WO2012084451A1 - Optoelectronic semiconductor component - Google Patents

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WO2012084451A1
WO2012084451A1 PCT/EP2011/071534 EP2011071534W WO2012084451A1 WO 2012084451 A1 WO2012084451 A1 WO 2012084451A1 EP 2011071534 W EP2011071534 W EP 2011071534W WO 2012084451 A1 WO2012084451 A1 WO 2012084451A1
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light
semiconductor component
light source
conversion element
potting body
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PCT/EP2011/071534
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Christian Gärtner
Ales Markytan
Albert Schneider
Stephan Kaiser
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Osram Opto Semiconductors Gmbh
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    • H01L33/60Reflective elements

Definitions

  • Optoelectronic Semiconductor Device An optoelectronic semiconductor device is specified.
  • An object to be solved is to specify an optoelectronic semiconductor component which exhibits a uniform color emission as a function of an emission angle.
  • this comprises a first light source.
  • the first light source is configured to emit green light, white light or white ⁇ green light.
  • the first light source has one or more optoelectronic semiconductor chips which are set up to emit light in the blue spectral range during operation of the semiconductor component.
  • the at least one semiconductor chip is preferably a light-emitting diode, in short LED, or a laser diode. Blue spectral range in particular means that a maximum
  • emitted light referred to a full width at half the height of the maximum, also referred to as FWHM, is preferably less than 20 nm and lies in particular between
  • the first light source comprises a first conversion element.
  • the conversion element is preferably attached directly to the semiconductor chip. Immediately does not exclude that between the first conversion element and the
  • Semiconductor chip is a connecting means such as an adhesive, with which the first conversion element on the semiconductor chip is appropriate.
  • a connecting means such as an adhesive, with which the first conversion element on the semiconductor chip is appropriate.
  • a maximum distance of a semiconductor chip remote from the main side of the first conversion element to the semiconductor chip is preferably at most 200 ⁇ , in particular at most 160 ⁇ , at most 120 ⁇ , at most 80 ⁇ or at most 40 ⁇ .
  • the first conversion element is preferably arranged downstream of the semiconductor chip of the first light source.
  • the first conversion element completely or partially covers the main radiation side of the semiconductor chip.
  • the conversion element preferably has a transparent matrix material, to which a conversion agent is added.
  • Conversion means and thus the first conversion element is adapted to at least partially absorb light from the semiconductor chip and into light from another
  • the first conversion element can by means of a dispensing process directly on the
  • Matrix material to be glued to the semiconductor chip comprises a second light source, which is set up to emit red light during operation of the semiconductor component
  • red light means that a wavelength at which a maximum intensity is emitted is in the spectral range between 600 nm and 660 nm inclusive.
  • the second light source has at least one semiconductor chip which emits in the blue spectral range and to which a second conversion element is preferably arranged directly downstream, the second conversion element being blue Light of the semiconductor chip partially or completely
  • the second conversion element is arranged downstream only of the semiconductor chips of the second light source. Alternatively or
  • the second light source has a
  • this semiconductor chip then preferably no second conversion element is arranged downstream.
  • the second conversion element can analogously to the first
  • Conversion element be configured.
  • this has a third light source.
  • Light source is designed to operate during operation of the
  • the light source has at least one semiconductor chip which emits in the blue spectral range.
  • the third light source is free of a conversion element.
  • this includes a potting body.
  • the potting body comprises a matrix material, for example a silicone, an epoxide, a silicone-epoxy hybrid material or a
  • the matrix material of the potting body is preferably at least partially transparent to light emitted by the light sources.
  • the matrix material is a
  • Embedded conversion means which is adapted to partially absorb light emitted by the light sources and converted into radiation of a different wavelength.
  • the potting body it is arranged downstream of the light sources.
  • the potting body covers each of the light sources partially or completely. So everyone follows
  • Light sources in places or over the entire surface, along the main emission of the respective semiconductor chips or along a main emission of the semiconductor device after a portion of the potting after.
  • the latter comprises a first light source which emits green, white or white-green light.
  • the first light source has one in the blue spectral range
  • the semiconductor component includes a second, in the red spectral region emitting light source.
  • the second light source comprises a semiconductor chip emitting in the blue spectral range, to which a second conversion element is arranged directly downstream, or the second light source comprises a semiconductor chip emitting directly in the red spectral range.
  • the semiconductor device has a third, blue light
  • Semiconductor device comprises a matrix material in which a conversion agent is embedded.
  • the potting body is arranged downstream of the light sources together.
  • the light emitted by the semiconductor chips of the first light source and the second light source reaches at least 75%, preferably at least 90%, in the first
  • all semiconductor chips are arranged on a common carrier.
  • the carrier is in particular a printed circuit board.
  • all the semiconductor chips are mounted on a common carrier main side of the carrier and are the same in their main emission directions
  • all semiconductor chips lie in a common plane.
  • the first conversion element is configured to emit radiation emitted by the semiconductor chip of the first light source that reaches the first conversion element to at most 80% or at most 70% or at most 60% or at most 40% to absorb and convert to a different wavelength.
  • the potting body is set up to convert at least 5% of light of the semiconductor chips of the first and the third light source emitting in the blue spectral range into a different wavelength.
  • the semiconductor component is set up to convert at least 5% of light of the semiconductor chips of the first and the third light source emitting in the blue spectral range into a different wavelength.
  • the light of the first light source has a color locus in the CIE standard color chart before entry into the potting body, wherein for coordinates of this color locus: 0.1 ⁇ c x ⁇ 0.31 and / or 0, 1 ⁇ c y ⁇ 0.32. Furthermore, the emits
  • white means that the mixed light emitted from the semiconductor device has a color locus whose color coordinates c x and c y each have a pitch of at most 0.02 units from the blackbody curve in the CIE standard color chart.
  • the combination of the three light sources makes it possible to achieve a high color rendering index R a of in particular at least 75 or at least 80 or at least 90.
  • the potting body in addition to the conversion agent, additionally has scattering particles.
  • the scattering particles are arranged to change the light striking the scattering particles in the direction.
  • a scattering particle is arranged to change the light striking the scattering particles in the direction.
  • the refractive index difference between the material is the
  • the material of the scattering particles is preferred
  • a proportion of these further scattering particles on the potting body is preferably at most 0.1% by volume or at most 0.1% by weight.
  • the potting body has an average thickness, in particular in a direction parallel to the main emission direction of the semiconductor device
  • Semiconductor component between 200 ⁇ and 800 ⁇ or between 300 ⁇ and 600 ⁇ on.
  • the thickness is in particular averaged over the entire lateral
  • the conversion agent and / or the scattering particles are each distributed homogeneously in the entire potting body. In other words, a targeted concentration gradient that goes beyond statistical fluctuations is not
  • the potting body and the first conversion element of the first light source contain the same conversion means
  • the conversion agent is in the first
  • Conversion element higher concentrated than in the Potting means that a material composition of the conversion agent within the manufacturing tolerances for the potting body and for the first conversion element is the same. Also preferred is a shape of particles of the conversion agent in each case
  • the potting body, the first conversion element and the second conversion element each have a respective one another
  • the potting body is free of conversion agents in the
  • Conversion elements are present. It is possible that the potting body and the conversion elements contain mixtures of different conversion agents.
  • some or all of the semiconductor chips have the
  • Main emission each at least in places mounted a reflector potting.
  • the semiconductor chips are thus completely or partially surrounded in the lateral direction by the reflector casting.
  • the reflector casting is preferably in direct, physical contact with the semiconductor chips in the lateral direction, in particular with respect to each individual one of the semiconductor chips.
  • the potting body is arranged downstream of the reflector potting and applied at least in places directly on the reflector potting and / or on the semiconductor chip of the third light source and / or on the first conversion element and / or on the second conversion element.
  • the potting body covers the entire reflector potting.
  • the potting body is then in direct, physical contact with the components mentioned.
  • the reflector potting as seen in one direction along the main emission direction, is flush with the reflector
  • a tolerance for flush termination is preferably at most 40 ⁇ or at most 20 ⁇ .
  • Reflektorverguss seen along the main emission direction, does not reach up to the main radiation sides of the semiconductor chips or that the reflector Verguss the
  • the main radiation sides of the semiconductor chips are preferably not covered by the reflector casting.
  • the semiconductor chips are each spaced apart from one another. In other words, then the semiconductor chips do not touch each other. In particular, in each case one material of the reflector casting and / or of the potting body is located between adjacent semiconductor chips. According to at least one embodiment of the semiconductor component, the light sources and / or the semiconductor chips are electrically controllable independently of one another. This is the
  • each is on InGaN
  • the third light source is free of the first and the second conversion element and is not covered by these.
  • the potting body is the only component which has a conversion means and is arranged downstream of the third light source in a radiation direction.
  • FIGS 1 to 4 are schematic representations of
  • Figure 1 is an embodiment of a
  • the semiconductor device 10 has a carrier 7 with a
  • Connection points 9a, 9c are formed flat.
  • Connection points 9a, 9b, 9c, 9d are formed from a metal or a metal alloy and preferably have a thickness of between 5 ⁇ and 150 ⁇ , in particular
  • connection points 9a, 9b on the carrier main side 70 are preferably not shown through vias each with the
  • Connection points 9c, 9d electrically and / or thermally connected to the underside of the carrier 7.
  • the carrier 7 is, for example, a ceramic carrier with a high thermal conductivity.
  • the semiconductor device 10 includes a first light source 1 for emitting green-white light, a second light source 2 for emitting red light, and a third light source 3 for emitting blue light.
  • Semiconductor chips 4 of the light sources 1, 2, 3 are respectively on the connection points 9a on the
  • Carrier main side 70 mounted in a common plane. All semiconductor chips 4 are identical and emit in the
  • the first light source 1 comprises two of the semiconductor chips 4, the second light source 2 and the third light source 3 each have only one of the semiconductor chips 4.
  • the number of semiconductor chips 4 in the exemplary embodiments of the semiconductor components 10 may differ from the illustrated number in each case.
  • a thickness of Semiconductor chips along a main emission direction M is in particular between 80 ⁇ and 200 ⁇ inclusive.
  • the semiconductor chips 4 of the first light source 1 are followed by a first conversion element 11.
  • the first conversion element 11 The first
  • Conversion element 11 is for example a
  • Silicone plate containing a conversion agent containing a conversion agent. A thickness of the first conversion element 11 along the
  • Main emission direction M of the semiconductor device 10, perpendicular to the main carrier side 70, is in particular between 30 ⁇ and 150 ⁇ .
