WO2004095139A1

WO2004095139A1 - 露光装置、露光方法、スタンパの製造方法及び光記録媒体の製造方法

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Publication number: WO2004095139A1
Application number: PCT/JP2004/004466
Authority: WO
Inventors: Hisaji Oyake; Hiroaki Takahata; Yuuichi Kawaguchi
Original assignee: Tdk Corporation
Priority date: 2003-04-22
Filing date: 2004-03-29
Publication date: 2004-11-04
Also published as: TW200506923A; JPWO2004095139A1

Abstract

波長領域が２００～３５０ｎｍの短波長のレーザ光を用いても電気光学変調器等の劣化が生じにくく、所望の露光が確実に得られる信頼性が高い露光装置、露光方法、更にこれらを利用したスタンパの製造方法、光記録媒体の製造方法を提供する。レーザ光変調部１４を構成する電気光学変調器２０の周囲に窒素ガス（パージガス）を供給するためのパージガス供給手段２２を備えた。

Description

明細書

露光装置、露光方法、スタンパの製造方法及び光記録媒体の製造方法技術分野

本発明は、例えば、光記録媒体を製造するための原盤の作製等に用いられる露光装置及び露光方法、スタンパの製造方法及び光記録媒体の製造方法に関する。背景技術

従来、光記録媒体を製造するための原盤は一般的に、ガラス基板にフオトレジストを塗布してピット、グループに相当する部位を露光し、現像処理等を施して露光部分又は非露光部分を除去する ^とにより作製されている。

このような光記録媒体の原盤を作製するための露光装置として、レーザ発振器と、 E OM (E l e c t r o—O p t i c Mo d u l a t o r ) と称されるレーザ光の強度を変調するための電気光学変調器と、を備えた露光装置が知られている（例えば、特開平 9一 1 6 1 2 9 8号公報、特開 2 0 0 1— 6 0 3 3 3号公報参照。）。

尚、このような露光装置は、一般的にレーザ光の強度を測定するためのフォトディテクタを備え、レーザ光の強度の制御等に利用している。又、レーザ光の変調の態様により、電気光学変調器と共に、 AOM (A c o u s t o -O p t i c Mo d u l a t o r ) と称される音響光学変調器、が併用されることもある。

レーザ発振器としては、波長領域が 3 5 1〜4 5 8 nmの A r (アルゴン）レーザ、 K r (クリプトン）レーザを発振するものが多く用いられていた。発明の開示

ここで、近年、光記録媒体の高記録密度化に伴う精密な露光のため、波長領域が 2 0 0 - 3 5 0 n mの短波長のレーザ光が必要とされる場合がある。一例を示すと、波長が 2 5 0 n m程度の深紫外レーザが用いられることがある。

しかしながら、このような短波長のレーザ光を用いると、電気光学変調器が劣化し、光透過率が低下して、充分な出力が得られず、露光精度が低下することがあった。又、電気光学変調器は高価であるため、劣化した電気光学変調器を交換することにより、設備コストが大幅に増加するという問題がある。

尚、レーザ光は、電気光学変調器の一部だけを透過して、該透過部だけに劣化が生じ、他の部分は劣化しないので、電気光学変調器の設置位置をずらしながら劣化した部分を避けてレーザ光が透過するように使用すれば、電気光学変調器の入光部、出光部が全体的に劣化するまで電気光学変調器を使用することができる。即ち、電気光学変調器の耐用期間がそれだけ長くなるため、設備コストの増加を抑制しうる。しかしながら、電気光学変調器の設置位置をずらした場合、光軸の調整等のため、作業に手間がかかるので生産性が低下すると共に、露光の信頼性に欠けるという問題がある。

又、波長領域が 2 0 0〜 3 5 0 n mのレーザ光を用いると、フォトディテクタにも劣化が生じて光透過率が低下し、レーザ光の強度を正確に測定できなくなり、これにより、レーザ光の強度の制御が不適切となり、所望の露光が得ちれないこともあった。

本発明は、以上の問題点に鑑みてなされたものであって、波長領域が 2 0 0〜 3 5 0 n mの短波長のレーザ光を用いても電気光学変調器等の劣化が生じにくく、所望の露光が確実に得られる信頼性が高い露光装置、露光方法、更にこれらを利用したスタンパの製造方法、光記録媒体の製造方法を提供することをその課題とする。

