WO2012079750A1 - Mobile, transportable electrostatic substrate retaining arrangement - Google Patents

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WO2012079750A1 PCT/EP2011/006307 EP2011006307W WO2012079750A1 WO 2012079750 A1 WO2012079750 A1 WO 2012079750A1 EP 2011006307 W EP2011006307 W EP 2011006307W WO 2012079750 A1 WO2012079750 A1 WO 2012079750A1
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carrier
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Florian Schwarz
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Manz Ag
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Definitions

  • the invention relates to a mobile, transportable electrostatic Substratathaltean Aunt for thin, disc-shaped workpieces and the use at high temperatures with a substrate holder having at least one holding pair comprising a pair of electrodes, and with a support for the substrate holder.
  • Stationary electrostatic chucks are known and used in the handling of disk-like, conductive and semiconducting substrates, especially in semiconductor industry manufacturing facilities.
  • the use of stationary electrostatic holders has the disadvantage that a substrate first has to be positioned on the stationary holder and has to be removed again after processing. A transport together with the electrostatic holder outside the immediate area of the plant is therefore not possible.
  • a mobile, portable, electrostatic substrate holder is known.
  • a substrate can be placed on this holder and held with electrostatic forces.
  • the substrate can be moved together with the substrate holder and positioned on a stationary holder.
  • a secure transport of a substrate by means of the transportable holder is therefore only possible to a limited extent.
  • a common problem with all types of electrostatic holders is a limited operating temperature, usually ⁇ 200 ° C.
  • the object of the present invention is to provide a mobile transportable electrostatic substrate holding assembly which ensures reliable transport and reliable support of substrates during their processing and transportation.
  • the Substratathalteanordung should be designed so that the processing result of a substrate by the substrate holding assembly is not or only slightly affected and thereby reproducible.
  • a mobile, transportable electrostatic Substratathaltean instrument for thin, disc-shaped workpieces and use at high temperatures with a substrate holder having at least one holding pair comprising a pair of electrodes, and with a support for the substrate holder, the substrate holder at least largely thermally decoupled is mechanically connected to the carrier.
  • the (additional) carrier is firmly bonded to the substrate holder but decoupled (thermally and spatially) from the substrate holder such that it is not exposed to the same adverse process conditions.
  • a mobile, transportable Substratathaltean angel also at (substrate) temperatures around 400 ° C and above possible.
  • the carrier is also mobile and movable, and a stationary substrate holder in a processing plant can be omitted.
  • the substrate holder assembly according to the invention is thus suitable for transport and for holding thin and thus fragile workpieces.
  • An application in vacuum is possible.
  • applications at elevated temperatures for example,> 400 ° C are possible.
  • the transport and the mounting of a substrate is possible without covering the front of the workpiece, ie the substrate, partially or even completely. Shading by mechanical brackets are avoided.
  • An additional advantage of the electrostatic support over a purely mechanical support loose support or retaining clips or hooks
  • a further advantage is the higher position accuracy / more precise position determination, which greatly simplifies the fast automation (handling time of a wafer ⁇ 1 s) which is usual in the solar industry.
  • the Substratathaltean angel invention can be used in many ways. Moreover, it is possible to hold a substrate having the same substrate holding arrangement in different processing stations. Substrates do not need to be detached from the substrate holders between the processing stations, allowing for reliable and complete automated transport of the fragile substrates.
  • the substrate holding arrangement according to the invention can be used in (vacuum) coating processes at high temperatures, for example in solar cell production. The advantages of using in solar cell manufacture are the possibility of coating without shadowing, the possibility of automated transport, and the possibility of using the substrate holding assembly to hold substrates in vacuum and at high temperatures.
  • the substrate holder is largely thermally decoupled from at least one side edge mechanically connected to the carrier.
  • the mechanical connection over the side edge is already advantageous to the extent that the thermal conductivity of a substantially planar and planar formed substrate holder in the plane is less than in a direction parallel to its surface normal direction.
  • a largely thermally decoupled mechanical fastening can take place via the edge-side mutual connection of substrate holder and carrier.
  • the carrier and the substrate holder are in this case preferably electrically connected to one another.
  • a planar substrate holder is to be understood as meaning those geometries which have a greater extent in one plane than in a direction perpendicular thereto.
  • the substrate holder consequently has an extension which coincides with the substrate plane, which extent is substantially greater than the thickness of the substrate holder.
  • the substrate holder is selectively connected to the carrier.
  • the substrate holder is connected to the carrier only at one or two points. This results in a further thermal decoupling of carrier and substrate holder.
  • the substrate holder is connected by one or more, a thermally insulating material having webs with the carrier.
  • the at least one web may consist entirely of a thermally insulating material.
  • the web can in this case at least partially have a substrate holder comparable or smaller thickness than the substrate holder and alone contribute due to its geometric configuration and a comparatively small cross-sectional area only to a small and almost negligible extent to an inevitable heat transfer between the substrate holder and the carrier.
  • the at least one web is formed as an integral part of the substrate holder or integrated in one piece.
  • the bridge z. B. may be formed as an over the side edge of the planar substrate holder out projecting extension, which z. B. provides an electrical and / or mechanical contact, respectively coupling between substrate holder and carrier.
  • the substrate holder has a layer structure, for example in the form of a base plate with electrically insulating and electrically conductive layers arranged thereon, the at least one web can be z. B. as an at least partially over the side edge of the overlying layers protruding extension of the base plate may be formed.
  • the thermally insulating mechanical connection of substrate holder and carrier provides at least one imaginary thermal separation plane, which preferably extends parallel to the at least side of the substrate holder facing the carrier. It is provided in particular that the parting plane is penetrated by the at least one thermally insulating web thought. The web or webs extend in this respect parallel to the surface normal of an at least conceivable thermal separation plane between the carrier and the substrate holder.
  • the carrier may have its own energy storage device, typically in the form of a charge storage device, and may also be electrically connected to the at least one holding device can be connected or connected.
  • a particular own or autonomous power supply with a charge storage such as one or more capacitors, a battery or an accumulator, may be arranged in the carrier and thus spatially remote from the substrate holder.
  • the charge store and possibly additionally required electronics for example a voltage converter as part of a voltage supply, can be arranged in the carrier which is exposed to lower temperatures than the substrate holder. Thereby, a more reliable function of the substrate holder can be ensured.
  • the electronics and the charge storage may be encapsulated within the carrier so that they are protected from a process environment of a process of processing.
  • the spatially separated arrangement of the support from the substrate holding assembly can prevent the support from overheating and coating or etching.
  • the carrier can thus be spatially separated from the substrate holder, but nevertheless arranged connected thereto.
  • the mechanical and / or electrical connection between substrate holder and carrier is releasable. As a result, if necessary, the carrier or the substrate holder can be exchanged.
  • the carrier may have a circuit for carrying out a conversion of the voltage to at least one holding device and / or a controlled on / off switching.
  • the charge store or an electrical circuit connected thereto can be designed for the asymmetrical potential supply of the electrodes of at least one holding device. This allows the potential of the substrate to be adjusted. For example, a potential of +200 volts can be applied to one electrode and a potential of -600 volts to the other electrode.
  • Substrate potential (potential electrode 1 + potential electrode 2) 12.
  • the electrical circuit can also be designed for a specific control of the holding force (controlled on / off with the shortest possible switching times) Temperatures in the insulator can occur through targeted Control of the electrodes are compensated.
  • openings may be provided in the substrate holder, which allow a manipulation of the substrate through the substrate holder.
  • the substrate could be lifted by pins or compressed air for removal from the substrate holder.
  • the electrode pairs are discharged. If permanent charges have built up in the substrate holder, they can be compensated by a targeted voltage / polarity reversal to completely reduce the holding force.
  • the electrical connection can advantageously be surrounded at least in regions by thermally insulating material.
  • the electrical connection may be electrically and thermally insulated in the above-mentioned webs or point connections.
  • the electrical connection may be formed separately from the at least one web interconnecting the carrier and the substrate holder, or may also be integrated into the web providing a thermal decoupling.
  • the carrier may be formed like a frame.
  • the carrier can completely enclose or surround the substrate holder along all lateral edges in the circumferential direction, wherein a connection between the carrier frame and the substrate holder held therein preferably takes place via one or more thermally insulating webs.
  • a connection between the carrier frame and the substrate holder held therein preferably takes place via one or more thermally insulating webs.
  • marginally encompassing supports such as an L-shaped support or a U-shaped support, can be provided, which can each be assigned two or three directly adjacent side edges of the substrate holder.
  • the carrier is designed as a base.
  • the base may have a substantially cuboidal contour and extend beyond the side edge of the substrate holder facing it.
  • the pedestal may have a longitudinal extent that is greater than the side edge of the substrate holder.
  • the base can be designed so that it allows the connection of the substrate holding arrangement to a (linear) transport system (for example, rail system, roller conveyor, conveyor belt).
  • a (linear) transport system for example, rail system, roller conveyor, conveyor belt.
  • the base may also be designed for a rotary transport system in which the carrier is moved or pivoted along a circular path.
  • the substrate holder assembly may be constructed for a transport system based on one or more turntables wherein the individual substrates to be held on the substrate holder are movable from one to the next processing station by a pivotal movement of the turntable.
  • the substrate holder may be arranged in any orientation to the carrier.
  • the thermally decoupled pedestal may also serve as an interface / point of attack for another type of transport system, such as a lift or pivot unit, robotic arm, etc. This allows an automated change of position during operation.
  • the thermal decoupling is an important aspect, since such systems are generally not suitable for the high temperatures as the substrate holder has. It is therefore the handling of hot substrates (and the holder) possible without the transport system overheats or cool the substrates due to excessive heat losses (to the transport system) faster than intended.
  • the substrates which are arranged on the substrate holder, are also vertically aligned.
  • the substrates can be arranged vertically in a processing station. Errors caused by particles that can remain on a horizontally aligned substrate can be avoided. All of the electrical components, such as an electrical circuit or a charge storage device, may be protected within the socket become. This makes it possible to form the substrate holder itself with a relatively low thermal mass.
  • the carrier can have electrical contact points and / or means for inductive energy transmission. If the carrier has electrical contact points, it can be connected in a particularly simple manner to a charging station for charging the charge store. In addition, signals can be transmitted via electrical contact points. However, it is also conceivable that the charge storage is charged contactless. For this purpose, it is advantageous if means for inductive energy transmission are provided.
  • the substrate holder has a plurality of holding devices.
  • a plurality of substrates can be arranged and held on the substrate holder at the same time. This has the consequence that several substrates can be transported simultaneously and processed in a processing station.
  • a plurality of holding devices may be connected in parallel to the same charge storage or each holding device may be connected to a separate charge storage.
  • the use of only one charge storage device, to which a plurality of holding devices are connected, has the advantage that less charge storage device must be used, whereby the size can be reduced.
  • the use of a charge storage device for each holding device has the advantage that substrates can be individually loaded and unloaded, since the holding devices can be controlled individually.
  • the terminals of the electrodes of the holding device may be led to the outside on the front side of the substrate holder or may be guided through holes or around an edge of the substrate holder onto the rear side of the substrate holder. Depending on the configuration of the Substratathaltanowski therefore a suitable connection can be selected.
  • Several holding devices can also already be interconnected within / on the substrate holder.
  • the at least one holding device is arranged lying in a planar plane of the substrate holder, wherein the planar plane of the substrate holder is bounded laterally by at least one side edge, via which the substrate holder is mechanically connected to the carrier.
  • the substrate holder has a substantially flat and planar basic structure, wherein the side edges have comparatively small area in comparison to the holding devices provided in the plane of the substrate holder. Due to the geometrical basic shape of the substrate holder and its edge-side connection to the carrier, a thermal decoupling of the carrier and the substrate holder can take place as far as possible, even if the substrate holder should be mechanically connected to the carrier over its entire side edge.
  • the substrate holder has at least one holding device on a front side and on a rear side facing away therefrom.
  • the substrate holder is constructed essentially mirror-symmetrically and can hold several substrates both on its front side and on its rear side. In this way twice as many substrates can be treated in one processing or treatment station at the same time, or substrates can be treated simultaneously in two treatment stations.
  • the holding devices provided on a front side and correspondingly on the rear side and overlapping each other have at least one common electrode or a corresponding electrode pair.
  • the electrode can replace a base plate of the substrate holder constructed in individual layers. If, in addition to the substrate holder, the carrier connected therewith also has an intended symmetry, it is also conceivable to supply the substrate holding arrangement in at least two different orientations to a processing station. So z. B.
  • the substrate holder assembly can be supplied according to a first orientation of a processing station and thereafter supply by turning in a second orientation of the same or another processing station.
  • This can reduce the number of treatment stations required and / or extend the maintenance intervals, which require, for example, a cleaning of the processing station.
  • provision can be made, in particular, for the substrate holder and / or the carrier to be rotationally symmetrical with respect to an approximately imaginary axis extending through the substrate holder and the carrier.
  • the axis may in this case run parallel approximately in the middle between and parallel to those side edges of the substrate holder, which extend away from the carrier.
  • the substrate holder and / or the carrier are formed with respect to a plane coincident with the substrate holder substantially mirror-symmetrical.
  • connection of base and substrate holder has a heat conductivity less than 100 W / K, preferably less than 10 W / K, preferably less than 1 W / K, more preferably a heat conductivity less than 0.1 W / K or has a thermal conductivity less than 0.01 W / K.
  • the mechanical connection no absolute thermal decoupling of substrate holder and carrier can be provided.
  • the aforesaid parameter ranges exhibit different candidate thermal decoupling degrees between the carrier and the substrate holder.
  • the substrate holder and the carrier interconnecting web has a specific thermal conductivity of less than 100 W / (m * K), preferably less than 30 W / (m * K), more preferably less than 5 W / (m * K).
  • a thermal insulation material providing materials conceivable. So the at least one bridge z. Example, the following materials or even almost completely formed from this: stainless steel, titanium, Al 2 0 3, quartz, glass, glass ceramic or other ceramic materials, or plastic, which is suitable for the operating temperatures
  • the size ratio of the area of the at least one side edge of the substrate holder facing the carrier to the cross-sectional area of a web adjacent thereto is at least 10: 1, preferably at least 100: 1.
  • the at least one web has a length which is greater than the thickness of the substrate holder. Thickness in the present context means the extent of the substrate holder along its surface normal.
  • thermal shielding element between the carrier and the substrate holder, which preferably extends parallel to the thermal separation plane between substrate holder and carrier.
  • the thermal shielding element can in this case be adapted to the outer dimensions of the carrier as well as that of the substrate holder and, in particular, act as a type of thermal reflector by means of which the carrier can be protected against thermal radiation.
  • the thermal shielding element preferably has one or more shielding plates and preferably extends in a plane parallel to the surface normal of the planar substrate holder and parallel to the side edge of the substrate holder facing the carrier.
