WO2014079079A1 - 一种图案匹配方法、装置及线宽测量机 - Google Patents

一种图案匹配方法、装置及线宽测量机 Download PDF

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林勇佑
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Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
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    • G—PHYSICS
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    • G06T2207/30108—Industrial image inspection
    • G06T2207/30148—Semiconductor; IC; Wafer

Definitions

  • the present invention relates to a manufacturing process of a liquid crystal panel, and more particularly to a pattern matching method, apparatus, and line width measuring machine. Background technique
  • the measurement sample is formed by forming a plurality of patterns on a transparent glass substrate through a coating process, and a plurality of line segments are included in the pattern.
  • the line width measuring machine needs to measure the width of the line segment.
  • at least one standard pattern for matching is further coated at a predetermined position on the measurement sample, and the pattern included in the standard pattern at different positions may be different.
  • the design pattern of the standard pattern is stored in the online wide measuring machine (or computer), and the pattern matching here refers to comparing the standard pattern on the measuring sample with the corresponding pre-stored design pattern. If the comparison result is the same or a certain degree of similarity, the match is successful. After the matching is successful, the pattern on the measurement sample can be moved to the middle position to measure the line width.
  • the technical problem to be solved by the present invention is to provide a pattern matching method, a device and a line width measuring machine, which can improve the accuracy and success rate of pattern matching.
  • an aspect of an embodiment of the present invention provides a pattern matching method for a measurement process of a line width measuring machine, including the following steps:
  • the method further includes: pre-storing the design original image at each predetermined position, and the design original image corresponding to the standard pattern at each position is plural, and the gray scale corresponding to each design original image is different.
  • the step of determining that the pattern matching is completed is specifically:
  • the predetermined ratio can be set in advance.
  • a pattern matching device for use in a line width measuring machine, including:
  • An image capturing unit configured to read a standard pattern for matching on at least one predetermined position on the measurement sample, wherein the measurement sample is a transparent substrate coated with a plurality of patterns;
  • the matching processing unit compares each standard pattern on the measurement sample read by the image capturing unit with a pre-stored plurality of design original images corresponding to the standard pattern, wherein the plurality of design original images differ in The pattern gray scale is different; if the standard pattern on the measurement sample is successfully aligned with the at least one design original image, it is determined that the pattern matching is completed.
  • the method further includes: a storage unit, configured to store a design original image at each predetermined position, where a standard pattern corresponding to the standard pattern at each position is multiple, and the pattern gray corresponding to each original design image Different degrees.
  • the matching processing unit further includes:
  • a matching result determining unit configured to determine that the standard pattern on the measurement sample is compared with the design original image when the standard pattern and one of the design original images have reached a predetermined ratio, otherwise the comparison is determined to be successful.
  • a setting unit configured to set a ratio of the similarity between the standard pattern and the design original image, and the matching result determining unit performs the comparison determination.
  • the measurement sample is a transparent substrate coated with a plurality of patterns, the pattern includes a plurality of line segments; and at least one of the standard patterns is further coated at a predetermined position on the measurement sample.
  • a further aspect of the embodiments of the present invention provides a line width measuring device, including: an image capturing unit, configured to read a standard pattern for matching at at least a predetermined position on a measurement sample,
  • the measurement sample is a transparent substrate coated with a plurality of patterns;
  • the matching processing unit compares each standard pattern on the measurement sample read by the image capturing unit with a pre-stored plurality of design original images corresponding to the standard pattern, wherein the plurality of design original images differ in The gray scale of the pattern is different; if the standard pattern on the measurement sample is successfully matched with the at least one design original image, it is determined that the pattern matching is successful;
  • a line width measuring unit configured to measure a line width on the measurement sample after the matching processing unit determines that the pattern matching is successful.
  • the method further includes: a storage unit, configured to store a design original image at each predetermined position, where a standard pattern corresponding to the standard pattern at each position is multiple, and the pattern gray corresponding to each original design image Different degrees.
