明 細 書 Specification
a , ひ一ビス (ヒドロキシメチル) カルボン酸の製造法 術分野 a, Hibis- (hydroxymethyl) carboxylic acid production method
本発明は、 ポリウレタン、 ポリエステル、 アルキッド樹脂等の原料として有用 であるひ, ひ一ビス (ヒドロキシメチル) カルボン酸の製造法に関する。 The present invention relates to a process for producing bis (hydroxymethyl) carboxylic acid, which is useful as a raw material for polyurethane, polyester, alkyd resin and the like.
背景技術 Background art
従来、 ひ, ひ—ビス (ヒドロキシメチル) カルボン酸を製造する製造法として は、 ひ, ひ一ビス (ヒドロキシメチル) アルデヒドを酸化する方法が知られてい る。 原料となるひ, ひ一ビス (ヒドロキシメチル) アルデヒドは、 水溶液中、 塩 基性触媒存在下、 ひ-炭素原子に 2個の水素原子を有する脂肪族アルデヒドと適当 量のホルムアルデヒドを縮合反応させることにより得られる。 次いで、 ひ, a - ビス (ヒドロキシメチル) カルボン酸は、 ひ, ひ一ビス (ヒドロキシメチル) ァ ルデヒドの酸化により得られる (下記の化学式を参照) 。 Hitherto, as a method for producing perfluorobis (hydroxymethyl) carboxylic acid, a method of oxidizing perfluorobis (hydroxymethyl) aldehyde has been known. The raw material, i-bis (hydroxymethyl) aldehyde, is obtained by subjecting an aliphatic aldehyde having two hydrogen atoms to a suitable amount of formaldehyde to a condensation reaction in an aqueous solution in the presence of a basic catalyst. Is obtained by Then, a, bis- (hydroxymethyl) carboxylic acid is obtained by oxidation of bis (hydroxymethyl) aldehyde (see the chemical formula below).
塩基性触媒 CH2OH Basic catalyst CH 2 OH
R CH2-CHO + HCHO ► R-C-CHO R CH 2 -CHO + HCHO ► RC-CHO
CH2OH CH 2 OH
CH2OH 酸化 CH2OH CH 2 OH oxidation CH 2 OH
R-C-CHO ► R-C-COOH R-C-CHO ► R-C-COOH
CH2OH CH2OH CH 2 OH CH 2 OH
(式中、 Rは、 アルキル、 シクロアルキルまたはァリールを表す) (Wherein, R represents alkyl, cycloalkyl or aryl)
ひ, ひ一ビス (ヒドロキシメチル) アルデヒドの製造における塩基性触媒とし ては、 例えば、 水酸化ナトリウム、 水酸化カリウム等の塩基性無機化合物等があ げられる。 Examples of the basic catalyst in the production of bis (hydroxymethyl) aldehyde include basic inorganic compounds such as sodium hydroxide and potassium hydroxide.
また、 ひ, ひ一ビス (ヒドロキシメチル) アルデヒドを酸ィ匕するひ, ひ一ビス (ヒドロキシメチル) カルボン酸の製造法としては、 過酸化水素により酸化する 方法 (米国特許 3,312,736号) 、 セリウム、 チタン、 ジルコニウム等の触媒の存在 下に過酸化水素により酸化する方法 (特開昭 62-263141号公報) 、 過イソ酪酸に
より酸化する方法 [有機合成化学協会誌, 2 1095 (1978) ] 等があげられる。 前 記の方法等により得られるひ, ひ一ビス (ヒドロキシメチル) カルボン酸を含む 反応液は、 少量の過酸化物を含むため、 この過酸化物を分解させるために、 一般 的には金属化合物等が添加される。 In addition, as a method for producing bis (hydroxymethyl) carboxylic acid, the method of oxidizing hydrogen peroxide with hydrogen peroxide (US Pat. No. 3,312,736), cerium, A method of oxidizing with hydrogen peroxide in the presence of a catalyst such as titanium or zirconium (JP-A-62-263141) More method for oxidizing [Organic Synthesis Chemistry Association Journal, 2 109 5 (1978)] and the like. The reaction solution containing bis (hydroxymethyl) carboxylic acid obtained by the above-mentioned method or the like contains a small amount of peroxide. Therefore, in order to decompose this peroxide, a metal compound is generally used. Etc. are added.