  • the tile is for
  • Light source 1 emitted blue radiation partially too
  • Conversion element 11 preferably has a maximum
  • Conversion element 11 extends for example from
  • 530 nm to 580 nm or 510 nm to 610 nm inclusive including 530 nm to 580 nm or 510 nm to 610 nm inclusive.
  • 510 nm to 610 nm inclusive including 530 nm to 580 nm or 510 nm to 610 nm inclusive.
  • Conversion Particles Particles or with a rare-earth-doped garnet such as YAG: Ce.
  • Conversion element 22 is preferably between
  • the second conversion element 22 comprises a rare-earth-doped orthosilicate such as (Ba, Sr 2 SiO 2 Eu or a rare earth-doped silicon oxynitride or silicon nitride such as (Ba, Sr) 2 Si 5 N 8 : Eu.
  • a rare-earth-doped orthosilicate such as (Ba, Sr 2 SiO 2 Eu or a rare earth-doped silicon oxynitride or silicon nitride such as (Ba, Sr) 2 Si 5 N 8 : Eu.
  • the third light source 3 is in this case free of a conversion element.
  • the semiconductor chips 4 are surrounded by a reflector potting 8 all around.
  • Reflektorverguss 8 extends, from the main carrier side 70 forth, not quite up to main radiation sides 40 of
  • the reflector potting 8 is for example by a
  • Matrix material formed of a silicone or an epoxy-silicone hybrid material in which reflective particles are embedded.
  • the reflective particles are preferably titanium dioxide particles or aluminum oxide particles or
  • Diameter of the particles are preferably between 0.3 ⁇ and 8 ⁇ and a
  • Weight fraction of the particles is preferably between
  • Reflektorverguss 8 with the semiconductor device off a viewer preferably white. Unlike in FIG. 1, it is also possible that the reflector casting 8 does not cover the entire carrier main side 70, but only areas near the semiconductor chips 4, for example the electrical connection points 9a.
  • An average thickness d of the potting body 6 is between 100 ⁇ and 800 ⁇ .
  • Matrix material of the potting body 6 are particles of a
  • the conversion means may be the same conversion means as in the first conversion element 11 or one thereof
  • Conversion agent in the potting 6 and / or in the conversion elements 11, 22 preferably have middle
  • a weight proportion of the particles on the potting body 6 is in particular between 5% and 25% inclusive.
  • the conversion means of the potting body 6 is a conversion means other than the conversion means of the first conversion element 11, then the conversion means preferably has a maximum emission at wavelengths smaller by between 5 nm and 15 nm than the first conversion element 11. In other words then the potting 6 short-wavelength and further lying in the blue radiation than the first conversion element 11th
  • the potting 6 scattering particles for example, the average diameter between including 1 ⁇ and 15 ⁇ or between 3 ⁇ and 10 ⁇ have.
  • the scattering particles are in particular formed from a silicon dioxide such as cristobalite and / or from a glass.
  • a refractive index difference between the scattering particles and the matrix material of the potting body 6 is preferably at most 0.05 at room temperature.
  • the potting body 6 has a planar, the carrier 7 facing away from the top. Furthermore, the potting body 6 is directly on the reflector potting 8 and on the conversion elements 11, 22 and the semiconductor chip 4 of the third light source third
  • Reflektorverguss 8 can be seen in Figure IC, however, in Figure 1B, the Reflektorverguss 8 and the potting 6 are not shown. By the potting 6 with the
  • the particles of the conversion agent in the potting body 6 are preferably absorbent for blue light and preferably only scattered for red and green light.
  • Reflektorvergusses 8 and the conversion elements 11, 22 may each be the same material to a good adhesion of said components to each other
  • the light sources 1, 2, 3 are independent of each other
  • a mixed light preferably white light and in terms of color temperature
  • the semiconductor chips 4 of the light sources 1, 2, 3 are identical to The semiconductor chips 4 of the light sources 1, 2, 3.
  • Light sources 1, 2, 3 can be inscribed in plan view, has dimensions of at least 1.5 mm x 1.5 mm, in particular of at least 2.1 mm x 2.1 mm or of
  • FIG. 2 shows a further exemplary embodiment of the invention
  • Sectional view and in Figure 2B is a plan view without the Reflektorverguss 8 and without the potting 6 to see.
  • the second light source 2 according to FIG red spectral region emitting semiconductor chip 5
  • the second light source 2 is thus free of a conversion element.
  • the light sources 1, 2, 3 are, in
  • the reflector casting 8 terminates, flush in a direction parallel to the main emission direction M, with the main radiation sides 40 of the semiconductor chips 4, 5.
  • the potting 6 is designed simultaneously as an optical element 60 in the form of a converging lens.
  • the conversion agent and preferably the scattering particles into the potting body 6 is then a particularly homogeneous,
  • Potting body 6 is almost independent of an emission angle of the light sources 1, 2, 3.
  • Potting body 6 is preferably between 200 ⁇ and 1800 ⁇ .
  • the conversion elements 11, 22 project beyond the semiconductor chips 4 in the lateral direction L and partially cover the reflector potting 8.
  • the potting body 6 is not in direct contact with the semiconductor chips 4. Contrary to what is shown, it is alternatively possible that the
  • Conversion elements 11, 22 do not completely cover the main radiation sides 40 and the main radiation sides 40 of the semiconductor chips 4 of the first and / or second light source 1, 2 are in direct contact with the reflector casting 8 and are covered by it.
  • the semiconductor chips 4 may be a silicon wafer with a thickness of the conversion elements 11, 22 downstream, said silicone plate is then free of a conversion agent.
  • a side facing the carrier 7 of the potting body 6 is flat. The side facing away from the carrier 7 of the potting body 6 is stepped in cross section.

Abstract

In at least one embodiment of the optoelectronic semiconductor component (10), the optoelectronic semiconductor component comprises a first light source (1), which emits white-green light. The first light source (I) has a semiconductor chip (4) that emits in the blue spectral range, on which a first converting element (II) is attached. The semiconductor component (10) further contains a second light source (2), which emits in the red spectral range. The second light source (2) comprises a semiconductor chip (4) that emits in the blue spectral range, downstream of which a second converting element (22) is arranged, or the second light source (2) comprises a semiconductor chip (5) that emits directly in the red spectral range. Furthermore, the semiconductor component (10) has a third light source (3), which emits blue light and which has a semiconductor chip (4) that emits in the blue spectral range. A potting body (6) of the semiconductor component (10) comprises a matrix material, in which a converting means is embedded. The potting body (6) is arranged downstream of the light sources (1, 2, 3) jointly.

Description

Beschreibung description
Optoelektronisches Halbleiterbauteil Es wird ein optoelektronisches Halbleiterbauteil angegeben. Optoelectronic Semiconductor Device An optoelectronic semiconductor device is specified.
Eine zu lösende Aufgabe besteht darin, ein optoelektronisches Halbleiterbauteil anzugeben, das in Abhängigkeit von einem Emissionswinkel eine gleichmäßige Farbabstrahlung aufzeigt. An object to be solved is to specify an optoelectronic semiconductor component which exhibits a uniform color emission as a function of an emission angle.
Gemäß zumindest einer Aus führungs form des Halbleiterbauteils umfasst dieses eine erste Lichtquelle. Die erste Lichtquelle ist dazu eingerichtet, grünes Licht, weißes Licht oder wei߬ grünes Licht zu emittieren. Es weist die erste Lichtquelle einen oder mehrere optoelektronische Halbleiterchips auf, die dazu eingerichtet sind, im Betrieb des Halbleiterbauteils Licht im blauen Spektralbereich zu emittieren. Bei dem mindestens einen Halbleiterchip handelt es sich bevorzugt um eine Leuchtdiode, kurz LED, oder um eine Laserdiode. Blauer Spektralbereich bedeutet insbesondere, dass eine maximaleAccording to at least one embodiment of the semiconductor component, this comprises a first light source. The first light source is configured to emit green light, white light or white ¬ green light. The first light source has one or more optoelectronic semiconductor chips which are set up to emit light in the blue spectral range during operation of the semiconductor component. The at least one semiconductor chip is preferably a light-emitting diode, in short LED, or a laser diode. Blue spectral range in particular means that a maximum
Intensität im Spektralbereich zwischen einschließlich 435 nm bis 470 nm emittiert wird. Eine spektrale Breite des Intensity in the spectral range between 435 nm to 470 nm is emitted. A spectral width of the
emittierten Lichts, bezogen auf eine volle Breite bei halber Höhe des Maximums, auch als FWHM bezeichnet, ist bevorzugt kleiner als 20 nm und liegt insbesondere zwischen emitted light, referred to a full width at half the height of the maximum, also referred to as FWHM, is preferably less than 20 nm and lies in particular between
einschließlich 10 nm und 20 nm. including 10 nm and 20 nm.
Gemäß zumindest einer Aus führungs form des Halbleiterbauteils umfasst die erste Lichtquelle ein erstes Konversionselement. Das Konversionselement ist an dem Halbleiterchip bevorzugt unmittelbar angebracht. Unmittelbar schließt nicht aus, dass sich zwischen dem ersten Konversionselement und dem According to at least one embodiment of the semiconductor component, the first light source comprises a first conversion element. The conversion element is preferably attached directly to the semiconductor chip. Immediately does not exclude that between the first conversion element and the
Halbleiterchip ein Verbindungsmittel wie ein Kleber befindet, mit dem das erste Konversionselement an dem Halbleiterchip angebracht ist. Entlang einer Hauptabstrahlrichtung des Semiconductor chip is a connecting means such as an adhesive, with which the first conversion element on the semiconductor chip is appropriate. Along a main radiation direction of the
Halbleiterchips, insbesondere entlang einer Richtung Semiconductor chips, in particular along one direction
senkrecht zu einer Strahlungshauptseite des Halbleiterchips, beträgt ein maximaler Abstand einer dem Halbleiterchip abgewandten Hauptseite des ersten Konversionselements zu dem Halbleiterchip bevorzugt höchstens 200 μπι, insbesondere höchstens 160 μπι, höchstens 120 μπι, höchstens 80 μπι oder höchstens 40 μπι. Bevorzugt ist das erste Konversionselement ausschließlich den Halbleiterchips der ersten Lichtquelle nachgeordnet. perpendicular to a main radiation side of the semiconductor chip, a maximum distance of a semiconductor chip remote from the main side of the first conversion element to the semiconductor chip is preferably at most 200 μπι, in particular at most 160 μπι, at most 120 μπι, at most 80 μπι or at most 40 μπι. The first conversion element is preferably arranged downstream of the semiconductor chip of the first light source.