  • the matching processing unit further includes:
  • a matching result determining unit configured to determine that the standard pattern on the measurement sample is compared with the design original image when the standard pattern and one of the design original images have reached a predetermined ratio, otherwise the comparison is determined to be successful.
  • the measurement sample is a transparent substrate coated with a plurality of patterns, the pattern includes a plurality of line segments; and at least one of the standard patterns is further coated at a predetermined position on the measurement sample.
  • the plurality of design original images differ in that the pattern gray levels are different; as long as the standard patterns on the measurement samples are If at least one design original image is successfully matched, it is determined that the pattern matching is successful, and the subsequent line width measurement process can be directly performed, thereby improving the accuracy and success rate of pattern matching.
  • FIG. 1 is a view showing a comparison of a standard pattern on a measurement sample and a corresponding design pattern when pattern matching is performed in the prior art
  • FIG. 2 is a partial functional block diagram of a line width measuring machine in an embodiment of the present invention
  • FIG. 3 is a partial schematic view showing a sample according to an embodiment of the present invention
  • Figure 4 is a schematic structural view of an embodiment of the matching processing unit of Figure 2;
  • Fig. 5 is a view showing a comparison of a standard pattern on a sample and a corresponding design pattern when pattern matching is performed in an embodiment of the present invention. detailed description
  • the line width measuring machine 4 includes:
  • the image capturing unit 40 is configured to read a standard pattern for matching on at least one predetermined position on the measurement sample, the measurement sample is a transparent substrate coated with a plurality of patterns, and the measurement sample is on a transparent glass substrate 1 A plurality of patterns 2 are formed through a plating process, and a plurality of line segments 20 are included in the pattern 2.
  • the line width measuring machine needs to measure the width of the line segment 20.
  • the standard pattern 3 is further coated at a predetermined position on the measurement sample, and the pattern included in the standard pattern 3 at different positions may be different;
  • the storage unit 48 is configured to store a design original corresponding to the standard pattern 30 at each predetermined position, and the original pattern corresponding to the standard pattern in each position is multiple, and the pattern corresponding to each original design is Different gray scales;
  • the matching processing unit 42 compares each standard pattern 30 of the measurement samples read by the image capturing unit 40 with a pre-stored design original image corresponding to the standard pattern, and the plurality of design original images differ in The gray scale of the pattern is different; if the standard pattern on the measurement sample is successfully matched with the at least one design original image, it is determined that the pattern matching is successful;
  • the setting unit 46 is configured to set a ratio of the similarity between the standard pattern and the design original image, and the matching result determining unit 42 performs the comparison determination;
  • a line width measuring unit 44 configured to measure a line width on the measurement sample after the matching processing unit 42-element determination pattern is successfully matched
  • the matching processing unit 42 further includes:
  • Matching subunit 422 comparing the standard pattern with a plurality of design original images acquired by the obtaining subunit;
  • the matching result determining unit 424 is configured to determine that the standard pattern on the measurement sample is successfully compared with the design original image when the standard pattern and one of the design original images reach a predetermined ratio, otherwise the comparison is determined. failure.
  • another aspect of an embodiment of the present invention provides a pattern matching apparatus for use in a line width measuring machine, including an image capturing unit and a matching processing unit, and the functions of the two can be referred to the foregoing FIG. 2 to The description of Figure 4 will not be described in detail herein.
  • the pattern matching method of the present invention in the measurement process of the line width measuring machine, comprises the steps of: reading a standard pattern for matching at at least one predetermined position on the measurement sample, the measurement sample having a plurality of coatings a transparent substrate of the pattern, for example, reading the standard pattern 30 in FIG. 3, and in FIG. 5, the standard pattern read out is represented by A, which has a certain gray scale;
  • the difference between the plurality of design original images is that the pattern gray scale is different, as shown in FIG. 5
  • the plurality of design original images are pre-stored.
