WO2005091076A3 - Procedes de fabrication d'elements optiques reflecteurs, elements optiques reflecteurs, appareil de lithogravure aux uv extremes et procedes de mise en oeuvre d'elements optiques et d'appareils de lithogravure aux uv extremes, procedes pour determiner le dephasage, procedes pour determiner l'epaisseur de couche, et appareil - Google Patents

Procedes de fabrication d'elements optiques reflecteurs, elements optiques reflecteurs, appareil de lithogravure aux uv extremes et procedes de mise en oeuvre d'elements optiques et d'appareils de lithogravure aux uv extremes, procedes pour determiner le dephasage, procedes pour determiner l'epaisseur de couche, et appareil Download PDF

Info

Publication number
WO2005091076A3
WO2005091076A3 PCT/EP2005/050985 EP2005050985W WO2005091076A3 WO 2005091076 A3 WO2005091076 A3 WO 2005091076A3 EP 2005050985 W EP2005050985 W EP 2005050985W WO 2005091076 A3 WO2005091076 A3 WO 2005091076A3
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
methods
cap layer
coating
optical elements
reflective optical
Prior art date
Application number
PCT/EP2005/050985
Other languages
English (en)
Other versions
WO2005091076A2 (fr
Inventor
Marco Wedowski
Frank Scholze
Johannes Tuemmler
Original Assignee
Zeiss Carl Smt Ag
Marco Wedowski
Frank Scholze
Johannes Tuemmler
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Zeiss Carl Smt Ag, Marco Wedowski, Frank Scholze, Johannes Tuemmler filed Critical Zeiss Carl Smt Ag
Priority to US10/598,481 priority Critical patent/US20070285643A1/en
Priority to EP05729571A priority patent/EP1730597A2/fr
Publication of WO2005091076A2 publication Critical patent/WO2005091076A2/fr
Publication of WO2005091076A3 publication Critical patent/WO2005091076A3/fr

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/7095—Materials, e.g. materials for housing, stage or other support having particular properties, e.g. weight, strength, conductivity, thermal expansion coefficient
    • G03F7/70958—Optical materials or coatings, e.g. with particular transmittance, reflectance or anti-reflection properties
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/70591—Testing optical components

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

La présente invention concerne un procédé de fabrication d'un système multicouche (25) avec un système de couches d'encapsulation (30), en particulier pour un élément optique réflecteur pour la plage de longueurs d'ondes montant de l'ultraviolet extrême aux rayons X à faible énergie, en procédant de la façon suivante: 1. élaboration d'un dessin de couches pour le système multicouche (25) avec le système de couches d'encapsulation (30); 2. revêtement d'un substrat (20) avec le système multicouche (25) avec le système de couches d'encapsulation (30); 3. mesure spatialement résolue du substrat couché en termes de réflectance et de courant de photoélectrons dans au moins un point de la surface; 4. comparaison des données mesurées avec des données modélisées pour différentes épaisseurs des couches (31, 32, 33) du système de couches d'encapsulation (30) et/ou des couches (21, 22, 23, 24) du système multicouche (25) pour déterminer la distribution d'épaisseurs obtenue par les couches; 5. si nécessaire, reprise des paramètres des couches et répétition des points 2 à 5 jusqu'à obtention d'une distribution des épaisseurs de couches coïncidant avec le dessin. L'invention concerne également d'autres procédés de fabrication, des éléments optiques réflecteurs, des appareil de lithogravure aux UV extrêmes et des procédés de mise en oeuvre d'éléments optiques et d'appareils de lithogravure aux UV extrêmes, ainsi que des procédés pour déterminer le déphasage, des procédés pour déterminer l'épaisseur des couches, et des appareils pour mener à bien ces procédés.
PCT/EP2005/050985 2004-03-05 2005-03-04 Procedes de fabrication d'elements optiques reflecteurs, elements optiques reflecteurs, appareil de lithogravure aux uv extremes et procedes de mise en oeuvre d'elements optiques et d'appareils de lithogravure aux uv extremes, procedes pour determiner le dephasage, procedes pour determiner l'epaisseur de couche, et appareil WO2005091076A2 (fr)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US10/598,481 US20070285643A1 (en) 2004-03-05 2005-03-04 Method For Manufacturing Reflective Optical Element, Reflective Optical Elements, Euv-Lithography Apparatus And Methods For Operating Optical Elements And Euv-Lithography Apparatus, Methods For Determining The Phase Shift, Methods For Determining The Layer Thickness, And Apparatuses For Carrying Out The Methods
EP05729571A EP1730597A2 (fr) 2004-03-05 2005-03-04 Procedes de fabrication d'elements optiques reflecteurs, elements optiques reflecteurs, appareil de lithogravure aux uv extremes et procedes de mise en oeuvre d'elements optiques et d'appareils de lithogravure aux uv extremes, procedes pour determiner le dephasage, procedes pour determiner l'epaisse