本発明は、電気光学変調器等の周囲にパージガスを供給することにより、電気光学変調器等の劣化を制限したものである。

電気光学変調器等の周囲にパージガスを供給することにより、電気光学変調器等の劣化が制限されるメカニズムは必ずしも明らかではないが、概ね次のように推定される。

レ"ザ光による電気光学変調器等の劣化は、レーザ光のエネルギが供給されることにより、空気中の水分と電気光学変調器等とが反応して発生すると考えられる。従来はレーザ光の波長が比較的長く、エネルギ密度が低かったため、電気光学変調器等と空気中の水分とを反応させるだけのエネルギが供給されることがなかったのに対し、従来よりも波長が短いレーザ光を用いるようになつたため、エネルギ密度が高くなり、電気光学変調器等と空気中の分とを反応させるだけのエネルギが供給され、電気光学変調器等の劣化が発生するようになつたと考えられる。

これに対し、電気光学変調器等の周囲にパージガスを供給することにより、電気光学変調器等に触れる空気を低減できるので、エネルギ密度が高いレーザ光を用いても電気光学変調器等と空気中の水分とが接触 . 反応しにくくなり、電気光学変調器等の劣化が制限されると推定される尚、電気光学変調器等は、波長が 2 0 0〜 3 0 0 n m以下のレーザ光を用いた場合に特に劣化しやすい傾向がある。言い換えれば、波長領域が 2 0 0〜 3 0 0 n m以下のレーザ光を用いる場合に、本発明は特に有効である。

即ち、以下の発明により上記課題を解決したものである。

( 1 ) 波長領域が 2 0 0〜 3 5 0 n mのレーザ光を発振するためのレーザ発振器と、前記レーザ光の強度を変調するための電気光学変調器と、該電気光学変調器の周囲にパージガスを供給するためのパージガス供給手段と、を備えることを特徴とする露光装置。

( 2) 前記電気光学変調器の入光部及び出光部の少なくとも一方を覆うと共に前記レーザ光の光路近傍が開口したカバーを備え、前記パージガス供給手段が前記カバー内に前記パージガスを供給するようにしたことを特徴とする前記（ 1) の露光装置。

( 3 ) 前記レーザ光の強度を測定するためのブォトディテクタを備え、前記パージガス供給手段は、前記フォトディテクタの周囲にパージガスを供給するようにしたことを特徴とする前記（ 1 ) 又は（ 2) の露光装置。

(4) 波長領域が 2 0 0〜 3 5 0 nmのレーザ光を発振するためのレーザ発振器と、前記レーザ光の強度を測定するためのフォトディテクタと、該フォトディテクタの周囲にパージガスを供給するためのパージガス供給手段と、を備えることを特徴とする露光装置。

( 5 ) 前記フォトディテクタの入光部を覆うと共に前記レーザ光の光路近傍が開口したカバーを備え、前記パージガス供給手段が前記カバー内に前記パージガスを供給するようにしたことを特徴とする前記（ 3) 又は（4) の露光装置。

(6) 前記パージガス供給手段は、前記パージガスとして窒素ガス及びドライエアのいずれかを供給するようにしたことを特徴とする前記（ 1 ) 乃至（5 ) のいずれかの露光装置。

( 7 ) 波長領域が 2 00〜 3 5 0 nmのレーザ光を発振するレーザ発振工程と、電気光学変調器の周囲にパージガスを供給しつつ該電気光学変調器で前記レーザ光の強度を変調するレーザ光強度変調工程と、被加工体に前記強度が変調されたレーザ光を照射して露光する露光工程と、を含むことを特徴とする露光方法。

( 8) 前記レーザ光強度変調工程は、前記レーザ光の光路近傍が開口するように前記電気光学変調器の入光部及び出光部の少なくとも一方を力バーで覆いつつ該カバー内に前記パージガスを供給するようにしたことを特徴とする前記（7 ) の露光方法。

( 9 ) 前記レーザ光強度変調工程は、フォトディテクタの周囲にパージガスを供給しつつ該フォトディテクタで前記レーザ光の強度を測定し、この測定結果に基づいて前記レーザ光の強度を変調するようにしたことを特徴とする前記（ 7) 又は（8 ) の露光方法。

( 1 0) 波長領域が 2 0 0〜 3 5 0 n mのレーザ光を発振するレーザ発振工程と、フォトディテクタの周囲にパージガスを供給しつつ該フォトディテクタで前記レーザ光の強度を測定し、この測定結果に基づいて前 , 記レーザ光の強度を変調するレーザ光強度変調工程と、被加工体に前記強度が変調されたレーザ光を照射して露光する露光工程と、を含むことを特徴とする露光方法。

