WO2008028599A1 - Aluminoborosilikatglas zur verwendung als substratglas - Google Patents

Aluminoborosilikatglas zur verwendung als substratglas Download PDF

Info

Publication number
WO2008028599A1
WO2008028599A1 PCT/EP2007/007620 EP2007007620W WO2008028599A1 WO 2008028599 A1 WO2008028599 A1 WO 2008028599A1 EP 2007007620 W EP2007007620 W EP 2007007620W WO 2008028599 A1 WO2008028599 A1 WO 2008028599A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
glass
use according
cao
bao
sro
Prior art date
Application number
PCT/EP2007/007620
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Joerg Fechner
Peter Brix
Original Assignee
Schott Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Schott Ag filed Critical Schott Ag
Publication of WO2008028599A1 publication Critical patent/WO2008028599A1/de

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
    • C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium

Definitions

  • the invention relates to an aluminoborosilicate glass which has optimized properties for use as a substrate glass.
  • LCD displays have become increasingly popular in recent years.
  • Active Matrix Thin Film Transistor (LCD) TFT (LCD) displays are thin, low in power, and are therefore used in a variety of applications, such as notebooks, flat panel displays, digital cameras, and more.
  • the display substrate generally consists of a glass plate. On such substrates high demands are made.
  • the glasses should have high transparency over a wide spectral range (VIS, UV) and a low density to save weight.
  • VIS, UV spectral range
  • the use as a carrier material for integrated semiconductor circuits, for example in TFT displays moreover requires the thermal adaptation to the thin-film material silicon. If crystalline silicon layers are produced largely by high-temperature treatments above 700 ° C. or by direct deposition via CVD processes, a substrate with a low coefficient of thermal expansion of as low as 4 ⁇ 10 6 / K is required.
  • Manufacturing tolerances should preferably be below 1000 ppm, preferably ⁇ 100 ppm.
  • Suitable glasses should be industrially produced in sufficient quality (no bubbles, knots, inclusions). In the production of thin ( ⁇ 1 mm) streak-free substrates of low surface waviness via drawing processes, a high devitrification stability of the glasses is required. In order to counteract the substrate's "compaction" during manufacture, particularly in the case of TFT displays, which is detrimental to the semiconductor microstructure, the glass also requires a suitable temperature-dependent viscosity characteristic, i. in terms of thermal process and dimensional stability, it should have a not too high viscosity in the melting and processing and yet a sufficiently high transformation temperature.
  • a substrate glass for LCDs known from US Pat. No. 6,992,030 B2 has a composition (in mol% based on oxide) with 70-80% SiO 2 , 3-9% Al 2 O 3 , 8-18% B 2 O 3 , 3 - 10% CaO, 0 - 4% RO, 0 - 0.2% SnO, 0-1% XO, where RO is all MgO, SrO and ZnO and where XO is TiO 2 , ZrO 2 , Y 2 O 3 and La 2 O 3 in total.
  • the disclosed embodiments correspond to a content of SiO 2 between 66.68 and 73.97 wt .-%, a content of B 2 O 3 from 8.61 to 17.37 wt .-%, a content of Al 2 O 3 of From 7.31 to 13.57% by weight, of a content of CaO between 1.63 and 7.02% by weight, a content of MgO between 0 and 1.26% by weight, a content of SrO between 0 and 4.75 wt%, a content of ZnO between 0 and 2.52 wt%.
  • the thermal expansion coefficient CTE in the range of 20 to 300 0 C between 2.44 and 3.18 -IOr 6 IK.
  • aluminoborosilicate glasses having a similar composition for other applications are also known, such as a transition glass marketed by the Applicant under the designation 8228 and having the composition of 83.2 wt.% SiO 2 , 12.5 wt.% B 2 O 3 , 4.12 wt.% Al 2 O 3 and 0.12 wt.% Sb 2 O 3 .
  • Such transition glasses are used exclusively to connect glass components with highly divergent coefficients of expansion.
  • An essential feature of this is the thermal expansion coefficient CTE, which is between 20 and 300 0 C at 1.3-1Or 6 IK.
  • the invention is based on the object to provide an improved substrate glass, which has particularly advantageous properties for use as a substrate glass.
