WO2003101944A1 - Process for producing compound having biphenyl group substituted with lower alkylthio group - Google Patents

Process for producing compound having biphenyl group substituted with lower alkylthio group Download PDF

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WO2003101944A1
WO2003101944A1 PCT/JP2003/006659 JP0306659W WO03101944A1 WO 2003101944 A1 WO2003101944 A1 WO 2003101944A1 JP 0306659 W JP0306659 W JP 0306659W WO 03101944 A1 WO03101944 A1 WO 03101944A1
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PCT/JP2003/006659
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Inventor
Akira Okuyama
Yoshiyuki Masui
Yoji Kitaura
Original Assignee
Shionogi & Co., Ltd.
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C319/00Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides
    • C07C319/14Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides of sulfides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D209/00Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07D209/02Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom condensed with one carbocyclic ring
    • C07D209/04Indoles; Hydrogenated indoles
    • C07D209/10Indoles; Hydrogenated indoles with substituted hydrocarbon radicals attached to carbon atoms of the hetero ring
    • C07D209/18Radicals substituted by carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals
    • C07D209/20Radicals substituted by carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals substituted additionally by nitrogen atoms, e.g. tryptophane

Definitions

  • the present invention relates to a simple and economical method for producing a compound having a biphenyl group substituted with a lower alkylthio group.
  • Matrix metaoral protease is an enzyme that contains zinc in the enzyme and degrades extracellular matrix (collagen, gelatin, fibronectin, etc.) as a substrate. This enzyme is thought to be involved in various pathologies such as osteoarthritis, tumor metastasis or invasion, congestive heart failure, nephritis, and retinopathy.
  • Patent Documents 1 and 2 and Non-Patent Documents 1 to 3 have excellent activity.
  • Non-Patent Document 2 reports the following two methods for synthesizing a sulfonamide derivative having a biphenyl group.
  • Patent Document 3 Patent Document 3
  • Patent Document 4 Patent Document 4
  • Patent Document 5 (Patent Document 5)
  • Non-Patent Document 1 Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 8—1 4 3 5 3 4 (Non-Patent Document 1)
  • Non-Patent Document 3 (Non-Patent Document 3)
  • X 2 is a halogen, a salt thereof or a solvate thereof is subjected to an alkylthioation reaction, wherein the compound is represented by the following general formula (IV):
  • R 1 is lower alkyl which may be substituted
  • a salt thereof or a solvate thereof.
  • R 1 has the same meaning as 1), a salt thereof, or a solvate thereof, which is subjected to a halogenation reaction, wherein the compound represented by the general formula (II):
  • X 1 is a halogen), a salt thereof, or a solvate thereof.
  • R 1 has the same meaning as 1); X 1 has the same meaning as 2)), a salt thereof, or a solvate thereof, and a general formula (III): H 2 N or 2 (-I )
  • R 2 is lower alkyl which may be substituted, aryl which may be substituted, aralkyl which may be substituted, heteroaryl which may be substituted, or heteroarylalkyl which may be substituted.
  • alkyl halides, dialkyl carbonates, alkyl sulfinates, alkyl sulfonates, dialkyl sulfates, alkyl esters, alkyl phosphites, nitrates, acetates, and tetras The method according to any one of 1) to 4), wherein an alkylating agent selected from the group consisting of alkylammonium salts is added.
  • an alkylating agent selected from the group consisting of alkyl halides, dialkyl carbonates, alkyl sulfinates, alkyl sulfonates, dialkyl sulfates, and tetraalkylammonium salts is preferable.
  • an alkylating agent selected from the group consisting of alkyl halides, dialkyl carbonates, alkyl sulfonates, and dialkyl sulfates and tetraalkylammonium salts is preferred.
  • R 2 has the same meaning as 3), a salt thereof, or a solvate thereof, which is subjected to an amidation reaction, wherein the compound represented by the general formula (I):
  • R 1 has the same meaning as 1), a salt thereof, or a solvate thereof, which is subjected to a halogenation reaction, wherein the compound represented by the general formula (II):
  • R 1 has the same meaning as 1; X 1 has the same meaning as 2)
  • a salt thereof or a solvate thereof.
  • R 1 has the same meaning as 1
  • a salt thereof, or a solvate thereof Particularly, a compound wherein R 1 is methyl, a salt thereof, or a solvate thereof is preferred.
  • This compound is an important intermediate in the synthesis of pharmaceuticals containing biphenylsulfonamide.
  • R 1 has the same meaning as 1
  • X 1 has the same meaning as 2
  • R 1 has the same meaning as 1
  • X 1 has the same meaning as 2
  • R 1 has the same meaning as 1
  • X 1 is not chlorine
  • a salt thereof or a solvent thereof.
  • Japanese foods are also new.
  • a compound in which R 1 is methyl, a salt thereof, or a solvate thereof is preferable.
  • compounds wherein X 1 is chlorine, salts thereof, or solvates thereof.
  • This compound is an important intermediate for synthesizing pharmaceuticals containing biphenylsulfonamide.
  • X 2 is a halogen, a salt thereof or a solvate thereof is subjected to an alkylthioation reaction, wherein the compound is represented by the following general formula (IV):
  • R 3 and: 3 ′ are simultaneously a hydrogen atom or a lower alkyl, or a ring containing R 3 and R 3 ′ together containing an adjacent oxygen atom. Or a salt thereof, or a solvate thereof, and a compound represented by the general formula (VII):
  • R 11 is a compound represented by the formula: or a salt thereof, or a solvate thereof.
  • R 2 is hydrogen, optionally substituted lower alkyl (substituent is hydroxy, lower alkyloxy, lower alkylthio, carboxy, or carbamoyl), benzyl, or indole-3-ylmethyl The production method according to any one of 3) to 13).
  • R 2 is hydrogen, methyl, isopropyl, Lee Sopuchiru, sec- heptyl, Cal Pamoirumechiru force Rubamoiruechiru, 2 Mechiruchioechiru, human Dorokishimechi Le, carboxymethyl, Karubokishechiru, phenyl, benzyl or Lee down de, 14.
  • halogen means fluorine, chlorine, bromine, and iodine.
  • chlorine and bromine are used.
  • halogen for X 2 , chlorine or bromine is preferred. In particular, bromine is preferred.
  • ⁇ lower alkyl '' used alone or in combination with other terms includes a linear or branched monovalent hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
  • a C1-C6 alkyl is mentioned. Even more preferred are C 1 -C 3 alkyl.
  • methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isoptyl, sec-butyl, tert-butyl and the like are preferable. Further, methyl and ethyl are preferred. Methyl is most preferred.
  • methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isopropyl, sec-butyl, tert-butyl and the like are preferable.
  • Methyl, ethyl, isopropyl, isoptyl, sec-butyl are even more preferred.
  • R 3 and R 3 ′ methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl and the like are preferable. Further, methyl is preferred.
  • methyl ethyl and the like are preferable. Further, methyl is preferred.
  • aryl used alone or in combination with other terms includes a simple or condensed cyclic aromatic hydrocarbon.
  • phenyl, 1-naphthyl, 2-naphthyl, anthryl and the like can be mentioned.
  • Phenyl as "Ariru” in R 2, 1 - naphthyl, 2-naphthyl, etc. Is mentioned. Phenyl is preferred.
  • the “aralkyl” is the above “lower alkyl” substituted by one or more “aryl”, and these may be substituted at all possible positions.
  • benzyl eg, 2-phenylethyl
  • phenylpropyl eg, 3-phenylpropyl
  • naphthylmethyl eg, 1-naphthylmethyl, 2-naphthylmethyl
  • anthrylmethyl eg, 9-anthrylmethyl, etc.
  • aralkyl for R 2, benzyl, phenylethyl, naphthylmethyl and the like are preferable. Further, benzyl is preferred.
  • the term ⁇ heteroaryl j '' used alone or in combination with other terms is an arbitrarily selected 5 to 6 containing one or more oxygen, sulfur or nitrogen atoms in the ring.
  • Pyrrolyl for example, 1-pyrrolyl, 2-pyrrolyl, 3-pyrrolyl
  • furyl for example, 2-furyl, 3-furyl
  • chenyl for example, 2- phenyl, 3-
  • Chenyl imidazolyl (eg, 2-imidazolyl, 4-imidazolyl)
  • pyrazolyl eg, 1-pyrazolyl, 3-virazolyl
  • isothiazolyl eg, 3-isothiazolyl
  • isokiki Zolyl eg, 3-isoxazolyl
  • oxazolyl eg, 2-oxazolyl
  • thiazolyl eg, 2-thiazolyl
  • pyridyl eg, 2-pyridyl, 3-pyridyl, 4-pyridyl
  • virazinyl for example, 2-pyrazinyl
  • pyrimidinyl eg, 2-pyrimidinyl, 4-pyrimidinyl
  • heteroarylalkyl refers to a “lower alkyl” wherein one or two or more of the above “heteroaryl” are substituted at any position of the “lower alkyl”, and these are substituted at all possible positions. sell.
  • thiazolylmethyl for example, 4-triazolylmethyl
  • thiazolylethyl for example, 5-thiazolyl-2-ethyl
  • benzothiazolylmethyl for example, (benzothiazol-2-yl) methyl
  • indolylmethyl Eg, (indole-3-yl) methyl
  • imidazolylmethyl eg, 4-imidazolylmethyl
  • benzothiazolylmethyl eg, 2-benzothiazolylmethyl
  • indazolylmethyl for example, 1-indazolylmethyl
  • benzotriazolylmethyl for example, 1-benzotriazolylmethyl
  • benzoquinolylmethyl for example, 2-benzoquinolylmethyl
  • Benzoymidazolylmethyl for example, 2-benzylazomidazolylmethyl
  • pyridylmethyl for example, 2-pyridylmethyl, 3-pyridylmethyl, 4-pyridylmethyl
  • pyridylmethyl for example,
  • halo lower alkyl used alone or in combination with other terms refers to the aforementioned “lower alkyl” substituted at 1 to 8, preferably 1 to 5 positions by the “halogen”. "Is included. For example, trifluoromethyl, trichloromethyl, difluoroethyl, trifluoroethyl, dichloroethyl, trichloroethyl and the like can be mentioned. Preferable is trifluoromethyl.
  • examples of the substituent in the “optionally substituted lower alkyl” include cycloalkyl (eg, cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl), hydroxy, lower alkyloxy (eg, methoxy) , Ethoxy, t-butoxy), mercapto, lower alkylthio (eg, methylthio, ethylthio), halogen, nitro, cyano, carboxy, lower alkyloxycarbonyl (eg, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, t-yl) Butoxycarbonyl), halo-lower alkyl, halo-lower alkyloxy (eg, trifluoromethyloxy), amino optionally substituted with lower alkyl (eg, amino, methylamino, dimethylamino, ethylamino, getylamino) , Methylethylamino
  • substituent for the “optionally substituted lower alkyl” for R 2 preferred are a hydroxy group, a lower alkyloxy group, a lower alkylthio group, a carboxyl group and a carpamoyl group.
  • Substituents in “optionally substituted aryl”, “optionally substituted heteroaryl”, “optionally substituted aralkyl”, and “optionally substituted heteroarylalkyl” include: Optionally substituted lower alkyl, cycloalkyl (eg, cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl), lower alkenyl (eg, vinyl, propenyl, butenyl), lower alkynyl (ethynyl, propynyl), Droxy, lower alkyloxy (for example, methoxy, ethoxy, t-butoxy), mercapto, lower alkylthio (for example, methylthio, ethylthio), halogen, nitro, cyano, carboxy, lower alkyloxycarbonyl (for example, , Methoxyl Nil, ethoxycarbonyl, t-butoxycarbonyl), halo-lower al
  • R 1 SH for example, methyl mercaptan gas (methane thiol)
  • KSR 1 is generated.
  • alkylating agent means a reagent used for a reaction for introducing an alkyl group into an organic compound.
  • examples include alkyl halides, dialkyl carbonates, alkyl sulfinates, alkyl sulfonates, dialkyl sulfates, alkyl phosphates, alkyl phosphites, nitrates, acetates, and tetraalkyl ammonium salts.
  • alkyl nodogenides include methyl iodide, methyl bromide, methyl chloride, chloroiodide, chlorobromide, chlorochloride, propyl iodide, propyl bromide, propyl chloride, isopropyl iodide, and bromide.
  • Dialkyl carbonate includes dimethyl carbonate, getyl carbonate, dipropyl carbonate, and diisocarbonate Propyl, dibutyl carbonate, di-S-butyl carbonate, t-butyl carbonate and the like.
  • alkyl sulfinate examples include methyl sulfinate, ethyl sulfinate, propyl sulfinate, isopropyl sulfinate, butyl sulfinate and the like.
  • alkyl sulfonate examples include alkyl triflate (methyl triflate, ethyl triflate, propyl triflate, isopropyl triflate, butytriflate, etc.), alkyl tosylate (methyl tosylate, ethyl tosylate) , Propyl tosylate, isopropyl tosylate, butyl tosylate, etc.), alkyl mesylate (methyl mesylate, ethyl mesylate, propyl mesylate, isopropyl mesylate, butyl mesylate, etc.), alkyl brosylate (methyl prosylate, ethyl brosylate, etc.
  • dialkyl sulfate examples include dimethyl sulfate, getyl sulfate, dipropyl sulfate, diisopropyl sulphate, dibutyl sulphate, s-butyl sulphate and t-butyl sulphate.
  • alkyl phosphates include trialkyl phosphate (such as trimethyl phosphate and triethyl phosphate), dialkyl phosphate (such as dimethyl phosphate and getyl phosphate), and phosphoric acid.
  • Monoalkyl monomethyl phosphate, monoethyl phosphate, etc.).
  • alkyl phosphite examples include trialkyl phosphite (trimethyl phosphite, triethyl phosphite, etc.), dialkyl phosphite (dimethyl phosphite, getyl phosphite, etc.) ), Monoalkyl phosphite (monomethyl phosphite, monoethyl phosphite, etc.).
  • nitrate include trifluoromethyl nitrate.
  • acetate examples include trifluoromethyl acetate.
  • the tetraalkylammonium salts include phenyltrimethylammonium chloride, phenyltrimethylammonium bromide, phenyltrimethylammonium iodide, and phenyltrimethylammonium iodide. And the like.
  • alkyl halide dialkyl carbonate, alkyl sulfonate (alkyl tosylate, alkyl mesylate, etc.), dialkyl sulfate, tetraalkyl ammonium salt and the like.
  • Particularly preferred are methyl iodide, methyl bromide, chloro iodide, dimethyl bromobromide, dimethyl carbonate, ethyl methyl tosylate carbonate, ethyl tosylate, methyl mesylate, dimethyl ethyl mesylate sulfate, dimethyl sulphate sulfate, and methylammonium chloride. Is mentioned.
  • the term "catalyst” is used in a chemical reaction system in a relatively small amount to change the reaction rate, start the reaction, or select a reaction without changing the result. Means a compound which is allowed to proceed. Examples include palladium compounds, rhodium compounds, platinum compounds, copper compounds, and ruthenium compounds. Palladium compounds are preferred.
  • the ring represented by “R 3 and R 3 ′ may be combined with each other to form a ring containing an adjacent oxygen atom” includes the following ⁇ .
  • the compound is not limited to a particular isomer but includes all possible isomers (eg, optical isomers) and racemates. Further, a pharmaceutically acceptable salt or a solvate thereof is also included.
  • a pharmaceutically acceptable salt or a solvate thereof is also included.
  • an alkali metal lithium, sodium, potassium, cesium, etc.
  • an alkaline earth metal magnesium, calcium, norium, etc.
  • ammonium etc.
  • Salts with organic bases and amino acids, or inorganic acids hydroochloric acid, hydrobromic acid, phosphoric acid, sulfuric acid, etc.
  • organic acids acetic acid, citric acid, maleic acid, fumaric acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid.
  • solvate of the compound used in the present invention includes, for example, solvates with organic solvents, hydrates and the like. When forming a hydrate, it may be coordinated with any number of water molecules.
  • This step is a step of sulfonating a biphenyl halogen derivative (X) as a starting material.
  • compound (V) can be obtained.
  • a solvent such as chloroform, dichloromethane, hexane, heptane, and toluene, or a mixed solvent thereof.
  • 1 to 10 equivalents, preferably 1.5 to 5 equivalents of the sulfonating agent is added to compound (X).
  • the usual post-treatment is performed.
  • compound (V) can be obtained.
  • Examples of the sulfonating agent include sulfuric acid, fuming sulfuric acid, and black sulfuric acid. Black sulfuric acid is preferred.
  • the salt examples include a lithium salt, a sodium salt, a potassium salt, a cesium salt, an ammonium salt and the like. Potassium salts are preferred.
  • Compound (V) is dissolved in a solvent such as water, methanol or ethanol, and a base is added.
  • the reaction mixture is allowed to react at 0 ° C to 100 ° C, preferably 5 ° C to 50 ° C, for 0.5 hours to 24 hours, preferably for 0.5 hours to 5 hours.
  • the compound (V a) can be obtained by performing the following post-treatment.
  • a salt (Va) of a biphenyl halogen derivative as a starting material is alkylthioated to obtain a compound (IVa).
  • the alkylthioation reaction mainly includes the third step, but the second step, the third step, the third step, the fourth step, the second step, the third step ">> the fourth step, and the compound The step of directly synthesizing compound (IV) from (V) is also included.
  • the compound (IVa) can be obtained by reacting for 5 to 20 hours, preferably for 3 hours to 10 hours, and performing a usual post-treatment.
  • a lithium salt, a sodium salt, or a potassium salt is preferable. In particular, potassium salts are preferred.
  • an alkyl thiol generated in a reaction system from a base such as sodium hydroxide or potassium hydroxide and a lower alkyl thiol is used.
  • Alkali metal salts can also be used.
  • an alkylating agent is added to the reaction system, the yield is improved, which is preferable.
  • the alkylating agent include an alkyl halide, a dialkyl carbonate, an alkyl sulfonate, and a dialkyl sulfate.
  • a potassium salt of an alkyl thiol generated in a reaction system by introducing an alkyl thiol into dimethyl sulfoxide of potassium hydroxide. More preferred is the addition of dialkyl carbonate.
  • the alkylthioating agent attacks the alkyl group adjacent to the sulfur in the product, and a disulfide compound of biphenylthiol / biphenyl, which is a dealkylated product, is produced as a by-product, resulting in a low yield.
  • This step is a step of obtaining the compound (IV) by treating the compound (IVa) with an acid.
  • N-Methylpyrrolidinone-water mixed solvent N-Methylpyrrolidinone-water mixed solvent, ethyl acetate-water mixed solvent, isopropyl acetate pill-water mixed solvent, isoptyl acetate-water mixed solvent, normal butyl acetate-water mixed solvent, etc.
  • N-methylpyrrolidinone-ice mixed solvent acetone-water mixed solvent, acetonitrile-water mixed solvent, methanol-water mixed solvent, ethyl acetate, ethyl acetate-hexane mixed solvent
  • the compound (IV) can be obtained as crystals from a solvent such as a solvent, a mixed solvent of tetrahydrofuran-water, a mixed solvent of dimethylformamide and water, a mixed solvent of dimethylacetamide-water, and a mixed solvent of dimethylsulfoxide water.
  • a mixed solvent of N-methylpyrrolidinone-water and acetate-water is preferable.
  • This step is a step of converting a sulfonic acid (IV) as a starting material into a sulfonyl halide compound (II) with a halogenating agent.
  • the halogenation reaction means this step and the tenth step.
  • the compound (I) can be obtained by performing the post-treatment performed.
  • the reaction can be carried out without solvent.
  • halogenating agent examples include thionyl chloride, sulfuryl chloride, oxychlorinated phosphorus, pentachloride linole, linyl trichloride, thionyl bromide, sulfuryl bromide, oxybromide, pentabromide, Examples include phosphorus tribromide, chlorine, and bromine. Thionyl chloride or oxychlorinated chloride are preferred.
  • This step is a step of capping using a sulfonyl compound (II) and a compound (III) as starting materials by using the Schotten-Bamann method.
  • the amidation reaction means this step.
  • Water-alcohol mixed solvent such as water-ethanol mixed solvent, water-propanol mixed solvent, water-isopropanol mixed solvent, water-butanol mixed solvent, water-isobutanol mixed solvent, water-sec-butanol mixed solvent, N, N —Dimethylformamide, N, N—Dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, etc. in a solvent such as 0.9 to 2 equivalents, preferably 1.0 to 1.2 equivalents of compound (III).
  • the compound (II) in the presence of 2 to 10 equivalents, preferably 2 to 3 equivalents of a base at —20 ° C. to 30 ° C., preferably—5 ° C. to 10 ° C. for 1 to 20 hours ,
  • the compound (I) can be obtained by reacting the mixture for 1 hour to 3 hours, preferably, and performing a usual post-treatment.
  • a mixed solvent of acetate and water is preferable.
  • acetone: water 5: 1 to 1: 5 is preferable.
  • 2: 1 to 1: 2 is preferred.
  • Examples of the base include sodium carbonate, sodium hydrogencarbonate, potassium carbonate, potassium hydrogencarbonate, cesium carbonate, cesium hydrogencarbonate, lithium carbonate, lithium hydrogencarbonate, rubidium carbonate, rubidium hydrogencarbonate, and water.
  • Inorganic bases such as lithium oxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, rubidium hydroxide, cesium hydroxide, and ammonium carbonate; and alkali bases such as triethylamine, triptylamine, and diisoprovirethylamine. 3ammin and the like are exemplified.
  • Sodium carbonate, sodium carbonate, cesium carbonate, sodium hydroxide, triethylamine and the like are preferred.
  • the sulfonamide derivative having a biphenyl skeleton produced in this step has very poor solubility.
  • the solubility is easily isolated.
  • a large amount of solvent and heating are required due to the poor solubility.
  • Increasing the amount of solvent has a significant effect on yield and cost in the case of industrial production.
  • the impact on the environment is great.
  • by heating a part of the asymmetric carbon in the amino acid portion undergoes racemization. Even if a trace amount of optical isomers is produced, it can pose serious problems in developing pharmaceuticals.
  • This step is a step of coupling an arylpoic acid derivative (VI) and an aryl halide (VII) as starting materials to synthesize a biphenyl compound.
  • the carbon-carbon bond reaction means this step.
  • biphenyl halide (VII) in the presence of from 0.001 to 0.5 equivalents, preferably from 0.02 to 0.1 equivalents of the catalyst, 0.8 to 5 equivalents of biphenyl halide (VII) in a solvent.
  • the compound (IVa) can be obtained by reacting at C to 100 ° C for 1 hour to 30 hours, preferably 1.5 hours to 5 hours, and performing a usual post-treatment. .
  • the solvent examples include solvents such as benzene, toluene, N, N-dimethylformamide, dimethoxetane, tetrahydrofuran, dioxane, methanol, and ethanol, or a mixed solvent of these solvents and water. Particularly, dioxane, a mixed solvent of dimethoxetane-ethanol and a mixed solvent of dimethoxetane-ethanol-water are preferred.
  • Catalysts include palladium black, palladium monocarbon, palladium chloride (11), palladium (II) bisbenzonitrile, palladium (II) bisacetonitrile, palladium bromide, (11), iodide Palladium (11), palladium oxide (II), palladium sulfide (II), palladium acetate (II), palladium propionate (II), palladium sulfate (II), palladium hydroxide (II), palladium cyanide ( II), palladium trifluoroacetate (11), bistriphenylphosphine palladium chloride (II), and tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0). Tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0) and bistriphenylphosphine palladium chloride (I) are preferred.
  • Examples of the basic substance include sodium hydroxide, sodium methoxide, and hydroxylated water. , Ammonia, lithium hydroxide, cesium hydroxide, rubidium hydroxide, norium hydroxide, lithium methoxide, potassium methoxide, cesium methoxide, sodium ethoxide, lithium ethoxide, potassium ethoxide, Cesium ethoxide, lithium carbonate, lithium bicarbonate, sodium carbonate, sodium bicarbonate, potassium carbonate, potassium bicarbonate, rubidium carbonate, rubidium bicarbonate, cesium carbonate, cesium bicarbonate, etc. Can be Sodium carbonate is preferred.
  • This step is a step for lower alkylation of a biphenyl thiol compound (VIII) as a starting material.
  • the alkylation reaction means this step.
  • Solvents such as N-methylpyrrolidine, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxetane, or a mixed solvent of these solvents and water
  • compound (VIII) and 1 to 20 equivalents, preferably 1 to 5 equivalents of an alkylating agent such as a lower alkyl halide, dialkyl carbonate, dialkyl sulfate, etc. at 120 ° C. to 100 ° C.
  • the compound (IVa) is reacted by reacting at 0 ° C to 50 ° C for 0.5 to 20 hours, preferably for 1 hour to 5 hours, and performing a usual post-treatment. Obtainable.
  • the starting material biphenyl compound (IX) is sulfonated to obtain biphenylsulfonic acid (IV).
  • This step is a step of converting the sulfonate (IVa) to a sulfonyl halide compound (II) by a halogenating agent.
  • the halogenation reaction means this step and the fifth step. The reaction can be carried out under the same conditions as in the fifth step.
  • D-phenylalanine (13R) 40 mg (0.24 mmo 1) to sodium carbonate 64 mg (0.6 mmo 1), ice 0.6 mL and acetone 0.6 mL Add Then, it was cooled to about 0 ° C. To this solution, 60 mg (0.2 mmol) of compound (7) was added, and the mixture was stirred at about 0 ° C for about 3 hours. After neutralization with hydrochloric acid, the crystals were filtered and washed with water. After drying, 71 mg (yield 83%) of the compound (I-16R) was obtained.
  • a compound having a biphenyl group substituted with a lower alkylthio group can be produced simply and economically.

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Abstract

A process for producing a compound of the general formula (IV) or a salt or solvate thereof, characterized in that a compound of the general formula (V) or a salt or solvate thereof is subjected to reaction for conversion to an alkylthio: (V) (IV) wherein R1 is a substituted or unsubstituted lower alkyl, and X2 is a halogen.

Description

明細書 低級アルキルチオ基で置換されているビフェニル基を有する化合物の製造方法 技術分野  Description Method for producing compound having biphenyl group substituted by lower alkylthio group
本発明は、 簡便かつ経済的な、 低級アルキルチオ基で置換されているビフエ二 ル基を有する化合物の製造方法に関する。 背景技術  The present invention relates to a simple and economical method for producing a compound having a biphenyl group substituted with a lower alkylthio group. Background art
マ ト ヅ リ クスメタ口プロテア一ゼは酵素内に亜鉛を含有し、 細胞外マ ト リ ック ス (コラーゲン、 ゼラチン、 フィ ブロネクチン等) を基質と して分解する酵素で ある。 この酵素は変形性関節症、 腫瘍の転移または浸潤、 うつ血性心不全、 腎炎、 網膜症等種々の病態と関わっていると考えられている。  Matrix metaoral protease is an enzyme that contains zinc in the enzyme and degrades extracellular matrix (collagen, gelatin, fibronectin, etc.) as a substrate. This enzyme is thought to be involved in various pathologies such as osteoarthritis, tumor metastasis or invasion, congestive heart failure, nephritis, and retinopathy.
近年、 様々な構造を持った M M P阻害剤が数多く報告されている。 と りわけ、 ビフェニル基を有するスルホンァミ ド誘導体は優れた活性を有していることが報 告されている (特許文献 1、 2および非特許文献 1 ~ 3 ) 。  In recent years, many MMP inhibitors having various structures have been reported. In particular, it has been reported that sulfonamide derivatives having a biphenyl group have excellent activity (Patent Documents 1 and 2 and Non-Patent Documents 1 to 3).
非特許文献 2 には、 ビフエ二ル基を有するスルホンアミ ド誘導体の合成方法と して次の 2つの方法が報告されている。  Non-Patent Document 2 reports the following two methods for synthesizing a sulfonamide derivative having a biphenyl group.
A法  Method A
Br- -S。2CI +
Figure imgf000003_0001
Br- -S. 2 CI +
Figure imgf000003_0001
B法 B method
-so2ci X S02-N COO e -so 2 ci X S0 2 -N COO e
Hc COO e  Hc COO e
いずれの方法もアミノ酸のエステルをスルホニルクロ リ ドと反応させるため、 最終目的物がカルボン酸である場合は、 さらに脱保護 (加水分解) の工程が必要 となる。 工業化の際には、 保護、 脱保護の工程を含むことによ り、 工程数が増え 収率の低下を招くばかりでなく、 最終工程である脱保護反応おいて、 除去不能な 不純物を含む場合もある。 そのため、 特許文献 3のように、 アミノ酸をエステル 保護せずに、 カルボン酸のままで、 スルホニルクロ リ ドを直接反応させる方法も 報告されている。 しかし、 ビフエニル化合物の溶解性や、 反応系中での沈殿に関 する記載はない。 In each case, the ester of the amino acid is reacted with the sulfonyl chloride. If the final product is a carboxylic acid, a further deprotection (hydrolysis) step is required. Becomes In the case of industrialization, including the steps of protection and deprotection not only increases the number of steps but lowers the yield, but also includes impurities that cannot be removed in the final deprotection reaction There is also. Therefore, a method of directly reacting a sulfonyl chloride with a carboxylic acid without ester protection of an amino acid, as in Patent Document 3, has been reported. However, there is no description of the solubility of the biphenyl compound or precipitation in the reaction system.
Β S02CI +H2NΒ S0 2 CI + H 2 N
Figure imgf000004_0001
Figure imgf000004_0001
低級アルキルチオ基を芳香環に導入する方法と して、 次のようなハロゲン化べ ンゼン誘導体とアルキルメルカプ夕ンを塩基の存在下に反応させる方法が知られ ている。 (特許文献 4、 5 ) しかしながら、 ビフヱニル化合物に適応した記載は ない。 一方、 低級アルキルチオ基で置換されているビフヱニル誘導体は MM Ρ阻 害剤と して有用であり、 その工業的合成法が望まれている。  As a method for introducing a lower alkylthio group into an aromatic ring, the following method is known in which a halogenated benzene derivative is reacted with an alkyl mercaptan in the presence of a base. (Patent Documents 4 and 5) However, there is no description applicable to biphenyl compounds. On the other hand, biphenyl derivatives substituted with lower alkylthio groups are useful as MMMM inhibitors, and their industrial synthesis is desired.
