WO2012093645A1

WO2012093645A1 - フィルタボックス、フィルタ装置、及び露光装置

Info

Publication number: WO2012093645A1
Application number: PCT/JP2011/080530
Authority: WO
Inventors: 公一桂; 司荻原; 恵二松浦; 佳成堀田; 孝志増川
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 2011-01-04
Filing date: 2011-12-29
Publication date: 2012-07-12
Anticipated expiration: 2013-07-04
Also published as: US20120170009A1; TW201238642A

Abstract

　ケミカルフィルタ（５１，５６）を保持する複数のフィルタボックスは、ケミカルフィルタ（５１）を保持し、側面に案内溝（５２）が設けられたフレーム（５０）を有する第１のフィルタボックス（３８）と、ケミカルフィルタ（５６）を保持し、側面に案内溝（５７）が設けられたフレーム（５５）を有する第２のフィルタボックス（４０）と、を備え、案内溝（５２）及び案内溝（５７）は、互いに幅及び深さの少なくとも一方が異なる。複数のフィルタの設置若しくは交換を効率的に、又は容易に位置決めできるように行うことができる。

Description

フィルタボックス、フィルタ装置、及び露光装置

関連出願の参照

　この出願は２０１１年１月４日に提出された米国仮特許出願第６１／４２９，５２９号の優先権の利益を主張し、その全ての開示を援用して本文の記載の一部とする。

発明の分野

　本発明は、例えば気体中の不純物等を除去するためのフィルタを保持するフィルタボックス、このフィルタボックスを備えるフィルタ装置、このフィルタ装置を備える露光装置、及びこの露光装置を用いるデバイス製造方法に関する。

発明の背景

　例えば半導体素子等の電子デバイス（マイクロデバイス）を製造するためのリソグラフィー工程で使用される露光装置において、高い露光精度（解像度及び位置決め精度等）を得るためには、照明光学系の照明特性及び投影光学系の結像特性を所定の状態に維持し、かつレチクル（又はフォトマスク等）、投影光学系、及びウエハ（又はガラスプレート等）が設置される空間を所定の環境に維持する必要がある。そのため、従来より、露光装置の照明光学系の一部、レチクルステージ、投影光学系、及びウエハステージ等を含む露光本体部は、箱型のチャンバ内に設置され、このチャンバ内に、所定温度に制御されて、かつ防塵フィルタを通過した清浄な気体（例えば空気）をダウンフロー方式及びサイドフロー方式で供給する空調装置が備えられている。

　また、露光装置では、近年の回路パターンの著しい微細化要求に対応すべく、露光光の短波長化が進められており、最近では、露光光としてＫｒＦエキシマレーザ（波長２４８ｎｍ）、及びさらにほぼ真空紫外域のＡｒＦエキシマレーザ（波長１９３ｎｍ）が使用されている。このような短波長の露光光を用いる場合、露光光が通過する空間（例えば、鏡筒の内部空間）内に微量な有機物のガス（有機系ガス）が存在すると、露光光の透過率が低下するとともに、露光光と有機系ガスとの反応によって、レンズエレメント等の光学素子の表面に曇り物質を生ずる恐れがある。さらに、チャンバ内に供給する気体からは、ウエハに塗布されたフォトレジスト（感光材料）と反応するアルカリ性物質のガス（アルカリ系ガス）等も除去することが望ましい。

　そこで、従来より、露光装置の空調装置の気体の取り込み部には、チャンバ内に供給される気体から有機系ガス及び／又はアルカリ系ガス等を除去するための複数のケミカルフィルタが設けられている（例えば、国際公開第２００４／１０８２５２号パンフレット）。

　従来の露光装置においては、複数のケミカルフィルタをケーシング内に位置決めしながら積み重ねていた。そのため、それらのケミカルフィルタを交換する際には、使用済みのケミカルフィルタを順次搬出してから、未使用のケミカルフィルタを互いに位置合わせしながら積み重ねて設置する必要があった。そのため、ケミカルフィルタの交換時間が長くなったり、複数のケミカルフィルタ間で位置ずれが生じ、ケミカルフィルタ間の気密性が低下したりする恐れがあった。

　さらに、露光装置においては、要求される露光精度の一層の向上に対応して、設置するケミカルフィルタの段数が増加しているため、ケミカルフィルタの交換を効率的に行う必要がある。

　本発明は、このような事情に鑑み、複数のフィルタの設置若しくは交換を効率的に、又は容易に位置決めできるように行うことを目的とする。

　第１の態様によれば、第１フィルタ及び第２フィルタを含む複数のフィルタを保持する複数のフィルタボックスが提供される。このフィルタボックスは、その第１フィルタを保持するとともに、少なくとも一方の側面に第１凹凸形成部が設けられた箱状の第１フレームを有する第１フィルタボックスと、その第２フィルタを保持するとともに、少なくとも一方の側面に第２凹凸形成部が設けられた箱状の第２フレームを有する第２フィルタボックスと、を備え、その第１凹凸形成部は、その第１フレームの上端と下端との間に配置され、かつその第１フレームの少なくとも一方の側面の側端に連通する第１凹部と、その第１凹部に連通し、かつその第１フレームの上端に向かって延びる第２凹部とを有し、その第２凹凸形成部は、その第２フレームの上端と下端との間に配置され、かつその第２フレームの少なくとも一方の側面の側端に連通する第３凹部と、その第３凹部に連通し、かつその第２フレームの上端に向かって延びる第４凹部とを有し、その第１凹部及びその第２凹部と、その第３凹部及びその第４凹部とは、互いに幅及び深さの少なくとも一方が異なるものである。

　第２の態様によれば、フィルタを収容するフィルタ装置が提供される。このフィルタ装置は、本発明のフィルタボックスと、そのフィルタボックスのその第１フレーム及びその第２フレームを収容する収容部と、を備え、その収容部は、その第１フレームのその第１凹部に係合してその第１フレームを支持するとともに、その第１フレームのその第２凹部に係合してその第１フレームの支持を解除する第１係合部と、その第２フレームのその第３凹部に係合してその第２フレームを支持するとともに、その第２フレームのその第４凹部に係合してその第２フレームの支持を解除する第２係合部と、を有するものである。

　第３の態様によれば、露光光でパターンを介して基板を露光する露光装置が提供される。この露光装置は、その基板を露光する露光本体部を収納するチャンバと、本発明のフィルタ装置と、そのチャンバの外部から取り込まれた気体をそのフィルタ装置を介してそのチャンバ内に送風する空調装置と、を備えるものである。

　また、第４の態様によれば、上記露光装置を用いて感光性基板を露光することと、その露光された感光性基板を処理することと、を含むデバイス製造方法が提供される。

第１の実施形態の露光装置の構成を示す一部が切り欠かれた図である。図１のフィルタ装置２６を示す斜視図である。（Ａ）は図２のフィルタ装置２６を示す一部が切り欠かれた正面図、（Ｂ）は図３（Ａ）中の軸部材４８Ａを示す拡大断面図である。（Ａ）は図３（Ａ）中のフィルタボックス３８を示す斜視図、（Ｂ）はフィルタボックス３８を示す側面図、（Ｃ）は図３（Ａ）中のフィルタボックス４０を示す斜視図、（Ｄ）はフィルタボックス４０を示す側面図である。（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、及び（Ｄ）はそれぞれフィルタボックス３８とケーシング２８との相対位置の変化を示す斜視図である。（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、及び（Ｄ）はそれぞれフィルタボックス４０とケーシング２８との相対位置の変化を示す斜視図である。第２の実施形態のフィルタ装置２６Ａを示す一部が切り欠かれた正面図である。電子デバイスの製造工程の一例を示すフローチャートである。

発明の好ましい具体例の説明

　［第１の実施形態］
　以下、第１の実施形態につき図１～図６を参照して説明する。
　図１は、本実施形態のスキャニングステッパーよりなる走査露光型の露光装置ＥＸを示す一部を切り欠いた図である。図１において、露光装置ＥＸは、露光光（露光用の照明光）ＥＬを発生する光源部２と、露光光ＥＬでレチクルＲ（マスク）を照明する照明光学系ＩＬＳと、レチクルＲを保持して移動するレチクルステージＲＳＴと、レチクルＲのパターンの像をフォトレジスト（感光材料）が塗布されたウエハＷ（基板）の表面に投影する投影光学系ＰＬとを備えている。さらに、露光装置ＥＸは、ウエハＷを保持して移動するウエハステージＷＳＴと、その他の駆動機構及びセンサ類等と、複数枚のレチクルを保管するレチクルライブラリ９と、複数枚の未露光及び／又は露光済みのウエハを保管するウエハカセット７と、露光装置ＥＸの動作を統括的に制御する主制御装置（不図示）とを備えている。これらの光源部２から主制御装置（不図示）までの部材は、例えば半導体デバイス製造工場のクリーンルーム内の第１の床ＦＬ１の上面に設置されている。

　また、露光装置ＥＸは、床ＦＬ１上に設置された箱状の気密性の高いチャンバ１０を備え、チャンバ１０の内部は、例えばシャッタ２４Ｒ及び２４Ｗで開閉される２つの開口を有する仕切り部材１０ｄによって、露光室１０ａとローダ室１０ｂとに区画されている。そして、露光室１０ａ内に、照明光学系ＩＬＳ、レチクルステージＲＳＴ、投影光学系ＰＬ、及びウエハステージＷＳＴを含む露光本体部４が設置され、ローダ室１０ｂ内に、レチクルライブラリ９及びウエハカセット７をそれぞれ含むレチクルローダ系及びウエハローダ系が設置されている。

　また、露光装置ＥＸは、チャンバ１０の内部全体の空調を行うための全体空調システムを備えている。この全体空調システムは、第１の床ＦＬ１の階下の機械室の第２の床ＦＬ２の上面に設置されて、積み重ねられた複数のケミカルフィルタを有するフィルタ装置２６と、床ＦＬ２の上面に設置された空調本体部３１を有する空調装置３０と、露光室１０ａの上部に設置された大型の吹き出し口１８と、照明光学系ＩＬＳを収納するサブチャンバ２２の底面に配置された小型の吹き出し口１９Ｒと、投影光学系ＰＬの近傍に配置された小型の吹き出し口１９Ｗとを備えている。フィルタ装置２６は、配管２５を介して供給される空調用の気体である空気ＡＲから所定の不純物を除去し、不純物を除去した空気を矢印Ａ１で示すように第１ダクト３２を介して空調本体部３１に供給する（詳細後述）。

　空調装置３０は、第１ダクト３２と、空調本体部３１と、空調本体部３１とチャンバ１０の内部とを床ＦＬ１に設けられた開口を通して連結する第２ダクト３５と、例えば第２ダクト３５の途中に配置されて、内部を流れる空気から微小な粒子（パーティクル）を除去するＵＬＰＡフィルタ（Ultra Low Penetration Air-filter）等の防塵フィルタ３６とを備えている。ダクト３２，３５及び配管２５は、例えばステンレス鋼又はフッ素樹脂など、汚染物質の発生量の少ない材料を用いて形成されている。

　空調本体部３１は、第１ダクト３２を介して供給される空気の温度を制御する温度制御部３３Ａと、その空気の湿度を制御する湿度制御部３３Ｂと、その空気を第２ダクト３５側に送風するファンモータ３４とを備えている。その空気は、温度が２０℃～３０℃の範囲内の例えば２３℃に制御されて、第２ダクト３５及び吹き出し口１８を介して露光室１０ａの内部にダウンフロー方式で供給される。チャンバ１０の内部は、この空気の供給によって陽圧状態に設定される。また、第２ダクト３５内の空気は、分岐管３５ａ及び３５ｂと、対応する吹き出し口１９Ｗ及び吹き出し口１９Ｒとを介して露光室１０ａ内に供給される。露光室１０ａ内の空気の一部はローダ室１０ｂにも流入する。