  • This object is achieved according to the invention by an aluminoborosilicate glass which is used as a substrate glass and has the following composition (in% by weight based on oxide):
  • common oxides eg SnO 2 , As 2 O 3 , Sb 2 O 3 ), whose residues can be found partially in the glass.
  • the freedom from accidental contamination by alkali is here preferably understood to mean that an alkali content caused by accidental impurities is at most 1000 ppm, preferably ⁇ 100 ppm.
  • the chemical resistance of the glasses according to the invention measured as mass loss per unit area when etching with buffered hydrofluoric acid solution (BHF method), is preferably less than 0.3 or less than 0.1 mg / cm 2 .
  • the glasses used according to the invention have a transformation temperature T 8 in the range of about 700 ° C. or below.
  • the thermal expansion coefficient CTE20-300 achievable according to the invention is particularly low and is ⁇ 4-10 6 / K, preferably ⁇ 2.5-10 6 / K, particularly preferably between 1 and 2.2-10 6 / K.
  • Such a low thermal expansion is particularly advantageous since the stresses caused by temperature differences are very low.
  • the transformation temperature is at least 600 ° C, preferably at least 630 0 C, but at most about 700 0 C, preferably at most 690 0 C.
  • the substrate glass has sufficient resistance to crystallization, while at the same time, the processing at high temperature is not adversely affected.
  • the modulus of elasticity is relatively low. However, this is considered advantageous for better polishability in the production by casting and subsequent sawing and polishing.
  • the glass used in the invention may be melted in crucibles (preferably iridium) and then cast into blocks. After cooling, cutting into plates and finally polishing takes place. It is expected that such a glass can also be processed in the float process if, instead of a tin bath, a metal bath of a material which melts at a higher temperature, preferably a gold bath or optionally a silver bath, is used.
  • the glass from the melting tank is first fed to a stirring crucible, in which the glass is mechanically homogenized. Via a feed tube, the molten glass is then fed to a drawing tank to which a die is attached with a slot through which a glass ribbon is pulled down.
  • the drawing die is the shaping component.
  • the die preferably does not consist of platinum as usual, but of iridium.
  • a substrate glass with the following composition is used:
  • a substrate glass with the following composition is used:
  • the Strain Point (lower cooling point) is> 600 0 C, the thermal expansion coefficient is between 1 and 2.2-10 ' 6 / K. The density is between 1 and 2.2 g / cm 3 .
  • the sum amount of MgO + CaO + SrO + BaO is at least 1% by weight, preferably at least 2% by weight, more preferably at least 2.5% by weight.
  • the sum amount of CaO + BaO at least 2 wt .-%, preferably at least 2.5 wt .-% amount.
  • the substrate glass according to the invention can furthermore advantageously be used as substrate glass for filters, OLED, AMOLED (Active Matrix OLED), FED (Field Emission Display), SED (Surface Emission Display).
  • a further advantageous application consists of substrate glass in LCD TFT displays, in displays with backlighting of flat screens in non-self-emitter systems, in particular as flat glass in coating systems for FFL (Fiat Flourescent Lamp), in particular for systems with external electrodes EEFL (External Electrode Flourescent Lamp). Examples
  • Table 1 lists three examples I 1 2, 3 with their glass composition and with the most important properties.
  • These glasses can be conventionally melted in melting tanks (preferably in iridium crucibles), then poured into a mold and, after cooling, sawn, cut and polished.
  • the usual refining agents such as AS2O3, Sb 2 Os, SnO 2 , may be added in conventional amounts.
  • a gold bath or a silver bath is used for this purpose.
  • a drawing die made of iridium is preferably used.
  • the glasses listed in Table 1 are largely alkali-free, i. the residual content of alkali oxides is below 100 ppm.

