌ）で表される化合物は、一般式（ＩＶ）で表される群より選ばれるであることが好ましい。

（式中、Ｒ^４１およびＲ^４２はそれぞれ独立して炭素原子数１～５のアルキル基または炭素原子数２～５のアルケニル基を表し、Ｘ^４１およびＸ^４２はそれぞれ独立して水素原子またはフッ素原子を表す。ただし、一般式（ｉ）で表される化合物及び一般式（ｉｉ）で表される化合物を除く。）
　組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて組み合わせる。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。さらに、本発明の別の実施形態では３種類である。さらに、本発明の別の実施形態では４種類である。さらに、本発明の別の実施形態では５種類である。さらに、本発明の別の実施形態では６種類以上である。

　さらに、一般式（ＩＶ）で表される化合物は、例えば一般式（ＩＶ－１）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^４３、Ｒ^４４はそれぞれ独立して炭素原子数１～５のアルキル基を表す。ただし、一般式（ｉ）で表される化合物及び一般式（ｉｉ）で表される化合物を除く。）
　一般式（ＩＶ－１）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。好ましい含有量の下限値は、本発明の液晶組成物の総量に対して、例えば一つの実施形態では１％である。さらに、本発明の別の実施形態では２％である。さらに、本発明の別の実施形態では４％である。さらに、本発明の別の実施形態では６％である。さらに、本発明の別の実施形態では８％である。さらに、本発明の別の実施形態では１０％である。さらに、本発明の別の実施形態では１２％である。さらに、本発明の別の実施形態では１５％である。さらに、本発明の別の実施形態では１８％である。さらに、本発明の別の実施形態では２１％である。
　また、好ましい含有量の上限値として、たとえば、本発明の一つの実施形態では、本発明の液晶組成物の総量に対して４０％である。さらに、本発明の別の実施形態では３０％である。さらに、本発明の別の実施形態では２５％である。さらに、本発明の別の実施形態では２０％である。さらに、本発明の別の実施形態では１５％である。さらに、本発明の別の実施形態では１０％である。さらに、本発明の別の実施形態では５％である。さらに、本発明の別の実施形態では４％である。

　さらに、一般式（ＩＶ－１）で表される化合物は、例えば式（１８．４）から式（１８．９）で表される化合物であることが好ましい。

　組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、これらの化合物の中から１種～３種類含有することが好ましく、１種～４種類含有することがさらに好ましい。また、選ぶ化合物の分子量分布が広いことも溶解性に有効であるため、例えば、式（１８．４）または（１８．５）で表される化合物から１種類、式（１８．６）または式（１８．７）で表される化合物から１種類、式（１８．８）または（１８．９）で表される化合物から１種類の化合物を選び、これらを適宜組み合わせることが好ましい。その中でも、式（１８．４）、式（１８．６）および式（１８．９）で表される化合物を含むことが好ましい。

　さらに、一般式（ＩＶ）で表される化合物は、例えば一般式（ＩＶ－２）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^４５およびＲ^４６はそれぞれ独立して炭素原子数１～５のアルキル基または炭素原子数２～５のアルケニル基を表すが、少なくとも１つは炭素原子数２～５のアルケニル基を表し、Ｘ^４１およびＸ^４２はそれぞれ独立して水素原子またはフッ素原子を表す。）
　組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて組み合わせる。
　一般式（ＩＶ－２）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。好ましい含有量の下限値として、例えば、本発明の液晶組成物の総量に対して０．５％であることが好ましく、１％であることがより好ましく、２％であることがより好ましく、３％であることがより好ましく、５％であることがより好ましく、７％であることがより好ましく、９％であることがより好ましく、１２％であることがより好ましく、１５％であることがさらに好ましく、２０％であることが特に好ましい。また、好ましい含有量の上限値として、例えば、本発明の液晶組成物の総量に対して４０％であることが好ましく、３０％であることがより好ましく、２５％であることがより好ましく、２０％であることがより好ましく、１５％であることがより好ましく、１０％であることがより好ましく、５％であることが更に好ましく、４％であることが特に好ましい。

　さらに、一般式（ＩＶ－２）で表される化合物は、例えば式（１９．１）から式（１９．８）で表される化合物であることが好ましく、その中でも、式（１９．２）で表される化合物であることが好ましい。

　液晶組成物の成分として選ばれる化合物の分子量分布が広いことも溶解性に有効であるため、例えば、式（１９．１）または（１９．２）で表される化合物から１種類、式（１９．３）または（１９．４）で表される化合物から１種類、式（１９．５）または式（１９．６）で表される化合物から１種類、式（１９．７）または（１９．８）で表される化合物から１種類の化合物をそれぞれ選び、これらを適宜組み合わせることが好ましい。

　さらに、一般式（Ｌ）で表される化合物は、一般式（Ｖ）で表される群より選ばれる化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^５１およびＲ^５２はそれぞれ独立して炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表し、Ａ^５１およびＡ^５２はそれぞれ独立して１，４－シクロヘキシレン基または１，４－フェニレン基を表し、Ｑ^５は単結合または－ＣＯＯ－を表し、Ｘ^５１およびＸ^５２はそれぞれ独立してフッ素原子または水素原子を表す。）
　組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて組み合わせる。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。さらに、本発明の別の実施形態では３種類である。さらに、本発明の別の実施形態では４種類である。
　好ましい含有量の下限値は、本発明の液晶組成物の総量に対して、例えば一つの実施形態では２％である。さらに、本発明の別の実施形態では４％である。さらに、本発明の別の実施形態では７％である。さらに、本発明の別の実施形態では１０％である。さらに、本発明の別の実施形態では１２％である。さらに、本発明の別の実施形態では１５％である。さらに、本発明の別の実施形態では１７％である。さらに、本発明の別の実施形態では１８％である。さらに、本発明の別の実施形態では２０％である。さらに、本発明の別の実施形態では２２％である。
　また、好ましい含有量の上限値として、たとえば、本発明の一つの実施形態では、本発明の液晶組成物の総量に対して４０％である。さらに、本発明の別の実施形態では３０％である。さらに、本発明の別の実施形態では２５％である。さらに、本発明の別の実施形態では２０％である。さらに、本発明の別の実施形態では１５％である。さらに、本発明の別の実施形態では１０％である。さらに、本発明の別の実施形態では５％である。さらに、本発明の別の実施形態では４％である。

　さらに、一般式（Ｖ）で表される化合物は一般式（Ｖ－１）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^５１およびＲ^５２はそれぞれ独立して炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表し、Ｘ^５１およびＸ^５２はそれぞれ独立してフッ素原子または水素原子を表す。）

　さらに、一般式（Ｖ－１）で表される化合物は一般式（Ｖ－１－１）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^５１およびＲ^５２はそれぞれ独立して炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）
　一般式（Ｖ－１－１）で表される化合物を、本発明の液晶組成物の総量に対して１質量％以上含有することが好ましく、２質量％以上含有することが更に好ましく、３質量％以上含有することが更に好ましく、４質量％以上含有することが特に好ましい。また、最大に含有できる比率としては、１５質量％以下が好ましく、１０質量％以下がより好ましく、８質量％以下がさらに好ましい。

　さらに、一般式（Ｖ－１－１）で表される化合物は、式（２０．１）から式（２０．４）で表される化合物であることが好ましく、式（２０．２）で表される化合物であることが好ましい。

　さらに、一般式（Ｖ－１）で表される化合物は一般式（Ｖ－１－２）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^５１およびＲ^５２はそれぞれ独立して炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）
　一般式（Ｖ－１－２）で表される化合物を、本発明の液晶組成物の総量に対して１質量％以上含有することが好ましく、２質量％以上含有することが更に好ましく、３質量％以上含有することが更に好ましく、４質量％以上含有することが特に好ましい。また、最大に含有できる比率としては、１５質量％以下が好ましく、１０質量％以下がより好ましく、８質量％以下がさらに好ましい。

　さらに、一般式（Ｖ－１－２）で表される化合物は、式（２１．１）から式（２１．３）で表される化合物であることが好ましく、式（２１．１）で表される化合物であることが好ましい。

　さらに、一般式（Ｖ－１）で表される化合物は一般式（Ｖ－１－３）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^５１およびＲ^５２はそれぞれ独立して炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）
　一般式（Ｖ－１－３）で表される化合物を、本発明の液晶組成物の総量に対して１質量％以上含有することが好ましく、２質量％以上含有することが更に好ましく、３質量％以上含有することが更に好ましく、４質量％以上含有することが特に好ましい。また、最大に含有できる比率としては、１５質量％以下が好ましく、１０質量％以下がより好ましく、８質量％以下がさらに好ましい。

　さらに、一般式（Ｖ－１－３）で表される化合物は、式（２２．１）から式（２２．３）で表される化合物である。式（２２．１）で表される化合物であることが好ましい。

　さらに、一般式（Ｖ）で表される化合物は一般式（Ｖ－２）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^５１およびＲ^５２はそれぞれ独立して炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表し、Ｘ^５１およびＸ^５２はそれぞれ独立してフッ素原子または水素原子を表す。）
　組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて組み合わせる。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類以上である。
　好ましい含有量の下限値は、本発明の液晶組成物の総量に対して、例えば一つの実施形態では２％である。さらに、本発明の別の実施形態では４％である。さらに、本発明の別の実施形態では７％である。さらに、本発明の別の実施形態では１０％である。さらに、本発明の別の実施形態では１２％である。さらに、本発明の別の実施形態では１５％である。さらに、本発明の別の実施形態では１７％である。さらに、本発明の別の実施形態では１８％である。さらに、本発明の別の実施形態では２０％である。さらに、本発明の別の実施形態では２２％である。
　また、好ましい含有量の上限値として、たとえば、本発明の一つの実施形態では、本発明の液晶組成物の総量に対して４０％である。さらに、本発明の別の実施形態では３０％である。さらに、本発明の別の実施形態では２５％である。さらに、本発明の別の実施形態では２０％である。さらに、本発明の別の実施形態では１５％である。さらに、本発明の別の実施形態では１０％である。さらに、本発明の別の実施形態では５％である。さらに、本発明の別の実施形態では４％である。
　本発明の液晶組成物が高いＴｎｉの実施形態が望まれる場合は式（Ｖ－２）で表される化合物の含有量を多めにすることが好ましく、低粘度の実施形態が望まれる場合は含有量を少なめにすることが好ましい。

　さらに、一般式（Ｖ－２）で表される化合物は一般式（Ｖ－２－１）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^５１およびＲ^５２はそれぞれ独立して炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）

　さらに、一般式（Ｖ－２－１）で表される化合物は、式（２３．１）から式（２３．４）で表される化合物であることが好ましく、式（２３．１）または／および式（２３．２）で表される化合物であることが好ましい。

　さらに、一般式（Ｖ－２）で表される化合物は一般式（Ｖ－２－２）で表される化合物であることが好ましい。

　さらに、一般式（Ｖ－２－２）で表される化合物は、式（２４．１）から式（２４．４）で表される化合物であることが好ましく、式（２４．１）または／および式（２４．２）で表される化合物であることが好ましい。

　さらに、一般式（Ｖ）で表される化合物は一般式（Ｖ－３）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^５１およびＲ^５２はそれぞれ独立して炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）
　組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて組み合わせる。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。さらに、本発明の別の実施形態では３種類以上である。
　一般式（Ｖ－３）で表される化合物を、本発明の液晶組成物の総量に対して２質量％以上含有することが好ましく、４質量％以上含有することが更に好ましく、７質量％以上含有することが更に好ましく、８質量％以上含有することが特に好ましい。また、最大に含有できる比率としては、１６質量％以下が好ましく、１３質量％以下がより好ましく、１１質量％以下がさらに好ましい。

　さらに、一般式（Ｖ－３）で表される化合物は、式（２５．１）から式（２４．３）で表される化合物であることが好ましい。

　本発明の液晶組成物は、更に、一般式（ＶＩ）で表される化合物を１種または２種類以上含有することもできる。

（式中、Ｒ^６１およびＲ^６２はそれぞれ独立して炭素原子数１から１０の直鎖アルキル基、炭素原子数１から１０の直鎖アルコキシ基又は炭素原子数２から１０の直鎖アルケニル基を表す。）
　組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて、これらの化合物の中から１種～３種類含有することが好ましく、１種～４種類含有することがさらに好ましく、１種～５種類以上含有することが特に好ましい。また、最大に含有できる比率としては、３５質量％以下が好ましく、２５質量％以下がより好ましく、１５質量％以下がさらに好ましい。

　一般式（ＶＩ）で表される化合物は、具体的には次に挙げる化合物が好適に使用できる。

　本願発明の液晶組成物は、更に、一般式（ＶＩＩ）で表される化合物を１種または２種類以上含有することができる。

（式中、Ｒ^７１およびＲ^７２はそれぞれ独立して炭素原子数１から１０の直鎖アルキル基、炭素原子数１から１０の直鎖アルコキシ基又は炭素原子数４から１０の直鎖アルケニル基を表す。）
　組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて、これらの化合物の中から１種～３種類含有することが好ましく、１種～４種類含有することがさらに好ましく、１種～５種類以上含有することが特に好ましい。また、最大に含有できる比率としては、３５質量％以下が好ましく、２５質量％以下がより好ましく、１５質量％以下がさらに好ましい。