( 1 1 ) 前記レーザ光強度変調工程は、前記レーザ光の光路近傍が開口するように前記フォトディテクタの入光部をカバーで覆いつつ該カバー内に前記パージガスを供給するようにしたことを特徴とする前記（9) 又は（ 1 0 ) の露光方法。

( 1 2) 前記レーザ光強度変調工程は、前記パージガスとして窒素ガス及びドライエアのいずれかを供給するようにしたことを特徴とする前記

( 7) 乃至（1 1 ) のいずれかの露光方法。

尚、本明細書においてレーザ光という用語は、可視領域の電磁波に限定されず、不可視領域の電磁波を含む意義で用いることとする。

本発明によれば、波長領域が 2 0 0〜 3 5 0 nmの短波長のレーザ光を用いても電気光学変調器等に劣化が生じにくく、所望の露光を確実に行うことが可能となるという優れた効果がもたらされる。図面の簡単な説明

図 1は、本発明の第 1実施形態に係る露光装置の全体構造の概要を模式的に示すプロック図である。

図 2は、本発明の第 2実施形態に係る露光装置における電気光学変調器の周辺の拡大図である。

図 3は、本発明の第 3実施形態に係る露光装置におけるフォトディテクタの周辺の拡大図である。

図 4は、本発明の実施例における電気光学変調器の初期出力に対する出力比率と使用日数との関係を示すグラフである。

図 5は、本発明の実施例におけるレーザ光の実際の強さに対するフォトディテクタの表示値と使用日数との関係を示すグラフである。

図 6は、比較例における電気光学変調器の初斯出力に対する出力比率と使用日数との関係を示すグラフである。

図 7は、比較例におけるレーザ光の実際の強さに対するフォトディ'テクタの表示値と使用日数との関係を示すグラフである。

図 8は、前記第 1実施形態に係る露光装置の作用を示すフローチヤ一トである。

図 9は、前記第 1実施形態に係る光記録媒体の作製手順の概略を示すフローチヤ一トである。

図 1 0は、前記第 1実施形態に係る原盤の加工出発体の構造を模式的に示す側断面図である。

' 図 1 1は、所定のパターンで露光された同原盤の加工中間体を模式的に示す側断面図である。

図 1 2は、凹凸パターンが形成された同原盤の構造を模式的に示す側断面図である。

図 1 3は、同原盤に導電膜が形成された状態を模式的に示す側断面図である。

図 1 4は、同導電膜上に電解メツキ層が形成された状態を模式的に示す側断面図である。図 1 5は、同電解メツキ層及び前記導電膜を前記原盤から剥離した状態を模式的に示す側断面図である。

図 1 6は、前記原盤から作製されたスタンパの構造を模式的に示す側断面図である。

図 1 7は、同スタンバを用いた基板の射出成形工程を模式的に示す側断面図である。

図 1 8は、同基板を含む光記録媒体の構造を模式的に示す ½断面図でめる。発明を実施するための最良の形態

以下、本発明の第 1実施形態について図面を参照して詳細に説明する図 1は、本第 1実施形態に係る露光装置の全体構造の概要を模式的に示すブロック図である。

露光装置 1 0は、レーザ発振器 1 2と、レーザ光の強度を変調するためのレーザ光変調部 1 4と、原盤 1 6からの反射光に基づいて原盤 1 6 における照射位置を測定するための照射位置測定部 1 8と、を備えている。

この露光装置 1 0は、レーザ光変調部 1 4を構成する電気光学変調器 2 0の周囲にパージガスを供給するためのパージガス供給手段 2 2を備えることを特徴としている。他の構成については、従来の露光装置と同様であるが、本発明の理解のため全体構造についても簡単に説明することとする。

レーザ発振器 1 2は、波長が（ 2 0 0〜 3 5 0 n mの範囲内の）約 2 5 0 n mの深紫外レーザ光を発振するように構成されている。レーザ発振器 1 2と、電気光学変調器 2 0と、の間には、ビームスプリッタ 2 4 と、ミラー 2 6とがこの順でレ^"ザ光を反射して案内するように配設されている。尚、ビームスプリッタ ² 4は、入射されるレーザ光の一部を透過させるハーフミラーで構成されており、ビームスプリッタ 2 4を透過するレーザ光の光路上にはミラー 2 8が配設され、更にミラー 2 8の反射光の光路上にはフォトディテクタ 3 0が配設されている。

