WO2008066033A1 - Alkylthio-substituted benzene derivative and process for production thereof - Google Patents
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- WO2008066033A1 WO2008066033A1 PCT/JP2007/072839 JP2007072839W WO2008066033A1 WO 2008066033 A1 WO2008066033 A1 WO 2008066033A1 JP 2007072839 W JP2007072839 W JP 2007072839W WO 2008066033 A1 WO2008066033 A1 WO 2008066033A1
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C319/00—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides
- C07C319/14—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides of sulfides
Definitions
- the present invention relates to a novel method for producing a substituted benzene derivative having an alkylthio group, which is important as an intermediate for pharmaceuticals and agricultural chemicals.
- Non-patent document 1 Non-patent document 2
- methanethiol sodium salt used is anhydrous, and no examples of using aqueous solutions have been reported.
- 1,2-dichlorobenzene was added dropwise in polyethylene glycol at 135 ° C over 1 hour with 1 / 3-fold moles of 30% aqueous methanethiol sodium salt solution over 1,4 dichlorobenzene over 135 hours.
- lower alkanethiols have a low boiling point and have a unique odor that is difficult to handle, requiring special equipment.
- Alkaline metal salts of lower alkanethiols are easier to handle! / Than thiols themselves, but they are expensive as anhydrides and have problems in terms of economy in industrial production.
- An aqueous salt solution is easy to synthesize and is inexpensive.
- the reaction yield decreases because the reactivity decreases due to the presence of a large amount of water. It is necessary to use a large excess of alkali metal salt in order to obtain the desired product in high yield. It is also known that alkylthio group dealkylation occurs as a side reaction due to the presence of excess alkanethiol alkali metal salt.
- Non-Patent Document 1 Synthesis, 1982, Vol. 6, 475–478
- Non-Patent Document 2 Tetrahedron Letters, 21, 3099-3100, 1980 Patent Document 1: JP-A-9 40636
- Patent Document 2 Japanese Patent Laid-Open No. 948752
- Patent Document 3 Japanese Patent Laid-Open No. 2001-302616
- the ability to use an aqueous solution of a lower alkanethiol alkali metal salt from the economical aspect is advantageous in producing an alkylthio group-substituted benzene derivative.
- the concentration of the aqueous solution is about 10 to 30%. If it is used as it is, the reactivity decreases due to the presence of a large amount of water, and it is difficult to use it industrially because the reaction efficiency is poor.
- azeotropic dehydration means that water and an azeotropic solvent (which is a solvent that can be removed from the reaction system by distillation together with water) are distilled simultaneously to distill water present in the reaction system. It means to remove.
- R, R, R, R and R are the same or different hydrogen atoms
- X represents a halogen atom.
- R represents a methyl group or an ethyl group
- M represents an alkali metal cation
- An azeotropic solvent (which can be removed from the reaction system by distillation together with water) which may be the same as the halogenated benzene derivative, the reaction solvent and the halogenated benzene derivative represented by the formula (1);
- the mixture of water and azeotropic solvent was distilled by distillation while adding an aqueous solution of the above lower alkanethiol alkali metal salt without adding a surfactant to the mixed solution of Including the first reaction step in which the reaction is carried out by removing the water present to reduce the water content in the reaction mixture to 10% by mass or less, and if necessary, the following general formula (3)
- a method for producing an alkylthio group-substituted benzene derivative comprising a second reaction step in which an alkyl carbonate represented by the formula
- the process for producing an alkylthio group-substituted benzene derivative which is particularly useful in the present invention, first comprises a halogenated benzene derivative represented by the above general formula (1) and a lower alkyl represented by the above general formula (2). Reacting the lucanthiol strength metal salt.
- R, R and R can each independently be any of the substituents described above.
- Examples of the straight-chain or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms include, for example, methyl group, ethyl group, n propyl group, isopropyl group, n butyl group, isobutyl group, sec butanol group, tert butyl group, n pentyl group, isopentyl group, 2-methylbutyl group, neopentyl group, n-hexyl group, 4-methylpentyl group, 3-methylpentyl group, 2-methylpentyl group, 3,3-dimethylbutyl group, 1,1-dimethylbutyl group, 1 , 3-dimethylenobutyl group, 2,3-dimethylbutyl group, 1-ethylbutyl group, 1-methyl-1-ethylenopropyl group, 1,2-dimethylbutyl group, 2-methyl-1-ethylpropyl group, 2,2-dimethylbutyl group, etc.
- linear or branched alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms examples include methoxy group, ethoxy group, n propoxy group, isopropoxy group, n butoxy group, isobutoxy group, se c butoxy group, tert butoxy group, n Pentyloxy group, isopentyloxy group, 2-methylbutoxy group, neopentyloxy group, n-hexyloxy group, 4-methylpentyl-oxy group, 3 methino-repentino-reoxy group, 2-methino-repentino-reoxy group, 3, 3— dimethylbutoxy group, 1, 1-dimethylbutoxy group, 1, 3 dimethylbutoxy group, 2, 3— Dimethylbutoxy group, 1-ethylbutoxy group, 1-methyl-1-ethylpropoxy group, 1,2-dimethylenobutoxy group, 2-methinole-1-ethinorepropoxy group, 2,2-dimethylenobutoxy group, etc.
- halogen atom examples include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
- a phenyl group substituted at 1 to 3 positions with a substituent selected from the group consisting of halogen atoms include, for example, 2 methylphenyl group, 3 methylphenyl group, 4 methylphenyl group, 2, 3 dimethylphenyl group, 2 , 4 Dimethyl phenyl group, 2, 5 Dimethyl phenyl group, 2, 6 Dimethyl phenyl group, 3, 4 Dimethyl phenyl group, 3, 5 Dimethino fenenore group, 2, 4, 6 Trimethino fenenore group, 3 , 4, 5 Trimethylolenyl, 2 ethenylphenyl, 3 ethenylphenyl, 4 ethenylphenyl, 2, 3 jetylphenyl, 2, 4 jetylphenyl, 2, 6 jetylphenyl Group, 3, 5 Jetyl phenyl group, 3, 4, 5 Trimethyl phenyl group, 2-n-propyl phenyl group, 3 Isoprop
- halogen atom for X in the general formula (1) examples include a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom. Among them, a chlorine atom and a bromine atom are preferable from the viewpoint of easy availability.
- halogenated benzene derivative represented by the general formula (1) for example,
- the two halogen atoms may be the same or different.
- chlorobenzene bromobenzene, fluorobenzene, odobenzene, 1,2-dichlorobenzene, 1,3-dichlorobenzene, 1,4-dichlorobenzene, 1,3-difunoleobenzene, 1-bromo 2 Black mouth benzene, 1-Bromo 3 Black mouth benzene, 1-Bromo 4—Black mouth benzene, 1—Funoleo 2—Black mouth benzene, 1—Funoleo One mouth 3 Chlo mouth benzene, 1—Funoleo mouth one 4 Head Benzene, 1-odd 2 Black mouth benzene, 1-yod 3-Black-mouthed benzene, 1-yod 4 Black-mouthed benzene, 1 Bromo 2 Funole-aged lobenzene, 1-Bromo 3 Funore-aged robenzene, 1-Bromo 4-Funore O-benzene, 1-bromo 2 Black
- the alkali metal cation represents a lithium ion, a sodium ion, a potassium ion, a noredium ion, a cesium ion or the like.
- Examples of the alkali metal salt of the lower alkanethiol represented by the general formula (2) include, for example, a lithium salt of methanethiol, a sodium salt of methanethiol, a power methanethiol salt, a lithium salt of ethanethiol, and an ethanethiol. And sodium salt of ethane and the like.
- the reaction solvent is a solvent that enables a reaction between a halogenated benzene derivative and a lower alkanethiol alkali metal salt without adding a surfactant, and has a high affinity for a cation and promotes the reaction.
- Aprotic polar solvents that are preferably aprotic polar solvents from the standpoint of effectiveness include 1,3 dimethyl-2 imidazolidinone, N methyl-2-pyrrolidinone, N, N dimethylformamide, N, N dimethyl Amide solvents such as acetoamide and hexamethylphosphoric triamide; Sulfoxide or sulfone solvents such as dimethyl sulfoxide or phosphorane; Pyridine; 2 Methyl pyridine, 3 Methyl pyridine, 4 Methyl pyridine, 2, 6 dimethyl pyridine, 2 , 4 1-5 such as dimethyl pyridine Pyridine substituted with a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; quinoline; and 1 to 5 linear or branched carbon atoms having 1 to 6 carbon atoms such as 2 methylquinoline
- Use force S S to use one or more solvents selected from the group consisting of quinoline substituted with alkyl groups.
- the reaction solvent is usually used in a mass ratio of from 0.5 to 100 times the mass ratio of the halogenated benzene derivative as the raw material, but preferably from 0.5 to 10 times the amount. is there.
- the reaction between the halogenated benzene derivative and the lower alkanethiol alkali metal salt is performed by distilling and distilling water derived from the aqueous solution of the lower alkanethiol alkali metal salt together with the azeotropic solvent. , While removing continuously from the reaction system.
- an azeotropic solvent distilled off can be used as a method for removing water. Separation of the mixture with water can be performed using a mechanism in which only water is removed. At this time, the separated azeotropic solvent can be returned to the reaction system.
- the azeotropic solvent has a low solubility in water and quickly separates from water.
- a solvent is selected from benzene; a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a linear or branched alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or a trifluoromethyl group.
- benzenes include, for example, benzene, toluene, orthoxylene, metaxylene, noraxylene, mesitylene, ethynolebenzene, isopropylenobenzene, benzotrinoleolide, and anisole.
- Examples of aliphatic alkanes include n-hexane, n-heptane, n-octane, n-decane, isooctane, cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane, cyclooctane, cyclononane, cyclodecane, decalin, methylcyclohexane, etc. Is mentioned.
- Examples of ethers include methyl-tert butyl ether, di-n-propyl ether.
- solvents when the proportion of water in the azeotrope with water is relatively high and the specific gravity is smaller than that of water, it is separated into an upper solvent such as benzene, toluene, orthoxylene, One or more solvents selected from the group consisting of meta-xylene and para-xylene are preferred from the viewpoints of dehydration efficiency, reaction efficiency, and operability! /.
- the halogenated benzene derivative represented by the general formula (1) which is the reaction substrate
- the halogenated benzene derivative represented by the general formula (1) can be azeotroped with water, it is used as an azeotropic solvent, and the azeotropic solvent is added separately.
- the ability to carry out the reaction without the addition Usually, in order to remove water more efficiently, an azeotropic solvent having a lower boiling point than the halogenated benzene derivative as the reaction substrate is added separately.
- the addition amount of the azeotropic solvent is an amount by which the reflux of the mixture of water and the azeotropic solvent derived from the aqueous solution is maintained during the addition of the aqueous solution of the lower alkanethiol alkali metal salt, and varies depending on the capacity of the reactor. It is preferable to add within the range of the force S and the ratio with the reaction solvent described later.
- reaction solvent and azeotropic solvent can be arbitrarily mixed and used.
- the azeotropic solvent is the same as the halogenated benzene derivative represented by the above general formula (1), which is the reaction substrate, and other azeotropic solvents belonging to the above group are not added separately,
- the “azeotropic solvent” means the halogenated benzene derivative represented by the general formula (1).
- the reaction temperature between the halogenated benzene derivative and the aqueous solution of the lower alkanethiol alkali metal salt is preferably a force capable of using a temperature of 50 ° C to 200 ° C, more preferably the boiling point of the azeotropic solvent, or The temperature at which the solvent can be distilled off with water is used.
- a preferred embodiment of the method for adding an aqueous solution of a lower alkanethiol alkali metal salt includes mixing the compound of formula (1), a reaction solvent and an azeotropic solvent, and adding the mixture with the azeotropic solvent. It is preferable to add an aqueous solution of a lower alkanethiol alkali metal salt in advance so that the mixture with water derived from the aqueous solution is heated in advance so that the mixture rapidly refluxs. At that time, the moisture contained in the reaction mixture is substantially 10% by mass or less, preferably substantially 5% by mass or less, more preferably substantially less than 5% by mass with respect to the entire reaction mixture. Add 3% by mass or less so that the reflux of the mixture of azeotropic solvent and water is maintained.
- substantially means a range that does not affect the yield, and specifically, an amount of 50% by mass or more is preferably added to the amount of the lower alkanethiol alkali metal salt aqueous solution to be added. More preferably, it is a range in which an amount of 80% by mass or more is added, and most preferably a range in which an amount of 90% by mass or more is added.
- the amount of water to be added and the amount of water to be added which can be dropped or added intermittently, either continuously or intermittently, are distilled. This should be done while measuring the amount of distilled water. In the case of continuous dripping, the amount of water added and distillate In the case of intermittent addition, where it is desirable to add dropwise so that the amount is almost the same amount, the amount of water added to the reaction mixture by one addition calorie should not exceed 10% by mass of the total reaction mixture
- the power to do S is desirable. More preferably, it should be added in a range not exceeding 5% by mass, and most preferably not exceeding 3% by mass.
- the amount of the lower alkanethiol alkali metal salt aqueous solution added is preferably 0.;! To 4 times the amount of the lower alkanethiol alkali metal salt as a lower alkanethiol alkali metal salt with respect to 1 mol of the compound of the formula (1) which is the substrate used in the reaction. More preferably 0.5 to 3 times the amount is used, still more preferably 0.7 to 2 times the amount.
- the lower alkanethiol alkali metal salt aqueous solution to be added a commercially available product can be used as it is, or an aqueous solution of the corresponding alkali metal hydroxide, alkanethiol, and other components prepared separately can be used.
- the concentration of the lower alkanethiol alkali metal salt contained in the aqueous solution can be used in the range of 1% by mass to 80% by mass. Usually, the concentration is in the range of 5% by mass to 50% by mass.
- the production method of the present invention is represented by the above formula (3), formula (4), or formula (5) where the alkyl group part is the same as the lower alkanethiol alkali metal salt used, if necessary. It includes a second reaction step in which the alkylthio group-substituted benzene derivative represented by the formula (6) is obtained by adding and alkylating an alkylating agent.
- the alkylthiol introduced as a side reaction may be used.
- a thiol derivative in which a part of the group is dealkylated is produced, but even in this case, as shown in the second reaction step, the thiol derivative by-produced by adding an alkylating agent is It can be easily converted into an alkylthio group-substituted benzene derivative represented by the formula (I), and the target product can be obtained in high yield.
- the alkylating agent is added in a molar ratio of 0.1 to 5.0 times, preferably 0.3 to 1.5 times with respect to 1 mol of the compound represented by the formula (1) as a substrate.
- the alkylating agent may be any of the compounds represented by formula (3), formula (4), or formula (5), but is preferably an alkylnolide power that is a compound of formula (3). Desirable in terms of ease and economy.
- the reaction temperature of the alkylation with the alkylating agent is preferably a force at which a temperature from 0 ° C to 200 ° C can be used, more preferably from room temperature to 100 ° C.
- the organic phase is separated by a method such as distilling off the solvent under reduced pressure as necessary, adding water to the residue for liquid separation, or adding an organic solvent for extraction. Further, if necessary, purification using means such as distillation, recrystallization, column chromatography and the like can provide a high-purity alkylthio group-substituted benzene derivative in a high yield.
- Example 3 3 ⁇ 4 of 2-chloro-6-methylthiotoluene A 2 L 4-neck flask was charged with 161 g (1.0 mol) of 2,6-dichlorotoluene, 640 g of N-methylpyrrolidinone, and 80 g of toluene.
- the mixture was blown at 0 ° C., stirred at the same temperature for 1 hour, and the reaction was completed after confirming that the demethylated product had disappeared by gas chromatography and that all were the title compound.
- the reaction solution was transferred to a 2 L eggplant flask and concentrated under reduced pressure using a rotary evaporator.