　一例として、チャンバ１０の内部（露光室１０ａ）を流れた空気は、チャンバ１０の底面に設けられた多数の開口４５ａ及び床ＦＬ１に設けられた多数の開口４５ｂを通して床下の排気ダクト４４内に流れ、排気ダクト４４内の矢印ＡＺで示す空気は、不図示のフィルタを介して清浄化された後、排気される。なお、排気ダクト４４に流れた空気の全部又は一部を配管２５側に戻して再利用することも可能である。

　以下、図１において、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸに平行にＺ軸を取り、Ｚ軸に垂直な平面（本実施形態ではほぼ水平面に平行である）内で図１の紙面に垂直にＸ軸を、図１の紙面に平行にＹ軸を取って説明する。本実施形態では、走査露光時のレチクルＲ及びウエハＷの走査方向はＹ方向である。また、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸に平行な軸の回りの回転方向をθｘ、θｙ、θｚ方向とも呼ぶ。

　先ず、チャンバ１０の外側の床ＦＬ１上に設置された光源部２は、露光光ＥＬとしてＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）を発生する露光光源と、その露光光ＥＬを照明光学系ＩＬＳに導くビーム送光光学系とを備えている。光源部２の露光光ＥＬの射出端は、チャンバ１０の＋Ｙ方向の側面上部の開口を通して露光室１０ａ内に配置されている。なお、露光光源としては、ＫｒＦエキシマレーザ光源（波長２４８ｎｍ）などの紫外パルスレーザ光源、ＹＡＧレーザの高調波発生光源、固体レーザ（半導体レーザなど）の高調波発生装置、又は水銀ランプ（ｉ線等）なども使用できる。

　また、チャンバ１０内の上部に配置された照明光学系ＩＬＳは、例えば米国特許出願公開第２００３／００２５８９０号明細書などに開示されるように、オプティカルインテグレータ等を含む照度均一化光学系、レチクルブラインド、及びコンデンサ光学系等を備えている。照明光学系ＩＬＳは、レチクルブラインドで規定されたレチクルＲのパターン面のＸ方向に細長いスリット状の照明領域を露光光ＥＬによりほぼ均一な照度で照明する。

　レチクルＲに形成されたパターン領域のうち、照明領域内のパターンの像は、両側テレセントリックで投影倍率βが縮小倍率（例えば１／４）の投影光学系ＰＬを介してウエハＷの表面に結像投影される。
　また、チャンバ１０の露光室１０ａ内の床ＦＬ１上に、複数の台座１１を介して下部フレーム１２が設置され、下部フレーム１２の中央部に平板状のベース部材１３が固定され、ベース部材１３上に例えば３箇所の防振台１４を介して平板状のウエハベースＷＢが支持され、ウエハベースＷＢのＸＹ平面に平行な上面にエアベアリングを介してウエハステージＷＳＴがＸ方向、Ｙ方向に移動可能に、かつθｚ方向に回転可能に載置されている。また、下部フレーム１２の上端に、ウエハベースＷＢを囲むように配置された例えば３箇所の防振台１５を介して光学系フレーム１６が支持されている。光学系フレーム１６の中央部の開口に投影光学系ＰＬが配置され、光学系フレーム１６上に投影光学系ＰＬを囲むように上部フレーム１７が固定されている。

　また、光学系フレーム１６の底面の＋Ｙ方向の端部にＹ軸のレーザ干渉計２１ＷＹが固定され、その底面の＋Ｘ方向の端部にＸ軸のレーザ干渉計（不図示）が固定されている。これらの干渉計よりなるウエハ干渉計は、それぞれウエハステージＷＳＴの側面の反射面（又は移動鏡）に複数軸の計測用ビームを照射して、例えば投影光学系ＰＬの側面の参照鏡（不図示）を基準として、ウエハステージＷＳＴのＸ方向、Ｙ方向の位置、及びθｘ、θｙ、θｚ方向の回転角を計測し、計測値を主制御装置（不図示）に供給する。

　主制御装置（不図示）内のステージ制御系が、上記のウエハ干渉計の計測値及びオートフォーカスセンサ（不図示）の計測値等に基づいて、リニアモータ等を含む駆動機構（不図示）を介してウエハステージＷＳＴのＸ方向、Ｙ方向の位置及び速度とθｚ方向の回転角とを制御するとともに、ウエハＷの表面が投影光学系ＰＬの像面に合焦されるように、ウエハステージＷＳＴ内のＺステージ（不図示）を制御する。また、レチクルＲ及びウエハＷのアライメントを行うためのアライメント系ＡＬＧ等も設けられている。

　一方、上部フレーム１７の＋Ｙ方向の上部に、照明光学系ＩＬＳを収納するサブチャンバ２２が固定されている。さらに、上部フレーム１７のＸＹ平面に平行な上面にエアベアリングを介して、レチクルステージＲＳＴがＹ方向に定速移動可能に、かつＸ方向への移動及びθｚへの回転が可能に載置されている。
　また、上部フレーム１７の上面の＋Ｙ方向の端部にＹ軸のレーザ干渉計２１ＲＹが固定され、その上面の＋Ｘ方向の端部にＸ軸のレーザ干渉計（不図示）が固定されている。これらの干渉計よりなるレチクル干渉計は、それぞれレチクルステージＲＳＴに設けられた移動鏡２１ＭＹ等に複数軸の計測用ビームを照射して、例えば投影光学系ＰＬの側面の参照鏡（不図示）を基準として、レチクルステージＲＳＴのＸ方向、Ｙ方向の位置、及びθｚ、θｘ、θｙ方向の回転角を計測し、計測値を主制御装置（不図示）に供給する。

　主制御装置（不図示）内のステージ制御系は、そのレチクル干渉計の計測値等に基づいてリニアモータ等を含む駆動機構（不図示）を介してレチクルステージＲＳＴのＹ方向の速度及び位置、Ｘ方向の位置、並びにθｚ方向の回転角等を制御する。
　また、本実施形態の露光装置ＥＸが液浸型である場合には、投影光学系ＰＬの下端の光学部材の下面に配置される例えばリング状のノズルヘッドを含む局所液浸機構（不図示）から、投影光学系ＰＬの先端の光学部材とウエハＷとの間の局所的な液浸領域に所定の液体（純水等）が供給される。その局所液浸機構としては、例えば米国特許出願公開第２００７／２４２２４７号明細書等に開示されている液浸機構を使用できる。なお、露光装置ＥＸがドライ型である場合には、その液浸機構を備える必要はない。

　また、ローダ室１０ｂの内部において、上方の支持台６７の上面にレチクルライブラリ９及び水平多関節型ロボットであるレチクルローダ８が設置されている。レチクルローダ８は、仕切り部材１０ｄのシャッタ２４Ｒで開閉される開口を通して、レチクルライブラリ９とレチクルステージＲＳＴとの間でレチクルＲの交換を行う。
　また、ローダ室１０ｂの内部において、下方の支持台６８の上面にウエハカセット７と、ウエハカセット７との間でウエハの出し入れを行う水平多関節型ロボット６ａとが設置されている。水平多関節型ロボット６ａの上方には、水平多関節型ロボット６ａとともにウエハローダ６を構成するウエハ搬送装置６ｂが設置されている。ウエハ搬送装置６ｂは、仕切り部材１０ｄのシャッタ２４Ｗで開閉される開口を通して、水平多関節型ロボット６ａとウエハステージＷＳＴとの間でウエハＷを搬送する。

　そして、露光装置ＥＸを用いる露光時には、先ずレチクルＲ及びウエハＷのアライメントが行われる。その後、レチクルＲへの露光光ＥＬの照射を開始して、投影光学系ＰＬを介してレチクルＲのパターンの一部の像をウエハＷの表面の一つのショット領域に投影しつつ、レチクルステージＲＳＴとウエハステージＷＳＴとを投影光学系ＰＬの投影倍率βを速度比としてＹ方向に同期して移動（同期走査）する走査露光動作によって、そのショット領域にレチクルＲのパターン像が転写される。その後、ウエハステージＷＳＴを介してウエハＷをＸ方向、Ｙ方向にステップ移動する動作と、上記の走査露光動作とを繰り返すことによって、ステップ・アンド・スキャン方式でウエハＷの全部のショット領域にレチクルＲのパターン像が転写される。

　次に、本実施形態の露光装置ＥＸは、照明光学系ＩＬＳの照明特性（照度均一性等）及び投影光学系の結像特性（解像度等）を所定の状態に維持し、かつレチクルＲ、投影光学系ＰＬ、及びウエハＷが設置される雰囲気（空間）を所定の環境に維持して高い露光精度（解像度、位置決め精度等）で露光を行うために、上述のように、チャンバ１０の内部に温度制御された清浄な空気をダウンフロー方式で供給する空調装置３０を含む全体空調システムを備えている。

　また、その全体空調システムは局所空調部を備えている。即ち、第２ダクト３５の分岐管３５ｂ及び３５ａからそれぞれサブチャンバ２２の底面の吹き出し部１９Ｒ、及び光学系フレーム１６の底面の吹き出し部１９Ｗに温度制御された清浄な空気が供給されている。この場合、吹き出し部１９Ｒ及び１９Ｗは、それぞれレチクルステージＲＳＴ用のＹ軸のレーザ干渉計２１ＲＹ及びウエハステージＷＳＴ用のＹ軸のレーザ干渉計２１ＷＹの計測用ビームの光路上に配置されている。吹き出し部１９Ｒ，１９Ｗは、それぞれ温度制御された空気を、ほぼ均一な風速分布で計測用ビームの光路上にダウンフロー方式（又はサイドフロー方式でもよい）で吹き出す。同様に、Ｘ軸のレーザ干渉計の計測用ビームの光路にも温度制御された空気が局所的に供給される。これによって、レチクル干渉計２１Ｒ及びウエハ干渉計２１Ｗ等によってレチクルステージＲＳＴ及びウエハステージＷＳＴの位置を高精度に計測できる。

　また、ローダ室１０ｂ内に局所空調装置６０が設置されている。局所空調装置６０は、支持台６８の底面に配置された小型のファンモータ６１と、ファンモータ６１で送風された空気を上部に供給するダクト６２と、レチクルライブラリ９及びウエハカセット７の上方に配置された吹き出し口６５及び６６とを備えている。ダクト６２の先端部はそれぞれ吹き出し口６５及び６６に空気を供給する分岐管６２Ｒ及び６２Ｗに分かれている。また、吹き出し口６５及び６６の空気の流入口の近傍にそれぞれＵＬＰＡフィルタ等の防塵フィルタが設置され、ファンモータ６１の近傍のダクト６２内に、所定の不純物を除去するケミカルフィルタを収納するフィルタボックス６３，６４が設置されている。一例として、フィルタボックス６３のケミカルフィルタは、有機系ガス（有機物のガス）を除去し、フィルタボックス６４のケミカルフィルタは、アルカリ系ガス（アルカリ性物質のガス）及び酸性ガス（酸性物質のガス）を除去する。

　ローダ室１０ｂ内で局所空調装置６０を動作させると、ファンモータ６１から送風された空気は、フィルタボックス６３，６４及びダクト６２を介して吹き出し口６５及び６６からそれぞれダウンフロー方式でレチクルライブラリ９及びウエハカセット７が配置された空間に供給される。そして、レチクルライブラリ９の周囲を流れた空気は、支持台６７の周囲、支持台６７の下方のウエハカセット７の周囲、及び支持台６８の周囲を経てファンモータ６１に戻される。また、吹き出し口６６からウエハカセット７の周囲に供給された空気は、支持台６８の周囲を経てファンモータ６１に戻される。そして、ファンモータ６１に戻された空気は、再びフィルタボックス６３，６４及び防塵フィルタを介して吹き出し口６５，６６からローダ室１０ｂ内に供給される。このように、局所空調装置６０によって、ローダ室１０ｄ内の空気は清浄な状態に保たれる。

