WO2013073078A1 - 偏光子を用いてテラヘルツ電磁波を偏光させる方法、および偏光子 - Google Patents

偏光子を用いてテラヘルツ電磁波を偏光させる方法、および偏光子 Download PDF

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宏平 高橋
勉 菅野
章裕 酒井
山田　由佳
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パナソニック株式会社
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    • Y10S359/00—Optical: systems and elements
    • Y10S359/90—Methods

Definitions

  • the present invention relates to a method for polarizing terahertz electromagnetic waves using a polarizer.
  • the terahertz electromagnetic wave is an electromagnetic wave having a frequency of 0.1 THz or more.
  • Patent Document 1 Non-Patent Document 1
  • Non-Patent Document 2 disclose methods for polarizing terahertz electromagnetic waves.
  • An object of the present invention is to provide a novel method for polarizing terahertz electromagnetic waves with a polarizer.
  • the present invention according to the following items 1-10 solves the above problems.
  • a method of polarizing an electromagnetic wave having a frequency of 0.1 THz or more and 0.8 THz or less using a polarizer comprising: Preparing the polarizer (a), wherein the polarizer comprises: A sapphire single crystal layer (11), and a Ca x CoO 2 crystal layer (12), The Ca x CoO 2 crystal layer (12) is stacked on the sapphire single crystal layer (11), The surface of the Ca x CoO 2 crystal layer (12) has a (100) plane orientation, The Ca x CoO 2 crystal layer (12) has a thickness of 2 micrometers to 20 micrometers, (B) irradiating the polarizer with an electromagnetic wave having a frequency of 0.1 THz or more and 0.8 THz or less to emit an output wave having only a component parallel to the c-axis direction of the sapphire single crystal layer (11). .
  • a polarizer comprising: The sapphire single crystal layer (11), and the Ca x CoO 2 crystal layer (12), wherein the Ca x CoO 2 crystal layer (12) is laminated on the sapphire single crystal layer (11),
  • the surface of the Ca x CoO 2 crystal layer (12) has a (100) plane orientation
  • the Ca x CoO 2 crystal layer (12) has a thickness of 2 micrometers to 20 micrometers.
  • the present invention provides a novel method for polarizing terahertz electromagnetic waves with a polarizer.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view of a terahertz polarizer according to an embodiment.
  • FIG. 2 is a diagram conceptually illustrating a method according to the embodiment.
  • FIG. 3 is a diagram showing a transmittance spectrum of a Ca x CoO 2 crystal layer (film thickness: 0.1 ⁇ m) formed on a sapphire single crystal layer having an a-plane orientation on the surface.
  • FIG. 4 is a diagram showing a transmittance spectrum of a Ca x CoO 2 crystal layer (film thickness: 1 micrometer) formed on a sapphire single crystal layer having an a-plane orientation on the surface.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view of a terahertz polarizer according to an embodiment.
  • FIG. 2 is a diagram conceptually illustrating a method according to the embodiment.
  • FIG. 3 is a diagram showing a transmittance spectrum of a Ca x CoO 2 crystal layer (film thickness: 0.1 ⁇ m) formed on
  • FIG. 5 is a diagram showing a transmittance spectrum of a Ca x CoO 2 crystal layer (film thickness: 2 micrometers) formed on a sapphire single crystal layer having an a-plane orientation on the surface.
  • FIG. 6 is a diagram showing a transmittance spectrum of a Ca x CoO 2 crystal layer (film thickness: 4 micrometers) formed on a sapphire single crystal layer having an a-plane orientation on the surface.
  • FIG. 7 is a diagram showing a transmittance spectrum of a Ca x CoO 2 crystal layer (film thickness: 6 micrometers) formed on a sapphire single crystal layer having an a-plane orientation on the surface.
  • FIG. 6 is a diagram showing a transmittance spectrum of a Ca x CoO 2 crystal layer (film thickness: 6 micrometers) formed on a sapphire single crystal layer having an a-plane orientation on the surface.
  • FIG. 8 is a diagram showing a transmittance spectrum of a Ca x CoO 2 crystal layer (film thickness: 9 micrometers) formed on a sapphire single crystal layer having an a-plane orientation on the surface.
  • FIG. 9 is a diagram showing a transmittance spectrum of a Ca x CoO 2 crystal layer (film thickness: 12 micrometers) formed on a sapphire single crystal layer having an a-plane orientation on the surface.
  • FIG. 10 is a diagram showing a transmittance spectrum of a Ca x CoO 2 crystal layer (film thickness: 16 micrometers) formed on a sapphire single crystal layer having an a-plane orientation on the surface.
  • FIG. 11 is a diagram showing a transmittance spectrum of a Ca x CoO 2 crystal layer (film thickness: 20 micrometers) formed on a sapphire single crystal layer having an a-plane orientation on the surface.
  • FIG. 12 is a diagram showing a transmittance spectrum of a Ca x CoO 2 crystal layer (film thickness: 25 micrometers) formed on a sapphire single crystal layer having an a-plane orientation on the surface.
  • FIG. 13 is a diagram showing a transmittance spectrum of a Ca x CoO 2 crystal layer (film thickness: 30 micrometers) formed on a sapphire single crystal layer having an a-plane orientation on the surface.
  • FIG. 12 is a diagram showing a transmittance spectrum of a Ca x CoO 2 crystal layer (film thickness: 25 micrometers) formed on a sapphire single crystal layer having an a-plane orientation on the surface.
  • FIG. 13 is a diagram showing a transmittance spectrum of a Ca x CoO
  • FIG. 14 is a diagram showing a transmittance spectrum of a Ca x CoO 2 crystal layer (film thickness: 0.1 ⁇ m) formed on a sapphire single crystal layer having a c-plane orientation on the surface.
  • FIG. 15 is a diagram showing a transmittance spectrum of a Ca x CoO 2 crystal layer (film thickness: 1 micrometer) formed on a sapphire single crystal layer having a c-plane orientation on the surface.