- a 1L 4-neck flask is charged with 73.5 g (0.5 mol) of 1,2-dichlorobenzene, 320 g of N-methyl-2-pyrrolidinone, and 80 g of benzene, and the internal temperature is 110 ° C with a mantle heater in a nitrogen atmosphere. Until warmed. Next, when 18 g of a 15% -methanethiol sodium salt aqueous solution was added dropwise, refluxing started by azeotropy. The dropping was continued to maintain 110-120 ° C with the power of removing water from the Dean-Stark apparatus.
- Example 7 to 12 The raw material was a halogenated benzene derivative shown in Table 1, and in Example 8, a 20% -ethanethiol potassium salt aqueous solution was used instead of 15% -methanethiol sodium salt, and The reaction was carried out in the same manner as in Example 4 except that odoethane was added dropwise instead of blowing methane to obtain the corresponding alkylthio group-substituted benzene derivative. The results are shown in Table 1. The yield was calculated based on the halogenated benzene derivative as a raw material.
- Example 2 the same operation as in Example 2 was performed to obtain 190 g of a concentrate.
- the content of the title compound was analyzed by gas chromatography, it was 65.4 g (yield 37.9%, based on 2,6-dichloronitrone).
- Example 2 the same operation as in Example 2 was performed to obtain 172 g of a concentrate.
- the content of the title compound was analyzed by gas chromatography, it was 65 g (yield 37.5%, 2,6-dichroic toluene based on toluene).
Landscapes
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Abstract
Disclosed is a process for producing an industrially useful alkylthio-substituted benzene derivative by using an aqueous solution of an alkali metal salt of a lower alkanethiol which is available at a low cost. Specifically disclosed is a process for producing an alkylthio-substituted benzene derivative represented by the general formula (6) by reacting a halogenated benzene derivative represented by the general formula (1) with an alkanethiol alkali metal salt represented by the general formula (2). The process comprises: a first reaction step for conducting the reaction by adding an aqueous solution of the alkali metal salt of the lower alkanethiol to a mixed solution of the halogenated benzene derivative, a reaction solvent and an azeotropic solvent (a solvent which can be removed together with water from a reaction system by distillation) which may be the same as the halogenated benzene derivative represented by the formula (1), while distilling a mixture of water and the azeotropic solvent to remove water present in the reaction system continuously so that the water content of the reaction mixture becomes 10 mass% or less; and, optionally, a second reaction step for adding an alkyl halide represented by the general formula (3), an alkyl sulfate ester represented by the general formula (4) or an alkyl carbonate ester represented by the general formula (5) to the reaction system.
Description
明 細 書 Specification
アルキルチオ基置換ベンゼン誘導体の製造方法 Method for producing alkylthio group-substituted benzene derivative
技術分野 Technical field
[0001] 本発明は、医農薬等の中間体として重要な、アルキルチオ基を有する置換べンゼ ン誘導体の新規な製造方法に関する。 背景技術 [0001] The present invention relates to a novel method for producing a substituted benzene derivative having an alkylthio group, which is important as an intermediate for pharmaceuticals and agricultural chemicals. Background art
[0002] アルキルチオ基を有する置換ベンゼン誘導体の製造方法は、これまでにも幾つか の方法が知られている。一般的な方法としては、低級アルカンチオールのアルカリ金 属塩をハロゲン置換ベンゼン誘導体と反応させる方法が知られている。例えば、ジク ロロベンゼンまたはジクロロトルエン類をへキサメチルホスホリックトリアミド(HMPA) 中、 100°Cで 1. 5倍モルのメタンチオールナトリウム塩と反応し、その後ヨウ化メチル で処理することにより 70〜92%の収率でメチルチオ基置換ベンゼン誘導体が得られ ることが報告されている(非特許文献 1、非特許文献 2)。この場合使用するメタンチォ 一ルナトリウム塩は無水物であり水溶液の使用例は報告されていない。 [0002] Several methods for producing substituted benzene derivatives having an alkylthio group have been known so far. As a general method, a method of reacting an alkali metal salt of a lower alkanethiol with a halogen-substituted benzene derivative is known. For example, by reacting dichlorobenzene or dichlorotoluenes with hexanethiol phosphoric triamide (HMPA) at 100 ° C with 1.5-fold mol of methanethiol sodium salt, followed by treatment with methyl iodide. It has been reported that methylthio group-substituted benzene derivatives can be obtained in a yield of 92% (Non-patent document 1, Non-patent document 2). In this case, the methanethiol sodium salt used is anhydrous, and no examples of using aqueous solutions have been reported.
[0003] また、 1 , 2—ジブロモベンゼンに界面活性剤としてのポリエチレングリコール溶剤お よびキシレンを添加し、脱水しつつメタンチオールナトリウム塩の 30%水溶液を反応 させた後、蒸留精製すると 63%の収率で 2—メチルチオブロモベンゼンが得られるこ とが記載されている力 S、工業的に利用するには経済性の面からみて、まだ充分な収 率とは言えない(特許文献 1、実施例 9)。 [0003] In addition, a polyethylene glycol solvent and xylene as surfactants were added to 1,2-dibromobenzene, reacted with a 30% aqueous solution of methanethiol sodium salt while dehydrating, and then purified by distillation to obtain 63% The power S, which describes that 2-methylthiobromobenzene can be obtained in a yield, is not yet sufficient in terms of economy for industrial use (Patent Document 1, Implementation) Example 9).
[0004] さらに、 1 , 2—ジクロロベンゼンをポリエチレングリコール中、 135°Cで 1 , 2—ジクロ 口ベンゼンに対し 1/3倍モルの 30%メタンチオールナトリウム塩水溶液を 4時間かけ て滴下して反応し、 2—メチルチオクロ口ベンゼンとした後、引続き水を添加して塩素 酸化することにより収率 68. 2%で 2—クロ口ベンゼンスルホユルク口ライドが得られた り、或いは、ポリエチレングリコールを使用せずにテトラー n—ブチルアンモニゥムブロ ミドを添加して同様の反応を行い収率 66. 7%で 2—クロ口ベンゼンスルホユルクロラ イドが得られることが報告されている(特許文献 2、実施例 1および実施例 9)。 [0004] Further, 1,2-dichlorobenzene was added dropwise in polyethylene glycol at 135 ° C over 1 hour with 1 / 3-fold moles of 30% aqueous methanethiol sodium salt solution over 1,4 dichlorobenzene over 135 hours. After reacting to 2-methylthiochlorobenzene, water was added to oxidize the chlorine to obtain 2-chromiumbenzenesulfurolide with a yield of 68.2%, or polyethylene glycol It has been reported that tetra-n-butylammonium bromide is added without using bismuth and the same reaction is carried out to obtain 2-chlorobenzene benzenesulfur chloride in a yield of 66.7% (patented) Reference 2, Example 1 and Example 9).
同様の方法で、テトラー n—ブチルホスホニゥムブロマイドの存在下、 1 , 4ージクロ
口ベンゼンと 30%メタンチオールナトリウム塩水溶液を反応させた後、水を添加せず 塩素と反応させることにより、 4 クロロチォフエノールを収率 87. 1 %で得られること が報告されている(特許文献 3、実施例 2)。 In the same way, in the presence of tetra-n-butylphosphonium bromide, 1,4-dichloro It has been reported that 4-chlorothiophenol can be obtained in a yield of 87.1% by reacting benzene with 30% aqueous methanethiol sodium salt solution and then reacting with chlorine without adding water (patent) Reference 3, Example 2).
これらの例の場合、原料であるジクロロベンゼンを過剰に使用したり、界面活性剤を 添加したりすることによりメタンチオールナトリウム塩の反応効率を上げている力 S、クロ ロチオア二ソール類の単離収率は記載されていない。界面活性剤の使用は、反応溶 媒の回収を難しくする場合も多ぐ工業的に利用するには経済性の面からもまだ問題 力 sある。 In these cases, the ability to increase the reaction efficiency of methanethiol sodium salt by using excess dichlorobenzene as a raw material or adding a surfactant S, isolation of chlorothioanisoles Yields are not described. The use of surfactants, to use multilingual tool industrially case of difficult recovery of anti応溶medium is still a problem force s in terms of economy.
一般に、低級アルカンチオール類は低沸点であるため取扱いが難しぐ特異な臭 気も有する為、特殊な設備を必要とする。 In general, lower alkanethiols have a low boiling point and have a unique odor that is difficult to handle, requiring special equipment.
低級アルカンチオールのアルカリ金属塩は、チオールそのものより取り扱!/、が容易 であるが、無水物としては高価であり工業的製造においては経済性の面で問題があ また、低級アルカンチオールアルカリ金属塩の水溶液は合成も容易であり安価であ る力 多量の水の存在により反応性が低くなるため反応収率は低下する。高収率で 目的物を得るためには大過剰のアルカリ金属塩を使用する必要がある力 過剰のァ ルカンチオールアルカリ金属塩の存在により副反応としてアルキルチオ基の脱アル キル化が起こることも知られており(非特許文献 2)、大過剰のアルカンチオールアル カリ金属塩の使用は、アルキルチオ基置換ベンゼン誘導体の合成法として効率的と は言えない。従って、経済的に有利な低級アルキルチオ基置換ベンゼン誘導体のェ 業的製法の確立が望まれて!/、る。 Alkaline metal salts of lower alkanethiols are easier to handle! / Than thiols themselves, but they are expensive as anhydrides and have problems in terms of economy in industrial production. An aqueous salt solution is easy to synthesize and is inexpensive. The reaction yield decreases because the reactivity decreases due to the presence of a large amount of water. It is necessary to use a large excess of alkali metal salt in order to obtain the desired product in high yield. It is also known that alkylthio group dealkylation occurs as a side reaction due to the presence of excess alkanethiol alkali metal salt. Therefore, the use of a large excess of an alkanethiolalkali metal salt is not an efficient method for synthesizing alkylthio group-substituted benzene derivatives. Therefore, establishment of an economical production method for economically advantageous lower alkylthio group-substituted benzene derivatives is desired!
非特許文献 1 : Synthesis, 1982年,第 6巻, 475— 478頁 Non-Patent Document 1: Synthesis, 1982, Vol. 6, 475–478
非特許文献 2 : Tetrahedron Letters, 21巻, 3099〜3100頁, 1980年 特許文献 1 :特開平 9 40636号公報 Non-Patent Document 2: Tetrahedron Letters, 21, 3099-3100, 1980 Patent Document 1: JP-A-9 40636
特許文献 2:特開平 9 48752号公報 Patent Document 2: Japanese Patent Laid-Open No. 948752
特許文献 3 :特開 2001— 302616号公報 Patent Document 3: Japanese Patent Laid-Open No. 2001-302616
発明の開示 Disclosure of the invention
発明が解決しょうとする課題
[0006] 前記したように、アルキルチオ基置換ベンゼン誘導体を製造するにあたり、経済性 の面から低級アルカンチオールアルカリ金属塩の水溶液の使用が有利である力 一 般に入手可能な低級アルカンチオールアルカリ金属塩の水溶液の濃度は、 10〜30 %程度であり、そのまま使用すると多量の水の存在による反応性低下のため、反応 効率が悪ぐ工業的に使用することには難がある。従って、安価に入手可能な低級ァ ルカンチオールアルカリ金属塩の水溶液を使用する工業的に有利なアルキルチオ 基置換ベンゼン誘導体の製造方法が求められてレ、る。 課題を解決するための手段 Problems to be solved by the invention [0006] As described above, the ability to use an aqueous solution of a lower alkanethiol alkali metal salt from the economical aspect is advantageous in producing an alkylthio group-substituted benzene derivative. Generally available lower alkanethiol alkali metal salts. The concentration of the aqueous solution is about 10 to 30%. If it is used as it is, the reactivity decreases due to the presence of a large amount of water, and it is difficult to use it industrially because the reaction efficiency is poor. Therefore, an industrially advantageous method for producing an alkylthio group-substituted benzene derivative using an aqueous solution of a lower alkanethiol alkali metal salt that is available at low cost is desired. Means for solving the problem
[0007] 本発明者らは、上記の目的を達成するために鋭意研究を重ねた。その結果、低級 アルカンチオールアルカリ金属塩の水溶液を使用して、ある種の有機溶媒の存在下 に反応系内が一定の含水率以下となるように共沸脱水により水を反応系力 継続的 に除去しつつハロゲン化ベンゼン誘導体と反応させると、高収率でアルキルチオ基 置換ベンゼン誘導体が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。 [0007] The inventors of the present invention have made extensive studies to achieve the above object. As a result, by using an aqueous solution of a lower alkanethiol alkali metal salt, water is continuously reacted by azeotropic dehydration in the presence of a certain organic solvent so that the water content in the reaction system is below a certain water content. It was found that an alkylthio group-substituted benzene derivative was obtained in a high yield when reacted with a halogenated benzene derivative while removing it, and the present invention was completed.
ここで、「共沸脱水」とは、水と共沸溶媒 (水と共に蒸留により反応系から除去すること ができる溶媒をいう)を蒸留により同時に留出させることにより、反応系中に存在する 水を除去することを指す。 Here, “azeotropic dehydration” means that water and an azeotropic solvent (which is a solvent that can be removed from the reaction system by distillation together with water) are distilled simultaneously to distill water present in the reaction system. It means to remove.
すなわち、本発明は、下記一般式(1) That is, the present invention provides the following general formula (1)
[化 1] [Chemical 1]
(式中、 R、 R、 R、 Rおよび Rは、同一または相異なってもよぐ水素原子;炭素数 (Wherein R, R, R, R and R are the same or different hydrogen atoms;
1 2 3 4 5 1 2 3 4 5
1〜 6の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基;炭素数 1〜 6の直鎖状もしくは分岐状の アルコキシ基;ノヽロゲン原子;トリフルォロメチル基;フエニル基;または、炭素数;!〜 6 の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数 1〜6の直鎖状もしくは分岐状のアル コキシ基、および、ハロゲン原子からなる群から選ばれる置換基で 1〜3箇所置換さ
れたフエ二ル基を示し、 Xは、ハロゲン原子を示す。 ) A linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; a linear or branched alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms; a nitrogen atom; a trifluoromethyl group; a phenyl group; or a carbon number; 1 to 3 substituents selected from the group consisting of 6 linear or branched alkyl groups, 1 to 6 carbon linear or branched alkoxy groups, and halogen atoms. X represents a halogen atom. )
で表されるハロゲン化ベンゼン誘導体を、下記一般式(2) A halogenated benzene derivative represented by the following general formula (2)
R SM (2) R SM (2)
(式中、 Rは、メチル基あるいはェチル基を示し、 Mは、アルカリ金属陽イオンを示す (In the formula, R represents a methyl group or an ethyl group, and M represents an alkali metal cation.
6 6
。)で表される、低級アルカンチオールアルカリ金属塩と反応させ、下記一般式(6) [化 2] . And a lower alkanethiol alkali metal salt represented by the following general formula (6)
(式中、 R、 R、 R、 R、 Rおよび Rは前記と同義を表す) (Wherein R, R, R, R, R and R are as defined above)
1 2 3 4 5 6 1 2 3 4 5 6
で表されるアルキルチオ基置換ベンゼン誘導体を製造する方法であって、 A process for producing an alkylthio group-substituted benzene derivative represented by:
上記ハロゲン化ベンゼン誘導体、反応溶媒および式(1)で表されるハロゲン化ベン ゼン誘導体と同一であってもよい共沸溶媒 (水と共に蒸留により反応系から除去する ことができる溶媒をいう)との混合溶液中に界面活性剤を添加せずに、上記低級アル カンチオールアルカリ金属塩の水溶液を添加しつつ、水と共沸溶媒の混合物を蒸留 により留出させて、継続的に系中に存在する水を除去することにより、反応混合物中 の水分含量を 10質量%以下にして反応をおこなう第 1反応工程を含み、次いで必要 に応じて、下記一般式(3) An azeotropic solvent (which can be removed from the reaction system by distillation together with water) which may be the same as the halogenated benzene derivative, the reaction solvent and the halogenated benzene derivative represented by the formula (1); The mixture of water and azeotropic solvent was distilled by distillation while adding an aqueous solution of the above lower alkanethiol alkali metal salt without adding a surfactant to the mixed solution of Including the first reaction step in which the reaction is carried out by removing the water present to reduce the water content in the reaction mixture to 10% by mass or less, and if necessary, the following general formula (3)
R Υ (3) R Υ (3)
6 6
(Υは、ハロゲン原子を示す。 ) (Υ represents a halogen atom.)
