WO2011092241A3 - Moule pour la lithographie par nano-impression et procedes de realisation - Google Patents
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Abstract
L' invention concerne un moule pour la lithographie par nano-impression, ainsi que ces procédés de réalisation. Ce moule comporte une face qui comprend n zone (s) structurée (s) avec des motifs de taille micrométrique ou nanométrique, n étant un nombre entier supérieur ou égal à 1. Cette face structurée appartient à une première couche qui est supportée par une seconde couche, la première couche étant en un matériau rigide et la seconde couche étant en un matériau souple. Ce moule peut en outre comprendre n couches intercalaires disposées entre la première couche et la seconde couche, n étant un nombre entier supérieur ou égal à 1, et dans lequel le module d' Young de la seconde couche est inférieur au module d' Young de la nième couche intercalaire adjacente à la seconde couche, et si n est supérieur à 1, le module d' Young de la (i)ième couche intercalaire est supérieur au module d' Young de la (i + 1)ième couche intercalaire, avec i = 1 à (n-1).
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP11701139A EP2529273A2 (fr) | 2010-01-28 | 2011-01-27 | Moule pour la lithographie par nano-impression et procedes de realisation |
US13/574,371 US20120301608A1 (en) | 2010-01-28 | 2011-01-27 | Mould for lithography by nano-imprinting and manufacturing methods |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR1050569A FR2955520B1 (fr) | 2010-01-28 | 2010-01-28 | Moule pour la lithographie par nano-impression et procedes de realisation |
FR1050569 | 2010-01-28 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
WO2011092241A2 WO2011092241A2 (fr) | 2011-08-04 |
WO2011092241A3 true WO2011092241A3 (fr) | 2011-12-01 |
Family
ID=42272044
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PCT/EP2011/051137 WO2011092241A2 (fr) | 2010-01-28 | 2011-01-27 | Moule pour la lithographie par nano-impression et procedes de realisation |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20120301608A1 (fr) |
EP (1) | EP2529273A2 (fr) |
FR (1) | FR2955520B1 (fr) |
WO (1) | WO2011092241A2 (fr) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008091017A1 (fr) * | 2007-01-24 | 2008-07-31 | Fuji Electric Holdings Co., Ltd. | Procédé de formation de motifs sur une couche de conversion de couleurs et procédé de fabrication d'un dispositif d'affichage électroluminescent organique utilisant le procédé de formation de motifs |
CN103576449A (zh) * | 2013-11-06 | 2014-02-12 | 无锡英普林纳米科技有限公司 | 一种用于纳米压印的复合模板及其制备方法 |
JP6420137B2 (ja) * | 2014-12-25 | 2018-11-07 | Hoya株式会社 | 基板の製造方法、マスクブランクの製造方法及びインプリントモールドの製造方法 |
DE102015009982A1 (de) * | 2015-07-31 | 2017-02-02 | Giesecke & Devrient Gmbh | Prägestempel für die Nanoprägelithographie |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2357731A (en) * | 1999-12-31 | 2001-07-04 | Ibm | Stamp for lithographic printing with soft layer for distributing force |
US20050236360A1 (en) * | 2004-04-27 | 2005-10-27 | Molecular Imprints, Inc. | Compliant hard template for UV imprinting |
EP2107041A2 (fr) * | 2008-04-01 | 2009-10-07 | STMicroelectronics S.r.l. | Moule disposant de fonctions nanométriques, procédé pour effectuer ce moule et utilisation correspondante dans un procédé pour effectuer une analyse de nanotubes de carbone |
WO2009147602A2 (fr) * | 2008-06-06 | 2009-12-10 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Materiau de type caoutchouc de silicone pour lithographie molle |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1997006012A1 (fr) * | 1995-08-04 | 1997-02-20 | International Business Machines Corporation | Tampon lithographique |
US6743368B2 (en) * | 2002-01-31 | 2004-06-01 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Nano-size imprinting stamp using spacer technique |
AU2005282060A1 (en) * | 2004-09-08 | 2006-03-16 | Nil Technology Aps | A flexible nano-imprint stamp |
WO2009154571A1 (fr) * | 2008-07-17 | 2009-12-23 | Agency For Science, Technology And Research | Procédé de fabrication d'une empreinte sur une structure polymère |
US20100078846A1 (en) * | 2008-09-30 | 2010-04-01 | Molecular Imprints, Inc. | Particle Mitigation for Imprint Lithography |
JP5155814B2 (ja) * | 2008-10-21 | 2013-03-06 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | インプリント装置 |
-
2010
- 2010-01-28 FR FR1050569A patent/FR2955520B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
2011
- 2011-01-27 EP EP11701139A patent/EP2529273A2/fr not_active Withdrawn
- 2011-01-27 US US13/574,371 patent/US20120301608A1/en not_active Abandoned
- 2011-01-27 WO PCT/EP2011/051137 patent/WO2011092241A2/fr active Application Filing
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2357731A (en) * | 1999-12-31 | 2001-07-04 | Ibm | Stamp for lithographic printing with soft layer for distributing force |
US20050236360A1 (en) * | 2004-04-27 | 2005-10-27 | Molecular Imprints, Inc. | Compliant hard template for UV imprinting |
EP2107041A2 (fr) * | 2008-04-01 | 2009-10-07 | STMicroelectronics S.r.l. | Moule disposant de fonctions nanométriques, procédé pour effectuer ce moule et utilisation correspondante dans un procédé pour effectuer une analyse de nanotubes de carbone |
WO2009147602A2 (fr) * | 2008-06-06 | 2009-12-10 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Materiau de type caoutchouc de silicone pour lithographie molle |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20120301608A1 (en) | 2012-11-29 |
EP2529273A2 (fr) | 2012-12-05 |
FR2955520B1 (fr) | 2012-08-31 |
WO2011092241A2 (fr) | 2011-08-04 |
FR2955520A1 (fr) | 2011-07-29 |
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JP2011516713A5 (fr) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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121 | Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application |
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|
WWE | Wipo information: entry into national phase |
Ref document number: 13574371 Country of ref document: US |
|
WWE | Wipo information: entry into national phase |
Ref document number: 2011701139 Country of ref document: EP |
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NENP | Non-entry into the national phase |
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