  • the thermal shielding element is in this case preferably arranged between the carrier and the substrate holder and can be penetrated by the at least one web.
  • the scope of the invention also includes a transport system with a plurality of substrate holding arrangements according to the invention, with a loading and / or unloading station in which a substrate holding arrangement can be pivoted between a transport position and a loading / unloading position and a transport device for transporting a substrate holding arrangement of a loading and unloading station / or unloading station to a substrate processing station.
  • a transport system has the advantage that substrates do not have to be handled directly at the place of processing or have to be loaded and unloaded there on / from static holding devices.
  • a substrate is arranged on a substrate holding arrangement and then passes through an installation with a plurality of substrate processing stations, without having to change the substrate holding arrangement.
  • the loading and / or unloading station it is possible to align the substrate holder horizontally for loading and unloading so that substrates can be easily placed on the substrate holder.
  • the substrate is reliably held on the substrate holder, so that it is then possible to change the position of the substrate holding arrangement, so that the substrate holder and thus the substrates mounted therein, for example, can be vertically aligned. In this position, the substrates can be transported and processed.
  • an electrical charging station can be provided in the transport system.
  • FIG. 1 highly schematic representation of a
  • FIG. 2 is a sectional view through a substrate holder
  • Fig. 3 is a partial sectional view through a substrate holder
  • Fig. 4 is a partial sectional view through a substrate holder for
  • FIG. 5 shows a partial sectional view through a substrate holder with a further variant of the contacting
  • FIG. 6 is a partial sectional view through a substrate holder with a further variant of the contacting
  • FIG. 8 is a schematic illustration showing the contacting of each holding device by a single power supply or charge storage device (electronic unit); FIG. a highly schematic representation of a transport system; a plan view of a Substrathaltaltean instruct with a shielding element; a side view of the Substrathaltaltean whatsoever of FIG. 10; a substrate holding assembly having a frame-like carrier; a cross-sectional view through the substrate holding assembly of FIG. 12; a cross-sectional view of a substrate holding assembly located in a substrate processing station in a first configuration; a substrate holding assembly in the substrate processing station according to a second configuration; a cross section through another
  • 1 shows a substrate holder assembly 1 with a substrate holder 2 and a carrier 3.
  • the substrate holder 2 is in the exemplary embodiment via two webs 4, 5 of thermally insulating material selectively connected to the carrier 3.
  • the substrate holder 2 has a substantially planar contour with four side edges 2a, 2b, 2c and 2d, of which the lower side edge 2d facing the carrier 3 is mechanically connected to the carrier 3 via the two webs 4, 5.
  • the webs 4, 5 are in this case in outer corners of the lower side edge 2d, via which the lower side edge 2d merges into the perpendicular or vertical side edges 2a, 2b.
  • the substrate holder 2 In the support 3, the necessary for an electrostatic support electronics or circuit and a charge storage are arranged.
  • the electronics or the charge storage are connected via electrical lines that run within the webs 4, 5, with corresponding electrodes on the substrate holder 2.
  • the substrate holder 2 is designed to hold four substrates 6 to 9.
  • the carrier 3 has a footprint 10 on which it can be placed or with which it can be connected to a transport system.
  • the substrate holder 2 is oriented orthogonal thereto. Therefore, the substrates 6 to 9 are also aligned orthogonally. They are held on the substrate holder 2 solely due to electrostatic forces.
  • the substrate holder 20 has an electrically insulating base plate 21.
  • an electrically insulating layer 22 is arranged on the base plate 21.
  • the base plate 21 may be formed, for example, as a glass ceramic and the electrically insulating layer 22, for example, as a ceramic.
  • an electrically conductive layer 23 is applied, which is structured such that for each substrate to be held 24 two mutually electrically insulated electrodes 25, 26 with preferably the same size surface are present.
  • a further electrically insulating layer 27 is provided above the electrically conductive layer 23, a further electrically insulating layer 27 is provided. This layer can either be mounted only on the front side of the substrate holder 20 or the Substrate holder 20 completely enclose, as shown for example in FIG.
  • the layer 27 may consist of several layers of different materials to achieve the desired properties.
  • the terminals of the electrodes 25, 26 may either be led outwards on the front side, as shown schematically in FIG. 4, or be guided through holes to the rear side, as shown schematically in FIG. Alternatively, the electrodes may be passed around the edge of the substrate holder 20 and guided onto the back side of the substrate holder. This is shown in FIG. 6. If appropriate, recesses 28, see, for example, FIG. 4, are provided in the insulating layer 27 for contacting the electrodes 25, 26.
  • FIG. 7 schematically shows a substrate holder 30 which has four holding devices 31 to 34.
  • Each holding device 31 to 34 has two electrodes 31.1, 31.2, 32.1, 32.2, 33.1, 33.2, 34.1, 34.2 of approximately the same size.
  • the electrodes 31.1, 32.1, 33.1 and 34.1 are connected in series.
  • the electrodes 31.2, 32.2, 33.2 and 34.2 are connected in series. This results in a parallel connection of the holding devices.
  • a single charge storage device may be employed to energize four retainers 31-34 to hold four substrates to the substrate holder 30.
  • each holding device 41 to 44 are likewise provided, which each have two electrodes 41.1, 41.2, 42.1, 42.2, 43.1, 43.2, 44.1, 44.2.
  • each holding device 41 to 44 connections so that each holding device 41 to 44 a separate charge storage can be connected.
  • FIG. 9 shows a transport system 100 which has a charging station 101 for substrate holding arrangements. Furthermore, a loading and / or unloading station 102 is provided, in which the substrate holding arrangements can be pivoted so that the substrate holders are aligned horizontally are. In this position, the substrate holding arrangement can be loaded or unloaded. Subsequently, the substrate holding assemblies are pivoted by 90 ° so that the substrate holders are vertically aligned.
  • the charging station 101 and the loading and / or unloading station 102 may be combined in one unit.
  • the substrate holding arrangements can be transported to a substrate processing station 104 and optionally to a further substrate processing station 105 .
  • FIG. 10 shows a further modified substrate holding arrangement 11 compared with the substrate holding arrangement 1 shown in FIG. 1, which further comprises, as shown in perspective in FIG. 18, a thermal shielding element 52 extending parallel to the lower side edge 2d, for example in the form of a shielding plate ,
  • the shielding plate 52 extends, as can also be seen in FIGS. 11 and 13, substantially perpendicular to the plane of the substrate holder 2 and can thus provide a thermal separation plane which is substantially perpendicular to the webs 4, 5 spaced apart along the side edge 2d is interspersed.
  • the shielding element 52 which is preferably in the form of a thermal shielding plate, can keep heat radiation present in the region of the substrate holder 2 and act on the substrates 6, 7, 8, 9 from the underlying carrier 3 and reflect it accordingly.
  • Fig. 10 is further illustrated that an electrical contact 14, 15 between the carrier 3 and substrate holder 2 can also extend outside the webs 4, 5.
  • FIGS. 12 and 13 show an alternative embodiment of a substrate holding arrangement 11, in which the substrate holder 2 is held on a frame-like carrier 54 with a total of four webs 4a, 5a, 4b, 5b. Consequently, the four side edges 2a, 2b, 2c, 2d of the substrate holder 2 are completely surrounded by the peripheral frame 54, wherein between the inside of the frame 54 and the side edges 2a, 2b, 2c, 2d of the substrate holder. 2 at least one correspondingly shaped shielding element 52, for example in the form of a plurality of shielding plates is arranged.
  • FIGS. 12 and 13 make it possible to feed the substrate holding assembly 11 in different orientations to a treatment station 104, 105.
  • Figs. 14-16 show various processing stations 104, 105, 106, which are e.g. the substrate holder assembly 1, 11 can be fed successively.
  • the processing or treatment stations 104, 105, 106 each have a housing 110 with a lower receiving portion 112 for the support 3 of the substrate holder assembly 1, 11.
  • the carrier 3 as well as the receiving section 112 and the thermal shielding element 52 are matched to one another in such a way that the carrier 3 can largely be thermally decoupled or at least thermally insulated from the treatment space 108 in which the treatment unit 114, 115 is arranged. So z.
  • the treatment station 104 outlined in FIG. 14 is provided with a treatment unit 114 designed as a heater, which applies thermal energy to the rear side 13 of the substrate holder 2 to bring the substrates 6, 7, 8, 9 held on the front side 12 to a predetermined temperature level heat.
  • processing or treatment station 105 is provided for coating the substrates 6, 7, 8, 9 provided treatment unit 115.
  • the substrate holding arrangement 11 can be inserted or guided in an orientation into the treatment station 105, in which the front side 12 of the substrate holder 2 faces the treatment unit 115.
  • FIG. 16 shows a configuration of a further substrate holder 50, which has both at its front side 12 and at its rear side facing away therefrom at least one holding device comprising an electrode pair for holding at least one respective substrate 6a, 6b, 9a, 9b.
  • the substrate holder 12 for two-sided and simultaneous Holding a plurality of substrates 6a, 6b, 9a, 9b is formed this can be arranged in a space between two, provided about for coating or for heating, treatment units 115 of a treatment station 106, so that both the front 12 and at the Rear side 13 held substrates 6a, 9a and 6b, 9b are simultaneously treatable.
  • the holding devices provided on opposite sides of the substrate holder 50 have common pairs of electrodes, so that one and the same electrode functions as a component of a front as well as a rear holding device.
  • Such an electrode may act as a base plate and be coated on both sides insulating.
  • the substrate holder 50 has a base plate 21 and on both sides, in each case an electrically insulating layer 22a, 22b.
  • an electrically conductive layer 23a, 23b is respectively applied to the sides facing away from each other, in which two electrodes 25a, 26a and 25b, 26b are electrically embedded for each substrate 24a, 24b to be held.
  • the double-sided layer structure as shown in FIG. 19, essentially corresponds to that according to FIG. 2, so that with respect to the general mode of operation of the electrostatic support reference is made to the exemplary embodiments according to FIGS. 2 to 8.
  • FIG. 17 shows a plane of symmetry 16, with respect to which the substrate holding arrangement 1, the substrate holder 2 and / or the carrier 3 can be formed substantially symmetrically. It is also conceivable that the substrate holder 2 and / or the carrier 3 also point / or are formed rotationally symmetrical to an imaginary axis 17 which extends in the central or symmetry plane 16 and is substantially parallel to the connecting extension of the webs 4, 5, aligned. Thus, in particular it can also be provided that the substrate holding arrangement 1 or its substrate holder 2 and / or its carrier 3 can be converted by rotation with respect to the center axis 17 into a suitable orientation for the respective treatment station 104, 105.

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Abstract

A mobile, transportable electrostatic substrate retaining arrangement (1) for thin, wafer-like workpieces and for use at high temperatures with a substrate retainer (2, 20, 30, 40), which comprises at least one retaining device (31 - 34, 41 - 44) which comprises an electrode pair (31.1, 31.2, 32.1, 32.2, 33.1, 33.2, 34.1, 34.2; 41.1, 41.2, 42.1, 42.2, 43.1, 43.2, 44.1, 44.2), and with a support (3) for the substrate retainer (2, 20, 30, 40) is characterized in that the substrate retainer (2, 20, 30, 40) is mechanically connected to the support (3) via at least one lateral edge (2a, 2b, 2c, 2d) in a manner that is at least mostly thermally decoupled.

Description

Mobile, transportable elektrostatische Substrathalteanordnung  Mobile, portable electrostatic substrate holder assembly
B e s c h r e i b u n g Description
Die Erfindung betrifft eine mobile, transportable elektrostatische Substrathalteanordnung für dünne, scheibenförmige Werkstücke und den Einsatz bei hohen Temperaturen mit einem Substrathalter, der zumindest eine ein Elektrodenpaar umfassende Halteeinrichtung aufweist, sowie mit einem Träger für den Substrathalter. The invention relates to a mobile, transportable electrostatic Substratathalteanordnung for thin, disc-shaped workpieces and the use at high temperatures with a substrate holder having at least one holding pair comprising a pair of electrodes, and with a support for the substrate holder.
Stationäre elektrostatische Halter sind bekannt und werden bei der Handhabung von scheibenartigen, leitenden und halbleitenden Substraten, vor allem in Produktionsanlagen der Halbleiterindustrie verwendet. Die Verwendung von stationären elektrostatischen Haltern hat den Nachteil, dass ein Substrat zunächst auf dem stationären Halter positioniert werden muss und nach der Bearbeitung von diesem wieder entnommen werden muss. Ein Transport zusammen mit dem elektrostatischen Halter außerhalb des unmittelbaren Anlagenbereiches ist demnach nicht möglich. Stationary electrostatic chucks are known and used in the handling of disk-like, conductive and semiconducting substrates, especially in semiconductor industry manufacturing facilities. The use of stationary electrostatic holders has the disadvantage that a substrate first has to be positioned on the stationary holder and has to be removed again after processing. A transport together with the electrostatic holder outside the immediate area of the plant is therefore not possible.
Aus der DE 203 11 625 U1 ist ein mobiler, transportabler, elektrostatischer Substrathalter bekannt. Ein Substrat kann an diesem Halter angeordnet werden und mit elektrostatischen Kräften gehalten werden. Das Substrat kann gemeinsam mit dem Substrathalter bewegt werden und auf einem stationären Halter positioniert werden. Dies bedeutet, dass der transportable Halter keine eigene Energie- oder Spannungsversorgung aufweist. Ein sicherer Transport eines Substrats mittels des transportablen Halters ist demnach nur bedingt möglich. Ein häufig auftretendes Problem bei allen Arten von elektrostatischen Haltern ist eine begrenzte Einsatztemperatur, meist < 200 °C. From DE 203 11 625 U1 a mobile, portable, electrostatic substrate holder is known. A substrate can be placed on this holder and held with electrostatic forces. The substrate can be moved together with the substrate holder and positioned on a stationary holder. This means that the transportable holder does not have its own power or voltage supply. A secure transport of a substrate by means of the transportable holder is therefore only possible to a limited extent. A common problem with all types of electrostatic holders is a limited operating temperature, usually <200 ° C.