　次に、本実施形態の全体空調システムにおいて、空調装置３０に連結されるフィルタ装置２６の構成につき説明する。フィルタ装置２６は、窓部が開閉可能な箱状の収容ボックス２７と、収容ボックス２７内に収納される複数の第１のフィルタボックス３８及び第２のフィルタボックス４０と、を備えている。収容ボックス２７は、一例としてＺ方向に細長い箱状のケーシング２８と、ケーシング２８内の空間を４個の空間に分ける仕切り板４２Ａ，４２Ｂ，４２Ｃと、を有する。この仕切り板４２Ａ，４２Ｂ，４２Ｃによって、ケーシング２８内の空間は、ケーシング２８の上板２８ｉと仕切り板４２Ｃとで挟まれた第１空間２８ｃ、仕切り板４２Ｂ及び４２Ｃで挟まれた第２空間２８ｄ、仕切り板４２Ａ及び４２Ｂで挟まれた第３空間２８ｅ、及び仕切り板４２Ａとケーシング２８の底板２８ｈとで挟まれた第４空間２８ｆに分けられる。仕切り板４２Ａの上面に３段の第１のフィルタボックス３８が積み重ねて設置され、仕切り板４２Ｂの上面に３段の第２のフィルタボックス４０が積み重ねて設置され、仕切り板４２Ｃの上面に３段の第１のフィルタボックス３８が積み重ねて設置される。

　さらに、収容ボックス２７は、フィルタボックス３８，４０の交換時に、フィルタボックス３８，４０を出し入れするための窓部を開くために、ケーシング２８に複数箇所のヒンジ機構（不図示）を介して開閉可能に装着されたドア２９を有する。ドア２９により閉じられるケーシング２８の窓部側をケーシングの前面２８ｋと称し、ケーシング２８の窓部とは反対側（奥行側）をケーシングの背面２８ｊと称し、ケーシング２８の前面２８ｋと背面２８ｊを側方から接続している２つの面を側面２８ｍ，２８ｎ（図２参照）と称する。ケーシング２８の上板２８ｉには、開口２８ａが形成されており、この上板２８ｉに空調用の空気ＡＲを取り込む配管２５の端部が固定され、ケーシング２８の最下部の第４空間２８ｆに第１ダクト３２が連結されている。

　なお、実際には、ドア２９はケーシング２８の＋Ｘ方向側に配置され、第１ダクト３２は、ケーシング２８の－Ｘ方向側に連結されている。
　図２は、図１中のケーシング２８のドア２９を開いた状態のフィルタ装置２６を示す。図２において、説明の便宜上、ケーシング２８及びドア２９等は２点鎖線で表している。図２の収容ボックス２７のケーシング２８の内部において、最下段の仕切り板４２Ａの上面に積み重ねられた３段のフィルタボックス３８、及び最上段の仕切り板４２Ｃの上面に積み重ねられた３段のフィルタボックス３８は、それぞれ上下が開口とされた箱状（矩形の枠状）のフレーム５０内に有機系ガス（有機物のガス）を除去するケミカルフィルタ５１を保持したものである。また、中段の仕切り板４２Ｂの上面に積み重ねられた３段のフィルタボックス４０は、それぞれ上下が開口とされた箱状（矩形の枠状）のフレーム５５内にアンモニアやアミン等のアルカリ系ガス（アルカリ性物質のガス）及び酸性ガス（酸性物質のガス）を除去するケミカルフィルタ５６を保持したものである。

　各フィルタボックス３８，４０の高さは例えば２００～４００ｍｍであり、各フィルタボックス３８，４０の重量は１０～２０ｋｇ程度である。
　有機系ガス除去用のケミカルフィルタ５１としては、例えば活性炭型フィルタ又はセラミックス型フィルタ等が使用可能である。また、アルカリ系ガス及び酸性ガス除去用のケミカルフィルタ５６としては、添着剤活性炭型フィルタ、イオン交換樹脂型フィルタ、イオン交換繊維型フィルタ、又は添着剤セラミックス型フィルタ等を使用することができる。また、フレーム５０，５５、仕切り板４２Ａ～４２Ｃ、ケーシング２８、及びドア２９は、それぞれ耐食性があり脱ガス等の少ない材料、例えば表面に酸化皮膜（酸化アルミニウム等）が形成されたアルミニウム（アルマイト処理されたアルミニウム）、又はステンレス鋼等から形成されている。なお、フレーム５０，５５等は、耐食性があり脱ガスの少ない樹脂材料を含む材料（ポリエチレンで覆った合板、又はフッ素系樹脂等）等で形成することも可能である。

　なお、有機系ガスを除去することで、チャンバ１０の露光室１０ａ内で露光光ＥＬの透過率が向上し、かつ有機系ガスと露光光ＥＬとの相互作用によって光学素子の表面に形成される曇り物質の発生が抑制される。また、アルカリ系ガス及び酸性ガスを除去することによって、ウエハＷのフォトレジストの特性の変化等が抑制される。特に、フォトレジストが化学増幅型フォトレジストである場合には、空気中にアンモニアやアミン等のアルカリ系ガスがあると、発生した酸が反応してフォトレジスト表面に難溶化層ができる恐れがある。従って、特にアンモニアやアミン等のアルカリ系ガスの除去が有効である。

　なお、図１のローダ室１０ｂ内のフィルタボックス６３，６４内のケミカルフィルタの構成は、ケミカルフィルタ５１，５６の構成と同様である。ただし、フィルタボックス６３，６４はフィルタボックス３８，４０よりも小型である。
　また、図２において、仕切り板４２Ａ及び４２Ｃ上の全部で６個のフィルタボックス３８のフレーム５０の長手方向（Ｙ方向）の両方の側面には、案内溝（第１凸凹形成部）５２，５３によって対称に凹凸が形成されている。

　本実施形態において、この案内溝５２，５３は、フレーム５０の側面に直接形成されているため、フレーム５０の側面がフィルタボックス３８をケーシング２８内の所定位置に搬入するための案内ガイド面として機能する。フレーム５０の両方の側面には、案内溝５２，５３の上部に作業者が手を掛けるための凹部よりなる取っ手部７０，７１が取り付けられている。そして、各フィルタボックス３８の一方の側面の案内溝５２に、それぞれケーシング２８の内面に固定された円柱状の軸部材（ガイド）４８Ａ，４８Ｂ，４８Ｃ，４８Ｇ，４８Ｈ，４８Ｉの先端部が係合している。そして、各フィルタボックス３８の他方の側面の案内溝５３に、それぞれケーシング２８の内面に軸部材４８Ａ～４８Ｉと対向するように固定された円柱状の軸部材４９Ａ，４９Ｂ，４９Ｃ，４９Ｇ，４９Ｈ，４９Ｉの先端部が係合している。軸部材４８Ａ～４８Ｉ及び軸部材４９Ａ～４９Ｉは互いに同じ形状であり、それぞれケーシング２８の内面に着脱可能にネジ止めで固定されている。軸部材４８Ａ，４９Ａ, ４９Ｃ，４９Ｇ，４９Ｈ，４９Ｉによって、フィルタボックス３８のフレーム５０のそれぞれがＸ方向（短辺方向）及びＹ方向に位置決めされる。

　また、図２において、仕切り板４２Ｂ上の３個のフィルタボックス４０のフレーム５５の長手方向（Ｙ方向）の両方の側面には、案内溝（第２凹凸形成部）５７，５８によって凹凸が形成されている。本実施形態において、この案内溝５７，５８は、フレーム５５の側面に直接形成されているため、フレーム５５の側面がフィルタボックス４０をケーシング２８内の第２空間２８ｄの所定位置に搬入するための案内ガイド面として機能する。フレーム５５の両方の側面には、案内溝５７，５８の上部に取っ手部７０，７１が取り付けられている。そして、各フィルタボックス４０の一方の側面の案内溝５７に、それぞれケーシング２８の内面に固定された円柱状の軸部材７２Ｄ，７２Ｅ，７２Ｆの先端部が係合している。そして、各フィルタボックス４０の他方の側面の案内溝５８に、それぞれケーシング２８の内面に軸部材７２Ｄ～７２Ｆに対向するように固定された円柱状の軸部材７３Ｄ，７３Ｅ，７３Ｆの先端部が係合している。軸部材７２Ｄ，７３Ｄ等によって、３個のフィルタボックス４０のフレーム５５がＸ方向、Ｙ方向に位置決めされた状態で、かつ自重によって固定されている。

　軸部材７２Ｄ～７２Ｆ，７３Ｄ～７３Ｆの形状は互いに同じであり、軸部材７２Ｄの形状は軸部材４８Ａと同様である。ただし、後述のように、軸部材７２Ｄの先端部の直径φＤは軸部材４８Ａの先端部の直径φＡよりも大きく形成されている（図４（Ｂ）、（Ｄ）参照）。このように収容ボックス２７は、軸部材４８Ａ～４８Ｉ，４９Ａ～４９Ｉ及び７２Ｄ～７２Ｆ，７３Ｄ～７３Ｆを備えている。

　なお、下段のフィルタボックス３８のフレーム５０は、仕切り板４２Ａの上面に対し、位置決めされた状態でかつ自重によって固定されている。また、中段のフィルタボックス４０のフレーム５５は、下段のフィルタボックス３８の上端面及び仕切り板４２Ｂの上面に対し、位置決めされ、かつ自重によって固定されている。さらに上段のフィルタボックス３８のフレーム５０は、中段のフィルタボックス４０の上端面及び仕切り板４２Ｃの上面に対し、位置決めされ、かつ自重によって固定されている。

　この場合、フィルタボックス３８のフレーム５０と、フィルタボックス４０のフレーム５５とは、互いに外形（外寸法）が同じで、Ｙ方向の両側面に形成されている案内溝５２，５３及び案内溝５７，５８の形状が互いに異なっている。本実施形態では、フレーム５５の案内溝５７，５８の幅がフレーム５０の案内溝５２，５３の幅よりも広く形成されている。このため、フレーム５５の案内溝５７及び５８に係合する軸部材７２Ｄ，７３Ｄの先端部の直径φＤは、フレーム５０の案内溝５２及び５３に係合する軸部材４８Ａ，４９Ａの先端部の直径φＡより大きく形成されている（図４（Ｂ）、（Ｄ）参照）。これによって、作業者の視覚または感覚により、仕切り板４２Ａ，４２Ｃ上にアルカリ系ガス及び酸性ガスを除去するためのケミカルフィルタ５６を有するフィルタボックス４０を設置することが防止され、逆に仕切り板４２Ｂ上に有機系ガスを除去するためのケミカルフィルタ５１を有するフィルタボックス３８を設置することが防止される。

　また、フィルタボックス３８を固定する軸部材４８Ａ～４８Ｉ，４９Ａ～４９Ｉのケーシング２８の前面からの距離と、フィルタボックス４０を固定する軸部材７２Ｄ～７２Ｆ，７３Ｄ～７３Ｆのケーシング２８の前面からの距離とは等しく設定されている。言い換えると、軸部材４８Ａ～４８Ｉと軸部材７２Ｄ～７２ＦとはほぼＺ軸に平行な直線に沿って配置され、軸部材４９Ａ～４９Ｉと軸部材７３Ｄ～７３ＦとはほぼＺ軸に平行な直線に沿って配置されている。このため、ケーシング２８内に位置決めした状態で、６段のフィルタボックス３８のそれぞれの中心、及び３段のフィルタボックス４０のそれぞれの中心は、Ｚ軸に平行な同一の直線に沿って配置される。

