WO2003101976A1 - Process for producing epoxide - Google Patents

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WO2003101976A1
WO2003101976A1 PCT/JP2003/006635 JP0306635W WO03101976A1 WO 2003101976 A1 WO2003101976 A1 WO 2003101976A1 JP 0306635 W JP0306635 W JP 0306635W WO 03101976 A1 WO03101976 A1 WO 03101976A1
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tungsten
ammonium
hydrogen peroxide
dihydrogen phosphate
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Application number
PCT/JP2003/006635
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French (fr)
Japanese (ja)
Inventor
Masaji Hirota
Koji Hagiya
Original Assignee
Sumitomo Chemical Company, Limited
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D301/00Preparation of oxiranes
    • C07D301/02Synthesis of the oxirane ring
    • C07D301/03Synthesis of the oxirane ring by oxidation of unsaturated compounds, or of mixtures of unsaturated and saturated compounds
    • C07D301/12Synthesis of the oxirane ring by oxidation of unsaturated compounds, or of mixtures of unsaturated and saturated compounds with hydrogen peroxide or inorganic peroxides or peracids

Definitions

  • the present invention relates to a method for producing an epoxide.
  • Epoxides are important compounds for various chemical products such as resins and their synthetic intermediates.
  • olephine is oxidized with peracids such as perbenzoic acid and peracetic acid.
  • peracids are relatively expensive, require careful handling, and are difficult to work up after the reaction. Therefore, it has been desired to develop an epoxide production method that does not use peracids.
  • hydrogen peroxide has attracted attention as a clean and excellent oxidizing agent that is inexpensive, easy to handle, and becomes harmless water after the reaction. Have been reported.
  • Hei 8-27136 discloses that olefin and hydrogen peroxide are reacted in the presence of phase transfer catalysts such as para-aminomethylphosphonic acid, quaternary ammonium halides and tungstic acids. A method is described. However, aminomethylphosphonic acid, which is expensive, has high hygroscopicity, and requires careful handling, is not industrially and sufficiently satisfactory. Disclosure of the invention
  • the present inventors have studied to develop a method for advantageously producing an epoxide, and have reached the present invention.
  • the present invention relates to a quaternary ammonium phosphate, at least one ammonium salt selected from the group consisting of a quaternary ammonium hydrogenphosphate and a quaternary ammonium dihydrogenphosphate, and a tungsten metal or tungsten compound and hydrogen peroxide.
  • a method for producing an epoxide which comprises reacting olefin and hydrogen peroxide in the presence of a tungsten oxide obtained by reacting BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
  • the olefin used in the present invention is not particularly limited as long as it has one or more olefinic carbon-carbon double bonds in the molecule.
  • Such olefins include, for example, formula (1):
  • RR 2 , R 3 and R 4 are the same or different and are each a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted linear, branched or cyclic alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl
  • Examples of the unsubstituted linear, branched or cyclic alkyl group represented by RR 2 , R 3 or R 4 include, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group Group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, isooctyl group, n-nonyl group, n-decyl group, Examples thereof include a linear, branched or cyclic C11-10 alkyl group such as a cyclopentyl group and a cyclohexyl group.
  • Examples of the linear, branched or cyclic substituted alkyl group include an alkoxy group (for example, a C 1-4 alkoxy group such as a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an isopropoxy group and an n-butoxy group). ), A trisubstituted silyl group (for example, a silyl group substituted with three substituents selected from the aforementioned C1-10 alkyl group or aryl group (phenyl group or naphthyl group, etc.)) and a halogen atom (for example, , A chlorine atom, a fluorine atom, a bromine atom, an iodine atom, etc.).
  • an alkoxy group for example, a C 1-4 alkoxy group such as a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an isopropoxy group and an n-butoxy group.
  • Examples of the unsubstituted aryl group represented by R 1 , R 2 , R 3 or R 4 include a C 6-10 aryl group such as a phenyl group and a naphthyl group.
  • Examples include linear, branched or cyclic alkyl groups, alkoxy groups, trisubstituted silyl groups, hydroxyl groups, aryl groups substituted with a substituent selected from a halogen atom or an acyl group.
  • a linear, branched or cyclic alkyl group, trisubstituted silyl group and octogen atom are the same as described above, and an alkoxy group is, for example, a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group. And a C 1-4 alkoxy group such as an isopropoxy group, an n-butoxy group, and a methylenedioxy group.
  • the acyl group include, for example, an acetyl group, a propionyl group and the like.
  • substituted or unsubstituted aryl group include, for example, 2-fluorophenyl group, 3_fluorophenyl group, 4_fluorophenyl group, 2-chlorophenyl group, 3-chlorophenyl group, 4-methylphenyl, 2-bromophenyl, 2-methylphenyl, 4-methylphenyl, 4-methoxyphenyl, 3-methoxy-4-hydroxyphenyl, 3,4-dimethoxyphenyl And a 3,4-methylenedioxyphenyl group and a 4-acetylphenyl group.
  • trisubstituted silyl group in the present invention examples include a trimethylsilyl group, a triethylsilyl group, a dimethylphenylsilyl group, and a methyldiphenylsilyl group.
  • Examples of the unsubstituted or substituted aralkyl group include an alkyl group (for example, a C1-10 alkyl group) substituted with the above-mentioned substituted or unsubstituted aralkyl group.
  • Specific examples include a benzyl group and a phenylethyl group.
  • the unsubstituted alkylene group represented by any two of R 1 R 2 , R 3 and R 4 together trimethylene, tetramethylene, pentamethylene And alkylene groups such as hexamethylene, heptamethylene and octamethylene groups.
  • the substituted alkylene group include those described above.
  • An unsubstituted alkyl group, an alkoxy group, a trisubstituted silyl group, an unsubstituted aryl group or an alkylene group or a cycloalkylene group substituted with an octane atom, such as a cyclopentylene group, a cyclohexylene group Etc.) are exemplified.
  • olefin examples include, for example, ethylene.
  • tetrasubstituted olefins such as 2,3-dimethyl-2-butene and 2,3,4-trimethyl-2-pentene (in the formula (1), RR 2 , R 3 and R 4 are not hydrogen atoms). Is exemplified.
  • examples of the olefin include diolefins such as 2,5-dimethyl-2,4-hexadiene.
  • olefins include geometric isomers and optical isomers.
  • a single geometric isomer or optical isomer may be used, or a mixture of geometric isomers may be used. Alternatively, a mixture of optical isomers may be used.
  • Examples of the tungsten metal or the tungsten compound include tungsten metal, a tungsten compound composed of tungsten and a group 13 element, a tungsten compound composed of tungsten and a group 14 element, a tungsten compound composed of tungsten and a group 15 element, and tungsten. And a simple substance or a mixture of a tandasten compound or the like consisting of a group 16 element.
  • a tungsten compound composed of tungsten and a Group 13 element is, for example, tungsten boride
  • a tungsten compound composed of tungsten and a Group 14 element is, for example, tungsten carbide is composed of tungsten and a Group 15 element.
  • the tungsten compound include tungsten phosphide and tungsten nitride
  • examples of the tungsten compound composed of tungsten and the Group 16 element include tungsten oxide, tungsten sulfide, tungstic acid, and disodium tungstate. .
  • an anhydride or a hydrate may be used.
  • tungsten metals or tungsten compounds tungsten metal, tungsten carbide, tungsten boride, tungsten sulfide, tungstic acid, tungsten oxide, and disodium tungstate are preferred.
  • the particle size of the tungsten metal or the tungsten compound is not particularly limited, but it is preferable to use a tungsten metal or a tungsten compound having a small particle size from the viewpoint of facilitating the preparation of the tungsten oxide.
  • the tungsten oxide is prepared by reacting the tungsten metal or the tandasten compound with hydrogen peroxide.
  • Hydrogen peroxide is usually water Although a solution is used, an organic solvent solution may be used. It is preferable to use an aqueous solution of hydrogen peroxide in that handling is easier.
  • the concentration of hydrogen peroxide in the aqueous hydrogen peroxide solution or in the organic solvent solution of hydrogen peroxide is not particularly limited, but is practically 1 to 60% by weight in consideration of volumetric efficiency, safety and the like.
  • the aqueous hydrogen peroxide solution may be used as it is, or may be used as it is or after adjusting the concentration by dilution, concentration, or the like as necessary.
  • the hydrogen peroxide organic solvent solution can be prepared by, for example, extracting an aqueous hydrogen peroxide solution with an organic solvent, or distilling the aqueous solution in the presence of an organic solvent.
  • the amount of hydrogen peroxide used for preparing the tungsten oxide is usually at least 3 moles, preferably at least 5 moles, per mole of the tandasten metal or tungsten compound, and the upper limit is not particularly limited.
  • the reaction of tungsten metal or tandastene compound with hydrogen peroxide is usually carried out in water.
  • ether solvents such as getyl ether, methyl tert-butyl ether, tetrahydrofuran, etc .
  • ester solvents such as ethyl acetate
  • tertiary alcohol solvents such as tert-butanol
  • nitrile solvents such as acetonitrile
  • the reaction temperature is usually from ⁇ 10 to 100.
  • Tungsten oxide may be taken out of the solution or suspension and used as a catalyst for the reaction between olefin and hydrogen peroxide. May be used as a catalyst as it is.
  • the reaction is carried out with stirring so that the tungsten metal or tandastene compound is sufficiently dispersed in the tungsten oxide preparation liquid in order to improve the contact efficiency between the tungsten metal or the tandastene compound and hydrogen peroxide.
  • the tungsten metal or the tungsten compound and the hydrogen peroxide for example, particles of the tungsten metal or the tundastene compound such as powdery tungsten metal or the like. It is preferable to use a fine stainless steel metal or fine stainless steel compound.
  • quaternary ammonium salt quaternary ammonium salt
  • quaternary ammonium phosphates include triphosphate (methyltrioctyl ammonium), triphosphate (ethyltrioctyl ammonium), triphosphate (butyl trioctyl ammonium), and triphosphate (tetraethylammonium).
  • Octylammonium triphosphate [methyltri (decyl) ammonium], triphosphate [ethylethyl (decyl) ammonium], triphosphate [butylethyl (decyl) ammonium], triphosphate [tetra (decyl) ammonium] ], Triphosphate [methyltri (dodecyl) ammonium], triphosphate [dimethyldi (dodecyl) ammonium], triphosphate [trimethyl (dodecyl) ammonium], triphosphate [tetra (dodecyl) ammonium], phosphoric acid Tri [trimethyl (tetradecyl) ammonium], La Defense Sil) Anmoniumu], tricalcium phosphate [trimethyl (tetradecyl) Anmoniumu], tricalcium phosphate [tetra (tetradecyl) Anmoniumu,
  • Triphosphate (lauryl dimethyl pendant ammonium), triphosphate (methyltrihexyl ammonium), triphosphate (dimethyldihexyl ammonium), triphosphate (trimethylhexyl ammonium), phosphorus Triphosphate (tetrahexyl ammonium), Triphosphate (tetrabutylammonium), Triphosphate (benzyltrimethylammonium), Triphosphate (benzyltriethylammonium), Triphosphate (N _Lauryl pyridinium), triphosphate (N-cetylpyridinium), triphosphate (N_lauryl picolinium) and the like.