R R  R R
/=< MeSH + NaOHaq. /=<  / = <MeSH + NaOHaq. / = <
《 />-CI → /SMe  《/>-CI → / SMe
^ n-Bu4NBr ^ n-Bu 4 NBr
R=CN, C(=0) e  R = CN, C (= 0) e
(特許文献 1)  (Patent Document 1)
国際公開第 9 7/2 7 1 7 4パンフ レ ッ ト  International Publication No. 97/2 7 1 7 4 Pamphlet
(特許文献 2 )  (Patent Document 2)
米国特許 5 7 5 6 5 4 5号明細書  U.S. Pat.No. 5,756,545
(特許文献 3 )  (Patent Document 3)
国際公開第 0 1 /7 9 2 0 1パンフ レヅ ト  International Publication No. 0 1/7 9 2 0 1 Pamphlet
(特許文献 4)  (Patent Document 4)
特開平 8— 1 3 4 0 5 1号公報  Japanese Patent Application Laid-Open No. 08-134 051
(特許文献 5)  (Patent Document 5)
特開平 8— 1 4 3 5 3 4号公報 (非特許文献 1 ) Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 8—1 4 3 5 3 4 (Non-Patent Document 1)
田村嘉則ら、 ジャーナル ォブ メディ シナル ケミス ト リー (J. Med. Chem.) 1998年、 第 41卷、 p.640-649  Yoshinori Tamura et al., Journal of Medicinal Chemistry (J. Med. Chem.) 1998, Vol. 41, p. 640-649
(非特許文献 2 )  (Non-Patent Document 2)
ノ ト リ ヅク ェム ォブリ ンら (Patrick M. O'Brien et. al.) ジャーナル ォブ メディ シナル ケミス ト リー (J. Med . Chem.) 2000年、 第 43卷、 第 2号、 p . 156- 166 ' (非特許文献 3 )  Patrick M. O'Brien et. Al., J. Med. Chem., 2000, Vol. 43, No. 2, p. 156-166 '(Non-Patent Document 3)
ス夕ニスロー ピクルら (Stanislaw Pikul et. al.) ジャーナル ォブ メディ シナル ケミス ト リー (J. Med. Chem .) 2001年、 第 44卷、 第 1 6 号、 p .2499-2502 発明の開示  Stanislaw Pikul et. Al. Journal of Medicinal Chemistry (J. Med. Chem.) 2001, Vol. 44, No. 16, p. 2499-2502 Disclosure of the Invention
簡便かつ経済的な、 低級アルキルチオ基で置換されているビフヱ二ル基を有す る化合物の製造方法の開発が望まれている。  It is desired to develop a simple and economical method for producing a compound having a biphenyl group substituted with a lower alkylthio group.
本発明者らは以上の点に鑑み、 鋭意検討を重ねた結果、 簡便かつ経済的な、 低 級アルキルチオ基で置換されているビフェニル基を有する化合物の製造方法を見 出した。  In view of the above points, the present inventors have conducted intensive studies and, as a result, have found a simple and economical method for producing a compound having a biphenyl group substituted with a lower alkylthio group.
すなわち、 本発明は、 1 ) 一般式 (V ) :  That is, the present invention provides 1) a general formula (V):
。、、 /OH . ,, / OH
x - 一 、、 ' x-one, '
(V)  (V)
(式中、 X 2はハロゲン) で表わされる化合物、 その塩、 またはその溶媒和物を アルキルチオ化反応に付することを特徴とする、 一般式 ( I V ) :
Figure imgf000005_0001
Wherein X 2 is a halogen, a salt thereof or a solvate thereof is subjected to an alkylthioation reaction, wherein the compound is represented by the following general formula (IV):
Figure imgf000005_0001
(式中、 R 1は置換されていてもよい低級アルキル) で表わされる化合物、 その 塩、 またはその溶媒和物の製造方法に、 関する。 さらに詳しくは、 以下の 2 ) から 6 ) に関する (Wherein, R 1 is lower alkyl which may be substituted), a salt thereof, or a solvate thereof. For further details, please refer to the following 2) to 6)
2 ) 一般式 ( I V) :
Figure imgf000006_0001
2) General formula (IV):
Figure imgf000006_0001
(式中、 R 1は 1 ) と同意義) で表わされる化合物、 その塩、 またはその溶媒和 物をハロゲン化反応に付することを特徴とする、 一般式 ( I I ) :
Figure imgf000006_0002
Wherein R 1 has the same meaning as 1), a salt thereof, or a solvate thereof, which is subjected to a halogenation reaction, wherein the compound represented by the general formula (II):
Figure imgf000006_0002
(式中、 R 1は 1 ) と同意義 ; X 1はハロゲン) で表わされる化合物、 その塩、 ま たはその溶媒和物を製造する工程を包含する 1 ) 記載の製造方法。 (Wherein, R 1 has the same meaning as in 1); X 1 is a halogen), a salt thereof, or a solvate thereof.
3 ) 一般式 ( I I ) :
Figure imgf000006_0003
3) General formula (II):
Figure imgf000006_0003
(式中、 R 1は 1 ) と同意義; X 1は 2 ) と同意義) で表わされる化合物、 その塩. またはその溶媒和物および一般式 ( I I I ) : H2N叉2 (-I) (Wherein, R 1 has the same meaning as 1); X 1 has the same meaning as 2)), a salt thereof, or a solvate thereof, and a general formula (III): H 2 N or 2 (-I )
COOH  COOH
(式中、 R 2は置換されてもよい低級アルキル、 置換されてもよいァリール、 置 換されてもよいァラルキル、 置換されてもよいへテロアリール、 または置換され てもよいへテロァリールアルキル) で表わされる化合物、 その塩、 またはその溶 媒和物をァミ ド化反応に付することを特徴とする、 一般式 ( I ) : Wherein R 2 is lower alkyl which may be substituted, aryl which may be substituted, aralkyl which may be substituted, heteroaryl which may be substituted, or heteroarylalkyl which may be substituted. A compound represented by the formula, a salt thereof, or a solvate thereof, which is subjected to an amidation reaction;
Figure imgf000006_0004
Figure imgf000006_0004
(式中、 R 1は 1 ) と同意義; R2は前記と同意義) で表わされる化合物、 その塩、 またはその溶媒和物を製造する工程を包含する 2 ) 記載の製造方法。 (Wherein, R 1 has the same meaning as 1); R 2 has the same meaning as described above). 2) The process according to 2), which comprises the step of manufacturing a compound represented by the formula:
4 ) アルキルチオ化反応が、 反応試薬として、 K S R 1 (式中、 R 1は 1 ) と同意 義) を用いる反応である 1 ) 〜 3 ) のいずれかに記載の製造方法。 4) Alkyl thiolation reaction agrees with KSR 1 (where R 1 is 1) as reaction reagent The production method according to any one of 1) to 3), wherein
5 ) アルキルチオ化反応において、 ハロゲン化アルキル、 炭酸ジアルキル、 スル フィ ン酸アルキル、 スルホン酸アルキル、 硫酸ジアルキル、 リ ン酸アルキルエス テル、 亜リ ン酸アルキルエステル、 硝酸エステル、 酢酸エステル、 およびテ トラ アルキルアンモニゥム塩からなる群から選ばれるアルキル化剤を添加する 1 ) 〜 4 ) のいずれかに記載の製造方法。  5) In the alkylthiolation reaction, alkyl halides, dialkyl carbonates, alkyl sulfinates, alkyl sulfonates, dialkyl sulfates, alkyl esters, alkyl phosphites, nitrates, acetates, and tetras The method according to any one of 1) to 4), wherein an alkylating agent selected from the group consisting of alkylammonium salts is added.
さらに、 アルキル化剤と しては、 ハロゲン化アルキル、 炭酸ジアルキル、 スル フィ ン酸アルキル、 スルホン酸アルキル、 硫酸ジアルキル、 およびテ トラアルキ ルアンモニゥム塩からなる群から選ばれるアルキル化剤が好ま しい。  Further, as the alkylating agent, an alkylating agent selected from the group consisting of alkyl halides, dialkyl carbonates, alkyl sulfinates, alkyl sulfonates, dialkyl sulfates, and tetraalkylammonium salts is preferable.
特に、 ハロゲン化アルキル、 炭酸ジアルキル、 スルホン酸アルキル、 および硫 酸ジアルキルおよびテトラアルキルアンモニゥム塩からなる群から選ばれるアル キル化剤が好ま しい。  In particular, an alkylating agent selected from the group consisting of alkyl halides, dialkyl carbonates, alkyl sulfonates, and dialkyl sulfates and tetraalkylammonium salts is preferred.
6 ) R 1がメチル、 X2が臭素である 1 ) ~ 5 ) のいずれかに記載の製造方法。 7 ) 一般式 ( I I ) :
Figure imgf000007_0001
6) The production method according to any one of 1) to 5), wherein R 1 is methyl and X 2 is bromine. 7) General formula (II):
Figure imgf000007_0001
(式中、 R 1は 1 ) と同意義 ; X 1は 2 ) と同意義) で表わされる化合物、 その塩、 またはその溶媒和物および一般式 ( I I I ) : (Wherein, R 1 has the same meaning as 1); X 1 has the same meaning as 2)), a salt thereof, or a solvate thereof, and a general formula (III):
H2N人 COOH H 2 N COOH
(式中、 R 2は 3 ) と同意義) で表わされる化合物、 その塩、 またはその溶媒和 物をアミ ド化反応に付することを特徴とする、 一般式 ( I ) : Wherein R 2 has the same meaning as 3), a salt thereof, or a solvate thereof, which is subjected to an amidation reaction, wherein the compound represented by the general formula (I):
Figure imgf000007_0002
Figure imgf000007_0002
(式中、 R 1は 1 ) と同意義 ; R 2は 3 ) と同意義) で表わされる化合物、 その塩、 またはその溶媒和物の製造方法。 8 ) 一般式 ( I V)
Figure imgf000008_0001
(Wherein, R 1 has the same meaning as 1); R 2 has the same meaning as 3)), a salt thereof, or a solvate thereof. 8) General formula (IV)
Figure imgf000008_0001
(式中、 R 1は 1 ) と同意義) で表わされる化合物、 その塩、 またはその溶媒和 物をハロゲン化反応に付することを特徴とする、 一般式 ( I I ) :
Figure imgf000008_0002
Wherein R 1 has the same meaning as 1), a salt thereof, or a solvate thereof, which is subjected to a halogenation reaction, wherein the compound represented by the general formula (II):
Figure imgf000008_0002
(式中、 R 1は 1 ) と同意義 ; X 1は 2 ) と同意義) で表わされる化合物、 その塩、 またはその溶媒和物を製造する工程を包含する 7 ) 記載の製造方法。 (Wherein R 1 has the same meaning as 1); X 1 has the same meaning as 2)), a salt thereof, or a solvate thereof.
ここで、 一般式 ( I V) : (,v) Where the general formula (IV): (, v)
Figure imgf000008_0003
Figure imgf000008_0003
(式中、 R 1は 1 ) と同意義) で表わせられる化合物、 その塩、 またはその溶媒 和物は新規である。 特に、 R 1がメチルであるである化合物、 その塩、 またはそ の溶媒和物が好ましい。 この化合物はビフエニルスルホンアミ ドを有する医薬品 を合成する上で重要な中間体である。 (Wherein R 1 has the same meaning as 1), a salt thereof, or a solvate thereof. Particularly, a compound wherein R 1 is methyl, a salt thereof, or a solvate thereof is preferred. This compound is an important intermediate in the synthesis of pharmaceuticals containing biphenylsulfonamide.
さらに、 一般式 ( I I ) :
Figure imgf000008_0004
Furthermore, the general formula (II):
Figure imgf000008_0004
(式中、 R 1は 1 ) と同意義 ; X1は 2 ) と同意義) で表わせられる化合物 (但し. R 1がメチルの時、 X 1は塩素ではない) 、 その塩、 またはその溶媒和物も新規で ある。 特に、 R 1がメチルであるである化合物、 その塩、 またはその溶媒和物が 好ましい。 また、 X 1が塩素である化合物、 その塩、 またはその溶媒和物も好ま しい。 この化合物はビフェニルスルホンアミ ドを有する医薬品を合成する上で重 要な中間体である。 (Wherein, R 1 has the same meaning as 1); X 1 has the same meaning as 2)) (however, when R 1 is methyl, X 1 is not chlorine), a salt thereof, or a solvent thereof. Japanese foods are also new. Particularly, a compound in which R 1 is methyl, a salt thereof, or a solvate thereof is preferable. Also preferred are compounds wherein X 1 is chlorine, salts thereof, or solvates thereof. This compound is an important intermediate for synthesizing pharmaceuticals containing biphenylsulfonamide.
9 ) 一般式 ( V) : '
Figure imgf000009_0001
9) General formula (V): '
Figure imgf000009_0001
(式中、 X2はハロゲン) で表わされる化合物、 その塩、 またはその溶媒和物を アルキルチオ化反応に付することを特徴とする、 一般式 ( I V) :
Figure imgf000009_0002
Wherein X 2 is a halogen, a salt thereof or a solvate thereof is subjected to an alkylthioation reaction, wherein the compound is represented by the following general formula (IV):
Figure imgf000009_0002
(式中、 は 1 ) と同意義) で表わされる化合物、 その塩、 またはその溶媒和 物を製造する工程を包含する 8 ) 記載の製造方法。  (Wherein is the same as in 1)), a process for producing a compound thereof, a salt thereof, or a solvate thereof.
1 0 ) 一般式 (V I ) :
Figure imgf000009_0003
10) General formula (VI):
Figure imgf000009_0003
(式中、 R 1は 1 ) と同意義 ; R 3および: 3 ' は同時に水素原子も しく は低級ァ ルキル、 または R 3と R3'が一緒になつてそれぞれ隣接する酸素原子を含む環を 形成してもよい) で表わされる化合物、 その塩、 またはその溶媒和物および一般 式 (V I I ) :
Figure imgf000009_0004
Where R 1 is 1); R 3 and: 3 ′ are simultaneously a hydrogen atom or a lower alkyl, or a ring containing R 3 and R 3 ′ together containing an adjacent oxygen atom. Or a salt thereof, or a solvate thereof, and a compound represented by the general formula (VII):
Figure imgf000009_0004
(式中、 X 3はハロゲンまたは一 S 03 R 4 (式中、 R 4は低級アルキルまたはハ 口低級アルキル) ) で表わされる化合物、 その塩、 またはその溶媒和物を触媒存 在下、 炭素一炭素結合反応に付することによ り、 一般式 ( I V) :
Figure imgf000009_0005
(In the formula, X 3 is halogen or 1 S 0 3 R 4 (wherein, R 4 is lower alkyl or halo lower alkyl)), a salt thereof, or a solvate thereof in the presence of a catalyst. By subjecting it to a one-carbon bond reaction, the general formula (IV):
Figure imgf000009_0005
(式中、 R ^i l ) と同意義) で表わされる化合物、 その塩、 またはその溶媒和 物を製造する工程を包含する 8 ) 記載の製造方法。  (In the formula, R ^ il), a process for producing a compound thereof, a salt thereof, or a solvate thereof.
1 1 ) 一般式 (V I I I ) : 1 1) General formula (V I I I):
(VIII)(VIII)
Figure imgf000009_0006
で表わされる化合物、 その塩、 またはその溶媒和物をアルキル化反応に付するこ とを特徴とする、 一般式 ( I V) :
Figure imgf000010_0001
Figure imgf000009_0006
Wherein the compound represented by the formula, a salt thereof or a solvate thereof is subjected to an alkylation reaction, characterized by the general formula (IV):
Figure imgf000010_0001
(式中、 R i l ) と同意義) で表わされる化合物、 その塩、 またはその溶媒和 物を製造する工程を包含する 8 ) 記載の製造方法。  (Wherein R 11) is a compound represented by the formula: or a salt thereof, or a solvate thereof.
1 2 ) 一般式 ( I X) :
Figure imgf000010_0002
1 2) General formula (IX):
Figure imgf000010_0002
(式中、 R l ) と同意義) で表わされる化合物、 その塩、 またはその溶媒和 物をスルホン化反応に付することを特徴とする、 一般式 ( I V) :
Figure imgf000010_0003
Wherein the compound represented by the formula (wherein, R 1) is subjected to a sulfonation reaction, wherein the compound is represented by the following general formula (IV):
Figure imgf000010_0003
(式中、 R ^i l ) と同意義) で表わされる化合物、 その塩、 またはその溶媒和 物を製造する工程を包含する 8 ) 記載の製造方法。  (In the formula, R ^ il), a process for producing a compound thereof, a salt thereof, or a solvate thereof.
1 3 ) R 1がメチルである 1 ) 〜 5 ) および 7 ) - 1 2 ) いずれかに記載の製造 方法。 13) The method according to any one of 1) to 5) and 7) to 12), wherein R 1 is methyl.
1 4 ) R 2が水素、 置換されていてもよい低級アルキル (置換基はヒ ドロキシ、 低級アルキルォキシ、 低級アルキルチオ、 カルボキシ、 または力ルバモイルであ る) 、 ベンジル、 またはイ ン ド一ルー 3—ィルーメチルである 3 ) 〜 1 3 ) のい ずれかに記載の製造方法。 14) R 2 is hydrogen, optionally substituted lower alkyl (substituent is hydroxy, lower alkyloxy, lower alkylthio, carboxy, or carbamoyl), benzyl, or indole-3-ylmethyl The production method according to any one of 3) to 13).
1 5 ) R 2が水素、 メチル、 イソプロピル、 イ ソプチル、 s e c—プチル、 カル パモイルメチル、 力ルバモイルェチル、 2—メチルチオェチル、 ヒ ドロキシメチ ル、 カルボキシメチル、 カルボキシェチル、 フエニル、 ベンジル、 またはイ ン ド 一ルー 3—ィルメチルである 1 4 ) に記載の製造方法。 1 5) R 2 is hydrogen, methyl, isopropyl, Lee Sopuchiru, sec- heptyl, Cal Pamoirumechiru force Rubamoiruechiru, 2 Mechiruchioechiru, human Dorokishimechi Le, carboxymethyl, Karubokishechiru, phenyl, benzyl or Lee down de, 14. The production method according to 14), wherein the methyl is 3-ylmethyl.
1 6 ) X 1が塩素である 2 ) 〜 1 5 ) のいずれかに記載の製造方法。 本明細書中、 「ハロゲン」 とはフッ素、 塩素、 臭素、 およびヨウ素を意味する。 好ましくは、 塩素、 および臭素が挙げられる。 16) The production method according to any one of 2) to 15), wherein X 1 is chlorine. In the present specification, "halogen" means fluorine, chlorine, bromine, and iodine. Preferably, chlorine and bromine are used.
X 1における 「ハロゲン」 としては、 塩素が好ま しい。 Examples of the "halogen" in X 1, arbitrariness preferred chlorine.
X 2における 「ハロゲン」 と しては、 塩素または臭素が好ま しい。 特に、 臭素 が好ま しい。 As the “halogen” for X 2 , chlorine or bromine is preferred. In particular, bromine is preferred.
本明細書中、 単独でも しくは他の用語と組み合わせて用いられる 「低級アルキ ル」 なる用語は、 炭素原子数 1 ~ 8の直鎖または分枝鎖の 1価の炭化水素基を包 含する。 例えば、 メチル、 ェチル、 n—プロピル、 イソプロピル、 n—プチル、 イソプチル、 s e c —ブチル、 t e r t —プチル、 n—ペンチル、 イソペンチル、 n e o —ペンチル、 n—へキシル、 イソへキシル、 n—へプチル、 n—ォクチル 等が挙げられる。 好ま しく は、 C 1 〜 C 6アルキルが挙げられる。 さらに好ま し くは、 C 1 〜 C 3アルキルが挙げられる。  In the present specification, the term `` lower alkyl '' used alone or in combination with other terms includes a linear or branched monovalent hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms. . For example, methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isoptyl, sec-butyl, tert-butyl, n-pentyl, isopentyl, neo-pentyl, n-hexyl, isohexyl, n-heptyl, n-octyl and the like. Preferably, a C1-C6 alkyl is mentioned. Even more preferred are C 1 -C 3 alkyl.
R 1における 「低級アルキル」 としてはメチル、 ェチル、 n—プロピル、 イ ソ プロピル、 n—ブチル、 イ ソプチル、 s e c —プチル、 t e r t —ブチル等が好 ま しい。 さらにメチル、 ェチルが好ま しい。 メチルが最も好ま しい。 As the “lower alkyl” for R 1, methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isoptyl, sec-butyl, tert-butyl and the like are preferable. Further, methyl and ethyl are preferred. Methyl is most preferred.
R 2における 「低級アルキル」 としてはメチル、 ェチル、 n—プロ ピル、 イ ソ プロピル、 n—ブチル、 イソプチル、 s e c -ブチル、 t e r t 一ブチル等が好 ま しい。 メチル、 ェチル、 イ ソプロピル、 ィソプチル、 s e c—ブチルがさらに 好ま しい。 As the “lower alkyl” for R 2, methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isopropyl, sec-butyl, tert-butyl and the like are preferable. Methyl, ethyl, isopropyl, isoptyl, sec-butyl are even more preferred.
R 3および R 3 ' における 「低級アルキル」 と してはメチル、 ェチル、 n—プロ ピル、 イソプロピル等が好ま しい。 さらにメチルが好ましい。 As the “lower alkyl” for R 3 and R 3 ′, methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl and the like are preferable. Further, methyl is preferred.
R 4における 「低級アルキル」 と してはメチル、 ェチル等が好ましい。 さらに メチルが好ま しい。 As the “lower alkyl” for R 4, methyl, ethyl and the like are preferable. Further, methyl is preferred.
本明細書中、 単独でも しく は他の用語と組み合わせて用いられる 「ァリール」 とは、 単璟状も しくは縮合環状芳香族炭化水素を包含する。 例えば、 フエニル、 1 一ナフチル、 2 —ナフチル、 アン ト リル等が挙げられる。  In the present specification, the term “aryl” used alone or in combination with other terms includes a simple or condensed cyclic aromatic hydrocarbon. For example, phenyl, 1-naphthyl, 2-naphthyl, anthryl and the like can be mentioned.
R 2における 「ァリール」 としてはフエニル、 1 —ナフチル、 2—ナフチル等 が挙げられる。 フエニルが好ましい。 Phenyl as "Ariru" in R 2, 1 - naphthyl, 2-naphthyl, etc. Is mentioned. Phenyl is preferred.
本明細書中、 「ァラルキル」 とは、 前記 「低級アルキル」 に前記 「ァリ ール」 が 1 またはそれ以上置換したもので、 これらは可能な全ての位置で置換しうる。 例えば、 ベンジル、 フエニルェチル (例えば、 2 —フエニルェチル等) 、 フエ二 ルプロピル (例えば、 3 —フエニルプロピル等) 、 ナフチルメチル (例えば、 1 一ナフチルメチル、 2 —ナフチルメチル等) 、 アン ト リルメチル (例えば、 9― アン ト リルメチル等) 等が挙げられる。  In the present specification, the “aralkyl” is the above “lower alkyl” substituted by one or more “aryl”, and these may be substituted at all possible positions. For example, benzyl, phenylethyl (eg, 2-phenylethyl), phenylpropyl (eg, 3-phenylpropyl), naphthylmethyl (eg, 1-naphthylmethyl, 2-naphthylmethyl), anthrylmethyl (eg, , 9-anthrylmethyl, etc.).
R 2における 「ァラルキル」 と してはベンジル、 フエニルェチル、 ナフチルメ チル等が好ましい。 さらにベンジルが好ま しい。 本明細書中、 単独でも しく は他の用語と組み合わせて用いられる 「ヘテロァリ ール j とは、 任意に選ばれる、 酸素原子、 硫黄原子又は窒素原子を環内に 1個以 上含む 5 ~ 6員の芳香環を包含し、 これはシクロアルキル、 ァリール、 非芳香族 複素環、 も しくは他のへテロアリールと縮合していてもよく、 これらは可能な全 ての位置で縮合しうる。 例えば、 ピロ リル (例えば、 1 一ピロ リル、 2—ピロ リ ル、 3 —ピロ リル) 、 フ リル (例えば、 2—フ リル、 3 —フ リル) 、 チェニル (例 えば、 2 —チェニル、 3 —チェニル) 、 イ ミダゾリル (例えば、 2—イ ミダゾリ ル、 4 一イ ミダゾリル) 、 ピラゾリル (例えば、 1 一ピラゾリル、 3 —ビラゾリ ル) 、 イソチアゾリル (例えば、 3 —イソチアゾリル) 、 イソォキサゾリル (例 えば、 3 —イソキサゾリル) 、 ォキサゾリル (例えば、 2 —ォキサゾリル) 、 チ ァゾリル (例えば、 2 —チアゾリル) 、 ピリ ジル (例えば、 2 —ピリジル、 3― ピリジル、 4 —ピリ ジル) 、 ビラジニル (例えば、 2 —ピラジニル) 、 ピリ ミジ ニル (例えば、 2 —ピリ ミジニル、 4—ピリ ミジニル) 、 ピリダジニル (例えば、 3 —ピリダジニル) 、 テ トラゾリル (例えば、 1 H—テ トラゾリル) 、 ォキサジ ァゾリル (例えば、 1, 3, 4 一ォキサジァゾリル) 、 チアジアゾリル (例えば、 1 , 3 , 4—チアジアゾリル) 、 イン ドリジニル (例えば、 2 —イ ン ド リジニル、 6 —イ ン ドリ ジニル) 、 イソイ ン ド リル (例えば、 2 —イソイ ン ドリル) 、 イ ン ド リル (例えば、 1 一イ ン ド リル、 2 —イ ン ド リル、 3 —イ ン ドリル) 、 イ ンダ ゾリル (例えば、 3 —イ ンダゾリル) 、 プリニル (例えば、 8 —プリニル) 、 キ ノ リジニル (例えば、 2 —キノ リ ジニル) 、 イ ソキノ リル (例えば、 3 —イ ソキ ノ リル) 、 キノ リル (例えば、 2 —キノ リル、 5 —キノ リル) 、 フ夕ラジニル (例 えば、 1 —フタラジニル) 、 ナフチリ ジニル (例えば、 2 —ナフチリジニル) 、 キノキサリニル (例えば、 2 —キノキサリニル) 、 キナゾリニル (例えば、 2— キナゾリ二ル) 、 シンノ リニル (例えば、 3 —シンノ リ二ル) 、 プテリ ジニル (例 えば、 2—プテリ ジニル) 、 力ルバゾリル (例えば、 2 —力ルバゾリル、 3 —力 ルバゾリル) 、 フエナン ト リ ジニル (例えば、 2 —フエナン ト リジニル、 3 —フ ェナン ト リ ジニル) 、 ァク リ ジニル (例えば、 1 ーァク リニジル、 2 —ァク リニ ジル) 、 ジベンゾフラニル (例えば、 1—ジベンゾフラニル、 2—ジベンゾフラ ニル) 、 ベンゾイ ミダゾリル (例えば、 2 —ペンゾイ ミダゾリル) 、 ベンゾイソ キサゾリル (例えば、 3 —べンゾイソキサゾリル) 、 ベンゾォキサゾリル (例え ば、 2—ベンゾォキサゾリル) 、 ベンゾォキサジァゾリル (例えば、 4—ベンゾ ォキサジァゾリル) 、 ベンゾィゾチアゾリル (例えば、 3 —べンゾイソチアゾリ ル) 、 ベンゾチアゾリル (例えば、 2—ベンゾチアゾリル) 、 ベンゾフ リル (例 えば、 3 —ペンゾフ リル) 、 ペンゾチェニル (例えば、 2 —べンゾチェニル) 、 ベンゾ ト リアゾリル (例えば、 1 一ベンゾト リァゾリル) 等が挙げられる。 As the “aralkyl” for R 2, benzyl, phenylethyl, naphthylmethyl and the like are preferable. Further, benzyl is preferred. In the present specification, the term `` heteroaryl j '' used alone or in combination with other terms is an arbitrarily selected 5 to 6 containing one or more oxygen, sulfur or nitrogen atoms in the ring. Membered aromatic rings, which may be fused with cycloalkyl, aryl, non-aromatic heterocycle, or other heteroaryl, which may be fused at all possible positions. , Pyrrolyl (for example, 1-pyrrolyl, 2-pyrrolyl, 3-pyrrolyl), furyl (for example, 2-furyl, 3-furyl), chenyl (for example, 2- phenyl, 3-) Chenyl), imidazolyl (eg, 2-imidazolyl, 4-imidazolyl), pyrazolyl (eg, 1-pyrazolyl, 3-virazolyl), isothiazolyl (eg, 3-isothiazolyl), isokiki Zolyl (eg, 3-isoxazolyl), oxazolyl (eg, 2-oxazolyl), thiazolyl (eg, 2-thiazolyl), pyridyl (eg, 2-pyridyl, 3-pyridyl, 4-pyridyl), virazinyl ( For example, 2-pyrazinyl), pyrimidinyl (eg, 2-pyrimidinyl, 4-pyrimidinyl), pyridazinyl (eg, 3-pyridazinyl), tetrazolyl (eg, 1H-tetrazolyl), oxazidazolyl (eg, 1,3,4-thoxadiazolyl), thiadiazolyl (eg, 1,3,4-thiadiazolyl), indridinyl (eg, 2-indolinidinyl, 6-indridinyl), isoindolinyl (eg, 2 —Isoin drill), in Drills (eg, 1-indrill, 2—indrill, 3—indrill), indazolyl (eg, 3—indazolyl), purinyl (eg, 8—purinyl), quinolizinyl (For example, 2-quinolinyl), isoquinolyl (for example, 3-isoquinolyl), quinolyl (for example, 2-quinolinyl, 5-quinolinyl), furazinyl (for example, 1-phthalazinyl) ), Naphthyridinyl (eg, 2-naphthyridinyl), quinoxalinyl (eg, 2-quinoxalinyl), quinazolinyl (eg, 2-quinazolinyl), cinnolinyl (eg, 3-cinnolinyl), pteridinyl (eg, , 2-pteridinyl), L-rubazolyl (eg, 2—Luvazolyl, 3—Luvazolyl), phenanthridinyl (eg For example, 2 — phenanthridinyl, 3 — phenanthridinyl), acridinyl (eg, 1-acrylidinyl, 2 — acrilinidyl), dibenzofuranyl (eg, 1-dibenzofuranyl, 2 — Dibenzofuranyl), benzoimidazolyl (for example, 2-benzoisomidazolyl), benzoisoxazolyl (for example, 3-benzoisoxazolyl), benzoxoxazolyl (for example, 2-benzozoxazolyl), benzozo Oxadiazolyl (eg, 4-benzoxodiazolyl), benzothithiazolyl (eg, 3-benzoisothiazolyl), benzothiazolyl (eg, 2-benzothiazolyl), benzofuryl (eg, 3-pentozofryl) , Penzochenyl (eg, 2-benzozoenyl), benzotriazolyl (eg For example, 1-benzotriazolyl) and the like.
R 2における 「ヘテロァリール」 と しては、 ピリ ジル、 チェニル、 フ リル、 ィ ン ド リル、 ィ ミダゾリル等が好ま しい。 Is a "Heteroariru" in R 2, arbitrariness pyridyl, thienyl, off Lil, I down drill, I imidazolyl, etc. are preferred.
