WO2012143423A1 - Laservorrichtung mit einem gasgespülten laserresonator - Google Patents

Laservorrichtung mit einem gasgespülten laserresonator Download PDF

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WO2012143423A1
WO2012143423A1 PCT/EP2012/057129 EP2012057129W WO2012143423A1 WO 2012143423 A1 WO2012143423 A1 WO 2012143423A1 EP 2012057129 W EP2012057129 W EP 2012057129W WO 2012143423 A1 WO2012143423 A1 WO 2012143423A1
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WO
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purge gas
laser
laser resonator
gas circuit
pressure generator
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Sven SCHAD
Lutz Schuler
Jürgen MÖSSNER
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Trumpf Laser GmbH
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Trumpf Laser GmbH
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    • H01S3/23—Arrangements of two or more lasers not provided for in groups H01S3/02 - H01S3/22, e.g. tandem arrangements of separate active media

Definitions

  • the invention relates to a laser device with at least one gas-purged laser resonator, which is arranged in a purge gas circuit, which upstream of the laser resonator both a low pressure generator for generating a purge gas overpressure in the purge gas cycle and between the low pressure generator and the laser resonator cleaning means for cleaning having the purge gas.
  • Such a laser device with a gas-purged laser resonator has become known, for example, from US 2003/0227957 A1.
  • lasers with high power and good beam quality are required, which have high stability over a long period of time.
  • One possible source that can lead to instabilities in laser operation are impurities (particles, moisture, organic compounds) in the laser device. Impurities in the laser resonator and in the pumping unit may settle on components such as mirrors, leading to wear or disturbances such that the beam quality or power decreases during operation. This can be prevented or minimized by a gas purging of the laser resonator and the pump unit.
  • Conventional gas flushing consists in a first variant of a compressor and a membrane dryer for air treatment and are usually designed for a significantly higher flow rate.
  • purge gas is sucked in from the environment via an air treatment unit, processed and passed through the laser resonator and the pump unit and finally released back to the environment.
  • the purge gas is continuously tracked from the environment and must therefore also be continuously cleaned.
  • the disadvantage is that the components are expensive and susceptible to wear.
  • purge gas is made from bottles of defined quality, e.g. Nitrogen, used. This is permanently out of the bottle
  • a laser resonator with gas purging is known.
  • This system consists of a closed housing (laser resonator) from which gas is sucked in a first step.
  • This gas contains impurities such as, e.g. Water vapor, organic compounds and small particles.
  • the gas is passed in a second step through a treatment system in which the purification takes place in different stages in the following order: first, the gas passes through a first medium, e.g. Silica gel to the
  • the laser device known from the aforementioned US 2003/0227957 A1 comprises a laser resonator which is replaced by a purge gas, such as e.g. Air, is rinsed.
  • a purge gas such as e.g. Air
  • the purge gas is guided in a closed circuit, in which cleaning means are provided for purifying the purge gas, wherein the purge gas pressure in the laser resonator is maintained at ambient pressure.
  • Gas flushing system flooded with nitrogen to remove existing contaminants and reduce the oxygen content, and then rinsed with the purge gas.
  • Laser components can settle without first being filtered out of the purge gas, whereby the stability of the laser operation can be impaired.
  • the gas purging is carried out with a purge gas circuit having an outside air intake to compensate for leakage in the purge gas cycle.
  • This purge gas circuit is operated downstream of the low pressure generator to upstream of the intake port at a slight overpressure and at a defined leak rate.
  • a maximum leak rate is defined for all components in the purge gas cycle.
  • a defined, but low leakage rate covers manufacturing tolerances and leads to a correspondingly long service life of the desiccant supply and the filter for particles and organic substances in the purge gas cycle.
  • an overpressure is always ensured in the laser resonator and in the pump unit.
  • the invention also relates to a method for rinsing a laser resonator of a laser device designed as described above with the following method step:
  • FIG. 1 shows schematically a laser device with the purge gas cycle according to the invention.