  • Examples of the quaternary ammonium hydrogen phosphate include dihydrogen phosphate (methyltrioctyl ammonium), dihydrogen phosphate (ethyltrioctylammonium), and dihydrogen phosphate (butyltrioctylammonium).
  • Dihydrogen phosphate (lauryl dimethyl pendenyl ammonium), dihydrogen phosphate (methyl trihexyl ammonium), dihydrogen phosphate (dimethyl dihexyl ammonium), dihydrogen phosphate ( Trimethylhexylammonium, dihydrogenphosphate (tetrahexylammonium), dihydrogenphosphate (tetrabutylammonium), dihydrogenphosphate (benzyltrimethylammonium), dihydrogenphosphate ( Benzyltriethylammonium), dihydrogen phosphate (N-laurylpyridinium), dihydrogen hydrogen phosphate (N-cetylbiridinium), dihydrogen phosphate (N-laurylpicolinium), and the like. .
  • Examples of the quaternary ammonium dihydrogen phosphate include, for example, dihydrogen phosphate (methyltrioctyl ammonium), dihydrogen phosphate (ethyltrioctyl ammonium), and dihydrogen phosphate (butyltrioctyl ammonium).
  • Dihydrogen phosphate (lauryl dimethyl pendyl ammonium), dihydrogen phosphate (methyl trihexyl ammonium), dihydrogen phosphate (dimethyl dihexyl ammonium), dihydrogen phosphate (trimethyl hexyl ammonium) Dihydrogen phosphate (tetrahexylammonium), dihydrogen phosphate (tetrabutylammonium), dihydrogen phosphate (benzyltrimethylammonium), dihydrogenphosphate (benzyltriethylammonium) ⁇ ), Dihydrogen phosphate (N_laurylpyridinium), dihydrogen phosphate (N-cetylbiridinium), dihydrogen phosphate (N-laurylpicolinium) and the like.
  • the amount of the quaternary ammonium salt used may be 0.25 mol or more with respect to 1 mol of tungsten oxide, and there is no particular upper limit, but in consideration of economical aspects, practically, It is at most 2 moles with respect to tungsten oxide.
  • Such a quaternary ammonium salt may be used in advance in the preparation of the above-mentioned tungsten oxide, but is preferably used in the reaction between olefin and hydrogen peroxide described later.
  • an aqueous solution is usually used.
  • an organic solvent solution of hydrogen peroxide may be used.
  • concentration of hydrogen peroxide in the aqueous solution of hydrogen peroxide or the solution of hydrogen peroxide in an organic solvent is not particularly limited, but is practically 1 to 60% by weight in consideration of volumetric efficiency and safety.
  • the amount of hydrogen peroxide used is usually at least 0.8 mol, preferably at least 1 mol per mol of olefin, and there is no particular upper limit. Practically, the amount is practically 5 mol or less, preferably 3 mol or less, based on the olefin. When a solution or suspension containing tungsten oxide is used, the amount of hydrogen peroxide to be used may be determined in consideration of the amount of hydrogen peroxide contained in the solution or suspension.
  • the amount of the tungsten oxide to be used is generally 0.01 to 0.95 mol, preferably 0.05 to 0.1 mol, per mol of olefin as tungsten metal.
  • the reaction between olefin and hydrogen peroxide may be carried out without solvent, or in water, an organic solvent, or a mixed solvent of water and an organic solvent.
  • organic solvent include aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene, for example, aliphatic hydrocarbon solvents such as hexane and heptane, such as getyl ether, methyl tert-butyl ether, tetrahydrofuran and diglyme.
  • ether solvents such as ester solvents such as ethyl acetate, tertiary alcohol solvents such as tert-butanol, and nitrile solvents such as acetonitrile.
  • the amounts of the water solvent and the organic solvent used are not particularly limited.
  • This reaction is usually carried out with tungsten oxide, quaternary ammonium salt, Contacting and mixing hydrogen peroxide and hydrogen peroxide, for example, by contacting and mixing tungsten metal or a tungsten compound, quaternary ammonium salt, orefin and hydrogen peroxide, preparing tungsten oxide, The reaction with hydrogen peroxide may be performed simultaneously and in parallel.
  • the reaction temperature of the reaction between olefin and hydrogen peroxide is usually from 0 to 13 O, and the reaction is usually carried out under normal pressure, but may be carried out under reduced pressure or increased pressure.
  • the pH in the reaction system is preferably in the range of 1-4, more preferably in the range of 2-3.5, and more preferably in the range of 2-3, The range is more preferred. Therefore, if the pH range in the reaction system is not within the above range, the pH in the reaction system is adjusted to the above range using an acid such as sulfuric acid or an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide. Preferably, the reaction is carried out.
  • the resulting reaction solution is decomposed as it is or, if necessary, the remaining hydrogen peroxide is decomposed with a reducing agent such as sodium sulfite, followed by concentration treatment, crystallization treatment, etc. Can be taken out.
  • the epoxide can also be taken out by adding water and / or an organic solvent insoluble in water to the reaction solution, if necessary, performing an extraction treatment, and concentrating the obtained organic layer.
  • the extracted epoxide may be further purified by ordinary purification means such as distillation, column chromatography, recrystallization and the like.
  • Ri-R 4 has the same meaning as defined for formula (1).
  • epoxides include ethylene oxide, propylene oxide, 1,2-epoxybutane, 1,2-epoxypentane, 4,4-dimethyl-1,2-epoxypentane, and 1,2-epoxypentane.
  • a 10 OmL Schlenk tube equipped with a reflux condenser was purged with nitrogen, and at room temperature, 0.26 g of disodium tandestenate ⁇ decahydrate and 7.2 g of 30% by weight hydrogen peroxide solution were charged. After stirring and reacting for a minute, a tungsten oxide preparation was obtained. A solution consisting of 4.4 g of 1-octene, 0.19 g of trioctylmethylammonium dihydrogen phosphate and 8 mL of toluene was added to the prepared solution, and sulfuric acid was further added to adjust the pH in the reaction system to 2%. Adjusted to 5. Thereafter, the mixture was stirred and reacted at an internal temperature of 9 for 4 hours.
  • Example 1 was repeated, except that the reaction was carried out at an internal temperature of 90 for 6 hours. Thus, 1,2-epoxyoctane was obtained at a yield of 90%.
  • a 10 OmL Schlenk tube equipped with a reflux condenser was purged with nitrogen, and at room temperature, 0.26 g of disodium tandestenate ⁇ decahydrate and 7.2 g of 30% by weight hydrogen peroxide solution were charged. After stirring and reacting for a minute, a tungsten oxide preparation was obtained. A solution consisting of 4.4 g of cyclooctene, 0.19 g of trioctylmethylammonium dihydrogen phosphate and 8 mL of toluene was added to the preparation, and sulfuric acid was added to adjust the pH in the reaction system to 2.8. did. Thereafter, the mixture was stirred and reacted at an internal temperature of 90 for 3 hours.
  • a 10 OmL Schlenk tube equipped with a reflux condenser was purged with nitrogen, and at room temperature, 0.26 g of disodium tungstostenate ⁇ 12 hydrate and 7.2 g of 30% by weight hydrogen peroxide solution were charged. After stirring and reacting for a minute, a tungsten oxide preparation was obtained. A solution consisting of 4.4 g of 1-octene, 0.126 g of dimethyl dihydrogen dioctadecyl ammonium phosphate and 8 mL of toluene was added to the prepared solution, and sulfuric acid was further added to adjust the pH in the reaction system to 2%. Adjusted to 5. Thereafter, the mixture was stirred and reacted at an internal temperature of 90 for 4 hours.
  • a 10 OmL Schlenk tube equipped with a reflux condenser was purged with nitrogen, and at room temperature, 0.26 g of sodium disodium stenoate decahydrate and 7.2 g of 30% by weight hydrogen peroxide solution were charged. The mixture was stirred and reacted for 1 minute to obtain a tungsten oxide preparation.
  • a solution consisting of 4.5 g of 1-octene, 0.23 g of tetraoctylammonium dihydrogen phosphate and 8 mL of toluene was added to the prepared solution, and sulfuric acid was further added to adjust the pH in the reaction system to 2.5. Was adjusted. Thereafter, the mixture was stirred and reacted at an internal temperature of 90 for 4 hours.
  • Example 1 was repeated in the same manner as in Example 5 except that 0.25 g of trioctylbutylammonium dihydrogen phosphate was used in place of tetraoctylammonium dihydrogen phosphate. An organic layer containing epoxy octene was obtained. When the organic layer was analyzed by gas chromatography (internal standard method), the yield of 1,2-epoxyoctene was 80%.
  • Example 5 Same as Example 5 except that instead of tetraoctylammonium dihydrogen phosphate, 0.19 g of trioctylethylammonium dihydrogen phosphate was used. In this manner, an organic layer containing 1,2-epoxyoctene was obtained. When the organic layer was analyzed by gas chromatography (internal standard method), the yield of 1,2-epoxyoctene was 87%. Industrial applicability
  • a tungsten oxide which can be easily prepared from readily available tungsten metal or a tandasten compound such as disodium ungstostenate and hydrogen peroxide is used as a catalyst.
  • the use of grade ammonium phosphate, etc., is industrially advantageous since an epoxide compound can be obtained from orefin in a high yield.
  • the phase transfer catalyst does not contain a halogen atom, it can be said that it is a preferable production method in terms of occupational health and environment.

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Abstract

A process for producing an epoxide, characterized by comprising reacting an olefin with hydrogen peroxide in the presence of a tungsten oxide, the tungsten oxide obtained through reaction of at least one ammonium salt selected from the group consisting of quaternary ammonium phosphates, quaternary ammonium hydrogen phosphates and quaternary ammonium dihydrogen phosphates, a tungsten compound and hydrogen peroxide.

