WO2013091751A2 - Electrically conductive component and method for producing such a component - Google Patents

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WO2013091751A2 PCT/EP2012/004540 EP2012004540W WO2013091751A2 WO 2013091751 A2 WO2013091751 A2 WO 2013091751A2 EP 2012004540 W EP2012004540 W EP 2012004540W WO 2013091751 A2 WO2013091751 A2 WO 2013091751A2
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Definitions

  • the invention relates to a method for producing an electrically conductive component according to the preamble of claim 1, an electrically conductive component according to the preamble of claim 8 and an arrangement according to claim 13.
  • a mixture which consists of nanoparticles, eg. As metallic particles of copper, and a salt solution containing a conductive metal.
  • the mixture is applied to a circuit board and heat-treated under a reducing atmosphere to form a continuous conductive member on the circuit board.
  • This coating technique can be carried out at comparatively low temperatures, in which damage to a material used for circuit boards is not to be feared.
  • the application of the mixture to the circuit board is a separate process step and is therefore disadvantageous.
  • WO 2008/015168 A1 discloses a method for applying a metal layer to a substrate by electrodeposition of a metal from a metal salt solution.
  • the surface of the substrate to be coated has carbon nanotubes which bring about improved electrical conductivity and thus support the galvanic metal deposition process.
  • a disadvantage of this method is that prior to the actual performance of the electroplating process, the surface of the substrate must already have carbon nanotubes, or that carbon nanotubes in the form of an adhesive polymer coating or a lacquer are to be applied to the substrate.
  • the invention has for its object to provide an electrically conductive component with improved mechanical and / or electrical properties and a
  • CONFIRMATION COPY to create speaking process for its production, which can be produced or carried out in a simple manner.
  • Essential for the invention is the fundamental consideration that in the production of an electrically conductive component in a metal salt solution, from which a metal layer is applied or deposited on a conductive surface of the component by electrodeposition, carbon nanoparticles are included. This means that the metal layer on the surface of the device is deposited in the presence of these carbon nanoparticles. As a result, the electrically conductive device with the metal layer deposited thereon acquires a predetermined mechanical property and / or a predetermined electrical characteristic which is improved over conventionally manufactured circuit boards. In this case, it may be found that carbon nanoparticles are deposited on the metal layer, preferably that carbon nanoparticles are at least partially embedded in the molecular structure of the metal layer.
  • the carbon nanoparticles consist of spherical molecules of carbon atoms, also known as fullerenes. Additionally or alternatively, it is also possible that the carbon nanoparticles in the form of nanotubes (CNT) are present.
  • the carbon nanotubes may have a diameter of 0.005 to 0.08 ⁇ and a length of 0.5 to 1000 ⁇ .
  • the metal layer deposited on the surface of the component may at least partially consist of copper, and preferably consist entirely of copper. In correspondence with this, the metal salt solution also contains proportions of copper.
  • the use of copper is particularly advantageous for the production of printed circuit boards and in the metallic coating of their surface.
  • an acidic electroplating bath is preferably used for the electrodeposition of a copper layer on the surface of the substrate.
  • a basic or cyanidic electroplating bath is possible.
  • the metals chromium, nickel, gold and silver are also suitable for the electrodeposition of a metal layer on the surface of the substrate, for example. It is also possible for a plurality of metal layers, either of the same metal or using different types of metal, to be deposited successively galvanically on the surface of the substrate, for example by B. the substrate is immersed with a metallizable surface in each case under application of a current in different electroplating baths with solutions of different metals.
  • the desired predetermined mechanical and / or electrical property of the metal layer can be achieved by adding carbon nanoparticles containing the amount of copper contained in the metal salt solution, which amounts to 0.02-0.05% by weight with respect to the amount of copper. preferably 0.03 - 0.04 weight percent, and more preferably 0.0315 - 0.0339 weight percent.
  • Such a proportion by weight of carbon nanoparticles with respect to the amount of copper contained in the electroplating bath may conveniently be achieved by a suspension in which the carbon nanoparticles are contained, this suspension being admixed with the electroplating bath or metal salt solution prior to commencement of the galvanic process ,
  • an electrically conductive component in particular in the form of a printed circuit board, is claimed in which a metal layer is electrodeposited on a conductive surface of the component.
  • carbon nanoparticles are at least attached to the metal layer, so that the device has a predetermined mechanical and / or electrical property.
  • the carbon nanoparticles may also be embedded at least partially, or preferably completely, in the molecular structure of the metal layer.
  • the predetermined mechanical property of the electrically conductive component with the metal layer deposited on it can be greater than in comparison with a metal layer which has been galvanically deposited on a component made from a metal salt solution without the use of carbon nanoparticles.
  • the predetermined mechanical property for example a surface roughness, a brittleness or hardness, or else a thermal conductivity of the component with the metal layer deposited on it can be purposefully increased.
  • Increased brittleness and / or increased surface roughness are advantageous, for example, in the case of printed circuit boards, in order to thereby realize wear-resistant plug contacts with low contact resistance. Increased surface roughness may also be advantageous for adhesion of adhesive, solder resist, or the like.
  • the presence of the carbon nanoparticles in the metal salt solution during the electrodeposition of the metal layer can also be used to specifically improve an electrical conductivity of the metal layer or of the component. This can e.g. be useful for optimizing the strip conductor architecture on the surface of an electrically conductive component in the form of a printed circuit board.
  • the predetermined mechanical property of the metal layer may be formed from a coefficient of thermal expansion, which is adapted to a thermal expansion coefficient of another component, which may be mounted on the surface of the electrically conductive component or its metal layer.
  • This further component may preferably be a semiconductor die. This ensures that no stress cracks occur in the operating state of a printed circuit board.
  • an arrangement which consists of an electrically conductive component and of another component.
  • the electrically conductive device may be manufactured by the above explained method.