　また、ケーシング２８の前面にフィルタボックス３８及び４０を出し入れするための矩形の窓部２８ｂが形成され、ドア２９には、ドア２９でケーシング２８の窓部２８ｂを閉じたときに、窓部２８ｂの周辺及び仕切り板４２Ｂ，４２Ｃの端部とドア２９との間を密閉するためのガスケット４６が固定されている。ガスケット４６は、耐食性に優れ、かつ脱ガスの少ない材料、例えばテフロン（デュポン社の登録商標）のシート、又はシリコンゴムのシート等から形成できる。

　次に、図３（Ａ）は、図２の収容ボックス２７のケーシング２８を正面（前面）から見て、かつ一部を切り欠いた図である。図３（Ａ）において、仕切り板４２Ａ～４２Ｃにはそれぞれフィルタボックス３８，４０を通過した空気ＡＲを通す開口４２Ａａ，４２Ｂａ，４２Ｃａが形成されている。また、フィルタボックス３８のフレーム５０、及びフィルタボックス４０のフレーム５５の底面にはそれぞれ載置面との間の気密性を高めるための矩形の枠状のガスケット５４（設置面に対して離脱可能な封止材）が固定されている。ガスケット５４の材料は、耐食性に優れ、かつ脱ガスの少ない材料、例えばテフロン（デュポン社の登録商標）のシート、又はシリコンゴムのシート等から形成できる。なお、ガスケット５４の材料は、ガスケット４６の材料と同様であってもよい。この結果、ケーシング２８の開口２８ａが形成された上板と仕切り板４２Ｃとで挟まれた空間２８ｃ内の気体は、必ず３段のフィルタボックス３８のケミカルフィルタ５１を通過した後、開口４２Ｃａを通って、仕切り板４２Ｂ及び４２Ｃで挟まれた空間２８ｄに流入する。同様に、空間２８ｄ内の気体は、３段のフィルタボックス４０のケミカルフィルタ５６を通過した後、開口４２Ｂａを通って、仕切り板４２Ａ及び４２Ｂで挟まれた空間２８ｅに流入する。同様に、空間２８ｅ内の気体は、必ず３段のフィルタボックス３８のケミカルフィルタ５１を通過した後、開口４２Ａａ、仕切り板４２Ａの底面の空間２８ｆ、及びケーシング２８の背面の開口２８ｇを通って、図２の第１ダクト３２に流れる。従って、ケーシング２８の上部の開口２８ａから流入する空気ＡＲは、必ず３段の有機系ガス除去用のフィルタボックス３８、３段のアルカリ系ガス及び酸性ガス除去用のフィルタボックス４０、及び３段の有機系ガス除去用のフィルタボックス３８を通過して図１の空調装置３０に供給されるため、チャンバ１０内には不純物を高度に除去した空気が供給される。

　また、図３（Ａ）において、軸部材４８Ａ～４８Ｉ，４９Ａ～４９Ｉ及び軸部材７２Ｄ～７２Ｆ，７３Ｄ～７３Ｆは、代表的に軸部材４８Ｃ，４９Ｃ及び７２Ｆ，７３Ｆで示すように、ケーシング２８の側面（内側）の互いに同じ大きさのネジ穴８１Ｃ，８２Ｃ及び８１Ｆ，８２Ｆにそれぞれネジ部４８Ｃａ，４９Ｃａ及び７２Ｆａ，７３Ｆａによって固定されている。従って、軸部材４８Ａ～４８Ｃ，４８Ｇ～４８Ｉ及び４９Ａ～４９Ｃ，４９Ｇ～４９Ｉの代わりに、それぞれ軸部材７２Ｄ，７３Ｄと同じ形状の先端部がより太い軸部材を固定して、フィルタボックス３８の代わりにフィルタボックス４０を配置することが可能である。逆に、軸部材７２Ｄ～７２Ｆ，７３Ｄ～７３Ｆの代わりに、軸部材４８Ａ，４９Ａと同じ形状の先端部がより細い軸部材を固定して、フィルタボックス４０の代わりにフィルタボックス３８を配置することも可能である。

　図３（Ｂ）の拡大断面図で示すように、一例として、軸部材４８Ａは、ケーシング２８の内面のネジ穴に螺合されるネジ部４８Ａａと、ネジ部４８Ａａに続く第１ロッド部４８Ａｂと、第１ロッド部４８Ａｂに続く細い第２ロッド部４８Ａｃと、第２ロッド部４８Ａｃに回転軸受け４８Ａｄを介して連結された回転体４８Ａｅとから構成されている。ネジ部４８Ａａ、第１ロッド部４８Ａｂ、及び第２ロッド部４８Ａｃは同一の部材から形成されている。軸部材４８Ａの回転体４８Ａｅがフィルタボックス３８の案内溝５２内に配置され、フィルタボックス３８を移動するときに回転体４８Ａｅが回転する。さらに、反対側の軸部材４９Ａも先端の回転体（不図示）が反対側の案内溝５３内に配置されるため、フィルタボックス３８を円滑に移動可能である。

　軸部材７２Ｄ，７３Ｄの先端部にも、軸部材４８Ａと同様に回転軸受けを介して回転体４８Ａｅより直径の大きい回転体（不図示）が固定されている。そして、軸部材７２Ｄ，７３Ｄの回転体がフィルタボックス４０の案内溝５７，５８内に配置されるため、フィルタボックス４０を円滑に移動可能である。
　また、図３（Ａ）において、ケーシング２８の両側面とフィルタボックス３８，４０のＹ方向の側面との間には、作業者が手を差し込むことが可能なスペースが確保されている。これによって、フィルタボックス３８，４０の搬入時及び搬出時に、作業者は図２のケーシング２８内で、フィルタボックス３８，４０の側面の取っ手部７０，７１に手を掛けてフィルタボックス３８，４０を移動できる。

　次に、フィルタボックス３８のフレーム５０の案内溝５２，５３及びフィルタボックス４０のフレーム５５の案内溝５７，５８の形状につき説明する。
　ここで、フィルタボックス３８のフレーム５０について、ケーシング２８に挿入されたときにケーシング２８の前面（ケーシング２８の背面を一方の側面の側端である場合、一方の側端と反対側の側端である）２８ｋに対向する面をフレーム５０の前面５０ａ（第１面）、ケーシング２８の後面２８ｊに対向する面をフレーム５０の背面５０ｂ（第２面）、ケーシング２８の側面２８ｍ、２８ｎに対向する面をフレーム５０の側面５０ｃ，５０ｄ（第３及び第４面）と称する。なお、本実施形態では、フレーム５０の側面５０ｃ，５０ｄは、フレームの前面５０ａ及びフレーム５０ｂに対して直交しているが、直交に限定されない。例えば、フレーム５０の側面５０ｃ，５０ｄに対して、フレームの前面５０ａ又はフレーム５０ｂの少なくとも一方が、交差（９０度に対して傾斜）していてもよい。フレーム５０の前面５０ａと背面５０ｂに対して上側の面を上面５０ｆ、フレーム５０の前面５０ａと背面５０ｂに対して下側の面を底面５０ｅ（図４（Ａ）参照）と称する。後述するフィルタボックス４０のフレーム５５の各面についても、フィルタボックス３８のフレーム５０と同様にして特定する。

　図４（Ａ）に示すように、第１のフィルタボックス３８のフレーム５０の長手方向の一対の側面５０ｃ，５０ｄには、案内溝（第１凹凸形成部）５２，５３が形成されている。案内溝５２は、フレーム５０の側面５０ｃの上端１５０と下端１５２との間に配置され、かつフレーム５０の後側端１５４又は背面５０ｂに連通する第１溝部（第１凹部）５２ａと、第１溝部５２ａに連通し、かつフレーム５０の上端１５０（上面５０ｆの方向）に向かって延びる第２溝部（第２凹部）５２ｂとを有する。案内溝５２により側面５０ｃを上側部５２ｅと下側部５２ｆに分割している。第１溝部（横凹部）５２ａはフレーム５０の底面５０ｅと上面５０ｆとの間にそれらの面に沿って横方向（Ｘ方向）に延在するように形成され、第２溝部（縦凹部）５２ｂはフレーム５０の前側端１５６と後側端１５４の間に、すなわち、前面５０ａと背面５０ｂとの間にそれらの面に沿って縦方向（Ｚ方向）に延在するように形成されている。

　さらに、案内溝５２は、第１溝部５２ａと第２溝部５２ｂとが連通する位置に形成されて、フレーム５０の前面５０ａ側からフレーム５０の後側端１５４側又は背面５０ｂ側に向かって次第に幅が狭くなる第１テーパ部５２ｃと、第１溝部５２ａの背面５０ｂに連通する部分に形成されて、フレーム５０の前面５０ａ側から背面５０ｂ側に向かって次第に幅が広くなる第２テーパ部５２ｄとを有する。第１溝部５２ａの上面５０ｆ側のエッジ部５０ａｅ（案内溝５２により分割された側面５０ｃの上側部５２ｅの下端）と第２溝部５２ｂの背面５０ｂ側のエッジ部５２ｂｅ（案内溝５２により分割された側面５０ｃの上側部５２ｅの側端）とは第１テーパ部５２ｃで接続されている。

　また、図４（Ｂ）の側面図で示すように、フレーム５０の第１溝部５２ａ及び第２溝部５２ｂの幅ａ１は、図２のケーシング２８内に設けられている軸部材４８Ａの先端部の直径φＡよりも或る程度又はわずかに広く設定されている。これによって、軸部材４８Ａは、案内溝５２に沿ってフレーム５０の背面５０ｂと上面５０ｆとの間を円滑にフレーム５０に対して相対移動可能（スライド移動可能）である。
　なお、フレーム５０の他方の側面５０ｄの案内溝５３の形状は案内溝５２とフレーム５０の前後方向の中心線（不図示）に対して対称（以下では単に「対称」という。）又は同一形状であるため、その説明を省略する。

　また、図４（Ｃ）に示すように、第２のフィルタボックス４０のフレーム５５の長手方向の一対の側面５５ｃ，５５ｄには、案内溝（第２凹凸形成部）５７，５８が形成されている。案内溝５７により側面５５ｃを第１部（小部）５７ｅと第２部（大部）５７ｆに分割している。案内溝５７は、フレーム５５の側面５５ｃの上端１６０と下端１６２との間に配置され、かつフレーム５５の後側端１６４または背面５５ｂに連通する第１溝部５７ａ（第３凹部）と、第１溝部５７ａに連通し、かつフレーム５５の上端１６０（上面５５ｆの方向）に向かって延びる第２溝部５７ｂ（第４凹部）とを有する。第１溝部５７ａはフレーム５５の底面５５ｅと上面５５ｆとの間に形成され、第２溝部５７ｂはフレーム５５の側面５５ｃの後側端１６４と前側端１６６との間、すなわち、前面５５ａと背面５５ｂとの間で、前面５５ａに近い位置に形成されている。

　さらに、案内溝５７も、第１溝部５７ａと第２溝部５７ｂとが連通する位置に形成されて、フレーム５５の背面５５ｂに向かって次第に幅が狭くなる第１テーパ部５７ｃと、第１溝部５７ａの背面５５ｂに連通する部分に形成されて、背面５５ｂに向かって次第に幅が広くなる第２テーパ部５７ｄとを有する。第１溝部５７ａの上面５５ｆ側のエッジ部５７ａｅ（第１部５７ｅの下端）と第２溝部５７ｂの背面５５ｂ側のエッジ部５７ｂｅ（第１部５７ｅの側端）とは第１テーパ部５７ｃで接続されている。