Description

明 細 書  Specification
エポキシドの製造方法  Epoxide production method
技術分野 Technical field
本発明は、 エポキシドの製造方法に関する。 背景技術  The present invention relates to a method for producing an epoxide. Background art
エポキシドは、 樹脂をはじめとする各種化学製品およびその合成中間体等とし て重要な化合物であり、 その製造方法として、 例えばォレフィンを、 m_クロ口 過安息香酸や過酢酸等の過酸で酸化する方法が知られている。 しかしながら、 過 酸は、 比較的高価で、 取扱いに注意を要し、 また反応後の後処理も面倒であるた め、 過酸を用いないエポキシドの製造方法の開発が望まれていた。 - 近年、 過酸化水素が、 安価で、 取扱いが容易で、 しかも反応後には無害な水と なる、 クリーンで優れた酸化剤として注目を集めており、 過酸化水素を用いてォ レフインからエポキシド類を製造する方法が報告されている。 例えば特開平 8— 2 7 1 3 6号公報には、 ひ—アミノメチルホスホン酸、 4級アンモニゥムのハ口 ゲン化物等の相間移動触媒およびタングステン酸類の存在下、 ォレフィンと過酸 化水素を反応させる方法が記載されている。 しかしながら、 高価で、 吸湿性が高 く、 取扱いに注意を要するアミノメチルホスホン酸を用いており、 工業的に、 必 ずしも十分満足し得る方法とは言えなかった。 発明の開示  Epoxides are important compounds for various chemical products such as resins and their synthetic intermediates.For example, olephine is oxidized with peracids such as perbenzoic acid and peracetic acid. There are known ways to do this. However, peracids are relatively expensive, require careful handling, and are difficult to work up after the reaction. Therefore, it has been desired to develop an epoxide production method that does not use peracids. -In recent years, hydrogen peroxide has attracted attention as a clean and excellent oxidizing agent that is inexpensive, easy to handle, and becomes harmless water after the reaction. Have been reported. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 8-27136 discloses that olefin and hydrogen peroxide are reacted in the presence of phase transfer catalysts such as para-aminomethylphosphonic acid, quaternary ammonium halides and tungstic acids. A method is described. However, aminomethylphosphonic acid, which is expensive, has high hygroscopicity, and requires careful handling, is not industrially and sufficiently satisfactory. Disclosure of the invention
このような状況のもと、 本発明者らは、 エポキシドを有利に製造する方法を開 発すべく検討し、 本発明に至った。  Under such circumstances, the present inventors have studied to develop a method for advantageously producing an epoxide, and have reached the present invention.
すなわち本発明は、 第四級アンモニゥムリン酸塩、 第四級アンモニゥムリン酸 水素塩および第四級アンモニゥムリン酸ニ水素塩からなる群から選ばれる少なく とも一種のアンモニゥム塩およびタングステン金属またはタングステン化合物と 過酸化水素とを反応せしめてなるタングステン酸化物の存在下、 ォレフィンと過 酸化水素とを反応させることを特徴とするエポキシドの製造方法を提供するもの である。 発明を実施するための最良の形態 That is, the present invention relates to a quaternary ammonium phosphate, at least one ammonium salt selected from the group consisting of a quaternary ammonium hydrogenphosphate and a quaternary ammonium dihydrogenphosphate, and a tungsten metal or tungsten compound and hydrogen peroxide. To provide a method for producing an epoxide, which comprises reacting olefin and hydrogen peroxide in the presence of a tungsten oxide obtained by reacting BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
本発明に用いられるォレフィンとしては、 その分子内に一つ以上のォレフィン 性炭素一炭素二重結合を有する化合物であれば特に制限されない。  The olefin used in the present invention is not particularly limited as long as it has one or more olefinic carbon-carbon double bonds in the molecule.
かかるォレフィンとしては、 例えば式 ( 1 ):  Such olefins include, for example, formula (1):
Figure imgf000003_0001
Figure imgf000003_0001
(式中、 R R 2、 R 3および R 4はそれぞれ同一または相異なって、 水素原子、 置換もしくは無置換の直鎖状、 分枝鎖状もしくは環状のアルキル基、 置換もしく は無置換のァリール基、 置換もしくは無置換のァラルキル基、 三置換シリル基ま たはハロゲン原子を表わす。 ここで、 R R 2、 R 3および R 4のうちの任意の二 つが一緒になつて置換もしくは無置換のアルキレン基を形成しても良い。)で示さ れる鎖状もしくは環状のォレフィンが例示される。 (Wherein, RR 2 , R 3 and R 4 are the same or different and are each a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted linear, branched or cyclic alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl) Represents a substituted or unsubstituted aralkyl group, a trisubstituted silyl group or a halogen atom, wherein any two of RR 2 , R 3 and R 4 are taken together to form a substituted or unsubstituted alkylene May form a group.).
R R 2、 R 3あるいは R 4で表される無置換の直鎖状、 分枝鎖状もしくは環状 のアルキル基としては、 例えばメチル基、 ェチル基、 n—プロピル基、 イソプロ ピル基、 n _ブチル基、イソブチル基、 s e c—プチル基、 t e r t—プチル基、 n—ペンチル基、 n—へキシル基、 n—ヘプチル基、 n—ォクチル基、 イソォク チル基、 n—ノニル基、 n—デシル基、 シクロペンチル基、 シクロへキシル基等 の直鎖状、 分枝鎖状もしくは環状の C 1一 1 0のアルキル基が例示される。 直鎖 状、 分枝鎖状もしくは環状の置換アルキル基としては、 アルコキシ基 (例えばメ トキシ基、 エトキシ基、 n—プロポキシ基、 イソプロポキシ基、 n—ブトキシ基 等の C 1-4のアルコキシ基)、三置換シリル基(例えば, 前記のような C1-10アル キル基またはァリール基 (フエニル基もしくはナフチル基等) から選ばれる三つ の置換基で置換されたシリル基) およびハロゲン原子 (例えば, 塩素原子、 フッ 素原子、 臭素原子、 ヨウ素原子等) から選ばれる基で置換された直鎖状、 分枝鎖 状もしくは環状のアルキル等が例示される。 R 1 , R 2、 R 3あるいは R 4で表される無置換ァリール基としては、 例えば、 フ ェニル基、 ナフチル基等の C6-10のァリール基が例示され、 置換ァリール基とし ては、 直鎖状、 分枝鎖状もしくは環状のアルキル基、 アルコキシ基、 三置換シリ ル基、 水酸基、 ハロゲン原子もしくはァシル基から選ばれる置換基で置換された ァリール基が例示される。ここで、直鎖状、分枝鎖状もしくは環状のアルキル基、 三置換シリル基及び八ロゲン原子としては、 前記と同様のものが、 アルコキシ基 としては、 例えばメトキシ基、 エトキシ基、 n—プロポキシ基、 イソプロポキシ 基、 n—ブトキシ基、 メチレンジォキシ基等の C 1-4 のアルコキシ基が例示され る。 ァシル基の具体例としては、 例えばァセチル基、 プロピオニル基等が例示さ れる。 Examples of the unsubstituted linear, branched or cyclic alkyl group represented by RR 2 , R 3 or R 4 include, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group Group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, isooctyl group, n-nonyl group, n-decyl group, Examples thereof include a linear, branched or cyclic C11-10 alkyl group such as a cyclopentyl group and a cyclohexyl group. Examples of the linear, branched or cyclic substituted alkyl group include an alkoxy group (for example, a C 1-4 alkoxy group such as a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an isopropoxy group and an n-butoxy group). ), A trisubstituted silyl group (for example, a silyl group substituted with three substituents selected from the aforementioned C1-10 alkyl group or aryl group (phenyl group or naphthyl group, etc.)) and a halogen atom (for example, , A chlorine atom, a fluorine atom, a bromine atom, an iodine atom, etc.). Examples of the unsubstituted aryl group represented by R 1 , R 2 , R 3 or R 4 include a C 6-10 aryl group such as a phenyl group and a naphthyl group. Examples include linear, branched or cyclic alkyl groups, alkoxy groups, trisubstituted silyl groups, hydroxyl groups, aryl groups substituted with a substituent selected from a halogen atom or an acyl group. Here, a linear, branched or cyclic alkyl group, trisubstituted silyl group and octogen atom are the same as described above, and an alkoxy group is, for example, a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group. And a C 1-4 alkoxy group such as an isopropoxy group, an n-butoxy group, and a methylenedioxy group. Specific examples of the acyl group include, for example, an acetyl group, a propionyl group and the like.
置換もしくは無置換のァリール基の具体例としては、 例えば 2 -フルオロフェ ニル基、 3 _フルオロフェニル基、 4 _フルオロフェニル基、 2—クロ口フエ二 ル基、 3—クロ口フエ二ル基、 4 _クロ口フエ二ル基、 2—ブロモフエニル基、 2—メチルフエニル基、 4—メチルフエニル基、 4—メトキシフエ二ル基、 3 - メトキシ— 4—ヒドロキシフエニル基、 3 , 4—ジメトキシフエ二ル基、 3 , 4 —メチレンジォキシフエニル基および 4—ァセチルフエニル基等が例示される。 本願発明における三置換シリル基の具体例としては、 トリメチルシリル基、 ト リエチルシリル基、 ジメチルフエエルシリル基、 メチルジフエニルシリル基等が 例示される。  Specific examples of the substituted or unsubstituted aryl group include, for example, 2-fluorophenyl group, 3_fluorophenyl group, 4_fluorophenyl group, 2-chlorophenyl group, 3-chlorophenyl group, 4-methylphenyl, 2-bromophenyl, 2-methylphenyl, 4-methylphenyl, 4-methoxyphenyl, 3-methoxy-4-hydroxyphenyl, 3,4-dimethoxyphenyl And a 3,4-methylenedioxyphenyl group and a 4-acetylphenyl group. Specific examples of the trisubstituted silyl group in the present invention include a trimethylsilyl group, a triethylsilyl group, a dimethylphenylsilyl group, and a methyldiphenylsilyl group.
無置換もしくは置換ァラルキル基の例としては、 上記の置換もしくは無置換の ァリール基で置換されたアルキル基 (例えば C1-10アルキル基等) が例示され、 具体的には、 例えばべンジル基、 フエニルェチル基、 4一フルォ口べンジル基、 4ーメトキシベンジル基、 4—メチルベンジル基、 2—クロ口べンジル基、 3— メトキシー 4—ヒドロキシベンジル基、 3, 4—ジメトキシベンジル基、 3, 4 —メチレンジォキシベンジル基等が例示される。  Examples of the unsubstituted or substituted aralkyl group include an alkyl group (for example, a C1-10 alkyl group) substituted with the above-mentioned substituted or unsubstituted aralkyl group. Specific examples include a benzyl group and a phenylethyl group. Group, 4-fluorobenzyl group, 4-methoxybenzyl group, 4-methylbenzyl group, 2-methylbenzyl group, 3-methoxy-4-hydroxybenzyl group, 3,4-dimethoxybenzyl group, 3,4 —Methylenedioxybenzyl group and the like.