Darüber hinaus bestehen Einschränkungen bei bekannten elektrostatischen Substrathaltern, wenn diese im Vakuum und bei erhöhten Temperaturen verwendet werden sollen. Für mobile Halter besonders kritisch ist die abnehmende elektrische Isolationswirkung fast aller gängiger Materialien bei Temperaturen > 300 °C. Dadurch kommt es zu erhöhten Leckströmen und dadurch wiederum zu einem schnelleren Verbrauch der gespeicherten Energie. In addition, there are limitations with known electrostatic substrate holders when they are to be used in vacuum and at elevated temperatures. Particularly critical for mobile holders is the decreasing electrical insulation effect of almost all common materials at temperatures> 300 ° C. This leads to increased leakage currents and thereby in turn to a faster consumption of stored energy.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, eine mobile, transportable elektrostatische Substrathalteanordung bereitzustellen, die einen zuverlässigen Transport und eine zuverlässige Halterung von Substraten während deren Bearbeitung und deren Transport sicherstellt. Darüber hinaus soll die Substrathalteanordung so ausgebildet sein, dass das Bearbeitungsergebnis eines Substrats durch die Substrathalteanordnung nicht oder nur sehr wenig beeinflusst wird und dadurch reproduzierbarer wird. The object of the present invention is to provide a mobile transportable electrostatic substrate holding assembly which ensures reliable transport and reliable support of substrates during their processing and transportation. In addition, the Substratathalteanordung should be designed so that the processing result of a substrate by the substrate holding assembly is not or only slightly affected and thereby reproducible.
Gelöst wird diese Aufgabe durch eine mobile, transportable elektrostatische Substrathalteanordnung für dünne, scheibenförmige Werkstücke und den Einsatz bei hohen Temperaturen mit einem Substrathalter, der zumindest eine ein Elektrodenpaar umfassende Halteeinrichtung aufweist, sowie mit einem Träger für den Substrathalter, wobei der Substrathalter zumindest weitestgehend thermisch entkoppelt mit dem Träger mechanisch verbunden ist. Im Unterschied zum Stand der Technik ist der (zusätzliche) Träger fest mit dem Substrathalter mechanisch verbunden, aber von dem Substrathalter derart entkoppelt (thermisch und räumlich), dass er nicht den gleichen widrigen Prozessbedingungen ausgesetzt ist. Hierdurch wird eine mobile, transportable Substrathalteanordnung auch bei (Substrat-)Temperaturen um die 400 °C und darüber möglich. Der Träger ist ebenfalls mobil und bewegbar, und ein stationärer Substrathalter in einer Bearbeitungsanlage kann entfallen. Außerdem ist es möglich, den Träger außerhalb des eigentlichen Bearbeitungsbereichs zu positionieren, sodass der Träger nicht der vollen Bearbeitungstemperatur ausgesetzt werden muss. Die erfindungsgemäße Substrathalteanordnung ist somit zum Transport und zur Halterung von dünnen und dadurch fragilen Werkstücken geeignet. Eine Anwendung im Vakuum ist möglich. Auch sind Anwendungen bei erhöhten Temperaturen beispielsweise > 400 °C möglich. Der Transport und die Halterung eines Substrats ist möglich, ohne die Vorderseite des Werkstücks, d. h. des Substrats, teilweise oder gar vollständig abzudecken. Abschattungen durch mechanische Halterungen werden vermieden. Ein zusätzlicher Vorteil der elektrostatischen Halterung gegenüber einer rein mechanischen Halterung (loses Aufliegen oder Halteklammern oder Haken) ist die Vermeidung einer ungewollten Beschichtung auf der Waferrückseite. Ein weiterer Vorteil ist die höhere Positionstreue/ genauere Lagebestimmung, wodurch die in der Solarindustrie übliche, schnelle Automatisierung (Handhabungszeit eines Wafers < 1s) erheblich vereinfacht wird. This object is achieved by a mobile, transportable electrostatic Substratathalteanordnung for thin, disc-shaped workpieces and use at high temperatures with a substrate holder having at least one holding pair comprising a pair of electrodes, and with a support for the substrate holder, the substrate holder at least largely thermally decoupled is mechanically connected to the carrier. Unlike the prior art, the (additional) carrier is firmly bonded to the substrate holder but decoupled (thermally and spatially) from the substrate holder such that it is not exposed to the same adverse process conditions. As a result, a mobile, transportable Substratathalteanordnung also at (substrate) temperatures around 400 ° C and above possible. The carrier is also mobile and movable, and a stationary substrate holder in a processing plant can be omitted. In addition, it is possible to position the carrier outside the actual processing area, so that the carrier does not have to be exposed to the full processing temperature. The substrate holder assembly according to the invention is thus suitable for transport and for holding thin and thus fragile workpieces. An application in vacuum is possible. Also, applications at elevated temperatures, for example,> 400 ° C are possible. The transport and the mounting of a substrate is possible without covering the front of the workpiece, ie the substrate, partially or even completely. Shading by mechanical brackets are avoided. An additional advantage of the electrostatic support over a purely mechanical support (loose support or retaining clips or hooks) is the avoidance of an unwanted coating on the wafer back. A further advantage is the higher position accuracy / more precise position determination, which greatly simplifies the fast automation (handling time of a wafer <1 s) which is usual in the solar industry.
Auch ein Transport und eine Halterung des Werkstücks in Niederdruckplasmen ist möglich. Somit ist die erfindungsgemäße Substrathalteanordnung vielfältig einsetzbar. Darüber hinaus ist es möglich, ein Substrat mit derselben Substrathalteanordnung in unterschiedlichen Bearbeitungsstationen zu halten. Substrate müssen nicht zwischen den Bearbeitungsstationen von den Substrathaltern gelöst werden, was einen zuverlässigen und vollständigen automatisierten Transport der bruchempfindlichen Substrate ermöglicht. Insbesondere ist die erfindungsgemäße Substrathalteanordnung in (Vakuum-) Beschichtungsprozessen bei hohen Temperaturen, zum Beispiel in der Solarzellenherstellung, einsetzbar. Die Vorteile einer Verwendung in der Solarzellenherstellung ergeben sich aus der Möglichkeit einer Beschichtung ohne Abschattungen, der Möglichkeit des automatisierten Transports und der Möglichkeit der Verwendung der Substrathalteanordnung zur Halterung von Substraten im Vakuum und bei hohen Temperaturen. Des Weiteren ist der Substrathalter über zumindest einen Seitenrand weitestgehend thermisch entkoppelt mit dem Träger mechanisch verbunden. Die mechanische Anbindung über den Seitenrand ist insoweit schon von Vorteil als dass die Wärmeleitfähigkeit eines im Wesentlichen eben und planar ausgebildeten Substrathalters in der Ebene geringer ist als in einer parallel zu seiner Flächennormalen verlaufenden Richtung. So kann allein schon über die randseitige wechselseitige Anbindung von Substrathalter und Träger eine weitgehend thermisch entkoppelte mechanische Befestigung erfolgen. A transport and a mounting of the workpiece in low-pressure plasmas is possible. Thus, the Substratathalteanordnung invention can be used in many ways. Moreover, it is possible to hold a substrate having the same substrate holding arrangement in different processing stations. Substrates do not need to be detached from the substrate holders between the processing stations, allowing for reliable and complete automated transport of the fragile substrates. In particular, the substrate holding arrangement according to the invention can be used in (vacuum) coating processes at high temperatures, for example in solar cell production. The advantages of using in solar cell manufacture are the possibility of coating without shadowing, the possibility of automated transport, and the possibility of using the substrate holding assembly to hold substrates in vacuum and at high temperatures. Furthermore, the substrate holder is largely thermally decoupled from at least one side edge mechanically connected to the carrier. The mechanical connection over the side edge is already advantageous to the extent that the thermal conductivity of a substantially planar and planar formed substrate holder in the plane is less than in a direction parallel to its surface normal direction. For example, a largely thermally decoupled mechanical fastening can take place via the edge-side mutual connection of substrate holder and carrier.
Es wird hierdurch ferner ermöglicht, den randseitig am Träger befestigten Substrathalter vollständig in einen Bearbeitungs- oder Behandlungsbereich einer Substratbearbeitungsstation zu überführen, während der Träger außerhalb eines Behandlungs- oder Bearbeitungsbereichs der Bearbeitungsstation verbleiben kann. Der Träger und der Substrathalter sind hierbei bevorzugt miteinander elektrisch verbunden. It is thereby further made possible to completely transfer the substrate holder fixed to the edge of the carrier into a processing or treatment area of a substrate processing station, while the carrier can remain outside a treatment or processing area of the processing station. The carrier and the substrate holder are in this case preferably electrically connected to one another.
Unter einem planaren Substrathalter sind vorliegend solche Geometrien zu verstehen, welche in einer Ebene eine größere Erstreckung als in einer Richtung senkrecht hierzu aufweisen. Der Substrathalter weist folglich eine mit der Substratebene zusammenfallende Erstreckung auf, die wesentlich größer als die Dicke des Substrathalters ist. In the present case, a planar substrate holder is to be understood as meaning those geometries which have a greater extent in one plane than in a direction perpendicular thereto. The substrate holder consequently has an extension which coincides with the substrate plane, which extent is substantially greater than the thickness of the substrate holder.
Gemäß einer bevorzugten Ausgestaltung der Erfindung kann vorgesehen sein, dass der Substrathalter punktuell mit dem Träger verbunden ist. Insbesondere ist es denkbar, dass der Substrathalter nur an einem oder zwei Punkten mit dem Träger verbunden ist. Dadurch ergibt sich eine weitere thermische Entkopplung von Träger und Substrathalter. According to a preferred embodiment of the invention can be provided that the substrate holder is selectively connected to the carrier. In particular, it is conceivable that the substrate holder is connected to the carrier only at one or two points. This results in a further thermal decoupling of carrier and substrate holder.
Darüber hinaus ist es denkbar, dass der Substrathalter durch einen oder mehrere, ein thermisch isolierendes Material aufweisende Stege mit dem Träger verbunden ist. Somit kann eine Wärmeleitung vom Substrathalter zum Träger zumindest weitestgehend unterbunden werden. Auch kann der zumindest eine Steg vollständig aus einem thermisch isolierenden Material bestehen. Daneben ist aber auch denkbar, den Substrathalter über einen einzigen, sich über den gesamten Seitenrand und dem Träger zugewandt erstreckenden Steg mit dem Träger zu verbinden. Der Steg kann hierbei zumindest bereichsweise eine dem Substrathalter vergleichbare oder geringere Dicke als der Substrathalter aufweisen und allein schon aufgrund seiner geometrischen Ausgestaltung und einer vergleichsweise geringen Querschnittsfläche nur in einem geringen und nahezu vernachlässigbarem Maße zu einer unweigerlichen Wärmeübertragung zwischen dem Substrathalter und dem Träger beitragen. Moreover, it is conceivable that the substrate holder is connected by one or more, a thermally insulating material having webs with the carrier. Thus, heat conduction from the substrate holder to the carrier can be at least largely prevented. Also, the at least one web may consist entirely of a thermally insulating material. In addition, however, it is also conceivable to connect the substrate holder to the carrier via a single web which extends over the entire side edge and the carrier. The web can in this case at least partially have a substrate holder comparable or smaller thickness than the substrate holder and alone contribute due to its geometric configuration and a comparatively small cross-sectional area only to a small and almost negligible extent to an inevitable heat transfer between the substrate holder and the carrier.
Es ist hierbei ferner denkbar, dass der zumindest eine Steg als integraler Bestandteil des Substrathalters ausgebildet oder in diesen einstückig integriert ist. Auch kann der Steg z. B. als ein über den Seitenrand des ebenen Substrathalters hinaus ragender Fortsatz ausgebildet sein, welcher z. B. eine elektrische und/oder mechanische Kontaktierung, respektive Kopplung zwischen Substrathalter und Träger bereitstellt. Sofern der Substrathalter einen Schichtaufbau, etwa in Form einer Grundplatte mit darauf angeordneten elektrisch isolierenden und elektrisch leitfähigen Schichten aufweist, kann der zumindest eine Steg z. B. als ein zumindest partiell über den Seitenrand der darüberliegenden Schichten hervorstehender Fortsatz der Grundplatte ausgebildet sein. It is also conceivable here that the at least one web is formed as an integral part of the substrate holder or integrated in one piece. Also, the bridge z. B. may be formed as an over the side edge of the planar substrate holder out projecting extension, which z. B. provides an electrical and / or mechanical contact, respectively coupling between substrate holder and carrier. If the substrate holder has a layer structure, for example in the form of a base plate with electrically insulating and electrically conductive layers arranged thereon, the at least one web can be z. B. as an at least partially over the side edge of the overlying layers protruding extension of the base plate may be formed.
Die thermisch isolierende mechanische Verbindung von Substrathalter und Träger stellt zumindest eine gedachte thermische Trennebene bereit, welche sich bevorzugt parallel zum zumindest dem Träger zugewandten Seitenrand des Substrathalters erstreckt. Es ist insbesondere vorgesehen, dass die Trennebene von dem zumindest einen thermisch isolierenden Steg gedanklich durchsetzt ist. Der oder die Stege verlaufen insoweit parallel zur Flächennormalen einer zumindest denkbaren thermischen Trennebene zwischen Träger und Substrathalter. The thermally insulating mechanical connection of substrate holder and carrier provides at least one imaginary thermal separation plane, which preferably extends parallel to the at least side of the substrate holder facing the carrier. It is provided in particular that the parting plane is penetrated by the at least one thermally insulating web thought. The web or webs extend in this respect parallel to the surface normal of an at least conceivable thermal separation plane between the carrier and the substrate holder.
Der Träger kann eine eigene Energiespeichereinrichtung, typischerweise in Form eines Ladungsspeichers aufweisen und kann ferner elektrisch mit der zumindest einen Halteeinrichtung verbindbar oder verbunden sein. Dies bedeutet, dass eine insbesondere eigene oder autonome Spannungsversorgung mit einem Ladungsspeicher, wie beispielsweise ein oder mehrere Kondensatoren, eine Batterie oder ein Akkumulator, in dem Träger und damit räumlich entfernt von dem Substrathalter angeordnet sein kann. Insbesondere kann der Ladungsspeicher und eventuell zusätzlich notwendige Elektronik, zum Beispiel ein Spannungswandler als Teil einer Spannungsversorgung, in dem Träger angeordnet sein, der geringeren Temperaturen ausgesetzt ist als der Substrathalter. Dadurch kann eine zuverlässigere Funktion des Substrathalters sichergestellt werden. Außerdem kann die Elektronik und der Ladungsspeicher in dem Träger gekapselt angeordnet sein, sodass diese vor einer Prozessumgebung eines Bearbeitungsprozesses geschützt angeordnet sind. Insbesondere kann durch die örtlich getrennte Anordnung des Trägers von der Substrathalteanordnung verhindert werden, dass sich der Träger zu stark erwärmt und dass dieser beschichtet oder geätzt wird. In einer Bearbeitungsstation kann somit der Träger räumlich von dem Substrathalter getrennt, aber dennoch mit diesem verbunden angeordnet werden. Weiterhin ist es denkbar, dass die mechanische und/oder elektrische Verbindung zwischen Substrathalter und Träger lösbar ist. Dadurch kann bei Bedarf der Träger oder der Substrathalter getauscht werden. The carrier may have its own energy storage device, typically in the form of a charge storage device, and may also be electrically connected to the at least one holding device can be connected or connected. This means that a particular own or autonomous power supply with a charge storage, such as one or more capacitors, a battery or an accumulator, may be arranged in the carrier and thus spatially remote from the substrate holder. In particular, the charge store and possibly additionally required electronics, for example a voltage converter as part of a voltage supply, can be arranged in the carrier which is exposed to lower temperatures than the substrate holder. Thereby, a more reliable function of the substrate holder can be ensured. In addition, the electronics and the charge storage may be encapsulated within the carrier so that they are protected from a process environment of a process of processing. In particular, the spatially separated arrangement of the support from the substrate holding assembly can prevent the support from overheating and coating or etching. In a processing station, the carrier can thus be spatially separated from the substrate holder, but nevertheless arranged connected thereto. Furthermore, it is conceivable that the mechanical and / or electrical connection between substrate holder and carrier is releasable. As a result, if necessary, the carrier or the substrate holder can be exchanged.