　一般式（ＶＩＩ）で表される化合物は、具体的には次に挙げる化合物が好適に使用できる。

　本発明の液晶組成物は、一般式（Ｍ）で表される化合物を含有することも好ましい。

（式中、Ｒ^Ｍ１は炭素原子数１～８のアルキル基を表し、該アルキル基中の１個又は非隣接の２個以上の－ＣＨ_２－はそれぞれ独立して－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－によって置換されていてもよく、
　ＰＭは、０、１、２、３又は４を表し、
　Ｃ^Ｍ１及びＣ^Ｍ２はそれぞれ独立して、
（ｄ）　１，４－シクロヘキシレン基（この基中に存在する１個の－ＣＨ_２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ_２－は－Ｏ－又は－Ｓ－に置き換えられてもよい。）及び
（ｅ）　１，４－フェニレン基（この基中に存在する１個の－ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の－ＣＨ＝は－Ｎ＝に置き換えられてもよい。）
からなる群より選ばれる基を表し、上記の基（ｄ）、基（ｅ）はそれぞれ独立してシアノ基、フッ素原子又は塩素原子で置換されていても良く、
　Ｋ^Ｍ１及びＫ^Ｍ２はそれぞれ独立して単結合、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－（ＣＨ_２）_４－、－ＯＣＨ_２－、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＯＣＦ_２－、－ＣＦ_２Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－又は－Ｃ≡Ｃ－を表し、
　ＰＭが２、３又は４であってＫ^Ｍ１が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良く、ＰＭが２、３又は４であってＣ^Ｍ２が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良く、
　Ｘ^Ｍ１及びＸ^Ｍ３はそれぞれ独立して水素原子、塩素原子又はフッ素原子を表し、
　Ｘ^Ｍ２は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、トリフルオロメチル基、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基又は２，２，２－トリフルオロエチル基を表す。ただし、一般式（ｉ）で表される化合物及び一般式（ｉｉ）で表される化合物を除く。）
　組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの所望の性能に応じて組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。さらに、本発明の別の実施形態では３種類である。またさらに、本発明の別の実施形態では４種類である。さらに、本発明の別の実施形態では５種類である。さらに、本発明の別の実施形態では６種類である。さらに、本発明の別の実施形態では７種類以上である。

　本発明の液晶組成物において、一般式（Ｍ）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。
　好ましい含有量の下限値は、本発明の液晶組成物の総量に対して、例えば本発明の一つの実施形態としては１％である。さらに、例えば本発明の別の実施形態としては１０％である。例えば、本発明のさらに別の実施形態としては２０％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては３０％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては４０％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては４５％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては５０％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては５５％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては６０％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては６５％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては７０％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては７５％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては８０％である。
　また、好ましい含有量の上限値として、本発明の液晶組成物の総量に対して、例えば本発明の一つの実施形態としては９５％である。さらに、本発明の別の実施形態としては８５％である。本発明のさらに別の実施形態としては７５％である。本発明のさらに別の実施形態として６５％である。本発明のさらに別の実施形態として５５％である。本発明のさらに別の実施形態として４５％である。本発明のさらに別の実施形態として３５％である。本発明のさらに別の実施形態として２５％である。
　本発明の液晶組成物の粘度を低く保ち、応答速度が速い液晶組成物が必要な場合は上記の下限値を低めに、上限値を低めにすることが好ましい。さらに、本発明の液晶組成物のＴｎｉを高く保ち、温度安定性の良い液晶組成物が必要な場合は上記の下限値を低めに、上限値を低めにすることが好ましい。また、駆動電圧を低く保つために誘電率異方性を大きくしたいときは、上記の下限値を高めに、上限値を高めにすることが好ましい。
　Ｒ^Ｍ１は、それが結合する環構造がフェニル基（芳香族）である場合には、直鎖状の炭素原子数１～５のアルキル基、直鎖状の炭素原子数１～４のアルコキシ基及び炭素原子数４～５のアルケニル基が好ましく、それが結合する環構造がシクロヘキサン、ピラン及びジオキサンなどの飽和した環構造の場合には、直鎖状の炭素原子数１～５のアルキル基、直鎖状の炭素原子数１～４のアルコキシ基及び直鎖状の炭素原子数２～５のアルケニル基が好ましい。
　一般式（Ｍ）で表される化合物は液晶組成物の化学的な安定性が求められる場合には塩素原子をその分子内に有さないことが好ましい。更に液晶組成物内に塩素原子を有する化合物が５％以下であることが好ましく、３％以下であることが好ましく、１％以下であることが好ましく、０．５％以下であることが好ましく、実質的に含有しないことが好ましい。実質的に含有しないとは、化合物製造時の不純物として生成した化合物等の意図せず塩素原子を含む化合物のみが液晶組成物に混入することを意味する。

　一般式（Ｍ）で表される化合物は、例えば一般式（ＶＩＩＩ）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^８は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表し、Ｘ^８１からＸ^８５はそれぞれ独立して水素原子またはフッ素原子を表し、Ｙ^８はフッ素原子または－ＯＣＦ_３を表す。）
　組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの所望の性能に応じて組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。さらに、本発明の別の実施形態では３種類以上である。
　本発明の液晶組成物において、一般式（ＶＩＩＩ）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。
　好ましい含有量の下限値は、本発明の液晶組成物の総量に対して、例えば本発明の一つの実施形態としては２％である。さらに、例えば本発明の別の実施形態としては４％である。例えば、本発明のさらに別の実施形態としては５％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては６％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては７％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては８％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては９％である。例えば、本発明のさらに別の実施形態としては１０％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては１１％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては１２％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては１４％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては１５％である。例えば、本発明のさらに別の実施形態としては２１％である。例えば、本発明のさらに別の実施形態としては２３％である。
　また、好ましい含有量の上限値として、本発明の液晶組成物の総量に対して、例えば本発明の一つの実施形態としては４０％である。さらに、本発明の別の実施形態としては３０％である。本発明のさらに別の実施形態としては２５％である。本発明のさらに別の実施形態として２１％である。本発明のさらに別の実施形態として１６％である。本発明のさらに別の実施形態として１２％である。本発明のさらに別の実施形態として８％である。本発明のさらに別の実施形態として５％である。
　本発明の液晶組成物の粘度を低く保ち、応答速度が速い液晶組成物が必要な場合は上記の下限値を低めに、上限値を低めにすることが好ましい。さらに、本発明の液晶組成物のＴｎｉを高く保ち、温度安定性の良い液晶組成物が必要な場合は上記の下限値を低めに、上限値を低めにすることが好ましい。また、駆動電圧を低く保つために誘電率異方性を大きくしたいときは、上記の下限値を高めに、上限値を高めにすることが好ましい。

　さらに、一般式（ＶＩＩＩ）で表される化合物は、一般式（ＶＩＩＩ－１）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^８は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）
　組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの所望の性能に応じて組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類以上である。

　さらに、一般式（ＶＩＩＩ－１）で表される化合物は、具体的には式（２６．１）から式（２６．４）で表される化合物であることが好ましく、式（２６．１）または式（２６．２）で表される化合物が好ましく、式（２６．２）で表される化合物がさらに好ましい。

　式（２６．２）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して、本発明の液晶組成物の総量に対して２質量％以上であることが好ましく、４質量％以上がより好ましい。また、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、最大比率を４０質量％以下にとどめることが好ましく、３５質量％以下がさらに好ましく、３０質量％以下がより好ましく、２５質量％以下がさらに好ましく、２１質量％以下がさらに好ましく、１６質量％以下が特に好ましい。

　さらに、一般式（ＶＩＩＩ）で表される化合物は、一般式（ＶＩＩＩ－２）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^８は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）
　組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの所望の性能に応じて組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。あるいは、本発明のさらに別の実施形態では３種類以上である。
　一般式（ＶＩＩＩ－２）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して、２．５質量％以上であることが好ましく、８質量％以上であることが好ましく、１０質量％であることがより好ましく、１２質量％以上であることがさらに好ましい。また、最大に含有できる比率としては、２５質量％以下が好ましく、２０質量％以下がより好ましく、１５質量％以下がさらに好ましい。

　さらに、一般式（ＶＩＩＩ－２）で表される化合物は、式（２７．１）から式（２７．４）で表される化合物であることが好ましく、式（２７．２）で表される化合物であることが好ましい。

　さらに、一般式（Ｍ）で表される化合物は、例えば一般式（ＩＸ）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^９は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表し、Ｘ^９１およびＸ^９２はそれぞれ独立して水素原子またはフッ素原子を表し、Ｙ^９はフッ素原子、塩素原子または－ＯＣＦ_３を表し、Ｕ^９は単結合、－ＣＯＯ－または－ＣＦ_２Ｏ－を表す。）
　組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの所望の性能に応じて組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。さらに、本発明の別の実施形態では３種類である。またさらに、本発明の別の実施形態では４種類である。さらに、本発明の別の実施形態では５種類である。さらに、本発明の別の実施形態では６種類以上である。
　本発明の液晶組成物において、一般式（ＩＸ）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。
　好ましい含有量の下限値は、本発明の液晶組成物の総量に対して、例えば本発明の一つの実施形態としては３％である。さらに、例えば本発明の別の実施形態としては５％である。例えば、本発明のさらに別の実施形態としては８％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては１０％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては１２％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては１５％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては１７％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては２０％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては２４％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては２８％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては３０％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては３４％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては３９％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては４０％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては４２％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては４５％である。
　また、好ましい含有量の上限値として、本発明の液晶組成物の総量に対して、例えば本発明の一つの実施形態としては７０％である。さらに、本発明の別の実施形態としては６０％である。本発明のさらに別の実施形態としては５５％である。本発明のさらに別の実施形態として５０％である。本発明のさらに別の実施形態として４５％である。本発明のさらに別の実施形態として４０％である。本発明のさらに別の実施形態として３５％である。本発明のさらに別の実施形態として３０％である。本発明のさらに別の実施形態として２５％である。本発明のさらに別の実施形態として２０％である。本発明のさらに別の実施形態として１５％である。本発明のさらに別の実施形態として１０％である。
　本発明の液晶組成物の粘度を低く保ち、応答速度が速い液晶組成物が必要な場合は上記の下限値を低めに、上限値を低めにすることが好ましい。さらに、本発明の液晶組成物のＴｎｉを高く保ち、焼きつきの発生しにくい液晶組成物が必要な場合は上記の下限値を低めに、上限値を低めにすることが好ましい。また、駆動電圧を低く保つために誘電率異方性を大きくしたいときは、上記の下限値を高めに、上限値を高めにすることが好ましい。

　さらに、一般式（ＩＸ）で表される化合物は、一般式（ＩＸ－１）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^９は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表し、Ｘ^９２は水素原子またはフッ素原子を表し、Ｙ^９はフッ素原子または－ＯＣＦ_３を表す。）
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの所望の性能に応じて組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。さらに、本発明の別の実施形態では３種類である。またさらに、本発明の別の実施形態では４種類以上である。

　さらに、一般式（ＩＸ－１）で表される化合物は、一般式（ＩＸ－１－１）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^９は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）
　組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの所望の性能に応じて組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。さらに、本発明の別の実施形態では３種類以上である。
　一般式（ＩＸ－１－１）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して実施形態に応じて好ましい上限値と下限値がある。含有量の下限値は、好ましくは、たとえば、本発明の液晶組成物の総量に対して。一つの実施形態１％、別の実施形態では２％、更に別の実施形態では４％、また更に別の実施形態では１０％、また更に別の実施形態では１４％、また更に別の実施形態では１６％、また更に別の実施形態では２１％である。
　また、含有量の上限値は、好ましくは、例えば、一つの実施形態では４０％、別の実施形態では３５％、更に別の実施形態では３０％、また更に別の実施形態では２５％、また更に別の実施形態では１０％、また更に別の実施形態では７％、また更に別の実施形態では５％である。

　さらに、一般式（ＩＸ－１－１）で表される化合物は、式（２８．１）から式（２８．５）で表される化合物であることが好ましく、式（２８．３）または／および式（２８．５）で表される化合物であることが好ましい。

　本発明の液晶組成物において、式（２８．３）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総量に対して１質量％以上であることが好ましく、５質量％以上がより好ましく、８質量％以上がさらに好ましく、１０質量％以上がさらに好ましく、１４質量％以上がさらに好ましく、１６質量％以上が特に好ましい。また、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、最大比率を３０質量％以下にとどめることが好ましく、２５質量％以下がさらに好ましく、２２質量％以下がより好ましく、２０質量％未満が特に好ましい。
　本発明の液晶組成物において、式（２８．５）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総量に対して３質量％以上であることが好ましく、７質量％以上がより好ましく、１０質量％以上が特に好ましい。また、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、最大比率を２５質量％以下にとどめることが好ましく、２０質量％未満がさらに好ましく、１５質量％以下がより好ましく、１３質量％未満が特に好ましい。