上記式 (1 ) で示されるォレフィンの式中、 R 1 R 2、 R 3および R 4のうちの 任意の二つが一緒になつて表す無置換のアルキレン基としては、 トリメチレン、 テトラメチレン、 ペンタメチレン、 へキサメチレン、 ヘプタメチレン、 ォクタメ チレン基等のアルキレン基が例示され、 置換アルキレン基としては、 例えば上記 の無置換のアルキル基、 アルコキシ基、 三置換シリル基、 無置換ァリール基もし くは八口ゲン原子で置換されたアルキレン基あるいはシクロアルキレン基等 (例 えば、 シクロペンチレン基、 シクロへキシレン基等) が例示される。 In the formula of the olefin represented by the above formula (1), as the unsubstituted alkylene group represented by any two of R 1 R 2 , R 3 and R 4 together, trimethylene, tetramethylene, pentamethylene And alkylene groups such as hexamethylene, heptamethylene and octamethylene groups. Examples of the substituted alkylene group include those described above. An unsubstituted alkyl group, an alkoxy group, a trisubstituted silyl group, an unsubstituted aryl group or an alkylene group or a cycloalkylene group substituted with an octane atom, such as a cyclopentylene group, a cyclohexylene group Etc.) are exemplified.
かかるォレフィンの具体例としては、 例えばエチレンが例示され、 さらには、 プロピレン、 1—ブテン、 1_ペンテン、 4, 4 _ジメチルー 1 _ペンテン、 1 —へキセン、 1—ヘプテン、 1—ォクテン、 1—ノネン、 1—デセン、 1ーゥン デセン、 1—ドデセン、 1—トリデセン、 1—テトラデセン、 1—ペン夕デセン、 1—へキサデセン、 1—ォク夕デセン、 3, 3—ジメチルー 1—ブテン、 ビニル シクロペンタン、 ビニルシクロへキサン、 ァリルシクロへキサン、 スチレン、 4 - (t e r t—プチル) スチレン、 ァリルベンゼン、 4—メトキシスチレン、 サ フロール、 オイゲノール、 3, 4—ジメトキシ— 1—ァリルベンゼン等の一置換 ォレフィン (式 (1) において、 R R2、 R3および R4のうち三の基が水素原 子を表し、 残りの一の基は水素以外の基を表す。)、 Specific examples of such an olefin include, for example, ethylene. Further, propylene, 1-butene, 1_pentene, 4,4_dimethyl-1-pentene, 1-hexene, 1-heptene, 1-octene, 1-octene, -Nonene, 1-decene, 1-decene, 1-dodecene, 1-tridecene, 1-tetradecene, 1-pendecene, 1-hexadecene, 1-octadecene, 3,3-dimethyl-1-butene, Monosubstituted olefins such as vinyl cyclopentane, vinylcyclohexane, arylcyclohexane, styrene, 4- (tert-butyl) styrene, arylbenzene, 4-methoxystyrene, safrole, eugenol, 3,4-dimethoxy-1-arylbenzene, etc. Table in the formula (1), RR 2, third group of R 3 and R 4 represent a hydrogen atom, the remaining one group a group other than hydrogen .),
例えば 2—ブテン、 イソプチレン、 2—メチル—1—ブテン、 2 _ペンテン、 2—へキセン、 2 _メチル _ 1—へキセン、 3—へキセン、 2—ヘプテン、 2_ メチル— 1一ヘプテン、 3 _ヘプテン、 2—ォクテン、 3—ォクテン、 4—ォク テン、 2—ノネン、 3—ノネン、 4—ノネン、 5—デセン、 2—メチル一 1—ゥ ンデセン、 シクロペンテン、 シクロへキセン、 4—メチルシクロへキセン、 シク 口ヘプテン、 シクロォクテン、 シクロデセン、 シクロドデセン、 メチレンシクロ へキサン、 /3—メチルスチレン、 スチルベン、 イソサフロール、 イソオイゲノ一 ル、 /3—ピネン、 ノルボルネン等の二置換ォレフィン (式 (1) において、 R1, R2、 R3および R4のうち二の基が水素原子を表し、 残りの二つは水素以外の基 を表す。) For example, 2-butene, isobutylene, 2-methyl-1-butene, 2-pentene, 2-hexene, 2-methyl_1-hexene, 3-hexene, 2-heptene, 2-methyl-1-heptene, 3 _Heptene, 2-octene, 3-octene, 4-octene, 2-nonene, 3-nonene, 4-nonene, 5-decene, 2-methyl-1-indenecene, cyclopentene, cyclohexene, 4- Disubstituted olefins such as methylcyclohexene, cycloheptene, cyclooctene, cyclodecene, cyclododecene, methylenecyclohexane, / 3-methylstyrene, stilbene, isosaflor, isoeugenol, / 3-pinene, norbornene (Formula (1) In, two of R 1 , R 2 , R 3 and R 4 represent a hydrogen atom, and the remaining two represent groups other than hydrogen.)
例えば 2—メチルー 2—ブテン、 2—メチル—2—ペンテン、 2—メチルー 2 —へキセン、 2—メチル一2—ヘプテン、 2—メチル一2—ノネン、 1一メチル シクロペンテン、 1—メチルシクロへキセン、 1_ (t e r t—ブチル) シクロ へキセン、 1一イソプロピルシクロへキセン、 2—カレン、 3—カレン、 α—ピ ネン等の三置換ォレフィン (式 (1) において、 R R2、 R3および R4のうち 一つは水素原子を表し、 残りの基は水素原子以外の基を表す。)、 例えば 2, 3—ジメチルー 2—ブテン、 2 , 3, 4一トリメチルー 2—ペンテ ン等の四置換ォレフィン等 (式 (1 ) において、 R R 2、 R 3および R 4は水素 原子ではない。) が例示される。 For example, 2-methyl-2-butene, 2-methyl-2-pentene, 2-methyl-2-hexene, 2-methyl-1-heptene, 2-methyl-1-nonene, 1-methylcyclopentene, 1-methylcyclohexene , 1_ (tert-butyl) cyclohexene, 1-isopropylcyclohexene, 2-carene, 3-carene, α-pinene and other tri-substituted olefins (in the formula (1), RR 2 , R 3 and R 4 One of them represents a hydrogen atom, and the remaining groups represent groups other than a hydrogen atom.), For example, tetrasubstituted olefins such as 2,3-dimethyl-2-butene and 2,3,4-trimethyl-2-pentene (in the formula (1), RR 2 , R 3 and R 4 are not hydrogen atoms). Is exemplified.
さらには、 ォレフィンとしては、 2, 5—ジメチル— 2 , 4—へキサジェン等 のジォレフインが例示される。  Further, examples of the olefin include diolefins such as 2,5-dimethyl-2,4-hexadiene.
かかるォレフィンの中には、幾何異性体や光学異性体が存在するものがあるが、 本発明には、 単独の幾何異性体や光学異性体を用いてもよいし、 幾何異性体の混 合物や光学異性体の混合物を用いてもよい。  Some of these olefins include geometric isomers and optical isomers. In the present invention, a single geometric isomer or optical isomer may be used, or a mixture of geometric isomers may be used. Alternatively, a mixture of optical isomers may be used.
タングステン金属またはタングステン化合物としては、 例えばタングステン金 属、 タングステンと第 13族元素とからなるタングステン化合物、 タングステン と第 14族元素とからなるタンダステン化合物、 タングステンと第 15族元素とか らなるタングステン化合物、 タングステンと第 16族元素とからなるタンダステ ン化合物等の単体または混合物が例示される。  Examples of the tungsten metal or the tungsten compound include tungsten metal, a tungsten compound composed of tungsten and a group 13 element, a tungsten compound composed of tungsten and a group 14 element, a tungsten compound composed of tungsten and a group 15 element, and tungsten. And a simple substance or a mixture of a tandasten compound or the like consisting of a group 16 element.
タングステンと第 13族元素とからなるタングステン化合物としては、 例えば ホウ化タングステンが、 タングステンと第 14族元素とからなるタングステン化 合物としては、 例えば炭化タングステンが、 タングステンと第 15族元素とから なるタングステン化合物としては、 例えばリン化タングステン、 チッ化タンダス テンが、 タングステンと第 16族元素とからなるタングステン化合物としては、 例えば酸化タングステン、 硫化タングステン、 タングステン酸、 タングステン酸 ニナトリウム等がそれぞれ例示される。 かかるタングステン化合物のうち、 水和 物が存在するものは、 無水物を用いてもよいし、 水和物を用いてもよい。  A tungsten compound composed of tungsten and a Group 13 element is, for example, tungsten boride, and a tungsten compound composed of tungsten and a Group 14 element is, for example, tungsten carbide is composed of tungsten and a Group 15 element. Examples of the tungsten compound include tungsten phosphide and tungsten nitride, and examples of the tungsten compound composed of tungsten and the Group 16 element include tungsten oxide, tungsten sulfide, tungstic acid, and disodium tungstate. . Among such tungsten compounds, when a hydrate is present, an anhydride or a hydrate may be used.
かかるタングステン金属または夕ングステン化合物の中でも、 タングステン金 属、 炭化タングステン、 ホウ化タングステン、 硫化タングステン、 タングステン 酸、 酸化タングステン、 タングステン酸ニナトリウムが好ましい。 またタンダス テン金属またはタングステン化合物の粒径は特に制限されないが、 タングステン 酸化物の調製をより容易にするという点で、 粒径が細かいタングステン金属また はタングステン化合物を用いることが好ましい。  Among such tungsten metals or tungsten compounds, tungsten metal, tungsten carbide, tungsten boride, tungsten sulfide, tungstic acid, tungsten oxide, and disodium tungstate are preferred. The particle size of the tungsten metal or the tungsten compound is not particularly limited, but it is preferable to use a tungsten metal or a tungsten compound having a small particle size from the viewpoint of facilitating the preparation of the tungsten oxide.
かかるタングステン金属またはタンダステン化合物と過酸化水素とを反応させ ることにより、 タングステン酸化物が調製される。 過酸化水素としては、 通常水 溶液が用いられるが、 有機溶媒溶液を用いてもよい。 取扱いがより容易であると いう点で、 過酸化水素水溶液を用いることが好ましい。 過酸化水素水溶液中もし くは過酸化水素有機溶媒溶液中の過酸化水素濃度は特に制限されないが、 容積効 率、 安全面等を考慮すると、 実用的には 1〜6 0重量%である。 過酸化水素水溶 液は、 通常市販のものをそのままもしくは必要に応じて、 希釈、 濃縮等により濃 度調整を行なった後用いればよい。 過酸化水素有機溶媒溶液は、 例えば過酸化水 素水溶液を、 有機溶媒で抽出処理する、 もしくは有機溶媒の存在下に蒸留処理す る等の手段により調製することができる。 The tungsten oxide is prepared by reacting the tungsten metal or the tandasten compound with hydrogen peroxide. Hydrogen peroxide is usually water Although a solution is used, an organic solvent solution may be used. It is preferable to use an aqueous solution of hydrogen peroxide in that handling is easier. The concentration of hydrogen peroxide in the aqueous hydrogen peroxide solution or in the organic solvent solution of hydrogen peroxide is not particularly limited, but is practically 1 to 60% by weight in consideration of volumetric efficiency, safety and the like. The aqueous hydrogen peroxide solution may be used as it is, or may be used as it is or after adjusting the concentration by dilution, concentration, or the like as necessary. The hydrogen peroxide organic solvent solution can be prepared by, for example, extracting an aqueous hydrogen peroxide solution with an organic solvent, or distilling the aqueous solution in the presence of an organic solvent.