本明細書中、 「ヘテロァリ一ルアルキル」 とは、 前記 「低級アルキル」 の任意 の位置に前記 「ヘテロァリ —ル」 が 1 または 2以上置換したもので、 これらは可 能な全ての位置で置換しうる。 例えば、 チアゾリルメチル (例えば、 4 一チアゾ リルメチル) 、 チアゾリルェチル (例えば、 5 —チアゾリルー 2 —ェチル) 、 ベ ンゾチアゾリルメチル (例えば、 (ベンゾチアゾールー 2—ィル) メチル) 、 ィ ン ド リルメチル (例えば、 (イ ン ドールー 3 —ィル) メチル) 、 イ ミダゾリルメ チル (例えば、 4 一イ ミダゾリルメチル) 、 ベンゾチアゾリルメチル (例えば、 2 —べンゾチアゾリルメチル) 、 インダゾリルメチル (例えば、 1 一イ ンダゾリ ルメチル) 、 ベンゾ ト リ アゾリルメチル (例えば、 1 一ベンゾ ト リアゾリルメチ ル) 、 ベンゾキノ リルメチル (例えば、 2 —べンゾキノ リルメチル) 、 ベンゾィ ミダゾリルメチル (例えば、 2 —べンゾイ ミダゾリルメチル) 、 ピリ ジルメチル (例えば、 2 —ピリ ジルメチル、 3 —ピリジルメチル、 4 —ピリジルメチル) 等 が挙げられる。 In the present specification, the “heteroarylalkyl” refers to a “lower alkyl” wherein one or two or more of the above “heteroaryl” are substituted at any position of the “lower alkyl”, and these are substituted at all possible positions. sell. For example, thiazolylmethyl (for example, 4-triazolylmethyl), thiazolylethyl (for example, 5-thiazolyl-2-ethyl), benzothiazolylmethyl (for example, (benzothiazol-2-yl) methyl), and indolylmethyl (Eg, (indole-3-yl) methyl), imidazolylmethyl (eg, 4-imidazolylmethyl), benzothiazolylmethyl (eg, 2-benzothiazolylmethyl), indazolylmethyl (for example, 1-indazolylmethyl), benzotriazolylmethyl (for example, 1-benzotriazolylmethyl), benzoquinolylmethyl (for example, 2-benzoquinolylmethyl) ), Benzoymidazolylmethyl (for example, 2-benzylazomidazolylmethyl), pyridylmethyl (for example, 2-pyridylmethyl, 3-pyridylmethyl, 4-pyridylmethyl) and the like.
R 2における 「ヘテロァリールアルキル」 と しては、 イ ン ド リルメチル (例え ば、 イ ン ド一ルー 3 —ィルメチル) 、 イ ミダゾリルメチル (例えば、 イ ミダゾー ルー 5 —ィルメチル) 等が好ま しい。 本明細書中、 単独でも しく は他の用語と組み合わせて用いられる 「ハロ低級ァ ルキル」 なる用語は、 前記 「ハロゲン」 によって 1〜 8個所、 好ましくは 1 〜 5 個所置換された前記 「低級アルキル」 を包含する。 例えば、 ト リ フルォロメチル、 ト リク ロロメチル、 ジフルォロェチル、 ト リ フルォロェチル、 ジクロロェチル、 ト リクロ口ェチル等が挙げられる。 好ま しく は、 ト リ フルォロメチルが挙げられ る。 As the “heteroarylalkyl” for R 2 , indolylmethyl (for example, indole-3-ylmethyl), imidazolylmethyl (for example, imidazole-5-ylmethyl) and the like are preferable. In the present specification, the term “halo lower alkyl” used alone or in combination with other terms refers to the aforementioned “lower alkyl” substituted at 1 to 8, preferably 1 to 5 positions by the “halogen”. "Is included. For example, trifluoromethyl, trichloromethyl, difluoroethyl, trifluoroethyl, dichloroethyl, trichloroethyl and the like can be mentioned. Preferable is trifluoromethyl.
本明細書中、 「置換されていてもよい低級アルキル」 における置換基としては、 シクロアルキル (例えば、 シクロプロピル、 シクロプチル、 シクロペンチル、 シ ク口へキシル) 、 ヒ ドロキシ、 低級アルキルォキシ (例えば、 メ トキシ、 ェ トキ シ、 t 一ブトキシ) 、 メルカプト、 低級アルキルチオ (例えば、 メチルチオ、 ェ チルチオ) 、 ハロゲン、 ニト ロ、 シァノ、 カルボキシ、 低級アルキルォキシカル ボニル (例えば、 メ トキシカルボニル、 エトキシカルボニル、 t 一ブトキシカル ボニル) 、 ハロ低級アルキル、 ハロ低級アルキルォキシ (例えば、 ト リ フルォロ メチルォキシ) 、 低級アルキルで置換されていてもよいアミノ (例えば、 ァミノ、 メチルァミノ、 ジメチルァミノ、 ェチルァミ ノ、 ジェチルァミノ、 メチルェチル ァミノ) 、 力ルバモイル、 ホルミル、 ァシル (例えば、 ァセチル、 ベンゾィル) 、 ァシルォキシ (例えば、 ァセチルォキシ、 ベンゾィルォキシ) 、 非芳香族複素環 基 (例えば、 ピロ リ ジル、 ピペリ ジニル、 ピペラジニル、 モリホリニル、 テ トラ ヒ ドロフラニル、 テ トラヒ ドロピラニル) 、 ァリールォキシ (例えば、 フエニル ォキシ) 、 ァラルキルォキシ (例えば、 ベンジルォキシ) 、 低級アルキルスルホ ニル (例えば、 メタンスルホニル) 、 グァニジノ、 ァゾ基、 ゥレイ ド等が挙げら れる。 これらは、 全ての可能な位置で 1個以上置換しうる。 In the present specification, examples of the substituent in the “optionally substituted lower alkyl” include cycloalkyl (eg, cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl), hydroxy, lower alkyloxy (eg, methoxy) , Ethoxy, t-butoxy), mercapto, lower alkylthio (eg, methylthio, ethylthio), halogen, nitro, cyano, carboxy, lower alkyloxycarbonyl (eg, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, t-yl) Butoxycarbonyl), halo-lower alkyl, halo-lower alkyloxy (eg, trifluoromethyloxy), amino optionally substituted with lower alkyl (eg, amino, methylamino, dimethylamino, ethylamino, getylamino) , Methylethylamino), rubambamoyl, formyl, acyl (eg, acetyl, benzoyl), acyloxy (eg, acetyloxy, benzoyloxy), non-aromatic heterocycle Groups (eg, pyrrolidyl, piperidinyl, piperazinyl, morpholinyl, tetrahydrofuranyl, tetrahydropyranyl), aryloxy (eg, phenyloxy), aralkyloxy (eg, benzyloxy), lower alkylsulfonyl (eg, methanesulfonyl) Guanidino, azo group, peridode and the like. These may be substituted one or more times in all possible positions.
R 1における 「置換されていてもよい低級アルキル」 としては、 無置換低級ァ ルキルが好ま しい。 As the “optionally substituted lower alkyl” for R 1 , unsubstituted lower alkyl is preferable.
R 2における 「置換されていてもよい低級アルキル」 の置換基と しては、 ヒ ド 口キシ、 低級アルキルォキシ、 低級アルキルチオ、 力ルポキシ、 カルパモイルが 好ま しい。 As the substituent for the “optionally substituted lower alkyl” for R 2 , preferred are a hydroxy group, a lower alkyloxy group, a lower alkylthio group, a carboxyl group and a carpamoyl group.
「置換されていてもよいァリール」、 「置換されていてもよいへテロアリール」、 「置換されていてもよいァラルキル」 、 および 「置換されていてもよいへテロア リールアルキル」における置換基としては、 置換されていてもよい低級アルキル、 シクロアルキル (例えば、 シクロプロピル、 シクロブチル、 シクロペンチル、 シ クロへキシル) 、 低級アルケニル (例えば、 ビニル、 プロぺニル、 ブテニル) 、 低級アルキニル (ェチニル、 プロピニル) 、 ヒ ドロキシ、 低級アルキルォキシ (例 えば、 メ トキシ、 エ トキシ、 t —ブトキシ) 、 メルカプト、 低級アルキルチオ (例 えば、 メチルチオ、 ェチルチオ) 、 ハロゲン、 ニ ト ロ、 シァノ、 カルボキシ、 低 級アルキルォキシカルボニル (例えば、 メ トキシカルボニル、 エトキシカルボ二 ル、 t —ブトキシカルボ二ル) 、 ハロ低級アルキル、 ハロ低級アルキルォキシ (例 えば、 ト リ フルォロメチルォキシ) 、 低級アルキルで置換されていてもよいアミ ノ (例えば、 ァミノ、 メチルァミノ、 ジメチルァミ ノ、 ェチルァミノ、 ジェチル ァミノ、 メチルェチルァミノ) 、 力ルバモイル、 ホルミル、 ァシル (例えば、 ァ セチル、 ベンゾィル) 、 ァシルォキシ (例えば、 ァセチルォキシ、 ベンゾィルォ キシ) 、 ァリール、 ヘテロァリ ール、 非芳香族複素環 (例えば、 ピロ リ ジル、 ピ ペリ ジニル、 ピペラジニル、 モリホリニル、 テ トラヒ ドロフラニル、 テ トラヒ ド ロビラニル) 、 ァラルキル、 ァリールォキシ (例えば、 フエニルォキシ) 、 ァラ ルキルォキシ (例えば、 ベンジルォキシ) 、 低級アルキルスルホニル (例えばメ タンスルホニル) 、 グァニジノ、 ァゾ基、 またはウレイ ド等が挙げられる。 これ らは、 全ての可能な位置で 1個以上置換しうる。 Substituents in “optionally substituted aryl”, “optionally substituted heteroaryl”, “optionally substituted aralkyl”, and “optionally substituted heteroarylalkyl” include: Optionally substituted lower alkyl, cycloalkyl (eg, cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl), lower alkenyl (eg, vinyl, propenyl, butenyl), lower alkynyl (ethynyl, propynyl), Droxy, lower alkyloxy (for example, methoxy, ethoxy, t-butoxy), mercapto, lower alkylthio (for example, methylthio, ethylthio), halogen, nitro, cyano, carboxy, lower alkyloxycarbonyl (for example, , Methoxyl Nil, ethoxycarbonyl, t-butoxycarbonyl), halo-lower alkyl, halo-lower alkyloxy (eg, trifluoromethyloxy), amino optionally substituted by lower alkyl (eg, amino) Amino, methylamino, dimethylamino, ethylamino, getylamino, methylethylamino), levavamoyl, formyl, acyl (for example, acetyl, benzoyl), acyloxy (for example, acetyloxy, benzoyloxy), aryl, heteroaryl Non-aromatic heterocycles (eg, pyrrolidyl, piperidinyl, piperazinyl, morpholinyl, tetrahydrofuranyl, tetrahydrobiranyl), aralkyl, aryloxy (eg, phenyloxy), ara Examples thereof include ruquiloxy (for example, benzyloxy), lower alkylsulfonyl (for example, methanesulfonyl), guanidino, azo group, and ureide. These may substitute one or more at all possible positions.
R 2における 「置換されていてもよいァリール」 、 「置換されていてもよいへ テロアリール」 、 「置換されていてもよいァラルキル」 、 および 「置換されてい てもよいへテロアリールアルキル」 における置換基と しては、 ヒ ドロキシまたは ハロゲンが好ま しい。 また 「無置換のァリール」 、 「無置換のへテロアリール」 、 「無置換のァラルキル」 、 および 「無置換のへテロアリールアルキル」 も好ま し い o 本明細書中、 「反応試薬と して、 K S R 1を用いる反応である」 とは、 K S R 1 を試薬と して直接用いる場合、 および反応系中で K S R 1を発生させて用いる場 合、 の両方を包含する。 反応系中で K S R 1を発生させて用いる場合と しては、 水酸化カリ ウムの存在下、 R 1 S H (例えば、 メチルメルカブタンガス (メタン チオール) ) を導入することによ り、 反応系中に K S R 1を発生させる場合等が 挙げられる。 Substituents for “optionally substituted aryl”, “optionally substituted heteroaryl”, “optionally substituted aralkyl”, and “optionally substituted heteroarylalkyl” for R 2 As a preference, hydroxy or halogen is preferred. In addition, "unsubstituted aryl", "unsubstituted heteroaryl", "unsubstituted aralkyl", and "unsubstituted heteroarylalkyl" are also preferred. a reaction using a "is KSR 1, including the case, and used to generate the KSR 1 in the reaction system if, both used directly as a reagent KSR 1. In the case where KSR 1 is generated and used in the reaction system, R 1 SH (for example, methyl mercaptan gas (methane thiol)) is introduced in the presence of potassium hydroxide to cause a reaction in the reaction system. In some cases, KSR 1 is generated.
本明細書中、 「アルキル化剤」 とは、 有機化合物にアルキル基を導入する反応 に用いられる試剤を意味する。 ハロゲン化アルキル、 炭酸ジアルキル、 スルフィ ン酸アルキル、 スルホン酸アルキル、 硫酸ジアルキル、 リ ン酸アルキルエステル、 亜リ ン酸アルキルエステル、 硝酸エステル、 酢酸エステルおよびテ トラアルキル アンモニゥム塩などが挙げられる。  In the present specification, the term “alkylating agent” means a reagent used for a reaction for introducing an alkyl group into an organic compound. Examples include alkyl halides, dialkyl carbonates, alkyl sulfinates, alkyl sulfonates, dialkyl sulfates, alkyl phosphates, alkyl phosphites, nitrates, acetates, and tetraalkyl ammonium salts.
ノヽロゲン化アルキルと しては、 ヨウ化メチル、 臭化メチル、 塩化メチル、 ヨウ 化工チル、 臭化工チル、 塩化工チル、 ヨウ化プロピル、 臭化プロピル、 塩化プロ ピル、 ヨウ化イソプロピル、 臭化イソプロピル、 塩化イソプロピル、 ヨウ化プチ ル、 臭化プチル、 塩化プチル、 ヨウ化 S —プチル、 臭化 S —プチル、 塩化 S —ブ チル、 ヨウ化 t 一プチル、 臭化 t 一プチル、 塩化 t —プチル等が挙げられる。炭酸 ジアルキルと しては炭酸ジメチル、 炭酸ジェチル、 炭酸ジプロピル、 炭酸ジイソ プロピル、 炭酸ジブチル、 炭酸ジ S—プチル、 炭酸 t一ブチル等が挙げられる。 スルフィ ン酸アルキルと しては、 スルフィ ン酸メチル、 スルフィ ン酸ェチル、 ス ルフィ ン酸プロ ピル、 スルフィ ン酸イソプロピル、 スルフィ ン酸ブチル等が挙げ られる。スルホン酸アルキルと して、 アルキル ト リ フラー ト (メチルト リ フラート . ェチル ト リ フラート、 プロピルト リ フラート、 イソプロピルト リフラー ト、 ブチ ルト リ フラ—ト等) 、 アルキル トシラート (メチルトシラート、 ェチル トシラー ト、 プロピルトシラート、 イソプロピルトシラート、 ブチルト シラート等) 、 ァ ルキルメシラー ト (メチルメシラート、 ェチルメシラート、 プロピルメシラート、 イソプロピルメシラート、 プチルメシラート等) 、 アルキルブロシラート (メチ ルプロシラート、 ェチルブロシラート、 プロピルブロシラート、 イソプロピルブ ロシラート、 ブチルブロシラート) 、 アルキルベンゼンスルホナート (メチルべ ンゼンスルホナート、 ェチルベンゼンスルホナート、 プロピルベンゼンスルホナ —ト、 イソプロピルベンゼンスルホナート、 ブチルベンゼンスルホナー ト等) が 挙げられる。 硫酸ジアルキルと しては硫酸ジメチル、 硫酸ジェチル、 硫酸ジプロ ピル、 硫酸ジイ ソプロピル、 硫酸ジブチル、 硫酸ジ s—プチル、 硫酸 t一ブチル 等が挙げられる。 リ ン酸アルキルエステルと しては、 リ ン酸ト リアルキル (リ ン 酸ト リメチル、 リ ン酸ト リェチル等) 、 リ ン酸ジアルキル (リ ン酸ジメチル、 リ ン酸ジェチル等) 、 リ ン酸モノアルキル (リ ン酸モノメチル、 リン酸モノェチル 等) が挙げられる。 亜リ ン酸アルキルエステルとしては、 亜リ ン酸ト リアルキル (亜リ ン酸ト リメチル、 亜リ ン酸ト リェチル等) 、 亜リ ン酸ジアルキル (亜リ ン 酸ジメチル、 亜リ ン酸ジェチル等) 、 亜リ ン酸モノアルキル (亜リ ン酸モノメチ ル、 亜リ ン酸モノェチル等) が挙げられる。 硝酸エステルとしては、 ト リ フルォ ロメチル硝酸エステルが挙げられる。 酢酸エステルとしては、 ト リ フルォロメチ ル酢酸エステルが挙げられる。テ トラアルキルアンモニゥム塩と しては、フヱニル ト リメチルアンモウニゥムクロ リ ド、 フエニル ト リメチルアンモウニゥムブロ ミ ド、 フエニルト リメチルアンモウニゥムアイオダイ ド、 水酸化フヱニルト リメチ ルアンモウニゥム等が挙げられる。 好ま しくは、 ハ口ゲン化アルキル、 炭酸ジアルキル、 スルフ ィ ン酸アルキル、 スルホン酸アルキル (アルキルト リ フラート、 アルキルトシラート、 アルキルメ シラー ト、 アルキルプ口シラ一ト、 アルキルベンゼンスルホナート等) 、 硫酸ジ アルキル、 テ トラアルキルアンモニゥム塩等が挙げられる。 さらに好ま しくは、 ハロゲン化アルキル、 炭酸ジアルキル、 スルホン酸アルキル (アルキル トシラー ト、 アルキルメシラート等) 、 硫酸ジアルキル、 テ トラアルキルアンモニゥム塩 等があげられる。 特に好ましくは、 ヨウ化メチル、 臭化メチル、 ヨウ化工チル、 臭化工チル炭酸ジメチル、 炭酸ジェチルメチルトシラート、 ェチルトシラート、 メチルメシラー ト、 ェチルメシラート硫酸ジメチル、 硫酸ジェチルフエニル ト リ メチルアンモウニゥムクロリ ド等が挙げられる。 本明細書中、 「触媒」 とは化学反応系中に比較的少量存在し、 自らは結果的に は変化せずに、 反応速度を変化させた り、 反応を開始させたり、 ある反応を選択 的に進行させる化合物を意味する。 パラジウム化合物、 ロジウム化合物、 白金化 合物、 銅化合物、 ルテニウム化合物が挙げられる。 パラジウム化合物が好ま しい。 本明細書中、 「R 3および R 3 ' がー緖になってそれぞれ隣接する酸素原子を含 む環を形成してもよい」 で表わされる環は、 以下に示す璟を包含する。 Examples of alkyl nodogenides include methyl iodide, methyl bromide, methyl chloride, chloroiodide, chlorobromide, chlorochloride, propyl iodide, propyl bromide, propyl chloride, isopropyl iodide, and bromide. Isopropyl, isopropyl chloride, butyl iodide, butyl bromo, butyl butyl, S-butyl iodide, S-butyl bromo, S-butyl butyl, S-butyl butyl, t-butyl iodide, t-butyl bromo, t-chloride Butyl and the like. Dialkyl carbonate includes dimethyl carbonate, getyl carbonate, dipropyl carbonate, and diisocarbonate Propyl, dibutyl carbonate, di-S-butyl carbonate, t-butyl carbonate and the like. Examples of the alkyl sulfinate include methyl sulfinate, ethyl sulfinate, propyl sulfinate, isopropyl sulfinate, butyl sulfinate and the like. Examples of the alkyl sulfonate include alkyl triflate (methyl triflate, ethyl triflate, propyl triflate, isopropyl triflate, butytriflate, etc.), alkyl tosylate (methyl tosylate, ethyl tosylate) , Propyl tosylate, isopropyl tosylate, butyl tosylate, etc.), alkyl mesylate (methyl mesylate, ethyl mesylate, propyl mesylate, isopropyl mesylate, butyl mesylate, etc.), alkyl brosylate (methyl prosylate, ethyl brosylate, etc.) Propyl brosylate, isopropyl brosylate, butyl brosylate), alkylbenzenesulfonate (methylbenzenesulfonate, ethylbenzenesulfonate, propyl Benzenesulfonate, isopropylbenzenesulfonate, butylbenzenesulfonate, etc.). Examples of the dialkyl sulfate include dimethyl sulfate, getyl sulfate, dipropyl sulfate, diisopropyl sulphate, dibutyl sulphate, s-butyl sulphate and t-butyl sulphate. Examples of alkyl phosphates include trialkyl phosphate (such as trimethyl phosphate and triethyl phosphate), dialkyl phosphate (such as dimethyl phosphate and getyl phosphate), and phosphoric acid. Monoalkyl (monomethyl phosphate, monoethyl phosphate, etc.). Examples of the alkyl phosphite include trialkyl phosphite (trimethyl phosphite, triethyl phosphite, etc.), dialkyl phosphite (dimethyl phosphite, getyl phosphite, etc.) ), Monoalkyl phosphite (monomethyl phosphite, monoethyl phosphite, etc.). Examples of the nitrate include trifluoromethyl nitrate. Examples of the acetate include trifluoromethyl acetate. The tetraalkylammonium salts include phenyltrimethylammonium chloride, phenyltrimethylammonium bromide, phenyltrimethylammonium iodide, and phenyltrimethylammonium iodide. And the like. Preferably, alkyl halides, dialkyl carbonates, alkyl sulfinates, alkyl sulfonates (alkyl triflates, alkyl tosylates, alkyl mesylates, alkyl esters, alkyl benzene sulfonates, etc.), dialkyl sulfates And tetraalkylammonium salts. More preferred are alkyl halide, dialkyl carbonate, alkyl sulfonate (alkyl tosylate, alkyl mesylate, etc.), dialkyl sulfate, tetraalkyl ammonium salt and the like. Particularly preferred are methyl iodide, methyl bromide, chloro iodide, dimethyl bromobromide, dimethyl carbonate, ethyl methyl tosylate carbonate, ethyl tosylate, methyl mesylate, dimethyl ethyl mesylate sulfate, dimethyl sulphate sulfate, and methylammonium chloride. Is mentioned. As used herein, the term "catalyst" is used in a chemical reaction system in a relatively small amount to change the reaction rate, start the reaction, or select a reaction without changing the result. Means a compound which is allowed to proceed. Examples include palladium compounds, rhodium compounds, platinum compounds, copper compounds, and ruthenium compounds. Palladium compounds are preferred. In the present specification, the ring represented by “R 3 and R 3 ′ may be combined with each other to form a ring containing an adjacent oxygen atom” includes the following 璟.
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発明を実施するための最良の形態
Figure imgf000018_0001
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
「化合物」 という場合には、 化合物は特定の異性体に限定するものではなく、 全ての可能な異性体 (例えば、 光学異性体等) やラセミ体を含むものである。 さ らに、 製薬上許容される塩、 またはその溶媒和物も含まれる。 また本発明に使用する化合物の 「塩」 という場合には、 アルカリ金属 (リチウ ム、 ナ ト リ ウム、 カ リウム、 セシウム等) 、 アルカ リ土類金属 (マグネシウム、 カルシウム、 ノ リウム等) 、 アンモニゥム、 有機塩基およびアミノ酸との塩、 ま たは無機酸 (塩酸、 臭化水素酸、 リ ン酸、 硫酸等) 、 および有機酸 (酢酸、 クェ ン酸、 マレイン酸、 フマル酸、 ベンゼンスルホン酸、 p— トルエンスルホン酸等) との塩が含まれる。 これらの塩は、 通常行われる方法によって形成させるこ とが できる。 When referring to a “compound”, the compound is not limited to a particular isomer but includes all possible isomers (eg, optical isomers) and racemates. Further, a pharmaceutically acceptable salt or a solvate thereof is also included. When the "salt" of the compound used in the present invention is referred to, an alkali metal (lithium, sodium, potassium, cesium, etc.), an alkaline earth metal (magnesium, calcium, norium, etc.), ammonium, etc. , Salts with organic bases and amino acids, or inorganic acids (hydrochloric acid, hydrobromic acid, phosphoric acid, sulfuric acid, etc.), and organic acids (acetic acid, citric acid, maleic acid, fumaric acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid). These salts can be formed by a commonly used method.
本発明に使用する化合物の 「溶媒和物」 とは、 例えば有機溶媒との溶媒和物、 水和物等を包含する。 水和物を形成する時は、 任意の数の水分子と配位していて もよい。  The “solvate” of the compound used in the present invention includes, for example, solvates with organic solvents, hydrates and the like. When forming a hydrate, it may be coordinated with any number of water molecules.
Figure imgf000019_0001
Figure imgf000019_0001
(I")  (I ")
第 9工程
Figure imgf000019_0002
9th step
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(式中、 A +および: B +はそれそれ互いに独立して、 Na+、 K+、 L i +、 C s +. NH4+等のカチオン ; R 1 R 2、 R3、 R3'、 X 1、 X2、 および X 3は前記と 同意義) (Wherein, A + and:. B + it it independently of one another, Na +, K +, L i +, C s + NH 4 + , etc. cations; R 1 R 2, R 3 , R 3 ', X 1 , X 2 and X 3 are as defined above.
(第 1工程) 本工程は、 出発原料であるビフヱニルハロゲン誘導体 (X) をスルホン化する 工程である。 (First step) This step is a step of sulfonating a biphenyl halogen derivative (X) as a starting material.
クロ口ホルム、 ジクロロメタン、 へキサン、 ヘプタン、 トルエン等の溶媒また はこれらの混合溶媒中、 化合物 (X) と 1〜 1 0当量、 好ま しくは 1. 5当量〜 5当量のスルホン化剤を、 0 °C〜 8 0 °C、 好ま しくは 5 °C〜 5 0 °Cで 0. 5〜 1 0時間、 好ま しくは 1時間〜 5時間反応させ、 通常行われる後処理を行うこ とに より化合物 (V) を得ることができる。  In a solvent such as chloroform, dichloromethane, hexane, heptane, and toluene, or a mixed solvent thereof, 1 to 10 equivalents, preferably 1.5 to 5 equivalents of the sulfonating agent is added to compound (X). After reacting at 0 ° C to 80 ° C, preferably 5 ° C to 50 ° C for 0.5 to 10 hours, preferably for 1 hour to 5 hours, the usual post-treatment is performed. Thus, compound (V) can be obtained.
スルホン化剤としては硫酸、 発煙硫酸、 クロ口硫酸が挙げられる。 クロ口硫酸 が好ま しい。  Examples of the sulfonating agent include sulfuric acid, fuming sulfuric acid, and black sulfuric acid. Black sulfuric acid is preferred.
(第 2工程)  (2nd step)
本工程は、 出発原料であるビフヱニルスルホン酸 (V) をそめ塩 (V a) に変 換する工程である。  In this step, the starting material, biphenylsulfonic acid (V), is converted to a salt (Va).
塩と してはリチウム塩、 ナ ト リ ウム塩、 カリ ウム塩、 セシウム塩、アンモニゥム 塩等があげられる。 カリ ウム塩が好ま しい。  Examples of the salt include a lithium salt, a sodium salt, a potassium salt, a cesium salt, an ammonium salt and the like. Potassium salts are preferred.
化合物 (V) を水、 メタノール、エタノール等の溶媒に溶解し、 塩基を加える。 この反応液を 0 °C~ 1 0 0 °C、 好ましくは 5 °C〜 5 0 °C、 0. 5時間〜 2 4時間、 好ま しくは、 0. 5時間〜 5時間反応させ、 通常行われる後処理を行なうこ とに より、 化合物 ( V a ) を得ることができる。  Compound (V) is dissolved in a solvent such as water, methanol or ethanol, and a base is added. The reaction mixture is allowed to react at 0 ° C to 100 ° C, preferably 5 ° C to 50 ° C, for 0.5 hours to 24 hours, preferably for 0.5 hours to 5 hours. The compound (V a) can be obtained by performing the following post-treatment.
塩基としては、 水酸化リチウム、 水酸化ナ ト リ ウム、 水酸化カリ ウム、 水酸化 セシウム、 水酸化ルビジウム、 アンモニア、 炭酸リチウム、 炭酸水素リチウム、 炭酸ナト リ ウム、 炭酸水素ナ ト リ ゥム、 炭酸力リ ゥム、 炭酸水素力リゥム、 炭酸 ルビジウム、 炭酸水素ルビジウム、 炭酸セシウム、 炭酸水素セシウム等が挙げら れる。水酸化ナ ト リ ゥムおよび水酸化力リ ゥムが好ましい。さらに、 水酸化力 リ ゥ ムが好ま しい。  As the base, lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, cesium hydroxide, rubidium hydroxide, ammonia, lithium carbonate, lithium hydrogen carbonate, sodium carbonate, sodium hydrogen carbonate, Carbon dioxide lime, hydrogen carbonate lime, rubidium carbonate, rubidium hydrogen carbonate, cesium carbonate, cesium hydrogen carbonate, and the like. Hydroxylated and hydroxylated rims are preferred. In addition, a hydroxylating reamer is preferred.
(第 3工程)  (3rd step)
本工程は、 出発原料であるビフヱニルハロゲン誘導体の塩 (V a) をアルキル チォ化し、 化合物 ( I V a) を得る工程である。 本明細書中、 アルキルチオ化反応とは、 主にこの第 3工程を包含するが、 第 2 工程 第 3工程、 第 3工程 第 4工程、 第 2工程 第 3工程"》第 4工程、 および 化合物 (V) から化合物 ( I V) を直接合成す'る工程も包含する。 In this step, a salt (Va) of a biphenyl halogen derivative as a starting material is alkylthioated to obtain a compound (IVa). In the present specification, the alkylthioation reaction mainly includes the third step, but the second step, the third step, the third step, the fourth step, the second step, the third step ">> the fourth step, and the compound The step of directly synthesizing compound (IV) from (V) is also included.
N—メチルピロ リ ジン、 N , N—ジメチルホルムアミ ド、 N , N—ジメチルァ セ トアミ ド、 ジメチルスルホキシ ド等の溶媒またはこれらの溶媒と水の混合溶媒 中、 化合物 (V a) と、 1〜 3 0当量、 好ま しくは 1. 5当量〜 1 0当量の低級 アルキルチオールのアルカリ金属塩を、 5 CTC~ 2 0 0 °C、 好ましくは 7 0 °C〜 1 5 0 °〇で 0. 5 ~ 2 0時間、 好まし くは 3時間〜 1 0時間反応させ、 通常行わ れる後処理を行うことによ り化合物 ( I V a) を得ることができる。 ' 原料の化合物 (V a) としては、 リチウム塩、 ナト リウム塩、 またはカリ ウム 塩が好ましい。 特に、 カリ ウム塩が好ましい。  In a solvent such as N-methylpyrrolidine, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, or a mixed solvent of these solvents and water, compound (Va) and 1 To 30 equivalents, preferably 1.5 equivalents to 10 equivalents of an alkali metal salt of a lower alkyl thiol at 5 CTC to 200 ° C, preferably 70 ° C to 150 ° C. The compound (IVa) can be obtained by reacting for 5 to 20 hours, preferably for 3 hours to 10 hours, and performing a usual post-treatment. '' As the raw material compound (Va), a lithium salt, a sodium salt, or a potassium salt is preferable. In particular, potassium salts are preferred.
また、アルキルチオールのアル力リ金属塩を直接用いる代わ り に、水酸化ナ ト リ ゥム、 水酸化カ リ ウム等の塩基と低級アルキルチオールとから、 反応系中で発生 させた したアルキルチオールのアルカ リ金属塩も用いることができる。  Also, instead of directly using an alkyl thiol metal salt of an alkyl thiol, an alkyl thiol generated in a reaction system from a base such as sodium hydroxide or potassium hydroxide and a lower alkyl thiol is used. Alkali metal salts can also be used.