以上のように、 ひ, ひ一ビス (ヒドロキシメチル) カルボン酸は、 通常、 ひ, ひ一ビス (ヒドロキシメチル) アルデヒドの製造時に使用される塩基性触媒由来 の金属成分、 過酸化物の分解のために添加される金属化合物等由来の金属成分を 含んでおり、 晶析等の精製工程でその金属成分を、 除くことが望ましい。 As described above, perfluorobis (hydroxymethyl) carboxylic acid is usually used in the production of perfluorobis (hydroxymethyl) aldehyde to produce metal components derived from basic catalysts and decomposition of peroxides. Therefore, it is desirable to remove the metal component in a purification step such as crystallization.
例えば、 特開平 11-228489号公報は、 その比較例において、 ジメチロールブ夕 ン酸を酢酸ェチル中で、 0.7重量%の水の存在下、 晶析する方法を開示している。 For example, JP-A-11-228489 discloses, in a comparative example, a method of crystallizing dimethylolbutanoic acid in ethyl acetate in the presence of 0.7% by weight of water.
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本発明の目的は、 高純度で金属の含有量の少ないひ, α—ビス (ヒドロキシメ チル) アルカン酸を高収率で製造する製造法を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a process for producing α-bis (hydroxymethyl) alkanoic acid with high purity and low metal content in high yield.
本発明は、 以下の [1] 〜 [14] を提供する。 The present invention provides the following [1] to [14].
[ 1 ] 一般式 ( I ) [1] General formula (I)
CH2OH R— C一 COOH (I) CH 2 OH R— C-COOH (I)
CH2OH CH 2 OH
(式中、 Rは、 アルキル、 シクロアルキルまたはァリールを表す)で示されるひ, ひ—ビス (ヒドロキシメチル) カルボン酸を含む混合物を、 酢酸エステル中、 水 :!〜 2重量%の存在下、 晶析に付す工程を含むことを特徴とするひ, ひ—ビス (ヒ ドロキシメチル) カルボン酸の製造法。 (Wherein R represents alkyl, cycloalkyl or aryl), a mixture containing a bis- (hydroxymethyl) carboxylic acid, in an acetic acid ester, water :! A process for subjecting the product to crystallization in the presence of from 2% by weight to 2% by weight.
[2]酢酸エステルが酢酸ェチルである [1] 記載の製造法。 [2] The production method according to [1], wherein the acetate is ethyl acetate.
[3]晶析溶液中のひ, ひ—ビス (ヒドロキシメチル) カルボン酸の濃度が 25〜 [3] The concentration of bis- (hydroxymethyl) carboxylic acid in the crystallization solution is 25 ~
45重量%である [1] または [2] に記載の製造法。 The production method according to [1] or [2], wherein the amount is 45% by weight.
[4]晶析溶液を- 10〜30°Cまで冷却することにより晶析を行う [1]〜 [3] の いずれかに記載の製造法。
[5] 晶析に付されるひ, "—ビス (ヒドロキシメチル) カルボン酸を含む混合 物中の金属含有量が、 ひ, ひ一ビス (ヒドロキシメチル) カルボン酸に対して 0.01 重量%以上である [1] 〜 [4] のいずれかに記載の製造法。 [4] The production method according to any one of [1] to [3], wherein the crystallization is performed by cooling the crystallization solution to -10 to 30 ° C. [5] When the metal content in the mixture containing “-bis (hydroxymethyl) carboxylic acid, which is subjected to crystallization, is 0.01% by weight or more based on the amount of the bis (hydroxymethyl) carboxylic acid. The production method according to any one of [1] to [4].