  • FIG. 16 is a diagram showing a transmittance spectrum of a Ca x CoO 2 crystal layer (film thickness: 2 micrometers) formed on a sapphire single crystal layer having a c-plane orientation on the surface.
  • FIG. 15 is a diagram showing a transmittance spectrum of a Ca x CoO 2 crystal layer (film thickness: 1 micrometer) formed on a sapphire single crystal layer having a c-plane orientation on the surface.
  • FIG. 16 is a diagram showing a transmittance spectrum of a Ca
  • FIG. 17 is a diagram showing a transmittance spectrum of a Ca x CoO 2 crystal layer (film thickness: 4 micrometers) formed on a sapphire single crystal layer having a c-plane orientation on the surface.
  • FIG. 18 is a diagram showing a transmittance spectrum of a Ca x CoO 2 crystal layer (film thickness: 6 micrometers) formed on a sapphire single crystal layer having a c-plane orientation on the surface.
  • FIG. 19 is a diagram showing a transmittance spectrum of a Ca x CoO 2 crystal layer (film thickness: 9 micrometers) formed on a sapphire single crystal layer having a c-plane orientation on the surface.
  • FIG. 20 is a diagram showing a transmittance spectrum of a Ca x CoO 2 crystal layer (film thickness: 12 micrometers) formed on a sapphire single crystal layer having a c-plane orientation on the surface.
  • FIG. 21 is a diagram showing a transmittance spectrum of a Ca x CoO 2 crystal layer (film thickness: 16 micrometers) formed on a sapphire single crystal layer having a c-plane orientation on the surface.
  • FIG. 22 is a diagram showing a transmittance spectrum of a Ca x CoO 2 crystal layer (film thickness: 20 micrometers) formed on a sapphire single crystal layer having a c-plane orientation on the surface.
  • FIG. 21 is a diagram showing a transmittance spectrum of a Ca x CoO 2 crystal layer (film thickness: 16 micrometers) formed on a sapphire single crystal layer having a c-plane orientation on the surface.
  • FIG. 22 is a diagram showing a transmittance spectrum of a Ca
  • FIG. 23 is a diagram showing a transmittance spectrum of a Ca x CoO 2 crystal layer (film thickness: 25 micrometers) formed on a sapphire single crystal layer having a c-plane orientation on the surface.
  • FIG. 24 is a diagram showing a transmittance spectrum of a Ca x CoO 2 crystal layer (film thickness: 30 micrometers) formed on a sapphire single crystal layer having a c-plane orientation on the surface.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view of a terahertz polarizer (hereinafter simply referred to as “polarizer”) according to an embodiment.
  • the polarizer has a plate shape.
  • the polarizing plate includes a sapphire single crystal layer 11 and a Ca x CoO 2 crystal layer 12.
  • the Ca x CoO 2 crystal layer 12 is stacked on the sapphire single crystal layer 11. It is preferable that no other layer is sandwiched between the Ca x CoO 2 crystal layer 12 and the sapphire single crystal layer 11.
  • FIG. 2 schematically shows a method of polarizing an electromagnetic wave using a polarizer in the embodiment.
  • Electromagnetic waves have a frequency of 0.1 THz to 0.8 THz.
  • the electromagnetic wave 14 is applied to the polarizer as an incident wave.
  • the electromagnetic wave 14 is applied to the surface on the front side of the Ca x CoO 2 crystal layer 12.
  • the electromagnetic wave that has passed through the polarizer is output as an output wave 15 from the polarizer.
  • the output wave 15 is output from the back surface of the sapphire single crystal layer 11.
  • the electromagnetic wave 14 can be applied to the surface on the front side of the sapphire single crystal layer 11, and the output wave 15 can be output from the surface on the back side of the Ca x CoO 2 crystal layer 12.
  • the output wave 15 has only a component parallel to the c-axis direction of the sapphire single crystal layer 11 (see arrow 16 in FIG. 1).
  • the output wave 15 has no other component.
  • Another example of the component is a component perpendicular to the c-axis direction of the sapphire single crystal layer 11.
  • the sapphire single crystal layer 11 preferably has a (11-20) plane orientation.
  • the surface of the Ca x CoO 2 crystal layer 12 has a (100) plane orientation. As demonstrated in Comparative Examples 5 to 15 described later, when the surface has a (001) plane orientation, incident light is not polarized.
  • x is not limited. According to Non-Patent Document 3 and Non-Patent Document 4, a preferable value of x is 0.15 or more and 0.55 or less.
  • the Ca x CoO 2 crystal layer 12 has a thickness of 2 micrometers or more and 20 micrometers or less. As demonstrated in Comparative Examples 1 and 2 to be described later, when the thickness is less than 2 micrometers, the incident light is not sufficiently polarized. That is, when the thickness is less than 2 micrometers, the component perpendicular to the c-axis direction of the sapphire single crystal layer 11 is not sufficiently removed. Conversely, when the thickness exceeds 20 micrometers, it becomes difficult for electromagnetic waves to pass through the polarizer, as demonstrated in Comparative Examples 3 and 4 described later. Therefore, the output wave 15 having sufficient strength cannot be obtained.
  • the Ca x CoO 2 crystal layer 12 preferably has a thickness of 2 micrometers to 9 micrometers. As demonstrated in Examples 1 and 2, the Ca x CoO 2 crystal layer 12 preferably has a thickness of 2 micrometers to 4 micrometers. This is because the component perpendicular to the c-axis direction of the sapphire single crystal layer 11 is sufficiently removed and the transmittance of the component parallel to the c-axis direction of the sapphire single crystal layer 11 is high.
  • the angle formed between the front surface of the polarizer and the incident wave is not limited.
  • the incident wave is preferably incident on the polarizer along the normal direction of the polarizer having a plate shape.
  • Example 1 (Creating a polarizer) A Ca x CoO 2 crystal layer was formed by high frequency magnetron sputtering on a sapphire crystal substrate having the (11-20) plane, that is, the plane orientation of the a plane. This sapphire crystal substrate was used as the sapphire single crystal layer 11.
  • the gas in the film forming chamber was evacuated so that the inside of the film forming chamber had a pressure of less than 1.0 ⁇ 10 ⁇ 3 .