Abstract

Es wird ein Aluminoborosilikatglas angegeben, dass als Substratglas verwendbar ist, insbesondere für LCD-Anwendungen, wobei das Glas folgende Zusammensetzung (in Gew.-% auf Oxidbasis) aufweist: 75 - 90 SiO2, 2 - 7 Al2O3, 8 - 18 B2O3, 0 - 3 MgO, 0 - 5 CaO, 0 - 3 SrO, 0 - 5 BaO, 0 - 1 SnO2, 0 - 2 As2O3, 0 - 2 Sb2O3, wobei das Glas abgesehen von zufälligen Verunreinigungen alkalifrei ist.

Description

Aluminoborosilikatglas zur Verwendung als Substratglas
Die Erfindung betrifft ein Aluminoborosilikatglas, das optimierte Eigenschaften für eine Verwendung als Substratglas aufweist.
LCD-Displays erfreuen sich in den letzten Jahren zunehmender Verbreitung. Insbesondere TFT-LCD-Displays (Active Matrix Thin Film Transistor LCD) weisen eine geringe Dicke auf, eine niedrige Leistungsaufnahme, und werden deshalb in zahlreichen Anwendungen verwendet, wie z.B. in Notebooks, in Flachbildschirmen, in Digitalkameras und dgl. mehr. Dabei besteht das Display-Substrat im Allgemeinen aus einer Glasplatte. An derartige Substrate werden hohe Anforderungen gestellt. Neben einer hohen Temperaturwechselbeständigkeit sowie einer guten Resistenz bezüglich der im Herstellungsverfahren der Flachbildschirme eingesetzten aggressiven Chemikalien sollten die Gläser über einen weiten Spektralbereich (VIS, UV) hohe Transparenz sowie zur Gewichtseinsparung eine geringe Dichte aufweisen. Der Einsatz als Trägermaterial für integrierte Halbleiterschaltkreise z.B. in TFT-Displays erfordert darüber hinaus die thermische Anpassung an das Dünnfilmmaterial Silizium. Werden durch Hochtemperaturbehandlungen oberhalb von 700 0C bzw. durch direkte Abscheidung über CVD-Prozesse weitgehend kristalline Siliziumschichten erzeugt, so ist ein Substrat mit einem niedrigen thermischen Ausdehnungskoeffizienten von möglichst weniger als 4 • 106/K erforderlich.
Für Anwendungen in der Display- und Photovoltaiktechnologie ist ferner die Abwesenheit von Alkaliionen Bedingung. Herstellungsbedingte Toleranzen sollten vorzugsweise unterhalb von 1000 ppm, bevorzugt <100 ppm liegen.
Geeignete Gläser sollten großtechnisch in ausreichender Qualität (keine Blasen, Knoten, Einschlüsse) produzierbar sein. Bei der Herstellung dünner (< 1 mm) streifenfreier Substrate von geringer Oberflächenwelligkeit über Ziehverfahren ist eine hohe Entglasungsstabilität der Gläser gefordert. Um einem auf die Halbleiter-Mikrostruktur nachteilig wirkenden Schrumpf ("compaction") des Substrates während der Herstellung, insbesondere im Falle von TFT-Displays, entgegenzuwirken, benötigt das Glas ferner eine geeignete temperaturabhängige Viskositätskennlinie, d.h. hinsichtlich der thermischen Prozess- und Formstabilität sollte es eine nicht zu hohe Viskosität im Schmelz- und Verarbeitungsbereich aufweisen und dennoch eine ausreichend hohe Transformationstemperatur.
Substratgläser, die zur Verwendung in LCDs und TFT-LCDs geeignet sind, sind im Stand der Technik grundsätzlich bekannt. Ein aus der US 6 992 030 B2 bekanntes Substratglas für LCDs weist eine Zusammmensetzung (in Mol-% auf Oxidbasis) mit 70 - 80 % SiO2, 3 - 9 % Al2O3, 8 - 18 % B2O3, 3 - 10 % CaO, 0 - 4 % RO, 0 - 0,2 % SnO, 0 - 1 % XO auf, wobei RO insgesamt für MgO, SrO und ZnO steht und wobei XO insgesamt für TiO2, ZrO2, Y2O3 und La2O3 steht.
Die offenbarten Ausführungsbeispiele entsprechen einem Gehalt an SiO2 zwischen 66,68 und 73,97 Gew.-%, einem Gehalt an B2O3 von 8,61 bis 17,37 Gew.-%, einem Gehalt an AI2O3 von 7,31 bis 13,57 Gew.-%, einem Gehalt an CaO zwischen 1,63 und 7,02 Gew.-%, einem Gehalt an MgO zwischen O und 1,26 Gew.-%, einem Gehalt an SrO zwischen O und 4,75 Gew.-%, einem Gehalt an ZnO zwischen O und 2,52 Gew.- %. Dabei liegt der thermische Ausdehnungskoeffizient CTE im Bereich von 20 bis 300 0C zwischen 2,44 und 3,18 -IOr6IK.