[6]晶析後に得られるひ, ひ一ビス (ヒドロキシメチル) カルボン酸中の金属 含有量が 15ppm以下である [ 1] 〜 [5] のいずれかに記載の製造法。 [6] The process according to any one of [1] to [5], wherein the metal content in the bis (hydroxymethyl) carboxylic acid obtained after crystallization is 15 ppm or less.
[7] Rが炭素数 1〜6のアルキルである [1] 〜 [6] のいずれかに記載の製造 法。 [7] The production method according to any one of [1] to [6], wherein R is alkyl having 1 to 6 carbon atoms.
[8] Rがェチルである [1] 〜 [6]のいずれかに記載の製造法。 [8] The production method according to any one of [1] to [6], wherein R is ethyl.
[9] 金属含有量が lOppm以下であるひ, ひ一ビス (ヒドロキシメチル) ブタン 酸。 [9] Bis (hydroxymethyl) butanoic acid having a metal content of lOppm or less.
[ 10]ナトリゥム含有量が lOppm以下であるひ, ひ一ビス(ヒドロキシメチル) ブ夕ン酸。 [10] Hibis- (hydroxymethyl) butanoic acid with a sodium content of lOppm or less.
[11]一般式 ( I ) [11] General formula (I)
CH2OH R— C— COOH (I) CH 2 OH R— C— COOH (I)
CH2OH CH 2 OH
(式中、 Rは、 アルキル、 シクロアルキルまたはァリールを表す)で示される , ひ—ビス (ヒドロキシメチル) カルボン酸を、 酢酸エステル中、 水 1〜2重量%の 存在下、 晶析に付すことを特徴とするひ, ひ一ビス (ヒドロキシメチル) カルボ ン酸の精製法。 (Wherein R represents alkyl, cycloalkyl or aryl), crystallization of a bis (hydroxymethyl) carboxylic acid in acetic acid ester in the presence of 1-2% by weight of water A process for purifying bis (hydroxymethyl) carboxylic acid, comprising:
[12]酢酸エステルが酢酸ェチルである [11]記載の精製法。 [12] The purification method according to [11], wherein the acetate is ethyl acetate.
[13]晶析溶液中のひ, ひ一ビス (ヒドロキシメチル) カルボン酸の濃度が 25 [13] The concentration of bis (hydroxymethyl) carboxylic acid in the crystallization solution was 25%.
〜45重量%である [11] または [12] に記載の精製法。 The purification method according to [11] or [12], wherein the amount is up to 45% by weight.
[14]晶析溶液を- 10〜30°Cまで冷却することにより晶析を行う [11]〜 [1 [14] The crystallization is performed by cooling the crystallization solution to −10 to 30 ° C. [11] to [1]
3]のいずれかに記載の精製法。 The purification method according to any one of 3).
以下、 一般式 (I) で表されるひ, ひ一ビス (ヒドロキシメチル) カルボン酸 を、単に、 ひ, ひ一ビス (ヒドロキシメチル)カルボン酸と表現することもある。
一般式中の基の定義において、 アルキルは、 例えば、 直鎖または分岐状の炭素 数 1〜: 18のアルキルを表し、 具体的には、 メチル、 ェチル、 プロピル、 イソプロ ピル、 ブチル、 イソプチル、 sec—ブチル、 tert—ブチル、 ペンチル、 へキシル、 ヘプチル、 ォクチル、 ノニル、 デシル、 ドデシル、 ォク夕デシル等があげられる が、中でも、炭素数 1〜6のアルキルが好ましく、さらにはェチルがより好ましい。 シクロアルキルは、例えば、炭素数 3〜8のシクロアルキルを表し、具体的には、 シクロプロピル、 シクロブチル、 シクロペンチル、 シクロへキシル、 シクロヘプ チル、 シクロォクチル等があげられる。 Hereinafter, the monobis (hydroxymethyl) carboxylic acid represented by the general formula (I) may be simply referred to as the monobis (hydroxymethyl) carboxylic acid. In the definition of the group in the general formula, alkyl represents, for example, a linear or branched alkyl having 1 to 18 carbon atoms, and specifically, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isopropyl, sec -Butyl, tert-butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, dodecyl, octyldecyl, etc., of which alkyl having 1 to 6 carbon atoms is preferable, and ethyl is more preferable. . Cycloalkyl represents cycloalkyl having 3 to 8 carbon atoms, and specific examples include cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl, cyclooctyl and the like.