　また、図４（Ｄ）の側面図で示すように、第１溝部５７ａ及び第２溝部５７ｂの幅ｂ１は、図２のケーシング２８内に設けられている軸部材７２Ｄの先端部の直径φＤよりも或る程度又はわずかに広く設定されている（φＤ<ｂ１）。これによって、軸部材７２Ｄは、案内溝５７に沿ってフレーム５５の背面５５ｂと上面５５ｆとの間を円滑にフレーム５５に対して相対移動可能（スライド移動可能）である。本実施形態では、案内溝５７の溝部５７ａ，５７ｂの幅ｂ１は、図４（Ｂ）の案内溝５２の溝部５２ａ，５２ｂの幅ａ１より大きく（ａ１<ｂ１）、軸部材７２Ｄの先端部の直径φＤは軸部材４８Ａの先端部の直径φＡよりも大きく（φＡ<φＤ）、且つ軸部材７２Ｄの先端部の直径φＤは、案内溝５２の溝部５２ａ，５２ｂの幅ａ１よりも大きい（ａ１<φＤ）。これにより、軸部材７２Ｄの先端部は図４（Ｂ）のフレーム５０の案内溝５２（溝部５２ａ，５２ｂ）を通過できない。なお、案内溝５７の溝部５７ａ，５７ｂの幅ｂ１と、案内溝５２の溝部５２ａ，５２ｂの幅ａ１との差は、５ｍｍ以上、好ましくは１０ｍｍ以上に設定することができる。

　また、フィルタボックス４０のフレーム５５の前面５５ａに対する第２溝部５７ｂの中心の距離ａ４は、フィルタボックス３８のフレーム５０の前面５０ａに対する第２溝部５２ｂの中心の距離ａ４と同じである。さらに、フレーム５５の第１溝部５７ａの上面５５ｆからの距離ａ２は、フレーム５０の第１溝部５２ａの上面５０ｆからの距離ａ２と同じであり、取っ手部７０はフレーム５５及び５０においてほぼ同じ位置に設けられている。この場合、フレーム５５の第１溝部５７ａの中心の上面５５ｆからの距離ｂ３は、フレーム５０の第１溝部５２ａの中心の上面５０ｆからの距離ａ３よりも長くなっている。

　なお、フレーム５５の他方の側面５５ｄの案内溝５８の形状は案内溝５７と対称であるため、その説明を省略する。
　また、フレーム５０，５５は、例えばモールド成形等によって製造可能である。なお、フレーム５０の第１溝部５２ａの中心の上面５０ｆからの距離ａ３と、フレーム５５の第１溝部５７ａの中心の上面５５ｆからの距離ｂ３とをほぼ等しくすることも可能である。この場合には、フレーム５５の第１溝部５７ａと上面５５ｆとの距離が短くなるため、フレーム５５側の取っ手部７０，７１の大きさをフレーム５０側の取っ手部７０，７１より小さくしてもよい。

　次に、図４（Ａ）のフィルタボックス３８を図２のケーシング２８の仕切り板４２Ａの上面に設置する場合につき説明する。この場合、図５（Ａ）に示すように、作業者はフレーム５０の取っ手部７０，７１を介してフィルタボックス３８を保持した状態で、ケーシング２８の１対の軸部材４８Ａ，４９Ａの前方にフィルタボックス３８（フレーム５０）の案内溝５２，５３の第１溝部５２ａ等を移動する。

　なお、未使用のフィルタボックス３８には、フレーム５０の第１溝部５２ａの入り口に薄いフィルム５９Ａが剥離可能に張設されている。そして、矢印Ｂ１で示すように、フィルタボックス３８を窓部２８ｂを通してケーシング２８内に押し込み、図５（Ｂ）に矢印Ｂ２で示すように、第１溝部５２ａに沿って軸部材４８Ａがスライド可能にフレーム５０に対して相対移動するように、フィルタボックス３８をさらに押し込む。これによって、フィルム５９Ａが剥離するため、次にフィルタボックス３８を搬出する際に、このフィルタボックス３８が使用済みであることが確認できる。また、フレーム５０の第１溝部５２ａ等の上端のエッジ部が軸部材４８Ａ，４９Ａの先端部（回転体）に沿って移動するため、フィルタボックス３８の重量が大きい場合でも、フィルタボックス３８を容易にケーシング２８内に押し込むことができる。

　その後、図５（Ｃ）に示すように、フィルタボックス３８の第２溝部５２ｂが軸部材４８Ａに達した後、フィルタボックス３８の自重によって第２溝部５２ｂに沿って軸部材４８Ａがフレーム５０に対して相対移動するように、矢印Ｂ３で示すように、フィルタボックス３８を下げて仕切り板４２Ａの上面に載置する。この結果、図５（Ｄ）に示すように、フィルタボックス３８は、案内溝５２，５３の第２溝部５２ｂ等の中間の位置に軸部材４８Ａ，４９Ａが停止した状態で、仕切り板４２Ａ上に載置される。これによって、フィルタボックス３８は、仕切り板４２Ａの開口４２Ａａを覆うように正確にＸ－Ｙ方向に位置決めされた状態で、かつ安定に載置される。

　さらに、第２テーパ部５２ｄがあるため、第１溝部５２ａを軸部材４８Ａに容易に案内して係合可能である。また、第１テーパ部５２ｃがあるため、案内溝５２の第１溝部５２ａの次に第２溝部５２ｂを容易に軸部材４８Ａに係合可能である。第１テーパ部５２ｃにより、操作者は、第２溝部５２ｂの位置、ひいては、フィルタボックス３８の挿入方向（Ｘ方向）の設置位置の把握が容易となる。
　図２の他のフィルタボックス３８も同様にフィルタボックス３８の上面又は仕切り板４２Ｃの上面に載置できる。

　一方、図４（Ｃ）のフィルタボックス４０を図２のケーシング２８の仕切り板４２Ｂの上面に設置する場合には、図６（Ａ）に示すように、作業者はフレーム５５の取っ手部７０，７１を介してフィルタボックス４０を保持する。この状態で作業者は、ケーシング２８の１対の軸部材７２Ｄ，７３Ｄの前方にフィルタボックス４０（フレーム５５）の案内溝５７，５８の第１溝部５７ａ等を移動する。未使用のフィルタボックス４０には、第１溝部５７ａの入り口に薄いフィルム５９Ｂが剥離可能に張設されている。そして、矢印Ｂ５で示すように、フィルタボックス４０を窓部２８ｂを通してケーシング２８内に押し込み、第１溝部５７ａを軸部材７２Ｄに係合させることで、フィルム５９Ｂが剥離する。

　続いて、図６（Ｂ）に矢印Ｂ６で示すように、フィルタボックス４０をさらにスライド可能に押し込むことによって、図６（Ｃ）に示すように、フィルタボックス４０の第２溝部５７ｂが軸部材７２Ｄに達する。この場合にも、フレーム５５の第１溝部５７ａ等の上端のエッジ部が軸部材７２Ｄ，７３Ｄの先端部（回転体）に沿って移動するため、フィルタボックス４０の重量が大きい場合でも、フィルタボックス４０を容易にケーシング２８内に押し込むことができる。その後、第２溝部５７ｂに沿って軸部材７２Ｄがフレーム５５に対して相対移動するように、矢印Ｂ７で示すように、フィルタボックス４０を下げて仕切り板４２Ｂの上面に載置する。この結果、図６（Ｄ）に示すように、フィルタボックス４０は、案内溝５７，５８の第２溝部５７ｂ等のほぼ中間に軸部材７２Ｄ，７３Ｄが位置した状態で、仕切り板４２Ｂ上に載置される。これによって、フィルタボックス４０は、仕切り板４２Ｂの開口４２Ｂａを覆うように正確にＸ－Ｙ方向に位置決めされた状態で、かつ安定に載置される。

　図２の他のフィルタボックス４０も同様に別のフィルタボックス４０の上面に載置できる。その後、図２のドア２９を閉じることによって、フィルタ装置２６が使用可能となり、フィルタ装置２６を通過した清浄な空気を露光装置ＥＸのチャンバ１０内に供給できる。
　次に、フィルタ装置２６のフィルタボックス３８，４０を交換する場合には、ケーシング２８のドア２９が開かれる。そして、上段のフィルタボックス３８を中段のフィルタボックス４０の上方から搬出する。その後、中段のフィルタボックス４０を下段のフィルタボックス３８の上方から搬出し、最後に、下段のフィルタボックス３８を仕切り板４２Ａから搬出する。上段、中段、下段のフィルタボックスの搬出動作は同じ動作であるため、以下、具体的な搬出動作について、下段のフィルタボックス３８を仕切り板から搬出する場合を例に説明する。

　上段のフィルタボックス３８、中段のフィルタボックス４０、及び下段の２つのフィルタボックス３８を搬出した後、仕切り板４２Ａから下段のフィルタボックス３８を搬出する場合を想定する。このとき、作業者はフィルタボックス３８の取っ手部７０，７１に手を掛けて、図５（Ｃ）に矢印Ｃ１で示すように、案内溝５２の第２溝部５２ｂに沿って軸部材４８Ａがスライド可能にフレーム５０に対して相対移動するように、フィルタボックス３８を上方に持ち上げる。その後、案内溝５２の第１テーパ部５２ｃが軸部材４８Ａに達した後、図５（Ｂ）に矢印Ｃ２で示すように、第１溝部５２ａに沿って軸部材４８Ａがスライド可能にフレーム５０に対して相対移動するように、フィルタボックス３８を前方（フィルタボックス３８の前面側）に引き抜く。この場合にも、フィルタボックス３８の重量は軸部材４８Ａ，４９Ａで支えられるため、フィルタボックス３８を容易に引き抜くことができる。その後、図５（Ａ）に矢印Ｃ３で示すように、さらにフィルタボックス３８をケーシング２８の前方に引き抜くことで、フィルタボックス３８を搬出できる。この際に、案内溝５２の第１テーパ部５２ｃがあるため、軸部材４８Ａに沿って案内溝５２の第２溝部５２ｂから第１溝部５２ａまで円滑に移動できる。

　同様に他のフィルタボックス３８も容易に搬出できる。その後、未使用のフィルタボックス３８をケーシング２８に設定する際には、図５（Ａ）～図５（Ｄ）までの動作を繰り返せばよい。
　また、例えば仕切り板４２Ｂの上面からフィルタボックス４０を搬出する際には、作業者はフィルタボックス４０の取っ手部７０，７１に手を掛けて、図６（Ｃ）に矢印Ｃ５で示すように、案内溝５７の第２溝部５７ｂに沿って軸部材７２Ｄがスライド可能にフレーム５５に対して相対移動するように、フィルタボックス４０を持ち上げる。その後、案内溝５７の第１テーパ部５７ｃが軸部材７２Ｄに達した後、図６（Ｂ）に矢印Ｃ６で示すように、第１溝部５７ａに沿って軸部材７２Ｄがスライド可能にフレーム５５に対して相対移動するように、フィルタボックス４０を前方に引き抜く。この場合にも、フィルタボックス４０の重量は軸部材７２Ｄ，７３Ｄで支えられるため、フィルタボックス４０を容易に引き抜くことができる。その後、図６（Ａ）に矢印Ｃ７で示すように、さらにフィルタボックス４０をケーシング２８の前方に引き抜くことで、フィルタボックス４０を搬出できる。

　同様に他のフィルタボックス４０も容易に搬出できる。その後、未使用のフィルタボックス４０をケーシング２８内に設置する際には、図６（Ａ）～図６（Ｄ）までの動作を繰り返せばよい。
　本実施形態の効果等は以下の通りである。
　（１）本実施形態の露光装置ＥＸは、フィルタ装置２６及び空調装置３０を含む全体空調システムを備えており、フィルタ装置２６は、ケミカルフィルタ５１（第１フィルタ）及びケミカルフィルタ５６（第２フィルタ）を含む複数のケミカルフィルタを保持する複数のフィルタボックスを備えている。すなわち、そのフィルタボックスは、ケミカルフィルタ５１を保持するとともに、一対の側面５０ｃ，５０ｄに案内溝（第１凹凸形成部）５２，５３が設けられた箱状の第１のフレーム５０を有する第１のフィルタボックス３８と、ケミカルフィルタ５６を保持するとともに、一対の側面５５ｃ，５５ｄに案内溝（第２凹凸形成部）５７，５８が設けられ、ケーシング２８（容器）内に配置される箱状の第２のフレーム５５を有する第２のフィルタボックス４０と、を備えている。そして、フレーム５０の案内溝５２は、フレーム５０の背面５０ｂに連通する第１溝部（第１凹部）５２ａと、第１溝部５２ａに連通し、かつフレーム５０の上端に向かって延びる第２溝部（第２凹部）５２ｂとを有し、フレーム５５の案内溝５７は、フレーム５５の背面５５ｂに連通する第１溝部（第３凹部）５７ａと、第１溝部５７ａに連通し、かつフレーム５５の上端に向かって延びる第２溝部（第４凹部）５７ｂとを有し、第１溝部５２ａ及び第２溝部５２ｂと、第１溝部５７ａ及び第２溝部５７ｂとは、互いに幅が異なっている。