　さらに、一般式（ＩＸ－１）で表される化合物は、一般式（ＩＸ－１－２）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^９は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）
　組み合わせることのできる化合物の種類に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種から３種類組み合わせることが好ましく、１種から４種類組み合わせることがより好ましい。
　一般式（ＩＸ－１－２）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総量に対して１質量％以上であることが好ましく、５質量％以上がより好ましく、８質量％以上がさらに好ましく、１０質量％以上がさらに好ましく、１４質量％以上がさらに好ましく、１６質量％以上が特に好ましい。また、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、最大比率を３０質量％以下にとどめることが好ましく、２５質量％以下がさらに好ましく、２２質量％以下がより好ましく、２０質量％未満が特に好ましい。

　さらに、一般式（ＩＸ－１－２）で表される化合物は、式（２９．１）から式（２９．４）で表される化合物であることが好ましく、式（２９．２）または／および式（２９．４）で表される化合物であることが好ましい。

　さらに、一般式（ＩＸ）で表される化合物は、一般式（ＩＸ－２）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^９は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表し、Ｘ^９１およびＸ^９２はそれぞれ独立して水素原子またはフッ素原子を表し、Ｙ^９はフッ素原子、塩素原子または－ＯＣＦ_３を表す。）
　組み合わせることのできる化合物の種類に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して、実施形態ごとに適宜組み合わせて使用する。例えば、本発明の一つの実施形態では１種類、別の実施形態では２種類、さらに別の実施形態では３種類、またさらに別の実施形態では４種類、またさらに別の実施形態では５種類、またさらに別の実施形態では６種類以上組み合わせる。

　さらに、一般式（ＩＸ－２）で表される化合物は、一般式（ＩＸ－２－１）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^９は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）
　組み合わせることのできる化合物の種類に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種から３種類組み合わせることが好ましい。
　一般式（ＩＸ－２－１）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの特性を考慮して実施形態ごとに好ましい上限値と下限値がある。含有量の下限値は、例えば、本発明の一つの実施形態では、本発明の液晶組成物の総量に対して１％。別の実施形態では２％、更に別の実施形態では４％、また更に別の実施形態では１０％、また更に別の実施形態では１４％、また更に別の実施形態では１６％、また更に別の実施形態では２１％である。また、含有量の上限値は、例えば、本発明の一つの実施形態では４０％、別の実施形態では３５％、更に別の実施形態では３０％、また更に別の実施形態では２５％、また更に別の実施形態では２２％、また更に別の実施形態では２０％、また更に別の実施形態では１０％、また更に別の実施形態では７％、また更に別の実施形態では５％である。

　さらに、一般式（ＩＸ－２－１）で表される化合物は、式（３０．１）から式（３０．４）で表される化合物であることが好ましく、式（３０．１）から式（３０．２）で表される化合物であることが好ましい。

　さらに、一般式（ＩＸ－２）で表される化合物は、一般式（ＩＸ－２－２）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^９は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）
　組み合わせることのできる化合物の種類に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種から３種類組み合わせることが好ましく、１種から４種類組み合わせることがより好ましい。
　一般式（ＩＸ－２－２）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの特性を考慮して実施形態ごとに上限値と下限値がある。含有量の下限値は、たとえば、本発明の一つの実施形態では本発明の液晶組成物の総量に対して１％、別の実施形態では２％、さらに別の実施形態では４％、またさらに別の実施形態では１０％、またさらに別の実施形態では１４％、またさらに別の実施形態では１６％、またさらに別の実施形態では２１％である。また、含有量の上限値は、例えば、本発明の一つの実施形態では４０％、別の実施形態では３５％、更に別の実施形態では３０％、また更に別の実施形態では２５％、また更に別の実施形態では２２％、また更に別の実施形態では１５％、また更に別の実施形態では１２％、また更に別の実施形態では８％、また更に別の実施形態では４％である。

　さらに、一般式（ＩＸ－２－２）で表される化合物は、式（３１．１）から式（３１．４）で表される化合物であることが好ましく、式（３１．１）から式（３１．４）で表される化合物であることが好ましい。

　さらに、一般式（ＩＸ－２）で表される化合物は、一般式（ＩＸ－２－３）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^９は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）
　組み合わせることのできる化合物の種類に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種から２種類組み合わせることが好ましい。
　一般式（ＩＸ－２－３）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総量に対して１質量％以上であることが好ましく、３質量％以上がより好ましく、６質量％以上がさらに好ましく、８質量％以上がさらに好ましく、１５質量％以上が特に好ましい。また、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、最大比率を３０質量％以下にとどめることが好ましく、２０質量％未満がさらに好ましく、１５質量％以下がより好ましく、１０質量％未満が特に好ましい。

　さらに、一般式（ＩＸ－２－３）で表される化合物は、式（３２．１）から式（３２．４）で表される化合物であることが好ましく、式（３２．２）および／または式（３２．４）で表される化合物であることが好ましい。

　さらに、一般式（ＩＸ－２）で表される化合物は、一般式（ＩＸ－２－４）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^９は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）
　一般式（ＩＸ－２－４）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総量に対して１質量％以上であることが好ましく、３質量％以上がより好ましく、６質量％以上がさらに好ましく、８質量％以上が特に好ましい。また、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、最大比率を３０質量％以下にとどめることが好ましく、２０質量％以下がさらに好ましく、１５質量％以下がより好ましく、１０質量％未満が特に好ましい。

　さらに、一般式（ＩＸ－２－４）で表される化合物は、式（３３．１）から式（３３．５）で表される化合物であることが好ましく、式（３３．１）および／または式（３３．３）で表される化合物であることが好ましい。

　さらに、一般式（ＩＸ－２）で表される化合物は、一般式（ＩＸ－２－５）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^９は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）
　組み合わせることのできる化合物の種類に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して、実施形態ごとに適宜組み合わせて使用する。例えば、本発明の一つの実施形態では１種類、別の実施形態では２種類、さらに別の実施形態では３種類、またさらに別の実施形態では４種類以上である。
　一般式（ＩＸ－２－５）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの特性を考慮して実施形態ごとに上限値と下限値がある。含有量の下限値は、たとえば、本発明の一つの実施形態では本発明の液晶組成物の総量に対して４％、別の実施形態では８％、さらに別の実施形態では１２％、またさらに別の実施形態では２１％、またさらに別の実施形態では３０％、またさらに別の実施形態では３１％、またさらに別の実施形態では３４％である。また、含有量の上限値は、例えば、本発明の一つの実施形態では４５％、別の実施形態では４０％、更に別の実施形態では３５％、また更に別の実施形態では３２％、また更に別の実施形態では２２％、また更に別の実施形態では１３％、また更に別の実施形態では９％、また更に別の実施形態では８％、また更に別の実施形態では５％である。
　本発明の液晶組成物の粘度を低く保ち、応答速度が速い液晶組成物が必要な場合は上記の下限値を低めに、上限値を低めにすることが好ましい。さらに、本発明の液晶組成物のＴｎｉを高く保ち、焼きつきの発生しにくい液晶組成物が必要な場合は上記の下限値を低めに、上限値を低めにすることが好ましい。また、駆動電圧を低く保つために誘電率異方性を大きくしたいときは、上記の下限値を高めに、上限値を高めにすることが好ましい。

　さらに、一般式（ＩＸ－２－５）で表される化合物は、式（３４．１）から式（３４．５）で表される化合物であることが好ましく、式（３４．１）、式（３４．２）、式（３４．３）および／または式（３４．５）で表される化合物であることが好ましい。

　さらに、一般式（ＩＸ）で表される化合物は、一般式（ＩＸ－３）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^９は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表し、Ｘ^９１およびＸ^９２はそれぞれ独立して水素原子またはフッ素原子を表し、Ｙ^９はフッ素原子、塩素原子または－ＯＣＦ_３を表す。）

　さらに、一般式（ＩＸ－３）で表される化合物は、一般式（ＩＸ－３－１）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^９は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）
　組み合わせることのできる化合物の種類に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種から２種類組み合わせることが好ましい。
　一般式（ＩＸ－３－１）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総量に対して３質量％以上であることが好ましく、７質量％以上がより好ましく、１３質量％以上がさらに好ましく、１５質量％以上が特に好ましい。また、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、最大比率を３０質量％以下にとどめることが好ましく、２０質量％以下がさらに好ましく、１８％以下がより好ましく、１０質量％未満が特に好ましい。

　さらに、一般式（ＩＸ－３－１）で表される化合物は、式（３５．１）から式（３５．４）で表される化合物であることが好ましく、式（３５．１）および／または式（３５．２）で表される化合物であることが好ましい。

　さらに、一般式（Ｍ）で表される化合物は、一般式（Ｘ）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｘ^１０１からＸ^１０４はそれぞれ独立してフッ素原子または水素原子を表し、Ｙ^１０はフッ素原子、塩素原子、－ＯＣＦ_３を表し、Ｑ^１０は単結合または－ＣＦ_２Ｏ－を表し、Ｒ^１０は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表し、Ａ^１０１およびＡ^１０２はそれぞれ独立して、１，４－シクロヘキシレン基、１，４－フェニレン基、または

を表すが、１，４－フェニレン基上の水素原子はフッ素原子によって置換されていてもよい。）
　組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して実施形態ごとに適宜組み合わせる。例えば、本発明の一つの実施形態では１種である。また、本発明の別の実施形態では２種類である。さらに別の実施形態では３種類である。さらにまた別の実施形態では４種類である。さらにまた別の実施形態では５種類以上である。
　一般式（Ｘ）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの特性を考慮して実施形態ごとに上限値と下限値がある。含有量の下限値は、たとえば、本発明の一つの実施形態では本発明の液晶組成物の総量に対して２％、別の実施形態では３％、さらに別の実施形態では６％、またさらに別の実施形態では８％、またさらに別の実施形態では９％、またさらに別の実施形態では１１％、またさらに別の実施形態では１２％である。またさらに別の実施形態では１８％である。またさらに別の実施形態では１９％である。またさらに別の実施形態では２３％である。またさらに別の実施形態では２５％である。また、含有量の上限値は、例えば、本発明の一つの実施形態では４５％、別の実施形態では３５％、更に別の実施形態では３０％、また更に別の実施形態では２５％、また更に別の実施形態では２０％、また更に別の実施形態では１３％、また更に別の実施形態では９％、また更に別の実施形態では６％、また更に別の実施形態では３％である。
　本発明の液晶組成物の粘度を低く保ち、応答速度が速い液晶組成物が必要な場合は上記の下限値を低めに、上限値を低めにすることが好ましい。さらに、焼き付きの発生しにくい液晶組成物が必要な場合は上記の下限値を低めに、上限値を低めにすることが好ましい。また、駆動電圧を低く保つために誘電率異方性を大きくしたいときは、上記の下限値を高めに、上限値を高めにすることが好ましい。

　本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ）で表される化合物は、一般式（Ｘ－１）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｘ^１０１からＸ^１０３はそれぞれ独立してフッ素原子または水素原子を表し、Ｒ^１０は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）
　組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して実施形態ごとに適宜組み合わせる。例えば、本発明の一つの実施形態では１種である。また、本発明の別の実施形態では２種類である。さらに別の実施形態では３種類である。さらにまた別の実施形態では４種類である。さらにまた別の実施形態では５種類以上である。
　一般式（Ｘ－１）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの特性を考慮して実施形態ごとに上限値と下限値がある。含有量の下限値は、たとえば、本発明の一つの実施形態では本発明の液晶組成物の総量に対して２％、別の実施形態では３％、さらに別の実施形態では５％、またさらに別の実施形態では６％、またさらに別の実施形態では７％、またさらに別の実施形態では８％、またさらに別の実施形態では９％である。またさらに別の実施形態では１３％である。またさらに別の実施形態では１８％である。またさらに別の実施形態では２３％である。
　また、含有量の上限値は、例えば、本発明の一つの実施形態では４０％、別の実施形態では３０％、更に別の実施形態では２５％、また更に別の実施形態では２０％、また更に別の実施形態では１５％、また更に別の実施形態では１０％、また更に別の実施形態では６％、また更に別の実施形態では４％、また更に別の実施形態では２％である。

　さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ－１）で表される化合物は、一般式（Ｘ－１－１）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^１０は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）
　組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して実施形態ごとに適宜組み合わせる。例えば、本発明の一つの実施形態では１種である。また、本発明の別の実施形態では２種類である。さらに別の実施形態では３種類である。さらにまた別の実施形態では４種類以上である。
　一般式（Ｘ－１－１）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの特性を考慮して実施形態ごとに上限値と下限値がある。含有量の下限値は、たとえば、本発明の一つの実施形態では本発明の液晶組成物の総量に対して３％、別の実施形態では４％、さらに別の実施形態では６％、またさらに別の実施形態では９％、またさらに別の実施形態では１２％、またさらに別の実施形態では１５％、またさらに別の実施形態では１８％である。またさらに別の実施形態では２１％である。
　また、含有量の上限値は、例えば、本発明の一つの実施形態では３０％、別の実施形態では２０％、更に別の実施形態では１３％、また更に別の実施形態では１０％、また更に別の実施形態では７％、また更に別の実施形態では３％である。

　さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ－１－１）で表される化合物は、具体的には式（３６．１）から式（３６．４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（３６．１）および／または式（３６．２）で表される化合物を含有することが好ましい。

　さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ－１）で表される化合物は、一般式（Ｘ－１－２）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^１０は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）
　一般式（Ｘ－１－２）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総量に対して１質量％以上であることが好ましく、２質量％以上がより好ましく、６質量％以上がさらに好ましい。また、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、最大比率を２０質量％以下にとどめることが好ましく、１６質量％以下がさらに好ましく、１２質量％以下がより好ましく、１０質量％以下が特に好ましい。

　さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ－１－２）で表される化合物は、具体的には式（３７．１）から式（３７．４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（３７．２）で表される化合物を含有することが好ましい。

　さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ－１）で表される化合物は、一般式（Ｘ－１－３）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^１０は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）
　組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種から２種類以上組み合わせることが好ましい。
　一般式（Ｘ－１－３）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総量に対して１質量％以上であることが好ましく、２質量％以上がより好ましく、６質量％以上がさらに好ましい。また、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、最大比率を２０質量％以下にとどめることが好ましく、１６質量％以下がさらに好ましく、１２質量％以下がより好ましく、１０質量％以下が特に好ましい。

　さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ－１－３）で表される化合物は、具体的には式（３８．１）から式（３８．４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（３８．２）で表される化合物を含有することが好ましい。

　本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ）で表される化合物は、一般式（Ｘ－２）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｘ^１０２からＸ^１０３はそれぞれ独立してフッ素原子または水素原子を表し、Ｙ^１０はフッ素原子、塩素原子、－ＯＣＦ_３を表し、Ｒ^１０は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）
　組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種から２種類以上組み合わせることが好ましい。

　さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ－２）で表される化合物は、一般式（Ｘ－２－１）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^１０は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）
　組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種から２種類以上組み合わせることが好ましく、１種から３種類以上組み合わせることがより好ましい。
　一般式（Ｘ－２－１）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総量に対して３質量％以上であることが好ましく、４質量％以上がより好ましく、５質量％以上がさらに好ましい。また、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、最大比率を２０質量％以下にとどめることが好ましく、１６質量％以下がさらに好ましく、１２質量％以下がより好ましく、１０質量％以下が特に好ましい。

　さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ－２－１）で表される化合物は、具体的には式（３９．１）から式（３９．４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（３９．２）で表される化合物を含有することが好ましい。

　さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ－２）で表される化合物は、一般式（Ｘ－２－２）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^１０は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）
　組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種から２種類以上組み合わせることが好ましい。
　一般式（Ｘ－２－２）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総量に対して３質量％以上であることが好ましく、６質量％以上がより好ましく、９質量％以上がさらに好ましい。また、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、最大比率を２０質量％以下にとどめることが好ましく、１６質量％以下がさらに好ましく、１２質量％以下がより好ましく、１０質量％以下が特に好ましい。

　さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ－２－２）で表される化合物は、具体的には式（４０．１）から式（４０．４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（４０．２）で表される化合物を含有することが好ましい。

　さらに、一般式（Ｘ）で表される化合物は一般式（Ｘ－３）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｘ^１０２からＸ^１０３はそれぞれ独立してフッ素原子または水素原子を表し、Ｒ^１０は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）
　組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種から２種類以上組み合わせることが好ましい。

　さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ－３）で表される化合物は、一般式（Ｘ－３－１）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^１０は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）
　組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種から２種類以上組み合わせることが好ましい。
　一般式（Ｘ－３－１）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総量に対して１質量％以上であることが好ましく、２質量％以上がより好ましく、３質量％以上がさらに好ましい。また、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、最大比率を１０質量％以下にとどめることが好ましく、８質量％以下がさらに好ましく、６質量％以下がより好ましく、４質量％以下が特に好ましい。

　さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ－３－１）で表される化合物は、具体的には式（４１．１）から式（４１．４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（４１．２）で表される化合物を含有することが好ましい。

　更に、一般式（Ｘ）で表される化合物は、一般式（Ｘ－４）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｘ^１０２はフッ素原子または水素原子を表し、Ｒ^１０は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）
　組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種から２種類以上組み合わせることが好ましく、１種から３種類以上組み合わせることがより好ましい。

　さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ－４）で表される化合物は、一般式（Ｘ－４－１）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^１０は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）
　組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種から２種類以上組み合わせることが好ましく、１種から３種類以上組み合わせることがより好ましい。
　一般式（Ｘ－４－１）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総量に対して１質量％以上であることが好ましく、２質量％以上がより好ましく、３質量％以上がさらに好ましい。また、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、最大比率を２０質量％以下にとどめることが好ましく、１７質量％以下がさらに好ましく、１５質量％以下がより好ましく、１３質量％以下がさらに好ましく、１０質量％以下が特に好ましい。

　さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ－４－１）で表される化合物は、具体的には式（４２．１）から式（４２．４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（４２．３）で表される化合物を含有することが好ましい。

　更に、一般式（Ｘ）で表される化合物は、一般式（Ｘ－５）で表される化合物であることが好ましい。

　さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ－５）で表される化合物は、一般式（Ｘ－５－１）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^１０は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）
　組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種から２種類以上組み合わせることが好ましく、１種から３種類以上組み合わせることがより好ましい。

　さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ－５－１）で表される化合物は、具体的には式（４３．１）から式（４３．４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（４３．２）で表される化合物を含有することが好ましい。

　本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ）で表される化合物は、一般式（Ｘ－６）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^１０は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）
　組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種から２種類以上組み合わせることが好ましい。
　一般式（Ｘ－６）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの特性を考慮して実施形態ごとに上限値と下限値がある。含有量の下限値は、たとえば、本発明の一つの実施形態では本発明の液晶組成物の総量に対して４％、別の実施形態では５％、さらに別の実施形態では６％、またさらに別の実施形態では８％、またさらに別の実施形態では９％、またさらに別の実施形態では１１％、またさらに別の実施形態では１４％である。またさらに別の実施形態では１８％である。
　また、含有量の上限値は、例えば、本発明の一つの実施形態では３０％、別の実施形態では２０％、更に別の実施形態では１３％、また更に別の実施形態では１０％、また更に別の実施形態では７％、また更に別の実施形態では３％である。

　さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ－６）で表される化合物は、具体的には式（４４．１）から式（４４．４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（４４．１）および／または式（４４．２）で表される化合物を含有することが好ましい。

　さらに、一般式（Ｌ）で表される化合物または一般式（Ｘ）で表される化合物は、一般式（ＸＩ）で表される群より選ばれる化合物であることが好ましい。

（式中、Ｘ^１１１からＸ^１１７はそれぞれ独立してフッ素原子または水素原子を表し、Ｘ^１１１からＸ^１１７の少なくとも一つはフッ素原子を表し、Ｒ^１１は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表し、Ｙ^１１はフッ素原子または－ＯＣＦ_３を表す。）
　組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種から３種類以上組み合わせることが好ましい。
　一般式（ＸＩ）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの特性を考慮して実施形態ごとに上限値と下限値がある。含有量の下限値は、たとえば、本発明の一つの実施形態では、本発明の液晶組成物の総量に対して２％、別の実施形態では４％、さらに別の実施形態では５％、またさらに別の実施形態では７％、またさらに別の実施形態では９％、またさらに別の実施形態では１０％、またさらに別の実施形態では１２％である。またさらに別の実施形態では１３％である。またさらに別の実施形態では１５％である。またさらに別の実施形態では１８％である。
　また、含有量の上限値は、例えば、本発明の一つの実施形態では３０％、別の実施形態では２５％、更に別の実施形態では２０％、また更に別の実施形態では１５％、また更に別の実施形態では１０％、また更に別の実施形態では５％である。
　本発明の液晶組成物が、セルギャップの小さい液晶表示素子用に用いられる場合は、一般式（ＸＩ）で表される化合物の含有量を多めにすることが適している。駆動電圧の小さい液晶表示素子用に用いられる場合は、一般式（ＸＩ）で表される化合物の含有量を多めにすることが適している。また、低温の環境で用いられる液晶表示素子用に用いられる場合は一般式（ＸＩ）で表される化合物の含有量を少なめにすることが適している。応答速度の速い液晶表示素子に用いられる液晶組成物である場合は、一般式（ＸＩ）で表される化合物の含有量を少なめにすることが適している。

　さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（ＸＩ）で表される化合物は、一般式（ＸＩ－１）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^１１は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）
　組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して、実施形態ごとに適宜組み合わせる。例えば、本発明の一つの実施形態では１種類、別の実施形態では２種類、更に別の実施形態では３種類以上組み合わせる。
　一般式（ＸＩ－１）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総量に対して１質量％以上であることが好ましく、２質量％以上がより好ましく、３質量％以上がさらに好ましく、４質量％以上がさらに好ましく、５質量％以上が特に好ましい。また、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、最大比率を２０質量％以下にとどめることが好ましく、１５質量％以下がさらに好ましく、１２質量％以下がより好ましく、８質量％以下が特に好ましい。

　さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（ＸＩ－１）で表される化合物は、具体的には式（４５．１）から式（４５．４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（４５．２）から式（４５．４）で表される化合物を含有することが好ましく、式（４５．２）で表される化合物を含有することがより好ましい。

　さらに、一般式（Ｌ）で表される化合物または一般式（Ｘ）で表される化合物は、一般式（ＸＩＩ）で表される群より選ばれる化合物であることが好ましい。

（式中、Ｘ^１２１からＸ^１２６はそれぞれ独立してフッ素原子または水素原子を表し、Ｒ^１２は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表し、Ｙ^１２はフッ素原子または－ＯＣＦ_３を表す。）
　組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種から３種類以上組み合わせることが好ましく、１種から４種類以上組み合わせることがより好ましい。

　さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（ＸＩＩ）で表される化合物は、一般式（ＸＩＩ－１）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^１２は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）
　組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種から２種類以上組み合わせることが好ましく、１種から３種類以上組み合わせることがより好ましい。
　一般式（ＸＩＩ－１）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総量に対して１質量％以上であることが好ましく、２質量％以上がより好ましく、３質量％以上がさらに好ましく、４質量％以上が特に好ましい。また、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、最大比率を１５質量％以下にとどめることが好ましく、１０質量％以下がさらに好ましく、８質量％以下がより好ましく、６質量％以下が特に好ましい。
　さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（ＸＩＩ－１）で表される化合物は、具体的には式（４６．１）から式（４６．４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（４６．２）から式（４６．４）で表される化合物を含有することが好ましい。

　さらに、一般式（ＸＩＩ）で表される化合物は、一般式（ＸＩＩ－２）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^１２は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）
　組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種から２種類以上組み合わせることが好ましく、１種から３種類以上組み合わせることがより好ましい。
　一般式（ＸＩＩ－２）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総量に対して１質量％以上であることが好ましく、３質量％以上がより好ましく、４質量％以上がさらに好ましく、６質量％以上がさらに好ましく、９質量％以上が特に好ましい。また、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、最大比率を２０質量％以下にとどめることが好ましく、１７質量％以下がさらに好ましく、１５質量％以下がより好ましく、１３質量％以下が特に好ましい。

　さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（ＸＩＩ－２）で表される化合物は、具体的には式（４７．１）から式（４７．４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（４７．２）から式（４７．４）で表される化合物を含有することが好ましい。

　更に、一般式（Ｍ）で表される化合物は、一般式（ＸＩＩＩ）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。

（式中、Ｘ^１３１からＸ^１３５はそれぞれ独立してフッ素原子または水素原子を表し、Ｒ^１３は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表し、Ｙ^１３はフッ素原子または－ＯＣＦ_３を表す。）
　組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、これらの化合物の中から１種～２種類含有することが好ましく、１種～３種類含有することがより好ましく、１種～４種類含有することが更に好ましい。
　一般式（ＸＩＩＩ）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの特性を考慮して実施形態ごとに上限値と下限値がある。含有量の下限値は、たとえば、本発明の一つの実施形態では、本発明の液晶組成物の総量に対して２％、別の実施形態では４％、さらに別の実施形態では５％、またさらに別の実施形態では７％、またさらに別の実施形態では９％、またさらに別の実施形態では１１％、またさらに別の実施形態では１３％である。またさらに別の実施形態では１４％である。またさらに別の実施形態では１６％である。またさらに別の実施形態では２０％である。
　また、含有量の上限値は、例えば、本発明の一つの実施形態では３０％、別の実施形態では２５％、更に別の実施形態では２０％、また更に別の実施形態では１５％、また更に別の実施形態では１０％、また更に別の実施形態では５％である。
　本発明の液晶組成物が、セルギャップの小さい液晶表示素子用に用いられる場合は、一般式（ＸＩＩＩ）で表される化合物の含有量を多めにすることが適している。駆動電圧の小さい液晶表示素子用に用いられる場合は、一般式（ＸＩＩＩ）で表される化合物の含有量を多めにすることが適している。また、低温の環境で用いられる液晶表示素子用に用いられる場合は一般式（ＸＩＩＩ）で表される化合物の含有量を少なめにすることが適している。応答速度の速い液晶表示素子に用いられる液晶組成物である場合は、一般式（ＸＩＩＩ）で表される化合物の含有量を少なめにすることが適している。