Ferner sind andere Aluminoborosilikatgläser mit einer ähnlichen Zusammensetzung für andere Einsatzbereiche bekannt, wie etwa ein von der Anmelderin unter der Bezeichnung 8228 vermarktetes Übergangsglas mit der Zusammensetzung von 83,2 Gew.-% SiO2, 12,5 Gew.-% B2O3, 4,12 Gew.-% Al2O3 und 0,12 Gew.-% Sb2O3. Solche Übergangsgläser werden ausschließlich dazu verwendet, Glasbauteile mit stark voneinander abweichenden Ausdehnungskoeffizienten miteinander zu verbinden. Wesentliche Eigenschaft hierzu ist der thermische Ausdehnungskoeffizient CTE, der zwischen 20 und 300 0C bei 1,3-1Or6IK liegt.
Solche Gläser sind jedoch ziemlich hochschmelzend und werden als nicht geeignet angesehen, um Substratgläser herzustellen.
Ein weiteres sehr hochschmelzendes Glas mit den Komponenten SiO2, B2O3 und Al2O3 mit einem ähnlichen Zusammensetzungsbereich ist aus der US 3 853 384 bekannt. Dieses Glas wird als Faserglas für den Faserkern oder den Fasermantel in Lichtleitern verwendet und durch ein Faserziehverfahren verarbeitet.
Vor diesem Hintergrund liegt der Erfindung die Aufgabe zu Grunde, ein verbessertes Substratglas anzugeben, das besonders vorteilhafte Eigenschaften für die Verwendung als Substratglas aufweist. Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch ein Aluminoborosilikatglas gelöst, das als Substratglas verwendet wird und das folgende Zusammensetzung (in Gew.-% auf Oxidbasis) aufweist:
SiO2 75 - 90
Al2O3 2 - 7
B2O3 8 - 18
MgO 0 - 3
CaO 0 - 5
SrO 0 - 3
BaO 0 - 5
Läutermittelrückstände 0 - 5, wobei das Glas abgesehen von zufälligen Verunreinigungen alkalifrei ist. Zur Läuterung werden gängige Oxide verwendet (z.B. SnO2, As2O3, Sb2O3), deren Rückstände sich teilweise im Glas finden können.
Unter der Freiheit von zufälligen Verunreinigung durch Alkali wird hierbei vorzugsweise verstanden, dass ein durch zufällige Verunreinigungen bedingter Alkaligehalt höchstens 1000 ppm, bevorzugt <100 ppm beträgt.
Die chemische Beständigkeit der erfindungsgemäßen Gläser gemessen als Massenverlust pro Flächeneinheit bei Ätzen mit gepuffferter Flusssäurelösung (BHF- Verfahren) ist vorzugsweise kleiner 0,3 bzw. kleiner 0,1 mg/cm2.
Dies ist vorteilhaft bei der Herstellung, da die Ätzlösung lange benutzt werden kann (geringere Kontamination mit aufgelösten Glasbestandteilen).
Die erfindungsgemäß verwendeten Gläser weisen eine Transformationstemperatur T8 im Bereich von etwa 700 0C oder darunter auf. Auch ist der erfindungsgemäß erzielbare thermische Ausdehnungskoeffizient CTE20-300 besonders gering und ist < 4-106/K, vorzugsweise < 2,5-106/K, besonders bevorzugt zwischen 1 und 2,2-106/K.
Eine derartig geringe thermische Ausdehnung ist besonders vorteilhaft, da die durch Temperaturdifferenzen bedingten Spannungen sehr gering sind.
Gemäß einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung beträgt die Transformationstemperatur mindestens 600°C, vorzugsweise mindestens 6300C, höchstens jedoch etwa 7000C, vorzugsweise höchstens 6900C.
Auf diese Weise weist das Substratglas eine ausreichende Beständigkeit gegen Kristallisation auf, während gleichzeitig die Verarbeitung bei hoher Temperatur nicht negativ beeinträchtigt wird.
Mit den erfindungsgemäßen Gläsern lassen sich ferner besonders geringe Dichten erzielen, was vorteilhaft wegen Gewichtseinsparungen insbesondere bei tragbaren Geräten, wie etwa Notebooks, ist.
Der Elastizitätsmodul ist verhältnismäßig gering. Jedoch wird dies als vorteilhaft für eine bessere Polierbarkeit bei der Herstellung durch Gießen und anschließendes Sägen und Polieren angesehen.
Der Strainpoint (unterer Kühlpunkt), d.h. die Temperatur, bei der die Viskosität η = 1Q14.5 pas ^ |St bej (Jgn erfindungsgemäß verwendeten Gläsern mit mehr als 600 0C recht hoch, was zu einer geringen "Compaction" (Schrumpfung nach Temperaturbehandlung) führt.