  • the sapphire single crystal layer was heated by a heater while a mixed gas of argon (volume ratio: 96%) and oxygen (volume ratio: 4%) was introduced.
  • a Ca x CoO 2 crystal layer 12 having a thickness of 2 micrometers is formed on the sapphire single crystal layer 11 by high-frequency magnetron sputtering, and the Ca x CoO 2 crystal layer 12 having a (100) plane orientation on the surface is formed. Formed. In this way, a polarizer according to Example 1 was obtained.
  • the electromagnetic wave output device 21 is a dipole-type low-temperature grown GaAs photoconductive antenna (available from Hamamatsu Photonics Co., Ltd.). The photoconductive antenna was excited with a Ti: Sapphire laser.
  • the electromagnetic wave receiver 22 was a Bowtie-type low temperature growth GaAs photoconductive antenna (obtained from Hamamatsu Photonics).
  • the electromagnetic wave was emitted from the electromagnetic wave output device 21 while the frequency was changed from 0.1 THz to 0.8 THz.
  • the emitted electromagnetic wave was a linearly polarized pulsed electromagnetic wave.
  • the electromagnetic wave was incident on the surface on the front side of the Ca x CoO 2 crystal layer 12 from the normal direction of the polarizer.
  • Electromagnetic waves were emitted as an output wave 15 from the back side surface of the sapphire single crystal layer 11.
  • the light component parallel to the c-axis direction of the sapphire single crystal layer 11 was received by the electromagnetic wave receiver 22. This light was included in the output wave 15.
  • the light component perpendicular to the c-axis direction of the sapphire single crystal layer 11 was also received by the electromagnetic wave receiver 22.
  • FIG. 5 shows a transmittance spectrum measured by the electromagnetic wave receiver 22 according to the first embodiment.
  • the black square indicates the transmittance of the light component parallel to the c-axis direction of the sapphire single crystal layer 11 having the (11-20) plane, that is, the a-plane surface orientation on the surface.
  • white circles indicate the transmittance of the light component perpendicular to the c-axis direction of the sapphire single crystal layer 11 having the (11-20) plane, that is, the a-plane surface orientation on the surface.
  • FIG. 6 shows the transmittance spectrum measured in Example 2.
  • Example 3 An experiment similar to that of Example 1 was performed, except that the thickness of the Ca x CoO 2 crystal layer 12 was 6 micrometers.
  • FIG. 7 shows the transmittance spectrum measured in Example 3.
  • Example 4 An experiment similar to that of Example 1 was performed, except that the thickness of the Ca x CoO 2 crystal layer 12 was 9 micrometers.
  • FIG. 8 shows the transmittance spectrum measured in Example 4.
  • Example 5 An experiment similar to that of Example 1 was performed, except that the thickness of the Ca x CoO 2 crystal layer 12 was 12 micrometers.
  • FIG. 9 shows the transmittance spectrum measured in Example 5.
  • Example 6 An experiment similar to that of Example 1 was performed, except that the thickness of the Ca x CoO 2 crystal layer 12 was 16 micrometers.
  • FIG. 10 shows the transmittance spectrum measured in Example 6.
  • Example 7 An experiment similar to that of Example 1 was performed, except that the thickness of the Ca x CoO 2 crystal layer 12 was 20 micrometers.
  • FIG. 11 shows the transmittance spectrum measured in Example 7.
  • Comparative Example 1 An experiment similar to that of Example 1 was performed, except that the thickness of the Ca x CoO 2 crystal layer 12 was 0.1 micrometers.
  • FIG. 3 shows the transmittance spectrum measured in Comparative Example 1.
  • Comparative Example 2 An experiment similar to that of Example 1 was performed, except that the thickness of the Ca x CoO 2 crystal layer 12 was 1 micrometer.
  • FIG. 4 shows the transmittance spectrum measured in Comparative Example 2.
  • Example 3 An experiment similar to that of Example 1 was performed, except that the thickness of the Ca x CoO 2 crystal layer 12 was 25 micrometers.
  • FIG. 12 shows the transmittance spectrum measured in Comparative Example 3.
  • Example 4 An experiment similar to that of Example 1 was performed, except that the thickness of the Ca x CoO 2 crystal layer 12 was 30 micrometers.
  • FIG. 13 shows the transmittance spectrum measured in Comparative Example 4.
  • Table 1 below summarizes the average transmittance in Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 4.
  • c-axis parallel average transmittance means the average value of the transmittance of the light component parallel to the c-axis direction of the sapphire single crystal layer 11.
  • c-axis vertical average transmittance means an average value of the transmittance of light components perpendicular to the c-axis direction of the sapphire single crystal layer 11.
  • the output wave 15 substantially includes only a component parallel to the c-axis direction of the sapphire single crystal layer 11. In other words, the component perpendicular to the c-axis direction of the sapphire single crystal layer 11 is sufficiently removed.
  • the Ca x CoO 2 crystal layer 12 has a thickness of 2 micrometers to 9 micrometers. More preferably, the Ca x CoO 2 crystal layer 12 has a thickness of 2 micrometers or more and 4 micrometers or less.
  • the component perpendicular to the c-axis direction of the sapphire single crystal layer 11 is not sufficiently removed.
  • Comparative Examples 5 to 15 In Comparative Examples 5 to 15, a sapphire having a (0001) plane (that is, a c-plane orientation) on the surface instead of a sapphire crystal substrate having a (11-20) plane (that is, a-plane orientation) on the surface A crystal substrate was used. In Comparative Examples 5 to 15, Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 4 except that the Ca x CoO 2 crystal layer 12 having the (001) plane (that is, the plane orientation of the c plane) on the surface was formed. A similar experiment was conducted.
  • black squares indicate the transmittance of the light component parallel to the x-axis direction of the sapphire single crystal layer 11 having the (0001) plane (that is, the plane orientation of the c plane) on the surface.