ァリールとしては、 例えば、 フエニル、 ナフチル等があげられる。 Examples of aryl include phenyl, naphthyl and the like.
晶析に付されるひ, ひ—ビス (ヒドロキシメチル) カルボン酸を含む混合物と しては、 金属含有量がひ, ひ一ビス (ヒドロキシメチル) カルボン酸に対して、 0.01重量%以上であるものが好ましく、 さらには 0.05重量%以上であるものが好 ましく、 さらには 0.05〜0.2重量%であるものがより好ましい。 ここで、 金属とし ては、 周期律表の I〜V I属に属するものがあげられるが、 中でも、 リチウム、 ナトリウム、 カリウム、 ルビジウム、 セシウム等のアルカリ金属、 ベリリウム、 マグネシウム、 カルシウム、 ストロンチウム、 バリウム等のアルカリ土類金属が 好ましく、 さらには、 ナトリウム、 カリウムが好ましく。 さらには、 ナトリウム がより好ましい。 For the mixture containing the bis (hydroxymethyl) carboxylic acid to be subjected to crystallization, the metal content is 0.01% by weight or more based on the bis (hydroxymethyl) carboxylic acid. Preferably, the content is 0.05% by weight or more, and more preferably 0.05 to 0.2% by weight. Here, examples of the metal include those belonging to the genus I to VI of the periodic table. Among them, alkali metals such as lithium, sodium, potassium, rubidium and cesium, beryllium, magnesium, calcium, strontium, barium Are preferred, and sodium and potassium are more preferred. Further, sodium is more preferable.
晶析に付されるひ, ひ—ビス (ヒドロキシメチル) カルボン酸を含む混合物と しては、 特には限定されないが、 例えば、 一般式 (I I ) The mixture containing the bis- (hydroxymethyl) carboxylic acid to be subjected to crystallization is not particularly limited, but may be, for example, a compound represented by the general formula (II)
CH2OH CH 2 OH
R— C— CHO (||) CH2OH R— C— CHO (||) CH 2 OH
(式中、 Rは前記と同義である) で表されるひ, ひ一ビス (ヒドロキシメチル) アルデヒドを酸化して得られるひ, ひ一ビス (ヒドロキシメチル) カルボン酸を 含む反応液から水を留去したもの等があげられる。 以下、 一般式 (I I ) で表さ れるひ, ひ一ビス (ヒドロキシメチル) アルデヒドを単に、 ひ, ひ一ビス (ヒド
口キシメチル) アルデヒドと表現することもある。(Wherein R is as defined above), water obtained from the oxidation of a bis (hydroxymethyl) aldehyde, and water from a reaction solution containing a bis (hydroxymethyl) carboxylic acid. Examples thereof include those distilled off. Hereinafter, the bis (hydroxymethyl) aldehyde represented by the general formula (II) will be simply referred to as the bis (hydroxymethyl) aldehyde. Mouth xymethyl) Sometimes referred to as aldehyde.