　また、本実施形態のフィルタ装置２６は、第１及び第２のフィルタボックス３８，４０と、フィルタボックス３８及び４０のフレーム５０及び５５を収容する収容ボックス（収容部）２７と、を備えている。そして、収容ボックス２７は、フレーム５０の第１溝部５２ａに係合してフレーム５０を支持するとともに、フレーム５０の第２溝部５２ｂに係合してフレーム５０の支持を解除する棒状の軸部材４８Ａ～４８Ｃ，４８Ｇ～４８Ｉ（第１係合部）と、フレーム５５の第１溝部５７ａに係合してフレーム５５を支持するとともに、フレーム５５の第２溝部５７ｂに係合してフレーム５５の支持を解除する棒状の軸部材７２Ｄ～７２Ｆ（第２係合部）と、を有する。

　本実施形態によれば、フレーム５０，５５を収納するケーシング２８側に軸部材４８Ａ等及び軸部材７２Ｄ等を設けておき、フレーム５０，５５の案内溝５２，５７に沿ってそれぞれ軸部材４８Ａ，７２Ｄ等がフレーム５０、５５に対して相対的に移動するように、フレーム５０，５５をガイドしながら移動することによって、フレーム５０，５５のケーシング２８に対する設置を効率的に、かつ容易に位置決めできるように行うことができる。さらに、フレーム５０，５５を逆方向に移動することで、フレーム５０，５５をケーシング２８から効率的に搬出できる。従って、ケーシング２８内の複数のフィルタボックス３８，４０（ひいてはケミカルフィルタ５１，５６）の交換を効率的に行うことができる。

　また、フレーム５０の案内溝５２の第１溝部５２ａ及び第２溝部５２ｂの幅ａ１と、フレーム５５の案内溝５７の第１溝部５７ａ及び第２溝部５７ｂの幅ｂ１とは異なっており、本実施形態では幅ａ１に対して幅ｂ１は広くなっている。これに応じて、案内溝５２に係合する軸部材４８Ａ等の先端部の直径φＡに対して、案内溝５７に係合する軸部材７２Ｄ等の先端部の直径φＤは大きく形成されている。このため、作業者の視覚または感覚により、ケーシング２８内で、フレーム５０（フィルタボックス３８）をフレーム５５（フィルタボックス４０）が設置されるべき位置に誤って設置すること、及びフレーム５５をフレーム５０が設置されるべき位置に誤って設置することが予防される。特に、軸部材７２Ｄの先端部の直径φＤが案内溝５２の第１溝部５２ａ（及び第２溝部５２ｂ）の幅ａ１より大きいと、フレーム５０をフレーム５５が設置されるべき位置に誤って設置することが物理的に防止できる。

　（２）また、フレーム５０の一対の側面の案内溝５２，５３の形状は対称であり、フレーム５５の一対の側面の案内溝５７，５８の形状は対称である。さらに、ケーシング２８内には、案内溝５２，５３に対応して対向するように軸部材４８Ａ等及び４９Ａ等が固定され、案内溝５７，５８に対応して対向するように軸部材７２Ｄ～７２Ｆ及び７３Ｄ～７３Ｆが固定されている。従って、ケーシング２８に対するフレーム５０（フィルタボックス３８）の着脱及びフレーム５５（フィルタボックス４０）の着脱を短時間に効率的に行うことができる。

　なお、フレーム５０及び５５の案内溝５２，５３及び５７，５８はそれぞれほぼ対称に形成されていればよい。
　さらに、フレーム５０の一方の側面にのみ案内溝５２を設け、これに対向する他方の側面は平面のままでもよく、フレーム５５の一方の側面にのみ案内溝５７を設け、これに対向する他方の側面は平面のままでもよい。この場合には、ケーシング２８内には軸部材４８Ａ～４８Ｃ，４８Ｇ～４８Ｉ及び７２Ｄ～７２Ｆのみを固定しておけばよい。また、一方の案内溝５２，５７が例えば軸部材４８Ａ，７２Ｄに沿って相対移動するようにフレーム５０，５５を移動することで、フレーム５０，５５を比較的容易にケーシング２８内に設定できるとともに、フレーム５０，５５をケーシング２８から容易に搬出可能である。

　（３）また、フィルタボックス３８とフィルタボックス４０とはケーシング２８内に互いに重なるように配置されている。
　なお、ケーシング２８内にフレーム５０とフレーム５５とを重ねて配置するとは、フレーム５０とフレーム５５とを濾過対象の気体の流れに沿って配置することをも意味している。これによって、その気体からの不純物の除去を効率的に行うことができる。

　（４）また、フレーム５０，５５の案内溝５２，５７は、第１溝部５２ａ，５７ａと第２溝部５２ｂ，５７ｂとが連通する位置に形成されて、フレーム５０，５５の背面に向かって次第に幅が狭くなる第１テーパ部５２ｃ，５７ｃを有する。従って、案内溝５２，５７に対する軸部材４９Ａ，７３Ｄ等の相対的な移動を円滑に行うことができる。
　なお、第１テーパ部５２ｃ，５７ｃは必ずしも設けなくともよい。

　（５）また、案内溝５２，５７は、第１溝部５２ａ，５７ａの背面に連通する部分に形成され、背面に向かって次第に幅が広くなる第２テーパ部５２ｄ，５７ｄを有する。従って、第１溝部５２ａ，５７ａを容易に軸部材４８Ａ，７２Ｄ等に係合できる。なお、第２テーパ部５２ｄ，５７ｄも省略可能である。
　（６）また、フレーム５０，５５の第１溝部５２ａ，５７ａとフレーム５０，５５の上端との間に取っ手部７０（第５凹部）が設けられているため、作業者が容易にフレーム５０，５５（フィルタボックス３８，４０）を搬送できる。なお、取っ手部７０はフレーム５０，５５の一方の側面に設けるだけでもよい。また、例えばフレーム５０，５５の側面５０ｃ，５０ｄ及び５５ｃ，５５ｄを粗面としておくことによって、取っ手部７０を省略することも可能である。

　（７）また、軸部材４８Ａ及び７２Ｄは、フレーム５０及び５５の案内溝５２及び５７と接触する（係合する）部分が、回転軸受け４８Ａｄ等を介して支持されているため、フレーム５０，５５の移動を極めて円滑に行うことができる。なお、軸部材４８Ａ，７２Ｄの先端部の表面粗さを良好に仕上げておくことによって、軸部材４８Ａ，７２Ｄの先端部から回転軸受け及び回転体を省略することも可能である。

　（８）また、フレーム５０，５５の第１溝部５２ａ，５７ａの入り口に剥離可能にフィルム５９Ａ，５９Ｂが設けられているため、フレーム５０，５５内のケミカルフィルタが使用済みか未使用かを容易に確認できる。
　なお、この構成に限らず、フィルムに切れ目が入ったかどうかで使用の有無を識別してもよい。また、フィルム５９Ａ，５９Ｂは、第１溝部５２ａ，５７ａ及び第２溝部５２ｂ，５７ｂのうちのどの部分に設けておいてもよい。また、フレーム５０，５５にはフィルム５９Ａ，５９Ｂを設けることなく、他の方法（例えば作業者がラベルを剥離する等の方法）でケミカルフィルタの使用の有無を確認してもよい。

　（９）また、フレーム５０内のケミカルフィルタ５１（濾材）は、その中を通過する気体中の有機系ガス（有機物）を除去し、フレーム５５内のケミカルフィルタ５６（濾材）は、その中を通過する気体中のアルカリ性ガス及び酸性ガスを除去しているため、露光本体部４が収納されるチャンバ１０内に不純物が高度に除去された空気を供給できる。
　（１０）また、本実施形態の露光装置ＥＸは、露光光ＥＬでレチクルＲのパターン及び投影光学系ＰＬを介してウエハＷ（基板）を露光する露光装置において、ウエハＷを露光する露光本体部４を収納するチャンバ１０と、本実施形態のフィルタ装置２６と、チャンバ１０の外部から取り込まれた空気をフィルタ装置２６を介してチャンバ１０内に送風する空調装置３０と、を備えている。

　本実施形態によれば、フィルタボックス３８，４０（ケミカルフィルタ５１，５６）の設置及び交換を効率的に行うことができ、フィルタボックス３８，４０のフレーム５０，５５間の位置決めを高精度に行うことができる。従って、露光装置のメンテナンスを効率的に行うことができ、かつチャンバ１０内の空気の不純物を高精度に除去できる。
　なお、本実施形態において、ローダ室１０ｂ内の局所空調装置６０のフィルタボックス６３，６４のフレームとしても、フィルタボックス３８，４０のフレーム５０，５５と同様の案内溝が形成されたフレームを使用し、フィルタボックス６３，６４をケーシング２８と同様に軸部材４８Ａ，４９Ａ，７２Ｄ，７３Ｄ等を備えたケーシングに収納してもよい。

　本実施形態では、軸部材７２Ｄの先端部の直径φＤは軸部材４８Ａの先端部の直径φＡよりも大きく且つ軸部材７２Ｄの先端部の直径φＤは、案内溝５２の溝部５２ａ，５２ｂの幅ａ１よりも大きく（φＡ<ａ１<φＤ）することで、軸部材７２Ｄの先端部がフレーム５０の案内溝５２（溝部５２ａ，５２ｂ）を通過できなくした。しかし、必ずしも軸部材７２Ｄの先端部の直径φＤを案内溝５２の溝部５２ａ（５２ｂ）の幅ａ１よりも大きくしなくてもよい。軸部材４８Ａの先端部の直径φＡより軸部材７２Ｄの先端部の直径φＤを大きくし、案内溝５２の溝部５２ａ（５２ｂ）の幅ａ１より案内溝５７の溝部５７ａ（５７ｂ）の幅ｂ１を大きくすることで、作業者の感覚または視覚を拠り所にして、ケーシング２８内で、フレーム５０（フィルタボックス３８）をフレーム５５（フィルタボックス４０）が設置されるべき位置に誤って設置すること、及びフレーム５５をフレーム５０が設置されるべき位置に誤って設置することが予防される。この場合、軸部材４８Ａの先端部の直径φＡと案内溝５２の溝部５２ａ（５２ｂ）の幅ａ１との関係（比率または差）と、軸部材７２Ｄの先端部の直径φＤと案内溝５７の溝部５７ａ（５７ｂ）の幅ｂ１との関係（比率または差）をほぼ同一とすることができる。

　［第２の実施形態］
　次に、第２の実施形態につき図７を参照して説明する。本実施形態は、露光装置が備えるフィルタ装置の所定のフィルタボックスのフレームの幅及び案内溝（凹凸形成部）の形状（深さ）を変えたものである。以下、図７において、図３（Ａ）に対応する部分には同一符号を付してその詳細な説明を省略する。