  • white circles indicate the transmittance of the light component perpendicular to the y-axis direction of the sapphire single crystal layer 11 having the (0001) plane (that is, the plane orientation of the c plane) on the surface. Note that the x-axis direction is orthogonal to the y-axis direction. Table 2 shows the results of Comparative Examples 5 to 15.
  • the output wave 15 includes both a component parallel to the c-axis direction of the sapphire single crystal layer 11 and a component perpendicular to the c-axis direction of the sapphire single crystal layer 11 (Comparative Examples 5 and 6). , 12, and 13). This means that the incident wave is not polarized at all.
  • the present invention can be used in an optical device, a medical device, or a security device.

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Abstract

　本発明は、テラヘルツ電磁波を偏光子により偏光させる新規な方法を提供する。偏光子は、サファイヤ単結晶層、およびＣａｘＣｏＯ２結晶層を具備し、ＣａｘＣｏＯ２結晶層は、サファイヤ単結晶層上に積層されており、ＣａｘＣｏＯ２結晶層の表面は（１００）の面方位を有し、ＣａｘＣｏＯ２結晶層は、２マイクロメートル以上２０マイクロメートル以下の厚みを有する。本発明の方法は、０．１ＴＨｚ以上０．８ＴＨｚ以下の周波数を有する電磁波を偏光子に照射し、サファイヤ単結晶層のｃ軸方向に平行な成分のみを有する出力波を出射する。

Description

偏光子を用いてテラヘルツ電磁波を偏光させる方法、および偏光子
　本発明は、偏光子を用いてテラヘルツ電磁波を偏光させる方法に関する。
　テラヘルツ電磁波とは、０．１ＴＨｚ以上の周波数を有する電磁波である。特許文献１、非特許文献１、および非特許文献２は、テラヘルツ電磁波を偏光させる方法を開示している。
特開２００９－５２９２０号公報
Ｉｔｓｕｎａｒｉ　Ｙａｍａｄａ　ｅｔ．　ａｌ．，　"Ｔｅｒａｈｅｒｔｚ　ｗｉｒｅ－ｇｒｉｄ　ｐｏｌａｒｉｚｅｒｓ　ｗｉｔｈ　ｍｉｃｒｏｍｅｔｅｒ－ｐｉｔｃｈ　Ａｌ　ｇｒａｔｉｎｇｓ"，　Ｏｐｔｉｃｓ　Ｌｅｔｔｅｒｓ，　（２００９），　Ｖｏｌ．　３４，　Ｎｏ．３，　ｐ．ｐ．　２７４－２７６ Ｌｅｉ　Ｒｅｎ　ｅｔ．　ａｌ．，　"Ｃａｒｂｏｎ　Ｎａｎｏｔｕｂｅ　Ｔｅｒａｈｅｔｚ　Ｐｏｌａｒｉｚｅｒ"，　Ｎａｎｏ　Ｌｅｔｔｅｒｓ，　（２００９），　Ｖｏｌ．　９，　Ｎｏ．　７，　ｐ．ｐ．　２６１０－２６１３ Ｂｒｉａｎ．　Ｌ．　Ｃｕｓｈｉｎｇ　ｅｔ．　ａｌ．，"Ｔｏｐｏｔａｃｔｉｃ　Ｒｏｕｔｅｓ　ｔｏ　Ｌａｙｅｒｅｄ　Ｃａｌｃｉｕｍ　Ｃｏｂａｌｔ　Ｏｘｉｄｅｓ"，　Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　ｓｏｌｉｄ　ｓｔａｔｅ　ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，　Ｖｏｌ．　１４１，　ｐａｇｅｓ　３８５－３９１　（１９９８） Ｈ．Ｘ．　Ｙａｎｇ　ｅｔ．　ａ；．，　"Ｓｔｒｕｃｔｕｒａｌ　ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ　ａｎｄ　ｃａｔｉｏｎ　ｏｒｄｅｒｉｎｇ　ｉｎ　ｌａｙｅｒｅｄ　ｈｅｘａｇｏｎａｌ　ＣａｘＣｏＯ２"，　Ｐｈｙｓｉｃａｌ　Ｒｅｖｉｅｗ，　Ｂ，　Ｖｏｌ．　７３，　０１４１０９－１　-　０１４１０９－６　（２００６）
　本発明の目的は、テラヘルツ電磁波を偏光子により偏光させる新規な方法を提供することである。
　以下の項目１－１０に係る本発明は、上記課題を解決する。
　１．　０．１ＴＨｚ以上０．８ＴＨｚ以下の周波数を有する電磁波を、偏光子を用いて偏光させる方法であって、以下を具備する：
　前記偏光子を用意する工程（ａ）、ここで
　　前記偏光子は以下を具備する：
　　サファイヤ単結晶層（１１）、および
　　ＣａｘＣｏＯ２結晶層（１２）、
　　前記ＣａｘＣｏＯ２結晶層（１２）は、前記サファイヤ単結晶層（１１）上に積層されており、
　　前記ＣａｘＣｏＯ２結晶層（１２）の表面は（１００）の面方位を有し、
　　前記ＣａｘＣｏＯ２結晶層（１２）は、２マイクロメートル以上２０マイクロメートル以下の厚みを有し、
　前記０．１ＴＨｚ以上０．８ＴＨｚ以下の周波数を有する電磁波を前記偏光子に照射し、前記サファイヤ単結晶層（１１）のｃ軸方向に平行な成分のみを有する出力波を出射する工程（ｂ）。
　２．　前記項目１に記載の方法であって、前記ＣａｘＣｏＯ２結晶層（１２）は、２マイクロメートル以上９マイクロメートル以下の厚みを有する。
　３．　前記項目１に記載の方法であって、前記ＣａｘＣｏＯ２結晶層（１２）は、２マイクロメートル以上４マイクロメートル以下の厚みを有する。
　４．　前記項目１に記載の方法であって、前記工程（ｂ）において、前記電磁波は前記サファイヤ単結晶層（１１）に照射され、前記出力波は前記ＣａｘＣｏＯ２結晶層（１２）から出射される。