, ひ—ビス (ヒドロキシメチル) アルデヒドを酸化する方法としては、 過酸 化水素により酸化する方法 (米国特許 3,312,736号) 、 セリウム、 チタン、 ジルコ ニゥム等の触媒の存在下に過酸化水素により酸化する方法 (特開昭 62-263141号 公報)、 過ィソ酪酸により酸化する方法 [有機合成化学協会誌, 36, 1095 (1978) ] 等の公知の方法を適用することができる。 The method of oxidizing high bis (hydroxymethyl) aldehyde is the method of oxidizing with hydrogen peroxide (US Pat. No. 3,312,736), the method of oxidizing with hydrogen peroxide in the presence of a catalyst such as cerium, titanium, and zirconium. A known method such as a method (Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 62-263141) and a method of oxidizing with peroxybutyric acid [Journal of the Society of Synthetic Organic Chemistry, 36, 1095 (1978)] can be applied.
例えば、 過酸化水素を用いて酸化を行う場合、 通常、 20〜60重量%の過酸化水 素水溶液が使用される。 過酸化水素の使用量は、 ひ, ひ—ビス (ヒドロキシメチ ル) アルデヒド 1モルに対し、 通常、 0.:!〜 10モル、 好ましくは 0.1〜2モル、 よ り好ましくは 0.8〜: 1.2モルである。反応液中のひ, ひ一ビス (ヒドロキシメチル) アルデヒドの濃度は、 通常、 5〜60重量%、 好ましくは 20〜40重量%である。 酸 化反応の温度は、 通常 20〜100°C、 好ましくは 40~80°Cである。 For example, when oxidizing using hydrogen peroxide, an aqueous solution of 20 to 60% by weight of hydrogen peroxide is usually used. The amount of hydrogen peroxide used is usually 0: !! per mole of bis- (bis (hydroxymethyl) aldehyde). To 10 mol, preferably 0.1 to 2 mol, more preferably 0.8 to: 1.2 mol. The concentration of bis (hydroxymethyl) aldehyde in the reaction solution is usually 5 to 60% by weight, preferably 20 to 40% by weight. The temperature of the oxidation reaction is usually 20 to 100 ° C, preferably 40 to 80 ° C.
酸化反応後の反応液に、過酸化物の分解のために、必要に応じて、 Co(CH3COO)2- 4H20、 Mn(CH3COO)2'4H20、 Cu(CH3COO)2 · H20、 5%Pd/C (炭素) 、 5%Pt/C (炭 素) 、 5%Ru/C (炭素) 、 Pd/Si02、 Pt/Si02等の金属化合物を添加してもよい。 こ の場合の金属化合物の添加量は、 反応液に対して、 0.001〜0.1 重量%であるのが 好ましい。 To the reaction solution after the oxidation reaction, for peroxide decomposition, optionally, Co (CH 3 COO) 2 - 4H 2 0, Mn (CH 3 COO) 2 '4H 2 0, Cu (CH 3 COO) 2 · H 2 0, 5% Pd / C ( carbon), 5% Pt / C (carbon containing), 5% Ru / C (carbon), a Pd / Si0 2, Pt / Si0 2 or the like of a metal compound It may be added. In this case, the addition amount of the metal compound is preferably 0.001 to 0.1% by weight based on the reaction solution.