Applications Claiming Priority (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US55030204P 2004-03-05 2004-03-05
US60/550,302 2004-03-05
DE102004011355 2004-03-05
DE102004011356.4 2004-03-05
DE102004011355.6 2004-03-05
DE102004011356 2004-03-05

Publications (2)

Publication Number Publication Date
WO2005091076A2 WO2005091076A2 (fr) 2005-09-29
WO2005091076A3 true WO2005091076A3 (fr) 2007-01-18

Family

ID=34962761

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/EP2005/050985 WO2005091076A2 (fr) 2004-03-05 2005-03-04 Procedes de fabrication d'elements optiques reflecteurs, elements optiques reflecteurs, appareil de lithogravure aux uv extremes et procedes de mise en oeuvre d'elements optiques et d'appareils de lithogravure aux uv extremes, procedes pour determiner le dephasage, procedes pour determiner l'epaisseur de couche, et appareil

Country Status (2)

Country Link
EP (1) EP1730597A2 (fr)
WO (1) WO2005091076A2 (fr)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007067344A (ja) * 2005-09-02 2007-03-15 Canon Inc 露光装置および方法ならびにデバイス製造方法
DE102006029799A1 (de) * 2006-06-27 2008-01-03 Carl Zeiss Smt Ag Reflektives optisches Element und Verfahren zu seiner Charakterisierung
DE102006044591A1 (de) 2006-09-19 2008-04-03 Carl Zeiss Smt Ag Optische Anordnung, insbesondere Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Lithographie, sowie reflektives optisches Element mit verminderter Kontamination
US7629594B2 (en) * 2006-10-10 2009-12-08 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, and device manufacturing method
US20080151201A1 (en) * 2006-12-22 2008-06-26 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and method
DE102007037942A1 (de) 2007-08-11 2009-02-19 Carl Zeiss Smt Ag Optische Anordnung, Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren zum Bestimmen der Dicke einer Kontaminationsschicht
US7960701B2 (en) 2007-12-20 2011-06-14 Cymer, Inc. EUV light source components and methods for producing, using and refurbishing same
US7641349B1 (en) 2008-09-22 2010-01-05 Cymer, Inc. Systems and methods for collector mirror temperature control using direct contact heat transfer
DE102013201193A1 (de) 2013-01-25 2014-07-31 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zum Bestimmen der Phasenlage und/oder der Dicke einer Kontaminationsschicht an einem optischen Element und EUV-Lithographievorrichtung
DE102016206088A1 (de) 2016-04-12 2017-05-24 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zum Bestimmen der Dicke einer kontaminierenden Schicht und/oder der Art eines kontaminierenden Materials, optisches Element und EUV-Lithographiesystem
US10747119B2 (en) * 2018-09-28 2020-08-18 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Apparatus and method for monitoring reflectivity of the collector for extreme ultraviolet radiation source

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5307395A (en) * 1992-09-30 1994-04-26 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Low-damage multilayer mirror for the soft X-ray region
JP2002243669A (ja) * 2001-02-15 2002-08-28 Ntt Advanced Technology Corp 多層膜の評価方法および装置
EP1243970A1 (fr) * 2001-03-22 2002-09-25 ASML Netherlands B.V. Appareil lithographique
EP1351258A1 (fr) * 2002-03-04 2003-10-08 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Système optique comprenant une source de rayonnement ultraviolet extrême et un élément réflectif

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5307395A (en) * 1992-09-30 1994-04-26 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Low-damage multilayer mirror for the soft X-ray region
JP2002243669A (ja) * 2001-02-15 2002-08-28 Ntt Advanced Technology Corp 多層膜の評価方法および装置
EP1243970A1 (fr) * 2001-03-22 2002-09-25 ASML Netherlands B.V. Appareil lithographique
EP1351258A1 (fr) * 2002-03-04 2003-10-08 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Système optique comprenant une source de rayonnement ultraviolet extrême et un élément réflectif

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
MURAMATSU Y ET AL: "Total-electron-yield X-ray standing-wave measurements of multilayer X-ray mirrors for the interface structure evaluation", MICROPROCESSES AND NANOTECHNOLOGY CONFERENCE, 2001 INTERNATIONAL OCT. 31 - NOV. 2, 2001, PISCATAWAY, NJ, USA,IEEE, 31 October 2001 (2001-10-31), pages 66 - 66, XP010577373, ISBN: 4-89114-017-8 *
PATENT ABSTRACTS OF JAPAN vol. 2002, no. 12 12 December 2002 (2002-12-12) *