  • the laser device 1 shown comprises a gas-purged laser resonator 2 with a solid-state laser medium 6 provided therein for generating a laser beam 3, a gas-purged pump unit 4 for optically pumping the laser resonator 2 and a closed purge gas circuit 10, in which the laser resonator 2 and the pump unit 4 are arranged ,
  • the pumping light generated by the pump unit 4 is denoted by 5.
  • the purge gas guided in the purge circuit 10 is air and serves to purge the laser resonator 2 and the pump unit 4 in order to reduce impurities present therein (particles, moisture, organic compounds).
  • the purge gas circuit 10 Upstream of the laser resonator 2, the purge gas circuit 10 both a low pressure generator 11 for generating a purge gas in the purge gas circulation 10 and between the low pressure generator 11 and the laser resonator 2, a cleaning device 12, 13 for purifying the purge gas circulating in the purge gas circuit 10 A on.
  • air can be used as purge gas, but gases with a different composition are also conceivable.
  • the example designed as a fan / fan low pressure generator 1 is used to generate an overpressure in the range of about 100 Pa to 5500 Pa in Spülgasniklauf 10.
  • the cleaning device may have a desiccant 2, for example zeolite or silica gel, for separating contained in the purge gas A water vapor.
  • the cleaning device may also comprise a multi-stage particulate filter 13a, an activated carbon filter 13b for purifying organic constituents and a final ultrafine filter 13c.
  • filters such as a combination of UV-LED and molecular sieve, or a cold trap can be used to purify the organic constituents.
  • Additional particulate filters (fine filters) 14 may optionally be used immediately upstream and downstream of the laser resonator 2 and the pump unit 3. Thus, particular suppressed a particle contamination on the way from the micro-filter 13 c to the resonator 2.
  • the purge gas circuit 10 between the pump unit 4 and the low pressure generator 1 1 Downstream of the laser resonator 2, the purge gas circuit 10 between the pump unit 4 and the low pressure generator 1 1 to an open 15 to the atmosphere intake 16, which serves the personallyluftansaugung to compensate for leakage in the purge gas circulation 10.
  • the purge gas pressure pi generated by the low pressure generator 1 1 is greater than the atmospheric air pressure p 0 .
  • a purge gas leakage loss occurring between the low pressure generator 1 1 downstream to the intake port 16 leads to a negative pressure p 2 between the intake port 16 and the low pressure generator 11 relative to the atmospheric air pressure p 0 (P2 ⁇ Po) and is automatically compensated by ambient air A, which is sucked in through the suction opening 16 due to this negative pressure p 2 .
  • the system In order to preclude increased contamination in the laser resonator 2 by unpurified air which is forced into the purge gas circuit 10 from the outside, the system is operated at a slight overpressure and at a defined leak rate. A leak rate of at most 10% per pass through the laser system has proven to be particularly advantageous. Due to the leakage in the laser device 1 and the pressure increase by the low pressure generator 1 1 air is automatically fed through the suction port 16 to the purge gas cycle 10. Thus, the amount of suction corresponding to the leakage rate in the purge gas circuit 10 itself without elaborate control units on valves.
  • Gas purge circuits with a plurality of gas-purged laser resonators arranged in series or parallel to one another and with a plurality of gas-purged pump units arranged in series or parallel to one another are also conceivable.
  • a throughput in the range of 5- 00 liters per hour is used.
  • the laser device 1 comprises several laser resonators 2 or pump units 4, the gas consumption can increase accordingly.
  • a throttle 17 may be mounted upstream of the intake port 16 for system compensation to reduce production-related throughput fluctuations of the purge gas and with respect to its Spülgas carefullysaizes under defenceiiche laser resonators with the same purge gas circulation 10 to operate.