　さらに、一般式（ＸＩＩＩ）で表される化合物は一般式（ＸＩＩＩ－１）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^１３は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）
　一般式（ＸＩＩＩ－１）で表される化合物を本発明の液晶組成物の総量に対して１質量％以上含有することが好ましく、３質量％以上含有することがさらに好ましく、５質量％以上含有することがさらに好ましく、１０質量％以上含有することが特に好ましい。また、最大に含有できる比率としては、２５質量％以下が好ましく、２０質量％以下がより好ましく、１５質量％以下がさらに好ましい。

　さらに、一般式（ＸＩＩＩ－１）で表される化合物は、式（４８．１）から式（４８．４）で表される化合物であることが好ましく、式（４８．２）で表される化合物であることが好ましい。

　さらに、一般式（ＸＩＩＩ）で表される化合物は一般式（ＸＩＩＩ－２）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^１３は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）
　組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、これらの化合物の中から１種～２種類以上含有することが好ましい。
　一般式（ＸＩＩＩ－２）で表される化合物を本発明の液晶組成物の総量に対して５質量％以上含有することが好ましく、６質量％以上含有することがさらに好ましく、８質量％以上含有することがさらに好ましく、１０質量％以上含有することが特に好ましい。また、最大に含有できる比率としては、２５質量％以下が好ましく、２０質量％以下がより好ましく、１５質量％以下がさらに好ましい。

　さらに、一般式（ＸＩＩＩ－２）で表される化合物は、式（４９．１）から式（４９．４）で表される化合物であることが好ましく、式（４９．１）または／および式（４９．２）で表される化合物であることが好ましい。

　さらに、一般式（ＸＩＩＩ）で表される化合物は一般式（ＸＩＩＩ－３）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^１３は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）
　組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、これらの化合物の中から１種～２種類含有することが好ましい。
　一般式（ＸＩＩＩ－３）で表される化合物を、本発明の液晶組成物の総量に対して２質量％以上含有することが好ましく、４質量％以上含有することが更に好ましく、９質量％以上含有することが更に好ましく、１１質量％以上含有することが特に好ましい。また、最大に含有できる比率としては、２０質量％以下が好ましく、１７質量％以下がより好ましく、１４質量％以下がさらに好ましい。

　さらに、一般式（ＸＩＩＩ－３）で表される化合物は、式（５０．１）から式（５０．４）で表される化合物であることが好ましく、式（５０．１）または／および式（５０．２）で表される化合物であることが好ましい。

　さらに、一般式（Ｍ）で表される化合物は、一般式（ＸＩＶ）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^１４は炭素原子数１～７のアルキル基、炭素原子数２～７のアルケニル基または炭素原子数１～７のアルコキシ基を表し、Ｘ^１４１からＸ^１４４はそれぞれ独立してフッ素原子または水素原子を表し、Ｙ^１４はフッ素原子、塩素原子または－ＯＣＦ_３を表し、Ｑ^１４は単結合、－ＣＯＯ－または－ＣＦ_２Ｏ－を表し、ｍ^１４は０または１である。）
　組み合わせることのできる化合物の種類に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して実施形態ごとに適宜組み合わせる。例えば、本発明の一つの実施形態では１種である。さらに、本発明の別の実施形態では２種類である。あるいは、本発明のさらに別の実施形態では３種類である。また、本発明のさらに別の実施形態では４種類である。あるいは、本発明のさらに別の実施形態では５種類である。あるいは、本発明のさらに別の実施形態では６種類以上である。
　一般式（ＸＩＶ）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの特性を考慮して実施形態ごとに上限値と下限値がある。含有量の下限値は、たとえば、本発明の一つの実施形態では、本発明の液晶組成物の総量に対して３％、別の実施形態では７％、さらに別の実施形態では８％、またさらに別の実施形態では１１％、またさらに別の実施形態では１２％、またさらに別の実施形態では１６％、またさらに別の実施形態では１８％である。またさらに別の実施形態では１９％である。またさらに別の実施形態では２２％である。またさらに別の実施形態では２５％である。
　また、含有量の上限値は、例えば、本発明の一つの実施形態では４０％、別の実施形態では３５％、更に別の実施形態では３０％、また更に別の実施形態では２５％、また更に別の実施形態では２０％、また更に別の実施形態では１５％である。
　本発明の液晶組成物が、駆動電圧の小さい液晶表示素子用に用いられる場合は、一般式（ＸＩＶ）で表される化合物の含有量を多めにすることが適している。また応答速度の速い液晶表示素子に用いられる液晶組成物である場合は、一般式（ＸＩＶ）で表される化合物の含有量を少なめにすることが適している。

　さらに、一般式（ＸＩＶ）で表される化合物は、一般式（ＸＩＶ－１）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^１４は炭素原子数１～７のアルキル基、炭素原子数２～７のアルケニル基または炭素原子数１～７のアルコキシ基を表し、Ｙ^１４はフッ素原子、塩素原子または－ＯＣＦ_３を表す。）
　組み合わせることのできる化合物の種類に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種から３種類組み合わせることが好ましい。

　さらに、一般式（ＸＩＶ－１）で表される化合物は、一般式（ＸＩＶ－１－１）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^１４は炭素原子数１～７のアルキル基、炭素原子数２～７のアルケニル基または炭素原子数１～７のアルコキシ基を表す。）
　一般式（ＸＩＶ－１）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総量に対して２質量％以上であることが好ましく、４質量％以上がより好ましく、７質量％以上がさらに好ましく、１０質量％以上がさらに好ましく、１８質量％以上が特に好ましい。また、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、最大比率を３０質量％以下にとどめることが好ましく、２７質量％以下がさらに好ましく、２４質量％以下がより好ましく、２１質量％未満が特に好ましい。

　さらに、一般式（ＸＩＶ－１－１）で表される化合物は具体的には式（５１．１）から式（５１．４）で表される化合物であることが好ましく、式（５１．１）で表される化合物を含有することがより好ましい。

　さらに、一般式（ＸＩＶ－１）で表される化合物は、一般式（ＸＩＶ－１－２）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^１４は炭素原子数１～７のアルキル基、炭素原子数２～７のアルケニル基または炭素原子数１～７のアルコキシ基を表す。）
　一般式（ＸＩＶ－１－２）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総量に対して１質量％以上であることが好ましく、３質量％以上がより好ましく、５質量％以上がさらに好ましく、７質量％以上が特に好ましい。また、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、最大比率を１５質量％以下にとどめることが好ましく、１３質量％以下がさらに好ましく、１１質量％以下がより好ましく、９質量％未満が特に好ましい。

　さらに、一般式（ＸＩＶ－１－２）で表される化合物は具体的には式（５２．１）から式（５２．４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（５２．４）で表される化合物を含有することが好ましい。

　さらに、一般式（ＸＩＶ）で表される化合物は、一般式（ＸＩＶ－２）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^１４は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表し、Ｘ^１４１からＸ^１４４はそれぞれ独立してフッ素原子または水素原子を表し、Ｙ^１４はフッ素原子、塩素原子または－ＯＣＦ_３を表す。）
　組み合わせることのできる化合物の種類に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して実施形態ごとに適宜組み合わせる。例えば、本発明の一つの実施形態では１種である。さらに、本発明の別の実施形態では２種類である。あるいは、本発明のさらに別の実施形態では３種類である。また、本発明のさらに別の実施形態では４種類である。あるいは、本発明のさらに別の実施形態では５種類以上である。
　一般式（ＸＩＶ－２）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの特性を考慮して実施形態ごとに上限値と下限値がある。含有量の下限値は、たとえば、本発明の一つの実施形態では、本発明の液晶組成物の総量に対して３％、別の実施形態では７％、さらに別の実施形態では８％、またさらに別の実施形態では１０％、またさらに別の実施形態では１１％、またさらに別の実施形態では１２％、またさらに別の実施形態では１８％である。またさらに別の実施形態では１９％である。またさらに別の実施形態では２１％である。またさらに別の実施形態では２２％である。
　また、含有量の上限値は、例えば、本発明の一つの実施形態では４０％、別の実施形態では３５％、更に別の実施形態では２５％、また更に別の実施形態では２０％、また更に別の実施形態では１５％、また更に別の実施形態では１０％である。
　本発明の液晶組成物が、駆動電圧の小さい液晶表示素子用に用いられる場合は、一般式（ＸＩＶ－２）で表される化合物の含有量を多めにすることが適している。また応答速度の速い液晶表示素子に用いられる液晶組成物である場合は、一般式（ＸＩＶ－２）で表される化合物の含有量を少なめにすることが適している。

　さらに、一般式（ＸＩＶ－２）で表される化合物は、一般式（ＸＩＶ－２－１）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^１４は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）
　一般式（ＸＩＶ－２－１）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総量に対して１質量％以上であることが好ましく、３質量％以上がより好ましく、５質量％以上がさらに好ましく、７質量％以上が特に好ましい。また、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、最大比率を１５質量％以下にとどめることが好ましく、１３質量％以下がさらに好ましく、１１質量％以下がより好ましく、９質量％未満が特に好ましい。

　さらに、一般式（ＸＩＶ－２－１）で表される化合物は具体的には式（５３．１）から式（５３．４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（５３．４）で表される化合物を含有することが好ましい。

　さらに、一般式（ＸＩＶ－２）で表される化合物は、一般式（ＸＩＶ－２－２）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^１４は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）
　一般式（ＸＩＶ－２－２）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総量に対して３質量％以上であることが好ましく、６質量％以上がより好ましく、９質量％以上がさらに好ましく、１２質量％以上が特に好ましい。また、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、最大比率を２０質量％以下にとどめることが好ましく、１７質量％以下がさらに好ましく、１５質量％以下がより好ましく、１４質量％以下が特に好ましい。

　さらに、一般式（ＸＩＶ－２－２）で表される化合物は具体的には式（５４．１）から式（５４．４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（５４．２）および／または式（５４．４）で表される化合物を含有することが好ましい。

　さらに、一般式（ＸＩＶ－２）で表される化合物は、一般式（ＸＩＶ－２－３）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^１４は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）
　一般式（ＸＩＶ－２－３）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総量に対して５質量％以上であることが好ましく、９質量％以上がより好ましく、１２質量％以上が特に好ましい。また、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、最大比率を３０質量％以下にとどめることが好ましく、２７質量％未満がさらに好ましく、２４質量％以下がより好ましく、２０質量％未満が特に好ましい。

　さらに、一般式（ＸＩＶ－２－３）で表される化合物は具体的には式（５５．１）から式（５５．４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（５５．２）および／または式（５５．４）で表される化合物を含有することが好ましい。

　さらに、一般式（ＸＩＶ－２）で表される化合物は、一般式（ＸＩＶ－２－４）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^１４は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）
　組み合わせることのできる化合物の種類に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して実施形態ごとに適宜組み合わせる。例えば、本発明の一つの実施形態では１種である。さらに、本発明の別の実施形態では２種類である。あるいは、本発明のさらに別の実施形態では３種類以上である。
　一般式（ＸＩＶ－２－４）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの特性を考慮して実施形態ごとに上限値と下限値がある。含有量の下限値は、たとえば、本発明の一つの実施形態では、本発明の液晶組成物の総量に対して２％、別の実施形態では５％、さらに別の実施形態では８％、またさらに別の実施形態では９％、またさらに別の実施形態では１０％、またさらに別の実施形態では１８％、またさらに別の実施形態では２１％である。またさらに別の実施形態では２２％である。またさらに別の実施形態では２４％である。
　また、含有量の上限値は、例えば、本発明の一つの実施形態では３５％、別の実施形態では３０％、更に別の実施形態では２５％、また更に別の実施形態では２０％、また更に別の実施形態では１５％、また更に別の実施形態では１０％である。
　本発明の液晶組成物が、駆動電圧の小さい液晶表示素子用に用いられる場合は、一般式（ＸＩＶ－２－４）で表される化合物の含有量を多めにすることが適している。また応答速度の速い液晶表示素子に用いられる液晶組成物である場合は、一般式（ＸＩＶ－２－４）で表される化合物の含有量を少なめにすることが適している。

　さらに、一般式（ＸＩＶ－２－４）で表される化合物は具体的には式（５６．１）から式（５６．４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（５６．１）、式（５６．２）および式（５６．４）で表される化合物を含有することが好ましい。

　さらに、一般式（ＸＩＶ－２）で表される化合物は、一般式（ＸＩＶ－２－５）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^１４は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）
　一般式（ＸＩＶ－２－５）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総量に対して５質量％以上であることが好ましく、１０質量％以上がより好ましく、１３質量％以上が特に好ましい。また、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、最大比率を２５質量％以下にとどめることが好ましく、２２質量％未満がさらに好ましく、１８質量％以下がより好ましく、１５質量％未満が特に好ましい。