  • a plurality of design original images corresponding to the standard patterns at other positions are also stored in advance; in this embodiment, the read standard pattern A needs to be read. Compare with the six original design drawings B1 - B2;
  • the standard pattern on the measurement sample is successfully matched with the at least one design original image, determining that the pattern matching is successful, performing a subsequent line width measurement process; otherwise determining that the pattern matching fails; specifically, the reading is performed
  • the standard pattern A taken from the measurement sample is compared with the corresponding design original image (B1 - B2), respectively, and if at least one of the similarities reaches a predetermined ratio, the standard pattern on the measurement sample is determined and the design original The comparison is successful, and the similarity reaches a predetermined ratio, which may be preset.
  • the predetermined ratio may be 60%, and as long as the two comparisons reach 60%, it indicates that the comparison is successful;
  • the similarity between the design original image B4 and the standard pattern A reaches a predetermined ratio, so that it can be determined that the standard pattern matches the design original image successfully.
  • the plurality of design original images differ in that the pattern gray levels are different; as long as the standard patterns on the measurement samples are If at least one design original image is successfully matched, it is determined that the pattern matching is successful, and the subsequent line width measurement process can be directly performed, thereby improving the accuracy and success of the pattern matching. Rate.

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Abstract

一种图案匹配方法，用于线宽测量机（4）的测量过程中，包括如下步骤：读取测量样本上的至少一预定位置上的用于匹配的标准图案（3）；将所述测量样本上的所述每一标准图案（3）分别与预存的与所述标准图案（3）对应的多个设计原图进行对比；如果所述测量样本上的标准图案（3）与至少一个设计原图比对成功，则判定所述图案匹配成功，进行后续的线宽测量过程；否则判定所述图案匹配失败。该图案匹配方法可以提高线宽测量时的图案匹配的准确性和成功率。还提供了相应的图案匹配装置以及线宽测量机。

Description

一种图案匹配方法、 装置及线宽测量机
本申请要求于 2012 年 11 月 22 日提交中国专利局、 申请号为 201210477123.5、 发明名称为 "一种图案匹配方法、 装置及线宽测量机" 的 中国专利申请的优先权， 上述专利的全部内容通过引用结合在本申请中。 技术领域
本发明涉及液晶面板的制造过程， 特别是涉及一种图案匹配方法、 装置 及线宽测量机。 背景技术
在液晶显示器的制造过程中， 需要对已经镀膜的玻璃基本上的镀膜的线 宽进行测量， 以判断镀膜是否成功。 此时首先需要将测量样品与设计的图案 进行图案匹配的步骤， 以进行样品的定位。
一般来说， 测量样品为在透明玻璃基板经过镀膜工艺形成多个图案， 在 图案中包含了很多线段。 线宽测量机需要对所述线段的宽度进行测量。 为了 进行图案的匹配，在该测量样品上的预定位置处进一步镀膜有至少一个用于 匹配的标准图案，处于不同位置的标准图案所包含的图案可以不同。相应地， 在线宽测量机（或电脑） 中存储有该标准图案的设计图案， 此处所说的图案 匹配， 即指将测量样品上的标准图案与对应的已预先存储的设计图案进行比 较。 如果比较结果为两者相同或达到一定的相似度， 则匹配成功。 匹配成功 后， 即可以将测量样品上的图案移至中间位置， 进行线宽的测量。
但是， 在现有技术中， 一旦液晶面板的制程出现不稳定时， 则在测量样 品上通常显现出一定的灰度，如图 1所示，其中 A表示测量样品上的标准图 案， B表示， 预先存储的与其对应的设计图案， 其中， 标准图案 A存在一定 的灰度， 其与设计图案 B存在灰度上的差异， 在这种情况下， 则常常会导致 图案匹配失败。 而实际上， 这种灰度的差异在液晶面板的制造过程中是可以 接受的， 故现有的这种情形， 容易导致线宽无法进行测量， 而延緩进度。 发明内容
本发明所要解决的技术问题在于， 提供一种图案匹配方法、 装置及线宽 测量机， 可以提高图案匹配的准确性和成功率。
为了解决上述技术问题，本发明的实施例的一方面提供一种图案匹配方 法， 用于线宽测量机的测量过程中， 包括如下步骤：
读取测量样本上的至少一预定位置上的用于匹配的标准图案，所述测量 样本为镀膜有多个图案的透明基板；
将所述测量样本上的所述每一标准图案分别与预存的与所述标准图案 对应的多个设计原图进行对比， 所述多个设计原图差别在于图案灰度不同； 如果所述测量样本上的标准图案与至少一个设计原图比对成功， 则判定 所述图案匹配成功，进行后续的线宽测量过程；否则判定所述图案匹配失败。
其中， 进一步包括： 预先在测量样本的至少一个预定位置上镀膜形成标 准图案。
其中， 进一步包括： 预先存储每一预定位置上的设计原图， 每一位置上 的标准图案所对应的设计原图为多个， 所述每一设计原图所对应的图案灰度 不同。
其中， 如果所述测量样本上的标准图案与至少一个设计原图比对成功， 则判定所述图案匹配完成的步骤具体为：
将所述测量样本上的标准图案与对应的设计原图进行比较，如果相似度 达到预定比值， 则判定所述测量样本上的标准图案与所述设计原图比对成 功， 所述相似度达到预定比值可以预先设定。
相应地， 本发明的实施例的另一方面提供一种图案匹配装置， 用于线宽 测量机中， 其中， 包括：
图像獺取单元， 用于读取测量样本上的至少一预定位置上的用于匹配的 标准图案， 所述测量样本为镀膜有多个图案的透明基板；
匹配处理单元，将所述图像獺取单元读取的测量样本上的每一标准图案 分别与预存的与所述标准图案对应的多个设计原图进行对比，所述多个设计 原图差别在于图案灰度不同； 如果所述测量样本上的标准图案与至少一个设 计原图比对成功， 则判定所述图案匹配完成。 其中， 进一步包括： 存储单元， 用于存储每一预定位置上的设计原图， 每一位置上的标准图案所对应的设计原图为多个，所述每一设计原图所对应 的图案灰度不同。