また、 ひ, ひ一ビス (ヒドロキシメチル) アルデヒドは、 一般式 (I I I ) In addition, Hi, Hi-bis (hydroxymethyl) aldehyde has the general formula (I I I)
R-CH2-CHO (III) R-CH 2 -CHO (III)
(式中、 Rは前記と同義である) で表されるアルデヒド (例えば、 プロピオンァ ルデヒド、 n-ブチルアルデヒド等)を塩基性触媒を用いて、公知の方法 [例えば、 有機合成化学協会誌, , 1095 (1978) 等] によりホルムアルデヒドと縮合するこ とによって製造される。 塩基性触媒としては、 例えば、 水酸化ナトリウム、 水酸 化カリウム、 水酸化カルシウム、 炭酸ナトリウム、 炭酸カリウム、 炭酸水素ナト リウム、 炭酸水素カリウム等の一般的な塩基性無機化合物等があげられ、 一般式(Wherein R is as defined above) using a basic catalyst with an aldehyde represented by the formula (for example, propionaldehyde, n-butyraldehyde, etc.) [for example, Journal of Organic Synthetic Chemistry, 1095 (1978) etc.] to formaldehyde. Examples of the basic catalyst include common basic inorganic compounds such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, calcium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogencarbonate, and potassium hydrogencarbonate. formula
( I I I ) で表されるアルデヒドに対して 0.01〜0.2当量 (モル比) 使用される。 また、 ホルムア デヒドの使用量は、 一般式 (I I I ) で表されるアルデヒドに 対して、 1倍 (モル) 以上であることが好ましい。 また、 ひ, ひ一ビス (ヒドロ
キシメチル) アルデヒドは、 2-ェチルァクロレイン等のひ-アルキルァクロレイン とホルマリンとの付加反応によっても製造することができる。 It is used in an amount of 0.01 to 0.2 equivalent (molar ratio) to the aldehyde represented by (III). Further, the amount of formaldehyde used is preferably at least 1 times (mole) of the aldehyde represented by the general formula (III). In addition, Hi, Hibis (hydro (Xymethyl) aldehyde can also be produced by the addition reaction of a peralkylacrolein such as 2-ethylacrolein with formalin.
前記の方法等により得られたひ, ひ一ビス (ヒドロキシメチル) カルボン酸を 含む混合物を、酢酸エステル中、水 1〜2重量%の存在下、晶析に付すことにより、 高純度で、 金属含有量の少ないひ, ひ—ビス (ヒドロキシメチル) カルボン酸を 高収率で得ることができる。 By subjecting the mixture containing the bis (hydroxymethyl) carboxylic acid obtained by the above method and the like to crystallization in acetic acid ester in the presence of 1 to 2% by weight of water, a metal with high purity can be obtained. Low bis- (hydroxymethyl) carboxylic acid content can be obtained in high yield.
酢酸エステルとしては、 酢酸ェチル、 酢酸 n-プロピル、 酢酸イソプロビル、 酢 酸 n-プチル、 酢酸イソプチル、 酢酸イソアミル等があげられ、 中でも酢酸ェチル が好ましい。 Examples of the acetic ester include ethyl acetate, n-propyl acetate, isopropyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, and isoamyl acetate. Of these, ethyl acetate is preferable.
酢酸エステルは、 晶析溶液中のひ, ひ—ビス (ヒドロキシメチル) カルボン酸 の濃度が、 好ましくは 25〜45重量%、 より好ましくは 30〜40重量%になる量で 使用される。 The acetate is used in such an amount that the concentration of bis (hydroxymethyl) carboxylic acid in the crystallization solution is preferably 25 to 45% by weight, more preferably 30 to 40% by weight.
本発明の製造法は、 酢酸エステルを使用しているが、 メチルイソプチルケトン 等のケトン系溶媒を使用した晶析法と比較して、 少ない溶媒量で、 高純度のひ, ひ一ビス (ヒドロキシメチル) カルボン酸を得ることができ、 晶析槽の容積効率 等の点で優れている。 In the production method of the present invention, an acetate ester is used. However, as compared with the crystallization method using a ketone solvent such as methyl isobutyl ketone, a smaller amount of solvent and a higher purity of HI, HIbis ( (Hydroxymethyl) carboxylic acid can be obtained, and it is excellent in terms of volumetric efficiency of the crystallization tank.
晶析溶液中の水分量は、 1〜2重量%、 好ましくは 1.2〜: 1.8重量%になるように 調整されるのが好ましい。 The water content in the crystallization solution is preferably adjusted to 1 to 2% by weight, preferably 1.2 to 1.8% by weight.