レーザ光変調部 1 4は、前記電気光学変調器 2 0と、偏光ビームスプリツタ 3 2 と、ビームスプリッタ 3 4 ：、縮小レンズ 3 6 と、音響光学変調器 3 8と、拡大レンズ 4 0と、がこの順でレーザ光を案内するように構成されている。尚、ビームスプリッタ 3 4は、レーザ光の一部を反射して縮小レンズ 3 6に出射し、一部を透過させるハーフミラーで構成されており、ビームスプリッタ 3 4を透過するレーザ光の光路上には、フォトディテクタ 4 1が配設されている。

尚、電気光学変調器 2 0には、該電気光学変調器 2 0の屈折率を調節するに電気信号を発振するための図示しない電気信号発振器が備えられ、音響光学変調器 3 8には、該音響光学変調器 3 8の屈折率を調節する超音波信号を発振するための図示しない超音波信号発振器が備えられている。

拡大レンズ 4 0と、原盤 1 6との間には、ビームスプリッタ 4 2と、シャツタ 4 4 と、ビームスプリッタ 4 6 と、ビームエキスパンダ 4 8 と、ミラー 5 0と、縮小レンズ 5 2と、がこの順でレーザ光を案内するように配設されている。尚、ビームスプリッタ 4 2は、レーザ光の一部を反射してシャッタ 4 4に出射し、一部を透過させるハーフミラーで構成されており、ビームスプリッタ 4 2を透過するレーザ光の光路上には、フォトディテクタ 5 3が配設されている。

又、原盤 1 6に照射されたレーザ光の一部は原盤 1 6に反射されて、上記と逆の経路でビームスプリッタ 4 6に入射するが、該ビームスプリッタ 4 6を透過しないで該ビームスプリッタ 4 6に反射される。ビムスプリッタ 4 6 と、照射位置測定部 1 8と、の間にはミラー 5 4と、ミラー 5 6 と、がこの順で反射光を案内するように配設されている。

照射位置測定部 1 8は、ニュートラルデンシティフィルタ 5 8 と、縮小レンズ 6 0 と、 C I D (C h a r g e I n j e c t i o n D e v i c e ) 素子 6 2 とがこの順で配設され、該 C I D素子 6 2で照射位置を検出するように構成されている。

パージガス供給手段 2 2は、窒素ガス（パージガス）を貯留するためのボンべ 6 4 と、電気光学変調器 2 0の近傍に配設されたノズル 6 6 と、音響光学変調器 3 8の近傍に配設されたノズル 6 8 と、フォトディテクタ 3 0の近傍に配設されたノズル 7 0 と、フォトディテクタ 4 1の近傍に配設されたノズル 7 2 と、フォトディテクタ 5 3の近傍に配設されたノズル 7 4と、これらを連結する配管 7 6 と、を有して構成されている。 .

次に、図 8に示されるフローチャートに沿って露光装置 1 0の作用について説明する。

尚、パージガス供給手段 2 2のボンべ 6 4から配管 7 6及びノズル 6 6、 6 8、 7 0、 7 2、 7 4を介して、電気光学変調器 2 0、音響光学変調器 3 8、フォ'トディテクタ 3 0、 4 1、 5 3の周囲に窒素ガスを継続して供給しておく。

この状態で、まず、レーザ発振器 1 2からレーザ光を発振する（S 1 0 2 )₆ 発振されたレーザ光はビームスプリッタ 24及びミラー 2 6に反射ざれて電気光学変調器 2 0'に入射し、強度が変調される（S 1 0 4 )。強度が変調されたレーザ光は、偏光ビームスプリッタ 3 2に出射される。尚、ビームスプリッタ 2 4に入射したレーザ光の一部はビームスプリッタ 24を透過してミラー 2 8に反射され、フォトディテクタ 3 0 に入射する。

電気光学変調器 2 0、フォトディテクタ 3 0は周囲が窒素ガスで覆われているので空気中の水分と接触しにくく、エネルギ密度が高い短波長のレーザ光が入射しても空気中の水分と反応しにくい。即ち、劣化が抑制される。

電気光学変調器 2 0を透過したレーザ光は、更に偏光ビームスプリッタ 3 2を透過してビームスプリッタ 3 4に反射され、縮小レンズ 3 6で径が絞られて音響光学変調器 3 8に入射し、強度が変調されて拡大レンズ 4 0に出射され、平行なレーザ光に復元される。尚、ビームスプリツタ 3 4に入射したレーザ光の一部はビームスプリッタ 3 4を透過してフオトディテクタ 4 1に入射する。