  • the The tere component in particular a semiconductor die, is mounted on a surface of the component.
  • An essential feature of this arrangement is that the thermal expansion coefficient of the metal layer of the electrically conductive component is adapted to the thermal expansion coefficient of the other component. If the Baulemenent example is formed of a printed circuit board, stress cracks in the operation of the circuit board can be effectively prevented by the explained adaptation of the respective thermal expansion coefficient.
  • the electrically conductive component may also have further predetermined mechanical and / or electrical properties, which have already been explained in detail above.
  • FIG. 1 shows a principle greatly simplified electroplating bath for carrying out a proposed method for producing an electrically conductive component
  • FIG. 2 shows cross-sectional sectional views of a) a metal layer that has been conventionally electrodeposited onto the surface of a device, and b) a metal layer that has been electrodeposited with the electroplating bath of FIG. 1 onto the surface of a device.
  • FIG. 1 shows in simplified form a galvanic bath in a cross-sectional view.
  • the electroplating bath is used to coat an electrically conductive component 1 with a metal layer 2 (see illustration b of FIG. 2) and contains a metal salt solution 3 in the form of a commercially available acidic copper sulphate bath, which u. a. Having copper sulfate.
  • a DC voltage source is provided in a known manner, with an anode A at the positive pole and a cathode K at the negative pole.
  • the device 1 originally consists of a substrate with a conductive surface, wherein the substrate is connected to the cathode and immersed in the copper sulfate 3.
  • the anode consists at least partially of copper and is designed as a consumption electrode. When an electrical current is applied, copper metal ions are released from the anode.
  • a metal layer 2 is electrodeposited on a surface of the substrate or of the component 1.
  • the copper sulfate bath 3 carbon nanoparticles 4 are mixed, which are symbolized in Fig.
  • these carbon nanoparticles 4 are formed from fullerenes.
  • a copper layer is electrodeposited on a surface of the substrate by depositing copper ions by reduction.
  • the building element 1 is thus formed from the substrate, on the surface of which the metal layer 2 is electrodeposited.
  • the electroplating bath preferably contains sulfuric acid as the conductive acid, and is thus-as already explained in the general part of the description-an acidic electroplating bath.
  • concentration of sulfuric acid is chosen so that the electroplating bath or the acid have a maximum conductivity.
  • the metal layer 2 on the surface of the component 1 may also have a predetermined electrical property.
  • Fig. 2 respectively shows cross-sectional sectional views of a metal layer which has been electrodeposited on a printed circuit board.
  • the representation b) of FIG. 2 shows in section a copper layer 2, which was galvanically deposited with the electroplating bath of FIG. 1 on a printed circuit board 1.
  • the free surface of the copper layer 2 is located at the lower edge of the sectional image.
  • the illustration a) of Fig. 2 shows a copper layer 2a which has been conventionally electrodeposited onto a printed circuit board, i. without the use of carbon nanoparticles in the metal salt solution.
  • the free surface of the copper layer 2a is located in the representation a) of FIG. 2 at the upper edge of the sectional image.
  • FIG. 2 A comparison of the two representations of Fig. 2 illustrates that the surface of the copper layer 2, which was deposited on the printed circuit board 1 with the galvanic bath according to Fig. 1 (see illustration b), has a greater surface roughness than the copper layer 2a (cf. Illustration a), which was deposited on a printed circuit board without the use of carbon nanoparticles. As already explained above, this larger surface roughness can be based on the fact that fullerenes are embedded in the copper layer 2. The surface roughness of the copper layer 2 can be compared with the copper layer 2a, e.g. be larger by a factor of 5.
  • the electrically conductive component 1 may in particular be a printed circuit board which, as explained above, has predetermined mechanical and / or electrical properties.
  • the electrically conductive component can also be an RFID antenna, a transponder antenna, a sensor or the like.

Abstract

The invention relates to a method for producing an electrically conductive component (1), in particular a circuit board, wherein a metal layer is applied to a conductive surface of the component (1) by galvanic deposition from a metal salt solution (2) and carbon nanoparticles (5) are admixed with the metal salt solution (2). The component (1), having the metal layer deposited thereon, has an improved predetermined mechanical characteristic and/or a predetermined electrical characteristic.

Description

Elektrisch leitfähiges Bauelement, und  Electrically conductive component, and
Verfahren zur Herstellung eines solchen Bauelements  Method for producing such a component
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines elektrisch leitfähigen Bauelements nach dem Oberbegriff von Anspruch 1, ein elektrisch leitfähiges Bauelement nach dem Oberbegriff von Anspruch 8 und eine Anordnung gemäß Anspruch 13. Für die Herstellung von Leiterplatten ist die Berücksichtigung von Mikro- oder Nanopartikeln bekannt, z. B. aus WO 2007/128015 A2. Bei dem Verfahren gemäß dieser Druckschrift wird zunächst eine Mischung bereitgestellt, die aus Nanopartikeln, z. B. metallische Partikel aus Kupfer, und einer ein leitfähiges Metall enthaltenen Salzlösung besteht. Anschließend wird die Mischung auf eine Leiterplatte aufgetragen und unter reduzierender Atmosphäre wärmebehandelt, um ein durchgehend leitfähiges Element auf der Leiterplatte auszubilden. Diese Beschichtungstechnik kann bei vergleichsweise geringen Temperaturen durchgeführt werden, bei denen eine Beschädigung eines für Leiterplatten eingesetzten Materials nicht zu befürchten ist. Jedoch stellt das Auftragen der Mischung auf die Leiterplatte einen separaten Verfahrensschritt dar und ist deshalb nachteilig. The invention relates to a method for producing an electrically conductive component according to the preamble of claim 1, an electrically conductive component according to the preamble of claim 8 and an arrangement according to claim 13. For the production of printed circuit boards, the consideration of micro- or nanoparticles is known z. From WO 2007/128015 A2. In the method according to this document, first a mixture is provided which consists of nanoparticles, eg. As metallic particles of copper, and a salt solution containing a conductive metal. Subsequently, the mixture is applied to a circuit board and heat-treated under a reducing atmosphere to form a continuous conductive member on the circuit board. This coating technique can be carried out at comparatively low temperatures, in which damage to a material used for circuit boards is not to be feared. However, the application of the mixture to the circuit board is a separate process step and is therefore disadvantageous.