　５．　前記項目１に記載の方法であって、前記工程（ｂ）において、前記電磁波は前記ＣａｘＣｏＯ２結晶層（１２）に照射され、前記出力波は前記サファイヤ単結晶層（１１）から出射される。
　６．　前記項目１に記載の方法であって、前記工程（ｂ）において、前記電磁波は前記偏光子の法線方向に沿って前記偏光子に照射される。
　７．　前記項目６に記載の方法であって、前記工程（ｂ）において、前記出力波は前記偏光子の法線方向に沿って前記偏光子から出射される。
　８．　偏光子であって、以下を具備する：
　　サファイヤ単結晶層（１１）、および
　　ＣａｘＣｏＯ２結晶層（１２）、ここで
　　前記ＣａｘＣｏＯ２結晶層（１２）は、前記サファイヤ単結晶層（１１）上に積層されており、
　　前記ＣａｘＣｏＯ２結晶層（１２）の表面は（１００）の面方位を有し、
　　前記ＣａｘＣｏＯ２結晶層（１２）は、２マイクロメートル以上２０マイクロメートル以下の厚みを有する。
　９．　前記項目８に記載の偏光子であって、前記ＣａｘＣｏＯ２結晶層（１２）は、２マイクロメートル以上９マイクロメートル以下の厚みを有する。
　１０．　前記項目８に記載の偏光子であって、前記ＣａｘＣｏＯ２結晶層（１２）は、２マイクロメートル以上４マイクロメートル以下の厚みを有する。
　本発明は、テラヘルツ電磁波を偏光子により偏光させる新規な方法を提供する。
図１は、実施形態によるテラヘルツ偏光子の断面図である。 図２は、実施形態による方法を概念的に示す図である。 図３は、表面にａ面方位を有するサファイア単結晶層に形成されたＣａｘＣｏＯ２結晶層（膜厚：０．１マイクロメートル）の透過率スペクトルを示す図である。 図４は、表面にａ面方位を有するサファイア単結晶層に形成されたＣａｘＣｏＯ２結晶層（膜厚：１マイクロメートル）の透過率スペクトルを示す図である。 図５は、表面にａ面方位を有するサファイア単結晶層に形成されたＣａｘＣｏＯ２結晶層（膜厚：２マイクロメートル）の透過率スペクトルを示す図である。 図６は、表面にａ面方位を有するサファイア単結晶層に形成されたＣａｘＣｏＯ２結晶層（膜厚：４マイクロメートル）の透過率スペクトルを示す図である。 図７は、表面にａ面方位を有するサファイア単結晶層に形成されたＣａｘＣｏＯ２結晶層（膜厚：６マイクロメートル）の透過率スペクトルを示す図である。 図８は、表面にａ面方位を有するサファイア単結晶層に形成されたＣａｘＣｏＯ２結晶層（膜厚：９マイクロメートル）の透過率スペクトルを示す図である。 図９は、表面にａ面方位を有するサファイア単結晶層に形成されたＣａｘＣｏＯ２結晶層（膜厚：１２マイクロメートル）の透過率スペクトルを示す図である。 図１０は、表面にａ面方位を有するサファイア単結晶層に形成されたＣａｘＣｏＯ２結晶層（膜厚：１６マイクロメートル）の透過率スペクトルを示す図である。 図１１は、表面にａ面方位を有するサファイア単結晶層に形成されたＣａｘＣｏＯ２結晶層（膜厚：２０マイクロメートル）の透過率スペクトルを示す図である。 図１２は、表面にａ面方位を有するサファイア単結晶層に形成されたＣａｘＣｏＯ２結晶層（膜厚：２５マイクロメートル）の透過率スペクトルを示す図である。 図１３は、表面にａ面方位を有するサファイア単結晶層に形成されたＣａｘＣｏＯ２結晶層（膜厚：３０マイクロメートル）の透過率スペクトルを示す図である。 図１４は、表面にｃ面方位を有するサファイア単結晶層に形成されたＣａｘＣｏＯ２結晶層（膜厚：０．１マイクロメートル）の透過率スペクトルを示す図である。 図１５は、表面にｃ面方位を有するサファイア単結晶層に形成されたＣａｘＣｏＯ２結晶層（膜厚：１マイクロメートル）の透過率スペクトルを示す図である。 図１６は、表面にｃ面方位を有するサファイア単結晶層に形成されたＣａｘＣｏＯ２結晶層（膜厚：２マイクロメートル）の透過率スペクトルを示す図である。 図１７は、表面にｃ面方位を有するサファイア単結晶層に形成されたＣａｘＣｏＯ２結晶層（膜厚：４マイクロメートル）の透過率スペクトルを示す図である。 図１８は、表面にｃ面方位を有するサファイア単結晶層に形成されたＣａｘＣｏＯ２結晶層（膜厚：６マイクロメートル）の透過率スペクトルを示す図である。 図１９は、表面にｃ面方位を有するサファイア単結晶層に形成されたＣａｘＣｏＯ２結晶層（膜厚：９マイクロメートル）の透過率スペクトルを示す図である。 図２０は、表面にｃ面方位を有するサファイア単結晶層に形成されたＣａｘＣｏＯ２結晶層（膜厚：１２マイクロメートル）の透過率スペクトルを示す図である。 図２１は、表面にｃ面方位を有するサファイア単結晶層に形成されたＣａｘＣｏＯ２結晶層（膜厚：１６マイクロメートル）の透過率スペクトルを示す図である。 図２２は、表面にｃ面方位を有するサファイア単結晶層に形成されたＣａｘＣｏＯ２結晶層（膜厚：２０マイクロメートル）の透過率スペクトルを示す図である。 図２３は、表面にｃ面方位を有するサファイア単結晶層に形成されたＣａｘＣｏＯ２結晶層（膜厚：２５マイクロメートル）の透過率スペクトルを示す図である。 図２４は、表面にｃ面方位を有するサファイア単結晶層に形成されたＣａｘＣｏＯ２結晶層（膜厚：３０マイクロメートル）の透過率スペクトルを示す図である。
　以下、本発明の実施形態が、図面を参照しながら説明される。
　（実施形態）
　図１は、実施形態によるテラヘルツ偏光子（以下、単に「偏光子」という）の断面図を示す。偏光子は、板の形状を有する。偏光板は、サファイヤ単結晶層１１およびＣａｘＣｏＯ２結晶層１２を具備する。ＣａｘＣｏＯ２結晶層１２は、サファイヤ単結晶層１１の上に積層されている。ＣａｘＣｏＯ２結晶層１２およびサファイヤ単結晶層１１の間には、他の層が挟まれていないことが好ましい。
　図２は、実施形態において、偏光子を用いて電磁波を偏光させる方法を概略的に示す。
　電磁波は、０．１ＴＨｚ以上０．８ＴＨｚ以下の周波数を有する。
　電磁波１４は、入射波として偏光子に照射される。図２では、電磁波１４は、ＣａｘＣｏＯ２結晶層１２の表側の面に照射される。