Also Published As

Publication number Publication date
EP1730597A2 (fr) 2006-12-13
WO2005091076A2 (fr) 2005-09-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2005091076A3 (fr) Procedes de fabrication d'elements optiques reflecteurs, elements optiques reflecteurs, appareil de lithogravure aux uv extremes et procedes de mise en oeuvre d'elements optiques et d'appareils de lithogravure aux uv extremes, procedes pour determiner le dephasage, procedes pour determiner l'epaisseur de couche, et appareil
EP2380864B1 (fr) Procédé de fabrication d'un élément céramique incrusté d'au moins un décor métallique
US7215870B2 (en) Moisture protection for an electromechanical transducer
WO2008020965A3 (fr) Optique dans l'ultraviolet extrême
US20030224116A1 (en) Non-conformal overcoat for nonometer-sized surface structure
WO2007071723A3 (fr) Element optique comportant une couche antistatique et antireflet et son procede de fabrication
WO2011044519A3 (fr) Revêtements antireflet durables
KR102081732B1 (ko) 기판 상에 구조화된 코팅을 생성하는 방법, 코팅된 기판, 및 코팅된 기판을 갖는 반제품
WO2006124503A3 (fr) Revetement a faible emissivite presentant un faible coefficient d'apport par rayonnement solaire, des proprietes chimiques et mecaniques ameliorees et procede de fabrication associe
DE60335368D1 (de) Verfahren zur herstellung eines mit einem mehrschichtigen überzug versehenen glasierten teils
JP2010519586A5 (fr)
SE0203224D0 (sv) Method of making structured ceramic coatings and coated devices prepared with the method
MY169599A (en) Low emissivity coating with low solar heat gain coefficient, enhanced chemical and mechanical properties and method of making the same
DE60309441D1 (de) Dünnfilmbeschichtung mit einer transparenten grundierungsschicht
EP1674890A3 (fr) Matériau multicouches et son procédé de préparation
CN105271795A (zh) 用于显示器的覆盖玻璃元件的制造方法及覆盖玻璃
SE0203223D0 (sv) Method of making structured ceramic coatings and coated devices prepared with the method
WO2007098843A8 (fr) Surface antireflet résistant aux éraflures et à propriétés antibuée
WO2006047666A3 (fr) Compositions de revetement liquides contenant un compose forme a partir d'au moins un isocyanurate polyfonctionnel, des revetements composites multicouche et des procedes associes, et des substrats revetus
WO2006049794A3 (fr) Revetements resistant a l'abrasion formes par depot chimique en phase vapeur active par un plasma
WO2007115839A3 (fr) Revetement de barriere thermique en couches a forte porosite et composant
WO2007102143A3 (fr) Procédé de fabrication de métal à revêtement céramique
WO2003032024A3 (fr) Element optique a epaisseur progressive et son procede de production
WO2008070267A3 (fr) Procédé pour appliquer une couche décorative et un revêtement protecteur
CN108375809B (zh) 在空气界面具有高折射率材料的抗反射涂层

Legal Events

Date Code Title Description
AK Designated states

Kind code of ref document: A2

Designated state(s): AE AG AL AM AT AU AZ BA BB BG BR BW BY BZ CA CH CN CO CR CU CZ DE DK DM DZ EC EE EG ES FI GB GD GE GH GM HR HU ID IL IN IS JP KE KG KP KR KZ LC LK LR LS LT LU LV MA MD MG MK MN MW MX MZ NA NI NO NZ OM PG PH PL PT RO RU SC SD SE SG SK SL SM SY TJ TM TN TR TT TZ UA UG US UZ VC VN YU ZA ZM ZW

AL Designated countries for regional patents

Kind code of ref document: A2

Designated state(s): BW GH GM KE LS MW MZ NA SD SL SZ TZ UG ZM ZW AM AZ BY KG KZ MD RU TJ TM AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HU IE IS IT LT LU MC NL PL PT RO SE SI SK TR BF BJ CF CG CI CM GA GN GQ GW ML MR NE SN TD TG

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application
NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

WWW Wipo information: withdrawn in national office

Country of ref document: DE

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2005729571

Country of ref document: EP

WWP Wipo information: published in national office

Ref document number: 2005729571

Country of ref document: EP

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 10598481

Country of ref document: US

WWW Wipo information: withdrawn in national office

Ref document number: 2005729571

Country of ref document: EP

WWP Wipo information: published in national office

Ref document number: 10598481

Country of ref document: US