Das Beschichten von Oberflächen mittels der Galvanotechnik ist seit langer Zeit bekannt. Im Zusammenhang mit der Herstellung von Leiterplatten offenbart WO 2008/015168 AI ein Verfahren zum Aufbringen einer Metallschicht auf ein Substrat durch galvanische Abscheidung eines Metalls aus einer Metallsalzlösung. Die Oberfläche des zu beschichtenden Substrats weist Kohlenstoff- Nanoröhren auf, die eine verbesserte elektrische Leitfähigkeit bewirken und somit den galvanischen Metallabscheideprozess unterstützen. Nachteilig bei diesem Verfahren ist, dass vor der eigentlichen Durchführung des Galvanikprozes- ses die Oberfläche des Substrats bereits Kohlenstoff-Nanoröhren aufzuweisen hat, oder dass Kohlenstoff-Nanoröhren in Form einer haftenden Polymerbe- schichtung oder eines Lackes auf das Substrat aufzubringen sind. The coating of surfaces by electroplating has been known for a long time. In connection with the production of printed circuit boards, WO 2008/015168 A1 discloses a method for applying a metal layer to a substrate by electrodeposition of a metal from a metal salt solution. The surface of the substrate to be coated has carbon nanotubes which bring about improved electrical conductivity and thus support the galvanic metal deposition process. A disadvantage of this method is that prior to the actual performance of the electroplating process, the surface of the substrate must already have carbon nanotubes, or that carbon nanotubes in the form of an adhesive polymer coating or a lacquer are to be applied to the substrate.
Die Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein elektrisch leitfähiges Bauelement mit verbesserten mechanischen und/oder elektrischen Eigenschaften und ein ent- The invention has for its object to provide an electrically conductive component with improved mechanical and / or electrical properties and a
BESTÄTIGUNGSKOPIE sprechendes Verfahren für dessen Herstellung zu schaffen, das in einfacher Weise herstellbar bzw. durchführbar ist. CONFIRMATION COPY to create speaking process for its production, which can be produced or carried out in a simple manner.
Diese Aufgabe wird durch ein Verfahren mit den Merkmalen von Anspruch 1 durch ein Bauelement mit den Merkmalen von Anspruch 8, und durch eine Anordnung mit den Merkmalen von Anspruch 13 gelöst. Vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung sind in den abhängigen Ansprüchen definiert. This object is achieved by a method having the features of claim 1 by a component having the features of claim 8, and by an arrangement having the features of claim 13. Advantageous developments of the invention are defined in the dependent claims.
Wesentlich für die Erfindung ist die grundsätzliche Überlegung, dass bei der Herstellung eines elektrisch leitfähigen Bauelements in einer Metallsalzlösung, aus der eine Metallschicht auf eine leitfähige Oberfläche des Bauelements durch galvanisches Abscheiden aufgebracht bzw. abgeschieden wird, Kohlenstoff- Nanopartikel enthalten sind. Dies bedeutet, dass die Metallschicht auf der Oberfläche des Bauelements in Anwesenheit dieser Kohlenstoff-Nanopartikel abge- schieden wird. In Folge dessen erhält das elektrisch leitfähige Bauelement mit der darauf abgeschiedenen Metallschicht eine vorbestimmte mechanische Eigenschaft und/oder eine vorbestimmte elektrische Eigenschaft, die gegenüber herkömmlich hergestellten Leiterplatten verbessert ist. Hierbei kann sich ergeben, dass Kohlenstoff-Nanopartikel an der Metallschicht angelagert werden, vor- zugsweise, dass Kohlenstoff-Nanopartikel in der Molekülstruktur der Metallschicht zumindest teilweise eingebettet werden. Essential for the invention is the fundamental consideration that in the production of an electrically conductive component in a metal salt solution, from which a metal layer is applied or deposited on a conductive surface of the component by electrodeposition, carbon nanoparticles are included. This means that the metal layer on the surface of the device is deposited in the presence of these carbon nanoparticles. As a result, the electrically conductive device with the metal layer deposited thereon acquires a predetermined mechanical property and / or a predetermined electrical characteristic which is improved over conventionally manufactured circuit boards. In this case, it may be found that carbon nanoparticles are deposited on the metal layer, preferably that carbon nanoparticles are at least partially embedded in the molecular structure of the metal layer.