　偏光子を通過した電磁波は、出力波１５として偏光子から出力される。図２では、出力波１５はサファイヤ単結晶層１１の裏側の面から出力される。これに代えて、電磁波１４はサファイヤ単結晶層１１の表側の面に照射され、かつ出力波１５はＣａｘＣｏＯ２結晶層１２の裏側の面から出力され得る。出力波１５は、サファイヤ単結晶層１１のｃ軸方向（図１中の矢印１６を参照）に平行な成分のみを有する。出力波１５は、他の成分を有しない。他の成分の例は、サファイヤ単結晶層１１のｃ軸方向に垂直な成分である。
　サファイヤ単結晶層１１は、（１１－２０）の面方位を有することが好ましい。
　ＣａｘＣｏＯ２結晶層１２の表面は、（１００）の面方位を有する。後述される比較例５～１５に実証されるように、表面が（００１）の面方位を有する場合には、入射光は偏光されない。
　ＣａｘＣｏＯ２結晶層１２の結晶性が保持される限り、ｘの値は限定されない。非特許文献３および非特許文献４によれば、ｘの好ましい値は、０．１５以上０．５５以下である。
　ＣａｘＣｏＯ２結晶層１２は、２マイクロメートル以上２０マイクロメートル以下の厚みを有する。後述される比較例１および２において実証されるように、厚みが２マイクロメートル未満である場合には、入射光は充分に偏光されない。すなわち、厚みが２マイクロメートル未満である場合には、サファイヤ単結晶層１１のｃ軸方向に垂直な成分が充分に除去されない。逆に、厚みが２０マイクロメートルを超える場合には、後述される比較例３および４において実証されるように、電磁波は偏光子を透過することが困難になる。従って、充分な強度を有する出力波１５が得られない。
　実施例１～４において実証されるように、ＣａｘＣｏＯ２結晶層１２は、２マイクロメートル以上９マイクロメートル以下の厚みを有することが好ましい。実施例１～２において実証されるように、ＣａｘＣｏＯ２結晶層１２は、２マイクロメートル以上４マイクロメートル以下の厚みを有することが好ましい。これは、サファイヤ単結晶層１１のｃ軸方向に垂直な成分が充分に除去され、かつサファイヤ単結晶層１１のｃ軸方向に平行な成分の透過率が高いからである。
　偏光子の表側の面および入射波の間に形成される角度は限定されない。入射波は、板の形状を有する偏光子の法線方向に沿って偏光子に入射されることが好ましい。
　（実施例）
　以下の実施例は本発明をより詳細に説明する。
　（実施例１）
　（偏光子の作成）
　（１１－２０）面、すなわち、ａ面の面方位を表面に有するサファイヤ結晶基板に、ＣａｘＣｏＯ２結晶層が、高周波マグネトロンスパッタにより形成された。このサファイヤ結晶基板は、サファイヤ単結晶層１１として用いられた。
　より具体的には、この高周波マグネトロンスパッタでは、１：１のＣａ：Ｃｏモル比を有する混合物ターゲットが用いられた。
　最初に、成膜チャンバー内の気体が排気され、成膜チャンバーの内部が１．０×１０－３未満の圧力を有するようにした。
　次に、アルゴン（体積比：９６％）および酸素（体積比：４％）の混合ガスが導入されながら、ヒーターによりサファイヤ単結晶層が加熱された。次いで、２マイクロメートルの厚みを有するＣａｘＣｏＯ２結晶層１２が、高周波マグネトロンスパッタによりサファイヤ単結晶層１１上に形成され、（１００）の面方位を表面に有するＣａｘＣｏＯ２結晶層１２を形成した。このようにして、実施例１による偏光子が得られた。
　高周波マグネトロンスパッタの条件が以下、記述される。
　　成膜チャンバー内の圧力：５Ｐａ
　　サファイヤ結晶基板の温度：４５０℃
　　ＲＦパワー：１００Ｗ
　ＣａｘＣｏＯ２結晶層１２が形成された後、偏光子は、６０分かけて５Ｐａの圧力下で室温まで冷却された。
　ＣａｘＣｏＯ２結晶層１２に含まれる陽イオンの組成比が、エネルギー分散型Ｘ線分析装置を用いて測定された。その結果、Ｃａ：Ｃｏの組成比は、おおよそ１：２、すなわち、ｘ＝０．５であった。
　（入射波の照射）
　得られた偏光子は、図２に示されるように、電磁波出力器２１および電磁波受信器２２の間に配置された。
　電磁波出力器２１は、ｄｉｐｏｌｅ－ｔｙｐｅの低温成長ＧａＡｓの光伝導アンテナ（浜松ホトニクス株式会社より入手）である。この光伝導アンテナは、Ｔｉ：Ｓａｐｐｈｉｒｅレーザーで励起された。
　電磁波受信器２２は、Ｂｏｗｔｉｅ－ｔｙｐｅの低温成長ＧａＡｓの光伝導アンテナ（浜松ホトニクス株式会社より入手）であった。
　周波数が０．１ＴＨｚから０．８ＴＨｚに変化されながら、電磁波出力器２１から電磁波が出射された。
　出射された電磁波は、直線偏光したパルス状の電磁波であった。
　電磁波は、偏光子の法線方向からＣａｘＣｏＯ２結晶層１２の表側の面に入射された。
　電磁波は、サファイヤ単結晶層１１の裏側の面から出力波１５として出射された。サファイヤ単結晶層１１のｃ軸方向に平行な光の成分が、電磁波受信器２２により受信された。この光は、出力波１５に含まれていた。同様に、サファイヤ単結晶層１１のｃ軸方向に垂直な光の成分も、電磁波受信器２２により受信された。
　図５は、実施例１に従って電磁波受信器２２によって測定された透過率スペクトルを示す。
　図３～図１３において、黒い四角は、（１１－２０）面、すなわち、ａ面の面方位を表面に有するサファイヤ単結晶層１１のｃ軸方向に平行な光の成分の透過率を指し示す。図３～図１３において、白い丸は、（１１－２０）面、すなわち、ａ面の面方位を表面に有するサファイヤ単結晶層１１のｃ軸方向に垂直な光の成分の透過率を指し示す。
　透過率は、以下の式に従って算出された：
　透過率＝電磁波受信器２２により受信された出力波の強度／電磁波出力器２１から出力された電磁波の強度
　（実施例２）
　ＣａｘＣｏＯ２結晶層１２の厚みが４マイクロメートルであることを除き、実施例１と同様の実験が行われた。図６は実施例２において測定された透過率スペクトルを示す。
　（実施例３）
　ＣａｘＣｏＯ２結晶層１２の厚みが６マイクロメートルであることを除き、実施例１と同様の実験が行われた。図７は実施例３において測定された透過率スペクトルを示す。
　（実施例４）