晶析溶液は、 -10〜30°C、 好ましくは 5〜: 15° (、 より好ましくは 8〜: 12°Cまで冷 却されるのが好ましい。 さらに、 冷却後に、 その温度を維持して 1〜: 100時間、 結 晶を熟成させてもよい。 The crystallization solution is cooled to -10 to 30 ° C, preferably 5 to 15 ° (more preferably 8 to 12 ° C. After cooling, the temperature is maintained. 1 to: The crystals may be aged for 100 hours.
晶析終了後は、 晶析溶液から、 濾過等により、 ひ, ひ一ビス (ヒドロキシメチ ル) カルボン酸の結晶を分離し、 さらに、 この結晶を必要に応じて、 減圧下、 カロ 熱乾燥させてもよい。 After completion of the crystallization, the crystals of the bis (hydroxymethyl) carboxylic acid are separated from the crystallization solution by filtration or the like, and the crystals are further dried by heat under reduced pressure if necessary. You may.
本発明の製造法により得られたひ, ひ一ビス (ヒドロキシメチル) カルボン酸 としては、 その金属含有量が 15ppm以下のものが好ましく、 lOppm以下のものが より好ましい。 The bis (hydroxymethyl) carboxylic acid obtained by the production method of the present invention preferably has a metal content of 15 ppm or less, more preferably 10 ppm or less.
本発明の製造法により得られたひ, ひ一ビス (ヒドロキシメチル) カルボン酸
は、 金属含有量が少ないため、 ( 1 ) 水溶性ポリウレタン製造の際の溶媒 (ァセ トン等) に対する溶解性が高い、 (2 ) 電子材料等に使用することが可能である 等の長所を有している。 Hibis (hydroxymethyl) carboxylic acid obtained by the production method of the present invention Has the following advantages: (1) high solubility in solvents (acetone, etc.) in the production of water-soluble polyurethane, and (2) it can be used for electronic materials. Have.
また、 本発明の製造法により得られたひ, ひ—ビス (ヒドロキシメチル) カル ボン酸は、 ポリウレタン、 ポリエステル、 アルキッド樹脂等の原料として有用で ある。 In addition, polybis (hydroxymethyl) carbonic acid obtained by the production method of the present invention is useful as a raw material for polyurethane, polyester, alkyd resin and the like.
本発明の製造法は、 高純度で金属の含有量の少ないひ, ひ一ビス (ヒドロキシ メチル) アルカン酸を髙収率で製造する製造法である。 The production method of the present invention is a production method for producing high-purity, low-metal content polybis (hydroxymethyl) alkanoic acid in low yield.
発明》卖施するかめの の形熊 Invention >> 卖 The shape of a tortoise bear
実施例 1 Example 1
参考例 2で得られたひ, ひ一ビス (ヒドロキシメチル) ブタン酸を含む反応液 150gを減圧下濃縮し、 反応液中から水および低沸分を 67g留去した後、 酢酸ェチ ルを 49g添加して晶析溶液を得た。 晶析溶液中の水分量は、 1.5重量%であった。 この晶析溶液を 10°Cまで冷却してひ, ひ一ビス (ヒドロキシメチル) ブタン酸の 結晶を析出させた。 次いで、 晶析溶液から濾過によりひ, ひ一ビス (ヒドロキシ メチル) ブタン酸の結晶を分離し、 この結晶を減圧下、 60°Cで 24時間乾燥した。 得られたひ, ひ一ビス (ヒドロキシメチル) ブタン酸の収率、 純度、 Na濃度を表 1に示した。 150 g of the reaction solution containing bis (hydroxymethyl) butanoic acid obtained in Reference Example 2 was concentrated under reduced pressure, and 67 g of water and low-boiling components were distilled off from the reaction solution. 49 g was added to obtain a crystallization solution. The water content in the crystallization solution was 1.5% by weight. The crystallization solution was cooled to 10 ° C to precipitate crystals of monobis (hydroxymethyl) butanoic acid. Next, crystals of sodium bis (hydroxymethyl) butanoic acid were separated from the crystallization solution by filtration, and the crystals were dried under reduced pressure at 60 ° C. for 24 hours. Table 1 shows the yield, purity, and Na concentration of the obtained bis (hydroxymethyl) butanoic acid.