Das erfindungsgemäß verwendete Glas kann in Schmelztiegeln (vorzugsweise aus Iridium) erschmolzen und dann zu Blöcken zu gegossen werden. Nach Abkühlung erfolgt ein Zerschneiden zu Platten und schließlich ein Polieren. Es wird erwartet, dass sich ein solches Glas auch im Floatverfahren verarbeiten lässt, wenn an Stelle eines Zinnbades ein Metallbad aus einem höher schmelzendem Material, bevorzugt ein Goldbad oder gegebenenfalls ein Silberbad, verwendet wird.
Auch eine Verarbeitung im Down-Draw-Verfahren (Ausziehen nach unten) wird als möglich angesehen. Hierbei wird das Glas aus der Schmelzwanne zunächst einem Rührtiegel zugeführt, in dem das Glas mechanisch homogenisiert wird. Über ein Zuführrohr wird die Glasschmelze dann einem Ziehtank zugeführt, an dem eine Ziehdüse mit einem Schlitz befestigt ist, durch den ein Glasband nach unten ausgezogen wird. Dabei ist die Ziehdüse das formgebende Bauteil. Hierbei besteht die Ziehdüse vorzugsweise nicht wie üblich aus Platin, sondern aus Iridium.
Gemäß einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung wird ein Substratglas mit folgende Zusammensetzung verwendet:
SiO2 80 - 85
Al2O3 3,5 - 5
B2O3 10 - 15
MgO 0 - 3
CaO 0 - 2
SrO 0 - 3
BaO 0 - 3
SnO2 0 - 1
As2O3 0 - 2
Sb2O3 0 - 2.
Gemäß einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung wird ein Substratglas mit folgende Zusammensetzung verwendet:
SiO2 81 - 85
Al2O3 3,5 - 5 B2O3 10 - 15
MgO 0 - 3
CaO 0 - 2
SrO 0 - 3
BaO 0 - 3
SnO2 0 - 1
As2O3 0 - 2
Sb2O3 0 - 2.
Der Strain Point (unterer Kühlpunkt) ist hierbei >600 0C, der thermische Ausdehnungskoeffizient liegt zwischen 1 und 2,2-10'6/K. Die Dichte liegt zwischen 1 und 2,2 g/cm 3.
Gemäß einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung beträgt der Summengehalt an MgO + CaO + SrO + BaO mindestens 1 Gew.-%, vorzugsweise mindestens 2 Gew.-%, besonders bevorzugt mindestens 2,5 Gew.-%.
Hierbei kann insbesondere der Summengehalt von CaO + BaO mindestens 2 Gew.-%, vorzugsweise mindestens 2,5 Gew.-% betragen.
Die Zugabe der genannten Bestandteile wirkt sich vorteilhaft auf die chemische Beständigkeit des Glases aus.
Das erfindungsgemäße Substratglas kann ferner vorteilhaft als Substratglas für Filter, OLED, AMOLED (Active Matrix OLED), FED (Field Emission Display), SED (Surface Emission Display) verwendet werden. Eine weiter vorteilhafte Anwendung besteht als Substratglas in LCD-TFT-Displays, in Displays mit Hintergrundbeleuchtung von Flachbildschirmen in Non-Self-Emitter-Systemen, insbesondere als Flachglas in Beschichtungssystemen für FFL (Fiat Flourescent Lamp), insbesondere für Systeme mit außen liegenden Elektroden EEFL (External Electrode Flourescent Lamp). Beispiele
In Tabelle 1 sind drei Beispiele I1 2, 3 mit ihrer Glaszusammensetzung und mit den wichtigsten Eigenschaften aufgeführt.
Diese Gläser können auf herkömmliche Weise in Schmelzwannen (vorzugsweise in Iridium-Tiegeln) erschmolzen werden, dann in eine Form gegossen werden und nach der Abkühlung gesägt, geschnitten und poliert werden. Es können die üblichen Läutermittel, wie etwa AS2O3, Sb2Os, SnO2, in üblichen Mengen zugesetzt sein.
Es wird erwartet, dass auch eine Herstellung im Floatglasverfahren oder im Down- Draw- Verfahren möglich ist.
Beim Floatglasverfahren wird hierzu anstelle des üblichen Zinnbades ein Goldbad oder ein Silberbad verwendet. Dagegen wird im Down-Draw- Verfahren vorzugsweise eine Ziehdüse verwendet, die aus Iridium besteht.
Die in Tabelle 1 aufgeführten Gläser sind weitgehend alkalifrei, d.h. der Restgehalt an Alkalioxiden liegt unterhalb von 100 ppm.
Figure imgf000009_0001
Figure imgf000010_0001
Tab. 1