で表されるアルキルハライド、 An alkyl halide represented by
下記一般式 (4) The following general formula (4)
(R O) SO (4) (R O) SO (4)
6 2 2 6 2 2
で表されるアルキル硫酸エステル、あるいは An alkyl sulfate represented by
下記一般式 (5)
(R O) CO (5) The following general formula (5) (RO) CO (5)
6 2 6 2
で表されるアルキル炭酸エステルを反応系に添加する第 2反応工程を含むアルキル チォ基置換ベンゼン誘導体の製造方法を提供する。 A method for producing an alkylthio group-substituted benzene derivative comprising a second reaction step in which an alkyl carbonate represented by the formula
発明の効果 The invention's effect
[0008] 本発明によれば、安価に入手可能な低級アルカンチオールアルカリ金属塩の水溶 液を使用して、工業的に有用なアルキルチオ基置換ベンゼン誘導体を高収率で製 造すること力 Sでさる。 [0008] According to the present invention, it is possible to produce an industrially useful alkylthio group-substituted benzene derivative in high yield by using an inexpensive aqueous solution of a lower alkanethiol alkali metal salt, which is available at low cost. Monkey.
以下、本発明を更に詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
発明を実施するための最良の形態 BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
[0009] 本発明に力、かるアルキルチオ基置換ベンゼン誘導体の製造方法は、まず、上記一 般式(1)で表されるハロゲン化ベンゼン誘導体と、上記一般式(2)で表される低級ァ ルカンチオールアル力リ金属塩を反応させる工程を含む。 [0009] The process for producing an alkylthio group-substituted benzene derivative, which is particularly useful in the present invention, first comprises a halogenated benzene derivative represented by the above general formula (1) and a lower alkyl represented by the above general formula (2). Reacting the lucanthiol strength metal salt.
[0010] 本発明中、上記一般式(1)で表されるハロゲン化ベンゼン誘導体に関し、 R、 R、 [0010] In the present invention, the halogenated benzene derivative represented by the above general formula (1), R, R,
1 2 1 2
R、 Rおよび Rは、それぞれ独立して、上述した置換基のいずれかであることができR, R and R can each independently be any of the substituents described above.
3 4 5 3 4 5
る力 炭素数 1〜6の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基としては例えば、メチル基、 ェチル基、 n プロピル基、イソプロピル基、 n ブチル基、イソブチル基、 sec ブチ ノレ基、 tert ブチル基、 n ペンチル基、イソペンチル基、 2—メチルブチル基、ネオ ペンチル基、 n へキシル基、 4ーメチルペンチル基、 3 メチルペンチル基、 2 メ チルペンチル基、 3, 3—ジメチルブチル基、 1 , 1ージメチルブチル基、 1 , 3—ジメチ ノレブチル基、 2, 3 ジメチルブチル基、 1 ェチルブチル基、 1ーメチルー 1ーェチ ノレプロピル基、 1 , 2—ジメチルブチル基、 2—メチルー 1 ェチルプロピル基、 2, 2 ージメチルブチル基等が挙げられ、 Examples of the straight-chain or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms include, for example, methyl group, ethyl group, n propyl group, isopropyl group, n butyl group, isobutyl group, sec butanol group, tert butyl group, n pentyl group, isopentyl group, 2-methylbutyl group, neopentyl group, n-hexyl group, 4-methylpentyl group, 3-methylpentyl group, 2-methylpentyl group, 3,3-dimethylbutyl group, 1,1-dimethylbutyl group, 1 , 3-dimethylenobutyl group, 2,3-dimethylbutyl group, 1-ethylbutyl group, 1-methyl-1-ethylenopropyl group, 1,2-dimethylbutyl group, 2-methyl-1-ethylpropyl group, 2,2-dimethylbutyl group, etc.
炭素数 1〜6の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシ基としては例えば、メトキシ基、 エトキシ基、 n プロポキシ基、イソプロポキシ基、 n ブトキシ基、イソブトキシ基、 se c ブトキシ基、 tert ブトキシ基、 n ペンチルォキシ基、イソペンチルォキシ基、 2 メチルブトキシ基、ネオペンチルォキシ基、 n へキシルォキシ基、 4ーメチルペン チル才キシ基、 3 メチノレペンチノレ才キシ基、 2 メチノレペンチノレ才キシ基、 3, 3— ジメチルブトキシ基、 1 , 1ージメチルブトキシ基、 1 , 3 ジメチルブトキシ基、 2, 3—
ジメチルブトキシ基、 1 ェチルブトキシ基、 1ーメチルー 1 ェチルプロポキシ基、 1 , 2—ジメチノレブトキシ基、 2—メチノレー 1ーェチノレプロポキシ基、 2, 2—ジメチノレブト キシ基等が挙げられ、 Examples of the linear or branched alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms include methoxy group, ethoxy group, n propoxy group, isopropoxy group, n butoxy group, isobutoxy group, se c butoxy group, tert butoxy group, n Pentyloxy group, isopentyloxy group, 2-methylbutoxy group, neopentyloxy group, n-hexyloxy group, 4-methylpentyl-oxy group, 3 methino-repentino-reoxy group, 2-methino-repentino-reoxy group, 3, 3— dimethylbutoxy group, 1, 1-dimethylbutoxy group, 1, 3 dimethylbutoxy group, 2, 3— Dimethylbutoxy group, 1-ethylbutoxy group, 1-methyl-1-ethylpropoxy group, 1,2-dimethylenobutoxy group, 2-methinole-1-ethinorepropoxy group, 2,2-dimethylenobutoxy group, etc.
ハロゲン原子としてはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ 炭素数 1〜6の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数 1〜6の直鎖状もしくは 分岐状のアルコキシ基、および、ハロゲン原子からなる群から選ばれる置換基で 1〜 3箇所置換されたフエニル基としては例えば、 2 メチルフエニル基、 3 メチルフエ二 ノレ基、 4 メチルフエニル基、 2, 3 ジメチルフエニル基、 2, 4 ジメチルフエニル基 、 2, 5 ジメチルフエニル基、 2, 6 ジメチルフエニル基、 3, 4 ジメチルフエニル基 、 3, 5 ジメチノレフエ二ノレ基、 2, 4, 6 トリメチノレフエ二ノレ基、 3, 4, 5 トリメチノレフ ェニル基、 2 ェチルフエニル基、 3 ェチルフエニル基、 4 ェチルフエニル基、 2, 3 ジェチルフエニル基、 2, 4 ジェチルフエニル基、 2, 6 ジェチルフエニル基、 3, 5 ジェチルフエニル基、 3, 4, 5 トリメチルフエニル基、 2— n—プロピルフエ二 ノレ基、 3 イソプロピルフエニル基、 2— n ブチルフエニル基、 4— tert ブチルフエ 二ノレ基、 3—イソペンチルフエ二ル基、 4 (1 , 1ージメチルプロピノレ)フエニル基、 4 —n へキシルフェニル基、 2 メトキシフエ二ル基、 3 メトキシフエ二ル基、 4ーメト キシフエニル基、 3, 4—ジメトキシフエ二ル基、 3—エトキシフエニル基、 4 エトキシ フエニル基、 3—イソプロポキシフエニル基、 4— tert ブトキシフエニル基、 3—メチ ルー 4ーメトキシフエ二ル基、 3—クロ口フエニル基等が挙げられる。 Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. A linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a linear or branched alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms. And a phenyl group substituted at 1 to 3 positions with a substituent selected from the group consisting of halogen atoms include, for example, 2 methylphenyl group, 3 methylphenyl group, 4 methylphenyl group, 2, 3 dimethylphenyl group, 2 , 4 Dimethyl phenyl group, 2, 5 Dimethyl phenyl group, 2, 6 Dimethyl phenyl group, 3, 4 Dimethyl phenyl group, 3, 5 Dimethino fenenore group, 2, 4, 6 Trimethino fenenore group, 3 , 4, 5 Trimethylolenyl, 2 ethenylphenyl, 3 ethenylphenyl, 4 ethenylphenyl, 2, 3 jetylphenyl, 2, 4 jetylphenyl, 2, 6 jetylphenyl Group, 3, 5 Jetyl phenyl group, 3, 4, 5 Trimethyl phenyl group, 2-n-propyl phenyl group, 3 Isopropyl phenyl group, 2-n Butyl phenyl group, 4-tert Butyl phenyl group, 3-Isoiso Pentylphenyl group, 4 (1,1-dimethylpropynole) phenyl group, 4 —n hexylphenyl group, 2 methoxyphenyl group, 3 methoxyphenyl group, 4-methoxyphenyl group, 3, 4-dimethoxyphenol Diyl group, 3-ethoxyphenyl group, 4 ethoxyphenyl group, 3-isopropoxyphenyl group, 4-tert-butoxyphenyl group, 3-methyl-4-methoxyphenyl group, 3-chlorophenyl group, etc. .
上記一般式(1)における Xのハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等 が挙げられるが、なかでも塩素原子、臭素原子が入手の容易さの観点から好ましい。 上記一般式(1)で表されるハロゲン化ベンゼン誘導体としては、例えば Examples of the halogen atom for X in the general formula (1) include a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom. Among them, a chlorine atom and a bromine atom are preferable from the viewpoint of easy availability. As the halogenated benzene derivative represented by the general formula (1), for example,
1 ,2—ジハロゲン化ベンゼン、 1 ,3—ジハロゲン化ベンゼン、 1 ,4ージハロゲン化ベン ゼン、 1 ,2,3 トリハロゲンィヒベンゼン、 1 ,2,4 トリハロゲンィヒベンゼン、 1 ,3,5—トリ ノヽロゲンィヒベンゼン、へキサノヽロゲンィヒベンゼン、 2—ァノレキノレノヽロゲンィヒベンゼン、 3 アルキルハロゲン化ベンゼン、 4 アルキルハロゲン化ベンゼン、 2 アルコキシ ノヽロゲン化ベンゼン、 3—アルコキシハロゲン化ベンゼン、 4 アルコキシハロゲン化
ベンゼン、 2 トリフルォロメチルハロゲン化ベンゼン、 3 トリフルォロメチルハロゲン 化ベンゼン、 4 トリフルォロメチルハロゲン化ベンゼン、 4 フエニルハロゲン化ベン ゼン、 3 フエ二ルー 1,2 ジハロゲン化ベンゼン、 4 フエ二ルー 1,2 ジハロゲン 化ベンゼン、 5 フエ二ルー 1,2 ジハロゲン化ベンゼン、 4 アルキルフエ二ルー 1, 2 ジハロゲン化ベンゼン、 5 アルコキシフエ二ルー 1,2 ジハロゲン化ベンゼン、 2 フェニル—1,3 ジハロゲン化ベンゼン、 4 -アルキルフェニル— 1, 3 ジハロゲ ン化ベンゼン、 5 フエ二ルー 1,3 ジハロゲン化ベンゼン、 2 アルコキシフエ二ノレ - 1,4-ジハロゲン化ベンゼン、 3—ハロゲン化フエ二ルー 1,4 ジハロゲン化べンゼ ン、 3 アルキル 1,2 ジハロゲン化ベンゼン、 4 アルキル 1,2 ジハロゲン化 ベンゼン、 5 アルキル 1,2 ジハロゲン化ベンゼン、 2 アルキル 1,3 ジハロ ゲン化ベンゼン、 4 アルキル 1,3—ジハロゲン化ベンゼン、 5—アルキル 1,3— ジハロゲン化ベンゼン、 2 アルキル 1,4ージハロゲン化ベンゼン、 3 アルキル 1,4ージハロゲン化ベンゼン、 3 アルコキシ 1,2 ジハロゲン化ベンゼン、 4ーァ ノレコキシ 1, 2—ジハロゲン化ベンゼン、 5—ァノレコキシ 1, 2—ジハロゲン化べンゼ ン、 2 アルコキシ 1,3 ジハロゲン化ベンゼン、 4 アルコキシ 1,3 ジハロゲ ンィ匕ベンゼン、 5 ァノレコキシ 1,3 ジハロゲンィヒベンゼン、 2 ァノレコキシ 1,4 ージハロゲン化ベンゼン、 3—アルコキシ 1,4ージハロゲン化ベンゼン、 3—トリフノレ ォロメチルー 1,2 ジハロゲン化ベンゼン、 4 トリフルォロメチルー; 1,2 ジハロゲン 化ベンゼン、 5 トリフルォロメチルー; 1,2 ジハロゲン化ベンゼン、 2 トリフルォロメ チノレー 1, 3—ジハロゲン化ベンゼン、 4 トリフルォロメチル 1, 3—ジハロゲン化べ ンゼン、 5 トリフルォロメチルー; 1,3 ジハロゲン化ベンゼン、 2 トリフルォロメチル - 1,4-ジハロゲン化ベンゼン、 3—トリフルォロメチルー 1,4 ジハロゲン化べンゼ ン、 3 フエ二ルー 1,2 ジハロゲン化ベンゼン、 4 アルキルフエ二ルー 1,2 ジハ ロゲン化ベンゼン、 5 フエ二ルー 1,2 ジハロゲン化ベンゼン、 2 フエ二ルー 1,3 ージハロゲン化ベンゼン、 2 アルキルフエ二ルー 1,3 ジハロゲン化ベンゼン、 2— アルコキシフエ二ルー 1,3—ジハロゲン化ベンゼン、 4—フエ二ルー 1,3—ジハロゲン 化ベンゼン、 5—フエ二ルー 1,3—ジハロゲン化ベンゼン、 5—ハロゲン化フエ二ルー 1,3 ジハロゲン化ベンゼン、 2 フエ二ルー 1,4ージハロゲン化ベンゼン、 3 ァノレ