  • the laser resonator 2 When the laser device 1 is switched on, the laser resonator 2 should be purged for a certain period of time in order to ensure that the contaminants which have accumulated during the service life, in particular moisture, have been expelled from the purge gas circuit 10.
  • the purge gas cycle 10 is operated with an increased gas flow for the period of the start phase, ie before the laser operation. This can be controlled via the low-pressure generator 1 1.
  • a gas flow which corresponds to a multiple of normal operation is used.
  • a range of 5 to 20 times has proven to be advantageous.
  • gas purging is not required over the entire laser service life. This allows a targeted switching off and on of the purge gas cycle 10 regardless of the laser operation.
  • the intermittent switching off and on is regulated at the low-pressure generator 11. It can be switched on and off again after a defined period of time or it can be controlled via one or more sensors (eg humidity sensors).
  • a pre-filter could also be installed between the suction opening 16 and the desiccant 12 and the filter 13c could be omitted at the filter stage 13.

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Abstract

Bei einer Laservorrichtung (1) mit mindestens einem gasgespülten Laserresonator (2), der in einem Spülgaskreislauf (10) angeordnet ist, welcher stromaufwärts des Laserresonators (2) sowohl einen Niederdruckerzeuger (11) zur Erzeugung eines Spülgasüberdrucks im Spülgaskreislauf (10) als auch zwischen dem Niederdruckerzeuger (11) und dem Laserresonator (2) eine Reinigungseinrichtung (12, 13) zum Reinigen des Spülgases (A) aufweist, wobei das Spülgas (A) Luft ist, weist erfindungsgemäß der Spülgaskreislauf (10) stromabwärts des Laserresonators (2) zwischen dem Laserresonator (2) und dem Niederdruckerzeuger (11) eine permanent zur Atmosphäre (15) offene Ansaugöffnung (16) auf, wobei der vom Niederdruckerzeuger (11) erzeugte Spülgasdruck (p1) größer ist als der Atmosphärenluftdruck (p0).

Description

Laservorrichtung mit einem gasgespülten Laserresonator Die Erfindung betrifft eine Laservorrichtung mit mindestens einem gasgespülten Laserresonator, der in einem Spülgaskreislauf angeordnet ist, welcher stromaufwärts des Laserresonators sowohl einen Niederdruckerzeuger zur Erzeugung eines Spülgasüberdrucks im Spülgaskreislauf als auch zwischen dem Niederdruckerzeuger und dem Laserresonator eine Reinigungseinrich- tung zum Reinigen des Spülgases aufweist.
Eine derartige Laservorrichtung mit einem gasgespülten Laserresonator ist beispielsweise durch die US 2003/0227957 A1 bekannt geworden. In der Materialbearbeitung werden Laser mit hoher Leistung und guter Strahlqualität benötigt, welche über einen langen Zeitraum eine hohe Stabilität aufweisen. Eine mögliche Quelle, die zu Instabilitäten im Laserbetrieb führen kann, sind Verunreinigungen (Partikel, Feuchte, organische Verbindungen) in der Laservorrichtung. Verunreinigungen können sich im Laserresonator und in der Pumpeinheit auf Komponenten, wie z.B. Spiegeln, absetzen und zu Verschleiß führen oder Störungen bilden, so dass die Strahlqualität oder die Leistung während des Betriebs abnimmt. Dies kann durch eine Gasspülung des Laserresonators und der Pumpeinheit verhindert bzw. minimiert werden.
Konventionelle Gasspülungen bestehen in einer ersten Variante aus einem Kompressor und einem Membrantrockner zur Luftaufbereitung und sind üblicherweise für einen deutlich höheren Volumenstrom ausgelegt. Hierbei wird aus der Umgebung Spülgas über eine Luftaufbereitungseinheit angesaugt, aufbereitet und durch den Laserresonator und die Pumpeinheit geleitet und am Ende wieder an die Umgebung abgegeben. Das Spülgas wird permanent aus der Umgebung nachgeführt und muss daher ebenfalls fortlaufend gereinigt werden. Nachteilig ist, dass die Komponenten teuer und verschleißanfällig sind.