其中， 所述匹配处理单元进一步包括：
获取子单元，从所述存储单元获取所述测量样本上的标准图案所对应的 多个设计原图；
匹配子单元，将所述标准图案分别与所述获取子单元获取的多个设计原 图进行对比；
匹配结果判定单元， 用于在所述标准图案与其中一个设计原图相似度达 到预定比值时， 则判定所述测量样本上的标准图案与所述设计原图比对成 功， 否则判定比对失败。
其中， 进一步包括：
设定单元， 用于设定标准图案与设计原图之间比对的相似度的比值， 供 所述匹配结果判定单元进行比对判定。
其中， 所述测量样本为镀膜有多个图案的透明基板， 所述图案中包含了 多条线段； 在所述测量样品上的预定位置处进一步镀膜有至少一个所述标准 图案。
相应地， 本发明实施例的再一方面提供一种线宽量测机， 包括： 图像獺取单元， 用于读取测量样本上的至少一预定位置上的用于匹配的 标准图案， 所述测量样本为镀膜有多个图案的透明基板；
匹配处理单元，将所述图像獺取单元读取的测量样本上的每一标准图案 分别与预存的与所述标准图案对应的多个设计原图进行对比，所述多个设计 原图差别在于图案灰度不同； 如果所述测量样本上的标准图案与至少一个设 计原图比对成功， 则判定所述图案匹配成功；
线宽测量单元， 用于在所述匹配处理单元判定图案匹配成功后， 对所述 测量样本上的线宽进行测量。
其中， 进一步包括： 存储单元， 用于存储每一预定位置上的设计原图， 每一位置上的标准图案所对应的设计原图为多个，所述每一设计原图所对应 的图案灰度不同。 其中， 匹配处理单元进一步包括：
获取子单元，从所述存储单元获取所述测量样本上的标准图案所对应的 多个设计原图；
匹配子单元，将所述标准图案分别与所述获取子单元获取的多个设计原 图进行对比；
匹配结果判定单元， 用于在所述标准图案与其中一个设计原图相似度达 到预定比值时， 则判定所述测量样本上的标准图案与所述设计原图比对成 功， 否则判定比对失败。
其中， 所述测量样本为镀膜有多个图案的透明基板， 所述图案中包含了 多条线段； 在所述测量样品上的预定位置处进一步镀膜有至少一个所述标准 图案。
实施本发明实施例， 具有如下有益效果：
根据本发明的实施例，通过为测量样本上的每一标准图案对应预存有多 个设计原图， 所述多个设计原图差别在于图案灰度不同； 只要所述测量样本 上的标准图案与至少一个设计原图比对成功， 就判定所述图案匹配成功， 可 以直接进行后续的线宽测量过程， 这样可以提高图案匹配的准确性和成功 率。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案， 下面将对实 施例或现有技术描述中所需要使用的附图作筒单地介绍， 显而易见地， 下面 描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例， 对于本领域普通技术人员来讲， 在不付出创造性劳动的前提下， 还可以根据这些附图获得其他的附图。
图 1示出了现有的技术中进行图案匹配时， 一种测量样品上的标准图案 与其对应的设计图案的对比图；
图 2是本发明的一个实施例中的线宽测量机的部份功能模块示意图； 图 3为本发明的一个实施例中测量样品的局部示意图；
图 4是图 2中匹配处理单元的一个实施例的结构示意图；
图 5是本发明的一个实施例中进行图案匹配时， 测量样品上的标准图案与其 对应的设计图案的对比图。 具体实施方式
下面参考附图对本发明的优选实施例进行描述。
请参照图 3至图 5所示， 示出了本发明的线宽测量机的第一实施例。 从 中可以看出， 该线宽测量机 4包括：
图像獺取单元 40,用于读取测量样本上的至少一预定位置上的用于匹配 的标准图案， 所述测量样本为镀膜有多个图案的透明基板， 所述测量样品为 在透明玻璃基板 1经过镀膜工艺形成多个图案 2, 在图案 2中包含了很多线 段 20。 线宽测量机需要对所述线段 20的宽度进行测量。 为了进行图案的匹 配， 在该测量样品上的预定位置处进一步镀膜有所述标准图案 3 , 处于不同 位置的标准图案 3所包含的图案可以不同；