キルフエ二ルー 1,4ージハロゲン化ベンゼン、 2,3 ジアルキルハロゲン化ベンゼン、 2,4 ジアルキルハロゲン化ベンゼン、 2, 5 ジアルキルハロゲン化ベンゼン、 2,6— ジアルキルハロゲン化ベンゼン、 3,4—ジアルキルハロゲン化ベンゼン、 3,5—ジアル キルハロゲン化ベンゼン、 2,3 ジアルコキシハロゲン化ベンゼン、 2,4 ジアルコキ シハロゲン化ベンゼン、 2,5 ジアルコキシハロゲン化ベンゼン、 2,6 ジアルコキシ ノヽロゲン化ベンゼン、 3,4—ジアルコキシハロゲン化ベンゼン、 3,5—ジアルコキシノヽ ロゲン化ベンゼン、 2,4 ジトリフルォロメチルハロゲン化ベンゼン、 3,5—ジトリフノレ ォロメチルハロゲン化ベンゼン、 2 アルキル 3 アルコキシハロゲン化ベンゼン、 2 アルキル 4 アルコキシハロゲン化ベンゼン、 2 アルキル 5 アルコキシハ ロゲン化ベンゼン、 2 アルキル 6 アルコキシハロゲン化ベンゼン、 3 アルキノレ 4 アルコキシハロゲン化ベンゼン、 3—アルキル 5—アルコキシハロゲン化ベン ゼン、 2 アルキルー4 フエニルハロゲン化ベンゼン、 2 アルキルー4 アルキル フエニルハロゲン化ベンゼン、 2 アルキル 4 アルコキシフエニルハロゲン化ベン ゼン、 2 アルキル— 6 フエニルハロゲン化ベンゼン、 3 アルキル— 5 ハロゲン 化フエニルハロゲン化ベンゼン、 2 アルコキシ 4 フエニルハロゲン化ベンゼン、 2 -アルコキシ 6—フエニルハロゲン化ベンゼン、 3 -アルコキシ 5 -アルキルフ ェニルハロゲン化ベンゼン、 2,3,4 トリアルキルハロゲン化ベンゼン、 3,4,5—トリア ノレキルハロゲン化ベンゼン、 2,3,4 トリアルコキシハロゲン化ベンゼン、 3,4,5—トリ アルコキシハロゲン化ベンゼンなどが挙げられる。 1,2-dihalogenated benzene, 1,3-dihalogenated benzene, 1,4-dihalogenated benzene, 1,2,3 trihalogen benzene, 1,2,4 trihalogen benzene, 1,3, 5-trichlorobenzene, hexanologenbenzene, 2-alkyleno-benzene, 3-alkyl halogenated benzene, 4-alkyl halogenated benzene, 2-alkoxy halogenated benzene, 3-alkoxy halogenated Benzene, 4-alkoxy halogenated Benzene, 2 trifluoromethyl halogenated benzene, 3 trifluoromethyl halogenated benzene, 4 trifluoromethyl halogenated benzene, 4 phenyl halogenated benzene, 3 phenyl 1,2 dihalogenated benzene, 4 phenol 2-luo 1,2 dihalogenated benzene, 5-phenyl di-luodium 1,2 di-halogenated benzene, 4 alkyl phenyl di-roodium 1, 2 di-halogenated benzene, 5-alkoxy phenol di-roodium 1,2 di-halogenated benzene, 2-phenyl-1,3 dihalogen Benzene, 4-alkylphenyl- 1,3 dihalogenated benzene, 5 phenyl 1,3 dihalogenated benzene, 2 alkoxy phenylolene, 1,4-dihalogenated benzene, 3-halogenated phenyl 1,3 4 Dihalogenated benzene, 3 Alkyl 1,2 Dihalogenated benzene, 4 Alkyl 1,2 Dihalogenated benzene, 5 Luky 1,2 dihalogenated benzene, 2 alkyl 1,3 dihalogenated benzene, 4 alkyl 1,3-dihalogenated benzene, 5-alkyl 1,3-dihalogenated benzene, 2 alkyl 1,4-dihalogenated benzene, 3 alkyl 1,4-dihalogenated benzene, 3 alkoxy 1,2 dihalogenated benzene, 4-ananoloxy 1,2-dihalogenated benzene, 5-an alcoholoxy 1,2-dihalogenated benzene, 2 alkoxy 1,3 dihalogenated benzene, 4 Alkoxy 1,3 dihalogenated benzene, 5 Ananoloxy 1,3 Dihalogen benzene, 2 Ananoloxy 1,4-Dihalogenated benzene, 3-Alkoxy 1,4-Dihalogenated benzene, 3-Trifluoromethyl-1,2, Dihalogenated benzene, 4 trifluoromethyl-1,2 dihalogenated benzene, 5 trifluoromethyl- 1,2 dihalogenated benzene, 2 trifluoromethylolene 1,3-dihalogenated benzene, 4 trifluoromethyl 1,3-dihalogenated benzene, 5 trifluoromethyl; 1,3 dihalogenated benzene, 2 trifluoromethyl -1,4-dihalogenated benzene, 3-trifluoromethyl-1,4 dihalogenated benzene, 3 phenyl 1,2 dihalogenated benzene, 4 alkyl phenyl benzene 1,2 dihalogenated benzene, 5 phenyl 1,2-dihalogenated benzene, 2 phenyl 1,3-dihalogenated benzene, 2 alkyl phenyl, 1,3 dihalogenated benzene, 2-alkoxy phenyl 1,3-dihalogenated benzene, 4-phenyl two 1 , 3-Dihalogenated benzene, 5-Fluorine 1,3-Dihalogenated benzene, 5-Halogenated phenyl 1,3 Dihalogenated benzene, 2 Phenyl Over 1,4 Jiharogen benzene, 3 Anore Kirufeniru 1,4-dihalogenated benzene, 2,3 dialkyl halogenated benzene, 2,4 dialkyl halogenated benzene, 2,5 dialkyl halogenated benzene, 2,6-dialkyl halogenated benzene, 3,4-dialkyl halogenated Benzene, 3,5-dialkyl halogenated benzene, 2,3 dialkoxy halogenated benzene, 2,4 dialkoxy halogenated benzene, 2,5 dialkoxy halogenated benzene, 2,6 dialkoxy halogenated benzene, 3, 4-Dialkoxy halogenated benzene, 3,5-Dialkoxy halogenated benzene, 2,4 Ditrifluoromethyl halogenated benzene, 3,5-Ditrifluoromethyl halogenated benzene, 2 Alkyl 3 alkoxy halogenated benzene , 2 alkyl 4 alkoxy halogenated benzene, 2 alkyl 5 alkoxy Rogenated benzene, 2 alkyl-6 alkoxy halogenated benzene, 3 alkynole 4 alkoxy halogenated benzene, 3-alkyl 5-alkoxy halogenated benzene, 2 alkyl-4 phenyl halogenated benzene, 2 alkyl-4 alkyl phenyl halogenated benzene, 2 alkyl 4 alkoxyphenyl halogenated benzene, 2 alkyl-6 phenyl halogenated benzene, 3 alkyl-5 halogenated phenyl halogenated benzene, 2 alkoxy 4 phenyl halogenated benzene, 2-alkoxy 6-phenyl halogen Benzene, 3 -alkoxy 5 -alkylphenyl halogenated benzene, 2,3,4 trialkyl halogenated benzene, 3,4,5-triazolealkyl halogenated benzene, 2,3,4 trialkoxy halogenated benzene, 3 , 4,5-Trialkoxyhalo Such as emissions of benzene, and the like.
本段落において、ジハロゲン化という場合、 2つのハロゲン原子は同一であっても異 なっていてもよい。 In this paragraph, when referring to dihalogenation, the two halogen atoms may be the same or different.
さらに具体的には、クロ口ベンゼン、ブロモベンゼン、フルォロベンゼン、ョードベン ゼン、 1,2—ジクロロベンゼン、 1,3—ジクロロベンゼン、 1 , 4—ジクロロベンゼン、 1,3 —ジフノレオ口ベンゼン、 1—ブロモ 2 クロ口ベンゼン、 1—ブロモ 3 クロ口ベン ゼン、 1—ブロモ 4—クロ口ベンゼン、 1—フノレオロー 2—クロ口ベンゼン、 1—フノレオ 口一 3 クロ口ベンゼン、 1—フノレオ口一 4 クロ口ベンゼン、 1—ョード 2 クロ口べ ンゼン、 1ーョードー 3—クロ口ベンゼン、 1ーョードー 4 クロ口ベンゼン、 1 ブロモ 2 フノレ才ロベンゼン、 1ーブロモー 3 フノレ才ロベンゼン、 1ーブロモー 4ーフノレ
ォロベンゼン、 1ーブロモー 2 ョードベンゼン、 1ーブロモー 3 ョードベンゼン、 1 —ブロモー 4 ョードベンゼン、 1—フノレオロー 2 ョードベンゼン、 1—フノレオロー 3 ョードベンゼン、 1ーフノレオロー 4 ョードベンゼン、 1 ,3,5—トリクロ口ベンゼン、 1 ーブロモー 3,5 ジクロ口ベンゼン、 1ーブロモー 2, 4 ジフルォロベンゼン、 1ーブ 口モー 3,5—ジフノレオ口ベンゼン、ブロモペンタフノレォロベンゼン、ペンタフノレォロヨ ードベンゼン、 2 ブロモトノレェン、 3 ブロモトノレェン、 4ーブロモトノレェン、 2 クロ 口トルエン、 3 クロ口トルエン、 4 クロロトノレェン、 2 フルォロトルエン、 3 フルォ 口トルエン、 4 フルォロトルエン、 2 ョードトノレェン、 3 ョードトノレェン、 4ーョードト ノレェン、 2 ブロモー n—プロピノレベンゼン、 3 ブロモーイソプロピノレベンゼン、 4 ブロモー tert ブチノレベンゼン、 2 クロローイソプロピノレベンゼン、 3 クロロー n— ブチノレベンゼン、 4 クロロー tert ブチノレベンゼン、 4ーョードー tert ブチノレベン ゼン、 3 フノレオロー tert ブチノレベンゼン、 4— n へキシノレフノレオ口ベンゼン、 2, 3 ジクロ口トルエン、 2, 4 ジクロ口トルエン、 2, 5 ジクロ口トルエン、 2, 6 ジクロ 口トルエン、 3, 4 ジクロ口トルエン、 3, 5 ジクロ口トルエン、 2, 3 ジブ口モトルェ ン、 2, 4 ジブ口モトノレェン、 2, 5 ジブ口モトノレェン、 2, 6 ジブ口モトノレェン、 3, 4 ジブロモトルエン、 3, 5 ブロモトルエン、 2 ブロモー 3 クロ口トルエン、 2 ブ 口モー 4 クロロトノレェン、 2 フ、、口モー 5 クロロトノレェン、 2 フ、、口モー 6 クロロトノレ ェン、 3 ブロモー 5 クロ口トルエン、 2 フルオロー 6 ブロモトルエン、 2 フルォ ロー 4 クロロトノレェン、 2 ブロモー 6 ョードトノレェン、 2 クロロー 6 ョードトノレエ ン、 2,4,6 トリクロ口トルエン、 2, 4 ジクロロフェニルベンゼン、 2, 6 ジクロロフエ ニノレベンゼン、 3 ブロモ 5 クロ口一フエニノレベンゼン、 2 ブロモアニソーノレ、 3 —ブロモアニソーノレ、 4 ブロモアニソーノレ、 2 クロロアニソーノレ、 3 クロロア二ソ 一ノレ、 4 クロロアニソーノレ、 2 フノレオロアニソーノレ、 4ーフノレオロアニソーノレ、 2 ョ 一ドアニソール、 3 ョードアニソール、 2 エトキシブロモベンゼン、 3 エトキシクロ 口ベンゼン、 4— n—プロポキシフルォロベンゼン、 2 クロ口べンゾトリフルオライド、 3 クロ口べンゾトリフルオライド、 4 クロ口べンゾトリフルオライド、 2 ブロモベンゾトリ
ベンゼン、 2, 4 ジメチルクロ口ベンゼン、 3, 4 ジメチルクロ口ベンゼン、 3, 5 ジ メチルクロ口ベンゼン、 2, 4 ジメチルフルォロベンゼン、 3, 5 ジェチルブロモベン ゼン、 2 フエニノレブロモベンゼン、 3 フエニノレブロモベンゼン、 4 フエニノレブロモ ベンゼン、 2 フエニノレクロロベンゼン、 3 フエニノレクロロベンゼン、 4ープ'口モーフエ ニノレベンゼン、 2 フエニノレフノレォロベンゼン、 4 フエニノレョードベンゼン、 2— (2 - メチルフエニル)ブロモベンゼン、 3—(3 メチルフエニル)ブロモベンゼン、 2—(2— メチルフエ二ノレ)クロ口ベンゼン、 4一(4 メチルフエ二ノレ)ブロモベンゼン、 4一(4 t ert ブチノレフエニノレ)フノレオ口ベンゼン、 4一(4— tert ブチノレフエニノレ)クロ口ベン ゼン、 4一(4— tert ブチルフエ二ノレ)ョードベンゼン、 4一(4— tert ブチルフエ二 ノレ) 1 , 3 ジクロロベンゼン、 2 - (3 メトキシフエ二ノレ)ブロモベンゼン、 4— (4— t ert—ブトキシフエニノレ)フノレオ口ベンゼン、 4一(4— tert ブトキシフエニノレ)クロ口べ ンゼン、 4一(4— tert ブトキシフエ二ノレ)ョードベンゼン、 4一(2 クロ口フエニル) More specifically, chlorobenzene, bromobenzene, fluorobenzene, odobenzene, 1,2-dichlorobenzene, 1,3-dichlorobenzene, 1,4-dichlorobenzene, 1,3-difunoleobenzene, 1-bromo 2 Black mouth benzene, 1-Bromo 3 Black mouth benzene, 1-Bromo 4—Black mouth benzene, 1—Funoleo 2—Black mouth benzene, 1—Funoleo One mouth 3 Chlo mouth benzene, 1—Funoleo mouth one 4 Head Benzene, 1-odd 2 Black mouth benzene, 1-yod 3-Black-mouthed benzene, 1-yod 4 Black-mouthed benzene, 1 Bromo 2 Funole-aged lobenzene, 1-Bromo 3 Funore-aged robenzene, 1-Bromo 4-Funore O-benzene, 1-bromo-2 oodobenzene, 1-bromo-3 oodobenzene, 1—bromo-4 oodobenzene, 1—funoleoro 2 oodobenzene, 1—funoleolo 3 oodobenzene, 1-nooroleo 4 oodobenzene, 1,3,5—trichloro-benzene, 1-bromo 3,5 Dichlorodiethyl benzene, 1-bromo-2,4 difluorobenzene, 1-diethyl methane 3,5-diphenolobenzene, bromopentafluorobenzene, pentafluororeobenzene, 2 bromotonolene, 3 bromotonolene, 4-bromotonolene 2 chlorotoluene, 3 chlorotoluene, 4 chlorotoluene, 2 fluorotoluene, 3 fluorotoluene, 4 fluorotoluene, 2 ydnotorenen, 3 iodotonoren, 4 iodotonorenen, 2 bromon—propinole , 3 bromo-isopropino benzene, 4 bromo-tert butynolebenzene, 2 chloro-isopropino benzene, 3 chloro-n-butino benzene, 4 chloro-tert butino benzene, 4 odo tert butinoreben sen, 3 funoleol tert butino benzene , 4-n hexenorefnoroleo benzene, 2, 3 dichroic toluene, 2, 4 dichroic toluene, 2, 5 dichroic toluene, 2, 6 dichroic toluene, 3, 4 dichroic toluene, 3, 5 dichroic toluene 2, 3 Jib mouth moto noren, 2, 4 Jib mouth moto noren, 2, 5 Jib mouth moto noren, 2, 6 Jib mouth moto no ren, 3, 4 dibromo toluene, 3, 5 bromotoluene, 2 bromo 3 Mouth Mor 4 Chlorotonolene, 2F, Mouth Moe 5 Chlorotolenen, 2F, Mouth Mor 6 Chlorotono 2, 3 Bromo-5 chlorotoluene, 2 Fluoro-6 bromotoluene, 2 Fluoro4 chlorotolenene, 2 bromo-6 ododonorene, 2 chloro-6 ododonorene, 2,4,6 Trichloromouth toluene, 2, 4 dichlorophenylbenzene, 2, 6 Dichlorophenol Ninobenzene, 3 Bromo 5 Black mouth phenylobenzene, 2 Bromoanisonore, 3 —Bromoanisonore, 4 Bromoanisonore, 2 Chloroanisonore, 3 Chloroanisonore, 4 Chloroanisole Sonore, 2-Hunoleoloanisonore, 4-Hunoleoloanisonore, 2-Hanianisole, 3-Hodoanisole, 2-Ethoxybromobenzene, 3-Ethoxychlorobenzene, 4-n-propoxyfluorobenzene, 2-Black Nzotrifluoride, 3 Black Mouth Benzotrifluoride, 4 Black mouth Benzotrifluoride, 2 Bromobenzotri Benzene, 2,4 Dimethylchlorobenzene, 3,4 Dimethylchlorobenzene, 3,5 Dimethylchlorobenzene, 2,4 Dimethylfluorobenzene, 3,5 Jetyl bromobenzene, 2 Phenylol bromobenzene, 3 Phenylol bromobenzene, 4 Phenyl bromobenzene, 2 Phenyl chlorobenzene, 3 Phenyl chlorobenzene, 4 ph 'mouth morpheno benzene, 2 Phenyl chloro benzene, 4 Phenyl chlorobenzene, 2— (2 -Methylphenyl) bromobenzene, 3- (3 methylphenyl) bromobenzene, 2- (2-methylphenyl) chlorobenzene, 4-one (4-methylphenol) bromobenzene, 4-one (4 tert butynolephenol) Funoleo-mouth benzene, 4-one (4-tert-butynolefuenore) black-mouthed benzene, 4-one (4-tert-butyl) Eninore) odobenzene, 4-one (4-tert-butylphenol) 1, 3 dichlorobenzene, 2- (3 methoxyphenol) bromobenzene, 4- (4-tert-butoxyphenol) oleoreno benzene, 4 1- (4-tert-butoxyphenyl) black benzene, 4- (4-tert-butoxyphenyl) chlorobenzene, 4-one (2-chlorobutenyl)
[0013] 上記一般式(2)で表される低級アルカンチオールのアルカリ金属塩に関し、 Rはメ [0013] Regarding the alkali metal salt of the lower alkanethiol represented by the general formula (2), R is
6 チル基あるいはェチル基を表し、アルカリ金属陽イオンとは、リチウムイオン、ナトリウ ムイオン、カリウムイオン、ノレビジゥムイオン、セシウムイオン等を表す。 6 represents a til group or an ethyl group, and the alkali metal cation represents a lithium ion, a sodium ion, a potassium ion, a noredium ion, a cesium ion or the like.