In einer zweiten Variante wird Spülgas aus Flaschen mit definierter Qualität, z.B. Stickstoff, verwendet. Dieses wird permanent aus der Flasche
nachgeführt, aufbereitet, durch den Laserresonator und die Pumpeinheit geleitet und am Ende wieder an die Umgebung abgegeben.
Aus der US 2003/0007537 A1 ist ein Laserresonator mit Gasspülung bekannt. Dieses System besteht aus einem geschlossenen Gehäuse (Laserresonator), aus dem Gas in einem ersten Schritt angesaugt wird. Dieses Gas enthält Verunreinigungen wie, z.B. Wasserdampf, organische Verbindungen und kleine Partikelchen. Um diese Verunreinigungen zu entfernen, wird das Gas in einem zweiten Schritt durch ein Aufbereitungssystem geführt, in dem die Reinigung in verschiedenen Stufen mit folgender Reihenfolge erfolgt: als erstes durchläuft das Gas ein erstes Medium, z.B. Silicagel, um den
Waserdampf zu filtern, danach passiert das Gas einen organischen Filter. Abschließend folgt ein Partikelfilter, der zur Abscheidung von Partikeln dient. Das gereinigte Gas wird dann in einem dritten Schritt wieder dem
geschlossenen Gehäuse (Laserresonator) zugeführt. Das ganze System wird bei Umgebungsdruck betrieben. Desweiteren sieht das System eine
Regeneration des Wasserdampffilters mit trockenem Gas vor, welches über eine separate Leitung dem Filter zu- und vom Filter abgeführt werden kann.
Die aus der eingangs genannten US 2003/0227957 A1 bekannte Laservorrichtung umfasst einen Laserresonator, der durch ein Spülgas, wie z.B. Luft, gespült wird. Das Spülgas wird in einem geschlossenen Kreislauf geführt, in dem auch Reinigungseinrichtungen zum Reinigen des Spülgases vorgesehen sind, wobei der Spülgasdruck im Laserresonator bei Umgebungsdruck gehalten wird. Vor dem eigentlichen Laserbetrieb wird das gesamte
Gasspülungssystem mit Stickstoff geflutet, um darin vorhandene Kontaminati- onen zu entfernen und den Sauerstoffgehalt zu reduzieren, und danach mit dem Spülgas gespült.
Ein Nachteil dieser bekannten Gasspülungssysteme besteht darin, dass sie bei Umgebungsdruck betrieben werden. Ein geschlossenes Gehäuse hermetisch abzudichten, ist eine große Herausforderung und nicht immer umsetzbar. So können bei einer Undichtigkeit aus der Umgebung
Verunreinigungen in das Gasspülungssystem gelangen, die sich auf
Laserkomponenten absetzen können, ohne vorher aus dem Spülgas gefiltert zu werden, wodurch die Stabilität des Laserbetriebs beeinträchtigt werden kann.