Claims

Patentansprüche
1. Verwendung eines Aluminoborosilikatglases als Substratglas, insbesondere für LCD-Anwendungen, wobei das Glas folgende Zusammensetzung (in Gew.-% auf Oxidbasis) aufweist:
SiO2 75 - 90
Al2O3 2-7
B2O3 8-18
MgO 0-3
CaO 0-5
SrO 0-3
BaO 0-5
Läutermittelrückstände 0-5, wobei das Glas abgesehen von zufälligen Verunreinigungen alkalifrei ist.
2. Verwendung nach Anspruch 1, wobei das Glas folgende Zusammensetzung aufweist:
SiO2 80-85
Al2O3 3,5-5
B2O3 10-15
MgO 0-3
CaO 0-2
SrO 0-3
BaO 0-3
SnO2 0-1
As2O3 0-2
Sb2O3 0-2.
3. Verwendung nach Anspruch 1, wobei das Glas folgende Zusammensetzung aufweist:
SiO2 81-85
Al2O3 3,5-5
B2O3 10-15
MgO 0-3
CaO 0-2
SrO 0-3
BaO 0-5
SnO2 0-1
As2O3 0-2
Sb2O3 0-2.
4. Verwendung nach Anspruch 1, 2 oder 3, wobei der Summengehalt an MgO+CaO+SrO+BaO mindestens 1 Gew.-% beträgt.
5. Verwendung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der thermische Ausdehnungskoeffizient CTE im Bereich zwischen 200C und 3000C ≤ 4-106/K, vorzugsweise ≤ 2,5-106/K, besonders bevorzugt ≤ 2,2-106/K ist.
6. Verwendung nach Anspruch 5, wobei der thermische Ausdehnungskoeffizient CTE im Bereich zwischen 200C und 3000C l-106/Kbis 2,2- 106/K beträgt.
7. Verwendung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der Abtrag nach BHF-Ätzung kleiner als 0,3 mg/cm2 ist.
8. Verwendung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Transformationstemperatur Tg mindestens 6000C, vorzugsweise mindestens 6300C beträgt.
9. Verwendung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Transformationstemperatur Tg höchstens 700 0C, vorzugsweise höchstens 690 0C beträgt.
10. Verwendung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der Summengehalt MgO+CaO+SrO+BaO mindestens 2 Gew.-%, vorzugsweise mindestens 2,5 Gew.-% beträgt.
11. Verwendung nach Anspruch 10, wobei der Summengehalt CaO+BaO mindestens 2 Gew.-%, vorzugsweise mindestens 2,5 Gew.-% beträgt.
12. Verwendung nach einem der vorhergehenden Ansprüche als Substratglas für Filter, OLED, AMOLED (Active Matrix OLED), FED (Field Emission Display), SED (Surface Emission Display).
13. Verwendung eines Aluminoborosilikatglases nach einem der Ansprüche 1 bis 11 als Substratglas in LCD-TFT-Displays, in Displays mit Hintergrundbeleuchtung von Flachbildschirmen in Non-Self-Emitter-Systemen, insbesondere als Flachglas in Beschichtungssystemen für FFL (Fiat Flourescent Lamp), insbesondere für Systeme mit außen liegenden Elektroden EEFL (External Electrode Flourescent Lamp).
PCT/EP2007/007620 2006-09-04 2007-08-31 Aluminoborosilikatglas zur verwendung als substratglas WO2008028599A1 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102006042620.7 2006-09-04
DE200610042620 DE102006042620B4 (de) 2006-09-04 2006-09-04 Verwendung eines Aluminoborosilikatglases als Substratglas