上記一般式(2)で表される低級アルカンチオールのアルカリ金属塩としては、例え ば、メタンチオールのリチウム塩、メタンチオールのナトリウム塩、メタンチオールの力 リウム塩、エタンチオールのリチウム塩、エタンチオールのナトリウム塩、エタンチォ一 ルのカリウム塩等が挙げられる。 Examples of the alkali metal salt of the lower alkanethiol represented by the general formula (2) include, for example, a lithium salt of methanethiol, a sodium salt of methanethiol, a power methanethiol salt, a lithium salt of ethanethiol, and an ethanethiol. And sodium salt of ethane and the like.
[0014] 反応溶媒は、ハロゲン化ベンゼン誘導体と低級アルカンチオールアルカリ金属塩と の反応を界面活性剤を添加しなくとも可能にする溶媒であって、陽イオンへの親和性 が高く反応を促進する効果の観点で、非プロトン性極性溶媒であることが好ましぐ非 プロトン性極性溶媒としては、 1 , 3 ジメチルー 2 イミダゾリジノン、 N メチルー 2 —ピロリジノン、 N, N ジメチルホルムアミド、 N, N ジメチルァセトアミド、へキサメ チルホスホリックトリアミド等のアミド系溶媒;ジメチルスルホキシドまたはホスホラン等 のスルホキシドまたはスルホン系溶媒;ピリジン; 2 メチルピリジン、 3 メチルピリジ ン、 4 メチルピリジン、 2, 6 ジメチルビリジン、 2, 4 ジメチルビリジン等の 1〜5個
の炭素数 1〜6の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基により置換されたピリジン;キノリ ン;ならびに、 2 メチルキノリン等の 1〜5個の炭素数 1〜6の直鎖状もしくは分岐状 のアルキル基により置換されたキノリンからなる群より選択される 1種以上の溶媒を使 用すること力 Sでさる。 [0014] The reaction solvent is a solvent that enables a reaction between a halogenated benzene derivative and a lower alkanethiol alkali metal salt without adding a surfactant, and has a high affinity for a cation and promotes the reaction. Aprotic polar solvents that are preferably aprotic polar solvents from the standpoint of effectiveness include 1,3 dimethyl-2 imidazolidinone, N methyl-2-pyrrolidinone, N, N dimethylformamide, N, N dimethyl Amide solvents such as acetoamide and hexamethylphosphoric triamide; Sulfoxide or sulfone solvents such as dimethyl sulfoxide or phosphorane; Pyridine; 2 Methyl pyridine, 3 Methyl pyridine, 4 Methyl pyridine, 2, 6 dimethyl pyridine, 2 , 4 1-5 such as dimethyl pyridine Pyridine substituted with a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; quinoline; and 1 to 5 linear or branched carbon atoms having 1 to 6 carbon atoms such as 2 methylquinoline Use force S to use one or more solvents selected from the group consisting of quinoline substituted with alkyl groups.
[0015] 反応溶媒は、原料であるハロゲン化ベンゼン誘導体に対し質量比で 0. ;!〜 100倍 量の範囲が通常使用されるが、好ましくは、 0. 5〜; 10倍量の範囲である。 [0015] The reaction solvent is usually used in a mass ratio of from 0.5 to 100 times the mass ratio of the halogenated benzene derivative as the raw material, but preferably from 0.5 to 10 times the amount. is there.
[0016] 本発明の製造方法において、ハロゲン化ベンゼン誘導体と低級アルカンチオール アルカリ金属塩との反応は、低級アルカンチオールアルカリ金属塩の水溶液由来の 水を、共沸溶媒と共に蒸留、留出させることにより、反応系から継続的に除去しながら 行う。 In the production method of the present invention, the reaction between the halogenated benzene derivative and the lower alkanethiol alkali metal salt is performed by distilling and distilling water derived from the aqueous solution of the lower alkanethiol alkali metal salt together with the azeotropic solvent. , While removing continuously from the reaction system.
[0017] 水の除去の方法としては、例えば、実験室的に通常用いられる Dean— Stark (ディ ーン 'スターク)装置もしくはこれに類似する装置を使用して、留出してくる共沸溶媒と 水との混合物を分液し、水のみが除去される仕組みを利用して行うことができる。この とき、分離した共沸溶媒は反応系に戻すことができる。 [0017] As a method for removing water, for example, using a Dean-Stark apparatus usually used in a laboratory or a similar apparatus, an azeotropic solvent distilled off can be used. Separation of the mixture with water can be performed using a mechanism in which only water is removed. At this time, the separated azeotropic solvent can be returned to the reaction system.
[0018] したがって、共沸溶媒は、水への溶解度が低く速やかに水と層分離するものが好ま しい。このような溶媒としては、ベンゼン;炭素数 1〜6の直鎖状もしくは分岐状のアル キル基、炭素数 1〜6の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシ基、もしくは、トリフルォロ メチル基から選ばれる 1〜3個の置換基で置換されたベンゼン類;炭素数 5〜; 15の直 鎖状、分岐状もしくは環状の脂肪族アルカン類;炭素数 5〜; 15の直鎖状、分岐状もし くは環状のエーテル類;および、一般式(1)であらわされるハロゲン化ベンゼン誘導 体からなる群より選択される 1種以上の溶媒が好ましい。 [0018] Therefore, it is preferable that the azeotropic solvent has a low solubility in water and quickly separates from water. Such a solvent is selected from benzene; a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a linear or branched alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or a trifluoromethyl group. Benzenes substituted with 1 to 3 substituents; 5 to 15 carbon atoms; linear, branched or cyclic aliphatic alkanes having 15 to 15 carbon atoms; Is preferably one or more solvents selected from the group consisting of cyclic ethers; and halogenated benzene derivatives represented by the general formula (1).
ベンゼン類の例としては、例えば、ベンゼン、トルエン、オルトキシレン、メタキシレン 、ノ ラキシレン、メシチレン、ェチノレベンゼン、イソプロピノレベンゼン、ベンゾトリフノレオ ライド、ァニソール等が挙げられる。 Examples of benzenes include, for example, benzene, toluene, orthoxylene, metaxylene, noraxylene, mesitylene, ethynolebenzene, isopropylenobenzene, benzotrinoleolide, and anisole.
脂肪族アルカン類の例としては、 n へキサン、 n—ヘプタン、 n—オクタン、 n デ カン、イソオクタン、シクロペンタン、シクロへキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、 シクロノナン、シクロデカン、デカリンまたはメチルシクロへキサン等が挙げられる。 エーテル類の例としては、メチルー tert ブチルエーテル、ジ n—プロピルエー
テノレ、ジー n—ブチノレエーテノレ、ジー tert—ブチノレエーテノレ、ェチノレ n—ブチノレエ一 テル、シクロペンチルメチルエーテル、 1 , 2—ジメトキシプロパン、 1 , 3—ジメトキシプ 口パン、 1 , 2—ジメトキシブタン、ジエチレングリコールジー n—ブチルエーテル等が 挙げられる。 Examples of aliphatic alkanes include n-hexane, n-heptane, n-octane, n-decane, isooctane, cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane, cyclooctane, cyclononane, cyclodecane, decalin, methylcyclohexane, etc. Is mentioned. Examples of ethers include methyl-tert butyl ether, di-n-propyl ether. Tenole, G-n-Butinoreetenole, G-tert-Butinoreetenore, Ethenore n-Butinoreether, Cyclopentyl methyl ether, 1,2-Dimethoxypropane, 1,3-Dimethoxybutane bread, 1,2-Dimethoxybutane And diethylene glycol di-n-butyl ether.
これらの溶媒の中でも、水との共沸混合物中の水の割合が比較的高ぐかつ水より 比重が小さく混合した場合には分離して上層となる溶媒、例えば、ベンゼン、トルエン 、オルトキシレン、メタキシレンおよびパラキシレンからなる群より選ばれる 1種以上の 溶媒が脱水効率、 、ては反応効率の面および操作性の面から好まし!/、。 Among these solvents, when the proportion of water in the azeotrope with water is relatively high and the specific gravity is smaller than that of water, it is separated into an upper solvent such as benzene, toluene, orthoxylene, One or more solvents selected from the group consisting of meta-xylene and para-xylene are preferred from the viewpoints of dehydration efficiency, reaction efficiency, and operability! /.
また、反応基質である上記一般式(1)で表されるハロゲン化ベンゼン誘導体が水と 共沸可能である場合、それ自身を共沸溶媒として使用し、特に前記の共沸溶媒を別 途添加せずに当該反応をおこなうことも可能である力 通常は、水をより効率的に除 去するため、反応基質であるハロゲン化ベンゼン誘導体より低沸点の共沸溶媒を別 途添加して行う。 In addition, when the halogenated benzene derivative represented by the general formula (1), which is the reaction substrate, can be azeotroped with water, it is used as an azeotropic solvent, and the azeotropic solvent is added separately. The ability to carry out the reaction without the addition. Usually, in order to remove water more efficiently, an azeotropic solvent having a lower boiling point than the halogenated benzene derivative as the reaction substrate is added separately.
共沸溶媒の添加量は、低級アルカンチオールアルカリ金属塩の水溶液の添加中に 、水溶液由来の水と共沸溶媒との混合物の還流が維持される量であり、反応器の容 量などにより異なる力 S、後述する反応溶媒との比率の範囲内で添加することが好まし い。 The addition amount of the azeotropic solvent is an amount by which the reflux of the mixture of water and the azeotropic solvent derived from the aqueous solution is maintained during the addition of the aqueous solution of the lower alkanethiol alkali metal salt, and varies depending on the capacity of the reactor. It is preferable to add within the range of the force S and the ratio with the reaction solvent described later.
更に、前記した反応溶媒と、共沸溶媒とをそれぞれ任意に複数混合して使用するこ ともできる。通常、反応溶媒と共沸溶媒とを各一種類ずつ混合して使用することが溶 媒の回収および経済性の面から望ましい。 Furthermore, the above-described reaction solvent and azeotropic solvent can be arbitrarily mixed and used. Usually, it is desirable to use a mixture of a reaction solvent and an azeotropic solvent one by one from the viewpoint of solvent recovery and economy.
また、反応性の面から、反応溶媒と共沸溶媒との比率は、反応開始時の質量比で、 反応溶媒:共沸溶媒 = 200 :;!〜 1: 1の範囲が使用される力 好ましくは、 20 :;!〜 2 : 1の範囲であり、更に好ましくは、 8 :;!〜 3 : 1の範囲である。 From the standpoint of reactivity, the ratio of the reaction solvent to the azeotropic solvent is the mass ratio at the start of the reaction, and the reaction solvent: azeotropic solvent = 200:;! Is in the range of 20:;! To 2: 1, more preferably in the range of 8:;! To 3: 1.
反応溶媒:共沸溶媒 = 1: 1より共沸溶媒が多くなる場合は、脱水効率は向上するが 、反応溶媒の相対量が減少するため反応性が低下する場合がある。逆に、反応溶媒 :共沸溶媒 = 200 : 1より共沸溶媒が少ない場合は、脱水が効率的に行われず、その 結果、残存する水分が増加するため反応性が低下する場合がある。この場合脱水効 率を上げるためには反応温度を高くしたり、反応時間を延ばす必要がある力 副反
応が増加する等の問題を生じる。したがって、効率的に脱水をおこない、かつ充分な 反応性を維持するためには、反応溶媒と共沸溶媒との比率は上記の範囲とすること が好ましい。 Reaction solvent: Azeotropic solvent = When the azeotropic solvent is larger than 1: 1, dehydration efficiency is improved, but the relative amount of the reaction solvent is decreased, so that the reactivity may be lowered. Conversely, when the amount of azeotropic solvent is less than reaction solvent: azeotropic solvent = 200: 1, dehydration is not performed efficiently, and as a result, the remaining moisture increases and the reactivity may decrease. In this case, it is necessary to increase the reaction temperature or extend the reaction time in order to increase the dehydration efficiency. This causes problems such as increased response. Therefore, in order to efficiently perform dehydration and maintain sufficient reactivity, the ratio of the reaction solvent to the azeotropic solvent is preferably within the above range.
共沸溶媒が反応基質である上記一般式(1)で表されるハロゲン化ベンゼン誘導体 と同一であり、それ以外の上述した群に属する共沸溶媒を別途添加しない場合、反 応溶媒と共沸溶媒との上記比率の規定において、「共沸溶媒」は上記一般式(1)で 表されるハロゲン化ベンゼン誘導体を意味する。 If the azeotropic solvent is the same as the halogenated benzene derivative represented by the above general formula (1), which is the reaction substrate, and other azeotropic solvents belonging to the above group are not added separately, In the definition of the above ratio with the solvent, the “azeotropic solvent” means the halogenated benzene derivative represented by the general formula (1).
[0020] ハロゲン化ベンゼン誘導体と低級アルカンチオールアルカリ金属塩の水溶液との 反応温度は、好ましくは 50°C〜200°Cまでの温度が使用できる力 より好ましくは、 共沸溶媒の沸点、またはそれらの溶媒が水と共に留去できる温度が使用される。 [0020] The reaction temperature between the halogenated benzene derivative and the aqueous solution of the lower alkanethiol alkali metal salt is preferably a force capable of using a temperature of 50 ° C to 200 ° C, more preferably the boiling point of the azeotropic solvent, or The temperature at which the solvent can be distilled off with water is used.
[0021] 本発明の製造方法における、低級アルカンチオールアルカリ金属塩の水溶液の添 加方法の好ましい態様としては、式(1)化合物、反応溶媒および共沸溶媒を混合し、 共沸溶媒と添加される水溶液由来の水との混合物が速やかに還流するようにあらか じめ加熱しておき、低級アルカンチオールアルカリ金属塩の水溶液を添加することが 好ましい。そのとき、反応混合物中に含まれる水分が反応混合物全体に対して、実 質的に 10質量%以下となるよう、好ましくは実質的に 5質量%以下となるよう、更に好 ましくは、実質的に 3質量%以下となるよう、かつ共沸溶媒と水との混合物の還流が 維持されるように添加する。 In the production method of the present invention, a preferred embodiment of the method for adding an aqueous solution of a lower alkanethiol alkali metal salt includes mixing the compound of formula (1), a reaction solvent and an azeotropic solvent, and adding the mixture with the azeotropic solvent. It is preferable to add an aqueous solution of a lower alkanethiol alkali metal salt in advance so that the mixture with water derived from the aqueous solution is heated in advance so that the mixture rapidly refluxs. At that time, the moisture contained in the reaction mixture is substantially 10% by mass or less, preferably substantially 5% by mass or less, more preferably substantially less than 5% by mass with respect to the entire reaction mixture. Add 3% by mass or less so that the reflux of the mixture of azeotropic solvent and water is maintained.
ここで、実質的とは、収率に影響を及ぼさない範囲を意味し、具体的には添加され る低級アルカンチオールアルカリ金属塩水溶液の量に対して好ましくは 50質量%の 量以上を添加する範囲で、さらに好ましくは 80質量%の量以上を添加する範囲で、 最も好ましくは 90質量%の量以上を添加する範囲であることを指す。 Here, “substantially” means a range that does not affect the yield, and specifically, an amount of 50% by mass or more is preferably added to the amount of the lower alkanethiol alkali metal salt aqueous solution to be added. More preferably, it is a range in which an amount of 80% by mass or more is added, and most preferably a range in which an amount of 90% by mass or more is added.