Das erste Konversionselement bedeckt die Strahlungshauptseite des Halbleiterchips vollständig oder teilweise. Bevorzugt weist das Konversionselement ein transparentes Matrixmaterial auf, dem ein Konversionsmittel beigegeben ist. Das The first conversion element completely or partially covers the main radiation side of the semiconductor chip. The conversion element preferably has a transparent matrix material, to which a conversion agent is added. The
Konversionsmittel und somit das erste Konversionselement ist dazu eingerichtet, Licht des Halbleiterchips wenigstens teilweise zu absorbieren und in Licht einer anderen  Conversion means and thus the first conversion element is adapted to at least partially absorb light from the semiconductor chip and into light from another
Wellenlänge umzuwandeln. Das erste Konversionselement kann mittels eines Dispenserprozesses direkt auf den Wavelength convert. The first conversion element can by means of a dispensing process directly on the
Halbleiterchip aufgebracht sein oder auch in Form eines  Semiconductor chip be applied or in the form of a
Plättchens mit einem Silikon oder einer Keramik als Slide with a silicone or a ceramic as
Matrixmaterial auf dem Halbleiterchip aufgeklebt sein. Gemäß zumindest einer Aus führungs form des Halbleiterbauteils umfasst dieses eine zweite Lichtquelle, die dazu eingerichtet ist, im Betrieb des Halbleiterbauteils rotes Licht zu Matrix material to be glued to the semiconductor chip. According to at least one embodiment of the semiconductor component, the latter comprises a second light source, which is set up to emit red light during operation of the semiconductor component
emittieren. Rotes Licht bedeutet insbesondere, dass eine Wellenlänge, bei der eine maximale Intensität emittiert wird, im Spektralbereich zwischen einschließlich 600 nm und 660 nm liegt. Hierzu weist die zweite Lichtquelle mindestens einen Halbleiterchip auf, der im blauen Spektralbereich emittiert und dem ein zweites Konversionselement bevorzugt unmittelbar nachgeordnet ist, wobei das zweite Konversionselement blaues Licht des Halbleiterchips teilweise oder vollständig emit. In particular, red light means that a wavelength at which a maximum intensity is emitted is in the spectral range between 600 nm and 660 nm inclusive. For this purpose, the second light source has at least one semiconductor chip which emits in the blue spectral range and to which a second conversion element is preferably arranged directly downstream, the second conversion element being blue Light of the semiconductor chip partially or completely
absorbiert und in rotes Licht umwandelt. Bevorzugt ist das zweite Konversionselement ausschließlich den Halbleiterchips der zweiten Lichtquelle nachgeordnet. Alternativ oder absorbed and converted into red light. Preferably, the second conversion element is arranged downstream only of the semiconductor chips of the second light source. Alternatively or
zusätzlich hierzu weist die zweite Lichtquelle einen In addition, the second light source has a
Halbleiterchip auf, der unmittelbar Licht im roten Semiconductor chip on, the light directly in the red
Spektralbereich emittiert, wobei diesem Halbleiterchip dann bevorzugt kein zweites Konversionselement nachgeordnet ist. Das zweite Konversionselement kann analog zu dem ersten Spectral region emitted, wherein this semiconductor chip then preferably no second conversion element is arranged downstream. The second conversion element can analogously to the first
Konversionselement ausgestaltet sein. Conversion element be configured.
Gemäß zumindest einer Aus führungs form des Halbleiterbauteils weist dieses eine dritte Lichtquelle auf. Die dritte According to at least one embodiment of the semiconductor component, this has a third light source. The third
Lichtquelle ist dazu eingerichtet, im Betrieb des Light source is designed to operate during operation of the
Halbleiterbauteils blaues Licht zu emittieren. Die dritteSemiconductor device blue light to emit. The third
Lichtquelle weist hierzu mindestens einen Halbleiterchip auf, der im blauen Spektralbereich emittiert. Insbesondere ist die dritte Lichtquelle frei von einem Konversionselement. Gemäß zumindest einer Aus führungs form des Halbleiterbauteils beinhaltet dieses einen Vergusskörper. Der Vergusskörper weist ein Matrixmaterial, beispielsweise ein Silikon, ein Epoxid, ein Silikon-Epoxid-Hybridmaterial oder ein For this purpose, the light source has at least one semiconductor chip which emits in the blue spectral range. In particular, the third light source is free of a conversion element. According to at least one embodiment of the semiconductor component, this includes a potting body. The potting body comprises a matrix material, for example a silicone, an epoxide, a silicone-epoxy hybrid material or a
synthetisches Polymer auf Kohlenstoffbasis wie Polycarbonat auf. Das Matrixmaterial des Vergusskörpers ist bevorzugt mindestens teilweise transparent für von den Lichtquellen emittiertes Licht. In dem Matrixmaterial ist ein synthetic carbon-based polymer such as polycarbonate. The matrix material of the potting body is preferably at least partially transparent to light emitted by the light sources. In the matrix material is a
Konversionsmittel eingebettet, das dazu eingerichtet ist, von den Lichtquellen emittiertes Licht teilweise zu absorbieren und in Strahlung einer anderen Wellenlänge umzuwandeln. Embedded conversion means which is adapted to partially absorb light emitted by the light sources and converted into radiation of a different wavelength.
Gemäß zumindest einer Aus führungs form des Vergusskörpers ist dieser den Lichtquellen gemeinsam nachgeordnet. Mit anderen Worten überdeckt der Vergusskörper jede der Lichtquellen teilweise oder vollständig. Es folgt also jeder der According to at least one embodiment of the potting body, it is arranged downstream of the light sources. In other words, the potting body covers each of the light sources partially or completely. So everyone follows
Lichtquellen, stellenweise oder ganzflächig, entlang der Hauptabstrahlrichtungen der jeweiligen Halbleiterchips oder entlang einer Hauptabstrahlrichtung des Halbleiterbauteils ein Teilbereich des Vergusskörpers nach. Light sources, in places or over the entire surface, along the main emission of the respective semiconductor chips or along a main emission of the semiconductor device after a portion of the potting after.
In mindestens einer Aus führungs form des optoelektronischen Halbleiterbauteils umfasst dieses eine erste Lichtquelle, die grünes, weißes oder weiß-grünes Licht emittiert. Die erste Lichtquelle weist einen im blauen Spektralbereich In at least one embodiment of the optoelectronic semiconductor component, the latter comprises a first light source which emits green, white or white-green light. The first light source has one in the blue spectral range
emittierenden Halbleiterchip auf, auf dem unmittelbar ein erstes Konversionselement angebracht ist. Ferner beinhaltet das Halbleiterbauteil eine zweite, im roten Spektralbereich emittierende Lichtquelle. Die zweite Lichtquelle umfasst einen im blauen Spektralbereich emittierenden Halbleiterchip, dem ein zweites Konversionselement unmittelbar nachgeordnet ist, oder es umfasst die zweite Lichtquelle einen unmittelbar im roten Spektralbereich emittierenden Halbleiterchip. Ferner weist das Halbleiterbauteil eine dritte, blaues Licht emitting semiconductor chip, on which a first conversion element is mounted directly. Furthermore, the semiconductor component includes a second, in the red spectral region emitting light source. The second light source comprises a semiconductor chip emitting in the blue spectral range, to which a second conversion element is arranged directly downstream, or the second light source comprises a semiconductor chip emitting directly in the red spectral range. Furthermore, the semiconductor device has a third, blue light
emittierende Lichtquelle mit einem im blauen Spektralbereich emittierenden Halbleiterchip auf. Ein Vergusskörper des emitting light source with a semiconductor chip emitting in the blue spectral range. A potting body of
Halbleiterbauteils umfasst ein Matrixmaterial, in das ein Konversionsmittel eingebettet ist. Der Vergusskörper ist den Lichtquellen gemeinsam nachgeordnet. Semiconductor device comprises a matrix material in which a conversion agent is embedded. The potting body is arranged downstream of the light sources together.
Durch den Vergusskörper findet eine Verteilung des Lichts entlang von Haupterstreckungsrichtungen des Vergusskörpers und/oder senkrecht zu der Hauptabstrahlrichtung des Through the potting body finds a distribution of light along main directions of extension of the potting and / or perpendicular to the main emission of the
Halbleiterbauteils statt. Ferner erfolgt durch den Semiconductor device instead. Furthermore, by the
Vergusskörper eine Wellenlängenkonversion des von den Potting a wavelength conversion of the of the
Lichtquellen erzeugten Lichts. Hierdurch ist eine über einen Emissionswinkel gesehen gleichmäßigere Abstrahlung von Licht, hinsichtlich eines Farborts des Lichts, realisierbar. Gemäß zumindest einer Aus führungs form des Halbleiterbauteils gelangt das von den Halbleiterchips der ersten Lichtquelle sowie der zweiten Lichtquelle emittierte Licht zu mindestens 75 %, bevorzugt zu mindestens 90 %, in das erste Light sources generated light. As a result, a more uniform emission of light, seen with respect to an emission angle, with respect to a color locus of the light, can be realized. According to at least one embodiment of the semiconductor component, the light emitted by the semiconductor chips of the first light source and the second light source reaches at least 75%, preferably at least 90%, in the first
Konversionselement sowie in das zweite Konversionselement. Mit anderen Worten gelangt im Wesentlichen die ganze von den Halbleiterchips der ersten Lichtquelle sowie der zweiten Lichtquelle emittierte Strahlung in die zugehörigen Conversion element and in the second conversion element. In other words, substantially all of the radiation emitted by the semiconductor chips of the first light source and of the second light source passes into the associated radiation
Konversionselemente . Conversion elements.
Gemäß zumindest einer Aus führungs form des Halbleiterbauteils sind alle Halbleiterchips auf einem gemeinsamen Träger angeordnet. Bei dem Träger handelt es sich insbesondere um eine Leiterplatte. Beispielsweise sind alle Halbleiterchips auf einer gemeinsamen Trägerhauptseite des Trägers angebracht und bezüglich ihrer Hauptabstrahlrichtungen gleich According to at least one embodiment of the semiconductor component, all semiconductor chips are arranged on a common carrier. The carrier is in particular a printed circuit board. For example, all the semiconductor chips are mounted on a common carrier main side of the carrier and are the same in their main emission directions
orientiert. Es können also alle Hauptabstrahlrichtungen der Halbleiterchips parallel zueinander ausgerichtet sein. oriented. It is therefore possible for all the main emission directions of the semiconductor chips to be aligned parallel to one another.
Insbesondere liegen alle Halbleiterchips in einer gemeinsamen Ebene . In particular, all semiconductor chips lie in a common plane.