Der Träger kann eine Schaltung aufweisen, um eine Wandlung der Spannung an zumindest einer Halteeinrichtung und/oder ein gesteuertes Ein-/Ausschalten vorzunehmen. Gemäß einer weiteren vorteilhaften Weiterbildung kann der Ladungsspeicher oder eine damit verbundene elektrische Schaltung zur asymmetrischen Potenzialversorgung der Elektroden zumindest einer Halteeinrichtung ausgebildet sein. Dadurch kann das Potenzial des Substrats eingestellt werden. Beispielsweise kann an einer Elektrode ein Potenzial von +200 Volt und an der anderen Elektrode ein Potenzial von -600 Volt angelegt werden. Dabei gilt Substratpotential = (Potential Elektrode 1 + Potential Elektrode 2) 12. Die elektrische Schaltung kann auch für eine gezielte Steuerung der Haltekraft ausgebildet sein (gesteuertes„An/Aus" mit möglichst kurzen Schaltzeiten). Auch Ladungsverschiebungen, wie sie zum Beispiel bei hohen Temperaturen im Isolator auftreten können, können durch gezielte Ansteuerung der Elektroden ausgeglichen werden. In einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltungsvariante können Öffnungen im Substrathalter vorgesehen werden, die eine Manipulation des Substrats durch den Substrathalter hindurch erlauben. So könnte das Substrat beispielsweise zur Entnahme vom Substrathalter durch Stifte oder Druckluft abgehoben werden. Zum Lösen eines Substrats kann auch vorgesehen sein, dass die Elektrodenpaare entladen werden. Falls sich permanente Ladungen im Substrathalter aufgebaut haben, können diese durch eine gezielte Spannung/Umpolung ausgeglichen werden, um die Haltekraft vollständig abzubauen. The carrier may have a circuit for carrying out a conversion of the voltage to at least one holding device and / or a controlled on / off switching. According to a further advantageous development, the charge store or an electrical circuit connected thereto can be designed for the asymmetrical potential supply of the electrodes of at least one holding device. This allows the potential of the substrate to be adjusted. For example, a potential of +200 volts can be applied to one electrode and a potential of -600 volts to the other electrode. Substrate potential = (potential electrode 1 + potential electrode 2) 12. The electrical circuit can also be designed for a specific control of the holding force (controlled on / off with the shortest possible switching times) Temperatures in the insulator can occur through targeted Control of the electrodes are compensated. In a further advantageous embodiment, openings may be provided in the substrate holder, which allow a manipulation of the substrate through the substrate holder. For example, the substrate could be lifted by pins or compressed air for removal from the substrate holder. For releasing a substrate can also be provided that the electrode pairs are discharged. If permanent charges have built up in the substrate holder, they can be compensated by a targeted voltage / polarity reversal to completely reduce the holding force.
Um eine elektrische Verbindung zwischen dem Träger und dem Substrathalter sowohl mechanisch geschützt als auch elektrisch isoliert auszubilden, kann die elektrische Verbindung vorteilhafterweise zumindest bereichsweise von thermisch isolierendem Material umgeben sein. Insbesondere kann die elektrische Verbindung elektrisch und thermisch isoliert in den oben erwähnten Stegen oder punktuellen Verbindungen verlaufen. Ferner kann die elektrische Verbindung getrennt von dem zumindest einen den Träger und den Substrathalter miteinander verbindenden Steg ausgebildet sein, oder aber auch in den eine thermische Entkopplung bereitstellenden Steg integriert sein. In order to form an electrical connection between the carrier and the substrate holder both mechanically protected and electrically insulated, the electrical connection can advantageously be surrounded at least in regions by thermally insulating material. In particular, the electrical connection may be electrically and thermally insulated in the above-mentioned webs or point connections. Furthermore, the electrical connection may be formed separately from the at least one web interconnecting the carrier and the substrate holder, or may also be integrated into the web providing a thermal decoupling.
Gemäß einer vorteilhaften Ausgestaltung kann der Träger rahmenartig ausgebildet sein. Der Träger kann hierbei den Substrathalter entlang sämtlicher Seitenränder in Umfangsrichtung vollständig umschließen oder einfassen, wobei eine Verbindung zwischen dem Trägerrahmen und dem darin gehaltenen Substrathalter bevorzugt über einen oder mehrere thermisch isolierende Stege erfolgt. Neben einem umlaufenden Trägerrahmen können auch nur bereichsweise die Seitenränder einfassende Träger, wie etwa ein L-förmiger Träger oder ein U-förmiger Träger vorgesehen werden, welche jeweils zwei oder drei unmittelbar aneinander angrenzenden Seitenrändern des Substrathalters zuordenbar sind. According to an advantageous embodiment, the carrier may be formed like a frame. In this case, the carrier can completely enclose or surround the substrate holder along all lateral edges in the circumferential direction, wherein a connection between the carrier frame and the substrate holder held therein preferably takes place via one or more thermally insulating webs. In addition to a peripheral support frame, only marginally encompassing supports, such as an L-shaped support or a U-shaped support, can be provided, which can each be assigned two or three directly adjacent side edges of the substrate holder.
Alternativ oder zusätzlich ist es denkbar, dass der Träger als Sockel ausgebildet ist. Der Sockel kann eine im Wesentlichen quaderförmige Kontur aufweisen und sich über den ihm zugewandten Seitenrand des Substrathalters hinaus erstrecken. D. h. der Sockel kann eine Längserstreckung aufweisen, die größer als der Seitenrand des Substrathalters ist. Alternatively or additionally, it is conceivable that the carrier is designed as a base. The base may have a substantially cuboidal contour and extend beyond the side edge of the substrate holder facing it. Ie. the pedestal may have a longitudinal extent that is greater than the side edge of the substrate holder.
Der Sockel kann so ausgebildet sein, dass er die Anbindung der Substrathalteanordnung an ein (lineares) Transportsystem (zum Beispiel Schienensystem, Rollenlauf, Transportband) erlaubt. Alternativ kann der Sockel auch für ein rotatorisches Transportsystem ausgelegt sein, bei welchem der Träger entlang einer Kreisbahn bewegt oder verschwenkt wird. Insbesondere kann die Substrathalteranordnung für ein auf einem oder mehreren Drehtellern basierenden Transportsystem aufbauen, bei welchem die einzelnen am Substrathalter zu haltenden Substrate durch eine Dreh- oder Schwenkbewegung des Drehtellers von einer zur nächsten Bearbeitungs- oder Behandlungsstation bewegbar sind. The base can be designed so that it allows the connection of the substrate holding arrangement to a (linear) transport system (for example, rail system, roller conveyor, conveyor belt). Alternatively, the base may also be designed for a rotary transport system in which the carrier is moved or pivoted along a circular path. In particular, the substrate holder assembly may be constructed for a transport system based on one or more turntables wherein the individual substrates to be held on the substrate holder are movable from one to the next processing station by a pivotal movement of the turntable.
Der Substrathalter kann in einer beliebigen Ausrichtung zum Träger angeordnet sein. Der thermisch entkoppelte Sockel kann auch als Schnittstelle/Angriffspunkt für eine weitere Art von Transportsystem, wie zum Beispiel Hub- oder Schwenkeinheit, Roboterarm etc. dienen. Dies erlaubt eine automatisierte Lageänderung im laufenden Betrieb. Bei allen Varianten der Anbindung an ein Transportsystem ist die thermische Entkopplung ein wichtiger Aspekt, da solche Systeme in der Regel nicht für die hohen Temperaturen, wie sie der Substrathalter hat, geeignet sind. Es wird also die Handhabung heißer Substrate (und des Halters) möglich, ohne dass das Transportsystem überhitzt oder die Substrate durch zu hohe Wärmeverluste (an das Transportsystem) schneller als gewollt auskühlen. Letzten Endes besteht hier ein hohes Potenzial zur Energieeinsparung in der Produktion. Besondere Vorteile ergeben sich, wenn der Substrathalter vertikal ausgerichtet ist. Dies bedeutet, dass die Substrate, die am Substrathalter angeordnet sind, ebenfalls vertikal ausgerichtet sind. Somit können die Substrate in einer Bearbeitungsstation vertikal angeordnet sein. Fehler durch Partikel, die auf einem horizontal ausgerichteten Substrat liegen bleiben können, können dadurch vermieden werden. Sämtliche elektrische Komponenten, wie eine elektrische Schaltung oder ein Ladungsspeicher, können in dem Sockel geschützt angeordnet werden. Dadurch ist es möglich, den Substrathalter selbst mit einer relativ geringen thermischen Masse auszubilden. The substrate holder may be arranged in any orientation to the carrier. The thermally decoupled pedestal may also serve as an interface / point of attack for another type of transport system, such as a lift or pivot unit, robotic arm, etc. This allows an automated change of position during operation. In all variants of the connection to a transport system, the thermal decoupling is an important aspect, since such systems are generally not suitable for the high temperatures as the substrate holder has. It is therefore the handling of hot substrates (and the holder) possible without the transport system overheats or cool the substrates due to excessive heat losses (to the transport system) faster than intended. Ultimately, there is a high potential for saving energy in production. Particular advantages arise when the substrate holder is vertically aligned. This means that the substrates, which are arranged on the substrate holder, are also vertically aligned. Thus, the substrates can be arranged vertically in a processing station. Errors caused by particles that can remain on a horizontally aligned substrate can be avoided. All of the electrical components, such as an electrical circuit or a charge storage device, may be protected within the socket become. This makes it possible to form the substrate holder itself with a relatively low thermal mass.
Vorteilhafterweise kann der Träger elektrische Kontaktstellen und/oder Mittel zur induktiven Energieübertragung aufweisen. Weist der Träger elektrische Kontaktstellen auf, kann dieser besonders einfach an eine Ladestation zum Aufladen des Ladungsspeichers angeschlossen werden. Außerdem können über elektrische Kontaktstellen Signale übertragen werden. Es ist jedoch auch denkbar, dass der Ladungsspeicher kontaktlos aufgeladen wird. Hierzu ist es vorteilhaft, wenn Mittel zur induktiven Energieübertragung vorgesehen sind. Advantageously, the carrier can have electrical contact points and / or means for inductive energy transmission. If the carrier has electrical contact points, it can be connected in a particularly simple manner to a charging station for charging the charge store. In addition, signals can be transmitted via electrical contact points. However, it is also conceivable that the charge storage is charged contactless. For this purpose, it is advantageous if means for inductive energy transmission are provided.
Besondere Vorteile ergeben sich, wenn der Substrathalter mehrere Halteeinrichtungen aufweist. Dadurch können gleichzeitig mehrere Substrate an dem Substrathalter angeordnet und gehalten werden. Dies hat zur Folge, dass mehrere Substrate gleichzeitig transportiert und in einer Bearbeitungsstation bearbeitet werden können. Particular advantages arise when the substrate holder has a plurality of holding devices. As a result, a plurality of substrates can be arranged and held on the substrate holder at the same time. This has the consequence that several substrates can be transported simultaneously and processed in a processing station.
Dabei können mehrere Halteeinrichtungen parallel an denselben Ladungsspeicher angeschlossen sein oder jede Halteeinrichtung kann an einen eigenen Ladungsspeicher angeschlossen sein. Die Verwendung nur eines Ladungsspeichers, an den mehrere Halteeinrichtungen angeschlossen sind, hat den Vorteil, dass weniger Ladungsspeicher verwendet werden müssen, wodurch die Baugröße verringert werden kann. Die Verwendung eines Ladungsspeichers für jede Halteeinrichtung hat den Vorteil, dass Substrate einzeln be- und entladen werden können, da die Halteeinrichtungen einzeln angesteuert werden können. In this case, a plurality of holding devices may be connected in parallel to the same charge storage or each holding device may be connected to a separate charge storage. The use of only one charge storage device, to which a plurality of holding devices are connected, has the advantage that less charge storage device must be used, whereby the size can be reduced. The use of a charge storage device for each holding device has the advantage that substrates can be individually loaded and unloaded, since the holding devices can be controlled individually.
Die Anschlüsse der Elektroden der Halteeinrichtung(en) können auf der Vorderseite des Substrathalters nach außen geführt sein oder durch Löcher oder um eine Kante des Substrathalters herum auf die Rückseite des Substrathalters geführt sein. Je nach Ausgestaltung der Substrathaltanordnung kann demnach ein geeigneter Anschluss gewählt werden. Mehrere Halteeinrichtungen können auch bereits innerhalb/auf dem Substrathalter miteinander verschaltet sein. Nach einer weiteren bevorzugten Ausgestaltung ist die zumindest eine Halteeinrichtung in einer planaren Ebene des Substrathalters liegend angeordnet, wobei die planare Ebene des Substrathalters seitlich von zumindest einem Seitenrand, über welchen der Substrathalter mit dem Träger mechanisch verbunden ist, begrenzt ist. Insoweit weist der Substrathalter eine weitgehend flache und ebene Grundstruktur auf, wobei die Seitenränder im Vergleich zu den in der Ebene des Substrathalters vorgesehenen Halteeinrichtungen vergleichsweise kleine Fläche aufweisen. Durch die geometrische Grundform des Substrathalters und durch seine randseitige Anbindung an den Träger kann allein schon aufgrund der geometrischen Verhältnisse eine weitestgehend thermische Entkopplung von Träger und Substrathalter erfolgen, selbst wenn der Substrathalter über seinen gesamten Seitenrand mit dem Träger mechanisch verbunden sein sollte. The terminals of the electrodes of the holding device (s) may be led to the outside on the front side of the substrate holder or may be guided through holes or around an edge of the substrate holder onto the rear side of the substrate holder. Depending on the configuration of the Substratathaltanordnung therefore a suitable connection can be selected. Several holding devices can also already be interconnected within / on the substrate holder. According to a further preferred embodiment, the at least one holding device is arranged lying in a planar plane of the substrate holder, wherein the planar plane of the substrate holder is bounded laterally by at least one side edge, via which the substrate holder is mechanically connected to the carrier. In that regard, the substrate holder has a substantially flat and planar basic structure, wherein the side edges have comparatively small area in comparison to the holding devices provided in the plane of the substrate holder. Due to the geometrical basic shape of the substrate holder and its edge-side connection to the carrier, a thermal decoupling of the carrier and the substrate holder can take place as far as possible, even if the substrate holder should be mechanically connected to the carrier over its entire side edge.