すなわち、継続的に共沸脱水がおこなわれていれば、低級アルカンチオールアル カリ金属塩の水溶液を添加する際に、一時的に上記の水分量を越えることは許容さ れる。 That is, if azeotropic dehydration is continuously performed, it is allowed to temporarily exceed the above-mentioned water content when adding an aqueous solution of a lower alkanethiolalkali metal salt.
反応混合物中の水分量を管理するための具体的な添加方法としては、連続的な滴 下でも、一定量を間歇的に滴下または添加しても良ぐ添加される水の量と蒸留によ り留出する水の量を測定しながら行うと良い。連続滴下の場合は、水の添加量と留出
量がほぼ同量となるように滴下することが望ましぐ間歇添加の場合は、一回の添カロ により反応混合物中に添加される水分量が反応混合物全体の 10質量%を超えない ようにすること力 S望ましい。更に好ましくは 5質量%を超えないように、最も好ましくは 3 質量%を超えない範囲で添加すると良い。反応混合物中に含まれる水分を、速やか に 10質量%以下とすることにより、反応温度が上がり、充分に反応が進行し、高収率 での製造が可能となる。 As a specific method for controlling the amount of water in the reaction mixture, the amount of water to be added and the amount of water to be added, which can be dropped or added intermittently, either continuously or intermittently, are distilled. This should be done while measuring the amount of distilled water. In the case of continuous dripping, the amount of water added and distillate In the case of intermittent addition, where it is desirable to add dropwise so that the amount is almost the same amount, the amount of water added to the reaction mixture by one addition calorie should not exceed 10% by mass of the total reaction mixture The power to do S is desirable. More preferably, it should be added in a range not exceeding 5% by mass, and most preferably not exceeding 3% by mass. By quickly reducing the water content in the reaction mixture to 10% by mass or less, the reaction temperature rises, the reaction proceeds sufficiently, and high-yield production becomes possible.
低級アルカンチオールアルカリ金属塩水溶液の添加量は、反応に使用する基質で ある式(1 )化合物 1モルに対し、低級アルカンチオールアルカリ金属塩としてモル比 で好ましくは 0.;!〜 4倍量、より好ましくは 0. 5〜3倍量、さらに好ましくは 0. 7〜2倍 量が使用される。 The amount of the lower alkanethiol alkali metal salt aqueous solution added is preferably 0.;! To 4 times the amount of the lower alkanethiol alkali metal salt as a lower alkanethiol alkali metal salt with respect to 1 mol of the compound of the formula (1) which is the substrate used in the reaction. More preferably 0.5 to 3 times the amount is used, still more preferably 0.7 to 2 times the amount.
また、添加する低級アルカンチオールアルカリ金属塩水溶液は、市販品をそのまま 使用するか、あるいは、対応するアルカリ金属水酸化物の水溶液とアルカンチオール と力、ら別途調製したものを使用すること力できる。水溶液に含まれる低級アルカンチ オールアルカリ金属塩の濃度は、 1質量%〜80質量%の範囲が使用できる力 通常 は、 5質量%〜50質量%の範囲である。 As the lower alkanethiol alkali metal salt aqueous solution to be added, a commercially available product can be used as it is, or an aqueous solution of the corresponding alkali metal hydroxide, alkanethiol, and other components prepared separately can be used. The concentration of the lower alkanethiol alkali metal salt contained in the aqueous solution can be used in the range of 1% by mass to 80% by mass. Usually, the concentration is in the range of 5% by mass to 50% by mass.
本発明の製造方法は、必要に応じて、使用した低級アルカンチオールアルカリ金 属塩とアルキル基部分が同一である上記式(3)、式 (4)、または、式(5)で表されるァ ルキル化剤を添加してアルキル化することにより目的とする式(6)で表されるアルキ ルチオ基置換ベンゼン誘導体を得る第 2反応工程を含む。 The production method of the present invention is represented by the above formula (3), formula (4), or formula (5) where the alkyl group part is the same as the lower alkanethiol alkali metal salt used, if necessary. It includes a second reaction step in which the alkylthio group-substituted benzene derivative represented by the formula (6) is obtained by adding and alkylating an alkylating agent.
式(1 )で表される化合物と低級アルカンチオールアルカリ金属塩との反応が終了し た時点において、使用したアルカンチオールアルカリ金属塩の過剰量や反応温度に よっては、副反応として導入されたアルキルチオ基の一部が脱アルキル化されたチ オール誘導体が生成する場合もあるが、その場合においても前記した第 2反応工程 に示すように、アルキル化剤を添加することにより副生したチオール誘導体は容易に 式 ½)で表されるアルキルチオ基置換ベンゼン誘導体に変換することができ、 目的物 を高収率で得ることが可能となる。 When the reaction between the compound represented by formula (1) and the lower alkanethiol alkali metal salt is completed, depending on the excess amount of the alkanethiol alkali metal salt used and the reaction temperature, the alkylthiol introduced as a side reaction may be used. In some cases, a thiol derivative in which a part of the group is dealkylated is produced, but even in this case, as shown in the second reaction step, the thiol derivative by-produced by adding an alkylating agent is It can be easily converted into an alkylthio group-substituted benzene derivative represented by the formula (I), and the target product can be obtained in high yield.
アルキル化剤は、基質である式(1 )で表される化合物 1モルに対し、モル比で 0. 1 〜5. 0倍、好ましくは、 0. 3〜; 1. 5倍添加される。
アルキル化剤としては、式(3)、式 (4)、または式(5)で表される化合物のいずれで もよいが、好ましくは、式(3)の化合物であるアルキルノヽライド力 入手の容易性、経 済性の面で望ましい。 The alkylating agent is added in a molar ratio of 0.1 to 5.0 times, preferably 0.3 to 1.5 times with respect to 1 mol of the compound represented by the formula (1) as a substrate. The alkylating agent may be any of the compounds represented by formula (3), formula (4), or formula (5), but is preferably an alkylnolide power that is a compound of formula (3). Desirable in terms of ease and economy.
アルキル化剤によるアルキル化の反応温度は、好ましくは 0°C〜200°Cまでの温度 が使用できる力 より好ましくは、室温〜 100°Cまでである。 The reaction temperature of the alkylation with the alkylating agent is preferably a force at which a temperature from 0 ° C to 200 ° C can be used, more preferably from room temperature to 100 ° C.
[0023] 反応終了後は必要に応じて溶媒を減圧下に留去し、残渣に水を添加して分液する 、、あるいは有機溶剤を添加して抽出する等の方法により有機相を分離し、さらに必 要に応じて蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィー等の手段を用いて精製することに より、高純度のアルキルチオ基置換ベンゼン誘導体を高収率で得ることができる。 実施例 [0023] After completion of the reaction, the organic phase is separated by a method such as distilling off the solvent under reduced pressure as necessary, adding water to the residue for liquid separation, or adding an organic solvent for extraction. Further, if necessary, purification using means such as distillation, recrystallization, column chromatography and the like can provide a high-purity alkylthio group-substituted benzene derivative in a high yield. Example
[0024] 以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明するが、本発明は下記実施例に限 定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in detail based on examples, but the present invention is not limited to the following examples.
[実施例 1] 4 クロロチオア二ソールの製造 [Example 1] 4 Production of chlorothioanisole
2L容量の 4頸フラスコに 1 , 4 ジクロロベンゼン 147. Og (l . 0モノレ)、 1 , 3 ジメ チル— 2 イミダゾリジノン 640g、及びキシレン 210gを仕込み、窒素雰囲気下にマ ントルヒーターで内温 130°Cまで加温した。次に、 15%—メタンチオールナトリウム塩 水溶液 64gを一度に添加すると、共沸により還流が始まった。 Dean— Stark装置に より留出する水を除きながら、 135— 145°Cを保つように引続き 1時間かけて合計 11 Ogの 15%—メタンチオールナトリウム塩水溶液を滴下した力 滴下と同時に滴下量と ほぼ同量の水が留出した。 1時間で約 80gの水が留出される事を確認し、以後同様 に、留出量を確認しつつ滴下を続けた。 15% メタンチオールナトリウム塩水溶液合 計 561g (l . 2モル)を 7時間かけて滴下し、滴下終了後、同温度で 1時間熟成した( 反応混合物に対する水分量は実質的に 5質量%以下であった)。最終的に 467gの 水が留出した。次に室温まで冷却した後、クロロメタン 30. 2g (0. 6モル)を 25— 35 °Cで吹き込み、同温度で 1時間攪拌し、ガスクロマトグラフィーにて脱アルキル体が消 失し、全て標記化合物となっていることを確認して反応を終了した。反応液を 2L容量 のナスフラスコに移し、ロータリーエバポレーターにて減圧濃縮した。 Charge a 4-liter flask with 1,4 dichlorobenzene 147. Og (l.0 monole), 1,3 dimethyl-2-imidazolidinone 640 g, and xylene 210 g. Warmed to 130 ° C. Next, 64 g of 15% -methanethiol sodium salt aqueous solution was added all at once, and refluxing started by azeotropy. Dean—Stark apparatus was used to remove 135% of water, while maintaining the temperature at 135 ° -145 ° C. A force of dropping a total of 11 Og of 15% aqueous solution of sodium methanethiol over 1 hour. Almost the same amount of water distilled. After confirming that about 80 g of water was distilled in 1 hour, the dropping was continued in the same manner while checking the amount of distillation. A total of 561 g (l. 2 mol) of 15% aqueous methanethiol sodium salt solution was added dropwise over 7 hours, and after completion of the addition, the mixture was aged at the same temperature for 1 hour (the water content in the reaction mixture was substantially less than 5% by mass). there were). Finally, 467g of water distills. Next, after cooling to room temperature, 30.2 g (0.6 mol) of chloromethane was blown at 25-35 ° C and stirred for 1 hour at the same temperature. The dealkylated product disappeared by gas chromatography. The reaction was completed after confirming that the title compound was obtained. The reaction solution was transferred to a 2 L eggplant flask and concentrated under reduced pressure using a rotary evaporator.
残渣に水 900gおよびキシレン 520gを加え、室温で抽出した。水相を分液して除き、
有機相を水 600gで 2回洗浄した。ロータリーエバポレーターにより溶媒を留去し、濃 縮物 175. 3gを得た。減圧下に蒸留精製すると高純度の標記化合物が得られた。 900 g of water and 520 g of xylene were added to the residue and extracted at room temperature. The aqueous phase is separated and removed. The organic phase was washed twice with 600 g of water. The solvent was removed by a rotary evaporator to obtain 175.3 g of a concentrated product. Distillation and purification under reduced pressure yielded the highly pure title compound.
収量 139· 5g 収率 88· 0% (1. 4—ジクロロベンゼン某準) Yield 139 · 5g Yield 88 · 0% (1.4-dichlorobenzene level)
(1)沸点 114— 116°C/2400Pa (18torr) (1) Boiling point 114-116 ° C / 2400Pa (18torr)
(2) — NMRスペクトル( δ in CDC1 ) 7. 25, 6. 92 (dd, 4H)、 2. 36 (s, 3H) (2) — NMR spectrum (δ in CDC1) 7. 25, 6. 92 (dd, 4H), 2. 36 (s, 3H)
3 Three
[0025] [実施例 2] 2—クロロー 6—メチルチオトルエンの製造 [Example 2] Production of 2-chloro-6-methylthiotoluene
2L容量の 4頸フラスコに 2, 6—ジクロ口卜ノレェン 161. Og (l . 0モノレ)、 1 , 3—ジメチ ルー 2—イミダゾリジノン 640g、及びトルエン 160gを仕込み、窒素雰囲気下にマント ルヒーターで内温 130°Cまで加温した。次に、 20%—メタンチオールナトリウム塩水 溶液 35gを一度に添加すると、共沸により還流が始まった。 Dean— Stark装置により 留出する水を除きながら、 125— 135°Cを保つように 20%—メタンチオールナトリウム 塩水溶液の滴下を続けた。 1時間かけて合計 120gの量を滴下した力 S、滴下と同時に 滴下量とほぼ同量の水が留出した。 1時間で 79gの水が留出される事を確認し、以後 同様に、留出量を確認しつつ滴下を続けた。 20%—メタンチオールナトリウム塩水溶 液合計 527g (l . 5モル)を 7時間かけて滴下し、滴下終了後、同温度で 1時間熟成し た(反応混合物に対する水分量は実質的に 3質量%以下であった)。留出した水の 総量は 414gであった。次に室温まで冷却した後、クロロメタン 40. 0g (0. 8モル)を 2 5— 35°Cで吹き込み、同温度で 1時間攪拌し、ガスクロマトグラフィーにて脱メチル体 が消失し、全て標記化合物となっていることを確認して反応を終了した。反応液を 2L 容量のナスフラスコに移し、ロータリーエバポレーターにて減圧濃縮した。 A 2 L 4-neck flask was charged with 2,6-diclonal orifice 161. Og (l. 0 monole), 1,3-dimethyl 2-640 imidazolidinone, and 160 g of toluene. Heated to an internal temperature of 130 ° C with a heater. Next, 35 g of 20% sodium methanethiol salt solution was added all at once, and refluxing began by azeotropy. While removing the distilled water using a Dean-Stark apparatus, dropwise addition of a 20% -methanethiol sodium salt aqueous solution was continued so as to maintain 125-135 ° C. A force S in which a total amount of 120 g was dripped over 1 hour, and at the same time as dripping, approximately the same amount of water was distilled. After confirming that 79 g of water was distilled in 1 hour, the dropping was continued in the same manner while checking the amount of distillation. A total of 527 g (l.5 mol) of 20% -methanethiol sodium salt aqueous solution was added dropwise over 7 hours, and after completion of the addition, the mixture was aged at the same temperature for 1 hour (the water content in the reaction mixture was substantially 3% by mass). Below). The total amount of distilled water was 414g. Next, after cooling to room temperature, 40.0 g (0.8 mol) of chloromethane was blown at 25-35 ° C, stirred at the same temperature for 1 hour, and the demethylated product disappeared by gas chromatography. The reaction was completed after confirming that the title compound was obtained. The reaction solution was transferred to a 2 L eggplant flask and concentrated under reduced pressure using a rotary evaporator.
残渣に水 900gおよびトルエン 500gを加え、室温で抽出した。水相を分液して除き、 有機相を水 600gで 2回洗浄した。ロータリーエバポレーターにて溶媒を留去し、濃 縮物 166. 7gを得た。減圧下に蒸留精製すると高純度の標記化合物が得られた。 900 g of water and 500 g of toluene were added to the residue, and the mixture was extracted at room temperature. The aqueous phase was separated and the organic phase was washed twice with 600 g of water. The solvent was distilled off with a rotary evaporator to obtain 166.7 g of a concentrated product. Distillation and purification under reduced pressure yielded the highly pure title compound.
収量 144. 5g 収率 83. 7% (2. 6—ジクロ口トルエン某準) Yield 144.5 g Yield 83.7% (2.6 — Dichlorodiethyl toluene level)
(1)沸点 100— 101。C/800Pa (6torr) (1) Boiling point 100-101. C / 800Pa (6torr)
(Z^H— NMRスぺクトノレ( δ in CDC1 ) 7. 20— 6. 92 (m, 3H) 2. 40 (s, 3H) (Z ^ H—NMR spectrum (δ in CDC1) 7. 20— 6. 92 (m, 3H) 2. 40 (s, 3H)
3 Three
、 2. 32 (s, 3H) 2.32 (s, 3H)
[0026] [実施例 3] 2—クロロー 6—メチルチオトルエンの ¾
2L容量の 4頸フラスコに 2, 6—ジクロロトルエン 161g (l . 0モル)、 N—メチルピロリ ジノン 640g、及びトルエン 80gを仕込み、窒素雰囲気下にマントルヒーターで内温 1[Example 3] ¾ of 2-chloro-6-methylthiotoluene A 2 L 4-neck flask was charged with 161 g (1.0 mol) of 2,6-dichlorotoluene, 640 g of N-methylpyrrolidinone, and 80 g of toluene.