　さらに、一般式（ＸＩＶ－２－５）で表される化合物は具体的には式（５７．１）から式（５７．４）で表される化合物である。中でも式（５７．１）で表される化合物を含有することが好ましい。

　さらに、一般式（ＸＩＶ－２）で表される化合物は、一般式（ＸＩＶ－２－６）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^１４は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）
　一般式（ＸＩＶ－２－６）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総量に対して５質量％以上であることが好ましく、１０質量％以上がより好ましく、１５質量％以上が特に好ましい。また、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、最大比率を２５質量％以下にとどめることが好ましく、２２質量％以下がさらに好ましく、２０質量％以下がより好ましく、１７質量％未満が特に好ましい。

　さらに、一般式（ＸＩＶ－２－６）で表される化合物は具体的には式（５８．１）から式（５８．４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（５８．２）で表される化合物を含有することが好ましい。

　本願発明に使用する化合物は、分子内に過酸（－ＣＯ－ＯＯ－）構造を持たない。また、液晶組成物の信頼性及び長期安定性を重視する場合にはカルボニル基を有する化合物を使用しないことが好ましい。また、ＵＶ照射による安定性を重視する場合、塩素原子が置換している化合物を使用しないことが望ましい。

　本発明の液晶組成物には、ＰＳモード、横電界型ＰＳＡモード又は横電界型ＰＳＶＡモードなどの液晶表示素子を作製するために、重合性化合物を含有することができる。使用できる重合性化合物として、光などのエネルギー線により重合が進行する光重合性モノマーなどが挙げられ、構造として、例えば、ビフェニル誘導体、ターフェニル誘導体などの六員環が複数連結した液晶骨格を有する重合性化合物などが挙げられる。更に具体的には、一般式（ＸＸ）

（式中、Ｘ^２０１及びＸ^２０２はそれぞれ独立して、水素原子又はメチル基を表し、
Ｓｐ^２０１及びＳｐ^２０２はそれぞれ独立して、単結合、炭素原子数１～８のアルキレン基又は－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｓ－（式中、ｓは２から７の整数を表し、酸素原子は芳香環に結合するものとする。）を表し、
Ｚ^２０１は－ＯＣＨ_２－、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＦ_２Ｏ－、－ＯＣＦ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＯＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＯＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＯＯ－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＯＣＯ－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－ＣＯＯ－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－ＣＨ_２－、－ＯＣＯ－ＣＨ_２－、－ＣＨ_２－ＣＯＯ－、－ＣＨ_２－ＯＣＯ－、－ＣＹ^１＝ＣＹ^２－（式中、Ｙ^１及びＹ^２はそれぞれ独立して、フッ素原子又は水素原子を表す。）、－Ｃ≡Ｃ－又は単結合を表し、
Ｍ^２０１は１，４－フェニレン基、トランス－１，４－シクロヘキシレン基又は単結合を表し、式中の全ての１，４－フェニレン基は、任意の水素原子がフッ素原子により置換されていても良い。）で表される二官能モノマーが好ましい。

　Ｘ^２０１及びＸ^２０２は、何れも水素原子を表すジアクリレート誘導体、何れもメチル基を有するジメタクリレート誘導体の何れも好ましく、一方が水素原子を表しもう一方がメチル基を表す化合物も好ましい。これらの化合物の重合速度は、ジアクリレート誘導体が最も早く、ジメタクリレート誘導体が遅く、非対称化合物がその中間であり、その用途により好ましい態様を用いることができる。ＰＳＡ表示素子においては、ジメタクリレート誘導体が特に好ましい。
　Ｓｐ^２０１及びＳｐ^２０２はそれぞれ独立して、単結合、炭素原子数１～８のアルキレン基又は－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｓ－を表すが、ＰＳＡ表示素子においては少なくとも一方が単結合であることが好ましく、共に単結合を表す化合物又は一方が単結合でもう一方が炭素原子数１～８のアルキレン基又は－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｓ－を表す態様が好ましい。この場合１～４のアルキル基が好ましく、ｓは１～４が好ましい。
　Ｚ^２０１は、－ＯＣＨ_２－、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＦ_２Ｏ－、－ＯＣＦ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＦ_２ＣＦ_２－又は単結合が好ましく、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－又は単結合がより好ましく、単結合が特に好ましい。
　Ｍ^２０１は任意の水素原子がフッ素原子により置換されていても良い１，４－フェニレン基、トランス－１，４－シクロヘキシレン基又は単結合を表すが、１，４－フェニレン基又は単結合が好ましい。Ｃが単結合以外の環構造を表す場合、Ｚ^２０１は単結合以外の連結基も好ましく、Ｍ^２０１が単結合の場合、Ｚ^２０１は単結合が好ましい。

　これらの点から、一般式（ＸＸ）において、Ｓｐ^２０１及びＳｐ^２０２の間の環構造は、具体的には次に記載する構造が好ましい。
　一般式（ＸＸ）において、Ｍ^２０１が単結合を表し、環構造が二つの環で形成される場合において、次の式（ＸＸａ－１）から式（ＸＸａ－５）を表すことが好ましく、式（ＸＸａ－１）から式（ＸＸａ－３）を表すことがより好ましく、式（ＸＸａ－１）を表すことが特に好ましい。

（式中、両端はＳｐ^２０１又はＳｐ^２０２に結合するものとする。）
　これらの骨格を含む重合性化合物は重合後の配向規制力がＰＳＡ型液晶表示素子に最適であり、良好な配向状態が得られることから、表示ムラが抑制されるか、又は、全く発生しない。
　以上のことから、重合性モノマーとしては、一般式（ＸＸ－１）～一般式（ＸＸ－４）が特に好ましく、中でも一般式（ＸＸ－２）が最も好ましい。

（式中、Ｓｐ^２０は炭素原子数２から５のアルキレン基を表す。）

　本発明の液晶組成物にモノマーを添加する場合において、重合開始剤が存在しない場合でも重合は進行するが、重合を促進するために重合開始剤を含有していてもよい。重合開始剤としては、ベンゾインエーテル類、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類、ベンジルケタール類、アシルフォスフィンオキサイド類等が挙げられる。

　本発明における液晶組成物は、さらに、一般式（Ｑ）で表される化合物を含有することができる。

（式中、Ｒ^Ｑは炭素原子数１から２２の直鎖アルキル基又は分岐鎖アルキル基を表し、該アルキル基中の１つ又は２つ以上のＣＨ_２基は、酸素原子が直接隣接しないように、－Ｏ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－、－Ｃ≡Ｃ－、－ＣＦ_２Ｏ－、－ＯＣＦ_２－で置換されてよく、Ｍ^Ｑはトランス－１，４－シクロヘキシレン基、１，４－フェニレン基又は単結合を表す。）
　Ｒ^Ｑは炭素原子数１から２２の直鎖アルキル基又は分岐鎖アルキル基を表し、該アルキル基中の１つ又は２つ以上のＣＨ_２基は、酸素原子が直接隣接しないように、－Ｏ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－、－Ｃ≡Ｃ－、－ＣＦ_２Ｏ－、－ＯＣＦ_２－で置換されてよいが、炭素原子数１から１０の直鎖アルキル基、直鎖アルコキシ基、１つのＣＨ_２基が－ＯＣＯ－又は－ＣＯＯ－に置換された直鎖アルキル基、分岐鎖アルキル基、分岐アルコキシ基、１つのＣＨ_２基が－ＯＣＯ－又は－ＣＯＯ－に置換された分岐鎖アルキル基が好ましく、炭素原子数１から２０の直鎖アルキル基、１つのＣＨ_２基が－ＯＣＯ－又は－ＣＯＯ－に置換された直鎖アルキル基、分岐鎖アルキル基、分岐アルコキシ基、１つのＣＨ_２基が－ＯＣＯ－又は－ＣＯＯ－に置換された分岐鎖アルキル基が更に好ましい。Ｍ^Ｑはトランス－１，４－シクロヘキシレン基、１，４－フェニレン基又は単結合を表すが、トランス－１，４－シクロヘキシレン基又は１，４－フェニレン基が好ましい。
　一般式（Ｑ）で表される化合物は、より具体的には、下記の一般式（Ｑ－ａ）から一般式（Ｑ－ｄ）で表される化合物が好ましい。

　式中、Ｒ^Ｑ１は炭素原子数１から１０の直鎖アルキル基又は分岐鎖アルキル基が好ましく、Ｒ^Ｑ２は炭素原子数１から２０の直鎖アルキル基又は分岐鎖アルキル基が好ましく、Ｒ^Ｑ３は炭素原子数１から８の直鎖アルキル基、分岐鎖アルキル基、直鎖アルコキシ基又は分岐鎖アルコキシ基が好ましく、Ｌ^Ｑは炭素原子数１から８の直鎖アルキレン基又は分岐鎖アルキレン基が好ましい。一般式（Ｑ－ａ）から一般式（Ｑ－ｄ）で表される化合物中、一般式（Ｑ－ｃ）及び一般式（Ｑ－ｄ）で表される化合物が更に好ましい。
　本願発明の液晶組成物において、一般式（Ｑ）で表される化合物を１種又は２種を含有することが好ましく、１種から５種含有することが更に好ましく、その含有量は０．００１から１質量％であることが好ましく、０．００１から０．１質量％が更に好ましく、０．００１から０．０５質量％が特に好ましい。

　本発明の重合性化合物を含有した液晶組成物は、これに含まれる重合性化合物が紫外線照射により重合することで液晶配向能が付与され、液晶組成物の複屈折を利用して光の透過光量を制御する液晶表示素子に使用される。液晶表示素子として、ＡＭ－ＬＣＤ（アクティブマトリックス液晶表示素子）、ＴＮ（ネマチック液晶表示素子）、ＳＴＮ－ＬＣＤ（超ねじれネマチック液晶表示素子）、ＯＣＢ－ＬＣＤ、ＩＰＳ－ＬＣＤ（インプレーンスイッチング液晶表示素子）及びＦＦＳ（フリンジフィールドスイッチングモードの液晶表示素子）に有用であるが、ＡＭ－ＬＣＤに特に有用であり、透過型あるいは反射型の液晶表示素子に用いることができる。

　液晶表示素子に使用される液晶セルの２枚の基板はガラス又はプラスチックの如き柔軟性をもつ透明な材料を用いることができ、一方はシリコン等の不透明な材料でも良い。透明電極層を有する透明基板は、例えば、ガラス板等の透明基板上にインジウムスズオキシド（ＩＴＯ）をスパッタリングすることにより得ることができる。
　カラーフィルターは、例えば、顔料分散法、印刷法、電着法又は、染色法等によって作成することができる。顔料分散法によるカラーフィルターの作成方法を一例に説明すると、カラーフィルター用の硬化性着色組成物を、該透明基板上に塗布し、パターニング処理を施し、そして加熱又は光照射により硬化させる。この工程を、赤、緑、青の３色についてそれぞれ行うことで、カラーフィルター用の画素部を作成することができる。その他、該基板上に、ＴＦＴ、薄膜ダイオード、金属絶縁体金属比抵抗素子等の能動素子を設けた画素電極を設置してもよい。
　前記基板を、透明電極層が内側となるように対向させる。その際、スペーサーを介して、基板の間隔を調整してもよい。このときは、得られる調光層の厚さが１～１００μｍとなるように調整するのが好ましい。１．５から１０μｍが更に好ましく、偏光板を使用する場合は、コントラストが最大になるように液晶の屈折率異方性Δｎとセル厚ｄとの積を調整することが好ましい。又、二枚の偏光板がある場合は、各偏光板の偏光軸を調整して視野角やコントラストが良好になるように調整することもできる。更に、視野角を広げるための位相差フィルムも使用することもできる。スペーサーとしては、例えば、ガラス粒子、プラスチック粒子、アルミナ粒子、フォトレジスト材料などからなる柱状スペーサー等が挙げられる。その後、エポキシ系熱硬化性組成物等のシール剤を、液晶注入口を設けた形で該基板にスクリーン印刷し、該基板同士を貼り合わせ、加熱しシール剤を熱硬化させる。

　２枚の基板間に重合性化合物含有液晶組成物を狭持させる方法は、通常の真空注入法又はＯＤＦ法などを用いることができるが、真空注入法においては滴下痕が発生しないものの、注入の跡が残る課題を有しているものであるが、本願発明においては、ＯＤＦ法を用いて製造する表示素子により好適に使用することができる。ＯＤＦ法の液晶表示素子製造工程においては、バックプレーンまたはフロントプレーンのどちらか一方の基板にエポキシ系光熱併用硬化性などのシール剤を、ディスペンサーを用いて閉ループ土手状に描画し、その中に脱気下で所定量の液晶組成物を滴下後、フロントプレーンとバックプレーンを接合することによって液晶表示素子を製造することができる。本発明の液晶組成物は、ＯＤＦ工程における液晶組成物の滴下が安定的に行えるため、好適に使用することができる。