　図７は、本実施形態のフィルタ装置２６Ａの収容ボックス２７Ａのケーシング２８を正面（前面）から見て、かつ一部を切り欠いた図である。図７において、ケーシング２８内の上下の仕切り板４２Ａ及び４２Ｃ上にそれぞれケミカルフィルタ５１を保持する３段の第１のフィルタボックス３８が載置され、中央の仕切り板４２Ｂ上にそれぞれケミカルフィルタ５６を保持する３段の第２のフィルタボックス４０Ａが載置されている。ケーシング２８の内面には、仕切り板４２Ａ，４２Ｃ上のフィルタボックス３８のフレーム５０の一対の側面の案内溝５２及び５３（第１凹凸形成部）に係合する軸部材４８Ａ～４８Ｃ及び４９Ａ～４９Ｃ（第１係合部）が着脱可能に固定されている。

　また、仕切り板４２Ｂ上の第２のフィルタボックス４０Ａは、ケミカルフィルタ５６を保持する上下に開口が形成された箱状のフレーム５５Ａを有する。フレーム５５ＡのＹ方向の幅は、フレーム５０のＹ方向の幅より狭いとともに、フレーム５５ＡのＹ方向の一対の側面に、それぞれ案内溝５２，５３と同じ形状のそれぞれ互いに連結された第１溝部（第３凹部）及び第２溝部（第４凹部）を有する案内溝５２Ａ，５３Ａ（第２凹凸形成部）が対称に形成されている。フレーム５５Ａの底面には、フレーム５０の底面に固定されたガスケット５４よりも小さい矩形の枠状のガスケット５４Ａが固定されている。ここで、フィルタボックス３８のフレーム５０の＋Ｙ方向の側面において、案内溝５２を囲む面を外面Ｓ１、案内溝５２内の凹面を内面Ｓ３と呼び、フィルタボックス４０Ａのフレーム５５Ａの＋Ｙ方向の側面において、案内溝５２Ａを囲む面を外面ＳＡ１、案内溝５２Ａ内の凹面を内面ＳＡ３と呼ぶ。

　本実施形態において、フレーム５０及びフレーム５５Ａのそれぞれの中心は、Ｚ軸に平行な同一直線上にあり、フレーム５５Ａの外面ＳＡ１はフレーム５０の案内溝５２の内面Ｓ３よりも内側（－Ｙ方向側）にある。このとき、フレーム５５Ａの案内溝５２Ａの内面ＳＡ３はフレーム５０の案内溝５２の内面Ｓ３よりも内側にあるため、案内溝５２Ａは案内溝５２より深いとみなすことも可能である。同様に、フレーム５５Ａの他方の案内溝５３Ａもフレーム５０の案内溝５３より深いとみなすことが可能である。案内溝５２Ａ、５３Ａの深さＤＡ（ここでは、外面Ｓ１と内面ＳＡ３との間隔）と、案内溝５２、５３の深さＤＢ（ここでは、外面Ｓ１と内面Ｓ３の間隔）との差は、１０ｍｍ以上、好ましくは２０ｍｍ以上に設定することができる。

　また、ケーシング２８の内面には、仕切り板４２Ｂ上の３段のフィルタボックス４０Ａのフレーム５５Ａの一対の側面の案内溝５２Ａ，５３Ａに係合する互いに同じ形状の軸部材７４Ｄ～７４Ｆ及び７５Ｄ～７５Ｆ（第２係合部）が固定されている。軸部材７４Ｆ，７５Ｆはネジ部７４Ｆａ，７５Ｆａがケーシング２８のネジ穴８１Ｆ，８２Ｆに着脱可能に固定され、他の軸部材７４Ｄ，７５Ｄ等も同様にネジ止めで着脱可能に固定されている。軸部材７４Ｄ，７５Ｄ等の案内溝５２Ａ，５３Ａに係合する先端部は、回転軸受け（不図示）を介して回転可能に支持されている。なお、回転軸受けは省略可能である。

　さらに、軸部材４８Ｃの先端面Ｓ２は、フレーム５０の外面Ｓ１と案内溝５２の内面Ｓ３との間に位置し、軸部材７４Ｆの先端面ＳＡ２は、フレーム５５Ａの外面ＳＡ１と案内溝５２Ａの内面ＳＡ３との間に位置している。この場合、フレーム５５Ａの外面ＳＡ１はフレーム５０の内面Ｓ３より内側であるため、フレーム５５Ａの案内溝５２Ａに係合する軸部材７４Ｆ（７４Ｄ，７４Ｅ）の長さＬ２は、フレーム５０の案内溝５２に係合する軸部材４８Ｃ（４８Ａ）の長さＬ１よりも長い。同様にフレーム５５Ａの他方の案内溝５３Ａに係合する軸部材７５Ｄ～７５Ｆも軸部材４９Ｃよりも長い。特に、ケーシング２８に固定された軸部材４８Ａ～４８Ｃ，４９Ａ～４９Ｃの長さ（Ｌ１）は、軸部材７４Ｄ～７４Ｆ，７５Ｄ～７５Ｆの長さ（Ｌ２）に対して、フィルタボックス３８（フレーム５０）が配置される所定位置に（仕切り板４２Ａ上に）フィルタボックス４０Ａ（フレーム５５Ａ）を載置しようとすると、軸部材４８Ａ，４９Ａがフレーム５５Ａの案内溝５２Ａ，５３Ａに同時には係合できなくなること及び／または、フィルタボックス４０Ａ（フレーム５５Ａ）が配置される所定位置に（中央の仕切り板４２Ｂ上に）フィルタボックス３８（フレーム５０）を載置しようとすると、軸部材７４Ｄ，７５Ｄの少なくとも一方が案内溝５２，５３を通過できなくなる（係合できなくなる）ように調整する（短くする）ことが望ましい。

　なお、軸部材４８Ａ～４８Ｃ，４９Ａ～４９Ｃの長さ（Ｌ１）と、軸部材７４Ｄ～７４Ｆ、７５Ｄ～７５Ｆの長さＬ２との差は、ケーシング２８内にフィルタボックス３８、４０を収容する際、ケーシング２８の内壁面とフィルタボックス３８、４０の側面との間隔を考慮して、１０ｍｍ以上、好ましくは２０ｍｍ以上に設定することができる。
この他の構成は第１の実施形態と同様である。

　本実施形態の効果等は以下の通りである。
　（１）本実施形態のフィルタボックス３８，４０Ａ又はフィルタ装置２６Ａによれば、フレーム５０，５５Ａを収納するケーシング２８側に軸部材４８Ａ等及び軸部材７４Ｄ等が設けられている。そして、フレーム５０，５５Ａの案内溝５２，５２Ａに沿ってそれぞれ軸部材４８Ａ，７４Ｄ等が相対的に移動するように、フレーム５０，５５Ａを移動することによって、フレーム５０，５５Ａのケーシング２８に対する設置を効率的に、かつ容易に位置決めできるように行うことができる。さらに、フレーム５０，５５Ａを逆方向に移動することで、フレーム５０，５５Ａをケーシング２８から効率的に搬出できる。従って、ケーシング２８内の複数のフィルタボックス３８，４０Ａ（ひいてはケミカルフィルタ５１，５６）の交換を効率的に行うことができる。

　（２）また、フィルタ装置２６Ａのフィルタボックス４０Ａのフレーム５５Ａの案内溝５２Ａ，５３Ａが形成された一対の側面の幅は、フィルタボックス３８のフレーム５１の案内溝５２，５３が形成された一対の側面の幅よりも狭く、案内溝５２Ａ，５３Ａは案内溝５２，５３よりも深いとみなすことが可能である。このため、フィルタボックス３８（ケミカルフィルタ５１）とフィルタボックス４０Ａ（ケミカルフィルタ５６）とを外観から容易に識別できる。

　（３）さらに、ケーシング２８に固定された軸部材４８Ａ～４８Ｃ，４９Ａ～４９Ｃの長さＬ１を軸部材７４Ｄ～７４Ｆ，７５Ｄ～７５Ｆの長さＬ２に対して上記の望ましい長さに調整する（短くする）ことにより、仕切り板４２Ａ上にフィルタボックス４０Ａ（フレーム５５Ａ）を載置しようとしても、軸部材４８Ａ，４９Ａはフレーム５５Ａの案内溝５２Ａ，５３Ａに同時には係合できないため、仕切り板４２Ａ上に誤ってフィルタボックス４０Ａを設置することを防止できる。逆に、中央の仕切り板４２Ｂ上にフィルタボックス３８（フレーム５０）を載置しようとすると、軸部材７４Ｄ，７５Ｄの少なくとも一方が案内溝５２，５３を通過できないため、仕切り板４２Ｂ上に誤ってフィルタボックス３８を設置することを防止できる。

　本実施形態では、以下のような変形が可能である。
　（１）フィルタボックス４０Ａのフレーム５５ＡのＹ方向の幅をフィルタボックス３８のフレーム５０のＹ方向の幅と同じにして、フレーム５５ＡのＹ方向の一対の側面の案内溝５２Ａ，５３Ａの深さを内面ＳＡ３まで深く加工してもよい。この場合、軸部材７４Ｄ，７５Ｄをそのまま使用しても、軸部材７４Ａ，７５Ｄに沿ってフィルタボックス４０Ａを円滑に移動可能であり、かつフィルタボックス３８，４０Ａを外観から容易に識別可能である。

　（２）フィルタボックス４０Ａのフレーム５５Ａの一対の側面に、図２のフィルタボックス４０のフレーム５５に形成された案内溝５７，５８（凹凸形成部）と同じ形状の幅の広い案内溝を形成してもよい。この場合には、図７の中段の軸部材７４Ｄ～７４Ｆ，７５Ｄ～７５Ｆの代わりに、軸部材７４Ｄ，７５Ｄと同じ長さで、かつ先端部の直径が図２の軸部材７２Ｄ，７３Ｄと同じ軸部材を固定することで、ケーシング２８に対するフィルタボックス４０Ａの設置及び搬出を容易に行うことができる。

　また、上記の第１及び第２の実施形態では次のような変形が可能である。
　上記の各実施形態において、フレーム５０の側面の案内溝５２，５３（凹凸形成部）以外の部分を凸部（凸形成部）とした場合、この凸部を別部材で形成してもよい。他のフレーム５５，５５Ａも、このように同様に構成してもよい。
　さらに、上記の各実施形態のフィルタ装置２６，２６Ａには、６段のフレーム５０（フィルタボックス３８）及び３段のフレーム５５，５５Ａ（フィルタボックス４０，４０Ａ）が設置されているが、設置されるフィルタボックス３８の個数は任意であり、フィルタボックス４０，４０Ａの個数も任意である。

　また、フィルタ装置２６，２６Ａのケーシング２８は仕切り板４２Ａ～４２Ｃで複数の空間に仕切られているが、ケーシング２８内を仕切り板４２Ａ～４２Ｃで仕切ることなく、単にフレーム５０及び５５（５５Ａ）（フィルタボックス３８及び４０（４０Ａ））を例えば交互に積み重ねることも可能である。
　なお、フレーム５５，５５Ａ内のケミカルフィルタ５６は、例えばその中を通過する気体中のアルカリ性物質及び酸性物質の少なくとも一方を除去するフィルタでもよい。

　さらに、フレーム５０，５５，５５Ａ内のフィルタは、ケミカルフィルタ以外の任意のフィルタ（濾材）も使用できる。例えば、フレーム５０，５５，５５Ａ内のフィルタとしては、ＨＥＰＡフィルタ又はＵＬＰＡフィルタのような微小な粒子（パーティクル）を除去するための防塵フィルタを用いることも可能である。
　また、上記実施形態では、第２溝部５２ｂ，５７ｂがフレーム５０，５５の上端まで貫通して形成されている例を示したが、第２溝部５２ｂ，５７ｂがフレーム５０，５５の上端に至る前にとどまっていてもよい。この場合、第２溝部５２ｂ，５７ｂの上端が係止部を有する。こうすることで、使用者がフィルタボックスの上下方向の装着位置を誤った場合に、第２溝部５２ｂ，５７ｂの上端の係止部の存在により操作者の手に急な負荷がかかることが防止される。