Nach einer weiteren bevorzugten Ausgestaltung weist der Substrathalter an einer Vorderseite und an einer hiervon abgewandten Rückseite jeweils zumindest eine Halteeinrichtung auf. D. h. der Substrathalter ist im Wesentlichen spiegelsymmetrisch aufgebaut und kann sowohl an seiner Vorderseite als auch an seiner Rückseite gleichzeitig mehrere Substrate halten. Auf diese Art und Weise können in einer Bearbeitungs- oder Behandlungsstation zur gleichen Zeit doppelt so viele Substrate behandelt werden, oder es können Substrate in zwei Behandlungsstationen gleichzeitig behandelt werden. According to a further preferred embodiment, the substrate holder has at least one holding device on a front side and on a rear side facing away therefrom. Ie. The substrate holder is constructed essentially mirror-symmetrically and can hold several substrates both on its front side and on its rear side. In this way twice as many substrates can be treated in one processing or treatment station at the same time, or substrates can be treated simultaneously in two treatment stations.
Hierbei kann nach einer Weiterbildung insbesondere vorgesehen werden, dass die an einer Vorderseite und korrespondierend an der Rückseite vorgesehenen und zueinander überdeckend zu liegen kommenden Halteeinrichtungen zumindest eine gemeinsame Elektrode oder ein dementsprechendes Elektrodenpaar aufweisen. So können mit nur einem einzigen, etwa mittig zwischen Vorder- und Rückseite vorgesehenen Elektrodenpaar, an der Vorder- und Rückseite gleichzeitig zumindest zwei Substrate lösbar und elektrostatisch gehalten werden. Die Elektrode kann hierbei eine Grundplatte des in einzelnen Schichten aufgebauten Substrathalters ersetzen. Wenn zusätzlich zum Substrathalter auch der hiermit verbundene Träger eine vorgesehene Symmetrie aufweist, ist ferner denkbar, die Substrathalteanordnung in zumindest zwei unterschiedlichen Ausrichtungen einer Bearbeitungsstation zuzuführen. So ist z. B. denkbar, die Substrathalteanordnung gemäß einer ersten Ausrichtung einer Bearbeitungsstation zuzuführen und hiernach durch ein Umdrehen in einer zweiten Ausrichtung der gleichen oder einer weiteren Bearbeitungsstation zuzuführen. Dadurch kann die Zahl der benötigten Behandlungsstationen reduzieren und/oder die Wartungsintervalle, welche z.B. eine Reinigung der Bearbeitungsstation erfordern verlängern. Hierbei kann insbesondere vorgesehen werden, dass der Substrathalter und/oder der Träger bezüglich einer durch den Substrathalter und den Träger verlaufenden, etwa gedachten Achse rotationssymmetrisch ausgebildet sind. Die Achse kann hierbei parallel in etwa mittig zwischen und parallel zu denjenigen Seitenrändern des Substrathalters verlaufen, welche sich vom Träger weg erstrecken. Durch eine Drehung um bevorzugt 180° mit der Achse als Drehachse kann die Substrathalteanordnung in einer gedrehten Ausrichtung einer entsprechend konfigurierten Bearbeitungsstation zugeführt werden. In this case, according to a development, it can be provided, in particular, that the holding devices provided on a front side and correspondingly on the rear side and overlapping each other have at least one common electrode or a corresponding electrode pair. Thus, at least two substrates can be held detachably and electrostatically at the same time with only a single pair of electrodes provided approximately centrally between the front and rear side. In this case, the electrode can replace a base plate of the substrate holder constructed in individual layers. If, in addition to the substrate holder, the carrier connected therewith also has an intended symmetry, it is also conceivable to supply the substrate holding arrangement in at least two different orientations to a processing station. So z. B. conceivable to supply the substrate holder assembly according to a first orientation of a processing station and thereafter supply by turning in a second orientation of the same or another processing station. This can reduce the number of treatment stations required and / or extend the maintenance intervals, which require, for example, a cleaning of the processing station. In this case, provision can be made, in particular, for the substrate holder and / or the carrier to be rotationally symmetrical with respect to an approximately imaginary axis extending through the substrate holder and the carrier. The axis may in this case run parallel approximately in the middle between and parallel to those side edges of the substrate holder, which extend away from the carrier. By a rotation of preferably 180 ° with the axis as the axis of rotation, the substrate holding arrangement can be supplied in a rotated orientation of a correspondingly configured processing station.
Auch sind nach einer weiteren bevorzugten Ausgestaltung der Substrathalter und/oder der Träger bezüglich einer mit dem Substrathalter zusammenfallenden Ebene im Wesentlichen spiegelsymmetrisch ausgebildet. Also, according to a further preferred embodiment, the substrate holder and / or the carrier are formed with respect to a plane coincident with the substrate holder substantially mirror-symmetrical.
Schließlich ist nach einer weiteren bevorzugten Ausgestaltung vorgesehen, dass die Verbindung von Sockel und Substrathalter einen Wärmeleitwert kleiner als 100 W/K, bevorzugt kleiner als 10 W/K, vorzugsweise kleiner als 1 W/K, weiter bevorzugt einen Wärmeleitwert kleiner als 0,1 W/K oder einen Wärmeleitwert kleiner 0,01 W/K aufweist. Natürlich kann aufgrund der mechanischen Verbindung keine absolute thermische Entkopplung von Substrathalter und Träger bereitgestellt werden. Insoweit zeigen die vorgenannten Parameterbereiche unterschiedliche infrage kommende thermische Entkopplungsgrade zwischen dem Träger und dem Substrathalter auf. Auch kann nach einer weiteren bevorzugten Ausgestaltung der zumindest eine, den Substrathalter und den Träger miteinander verbindende Steg eine spezifische Wärmeleitfähigkeit von weniger als 100 W/(m*K), bevorzugt weniger als 30 W/(m*K), weiter bevorzugt weniger als 5 W/(m*K)aufweisen. So sind für den Steg diverse, eine thermische Isolationswirkung bereitstellende Materialien denkbar. So kann der zumindest eine Steg z. B. folgende Materialien aufweisen oder sogar weitgehend vollständig aus diesem gebildet sein: Edelstahl, Titan, Al203, Quarz, Glas, Glaskeramik oder sonstige keramische Werkstoffe, oder Kunststoff, der für die Einsatztemperaturen geeignet ist Finally, according to a further preferred embodiment, it is provided that the connection of base and substrate holder has a heat conductivity less than 100 W / K, preferably less than 10 W / K, preferably less than 1 W / K, more preferably a heat conductivity less than 0.1 W / K or has a thermal conductivity less than 0.01 W / K. Of course, due to the mechanical connection, no absolute thermal decoupling of substrate holder and carrier can be provided. In that regard, the aforesaid parameter ranges exhibit different candidate thermal decoupling degrees between the carrier and the substrate holder. Also, according to a further preferred embodiment of the at least one, the substrate holder and the carrier interconnecting web has a specific thermal conductivity of less than 100 W / (m * K), preferably less than 30 W / (m * K), more preferably less than 5 W / (m * K). Thus, for the web various, a thermal insulation material providing materials conceivable. So the at least one bridge z. Example, the following materials or even almost completely formed from this: stainless steel, titanium, Al 2 0 3, quartz, glass, glass ceramic or other ceramic materials, or plastic, which is suitable for the operating temperatures
Auch kann nach einer weiteren bevorzugten Ausgestaltung das Größenverhältnis der Fläche des zumindest einen dem Träger zugewandten Seitenrands des Substrathalters zur Querschnittsfläche eines hieran angrenzenden Stegs zumindest 10:1 , bevorzugt zumindest 100:1 , betragen. Durch Ausbildung eines bezogen auf die Querschnittsfläche des Seitenrands vergleichsweise kleinen Stegs kann die Wärmeleitung des Stegs minimiert und somit die thermische Entkopplung von Träger und Substrathalter verbessert, bzw. maximiert werden. Also, according to a further preferred embodiment, the size ratio of the area of the at least one side edge of the substrate holder facing the carrier to the cross-sectional area of a web adjacent thereto is at least 10: 1, preferably at least 100: 1. By forming a relative to the cross-sectional area of the side edge comparatively small web, the heat conduction of the web can be minimized and thus improves the thermal decoupling of the carrier and substrate holder, or be maximized.
Auch kann nach einer weiteren bevorzugten Ausgestaltung der zumindest eine Steg eine Länge aufweisen, die größer als die Dicke des Substrathalters ist. Mit der Dicke ist im vorliegenden Kontext die Erstreckung des Substrathalters entlang seiner Flächennormalen gemeint. Also, according to a further preferred embodiment, the at least one web has a length which is greater than the thickness of the substrate holder. Thickness in the present context means the extent of the substrate holder along its surface normal.
Auch kann zwischen dem Träger und dem Substrathalter ein thermisches Abschirmelement angeordnet sein, welches sich bevorzugt parallel zur thermischen Trennebene zwischen Substrathalter und Träger erstreckt. Das thermische Abschirmelement kann hierbei an die Außenabmessungen des Trägers sowie die des Substrathalters angepasst sein und insbesondere als eine Art thermischer Reflektor fungieren, mittels welchem der Träger gegen Wärmestrahlung geschützt werden kann. Das thermische Abschirmelement weist bevorzugt ein oder mehrere Abschirmbleche auf und es erstreckt sich bevorzugt in einer Ebene parallel zur Flächennormalen des eben ausgebildeten Substrathalters sowie parallel zu dem dem Träger zugewandten Seitenrand des Substrathalters. Das thermische Abschirmelement ist hierbei bevorzugt zwischen dem Träger und dem Substrathalter angeordnet und kann vom zumindest einen Steg durchsetzt sein. It is also possible to arrange a thermal shielding element between the carrier and the substrate holder, which preferably extends parallel to the thermal separation plane between substrate holder and carrier. The thermal shielding element can in this case be adapted to the outer dimensions of the carrier as well as that of the substrate holder and, in particular, act as a type of thermal reflector by means of which the carrier can be protected against thermal radiation. The thermal shielding element preferably has one or more shielding plates and preferably extends in a plane parallel to the surface normal of the planar substrate holder and parallel to the side edge of the substrate holder facing the carrier. The thermal shielding element is in this case preferably arranged between the carrier and the substrate holder and can be penetrated by the at least one web.
In den Rahmen der Erfindung fällt außerdem ein Transportsystem mit mehreren erfindungsgemäßen Substrathalteanordnungen, mit einer Be- und/oder Entladestation, in der eine Substrathalteanordnung zwischen einer Transportstellung und einer Be-/Entladestellung schwenkbar ist sowie einer Transporteinrichtung zum Transport einer Substrathalteanordnung von einer Be- und/oder Entladestation zu einer Substratbearbeitungsstation. Ein solches Transportsystem hat den Vorteil, dass Substrate nicht direkt am Ort der Bearbeitung gehandhabt beziehungsweise dort auf/aus statischen Haltevorrichtungen be- und entladen werden müssen. Insbesondere ist es denkbar, dass zu Beginn eines Herstellungsprozesses, beispielsweise bei der Solarzellenherstellung, ein Substrat an einer Substrathalteanordnung angeordnet wird und dann eine Anlage mit mehreren Substratbearbeitungsstationen durchläuft, ohne dass die Substrathalteanordnung gewechselt werden muss. Durch Verwendung der Be- und/oder Entladestation ist es möglich, den Substrathalter zum Be- und Entladen horizontal auszurichten, sodass Substrate einfach auf den Substrathalter aufgelegt werden können. Nach Anlegen der Spannung an die Elektroden der Halteeinrichtung wird das Substrat zuverlässig am Substrathalter gehalten, sodass es dann möglich ist, die Lage der Substrathalteanordnung zu verändern, sodass der Substrathalter und damit die darin befestigten Substrate zum Beispiel vertikal ausgerichtet werden können. In dieser Stellung können die Substrate transportiert und bearbeitet werden. The scope of the invention also includes a transport system with a plurality of substrate holding arrangements according to the invention, with a loading and / or unloading station in which a substrate holding arrangement can be pivoted between a transport position and a loading / unloading position and a transport device for transporting a substrate holding arrangement of a loading and unloading station / or unloading station to a substrate processing station. Such a transport system has the advantage that substrates do not have to be handled directly at the place of processing or have to be loaded and unloaded there on / from static holding devices. In particular, it is conceivable that at the beginning of a production process, for example in the production of solar cells, a substrate is arranged on a substrate holding arrangement and then passes through an installation with a plurality of substrate processing stations, without having to change the substrate holding arrangement. By using the loading and / or unloading station, it is possible to align the substrate holder horizontally for loading and unloading so that substrates can be easily placed on the substrate holder. After applying the voltage to the electrodes of the holding device, the substrate is reliably held on the substrate holder, so that it is then possible to change the position of the substrate holding arrangement, so that the substrate holder and thus the substrates mounted therein, for example, can be vertically aligned. In this position, the substrates can be transported and processed.
Um die Ladungsspeicher der Träger aufladen zu können, kann vorteilhafterweise eine elektrische Ladestation im Transportsystem vorgesehen sein. Weitere Merkmale und Vorteile der Erfindung ergeben sich aus der nachfolgenden Beschreibung eines Ausführungsbeispiels der Erfindung, anhand der Figuren der Zeichnung, die erfindungswesentliche Einzelheiten zeigen, und aus den Ansprüchen. Die einzelnen Merkmale können je einzeln für sich oder zu mehreren in beliebiger Kombination bei einer Variante der Erfindung verwirklicht sein. In order to charge the charge storage of the carrier, advantageously, an electrical charging station can be provided in the transport system. Further features and advantages of the invention will become apparent from the following description of an embodiment of the invention, with reference to the figures of the drawing, the invention essential details show, and from the claims. The individual features can be realized individually for themselves or for several in any combination in a variant of the invention.
Ein bevorzugtes Ausführungsbeispiel der Erfindung ist in der Zeichnung schematisch dargestellt und wird nachfolgend mit Bezug zu den Figuren der Zeichnungen erläutert. Es zeigen: A preferred embodiment of the invention is shown schematically in the drawing and will be explained below with reference to the figures of the drawings. Show it:
Fig. 1 stark schematisierte Darstellung einer Fig. 1 highly schematic representation of a
Substrathalteanordnung;  Substrate support assembly;
Fig. 2 eine Schnittdarstellung durch einen Substrathalter; FIG. 2 is a sectional view through a substrate holder; FIG.