Demgegenüber ist es die Aufgabe der Erfindung, eine Laservorrichtung mit einem gasgespülten Laserresonator dahingehend weiterzubilden, dass möglichst keine Verunreinigungen aus der Umgebung in die Gasspülung gelangen können.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch eine Laservorrichtung mit den Merkmalen von Patentanspruch 1 gelöst. Erfindungsgemäß erfolgt die Gasspülung mit einem Spülgaskreislauf, der eine Außenluftansaugung zum Ausgleich von Leckverlusten im Spülgaskreislauf aufweist. Dieser Spülgaskreislauf wird stromabwärts des Niederdruckerzeugers bis stromaufwärts der Ansaugöffnung bei einem leichten Überdruck und mit einer definierten Leckrate betrieben. Für alle Komponenten im Spülgaskreislauf ist eine maximale Leckrate definiert. Eine definierte, aber geringe Leckrate deckt Fertigungstoleranzen ab und führt zu einer entsprechend langen Standzeit des Trockenmittelvorrats und des Filters für Partikel und organische Stoffe im Spülgaskreislauf. Gleichzeitig wird immer ein Überdruck im Laserresonator und in der Pumpeinheit gewährleistet. Durch den Einsatz einer Drossel im Rücklauf stromaufwärts der Ansaugöffnung kann die Kreislaufluftmenge feinjustiert werden. Das aufgrund der Leckrate fehlende Spülgas wird dem Spülgaskreislauf automatisch über die nach außen drucklos offene Spülgasansaugung wieder zugeführt. Durch den Überdruck stromaufwärts der Drossel und dem Ausgangsfilter des letzten Verbrauchers ist gewährleistet, dass keine Verunreinigungen aus der Umgebung in das System gelangen können. So kann ein stabiler Laserbetrieb und eine lange Lebensdauer des Spülsystems gewährleistet werden. Die Erfindung betrifft in einem weiteren Aspekt auch ein Verfahren zum Spülen eines Laserresonators einer wie oben ausgebildeten Laservorrichtung mit folgendem Verfahrensschritt:
Ausgleichen eines zwischen dem Niederdruckerzeuger stromabwärts bis zu der Ansaugöffnung auftretenden Spülgas-Leckageverlusts durch Umgebungs- luft, die aufgrund des zwischen der Ansaugöffnung und dem Niederdruckerzeuger gegenüber dem Atmosphärenluftdruck herrschenden Unterdrucks über die Ansaugöffnung angesaugt wird.
Weitere Vorteile der Erfindung ergeben sich aus der Beschreibung und der Zeichnung. Ebenso können die vorstehend genannten und die noch weiter aufgeführten Merkmale je für sich oder zu mehreren in beliebigen Kombinationen Verwendung finden. Die gezeigte und beschriebene Ausführungsform ist nicht als abschließende Aufzählung zu verstehen, sondern hat vielmehr beispielhaften Charakter für die Schilderung der Erfindung. Die einzige Fig. 1 zeigt schematisch eine Laservorrichtung mit dem erfindungsgemäßen Spülgaskreislauf. Die gezeigte Laservorrichtung 1 umfasst einen gasgespülten Laserresonator 2 mit einem darin vorgesehenen Festkörper-Lasermedium 6 zum Erzeugen eines Laserstrahls 3, eine gasgespülte Pumpeinheit 4 zum optischen Pumpen des Laserresonators 2 sowie einen geschlossenen Spülgaskreislauf 10, in dem der Laserresonator 2 und die Pumpeinheit 4 angeordnet sind. Das von der Pumpeinheit 4 erzeugte Pumplicht ist mit 5 bezeichnet. Das im Spülkreislauf 10 geführte Spülgas ist Luft und dient zum Spülen des Laserresonators 2 und der Pumpeinheit 4, um darin vorhandene Verunreinigungen (Partikel, Feuchte, organische Verbindungen) zu reduzieren. Stromaufwärts des Laserresonators 2 weist der Spülgaskreislauf 10 sowohl einen Niederdruckerzeuger 11 zur Erzeugung eines Spülgasüberdrucks im Spülgaskreislauf 10 als auch zwischen dem Niederdruckerzeuger 11 und dem Laserresonator 2 eine Reinigungseinrichtung 12, 13 zum Reinigen des im Spülgaskreislauf 10 zirkulierenden Spülgases A auf. Als Spülgas kann bei- spielsweise Luft verwendet werden, aber auch Gase mit einer anderen Zusammensetzung sind denkbar. Der z.B. als Lüfter/Gebläse ausgebildete Niederdruckerzeuger 1 dient zur Erzeugung eines Überdrucks im Bereich von ca. 100 Pa bis 5500 Pa im Spülgaskreislauf 10. Die Reinigungseinrichtung kann ein Trockenmittel 2, z.B. Zeolith oder Silikatgel, zum Abscheiden von im Spülgas A enthaltenem Wasserdampf aufweisen. Um Partikel verschiedener Größe optimal zu filtern, kann die Reinigungseinrichtung außerdem einen mehrstufigen Partikelfilter 13a, einen Aktivkohlefilter 13b zur Reinigung von organischen Bestandteilen und einen abschließenden Feinstfilter 13c aufweisen. Alternativ oder zusätzlich können auch andere Filter, wie z.B. eine Kom- bination aus UV-LED und Molekularsieb, oder eine Kältefalle zur Reinigung der organischen Bestandteile verwendet werden. Zusätzliche Partikelfilter (Feinfilter) 14 können optional unmittelbar stromaufwärts und -abwärts des Laserresonators 2 und der Pumpeinheit 3 zum Einsatz kommen. So wird ins- besondere eine Partikelverunreinigung auf dem Weg vom Feinstfilter 13c zum Resonator 2 unterdrückt.