実施例 1および比較例 1の Na濃度は、 原子吸光法にて、 日本ジャーレル ·アツ シュ株式会社製原子吸光炎光共用分光分析装置 AA-860にて測定した。 比較例 1 :特閧平 11-228489号公報の比較例 1に準じた方法 The Na concentrations of Example 1 and Comparative Example 1 were measured by an atomic absorption method using an AA-860 atomic absorption flame / light spectrophotometer manufactured by Jarrell Ash Co., Ltd. of Japan. Comparative Example 1: Method according to Comparative Example 1 of Japanese Patent Publication No. 11-228489
, ひ—ビス (ヒドロキシメチル) ブタン酸の晶析溶液中の濃度および水分量 を表 1のように変える以外は、 実施例 1と同様にして、 晶析を行った。 その晶析 結果を表 1に示す。
表 1 ;晶析条件および結果 The crystallization was carried out in the same manner as in Example 1 except that the concentration and the amount of water in the crystallization solution of sodium bis (hydroxymethyl) butanoate were changed as shown in Table 1. Table 1 shows the crystallization results. Table 1; Crystallization conditions and results
参考例 1 : ひ, ひ一ビス (ヒドロキシメチル) ブチルアルデヒドの合成 Reference Example 1: Synthesis of Hi, Hiichi bis (hydroxymethyl) butyraldehyde
ホルマリン (37%、 lOOOg) と n-ブチルアルデヒド (890g) との混合物を激しく 撹拌し、 室温ないし 60°Cで水酸化ナトリウム水溶液 (25%、 60g) を 30分かけて 滴下し、 その後、 1時間撹拌を続けた。 得られた反応液を減圧濃縮して未反応の ブチルアルデヒド、 低沸点の副生成物、 および溶媒を除去し、 粗 2,2-ひ, ひ—ビ ス (ヒドロキシメチル) ブチルアルデヒド (45重量%) 1080 gを得た。 A mixture of formalin (37%, lOOOOg) and n-butyraldehyde (890g) was vigorously stirred, and an aqueous solution of sodium hydroxide (25%, 60g) was added dropwise at room temperature to 60 ° C over 30 minutes. Stirring was continued for hours. The resulting reaction solution was concentrated under reduced pressure to remove unreacted butyraldehyde, low-boiling by-products, and the solvent, and to give crude 2,2-bis (hydroxymethyl) butyraldehyde (45% by weight) ) 1080 g was obtained.
参考例 2 : a , ひ—ビス (ヒドロキシメチル) ブタン酸の合成 Reference Example 2: Synthesis of a, hybis (hydroxymethyl) butanoic acid
参考例 1により得られた粗ひ, ひ一ビス (ヒドロキシメチル) ブチルアルデヒ ド 100gに水 30gを添加し、 これを 60°Cに加温して 35%過酸化水素水 33gを滴下 した後、 さらに 4時間反応させて、 ひ, ひ一ビス (ヒドロキシメチル) ブタン酸 を含む反応液 161gを得た。 30 g of water was added to 100 g of crude bis (hydroxymethyl) butyl aldehyde obtained in Reference Example 1, and the mixture was heated to 60 ° C, and 33 g of 35% hydrogen peroxide solution was added dropwise. The reaction was carried out for another 4 hours to obtain 161 g of a reaction solution containing sodium bis (hydroxymethyl) butanoic acid.
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本発明により、 高純度で金属の含有量の少ないひ, ひ—ビス (ヒドロキシメチ ル) アルカン酸を高収率で製造する製造法が提供される。
According to the present invention, there is provided a process for producing high purity and low bis (hydroxymethyl) alkanoic acid with low metal content in high yield.