Gemäß zumindest einer Aus führungs form des Halbleiterbauteils ist das erste Konversionselement dazu eingerichtet, von dem Halbleiterchip der ersten Lichtquelle emittierte Strahlung, die in das erste Konversionselement gelangt, zu höchstens 80 % oder zu höchstens 70 % oder zu höchstens 60 % oder zu höchstens 40 % zu absorbieren und in eine andere Wellenlänge umzuwandeln. Bevorzugt liegt ein Anteil des Lichts des ersten Halbleiterchips, der von dem ersten Konversionselement in eine andere Wellenlänge umgewandelt wird, zwischen According to at least one embodiment of the semiconductor component, the first conversion element is configured to emit radiation emitted by the semiconductor chip of the first light source that reaches the first conversion element to at most 80% or at most 70% or at most 60% or at most 40% to absorb and convert to a different wavelength. Preferably, a portion of the light of the first semiconductor chip, which is converted by the first conversion element into a different wavelength, between
einschließlich 20 % und 80 % oder zwischen einschließlich 40 % und 75 %. Das von der ersten Lichtquelle emittierte Licht weist bevorzugt einen Farbort in der CIE-Normfarbtafel auf, für den gilt: 0,15 < cx < 0,32 oder 0,22 < cx < 0,28. Gemäß zumindest einer Aus führungs form des Halbleiterbauteils ist der Vergusskörper dazu eingerichtet, Licht der im blauen Spektralbereich emittierenden Halbleiterchips der ersten und der dritten Lichtquelle je zu mindestens 5 % in einer andere Wellenlänge zu konvertieren. Insbesondere liegt der including 20% and 80% or between 40% and 75% inclusive. The light emitted by the first light source preferably has a color location in the CIE standard color chart, for which: 0.15 <c x <0.32 or 0.22 <c x <0.28. According to at least one embodiment of the semiconductor component, the potting body is set up to convert at least 5% of light of the semiconductor chips of the first and the third light source emitting in the blue spectral range into a different wavelength. In particular, is the
Konversionsgrad zwischen einschließlich 15 % und 85 % oder zwischen einschließlich 30 % und 80 %. Grünes und/oder rotes Licht absorbiert der Vergusskörper bevorzugt nicht oder nur vernachlässigbar. Conversion level between 15% and 85% inclusive or between 30% and 80% inclusive. Green and / or red light absorbed by the potting preferably not or only negligibly.
Gemäß zumindest einer Aus führungs form des Halbleiterbauteils weist das Licht der ersten Lichtquelle vor Eintritt in den Vergusskörper einen Farbort in der CIE-Normfarbtafel auf, wobei für Koordinaten dieses Farborts gilt: 0,1 < cx ^ 0,31 und/oder 0,1 < cy ^ 0,32. Weiterhin emittiert das According to at least one embodiment of the semiconductor component, the light of the first light source has a color locus in the CIE standard color chart before entry into the potting body, wherein for coordinates of this color locus: 0.1 <c x ^ 0.31 and / or 0, 1 <c y ^ 0.32. Furthermore, the emits
Halbleiterbauteil dann bevorzugt im Betrieb weißes Semiconductor component then preferably in operation white
Mischlicht, das aus Licht der drei Lichtquellen gebildet ist und das eine korrelierte Farbtemperatur zwischen Mixed light formed by light from the three light sources and having a correlated color temperature between
einschließlich 2300 K und 7000 K aufweist. Weiß bedeutete insbesondere, dass das von dem Halbleiterbauteil emittierte Mischlicht einen Farbort aufweist, dessen Farbkoordinaten cx und cy jeweils einen Abstand von höchstens 0,02 Einheiten von der Schwarzkörperkurve in der CIE-Normfarbtafel aufweisen. Durch die Kombination der drei Lichtquellen ist ein hoher Farbwiedergabeindex Ra von insbesondere mindestens 75 oder von mindestens 80 oder von mindestens 90 erreichbar. including 2300K and 7000K. In particular, white means that the mixed light emitted from the semiconductor device has a color locus whose color coordinates c x and c y each have a pitch of at most 0.02 units from the blackbody curve in the CIE standard color chart. The combination of the three light sources makes it possible to achieve a high color rendering index R a of in particular at least 75 or at least 80 or at least 90.
Gemäß zumindest einer Aus führungs form des Halbleiterbauteils weist der Vergusskörper, neben dem Konversionsmittel, zusätzlich Streupartikel auf. Die Streupartikel sind dazu eingerichtet, auf die Streupartikel treffendes Licht in der Richtung zu ändern. Bevorzugt beträgt ein According to at least one embodiment of the semiconductor component, the potting body, in addition to the conversion agent, additionally has scattering particles. The scattering particles are arranged to change the light striking the scattering particles in the direction. Preferably, a
Brechungsindexunterschied zwischen dem Matrixmaterial des Vergusskörpers und einem Material der Streupartikel bei einer Temperatur von 300 K höchstens 0,10, besonders bevorzugt höchstens 0,05 oder höchstens 0,02. Mit anderen Worten ist der Brechungsindexunterschied zwischen dem Material der Refractive index difference between the matrix material of the Potting body and a material of the scattering particles at a temperature of 300 K at most 0.10, more preferably at most 0.05 or at most 0.02. In other words, the refractive index difference between the material is the
Streupartikel und dem Konversionsmittel vergleichsweise gering. Das Material der Streupartikel ist bevorzugt Scattering particles and the conversion agent comparatively low. The material of the scattering particles is preferred
transparent für das Licht der Lichtquellen. Liegen weitere Streupartikel in dem Vergusskörper vor, die einen größeren Brechungsindexunterschied aufweisen als angeführt, so beträgt ein Anteil dieser weiteren Streupartikel an dem Vergusskörper bevorzugt höchstens 0,1 Volumenprozent oder höchstens 0,1 Gewichtsprozent . transparent to the light of the light sources. If there are further scattering particles in the potting body which have a greater refractive index difference than stated, then a proportion of these further scattering particles on the potting body is preferably at most 0.1% by volume or at most 0.1% by weight.
Gemäß zumindest einer Aus führungs form des Halbleiterbauteils weist der Vergusskörper eine mittlere Dicke, insbesondere in eine Richtung parallel zur Hauptabstrahlrichtung des According to at least one embodiment of the semiconductor component, the potting body has an average thickness, in particular in a direction parallel to the main emission direction of the semiconductor device
Halbleiterbauteils, zwischen einschließlich 200 μπι und 800 μπι oder zwischen einschließlich 300 μπι und 600 μπι auf. Die Dicke wird insbesondere gemittelt über die gesamte laterale Semiconductor component, between 200 μπι and 800 μπι or between 300 μπι and 600 μπι on. The thickness is in particular averaged over the entire lateral
Ausdehnung des Vergusskörpers. Expansion of the potting body.
Gemäß zumindest einer Aus führungs form des Halbleiterbauteils ist das Konversionsmittel und/oder sind die Streupartikel jeweils homogen in dem gesamten Vergusskörper verteilt. Mit anderen Worten ist kein gezielter Konzentrationsgradient, der über statistische Schwankungen hinausgeht, in dem According to at least one embodiment of the semiconductor component, the conversion agent and / or the scattering particles are each distributed homogeneously in the entire potting body. In other words, a targeted concentration gradient that goes beyond statistical fluctuations is not
Vergusskörper eingestellt. Potting set.
Gemäß zumindest einer Aus führungs form des Halbleiterbauteils enthalten der Vergusskörper und das erste Konversionselement der ersten Lichtquelle dasselbe Konversionsmittel, According to at least one embodiment of the semiconductor component, the potting body and the first conversion element of the first light source contain the same conversion means,
insbesondere in unterschiedlichen Volumenkonzentrationen. especially in different volume concentrations.
Insbesondere ist das Konversionsmittel in dem ersten In particular, the conversion agent is in the first
Konversionselement höher konzentriert als in dem Vergusskörper. Dasselbe Konversionsmittel bedeutet, dass eine stoffliche Zusammensetzung des Konversionsmittels im Rahmen der Herstellungstoleranzen für den Vergusskörper und für das erste Konversionselement gleich ist. Bevorzugt ist auch eine Gestalt von Partikeln des Konversionsmittels jeweils im Conversion element higher concentrated than in the Potting. The same conversion means means that a material composition of the conversion agent within the manufacturing tolerances for the potting body and for the first conversion element is the same. Also preferred is a shape of particles of the conversion agent in each case
Rahmen der Herstellungstoleranzen gleich, insbesondere eine Größenverteilung der Partikel. Enthalten der Vergusskörper und das erste Konversionselement Mischungen von Frame of manufacturing tolerances same, in particular a size distribution of the particles. Contain the potting body and the first conversion element mixtures of
Konversionsmitteln, so können diese Mischungen in dem Conversion, so these mixtures in the
Vergusskörper und in dem ersten Konversionselement gleich sein . Potting and be the same in the first conversion element.
Gemäß zumindest einer Aus führungs form des Halbleiterbauteils weisen der Vergusskörper, das erste Konversionselement und das zweite Konversionselement jeweils voneinander According to at least one embodiment of the semiconductor component, the potting body, the first conversion element and the second conversion element each have a respective one another
verschiedene Konversionsmittel auf. Insbesondere ist der Vergusskörper frei von Konversionsmitteln, die in den different conversion means. In particular, the potting body is free of conversion agents in the
Konversionselementen vorhanden sind. Es ist möglich, dass der Vergusskörper sowie die Konversionselemente Mischungen verschiedener Konversionsmittel enthalten. Conversion elements are present. It is possible that the potting body and the conversion elements contain mixtures of different conversion agents.
Gemäß zumindest einer Aus führungs form des Halbleiterbauteils ist an einigen oder allen der Halbleiterchips der In accordance with at least one embodiment of the semiconductor component, some or all of the semiconductor chips have the
Lichtquellen in einer lateralen Richtung, senkrecht zur Light sources in a lateral direction, perpendicular to
Hauptabstrahlrichtung, jeweils mindestens stellenweise ein Reflektorverguss angebracht. Die Halbleiterchips sind also in lateraler Richtung von dem Reflektorverguss vollständig oder teilweise umgeben. Bevorzugt steht der Reflektorverguss in lateraler Richtung in unmittelbarem, physischem Kontakt zu den Halbleiterchips, insbesondere zu jedem einzelnen der Halbleiterchips . Main emission, each at least in places mounted a reflector potting. The semiconductor chips are thus completely or partially surrounded in the lateral direction by the reflector casting. The reflector casting is preferably in direct, physical contact with the semiconductor chips in the lateral direction, in particular with respect to each individual one of the semiconductor chips.