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2008028599A1 true WO2008028599A1 (de) 2008-03-13

Family

ID=38828541

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/EP2007/007620 WO2008028599A1 (de) 2006-09-04 2007-08-31 Aluminoborosilikatglas zur verwendung als substratglas

Country Status (3)

Country Link
DE (1) DE102006042620B4 (de)
TW (1) TW200827316A (de)
WO (1) WO2008028599A1 (de)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010042460A2 (en) * 2008-10-06 2010-04-15 Corning Incorporated Intermediate thermal expansion coefficient glass
DE102009022575A1 (de) 2009-05-18 2010-11-25 Technische Universität Bergakademie Freiberg Verwendung von Alumosilikatgläsern als Substratgläser für die Photovoltaik
EP2465829A1 (de) * 2010-10-06 2012-06-20 Corning Incorporated Alkalifreie Glaszusammensetzungen mit hoher Wärme- und Chemikalienstabilität
US8647995B2 (en) 2009-07-24 2014-02-11 Corsam Technologies Llc Fusion formable silica and sodium containing glasses
US8975199B2 (en) 2011-08-12 2015-03-10 Corsam Technologies Llc Fusion formable alkali-free intermediate thermal expansion coefficient glass
US9701567B2 (en) 2013-04-29 2017-07-11 Corning Incorporated Photovoltaic module package

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2152988A (en) * 1934-05-18 1939-04-04 Gen Electric Gaseous electric discharge device
FR2351069A1 (fr) * 1976-05-10 1977-12-09 Pittsburgh Corning Corp Composition pulverulente de borosilicate utilisable dans la preparation de corps de borosilicate cellulaires
US20040043887A1 (en) * 2002-08-29 2004-03-04 Paulson Thomas E. Low-density glass for flat panel display substrates

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3853384A (en) * 1973-04-16 1974-12-10 Bell Telephone Labor Inc Optical transmission line
JP2003238174A (ja) * 2002-02-15 2003-08-27 Asahi Glass Co Ltd フロートガラスの製造方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2152988A (en) * 1934-05-18 1939-04-04 Gen Electric Gaseous electric discharge device
FR2351069A1 (fr) * 1976-05-10 1977-12-09 Pittsburgh Corning Corp Composition pulverulente de borosilicate utilisable dans la preparation de corps de borosilicate cellulaires
US20040043887A1 (en) * 2002-08-29 2004-03-04 Paulson Thomas E. Low-density glass for flat panel display substrates