30°Cまで加温した。次に、 20%—メタンチオールナトリウム塩水溶液 120gを一度に 添加し、加熱を続けて共沸により還流が始まる事を確認した。 Dean— Stark装置に より留出する水を除きながら、 115— 135°Cを保つように加熱を継続した。その後、水 の留出がある程度緩やかになつてから、 30分おきに約 50gの量を間歇的に添加したWarmed to 30 ° C. Next, 120 g of 20% -methanethiol sodium salt aqueous solution was added all at once, and it was confirmed that refluxing started by azeotropy by continuing heating. Heating was continued to maintain 115-135 ° C while removing the distilled water using the Dean-Stark apparatus. After that, when the water distills to some extent, about 50g was added intermittently every 30 minutes.
。 30分ごとに留出する水の量を確認したところ、約 40gであった。以後同様に、留出 量を確認しつつ間歇添加を続けた。 20%—メタンチオールナトリウム塩水溶液合計 6. When the amount of water distilled every 30 minutes was confirmed, it was about 40 g. Thereafter, the intermittent addition was continued while confirming the amount of distillate. 20% —Methanethiol sodium salt aqueous solution total 6
31g (l . 8モル)を 7時間かけて添加し、添加終了後、同温度で 1時間熟成した (反応 混合物に対する水分量は実質的に 10質量%以下であった)。留出した水の総量は 431 g (l. 8 mol) was added over 7 hours, and after completion of addition, the mixture was aged at the same temperature for 1 hour (the water content in the reaction mixture was substantially 10% by mass or less). The total amount of distilled water is 4
70gであった。次に室温まで冷却した後、クロロメタン 40. 0g (0. 8モノレ)を 25— 35It was 70 g. Next, after cooling to room temperature, add 40.0 g (0.8 monole) of chloromethane to 25
°Cで吹き込み、同温度で 1時間攪拌し、ガスクロマトグラフィーにて脱メチル体が消失 し、全て標記化合物となっていることを確認して反応を終了した。反応液を 2L容量の ナスフラスコに移し、ロータリーエバポレーターにて減圧濃縮した。 The mixture was blown at 0 ° C., stirred at the same temperature for 1 hour, and the reaction was completed after confirming that the demethylated product had disappeared by gas chromatography and that all were the title compound. The reaction solution was transferred to a 2 L eggplant flask and concentrated under reduced pressure using a rotary evaporator.
残渣に水 980gおよびトルエン 540gを加え、室温で抽出した。水相を分液して除き、 有機相を水 600gで 2回洗浄した。ロータリーエバポレーターにより溶媒を留去し、濃 縮物 186. lgを得た。減圧下に蒸留精製すると高純度の標記化合物が得られた。 To the residue were added 980 g of water and 540 g of toluene, and the mixture was extracted at room temperature. The aqueous phase was separated and the organic phase was washed twice with 600 g of water. The solvent was removed by a rotary evaporator to obtain 186. lg of a concentrate. Distillation and purification under reduced pressure yielded the highly pure title compound.
収量 121. 3e 収率 70. 3% (2. 6—ジクロロトルエン某準) Yield 121. 3e Yield 70. 3% (2.6-dichlorotoluene level)
(1)沸点 100— 101。C/800Pa (6torr) (1) Boiling point 100-101. C / 800Pa (6torr)
(Z^H— NMRスぺクトノレ( δ in CDC1 ) 7. 20— 6. 92 (m, 3H)、 2. 40 (s, 3H) (Z ^ H—NMR spectrum (δ in CDC1) 7. 20— 6. 92 (m, 3H), 2. 40 (s, 3H)
3 Three
、 2. 32 (s, 3H) 2.32 (s, 3H)
[実施例 4] 3ーメトキシチオア二ソールの製造 [Example 4] Production of 3-methoxythioadisol
2L容量の 4頸フラスコに 3—クロロア二ソール 71 · 3g (0. 5モル)、へキサメチルホス ホリックトリアミド 300g、及びトルエン 70gを仕込み、窒素雰囲気下にマントルヒーター で内温 130°Cまで加温した。次に、 15%—メタンチオールナトリウム塩水溶液をゆつ くり滴下すると、共沸により還流が始まった。 Dean— Stark装置により留出する水を 除きながら、 125— 135°Cを保つように滴下を続けた。 1時間かけて約 80gを滴下す ると、 60gの水が留出し、以後同様に、留出量を確認しつつ滴下を続けた。 15%—メ
タンチオールナトリウム塩水溶液合計 327g (0. 7モル)を 6時間かけて滴下し、滴下 終了後、同温度で 1時間熟成した (反応混合物に対する水分量は実質的に 3質量% 以下であった)。 30°Cまで放冷後、クロロメタン 20. 0g (0. 4モル)を 30— 45°Cで吹 き込み、同温度で 1時間攪拌し、ガスクロマトグラフィーにて脱メチル体が消失し、全 て標記化合物となっていることを確認して反応を終了した。反応液に水 600gおよびト ルェン 200gを加え、分液ロートにて振とう後、水相を分液して除き、有機相を更に水 300gで 2回洗浄した。ロータリーエバポレーターにより減圧濃縮し、濃縮物 80· 6gを 得た。減圧下に蒸留精製すると高純度の標記化合物が得られた。 A 2L 4-neck flask was charged with 71 · 3g (0.5 mol) of 3-chloroanisole, 300g of hexamethylphosphoric triamide, and 70g of toluene, and heated to a temperature of 130 ° C with a mantle heater in a nitrogen atmosphere. did. Next, when 15% -methanethiol sodium salt aqueous solution was slowly dropped, refluxing started by azeotropy. The dripping was continued to maintain 125-135 ° C while removing the water distilled by the Dean-Stark apparatus. When about 80 g was dropped over 1 hour, 60 g of water was distilled off, and thereafter dropping was continued while confirming the amount of distillation. 15% A total of 327 g (0.7 mol) of tanthiol sodium salt aqueous solution was added dropwise over 6 hours, and after completion of the addition, the mixture was aged at the same temperature for 1 hour (the water content in the reaction mixture was substantially 3% by mass or less) . After allowing to cool to 30 ° C, 20.0 g (0.4 mol) of chloromethane was blown at 30–45 ° C, stirred at the same temperature for 1 hour, and the demethylated product disappeared by gas chromatography. The reaction was completed after confirming that all were the title compounds. After adding 600 g of water and 200 g of toluene to the reaction solution, shaking with a separatory funnel, the aqueous phase was separated and removed, and the organic phase was further washed twice with 300 g of water. Concentration under reduced pressure using a rotary evaporator gave 80.6 g of concentrate. Distillation and purification under reduced pressure yielded the highly pure title compound.
収量 60. 4g 収率 78. 3% (3 クロロア二ソール某準) Yield 66.4 g Yield 78. 3% (3 Chloroanisole standard)
(1)沸点 121— 123°C/2130Pa (16torr) (1) Boiling point 121-123 ° C / 2130Pa (16torr)
(2 ^1— NMRスぺクトノレ( δ in CDC1 ) 7. 20— 6. 52 (m, 4H)、 3. 66 (s, 3H) (2 ^ 1— NMR spectrum (δ in CDC1) 7. 20— 6. 52 (m, 4H), 3. 66 (s, 3H)
3 Three
、 2. 35 (s, 3H) 2.35 (s, 3H)
[実施例 5] 3—クロロチオア二ソールの製造 [Example 5] Production of 3-chlorothioanisole
2L容量の 4頸フラスコに 1 , 3—ジクロ口ベンゼン 147· Og (l . 0モノレ)、 1,3—ジメチ ルー 2 イミダゾリジノン 640g、及びトルエン 320gを仕込み、窒素雰囲気下にマント ルヒーターで内温 120°Cまで加温した。次に、 10%—メタンチオールナトリウム塩水 溶液 110gを 5分間で添加すると、共沸により還流が始まった。 Dean— Stark装置に より留出する水を除き、 1時間後に添加した水とほぼ同量の 98gの水が留出したこと を確認した後、引き続き 10%—メタンチオールナトリウム塩水溶液 110gを添加し、共 沸により留出する水分を除いた。反応温度を 110°C〜135°Cに保ち、以後同様に留 出量を確認しつっこの操作を繰り返した。 10%—メタンチオールナトリウム塩水溶液 合計 981g (l . 4モル)を 9時間かけて添加した。全量滴下終了後、同温度で 1時間 熟成した(混合物に対する水分量は実質的に 8質量%以下であった)。最終的に 84 0gの水が留出した。次に室温まで冷却した後、クロロメタン 40. 0g (0. 8モル)を 25 35°Cで吹き込み、同温度で 1時間攪拌し、ガスクロマトグラフィーにて脱アルキル 体が消失し、全て標記化合物となっていることを確認して反応を終了した。減圧下の 蒸留により溶媒を留去した後、残渣に水 900gおよびトルエン 520gを加え、室温で抽 出した。水相を分液して除き、有機相を水 600gで 2回洗浄した。ロータリーエバポレ
一ターにより溶媒を留去し、濃縮物 175. 3gを得た。減圧下に蒸留精製すると高純 度の標記化合物が得られた。 Charge a 4-liter flask with 1,3-dichloro-benzene 147 · Og (1.0 monole), 1,3-dimethyl 2, imidazolidinone 640 g, and toluene 320 g in a nitrogen heater with a mantle heater. The internal temperature was heated to 120 ° C. Next, 110 g of a 10% sodium methanethiol salt solution was added over 5 minutes, and refluxing began by azeotropy. Except for the water distilled by the Dean-Stark apparatus, after confirming that 98 g of water was distilled, the same amount as the water added 1 hour later, 110 g of 10% -methanethiol sodium salt aqueous solution was continuously added. The water distilled by azeotropy was removed. The reaction temperature was maintained at 110 ° C. to 135 ° C., and thereafter the distillation amount was confirmed in the same manner and the operation was repeated. A total of 981 g (l.4 mol) of 10% -methanethiol sodium salt aqueous solution was added over 9 hours. After completion of the dropwise addition, the mixture was aged at the same temperature for 1 hour (the water content in the mixture was substantially 8% by mass or less). Finally, 840 g of water was distilled. Next, after cooling to room temperature, 40.0 g (0.8 mol) of chloromethane was blown at 25 35 ° C, stirred for 1 hour at the same temperature, and the dealkylated product disappeared by gas chromatography. It was confirmed that the reaction was completed. After distilling off the solvent by distillation under reduced pressure, 900 g of water and 520 g of toluene were added to the residue, followed by extraction at room temperature. The aqueous phase was separated and the organic phase was washed twice with 600 g of water. Rotary evaporation The solvent was distilled off with one ter to obtain 175.3 g of a concentrate. When purified by distillation under reduced pressure, the highly pure title compound was obtained.
収量 134· 8g 収率 85· 0% (1. 3—ジクロロベンゼン某準) Yield 134 · 8g Yield 85 · 0% (1.3-dichlorobenzene level)
(1)沸点 108— 110°C/2400Pa (18torr) (1) Boiling point 108-110 ° C / 2400Pa (18torr)
(Z^H— NMRスぺクトノレ( δ in CDC1 ) (Z ^ H— NMR spectrum (δ in CDC1)
3、 7. 22— 6. 90 (m, 4H)、 2. 42 (s, 3H 3, 7. 22— 6. 90 (m, 4H), 2. 42 (s, 3H
) )
[実施例 6] 2—クロロチオア二ソールの製造 [Example 6] Production of 2-chlorothioanisole
1L容量の 4頸フラスコに 1 , 2—ジクロロベンゼン 73. 5g (0. 5モル)、 N—メチルー 2—ピロリジノン 320g、及びベンゼン 80gを仕込み、窒素雰囲気下にマントルヒータ 一で内温 110°Cまで加温した。次に、 15%—メタンチオールナトリウム塩水溶液 18g を滴下すると、共沸により還流が始まった。 Dean— Stark装置により留出する水を除 きな力ら、 110— 120°Cを保つように滴下を続けた。 18gの 15%—メタンチオールナ トリウム塩水溶液を滴下した時点で、反応液を一部抜き取り、カールフィッシャー水分 測定器にて水分を測定すると、約 1. 1 %であった。引続き 1時間かけて 90g量の 15 %—メタンチオールナトリウム塩水溶液を滴下した力 S、滴下と同時に滴下量とほぼ同 量の水が留出した。 1時間で 68gの水が留出される事を確認し、以後同様に、留出量 を確認しつつ滴下を続けた。 15%—メタンチオールナトリウム塩水溶液合計 374g (0 . 8モル)を 6時間かけて滴下し、滴下終了後、同温度で 1時間熟成した (反応混合物 に対する水分量は実質的に 3質量%以下であった)。最終的に 304gの水が留出し た。次に室温まで冷却した後、クロロメタン 10. 0g (0. 2モル)を 25— 35°Cで吹き込 み、同温度で 1時間攪拌し、ガスクロマトグラフィーにて脱アルキル体が消失し、全て 標記化合物となっていることを確認して反応を終了した。反応液を 2L容量のナスフラ スコに移し、ロータリーエバポレーターにて減圧濃縮した。 A 1L 4-neck flask is charged with 73.5 g (0.5 mol) of 1,2-dichlorobenzene, 320 g of N-methyl-2-pyrrolidinone, and 80 g of benzene, and the internal temperature is 110 ° C with a mantle heater in a nitrogen atmosphere. Until warmed. Next, when 18 g of a 15% -methanethiol sodium salt aqueous solution was added dropwise, refluxing started by azeotropy. The dropping was continued to maintain 110-120 ° C with the power of removing water from the Dean-Stark apparatus. When 18 g of 15% -methanethiol sodium salt aqueous solution was dropped, a part of the reaction solution was taken out and the moisture was measured with a Karl Fischer moisture measuring device, which was about 1.1%. Subsequently, 90 g of 15% -methanethiol sodium salt aqueous solution was added dropwise over 1 hour, and at the same time as dripping, approximately the same amount of water was distilled off. After confirming that 68 g of water was distilled in 1 hour, the dropping was continued in the same manner while checking the amount of distillation. A total of 374 g (0.8 mol) of 15% -methanethiol sodium salt aqueous solution was added dropwise over 6 hours. there were). Finally, 304 g of water was distilled. Next, after cooling to room temperature, 10.0 g (0.2 mol) of chloromethane was blown at 25-35 ° C, stirred at the same temperature for 1 hour, and the dealkylated product disappeared by gas chromatography. The reaction was completed after confirming that all were the title compounds. The reaction solution was transferred to a 2 L volume of Nasflasco and concentrated under reduced pressure using a rotary evaporator.
残渣に水 500gおよびベンゼン 250gを加え、室温で抽出した。水相を分液して除き、 有機相を水 300gで 2回洗浄した。ロータリーエバポレーターにより溶媒を留去し、濃 縮物 88. lgを得た。減圧下に蒸留精製すると高純度の標記化合物が得られた。 To the residue were added 500 g of water and 250 g of benzene, and the mixture was extracted at room temperature. The aqueous phase was separated and the organic phase was washed twice with 300 g of water. The solvent was distilled off using a rotary evaporator to obtain 88. lg of a concentrate. Distillation and purification under reduced pressure yielded the highly pure title compound.