一方、 反応系中に、 アルキル化剤を加える と収率が向上し、好ま しい。アルキル 化剤と しては、 ハロゲン化アルキル、 炭酸ジアルキル、 スルホン酸アルキル、 お よび硫酸ジアルキルが挙げられる。  On the other hand, if an alkylating agent is added to the reaction system, the yield is improved, which is preferable. Examples of the alkylating agent include an alkyl halide, a dialkyl carbonate, an alkyl sulfonate, and a dialkyl sulfate.
特に、 水酸化カリ ウムのジメチルスルホキシ ド中に、 アルキルチオールを導入 するこ とによ り、 反応系中で生成したアルキルチオールのカリ ウム塩を用いるこ とが好ま しい。 炭酸ジアルキルを加えるとさらに好ま しい。  In particular, it is preferable to use a potassium salt of an alkyl thiol generated in a reaction system by introducing an alkyl thiol into dimethyl sulfoxide of potassium hydroxide. More preferred is the addition of dialkyl carbonate.
特許文献 4、 5記載の水反応 でのアルキルチオ化の条件では、ビフェニルスル ホン酸誘導体特有の溶解性の悪さから、 反応転化率が著しく低い。 また、 極性溶 媒系において、 アルキルチオ化試剤が等量か小過剰である場合も、 反応転化率が 低く、 未反応の原料が、 目的生成物中に残留する。 原料が残った場合、 原料であ るハロゲン化物と生成物であるアルキルチオ化合物の分離は難しく、 最終物に混 在し、 医薬品の場合、 深刻な問題となる可能性が大きい。 一方、 極性溶媒中で、 アルキルチオ化試剤を過剰量使用すると、 反応は早くなり、 反応転化率は高くな るが、 アルキルチオ化剤が生成物の硫黄に隣接するアルキル基を攻撃し、 脱アル キル化物であるビフェニルチオールゃビフェニルのジスルフィ ド化合物が副反応 物と して生成し、 収率が低くなる。 Under the conditions of the alkylthioation in the water reaction described in Patent Documents 4 and 5, the reaction conversion is extremely low due to the poor solubility inherent in the biphenylsulfonate derivative. In addition, when the alkylthioation reagent is used in an equal amount or in a small excess in the polar solvent system, the reaction conversion is low, and unreacted raw materials remain in the target product. If the raw material remains, it is difficult to separate the raw material halide and the product alkylthio compound, and they are mixed in the final product, which is a serious problem in the case of pharmaceuticals. On the other hand, if the alkylthioation reagent is used in excess in a polar solvent, the reaction speeds up and the conversion of the reaction increases. However, the alkylthioating agent attacks the alkyl group adjacent to the sulfur in the product, and a disulfide compound of biphenylthiol / biphenyl, which is a dealkylated product, is produced as a by-product, resulting in a low yield.
そこで、 これらの問題を解決するために、 まず、 極性溶媒中でアルキルチオ金 属の金属種と発生法と使用法を工夫して、 高い転化率を実現し、 次に副生した脱 アルキル副反応物を再アルキル化することで、 収率と含量の向上を可能にしてい る。  Therefore, in order to solve these problems, first, by devising the metal species of the alkylthiometal in a polar solvent, the generation method and the usage method, a high conversion rate was realized, and then the by-product dealkylation side reaction was performed. The re-alkylation of the product allows for an increase in yield and content.
(第 4工程)  (4th step)
本工程は、 化合物 ( I V a ) を酸処理するこ とによ り化合物 ( I V ) を得るェ 程である。  This step is a step of obtaining the compound (IV) by treating the compound (IVa) with an acid.
N —メチルピロ リ ジノ ン一水混合溶媒、 酢酸ェチルー水混合溶媒、 酢酸イソプ 口ピル一水混合溶媒、 酢酸イソプチルー水混合溶媒、 酢酸ノルマルブチルー水混 合溶媒等の酢酸エステル一水混合溶媒、 アセ ト ン一水混合溶媒、 ァセ トニ ト リル -水混合溶媒、 テ トラヒ ドロフラン—水混合溶媒、 ジメチルホルムアミ ド—水混 合溶媒、 ジメチルァセ トアミ ド—水混合溶媒、 ジメチルスルホキシ ドー水混合溶 媒またはジクロロメタン一水混合溶媒等の溶媒中、 塩酸、 硫酸、 メタンスルホン 酸、 リ ン酸、 硝酸等の酸を加え、 液性を酸性にし、 通常行われる後処理を行うこ とにより、 化合物 ( I V ) を得ることができる。 必要に応じて種晶を加え、 N— メチルピロ リジノ ン—氷混合溶媒、 アセ トン一水混合溶媒、 ァセ トニト リル—水 混合溶媒、 メタノール一水混合溶媒、 酢酸ェチル、 酢酸ェチルーへキサン混合溶 媒、 テトラヒ ドロフラン—水混合溶媒、 ジメチルホルムアミ ドー水混合溶媒、 ジ メチルァセ トアミ ド—水混合溶媒、 ジメチルスルホキシ ドー水混合溶媒等の溶媒 から結晶と して化合物 ( I V ) を得ることができる。  N-Methylpyrrolidinone-water mixed solvent, ethyl acetate-water mixed solvent, isopropyl acetate pill-water mixed solvent, isoptyl acetate-water mixed solvent, normal butyl acetate-water mixed solvent, etc. Mixed solvent of ton-water, mixed solvent of acetonitrile-water, mixed solvent of tetrahydrofuran-water, mixed solvent of dimethylformamide-water, mixed solvent of dimethylacetamide-water, mixed solvent of dimethylsulfoxide By adding an acid such as hydrochloric acid, sulfuric acid, methanesulfonic acid, phosphoric acid, nitric acid or the like in a solvent or a solvent such as a mixed solvent of dichloromethane and water, the solution is made acidic, and the compound ( IV) can be obtained. Seed crystals are added as necessary, and N-methylpyrrolidinone-ice mixed solvent, acetone-water mixed solvent, acetonitrile-water mixed solvent, methanol-water mixed solvent, ethyl acetate, ethyl acetate-hexane mixed solvent The compound (IV) can be obtained as crystals from a solvent such as a solvent, a mixed solvent of tetrahydrofuran-water, a mixed solvent of dimethylformamide and water, a mixed solvent of dimethylacetamide-water, and a mixed solvent of dimethylsulfoxide water. .
溶媒としては、 N —メチルピロ リ ジノ ン一水、 またはアセ ト ン一水の混合溶媒 が好ましい。 混合比率としては、 N —メチルピロ リ ジノン : 水 = 1 0 : 1 〜 1 : 5 またはアセ ト ン : 水 = 1 0 : 1 ~ 1 : 5が好ましい。 さらに好ま しくは 4 : 1 〜 1 : 2が挙げられる。 (第 5工程) As the solvent, a mixed solvent of N-methylpyrrolidinone-water and acetate-water is preferable. The mixing ratio is preferably N-methylpyrrolidinone: water = 1: 0: 1 to 1: 5 or acetone: water = 1: 10: 1 to 1: 5. More preferably, the ratio is from 4: 1 to 1: 2. (Fifth step)
本工程は、 出発原料であるスルホン酸 ( I V) をハロゲン化剤により、 ハロゲン 化スルホニル化合物 ( I I ) に変換する工程である。 本明細書中、 ハロゲン化反応 とはこの工程と第 1 0工程を意味する。  This step is a step of converting a sulfonic acid (IV) as a starting material into a sulfonyl halide compound (II) with a halogenating agent. In the present specification, the halogenation reaction means this step and the tenth step.
トルエン、 N, N—ジメチルホルムアミ ド、 N—メチルピロ リジノ ン等の溶媒 またはこれらの混合溶媒中、 化合物 ( I V) と 0. 9〜 3 0当量、 好ま しくは 1 . 0当量〜 1 0当量のハロゲン化剤を、 0°C~ 2 0 0 °C、 好ましくは 3 0 °C〜 1 0 0 °〇で 0. 5 ~ 2 0時間、 好ましくは 0. 5時間〜 3時間反応させ、 通常行われ る後処理を行う ことによ り化合物 ( I ) を得ることができる。  Compound (IV) in a solvent such as toluene, N, N-dimethylformamide, N-methylpyrrolidinone or a mixed solvent thereof in an amount of 0.9 to 30 equivalents, preferably 1.0 to 10 equivalents. Is reacted at 0 ° C. to 200 ° C., preferably 30 ° C. to 100 ° C., for 0.5 to 20 hours, preferably 0.5 to 3 hours. The compound (I) can be obtained by performing the post-treatment performed.
無溶媒でも反応させることもできる。  The reaction can be carried out without solvent.
ハロゲン化剤としては塩化チォニル、 塩化スルフ リル、 ォキシ塩化リ ン、 五塩 ィ匕リ ン、 三塩化リ ン、 臭化チォニル、 臭化スルフ リル、 ォキシ臭化リ ン、 五臭化 リ ン、 三臭化リ ン、 塩素、 臭素等が挙げられる。 塩化チォニルまたはォキシ塩化 リ ンが好ま しい。  Examples of the halogenating agent include thionyl chloride, sulfuryl chloride, oxychlorinated phosphorus, pentachloride linole, linyl trichloride, thionyl bromide, sulfuryl bromide, oxybromide, pentabromide, Examples include phosphorus tribromide, chlorine, and bromine. Thionyl chloride or oxychlorinated chloride are preferred.
(第 6工程)  (Step 6)
本工程は、 ノヽロゲン化スルホニル化合物 ( I I ) と化合物 ( I I I ) とを出発 原料と して、 S c h o t t e n— B a uma n n法を用いてカヅプリ ングするェ 程である。 本明細書中、 アミ ド化反応とはこの工程を意味する。  This step is a step of capping using a sulfonyl compound (II) and a compound (III) as starting materials by using the Schotten-Bamann method. In the present specification, the amidation reaction means this step.
水—アセ トン混合溶媒、 水— 1 , 4一ジォキサン混合溶媒、 水—テ トラヒ ドロ フラン混合溶媒、水ージメ トキシェ夕ン混合溶媒、 水ーァセ トニ ト リル混合溶媒、 _ 水—メ夕ノール混合溶媒、 水一エタノール混合溶媒、 水—プロパノール混合溶媒、 水—イソプロパノール混合溶媒、 水ープタノール混合溶媒、 水—イソブ夕ノール 混合溶媒、 水— s e c—ブタノール混合溶媒等の水一アルコール混合溶媒、 N, N—ジメチルホルムアミ ド、 N , N—ジメチルァセ トアミ ド、 ジメチルスルホキ シ ド等の溶媒中、 化合物 ( I I I ) と 0. 9 ~ 2当量、 好ま しくは 1. 0当量〜 1 . 2当量の化合物 ( I I ) を 2当量〜 1 0当量、 好ましくは 2当量〜 3当量の 塩基の存在下、 — 2 0 °C〜 3 0 °C、 好ましくは— 5 °C~ 1 0 で 1〜 2 0時間、 好ま しくは 1時間〜 3時間反応させ、 通常行われる後処理を行うことによ り化合 物 ( I ) を得るこ とができる。 Water-acetone mixed solvent, water-1,4-dioxane mixed solvent, water-tetrahydrofuran mixed solvent, water dimethoxane mixed solvent, water-acetonitrile mixed solvent, _water-mexanol mixed solvent Water-alcohol mixed solvent such as water-ethanol mixed solvent, water-propanol mixed solvent, water-isopropanol mixed solvent, water-butanol mixed solvent, water-isobutanol mixed solvent, water-sec-butanol mixed solvent, N, N —Dimethylformamide, N, N—Dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, etc. in a solvent such as 0.9 to 2 equivalents, preferably 1.0 to 1.2 equivalents of compound (III). (II) in the presence of 2 to 10 equivalents, preferably 2 to 3 equivalents of a base at —20 ° C. to 30 ° C., preferably—5 ° C. to 10 ° C. for 1 to 20 hours , The compound (I) can be obtained by reacting the mixture for 1 hour to 3 hours, preferably, and performing a usual post-treatment.
溶媒としては、 アセ ト ン—水の混合溶媒が好ま しい。 混合比率と しては、 ァセ トン : 水 = 5 : 1 ~ 1 : 5が好ま しい。 さらに 2 : 1〜 1 : 2が好ま しい。  As the solvent, a mixed solvent of acetate and water is preferable. As a mixing ratio, acetone: water = 5: 1 to 1: 5 is preferable. Further, 2: 1 to 1: 2 is preferred.
塩基としては、 炭酸ナ ト リ ウム、 炭酸水素ナ ト リ ウム、 炭酸カリ ウム、 炭酸水 素カリ ウム、 炭酸セシウム、 炭酸水素セシウム、 炭酸リチウム、 炭酸水素リチウ ム、 炭酸ルビジウム、 炭酸水素ルビジウム、 水酸化リチウム、 水酸化ナ ト リ ウム、 水酸化カリ ウム、 水酸化ルビジウム、 水酸化セシウム、 炭酸アンモニゥム等の無 機塩基や、 ト リェチルァミン、 ト リプチルァミ ン、 ジイソプロビルェチルァミ ン 等の第 3ァミン等が例示される。 炭酸ナ ト リ ウム、 炭酸力リ ウム、 炭酸セシウム、 水酸化ナ ト リウム、 ト リェチルァミ ン等が好ま しい。  Examples of the base include sodium carbonate, sodium hydrogencarbonate, potassium carbonate, potassium hydrogencarbonate, cesium carbonate, cesium hydrogencarbonate, lithium carbonate, lithium hydrogencarbonate, rubidium carbonate, rubidium hydrogencarbonate, and water. Inorganic bases such as lithium oxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, rubidium hydroxide, cesium hydroxide, and ammonium carbonate; and alkali bases such as triethylamine, triptylamine, and diisoprovirethylamine. 3ammin and the like are exemplified. Sodium carbonate, sodium carbonate, cesium carbonate, sodium hydroxide, triethylamine and the like are preferred.
また、 本工程のようにアミノ酸部分のカルボン酸を保護せずに直接反応させる 工程と先行技術にあるようなエステルで保護する反応を比較すると、 脱保護のェ 程が不必要とな り、 総収率も上昇し、 コス トも低減できる。  In addition, comparing the step of directly reacting the carboxylic acid of the amino acid portion without protection as in this step with the reaction of protecting with the ester as in the prior art, the step of deprotection becomes unnecessary, and the total Yields also increase and costs can be reduced.
さらに、 本工程で製造されるビフエニル骨格を有するスルホンアミ ド誘導体は 非常に溶解性が悪い。 本工程のようにカルボン酸部分を保護せずに直接反応させ' る場合には、 この溶解性が単離し易いという利点になる。 しかしながら、 上記と 同様にエステルと して保護した化合物を、 脱保護 (加水分解) する反応において は、 この溶解性の悪さのため、 大量の溶媒と加熱が必要となってく る。 溶媒量を 増やすことは、 工業的生産の場合は収率、 およびコス ト面に大きな影響を与える。 また、 大量に廃液が生じるこ とから環境に与える影響は大きい。 また、 加熱する ことにより、 アミ ノ酸部分の不斉炭素の一部がラセミ化を起こ してしまう。 たと え、 微量の光学異性体が生成しても、 医薬品と して開発する上で深刻な問題を抱 えるこ とになる。  Further, the sulfonamide derivative having a biphenyl skeleton produced in this step has very poor solubility. When the reaction is carried out directly without protecting the carboxylic acid moiety as in this step, there is an advantage that the solubility is easily isolated. However, in the reaction of deprotecting (hydrolyzing) a compound protected as an ester in the same manner as described above, a large amount of solvent and heating are required due to the poor solubility. Increasing the amount of solvent has a significant effect on yield and cost in the case of industrial production. In addition, since a large amount of waste liquid is generated, the impact on the environment is great. In addition, by heating, a part of the asymmetric carbon in the amino acid portion undergoes racemization. Even if a trace amount of optical isomers is produced, it can pose serious problems in developing pharmaceuticals.
この溶解性については、 先行技術にも記載がなく、 低級アルキルチオ基を有す るビフヱニルスルホンアミ ド誘導体の特有の性質である。 従って、 アミノ酸部分 のカルボン酸を保護せずに、 ハ口ゲン化スルホニル化合物と直接反応させる本ェ 程は非常に有用な反応である。 This solubility is not described in the prior art and is a unique property of the biphenylsulfonamide derivative having a lower alkylthio group. Therefore, the present reaction in which the carboxylic acid in the amino acid portion is directly protected and reacted with the sulfonyl compound This is a very useful reaction.
(第 7工程)  (Step 7)
本工程は、 ァリ一ルポ口ン酸誘導体 (V I ) とァリールハロゲン化物 (V I I ) とを出発原料と してカップリ ングし、 ビフヱニル化合物を合成する工程である。 本明細書中、 炭素一炭素結合反応とはこの工程を意味する。  This step is a step of coupling an arylpoic acid derivative (VI) and an aryl halide (VII) as starting materials to synthesize a biphenyl compound. In the present specification, the carbon-carbon bond reaction means this step.
溶媒中、 0. 0 0 1当量〜 0. 5当量、 好ま しくは 0. 0 0 2当量〜 0. 1当 量の触媒の存在下、 ビフヱニルハロゲン物 (V I I ) と 0. 8〜5当量、 好ま し くは 1当量〜 1 . 5当量のァリールポロン酸誘導体 (V I ) と塩基性物質とを 3 0 °C~ 2 0 0で、 好ま しくは 5 0。C〜 1 0 0 °Cで 1時間〜 3 0時間、 好ま しく は 1 . 5時間〜 5時間反応させ、 通常行われる後処理を行う ことによ り化合物 ( I V a ) を得るこ とができる。  In the presence of from 0.001 to 0.5 equivalents, preferably from 0.02 to 0.1 equivalents of the catalyst, 0.8 to 5 equivalents of biphenyl halide (VII) in a solvent. The equivalent, preferably 1 to 1.5 equivalents, of the arylopulonic acid derivative (VI) and the basic substance at 30 ° C to 200, preferably 50. The compound (IVa) can be obtained by reacting at C to 100 ° C for 1 hour to 30 hours, preferably 1.5 hours to 5 hours, and performing a usual post-treatment. .
溶媒としては、 ベンゼン、 トルエン、 N, N—ジメチルホルムアミ ド、 ジメ ト キシェタン、 テ トラヒ ドロフラン、 ジォキサン、 メタノール、 エタノール等の溶 媒またはこれらの溶媒と水の混合溶媒が挙げられる。 特に、 ジォキサン、 ジメ ト キシェタン一エタノール混合溶媒、 ジメ トキシェタン一エタノール一水混合溶媒 が好ま しい。  Examples of the solvent include solvents such as benzene, toluene, N, N-dimethylformamide, dimethoxetane, tetrahydrofuran, dioxane, methanol, and ethanol, or a mixed solvent of these solvents and water. Particularly, dioxane, a mixed solvent of dimethoxetane-ethanol and a mixed solvent of dimethoxetane-ethanol-water are preferred.
触媒としては、 パラジウム黒、 パラジウム一炭素、 塩化パラジウム ( 1 1 ) 、 塩化パラジウム ( I I ) ビスべンゾニ ト リル、 塩化パラジウム ( I I ) ビスァセ トニト リル、 臭化パラジウム, ( 1 1 ) 、 ョゥ化パラジウム ( 1 1 ) 、 酸化パラジ ゥム ( I I ) 、 硫化パラジウム ( I I ) 、 酢酸パラジウム ( I I ) 、 プロピオン 酸パラジウム ( I I ) 、 硫酸パラジウム ( I I ) 、 水酸化パラジウム ( I I ) 、 シアン化パラジウム ( I I ) 、 ト リ フルォロ酢酸パラジウム ( 1 1 ) 、 塩化ビス ト リ フエニルホスフ ィ ンパラジウム ( I I ) 、 およびテ トラキス (ト リ フエニル ホスフィ ン) パラジウム ( 0 ) が挙げられる。 テ トラキス (ト リ フエニルホスフ イ ン) パラジウム ( 0 ) および塩化ビス ト リ フエニルホスフィ ンパラジウム ( I ェ ) が好ま しい。  Catalysts include palladium black, palladium monocarbon, palladium chloride (11), palladium (II) bisbenzonitrile, palladium (II) bisacetonitrile, palladium bromide, (11), iodide Palladium (11), palladium oxide (II), palladium sulfide (II), palladium acetate (II), palladium propionate (II), palladium sulfate (II), palladium hydroxide (II), palladium cyanide ( II), palladium trifluoroacetate (11), bistriphenylphosphine palladium chloride (II), and tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0). Tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0) and bistriphenylphosphine palladium chloride (I) are preferred.
塩基性物質と しては水酸化ナ ト リ ウム、 ナト リ ウムメ トキシ ド、 水酸化力リ ゥ ム、 アンモニア、 水酸化リチウム、 水酸化セシウム、 水酸化ルビジウム、 水酸化 ノ リウム、 リチウムメ トキシ ド、 カリ ウムメ トキシ ド、 セシウムメ トキシ ド、 ナ ト リ ウムエ トキシ ド、 リチウムエトキシ ド、 カ リ ウムエトキシ ド、 セシウムエト キシド、 炭酸リチウム、 炭酸水素リチウム、 炭酸ナ ト リ ウム、 炭酸水素ナ ト リ ウ ム、 炭酸カ リ ウム、 炭酸水素カリ ウム、 炭酸ルビジウム、 炭酸水素ルビジウム、 炭酸セシウム、 炭酸水素セシウム等が挙げられる。 炭酸ナ ト リ ウムが好ま しい。 溶媒がジメ トキシェタン一エタノール混合溶媒またはジメ トキシェタン一エタ ノ一ルー水混合溶媒、 触媒がテ トラキス ( ト リ フエニルホスフィ ン) パラジウム ( 0 ) 、 および塩基性物質が炭酸ナト リウムである反応条件が好ま しい。 Examples of the basic substance include sodium hydroxide, sodium methoxide, and hydroxylated water. , Ammonia, lithium hydroxide, cesium hydroxide, rubidium hydroxide, norium hydroxide, lithium methoxide, potassium methoxide, cesium methoxide, sodium ethoxide, lithium ethoxide, potassium ethoxide, Cesium ethoxide, lithium carbonate, lithium bicarbonate, sodium carbonate, sodium bicarbonate, potassium carbonate, potassium bicarbonate, rubidium carbonate, rubidium bicarbonate, cesium carbonate, cesium bicarbonate, etc. Can be Sodium carbonate is preferred. Preferred is a reaction condition in which the solvent is a mixture of dimethoxetane-ethanol or a mixture of dimethoxetane-ethanol and ethanol, the catalyst is tetrax (triphenylphosphine) palladium (0), and the basic substance is sodium carbonate. .
(第 8工程)  (8th process)
本工程は、 出発原料であるビフヱ二ルチオール化合物 (V I I I ) を低級アル キル化する工程である。 本明細書中、 アルキル化反応とはこの工程を意味する。  This step is a step for lower alkylation of a biphenyl thiol compound (VIII) as a starting material. In the present specification, the alkylation reaction means this step.
N—メチルピロ リ ジン、 N , N—ジメチルホルムアミ ド、 N , N—ジメチルァ セ トアミ ド、 ジメチルスルホキシ ド、 テ トラヒ ドロフラン、 ジォキサン、 ジメ ト キシェタン等の溶媒またはこれらの溶媒と水の混合溶媒中、 化合物 (V I I I ) と 1 ~ 2 0当量、 好ま しくは 1当量〜 5当量の低級アルキルハロゲン化物、 炭酸 ジアルキル、 硫酸ジアルキル等のアルキル化剤を、 一 2 0 °C〜 1 0 0 °C、 好まし くは 0 °C〜 5 0 °Cで 0. 5〜 2 0時間、 好ま しくは 1時間〜 5時間反応させ、 通 常行われる後処理を行う ことによ り化合物 ( I V a) を得るこ とができる。  Solvents such as N-methylpyrrolidine, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxetane, or a mixed solvent of these solvents and water Medium, compound (VIII) and 1 to 20 equivalents, preferably 1 to 5 equivalents of an alkylating agent such as a lower alkyl halide, dialkyl carbonate, dialkyl sulfate, etc., at 120 ° C. to 100 ° C. The compound (IVa) is reacted by reacting at 0 ° C to 50 ° C for 0.5 to 20 hours, preferably for 1 hour to 5 hours, and performing a usual post-treatment. Obtainable.
(第 9工程)  (9th step)
本工程は、 出発原料であるビフエニル化合物 ( I X) をスルホン化してビフエ ニルスルホン酸 ( I V) を得る工程である。  In this step, the starting material biphenyl compound (IX) is sulfonated to obtain biphenylsulfonic acid (IV).
クロ口ホルム、 塩化メチレン、 へキサン、 ヘプ夕ン等の溶媒中、 化合物 ( I X) と 0. 9〜 3 0当量、 好ま しくは 1. 0当量〜 1 0当量のスルホン化剤を、 0°C 〜 1 0 0 °C、 好ましくは 0 °C〜 °Cで 0. 5 ~ 1 0時間、 好ましくは 1時間〜 5時 間反応させ、 通常行われる後処理を行うことにより化合物 ( I V) を得るこ とが できる。 スルホン化剤と しては硫酸、 発煙硫酸、 クロ口硫酸が挙げられる。 クロ口硫酸 が好ま しい。 Compound (IX) and 0.9 to 30 equivalents, preferably 1.0 to 10 equivalents, of a sulfonating agent in a solvent such as chloroform, methylene chloride, hexane, and heptane at 0 ° The compound (IV) is reacted at a temperature of C to 100 ° C., preferably 0 ° C. to ° C. for 0.5 to 10 hours, preferably 1 hour to 5 hours, and subjected to a usual post-treatment to give the compound (IV). Obtainable. Sulfonating agents include sulfuric acid, fuming sulfuric acid, and sulfuric acid. Black sulfuric acid is preferred.
(第 1 0工程)  (Step 10)
本工程は、 スルホン酸塩 ( I V a) をハロゲン化剤によ り、 ハロゲン化スルホ ニル化合物 ( I I ) に変換する工程である。 本明細書中、 ハロゲン化反応とはこの 工程と第 5工程を意味する。 第 5工程と同様の条件で反応を行なうことができる。 実施例  This step is a step of converting the sulfonate (IVa) to a sulfonyl halide compound (II) by a halogenating agent. In the present specification, the halogenation reaction means this step and the fifth step. The reaction can be carried out under the same conditions as in the fifth step. Example
実施例中、 以下の略号を使用する。  In the examples, the following abbreviations are used.
M e : メチル M e: Methyl
D ME : ジメ トキシェタン  D ME: Jim Tokishetan
DMF : N, N—ジメチルホルムアミ ド  DMF: N, N-dimethylformamide
D M S 0 : ジメチルスルホキシ ド  D M S 0: Dimethyl sulfoxide
E t O H :エタノール  E t O H: ethanol
P h : フヱニル  P h: Fanil
T H F : テ トラヒ ドロフラン 実施例 1 化合物 ( 1 ) の調製  THF: Tetrahydrofuran Example 1 Preparation of Compound (1)
Figure imgf000027_0001
Figure imgf000027_0001
18 1  18 1
ィ匕合物 ( 1 8) 1 2 0 g ( 0. 5 1 mol) をクロ口ホルム ( 6 0 0 mL) に溶解 し、 クロ口硫酸 7 2. 0 g ( 0. 6 2 mol) を加えた。 この溶液を室温下で 1 . 5時間攪拌した。 析出した結晶を濾過しクロ口ホルムで洗浄した。 乾燥して、 化 合物 ( 1 ) を 1 44. 5 2 g (収率 9 0 %) 得た。  Dissolve the compound (18) (120 g, 0.51 mol) in chloroform (600 mL) and add sulfuric acid (72.0 g, 0.62 mol). Was. This solution was stirred at room temperature for 1.5 hours. The precipitated crystals were filtered and washed with a black hole form. After drying, 144.52 g of compound (1) was obtained (yield: 90%).
I R (KB r ) 1 1 2 9 , 8 1 3 c m-1 ; IR (KB r) 1 12 9, 8 13 cm- 1 ;
1 H - N MR (DM S O - d 6 ) p p m) δ 7. 6 1 - 7. 7 0 (m, 8 H ) . 実施例 2 化合物 ( l b ) の調製
Figure imgf000028_0001
1 H-N MR (DM SO-d 6) ppm) δ 7.6 1-7.70 (m, 8 H). Example 2 Preparation of compound (lb)
Figure imgf000028_0001
lb 化合物 ( 1 ) 2 0 g ( 0 . 0 6 4 mol) を水 ( 4 0 mL) に溶解し、 水酸化力 リ ゥム 8 . 3 3 g ( 0 . 1 3 mol) を加えた。 この溶液を室温下で 1 . 5時間攪拌 した。 析出した結晶を濾過し水で洗浄した。 乾燥して、 化合物 ( l b ) を 2 0 . 8 3 g (収率 9 3 %) 得た。  20 g (0.064 mol) of the lb compound (1) was dissolved in water (40 mL), and 8.33 g (0.13 mol) of a hydration power was added. This solution was stirred at room temperature for 1.5 hours. The precipitated crystals were filtered and washed with water. Drying yielded 20.83 g (93% yield) of compound (lb).
I R ( K B r ) 1 1 2 9 , 8 1 3 c m- 1 ; IR (KBr) 1 12 9, 8 13 cm- 1 ;
1 H - N MR (D M S O - d 6 , p m) δ 7 . 6 1 - 7 . 7 0 (m , 8 H) · 実施例 3 化合物 ( 2 a ) の調製 1 H - N MR (DMSO - d 6, pm) δ 7 6 1 -.. 7 7 Preparation of 0 (m, 8 H) · Example 3 Compound (2 a)
Figure imgf000028_0002
Figure imgf000028_0002
ィ匕合物 ( 1 ) 2 g ( 6 . 4 mm o 1 ) を N—メチルピロ リ ジノ ン 4 0 m Lに溶 解し、 ナ ト リ ウム チオメ トキシ ド 1 . l g ( 1 6 mm o l ) を加え、 1 1 5 °C に加熱した。 1 1 5 °Cで 8時間攪拌した後、 室温まで冷却した。 析出した結晶を 濾過し、 N—メチルピロ リ ジノ ンと水で洗浄した。 乾燥して、 化合物 ( 2 a ) を 1 . 4 g (収率 7 4 %) 得た。  2 g (6.4 mm o 1) of N-methylpyrrolidinone was dissolved in 40 mL of N-methylpyrrolidinone, and sodium thiomethoxide (1.lg (16 mmol)) was dissolved. In addition, it was heated to 115 ° C. After stirring at 115 ° C for 8 hours, the mixture was cooled to room temperature. The precipitated crystals were filtered and washed with N-methylpyrrolidinone and water. After drying, 1.4 g (yield 74%) of compound (2a) was obtained.