拡大レンズ 4 0を透過したレーザ光は、ビームスプリッタ 4 2でシャッタ 4 4の方向に反射される。ビームスプリッタ 4 2に入射したレーザ光も一部がビームスプリッタ 4 2を透過してフォトディテクタ 5 3に入射する。

音響光学変調器 3 8、フォトディテクタ 4 1、フォトディテクタ 5 3 も周囲が窒素ガスで覆われているので空気中の水分と接触しにくく、ェネルギ密度が高い短波長のレーザ光が入射しても、劣化が抑制される。

ここで、レーザ光変調部 1 4の変調作用について簡単に説明しておく。レーザ光変調部 1 4は、電気光学変調器 2 0及び音響光学変調器 3 8 においてレーザ光を 2段階で変調することにより、様々な態様の変調を実現することができる。一例を示すと、電気光学変調器 2 0においてレ一ザ光のノイズを除去してレーザ光の強度を安定な状態に保持し、音響光学変調器 3 8において光記録媒体のピット、グループのパターンに相当する強弱を付与することができる。又、電気光学変調器 2 0において光記録媒体のピット、グループのパターンに相当する強弱を付与し、音響光学変調器 3 8においてレーザ光の強度の精密な調整を行うこともできる。

又、フォトディテクタ 3 0、 4 1 で電気光学変調器 2 0における変調前後のレーザ光の強度を測定して、電気光学変調器 2 0に付与する電気信号をフィードバック制御することができる。同様に、フォトディテクタ 4 1、 5 3で音響光学変調器 3 8におけ ¾変調前後のレーザ光の強度を測定して、音響光学変調器 3 8に付与する超音波信号をフィードバック制御することができる。フォトディテクタ 3 0、 4 1、 5 3はいずれも劣化が抑制されているので、電気光学変調器 2 0、音響光学変調器 3 8における変調を精密に制御することができる。

シャッタ 4 4を透過したレーザ光は、ビームスプリッタ 4 6を透過し、ビームエキスパンダ 4 8で径が調整されてミラー 5 0で反射され、更に縮小レンズ 5 2で径が絞られて原盤 1 6に照射される（ S 1 0 6 )。，電気光学変調器 2 0、'音響光学変調器 3 8の劣化が抑制されているので、所望の強度のレーザ光が確実に原盤 1 6に照射され、原盤 1 6上のフォトレジストを所望のパターンに精密、且つ、確実に露光することができる。 - 尚、原盤 1 6に照射されたレザ光の一部は原盤 1 6に反射され、縮小レンズ 5 2、ミラー 5 0、ビームエキスパンダ 4 8を介してビームスプリッタ 4 6に入射し、該ビームスプリッタ 4 6で反射される。ビームスプリッタ 4 6で反射されたレーザ光は、更にミラー 5 4、 5 6で反射され、ニュートラルデンシティフィルタ 5 8に入射し、均一に強度が弱められる。二ユートラルデンシティフィルタ 5 8を透過したレーザ光は縮小レンズ 6 0で径が絞られて C I D素子 6 2に入射し、 C I D素子 6 2は照射位置を検出する。この検出結果に基づいて照射位置の捕正が行われる。

次に、以上の露光方法を利用した光記録媒体の製造方法について図 9 のフローチヤ一トに沿って説明する。

まず、原盤 1 6を作製する（S 2 0 2 )。原盤 1 6は、図 1 0に示されるようにガラス基板 1 6 A上にスピンコート法等でフォトレジスト 1 6 Bを塗布し、上記の露光方法で、図 1 1に示されるようにグループの螺旋軌道に相当するパターンでフォトレジスド 1 6 Bにレーザー光線を照射し、現像処理を施して図 1 2に示されるようにフォトレジスト 1 6 Bにおける露光部を除去して K凸パターンを形成することにより得られる。尚、ネガ型のフォトレジストを用いて非露光部を除去し、凹凸パターンを形成してもよい。

次に、原盤 1 6を用いてスタンパ 9 2を作製する（S 2 0 4 )。まず原盤 1 6の凹凸パターン上にスビンコ一ト法で錫及び塩化パラジウムを含むコロイド状の触媒を塗布し、酸で洗浄することにより錫を除去する。これにより原盤 1 6の表面にパラジウムが析出する。このように表面にパラジウムが析出した原盤 1 6を（無電解の）ニッケルメツキ液に浸漬するとパラジウムが触媒となってニッケルが析出する。このように析出したニッケルが触媒として作用し、更にニッケルが連続的に析出し、図 1 3に示されるように原盤 1 6上に導電膜 9 2 Aが形成される。