タングステン酸化物を調製する際に用いる過酸化水素の使用量は、 タンダステ ン金属またはタングステン化合物 1モルに対して、 通常 3モル以上、 好ましくは 5モル以上であり、 その上限は特に制限されない。  The amount of hydrogen peroxide used for preparing the tungsten oxide is usually at least 3 moles, preferably at least 5 moles, per mole of the tandasten metal or tungsten compound, and the upper limit is not particularly limited.
タングステン金属またはタンダステン化合物と過酸化水素との反応は、 通常水 中で実施される。 もちろん例えばジェチルエーテル、 メチル t e r t一プチルェ —テル、 テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、 例えば酢酸ェチル等のエステ ル系溶媒、 例えば t e r tーブタノール等の第三級アルコール系溶媒、 例えばァ セトニトリル等の二トリル系溶媒等の有機溶媒中または該有機溶媒と水との混合 溶媒中で実施してもよい。 反応温度は、 通常— 1 0〜1 0 0 である。  The reaction of tungsten metal or tandastene compound with hydrogen peroxide is usually carried out in water. Of course, ether solvents such as getyl ether, methyl tert-butyl ether, tetrahydrofuran, etc .; ester solvents such as ethyl acetate; tertiary alcohol solvents such as tert-butanol; nitrile solvents such as acetonitrile It may be carried out in an organic solvent such as a solvent or a mixed solvent of the organic solvent and water. The reaction temperature is usually from −10 to 100.
タングステン金属またはタングステン化合物と過酸化水素とを、 水中、 有機溶 媒中または有機溶媒 Z水混合溶媒中で反応させると、 タングステン金属または夕 ングステン化合物の全部もしくは一部が溶解し、 タングステン酸化物を含む溶液 もしくは懸濁液が得られるが、 該溶液もしくは懸濁液から、 タングステン酸化物 を取り出して、 ォレフィンと過酸化水素との反応の触媒として用いてもよいし、 該溶液もしくは該懸濁液をそのまま触媒として用いてもよい。  When tungsten metal or a tungsten compound is reacted with hydrogen peroxide in water, an organic solvent, or an organic solvent Z-water mixed solvent, all or a part of the tungsten metal or tungsten compound is dissolved, and the tungsten oxide is dissolved. A solution or suspension containing the same is obtained. Tungsten oxide may be taken out of the solution or suspension and used as a catalyst for the reaction between olefin and hydrogen peroxide. May be used as a catalyst as it is.
タンダステン酸化物調製の際、 タングステン金属またはタンダステン化合物と 過酸化水素との接触効率を向上させるため、 タングステン酸化物調製液中で、 タ ングステン金属またはタンダステン化合物が十分分散するよう攪拌しながら反応 を行うことが好ましい。 また、 タングステン金属またはタングステン化合物と過 酸化水素との接触効率を高め、 タングステン酸化物調製時の制御をより容易にす るという点で、 例えば粉末状のタングステン金属またはタンダステン化合物等粒 径の細かな夕ングステン金属または夕ングステン化合物を用いることが好ましい。 本発明には、 第四級アンモニゥムリン酸塩、 第四級アンモニゥムリン酸水素塩 および第四級アンモニゥムリン酸ニ水素塩からなる群から選ばれる少なくとも一 種 (以下、 第四級アンモニゥム塩と略記する。) が用いられる。 During the preparation of the tandastene oxide, the reaction is carried out with stirring so that the tungsten metal or tandastene compound is sufficiently dispersed in the tungsten oxide preparation liquid in order to improve the contact efficiency between the tungsten metal or the tandastene compound and hydrogen peroxide. Is preferred. In addition, in order to increase the contact efficiency between the tungsten metal or the tungsten compound and the hydrogen peroxide and to facilitate the control during the preparation of the tungsten oxide, for example, particles of the tungsten metal or the tundastene compound such as powdery tungsten metal or the like. It is preferable to use a fine stainless steel metal or fine stainless steel compound. In the present invention, at least one selected from the group consisting of quaternary ammonium phosphate, quaternary ammonium hydrogenphosphate and quaternary ammonium dihydrogenphosphate (hereinafter abbreviated as quaternary ammonium salt). Is used.
第四級アンモニゥムリン酸塩としては、 例えばリン酸三 (メチルトリオクチル アンモニゥム)、 リン酸三 (ェチルトリオクチルアンモニゥム)、 リン酸三 (ブチ ルトリオクチルアンモニゥム)、 リン酸三 (テトラオクチルアンモニゥム)、 リン 酸三 [メチルトリ (デシル) アンモニゥム]、 リン酸三 [ェチルトリ (デシル) ァ ンモニゥム]、 リン酸三 [プチルトリ (デシル) アンモニゥム]、 リン酸三 [テト ラ (デシル)アンモニゥム]、 リン酸三 [メチルトリ (ドデシル)アンモニゥム]、 リン酸三 [ジメチルジ (ドデシル) アンモニゥム]、 リン酸三 [トリメチル(ドデ シル) アンモニゥム]、 リン酸三 [テトラ (ドデシル) アンモニゥム]、 リン酸三 [トリメチル(テトラデシル) アンモニゥム]、 リン酸三 [ジメチルジ (テトラデ シル) アンモニゥム]、 リン酸三 [トリメチル (テトラデシル) アンモニゥム]、 リン酸三 [テトラ (テトラデシル) アンモニゥム]、  Examples of quaternary ammonium phosphates include triphosphate (methyltrioctyl ammonium), triphosphate (ethyltrioctyl ammonium), triphosphate (butyl trioctyl ammonium), and triphosphate (tetraethylammonium). Octylammonium), triphosphate [methyltri (decyl) ammonium], triphosphate [ethylethyl (decyl) ammonium], triphosphate [butylethyl (decyl) ammonium], triphosphate [tetra (decyl) ammonium] ], Triphosphate [methyltri (dodecyl) ammonium], triphosphate [dimethyldi (dodecyl) ammonium], triphosphate [trimethyl (dodecyl) ammonium], triphosphate [tetra (dodecyl) ammonium], phosphoric acid Tri [trimethyl (tetradecyl) ammonium], La Defense Sil) Anmoniumu], tricalcium phosphate [trimethyl (tetradecyl) Anmoniumu], tricalcium phosphate [tetra (tetradecyl) Anmoniumu,
リン酸三(ラウリルジメチルペンジルアンモニゥム)、 リン酸三(メチルトリへ キシルアンモニゥム)、 リン酸三 (ジメチルジへキシルアンモニゥム)、 リン酸三 (トリメチルへキシルアンモニゥム)、リン酸三(テトラへキシルアンモニゥム)、 リン酸三(テトラプチルアンモニゥム)、 リン酸三(ベンジルトリメチルアンモニ ゥム)、 リン酸三 (ベンジルトリェチルアンモニゥム)、 リン酸三 (N _ラウリル ピリジニゥム)、 リン酸三 (N—セチルピリジニゥム)、 リン酸三 (N _ラウリル ピコリニゥム) 等が例示される。  Triphosphate (lauryl dimethyl pendant ammonium), triphosphate (methyltrihexyl ammonium), triphosphate (dimethyldihexyl ammonium), triphosphate (trimethylhexyl ammonium), phosphorus Triphosphate (tetrahexyl ammonium), Triphosphate (tetrabutylammonium), Triphosphate (benzyltrimethylammonium), Triphosphate (benzyltriethylammonium), Triphosphate (N _Lauryl pyridinium), triphosphate (N-cetylpyridinium), triphosphate (N_lauryl picolinium) and the like.
第四級アンモニゥムリン酸水素塩としては、 例えばリン酸水素二 (メチルトリ ォクチルアンモニゥム)、 リン酸水素二 (ェチルトリオクチルアンモニゥム)、 リ ン酸水素二(プチルトリオクチルアンモニゥム)、 リン酸水素二(テトラオクチル アンモニゥム)、 リン酸水素二 [メチルトリ (デシル) アンモニゥム]、 リン酸水 素二 [ェチルトリ (デシル) アンモニゥム]、 リン酸水素二 [プチルトリ (デシル) アンモニゥム]、 リン酸水素二 [テトラ (デシル) アンモニゥム]、 リン酸水素二 [メチルトリ (ドデシル)アンモニゥム]、 リン酸水素二 [ジメチルジ(ドデシル) アンモニゥム]、 リン酸水素二 [トリメチル (ドデシル) アンモニゥム]、 リン酸 水素二 [テトラ (ドデシル) アンモニゥム]、 リン酸水素二 [トリメチル(テトラ デシル) アンモニゥム]、 リン酸水素二 [ジメチルジ (テトラデシル) アンモニゥ ム]、 リン酸水素二 [トリメチル (テトラデシル) アンモニゥム]、 リン酸水素二 [テトラ (テトラデシル) アンモニゥム]、 Examples of the quaternary ammonium hydrogen phosphate include dihydrogen phosphate (methyltrioctyl ammonium), dihydrogen phosphate (ethyltrioctylammonium), and dihydrogen phosphate (butyltrioctylammonium). ), Dihydrogen phosphate (tetraoctyl ammonium), dihydrogen phosphate [methyltri (decyl) ammonium], dihydrogen phosphate [ethylethyl (decyl) ammonium], dihydrogen phosphate [butylbutyl (decyl) ammonium], phosphorus Dihydrogen phosphate [tetra (decyl) ammonium], dihydrogen phosphate [methyltri (dodecyl) ammonium], dihydrogen phosphate [dimethyldi (dodecyl)] Ammonium], dihydrogen phosphate [trimethyl (dodecyl) ammonium], dihydrogen phosphate [tetra (dodecyl) ammonium], dihydrogen phosphate [trimethyl (tetradecyl) ammonium], dihydrogenphosphate [dimethyldi (tetradecyl) ammonium] ], Dihydrogen phosphate [trimethyl (tetradecyl) ammonium], dihydrogen phosphate [tetra (tetradecyl) ammonium],
リン酸水素二(ラウリルジメチルペンジルアンモニゥム)、 リン酸水素二(メチ ルトリへキシルァンモニゥム)、リン酸水素二(ジメチルジへキシルァンモニゥム)、 リン酸水素二(トリメチルへキシルアンモニゥム)、 リン酸水素二(テトラへキシ ルアンモニゥム)、 リン酸水素二(テトラプチルアンモニゥム)、 リン酸水素二(ベ ンジルトリメチルアンモニゥム)、 リン酸水素二(ベンジルトリェチルアンモニゥ ム)、 リン酸水素二 (N—ラウリルピリジニゥム)、 リン酸水素二 (N—セチルビ リジニゥム)、 リン酸水素二 (N—ラウリルピコリニゥム) 等が例示される。  Dihydrogen phosphate (lauryl dimethyl pendenyl ammonium), dihydrogen phosphate (methyl trihexyl ammonium), dihydrogen phosphate (dimethyl dihexyl ammonium), dihydrogen phosphate ( Trimethylhexylammonium, dihydrogenphosphate (tetrahexylammonium), dihydrogenphosphate (tetrabutylammonium), dihydrogenphosphate (benzyltrimethylammonium), dihydrogenphosphate ( Benzyltriethylammonium), dihydrogen phosphate (N-laurylpyridinium), dihydrogen hydrogen phosphate (N-cetylbiridinium), dihydrogen phosphate (N-laurylpicolinium), and the like. .