1 R ( K B r ) 1 1 8 9 , 8 1 2 c m - 1 ; 1 R (KBr) 1 1 8 9, 8 1 2 cm- 1 ;
1 H - NM R (D M S O - d 6 > p p m) δ 2 . 5 3 ( s , 3 H ) , 7 . 3 7 (m; 1 H-NMR (DMSO-d 6> ppm) δ 2.5 3 (s, 3H), 7.37 (m ;
2 H ) , 7 . 6 4 - 7 . 6 7 (m, 6 H) . 実施例 4 化合物 ( 2 a ) の調製
Figure imgf000029_0001
2H), 7.64-7.67 (m, 6H). Example 4 Preparation of Compound (2a)
Figure imgf000029_0001
2a  2a
水酸化ナト リ ウム 。 . 8 g ( 2 0 mm o 1 ) を N—メチルピロ リジノ ン ( 1 2 . 5 m L ) に懸濁し、 水 2 . 5 m Lを加えて溶解させた。 この溶液にメチルメル力 ブタンガスを導入した後、 一部を減圧下留去した。 この溶液に化合物 ( 1 ) 2 g ( 6 . 4 mm 0 1 ) を加え、 1 1 5 °Cに加熱した。 1 1 5 °Cで 4時間攪拌した後、 室温まで冷却した。 析出した結晶を濾過し、 N—メチルピロ リ ジノ ンと水で洗浄 した。 乾燥して、 化合物 ( 2 a) を 1 . 4 g (収率 7 4 %) 得た。  Sodium hydroxide . .8 g (20 mmo1) was suspended in N-methylpyrrolidinone (12.5 mL), and dissolved by adding 2.5 mL of water. After introducing methylmer butane gas into this solution, a part was distilled off under reduced pressure. To this solution, 2 g (6.4 mm 01) of the compound (1) was added, and the mixture was heated to 115 ° C. After stirring at 115 ° C for 4 hours, the mixture was cooled to room temperature. The precipitated crystals were filtered and washed with N-methylpyrrolidinone and water. After drying, 1.4 g (yield 74%) of compound (2a) was obtained.
1 R ( K B r ) 1 1 8 9 , 8 1 2 c m- 1 ; 1 R (KBr) 1 1 8 9, 8 1 2 cm- 1
1 H - N MR (D M S 0 - d 6 ; p m) δ 2 . 5 3 ( s, 3 H ) , 7 . 3 7 (m, 1 H-N MR (DMS 0-d 6; pm) δ 2.5 3 (s, 3H), 7.37 (m,
2 H) , 7 . 6 4 - 7 . 6 7 (m , 6 H ) . 2 H), 7.64-7.67 (m, 6 H).
Figure imgf000029_0002
Figure imgf000029_0002
水酸化ナ ト リ ウム 0 . 8 6 g ( 2 2 mm o 1 ) を N—メチルピロ リ ジノン ( 1 3 m L ) に懸濁し、 水 2 . 5 m Lを加えて溶解させた。 この溶液にメチルメル力 プタンガスを導入した後、 一部を減圧下留去した。 この溶液に化合物 ( 1 ) 1 . 0 g ( 3 . 6 mm 0 1 ) を加え、 1 2 0 °Cに加熱した。 1 2 0 °Cで 5時間攪拌し た後、 室温まで冷却した。 この反応液にョー ドメタン 0 . 6 m L ( 1 l mm o 1 ) を加え、 室温で 3時間攪拌した。 析出した結晶を濾過し、 N—メチルピロ リ ジノ ンと水で洗浄した。 乾燥して、 化合物 ( 2 a ) を 0 . 8 8 g (収率 9 1 % ) 得た。 1 R ( K B r ) 1 1 8 9, 8 1 2 c m-0.886 g (22 mmo1) of sodium hydroxide was suspended in N-methylpyrrolidinone (13 mL), and dissolved by adding 2.5 mL of water. After introducing methyl mercaptan gas into this solution, a part was distilled off under reduced pressure. To this solution was added 1.0 g (3.6 mm 01) of the compound (1), and the mixture was heated to 120 ° C. After stirring at 120 ° C for 5 hours, the mixture was cooled to room temperature. To this reaction solution was added 0.6 mL (1 lmmo1) of methane, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. The precipitated crystals were filtered and washed with N-methylpyrrolidinone and water. After drying, 0.88 g (yield 91%) of compound (2a) was obtained. 1 R (KBr) 1 189, 8 1 2 cm-
1 H - NMR (D M S O - d 6 ; p p m) 6 2 . 5 3 ( s , 3 H ) , 7 . 3 7 (m 1 H-NMR (DMSO-d6 ; ppm) 6 2.53 (s, 3H), 7.37 (m
2 H ) , 7 . 6 4 - 7 . 6 7 (m, 6 H ) . 実施例 6 化合物 ( 2 b ) の調製 2H), 7.64-7.67 (m, 6H). Example 6 Preparation of Compound (2b)
Figure imgf000030_0001
Figure imgf000030_0001
水酸化カ リ ウム 1 . 3 g ( 2 3 mm o 1 ) を N—メチルピロ リジノ ン ( 1 2 . 5 m L ) に懸濁し、 水 1 . 5 m Lを加えて溶解させた。 この溶液にメチルメル力 プ夕ンガスを導入した後、 一部を減圧下留去した。 この溶液に化合物 ( 1 ) 2 . 5 g ( 8 mm o 1 ) を加え、 1 1 5 °Cに加熱した。 1 1 5 °Cで 4時間攪拌した後、 室温まで冷却した。 析出した結晶を濾過し、 N—メチルピロ リ ジノ ンと水で洗浄 した。 乾燥して、 化合物 ( 2 b ) を 2 . 0 g (収率 7 7 %) 得た。  1.3 g (23 mmo1) of potassium hydroxide was suspended in N-methylpyrrolidinone (12.5 mL), and dissolved by adding 1.5 mL of water. After introducing methylmer gas into this solution, a part was distilled off under reduced pressure. To this solution, 2.5 g (8 mmo 1) of the compound (1) was added, and the mixture was heated to 115 ° C. After stirring at 115 ° C for 4 hours, the mixture was cooled to room temperature. The precipitated crystals were filtered and washed with N-methylpyrrolidinone and water. After drying, 2.0 g (yield 77%) of compound (2b) was obtained.
I R ( K B r ) 1 1 8 6 , 8 1 2 c m一1. 実施例 7 化合物 ( 2 a) の調製 IR (KBr) 1 1 8 6, 8 1 2 cm- 1 Example 7 Preparation of compound (2a)
Figure imgf000030_0002
水酸化カ リ ウム 4. 6 4 g ( 7 1 . 1 mm o 1 ) をジメチルスルホキシ ド ( 5 0 m L ) に懸濁し、 溶液へメチルメルカブタンガスを導入した。 この溶液に化合 物 ( 1 b ) を 5 g ( 1 4. 2 m m 0 1 ) 加え、 1 1 5 °Cに加熱した。 1 1 5 °Cで 6時間攪拌した後、 8 0 °Cまで冷却し、 炭酸ジメチル 7 . 8 mL ( 9 2 . 6 mL) を加えた後、 氷( 5 0 mL) と 4 8 %水酸化ナ ト リ ウム水 7 · 2 g ( 8 6 . 4 mmol) を加え同温度下で 1時間攪拌した。 この反応液を 5 °Cに冷却し同温度で 3 0分間 攪拌し、 析出した結晶を濾過し水で洗浄した。 乾燥して、 化合物 ( 2 a ) を 4 . 1 2 g (収率 9 6 %) 得た。
Figure imgf000030_0002
4.64 g (71.1 mmol) of potassium hydroxide was suspended in dimethyl sulfoxide (50 mL), and methyl mercaptan gas was introduced into the solution. 5 g (14.2 mm 01) of the compound (1b) was added to this solution, and the mixture was heated to 115 ° C. After stirring at 115 ° C for 6 hours, the mixture was cooled to 80 ° C, 7.8 mL (92.6 mL) of dimethyl carbonate was added, and then ice (50 mL) and 48% hydroxylation were added. 7.2 g of sodium water (86.4 mmol) Was added and stirred at the same temperature for 1 hour. The reaction solution was cooled to 5 ° C. and stirred at the same temperature for 30 minutes, and the precipitated crystals were filtered and washed with water. After drying, 4.12 g (yield 96%) of compound (2a) was obtained.
1 R ( K B r ) 1 1 8 9 , 8 1 2 c m- 1 ; 1 R (KBr) 1 1 8 9, 8 1 2 cm- 1
1 H - NMR (D M S O - d 6 i p m) δ 2 . 5 3 ( s, 3 H ) , 7 . 3 7 (m; 1 H-NMR (DMSO-d 6 ipm) δ 2.53 (s, 3H), 7.37 (m ;
2 H ) , 7 . 6 4 - 7 . 6 7 ( m , 6 H ) . 2 H), 7.64-7.67 (m, 6 H).
実施例 8 化合物 ( 2 ) の調製 Example 8 Preparation of compound (2)
Figure imgf000031_0001
Figure imgf000031_0001
2a 2 化合物 ( 2 a ) 1 0 g ( 0 . 0 3 3 mol) をアセ ト ン 2 0 O m Lと水 2 0 0 m Lの混合溶媒に懸濁し、 6 0 ~ 7 0 °Cに加熱した。 3 5 %塩酸 5 · 1 7 g ( 0 . 0 5 0 m 0 1 ) を加えた後、 同温度で 3 0分間攪拌した後、 減圧濃縮してァセ ト ンを留去した。 析出した結晶を濾過し、 水で洗浄した。 乾燥して化合物 ( 2 ) を 9 . 2 7 g (収率 1 0 0 %) 得た。  2a 2 Suspend 10 g (0.033 mol) of compound (2a) in a mixed solvent of 200 mL of acetate and 200 mL of water, and heat to 60 to 70 ° C did. After adding 35.17 g (0.050 m 01) of 35% hydrochloric acid, the mixture was stirred at the same temperature for 30 minutes, and concentrated under reduced pressure to distill off acetate. The precipitated crystals were filtered and washed with water. After drying, 9.27 g of compound (2) was obtained (yield: 100%).
I R ( K B r ) 3 4 4 8 , 1 1 8 9 , 8 1 2 c m- 1 ; IR (KBr) 3 4 4 8, 1 1 8 9, 8 1 2 cm- 1 ;
1 H - NMR (D M S O - d 6 ; p p m) δ 2 . 5 1 ( s, 3 H ) , 7 . 3 2 — 7 . 3 7 (m, 2 H ) , 7 . 5 8 - 7 . 6 8 ( m , 6 H) . 1 H-NMR (DMSO-d 6; ppm) δ 2.51 (s, 3H), 7.32 — 7.37 (m, 2H), 7.58-7.68 ( m, 6H).
実施例 9 化合物 ( 2 a) の調製 Example 9 Preparation of compound (2a)
Figure imgf000031_0002
Figure imgf000031_0002
3 4 2a  3 4 2a
化合物 ( 4 ) 6 0 g ( 0 . 2 3 m o l ) および化合物 ( 3 ) 4 0 g ( 0 . 2 4 m o 1 ) を D M E 4 0 O m Lとエタノール 1 0 O m Lの混合溶媒に懸濁した。 そ こに炭酸ナ ト リ ウム 7 5 gを水 3 0 0 m Lに溶解した水溶液を加え、窒素置換後、 テ トラキス ト リ フエニルホスフィ ンパラジウム 9 . 6 g ( 0 . 0 0 8 m o 1 ) を 加え、 約 8 0 で 4時間攪拌した。 反応後、 水 3 0 0 mLを加えて析出物を濾取 し、 水、 アセ ト ンと T H Fで洗浄した。 炭酸塩を含む粗製の結晶を水 6 0 0 m L に懸濁し、 塩酸で中和した。 結晶を濾過後、 乾燥して化合物 ( 2 a) を 5 7 . 5 g (収率 8 6 %) 得た。 60 g (0.233 mol) of compound (4) and 40 g (0.24 mol) of compound (3) mo 1) was suspended in a mixed solvent of 40 mL of DME and 100 mL of ethanol. An aqueous solution obtained by dissolving 75 g of sodium carbonate in 300 mL of water was added thereto, and after purging with nitrogen, 9.6 g (0.008 mo1) of tetraxtriphenylphosphine palladium was added. In addition, the mixture was stirred at about 80 for 4 hours. After the reaction, 300 mL of water was added, and the precipitate was collected by filtration and washed with water, acetate and THF. The crude crystals containing carbonate were suspended in 600 mL of water and neutralized with hydrochloric acid. The crystals were filtered and dried to obtain 57.5 g of compound (2a) (yield 86%).
1 R ( K B r ) 1 1 8 9 , 8 1 2 c m- 1 ; 1 R (KBr) 1 1 8 9, 8 1 2 cm- 1
1 H - NMR (D M S O - d 6 ) p p m) δ 2 . 5 3 ( s, 3 H) , 7 . 3 7 (m, 1 H-NMR (DMSO-d 6) ppm) δ 2.53 (s, 3H), 7.37 (m,
2 H ) , 7 . 6 4 - 7. 6 7 ( m , 6 H) . 実施例 1 0 化合物 ( 2 b ) の調製 2H), 7.64-7.67 (m, 6H). Example 10 Preparation of Compound (2b)
Figure imgf000032_0001
Figure imgf000032_0001
5 e 2b  5 e 2b
化合物 ( 5 ) 5 3 m g ( 0 . 2 mm o 1 ) を N—メチルピロ リ ジノ ン 0 . 2 7 mLに懸濁し、 炭酸カリ ウム 8 3 m g ( 0 . 6 m m 0 1 ) とョードメタン 5 7 m g ( 0 . 4 mm o 1 ) を加えた。 室温で 3時間攪袢した後、 反応液を濾過し、 水 で洗浄した。 乾燥して、 化合物 ( 2 b ) を 4 8 m g (収率 7 5 %) 得た。 53 mg (0.2 mmo1) of compound (5) was suspended in 0.27 mL of N-methylpyrrolidinone, and 83 mg (0.6 mm01) of potassium carbonate and 57 mg of iodomethane were suspended. (0.4 mm o 1). After stirring at room temperature for 3 hours, the reaction solution was filtered and washed with water. After drying, 48 mg (yield 75%) of compound (2b) was obtained.
I R (K B r ) 1 1 8 6 , 8 1 2 c m— 1. 実施例 1 化合物 ( 2 ) の調製 IR (KB r) 1 1 8 6, 8 1 2 cm- 1 . Example 1 Preparation of compound (2)
Figure imgf000032_0002
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化合物 ( 6 ) 1 . 0 g ( 5 . 0 mm 0 1 ) をクロ口ホルム 5 m Lに懸濁し、 ク ロロ硫酸 7 5 7 m g ( 6 . 5 mm o 1 ) を加えた。 室温で 4時間攪拌した後、 析 出した結晶を濾過し、 クロ口ホルムで洗浄した。 乾燥して、 化合物 ( 2 ) を 4 1Suspend 1.0 g (5.0 mm 01) of compound (6) in 5 mL of black hole form. 7557 mg (6.5 mmol) of lolosulfuric acid was added. After stirring at room temperature for 4 hours, the precipitated crystals were filtered and washed with a filter. Dry the compound (2) with 4 1
0 m g (収率 2 9 % ) 得た。 0 mg (29% yield) was obtained.
1 R ( K B r ) 3 4 4 8 , 1 1 8 9 , 8 1 2 c m- 1 ; 1 R (KBr) 3 4 4 8, 1 1 8 9, 8 1 2 cm- 1
1 H - N M R (D M S O - d 6 j p p m) δ 2 . 5 1 ( s, 3 H ) , 7 . 3 2 — 7 . 3 7 (m, 2 H ) , 7 . 5 8 - 7 . 6 8 (m, 6 H ) . 実施例 1 2 化合物 ( 2 ) の調製 1 H-NMR (DMSO-d 6 j ppm) δ 2.51 (s, 3H), 7.32 — 7.37 (m, 2H), 7.58-7.68 ( Example 12 Preparation of compound (2)
Figure imgf000033_0001
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2a Me 2  2a Me 2
ィ匕合物 ( 2 a ) 4 0 g ( 0 . 1 3 m o l ) を N—メチルピロ リ ジノ ン 1 4 0 m Lと水 6 0 m Lの混合溶媒に懸濁し、 1 1 5 °Cに加熱した。 3 5 %塩酸 1 3 . 8 g ( 0 . 1 3 m o 1 ) を加えた後、 N—メチルピロ リジノ ン 3 0 8 m Lと水 1 3 2 m Lを加え、 溶解した。 1 1 5 °Cで 1 0分間攪拌した後、 約 5 °Cまで冷却した。 析出した結晶を濾過し、 水で洗浄した。 乾燥して化合物 ( 2 ) を 3 3 g (収率 9 1 % ) 得た。  40 g (0.13 mol) of the compound (2a) was suspended in a mixed solvent of 140 mL of N-methylpyrrolidinone and 60 mL of water, and heated to 115 ° C. did. After adding 13.8 g (0.13 mol) of 35% hydrochloric acid, 30.8 mL of N-methylpyrrolidinone and 132 mL of water were added and dissolved. After stirring at 115 ° C for 10 minutes, the mixture was cooled to about 5 ° C. The precipitated crystals were filtered and washed with water. Drying yielded 33 g of compound (2) (91% yield).
I R ( K B r ) 3 4 4 8 , 1 1 8 9 , 8 1 2 c m - 1 ; IR (KBr) 3 4 4 8, 1 1 8 9, 8 1 2 cm- 1 ;
1 H - NMR (D M S O - d 6 ; p p m) δ 2 . 5 1 ( s , 3 Η ) , 7 . 3 2 — 7 . 3 7 ( m, 2 Η) , 7 . 5 8 - 7 . 6 8 (m, 6 Η ) . 実施例 1 3 化合物 ( 2 ) の調製 1 H-NMR (DMSO-d 6; ppm) δ 2.51 (s, 3 layers), 7.3 2 — 7.37 (m, 2 layers), 7.58-7.68 ( Example 13 Preparation of compound (2)
Figure imgf000033_0002
化合物 ( 2 b ) 0 . 4 2 g ( 0 . 0 0 1 3 m o l ) を N—メチルピロ リ ジノ ン 2 m L と水 2 m Lの混合溶媒に懸濁し、 1 1 5 °Cに加熱した。 3 5 %塩酸 0 . 1 4 g ( 0. 0 0 1 3 m o 1 ) を加えた後、 N—メチルピロ リ ジノ ン 3 m Lと水 1 m Lを加え、 溶解した。 1 1 5 °Cで 1 0分間攪拌した後、 約 5 °Cまで冷却した。 析出した結晶を濾過し、 水で洗浄した。 乾燥して化合物 ( 2 ) を 0 . 3 5 g (収 率 9 1 %) 得た。
Figure imgf000033_0002
Compound (2b) (0.42 g, 0.0013 mol) was suspended in a mixed solvent of N-methylpyrrolidinone (2 mL) and water (2 mL), and heated to 115 ° C. After 0.14 g (0.013mo1) of 35% hydrochloric acid was added, 3 mL of N-methylpyrrolidinone and 1 mL of water were added and dissolved. After stirring at 115 ° C for 10 minutes, the mixture was cooled to about 5 ° C. The precipitated crystals were filtered and washed with water. After drying, 0.35 g (yield: 91%) of compound (2) was obtained.
I R ( K B r ) 3 4 4 8, 1 1 8 9, 8 1 2 c m - 1 ; IR (KBr) 3448, 1189, 812cm- 1 ;
1 H - NMR (D M S O - d 6 ; p m) δ 2 . 5 1 ( s, 3 Η) , 7 . 3 2 - 7 . 3 7 (m, 2 H ) , 7 . 5 8 - 7 . 6 8 (m, 6 H) . 実施例 1 4 化合物 ( 2 c ) の調製 1 H-NMR (DMSO-d 6; pm) δ 2.51 (s, trilayer), 7.32-7.37 (m, 2H), 7.58-7.68 ( m, 6 H). Example 14 Preparation of Compound (2c)
Figure imgf000034_0001
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2 2c  2 2c
化合物 ( 2 ) 5 g ( 1 6 mm o 1 ) を水 l O m Lに溶解し、 1 1 %水酸化リチ ゥム水溶液 5 . 2 g ( 2 4 mm 0 1 ) を加えた。 室温で 1時間攪拌した後、 析出 した結晶を濾過し、 水で洗浄した。 乾燥して、 化合物 ( 2 c ) を 4. 0 g (収率 7 8. 4 % ) 得た。  5 g (16 mmo 1) of the compound (2) was dissolved in 10 mL of water, and 5.2 g (24 mm 01) of a 11% aqueous solution of lithium hydroxide was added. After stirring at room temperature for 1 hour, the precipitated crystals were filtered and washed with water. After drying, 4.0 g (yield: 78.4%) of compound (2c) was obtained.
I R ( K B r ) 1 1 8 9 , 8 1 2 c m— 1. 実施例 1 5 化合物 ( 2 a ) の調製 IR (KBr) 1 189, 812 cm— 1 . Example 15 Preparation of Compound (2a)
Figure imgf000034_0002
Figure imgf000034_0002
2 2a  2 2a
化合物 ( 2 ) 2 . 0 g ( 6 . 4 mm o 1 ) をと水 4 mLに溶解し、 4 8 %水酸 化ナト リゥム水溶液 0 . 8 g ( 9 . 6 mm o 1 ) を加えた。 室温で 1時間攪拌し た後、 析出した結晶を濾過し、 水で洗浄した。 乾燥して、 化合物 ( 2 a ) を 1 . 7 g (収率 8 9 . 5 %) 得た。 Dissolve 2.0 g (6.4 mm o 1) of compound (2) in 4 mL of water and add 48% 0.8 g (9.6 mmol) of an aqueous sodium chloride solution was added. After stirring at room temperature for 1 hour, the precipitated crystals were filtered and washed with water. After drying, 1.7 g (yield 89.5%) of compound (2a) was obtained.
I R ( K B r ) 1 1 8 9, 8 1 2 c m- 実施例 1 6 化合物 ( 2 b ) の調製  IR (KBr) 1189, 812 cm- Example 16 Preparation of Compound (2b)
Figure imgf000035_0001
Figure imgf000035_0001
2 2b  2 2b
化合物 ( 2 ) 2 . 0 g ( 6 . 4 mm o 1 ) を水 4 m Lに溶解し、 5 3 %水酸化 力リゥム水溶液 1 . 0 g ( 9 . 6 mm 0 1 ) を加えた。 室温で 1時間攪拌した後、 析出した結晶を濾過し、 水で洗浄した。乾燥して、 化合物 ( 2 b ) を 1 . 6 g (収 率 7 2 . 7 %) 得た。  2.0 g (6.4 mmol) of the compound (2) was dissolved in 4 mL of water, and 1.0 g (9.6 mm 01) of a 53% aqueous hydroxide solution was added. After stirring at room temperature for 1 hour, the precipitated crystals were filtered and washed with water. After drying, 1.6 g (yield: 72.7%) of compound (2b) was obtained.
I R ( K B r ) 1 1 8 6 , 8 1 2 c m一1. 実施例 1 7 化合物 ( 2 d ) の調製 IR (KBr) 1 1 8 6, 8 1 2 cm 1 Example 1 7 Preparation of compound (2d)
Figure imgf000035_0002
Figure imgf000035_0002
2 2d  2 2d
化合物 ( 2 ) 2 . 0 g ( 6 . 4 mm o 1 ) と水 2 m Lに溶解し、 炭酸セシゥム 3 . 1 g ( 9 . 5 mm 0 1 ) を加えた。 室温で 1時間攪拌した後、 析出した結晶 を濾過し、 水で洗浄した。乾燥して、 化合物 ( 2 d ) を 2 . 0 g (収率 7 1 . 4 %) 得た。  Compound (2) was dissolved in 2.0 g (6.4 mmO 1) and 2 mL of water, and 3.1 g (9.5 mm 01) of cesium carbonate was added. After stirring at room temperature for 1 hour, the precipitated crystals were filtered and washed with water. After drying, 2.0 g (yield: 71.4%) of compound (2d) was obtained.
I R ( K B r ) 1 1 9 2, 8 1 2 c m— 1. 実施例 1 8 化合物 ( 7 ) の調製 IR (KBr) 1 19 2, 8 12 cm— 1 . Example 18 Preparation of Compound (7)
Figure imgf000036_0001
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2 7  2 7
ィ匕合物 ( 2 ) 1 . 4 g ( 5 mm o 1 ) に塩化チォニル 0 . 7 3 mL ( 1 0 mm o 1 ) と トルエン 4 . 2 m Lを加え、 そこに D MF 0 . 0 5 g ( 0 . 6 5 m m o To 1.4 g (5 mmo1) of 1.4 g (5 mmo1), 0.73 mL (10 mmo1) of thionyl chloride and 4.2 mL of toluene were added, and DMF0.05 was added thereto. g (0.65 mmo
1 ) を加えて約 7 0 °Cに昇温後、 約 2時間攪拌した。 反応後、 濃縮し、 へキサン を加えて濾過した。 結晶を濾過し、 へキサンで洗浄した。 乾燥して化合物 ( 7 ) を 1 . 3 g (収率 8 7 %) 得た。 1) was added and the mixture was heated to about 70 ° C. and stirred for about 2 hours. After the reaction, the mixture was concentrated, hexane was added, and the mixture was filtered. The crystals were filtered and washed with hexane. After drying, 1.3 g (yield 87%) of compound (7) was obtained.
I R ( K B r ) 1 5 8 8 , 1 3 6 8 , 1 1 6 9 , 8 1 1 c m- 1 ; IR (KBr) 1588, 1368, 1169, 811cm- 1 ;
1 H -NMR (D M S 0 - d 6 ; m) δ 2 . 5 1 ( s , 3 Η) , 7 . 3 5 ( d : 1 H-NMR (DMS 0-d 6; m) δ 2.51 (s, 3Η), 7.35 (d:
J = 8 . 4 H z, 2 H) , 7 . 6 1 - 7 . 7 0 (m, 6 H) . 実施例 1 9 化合物 ( 7 ) の調製 J = 8.4 Hz, 2 H), 7.6 1-7.70 (m, 6 H). Example 19 Preparation of Compound (7)
Figure imgf000036_0002
ィ匕合物 ( 2 ) 0 . 1 g ( 0 . 5 mm o 1 ) に塩化チォニル 0 . 3 3 m L ( 4 5 mm o 1 ) を加え、 そこに: D M F 0 . 0 0 1 m L ( 0 . 0 1 3 m m o 1 ) を加 えて約 Ί 0 °Cに昇温後、 約 9 0分間攪袢した。 反応後、 濃縮し、 へキサンを加え て濾過した。 結晶を濾過し、 へキサンで洗浄した。 乾燥して化合物 ( 7 ) を 0 . 1 3 g (収率 8 7 %) 得た。
Figure imgf000036_0002
To 0.1 g (0.5 mm o 1) of 0.12 g (0.5 mm o 1), 0.33 ml (45 mm o 1) of thionyl chloride was added, and DMF 0.01 ml ( After adding 0.013 mmo 1), the mixture was heated to about 0 ° C. and stirred for about 90 minutes. After the reaction, the mixture was concentrated, hexane was added, and the mixture was filtered. The crystals were filtered and washed with hexane. Drying yielded 0.13 g (yield 87%) of compound (7).
I R ( K B r ) 1 5 8 8 , 1 3 6 8, 1 1 6 9 , 8 1 1 c m - 1 ; IR (KBr) 1588, 1368, 1169, 811cm- 1 ;
1 H - N M R (D M S 0 - d 6 , p m) δ 2 . 5 1 ( s, 3 Η ) , 7 . 3 5 ( d ; J = 8 . 4 H z , 2 Η) , 7 . 6 1 - 7 . 7 0 (m, 6 H) . 実施例 2 0 化合物 ( 7 ) の調製 1 H-NMR (DMS 0-d 6 , pm) δ 2.51 (s, triad), 7.35 (d ; J = 8.4 Hz, diad), 7.6 1-7 7 0 (m, 6 H). Example 20 Preparation of Compound (7)
Figure imgf000037_0001
ィ匕合物 ( 2 ) 0 . 2 g ( 0 . 7 1 mmol) を Ν,Ν-ジメチルホルムアミ ド ( 1 m L) に懸濁し、 塩化チォニル 0 . 2 5 g ( 2 . 1 mmol) を加えた。 この懸濁液を 4 0 °Cに加熱し同温度で 1時間加熱した。 反応液を氷冷し、 冷水 ( 1 mL) を加 え、 3 0分間攪拌した。 析出した結晶を濾過し水で洗浄した。 乾燥して、 化合物 ( 7 ) を 0 · 1 8 g (収率 8 4 % ) 得た。
Figure imgf000037_0001
0.2 g (0.71 mmol) of the compound (2) was suspended in Ν, Ν-dimethylformamide (1 mL), and 0.25 g (2.1 mmol) of thionyl chloride was suspended in the suspension. added. The suspension was heated to 40 ° C and heated at the same temperature for 1 hour. The reaction solution was ice-cooled, cold water (1 mL) was added, and the mixture was stirred for 30 minutes. The precipitated crystals were filtered and washed with water. After drying, 0.118 g (yield 84%) of compound (7) was obtained.
I R ( K B r ) 1 5 8 8, 1 3 6 8, 1 1 6 9 , 8 1 1 c m 1 ; IR (KB r) 1 5 8 8, 1 3 6 8, 1 1 6 9, 8 1 1 cm 1;
1 H - N MR ( D M S O - d 6 ) p p m) 6 2 . 5 1 ( s , 3 H ) , 7 . 3 5 ( d ; 1 H-N MR (DMSO-d 6) ppm) 6 2 .5 1 (s, 3 H), 7.35 (d ;
J = 8 . 4 H z , 2 H) , 7 . 6 1 - 7 . 7 0 (m , 6 H ) . J = 8.4 Hz, 2H), 7.6 1-7.7 (m, 6H).
Figure imgf000037_0002
Figure imgf000037_0002
2a 7  2a 7
ィ匕合物 ( 2 a ) 0 . 5 0 g ( 1 . 7 mm o 1 ) に塩化チォニル 0 . 9 8 g ( 8 mm o l ) と トルエン 3 m Lを加え、 そこに D M F 0 . 0 4 8 g ( 0 . 6 6 mm o 1 ) を加えて約 7 0 °Cに昇温後、 約 1時間攪拌した。 反応後、 トルエン 6 m L と氷 3 m Lを加え、 目的物を有機層に抽出した。 濃縮し、 エタノールから晶析さ せ、 結晶を濾過し、 エタノールで洗浄した。 乾燥して化合物 ( 7 ) を 0 · 3 5 g (収率 7 1 %) 得た。  To 0.95 g (1.7 mm o 1) of 0.92 g (1.7 mm o 1), 0.98 g (8 mmol) of thionyl chloride and 3 mL of toluene were added, and DMF 0.048 g (0.66 mmo 1) was added, and the mixture was heated to about 70 ° C. and stirred for about 1 hour. After the reaction, 6 mL of toluene and 3 mL of ice were added, and the desired product was extracted into an organic layer. Concentrate and crystallize from ethanol, filter the crystals and wash with ethanol. Drying yielded 0.35 g (yield 71%) of compound (7).