更に、原盤 1 6をスルファミン酸ニッケル溶液中に浸潰し、導電膜 9 2 Aを電極として通電することにより -ッケルの膜を成長させて、図 1 4に示されるような電解メツキ層 9 2 Bを形成する。次に、電解メツキ層 9 2 B及び導電膜 9 2 Aを図 1 5に示されるように、一体で原盤 1 6 から剥離する。. 尚、この際、フォ .トレジスト 1 6 Bもガラス基板 1 6 A から一体で剥離される。このフォトレジスト 1 6 Bを洗浄することにより、図 1 6に示されるようなスタンパ 9 2が得られる。

次に、スタンパ 9 2を用いて光記録媒体を作製する（S 2 0 6 )。図 1 7に示されるように、スタンパ 9 2を型 9 6内に配設して樹脂素材を射出成形することにより図 1 8に示されるような基板 9 4が得られる。基板 9 4には、原盤 1 6 と等しい凹凸パターンが形成される。

このようにして得られた基板 9 4の凹凸パターン上に反射層、記録層等の機能層（図示省略）を形成し、更に、透光性のカバー層 9 7を形成することにより、光記録媒体 9 8が得られる。尚、スタンパ 9 2.をメタルマスタとして用いて、上記電解メツキ層 9 2 Bの形成と同様の手法で、スタンパ 9 2にニッケルの膜を形成し、凹凸パターンを転写して剥離することによりスタンパを作製することもできる。このスタンパを用いて基板を形成すれば、原盤 1 6と逆の凹凸パターンを光記録媒体の基板に形成することができる。

次に、本発明の第 2実施形態について説明する。

図 2は、本第 2実施形態の電気光学変調器 2 0の周辺の構造を示す拡大図である。

本第 2実施形態は、前記第 1実施形態に対し、電気光学変調器 2 .0の入光部 2 0 Aを覆うカバー 8 0 Aと、出光部 2 0 Bを覆うカバー 8 0 B とを備え、パージガス供給手段 2 2がカバー 8 0 A、 8 O B内に窒素ガスを供給するようにしたことを特徴としている。尚、カバー 8 0 A、 8 O Bは、レーザ光を遮断しないように、いずれもレーザ光の光路近傍が開口している。パージガス供給手段 2 2は、カバー 8 0 A、 8 O B内に連通するノズル 6 6 A、 6 6 Bを備えている。他の構成については前記第 1実施形態と同様であるので説明を省略する。 '

このように、電気光学変調器 2 0の入光部 2 0 A、出光部 2 O Bを力バー 8 0 A、 8 0 Bで覆うことにより、窒素ガスの拡散を制限して入光部 2 0 A、出光部 2 0 Bの周囲を確実に窒素ガスで満たすことができ、入光部 2 0 A、出光部 2 0 Bの劣化を確実に防止することができる。又、窒素ガスが拡散しにくくなるので、窒素ガスの消費量を抑制し、稼動コストを低減することができる。

次に、本発明の第 3実施形態について説明する。

図 3は、本第 3実施形態のフォトディテクタ 3 0の周辺の構造を示す拡大図である。 ..

本第 3実施形態は、前記第 1実施形態に対し、フォトディテクタ 3 0 の入光部 3 0 Aを覆うと共にレーザ光の光路近傍が開口したカバー 9 0 を備え、パージガス供給手段 ² 2のノズル 7 0がカバー 9 0に連通し、カバー 9 0内に窒素ガスを供給するようにしたことを特徴としている。尚、フォトディテクタ 4 1、 5 3についても同様にカバーが設けられているが、構成はフォトディテクタ 3 0と同様であるので説明及び図示を省略する。又、各フォトディテクタの周辺以外の構成については前記第 1実施形態と同様であるので説明を省略する。

本第 3実施形態も前記第 2実施形態と同様に、窒素ガスの拡散を制限してフォトディテクタ 3 0の入光部 3 0 Aの周囲を確実に窒素ガスで満たすことができ、入光部 3 0 Aの劣化を確実に防止することができる。又、窒素ガスの消費量を抑制し、稼動コストを低減することができる。フォトディテクタ 4 1、 5 3についても同様である。