第四級アンモニゥムリン酸二水素塩としては、 例えばリン酸二水素 (メチルト リオクチルアンモニゥム)、 リン酸二水素 (ェチルトリオクチルアンモニゥム)、 リン酸二水素(プチルトリオクチルアンモニゥム)、 リン酸二水素(テトラオクチ ルアンモニゥム)、 リン酸二水素 [メチルトリ (デシル) アンモニゥム]、 リン酸 二水素 [ェチルトリ (デシル) アンモニゥム]、 リン酸二水素 [プチルトリ (デシ ル) アンモニゥム]、 リン酸二水素 [テトラ (デシル) アンモニゥム]、 リン酸二 水素 [メチルトリ (ドデシル) アンモニゥム]、 リン酸二水素 [ジメチルジ (ドデ シル) アンモニゥム]、 リン酸二水素 [トリメチル (ドデシル) アンモニゥム]、 リン酸二水素 [テトラ(ドデシル)アンモニゥム]、 リン酸二水素 [トリメチル(テ トラデシル) アンモニゥム]、 リン酸二水素 [ジメチルジ (テトラデシル) アンモ ニゥム]、 リン酸二水素 [トリメチル (テトラデシル) アンモニゥム]、 リン酸二 水素 [テトラ (テトラデシル) アンモニゥム]、  Examples of the quaternary ammonium dihydrogen phosphate include, for example, dihydrogen phosphate (methyltrioctyl ammonium), dihydrogen phosphate (ethyltrioctyl ammonium), and dihydrogen phosphate (butyltrioctyl ammonium). ), Dihydrogen phosphate (tetraoctylammonium), dihydrogen phosphate [methyltri (decyl) ammonium], dihydrogen phosphate [ethylethyl (decyl) ammonium], dihydrogen phosphate [butylethyl (decyl) ammonium], phosphoric acid Dihydrogen [tetra (decyl) ammonium], dihydrogen phosphate [methyltri (dodecyl) ammonium], dihydrogen phosphate [dimethyldi (dodecyl) ammonium], dihydrogen phosphate [trimethyl (dodecyl) ammonium], phosphoric acid Dihydrogen [tetra (dodecyl) ammonium], dihydrogen phosphate [trimethyl (Tetradecyl) ammonium], dihydrogen phosphate [dimethyldi (tetradecyl) ammonium], dihydrogen phosphate [trimethyl (tetradecyl) ammonium], dihydrogenphosphate [tetra (tetradecyl) ammonium],
リン酸二水素(ラウリルジメチルペンジルアンモニゥム)、 リン酸二水素(メチ ルトリへキシルアンモニゥム)、リン酸ニ水素(ジメチルジへキシルアンモニゥム)、 リン酸二水素(トリメチルへキシルアンモニゥム)、 リン酸二水素(テトラへキシ ルアンモニゥム)、 リン酸二水素(テトラプチルアンモニゥム)、 リン酸二水素(ベ ンジルトリメチルアンモニゥム)、 リン酸二水素(ベンジルトリェチルアンモニゥ ム)、 リン酸二水素 (N _ラウリルピリジニゥム)、 リン酸二水素 (N—セチルビ リジニゥム)、 リン酸二水素 (N—ラウリルピコリニゥム) 等が例示される。 第四級アンモニゥム塩の使用量は、 タングステン酸化物 1モルに対して、 0 . 2 5モル以上であればよく、 その上限は特にないが、 経済的な面も考慮すると、 実用的には、 タングステン酸化物に対して、 2モル以下である。 かかる第四級ァ ンモニゥム塩は、 予め上記したタングステン酸化物調製の際に用いてもよいが、 後述するォレフィンと過酸化水素との反応の際に用いる方が好ましい。 Dihydrogen phosphate (lauryl dimethyl pendyl ammonium), dihydrogen phosphate (methyl trihexyl ammonium), dihydrogen phosphate (dimethyl dihexyl ammonium), dihydrogen phosphate (trimethyl hexyl ammonium) Dihydrogen phosphate (tetrahexylammonium), dihydrogen phosphate (tetrabutylammonium), dihydrogen phosphate (benzyltrimethylammonium), dihydrogenphosphate (benzyltriethylammonium)ゥ ), Dihydrogen phosphate (N_laurylpyridinium), dihydrogen phosphate (N-cetylbiridinium), dihydrogen phosphate (N-laurylpicolinium) and the like. The amount of the quaternary ammonium salt used may be 0.25 mol or more with respect to 1 mol of tungsten oxide, and there is no particular upper limit, but in consideration of economical aspects, practically, It is at most 2 moles with respect to tungsten oxide. Such a quaternary ammonium salt may be used in advance in the preparation of the above-mentioned tungsten oxide, but is preferably used in the reaction between olefin and hydrogen peroxide described later.
ォレフィンとの反応に用いる過酸化水素としては、 通常水溶液が用いられる。 もちろん過酸化水素の有機溶媒溶液を用いてもよい。 過酸化水素水溶液もしくは 過酸化水素の有機溶媒溶液中の過酸化水素濃度は、 特に制限されないが、 容積効 率や安全面を考慮すると、 実用的には、 1〜6 0重量%でぁる。  As the hydrogen peroxide used for the reaction with Orefin, an aqueous solution is usually used. Of course, an organic solvent solution of hydrogen peroxide may be used. The concentration of hydrogen peroxide in the aqueous solution of hydrogen peroxide or the solution of hydrogen peroxide in an organic solvent is not particularly limited, but is practically 1 to 60% by weight in consideration of volumetric efficiency and safety.
過酸化水素の使用量は、 ォレフィン 1モルに対して、 通常 0 . 8モル以上、 好 ましくは 1モル以上であり、 その上限は特にないが、 あまり多すぎても経済的に 不利になりやすいため、 実用的には、 ォレフィンに対して、 5モル以下、 好まし くは 3モル以下である。 タングステン酸化物を含む溶液もしくは懸濁液を用いる 場合には、 該溶液もしくは該懸濁液中に含まれる過酸化水素の量を考慮して過酸 化水素の使用量を決めればよい。  The amount of hydrogen peroxide used is usually at least 0.8 mol, preferably at least 1 mol per mol of olefin, and there is no particular upper limit. Practically, the amount is practically 5 mol or less, preferably 3 mol or less, based on the olefin. When a solution or suspension containing tungsten oxide is used, the amount of hydrogen peroxide to be used may be determined in consideration of the amount of hydrogen peroxide contained in the solution or suspension.
タングステン酸化物の使用量は、 タングステン金属として、 ォレフィン 1モル に対して、 通常 0 . 0 0 1〜0 . 9 5モル、 好ましくは 0 . 0 0 5〜0 . 1モル である。  The amount of the tungsten oxide to be used is generally 0.01 to 0.95 mol, preferably 0.05 to 0.1 mol, per mol of olefin as tungsten metal.
ォレフィンと過酸化水素との反応は、 無溶媒で行ってもよいし、 水中、 有機溶 媒中または水と有機溶媒の混合溶媒中で行ってもよい。 有機溶媒としては、 例え ばトルエン、 キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、 例えばへキサン、 ヘプタン等 の脂肪族炭化水素系溶媒、 例えばジェチルエーテル、 メチル t e r t—プチルェ —テル、 テトラヒドロフラン、 ジグライム等のエーテル系溶媒、 例えば酢酸ェチ ル等のエステル系溶媒、 例えば t e r tーブ夕ノール等の第三級アルコール系溶 媒、 例えばァセトニトリル等の二トリル系溶媒等が例示される。 水溶媒および有 機溶媒の使用量は特に制限されない。  The reaction between olefin and hydrogen peroxide may be carried out without solvent, or in water, an organic solvent, or a mixed solvent of water and an organic solvent. Examples of the organic solvent include aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene, for example, aliphatic hydrocarbon solvents such as hexane and heptane, such as getyl ether, methyl tert-butyl ether, tetrahydrofuran and diglyme. Examples thereof include ether solvents such as ester solvents such as ethyl acetate, tertiary alcohol solvents such as tert-butanol, and nitrile solvents such as acetonitrile. The amounts of the water solvent and the organic solvent used are not particularly limited.
本反応は、 通常タングステン酸化物、 第四級アンモニゥム塩、 ォレフィンおよ び過酸化水素を接触、 混合することにより行われるが、 例えばタングステン金属 またはタングステン化合物、 第四級アンモニゥム塩、 ォレフィンおよび過酸化水 素を接触、 混合し、 タングステン酸化物の調製操作と、 ォレフィンと過酸化水素 との反応とを同時並行的に行ってもよい。 This reaction is usually carried out with tungsten oxide, quaternary ammonium salt, Contacting and mixing hydrogen peroxide and hydrogen peroxide, for example, by contacting and mixing tungsten metal or a tungsten compound, quaternary ammonium salt, orefin and hydrogen peroxide, preparing tungsten oxide, The reaction with hydrogen peroxide may be performed simultaneously and in parallel.
ォレフィンと過酸化水素との反応の反応温度は、 通常 0〜1 3 O である、 ま た通常常圧条件下で反応が実施されるが、 減圧もしくは加圧条件下で実施しても よい。  The reaction temperature of the reaction between olefin and hydrogen peroxide is usually from 0 to 13 O, and the reaction is usually carried out under normal pressure, but may be carried out under reduced pressure or increased pressure.