　重合性化合物を重合させる方法としては、液晶の良好な配向性能を得るためには、適度な重合速度が望ましいので、紫外線又は電子線等の活性エネルギー線を単一又は併用又は順番に照射することによって重合させる方法が好ましい。紫外線を使用する場合、偏光光源を用いても良いし、非偏光光源を用いても良い。また、重合性化合物含有液晶組成物を２枚の基板間に挟持させて状態で重合を行う場合には、少なくとも照射面側の基板は活性エネルギー線に対して適当な透明性が与えられていなければならない。また、光照射時にマスクを用いて特定の部分のみを重合させた後、電場や磁場又は温度等の条件を変化させることにより、未重合部分の配向状態を変化させて、更に活性エネルギー線を照射して重合させるという手段を用いても良い。特に紫外線露光する際には、重合性化合物含有液晶組成物に交流電界を印加しながら紫外線露光することが好ましい。印加する交流電界は、周波数１０Ｈｚから１０ｋＨｚの交流が好ましく、周波数６０Ｈｚから１０ｋＨｚがより好ましく、電圧は液晶表示素子の所望のプレチルト角に依存して選ばれる。つまり、印加する電圧により液晶表示素子のプレチルト角を制御することができる。横電界型ＭＶＡモードの液晶表示素子においては、配向安定性及びコントラストの観点からプレチルト角を８０度から８９．９度に制御することが好ましい。
　照射時の温度は、本発明の液晶組成物の液晶状態が保持される温度範囲内であることが好ましい。室温に近い温度、即ち、典型的には１５～３５℃での温度で重合させることが好ましい。紫外線を発生させるランプとしては、メタルハライドランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ等を用いることができる。また、照射する紫外線の波長としては、液晶組成物の吸収波長域でない波長領域の紫外線を照射することが好ましく、必要に応じて、紫外線をカットして使用することが好ましい。照射する紫外線の強度は、０．１ｍＷ／ｃｍ^２～１００Ｗ／ｃｍ^２が好ましく、２ｍＷ／ｃｍ^２～５０Ｗ／ｃｍ^２がより好ましい。照射する紫外線のエネルギー量は、適宜調整することができるが、１０ｍＪ／ｃｍ^２から５００Ｊ／ｃｍ^２が好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ^２から２００Ｊ／ｃｍ^２がより好ましい。紫外線を照射する際に、強度を変化させても良い。紫外線を照射する時間は照射する紫外線強度により適宜選択されるが、１０秒から３６００秒が好ましく、１０秒から６００秒がより好ましい。

　本発明の液晶組成物を用いた液晶表示素子は高速応答と表示不良の抑制を両立させた有用なものであり、特に、アクティブマトリックス駆動用液晶表示素子に有用であり、ＶＡモード、ＰＳＶＡモード、ＰＳＡモード、ＩＰＳモード、ＦＦＳモード又はＥＣＢモード用液晶表示素子に適用できる。

　以下、図面を参照しつつ、本発明に係る液晶表示装置の好適な実施の形態について詳細に説明する。
　図１は、互いに対向する二つの基板と、前記基板間に設けられたシール材と、前記シール材に囲まれた封止領域に封入された液晶とを備えている液晶表示素子を示す断面図である。
　具体的には、第１基板１００上に、ＴＦＴ層１０２、画素電極１０３を設け、その上からパッシベーション膜１０４及び第１配向膜１０５を設けたバックプレーンと、第２基板２００上に、ブラックマトリックス２０２、カラーフィルタ２０３、平坦化膜（オーバーコート層）２０１、透明電極２０４を設け、その上から第２配向膜２０５を設け、前記バックプレーンと対向させたフロントプレーンと、前記基板間に設けられたシール材３０１と、前記シール材に囲まれた封止領域に封入された液晶層３０３とを備え、前記シール材３０１が接する基板面には突起（柱状スペーサー）３０２，３０４が設けられている液晶表示素子の具体的態様を示している。
　前記第１基板又は前記第２基板は、実質的に透明であれば材質に特に限定はなく、ガラス、セラミックス、プラスチック等を使用することができる。プラスチック基板としてはセルロース、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース等のセルロース誘導体、ポリシクロオレフィン誘導体、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリプロピレン、ポリエチレン等のポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアミド、ポリイミド、ポリイミドアミド、ポリスチレン、ポリアクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリエーテルサルホン、ポリアリレート、さらにガラス繊維－エポキシ樹脂、ガラス繊維－アクリル樹脂などの無機－有機複合材料などを用いることができる。
　なおプラスチック基板を使用する際には、バリア膜を設けることが好ましい。バリア膜の機能は、プラスチック基板が有する透湿性を低下させ、液晶表示素子の電気特性の信頼性を向上することにある。バリア膜としては、それぞれ、透明性が高く水蒸気透過性が小さいものであれば特に限定されず、一般的には酸化ケイ素などの無機材料を用いて蒸着やスパッタリング、ケミカルベーパーデポジション法（ＣＶＤ法）によって形成した薄膜を使用する。

　本発明においては、前記第１基板又は前記第２基板として同素材を使用しても異素材を使用してもよく特に限定はない。ガラス基板を用いれば耐熱性や寸法安定性の優れた液晶表示素子を作製することができて好ましい。またプラスチック基板であれば、ロールツウロール法による製造方法に適し且つ軽量化あるいはフレキシブル化に適しており好ましい。また、平坦性及び耐熱性付与を目的とするならば、プラスチック基板とガラス基板とを組み合わせると良い結果を得ることができる。
　なお後述の実施例においては、第１基板１００又は第２基板２００の材質として基板を使用している。

　バックプレーンには、第１基板１００上に、ＴＦＴ層１０２及び画素電極１０３を設けている。これらは通常のアレイ工程にて製造される。この上にパッシベーション膜１０４及び第１配向膜１０５を設けてバックプレーンが得られる。
　パッシベーション膜１０４（無機保護膜ともいう）はＴＦＴ層を保護するための膜で、通常は窒化膜（ＳｉＮｘ）、酸化膜（ＳｉＯｘ）等を化学的気相成長（ＣＶＤ）技術等により形成する。
　また、第１配向膜１０５は、液晶を配向させる機能を有する膜であり、通常ポリイミドのような高分子材料が用いられることが多い。塗布液には、高分子材料と溶剤からなる配向剤溶液が使われる。配向膜はシール材との接着力を阻害する可能性があるため、封止領域内にパターン塗布する。塗布にはフレキソ印刷法のような印刷法、インクジェットのような液滴吐出法が用いられる。塗布された配向剤溶液は仮乾燥により溶剤が蒸発した後、ベーキングにより架橋硬化される。この後、配向機能を出すために、配向処理を行う。
　配向処理は通常ラビング法にて行われる。前述のように形成された高分子膜上を、レーヨンのような繊維から成るラビング布を用いて一方向にこすることにより液晶配向能が生じる。
　また、光配向法を用いることもある。光配向法は、光感受性を有する有機材料を含む配向膜上に偏光を照射することにより配向能を発生させる方法であり、ラビング法による基板の傷や埃の発生が生じない。光配向法における有機材料の例としては二色性染料を含有する材料がある。二色性染料としては、光二色性に起因するワイゲルト効果による分子の配向誘起もしくは異性化反応（例：アゾベンゼン基）、二量化反応（例：シンナモイル基）、光架橋反応（例：ベンゾフェノン基）、あるいは光分解反応（例：ポリイミド基）のような、液晶配向能の起源となる光反応を生じる基（以下、光配向性基と略す）を有するものを用いることができる。塗布された配向剤溶液は仮乾燥により溶剤が蒸発した後、任意の偏向を有する光（偏光）を照射することで、任意の方向に配向能を有する配向膜を得ることができる。

　一方のフロントプレーンは、第２基板２００上に、ブラックマトリックス２０２、カラーフィルタ２０３、平坦化膜２０１、透明電極２０４、第２配向膜２０５を設けている。
　ブラックマトリックス２０２は、例えば、顔料分散法にて作製する。具体的にはバリア膜２０１を設けた第２基板２００上に、ブラックマトリックス形成用に黒色の着色剤を均一分散させたカラーレジン液を塗布し、着色層を形成する。続いて、着色層をベーキングして硬化する。この上にフォトレジストを塗布し、これをプリベークする。フォトレジストにマスクパターンを通して露光した後に、現像を行って着色層をパターニングする。この後、フォトレジスト層を剥離し、着色層をベーキングしてブラックマトリックス２０２が完成する。
　あるいは、フォトレジスト型の顔料分散液を使用してもよい。この場合は、フォトレジスト型の顔料分散液を塗布し、プリベークしたのち、マスクパターンを通して露光した後に、現像を行って着色層をパターニングする。この後、フォトレジスト層を剥離し、着色層をベーキングしてブラックマトリックス２０２が完成する。

　カラーフィルタ２０３は、顔料分散法、電着法、印刷法あるいは染色法等にて作成する。顔料分散法を例にとると、（例えば赤色の）顔料を均一分散させたカラーレジン液を第２基板２００上に塗布し、ベーキング硬化後、該上にフォトレジストを塗布しプリベークする。フォトレジストにマスクパターンを通して露光した後に現像を行い、パターニングする。この後フォトレジスト層を剥離し、再度ベーキングすることで、（赤色の）カラーフィルタ２０３（２０３ａ）が完成する。作成する色順序に特に限定はない。同様にして、緑カラーフィルタ２０３（２０３ｂ）、青カラーフィルタ２０３（２０３ｃ）を形成する。
　透明電極２０４は、前記カラーフィルタ２０３上に（必要に応じて前記カラーフィルタ２０３上に表面平坦化のためにオーバーコート層（２０１）を設け）を設ける。透明電極２０４は透過率が高い方が好ましく、電気抵抗が小さいほうが好ましい。透明電極２０４はＩＴＯなどの酸化膜をスパッタリング法などによって形成する。
　また、前記透明電極２０４を保護する目的で、透明電極２０４の上にパッシベーション膜を設ける場合もある。
　第２配向膜２０５は、前述の第１配向膜１０５と同じものである。

　以上本発明で使用する前記バックプレーン及び前記フロントプレーンについての具体的態様を述べたが、本願においては該具体的態様に限定されることはなく、所望される液晶表示素子に応じた態様の変更は自由である。
　前記柱状スペーサーの形状は特に限定されず、その水平断面を円形、四角形などの多角形など様々な形状にすることができるが、工程時のミスアラインマージンを考慮して、水平断面を円形または正多角形にすることが特に好ましい。また該突起形状は、円錐台または角錐台であることが好ましい。
　前記柱状スペーサーの材質は、シール材もしくはシール材に使用する有機溶剤、あるいは液晶に溶解しない材質であれば特に限定されないが、加工及び軽量化の面から合成樹脂（硬化性樹脂）であることが好ましい。一方、前記突起は、フォトリソグラフィによる方法や液滴吐出法により、第一の基板上のシール材が接する面に設けることが可能である。このような理由から、フォトリソグラフィによる方法や液滴吐出法に適した、光硬化性樹脂を使用することが好ましい。

　例として、前記柱状スペーサをフォトリソグラフィ法によって得る場合について説明する。図２は、フォトマスクパターンとしてブラックマトリックス上に形成する柱状スペーサー作成用パターンを使用した露光処理工程の図である。
　前記フロントプレーンの透明電極２０４上に、柱状スペーサー形成用の（着色剤を含まない）レジン液を塗布する。続いて、このレジン層４０２をベーキングして硬化する。この上にフォトレジストを塗布し、これをプリベークする。フォトレジストにマスクパターン４０１を通して露光した後に、現像を行ってレジン層をパターニングする。この後、フォトレジスト層を剥離し、レジン層をベーキングして柱状スペーサー（図１の３０２，０３０４）が完成する。
　柱状スペーサーの形成位置はマスクパターンによって所望の位置に決めることができる。従って、液晶表示素子の封止領域内と封止領域外（シール材塗布部分）との両方を同時に作成することができる。また柱状スペーサーは封止領域の品質が低下することがないように、ブラックマトリックスの上に位置するように形成させることが好ましい。このようにフォトリソグラフィ法によって作製された柱状スペーサーのことを、カラムスペーサ又はフォトスペーサと呼ぶことがある。
　前記スペーサーの材質は、ＰＶＡ－スチルバゾ感光性樹脂などのネガ型水溶性樹脂や多官能アクリル系モノマー、アクリル酸共重合体、トリアゾール系開始剤などの混合物が使用される。あるいはポリイミド樹脂に着色剤を分散させたカラーレジンを使う方法もある。本発明においては特に限定はなく、使用する液晶やシール材との相性に従い公知の材質でスペーサーを得ることができる。