尚、前記第 1〜第 3実施形態において、パージガス供給手段 2 2は、電気光学変調器 2 0、音響光学変調器 3 8、フォトディテクタ 3 Q、 4 1、 5 3の周囲に窒素ガスを供給するように構成されているが、本発明はこれに限定されるものではなく、これらの一部だけが劣化しやすく、他は劣化しにくい場合には、劣化しやすい要素に窒素ガスを供給するためのノズルだけを設けるようにして、他のノズルは省略した構成としてもよい。例えば、電気光学変調器 2 0、音響光学変調器 3 8だけが劣化しゃすく、フォトディテクタ 3 0、 4 1、 5 3が劣化しにくい場合には、フォトディテクタ 3 0、 4 1、 5 3の周囲に窒素ガスを供給するためのノズルは省略した構成としてもよい。一方、フォトディテクタ 3 0、 4 1、 5 3及び音響光学変調器 3 8が劣化しやすく、電気光学変調器 2 0が劣化しにくい場合には、電気光学変調器 2 0の周囲に窒素ガスを供給するためのノズルは省略した構成としてもよい。

又、前記第 1〜第 3実施形態において、パージガス供給手段 2 2は、共通のボンべ 6 4から各ノズル 6 6、 7 2等に窒素ガスを供給する構成とされているが、本発明はこれに限定されるものではなく、複数のボンベを備え、複数の系統で各ノズル 6 6、 7 2等に窒素ガスを供給する構成としてもよい。即ち、電気光学変調器 2 0、音響光学変調器 3 8等の周囲に窒素ガスを供給し、これらに接触する空気を低減できればパージガス供給手段の構成は特に限定されない。

又、前記第 1〜第 3実施形態において、パージガスとして窒素ガスを用いているが、本発明はこれに限定されるものではなく、水分を含有しないガスであれば、例えば、炭酸ガス、ドライエア等の他のパージガスを用いるようにしてもよい。

又、前記第 1〜第 3実施形態において、露光装置 1 0は、光記録媒体を製造するための原盤 1 6の作製に用いられているが、本発明はこれに限定されるものではなく、波長領域が 2 0 0〜 3 5 0 n mのレーザ光による露光であれば、用途は特に限定されない。

【実施例】

上記第 1実施形態により、電気光学変調器 2 0、フォトディテクタ 3 0、 4 1、 5 3の周囲に窒素ガスを約 5リットル/分の流量で供給し、レーザ発振器 1 2から波長が約 2 5 0 n mの深紫外レーザを発振した。尚、電気光学変調器 2 0、フォトディテクタ 3 0、 4 1、 5 3の設置位置は一定に固定した。

図 4は、電気光学変調器 2 0の初期出力に対する出力比率と使用日数との関係を示すグラフである。図 5は、レーザ光の実際の強さに対するフォトディテクタ 3 0 .の表示値と使用日数との関係を示すグラフである

[比較例]

電気光学変調器 2 0、フォトディテクタ 3 0、 4 1、 5 3の周囲に窒素ガスを供給しないで、レーザ発振器 1 2から波長が約 2 5 0 n mの深紫外レーザを発振した。他の条件は上記実施例と同様とした。

図 6は、電気光学変調器 2 0の初期出力に対する出力比率と使用日数との関係を示すグラフである。図 7は、レーザ光の実際の強さに対するフォトディテクタ 3 0の表示値と使用日数との関係を示すグラフである図 4及び図 6より、使用日数に伴う実施例の電気光学変調器 2 0の出力の低下は、比較例の霉気光学変調器 2 0の出力の低下の 4 0 %程度であり、実施例は比較例に対し電気光学変調器 2 0の劣化が大幅に抑制されていることがわかる。

又、図 5及ぴ図 7より、比較例のフォトディテクタ 3 0は使用日数の増加に伴い表示値が低下する傾向があるのに対し、実施例のフォトディテクタ 3 0は表示値に若干のばらつきがあるものの使用日数と共に表示値が低下する傾向はなく、フォトディテクタ 3 0の劣化が防止されていることがわかる。産業上の利用の可能性

本発明は、例えば、光記録媒体を製造するための原盤の作製等に用られる露光装置に利用することができる。

Claims

請求の範囲

1 . 波長領域が 2 0 0〜 3 5 0 n mのレーザ光を発振するためのレーザ発振器と、前記レーザ光の強度を変調するための電気光学変調器と、該 .電気光学変調器の周囲にパージガスを供給するためのパージガス供給手段と、を備えることを特徴とする露光装置。

2；請求項 1において、

前記電気光学変調器の入光部及び出部の少なくとも一方を覆うと共に前記レーザ光の光路近傍が開口したカバーを備え、前記パージガス供」給手段が前記カバー内に前記パージガスを供給するようにしたことを特徴とする露光装置。