存储单元 48,用于存储每一预定位置上的标准图案 30对应的设计原图， 每一位置上的标准图案所对应的设计原图为多个，所述每一设计原图所对应 的图案灰度不同；
匹配处理单元 42, 将所述图像獺取单元 40读取的测量样本的每一标准 图案 30分别与预存的与所述标准图案对应的设计原图进行对比， 所述多个 设计原图差别在于图案灰度不同； 如果所述测量样本上的标准图案与至少一 个设计原图比对成功， 则判定所述图案匹配成功；
设定单元 46, 用于设定标准图案与设计原图之间比对的相似度的比值， 供所述匹配结果判定单元 42进行比对判定；
线宽测量单元 44, 用于在所述匹配处理单 42元判定图案匹配成功后， 对所述测量样本上的线宽进行测量；
其中， 匹配处理单元 42进一步包括：
获取子单元 420,从所述存储单元 48获取所述测量样本上的标准图案所 对应的多个设计原图；
匹配子单元 422, 将所述标准图案分别与所述获取子单元获取的多个设 计原图进行对比；
匹配结果判定单元 424, 用于在所述标准图案与其中一个设计原图相似 度达到预定比值时， 则判定所述测量样本上的标准图案与所述设计原图比对 成功， 否则判定比对失败。 相应地， 本发明的实施例的另一方面提供一种图案匹配装置， 用于线宽 测量机中， 其中包括图像獺取单元与匹配处理单元， 该两者的功能可以参见 前述对图 2至图 4的描述， 在此不进行详述。
下述结合图 5对本发明一种图案匹配方法的一个实施例进行说明。
本发明的图案匹配方法，用于线宽测量机的测量过程中，包括如下步骤： 读取测量样本上的至少一预定位置上的用于匹配的标准图案，所述测量 样本为镀膜有多个图案的透明基板， 例如读取图 3中的标准图案 30, 在图 5 中用 A表示读取出来的标准图案， 其具有一定的灰度；
将所述测量样本上的所述每一标准图案 A分别与预存的与所述标准图 案对应的多个设计原图进行对比， 所述多个设计原图差别在于图案灰度不 同， 如图 5所示， 对于标准图案 30, 预存有 6个对应的设计原图 （见图 5 中的 B1— B2 ), 其中该 6个设计原图的图案均相同， 区别在于每个设计原图 的灰度不同， 该多个设计原图被预先存储， 同理， 也预先存储了与其他位置 上的标准图案相对应的多个设计原图； 在本实施例中， 需要将读取出的标准 图案 A与 6个设计原图 B1— B2分别进行比较；
如果所述测量样本上的标准图案与至少一个设计原图比对成功， 则判定 所述图案匹配成功，进行后续的线宽测量过程；否则判定所述图案匹配失败； 具体地， 将所述读取自测量样本上的标准图案 A 与对应的设计原图 ( B1— B2 )分别进行比较， 如果与其中至少一个相似度达到预定比值， 则 判定所述测量样本上的标准图案与所述设计原图比对成功， 所述相似度达到 预定比值可以预先设定， 例如在一个实施例中， 该预定比例可以是 60%, 只 要两者比对达到 60%了， 则表示两者比对成功； 在本实施例中， 设计原图 B4与标准图案 A的相似度达到预定比值， 故可以判定标准图案与设计原图 匹配成功。
实施本发明实施例， 具有如下有益效果：
根据本发明的实施例，通过为测量样本上的每一标准图案对应预存有多 个设计原图， 所述多个设计原图差别在于图案灰度不同； 只要所述测量样本 上的标准图案与至少一个设计原图比对成功， 就判定所述图案匹配成功， 可 以直接进行后续的线宽测量过程， 这样可以提高图案匹配的准确性和成功 率。
以上所揭露的仅为本发明较佳实施例而已， 当然不能以此来限定本发明 之权利范围， 因此等同变化， 仍属本发明所涵盖的范围。

Claims

权 利 要 求
1、 一种图案匹配方法， 用于线宽测量机的测量过程中， 其中， 包括如 下步骤：
读取测量样本上的至少一预定位置上的用于匹配的标准图案，所述测量 样本为镀膜有多个图案的透明基板；
将所述测量样本上的所述每一标准图案分别与预存的与所述标准图案 对应的多个设计原图进行对比， 所述多个设计原图差别在于图案灰度不同； 如果所述测量样本上的标准图案与至少一个设计原图比对成功， 则判定 所述图案匹配成功，进行后续的线宽测量过程；否则判定所述图案匹配失败。