Stromabwärts des Laserresonators 2 weist der Spülgaskreislauf 10 zwischen der Pumpeinheit 4 und dem Niederdruckerzeuger 1 1 eine zur Atmosphäre 15 offene Ansaugöffnung 16 auf, die der Außenluftansaugung zum Ausgleich von Leckverlusten im Spülgaskreislauf 10 dient. Der vom Niederdruckerzeuger 1 1 erzeugte Spülgasdruck pi ist größer als der Atmosphärenluftdruck p0. Ein zwischen dem Niederdruckerzeuger 1 1 stromabwärts bis zu der Ansaug- Öffnung 16 auftretender Spülgas-Leckageverlust führt zwischen der Ansaugöffnung 16 und dem Niederdruckerzeuger 1 1 zu einem Unterdruck p2 gegenüber dem Atmosphärenluftdruck p0 (P2<Po) und wird automatisch durch Umgebungsluft A ausgeglichen, die aufgrund dieses Unterdrucks p2 über die Ansaugöffnung 16 angesaugt wird.
Um eine erhöhte Verunreinigung im Laserresonator 2 durch von außen in den Spülgaskreislauf 10 dringende ungereinigte Luft auszuschließen, wird das System bei leichtem Überdruck und mit einer definierten Leckrate betrieben. Eine Leckrate von maximal 10% je Durchlauf durch das Lasersystem hat sich als besonders vorteilhaft erwiesen. Durch die Leckverluste in der Laservorrichtung 1 und die Druckerhöhung durch den Niederdruckerzeuger 1 1 wird Luft automatisch über die Ansaugöffnung 16 dem Spülgaskreislauf 10 zugeführt. So stellt sich die Ansaugmenge entsprechend der Leckrate im Spülgaskreislauf 10 selber ein ohne aufwändige Steuereinheiten an Ventilen.
Es sind auch Gasspülkreisläufe mit mehreren in Reihe oder parallel zueinander angeordneten gasgespülten Laserresonatoren und mit mehreren in Reihe oder parallel zueinander angeordneten gasgespülten Pumpeinheiten denkbar. Während des Normalbetriebs der Gasspülung wird mit einem Durchsatz im Bereich von 5- 00 Liter pro Stunde gearbeitet. Umfasst die Laservornchtung 1 mehrere Laserresonatoren 2 oder Pumpeinheiten 4, kann sich der Gasverbrauch entsprechend erhöhen. Optional kann eine Drossel 17 zum Systemausgleich stromaufwärts der Ansaugöffnung 16 angebracht sein, um fertigungsbedingte Durchsatzschwankungen des Spülgases sowie bezüglich ihres Spülgasdurchsaizes unterschiediiche Laserresonatoren mit dem gleichen Spülgaskreislauf 10 bedienen zu können.