3 . 請求項 1において、

前記レーザ光の強度を測定するためのフォトディテクタを備え、前記パージガス供給手段は、前記フォトディテクタの'周囲にパージガスを供給するようにしたことを特徴とする露光装置。

4 . 請求項 3において、

前記フォトディテクタの入光部を覆うと共に前記レーザ光の光路近傍が開口したカバーを備え、前記パージガス供給手段が前記カバー內に前記パージガスを供給するようにしたことを特徴とする露光装置。

5 . 波長領域が 2 0 0〜 3 5 0 n mのレーザ光を発振するためのレーザ発振器と、前記レーザ光の強度を測定するためのフォトディテクタと、該フォトディテクタの周囲にパージガスを供給するためのパージガス供給手段と、を備えることを特徴とする露光装置。

6 . 請求項 5において、

前記フォトディテクタの入光部を覆うと共に前記レーザ光の光路近傍 'が開口したカバーを備え、前記パージガス供給手段が前記カバ内に前記パージガスを供給するようにしたことを特徴とする露光装置。

7 . 請求項 1乃至 6のいずれかにおいて、

前記パージガス供給手段は、前記パージガスとして窒素ガス及びドラィエアのいずれかを供給するようにしたことを特徴とする露光装置。

8 . 波長領域が 2 0 0〜 3 5 0 n mのレーザ光を発振するレーザ発振ェ程と、電気光学変調器の周囲にパージガスを供給しつつ該電気光学変調器で前記レーザ光の強度を変調するレーザ光強度変調工程と、被加工体に前記強度が変調されたレーザ光を照射して露光する露光工程と、を含むことを特徴とする露光方法。

9 . 請求項 8において、

前記レーザ光強度変調工程は、前記レーザ光の光路近傍が開口するように前記電気光学変調器の入光部及び出光部の少なくとも一方をカバーで覆いつつ該カバー内に前記パージガスを供給するようにしたことを特徴とする露光方法。

1 0 . 請求項 8において、

前記レーザ光強度変調工程は、フォトディテクタの周囲にパージガスを供給しつつ該フォトディテクタで前記レーザ光の強度を測定し、この測定結果に基づいて前記レーザ光の強度を変調するようにしたことを特徴とする露光方法。

1 1 . 請求項 1 0において、

前記レーザ光強度変調工程は、前記レーザ光の光路近傍が開口するように前記フォトディテクタの入光部をカバーで覆いつつ該カバー内に前記パージガスを供給するようにしたことを特徴とする露光方法。

1 2 . 波長領域が 2 0 0〜 3 5 0 n mのレーザ光を発振するレーザ発振工程と、フォトディテクタの周囲にパージガスを供給しつつ該フォトディテクタで前記レーザ光の強度を測定し、この測定結果に基づいて前記レーザ光の強度を変調するレーザ光強度変調工程と、被加工体に前記強度が変調されたレーザ光を照射して露光する露光工程と、を含むことを特徴とする露光方法。

1 3 . 請求項 1 2において、

1 4 . 請求項 8乃至 1 3のいずれかにおいて、

前記レーザ光強度変調工程は、前記パージガスとして窒素ガス及びドライエアのいずれかを供給するようにしたことを特徴とする露光方法。

1 5 . 請求項 8乃至 1 3のいずれかに記載の露光方法を用いて原盤を作製する原盤作製工程と、前記原盤を用いて光記録媒体製造用のスタンパを作製するスタンパ作製工程と、を含むことを特徴とするスタンパの製造方法。

1 6 . 請求項 1 4に記載の露光方法を用いて原盤を作製する原盤作製ェ程と、前記原盤を用いて光記録媒体製造用のスタンパを作製するスタンパ作製工程と、を含むことを特徴とするスタンパの製造方法。

1 7 . 請求項 8乃至 1 3のいずれかに記載の露光方法を用いて原盤を作製する原盤作製工程と、前記原盤を用いて光記録媒体製造用のスタンパを作製するスタンパ作製工程と、前記スタンパを用いて光記録媒体を作製する光記録媒体作製工程と、を含むことを特徴とする光記録媒体の製造方法。

1 8 . 請求項 1 4に記載の露光方法を用いて原盤を作製する原盤作製ェ程と、前記原盤を用いて光記録媒体製造用のスタンパを作製するスタンパ作製工程と、前記スタンパを用いて光記録媒体を作製する光記録媒体作製工程と、を含むことを特徴とする光記録媒体の製造方法。