収量 67. 2g 収率 84. 7% (1. 2—ジクロロベンゼン某準) Yield 67.2g Yield 84.7% (1.2-dichlorobenzene level)
(1)沸点 119— 121°C/2400Pa (18torr)
(2) — NMRスぺクトノレ( δ in CDCl ) 7. 31 , 6. 92 (m, 4H)、 2. 46 (s, 3H) (1) Boiling point 119—121 ° C / 2400Pa (18torr) (2) — NMR spectrum (δ in CDCl) 7. 31, 6. 92 (m, 4H), 2. 46 (s, 3H)
3 Three
[0030] [実施例 7〜; 12] 原料を表 1に示すハロゲン化ベンゼン誘導体とし、実施例 8で 15 %—メタンチオールナトリウム塩の代わりに 20%—エタンチオールカリウム塩水溶液 を使用し、クロロメタンを吹き込む代わりにョードエタンを滴下する以外は、実施例 4と 同様の操作により反応を行い、対応するアルキルチオ基置換ベンゼン誘導体を得た 。結果を表 1に示す。尚、収率は、原料であるハロゲン化ベンゼン誘導体を基準にし て算出した。 [Examples 7 to 12] The raw material was a halogenated benzene derivative shown in Table 1, and in Example 8, a 20% -ethanethiol potassium salt aqueous solution was used instead of 15% -methanethiol sodium salt, and The reaction was carried out in the same manner as in Example 4 except that odoethane was added dropwise instead of blowing methane to obtain the corresponding alkylthio group-substituted benzene derivative. The results are shown in Table 1. The yield was calculated based on the halogenated benzene derivative as a raw material.
[0031] [表 1]
[0031] [Table 1]
0036 is^i$22sロロ111 0036 is ^ i $ 22s
500ml容量の 4頸フラスコに 2, 6—ジクロロトノレェン 32.2g (0.2モノレ)、 1 , 3—ジメ チノレー 2—イミダゾ、リジノン 120g、 30ο/ο—メタンチ才ーノレナトリウム塩水溶 ί夜 56g (0. 24モル)を仕込み、窒素雰囲気下にマントルヒーターで加熱し、内温を還流温度の 1 01°Cに保った (反応混合物に対する水分量は約 20質量%)。 8時間後ガスクロマトグ ラフィ一により原料の減少がほとんど見られなくなった事を確認し反応を終了した。次 に室温まで冷却した後、クロロメタン 5g (0. 1モル)を 25— 35°Cで吹き込み、同温度 で 1時間攪拌したところで、ガスクロマトグラフィーにて脱アルキル体が消失し、全て 標記化合物となっていることを確認して反応を終了した。反応液に水 300gおよびト ルェン 150gを加え、室温で抽出した。水相を分液して除き、有機相を水 100gで 2回 洗浄した。ロータリーエバポレーターにより溶媒を留去し、濃縮物 43.2gを得た。ガス クロマトグラフィーにより標記化合物の含量を分析すると 9. 9gであった(収率 28. 9% 、 2, 6—ジクロ口トルエン基準) 2,6—Dichlorotonolene 32.2g (0.2 monole), 1,3—Dimethylolene 2—Imidazo, Lydinone 120g, 30 ο / ο — Methanic acid-nore sodium salt in water 24 mol) was heated with a mantle heater under a nitrogen atmosphere, and the internal temperature was maintained at the reflux temperature of 101 ° C (the amount of water with respect to the reaction mixture was about 20% by mass). After 8 hours, it was confirmed by gas chromatography that there was almost no decrease in raw materials, and the reaction was completed. Next, after cooling to room temperature, 5 g (0.1 mol) of chloromethane was blown at 25-35 ° C and stirred at the same temperature for 1 hour. The dealkylated product disappeared by gas chromatography, and all the title compounds It was confirmed that the reaction was completed. 300 g of water and 150 g of toluene were added to the reaction solution, and the mixture was extracted at room temperature. The aqueous phase was separated and the organic phase was washed twice with 100 g of water. The solvent was distilled off by a rotary evaporator to obtain 43.2 g of a concentrate. The content of the title compound was analyzed by gas chromatography and found to be 9.9 g (yield 28.9%, based on 2,6-dichloromouth toluene).
[0033] 参考製造例 2 2—クロロー 6—メチルチオトルエンの製造 [0033] Reference Production Example 2 Production of 2-chloro-6-methylthiotoluene
2L容量の 4頸フラスコに 2, 6—ジクロ口卜ノレェン 161. 0g (1.0モノレ)、 1 , 3—ジメチ ルー 2—イミダゾリジンノン 640g、及びトルエン 320gを仕込み、窒素雰囲気下にマン トルヒーターで 115°Cまで加温した。 Charge a 2L 4-neck flask with 2,6-diclonal orifice 161.0 g (1.0 mono), 1,3-dimethyl 2-imidazolidinenone 640 g and toluene 320 g with a mantle heater in a nitrogen atmosphere. Heated to 115 ° C.
次に、 20%—メタンチオールナトリウム塩水溶液 200gを 10分間で添加し、加熱し て共沸により還流を開始した。 Dean— Stark装置により留出する水を除きながら、 93 — 120°Cを保つように加温を続けた。水が留出し始め、約 20gの水が留出した事を 確認した後、約 25gの 20%—メタンチオールナトリウム塩水溶液を添加した。同様に 水の留出量を確認しつつ、反応混合物中の水分量が 10〜20質量%を保つように添 加を続け、 6時間かけて 490g (1.4モル)の 20%—メタンチオールナトリウム塩水溶液 を間欠添加し、全量添加後 1時間加熱して反応を終了した。 Next, 200 g of a 20% -methanethiol sodium salt aqueous solution was added over 10 minutes, and the mixture was heated and refluxed by azeotropy. Heating was continued to maintain 93-120 ° C while removing the water distilled by the Dean-Stark apparatus. After confirming that about 20 g of water had distilled off, about 25 g of 20% -methanethiol sodium salt aqueous solution was added. In the same manner, while confirming the amount of water distilled, the addition was continued so that the amount of water in the reaction mixture was maintained at 10 to 20% by mass, and 490 g (1.4 mol) of 20% -methanethiol sodium salt over 6 hours. The aqueous solution was intermittently added, and the reaction was terminated by heating for 1 hour after addition of the entire amount.
続けて、実施例 2と同様の操作をおこない、濃縮物 190gを得た。ガスクロマトグラフィ 一により標記化合物の含量を分析すると 65.4gであった(収率 37.9%、 2, 6—ジクロ ロトノレェン基準)。 Subsequently, the same operation as in Example 2 was performed to obtain 190 g of a concentrate. When the content of the title compound was analyzed by gas chromatography, it was 65.4 g (yield 37.9%, based on 2,6-dichloronitrone).
[0034] 参考製造例 3 2—クロロー 6—メチルチオトルエンの製造 [0034] Reference Production Example 3 Production of 2-chloro-6-methylthiotoluene
2L容量の 4頸フラスコに 2, 6—ジクロ口卜ノレェン 161 · 0g (l . 0モノレ)、 1 , 3——ジメチ
ルー 2—イミダゾリジノン 320g、及びトルエン 420gを仕込み、窒素雰囲気下にマント ルヒーターで 115°Cまで加温した。次に、 20%—メタンチオールナトリウム塩水溶液 2 Ogをゆっくり滴下すると、共沸により還流が始まった。 Dean— Stark装置により留出 する水を除きながら、 93— 120°Cを保つように滴下を続けた。 1時間かけて約 80gを 滴下すると、約 55gの水が留出した。同様に滴下を続け、 5. 5時間かけて全量 490g (1. 4モル)を滴下したのち、さらに 1時間加熱して反応を終了した(反応混合物に対 する水分量は実質 3%以下であった)。 2, 6-Dichlorophlegm Nolen 161 · 0g (1 .0 monole), 1, 3——Dimethyl in a 2L 4-neck flask Lou 2—imidazolidinone 320 g and toluene 420 g were charged and heated to 115 ° C. with a mantle heater in a nitrogen atmosphere. Next, 20% -methanethiol sodium salt aqueous solution 2 Og was slowly added dropwise, and refluxing started by azeotropy. The dropping was continued to maintain 93-120 ° C while removing the water distilled by the Dean-Stark apparatus. When about 80 g was dropped over 1 hour, about 55 g of water was distilled. In the same manner, the dropwise addition was continued, and a total amount of 490 g (1.4 mol) was added dropwise over 5.5 hours, followed by heating for an additional hour to complete the reaction (the water content in the reaction mixture was substantially 3% or less). )
続けて実施例 2と同様の操作をおこない、濃縮物 172gを得た。ガスクロマトグラフィ 一により標記化合物の含量を分析すると 65gであった(収率 37. 5%、 2, 6—ジクロ口 トルエン基準)。
Subsequently, the same operation as in Example 2 was performed to obtain 172 g of a concentrate. When the content of the title compound was analyzed by gas chromatography, it was 65 g (yield 37.5%, 2,6-dichroic toluene based on toluene).
Claims
請求の範囲 The scope of the claims
下記一般式(1) The following general formula (1)
[化 3] [Chemical 3]
(式中、 R、 R、 R、 Rおよび Rは、同一または相異なってもよぐ水素原子;炭素数 (Wherein R, R, R, R and R are the same or different hydrogen atoms;
1 2 3 4 5 1 2 3 4 5
1〜 6の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基;炭素数 1〜 6の直鎖状もしくは分岐状の アルコキシ基;ノヽロゲン原子;トリフルォロメチル基;フエニル基;または、炭素数;!〜 6 の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数 1〜6の直鎖状もしくは分岐状のアル コキシ基、および、ハロゲン原子からなる群から選ばれる置換基で 1〜3箇所置換さ れたフエ二ル基を示し、 Xは、ハロゲン原子を示す。 ) A linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; a linear or branched alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms; a nitrogen atom; a trifluoromethyl group; a phenyl group; or a carbon number; 1 to 3 substituents selected from the group consisting of 6 linear or branched alkyl groups, 1 to 6 carbon linear or branched alkoxy groups, and halogen atoms. X represents a halogen atom. )
で表されるハロゲン化ベンゼン誘導体を、 A halogenated benzene derivative represented by
下記一般式 (2) The following general formula (2)
R SM (2) R SM (2)
6 6
(式中、 Rは、メチル基あるいはェチル基を示し、 Mは、アルカリ金属陽イオンを示す (In the formula, R represents a methyl group or an ethyl group, and M represents an alkali metal cation.
6 6
。) . )
で表される、低級アルカンチオールのアルカリ金属塩と反応させ、下記一般式(6) [化 4] Is reacted with an alkali metal salt of a lower alkanethiol represented by the following general formula (6):
(式中、 R、 R、 R、 R、 Rおよび Rは前記と同義を表す) (Wherein R, R, R, R, R and R are as defined above)
1 2 3 4 5 6 1 2 3 4 5 6
で表されるアルキルチオ基置換ベンゼン誘導体を製造する方法であって、
上記ハロゲン化ベンゼン誘導体、反応溶媒および式(1)で表されるハロゲン化ベン ゼン誘導体と同一であってもよい共沸溶媒との混合溶液中に、上記低級アルカンチ オールアルカリ金属塩の水溶液を添加しつつ、水と共沸溶媒の混合物を蒸留により 留出させて、継続的に系中に存在する水を除去することにより、反応混合物中の水 分含量を 10質量%以下にして反応をおこなう工程を含むアルキルチオ基置換ベン ゼン誘導体の製造方法。 A process for producing an alkylthio group-substituted benzene derivative represented by: An aqueous solution of the lower alkanethiol alkali metal salt is added to a mixed solution of the halogenated benzene derivative, the reaction solvent, and the azeotropic solvent which may be the same as the halogenated benzene derivative represented by the formula (1). However, the reaction is carried out by distilling the mixture of water and the azeotropic solvent by distillation and continuously removing the water present in the system so that the water content in the reaction mixture is 10% by mass or less. A method for producing an alkylthio group-substituted benzene derivative comprising a step.
[2] 上記反応工程の後、下記一般式 (3) [2] After the reaction step, the following general formula (3)
R Y (3) R Y (3)
6 6
(Yは、ハロゲン原子を示す。)で表されるアルキルノ、ライド、 (Y represents a halogen atom)
下記一般式 (4) The following general formula (4)
(R O) SO (4) (R O) SO (4)
6 2 2 6 2 2
で表されるアルキル硫酸エステル、または An alkyl sulfate represented by
下記一般式 (5) The following general formula (5)
(R O) CO (5) (R O) CO (5)
6 2 6 2
で表されるアルキル炭酸エステルを反応系に添加する第 2反応工程を含むことを特 徴とする請求項 1に記載のアルキルチオ基置換ベンゼン誘導体の製造方法。 The method for producing an alkylthio group-substituted benzene derivative according to claim 1, further comprising a second reaction step of adding an alkyl carbonate represented by the formula:
[3] 前記反応溶媒が、非プロトン性極性溶媒であることを特徴とする請求項 1または請 求項 2に記載のアルキルチオ基置換ベンゼン誘導体の製造方法。 [3] The method for producing an alkylthio group-substituted benzene derivative according to [1] or [2], wherein the reaction solvent is an aprotic polar solvent.
[4] 前記非プロトン極性溶媒が、 1 , 3 ジメチル— 2 イミダゾリジノン、 N メチル 2 ピロリジノン、へキサメチルホスホリックトリアミド、 N, N ジメチルホルムアミド、 N, N ジメチルァセトアミド、ジメチルスルホキシド、ホスホラン、ピリジン、キノリン、炭素 数 1〜6の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基により;!〜 5個置換されたピリジン、およ び、炭素数 1〜6の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基により;!〜 5個置換されたキノ リンからなる群より選択される 1種以上の溶媒であることを特徴とする、請求項 3に記 載のアルキルチオ基置換ベンゼン誘導体の製造方法。 [4] The aprotic polar solvent is 1, 3 dimethyl-2-imidazolidinone, N methyl 2 pyrrolidinone, hexamethylphosphoric triamide, N, N dimethylformamide, N, N dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, Phosphorane, pyridine, quinoline, linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms;!-To 5-substituted pyridine, and linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms The method for producing an alkylthio group-substituted benzene derivative according to claim 3, which is one or more solvents selected from the group consisting of quinoline substituted by!
[5] 前記共沸溶媒が、ベンゼン;炭素数 1〜6の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、 炭素数 1〜6の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシ基、および、トリフルォロメチル基 力もなる群より選ばれる 1〜3個の置換基で置換されたベンゼン;炭素数 5〜; 15の直
鎖状、分岐状もしくは環状の脂肪族アルカン;ならびに、炭素数 5〜; 15の直鎖状、分 岐状もしくは環状のエーテル類;および、一般式(1)であらわされるハロゲン化べンゼ ン誘導体からなる群より選択される 1種以上の溶媒であることを特徴とする、請求項 1 なレ、し請求項 4の!/、ずれかに記載のアルキルチオ基置換ベンゼン誘導体の製造方 法。 [5] The azeotropic solvent is benzene; a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a linear or branched alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and a trifluoromethyl group. Benzene substituted with 1 to 3 substituents selected from the group consisting of force; 5 to 5 carbon atoms; A linear, branched or cyclic aliphatic alkane; and a linear, branched or cyclic ether having 5 to 15 carbon atoms; and a halogenated benzene derivative represented by the general formula (1) The method for producing an alkylthio group-substituted benzene derivative according to any one of claims 1 to 5 and claim 4, wherein the solvent is one or more solvents selected from the group consisting of:
前記反応溶媒と共沸溶媒との反応開始時の質量比率が、 200 :;!〜 1: 1であること を特徴とする請求項 1ないし請求項 5のいずれかに記載のアルキルチオ基置換ベン ゼン誘導体の製造方法。
The alkylthio group-substituted benzene according to any one of claims 1 to 5, wherein a mass ratio at the start of the reaction between the reaction solvent and the azeotropic solvent is 200:;! To 1: 1. A method for producing a derivative.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006-321594 | 2006-11-29 | ||
JP2006321594 | 2006-11-29 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
WO2008066033A1 true WO2008066033A1 (en) | 2008-06-05 |
Family
ID=39467820
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PCT/JP2007/072839 WO2008066033A1 (en) | 2006-11-29 | 2007-11-27 | Alkylthio-substituted benzene derivative and process for production thereof |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
WO (1) | WO2008066033A1 (en) |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
121 | Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application |
Ref document number: 07832564 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |
|
NENP | Non-entry into the national phase |
Ref country code: DE |
|
122 | Ep: pct application non-entry in european phase |
Ref document number: 07832564 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |
|
NENP | Non-entry into the national phase |
Ref country code: JP |