Fig. 3 eine teilweise Schnittdarstellung durch einen Substrathalter; Fig. 3 is a partial sectional view through a substrate holder;
Fig. 4 eine teilweise Schnittdarstellung durch einen Substrathalter zur Fig. 4 is a partial sectional view through a substrate holder for
Verdeutlichung einer alternativen Kontaktierung;  Clarification of an alternative contacting;
Fig. 5 eine teilweise Schnittdarstellung durch einen Substrathalter mit einer weiteren Variante der Kontaktierung; 5 shows a partial sectional view through a substrate holder with a further variant of the contacting;
Fig. 6 eine teilweise Schnittdarstellung durch einen Substrathalter mit einer nochmals weiteren Variante der Kontaktierung; 6 is a partial sectional view through a substrate holder with a further variant of the contacting;
Fig. 7 eine schematische Darstellung zur Verdeutlichung des 7 is a schematic representation to illustrate the
Anschlusses mehrerer Halteeinrichtungen an eine(n) einzelne Spannungsversorgung oder Ladungsspeicher(-elektronik);  Connecting a plurality of holding devices to a (n) individual power supply or charge storage (-elektronik);
Fig. 8 eine schematische Darstellung zur Darstellung der Kontaktierung jeder Halteeinrichtung durch eine(n) einzelne Spannungsversorgung oder Ladungsspeicher(-elektronik); eine stark schematisierte Darstellung eines Transportsystems; eine Draufsicht auf eine Substrathalteanordnung mit einem Abschirmelement; eine Seitenansicht der Substrathalteanordnung gemäß Fig. 10; eine Substrathalteanordnung mit einem rahmenartig ausgebildeten Träger; eine Querschnittsdarstellung durch die Substrathalteanordnung gemäß Fig. 12; eine Querschnittsdarstellung einer in einer Substratbearbeitungsstation befindlichen Substrathalteanordnung in einer ersten Konfiguration; eine Substrathalteanordnung in der Substratbearbeitungsstation nach einer zweiten Konfiguration; einen Querschnitt durch eine weitereFIG. 8 is a schematic illustration showing the contacting of each holding device by a single power supply or charge storage device (electronic unit); FIG. a highly schematic representation of a transport system; a plan view of a Substrathaltalteanordnung with a shielding element; a side view of the Substrathaltalteanordnung of FIG. 10; a substrate holding assembly having a frame-like carrier; a cross-sectional view through the substrate holding assembly of FIG. 12; a cross-sectional view of a substrate holding assembly located in a substrate processing station in a first configuration; a substrate holding assembly in the substrate processing station according to a second configuration; a cross section through another
Substratbearbeitungsstation mit beidseitig der Substrathalteanordnung vorgesehenen Behandlungseinheiten; die Substrathalteanordnung gemäß Fig. 1 mit einer hinzugefügten Symmetrieebene die Substrathalteanordnung gemäß Fig. 10 in perspektivischer Darstellung mit dem Abschirmelement und eine geschnittene Darstellung durch einen doppelseitigen Substrathalter. Die Fig. 1 zeigt eine Substrathalteanordnung 1 mit einem Substrathalter 2 und einem Träger 3. Der Substrathalter 2 ist im Ausführungsbeispiel über zwei Stege 4, 5 aus thermisch isolierendem Material punktuell mit dem Träger 3 verbunden. Der Substrathalter 2 weist eine im Wesentlichen ebene Kontur mit vier Seitenrändern 2a, 2b, 2c und 2d auf, von denen der untere Seitenrand 2d dem Träger 3 zugewandt über die beiden Stege 4, 5 mit dem Träger 3 mechanisch verbunden ist. Die Stege 4, 5 befinden sich hierbei in außen liegenden Ecken des unteren Seitenrands 2d, über welche der untere Seitenrand 2d in die hierzu senkrecht oder vertikal verlaufenden Seitenränder 2a, 2b übergeht. Substrate processing station with treatment units provided on both sides of the substrate holding assembly; 1 with an added plane of symmetry, the substrate holder arrangement according to FIG. 10 in perspective view with the shielding element and a sectional view through a double-sided substrate holder. 1 shows a substrate holder assembly 1 with a substrate holder 2 and a carrier 3. The substrate holder 2 is in the exemplary embodiment via two webs 4, 5 of thermally insulating material selectively connected to the carrier 3. The substrate holder 2 has a substantially planar contour with four side edges 2a, 2b, 2c and 2d, of which the lower side edge 2d facing the carrier 3 is mechanically connected to the carrier 3 via the two webs 4, 5. The webs 4, 5 are in this case in outer corners of the lower side edge 2d, via which the lower side edge 2d merges into the perpendicular or vertical side edges 2a, 2b.
In dem Träger 3 sind die für eine elektrostatische Halterung notwendige Elektronik beziehungsweise Schaltung sowie ein Ladungsspeicher angeordnet. Die Elektronik beziehungsweise der Ladungsspeicher sind über elektrische Leitungen, die innerhalb der Stege 4, 5 verlaufen, mit entsprechenden Elektroden am Substrathalter 2 verbunden. Im Ausführungsbeispiel ist der Substrathalter 2 dafür ausgelegt, vier Substrate 6 bis 9 zu halten. Der Träger 3 weist eine Aufstandsfläche 10 auf, auf der er aufgestellt oder mit der er an ein Transportsystem angebunden werden kann. Der Substrathalter 2 ist orthogonal dazu ausgerichtet. Daher sind die Substrate 6 bis 9 ebenfalls orthogonal ausgerichtet. Sie werden allein aufgrund elektrostatischer Kräfte an dem Substrathalter 2 gehalten. In the support 3, the necessary for an electrostatic support electronics or circuit and a charge storage are arranged. The electronics or the charge storage are connected via electrical lines that run within the webs 4, 5, with corresponding electrodes on the substrate holder 2. In the exemplary embodiment, the substrate holder 2 is designed to hold four substrates 6 to 9. The carrier 3 has a footprint 10 on which it can be placed or with which it can be connected to a transport system. The substrate holder 2 is oriented orthogonal thereto. Therefore, the substrates 6 to 9 are also aligned orthogonally. They are held on the substrate holder 2 solely due to electrostatic forces.
Die Fig. 2 zeigt eine Schnittdarstellung durch einen Substrathalter 20. Der Substrathalter 20 weist eine elektrisch isolierende Grundplatte 21 auf. Optional ist auf der Grundplatte 21 eine elektrisch isolierende Schicht 22 angeordnet. Die Grundplatte 21 kann beispielsweise als Glaskeramik und die elektrisch isolierende Schicht 22 beispielsweise als Keramik ausgebildet sein. Auf der Schicht 22 ist eine elektrisch leitfähige Schicht 23 aufgebracht, die derart strukturiert ist, dass für jedes zu haltende Substrat 24 zwei zueinander elektrisch isolierte Elektroden 25, 26 mit vorzugsweise gleich großer Fläche vorhanden sind. Oberhalb der elektrisch leitfähigen Schicht 23 ist eine weitere elektrisch isolierende Schicht 27 vorgesehen. Diese Schicht kann entweder nur auf der Vorderseite des Substrathalters 20 angebracht sein oder den Substrathalter 20 vollständig umschließen, wie dies beispielsweise in der Fig. 3 dargestellt ist. Außerdem kann die Schicht 27 aus mehreren Lagen unterschiedlicher Materialien bestehen, um die gewünschten Eigenschaften zu erzielen. Die Anschlüsse der Elektroden 25, 26 können entweder auf der Vorderseite nach außen geführt sein, wie dies in der Fig. 4 schematisch dargestellt ist, oder durch Löcher zur Rückseite geführt sein, wie dies in der Fig. 5 schematisch dargestellt ist. Alternativ können die Elektroden um die Kante des Substrathalters 20 herumgeführt sein und auf die Rückseite des Substrathalters geführt werden. Dies ist in der Fig. 6 dargestellt. Zur Kontaktierung der Elektroden 25, 26 werden gegebenenfalls Aussparungen 28, siehe zum Beispiel Fig. 4, in der isolierenden Schicht 27 vorgesehen. 2 shows a sectional view through a substrate holder 20. The substrate holder 20 has an electrically insulating base plate 21. Optionally, an electrically insulating layer 22 is arranged on the base plate 21. The base plate 21 may be formed, for example, as a glass ceramic and the electrically insulating layer 22, for example, as a ceramic. On the layer 22, an electrically conductive layer 23 is applied, which is structured such that for each substrate to be held 24 two mutually electrically insulated electrodes 25, 26 with preferably the same size surface are present. Above the electrically conductive layer 23, a further electrically insulating layer 27 is provided. This layer can either be mounted only on the front side of the substrate holder 20 or the Substrate holder 20 completely enclose, as shown for example in FIG. In addition, the layer 27 may consist of several layers of different materials to achieve the desired properties. The terminals of the electrodes 25, 26 may either be led outwards on the front side, as shown schematically in FIG. 4, or be guided through holes to the rear side, as shown schematically in FIG. Alternatively, the electrodes may be passed around the edge of the substrate holder 20 and guided onto the back side of the substrate holder. This is shown in FIG. 6. If appropriate, recesses 28, see, for example, FIG. 4, are provided in the insulating layer 27 for contacting the electrodes 25, 26.
In der Fig. 7 ist schematisch ein Substrathalter 30 dargestellt, der vier Halteeinrichtungen 31 bis 34 aufweist. Jede Halteeinrichtung 31 bis 34 weist zwei Elektroden 31.1 , 31.2, 32.1 , 32.2, 33.1 , 33.2, 34.1 , 34.2 etwa gleicher Größe auf. Im Ausführungsbeispiel der Fig. 7 sind die Elektroden 31.1 , 32.1 , 33.1 und 34.1 in Serie miteinander verbunden. Außerdem sind die Elektroden 31.2, 32.2, 33.2 und 34.2 in Serie miteinander verbunden. Dadurch ergibt sich eine Parallelschaltung der Halteeinrichtungen. Es sind daher lediglich zwei Anschlüsse 35, 36 notwendig, die mit einem Ladungsspeicher verbunden werden müssen. Somit kann ein einziger Ladungsspeicher eingesetzt werden, um vier Halteeinrichtungen 31 bis 34 mit Spannung zu versorgen und so vier Substrate an dem Substrathalter 30 zu halten. FIG. 7 schematically shows a substrate holder 30 which has four holding devices 31 to 34. Each holding device 31 to 34 has two electrodes 31.1, 31.2, 32.1, 32.2, 33.1, 33.2, 34.1, 34.2 of approximately the same size. In the embodiment of FIG. 7, the electrodes 31.1, 32.1, 33.1 and 34.1 are connected in series. In addition, the electrodes 31.2, 32.2, 33.2 and 34.2 are connected in series. This results in a parallel connection of the holding devices. There are therefore only two connections 35, 36 necessary, which must be connected to a charge storage. Thus, a single charge storage device may be employed to energize four retainers 31-34 to hold four substrates to the substrate holder 30.
In der Ausführungsform gemäß Fig. 8 eines Substrathalters 40 sind ebenfalls vier Halteinrichtungen 41 bis 44 vorgesehen, die jeweils zwei Elektroden 41.1 , 41.2, 42.1 , 42.2, 43.1 , 43.2, 44.1 , 44.2 aufweisen. Hier weist jedoch jede Halteeinrichtung 41 bis 44 Anschlüsse auf, sodass an jede Halteeinrichtung 41 bis 44 ein eigener Ladungsspeicher angeschlossen werden kann. In the embodiment according to FIG. 8 of a substrate holder 40, four holding devices 41 to 44 are likewise provided, which each have two electrodes 41.1, 41.2, 42.1, 42.2, 43.1, 43.2, 44.1, 44.2. Here, however, each holding device 41 to 44 connections, so that each holding device 41 to 44 a separate charge storage can be connected.
In der Fig. 9 ist ein Transportsystem 100 gezeigt, welches eine Ladestation 101 für Substrathalteanordnungen aufweist. Weiterhin ist eine Be- und/oder Entladestation 102 vorgesehen, in der die Substrathalteanordnungen verschwenkt werden können, sodass die Substrathalter horizontal ausgerichtet sind. In dieser Stellung können die Substrathalteanordnung be- oder entladen werden. Anschließend werden die Substrathalteanordnungen um 90° verschwenkt, sodass die Substrathalter vertikal ausgerichtet sind. Die Ladestation 101 und die Be- und/oder Entladestation 102 können in einer Einheit kombiniert sein. Über eine Transporteinrichtung 103 können die Substrathalteanordnungen zu einer Substratbearbeitungsstation 104 und gegebenenfalls zu einer weiteren Substratbearbeitungsstation 105 transportiert werden.. FIG. 9 shows a transport system 100 which has a charging station 101 for substrate holding arrangements. Furthermore, a loading and / or unloading station 102 is provided, in which the substrate holding arrangements can be pivoted so that the substrate holders are aligned horizontally are. In this position, the substrate holding arrangement can be loaded or unloaded. Subsequently, the substrate holding assemblies are pivoted by 90 ° so that the substrate holders are vertically aligned. The charging station 101 and the loading and / or unloading station 102 may be combined in one unit. By means of a transport device 103, the substrate holding arrangements can be transported to a substrate processing station 104 and optionally to a further substrate processing station 105 . ,
Die Fig. 10 zeigt eine weitere gegenüber der in Fig. 1 dargestellten Substrathalteanordnung 1 eine modifizierte Substrathalteanordnung 11 , welche ferner, wie in Fig. 18 perspektivisch dargestellt, ein sich parallel zum unteren Seitenrand 2d erstreckendes thermisches Abschirmelement 52, etwa in Form eines Abschirmblechs aufweist. Das Abschirmblech 52 erstreckt sich, wie dies ferner in Fig. 11 und 13 entnehmbar ist, im Wesentlichen senkrecht zur Ebene des Substrathalters 2 und kann insoweit eine thermische Trennebene bereitstellen, die von den entlang des Seitenrands 2d voneinander beabstandeten Stegen 4, 5 im Wesentlichen senkrecht durchsetzt ist. FIG. 10 shows a further modified substrate holding arrangement 11 compared with the substrate holding arrangement 1 shown in FIG. 1, which further comprises, as shown in perspective in FIG. 18, a thermal shielding element 52 extending parallel to the lower side edge 2d, for example in the form of a shielding plate , The shielding plate 52 extends, as can also be seen in FIGS. 11 and 13, substantially perpendicular to the plane of the substrate holder 2 and can thus provide a thermal separation plane which is substantially perpendicular to the webs 4, 5 spaced apart along the side edge 2d is interspersed.