Beim Anschalten der Laservorrichtung 1 sollte der Laserresonator 2 eine zeit- lang gespült werden, um sicher zu stellen, dass die Verunreinigungen, die sich während der Standzeit angesammelt haben, insbesondere Feuchtigkeit, aus dem Spülgaskreislauf 10 verdrängt sind. Um die Startphase des Laserbetriebs zu verkürzen, kann mit einem Boostbetrieb gearbeitet werden. Dieser ermöglicht ein schnelleres, effizienteres Spülen der Laservorrichtung 1 , um so schneller die gewünschten Bedingungen in der Laservorrichtung 1 beim Einschaltvorgang zu erreichen. Hierbei wird für den Zeitraum der Startphase, also vor dem Laserbetrieb, der Spülgaskreislauf 10 mit einem erhöhten Gas- fluss betrieben. Dieser lässt sich über den Niederdruckerzeuger 1 1 steuern. Vorteilhaft wird hierbei ein Gasfluss, der ein Vielfaches des Normalbetriebs entspricht, verwendet. Ein Bereich von 5 bis 20-fach hat sich als vorteilhaft erwiesen. Um negative Einflüsse durch Gasströmungen im Spülgaskreislauf 10 zu unterbinden sowie um mit einem minimalen Spülgasverbrauch (Ausstoß an den Lecks) auszukommen und so die Lebensdauer des Systems zu erhöhen, wird während des Laserbetriebs mit einem geringeren Gasfluss im Spül- gaskreislauf 10 gearbeitet.
Es hat sich auch gezeigt, dass die Gasspülung nicht über die gesamte Laserbetriebsdauer benötigt wird. Dies ermöglicht ein gezieltes Aus- und Anschalten des Spülgaskreislaufs 10 unabhängig vom Laserbetrieb. Das intermittie- rende Aus- und Anschalten wird am Niederdruckerzeuger 1 1 geregelt. Er kann zeitgesteuert nach einem definierten Zeitraum ab und wieder angeschaltet werden oder aber über ein oder mehrere Sensoren (z. B. Feuchtesensoren) geregelt werden. Alternativ könnte auch zwischen der Ansaugöffnung 16 und dem Trockenmittel 12 ein Vorfilter eingebaut sein und bei der Filterstufe 13 der Filter 13c wegfallen.

Claims

Patentansprüche
Laservorrichtung (1 ) mit mindestens einem gasgespülten Laserresonator (2), der in einem Spülgaskreislauf (10) angeordnet ist, welcher stromaufwärts des Laserresonators (2) sowohl einen Niederdruckerzeuger (1 1) zur Erzeugung eines Spülgasüberdrucks im Spülgaskreislauf (10) als auch zwischen dem Niederdruckerzeuger (11) und dem Laserresonator (2) eine Reinigungseinrichtung (12, 13) zum Reinigen des Spülgases (A) aufweist, wobei das Spülgas (A) Luft ist,
dadurch gekennzeichnet,
dass der Spülgaskreislauf (10) stromabwärts des Laserresonators (2) zwischen dem Laserresonator (2) und dem Niederdruckerzeuger (1 1) eine permanent zur Atmosphäre (15) offene Ansaugöffnung (16) aufweist, wobei der vom Niederdruckerzeuger (11) erzeugte Spülgasdruck (pi) größer ist als der Atmosphärenluftdruck (po).
Laservorrichtung nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, dass die Reinigungseinrichtung ein Trockenmittel (12) zum Abscheiden von im Spülgas (A) enthaltenem Wasserdampf und/oder mindestens einen Partikelfilter (13) zum Filtern des Spülgases (A) aufweist.
Laservorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass der Spülgaskreislauf (10) unmittelbar stromaufwärts und/oder unmittelbar stromabwärts des Laserresonators (2) einen Partikelfilter (13) zum Filtern des Spülgases (A) aufweist.
Laservorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass der Spülgaskreislauf (10) stromaufwärts der Ansaugöffnung (16) eine Drossel (17) zwischen dem Laserresonator (2) und der Ansaugöffnung (16) aufweist.
5. Laservorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens eine gasgespülte Pumpeinheit (4) zum Pumpen des Laserresonators (2) in dem Spülgaskreislauf (10) angeordnet ist.
6. Laservorrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Pumpeinheit (4) im Spülgaskreislauf (10) stromabwärts des Laserresonators (2) zwischen dem Laserresonator (2) und der Ansaugöffnung (16) angeordnet ist.
7. Laservorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Leckrate des Spülgaskreislaufs (10) zwischen dem Niederdruckerzeuger (1 1 ) stromabwärts bis zur Ansaugöffnung (16) maximal 10% pro Durchlauf durch den Spülgaskreislauf (10) beträgt.
8. Laservorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass im Normalbetrieb des Spülgaskreislaufs (10) für jeden gasgespülfen Laserresonator (2) der Durchsatz ca. 5-100 Liter pro Stunde beträgt.
9. Laservorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass mehrere in Reihe oder parallel zueinander angeordnete gasgespülte Laserresonatoren (2) in dem Spülgaskreislauf (10) angeordnet sind.
10. Laservorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass mehrere in Reihe oder parallel zueinander angeordnete gasgespülte Pumpeinheiten (4) in dem Spülgaskreislauf (10) angeordnet sind.
1 . Verfahren zum Spülen eines Laserresonators (2) einer Laservorrichtung (1 ) nach einem der vorhergehenden Ansprüche mit einem Spül- gas (A),
gekennzeichnet durch:
Ausgleichen eines zwischen dem Niederdruckerzeuger (11) stromabwärts bis zu der Ansaugöffnung (16) auftretenden Spülgas- Leckageveriusts durch Umgebungsluft (A), die aufgrund des zwischen der Ansaugöffnung (16) und dem Niederdruckerzeuger
(1 1 ) gegenüber dem Atmosphärenluftdruck (p0) herrschenden Unterdrucks (p2) über die Ansaugöffnung (16) angesaugt wird.
12. Verfahren nach Anspruch 11 , dadurch gekennzeichnet, dass die
stromabwärts des Niederdruckerzeugers (1 ) bis stromaufwärts der Ansaugöffnung (16) vorhandene Leckrate des Spülgaskreislaufs (10) maximal 10% pro Durchlauf durch den Spülgaskreislauf (10) beträgt.
PCT/EP2012/057129 2011-04-20 2012-04-19 Laservorrichtung mit einem gasgespülten laserresonator Ceased WO2012143423A1 (de)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6235527B2 (ja) * 2015-05-14 2017-11-22 ファナック株式会社 結露の発生を予測する機能を備えたレーザ装置
US20170133813A1 (en) * 2015-11-09 2017-05-11 Transformation Point Technologies, LLC Lasing gas recycling
CN109570148A (zh) * 2018-11-08 2019-04-05 中国科学院半导体研究所 直连空压机的激光清洗一体机

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030007537A1 (en) 2001-07-09 2003-01-09 Yang Pang Closed-loop purging system for laser
US20030227957A1 (en) 2002-06-10 2003-12-11 Yang Pang Closed-loop purging system for laser
US20090141746A1 (en) * 2005-06-02 2009-06-04 Mitsubishi Electric Corporation Solid-state laser device
WO2010075254A2 (en) * 2008-12-22 2010-07-01 Ams Research Corporation Laser resonator

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030007537A1 (en) 2001-07-09 2003-01-09 Yang Pang Closed-loop purging system for laser
US20030227957A1 (en) 2002-06-10 2003-12-11 Yang Pang Closed-loop purging system for laser
US20090141746A1 (en) * 2005-06-02 2009-06-04 Mitsubishi Electric Corporation Solid-state laser device
WO2010075254A2 (en) * 2008-12-22 2010-07-01 Ams Research Corporation Laser resonator

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