I R ( K B r ) 1 5 8 8, 1 3 6 8 , 1 1 6 9, 8 1 1 c m - 1 ; IR (KBr) 1588, 1368, 1169, 811cm- 1 ;
1 H - N MR (D M S O - d 6 , p m) δ 2 . 5 1 ( s, 3 Η ) , 7 . 3 5 ( d; J = 8 . 4 H z , 2 H) , 7 . 6 1 - 7 . 7 0 (m, 6 H ) 実施例 2 2 化合物 ( 7 ) の調製 1 H-N MR (DMSO-d 6 , pm) δ 2.5 1 (s, 3 3), 7.35 (d; J = 8.4 Hz, 2 H), 7.6 1 -7.70 (m, 6 H) Example 22 Preparation of Compound (7)
Figure imgf000038_0001
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2 7  2 7
ィ匕合物 ( 2 ) 3 0 . 0 g ( 1 0 7 mmol) を トルェン ( 9 0 mL) に懸濁し、 ォ キシ塩化リ ン 3 2 . 8 g ( 2 1 3 . 9 mmol) を加えた。 この懸濁液を 8 0 °Cに加 熱し、 同温度で 3 0分間攪拌した。 つぎに N-メチルピロ リ ジノ ン 5 . 3 0 g ( 5 3 . 5 mmol) を加えた後、 同温度で 4時間攪拌した。 得られた溶液を氷冷し、 そ こへトルエン ( 9 0 mL) と冷水 ( 9 O m L ) を加えて分液した。 上層は水 ( 9 O mL) で洗浄した後、 減圧濃縮し濃縮液を得た。 この濃縮液を 5 5 °Cに加熱し、 同温度で n-ヘプ夕ン ( 6 0 mL) を加えた後、 5 °Cに冷却し同温度で 3 0分間攪 拌した。析出した結晶を濾過し、冷 n-ヘプ夕ンで洗浄した。乾燥して、化合物( 7 ) を 2 9 . 1 g (収率 9 1 %) 得た。  30.0 g (107 mmol) of the compound (2) was suspended in toluene (90 mL), and 32.8 g (23.9 mmol) of oxylin chloride was added. . The suspension was heated to 80 ° C and stirred at the same temperature for 30 minutes. Next, 5.30 g (53.5 mmol) of N-methylpyrrolidinone was added, and the mixture was stirred at the same temperature for 4 hours. The obtained solution was ice-cooled, and toluene (90 mL) and cold water (9 OmL) were added thereto to carry out liquid separation. The upper layer was washed with water (9 O mL) and concentrated under reduced pressure to obtain a concentrated solution. The concentrated solution was heated to 55 ° C, n-heptane (60 mL) was added at the same temperature, then cooled to 5 ° C and stirred at the same temperature for 30 minutes. The precipitated crystals were filtered and washed with cold n-heptane. Drying yielded 29.1 g (yield 91%) of compound (7).
I R ( K B r ) 1 5 8 8, 1 3 6 8 , 1 1 6 9, 8 1 1 c m- 1 ; IR (KBr) 1588, 1368, 1169, 811cm- 1 ;
1 H - NMR (D M S O - d 6, p p m) δ 2 . 5 1 ( s , 3 H ) , 7 . 3 5 ( d , J = 8 . 4 H z , 2 H) , 7 . 6 1 — 7 . 7 0 ( m , 6 H ) . 実施例 2 3 化合物 ( 7 ) の調製 1 H-NMR (DMSO-d 6 , ppm) δ 2.51 (s, 3 H), 7.35 (d, J = 8.4 Hz, 2 H), 7.6 1 — 7. 70 (m, 6 H) Example 23 Preparation of Compound (7)
Figure imgf000038_0002
Figure imgf000038_0002
ィ匕合物 ( 2 ) 0 . 2 g ( 0 . 7 1 mmol) を N-メチルピロ リジノ ン ( 1 mL) に懸濁し、 ォキシ塩化リ ン 0 . 4 4 g ( 2 . 9 mmol) を加えた。 この懸濁液を 8 0 °Cに加熱し、 同温度で 2時間攪拌した。 反応液を氷冷し、 冷水 ( 2 mL) を加 え、 3 0分間攪拌した。 析出した結晶を濾過し、 水で洗浄した。 乾燥して、 化合 物 ( 7 ) を 0 . 1 9 g (収率 8 3 %) 得た。 0.2 g (0.71 mmol) of the compound (2) was suspended in N-methylpyrrolidinone (1 mL), and 0.44 g (2.9 mmol) of oxylin chloride was added. . 8 this suspension The mixture was heated to 0 ° C and stirred at the same temperature for 2 hours. The reaction solution was ice-cooled, cold water (2 mL) was added, and the mixture was stirred for 30 minutes. The precipitated crystals were filtered and washed with water. After drying, 0.19 g of the compound (7) was obtained (yield: 83%).
I R ( K B r ) 1 5 8 8, 1 3 6 8, 1 1 6 9 , 8 1 1 c m- 1 ; IR (KBr) 1588, 1368, 1169, 811cm- 1 ;
1 H - NMR (D M S O - d 6 ) p m) δ 2 . 5 1 ( s , 3 H ) , 7 . 3 5 ( d; 1 H-NMR (DMSO-d 6) pm) δ 2.51 (s, 3H), 7.35 (d;
J = 8 . 4 H z , 2 H) , 7 . 6 1 — 7 . 7 0 (m, 6 H) . 実施例 2 4 化合物 ( 7 ) の調製 J = 8.4 Hz, 2 H), 7.6 1 — 7.70 (m, 6 H). Example 24 Preparation of Compound (7)
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Figure imgf000039_0001
7  7
水酸化力 リ ウム 4 . 6 4 g ( 7 1 . 1 mm o 1 ) をジメチルスルホキシ ド ( 5 0 m L ) に懸濁レ、 溶液へメチルメル力プ夕ンガスを導入した。 この溶液に化合 物 ( 1 b ) を 5 g ( 1 4 . 2 m m 0 1 ) 加え、 1 1 5 °Cに加熱した。 1 1 5 °Cで 6時間攪拌した後、 8 0 °Cまで冷却し、 炭酸ジメチル 7 . 8 mL ( 9 2 . 6 mL) を加えた後、 水( 5 0 mL) と 4 8 %水酸化ナ ト リ ゥム水 7 . 2 g ( 8 6 . 4 mmol) を加え同温度下で 1時間攪拌した。 この反応液を 5 °Cに冷却し同温度で 3 0分間 攪拌し、 析出した結晶を濾過し水で洗浄した。 乾燥して、 スルホン酸塩 4 . 1 2 gを得た。 得られたスルホン酸塩の一部 3 . 0 0 gを トルエン ( 9 . O mL) に 懸濁し、 ォキシ塩化リ ン 3 . 2 8 g ( 2 1 . 4 mmol) を加えた。 この懸濁液を 8 0 °Cに加熱し、 同温度で 3 0分間攪拌した。 つぎに N-メチルピロ リジノン 0 . 5 3 g ( 0 . 5 4mmol) を加えた後、 同温度で 4時間攪拌した。 得られた溶液を氷 冷し、 そこへトルエン ( 9 m L) と冷水 ( 9 m L ) を加えて分液した。 上層は水 ( 9 mL) で洗浄した後、 減圧濃縮し濃縮液を得た。 この濃縮液を 5 5 °Cに加熱 し、 同温度で n-ヘプタン ( 6 mL) を加えた後、 5 に冷却し同温度で 3 0分間 攪拌した。 析出した結晶を濾過し、 冷 n-ヘプタンで洗浄した。 乾燥して、 化合物 ( 7 ) を 2. 9 1 g (収率 8 7 %) 得た。 4.64 g (71.1 mmol) of lithium hydroxide was suspended in dimethyl sulfoxide (50 mL), and methylmer gas was introduced into the solution. 5 g (14.2 mm 01) of the compound (1b) was added to this solution, and the mixture was heated to 115 ° C. After stirring at 115 ° C for 6 hours, the mixture was cooled to 80 ° C, 7.8 mL (92.6 mL) of dimethyl carbonate was added, and water (50 mL) and 48% hydroxylated water were added. 7.2 g (86.4 mmol) of sodium water was added, and the mixture was stirred at the same temperature for 1 hour. The reaction solution was cooled to 5 ° C. and stirred at the same temperature for 30 minutes, and the precipitated crystals were filtered and washed with water. Drying gave 4.12 g of the sulfonate. A portion (3.00 g) of the obtained sulfonate was suspended in toluene (9.0 mL), and 3.28 g (21.4 mmol) of oxylin chloride was added. The suspension was heated to 80 ° C and stirred at the same temperature for 30 minutes. Next, 0.53 g (0.54 mmol) of N-methylpyrrolidinone was added, and the mixture was stirred at the same temperature for 4 hours. The obtained solution was ice-cooled, and toluene (9 mL) and cold water (9 mL) were added thereto to carry out liquid separation. The upper layer was washed with water (9 mL) and concentrated under reduced pressure to obtain a concentrated solution. The concentrated solution was heated to 55 ° C, n-heptane (6 mL) was added at the same temperature, then cooled to 5 and stirred at the same temperature for 30 minutes. The precipitated crystals were filtered and washed with cold n-heptane. Dry the compound 2.91 g (yield 87%) of (7) was obtained.
I R ( K B r ) 1 5 8 8 , 1 3 6 8 , 1 1 6 9 , 8 1 1 c m - 1 ; IR (KBr) 1588, 1368, 1169, 811cm- 1 ;
1 H - NMR (DMS O— d 6, p pm) δ 2. 5 1 ( s , 3 H) , 7. 3 5 ( d 1 H-NMR (DMS O— d 6 , p pm) δ 2.5 1 (s, 3 H), 7.35 (d
J = 8. 4 H z , 2 H) , 7. 6 1 - 7. 7 0 (m, 6 H) . 実施例 2 5 化合物 ( I— 1) の調製 J = 8.4 Hz, 2 H), 7.6 1-770 (m, 6 H). Example 25 Preparation of Compound (I-1)
Figure imgf000040_0001
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1-1  1-1
グリシン ( 8 ) 1 8 m g ( 0. 24 mm o 1 ) に炭酸ナト リウム 6 4 mg ( 0. 6 m m o 1 ) 、 水 0 . 6 mLおよびアセ トン 0. 6 mLを加え、 約 0 °Cに冷却し た。 この溶液に、 化合物 (7) 6 0 m g ( 0. 2 mm o 1 ) を加え、 約 0 °Cで約 3時間攪拌した。 塩酸で中和後、 結晶を濾過し、 水で洗浄した。 乾燥して、 化合 物 (1— 1) 5 5 m g (収率 8 2 %) を得た。  To 18 mg (0.24 mmo1) of glycine (8), add 64 mg (0.6 mmo1) of sodium carbonate, 0.6 mL of water and 0.6 mL of acetone, and bring the mixture to about 0 ° C. Cooled. To this solution, 60 mg (0.2 mmol) of the compound (7) was added, and the mixture was stirred at about 0 ° C for about 3 hours. After neutralization with hydrochloric acid, the crystals were filtered and washed with water. After drying, 55 mg of the compound (1-1) was obtained (yield: 82%).
I R (KB r ) 3448, 3285, 1735, 1335, 1 160, 809 cm -1 ; 1 H - NMR (DMS O— d 6, p pm) δ 2. 5 0 ( s , 3 H ) , 3. 5 9 (d , J = 6. 0 H z , 2 H) , 7. 3 6 ( d , J = 8. 4 H z , 2 H) , 7. 6 8 (d, J = 8. 4 H z , 2 H) , 7. 8 3 (m, 4 H ) , 8. 0 8 (d, J = 6. 0 H z, 1 H ) , 1 2. 4 7 ( b r s , 1 H) . 実施例 2 6 化合物 ( I— l a) の調製 へ COONa
Figure imgf000041_0001
グリシン (8) 1 8 m g ( 0 . 2 4 mm o 1 ) に炭酸ナト リ ウム 6 4 m g ( 0 . 6 m m o 1 ) 、 水 0 . 6 m Lおよびアセ トン 0 . 6 mLを加え、 約 0 °Cに冷却し た。 この溶液に、 化合物 ( 7 ) 6 0 m g ( 0 . 2 mm o 1 ) を加え、 約 0 °Cで約 3時間攪拌した。 結晶を濾過し、 水で洗浄した。 乾燥して、 化合物 ( I— l a) 6 3 . 5 m g (収率 8 8 %) を得た。
IR (KB r) 3448, 3285, 1735, 1335, 1 160, 809 cm -1 ; 1 H-NMR (DMS O-d 6 , p pm) δ 2.50 (s, 3 H), 3.5 9 (d, J = 6.0 Hz, 2 H), 7.36 (d, J = 8.4 Hz, 2 H), 7.68 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 7.83 (m, 4H), 8.08 (d, J = 6.0 Hz, 1H), 12.47 (brs, 1H). Preparation of compound (I-la) To COONa
Figure imgf000041_0001
To 18 mg (0.24 mmo1) of glycine (8), add 64 mg (0.6 mmo1) of sodium carbonate, 0.6 mL of water and 0.6 mL of acetone, and add approximately 0 mL. Cooled to ° C. To this solution, 60 mg (0.2 mmol) of the compound (7) was added, and the mixture was stirred at about 0 ° C for about 3 hours. The crystals were filtered and washed with water. Drying yielded 63.5 mg of compound (I-la) (88% yield).
I R ( K B r ) 3 4 4 8 , 1 6 0 1, 1 3 1 4 , 1 1 6 3 , 8 1 0 c m—  I R (K B r) 3 4 4 8, 1 6 1, 1 3 1 4, 1 1 6 3, 8 1 0 cm —
実施例 2 7 化合物 ( I一 2 S) の調製 Example 2 Preparation of 7 compound (I-1S)
Figure imgf000041_0002
Figure imgf000041_0002
I-2S  I-2S
Lーァラニン ( 9 S) 2 1 m g ( 0 . 2 4 m m o 1 ) に炭酸ナト リ ウム 6 4 m g ( 0 . 6 mm o 1 ) 、 水 0 . 6 mLおよびアセ ト ン 0 . 6 m Lを加え、 約 0 °C に冷却した。 この溶液に、 化合物 ( 7 ) 6 0 m g ( 0 . 2 mm o 1 ) を加え、 約 To 1 mg (0.24 mmo 1) of L-alanine (9S), 64 mg (0.6 mmo 1) of sodium carbonate, 0.6 mL of water and 0.6 mL of acetone were added. And cooled to about 0 ° C. To this solution, add 60 mg (0.2 mmo 1) of the compound (7), and add
0 °Cで約 3時間攪拌した。 塩酸で中和後、 結晶を濾過し、 水で洗浄した。 乾燥し て、 化合物 ( I— 2 S) 5 8 m g (収率 8 2 %) を得た。 The mixture was stirred at 0 ° C for about 3 hours. After neutralization with hydrochloric acid, the crystals were filtered and washed with water. After drying, 58 mg (yield: 82%) of compound (I-2S) was obtained.
1 R ( K B r ) 3 4 4 8, 3 3 1 1, 1 7 4 5 , 1 3 2 4 , 1 1 6 4 , 8 1 0 c m- 1 1 R (KBr) 3 4 4 8, 3 3 1, 1, 1 7 4 5, 1 3 2 4, 1 1 6 4, 8 1 0 cm -1
1 H - N M R (D M S O - d 6 j p p m) 6 1 . 1 8 ( d , J = 7 . 2 H z, 3 H ) , 2 . 5 3 ( s , 3 H) , 3 . 8 0 (m, 1 H ) , 7 . 3 8 ( d , J = 8 . 4 H z , 2 H) , 7 . 8 1 - 7 . 8 8 (m, 4 H ) , 7 . 7 0 ( d , J = 8 . 4 H z , 2 H) , 8 . 1 8 ( d , J = 7 . 5 H z , 1 H) , 1 2 . 6 0 ( b r s , 1 H ) . 実施例 2 8 化合物 ( I— 2 a) の調製 1 H-NMR (DMSO-d 6 j ppm) 6 1.18 (d, J = 7.2 Hz, 3H), 2.53 (s, 3H), 3.80 (m, 1H), 7.38 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 7.8 1-7.88 (m, 4H), 7.70 (d, J = 8. 4Hz, 2H), 8.18 (d, J = 7.5Hz, 1H), 12.60 (brs, 1H). Example 28 Compound (I-2a) Preparation of
Figure imgf000042_0001
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I-2a  I-2a
L—ァラニン ( 9 S) 2 1 m g ( 0 . 2 4 mm o 1 ) に炭酸ナ ト リ ウム 6 4 m g ( 0 . 6 mm o l ) 、 水 0 . 6 mLおよびアセ ト ン 0 . 6 m Lを加え、 約 0 °C に冷却した。 この溶液に、 化合物 ( 7 ) 6 0 m g ( 0 . 2 mm o 1 ) を加え、 約 0 °Cで約 3時間攪拌した。 結晶を濾過し、 水で洗浄した。 乾燥して、 化合物 ( I — 2 a) 6 8 m g (収率 9 2 %) を得た。  L-alanine (9S) 2 1 mg (0.24 mmo1) to sodium carbonate 64 mg (0.6 mmol), water 0.6 mL and acetone 0.6 mL And cooled to about 0 ° C. To this solution, 60 mg (0.2 mmol) of the compound (7) was added, and the mixture was stirred at about 0 ° C for about 3 hours. The crystals were filtered and washed with water. Drying yielded 68 mg (92% yield) of compound (I-2a).
I R (K B r ) 3 4 4 8 , 1 5 9 6 , 1 3 1 6 , 1 1 7 3 , 8 0 8 c m - 実施例 2 9 化合物 ( I一 2R) の調製
Figure imgf000043_0001
IR (KB r) 3 4 4 8, 1 5 9 6, 1 3 1 6, 1 1 7 3, 8 0 8 cm-Example 29 Preparation of 9 Compound (I-I 2R)
Figure imgf000043_0001
I-2R  I-2R
D—ァラニン ( 9 R) 2 1 m g ( 0 . 2 4 m m o 1 ) に炭酸ナ ト リ ウム 6 4 m g ( 0 . 6 mm o l ) 、 水 0 . 6 m Lおよびアセ ト ン 0 . 6 m Lを加え、 約 0 °C に冷却した。 この溶液に、 化合物 ( 7 ) 6 0 m g ( 0 . 2 mm o 1 ) を加え、 約D-alanine (9R) 21 mg (0.24 mmo 1) plus sodium carbonate 64 mg (0.6 mmol), water 0.6 mL and acetone 0.6 mL And cooled to about 0 ° C. To this solution, add 60 mg (0.2 mmo 1) of the compound (7), and add
0 °Cで約 3時間攪拌した。 塩酸で中和後、 結晶を濾過し、 水で洗浄した。 乾燥し て、 化合物 ( I一 2 R) 5 6 m g (収率 8 0 % ) を得た。 The mixture was stirred at 0 ° C for about 3 hours. After neutralization with hydrochloric acid, the crystals were filtered and washed with water. After drying, 56 mg (yield: 80%) of the compound (I-R) was obtained.
1 R ( K B r ) 3 4 4 8 , 3 3 1 1 , 1 7 4 5 , 1 3 2 4 , 1 1 6 4 , 8 1 0 c m ~ Α1 R (KBr) 3 4 4 8, 3 3 1 1, 1 7 4 5, 1 3 4 4, 1 16 4, 8 10 cm ~ Α ;
1 H - N M R ( D M S 0 - d e , p m) δ 1 . 1 8 ( d, J = 7 . 2 H z , 3 H ) , 2 . 5 3 ( s, 3 H ) , 3 . 8 0 (m, 1 H ) , 7 . 3 8 ( d, J = 8 . 4 H z , 2 H ) , 7 . 8 1 — 7 . 8 8 ( m , 4 H ) , 7 . 7 0 ( d , J = 8 . 4 H z, 2 H ) , 8 . 1 8 ( d, J = 7 . 5 H z , 1 H ) , 1 2 . 6 0 ( b r s , 1 H) . 実施例 3 0 化合物 ( 1— 3 S) の調製 1 H - NMR... ( DMS 0 - d e, pm) δ 1 1 8 (. D, J = 7 2 H z, 3 H), 2 5 3 (s, 3 H), 3 8 0 (m , 1H), 7.38 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 7.81—7.88 (m, 4H), 7.70 (d, J = 8 4Hz, 2H), 8.18 (d, J = 7.5Hz, 1H), 12.60 (brs, 1H). Example 30 Compound (1-3S) Preparation of
Figure imgf000043_0002
Figure imgf000043_0002
I-3S L—ァスパラギン酸 ( 1 0 S) 3 2 m g ( 0 . 2 4 mm o l ) に炭酸ナト リ ウ ム 1 0 2 m g ( 0 . 9 6 mm o l ) 、 水 0 . 6 m Lおよびアセ トン 0 . 6 m Lを 加え、 約 0 °Cに冷却した。 この溶液に、 化合物 ( 7) 6 0 m g ( 0 . 2 mm o 1 ) を加え、 約 0 °Cで約 3時間攪拌した。 塩酸で中和後、 結晶を濾過し、 水で洗浄し た。 乾燥して、 化合物 ( I一 3 S) 7 1 m g (収率 8 9 %) を得た。 I-3S L-aspartic acid (10S) (32 mg, 0.24 mmol), sodium carbonate (102 mg, 0.96 mmol), water (0.6 mL) and acetone (0.1 mL) were added. 6 mL was added, and the mixture was cooled to about 0 ° C. To this solution, 60 mg (0.2 mmol) of the compound (7) was added, and the mixture was stirred at about 0 ° C for about 3 hours. After neutralization with hydrochloric acid, the crystals were filtered and washed with water. Drying yielded 71 mg of the compound (13S) (89% yield).
I R ( K B r ) 3 2 9 7 , 1 7 3 1 , 1 3 3 2 , 1 1 6 0 , 8 1 0 c m - 1 ; 1 H - N MR (D M S O - d 6 ; p p m) δ 2 . 4 5 ( d d , J = 6 . 9 , 1 6 5 H z, 1 H ) , 2 . 5 3 ( s , 3 H ) , 2 . 6 3 ( d d, J = 6 . 9 , 1 6 . 5 H z , 1 H ) , 4. 1 0 (m, 1 H ) , 7 . 3 8 ( d, J = 8 . 4 H z , 2 H) , 7 . 7 1 ( d , J = 8 . 4 H z , 2 H ) , 7 . 8 0 - 7 . 8 9 (m, 4 H) , 8 . 2 4 ( b r s , 1 H) , 1 2 . 6 2 ( b r s , 2 H ) . 実施例 3 1 化合物 ( I一 3 a) の調製 IR (KB r) 3 2 9 7, 1 7 3 1, 1 3 3 2, 1 1 6 0, 8 1 0 cm - 1; 1 H - N MR (DMSO - d 6; ppm). Δ 2 4 5 (dd, J = 6.9, 16.5Hz, 1H), 2.53 (s, 3H), 2.63 (dd, J = 6.9, 16.5Hz, 1H), 4.10 (m, 1H), 7.38 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 7.71 (d, J = 8.4 Hz, 2 H), 7.80-7.89 (m, 4H), 8.24 (brs, 1H), 12.2.62 (brs, 2H) .Example 31 Compound (I 3 Preparation of a)
Figure imgf000044_0001
Figure imgf000044_0001
I-3a  I-3a
L—ァスパラギン酸 ( 1 0 S) 3 2 m g ( 0 . 2 4 m m o 1 ) に炭酸ナ ト リ ウ ム 6 4 m g ( 0 . 6 mm o l ) 、 氷 0 . 6 m Lおよびアセ トン 0 . 6 m Lを加え、 約 0 °Cに冷却した。 この溶液に、 化合物 (7) 6 0 m g ( 0 . 2 mm o 1 ) を加 え、 約 0 °Cで約 3時間攪拌した。 結晶を濾過し、 水で洗浄した。 乾燥して、 化合 物 (エー 3 a) 1 5 m g (収率 1 7 %) を得た。  32 mg (0.24 mmo 1) of L-aspartic acid (10 S), 64 mg (0.6 mmol) of sodium carbonate, 0.6 mL of ice and 0.6 mL of acetone mL was added, and the mixture was cooled to about 0 ° C. To this solution, 60 mg (0.2 mmol) of the compound (7) was added, and the mixture was stirred at about 0 ° C for about 3 hours. The crystals were filtered and washed with water. Drying yielded 15 mg of the compound (A3a) (17% yield).
I R ( K B r ) 3 4 4 8 , 1 5 9 6 , 1 1 8 9, 8 1 2 c m一1. 実施例 3 2 化合物 ( 1— 3 R) の調製
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IR (KBr) 3 4 4 8, 1 5 9 6, 1 1 8 9, 8 1 2 cm- 1 Example 3 Preparation of compound (1-3R)
Figure imgf000045_0001
I-3R  I-3R
D—ァスパラギン酸 ( 1 0 R) 3 2 m g ( 0 . 2 4 m m o 1 ) に炭酸ナ ト リ ウ ム 1 0 2 m g ( 0 . 9 6 mm o l ) 、 水 0 . 6 mLおよびアセ トン 0 . 6 m Lを 加え、 約 0 °Cに冷却した。 この溶液に、 化合物 ( 7 ) 6 0 m g ( 0. 2 mm o 1 ) を加え、 約 0 °Cで約 3時間攪拌した。 塩酸で中和後、 結晶を濾過し、 水で洗浄し た。 乾燥して、 化合物 ( I— 3 R) 6 8 m g (収率 8 5 %) を得た。  To 32 mg (0.24 mmo 1) of D-aspartic acid (10 R) was added 102 mg (0.96 mmol) of sodium carbonate, 0.6 mL of water and 0.1 mL of acetone. 6 mL was added, and the mixture was cooled to about 0 ° C. To this solution, 60 mg (0.2 mmol) of the compound (7) was added, and the mixture was stirred at about 0 ° C for about 3 hours. After neutralization with hydrochloric acid, the crystals were filtered and washed with water. After drying, 68 mg (yield 85%) of compound (I-3R) was obtained.
I R (K B r) 3 2 9 7 , 1 7 3 1 , 1 3 3 2 , 1 1 6 0, 8 1 0 c m - 1 ; 1 H - NMR (D M S O - d 6 > p p m) 6 2 . 4 5 ( d d , J = 6 . 9 , 1 6 , 5 H z , 1 H) , 2 . 5 3 ( s , 3 H ) , 2 . 6 3 ( d d , J = 6 . 9 , 1 6 . 5 H z , 1 H ) , 4. 1 0 (m, 1 H) , 7. 3 8 ( d, J = 8 . 4 H z , 2 H) , 7. 7 1 ( d , J = 8 . 4 H z , 2 H) , 7 . 8 0 - 7 . 8 9 (m, 4 H) , 8. 2 4 ( b r s , 1 H) , 1 2 . 6 2 ( b r s , 2 H ) . 実施例 3 3 化合物 ( I— 4 S) の調製 IR (KB r) 3 2 9 7, 1 7 3 1, 1 3 3 2, 1 1 6 0, 8 1 0 cm - 1;. 1 H - NMR (DMSO - d 6> ppm) 6 2 4 5 ( dd, J = 6.9, 16, 5Hz, 1H), 2.53 (s, 3H), 2.63 (dd, J = 6.9, 16.5Hz, 1H), 4.10 (m, 1H), 7.38 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 7.71 (d, J = 8.4 Hz, 2 H), 7.80-7.89 (m, 4H), 8.24 (brs, 1H), 12.2.62 (brs, 2H). Example 33 Compound (I— 4 Preparation of S)
Figure imgf000045_0002
Figure imgf000045_0002
I-4S  I-4S
L一グルタミ ン酸 ( 1 1 S) 3 5 m g ( 0 . 2 4 m m o 1 ) に炭酸ナ ト リ ウム 0 2 m g ( 0 . 9 6 mm o l ) 、 水 0. 6 m Lおよびアセ ト ン 0 . 6 m Lを加 え、 約 0 °Cに冷却した。 この溶液に、 化合物 ( 7 ) 6 0 m g ( 0 . 2 m m o 1 ) を加え、 約 0 °Cで約 3時間攪拌した。 塩酸で中和後、 結晶を濾過し、 水で洗浄し た。 乾燥して、 化合物 ( I— 4 S) 6 3 m g (収率 7 7 %) を得た。 35 mg (0.24 mmo 1) of L-glutamic acid (11S) to 0.2 mg of sodium carbonate (0.96 mmol), 0.6 mL of water and 0 mL of acetate Add 6 mL Then, it was cooled to about 0 ° C. To this solution, 60 mg (0.2 mmo 1) of the compound (7) was added, and the mixture was stirred at about 0 ° C. for about 3 hours. After neutralization with hydrochloric acid, the crystals were filtered and washed with water. Drying yielded 63 mg of the compound (I-4S) (77% yield).
1 R ( K B r ) 3 2 8 7 , 1 7 2 0 , 1 3 3 3 , 1 1 6 1 , 8 1 0 c m- 1 ;1 R (KBr) 3 2 8 7, 1 7 2 0, 1 3 3 3, 1 16 1, 8 1 0 cm- 1 ;
1 H - NMR (D M S O - d 6 ) p p m) δ 1 . 6 9 (m, 1 H) , 1 . 8 6 (m, 1 H ) , 2 . 2 2 ( t , J = 7 . 2 H z, 2 H ) , 2 . 5 3 ( s , 3 H) , 3 . 8 1 (m, 1 H) , 7 . 3 5 - 7 . 4 1 (m, 2 H ) , 7 . 6 7 — 7 . 7 3 ( m , 1 H-NMR (DMSO-d 6) ppm) δ 1.69 (m, 1 H), 1.86 (m, 1 H), 2.22 (t, J = 7.2 Hz, 2H), 2.53 (s, 3H), 3.81 (m, 1H), 7.35-7.41 (m, 2H), 7.67—7.7 3 (m,
2 H ) , 7 . 7 8 - 7 . 8 7 (m, 4 H) , 8 . 1 9 ( d, J = 8 . 1 H z , 1 H) , 1 2 . 4 2 (b r s , 2 H) . 実施例 3 4 化合物 ( I一 4 a) の調製 2H), 7.78-7.87 (m, 4H), 8.19 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 12.2.42 (brs, 2H) Example 3 Preparation of Compound (I-14a)
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Figure imgf000046_0001
I-4a  I-4a
L—グルタ ミ ン酸 ( 1 1 S) 3 5 m g ( 0 . 2 4 m m o 1 ) に炭酸ナ ト リ ウム 6 4 m g ( 0 . 6 mm o l ) 、 水 0 . 6 m Lおよびアセ トン 0 . 6 m Lを加え、 約 0 °Cに冷却した。 この溶液に、 化合物 ( 7 ) 6 0 m g ( 0 ,. 2 mm ο 1 ) を加 え、 約 0 °Cで約 3時間攪拌した。 結晶を濾過し、 水で洗浄した。 乾燥して、 化合 物 ( I— 4 a) 4 8 m g (収率 5 5 %) を得た。 35 mg (0.24 mmo 1) of L-glutamic acid (11S), 64 mg (0.6 mmol) of sodium carbonate, 0.6 mL of water and 0. 6 mL was added, and the mixture was cooled to about 0 ° C. To this solution, 60 mg (0.2 mmο1) of the compound (7) was added, and the mixture was stirred at about 0 ° C for about 3 hours. The crystals were filtered and washed with water. Drying yielded 48 mg of the compound (I-4a) (55% yield).