In vorteilhafter Weiterbildung der Erfindung bestehen die Kohlenstoff- Nanopartikel aus spärischen Moleküle aus Kohlenstoffatomen, auch als Fullere- ne bekannt. Ergänzend oder alternativ hierzu ist es auch möglich, dass die Kohlenstoff-Nanopartikel in Form von Nanoröhrchen (CNT) vorliegen. Die Kohlen- stoff-Nanoröhrchen können einen Durchmesser von 0,005 bis 0,08 μπι und eine Länge von 0,5 bis 1000 μιη aufweisen. In vorteilhafter Weiterbildung der Erfindung kann die an der Oberfläche des Bauelements abgeschiedene Metallschicht zumindest teilweise aus Kupfer bestehen, und vorzugsweise vollständig aus Kupfer bestehen. In Entsprechung hierzu enthält die Metallsalzlösung ebenfalls Anteile an Kupfer. Die Verwendung von Kupfer ist insbesondere zur Herstellung von Leiterplatten und bei dem metalli- sehen Beschichten von deren Oberfläche vorteilhaft. Für das galvanische Abscheiden einer Kupferschicht auf der Oberfläche des Substrats kommt vorzugsweise ein saures Galvanikbad zum Einsatz. Alternativ hierzu ist auch ein basisches oder cyanidisches Galvanikbad möglich. In an advantageous development of the invention, the carbon nanoparticles consist of spherical molecules of carbon atoms, also known as fullerenes. Additionally or alternatively, it is also possible that the carbon nanoparticles in the form of nanotubes (CNT) are present. The carbon nanotubes may have a diameter of 0.005 to 0.08 μπι and a length of 0.5 to 1000 μιη. In an advantageous development of the invention, the metal layer deposited on the surface of the component may at least partially consist of copper, and preferably consist entirely of copper. In correspondence with this, the metal salt solution also contains proportions of copper. The use of copper is particularly advantageous for the production of printed circuit boards and in the metallic coating of their surface. For the electrodeposition of a copper layer on the surface of the substrate, an acidic electroplating bath is preferably used. Alternatively, a basic or cyanidic electroplating bath is possible.
Neben der Verwendung von Kupfer eignen sich für das galvanische Abscheiden einer Metallschicht auf der Oberfläche des Substrats beispielsweise auch die Metalle Chrom, Nickel, Gold und Silber. Es können auch mehrere Metallschichten, entweder desselben Metalls oder unter Verwendung von verschiedenen Metalltypen, nacheinander galvanisch auf der Oberfläche des Substrats abgeschieden werden, indem z. B. das Substrat mit einer metallisierbaren Oberfläche jeweils unter Anlegen eines Stroms in verschiedene Galvanikbäder mit Lösungen unterschiedlicher Metalle eingetaucht wird. In addition to the use of copper, the metals chromium, nickel, gold and silver are also suitable for the electrodeposition of a metal layer on the surface of the substrate, for example. It is also possible for a plurality of metal layers, either of the same metal or using different types of metal, to be deposited successively galvanically on the surface of the substrate, for example by B. the substrate is immersed with a metallizable surface in each case under application of a current in different electroplating baths with solutions of different metals.
In vorteilhafter Weiterbildung der Erfindung kann die gewünschte vorbestimmte mechanische und/oder elektrische Eigenschaft der Metallschicht dadurch erzielt werden, dass die in der Metallsalzlösung enthaltene Kupfermenge mit Kohlen- stoff-Nanopartikeln versetzt ist, die bezüglich der Kupfermenge 0,02 - 0,05 Gewichtsprozent, vorzugsweise 0,03 - 0,04 Gewichtsprozent, und weiter vorzugsweise 0,0315 - 0,0339 Gewichtsprozent ausmachen. Ein solcher Gewichtsanteil von Kohlenstoff-Nanopartikeln bezüglich der in dem Galvanikbad enthaltenen Menge an Kupfer kann zweckmäßigerweise durch eine Suspension erzielt werden, in der die Kohlenstoff-Nanopartikel enthalten sind, wobei diese Suspension dem Galvanikbad bzw. der Metallsalzlösung vor dem Beginn des galvanischen Prozesses beigemischt wird. In an advantageous development of the invention, the desired predetermined mechanical and / or electrical property of the metal layer can be achieved by adding carbon nanoparticles containing the amount of copper contained in the metal salt solution, which amounts to 0.02-0.05% by weight with respect to the amount of copper. preferably 0.03 - 0.04 weight percent, and more preferably 0.0315 - 0.0339 weight percent. Such a proportion by weight of carbon nanoparticles with respect to the amount of copper contained in the electroplating bath may conveniently be achieved by a suspension in which the carbon nanoparticles are contained, this suspension being admixed with the electroplating bath or metal salt solution prior to commencement of the galvanic process ,
Nach einer weiteren Lehre gemäß Anspruch 8, der eigenständige Bedeutung zukommt, wird ein elektrisch leitfähiges Bauelement, insbesondere in Form einer Leiterplatte, beansprucht, bei dem eine Metallschicht auf einer leitfähigen Oberfläche des Bauelements galvanisch abgeschieden ist. Bei einem solchen Bauelement sind Kohlenstoff-Nanopartikel an der Metallschicht zumindest angelagert, so dass das Bauelement eine vorbestimmte mechanische und/oder elektrische Eigenschaft aufweist. Die Kohlenstoff-Nanopartikel können in der Molekülstruktur der Metallschicht auch zumindest teilweise, oder vorzugsweise vollständig, eingebettet sein. In vorteilhafter Weiterbildung der Erfindung kann die vorbestimmte mechanische Eigenschaft des elektrisch leitfähigen Bauelements mit der darauf abgeschiedenen Metallschicht größer sein als im Vergleich zu einer Metallschicht, die auf ein Bauelement aus einer Metallsalzlösung ohne Verwendung von Kohlen- stoff-Nanopartikeln galvanisch abgeschieden worden ist. In dieser Weise kann die vorbestimmte mechanische Eigenschaft, z.B. eine Oberflächenrauheit, eine Sprödigkeit bzw. Härte, oder auch eine thermische Leitfähigkeit des Bauelements mit der darauf abgeschiedenen Metallschicht gezielt erhöht werden. According to another teaching according to claim 8, which has independent significance, an electrically conductive component, in particular in the form of a printed circuit board, is claimed in which a metal layer is electrodeposited on a conductive surface of the component. In such a device, carbon nanoparticles are at least attached to the metal layer, so that the device has a predetermined mechanical and / or electrical property. The carbon nanoparticles may also be embedded at least partially, or preferably completely, in the molecular structure of the metal layer. In an advantageous development of the invention, the predetermined mechanical property of the electrically conductive component with the metal layer deposited on it can be greater than in comparison with a metal layer which has been galvanically deposited on a component made from a metal salt solution without the use of carbon nanoparticles. In this way, the predetermined mechanical property, for example a surface roughness, a brittleness or hardness, or else a thermal conductivity of the component with the metal layer deposited on it can be purposefully increased.