Gemäß zumindest einer Aus führungs form des Halbleiterbauteils ist der Vergusskörper dem Reflektorverguss nachgeordnet und mindestens stellenweise unmittelbar auf dem Reflektorverguss und/oder auf dem Halbleiterchip der dritten Lichtquelle und/oder auf dem ersten Konversionselement und/oder auf dem zweiten Konversionselement aufgebracht. Insbesondere According to at least one embodiment of the semiconductor component, the potting body is arranged downstream of the reflector potting and applied at least in places directly on the reflector potting and / or on the semiconductor chip of the third light source and / or on the first conversion element and / or on the second conversion element. Especially
überdeckt der Vergusskörper den gesamten Reflektorverguss . Der Vergusskörper steht dann also in direktem, physischem Kontakt zu den genannten Komponenten. the potting body covers the entire reflector potting. The potting body is then in direct, physical contact with the components mentioned.
Gemäß zumindest einer Aus führungs form des Halbleiterbauteils schließt der Reflektorverguss , gesehen in einer Richtung entlang der Hauptabstrahlrichtung, bündig mit den According to at least one embodiment of the semiconductor component, the reflector potting, as seen in one direction along the main emission direction, is flush with the reflector
Strahlungshauptseiten mindestens eines der Halbleiterchips oder aller Halbleiterchips ab. Eine Toleranz für das bündige Abschließen beträgt bevorzugt höchstens 40 μπι oder höchstens 20 μπι. Alternativ hierzu ist es möglich, dass der Radiation main sides of at least one of the semiconductor chips or all semiconductor chips from. A tolerance for flush termination is preferably at most 40 μπι or at most 20 μπι. Alternatively, it is possible that the
Reflektorverguss , entlang der Hauptabstrahlrichtung gesehen, nicht bis an die Strahlungshauptseiten der Halbleiterchips heranreicht oder dass der Reflektorverguss die Reflektorverguss, seen along the main emission direction, does not reach up to the main radiation sides of the semiconductor chips or that the reflector Verguss the
Halbleiterchips, entlang der Hauptabstrahlrichtung, überragt. Dabei sind die Strahlungshauptseiten der Halbleiterchips bevorzugt nicht von dem Reflektorverguss überdeckt. Semiconductor chips, along the main emission direction, surmounted. In this case, the main radiation sides of the semiconductor chips are preferably not covered by the reflector casting.
Gemäß zumindest einer Aus führungs form des Halbleiterbauteils sind die Halbleiterchips jeweils beabstandet voneinander. Mit anderen Worten berühren sich dann die Halbleiterchips nicht gegenseitig. Zwischen benachbarten Halbleiterchips befindet sich insbesondere jeweils ein Material des Reflektorvergusses und/oder des Vergusskörpers. Gemäß zumindest einer Aus führungs form des Halbleiterbauteils sind die Lichtquellen und/oder die Halbleiterchips unabhängig voneinander elektrisch ansteuerbar. Hierdurch ist die In accordance with at least one embodiment of the semiconductor component, the semiconductor chips are each spaced apart from one another. In other words, then the semiconductor chips do not touch each other. In particular, in each case one material of the reflector casting and / or of the potting body is located between adjacent semiconductor chips. According to at least one embodiment of the semiconductor component, the light sources and / or the semiconductor chips are electrically controllable independently of one another. This is the
korrelierte Farbtemperatur des vom Halbleiterbauteil im correlated color temperature of the semiconductor device in the
Betrieb emittierten weißen Mischlichts durchstimmbar . Gemäß zumindest einer Aus führungs form des Halbleiterbauteils sind alle Halbleiterchips der Lichtquellen, also alle Operation emitted white mixed light tunable. According to at least one embodiment of the semiconductor component, all the semiconductor chips of the light sources, ie all
Halbleiterchips des Halbleiterbauteils, baugleich. Semiconductor chips of the semiconductor device, identical.
Beispielsweise handelt es sich jeweils um auf InGaN For example, each is on InGaN
basierende Leuchtdioden, die blaues Licht emittieren. based light emitting diodes that emit blue light.
Gemäß zumindest einer Aus führungs form des Halbleiterbauteils ist die dritte Lichtquelle frei von dem ersten und dem zweiten Konversionselement und von diesen nicht überdeckt. Mit anderen Worten ist dann der Vergusskörper die einzige Komponente, die ein Konversionsmittel aufweist und der dritten Lichtquelle in einer Abstrahlrichtung nachgeordnet ist . According to at least one embodiment of the semiconductor component, the third light source is free of the first and the second conversion element and is not covered by these. In other words, then the potting body is the only component which has a conversion means and is arranged downstream of the third light source in a radiation direction.
Nachfolgend wird ein hier beschriebenes Halbleiterbauteil unter Bezugnahme auf die Zeichnung anhand von Hereinafter, a semiconductor device described herein with reference to the drawing based on
Ausführungsbeispielen näher erläutert. Gleiche Bezugszeichen geben dabei gleiche Elemente in den einzelnen Figuren an. Es sind dabei jedoch keine maßstäblichen Bezüge dargestellt, vielmehr können einzelne Elemente zum besseren Verständnis übertrieben groß dargestellt sein. Embodiments explained in more detail. The same reference numerals indicate the same elements in the individual figures. However, there are no scale relationships shown, but individual elements can be shown exaggerated for better understanding.
Es zeigen: Show it:
Figuren 1 bis 4 schematische Darstellungen von Figures 1 to 4 are schematic representations of
Ausführungsbeispielen von hier beschriebenen optoelektronischen Halbleiterbauteilen . In Figur 1 ist ein Ausführungsbeispiel eines  Embodiments of optoelectronic semiconductor devices described here. In Figure 1 is an embodiment of a
optoelektronischen Halbleiterbauteils 10 dargestellt, in Figur 1A in einer schematischen Schnittdarstellung entlang der Linie A-A, in Figur IC in einer schematischen Draufsicht und in Figur 1B in einer schematischen Draufsicht unter Optoelectronic semiconductor device 10 shown in Figure 1A in a schematic sectional view along the line AA, in Figure IC in a schematic plan view and in Figure 1B in a schematic plan view below
Weglassung bestimmter Komponenten. Omission of certain components.
Das Halbleiterbauteil 10 weist einen Träger 7 mit einer The semiconductor device 10 has a carrier 7 with a
Trägerhauptseite 70 auf. An der Trägerhauptseite 70 sowie an einer dieser gegenüberliegenden Trägerunterseite befinden sich elektrische Anschlussstellen 9a, 9b, 9c, 9d. Die Carrier main page 70 on. There are electrical connection points 9a, 9b, 9c, 9d on the carrier main side 70 as well as on one of the opposite carrier undersides. The
Anschlussstellen 9a, 9c sind flächig ausgebildet. Die Connection points 9a, 9c are formed flat. The
Anschlussstellen 9a, 9b, 9c, 9d sind aus einem Metall oder einer Metalllegierung geformt und weisen bevorzugt eine Dicke zwischen einschließlich 5 μπι und 150 μπι, insbesondere Connection points 9a, 9b, 9c, 9d are formed from a metal or a metal alloy and preferably have a thickness of between 5 μπι and 150 μπι, in particular
zwischen einschließlich 50 μπι und 90 μπι oder zwischen between 50 μπι and 90 μπι or between
einschließlich 5 μπι und 25 μπι auf. Die Anschlussstellen 9a, 9b an der Trägerhauptseite 70 sind bevorzugt durch nicht gezeichnete Durchkontaktierungen jeweils mit den including 5 μπι and 25 μπι on. The connection points 9a, 9b on the carrier main side 70 are preferably not shown through vias each with the
Anschlussstellen 9c, 9d an der Unterseite des Trägers 7 elektrisch und/oder thermisch verbunden. Der Träger 7 ist beispielsweise ein Keramikträger mit einer hohen thermischen Leitfähigkeit.  Connection points 9c, 9d electrically and / or thermally connected to the underside of the carrier 7. The carrier 7 is, for example, a ceramic carrier with a high thermal conductivity.
Das Halbleiterbauteil 10 umfasst eine erste Lichtquelle 1 zur Emission von grün-weißem Licht, eine zweite Lichtquelle 2 zur Emission von rotem Licht und eine dritte Lichtquelle 3 zur Emission von blauem Licht. Halbleiterchips 4 der Lichtquellen 1, 2, 3 sind jeweils auf den Anschlussstellen 9a an der The semiconductor device 10 includes a first light source 1 for emitting green-white light, a second light source 2 for emitting red light, and a third light source 3 for emitting blue light. Semiconductor chips 4 of the light sources 1, 2, 3 are respectively on the connection points 9a on the
Trägerhauptseite 70 in einer gemeinsamen Ebene angebracht. Alle Halbleiterchips 4 sind baugleich und emittieren im  Carrier main side 70 mounted in a common plane. All semiconductor chips 4 are identical and emit in the
Betrieb im blauen Spektralbereich. Die erste Lichtquelle 1 umfasst zwei der Halbleiterchips 4, die zweite Lichtquelle 2 sowie die dritte Lichtquelle 3 weisen jeweils nur einen der Halbleiterchips 4 auf. Die Anzahl der Halbleiterchips 4 in den Ausführungsbeispielen der Halbleiterbauteile 10 kann von der dargestellten Anzahl jeweils abweichen. Eine Dicke der Halbleiterchips entlang einer Hauptabstrahlrichtung M liegt insbesondere zwischen einschließlich 80 μπι und 200 μπι. Operation in the blue spectral range. The first light source 1 comprises two of the semiconductor chips 4, the second light source 2 and the third light source 3 each have only one of the semiconductor chips 4. The number of semiconductor chips 4 in the exemplary embodiments of the semiconductor components 10 may differ from the illustrated number in each case. A thickness of Semiconductor chips along a main emission direction M is in particular between 80 μπι and 200 μπι inclusive.