Das bevorzugt als thermisches Abschirmblech ausgebildete Abschirmelement 52 kann im Bereich des Substrathalters 2 vorliegende und auf die Substrate 6, 7, 8, 9 einwirkende Wärmestrahlung vom darunter liegenden Träger 3 abhalten und dementsprechend reflektieren. The shielding element 52, which is preferably in the form of a thermal shielding plate, can keep heat radiation present in the region of the substrate holder 2 and act on the substrates 6, 7, 8, 9 from the underlying carrier 3 and reflect it accordingly.
In Fig. 10 ist ferner verdeutlicht, dass eine elektrische Kontaktierung 14, 15 zwischen Träger 3 und Substrathalter 2 auch außerhalb der Stege 4, 5 verlaufen kann. In Fig. 10 is further illustrated that an electrical contact 14, 15 between the carrier 3 and substrate holder 2 can also extend outside the webs 4, 5.
Die Fig. 12 und 13 zeigen eine alternative Ausgestaltung einer Substrathalteanordnung 11 , bei welcher der Substrathalter 2 mit insgesamt vier Stegen 4a, 5a, 4b, 5b an einem rahmenartigen Träger 54 gehalten ist. Folglich sind die vier Seitenränder 2a, 2b, 2c, 2d des Substrathalters 2 vollständig vom umlaufenden Rahmen 54 umgeben, wobei zwischen der Innenseite des Rahmens 54 und den Seitenrändern 2a, 2b, 2c, 2d des Substrathalters 2 zumindest ein entsprechend geformtes Abschirmelement 52, etwa in Form mehrerer Abschirmbleche angeordnet ist. FIGS. 12 and 13 show an alternative embodiment of a substrate holding arrangement 11, in which the substrate holder 2 is held on a frame-like carrier 54 with a total of four webs 4a, 5a, 4b, 5b. Consequently, the four side edges 2a, 2b, 2c, 2d of the substrate holder 2 are completely surrounded by the peripheral frame 54, wherein between the inside of the frame 54 and the side edges 2a, 2b, 2c, 2d of the substrate holder. 2 at least one correspondingly shaped shielding element 52, for example in the form of a plurality of shielding plates is arranged.
Die rahmenartige Ausgestaltung, wie sie in den Fig. 12 und 13 gezeigt ist, ermöglicht es, die Substrathalteanordnung 11 in unterschiedlichen Ausrichtungen einer Behandlungsstation 104, 105 zuzuführen. So zeigen die Fig. 14 bis 16 diverse Bearbeitungsstationen 104, 105, 106, welchen z.B. die Substrathalteanordnung 1 , 11 nacheinander zuführbar ist. Die Bearbeitungsoder Behandlungsstationen 104, 105, 106 weisen jeweils ein Gehäuse 110 mit einem unteren Aufnahmeabschnitt 112 für den Träger 3 der Substrathalteanordnung 1 , 11 auf. The frame-like configuration, as shown in FIGS. 12 and 13, makes it possible to feed the substrate holding assembly 11 in different orientations to a treatment station 104, 105. Thus, Figs. 14-16 show various processing stations 104, 105, 106, which are e.g. the substrate holder assembly 1, 11 can be fed successively. The processing or treatment stations 104, 105, 106 each have a housing 110 with a lower receiving portion 112 for the support 3 of the substrate holder assembly 1, 11.
Der Träger 3 als auch der Aufnahmeabschnitt 112 sowie das thermische Abschirmelement 52 sind derart aufeinander abgestimmt, dass der Träger 3 vom Behandlungsraum 108, in welchem die Behandlungseinheit 114, 115 angeordnet ist, weitgehend thermisch entkoppelt oder zumindest thermisch isoliert bleiben kann. So ist z. B. die in Fig. 14 skizzierte Behandlungsstation 104 mit einer als Heizung ausgebildeten Behandlungseinheit 114 versehen, die die Rückseite 13 des Substrathalters 2 mit thermischer Energie beaufschlagt, um die auf der Vorderseite 12 gehaltenen Substrate 6, 7, 8, 9 auf ein vorgegebenes Temperaturniveau aufzuheizen. The carrier 3 as well as the receiving section 112 and the thermal shielding element 52 are matched to one another in such a way that the carrier 3 can largely be thermally decoupled or at least thermally insulated from the treatment space 108 in which the treatment unit 114, 115 is arranged. So z. For example, the treatment station 104 outlined in FIG. 14 is provided with a treatment unit 114 designed as a heater, which applies thermal energy to the rear side 13 of the substrate holder 2 to bring the substrates 6, 7, 8, 9 held on the front side 12 to a predetermined temperature level heat.
In einer z.B. nachfolgenden und in Fig. 15 skizzierte Bearbeitungs- oder Behandlungsstation 105 ist eine zur Beschichtung der Substrate 6, 7, 8, 9 vorgesehene Behandlungseinheit 115 vorgesehen. Die Substrathalteanordnung 11 ist hierbei in einer Ausrichtung in die Behandlungsstation 105 einsetzbar oder hindurchführbar, in welcher die Vorderseite 12 des Substrathalters 2 der Behandlungseinheit 115 zugewandt ist. In a e.g. Following and in Fig. 15 outlined processing or treatment station 105 is provided for coating the substrates 6, 7, 8, 9 provided treatment unit 115. In this case, the substrate holding arrangement 11 can be inserted or guided in an orientation into the treatment station 105, in which the front side 12 of the substrate holder 2 faces the treatment unit 115.
Fig. 16 zeigt schließlich eine Konfiguration eines weiteren Substrathalters 50, welcher sowohl an seiner Vorderseite 12, als auch an seiner hiervon abgewandten Rückseite 13 zumindest eine ein Elektrodenpaar umfassende Halteeinrichtung zum Halten zumindest jeweils eines Substrats 6a, 6b, 9a, 9b aufweist. Indem der Substrathalter 12 zum beidseitigen und gleichzeitigen Halten mehrerer Substrate 6a, 6b, 9a, 9b ausgebildet ist, kann dieser in einen Zwischenraum zwischen zwei, etwa zum Beschichten oder zum Aufheizen vorgesehener, Behandlungseinheiten 115 einer Behandlungsstation 106 angeordnet werden, so dass sowohl die an der Vorderseite 12 als auch die an der Rückseite 13 gehaltenen Substrate 6a, 9a bzw. 6b, 9b gleichzeitig behandelbar sind. Finally, FIG. 16 shows a configuration of a further substrate holder 50, which has both at its front side 12 and at its rear side facing away therefrom at least one holding device comprising an electrode pair for holding at least one respective substrate 6a, 6b, 9a, 9b. By the substrate holder 12 for two-sided and simultaneous Holding a plurality of substrates 6a, 6b, 9a, 9b is formed, this can be arranged in a space between two, provided about for coating or for heating, treatment units 115 of a treatment station 106, so that both the front 12 and at the Rear side 13 held substrates 6a, 9a and 6b, 9b are simultaneously treatable.
Auch ist nach einer alternativen Ausgestaltung denkbar, dass die an gegenüberliegenden Seiten des Substrathalters 50 vorgesehenen Halteeinrichtungen gemeinsame Elektrodenpaare aufweisen, sodass ein und dieselbe Elektrode als Komponente einer vorderseitigen als auch einer rückseitigen Halteeinrichtung fungiert. Eine derartige Elektrode kann hierbei als Grundplatte fungieren und beidseitig isolierend beschichtet sein. Also, according to an alternative embodiment, it is conceivable that the holding devices provided on opposite sides of the substrate holder 50 have common pairs of electrodes, so that one and the same electrode functions as a component of a front as well as a rear holding device. Such an electrode may act as a base plate and be coated on both sides insulating.
In Fig. 19 ist eine Querschnittsdarstellung eines möglichen Schichtaufbaus eines solch doppelseitigen Substrathalters 50 skizziert. So weist der Substrathalter 50 eine Grundplatte 21 und beidseits, jeweils eine elektrisch isolierende Schicht 22a, 22b auf. Auf der isolierenden Schicht 22a, 22b ist an den voneinander abgewandten Seiten jeweils eine elektrisch leitfähige Schicht 23a, 23b aufgebracht, in welcher für jedes zu haltende Substrat 24a, 24b jeweils zwei zueinander elektrisch isolierte Elektroden 25a, 26a bzw. 25b, 26b eingebettet sind. 19, a cross-sectional view of a possible layer structure of such a double-sided substrate holder 50 is sketched. Thus, the substrate holder 50 has a base plate 21 and on both sides, in each case an electrically insulating layer 22a, 22b. On the insulating layer 22a, 22b, an electrically conductive layer 23a, 23b is respectively applied to the sides facing away from each other, in which two electrodes 25a, 26a and 25b, 26b are electrically embedded for each substrate 24a, 24b to be held.
Oberhalb der elektrisch leitfähigen Schicht 23a, 23b ist jeweils eine weitere elektrisch isolierende Schicht 27a, 27b vorgesehen. Der doppelseitige Schichtaufbau, wie er in Fig. 19 gezeigt ist, entspricht hierbei im Wesentlichen demjenigen gemäß Fig. 2, so dass hinsichtlich auf die generelle Funktionsweise der elektrostatische Halterung auf die Ausführungsbeispiele gemäß der Fig. 2 bis 8 analog verwiesen wird. Above the electrically conductive layer 23a, 23b, a further electrically insulating layer 27a, 27b is provided in each case. The double-sided layer structure, as shown in FIG. 19, essentially corresponds to that according to FIG. 2, so that with respect to the general mode of operation of the electrostatic support reference is made to the exemplary embodiments according to FIGS. 2 to 8.
In Fig. 17 ist schließlich eine Symmetrieebene 16 eingezeichnet, bezüglich welcher die Substrathalteanordnung 1 , der Substrathalter 2 und/oder der Träger 3 im Wesentlichen symmetrisch ausgebildet sein kann. Es ist ferner denkbar, dass der Substrathalter 2 und/oder der Träger 3 auch punkt/ oder rotationssymmetrisch zu einer gedachten Achse 17 ausgebildet sind, welche in der Mittel- oder Symmetrieebene 16 verläuft und im Wesentlichen parallel zur verbindenden Erstreckung der Stege 4, 5, ausgerichtet ist. So kann insbesondere auch vorgesehen werden, dass die Substrathalteanordnung 1 bzw. ihr Substrathalter 2 und/oder ihr Träger 3 durch Drehung bezüglich der Mittelpunktsachse 17 in eine für die jeweilige Behandlungsstation 104, 105 geeignete Ausrichtung überführbar ist. Finally, FIG. 17 shows a plane of symmetry 16, with respect to which the substrate holding arrangement 1, the substrate holder 2 and / or the carrier 3 can be formed substantially symmetrically. It is also conceivable that the substrate holder 2 and / or the carrier 3 also point / or are formed rotationally symmetrical to an imaginary axis 17 which extends in the central or symmetry plane 16 and is substantially parallel to the connecting extension of the webs 4, 5, aligned. Thus, in particular it can also be provided that the substrate holding arrangement 1 or its substrate holder 2 and / or its carrier 3 can be converted by rotation with respect to the center axis 17 into a suitable orientation for the respective treatment station 104, 105.

Claims

P a t e n t a n s p r ü c h e Patent claims
1. Mobile, transportable elektrostatische Substrathalteanordnung (1 ; 11 ) für dünne, scheibenförmige Werkstücke und den Einsatz bei hohen Temperaturen, mit einem Substrathalter (2; 20; 30; 40; 50), der zumindest eine ein Elektrodenpaar (31.1 , 31.2, 32.1 , 32.2, 33.1 , 33.2, 34.1 , 34.2; 41.1 , 41.2, 42.1 , 42.2, 43.1 , 43.2, 44.1 , 44.2) umfassende Halteeinrichtung (31 , 32, 33, 34; 41 , 42, 43, 44) umfasst, sowie mit einem Träger (3) für den Substrathalter (2; 20; 30; 40; 50), wobei der Substrathalter (2; 20; 30; 40; 50) über zumindest einen Seitenrand (2a, 2b, 2c, 2d) zumindest weitestgehend thermisch entkoppelt mit dem Träger (3) mechanisch verbunden ist. Mobile, transportable electrostatic substrate support arrangement (1; 11) for thin, disk-shaped workpieces and for use at high temperatures, comprising a substrate holder (2; 20; 30; 40; 50) comprising at least one pair of electrodes (31.1, 31.2, 32.1 , 32.2, 33.1, 33.2, 34.1, 34.2, 41.1, 41.2, 42.1, 42.2, 43.1, 43.2, 44.1, 44.2) comprising holding means (31, 32, 33, 34, 41, 42, 43, 44), and with a support (3) for the substrate holder (2; 20; 30; 40; 50), the substrate holder (2; 20; 30; 40; 50) being at least substantially thermally over at least one side edge (2a, 2b, 2c, 2d) decoupled from the carrier (3) is mechanically connected.
2. Substrathalteanordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der Substrathalter (2, 20, 30, 40; 50) durch einen oder mehrere, ein thermisch isolierendes Material aufweisende Stege (4, 5) mit dem Träger (3) verbunden ist. 2. substrate holder assembly according to any one of the preceding claims, wherein the substrate holder (2, 20, 30, 40, 50) by one or more, a thermally insulating material having webs (4, 5) is connected to the carrier (3).
3. Substrathalteanordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der Träger (3) eine eigene Energiespeichereinrichtung mit einem elektrischen Ladungsspeicher aufweist und elektrisch mit der zumindest einen Halteeinrichtung (31 , 32, 33, 34; 41 , 42, 43, 44) verbindbar ist. 3. substrate holder arrangement according to one of the preceding claims, wherein the carrier (3) has its own energy storage device with an electric charge storage and electrically connected to the at least one holding device (31, 32, 33, 34; 41, 42, 43, 44) is connectable.
4. Substrathalteanordnung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass der Träger (3) eine Schaltung aufweist, um eine Wandlung der Spannung an zumindest einer Halteeinrichtung (31-34, 41-44) und/oder ein gesteuertes Ein- und Ausschalten vorzunehmen. 4. substrate holder assembly according to claim 3, characterized in that the carrier (3) has a circuit to make a conversion of the voltage to at least one holding device (31-34, 41-44) and / or a controlled switching on and off.
5. Substrathalteanordnung nach Anspruch 3 oder 4, dadurch gekennzeichnet, dass die elektrische Verbindung zwischen Halteeinrichtung (31 , 32, 33, 34; 41 , 42, 43, 44) und Träger (3) zumindest bereichsweise von thermisch isolierendem Material umgeben ist. 5. substrate holder assembly according to claim 3 or 4, characterized in that the electrical connection between holding means (31, 32, 33, 34; 41, 42, 43, 44) and carrier (3) is at least partially surrounded by thermally insulating material.