Eine erhöhte Sprödheit und/oder eine erhöhte Oberflächenrauheit sind beispielsweise bei Leiterplatten von Vorteil, um dadurch verschleißfeste Steckkontakte mit niedrigem Übergangswiderstand zu realisieren. Eine erhöhte Oberflächenrauheit kann auch vorteilhaft sein für das Anhaften von Kleber, Lötstoplack oder dergleichen. Increased brittleness and / or increased surface roughness are advantageous, for example, in the case of printed circuit boards, in order to thereby realize wear-resistant plug contacts with low contact resistance. Increased surface roughness may also be advantageous for adhesion of adhesive, solder resist, or the like.
In gleicher Weise wie eine vorbestimmte mechanische Eigenschaft kann durch die Anwesenheit der Kohlenstoff-Nanopartikel in der Metallsalzlösung während des galvanischen Abscheidens der Metallschicht auch gezielt eine elektrische Leitfähigkeit der Metallschicht bzw. des Bauelements verbessert werden. Dies kann z.B. für eine Optimierung der Leiterbahnen- Architektur auf der Oberfläche eines elektrisch leitfähigen Bauelements in Form einer Leiterplatte zweckmäßig sein. In the same way as a predetermined mechanical property, the presence of the carbon nanoparticles in the metal salt solution during the electrodeposition of the metal layer can also be used to specifically improve an electrical conductivity of the metal layer or of the component. This can e.g. be useful for optimizing the strip conductor architecture on the surface of an electrically conductive component in the form of a printed circuit board.
In vorteilhafter Weiterbildung der Erfindung kann die vorbestimmte mechanische Eigenschaft der Metallschicht aus einem Wärmeausdehnungskoeffizienten gebildet sein, der an einen Wärmeausdehnungskoeffizienten eines weiteren Bauteils angepasst ist, welches auf der Oberfläche des elektrisch leitfähigen Bauelements bzw. seiner Metallschicht angebracht sein kann. Bei diesem weiteren Bauteil kann es sich vorzugsweise um einen Halbleiter-Die handeln. Hierdurch ist sichergestellt, dass im Betriebszustand einer Leiterplatte keine Spannungsrisse auftreten. In an advantageous embodiment of the invention, the predetermined mechanical property of the metal layer may be formed from a coefficient of thermal expansion, which is adapted to a thermal expansion coefficient of another component, which may be mounted on the surface of the electrically conductive component or its metal layer. This further component may preferably be a semiconductor die. This ensures that no stress cracks occur in the operating state of a printed circuit board.
Nach einer weiteren Lehre gemäß Anspruch 13, der eigenständige Bedeutung zukommt, wird eine Anordnung beansprucht, die aus einem elektrisch leitfähigen Bauelement und aus einem weiteren Bauteil besteht. Das elektrisch leitiahige Bauelement kann durch das obige erläuterte Verfahren hergestellt sein. Das wei- tere Bauteil, insbesondere ein Halbleiter-Die, ist auf einer Oberfläche des Bau- lemenents angebracht. Ein wesentliches Merkmal dieser Anordnung besteht darin, dass der Wärmeausdehnungskoeffizient der Metallschicht des elektrisch leitfähigen Bauelements an den Wärmeausdehnungskoeffizienten des weiteren Bauteils angepasst ist. Falls das Baulemenent z.B. aus einer Leiterplatte gebildet ist, können durch die erläuterte Anpassung der jeweiligen Wärmeausdehnungskoeffizienten Spannungsrisse im Betrieb der Leiterplatte wirksam verhindert werden. Bei dieser Anordnung kann das elektrisch leitfähige Bauelement auch weitere vorbestimmte mechanische und/oder elektrische Eigenschaften aufweisen, die oben im Detail bereits erläutert wurden. According to another teaching according to claim 13, which has independent significance, an arrangement is claimed which consists of an electrically conductive component and of another component. The electrically conductive device may be manufactured by the above explained method. The The tere component, in particular a semiconductor die, is mounted on a surface of the component. An essential feature of this arrangement is that the thermal expansion coefficient of the metal layer of the electrically conductive component is adapted to the thermal expansion coefficient of the other component. If the Baulemenent example is formed of a printed circuit board, stress cracks in the operation of the circuit board can be effectively prevented by the explained adaptation of the respective thermal expansion coefficient. In this arrangement, the electrically conductive component may also have further predetermined mechanical and / or electrical properties, which have already been explained in detail above.
Im Folgenden wird die Erfindung anhand einer lediglich ein Ausführungsbeispiel darstellenden Zeichnung näher erläutert. In der Zeichnung zeigt: In the following the invention will be explained in more detail with reference to a drawing showing only one exemplary embodiment. In the drawing shows:
Fig. 1 ein prinzipiell stark vereinfachtes Galvanikbad zur Durchführung eines vorschlagsgemäßem Verfahrens zur Herstellung eines elektrisch leitfähigen Bauelements, und 1 shows a principle greatly simplified electroplating bath for carrying out a proposed method for producing an electrically conductive component, and
Fig. 2 Querschnitts-Schnittbilder von a) einer Metallschicht, die herkömmlich auf die Oberfläche eines Bauelements galvanisch abgeschieden wurde, und b) einer Metallschicht, die mit dem Galvanikbad von Fig. 1 auf die Oberfläche eines Bauelements galvanisch abgeschieden wurde. 2 shows cross-sectional sectional views of a) a metal layer that has been conventionally electrodeposited onto the surface of a device, and b) a metal layer that has been electrodeposited with the electroplating bath of FIG. 1 onto the surface of a device.