I R ( K B r ) 3 3 7 3 , 1 5 9 4, 1 3 1 7, 1 1 6 6 , 8 0 8 c m - 実施例 3 5 化合物 ( I一 4R) の調製
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IR (KBr) 3 3 7 3, 1 594, 13 17, 1 166, 808 cm-Example 35 Preparation of 5 Compounds (I-14R)
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I-4R  I-4R
D一グル夕 ミ ン酸 (11 R) 3 5 m g ( 0 . 2 4 m m o 1 ) に炭酸ナ ト リ ウム 1 0 2 m g ( 0 . 9 6 mm o l ) 、 水 0 . 6 m Lおよびアセ ト ン 0 . 6 m Lを加 え、 約 0 °Cに冷却した。 この溶液に、 ィ匕合物 ( 7 ) 6 0 m g ( 0 . 2 mm o 1 ) を加え、 約 0 °Cで約 3時間攪拌した。 塩酸で中和後、 結晶を濾過し、 水で洗浄し た。 乾燥して、 化合物 ( I— 4R) 6 3 m g (収率 7 7 %) を得た。  D To 35 mg (0.24 mmo 1) of nitric acid (11 R) was added 102 mg (0.96 mmol) of sodium carbonate, 0.6 mL of water, and acetate. 0.6 mL was added, and the mixture was cooled to about 0 ° C. To this solution, 60 mg (0.2 mmo 1) of the compound (7) was added, and the mixture was stirred at about 0 ° C. for about 3 hours. After neutralization with hydrochloric acid, the crystals were filtered and washed with water. Drying yielded 63 mg (yield 77%) of compound (I-4R).
1 R ( K B r ) 3 2 8 7 , 1 7 2 0, 1 3 3 3, 1 1 6 1 , 8 1 0 c m- 1 ;1 R (KB r) 3 2 8 7, 1 7 2 0, 1 3 3 3, 1 1 6 1, 8 1 0 cm- 1 ;
1 H - N M R (D M S O - d 6 ) p p m) δ 1 . 6 9 (m, 1 H) , 1 . 8 6 (m: 1 H) , 2 . 2 2 ( t, J = 7 . 2 H z , 2 H) , 2 . 5 3 ( s, 3 H) , 3 . 8 1 (m, 1 H ) , 7 . 3 5 - 7 . 4 1 (m, 2 H ) , 7 . 6 7 - 7 . 7 3 (m, 1 H-NMR (DMSO-d 6) ppm) δ 1.69 (m, 1 H), 1.86 (m: 1 H), 2.22 (t, J = 7.2 Hz, 2H), 2.53 (s, 3H), 3.81 (m, 1H), 7.35-7.41 (m, 2H), 7.67-7.7 3 (m,
2 H ) , 7 . 7 8 — 7 . 8 7 ( m , 4 H ) , 8 . 1 9 ( d, J = 8 . 1 H z , 1 H ) , 1 2 . 4 2 ( b r s , 2 H ) . 実施例 3 6 化合物 (1— 5 S) の調製 2 H), 7.78-7.87 (m, 4 H), 8.19 (d, J = 8.1 Hz, 1 H), 12.2.4 2 (brs, 2 H) Example 3 Preparation of 6 Compound (1-5S)
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I-5S  I-5S
L—ロイ シン ( 2 S) 3 2 m g ( 0 . 2 4 mm o 1 ) に炭酸ナ ト リ ウム 6 4 m g ( 0 . 6 mm o l ) 、 水 0 . 6 m Lおよびアセ トン 0 . 6 m Lを加え、 約 0 °C に冷却した。 この溶液に、 化合物 ( 7 ) 6 0 m g ( 0 . 2 mm o 1 ) を加え、 約L-leucine (2S) 32 2 mg (0.24 mmo1) to sodium carbonate 64 mg (0.6 mmol), 0.6 mL of water and 0.6 mL of acetone were added, and the mixture was cooled to about 0 ° C. To this solution was added 60 mg (0.2 mmo 1) of compound (7),
0 °Cで約 3時間攪拌した。 塩酸で中和後、 結晶を濾過し、 水で洗浄した。 乾燥し て、 化合物 ( I— 5 S) 6 3 m g (収率 8 0 %) を得た。 The mixture was stirred at 0 ° C for about 3 hours. After neutralization with hydrochloric acid, the crystals were filtered and washed with water. Drying yielded 63 mg of the compound (I-5S) (80% yield).
1 R ( K B r ) 3 4 4 8 , 3 3 2 1 , 1 7 4 9 , 1 3 2 5 , 1 1 6 6 , 8 1 0 c m- 1 ; 1 R (KBr) 3 4 4 8, 3 3 2 1, 1 7 4 9, 1 3 2 5, 1 16 6, 8 10 cm -1 ;
1 H - N M R (D M S O - d 6 j p m) 6 0 . 7 0 ( d, J = 6 . 3 H z , 3 H) , 0 . 8 1 ( d, J = 6 . 3 H z, 3 H) , 1 . 4 0 — 1 . 4 2 (m, 2 H) , 1 . 5 9 (m, 1 H) , 2 . 5 3 ( s , 3 H) , 3 . 6 7 - 3 . 7 2 (m, 1 H ) , 7 . 3 8 ( d , J = 8 . 4 H z , 2 H ) , 7 . 7 0 ( d, J = 8 . 7 H z, 2 H ) , 7 . 7 9 - 7 . 8 7 (m, 4 H ) , 8 . 1 9 ( d , J = 9 . 0 H z , 1 H) , 1 2 . 7 6 (b r s, 1 H ) . 実施例 3 7 化合物 ( I一 5 a) の調製 1 H-NMR (DMSO-d 6 jpm) 60.7 (d, J = 6.3 Hz, 3H), 0.81 (d, J = 6.3 Hz, 3H) , 1.40 — 1.42 (m, 2H), 1.59 (m, 1H), 2.53 (s, 3H), 3.67-3.72 (m , 1H), 7.38 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 7.70 (d, J = 8.7 Hz, 2H), 7.79-7. 87 (m, 4H), 8.19 (d, J = 9.0 Hz, 1H), 12.276 (brs, 1H). Example 37 Compound (I-a Preparation of
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I-5a  I-5a
L一口イシン ( 1 2 S) 3 2 m g ( 0 . 2 4 m m o 1 ) に炭酸ナ ト リ ウム 6 4 m g ( 0 . 6 mm o l ) 、 水 0 . 6 m Lおよびアセ ト ン 0 . 6 mLを加え、 約 0 °C に冷却した。 この溶液に、 化合物 ( 7 ) 6 0 m g ( 0 . 2 mm o 1 ) を加え、 約 L One bit isine (12 S) 32 mg (0.24 mmo 1) to 64 mg (0.6 mmol) of sodium carbonate, 0.6 mL of water and 0.6 mL of acetate And cooled to about 0 ° C. To this solution, add 60 mg (0.2 mmo 1) of the compound (7), and add
0 °Cで約 3時間攪拌した。 結晶を濾過し、 水で洗浄した。 乾燥して、 化合物 ( I — 5 a) 6 1 m g (収率 7 4 %) を得た。 The mixture was stirred at 0 ° C for about 3 hours. The crystals were filtered and washed with water. Drying yielded 61 mg of compound (I-5a) (74% yield).
1 R ( K B r ) 3 4 4 8 , 1 5 9 0 , 1 3 1 4 , 1 1 6 4 , 8 1 0 c m - 1. 実施例 3 8 化合物 ( I— 5 b) の調製 1 R (KBr) 3 4 4 8, 1 5 9 0, 1 3 1 4, 1 1 6 4, 8 10 cm- 1 . Example 3 Preparation of 8 compound (I-5b)
Figure imgf000049_0001
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I-5b  I-5b
L一口イ シン ( 12 S) 3 2 m g ( 0. 2 4 m m o 1 ) に炭酸カ リ ウム 8 3 m g ( 0. 6 mm o 1 ) 、 水 0. 6 mLおよびアセ ト ン 0. 6 mLを加え、 約 0 °C に冷却した。 この溶液に、 化合物 ( 7 ) 6 0 m g ( 0. 2 mm o 1 ) を加え、 約 32 mg (0.24 mmo 1) of potassium carbonate (83 mg, 0.6 mmo 1), 0.6 mL of water and 0.6 mL of acetate are added to 32 mg (0.24 mmo 1) In addition, it was cooled to about 0 ° C. To this solution, add 60 mg (0.2 mmo1) of the compound (7), and add
0 °Cで約 3時間攪拌した。 結晶を濾過し、 水で洗浄した。 乾燥して、 ( I一 5b) 6 9 m g (収率 8 0 %) を得た。 The mixture was stirred at 0 ° C for about 3 hours. The crystals were filtered and washed with water. Drying yielded 69 mg of (I-5b) (80% yield).
1 R ( K B r ) 3 42 3 , 1 5 9 2 , 1 3 1 4, 1 1 7 2 , 8 0 7 c m- 1. 実施例 3 9 化合物 ( 1— 5 R) の調製 1 R (KBr) 342 3, 159 2, 1 314, 1172, 807 cm- 1 . Example 39 Preparation of compound (1-5R)
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I-5R  I-5R
D—口イシン ( 12 R) 3 2 m g ( 0. 2 4 m m o 1 ) に炭酸ナ ト リ ウム 6 4 m g ( 0. 6 mmo l )、 水 0. 6 mLおよびアセ ト ン 0. 6 mLを加え、 約 0 °C に冷却した。 この溶液に、 化合物 ( 7 ) 6 0 m g ( 0. 2 mm o 1 ) を加え、 約 0 °Cで約 3時間攪拌した。 塩酸で中和後、 結晶を濾過し、 水で洗浄した。 乾燥し て、 ( I一 5 R) (収率 7 8 % ) を得た。 D—Mouth isine (12R) 32 mg (0.24 mmo 1) to sodium carbonate 64 mg (0.6 mmo l), water 0.6 mL and acetone 0.6 mL In addition, it was cooled to about 0 ° C. To this solution, 60 mg (0.2 mmol) of compound (7) was added, and the mixture was stirred at about 0 ° C for about 3 hours. After neutralization with hydrochloric acid, the crystals were filtered and washed with water. Dry As a result, (I-5R) (yield 78%) was obtained.
I R ( K B r ) 3 4 4 8 , 3 3 2 1 1 7 4 9 3 2 5 , 1 1 6 6 , 8 1 0 c m  I R (KBr) 3 4 4 8, 3 3 2 1 1 7 4 9 3 2 5, 1 1 6 6, 8 1 0 cm
1 H - N M R (D M S O - d S ; p p m) δ 0 . 7 0 ( d J = 6 . 3 H z , 3 H ) , 0 . 8 1 ( d , J = 6 . 3 H z 3 H 1 . 4 0 - 1 . 4 2 ( m , 2 H) , 1 . 5 9 (m 1 H ) , 2 . 5 3 ( s , 3 H) , 3 . 6 7 - 3 . 7 2 ( m 1 H) , 7 . 3 8 ( d J = 8 . 4 H z 2 H ) , 7 . 7 0 ( d J = 8 . 7 H z , 2 H ) , 7 . 7 9 - 7 . 8 7 ( m, 4 H ) , 8 . 1 9 ( d , J = 9 . 0 H z 1 H ) , 1 2 . 7 6 ( b r s 1 H ) . 実施例 4 0 化合物 ( I— 6 S) の調製 1 H-NMR (DMSO-ds ; ppm) δ 0.7 (d J = 6.3 Hz, 3 H), 0.81 (d, J = 6.3 Hz 3 H 1.4 0-1.42 (m, 2H), 1.59 (m1H), 2.53 (s, 3H), 3.67-3.72 (m1H), 7 3 8 (d J = 8.4 Hz 2 H), 7.70 (d J = 8.7 Hz, 2 H), 7.79-7.87 (m, 4 H), 8.19 (d, J = 9.0 Hz 1 H), 12.76 (brs 1 H) Example 40 Preparation of Compound (I-6S)
Figure imgf000050_0001
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I-6S  I-6S
L—フエ二ルァラニン ( 1 3 S) 4 0 m g ( 0 . 2 4 m m o 1 ) に炭酸ナ ト リ ゥム 6 4 m g ( 0 . 6 mm o 1 ) 、 水 0 . 6 m Lおよびアセ ト ン 0 . 6 m Lを加 え、 約 0 °Cに冷却した。 この溶液に、 化合物 ( 7 ) 6 0 m g ( 0 . 2 m m o 1 ) を加え、 約 0 °Cで約 3時間攪拌した。 塩酸で中和後、 結晶を濾過し、 水で洗浄し た。 乾燥して、 化合物 ( I— 6 S) 7 0 m g (収率 8 2 %) を得た。  L-phenylalanine (13S) 40 mg (0.24 mmo 1) to sodium carbonate 64 mg (0.6 mmo 1), water 0.6 mL and acetate After adding 0.6 mL, the mixture was cooled to about 0 ° C. To this solution, 60 mg (0.2 mMol) of the compound (7) was added, and the mixture was stirred at about 0 ° C for about 3 hours. After neutralization with hydrochloric acid, the crystals were filtered and washed with water. After drying, 70 mg (yield 82%) of compound (I-6S) was obtained.
I R ( K B r ) 3 4 4 8 , 3 3 1 3 , 1 7 4 9 , 1 3 2 4 , 1 1 6 4 , 8 1 0 c m- 1 ; IR (KBr) 3 4 4 8, 3 3 1 3, 1 7 4 9, 1 3 2 4, 1 16 4, 8 10 cm -1 ;
1 H - NMR (D M S O - d 6 j p p m) δ 2 . 5 3 ( s , 3 H ) , 2 . 7 3 ( d d , J = 9 . 3 , 1 3 . 8 H z , 1 H ) , 2 . 9 5 ( d d , J = 5 . 7 , 1 3 . 8 H z , 1 H ) 3 . 9 0 ( m , 1 H ) , 7 . 0 8 - 7 . 2 2 ( m , 5 H ) , 7. 3 8 (d , J = 8. 4 H z , 2 H) , 7. 5 9 (d , J = 8. 4 H z, 2 H) , 7. 6 4— 7 . 7 2 (m, 4 H ) , 8. 3 2 (d , J = 9. 0 H z, 1 H) , 1 2. 7 3 ( b r s, l H) . 実施例 4 1 化合物 ( -6 a) の調製 1 H-NMR (DMSO-d 6 j ppm) δ 2.53 (s, 3 H), 2.73 (dd, J = 9.3, 13.8 Hz, 1 H), 2. 9 5 (dd, J = 5.7, 13.8 Hz, 1H) 3.90 (m, 1H), 7.00-7.22 (m, 5H), 7.38 (d, J = 8.4 Hz, 2 H), 7.59 (d, J = 8.4 Hz, 2 H), 7.64—7.72 (m, 4H), 8.32 (d, J = 9.0 Hz, 1H), 12.73 (brs, lH). Example 4 Preparation of Compound (-6a)
Figure imgf000051_0001
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I-6a  I-6a
L—フエ二ルァラニン ( 13 S) 4 0 m g ( 0. 2 4 m m o 1 ) に炭酸ナ ト リ ゥム 6 4 m g ( 0. 6 mm o 1 ) 、 水 0. 6 mLおよびアセ ト ン 0. 6 mLを加 え、 約 0 °Cに冷却した。 この溶液に、 化合物 ( 7 ) 6 0 m g ( 0. 2 m m o 1 ) を加え、 約 0 °Cで約 3時間攪拌した。 結晶を濾過し、 水で洗浄した。 乾燥して、 化合物 ( I— 6 a) 7 1 m g (収率 7 9 %) を得た。  40 mg (0.24 mmo 1) of L-phenylalanine (13 S) and 64 mg (0.6 mmo 1) of sodium carbonate, 0.6 mL of water and 0. Added 6 mL and cooled to about 0 ° C. To this solution, 60 mg (0.2 mmo 1) of the compound (7) was added, and the mixture was stirred at about 0 ° C. for about 3 hours. The crystals were filtered and washed with water. After drying, 71 mg (yield: 79%) of compound (I-6a) was obtained.
I R ( K B r ) 3 44 8, 1 5 9 5 , 1 3 0 3, 1 1 5 7 , 8 0 8 c m— 実施例 42 化合物 ( 1— 6 R) の調製  IR (KBr) 3448,1595,1303,1157,808cm—Example 42 Preparation of compound (1-6R)
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I-6R  I-6R
D—フエ二ルァラニン ( 13R) 4 0 m g ( 0. 2 4 mm o 1 ) に炭酸ナ ト リ ゥム 6 4 m g ( 0. 6 m m o 1 ) 、 氷 0. 6 mLおよびアセ トン 0. 6 mLを加 え、 約 0 °Cに冷却した。 この溶液に、 化合物 ( 7 ) 6 0 m g ( 0. 2 mm o 1 ) を加え、 約 0 °Cで約 3時間攪拌した。 塩酸で中和後、 結晶を濾過し、 水で洗浄し た。 乾燥して、 化合物 ( I一 6 R) 7 1 m g (収率 8 3 %) を得た。 D-phenylalanine (13R) 40 mg (0.24 mmo 1) to sodium carbonate 64 mg (0.6 mmo 1), ice 0.6 mL and acetone 0.6 mL Add Then, it was cooled to about 0 ° C. To this solution, 60 mg (0.2 mmol) of compound (7) was added, and the mixture was stirred at about 0 ° C for about 3 hours. After neutralization with hydrochloric acid, the crystals were filtered and washed with water. After drying, 71 mg (yield 83%) of the compound (I-16R) was obtained.
I R ( K B r ) 3 44 8 , 3 3 1 3 , 1 7 4 9 , 1 3 2 4 , 1 1 6 4 , 8 1 0 c m- 1 ; IR (KBr) 344 8, 3 3 1 3, 1 7 4 9, 1 3 2 4, 1 1 6 4, 8 10 cm -1 ;
1 H - NMR (DMS O— d 6 > p p m) δ 2. 5 3 ( s, 3 H) , 2. 7 3 ( d d, J = 9. 3, 1 3. 8 H z , 1 H) , 2. 9 5 (d d , J = 5. 7 , 1 3. 8 H z , 1 H) , 3. 9 0 (m, 1 H) , 7. 0 8— 7. 2 2 (m, 5 H ) , 7. 3 8 ( d, J = 8. 4 H z , 2 H ) , 7. 5 9 (d , J = 8. 4 H z , 2 H) , 7. 6 4 - 7 . 7 2 (m, 4 H ) , 8. 3 2 (d, J = 9. 0 H z , 1 H) , 1 2. 7 3 ( b r s , l H) . 実施例 4 3 化合物 ( 7 S) の調製 1 H-NMR (DMS O— d 6> ppm) δ 2.53 (s, 3H), 2.73 (dd, J = 9.3, 13.8Hz, 1H), 2 . 9 5 (dd, J = 5.7, 13.8 Hz, 1 H), 3.90 (m, 1 H), 7.08—7.22 (m, 5 H), 7.38 (d, J = 8.4Hz, 2H), 7.59 (d, J = 8.4Hz, 2H), 7.64-7.72 (m, 4H), 8.32 (d, J = 9.0Hz, 1H), 12.73 (brs, lH). Example 4 Preparation of compound (7S)
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I-7S  I-7S
Lーセリ ン ( 14 S) 2 5 m g ( 0 . 2 4 m m o 1 ) に炭酸ナト リ ウム 6 4 m g ( 0 . 6 mm o 1 ) 、 水 0. 6 mLおよびアセ ト ン 0. 6 mLを加え、 約 0 °C に冷却した。 この溶液に、 ィ匕合物 ( 7 ) 6 0 m g ( 0. 2 mm o 1 ) を加え、 約 0 °Cで約 3時間攪拌した。 塩酸で中和後、 結晶を濾過し、 水で洗浄した。 乾燥し て、 ( I一 7 S) 5 6 m g (収率 7 6 %) を得た。  To 25 mg (0.24 mmo 1) of L-serine (14S), 64 mg (0.6 mmo 1) of sodium carbonate, 0.6 mL of water and 0.6 mL of acetone were added. And cooled to about 0 ° C. To this solution, 60 mg (0.2 mmo 1) of the compound (7) was added, and the mixture was stirred at about 0 ° C. for about 3 hours. After neutralization with hydrochloric acid, the crystals were filtered and washed with water. Drying yielded 56 mg of (I-S) (76% yield).
I R ( K B r ) 3 5 4 8 , 3 447 , 3 2 9 4 , 1 7 2 8, 1 3 2 4 , 1 1 6 1 , 8 1 0 c m-1 ; IR (KBr) 35 48,3447,32 94,17 28,13 24,11 16 1,8 10 cm- 1 ;
1 H - NM R (DMS O - d 6 ; p p m) δ 2. 5 3 ( s, 3 H) , 3. 4 7 - 3 . 5 8 (m, 2 H ) , 3 . 7 9 (m, 1 H) , 5 . 2 0 ( b r s , 1 H ) , 1 H-NMR (DMS O-d 6; ppm) δ 2.53 (s, 3 H), 3.47- 3.58 (m, 2H), 3.79 (m, 1H), 5.20 (brs, 1H),
7. 3 8 ( d, J = 8 . 1 H z , 2 H) , 7 . 7 1 (d , J = 8 . 1 H z , 27.38 (d, J = 8.1 Hz, 2H), 7.7 1 (d, J = 8.1 Hz, 2
H) , 7 . 8 5 ( s , 4 H) , 8 . 0 6 ( d , J = 8 , 4 H z , 1 H) , 1 2 . 5 0 ( b r s , 1 H ) . 実施例 4 4 化合物 ( 7 a) の調製 H), 7.85 (s, 4H), 8.06 (d, J = 8, 4Hz, 1H), 12.50 (brs, 1H) Example 4 4 compounds Preparation of (7a)
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I-7a  I-7a
Lーセリ ン ( 14 S) 2 5 m g ( 0 . 2 4 m m o 1 ) に炭酸ナト リ ウム 6 4 m g ( 0 . 6 mm o l ). 、 氷 0 . 6 m Lおよびアセ トン 0 . 6 m Lを加え、 約 0 °C に冷却した。 この溶液に、 化合物 ( 7 ) 6 0 m g ( 0 . 2 mm o 1 ) を加え、 約 0 °Cで約 3時間攪拌した。 結晶を濾過し、 水で洗浄した。 乾燥して、 化合物 ( I — 7 a) 7 2 m g (収率 9 2 %) を得た。  To 25 mg (0.24 mmo 1) of L-serine (14 S) was added 64 mg (0.6 mmol) of sodium carbonate, 0.6 mL of ice and 0.6 mL of acetone. In addition, it was cooled to about 0 ° C. To this solution, 60 mg (0.2 mmol) of the compound (7) was added, and the mixture was stirred at about 0 ° C for about 3 hours. The crystals were filtered and washed with water. After drying, 72 mg (yield: 92%) of compound (I-7a) was obtained.
I R (K B r ) 3 5 4 8 , 3 4 4 8 , 1 5 9 3 , 1 2 9 3 , 1 1 5 5 8 1 0 c m- 1. 実施例 4 5 化合物 ( I一 7 R) の調製 IR (KBr) 354 8, 3 4 4 8, 1 5 9 3, 1 2 9 3, 1 1 5 5 8 10 cm -1 . Example 45 Preparation of compound (I- 17 R)
Figure imgf000053_0002
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I-7R D—セリ ン ( 1 4 R) 2 5 m g ( 0 . 2 4 m m o 1 ) に炭酸ナト リ ウム 6 4 m g ( 0 . 6 mm o 1 ) 、 水 0 . 6 m Lおよびアセ トン◦ . 6 m Lを加え、 約 0 °C に冷却した。 この溶液に、 化合物 ( 7 ) 6 0 m g ( 0 . 2 mm o 1 ) を加え、 約I-7R 25 mg (0.24 mmo 1) of D-Serine (14 R), 64 mg (0.6 mmo 1) of sodium carbonate, 0.6 mL of water and 6 m of acetone L was added and cooled to about 0 ° C. To this solution was added 60 mg (0.2 mmo 1) of compound (7),
0 °Cで約 3時間攪拌した。 塩酸で中和後、 結晶を濾過し、 水で洗浄した。 乾燥し て、 化合物 ( I— 7 R) 5 8 m g (収率 7 9 % ) を得た。 The mixture was stirred at 0 ° C for about 3 hours. After neutralization with hydrochloric acid, the crystals were filtered and washed with water. Drying yielded 58 mg of compound (I-7R) (79% yield).
1 R ( K B r ) 3 5 4 8 , 3 4 4 7 , 3 2 9 4 , 1 7 2 8 , 1 3 2 4 , 1 1 6 1 , 8 1 0 c m- 1 ; 1 R (KBr) 3 5 4 8, 3 4 4 7, 3 2 9 4, 1 7 2 8, 1 3 2 4, 1 16 1, 8 1 0 cm- 1 ;
1 H - N M R (D M S O— d 6 p p m) 6 2 . 5 3 ( s , 3 H ) , 3 . 4 7 - 3 . 5 8 ( m , 2 H 3 . 7 9 (m , 1 H ) , 5 . 2 0 ( b r s , 1 H ) , 7 . 3 8 ( d , J = 8 . 1 H z 2 H ) , 7 . 7 1 ( d , J = 8 . 1 H z , 2 H) , 7 . 8 5 ( s , 4 H ) , 8 . 0 6 ( d , J = 8 . 4 H z , 1 H ) , 1 2 . 5 0 ( b r s 1 H ) . 1 H-NMR (DMSO-d 6 ppm) 6 2.53 (s, 3H), 3.47-3.58 (m, 2H3.79 (m, 1H), 5. 20 (brs, 1H), 7.38 (d, J = 8.1Hz2H), 7.71 (d, J = 8.1Hz, 2H), 7.85 (s, 4H), 8.06 (d, J = 8.4 Hz, 1 H), 12.50 (brs 1H).
実施例 4 6 化合物 ( 1 — 8 S ) の調製 Example 4 Preparation of 6 compound (1-8S)
Figure imgf000054_0001
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I-8S  I-8S
L—スレオニン ( 1 5 S) 2 9 m g ( 0 . 2 4 mm o 1 ) に炭酸ナト リ ウ Λ 6 4 m g ( 0 . 6 mm o l ) 、 水 0 . 6 m Lおよびアセ トン 0 . 6 m Lを加え、 約 0 °C に冷却した。 この溶液に、 ィヒ合物 ( 7 ) 6 0 m g ( 0 . 2 mm o 1 ) を加え、 約 29 mg (0.24 mmo1) of L-threonine (15S), 64 mg (0.6 mmol) of sodium carbonate, 0.6 mL of water and 0.6 m of acetone L was added and cooled to about 0 ° C. To this solution was added 60 mg (0.2 mmo 1) of the compound (7), and
0 °Cで約 3時間攪拌した。 塩酸で中和後、 結晶を濾過し、 水で洗浄した。 乾燥し て、 化合物 (I一 8 S) 5 5 m g (収率 7 2 %) を得た。 The mixture was stirred at 0 ° C for about 3 hours. After neutralization with hydrochloric acid, the crystals were filtered and washed with water. Drying yielded 55 mg of the compound (18S) (yield: 72%).
1 R ( K B r ) 3 5 8 9 , 3 4 4 8 , 3 3 1 8 1 7 5 2 , 1 3 2 1 , 1 1 6 8 , 8 1 0 c m— 1 ; 1 H - N MR (D M S O - d 6 ) p p m) δ 1 . 0 4 ( d, J = 6 . 0 H z ,1 R (KBr) 3 5 8 9, 3 4 4 8, 3 3 1 8 1 7 5 2, 1 3 2 1, 1 1 6 8, 8 10 cm- 1 ; 1 H-N MR (DMSO-d 6) ppm) δ 1.04 (d, J = 6.0 Hz,
3 H) , 2 . 5 3 ( s , 3 H) , 3 . 6 9 - 4 . 0 8 (m, 3 H) , 7 . 3 3 - 7 . 3 9 (m, 2 H ) , 7 . 5 9 - 7 . 7 4 (m, 4 H) , 7 . 8 4 (m, 1 H ) 1 4. 5 0 ( b r s , 1 H) . 実施例 4 7 化合物 ( I— 8 a) の調製 3 H), 2.5 3 (s, 3 H), 3.6 9-4.08 (m, 3 H), 7.3 3-7.39 (m, 2 H), 7.5 9-7.74 (m, 4H), 7.84 (m, 1H) 14.50 (brs, 1H). Example 4 Preparation of Compound (I-8a)
Figure imgf000055_0001
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I-8a  I-8a
Lースレオニン ( 1 5 S) 2 9 m g ( 0 . 2 4 m m o 1 ) に炭酸ナ ト リ ウム 6 4 m g ( 0 . 6 mm o l ) 、 水 0 . 6 m Lおよびアセ ト ン 0 . 6 m Lを加え、 約 0 °C に冷却した。 この溶液に、 化合物 ( 7 ) 6 0 m g ( 0 . 2 mm o 1 ) を加え、 約29 mg (0.24 mmo 1) of L-threonine (15 S), 64 mg (0.6 mmol) of sodium carbonate, 0.6 mL of water and 0.6 mL of acetate And cooled to about 0 ° C. To this solution, add 60 mg (0.2 mmo 1) of the compound (7), and add
0 °Cで約 3時間攪拌した。 結晶を濾過し、 水で洗浄した。 乾燥して、 化合物 ( I -8 a) 6 2 m g (収率 7 7 %) を得た。 The mixture was stirred at 0 ° C for about 3 hours. The crystals were filtered and washed with water. After drying, 62 mg (yield 77%) of compound (I-8a) was obtained.
1 R ( K B r ) 3 5 8 9 , 3 4 3 2 , 1 5 9 6 , 1 3 0 4 , 1 1 6 2 , 8 1 0 c m- 1. 実施例 4 8 化合物 ( I一 8R) の調製
Figure imgf000056_0001
1 R (KBr) 3589, 3432, 1596, 1304, 1162, 810 cm -1 . Example 4 Preparation of 8 Compound (I-18R)
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D—スレオニン ( 1 5 R) 2 9 m g ( 0. 2 4 mm o 1 ) に炭酸ナ ト リ ウム 6 4 m g ( 0. 6 mm o 1 ) 、 水 0. 6 mLおよびアセ ト ン 0. 6 mLを加え、 約 D-threonine (15R) 29 mg (0.24 mmo1) plus sodium carbonate 64 mg (0.6 mmo1), water 0.6 mL and acetate 0.6 Add mL and add
0 °Cに冷却した。 この溶液に、 ィ匕合物 ( 7 ) 6 0 m g ( 0. 2 mm o 1 ) を加え. 約 0 °Cで約 3時間攪拌した。 塩酸で中和後、 結晶を濾過し、 水で洗浄した。 乾燥 して、 化合物 ( I— 8 R) 5 5 m g (収率 7 3 %) を得た。 Cooled to 0 ° C. To this solution was added 60 mg (0.2 mmo 1) of the compound (7). The mixture was stirred at about 0 ° C. for about 3 hours. After neutralization with hydrochloric acid, the crystals were filtered and washed with water. After drying, 55 mg (yield: 73%) of the compound (I-8R) was obtained.