　ＣａｘＣｏＯ２結晶層１２の厚みが９マイクロメートルであることを除き、実施例１と同様の実験が行われた。図８は実施例４において測定された透過率スペクトルを示す。
　（実施例５）
　ＣａｘＣｏＯ２結晶層１２の厚みが１２マイクロメートルであることを除き、実施例１と同様の実験が行われた。図９は実施例５において測定された透過率スペクトルを示す。
　（実施例６）
　ＣａｘＣｏＯ２結晶層１２の厚みが１６マイクロメートルであることを除き、実施例１と同様の実験が行われた。図１０は実施例６において測定された透過率スペクトルを示す。
　（実施例７）
　ＣａｘＣｏＯ２結晶層１２の厚みが２０マイクロメートルであることを除き、実施例１と同様の実験が行われた。図１１は実施例７において測定された透過率スペクトルを示す。
　（比較例１）
　ＣａｘＣｏＯ２結晶層１２の厚みが０．１マイクロメートルであることを除き、実施例１と同様の実験が行われた。図３は比較例１において測定された透過率スペクトルを示す。
　（比較例２）
　ＣａｘＣｏＯ２結晶層１２の厚みが１マイクロメートルであることを除き、実施例１と同様の実験が行われた。図４は比較例２において測定された透過率スペクトルを示す。
　（比較例３）
　ＣａｘＣｏＯ２結晶層１２の厚みが２５マイクロメートルであることを除き、実施例１と同様の実験が行われた。図１２は比較例３において測定された透過率スペクトルを示す。
　（比較例４）
　ＣａｘＣｏＯ２結晶層１２の厚みが３０マイクロメートルであることを除き、実施例１と同様の実験が行われた。図１３は比較例４において測定された透過率スペクトルを示す。
　以下の表１は、実施例１～７および比較例１～４における平均透過率をまとめて示す。表１において、「ｃ軸平行平均透過率」とは、サファイヤ単結晶層１１のｃ軸方向に平行な光の成分の透過率の平均値を意味する。表１において、「ｃ軸垂直平均透過率」とは、サファイヤ単結晶層１１のｃ軸方向に垂直な光の成分の透過率の平均値を意味する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　表１から明らかなように、ＣａｘＣｏＯ２結晶層１２が２マイクロメートル以上２０マイクロメートル以下の厚みを有する場合には、ｃ軸平行平均透過率が０．２７以上であり、かつｃ軸垂直平均透過率が０．０８以下である。このことは、出力波１５はサファイヤ単結晶層１１のｃ軸方向に平行な成分のみを実質的に含むことを意味する。言い換えれば、サファイヤ単結晶層１１のｃ軸方向に垂直な成分が充分に除去されている。
　ｃ軸平行平均透過率を高めるためには、ＣａｘＣｏＯ２結晶層１２が２マイクロメートル以上９マイクロメートル以下の厚みを有することが好ましい。より好ましくは、ＣａｘＣｏＯ２結晶層１２が２マイクロメートル以上４マイクロメートル以下の厚みを有する。
　ＣａｘＣｏＯ２結晶層１２が１マイクロメートル以下の厚みを有する場合には、サファイヤ単結晶層１１のｃ軸方向に垂直な成分が充分に除去されない。
　ＣａｘＣｏＯ２結晶層１２が２０マイクロメートルを超える厚みを有する場合には、ｃ軸垂直平均透過率だけでなくｃ軸平行平均透過率までもが低減する。
　（比較例５～１５）
　比較例５～１５では、（１１－２０）面（すなわち、ａ面の面方位）を表面に有するサファイヤ結晶基板に代えて、（０００１）面（すなわちｃ面の面方位）を表面に有するサファイヤ結晶基板が用いられた。比較例５～１５では、（００１）面（すなわち、ｃ面の面方位）を表面に有するＣａｘＣｏＯ２結晶層１２が形成されたこと以外は、実施例１～７および比較例１～４と同様の実験が行われた。
　図１４～図２４において、黒い四角は、（０００１）面（すなわちｃ面の面方位）を表面に有するサファイヤ単結晶層１１のｘ軸方向に平行な光の成分の透過率を指し示す。図１４～図２４において、白い丸は、（０００１）面（すなわちｃ面の面方位）を表面に有するサファイヤ単結晶層１１のｙ軸方向に垂直な光の成分の透過率を指し示す。ｘ軸方向はｙ軸方向に直交することに留意せよ。表２は、比較例５～１５の結果を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
　表２から明らかなように、出力波１５は、サファイヤ単結晶層１１のｃ軸方向に平行な成分およびサファイヤ単結晶層１１のｃ軸方向に垂直な成分の両者を含む（比較例５、６、１２、および１３）。これは、入射波が全く偏光されていないことを意味する。
　比較例７～１５では、出力波１５そのものが出力されなかった。これは、ＣａｘＣｏＯ２層１２が厚すぎるためであった。
　本発明は、光学機器、医療機器、またはセキュリティ装置において用いられ得る。
　１１　　サファイヤ単結晶層
　１２　　ＣａｘＣｏＯ２結晶層
　１４　　電磁波
　１５　　出力波
　１６　　サファイヤ単結晶層１１のｃ軸方向
　２１　　電磁波出力器
　２２　　電磁波受信器

Claims (10)

  1. 　０．１ＴＨｚ以上０．８ＴＨｚ以下の周波数を有する電磁波を、偏光子を用いて偏光させる方法であって、以下を具備する：
    　前記偏光子を用意する工程（ａ）、
    　　ここで前記偏光子は以下を具備する：
    　　サファイヤ単結晶層、および
    　　ＣａｘＣｏＯ２結晶層、
    　　前記ＣａｘＣｏＯ２結晶層は、前記サファイヤ単結晶層上に積層されており、
    　　前記ＣａｘＣｏＯ２結晶層の表面は（１００）の面方位を有し、
    　　前記ＣａｘＣｏＯ２結晶層は、２マイクロメートル以上２０マイクロメートル以下の厚みを有し、
    　前記０．１ＴＨｚ以上０．８ＴＨｚ以下の周波数を有する電磁波を前記偏光子に照射し、前記サファイヤ単結晶層のｃ軸方向に平行な成分のみを有する出力波を出射する工程（ｂ）。
  2. 　前記ＣａｘＣｏＯ２結晶層は、２マイクロメートル以上９マイクロメートル以下の厚みを有する、請求項１に記載の方法。
  3. 　前記ＣａｘＣｏＯ２結晶層は、２マイクロメートル以上４マイクロメートル以下の厚みを有する、請求項１に記載の方法。