Fig. 1 zeigt prinzipiell vereinfacht ein Galvanikbad in einer Querschnittsansicht. Das Galvanikbad dient zum Beschichten eines elektrisch leitfähigen Bauelements 1 mit einer Metallschicht 2 (vgl. Darstellung b von Fig. 2) und enthält eine Metallsalzlösung 3 in Form eines kommerziell verfügbaren sauren Kupfersulfatbades, das u. a. Kupfersulfat aufweist. In principle, FIG. 1 shows in simplified form a galvanic bath in a cross-sectional view. The electroplating bath is used to coat an electrically conductive component 1 with a metal layer 2 (see illustration b of FIG. 2) and contains a metal salt solution 3 in the form of a commercially available acidic copper sulphate bath, which u. a. Having copper sulfate.
Für das Galvanikbad ist in bekannter Weise eine Gleichspannungsquelle vorgesehen, mit einer Anode A am Pluspol und einer Kathode K am Minuspol. Das Bauelement 1 besteht ursprünglich aus einem Substrat mit einer leitfähigen Oberfläche, wobei das Substrat mit der Kathode verbunden und in das Kupfersulfatbad 3 eingetaucht ist. Die Anode besteht zumindest teilweise auf Kupfer und ist als Verbrauchselektrode ausgebildet. Beim Anlegen eines elektrischen Stroms werden Kupfer-Metallionen von der Anode abgelöst. Mittels des Galvanikbads von Fig. 1 wird eine Metallschicht 2 auf einer Oberfläche des Substrats bzw. des Bauelements 1 galvanisch abgeschieden. Von besonderer Bedeutung für die Erfindung ist die Tatsache, dass dem Kupfersulfatbad 3 Kohlenstoff-Nanopartikel 4 beigemischt sind, die in Fig. 1 nicht-maßstäblich durch Punkte innerhalb des Kupfersulfatbad 3 symbolisiert sind. Vorzugsweise sind diese Kohlenstoff-Nanopartikel 4 aus Fullerenen gebildet. Durch ein Anlegen eines Stroms wird eine Kupferschicht galvanisch auf einer Oberfläche des Substrats abgeschieden, indem Kupferionen durch Reduktion abgelagert werden. Das Bauelemenent 1 wird somit aus dem Substrat gebildet, auf dessen Oberfläche die Metallschicht 2 galvanisch abgeschieden ist. For the electroplating bath a DC voltage source is provided in a known manner, with an anode A at the positive pole and a cathode K at the negative pole. The device 1 originally consists of a substrate with a conductive surface, wherein the substrate is connected to the cathode and immersed in the copper sulfate 3. The anode consists at least partially of copper and is designed as a consumption electrode. When an electrical current is applied, copper metal ions are released from the anode. By means of the electroplating bath of FIG. 1, a metal layer 2 is electrodeposited on a surface of the substrate or of the component 1. Of particular importance for the invention is the fact that the copper sulfate bath 3 carbon nanoparticles 4 are mixed, which are symbolized in Fig. 1 non-scale by points within the copper sulfate 3. Preferably, these carbon nanoparticles 4 are formed from fullerenes. By applying a current, a copper layer is electrodeposited on a surface of the substrate by depositing copper ions by reduction. The building element 1 is thus formed from the substrate, on the surface of which the metal layer 2 is electrodeposited.
In der nachfolgenden Tabelle sind einige Parameter für die Durchführung galvanischen Prozesses mit dem Galvanikbad von Fig. 1 genannt: The following table gives some parameters for carrying out the galvanic process with the electroplating bath of FIG. 1:
Figure imgf000007_0001
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Das Galvanikbad enthält als Leitsäure vorzugsweise Schwefelsäure, und ist somit - wie bereits im allgemeinen Teil der Beschreibung erläutert - ein saures Galvanikbad. Die Konzentration der Schwefelsäure wird so gewählt, dass das Galvanikbad bzw. die Säure eine maximale Leitfähigkeit aufweisen. The electroplating bath preferably contains sulfuric acid as the conductive acid, and is thus-as already explained in the general part of the description-an acidic electroplating bath. The concentration of sulfuric acid is chosen so that the electroplating bath or the acid have a maximum conductivity.
Die Durchführung des galvanischen Prozesses in Anwesenheit der Kohlenstoff- Nanopartikel führt dazu, dass das elektrisch leitfähige Bauelement 1 mit der darauf abgeschiedenen Metallschicht 2 vorbestimmte mechanische Eigenschaften erhält, die bereits im allgemeinen Teil der Beschreibung erläutert wurden. Falls Fullerene in die Molekülstruktur der Kupferschicht 2 eingebettet sind, geht eine vergrößerte Oberflächenrauheit bzw. eine vergrößerte Sprödigkeit des Bauelements mit der darauf abgeschiedenen Metallschicht auf die Tatsache zurück, dass der Durchmesser der Fullerene (D=0,7 nm) wesentlich größer als die Gitterkon- stante des Kupfers (a=0,36 nm) ist. In Folge dessen kommt es zu einer ungleichmäßigen Einbettung der Fullerene in die Molekülstruktur des Kupfers. The performance of the galvanic process in the presence of the carbon nanoparticles leads to the electrically conductive component 1 with the metal layer 2 deposited thereon receiving predetermined mechanical properties which have already been explained in the general part of the description. If fullerenes are embedded in the molecular structure of the copper layer 2, an increased surface roughness or an increased brittleness of the component with the metal layer deposited thereon is due to the fact that the diameter of the fullerenes (D = 0.7 nm) is significantly larger than the lattice con - constant of copper (a = 0.36 nm). As a result, there is an uneven embedding of the fullerenes in the molecular structure of copper.