1 R ( K B r ) 3 5 8 9, 3 448 , 3 3 1 8, 1 7 5 2 , 1 3 2 1 , 1 1 6 8 , 8 1 0 c m- 1 ; 1 R (KBr) 3589, 3448, 3318, 1752, 1321, 1168, 810 cm- 1 ;
1 H - N M R (D MS 0 - d 6 ; p p m) δ 1 . 0 4 (d , J = 6. 0 H z , 3 H ) , 2. 5 3 ( s , 3 H) , 3. 6 9— 4. 0 8 (m, 3 H) , 7. 3 3— 7. 3 9 (m, 2 H) , 7. 5 9— 7. 74 (m, 4 H) , 7. 8 4 (m, 1 H ) : 1 4. 5 0 ( b r s , 1 H ) . 実施例 4 9 化合物 ( I一 9 S) の調製 1 H-NMR (D MS 0-d 6; ppm) δ 1.04 (d, J = 6.0 Hz, 3 H), 2.53 (s, 3 H), 3.69— 4.08 (m, 3H), 7.33—7.39 (m, 2H), 7.59—7.74 (m, 4H), 7.84 (m, 1 H): 14.50 (brs, 1H). Example 49 Preparation of Compound (I-19S)
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I-9S L—ト リ ブト ファン ( 16 S) 4 9 m g ( 0 . 2 4 m m o 1 ) に炭酸ナト リ ウ ム 6 4 m g ( 0. 6 mm o l ) 、 水 0. 6 mLおよびアセ トン 0. 6 mLを加え、 約 0 °Cに冷却した。 この溶液に、 化合物 ( 7 ) 6 0 m g ( 0. 2 mm o 1 ) を加 え、 約 0 °Cで約 3時間攪拌した。 塩酸で中和後、 結晶を濾過し、 水で洗浄した。 乾燥して、 化合物 ( I— 9 S) 7 9 m g (収率 8 4 %) を得た。 I-9S L-tributofan (16S) 49 mg (0.24 mmo 1) to 64 mg (0.6 mmol) of sodium carbonate, 0.6 mL of water and 0.6 mL of acetone And cooled to about 0 ° C. To this solution, 60 mg (0.2 mmol) of compound (7) was added, and the mixture was stirred at about 0 ° C for about 3 hours. After neutralization with hydrochloric acid, the crystals were filtered and washed with water. After drying, 79 mg (yield 84%) of compound (I-9S) was obtained.
I R ( K B r ) 3 3 9 3 , 3 3 1 3 , 1 7 4 6 , 1 3 2 2 , 1 1 6 3 , 8 1 0 c m— 1IR (KBr) 3 39 3, 3 3 13 3, 1 7 4 6, 1 3 2 2, 1 1 6 3, 8 10 cm- 1 ;
1 H - NMR (DMS O - d 6 > p m) δ 2. 5 3 ( s , 3 Η ) , 2. 8 7 ( d d, J = 7. 5 , 1 4. 1 H z , 1 H) , 3. 0 8 (d d, J = 5. 7 , 1 4. 1 H z , 1 H ) , 3. 8 9 - 3. 9 7 (m, 1 H) , 6. 8 7— 7. 0 9 (m, 3 H) , 7. 2 4 (d, J = 8. 1 H z , 1 H ) , 7. 2 9 (d , J = 7. 8 H z , 1 H) , 7. 3 7 - 7. 4 0 (m, 2 H) , 7. 5 8 - 7. 6 6 (m, 7 H) , 8. 3 0 (d , J = 8. 4 H z, 1 H) , 1 0. 8 0 ( b r s, 1 H) , 1 2. 7 4 ( b r s, 1 H) . 1 H-NMR (DMS O-d 6> pm) δ 2.53 (s, 3Η), 2.87 (dd, J = 7.5, 14.1 Hz, 1H), 3 0 8 (dd, J = 5.7, 14.1 Hz, 1 H), 3.89-3.97 (m, 1 H), 6.87-7.09 (m , 3 H), 7.24 (d, J = 8.1 Hz, 1 H), 7.29 (d, J = 7.8 Hz, 1 H), 7.37-7. 40 (m, 2 H), 7.58-7.66 (m, 7 H), 8.30 (d, J = 8.4 Hz, 1 H), 10.8. brs, 1H), 12.74 (brs, 1H).
実施例 5 0 化合物 ( 9 a) の調製 Example 50 Preparation of Compound (9a)
Figure imgf000057_0001
Figure imgf000057_0001
I-9a  I-9a
L一ト リ ブト ファン ( 16 S) 4 9 m g ( 0. 2 4 mm o 1 ) に炭酸ナ ト リ ウ ム 6 4 m g ( 0. 6 mm o l ) 、 氷 0. 6 mLおよびアセ トン 0. 6 mLを加え、 約 0 °Cに冷却した。 この溶液に、 化合物 ( 7 ) 6 0 m g ( 0. 2 mm o 1 ) を加 え、 約 0 °Cで約 3時間攪拌した。 結晶を濾過し、 水で洗浄した。 乾燥して、 化合 物 ( I— 9 a) 8 6 m g (収率 8 8 %) を得た。 To 49 mg (0.24 mmo1) of L-tributofan (16 S) was added 64 mg (0.6 mmol) of sodium carbonate, 0.6 mL of ice and 0.1 mL of acetone. 6 mL was added, and the mixture was cooled to about 0 ° C. To this solution, 60 mg (0.2 mmol) of compound (7) was added, and the mixture was stirred at about 0 ° C for about 3 hours. The crystals were filtered and washed with water. Dry and compound 86 mg (yield 88%) of the product (I-9a) was obtained.
I R ( K B r ) 3 4 3 7, 1 5 9 5 , 1 3 1 5 , 6 1 , 8 1 0 c m' 実施例 5 化合物 ( I一 9 R) の調製  I R (KBr) 3 4 3 7, 1 5 9 5, 1 3 5 5, 6 1, 8 10 cm 'Example 5 Preparation of compound (I-9R)
Figure imgf000058_0001
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D—ト リ ブト ファン ( 16R) 49 m g ( 0. 2 4 m m o 1 ) に炭酸ナ ト リ ウ ム 6 4 mg ( 0. 6 mm o l ) 、 水 0. 6 mLおよびアセ トン 0. 6 mLを加え、 約 0 °Cに冷却した。 この溶液に、 化合物 ( 7) 6 0 m g ( 0. 2 mm o 1 ) を加 え、 約 0 °Cで約 3時間攪拌した。 塩酸で中和後、 結晶を濾過し、 水で洗浄した。 乾燥して、 化合物 ( I一 9R) 7 9 m g (収率 8 5 %) を得た。  D—Tributofan (16R) 49 mg (0.24 mmo 1) with 64 mg (0.6 mmol) of sodium carbonate, 0.6 mL of water and 0.6 mL of acetone In addition, it was cooled to about 0 ° C. To this solution, 60 mg (0.2 mmol) of the compound (7) was added, and the mixture was stirred at about 0 ° C for about 3 hours. After neutralization with hydrochloric acid, the crystals were filtered and washed with water. After drying, 79 mg (yield 85%) of the compound (I-19R) was obtained.
I R ( K B r ) 3 3 9 3 , 3 3 1 3 , 1 7 4 6 , 1 3 2 2 , 1 1 6 3 , 8 1 0 c m- 1 ; IR (KBr) 3 39 3, 3 31 3, 17 46, 13 22, 1 16 3, 8 10 cm -1 ;
1 H - NMR (DMS O- d 6 ) p p m) δ 2. 5 3 ( s , 3 H ) , 2. 8 7 ( d d, J = 7. 5 , 1 4. 1 H z , 1 H ) , 3. 0 8 (d d, J = 5. 7 , 1 4. 1 H z , 1 H) , 3 . 8 9 - 3. 9 7 (m, 1 H) , 6. 8 7 - 7. 0 9 (m, 3 H ) , 7. 2 4 ( d , J = 8. 1 H z , 1 H) , 7. 2 9 (d, J = 7. 8 H z , 1 H ) , 7. 3 7 - 7. 4 0 (m, 2 H ) , 7. 5 8— 7. 6 6 (m, 7 H) , 8. 3 0 (d , J = 8. 4 H z , 1 H) , 1 0. 8 0 ( r s , 1 H ) ; 1 2. 74 ( b r s , 1 H) . 実施例 5 2 化合物 ( I— 10 S) の調製
Figure imgf000059_0001
1 H-NMR (DMS O- d 6) ppm) δ 2.53 (s, 3H), 2.87 (dd, J = 7.5, 14.1Hz, 1H), 3 .08 (dd, J = 5.7, 14.1 Hz, 1H), 3.89-3.97 (m, 1H), 6.87-7.09 (m , 3H), 7.24 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 7.29 (d, J = 7.8Hz, 1H), 7.37-7. 4 0 (m, 2 H), 7.58-7.66 (m, 7 H), 8.30 (d, J = 8.4 Hz, 1 H), 10.8.0 ( (rs, 1H) ; 1 2.74 (brs, 1H). Example 5 Preparation of Compound (I-10S)
Figure imgf000059_0001
I-10S  I-10S
Lーノ リ ン ( 1 7 S) 2 8 m g ( 0 . 2 4 m m o 1 ) に炭酸ナト リ ウム 6 4 m g ( 0 . 6 mm o l ) 、 水 0 . 6 m Lおよびアセ ト ン 0 . 6 m Lを加え、 約 0 °C に冷却した。 この溶液に、 化合物 ( 7 ) 6 0 m g ( 0 . 2 mm o 1 ) を加え、 約 0 °Cで約 3時間攪拌した。 塩酸で中和後、 結晶を濾過し、 水で洗浄した。 乾燥し て、 化合物 ( I— 1 0 S) 5 9 m g (収率 7 8 %) を得た。  28 mg (0.24 mmo 1) of L-linoline (17 S), 64 mg (0.6 mmol) of sodium carbonate, 0.6 mL of water and 0.6 of acetate mL was added, and the mixture was cooled to about 0 ° C. To this solution, 60 mg (0.2 mmol) of the compound (7) was added, and the mixture was stirred at about 0 ° C for about 3 hours. After neutralization with hydrochloric acid, the crystals were filtered and washed with water. After drying, 59 mg (yield 78%) of compound (I-10S) was obtained.
ェ R (K B r ) 3 3 9 3 , 3 3 3 3 , 1 7 4 7 , 1 3 2 3 , 1 1 6 4 , 8 1 0 c m- 1 ; R (KBr) 3393, 3333, 1747, 1332, 1164, 810 cm -1 ;
1 H - N M R (D M S O - d 6 ) p p m) δ 0 . 8 4 ( d , J = 6 . 9 H z , 3 H ) , 0 . 8 7 ( d, J = 6 . 9 H z , 3 H ) , 1 . 9 4 - 2 . 0 1 (m, 1 H) , 2 . 5 6 ( s, 3 H) , 3. 5 8 ( d d , J = 6 . 3 , 9 . 3 H z , 1 H) , 7 . 4 1 ( d , J = 8 . 4 H z , 2 H) , 7 . 7 3 ( d, J = 8 . 7 H z , 2 H) , 7 . 8 6 - 7 . 8 7 (m, 3 H ) , 8 . 0 9 ( d , J = 9 . 0 H z , 2 H) , 1 2 . 6 5 (b r s, l H) . 実施例 5 3 化合物 ( I — 1 0 S ) の調製 1 H-NMR (DMSO-d 6) ppm) δ 0.84 (d, J = 6.9 Hz, 3 H), 0.87 (d, J = 6.9 Hz, 3 H) , 1.94-2.01 (m, 1H), 2.56 (s, 3H), 3.58 (dd, J = 6.3, 9.3Hz, 1H) , 7.41 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 7.73 (d, J = 8.7 Hz, 2H), 7.86-7.87 (m , 3H), 8.09 (d, J = 9.0 Hz, 2H), 12.65 (brs, lH). Example 53 Preparation of Compound (I—10S)
Figure imgf000059_0002
Figure imgf000059_0002
I-10S Lーバリ ン ( 1 7 S ) 1 . 2 7 g ( 1 0. 8 mm o l ) に炭酸カ リ ウム 2. 8 9 g ( 2 0. 9 mm o l ) 、 水 2 2. 9 mLおよびアセ ト ン 3 4. 3 mLを加え、 約 0 °Cに冷却した。 この溶液に、 化合物 ( 7) 2. 5 g ( 8. 4 mm o 1 ) を加 え、 約 0 °Cで約 4時間攪拌した。 塩酸で中和後、 結晶を濾過し、 水で洗浄した。 乾燥して、 化合物 ( I — 1 0 S) 3. 0 g (収率 9 4 %) を得た。 I-10S 1.27 g (10.8 mmol) of L-valin (17 S) was added to 2.89 g (20.9 mmol) of potassium carbonate, 22.9 mL of water and acetate 34.3 mL was added, and the mixture was cooled to about 0 ° C. To this solution, 2.5 g (8.4 mmol) of compound (7) was added, and the mixture was stirred at about 0 ° C for about 4 hours. After neutralization with hydrochloric acid, the crystals were filtered and washed with water. After drying, 3.0 g (yield 94%) of the compound (I-10S) was obtained.
I R ( K B r ) 3 3 9 3 , 3 3 3 3 , 1 7 4 7 , 1 3 2 3 , 1 1 6 4 , 8 1 0 c m— 1 ; IR (KBr) 33 39,33 33,17 47,13 23,11 64,8 10 cm- 1 ;
1 H - N M R (DMS O- d 6 ; p m) δ 0. 8 4 ( d, J = 6. 9 H z , 3 H) , 0. 8 7 ( d, J = 6. 9 H z, 3 H) , 1 . 9 4 - 2. 0 1 ( m , 1 H) , 2. 5 6 ( s , 3H) , 3. 5 8 (d d, J = 6. 3, 9. 3 H z, 1 H ) ; 7. 4 1 ( d, J = 8. 4 H z , 2 H ) , 7. 7 3 (d , J = 8. 7 H z, 2 H) , 7. 8 6 - 7. 8 7 ( m , 3 H ) , 8. 0 9 (d, J = 9. 0 H z , 2 H) , 1 2. 6 5 ( r s , 1 H ) . 実施例 5 4 化合物 ( I— 1 0 a ) の調製 1 H-NMR (DMS O-d 6; pm) δ 0.84 (d, J = 6.9 Hz, 3 H), 0.87 (d, J = 6.9 Hz, 3 H ), 1.94-2.01 (m, 1H), 2.56 (s, 3H), 3.58 (dd, J = 6.3, 9.3Hz, 1H) ; 7.41 (d, J = 8.4Hz, 2H), 7.73 (d, J = 8.7Hz, 2H), 7.86-7.87 (m , 3H), 8.09 (d, J = 9.0Hz, 2H), 12.65 (rs, 1H). Example 54 Preparation of Compound (I-10a)
Figure imgf000060_0001
Figure imgf000060_0001
I-10a  I-10a
L一パリ ン ( 17 S) 2 8 m g ( 0 . 2 4 m m o 1 ) に炭酸ナト リ ウム 6 4 m g ( 0. 6 mm o 1 ) 、 水 0. 6 mLおよびアセ トン 0. 6 mLを加え、 約 0 °C に冷却した。 この溶液に、 ィ匕合物 ( 7 ) 6 0 m g ( 0. 2 mm o 1 ) を加え、 約 0 °Cで約 3時間攪拌した。 結晶を濾過し、 水で洗浄した。 乾燥して、 化合物 ( I — 1 0 a) 7 6 m g (収率 9 4 %) を得た。 R ( K B r ) 3 4 4 8 , 1 5 9 4 3 2 2 1 6 8 , 8 0 9 c m一 1 To 28 mg (0.24 mmo 1) of L-parin (17 S) was added 64 mg (0.6 mmo 1) of sodium carbonate, 0.6 mL of water, and 0.6 mL of acetone. And cooled to about 0 ° C. To this solution was added 60 mg (0.2 mmo 1) of the compound (7), and the mixture was stirred at about 0 ° C. for about 3 hours. The crystals were filtered and washed with water. After drying, 76 mg (yield 94%) of the compound (I-10a) was obtained. R (KB r) 3 4 4 8, 1 5 9 4 3 2 2 1 6 8, 8 9 cm 1
実施例 5 5 化合物 ( 0 R) の調製 Example 5 Preparation of 5 Compound (0R)
Figure imgf000061_0001
Figure imgf000061_0001
I-10R D 一バリ ン ( 1 7 R) 2 8 m g ( 0 . 2 4 m m o 1 ) に炭酸ナ ト リ ウム 6 4 m g ( 0 . 6 mm o 1 ) 、 水 0 . 6 m Lおよびアセ ト ン 0 . 6 m Lを加え、 約 0 °C に冷却した。 この溶液に、 化合物 ( 7 ) 6 0 m g ( 0 . 2 mm o 1 ) を加え、 約 0 °Cで約 3時間攪拌した。 塩酸で中和後、 結晶を濾過し、 水で洗浄した。 乾燥し て、 化合物 ( I一 1 0 R) 5 9 m g (収率 7 8 %) を得た。  I-10R D Barine (17 R) 28 mg (0.24 mmo 1) plus sodium carbonate 64 mg (0.6 mmo 1), water 0.6 mL and acetate 0.6 mL was added, and the mixture was cooled to about 0 ° C. To this solution, 60 mg (0.2 mmol) of the compound (7) was added, and the mixture was stirred at about 0 ° C for about 3 hours. After neutralization with hydrochloric acid, the crystals were filtered and washed with water. After drying, 59 mg (yield 78%) of the compound (110R) was obtained.
I R ( K B r ) 3 3 9 3 , 3 3 3 3 , 1 7 4 7 , 1 3 2 3 , 1 1 6 4 , 8 1 0 c m— 1 ; IR (KBr) 3393, 3333, 1747, 1332, 1164, 810 cm— 1 ;
1 H - N MR (D M S 0 - d 6 ; p m) δ 0 . 8 4 ( d , J = 6 . 9 H z , 3 H ) , 0 . 8 7 ( d , J = 6 . 9 H z , 3 H) , 1 . 9 4 - 2 . 0 1 (m , 1 H ) , 2 . 5 6 ( s , 3 H) , 3 . 5 8 ( d d , J = 6 . 3 , 9 . 3 H z , 1 H ) : 7 . 4 1 ( d, J = 8 . 4 H z , 2 H ) , 7 . 7 3 ( d , J = 8 . 7 H z , 2 H) , 7 . 8 6 - 7 . 8 7 (m , 3 H ) , 8 . 0 9 ( d , J = 9 . 0 H z , 2 H ) , 1 2 . 6 5 ( b r s, l H ) . 実施例 5 6 化合物 ( 0 R) の調製
Figure imgf000062_0001
1 H-N MR (DMS 0-d 6; pm) δ 0.84 (d, J = 6.9 Hz, 3H), 0.87 (d, J = 6.9 Hz, 3 H), 1.94-2.01 (m, 1H), 2.56 (s, 3H), 3.58 (dd, J = 6.3, 9.3Hz, 1 H): 7.41 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 7.73 (d, J = 8.7 Hz, 2H), 7.86-7.87 (m, 3H), 8.09 (d, J = 9.0 Hz, 2H), 12.65 (brs, lH). Example 56 Preparation of Compound (0R)
Figure imgf000062_0001
I-10R  I-10R
D—パリ ン ( 1 7 R) 1 . 2 7 g ( 1 0 . 8 mm o l ) に炭酸カリ ウム 2 . 8 9 g ( 2 0 . 9 mm o l ) 、 水 2 2 . 9 m Lおよびアセ トン 3 4. 3 m Lを加え、 約 0 °Cに冷却した。 この溶液に、 化合物 ( 7 ) 2 . 5 g ( 8 . 4 mm o 1 ) を加 え、 約 0 °Cで約 4時間攪拌した。 塩酸で中和後、 結晶を濾過し、 水で洗浄した。 乾燥して、 化合物 ( I — 1 0 R) 3 . 0 g (収率 9 4 %) を得た。 D-parin (17 R) 1.27 g (10.8 mmol) to potassium carbonate 2.89 g (20.9 mmol), water 22.9 mL and acetone 34.3 mL was added, and the mixture was cooled to about 0 ° C. To this solution, 2.5 g (8.4 mmol) of the compound (7) was added, and the mixture was stirred at about 0 ° C for about 4 hours. After neutralization with hydrochloric acid, the crystals were filtered and washed with water. After drying, 3.0 g (yield: 94%) of the compound (I-10R) was obtained.
I R ( K B r ) 3 3 9 3 , 3 3 3 3 , 1 7 4 7 , 1 3 2 3 , 1 1 6 4 , 8 1 0 c m- 1 ; IR (KBr) 3339,3333,1747,1323,1164,810cm -1 ;
1 H - N M R (D M S O— d 6 , p p m) δ 0 . 8 4 ( d , J = 6 . 9 H z , 3 H) , 0 . 8 7 (d , J = 6 . 9 H z , 3 H) , 1 . 9 4 - 2 . 0 1 (m, 1 H) , 2 . 5 6 ( s , 3 H) , 3 . 5 8 (d d , J = 6 . 3 , 9 . 3 H z , 1 H) , 7 . 4 1 ( d , J = 8 . 4 H z , 2 H) , 7 . 7 3 ( d , J = 8 . 7 H z , 2 H) , 7 . 8 6 - 7 . 8 7 (m, 3 H ) , 8 . 0 9 ( d, J = 9 . 0 H z , 2 H ) , 1 2 . 6 5 ( b r s, l H) . 実施例 5 7 化合物 ( I — 1 0 R) の調製
Figure imgf000063_0001
1 H-NMR (DMSO—d 6 , ppm) δ 0.84 (d, J = 6.9 Hz, 3 H), 0.87 (d, J = 6.9 Hz, 3 H) , 1.94-2.01 (m, 1H), 2.56 (s, 3H), 3.58 (dd, J = 6.3, 9.3Hz, 1H) , 7.41 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 7.73 (d, J = 8.7 Hz, 2H), 7.86-7.87 (m , 3H), 8.09 (d, J = 9.0 Hz, 2H), 12.65 (brs, lH). Example 57 Preparation of Compound (I—10R)
Figure imgf000063_0001
I-10R  I-10R
D—バリ ン ( 1 7 R) 1 . 2 7 g ( 7. 4 mm o 1 ) に炭酸カリ ウム 2. 3 2 g ( 1 6. 8 m m o 1 ) 、 水 1 5 mLおよびアセ ト ン 1 5 mLを加え、 約 0 °Cに 冷却した。 この溶液に、 ィ匕合物 ( 7 ) 2. 0 g ( 6. 7 m m o 1 ) を加え、 約 0 °C で約 4時間攪拌したあと、 室温下で 1 6時間静置した。 塩酸で中和後、 結晶を濾 過し、 氷で洗浄した。 乾燥して、 化合物 ( I— 1 0 R) 2. 2 5 g (収率 8 9 %) を得た。 D-barine (17 R) 1.27 g (7.4 mmo 1) plus potassium carbonate 2.32 g (16.8 mmo 1), 15 mL water and 15 acetone mL was added and cooled to about 0 ° C. To this solution, 2.0 g (6.7 mmol) of the compound (7) was added, and the mixture was stirred at about 0 ° C. for about 4 hours, and then allowed to stand at room temperature for 16 hours. After neutralization with hydrochloric acid, the crystals were filtered off and washed with ice. After drying, 2.25 g (yield 89%) of compound (I-10R) was obtained.
I R ( K B r ) 3 3 9 3 , 3 3 3 3 , 1 7 4 7 , 1 3 2 3 , 1 1 6 4 , 8 1 0 c m - 1  I R (KBr) 3 3 9 3, 3 3 3 3, 1 7 4 7, 1 3 2 3, 1 1 6 4, 8 1 0 cm-1
1 H -NMR (DMS O - d 6 ) p m) δ 0. 8 4 ( d , J = 6. 9 H z , 3 H) , 0. 8 7 (d , J = 6. 9 H z , 3 H) , 1 . 9 4 - 2. 0 1 (m, 1 H) , 2. 5 6 ( s , 3H) , 3. 5 8 (d d, J = 6. 3 , 9. 3 H z , 1 H ) 7. 4 1 ( d , J = 8. 4 H z , 2 H ) , 7. 7 3 (d , J = 8. 7 H z, 2 H) , 7. 8 6 - 7 . 8 7 (m, 3 H) , 8. 0 9 (d , J = 9. 0 H z , 2 H) , 1 2. 6 5 ( b r s , 1 H ) . 産業上の利用可能性 1 H-NMR (DMS O-d 6) pm) δ 0.84 (d, J = 6.9 Hz, 3H), 0.87 (d, J = 6.9 Hz, 3H ), 1.94-2.01 (m, 1H), 2.56 (s, 3H), 3.58 (dd, J = 6.3, 9.3Hz, 1H) 7.41 (d, J = 8.4Hz, 2H), 7.73 (d, J = 8.7Hz, 2H), 7.86-7.87 (m, 3 H), 8.09 (d, J = 9.0 Hz, 2 H), 12.65 (brs, 1 H). Industrial applicability
本製造方法により、 低級アルキルチオ基で置換されているビフエ二ル基を有す る化合物を簡便かつ経済的に製造することができる。  According to this production method, a compound having a biphenyl group substituted with a lower alkylthio group can be produced simply and economically.

Claims

請求の範囲 The scope of the claims
1. 一般式 (V)
Figure imgf000064_0001
1. General formula (V)
Figure imgf000064_0001
(式中、 X2はハロゲン) で表わされる化合物、 その塩、 またはその溶媒和物を アルキルチオ化反応に付することを特徴とする、 一般式 ( I V) :
Figure imgf000064_0002
Wherein X 2 is a halogen, a salt thereof or a solvate thereof is subjected to an alkylthioation reaction, wherein the compound is represented by the following general formula (IV):
Figure imgf000064_0002
(式中、 R 1は置換されていてもよい低級アルキル) で表わされる化合物、 その 塩、 またはその溶媒和物の製造方法。 (Wherein, R 1 is lower alkyl which may be substituted), a salt thereof, or a solvate thereof.
2. 一般式 ( I V) :
Figure imgf000064_0003
2. General formula (IV):
Figure imgf000064_0003
(式中、 R 1は請求の範囲第 1項と同意義) で表わされる化合物、 その塩、 また はその溶媒和物をハロゲン化反応に付することを特徴とする、 一般式 ( I I ) : (Wherein, R 1 has the same meaning as in claim 1), a salt thereof or a solvate thereof, which is subjected to a halogenation reaction.
R1 (ii) R1 (ii)
Figure imgf000064_0004
Figure imgf000064_0004
(式中、 R 1は請求の範囲第 1項と同意義; X1はハロゲン) で表わされる化合物, その塩、 またはその溶媒和物を製造する工程を包含する請求の範囲第 1項記載の 製造方法。 (Wherein, R 1 has the same meaning as in claim 1 ; X 1 is halogen). The method according to claim 1, which comprises a step of producing a compound represented by the formula: Production method.
3. 一般式 ( I I ) :
Figure imgf000064_0005
3. General formula (II):
Figure imgf000064_0005
(式中、 R 1は請求の範囲第 1項と同意義; X1は請求の範囲第 2項と同意義) で 表わされる化合物、 その塩、 またはその溶媒和物および一般式 ( I I I ) : I2 (,„) (Wherein, R 1 has the same meaning as in claim 1 ; X 1 has the same meaning as in claim 2), a salt thereof, or a solvate thereof, and a general formula (III): I 2 (, „)
H2N COOH H 2 N COOH
(式中、 R 2は置換されてもよい低級アルキル、 置換されてもよいァ リール、 置 換されてもよいァラルキル、 置換されてもよいへテロァリ一ル、 または置換され てもよいへテロァリールアルキル) で表わされる化合物、 その塩、 またはその溶 媒和物をアミ ド化反応に付するこ とを特徴とする、 一般式 ( I ) : (Wherein R 2 is lower alkyl which may be substituted, aryl which may be substituted, aralkyl which may be substituted, heteroaryl which may be substituted, or heteroaryl which may be substituted. Wherein the compound represented by the formula (I) is subjected to an amidation reaction, or a salt thereof, or a solvate thereof.
|) ( |)
Figure imgf000065_0001
Figure imgf000065_0001
(式中、 R 1は請求の範囲第 1項と同意義; R 2は前記と同意義) で表わされる化 合物、 その塩、 またはその溶媒和物を製造する工程を包含する請求の範囲第 2項 記載の製造方法。 (Wherein, R 1 has the same meaning as in claim 1 ; R 2 has the same meaning as described above). A compound, a salt thereof, or a solvate thereof, the method comprising: The manufacturing method according to paragraph 2.
4 . アルキルチオ化反応が、 反応試薬と して、 K S R 1 (式中、 R 1は請求の範囲 第 1項と同意義) を用いる反応である請求の範囲第 1項〜第 3項のいずれかに記 載の製造方法。 4. The method according to any one of claims 1 to 3, wherein the alkylthiolation reaction is a reaction using KSR 1 (wherein R 1 has the same meaning as in claim 1) as a reaction reagent. Manufacturing method described in.
5 . アルキルチオ化反応において、 ハ口ゲン化アルキル、 炭酸ジアルキル、 スル フィ ン酸アルキル、 スルホン酸アルキル、 硫酸ジアルキル、 およびテ トラアルキ ルアンモニゥム塩からなる群から選ばれるアルキル化剤を添加する請求の範囲第 1項〜第 4項のいずれかに記載の製造方法。  5. The alkylthiolation reaction, wherein an alkylating agent selected from the group consisting of alkyl halides, dialkyl carbonates, alkyl sulfinates, alkyl sulfonates, dialkyl sulfates, and tetraalkylammonium salts is added. Item 5. The production method according to any one of Items 1 to 4.
6 . R 1がメチル、 X 2が臭素である請求の範囲第 1項〜第 5項のいずれかに記載 の製造方法。 6. R 1 is methyl, A process according to any one of X 2 ranges the items 1 to 5 of Claims bromine.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0496396A2 (en) * 1991-01-24 1992-07-29 Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. 2,5-dichlorophenylthioglycolic acid derivative and method for its production
US5166460A (en) * 1991-04-01 1992-11-24 Sink James W Organ stop action valve mechanism
EP0708087A1 (en) * 1994-10-18 1996-04-24 Rohm And Haas Company Method for making a substituted benzene compound
JPH11246527A (en) * 1998-03-02 1999-09-14 Shionogi & Co Ltd Mmp-8 inhibitor

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0496396A2 (en) * 1991-01-24 1992-07-29 Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. 2,5-dichlorophenylthioglycolic acid derivative and method for its production
US5166460A (en) * 1991-04-01 1992-11-24 Sink James W Organ stop action valve mechanism
EP0708087A1 (en) * 1994-10-18 1996-04-24 Rohm And Haas Company Method for making a substituted benzene compound
JPH11246527A (en) * 1998-03-02 1999-09-14 Shionogi & Co Ltd Mmp-8 inhibitor

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008066033A1 (en) * 2006-11-29 2008-06-05 Hokko Chemical Industry Co., Ltd. Alkylthio-substituted benzene derivative and process for production thereof

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