Den Halbleiterchips 4 der ersten Lichtquelle 1 ist ein erstes Konversionselement 11 nachgeordnet. Das erste The semiconductor chips 4 of the first light source 1 are followed by a first conversion element 11. The first
Konversionselement 11 ist beispielsweise ein Conversion element 11 is for example a
Silikonplättchen, das ein Konversionsmittel enthält. Eine Dicke des ersten Konversionselements 11 entlang der Silicone plate containing a conversion agent. A thickness of the first conversion element 11 along the
Hauptabstrahlrichtung M des Halbleiterbauteils 10, senkrecht zu der Trägerhauptseite 70, liegt insbesondere zwischen einschließlich 30 μπι und 150 μπι. Das Plättchen ist zum Main emission direction M of the semiconductor device 10, perpendicular to the main carrier side 70, is in particular between 30 μπι and 150 μπι. The tile is for
Beispiel auf dem Halbleiterchip 4 aufgeklebt und dazu Example glued on the semiconductor chip 4 and to
eingerichtet, die von dem Halbleiterchip 4 der ersten set up by the semiconductor chip 4 of the first
Lichtquelle 1 emittierte blaue Strahlung teilweise zu Light source 1 emitted blue radiation partially too
absorbieren und in Licht einer anderen Wellenlänge absorb and in light of a different wavelength
umzuwandeln. Ein Emissionsspektrum des ersten convert. An emission spectrum of the first
Konversionselements 11 weist bevorzugt eine maximale Conversion element 11 preferably has a maximum
Intensität im Wellenlängenbereich zwischen einschließlich 525 nm und 570 nm, insbesondere zwischen einschließlich Intensity in the wavelength range between 525 nm and 570 nm, in particular between inclusive
550 nm und 560 nm auf. Das Emissionsspektrum des ersten 550 nm and 560 nm. The emission spectrum of the first
Konversionselements 11 reicht beispielsweise von Conversion element 11 extends for example from
einschließlich 530 nm bis 580 nm oder von einschließlich 510 nm bis 610 nm. Beispielsweise ist oder umfasst das including 530 nm to 580 nm or 510 nm to 610 nm inclusive. For example, or includes
Konversionsmittel Partikel aus oder mit einem Seltenerden- dotiertem Granat wie YAG:Ce. Conversion Particles Particles or with a rare-earth-doped garnet such as YAG: Ce.
Auf dem Halbleiterchip 4 der zweiten Lichtquelle 2 ist ein zweites Konversionselement 22 unmittelbar aufgebracht. Eine Wellenlänge maximaler Emission des zweiten On the semiconductor chip 4 of the second light source 2, a second conversion element 22 is applied directly. One wavelength of maximum emission of the second
Konversionselements 22 liegt bevorzugt zwischen Conversion element 22 is preferably between
einschließlich 590 nm und 660 nm, insbesondere zwischen einschließlich 595 nm und 610 nm. Eine spektrale Breite der Emission des zweiten Konversionselements 22 liegt bevorzugt zwischen einschließlich 50 nm und 130 nm, bezogen auf eine volle Breite bei halber Höhe, FWHM. Beispielsweise umfasst das zweite Konversionselement 22 ein Seltenerden-dotiertes Orthosilikat wie (Ba, Sr^SiOz Eu oder ein Seltenerden- dotiertes Siliziumoxinitrid oder Siliziumnitrid wie (Ba, Sr) 2Si5N8 :Eu. including 590 nm and 660 nm, in particular between 595 nm and 610 nm inclusive. A spectral width of the emission of the second conversion element 22 is preferably between 50 nm and 130 nm, based on a full width at half height, FWHM. For example, the second conversion element 22 comprises a rare-earth-doped orthosilicate such as (Ba, Sr 2 SiO 2 Eu or a rare earth-doped silicon oxynitride or silicon nitride such as (Ba, Sr) 2 Si 5 N 8 : Eu.
In einer lateralen Richtung L schließen die In a lateral direction L close the
Konversionselemente 11, 22 im Rahmen der Conversion elements 11, 22 in the context of
Herstellungstoleranzen jeweils bündig mit den Halbleiterchips 4 ab. Die dritte Lichtquelle 3 ist hierbei frei von einem Konversionselement .  Manufacturing tolerances each flush with the semiconductor chips 4 from. The third light source 3 is in this case free of a conversion element.
In einer lateralen Richtung sind die Halbleiterchips 4 rundherum von einem Reflektorverguss 8 umgeben. Der In a lateral direction, the semiconductor chips 4 are surrounded by a reflector potting 8 all around. Of the
Reflektorverguss 8 reicht, von der Trägerhauptseite 70 her, nicht ganz bis an Strahlungshauptseiten 40 der Reflektorverguss 8 extends, from the main carrier side 70 forth, not quite up to main radiation sides 40 of
Halbleiterchips 4, die dem Träger 7 abgewandt sind, heran. Der Reflektorverguss 8 ist beispielsweise durch ein Semiconductor chips 4, which are remote from the carrier 7, approach. The reflector potting 8 is for example by a
Matrixmaterial aus einem Silikon oder einem Epoxid-Silikon- Hybridmaterial gebildet, in das reflektierende Partikel eingebettet sind. Die reflektierenden Partikel sind bevorzugt Titandioxid-Partikel oder Aluminiumoxid-Partikel oder Matrix material formed of a silicone or an epoxy-silicone hybrid material in which reflective particles are embedded. The reflective particles are preferably titanium dioxide particles or aluminum oxide particles or
Glaspartikel. Durchmesser der Partikel liegen bevorzugt zwischen einschließlich 0,3 μπι und 8 μπι und ein Glass particles. Diameter of the particles are preferably between 0.3 μπι and 8 μπι and a
Gewichtsanteil der Partikel liegt bevorzugt zwischen Weight fraction of the particles is preferably between
einschließlich 5 % und 60 %. Freiliegend erscheint der including 5% and 60%. Exposed appears the
Reflektorverguss 8 bei ausgeschaltetem Halbleiterbauteil einem Betrachter bevorzugt weiß. Anders als in Figur 1 dargestellt, ist es auch möglich, dass der Reflektorverguss 8 nicht die gesamte Trägerhauptseite 70 bedeckt, sondern nur Bereiche nahe der Halbleiterchips 4, beispielsweise die elektrischen Anschlussstellen 9a. Reflektorverguss 8 with the semiconductor device off a viewer preferably white. Unlike in FIG. 1, it is also possible that the reflector casting 8 does not cover the entire carrier main side 70, but only areas near the semiconductor chips 4, for example the electrical connection points 9a.
Bonddrähte zur elektrischen Kontaktierung der Halbleiterchips 4, die insbesondere von der Strahlungshauptseite 40 zu den Anschlussstellen 9b reichen, sind in den Figuren nicht gezeichnet . Bonding wires for electrical contacting of the semiconductor chips 4, which extend in particular from the main radiation side 40 to the connection points 9b, are not shown in the figures.
Allen Halbleiterchips 4 gemeinsam ist ein Vergusskörper 6 nachgeordnet. Eine mittlere Dicke d des Vergusskörpers 6 liegt zwischen einschließlich 100 μπι und 800 μπι. In ein All semiconductor chips 4 together, a potting body 6 is arranged downstream. An average thickness d of the potting body 6 is between 100 μπι and 800 μπι. In one
Matrixmaterial des Vergusskörpers 6 sind Partikel eines Matrix material of the potting body 6 are particles of a
Konversionsmittels eingebettet. Bei dem Konversionsmittel kann es sich um dasselbe Konversionsmittel wie in dem ersten Konversionselementen 11 handeln oder um ein hiervon Embedded in the conversion agent. The conversion means may be the same conversion means as in the first conversion element 11 or one thereof
verschiedenes Konversionsmittel. Die Partikel des different conversion agent. The particles of the
Konversionsmittels in dem Vergusskörper 6 und/oder in den Konversionselementen 11, 22 weisen bevorzugt mittlere Conversion agent in the potting 6 and / or in the conversion elements 11, 22 preferably have middle
Durchmesser zwischen einschließlich 1 μπι und 15 μπι, Diameter between 1 μπι and 15 μπι,
insbesondere zwischen einschließlich 3 μπι und 10 μπι, auf. Ein Gewichtsanteil der Partikel an dem Vergusskörper 6 liegt insbesondere zwischen einschließlich 5 % und 25 %. in particular between 3 μπι and 10 μπι on. A weight proportion of the particles on the potting body 6 is in particular between 5% and 25% inclusive.
Dadurch, dass sich das zweite Konversionselement 22 nahe an dem Träger 7 befindet und keine Konversion von blauem Licht zu rotem Licht in dem Vergusskörper 6 erfolgt, ist eine effiziente Entwärmung des zweiten Konversionselements 22 realisierbar. Handelt es sich bei dem Konversionsmittel des Vergusskörpers 6 um ein von dem Konversionsmittel des ersten Konversionselements 11 verschiedenes Konversionsmittel, so weist das Konversionsmittel eine maximale Emission bevorzugt bei um zwischen 5 nm und 15 nm kleineren Wellenlängen auf als das erste Konversionselement 11. Mit anderen Worten emittiert dann der Vergusskörper 6 kurzwelligere und weiter im Blauen liegende Strahlung als das erste Konversionselement 11. Due to the fact that the second conversion element 22 is located close to the carrier 7 and no conversion of blue light to red light takes place in the potting body 6, efficient heat dissipation of the second conversion element 22 can be realized. If the conversion means of the potting body 6 is a conversion means other than the conversion means of the first conversion element 11, then the conversion means preferably has a maximum emission at wavelengths smaller by between 5 nm and 15 nm than the first conversion element 11. In other words then the potting 6 short-wavelength and further lying in the blue radiation than the first conversion element 11th
Besonders bevorzugt sind dem Vergusskörper 6 Streupartikel beigegeben, die beispielsweise mittlere Durchmesser zwischen einschließlich 1 μπι und 15 μπι oder zwischen einschließlich 3 μπι und 10 μπι aufweisen. Die Streupartikel sind insbesondere aus einem Siliziumdioxid wie Cristobalit und/oder aus einem Glas geformt. Ein Brechungsindexunterschied zwischen den Streupartikeln und dem Matrixmaterial des Vergusskörpers 6 beträgt bei Raumtemperatur bevorzugt höchstens 0,05. Der Vergusskörper 6 weist eine planare, dem Träger 7 abgewandte Oberseite auf. Ferner ist der Vergusskörper 6 unmittelbar auf den Reflektorverguss 8 sowie auf die Konversionselemente 11, 22 und den Halbleiterchip 4 der dritten Lichtquelle 3 Particular preference is given to the potting 6 scattering particles, for example, the average diameter between including 1 μπι and 15 μπι or between 3 μπι and 10 μπι have. The scattering particles are in particular formed from a silicon dioxide such as cristobalite and / or from a glass. A refractive index difference between the scattering particles and the matrix material of the potting body 6 is preferably at most 0.05 at room temperature. The potting body 6 has a planar, the carrier 7 facing away from the top. Furthermore, the potting body 6 is directly on the reflector potting 8 and on the conversion elements 11, 22 and the semiconductor chip 4 of the third light source third
aufgebracht . applied.