Alternativ oder zusätzlich kann die Metallschicht 2 an der Oberfläche des Bauelements 1 auch eine vorbestimmte elektrische Eigenschaft aufweisen. Alternatively or additionally, the metal layer 2 on the surface of the component 1 may also have a predetermined electrical property.
Fig. 2 zeigt jeweils Querschnitts-Schnittansichten einer Metallschicht, die auf einer Leiterplatte galvanisch abgeschieden wurde. Im Einzelnen zeigt die Darstellung b) von Fig. 2 im Schnitt eine Kupferschicht 2, die mit dem Galvanikbad von Fig. 1 auf eine Leiterplatte 1 galvanisch abgeschieden wurde. In der Darstellung von Fig. 2b) befindet sich die freie Oberfläche der Kupferschicht 2 am unteren Rand des Schnittbildes. Fig. 2 respectively shows cross-sectional sectional views of a metal layer which has been electrodeposited on a printed circuit board. In detail, the representation b) of FIG. 2 shows in section a copper layer 2, which was galvanically deposited with the electroplating bath of FIG. 1 on a printed circuit board 1. In the illustration of FIG. 2b), the free surface of the copper layer 2 is located at the lower edge of the sectional image.
Demgegenüber zeigt die Darstellung a) von Fig. 2 eine Kupferschicht 2a, die auf eine Leiterplatte herkömmlich galvanisch abgeschieden wurde, d.h. ohne die Verwendung von Kohlenstoff-Nanopartikeln in der Metallsalzlösung. Die freie Oberfläche der Kupferschicht 2a befindet sich in der Darstellung a) von Fig. 2 am oberen Rand des Schnittbildes. On the other hand, the illustration a) of Fig. 2 shows a copper layer 2a which has been conventionally electrodeposited onto a printed circuit board, i. without the use of carbon nanoparticles in the metal salt solution. The free surface of the copper layer 2a is located in the representation a) of FIG. 2 at the upper edge of the sectional image.
Ein Vergleich der beiden Darstellungen von Fig. 2 verdeutlicht, dass die Oberfläche der Kupferschicht 2, die mit dem Galvanikbad gemäß Fig. 1 auf der Leiterplatte 1 abgeschieden wurde (vgl. Darstellung b), eine größere Oberflächenrauheit aufweist als die Kupferschicht 2a (vgl. Darstellung a), die ohne die Verwendung von Kohlenstoff-Nanopartikeln auf einer Leiterplatte abgeschieden wurde. Wie oben bereits erläutert, kann diese größere Oberflächenrauheit darauf basieren, dass in der Kupferschicht 2 Fullerene eingebettet sind. Die Oberflä- chenrauheit der Kupferschicht 2 kann im Vergleich zu der Kupferschicht 2a z.B. bis zu einem Faktor 5 größer sein. A comparison of the two representations of Fig. 2 illustrates that the surface of the copper layer 2, which was deposited on the printed circuit board 1 with the galvanic bath according to Fig. 1 (see illustration b), has a greater surface roughness than the copper layer 2a (cf. Illustration a), which was deposited on a printed circuit board without the use of carbon nanoparticles. As already explained above, this larger surface roughness can be based on the fact that fullerenes are embedded in the copper layer 2. The surface roughness of the copper layer 2 can be compared with the copper layer 2a, e.g. be larger by a factor of 5.
Erfindungsgemäß kann das elektrisch leitfähige Bauelement 1 insbesondere eine Leiterplatte sein, die wie oben erläutert vorbestimmte mechanische und/oder elektrische Eigenschaften aufweist. Alternativ kann das elektrisch leitfahige Bauelement auch eine RFID- Antenne, eine Transponderantenne, ein Sensor oder dergleichen sein. According to the invention, the electrically conductive component 1 may in particular be a printed circuit board which, as explained above, has predetermined mechanical and / or electrical properties. Alternatively, the electrically conductive component can also be an RFID antenna, a transponder antenna, a sensor or the like.

Claims

Patentansprüche claims
1. Verfahren zur Herstellung eines elektrisch leitfähigen Bauelements (1), insbesondere eine Leiterplatte, mit verbesserten mechanischen und/oder elektrischen Eigenschaften, bei dem eine Metallschicht (2) durch galvanisches Abscheiden aus einer Metallsalzlösung (3) auf einer leitfähigen Oberfläche des Bauelements (1) aufgebracht wird, 1. A method for producing an electrically conductive component (1), in particular a printed circuit board, with improved mechanical and / or electrical properties, wherein a metal layer (2) by electrodeposition of a metal salt solution (3) on a conductive surface of the device (1 ) is applied,
dadurch gekennzeichnet,  characterized,
dass die Metallsalzlösung (3) Kohlenstoff-Nanopartikel (4) aufweist, so dass das galvanische Abscheiden der Metallschicht (2) in Anwesenheit der Kohlenstoff- Nanopartikel (4) erfolgt .  in that the metal salt solution (3) has carbon nanoparticles (4), so that the electrodeposition of the metal layer (2) takes place in the presence of the carbon nanoparticles (4).
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass Kohlenstoff- Nanopartikel (4) an der Metallschicht (2) angelagert werden, vorzugsweise, dass Kohlenstoff-Nanopartikel (4) in die Molekülstruktur der Metallschicht (2) zumindest teilweise eingebettet werden. 2. The method according to claim 1, characterized in that carbon nanoparticles (4) are deposited on the metal layer (2), preferably that carbon nanoparticles (4) are at least partially embedded in the molecular structure of the metal layer (2).
3. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Kohlenstoff-Nanopartikel Fullerene (4) und/oder Nanoröhren (CNT) sind. 3. The method according to any one of the preceding claims, characterized in that the carbon nanoparticles are fullerenes (4) and / or nanotubes (CNT).
4. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die an der Oberfläche des Bauelements (1) abgeschiedene Metallschicht (2) zumindest teilweise aus Kupfer besteht. 4. The method according to any one of the preceding claims, characterized in that on the surface of the component (1) deposited metal layer (2) consists at least partially of copper.
5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass die in der Metallsalzlösung (3) enthaltene Kupfermenge mit Kohlenstoff-Nanopartikeln (4) versetzt ist, wobei die Kohlenstoff-Nanopartikel (4) bezüglich der Kupfermenge 0,02 - 0,05 Gewichtsprozent, vorzugsweise 0,03-0,04 Gewichtsprozent, weiter vorzugsweise 0,0315-0,0339 Gewichtsprozent ausmachen. 5. The method according to claim 4, characterized in that in the metal salt solution (3) contained amount of copper with carbon nanoparticles (4) is added, wherein the carbon nanoparticles (4) with respect to the amount of copper 0.02 - 0.05 weight percent, preferably 0.03-0.04 weight percent, more preferably 0.0315-0.0339 weight percent.
6. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Kohlenstoff-Nanopartikel (5) in der Metallsalzlösung (3) suspendiert sind. 6. The method according to any one of the preceding claims, characterized in that the carbon nanoparticles (5) in the metal salt solution (3) are suspended.
7. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Schritt eines galvanisches Abscheidens einer Metallschicht auf der Oberfläche des Bauelements wiederholt durchgeführt wird, vorzugsweise, dass hierbei eine Schicht desselben Metalls oder eines jeweils unterschiedlichen Metalls auf der Oberfläche des Bauelements galvanisch abgeschieden wird. 7. The method according to any one of the preceding claims, characterized in that the step of a galvanic deposition of a metal layer on the surface of the device is repeatedly performed, preferably that in this case a layer of the same metal or a different metal is deposited on the surface of the device galvanically ,
8. Elektrisch leitfähiges Bauelement (1) mit verbesserten mechanischen und/oder elektrischen Eigenschaften, insbesondere eine Leiterplatte, bei dem eine Metallschicht (2) auf einer leitfähigen Oberfläche des Bauelements (1) galvanisch abgeschieden ist, 8. Electrically conductive component (1) with improved mechanical and / or electrical properties, in particular a printed circuit board, in which a metal layer (2) is electrodeposited on a conductive surface of the component (1),
dadurch gekennzeichnet, characterized,
dass Kohlenstoff-Nanopartikel (4) an der Metallschicht (2) angelagert sind, vorzugsweise, dass Kohlenstoff-Nanopartikel (4) in die Molekülstruktur der Metallschicht (2) zumindest teilweise eingebettet sind. in that carbon nanoparticles (4) are deposited on the metal layer (2), preferably in that carbon nanoparticles (4) are at least partially embedded in the molecular structure of the metal layer (2).
9. Verfahren bzw. Bauelement (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die vorbestimmte mechanische Eigenschaft und/oder elektrische Eigenschaft im Vergleich zu einer Metallschicht (2), die auf einem Bauelement aus einer Metallsalzlösung herkömmlich und ohne Verwendung von Kohlenstoff-Nanopartikeln galvanisch abgeschieden wird bzw. ist, einen jeweils größeren Wert aufweist. 9. Method or component (1) according to any one of the preceding claims, characterized in that the predetermined mechanical property and / or electrical property compared to a metal layer (2) on a metal salt solution component conventionally and without the use of carbon Nanoparticles is or is, each having a greater value.
10. Verfahren bzw. Bauelement (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die vorbestimmte mechanische Eigenschaft eine Oberflächenrauheit, eine Sprödigkeit bzw. Härte oder eine thermische Leitfähigkeit ist. 10. A method or device (1) according to any one of the preceding claims, characterized in that the predetermined mechanical property is a surface roughness, a brittleness or a thermal conductivity.
1 1. Verfahren bzw. Bauelement (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die vorbestimmte mechanische Eigenschaft der Metallschicht (2) ein Wärmeausdehnungskoeffizient ist, der an einen Wärmeausdehnungskoeffizienten eines weiteren Bauteils, das auf der Oberfläche des elektrisch leitfähigen Bauelements (1) anbringbar ist, angepasst ist, vorzugsweise, dass das weitere Bauteil ein Halbleiter-Die ist. 1 1. A method or device (1) according to any one of the preceding claims, characterized in that the predetermined mechanical property of the metal layer (2) is a coefficient of thermal expansion, which corresponds to a coefficient of thermal expansion of a further component on the surface of the electrically conductive component ( 1) is attachable, is adapted, preferably, that the further component is a semiconductor Die.
12. Verfahren bzw. Bauelement (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die vorbestimmte elektrische Eigenschaft der Metallschicht (2) eine elektrische Leitfähigkeit ist. 12. Method or component (1) according to one of the preceding claims, characterized in that the predetermined electrical property of the metal layer (2) is an electrical conductivity.
13. Anordnung, bestehend aus einem elektrisch leitfähigen Bauelement (1), das durch ein Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7 oder durch ein Verfahren nach einem der Ansprüche 9 bis 12 hergestellt ist, und einem weiteren Bauteil, insbesondere ein Halbleiter-Die, das auf einer Oberfläche des elektrisch leitfähigen Bauelements (1) angebracht ist, wobei der Wärmeausdehnungskoeffizient der Metallschicht (2) des elektrisch leitfähigen Bauelements (1) an den Wärmeausdehnungskoeffizienten des weiteren Bauteils angepasst ist. 13. Arrangement consisting of an electrically conductive component (1), which is produced by a method according to one of claims 1 to 7 or by a method according to one of claims 9 to 12, and a further component, in particular a semiconductor die, which is mounted on a surface of the electrically conductive component (1), wherein the thermal expansion coefficient of the metal layer (2) of the electrically conductive component (1) is adapted to the thermal expansion coefficient of the further component.
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