　上記実施形態において、特定の形状の溝及び凹凸形成部を図面により示したが、それらの形状に限定されず、任意の形状にし得る。軸部材についても、実施形態で示した円柱形状に限らず、四角柱状などの種々の形状の軸部材を使用しうる。
　上記実施形態において、フィルタボックス３８，４０を一つずつ、ケーシング２８中の適切な位置に装填したが、２又は３個のような複数のフィルタボックスを重ねて同時にケーシング２８中に装填してもよい。この場合には、例えば、２個（又は３個）のフィルタボックスのうち最も下に位置するフィルタボックスに対してその上に残りのフィルタボックスを予め位置合わせして設置した後、それらのフィルタボックスをケーシング２８中に装填すればよい。この際に、積み重ねられたフィルタボックスのうち最も下に位置するフィルタボックスだけを、対応する軸部材に係合させてケーシング２８中の適切な位置に装填すれば、重ね合わせられた全てのフィルタボックスが自動的に位置合わせされることになる。それゆえ、そのような場合には、積み重ねられたフィルタボックスのうち最も下に位置するフィルタボックスに対応する軸部材だけがあれば足り、他の軸部材を設けなくてもよい。例えば、ケーシング２８の第１空間２８ｃに３つのフィルタボックス３８を重ね合わせて一度に装填する場合には、軸部材４８Ｇ及び／又は４９Ｇだけを設けて、軸部材４８Ｈ，４８Ｉ，４９Ｈ,４９Ｉを用いなくてもよい。この場合、中断及び上段のフィルタボックス３８のフレーム５０の両側面には、第１溝部５２ａ及び第２溝部５２ｂを形成しなくてもよい。

　また、上記の実施形態の露光装置ＥＸを用いて半導体デバイス等の電子デバイス（又はマイクロデバイス）を製造する場合、電子デバイスは、図８に示すように、電子デバイスの機能・性能設計を行うステップ２２１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ２２２、デバイスの基材である基板（ウエハ）を製造してレジストを塗布するステップ２２３、前述した実施形態の露光装置によりマスクのパターンを基板（感応基板）に露光する工程、露光した基板を現像する工程、現像した基板の加熱（キュア）及びエッチング工程などを含む基板処理ステップ２２４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程などの加工プロセスを含む）２２５、並びに検査ステップ２２６等を経て製造される。

　従って、このデバイス製造方法は、上記の実施形態の露光装置を用いて基板上に感光層のパターンを形成することと、そのパターンが形成された基板を処理すること（ステップ２２４）とを含んでいる。その露光装置によれば、メンテナンスコストを低減でき、露光精度を向上できるため、電子デバイスを安価に高精度に製造できる。
　なお、上記の実施形態では、空調用の気体として空気が使用されているが、その代わりに窒素ガス若しくは希ガス（ヘリウム、ネオン等）、又はこれらの気体の混合気体等を使用してもよい。

　また、本発明は、走査露光型の投影露光装置のみならず、一括露光型（ステッパー型）の投影露光装置を用いて露光する場合にも適用することが可能である。
　また、本発明は、投影光学系を使用しないプロキシミティ方式やコンタクト方式の露光装置等で露光を行う際にも適用できる。
　また、本発明は、半導体デバイスの製造プロセスへの適用に限定されることなく、例えば、角型のガラスプレートに形成される液晶表示素子、若しくはプラズマディスプレイ等のディスプレイ装置の製造プロセスや、撮像素子（ＣＣＤ等）、マイクロマシーン、ＭＥＭＳ(Microelectromechanical Systems：微小電気機械システム)、薄膜磁気ヘッド、及びＤＮＡチップ等の各種デバイスの製造プロセスにも広く適用できる。更に、本発明は、各種デバイスのマスクパターンが形成されたマスク（フォトマスク、レチクル等）をフォトリソグラフィ工程を用いて製造する際の、製造工程にも適用することができる。

　このように、本発明は上述の実施形態に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成を取り得ることは勿論である

　上記態様によれば、例えば第１及び第２フレームを収納する収容部側に第１凸部（第１係合部）及び第２凸部（第２係合部）を設けておき、第１フレームの第１凹凸形成部及び第２フレームの第２凹凸形成部に沿ってそれぞれ第１凸部及び第２凸部が相対的に移動するように、第１及び第２フレームを移動することによって、第１及び第２フレームのその収容部に対する設置を効率的に、かつ容易に位置決めできるように行うことができる。さらに、第１及び第２フレームのその収容部からの搬出を効率的に行うことができる。従って、第１及び第２フレーム（第１及び第２フィルタボックス）によって保持されている第１及び第２フィルタの設置又は交換を効率的に行うことができる。また、第１フレームの第１凹部及び第２凹部と、第２フレームの第３凹部及び第４凹部とは、互いに幅及び深さの少なくとも一方が異なっているため、例えば第１及び第２フィルタの種類が異なっている場合に、この種類の異なるフィルタ（フィルタボックス）の設置位置を誤ることを容易に防止できる。

Claims

　第１フィルタ及び第２フィルタを含む複数のフィルタを保持する複数のフィルタボックスであって、
　前記第１フィルタを保持するとともに、少なくとも一方の側面に第１凹凸形成部が設けられた箱状の第１フレームを有する第１フィルタボックスと、
　前記第２フィルタを保持するとともに、少なくとも一方の側面に第２凹凸形成部が設けられた箱状の第２フレームを有する第２フィルタボックスと、を備え、
　前記第１凹凸形成部は、前記第１フレームの上端と下端との間に配置され、かつ前記第１フレームの前記少なくとも一方の側面の側端に連通する第１凹部と、前記第１凹部に連通し、かつ前記第１フレームの上端に向かって延びる第２凹部とを有し、
　前記第２凹凸形成部は、前記第２フレームの上端と下端との間に配置され、かつ前記第２フレームの前記少なくとも一方の側面の側端に連通する第３凹部と、前記第３凹部に連通し、かつ前記第２フレームの上端に向かって延びる第４凹部とを有し、
　前記第１凹部及び前記第２凹部と、前記第３凹部及び前記第４凹部とは、互いに幅及び深さの少なくとも一方が異なるフィルタボックス。
　前記第１凹凸形成部の前記第１凹部及び前記第２凹部と、前記第２凹凸形成部の前記第３凹部及び前記第４凹部とは、互いに幅が異なる請求項１に記載のフィルタボックス。
　前記第１凹凸形成部の前記第１凹部及び前記第２凹部と、前記第２凹凸形成部の前記第３凹部及び前記第４凹部とは、互いに深さが異なる請求項１に記載のフィルタボックス。
　前記第１フレームと前記第２フレームとは、互いに前記第１凹凸形成部及び前記第２凹凸形成部が設けられた側面とこの側面に対向する側面との幅が異なる請求項３に記載のフィルタボックス。
　前記第１凹凸形成部及び前記第２凹凸形成部は、それぞれ前記第１フレーム及び前記第２フレームの一対の側面にほぼ対称に設けられる請求項１に記載のフィルタボックス。
　前記第１フレームの少なくとも一方の側面の前記第１凹部と前記第１フレームの上端との間、及び前記第２フレームの少なくとも一方の側面の前記第３凹部と前記第２フレームの上端との間に、それぞれ第５凹部が設けられた請求項１に記載のフィルタボックス。
　前記第１フィルタボックスと前記第２フィルタボックスとは、互いに重なるように配置される請求項１に記載のフィルタボックス。
　前記第１フィルタ及び前記第２フィルタは互いに異なる種類のケミカルフィルタである請求項１に記載のフィルタボックス。
　前記第１フィルタは、前記第１フィルタを通過する気体中の有機物を除去し、
　前記第２フィルタは、前記第２フィルタを通過する気体中のアルカリ性物質及び酸性物質の少なくとも一方を除去する請求項１に記載のフィルタボックス。
　フィルタを収容するフィルタ装置であって、
　請求項１に記載のフィルタボックスと、
　前記フィルタボックスの前記第１フレーム及び前記第２フレームを収容する収容部と、を備え、
　前記収容部は、前記第１フレームの前記第１凹部に係合して前記第１フレームを支持するとともに、前記第１フレームの前記第２凹部に係合して前記第１フレームの支持を解除する第１係合部と、前記第２フレームの前記第３凹部に係合して前記第２フレームを支持するとともに、前記第２フレームの前記第４凹部に係合して前記第２フレームの支持を解除する第２係合部とを有するフィルタ装置。
　フィルタを収容するフィルタ装置であって、
　請求項２に記載のフィルタボックスと、
　前記フィルタボックスの前記第１フレーム及び前記第２フレームを収容する収容部と、を備え、
　前記収容部は、前記第１フレームの前記第１凹部に係合して前記第１フレームを支持するとともに、前記第１フレームの前記第２凹部に係合して前記第１フレームの支持を解除する棒状の第１係合部と、前記第２フレームの前記第３凹部に係合して前記第２フレームを支持するとともに、前記第２フレームの前記第４凹部に係合して前記第２フレームの支持を解除する前記第１係合部と外径が異なる棒状の第２係合部とを有するフィルタ装置。
　前記第１凹凸形成部の前記第１凹部及び前記第２凹部の幅が、前記第２凹凸形成部の前記第３凹部及び前記第４凹部の幅より小さく、第１係合部の外径が第２係合部の外径より小さく、且つ第１凹部及び前記第２凹部の幅が第２係合部の外径より小さいことを特徴とする請求項１１に記載のフィルタ装置。
　フィルタを収容するフィルタ装置であって、
　請求項３に記載のフィルタボックスと、
　前記フィルタボックスの前記第１フレーム及び前記第２フレームを収容する収容部と、を備え、
　前記収容部は、前記第１フレームの前記第１凹部に係合して前記第１フレームを支持するとともに、前記第１フレームの前記第２凹部に係合して前記第１フレームの支持を解除する棒状の第１係合部と、前記第２フレームの前記第３凹部に係合して前記第２フレームを支持するとともに、前記第２フレームの前記第４凹部に係合して前記第２フレームの支持を解除する前記第１係合部と長さが異なる棒状の第２係合部とを有するフィルタ装置。
　第１フィルタボックスの両側面に第１凹凸形成部がそれぞれ設けられ、第２フィルタボックスの両側面に第２凹凸形成部がそれぞれ設けられて、前記収容部に一対の第１係合部と一対の第２係合部が設けられ、前記一対の第２係合部を第１フィルタボックスの両側面の第１凹凸形成部に係合しようとするときに、前記一対の第２係合部の少なくとも一方が第１凹凸形成部に係合できない及び／または前記一対の第１係合部を第２フィルタボックスの両側面の第２凹凸形成部に係合しようとするときに、前記一対の第１係合部の少なくとも一方が第２凹凸形成部に係合できないように、第２係合部の長さが第１係合部の長さに対して調整されている請求項１３に記載のフィルタ装置。
　前記第１係合部及び前記第２係合部は、それぞれ前記第１フレーム及び前記第２フレームと接触する部分に設けられた回転軸受けを有する請求項１０に記載のフィルタ装置。
　前記第１フィルタボックス及び前記第１係合部を複数対備え、
　前記第２フィルタボックス及び前記第２係合部を複数対備えることを特徴とする請求項１０に記載のフィルタ装置。
　露光光でパターンを介して基板を露光する露光装置において、
　前記基板を露光する露光本体部を収納するチャンバと、
　請求項１０に記載のフィルタ装置と、
　前記チャンバの外部から取り込まれた気体を前記フィルタ装置を介して前記チャンバ内に送風する空調装置と、
を備える露光装置。
　請求項１７に記載の露光装置を用いて感光性基板を露光することと、
　前記露光された感光性基板を処理することと、を含むデバイス製造方法。