WO2009128741A1 - Générateur de plasma à très haute fréquence - Google Patents
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- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/46—Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
Definitions
- SUBSTITUTE SHEET (RULE 26) material to the inlet, with the magnetron antenna installed in it, and the outlet, equipped with an opening with a nozzle and connected to the plasma gas supply system, a chamber, new, according to the invention, is the installation of a second wall of dielectric material in the outlet chamber with a hole in its center, and the cavity between the partitions is connected to a plasma-forming gas supply system.
- the specified plasma-forming gas flow compensates for the rarefaction in the axial region of the chamber 8, caused by the vortex of the main flow, thereby preventing the partial decay of the microwave discharge caused by the pulling of hot plasma from a freely floating plasma bunch into the wall flow of the cooling gas layer.
- the partial decay of the microwave discharge is reduced, the cooling efficiency of the walls of the resonator and nozzle and, accordingly, the reliability of the device are increased, and the efficiency is increased. plasmatron.
- the partition 6 is protected by shielding the thermal radiation of the plasma by the partition 9 and cooling it with an additional plasma-forming gas flow entering the space between the partitions.
- the proposed design of the microwave plasma torch provides effective cooling of the dielectric partition of the resonator, reduces the heating of the walls and nozzles, and stabilizes the microwave discharge. This allows you to increase reliability and efficiency. Microwave plasmatron.
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Abstract
L’invention concerne des équipements à plasma et notamment des moyens pour générer le plasma au moyen de champs d’ondes millimétriques; elle peut s’utiliser en génie énergétique pour allumer tous types de combustibles, en tant que moteurs d’orientation dans des véhicules spatiaux ainsi que pour la coupe ou la fusion de matériaux. Le générateur de plasma à très haute fréquence comprend un magnétron (1) et un résonateur cylindrique (3) divisé par une cloison étanche aux gaz en matériau diélectrique (6) en une chambre d’entrée (7), dans laquelle est montée une antenne (2) du magnétron (1), et une chambre de sortie 8), dotée d’un orifice (4) avec une buse (5) et connectée à un système d’amenée de gaz formateur de plasma. La nouveauté de l’invention consiste en ce que l’on a monté dans la chambre (7) de la deuxième cloison (9) en un matériau diélectrique avec un orifice (10) en son centre, et la cavité entre les cloisons (6) et (9) est connectée à un système d’amenée de gaz formateur de plasma (11). Cette structure de générateur de plasma à très haute fréquence assure un refroidissement efficace de la cloison diélectrique du résonateur, réduit le réchauffement des parois et de la buse et stabilise la décharge de très haute fréquence, ce que permet d’améliorer la fiabilité et le rendement dudit générateur.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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PCT/RU2008/000231 WO2009128741A1 (fr) | 2008-04-14 | 2008-04-14 | Générateur de plasma à très haute fréquence |
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PCT/RU2008/000231 WO2009128741A1 (fr) | 2008-04-14 | 2008-04-14 | Générateur de plasma à très haute fréquence |
Publications (1)
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WO2009128741A1 true WO2009128741A1 (fr) | 2009-10-22 |
Family
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Family Applications (1)
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PCT/RU2008/000231 WO2009128741A1 (fr) | 2008-04-14 | 2008-04-14 | Générateur de plasma à très haute fréquence |
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WO (1) | WO2009128741A1 (fr) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103945632A (zh) * | 2014-05-12 | 2014-07-23 | 哈尔滨工业大学 | 角向速度连续可调的等离子体射流源及该射流源的使用方法 |
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-
2008
- 2008-04-14 WO PCT/RU2008/000231 patent/WO2009128741A1/fr active Application Filing
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