反応速度や反応副生成物の生成抑制等の面で、 反応系内の p Hが、 1〜4の範 囲であることが好ましく、 2〜3 . 5の範囲がより好ましく、 2〜3の範囲がさ らに好ましい。 そのため、 反応系内の p H範囲が上記の範囲内でない場合は、 硫 酸等の酸や水酸化ナトリゥム等のアル力リ金属水酸化物等を用いて、 反応系内の p Hを上記範囲に調整し、 反応を実施することが好ましい。  The pH in the reaction system is preferably in the range of 1-4, more preferably in the range of 2-3.5, and more preferably in the range of 2-3, The range is more preferred. Therefore, if the pH range in the reaction system is not within the above range, the pH in the reaction system is adjusted to the above range using an acid such as sulfuric acid or an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide. Preferably, the reaction is carried out.
反応終了後、 得られた反応液をそのままもしくは必要に応じて残存する過酸化 水素を、 亜硫酸ナトリウム等の還元剤で分解した後、 濃縮処理、 晶析処理等する ことにより、 目的とするエポキシドを取り出すことができる。 また、 反応液に、 必要に応じて、 水および/または水に不溶の有機溶媒を加え、 抽出処理し、 得ら れる有機層を濃縮処理することにより、 エポキシドを取り出すこともできる。 取 り出したエポキシドは、 例えば蒸留、 カラムクロマトグラフィ、 再結晶等通常の 精製手段によりさらに精製してもよい。  After completion of the reaction, the resulting reaction solution is decomposed as it is or, if necessary, the remaining hydrogen peroxide is decomposed with a reducing agent such as sodium sulfite, followed by concentration treatment, crystallization treatment, etc. Can be taken out. The epoxide can also be taken out by adding water and / or an organic solvent insoluble in water to the reaction solution, if necessary, performing an extraction treatment, and concentrating the obtained organic layer. The extracted epoxide may be further purified by ordinary purification means such as distillation, column chromatography, recrystallization and the like.
かくして得られるエポキシドとしては、 下記式 (2 ):  The epoxide thus obtained has the following formula (2):
Figure imgf000011_0001
Figure imgf000011_0001
(式中、 Ri-R4としては、式(1 ) に関して定義したものと同様の意味を有する。) が挙げられる。 (Wherein, Ri-R 4 has the same meaning as defined for formula (1)).
かかるエポキシドとしては、 具体的には、 例えばエチレンォキシド、 プロピレ ンォキシド、 1 , 2 _エポキシブタン、 1 , 2—エポキシペンタン、 4 , 4—ジ メチル— 1 , 2—エポキシペンタン、 1, 2—エポキシへキサン、 1 , 2—ェポ キシヘプタン、 1, 2—エポキシオクタン、 1, 2—エポキシノナン、 1, 2— エポキシデカン、 1, 2—エポキシゥンデカン、 1, 2—エポキシドデカン、 1, 2—エポキシトリデカン、 1, 2 _エポキシテトラデカン、 1, 2—エポキシべ ン夕デカン、 1, 2—エポキシへキサデカン、 1, 2 _エポキシォクタデカン、 3, 3—ジメチルー 1, 2 _エポキシブタン、シクロペンチルエチレンォキシド、 シクロへキシルエチレンォキシド、 3—シクロへキシル— 1, 2—エポキシプロ パン、 スチレンォキシド、 4_ (t e r t—ブチル) スチレンォキシド、 3—フ ェニルー 1, 2—エポキシプロパン、 4ーメトキシスチレンォキシド、 サフロー ルォキシド、 3_ (4—ヒドロキシー 3—メトキシフエニル) 一 1, 2—ェポキ シプロパン、 3— (3, 4—ジメトキシフエ二ル) — 1, 2—エポキシプロパン、 2, 3—エポキシブタン、 2—メチル— 1, 2—エポキシプロパン、 2—メチ ルー 1, 2—エポキシブタン、 2, 3—エポキシペンタン、 2, 3—エポキシへ キサン、 2—メチル— 1, 2—エポキシへキサン、 3, 4—エポキシへキサン、 2, 3—エポキシヘプタン、 3, 4 _エポキシヘプタン、 2, 3—エポキシォク タン、 3, 4一エポキシオクタン、 4, 5—エポキシオクタン、 2, 3—ェポキ シノナン、 2—メチル _ 1, 2—エポキシノナン、 3, 4—エポキシノナン、 4, 5—エポキシノナン、 5, _ 6—エポキシデカン、 2—メチル— 1, 2—エポキシ ゥンデカン、 シクロペンテンォキシド、 シクロへキセンォキシド、 4—メチルシ クロへキセンォキシド、 シクロヘプテンォキシド、 シクロォクテンォキシド、 シ クロデセンォキシド、 シクロドデセンォキシド、 /3—メチルスチレンォキシド、 スチルベンォキシド、 イソサフロールォキシド、 1— (4—ヒドロキシ一 3—メ トキシフエニル) —1, 2—エポキシプロパン、 3—ビネンォキシド、 ノルボル ネンォキシド、 Specific examples of such epoxides include ethylene oxide, propylene oxide, 1,2-epoxybutane, 1,2-epoxypentane, 4,4-dimethyl-1,2-epoxypentane, and 1,2-epoxypentane. Epoxy hexane, 1,2-eppo Xyheptane, 1,2-epoxyoctane, 1,2-epoxynonane, 1,2-epoxydecane, 1,2-epoxypandecane, 1,2-epoxidedodecane, 1,2-epoxytridecane, 1,2 _Epoxytetradecane, 1,2-epoxybenzenedecane, 1,2-epoxyhexadecane, 1,2-epoxyoctadecane, 3,3-dimethyl-1,2_epoxybutane, cyclopentylethylene oxide, cyclohexane Xylethylene oxide, 3-cyclohexyl-1,2-epoxypropane, styreneoxide, 4_ (tert-butyl) styreneoxide, 3-phenyl-1,2-epoxypropane, 4-methoxystyreneoxide, safrrooxide, 3_ (4-Hydroxy-3-methoxyphenyl) 1-1,2-epoxypropane, 3- (3,4-dimethoxyphenyl) — 1,2-E Xypropane, 2,3-epoxybutane, 2-methyl-1,2-epoxypropane, 2-methyl-1,2-epoxybutane, 2,3-epoxypentane, 2,3-epoxyhexane, 2-methyl 1,2-epoxyhexane, 3,4-epoxyhexane, 2,3-epoxyheptane, 3,4-epoxyheptane, 2,3-epoxyoctane, 3,4-epoxyoctane, 4,5-epoxyoctane , 2,3-epoxynonane, 2-methyl_1,2-epoxynonane, 3,4-epoxynonane, 4,5-epoxynonane, 5, _6-epoxydecane, 2-methyl-1,2-epoxy Dexdecane, cyclopentenoxide, cyclohexenoxide, 4-methylcyclohexenoxide, cycloheptene oxide, cyclooctenoxide, cyclodeceneoxide, cyclodode Nokishido, / 3-methylstyrene O sulfoxide, stilbene O dimethylsulfoxide, Isosa Flore O dimethylsulfoxide, 1- (4-hydroxy-one 3- main Tokishifueniru) -1, 2-epoxypropane, 3- Binenokishido, norbornene Nenokishido,
2—メチルー 2, 3—エポキシブタン、 2—メチルー 2, 3—エポキシペンタ ン、 2—メチル—2, 3 _エポキシへキサン、 2, 5—ジメチルー 2, 3—ェポ キシへキサ— 4—ェン、 2—メチルー 2, 3—エポキシヘプタン、 1—メチル— 1, 2—エポキシシクロペンタン、 1_メチル—1, 2—エポキシシクロへキサ ン、 1— (t e r t—ブチル) — 1, 2—エポキシシクロへキサン、 1一イソプ 口ピル一 1, 2 _エポキシシクロへキサン、 2—力レンォキシド、 3 _カレンォ キシド、 α—ピネンォキシド、 2, 3—ジメチル— 2, 3—エポキシブタン、 2, 3, 4一トリメチルー 2, 3—エポキシペンタン等が例示される。 実施例 2-methyl-2,3-epoxybutane, 2-methyl-2,3-epoxypentane, 2-methyl-2,3-epoxyhexane, 2,5-dimethyl-2,3-epoxyhexane 4- 1, 2-methyl-2,3-epoxyheptane, 1-methyl-1,2-epoxycyclopentane, 1_methyl-1,2-epoxycyclohexane, 1- (tert-butyl) -1,2 —Epoxycyclohexane, 1-isopyl pill 1,2 _epoxycyclohexane, 2-force lenoxide, 3 _carene Oxide, α-pinenoxoxide, 2,3-dimethyl-2,3-epoxybutane, 2,3,4-trimethyl-2,3-epoxypentane and the like are exemplified. Example
以下、 実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、 本発明はこれら実施例 に限定されない。  Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples.
実施例 1 Example 1
還流冷却管を付した 10 OmLシュレンク管を窒素置換し、 室温で、 タンダス テン酸ニナトリウム · 12水和物0. 26 gおよび 30重量%過酸化水素水 7. 2 gを仕込み、 室温で 1分攪拌、 反応させ、 タングステン酸化物調製液を得た。 該調製液に、 1—ォクテン 4. 4g、 リン酸二水素トリオクチルメチルアンモニ ゥム 0. 19 gおよびトルエン 8mLからなる溶液を添加し、 さらに硫酸水を加 え、 反応系内の pHを 2. 5に調整した。 その後、 内温 9 で 4時間攪拌、 反 応させた。 得られた反応液を冷却した後、 分液処理し、 1, 2—エポキシォク夕 ンを含む有機層を得た。 該有機層を、 ガスクロマトグラフィ (内部標準法) によ り分析したところ、 1, 2—エポキシオクタンの収率は、 85%であった。 実施例 2  A 10 OmL Schlenk tube equipped with a reflux condenser was purged with nitrogen, and at room temperature, 0.26 g of disodium tandestenate · decahydrate and 7.2 g of 30% by weight hydrogen peroxide solution were charged. After stirring and reacting for a minute, a tungsten oxide preparation was obtained. A solution consisting of 4.4 g of 1-octene, 0.19 g of trioctylmethylammonium dihydrogen phosphate and 8 mL of toluene was added to the prepared solution, and sulfuric acid was further added to adjust the pH in the reaction system to 2%. Adjusted to 5. Thereafter, the mixture was stirred and reacted at an internal temperature of 9 for 4 hours. After cooling the obtained reaction solution, liquid separation treatment was performed to obtain an organic layer containing 1,2-epoxysiloxane. When the organic layer was analyzed by gas chromatography (internal standard method), the yield of 1,2-epoxyoctane was 85%. Example 2
実施例 1において、 内温 90でで 6時間反応させた以外は、 実施例 1と同様に 実施して、 1, 2 _エポキシオクタンを収率 90%で得た。  Example 1 was repeated, except that the reaction was carried out at an internal temperature of 90 for 6 hours. Thus, 1,2-epoxyoctane was obtained at a yield of 90%.