6. Substrathalteanordnung nach einem der Ansprüche 3 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass der Ladungsspeicher oder eine damit verbundenen elektrische Schaltung zur asymmetrischen Potentialversorgung der Elektroden (31.1 , 31.2, 32.1 , 32.2, 33.1 , 33.2, 34.1 , 34.2; 41.1 , 41.2, 42.1 , 42.2, 43.1 , 43.2, 44.1 , 44.2) zumindest einer Halteeinrichtung (31 , 32, 33, 34; 41 , 42, 43, 44) ausgebildet ist. 6. substrate holder arrangement according to one of claims 3 to 5, characterized in that the charge storage device or an electrical circuit connected thereto for the asymmetrical potential supply of the electrodes (31.1, 31.2, 32.1, 32.2, 33.1, 33.2, 34.1, 34.2, 41.1, 41.2, 42.1 , 42.2, 43.1, 43.2, 44.1, 44.2) of at least one holding device (31, 32, 33, 34, 41, 42, 43, 44) is formed.
7. Substrathalteanordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Träger (3) rahmenartig ausgebildet ist. 7. substrate holder assembly according to any one of the preceding claims, characterized in that the carrier (3) is formed like a frame.
8. Substrathalteanordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Träger (3) als Sockel ausgebildet ist. 8. substrate holder arrangement according to one of the preceding claims, characterized in that the carrier (3) is designed as a base.
9. Substrathalteanordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Träger (3) elektrische Kontaktstellen und/oder Mittel zur induktiven Energieübertragung aufweist . 9. substrate holder arrangement according to one of the preceding claims, characterized in that the carrier (3) has electrical contact points and / or means for inductive energy transfer.
10. Substrathalteanordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Substrathalter (2, 20, 30, 40; 50) mehrere Halteeinrichtungen (31 , 32, 33, 34; 41 , 42, 43, 44) aufweist. 10. substrate holder assembly according to any one of the preceding claims, characterized in that the substrate holder (2, 20, 30, 40, 50) a plurality of holding means (31, 32, 33, 34, 41, 42, 43, 44).
11. Substrathalteanordnung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass mehrere Halteeinrichtungen (31 ,32, 33, 34) parallel an denselben Ladungsspeicher angeschlossen sind oder jede Halteeinrichtung (41 , 42, 43, 44) an einen eigenen Ladungsspeicher angeschlossen ist. 11. substrate holder assembly according to claim 10, characterized in that a plurality of holding means (31, 32, 33, 34) are connected in parallel to the same charge storage or each holding device (41, 42, 43, 44) is connected to a separate charge storage.
12. Substrathalteanordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Anschlüsse der Elektroden der Halteeinrichtung(en) (31 , 32, 33, 34; 41 , 42, 43, 44) auf der Vorderseite des Substrathalters (2, 20, 30, 40; 50) nach außen geführt sind oder durch Löcher oder um eine Kante des Substrathalters (2, 20, 30, 40; 50) herum auf die Rückseite des Substrathalters (2, 20, 30, 40; 50) geführt sind. 12. substrate holder assembly according to any one of the preceding claims, characterized in that the terminals of the electrodes of the holding means (s) (31, 32, 33, 34; 41, 42, 43, 44) on the front side of the substrate holder (2, 20, 30 , 40, 50) are guided to the outside or through holes or around an edge of the substrate holder (2, 20, 30, 40, 50) around on the back of the substrate holder (2, 20, 30, 40, 50) are guided.
13. Substrathalteanordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass mehrere Halteeinrichtungen (31 , 32, 33, 34; 41 , 42, 43, 44) innerhalb oder auf dem Substrathalter (2; 20; 30; 40; 50) miteinander verschaltet sind. 13. Substrate holding arrangement according to one of the preceding claims, characterized in that a plurality of holding devices (31, 32, 33, 34; 41, 42, 43, 44) are interconnected within or on the substrate holder (2; 20; 30; 40; 50) are.
14. Substrathalteanordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die zumindest eine Halteeinrichtung (31 , 32, 33, 34; 41 , 42, 43, 44) in einer planaren Ebene des Substrathalters (2; 20; 30; 40; 50) liegend angeordnet ist, welche seitlich vom zumindest einen Seitenrand (2a, 2b, 2c, 2d) begrenzt ist. 14. The substrate holder assembly according to claim 1, wherein the at least one holding device (31, 32, 33, 34, 41, 42, 43, 44) is arranged lying in a planar plane of the substrate holder (2, 20, 30, 40, 50) is, which is bounded laterally by at least one side edge (2a, 2b, 2c, 2d).
15. Substrathalteanordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der Substrathalter (50) an einer Vorderseite (12) und an einer hiervon abgewandten Rückseite (13) jeweils zumindest eine Halteeinrichtung (31 , 32, 33, 34; 41 , 42, 43, 44) aufweist. 15. The substrate holder arrangement according to claim 1, wherein the substrate holder (50) has at least one holding device (31, 32, 33, 34, 41, 42, 43, 44) on a front side (12) and on a rear side (13) facing away therefrom ) having.
16. Substrathalteanordnung nach Anspruch 15, wobei die an Vorderseite (12) und Rückseite (13) vorgesehenen und zueinander überdeckend zu liegen kommenden Halteeinrichtungen (31 , 32, 33, 34, 41 , 42, 43, 44) zumindest eine gemeinsame Elektrode aufweisen. 16. The substrate holder arrangement as claimed in claim 15, wherein the holding devices (31, 32, 33, 34, 41, 42, 43, 44) provided on the front side (12) and rear side (13) and overlapping with one another have at least one common electrode.
17. Substrathalteanordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der Substrathalter (2; 20; 30; 40; 50) und/oder der Träger (3) bezüglich einer durch den Substrathalter (2; 20; 30; 40; 50) verlaufenden Ebene (16) im Wesentlichen spiegelsymmetrisch ausgebildet sind. A substrate holder assembly according to any one of the preceding claims, wherein the substrate holder (2; 20; 30; 40; 50) and / or the carrier (3) are oriented relative to a plane passing through the substrate holder (2; 20; 30; 40; 50). 16) are formed substantially mirror-symmetrical.
18. Substrathalteanordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der Substrathalter (2; 20; 30, 40; 50) und/oder der Träger (3) bezüglich einer durch den Substrathalter und den Träger verlaufenden Achse (17) rotationssymmetrisch ausgebildet sind. 18. Substrate holder arrangement according to one of the preceding claims, wherein the substrate holder (2; 20; 30,40; 50) and / or the carrier (3) are rotationally symmetrical with respect to an axis (17) passing through the substrate holder and the carrier.
19. Substrathalteanordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Verbindung von Sockel (3) und Substrathalter (2; 20; 30; 40; 50) einen Wärmeleitwert kleiner als 100 W/K, bevorzugt < 10 W/K, vorzugsweise < 1W/K, bevorzugt < 0,1 W/K, weiter bevorzugt < 0,01 W/K aufweist. 19. The substrate holder arrangement according to claim 1, wherein the connection between base and substrate holder has a thermal conductivity value less than 100 W / K, preferably <10 W / K, preferably <1 W /. K, preferably <0.1 W / K, more preferably <0.01 W / K.
20. Substrathalteanordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche 2 bis 19, wobei eine spezifische Wärmeleitfähigkeit des zumindest einen Stegs (4, 5) kleiner als 100 W/m*K, bevorzugt < 30 W/m*K, weiter bevorzugt < 5 W/m*K beträgt. 20. Substrate holding arrangement according to one of the preceding claims 2 to 19, wherein a specific thermal conductivity of the at least one web (4, 5) is less than 100 W / m * K, preferably <30 W / m * K, more preferably <5 W / m * K is.
21. Substrathalteanordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche 2 bis 20, wobei ein Größenverhältnis der Fläche eines Seitenrands (2a, 2b, 2c, 2d) zur Querschnittsfläche eines hieran angrenzenden Stegs (4, 5) zumindest 10:1 , bevorzugt zumindest 100:1 beträgt. 21. The substrate holder arrangement according to claim 2, wherein a size ratio of the area of a side edge (2a, 2b, 2c, 2d) to the cross-sectional area of a web (4, 5) adjacent thereto is at least 10: 1, preferably at least 100: 1 ,
22. Substrathalteanordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche 2 bis 21 , wobei der zumindest eine Steg (4, 5) eine Länge aufweist, welche größer als eine Dicke des Substrathalters (2; 20; 30; 40; 50) ist. 22. The substrate holder assembly according to one of the preceding claims 2 to 21, wherein the at least one ridge (4, 5) has a length which is greater than a thickness of the substrate holder (2; 20; 30; 40; 50).
23. Substrathalteanordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei zwischen dem Träger (3) und dem Substrathalter (2; 20; 30; 40; 50) ein thermisches Abschirmelement (52) angeordnet ist. A substrate holder assembly according to any one of the preceding claims, wherein a thermal shield member (52) is disposed between the substrate (3) and the substrate holder (2; 20; 30; 40; 50).
24. Transportsystem (100) mit mehreren Substrathalteanordnungen (1 ) nach einem der vorhergehenden Ansprüche mit einer Be- und/oder Entladestation (102), in der eine Substrathalteanordnung (1 ) zwischen einer Transportstellung und einer Be-/Entladestellung schwenkbar ist, sowie einer Transporteinrichtung (103) zum Transport einer Substrathalteanordnung (1 ) von einer Be- und/oder Entladestation (102) zu einer Substratbearbeitungsstation (104, 105). 24. Transport system (100) with a plurality of substrate holding arrangements (1) according to one of the preceding claims with a loading and / or unloading station (102), in which a substrate holding arrangement (1) is pivotable between a transport position and a loading / unloading position, as well as a Transport device (103) for transporting a substrate holding arrangement (1) from a loading and / or unloading station (102) to a substrate processing station (104, 105).
25. Transportsystem nach Anspruch 24, dadurch gekennzeichnet, dass eine elektrische Ladestation (101 ) für den Ladungsspeicher eines Trägers (3) vorgesehen ist. 25. Transport system according to claim 24, characterized in that an electrical charging station (101) for the charge storage of a carrier (3) is provided.
Verfahren zur Behandlung zumindest eines Substrats, welches mittels einer Substrathalteanordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche 1 bis 23 in den Bereich zumindest einer Bearbeitungsstation (104, 105, 106) gebracht und lösbar an der Substrathalteanordnung (1 ; 11 ) gehalten wird. Process for the treatment of at least one substrate brought into the region of at least one processing station (104, 105, 106) by means of a substrate holding arrangement according to one of the preceding claims 1 to 23 and detachably held on the substrate holding arrangement (1; 11).
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018054471A1 (en) * 2016-09-22 2018-03-29 Applied Materials, Inc. Carrier for supporting a substrate, apparatus for processing a substrate and method therefore

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0544995A1 (en) * 1991-11-30 1993-06-09 Leybold Aktiengesellschaft Apparatus for transporting substrates
JPH05315429A (en) * 1992-05-07 1993-11-26 Hitachi Ltd Conveying equipment of semiconductor device manufacturing equipment
US5683561A (en) * 1991-04-04 1997-11-04 Conner Peripherals, Inc. Apparatus and method for high throughput sputtering
WO2002011184A1 (en) * 2000-08-02 2002-02-07 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e. V. Mobile holder for a wafer
EP1217655A1 (en) * 2000-12-23 2002-06-26 VenTec Gesellschaft für Venturekapital und Unternehmensberatung Method of handling a thin wafer
US20030012885A1 (en) * 2001-07-16 2003-01-16 Gramarossa Daniel J. Method of processing and plating planar articles
JP2005005503A (en) * 2003-06-12 2005-01-06 Showa Denko Kk System and method for epitaxial growth
DE102004019231A1 (en) * 2004-04-16 2005-11-17 PROTEC Gesellschaft für Werkstoff- und Oberflächentechnik mbH Delivery and loading station e.g. for mobile, electrostatic substrate holders, has thin substrates placed manually, by mobile, electrostatic handling equipment with table having nozzles for producing air cushion by substrates
DE102004041049A1 (en) * 2004-07-02 2006-01-26 VenTec Gesellschaft für Venturekapital und Unternehmensberatung mbH Mobile, electrostatic substrate click for wafers in semiconductor manufacture, comprises additional capacitor structures for charge storage, extending over several electrode levels, on support substrate

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5746928A (en) * 1996-06-03 1998-05-05 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Ltd Process for cleaning an electrostatic chuck of a plasma etching apparatus
US20030047283A1 (en) * 2001-09-10 2003-03-13 Applied Materials, Inc. Apparatus for supporting a substrate and method of fabricating same
DE10232080B4 (en) * 2002-07-15 2015-10-01 Integrated Dynamics Engineering Gmbh Electrostatic gripper and method for its production
EP1458019A3 (en) * 2003-03-13 2005-12-28 VenTec Gesellschaft für Venturekapital und Unternehmensberatung Mobile transportable electrostatic substrate holders
AT6926U1 (en) 2003-03-13 2004-05-25 Ventec Ges Fuer Venturekapital MOBILE TRANSPORTABLE ELECTROSTATIC SUBSTRATE HOLDER
US20070169703A1 (en) * 2006-01-23 2007-07-26 Brent Elliot Advanced ceramic heater for substrate processing

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5683561A (en) * 1991-04-04 1997-11-04 Conner Peripherals, Inc. Apparatus and method for high throughput sputtering
EP0544995A1 (en) * 1991-11-30 1993-06-09 Leybold Aktiengesellschaft Apparatus for transporting substrates
JPH05315429A (en) * 1992-05-07 1993-11-26 Hitachi Ltd Conveying equipment of semiconductor device manufacturing equipment
WO2002011184A1 (en) * 2000-08-02 2002-02-07 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e. V. Mobile holder for a wafer
EP1217655A1 (en) * 2000-12-23 2002-06-26 VenTec Gesellschaft für Venturekapital und Unternehmensberatung Method of handling a thin wafer
US20030012885A1 (en) * 2001-07-16 2003-01-16 Gramarossa Daniel J. Method of processing and plating planar articles
JP2005005503A (en) * 2003-06-12 2005-01-06 Showa Denko Kk System and method for epitaxial growth
DE102004019231A1 (en) * 2004-04-16 2005-11-17 PROTEC Gesellschaft für Werkstoff- und Oberflächentechnik mbH Delivery and loading station e.g. for mobile, electrostatic substrate holders, has thin substrates placed manually, by mobile, electrostatic handling equipment with table having nozzles for producing air cushion by substrates
DE102004041049A1 (en) * 2004-07-02 2006-01-26 VenTec Gesellschaft für Venturekapital und Unternehmensberatung mbH Mobile, electrostatic substrate click for wafers in semiconductor manufacture, comprises additional capacitor structures for charge storage, extending over several electrode levels, on support substrate

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