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010042460A2 (en) * 2008-10-06 2010-04-15 Corning Incorporated Intermediate thermal expansion coefficient glass
WO2010042460A3 (en) * 2008-10-06 2010-06-03 Corning Incorporated Intermediate thermal expansion coefficient glass
JP2012504548A (ja) * 2008-10-06 2012-02-23 コーニング インコーポレイテッド 中間的な熱膨張係数を有するガラス
US10196297B2 (en) 2008-10-06 2019-02-05 Corning, Incorporated Intermediate thermal expansion coefficient glass
US8445394B2 (en) 2008-10-06 2013-05-21 Corning Incorporated Intermediate thermal expansion coefficient glass
US9266769B2 (en) 2008-10-06 2016-02-23 Corsam Technologies Llc Intermediate thermal expansion coefficient glass
DE102009022575A1 (de) 2009-05-18 2010-11-25 Technische Universität Bergakademie Freiberg Verwendung von Alumosilikatgläsern als Substratgläser für die Photovoltaik
WO2010133522A1 (de) 2009-05-18 2010-11-25 Tu Bergakademie Freiberg Verwendung von alumosilikatgläsern als substratgläser für die photovoltaik
US8647995B2 (en) 2009-07-24 2014-02-11 Corsam Technologies Llc Fusion formable silica and sodium containing glasses
US9530910B2 (en) 2009-07-24 2016-12-27 Corsam Technologies Llc Fusion formable silica and sodium containing glasses
US8598056B2 (en) 2010-10-06 2013-12-03 Corning Incorporated Alkali-free glass compositions having high thermal and chemical stability
EP2465829A1 (de) * 2010-10-06 2012-06-20 Corning Incorporated Alkalifreie Glaszusammensetzungen mit hoher Wärme- und Chemikalienstabilität
US8975199B2 (en) 2011-08-12 2015-03-10 Corsam Technologies Llc Fusion formable alkali-free intermediate thermal expansion coefficient glass
US9643883B2 (en) 2011-08-12 2017-05-09 Corsam Technologies Llc Fusion formable alkali-free intermediate thermal expansion coefficient glass
US9701567B2 (en) 2013-04-29 2017-07-11 Corning Incorporated Photovoltaic module package
US10407338B2 (en) 2013-04-29 2019-09-10 Corning Incorporated Photovoltaic module package

Also Published As

Publication number Publication date
TW200827316A (en) 2008-07-01
DE102006042620B4 (de) 2012-01-26
DE102006042620A1 (de) 2008-03-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE19739912C1 (de) Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und dessen Verwendung
DE19680967B3 (de) Alkalifreies Glassubstrat
DE10000836B4 (de) Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und dessen Verwendungen
EP1219573B1 (de) Alkalifreie Aluminoborosilicatgläser und ihre Verwendungen
JP5233998B2 (ja) ガラス板およびその製造方法ならびにｔｆｔパネルの製造方法
DE602005002075T2 (de) Glas für ein Displaysubstrat
DE602004005639T2 (de) Alkalifreies Glassubstrat
EP1118594B1 (de) Alkalifreie Aluminoborosilicatgläser und ihre Verwendung
EP1078893B1 (de) Alkalifreie Aluminoborosilicatgläser und deren Verwendungen
DE69915428T2 (de) Glaskeramiken mit niedriger Ausdehnung
EP1070681B1 (de) Alkalifreies Aluminoborosilicatglas, seine Verwendungen und Verfahren zu seiner Herstellung
EP1118593B1 (de) Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und dessen Verwendung
EP1118596B1 (de) Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und dessen Verwendung
DE69733717T2 (de) Gläser für anzeigetafel und photovoltaische vorrichtungen
DE10346197B4 (de) Glaskeramik, Verfahren zur Herstellung einer solchen und Verwendung
US5811361A (en) Alkali-free glass substrate
DE102006016256A1 (de) Aluminoborosilikatglas
KR20080085085A (ko) 무알칼리 유리 및 무알칼리 유리 기판
DE102006042620B4 (de) Verwendung eines Aluminoborosilikatglases als Substratglas
DE19840113B4 (de) Alkalifreie Glaszusammensetzung zur Herstellung von Flachglas
DE102020120171A1 (de) Hochbrechendes Glas
JP4305025B2 (ja) 無アルカリガラス

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 07802038

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

DPE1 Request for preliminary examination filed after expiration of 19th month from priority date (pct application filed from 20040101)
NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 07802038

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1