実施例 3 Example 3
還流冷却管を付した 10 OmLシュレンク管を窒素置換し、 室温で、 タンダス テン酸ニナトリウム · 12水和物0. 26 gおよび 30重量%過酸化水素水 7. 2 gを仕込み、 室温で 1分攪拌、 反応させ、 タングステン酸化物調製液を得た。 該調製液に、 シクロォクテン 4. 4g、 リン酸二水素トリオクチルメチルアンモ ニゥム 0. 19 gおよびトルエン 8mLからなる溶液を添加し、 さらに硫酸水を 加え、 反応系内の pHを 2. 8に調整した。 その後、 内温 90 で 3時間攪拌、 反応させた。 得られた反応液を冷却した後、 分液処理し、 シクロォクテンォキシ ドを含む有機層を得た。 該有機層を、 ガスクロマトグラフィ (内部標準法) によ り分析したところ、 シクロォクテンォキシドの収率は、 95%であった。 実施例 4 A 10 OmL Schlenk tube equipped with a reflux condenser was purged with nitrogen, and at room temperature, 0.26 g of disodium tandestenate · decahydrate and 7.2 g of 30% by weight hydrogen peroxide solution were charged. After stirring and reacting for a minute, a tungsten oxide preparation was obtained. A solution consisting of 4.4 g of cyclooctene, 0.19 g of trioctylmethylammonium dihydrogen phosphate and 8 mL of toluene was added to the preparation, and sulfuric acid was added to adjust the pH in the reaction system to 2.8. did. Thereafter, the mixture was stirred and reacted at an internal temperature of 90 for 3 hours. After the obtained reaction solution was cooled, liquid separation treatment was performed to obtain an organic layer containing cyclooctenoxide. When the organic layer was analyzed by gas chromatography (internal standard method), the yield of cyclooctenoxide was 95%. Example 4
還流冷却管を付した 10 OmLシュレンク管を窒素置換し、 室温で、 タングス テン酸ニナトリウム · 12水和物0. 26 gおよび 30重量%過酸化水素水 7. 2 gを仕込み、 室温で 1分攪拌、 反応させ、 タングステン酸化物調製液を得た。 該調製液に、 1—ォクテン 4. 4g、 リン酸二水素ジメチルジォクタデシルアン モニゥム 0. 126 gおよびトルエン 8mLからなる溶液を添加し、 さらに硫酸 水を加え、 反応系内の pHを 2. 5に調整した。 その後、 内温 90 で 4時間攪 拌、 反応させた。 得られた反応液を冷却した後、 分液処理し、 1, 2—エポキシ ォクテンを含む有機層を得た。該有機層を、 ガスクロマトグラフィ (内部標準法) により分析したところ、 1, 2—エポキシォクテンの収率は、 82%であった。 実施例 5  A 10 OmL Schlenk tube equipped with a reflux condenser was purged with nitrogen, and at room temperature, 0.26 g of disodium tungstostenate · 12 hydrate and 7.2 g of 30% by weight hydrogen peroxide solution were charged. After stirring and reacting for a minute, a tungsten oxide preparation was obtained. A solution consisting of 4.4 g of 1-octene, 0.126 g of dimethyl dihydrogen dioctadecyl ammonium phosphate and 8 mL of toluene was added to the prepared solution, and sulfuric acid was further added to adjust the pH in the reaction system to 2%. Adjusted to 5. Thereafter, the mixture was stirred and reacted at an internal temperature of 90 for 4 hours. After cooling the obtained reaction solution, liquid separation treatment was performed to obtain an organic layer containing 1,2-epoxy octene. When the organic layer was analyzed by gas chromatography (internal standard method), the yield of 1,2-epoxyoctene was 82%. Example 5
還流冷却管を付した 10 OmLシュレンク管を窒素置換し、 室温で、 夕ングス テン酸ニナトリウム · 12水和物0. 26 gおよび 30重量%過酸化水素水 7. 2 gを仕込み、 室温で 1分攪拌、 反応させ、 タングステン酸化物調製液を得た。 該調製液に、 1ーォクテン 4. 5 g、 リン酸二水素テトラオクチルアンモニゥム 0. 23 gおよびトルエン 8mLからなる溶液を添加し、 さらに硫酸水を加え、 反応系内の pHを 2. 5に調整した。 その後、 内温 90 で 4時間攪拌、 反応さ せた。 得られた反応液を冷却した後、 分液処理し、 1, 2—エポキシォクテンを 含む有機層を得た。 該有機層を、 ガスクロマトグラフィ (内部標準法) により分 析したところ、 1, 2—エポキシォクテンの収率は、 80%であった。  A 10 OmL Schlenk tube equipped with a reflux condenser was purged with nitrogen, and at room temperature, 0.26 g of sodium disodium stenoate decahydrate and 7.2 g of 30% by weight hydrogen peroxide solution were charged. The mixture was stirred and reacted for 1 minute to obtain a tungsten oxide preparation. A solution consisting of 4.5 g of 1-octene, 0.23 g of tetraoctylammonium dihydrogen phosphate and 8 mL of toluene was added to the prepared solution, and sulfuric acid was further added to adjust the pH in the reaction system to 2.5. Was adjusted. Thereafter, the mixture was stirred and reacted at an internal temperature of 90 for 4 hours. After cooling the obtained reaction solution, it was subjected to liquid separation treatment to obtain an organic layer containing 1,2-epoxyoctene. When the organic layer was analyzed by gas chromatography (internal standard method), the yield of 1,2-epoxyoctene was 80%.
実施例 6 Example 6
実施例 5においてリン酸ニ水素テトラオクチルァンモニゥムの代わりにリン酸 二水素トリオクチルブチルアンモニゥム 0. 20 gを用いる以外は実施例 5と同 様に実施して 1, 2—エポキシォクテンを含む有機層を得た。 該有機層を、 ガス クロマトグラフィ (内部標準法) により分析したところ、 1, 2—エポキシォク テンの収率は、 80%であった。  Example 1 was repeated in the same manner as in Example 5 except that 0.25 g of trioctylbutylammonium dihydrogen phosphate was used in place of tetraoctylammonium dihydrogen phosphate. An organic layer containing epoxy octene was obtained. When the organic layer was analyzed by gas chromatography (internal standard method), the yield of 1,2-epoxyoctene was 80%.
実施例 7 Example 7
実施例 5においてリン酸ニ水素テトラォクチルァンモニゥムの代わりにリン酸 二水素トリオクチルェチルアンモニゥム 0. 19 gを用いる以外は実施例 5と同 様に実施して 1, 2—エポキシォクテンを含む有瓒層を得た。 該有機層を、 ガス クロマトグラフィ (内部標準法) により分析したところ、 1 , 2 _エポキシォク テンの収率は、 8 7 %であった。 産業上の利用可能性 Example 5 Same as Example 5 except that instead of tetraoctylammonium dihydrogen phosphate, 0.19 g of trioctylethylammonium dihydrogen phosphate was used. In this manner, an organic layer containing 1,2-epoxyoctene was obtained. When the organic layer was analyzed by gas chromatography (internal standard method), the yield of 1,2-epoxyoctene was 87%. Industrial applicability
本発明によれば、 触媒として、 入手が容易なタングステン金属または夕ングス テン酸ニナトリウム等のタンダステン化合物と過酸化水素とから容易に調製でき るタングステン酸化物を用い、 相間移動触媒として、 第四級アンモニゥムリン酸 塩等を用いることにより、 ォレフィンから、 収率よくエポキシド化合物が得られ るため、 工業的に有利である。 しかも、 上記相間移動触媒は、 ハロゲン原子を含 んでいないため、 労働衛生面や環境面でも好ましい製造方法といえる。  According to the present invention, a tungsten oxide which can be easily prepared from readily available tungsten metal or a tandasten compound such as disodium ungstostenate and hydrogen peroxide is used as a catalyst. The use of grade ammonium phosphate, etc., is industrially advantageous since an epoxide compound can be obtained from orefin in a high yield. Moreover, since the phase transfer catalyst does not contain a halogen atom, it can be said that it is a preferable production method in terms of occupational health and environment.

Claims

請求の範囲 The scope of the claims
1 . 第四級アンモニゥムリン酸塩、 第四級アンモニゥムリン酸水素塩および第 四級アンモニゥムリン酸ニ水素塩からなる群から選ばれる少なくとも一種のアン モニゥム塩およびタングステン金属またはタングステン化合物と過酸化水素とを 反応せしめてなるタングステン酸化物の存在下、 ォレフィンと過酸化水素とを反 応させることを特徴とするエポキシドの製造方法。  1. Reaction of at least one ammonium salt selected from the group consisting of quaternary ammonium phosphate, quaternary ammonium hydrogenphosphate and quaternary ammonium dihydrogenphosphate and a tungsten metal or tungsten compound with hydrogen peroxide A method for producing an epoxide, comprising reacting an olefin and hydrogen peroxide in the presence of at least tungsten oxide.
2 . タングステン化合物が、 タングステンと第 13族元素とからなるタンダス テン化合物、 タングステンと第 14族元素とからなるタングステン化合物、 タン ダステンと第 15族元素とからなるタングステン化合物およびタングステンと第 16族元素とからなるタングステン化合物からなる群から選ばれる少なくとも一 種である請求項 1に記載の製造方法。  2. Tungsten compound composed of tungsten and a Group 13 element, tungsten compound composed of tungsten and a Group 14 element, tungsten compound composed of tungsten and a Group 15 element, and tungsten and a Group 16 element 2. The production method according to claim 1, wherein the production method is at least one selected from the group consisting of tungsten compounds consisting of:
3 . 第 13族元素が、 ホウ素である請求項 2に記載の製造方法。  3. The method according to claim 2, wherein the Group 13 element is boron.
4. 第 14族元素が、 炭素である請求項 2に記載の製造方法。  4. The method according to claim 2, wherein the Group 14 element is carbon.
5 . 第 15族元素が、 リンである請求項 2に記載の製造方法。  5. The method according to claim 2, wherein the Group 15 element is phosphorus.
6 . 第 16族元素が、 酸素または硫黄である請求項 2に記載の製造方法。 6. The method according to claim 2, wherein the Group 16 element is oxygen or sulfur.
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CN105712954A (en) * 2014-12-05 2016-06-29 中国科学院大连化学物理研究所 Method of preparing 1, 2-epoxyoctane through epoxidation of 1-octene

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