  4. 　前記工程（ｂ）において、前記電磁波は前記サファイヤ単結晶層に照射され、前記出力波は前記ＣａｘＣｏＯ２結晶層から出射される、請求項１に記載の方法。
  5. 　前記工程（ｂ）において、前記電磁波は前記ＣａｘＣｏＯ２結晶層に照射され、前記出力波は前記サファイヤ単結晶層から出射される、請求項１に記載の方法。
  6. 　前記工程（ｂ）において、前記電磁波は前記偏光子の法線方向に沿って前記偏光子に照射される、請求項１に記載の方法。
  7. 　前記工程（ｂ）において、前記出力波は前記偏光子の法線方向に沿って前記偏光子から出射される、請求項６に記載の方法。
  8. 　サファイヤ単結晶層、およびＣａｘＣｏＯ２結晶層を具備する偏光子であって、
    　　前記ＣａｘＣｏＯ２結晶層は、前記サファイヤ単結晶層上に積層されており、
    　　前記ＣａｘＣｏＯ２結晶層の表面は（１００）の面方位を有し、
    　　前記ＣａｘＣｏＯ２結晶層は、２マイクロメートル以上２０マイクロメートル以下の厚みを有する、偏光子。
  9. 　前記ＣａｘＣｏＯ２結晶層は、２マイクロメートル以上９マイクロメートル以下の厚みを有する、請求項８に記載の偏光子。
  10. 　前記ＣａｘＣｏＯ２結晶層は、２マイクロメートル以上４マイクロメートル以下の厚みを有する、請求項８に記載の偏光子。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111025449A (zh) * 2019-12-05 2020-04-17 中国石油大学(北京) 光学设备、太赫兹页岩偏振片及其制造方法

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013114863A1 (ja) * 2012-02-01 2013-08-08 パナソニック株式会社 偏光子を用いてテラヘルツ電磁波を偏光させる方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3760218A (en) * 1972-04-10 1973-09-18 Spectramat Inc Thermionic cathode
US6017655A (en) * 1998-08-18 2000-01-25 Ovonic Battery Company Nickel hydroxide positive electrode material exhibiting improved conductivity and engineered activation energy
US20100209816A1 (en) * 2009-02-17 2010-08-19 Samsung Electronics Co., Ltd. Fuel electrode material, method of preparing the fuel electrode material, and solid oxide fuel cell including the fuel electrode material
JP2011192857A (ja) * 2010-03-16 2011-09-29 Fujitsu Ltd 熱電変換装置

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3471799A (en) * 1964-11-04 1969-10-07 Hughes Aircraft Co Longitudinal mode controlled laser
US4772104A (en) * 1987-08-10 1988-09-20 Gte Laboratories Incorporated Achromatic tuner for birefringent optical filter
US6268962B1 (en) * 2000-01-13 2001-07-31 Raytheon Company Reeder rotator
US7382535B2 (en) * 2005-10-04 2008-06-03 The Boeing Company Wave plate and associated method
JP4234181B1 (ja) 2007-08-23 2009-03-04 株式会社村田製作所 ワイヤーグリッドおよびその製造方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3760218A (en) * 1972-04-10 1973-09-18 Spectramat Inc Thermionic cathode
US6017655A (en) * 1998-08-18 2000-01-25 Ovonic Battery Company Nickel hydroxide positive electrode material exhibiting improved conductivity and engineered activation energy
US20100209816A1 (en) * 2009-02-17 2010-08-19 Samsung Electronics Co., Ltd. Fuel electrode material, method of preparing the fuel electrode material, and solid oxide fuel cell including the fuel electrode material
JP2011192857A (ja) * 2010-03-16 2011-09-29 Fujitsu Ltd 熱電変換装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111025449A (zh) * 2019-12-05 2020-04-17 中国石油大学(北京) 光学设备、太赫兹页岩偏振片及其制造方法

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