Durch den Reflektorverguss 8 sind insbesondere die Through the reflector casting 8 are in particular the
elektrischen Anschlüsse 9a, 9b überdeckt und von außerhalb des Halbleiterbauteils 10 nicht sichtbar. Ferner wird die in den Halbleiterchips 4 erzeugte Strahlung der ersten electrical connections 9a, 9b covered and not visible from outside the semiconductor device 10. Furthermore, the radiation generated in the semiconductor chips 4 becomes the first one
Lichtquelle 1 und der zweiten Lichtquelle 2 nahezu Light source 1 and the second light source 2 almost
vollständig in die Konversionselemente 11, 22 gelenkt. Durch den Reflektorverguss 8 kann also eine Homogenisierung des äußeren Erscheinungsbildes bei ausgeschaltetem completely steered into the conversion elements 11, 22. By reflector casting 8 so a homogenization of the external appearance when switched off
Halbleiterbauteil 10 und eine Effizienzsteigerung im Betrieb erreicht werden. Durch den Vergusskörper 6 erfolgt eine gleichmäßigere Lichtverteilung entlang der lateralen Richtung L im Betrieb des Halbleiterbauteils 10 und eine Semiconductor device 10 and an increase in efficiency during operation can be achieved. By the potting 6 a more uniform light distribution along the lateral direction L in the operation of the semiconductor device 10 and a
gleichmäßigere, winkelabhängige Emission des Mischlichts. more uniform, angle-dependent emission of the mixed light.
Eine Überdeckung der Anschlussstellen 9a, 9b durch den An overlap of the connection points 9a, 9b by the
Reflektorverguss 8 ist in Figur IC zu sehen, hingegen sind in Figur 1B der Reflektorverguss 8 sowie der Vergusskörper 6 nicht gezeichnet. Durch den Vergusskörper 6 mit den Reflektorverguss 8 can be seen in Figure IC, however, in Figure 1B, the Reflektorverguss 8 and the potting 6 are not shown. By the potting 6 with the
Streupartikeln können Konturen der Lichtquellen 1, 2, 3 in Draufsicht, vergleiche Figur IC, unscharf erscheinen. Bei ausgeschaltetem Halbleiterbauteil 10 kann der Vergusskörper 6 in Draufsicht weißlich-grün oder grünlich oder gelblich erscheinen . Scattering particles, contours of the light sources 1, 2, 3 in plan view, see Figure IC, appear out of focus. When the semiconductor device 10 is switched off, the potting body 6 in plan view appear whitish-green or greenish or yellowish.
Die Partikel des Konversionsmittels im Vergusskörper 6 wirken für blaues Licht bevorzugt absorbierend und für rotes und grünes Licht bevorzugt lediglich streuend. Bei den The particles of the conversion agent in the potting body 6 are preferably absorbent for blue light and preferably only scattered for red and green light. Both
Matrixmaterialien des Vergusskörpers 6, des Matrix materials of the potting body 6, the
Reflektorvergusses 8 sowie der Konversionselemente 11, 22 kann es sich jeweils um das gleiche Material handeln, um eine gute Haftung der genannten Komponenten aneinander zu Reflektorvergusses 8 and the conversion elements 11, 22 may each be the same material to a good adhesion of said components to each other
erzielen . achieve.
Die Lichtquellen 1, 2, 3 sind unabhängig voneinander The light sources 1, 2, 3 are independent of each other
elektrisch ansteuerbar und deren Licht mischt sich im Betrieb des Halbleiterbauteils 10 zu einem Mischlicht, das bevorzugt weißes Licht und hinsichtlich der Farbtemperatur electrically controllable and their light mixes in the operation of the semiconductor device 10 to a mixed light, preferably white light and in terms of color temperature
durchstimmbar ist. is tunable.
Die Halbleiterchips 4 der Lichtquellen 1, 2, 3 sind The semiconductor chips 4 of the light sources 1, 2, 3 are
vergleichsweise weit voneinander beabstandet, um eine comparatively far apart from each other, around one
Überhitzung des Halbleiterbauteils 10 zu vermeiden. Ein kleinstes Rechteck, in das die Halbleiterchips 4 aller To avoid overheating of the semiconductor device 10. A smallest rectangle into which the semiconductor chips 4 of all
Lichtquellen 1, 2, 3 in Draufsicht gesehen einbeschreibbar sind, weist Abmessungen von mindestens 1,5 mm x 1,5 mm, insbesondere von mindestens 2,1 mm x 2,1 mm oder von Light sources 1, 2, 3 can be inscribed in plan view, has dimensions of at least 1.5 mm x 1.5 mm, in particular of at least 2.1 mm x 2.1 mm or of
mindestens 4,3 mm x 4,3 mm auf. at least 4.3mm x 4.3mm.
In Figur 2 ist ein weiteres Ausführungsbeispiel des FIG. 2 shows a further exemplary embodiment of the invention
Halbleiterbauteils 10 dargestellt. In Figur 2A ist eine Semiconductor device 10 shown. In Figure 2A is a
Schnittdarstellung und in Figur 2B eine Draufsicht ohne den Reflektorverguss 8 und ohne den Vergusskörper 6 zu sehen. Sectional view and in Figure 2B is a plan view without the Reflektorverguss 8 and without the potting 6 to see.
Anders als beim Ausführungsbeispiel gemäß Figur 2 ist die zweite Lichtquelle 2 gemäß Figur 2 durch einen direkt im roten Spektralbereich emittierenden Halbleiterchip 5, Unlike the embodiment according to FIG. 2, the second light source 2 according to FIG red spectral region emitting semiconductor chip 5,
beispielsweise einer auf InGaAlP basierenden Leuchtdiode, gebildet. Die zweite Lichtquelle 2 ist also frei von einem Konversionselement. Die Lichtquellen 1, 2, 3 sind, in for example, a light-emitting diode based on InGaAlP formed. The second light source 2 is thus free of a conversion element. The light sources 1, 2, 3 are, in
Draufsicht gesehen, anders angeordnet als gemäß Figur 1. Der Reflektorverguss 8 schließt, in eine Richtung parallel zur Hauptabstrahlrichtung M, bündig mit den Strahlungshauptseiten 40 der Halbleiterchips 4, 5 ab. Beim Ausführungsbeispiel des Halbleiterbauteils 10 gemäßSeen in plan, arranged differently than according to FIG. 1. The reflector casting 8 terminates, flush in a direction parallel to the main emission direction M, with the main radiation sides 40 of the semiconductor chips 4, 5. In the embodiment of the semiconductor device 10 according to
Figur 3, gezeigt in einer schematischen Schnittdarstellung, ist der Vergusskörper 6 gleichzeitig als optisches Element 60 in Form einer Sammellinse gestaltet. Durch die Beigabe des Konversionsmittels und bevorzugt der Streupartikel in den Vergusskörper 6 ist dann eine besonders homogene, Figure 3, shown in a schematic sectional view, the potting 6 is designed simultaneously as an optical element 60 in the form of a converging lens. By adding the conversion agent and preferably the scattering particles into the potting body 6 is then a particularly homogeneous,
winkelabhängige Abstrahlcharakteristik erzielbar, da angle-dependent radiation characteristic achievable since
insbesondere die Weglänge von blauem Licht in dem in particular the path length of blue light in the
Vergusskörper 6 nahezu unabhängig von einem Emissionswinkel der Lichtquellen 1, 2, 3 ist. Die mittlere Dicke d des Potting body 6 is almost independent of an emission angle of the light sources 1, 2, 3. The mean thickness d of the
Vergusskörpers 6 liegt bevorzugt zwischen 200 μπι und 1800 μπι. Potting body 6 is preferably between 200 μπι and 1800 μπι.
Die Konversionselemente 11, 22 überragen die Halbleiterchips 4 in der lateralen Richtung L und bedecken teilweise den Reflektorverguss 8. Der Vergusskörper 6 steht nicht in unmittelbarem Kontakt zu den Halbleiterchips 4. Anders als dargestellt ist es alternativ ebenso möglich, dass die The conversion elements 11, 22 project beyond the semiconductor chips 4 in the lateral direction L and partially cover the reflector potting 8. The potting body 6 is not in direct contact with the semiconductor chips 4. Contrary to what is shown, it is alternatively possible that the
Konversionselemente 11, 22 die Strahlungshauptseiten 40 nicht vollständig bedecken und die Strahlungshauptseiten 40 der Halbleiterchips 4 der ersten und/oder zweiten Lichtquelle 1, 2 stellenweise in direktem Kontakt zu dem Reflektorverguss 8 stehen und von diesem bedeckt sind. Conversion elements 11, 22 do not completely cover the main radiation sides 40 and the main radiation sides 40 of the semiconductor chips 4 of the first and / or second light source 1, 2 are in direct contact with the reflector casting 8 and are covered by it.
In der Schnittdarstellung des Halbleiterbauteils 10 gemäß Figur 4 ist zu erkennen, dass der Reflektorverguss 8 entlang der Hauptabstrahlrichtung M bündig mit den dem Träger 7 abgewandten Seiten der Konversionselemente 11, 22 abschließt. Um zu verhindern, dass die Halbleiterchips 4 der dritten Lichtquelle 3, in Figur 4 nicht dargestellt, von dem In the sectional view of the semiconductor device 10 according to FIG. 4, it can be seen that the reflector casting 8 extends along the main emission direction M flush with the side facing away from the carrier 7 of the conversion elements 11, 22 terminates. In order to prevent the semiconductor chips 4 of the third light source 3, not shown in FIG
Reflektorverguss 8 bedeckt werden, kann den Halbleiterchips 4 ein Silikonplättchen mit einer Dicke der Konversionselemente 11, 22 nachgeordnet sein, wobei dieses Silikonplättchen dann frei von einem Konversionsmittel ist. Eine dem Träger 7 zugewandte Seite des Vergusskörpers 6 ist eben geformt. Die dem Träger 7 abgewandte Seite des Vergusskörpers 6 ist im Querschnitt stufenartig geformt. Reflektorverguss 8 are covered, the semiconductor chips 4 may be a silicon wafer with a thickness of the conversion elements 11, 22 downstream, said silicone plate is then free of a conversion agent. A side facing the carrier 7 of the potting body 6 is flat. The side facing away from the carrier 7 of the potting body 6 is stepped in cross section.
Die hier beschriebene Erfindung ist nicht durch die The invention described here is not by the
Beschreibung anhand der Ausführungsbeispiele beschränkt. Description limited to the embodiments.
Vielmehr umfasst die Erfindung jedes neue Merkmal sowie jede Kombination von Merkmalen, was insbesondere jede Kombination von Merkmalen in den Patentansprüchen beinhaltet, auch wenn dieses Merkmal oder diese Kombination selbst nicht explizit in den Patentansprüchen oder Ausführungsbeispielen angegeben ist. Rather, the invention encompasses any novel feature as well as any combination of features, including in particular any combination of features in the claims, even if this feature or combination itself is not explicitly stated in the patent claims or exemplary embodiments.
Diese Patentanmeldung beansprucht die Priorität der deutschen Patentanmeldung 10 2010 055 265.8, deren Offenbarungsgehalt hiermit durch Rückbezug aufgenommen wird. This patent application claims the priority of German Patent Application 10 2010 055 265.8, the disclosure of which is hereby incorporated by reference.