2、 如权利要求 1所述的图案匹配方法， 其中， 进一步包括：
预先在测量样本的至少一个预定位置上镀膜形成标准图案。
3、 如权利要求 1或 2所述的图案匹配方法， 其中， 进一步包括： 预先存储每一预定位置上的设计原图，每一位置上的标准图案所对应的 设计原图为多个， 所述每一设计原图所对应的图案灰度不同。
4、 如权利要求 1所述的图案匹配方法， 其中， 如果所述测量样本上的 标准图案与至少一个设计原图比对成功， 则判定所述图案匹配完成的步骤具 体为：
将所述测量样本上的标准图案与对应的每个设计原图进行比较，如果其 中至少一个相似度达到预定比值， 则判定所述测量样本上的标准图案与所述 设计原图比对成功， 所述相似度达到预定比值可以预先设定。
5、 一种图案匹配装置， 用于线宽测量机中， 其中， 包括：
图像獺取单元， 用于读取测量样本上的至少一预定位置上的用于匹配的 标准图案， 所述测量样本为镀膜有多个图案的透明基板；
匹配处理单元，将所述图像獺取单元读取的测量样本上的每一标准图案 分别与预存的与所述标准图案对应的多个设计原图进行对比，所述多个设计 原图差别在于图案灰度不同； 如果所述测量样本上的标准图案与至少一个设 计原图比对成功， 则判定所述图案匹配完成。
6、 如权利要求 5所述的图案匹配装置， 其中， 进一步包括： 存储单元， 用于存储每一预定位置上的设计原图，每一位置上的标准图案所对应的设计 原图为多个， 所述每一设计原图所对应的图案灰度不同。
7、 如权利要求 6所述的图案匹配装置， 其中， 匹配处理单元进一步包 括：
获取子单元，从所述存储单元获取所述测量样本上的标准图案所对应的 多个设计原图；
匹配子单元，将所述标准图案分别与所述获取子单元获取的多个设计原 图进行对比；
匹配结果判定单元， 用于在所述标准图案与其中一个设计原图相似度达 到预定比值时， 则判定所述测量样本上的标准图案与所述设计原图比对成 功， 否则判定比对失败。
8、 如权利要求 7所述的图案匹配装置， 其中， 进一步包括：
设定单元， 用于设定标准图案与设计原图之间比对的相似度的比值， 供 所述匹配结果判定单元进行比对判定。
9、 如权利要求 7所述的图案匹配装置， 其中， 所述测量样本为镀膜有 多个图案的透明基板， 所述图案中包含了多条线段； 在所述测量样品上的预 定位置处进一步镀膜有至少一个所述标准图案。
10、 一种线宽量测机， 其中， 包括：
图像獺取单元， 用于读取测量样本上的至少一预定位置上的用于匹配的 标准图案， 所述测量样本为镀膜有多个图案的透明基板；
匹配处理单元，将所述图像獺取单元读取的测量样本上的每一标准图案 分别与预存的与所述标准图案对应的多个设计原图进行对比，所述多个设计 原图差别在于图案灰度不同； 如果所述测量样本上的标准图案与至少一个设 计原图比对成功， 则判定所述图案匹配成功；
线宽测量单元， 用于在所述匹配处理单元判定图案匹配成功后， 对所述 测量样本上的线宽进行测量。
11、 如权利要求 10所述的线宽测量机， 其中， 进一步包括：
存储单元， 用于存储每一预定位置上的设计原图， 每一位置上的标准图 案所对应的设计原图为多个， 所述每一设计原图所对应的图案灰度不同。
12、 如权利要求 11 所述的线宽测量机， 其中， 所述匹配处理单元进一 步包括：
获取子单元，从所述存储单元获取所述测量样本上的标准图案所对应的 多个设计原图；
匹配子单元，将所述标准图案分别与所述获取子单元获取的多个设计原 图进行对比；
匹配结果判定单元， 用于在所述标准图案与其中一个设计原图相似度达 到预定比值时， 则判定所述测量样本上的标准图案与所述设计原图比对成 功， 否则判定比对失败。
13、 如权利要求 12所述的线宽测量机， 其中， 进一步包括：
设定单元， 用于设定标准图案与设计原图之间比对的相似度的比值， 供 所述匹配结果判定单元进行比对判定。
14、 如权利要求 13所述的线宽测量机， 其中， 所述测量样本为镀膜有 多个图案的透明基板， 所述图案中包含了多条线段； 在所述测量样品上的预 定位置处进一步镀膜有至少一个所述标准图案。
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