　このようにして、フロントプレーン上の封止領域となる面に柱状スペーサーを設けた後、該バックプレーンのシール材が接する面にシール材（図１における３０１）を塗布する。
　シール材の材質は特に限定はなく、エポキシ系やアクリル系の光硬化性、熱硬化性、光熱併用硬化性の樹脂に重合開始剤を添加した硬化性樹脂組成物が使用される。また、透湿性や弾性率、粘度などを制御するために、無機物や有機物よりなるフィラー類を添加することがある。これらフィラー類の形状は特に限定されず、球形、繊維状、無定形などがある。さらに、セルギャップを良好に制御するために単分散径を有する球形や繊維状のギャップ材を混合したり、基板との接着力をより強化するために、基板上突起と絡まりやすい繊維状物質を混合しても良い。このとき使用する繊維状物質の直径はセルギャップの１／５～１／１０以下程度が望ましく、繊維状物質の長さはシール塗布幅よりも短いことが望ましい。
　また、繊維状物質の材質は所定の形状が得られるものであれば特に限定されず、セルロース、ポリアミド、ポリエステルなどの合成繊維やガラス、炭素などの無機材料を適宜選ぶことが可能である。

　シール材を塗布する方法としては、印刷法やディスペンス法があるが、シール材の使用量が少ないディスペンス法が望ましい。シール材の塗布位置は封止領域に悪影響を及ぼさないように通常ブラックマトリックス上とする。次工程の液晶滴下領域を形成するため（液晶が漏れないように）、シール材塗布形状は閉ループ形状とする。
　前記シール材を塗布したフロントプレーンの閉ループ形状（封止領域）に液晶を滴下する。通常はディスペンサーを使用する。滴下する液晶量は液晶セル容積と一致させるため、柱状スペーサーの高さとシール塗布面積とを掛け合わせた体積と同量を基本とする。しかし、セル貼り合わせ工程における液晶漏れや表示特性の最適化のために、滴下する液晶量を適宜調整することもあれば、液晶滴下位置を分散させることもある。

　次に、前記シール材を塗布し液晶を滴下したフロントプレーンに、バックプレーンを貼り合わせる。具体的には、静電チャックのような基板を吸着させる機構を有するステージに前記フロントプレーンと前記バックプレーンとを吸着させ、フロントプレーンの第２配向膜とバックプレーンの第１配向膜とが向きあい、シール材ともう一方の基板が接しない位置（距離）に配置する。この状態で系内を減圧する。減圧終了後、フロントプレーンとバックプレーンとの貼り合せ位置を確認しながら両基板位置を調整する（アライメント操作）。貼り合せ位置の調整が終了したら、フロントプレーン上のシール材とバックプレーンとが接する位置まで基板を接近させる。この状態で系内に不活性ガスを充填させ、徐々に減圧を開放しながら常圧に戻す。このとき、大気圧によりフロントプレーンとバックプレーンが貼り合わされ、柱状スペーサーの高さ位置でセルギャップが形成される。この状態でシール材に紫外線を照射してシール材を硬化することによって液晶セルを形成する。この後、場合によって加熱工程を加え、シール材硬化を促進する。シール材の接着力強化や電気特性信頼性の向上のために、加熱工程を加えることが多い。

　以下に実施例を挙げて本発明を更に詳述するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。また、以下の実施例及び比較例の組成物における「％」は『質量％』を意味する。

　実施例中、測定した特性は以下の通りである。
　Ｔｎｉ　：ネマチック相－等方性液体相転移温度（℃）
　Δｎ　：２９５Ｋにおける屈折率異方性（別名：複屈折率）
　Δε　：２９５Ｋおける誘電率異方性
　η　　：２９５Ｋにおける粘度（ｍＰａ・ｓ）
　γ１　：２９５Ｋにおける回転粘性（ｍＰａ・ｓ）
　ＶＨＲ：周波数６０Ｈｚ，印加電圧５Ｖの条件下で３１３Ｋにおける電圧保持率（％）

　焼き付き：
　液晶表示素子の焼き付き評価は、表示エリア内に所定の固定パターンを１４４０時間表示させた後に、全画面均一な表示を行ったときの固定パターンの残像のレベルを目視にて以下の４段階評価で行った。
　◎　残像無し
　○　残像ごく僅かに有るも許容できるレベル
　△　残像有り許容できないレベル
　×　残像有りかなり劣悪

　揮発性／製造装置汚染性　：
　液晶材料の揮発性評価は、真空攪拌脱泡ミキサーの運転状態をストロボスコープで照らしながら観察し、液晶材料の発泡を目視により観察することによって行った。具体的には、容量２．０Ｌの真空攪拌脱泡ミキサーの専用容器に液晶組成物を０．８ｋｇ入れ、４ｋＰａの脱気下、公転速度１５Ｓ^－１、自転速度７．５Ｓ^－１で真空攪拌脱泡ミキサーを運転し、発泡が始まるまでの時間によって、以下の４段階評価で行った。
　◎　発泡まで３分以上。揮発による装置汚染の可能性が低い。
　○　発泡まで１分以上かつ３分未満。揮発による軽微な装置汚染の懸念あり。
　△　発泡まで３０秒以上かつ１分未満。揮発による装置汚染が起きる。
　×　発泡まで３０秒以内。揮発による重大な装置汚染の懸念がある。

　プロセス適合性　：
　プロセス適合性は、ＯＤＦプロセスにおいて、定積計量ポンプを用いて１回に４０ｐＬずつ液晶を滴下することを１０００００回行い、次の「０～２００回、２０１～４００回、４０１～６００回、・・・・９９８０１～１０００００回」の各２００回ずつ滴下された液晶量の変化を以下の４段階で評価した。
　◎　変化が極めて小さい（安定的に液晶表示素子を製造できる）
　○　変化が僅かに有るも許容できるレベル
　△　変化が有り許容できないレベル（斑発生により歩留まりが悪化）
　×　変化が有りかなり劣悪（液晶漏れや真空気泡が発生）

　低温での溶解性：
　低温での溶解性評価は、液晶組成物を調製後、１ｍＬのサンプル瓶に液晶組成物を０．５ｇ秤量し、これに温度制御式試験槽の中で、次を１サイクル「－２０℃（１時間保持）→昇温（０．２℃／毎分）→０℃（１時間保持）→昇温（０．２℃／毎分）→２０℃（１時間保持）→降温（－０．２℃／毎分）→０℃（１時間保持）→降温（－０．２℃／毎分）→－２０℃」として温度変化を与え続け、目視にて液晶組成物からの析出物の発生を観察し、以下の４段階評価を行った。
　◎　６００時間以上析出物が観察されなかった。
　○　３００時間以上析出物が観察されなかった。
　△　１５０時間以内に析出物が観察された。
　×　７５時間以内に析出物が観察された。

（実施例１）
　下記に示す組成物を調製した。実施例１の組成物の物性を表１に示す。

（比較例１）
　前記一般式（ｉ）で表される化合物を含有しない、下記に示す組成物を調製した。比較例１の組成物の物性を表２に示す。

（比較例２）
　前記一般式（ｉｉ）で表される化合物を含有しない、下記に示す組成物を調製した。比較例２の組成物の物性を表３に示す。

（実施例２）
　下記に示す組成物を調製した。実施例２の組成物の物性を表４に示す。

（実施例３）
　下記に示す組成物を調製した。実施例３の組成物の物性を表５に示す。

（実施例４）
　下記に示す組成物を調製した。実施例４の組成物の物性を表６に示す。

（実施例５）
　下記に示す組成物を調製した。実施例５の組成物の物性を表７に示す。

　一般式（ｉｉ）で表される化合物は、両末端が同じ置換基（側鎖はプロピル基、環まで含めると４－プロピルフェニル基）であり製造しやすいが、組成物の保存中に析出しやすい。一般式（ｉ）で表される化合物を併用した実施例１～５の組成物は、低温での溶解性評価を行っても析出がなかった。これに対し、比較例１の組成物は成分化合物の析出が見られた。一般式（ｉｉ）で表される化合物を含むが一般式（ｉ）で表される化合物を含まない比較例１の組成物は、Ｔｎｉすなわちネマチック上限温度は低下した。

（液晶表示装置の実施例）
　実施例１に記載した液晶組成物を用い、図１及び図２に示す構造のＩＰＳ型の液晶表示装置を作成した。この液晶表示装置は優れた表示特性（表８参照）を有し、長期にわたり安定な表示特性を保った。

　Δεが正の値を示し、熱や光に対して安定な組成物を提供できる。

　１００　　第１基板
　１０２　　ＴＦＴ層
　１０３　　画素電極
　１０４　　パッシベーション膜
　１０５　　第１配向膜
　２００　　第２基板
　２０１　　平坦化膜（オーバーコート層）
　２０２　　ブラックマトリックス
　２０３　　カラーフィルタ
　２０４　　透明電極
　２０５　　第２配向膜
　３０１　　シール材
　３０２　　突起（柱状スペーサー）
　３０３　　液晶層
　３０４　　突起（柱状スペーサー）
　４０１　　マスクパターン
　４０２　　レジン層

Claims

　下記一般式（ｉ）で表される化合物及び下記一般式（ｉｉ）で表される化合物を含有する組成物。

（式中、Ｘ^ｉ１～Ｘ^ｉ６はそれぞれ独立して水素原子、フッ素原子又は塩素原子を表し、Ｘ^ｉｉ１～Ｘ^ｉｉ４はそれぞれ独立して水素原子、フッ素原子又は塩素原子を表す。）
　前記一般式（ｉ）におけるＸ^ｉ１～Ｘ^ｉ６のうち１個がフッ素原子である請求項１に記載の組成物。
　前記一般式（ｉｉ）におけるＸ^ｉｉ１～Ｘ^ｉｉ４のうち１個がフッ素原子である請求項１に記載の組成物。
　前記一般式（ｉ）で表される化合物の含有量が３質量％以上であり、前記一般式（ｉｉ）で表される化合物の含有量が３質量％以上である請求項１に記載の組成物。
　下記一般式（Ｌ）で表される化合物を含有する請求項１に記載の組成物。

（式中、Ｒ^Ｌ１及びＲ^Ｌ２はそれぞれ独立して炭素原子数１～８のアルキル基を表し、該アルキル基中の１個又は非隣接の２個以上の－ＣＨ_２－はそれぞれ独立して－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－によって置換されていてもよく、
　ＯＬは０、１、２又は３を表し、
　Ｂ^Ｌ１、Ｂ^Ｌ２及びＢ^Ｌ３はそれぞれ独立して
（ａ）　１，４－シクロヘキシレン基（この基中に存在する１個の－ＣＨ_２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ_２－は－Ｏ－に置き換えられてもよい。）及び
（ｂ）　１，４－フェニレン基（この基中に存在する１個の－ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の－ＣＨ＝は－Ｎ＝に置き換えられてもよい。）
からなる群より選ばれる基を表し、上記の基（ａ）、基（ｂ）はそれぞれ独立してシアノ基、フッ素原子又は塩素原子で置換されていても良く、
　Ｌ^Ｌ１及びＬ^Ｌ２はそれぞれ独立して単結合、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－（ＣＨ_２）_４－、－ＯＣＨ_２－、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＯＣＦ_２－、－ＣＦ_２Ｏ－、－ＣＨ＝Ｎ－Ｎ＝ＣＨ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－又は－Ｃ≡Ｃ－を表し、
　ＯＬが２又は３であってＬ^Ｌ２が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良く、ＯＬが２又は３であってＢ^Ｌ３が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良いが、ただし、一般式（ｉ）で表される化合物及び一般式（ｉｉ）で表される化合物を除く。）
　下記一般式（Ｍ）で表される化合物を含有する請求項１に記載の組成物。

（式中、Ｒ^Ｍ１は炭素原子数１～８のアルキル基を表し、該アルキル基中の１個又は非隣接の２個以上の－ＣＨ_２－はそれぞれ独立して－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－によって置換されていてもよく、
　ＰＭは、０、１、２、３又は４を表し、
　Ｃ^Ｍ１及びＣ^Ｍ２はそれぞれ独立して、
（ｄ）　１，４－シクロヘキシレン基（この基中に存在する１個の－ＣＨ_２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ_２－は－Ｏ－又は－Ｓ－に置き換えられてもよい。）及び
（ｅ）　１，４－フェニレン基（この基中に存在する１個の－ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の－ＣＨ＝は－Ｎ＝に置き換えられてもよい。）
からなる群より選ばれる基を表し、上記の基（ｄ）、基（ｅ）はそれぞれ独立してシアノ基、フッ素原子又は塩素原子で置換されていても良く、
　Ｋ^Ｍ１及びＫ^Ｍ２はそれぞれ独立して単結合、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－（ＣＨ_２）_４－、－ＯＣＨ_２－、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＯＣＦ_２－、－ＣＦ_２Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－又は－Ｃ≡Ｃ－を表し、
　ＰＭが２、３又は４であってＫ^Ｍ１が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良く、ＰＭが２、３又は４であってＣ^Ｍ２が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良く、
　Ｘ^Ｍ１及びＸ^Ｍ３はそれぞれ独立して水素原子、塩素原子又はフッ素原子を表し、
　Ｘ^Ｍ２は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、トリフルオロメチル基、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基又は２，２，２－トリフルオロエチル基を表す。ただし、一般式（ｉ）で表される化合物及び一般式（ｉｉ）で表される化合物を除く。）
　請求項１に記載の組成物を使用した液晶表示素子。
　請求項１に記載の組成物を使用したＩＰＳ素子。
　請求項１に記載の組成物を使用したＦＦＳ素子。