Claims

Patentansprüche claims
1. Optoelektronisches Halbleiterbauteil (10) mit 1. Optoelectronic semiconductor device (10) with
- einer grünes, weißes oder weiß-grünes Licht  - a green, white or white-green light
emittierenden ersten Lichtquelle (1), die einen im blauen Spektralbereich emittierenden Halbleiterchip (4) und ein erstes Konversionselement (11) aufweist, das unmittelbar an dem Halbleiterchip (4) angebracht ist, emitting first light source (1) having a semiconductor chip (4) emitting in the blue spectral region and a first conversion element (11) which is attached directly to the semiconductor chip (4),
- einer rotes Licht emittierenden zweiten Lichtquelle (2) mit einem im blauen Spektralbereich emittierenden- A second light source (2) emitting red light with a light emitting in the blue spectral range
Halbleiterchip (4) und mit einem zweiten Semiconductor chip (4) and with a second
Konversionselement (22), das unmittelbar an dem  Conversion element (22), directly on the
Halbleiterchip (4) angebracht ist, und/oder mit einem im roten Spektralbereich emittierenden Halbleiterchip (5),  Semiconductor chip (4) is mounted, and / or with a semiconductor chip (5) emitting in the red spectral region,
- einer blaues Licht emittierenden, dritten Lichtquelle (3) mit einem im blauen Spektralbereich emittierenden Halbleiterchip (4), und  - A blue light emitting, third light source (3) with a semiconductor chip emitting in the blue spectral region (4), and
- einem Vergusskörper (6) mit einem Matrixmaterial, in das ein Konversionsmittel eingebettet ist,  a potting body (6) with a matrix material in which a conversion agent is embedded,
wobei der Vergusskörper (6) den Lichtquellen (1, 2, 3) gemeinsam nachgeordnet ist.  wherein the potting body (6) is arranged downstream of the light sources (1, 2, 3).
2. Optoelektronisches Halbleiterbauteil (10) nach dem 2. Optoelectronic semiconductor device (10) according to the
vorhergehenden Anspruch,  previous claim,
bei dem das erste Konversionselement (11) dazu  in which the first conversion element (11) to
eingerichtet ist, Licht des Halbleiterchips (4) der ersten Lichtquelle (1) zu höchstens 70 % zu  is set up, the light of the semiconductor chip (4) of the first light source (1) to a maximum of 70%
konvertieren,  convert,
und bei dem der Vergusskörper (6) dazu eingerichtet ist, Licht der im blauen Spektralbereich emittierenden and wherein the potting body (6) is adapted to light the light emitting in the blue spectral range
Halbleiterchips (4) der ersten und der dritten Semiconductor chips (4) of the first and the third
Lichtquelle (1, 3) je zu mindestens 5 % zu  Light source (1, 3) each to at least 5%
konvertieren . convert.
3. Optoelektronisches Halbleiterbauteil (10) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, 3. Optoelectronic semiconductor component (10) according to one of the preceding claims,
bei der das Licht der ersten Lichtquelle (1) vor  at the front of the light of the first light source (1)
Eintritt in den Vergusskörper (6) einen Farbort in der CIE-Normfarbtafel aufweist mit 0,1 < cx ^ 0,31 und mitEntry into the potting body (6) has a color location in the CIE standard color chart with 0.1 <c x ^ 0.31 and with
0,1 < cy < 0, 32, 0.1 <c y <0, 32,
wobei das Halbleiterbauteil (10) im Betrieb weißes Mischlicht mit einer korrelierten Farbtemperatur zwischen einschließlich 2300 K und 7000 K emittiert.  wherein the semiconductor device (10) in operation emits white mixed light having a correlated color temperature of between 2300 K and 7000 K inclusive.
Optoelektronisches Halbleiterbauteil (10) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, Optoelectronic semiconductor component (10) according to one of the preceding claims,
bei dem das Konversionsmittel des Vergusskörpers (6) in Form von Partikeln mit einem mittleren Durchmesser zwischen einschließlich 1 μπι und 15 μπι vorliegt, wobei die Partikel für blaues Licht absorbierend und für rotes und grünes Licht streuend wirken.  in which the conversion agent of the potting (6) in the form of particles having a mean diameter between 1 μπι and 15 μπι present, the particles for blue light absorbing and scattering for red and green light.
Optoelektronisches Halbleiterbauteil (10) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, Optoelectronic semiconductor component (10) according to one of the preceding claims,
bei dem der Vergusskörper (6), neben dem  in which the potting body (6), in addition to the
Konversionsmittel, zusätzlich Streupartikel umfasst, wobei ein Brechungsindexunterschied zwischen dem  Conversion agent, additionally comprises scattering particles, wherein a refractive index difference between the
Matrixmaterial und den Streupartikeln bei einer  Matrix material and the scattering particles in a
Temperatur von 300 K höchstens 0,10 beträgt.  Temperature of 300 K is at most 0.10.
Optoelektronisches Halbleiterbauteil (10) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, Optoelectronic semiconductor component (10) according to one of the preceding claims,
bei dem der Vergusskörper (6) eine mittlere Dicke (d) zwischen einschließlich 200 μπι und 800 μπι aufweist, wobei die Partikel des Konversionsmittels und/oder die Streupartikel jeweils homogen in dem gesamten  in which the potting body (6) has an average thickness (d) of between 200 μπι and 800 μπι, wherein the particles of the conversion agent and / or the scattering particles in each case homogeneously in the entire
Vergusskörper (6) verteilt sind. Potting body (6) are distributed.
7. Optoelektronisches Halbleiterbauteil (10) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, 7. Optoelectronic semiconductor component (10) according to one of the preceding claims,
bei dem der Vergusskörper (6) und das erste  in which the potting body (6) and the first
Konversionselement (11) dasselbe Konversionsmittel in unterschiedlichen Volumenkonzentrationen enthalten.  Conversion element (11) contain the same conversion agent in different volume concentrations.
8. Optoelektronisches Halbleiterbauteil (10) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, 8. Optoelectronic semiconductor component (10) according to one of the preceding claims,
bei dem der Vergusskörper (6) und das erste  in which the potting body (6) and the first
Konversionselement (11) sowie das zweite  Conversion element (11) and the second
Konversionselement (22) jeweils voneinander  Conversion element (22) each from each other
verschiedene Konversionsmittel enthalten.  contain different conversion agents.
9. Optoelektronisches Halbleiterbauteil (10) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, 9. Optoelectronic semiconductor component (10) according to one of the preceding claims,
bei dem alle Halbleiterchips (4, 5) der Lichtquellen (1, 2, 3) in lateraler Richtung (L) jeweils mindestens stellenweise von einem Reflektorverguss (8) umgeben sind,  in which all the semiconductor chips (4, 5) of the light sources (1, 2, 3) in the lateral direction (L) are each surrounded at least in places by a reflector casting (8),
wobei der Vergusskörper (6) dem Reflektorverguss (8) entlang einer Hauptabstrahlrichtung (M) des  wherein the potting body (6) the reflector Verguss (8) along a main radiation direction (M) of the
Halbleiterbauteils (10) nachgeordnet und wenigstens stellenweise unmittelbar auf dem Reflektorverguss (8) sowie auf dem Halbleiterchip (4) der dritten  Semiconductor component (10) arranged downstream and at least in places directly on the Reflektorverguss (8) and on the semiconductor chip (4) of the third
Lichtquelle (3) sowie auf dem ersten Konversionselement (11) und/oder auf dem zweiten Konversionselement (22) aufgebracht ist.  Light source (3) and on the first conversion element (11) and / or on the second conversion element (22) is applied.
10. Optoelektronisches Halbleiterbauteil (10) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, 10. Optoelectronic semiconductor component (10) according to one of the preceding claims,
bei dem der Reflektorverguss (8), in einer Richtung parallel zu der Hauptabstrahlrichtung (M) und mit einer Toleranz von höchstens 15 μπι, bündig mit Strahlungshauptseiten (40) der Halbleiterchips (4, 5) der Lichtquellen (1, 2, 3) abschließt. in which the reflector casting (8), in a direction parallel to the main emission direction (M) and with a tolerance of at most 15 μπι, flush with Radiation main sides (40) of the semiconductor chips (4, 5) of the light sources (1, 2, 3) terminates.
Optoelektronisches Halbleiterbauteil (10) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, Optoelectronic semiconductor component (10) according to one of the preceding claims,
bei dem der Reflektorverguss (8) weiß erscheint und Reflektorpartikel aufweist,  in which the reflector casting (8) appears white and has reflector particles,
wobei der Reflektorverguss (8) und der Vergusskörper (6) das gleiche Matrixmaterial aufweisen.  wherein the reflector potting (8) and the potting body (6) have the same matrix material.
12. Optoelektronisches Halbleiterbauteil (10) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, 12. Optoelectronic semiconductor component (10) according to one of the preceding claims,
bei dem alle Halbeiterchips (4, 5) der Lichtquellen (1, 2, 3) auf einem gemeinsamen Träger (7) in einer  in which all the semiconductor chips (4, 5) of the light sources (1, 2, 3) on a common carrier (7) in one
gemeinsamen Ebene angebracht sind,  common plane are appropriate,
wobei die Halbleiterchips (4, 5) über eine Fläche von mindestens 1,5 x 1,5 mm^ verteilt sind.  wherein the semiconductor chips (4, 5) are distributed over an area of at least 1.5 x 1.5 mm ^.
Optoelektronisches Halbleiterbauteil (10) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, Optoelectronic semiconductor component (10) according to one of the preceding claims,
bei dem die Lichtquellen (1, 2, 3) unabhängig  in which the light sources (1, 2, 3) independently
voneinander elektrisch ansteuerbar sind, wobei die korrelierte Farbtemperatur des vom Halbleiterbauteil (10) im Betrieb emittierten weißen Mischlichts  electrically controllable from each other, wherein the correlated color temperature of the semiconductor component (10) emitted during operation of white mixed light
durchstimmbar ist.  is tunable.
Optoelektronisches Halbleiterbauteil (10) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, Optoelectronic semiconductor component (10) according to one of the preceding claims,
bei dem alle Halbleiterchips (4) der Lichtquellen (1, 2, 3) untereinander baugleich sind,  in which all semiconductor chips (4) of the light sources (1, 2, 3) are identical to one another,
wobei zumindest eine der Lichtquellen (1, 2, 3) wenigstens zwei Halbleiterchips (4) umfasst.  wherein at least one of the light sources (1, 2, 3) comprises at least two semiconductor chips (4).
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