WO2002001297A3 - Procedes pour le traitement de surfaces, objets produits selon ces procedes et utilisation de composes en tant que reactifs clivables photochimiquement - Google Patents

Procedes pour le traitement de surfaces, objets produits selon ces procedes et utilisation de composes en tant que reactifs clivables photochimiquement Download PDF

Info

Publication number
WO2002001297A3
WO2002001297A3 PCT/DE2001/002315 DE0102315W WO0201297A3 WO 2002001297 A3 WO2002001297 A3 WO 2002001297A3 DE 0102315 W DE0102315 W DE 0102315W WO 0201297 A3 WO0201297 A3 WO 0201297A3
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
photochemically
methods
compounds
zones
produce
Prior art date
Application number
PCT/DE2001/002315
Other languages
German (de)
English (en)
Other versions
WO2002001297A2 (fr
Inventor
Daniel Schondelmaier
Wolfgang Eberhardt
Original Assignee
Forschungszentrum Juelich Gmbh
Daniel Schondelmaier
Wolfgang Eberhardt
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Forschungszentrum Juelich Gmbh, Daniel Schondelmaier, Wolfgang Eberhardt filed Critical Forschungszentrum Juelich Gmbh
Publication of WO2002001297A2 publication Critical patent/WO2002001297A2/fr
Publication of WO2002001297A3 publication Critical patent/WO2002001297A3/fr

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/0042Photosensitive materials with inorganic or organometallic light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. inorganic resists
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/075Silicon-containing compounds
    • G03F7/0755Non-macromolecular compounds containing Si-O, Si-C or Si-N bonds

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)

Abstract

L'invention concerne des procédés pour le traitement de surfaces, ainsi que des objets produits selon ces procédés. L'invention concerne également l'utilisation de composés en tant que réactifs clivables photochimiquement. Différentes techniques sont utilisées pour la texturation de surfaces ou pour la génération de structures de l'ordre du nanomètre sur des surfaces. Il est possible, grâce au procédé selon l'invention, de générer des structures de surface et des profils définis sans dépense technique importante. L'utilisation de composés clivables photochimiquement permet de générer de manière définie des surfaces à zones hydrophobes et hydrophiles ou un profil de surface présentant des creux et des bosses. Le profil ou la structure de surface est générée en fonction du masque utilisé qui est opaque aux ultraviolets et ne laisse passer la lumière ultraviolette qu'au niveau d'évidements définis.
PCT/DE2001/002315 2000-06-29 2001-06-21 Procedes pour le traitement de surfaces, objets produits selon ces procedes et utilisation de composes en tant que reactifs clivables photochimiquement WO2002001297A2 (fr)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10030797.3 2000-06-29
DE2000130797 DE10030797A1 (de) 2000-06-29 2000-06-29 Verfahren zur Behandlung von Oberflächen sowie mit diesen Verfahren hergestellte Gegenstände und Verwendung von...

Publications (2)

Publication Number Publication Date
WO2002001297A2 WO2002001297A2 (fr) 2002-01-03
WO2002001297A3 true WO2002001297A3 (fr) 2002-10-03

Family

ID=7646660

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/DE2001/002315 WO2002001297A2 (fr) 2000-06-29 2001-06-21 Procedes pour le traitement de surfaces, objets produits selon ces procedes et utilisation de composes en tant que reactifs clivables photochimiquement

Country Status (2)

Country Link
DE (1) DE10030797A1 (fr)
WO (1) WO2002001297A2 (fr)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0577187A1 (fr) * 1992-06-29 1994-01-05 Koninklijke Philips Electronics N.V. Méthode pour former un motif metallique sur verre par un procédé sans courant
JPH09263950A (ja) * 1996-03-28 1997-10-07 Canon Inc ガラス基板の化学メッキ方法
WO2001001199A1 (fr) * 1999-06-25 2001-01-04 The United States Of America, Represented By The Secretary Of The Navy Procedes et materiaux de modification selective de films polymeres a photomotifs

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0577187A1 (fr) * 1992-06-29 1994-01-05 Koninklijke Philips Electronics N.V. Méthode pour former un motif metallique sur verre par un procédé sans courant
JPH09263950A (ja) * 1996-03-28 1997-10-07 Canon Inc ガラス基板の化学メッキ方法
WO2001001199A1 (fr) * 1999-06-25 2001-01-04 The United States Of America, Represented By The Secretary Of The Navy Procedes et materiaux de modification selective de films polymeres a photomotifs

Non-Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
HUANG J ET AL: "Photopatterning of self-assembled alkanethiolate monolayers on gold. A simple monolayer photoresist utilizing aqueous chemistry", LANGMUIR;LANGMUIR MAR 1994, vol. 10, no. 3, March 1994 (1994-03-01), pages 626 - 628, XP008003152 *
PATENT ABSTRACTS OF JAPAN vol. 1998, no. 02 30 January 1998 (1998-01-30) *
SUGIMURA H ET AL: "MICROPATTERNING OF ALKYL-AND FLUOROALKYLSILANE SELF-ASSEMBLED MONOLAYERS USING VACUUM ULTRAVIOLET LIGHT", LANGMUIR, ACS, WASHINGTON, DC, US, vol. 16, no. 3, 8 February 2000 (2000-02-08), pages 885 - 888, XP000929923, ISSN: 0743-7463 *
SUGIMURA HIROYUKI ET AL: "Fabrication of coplanar microstructures composed of multiple organosilane self-assembled monolayers", IEICE TRANS ELECTRON;IEICE TRANSACTIONS ON ELECTRONICS JUL 2000 IEICE OF JAPAN, TOKYO, JAPAN, vol. E83-C, no. 7, July 2000 (2000-07-01), pages 1099 - 1103, XP008003023 *

Also Published As

Publication number Publication date
WO2002001297A2 (fr) 2002-01-03
DE10030797A1 (de) 2002-01-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1593730A4 (fr) Nanoparticule a semi-conducteurs et procede de production correspondant
ATE280909T1 (de) Werkstück mit einer tribologisch beanspruchbaren fläche und verfahren zur herstellung einer solchen fläche
ID27538A (id) Lembaran berserat yang terdekomposisi di dalam air dengan sifat ketahanan yang tinggi terhadap gesekan permukaan, dan metode pembuatannya
CA2446208A1 (fr) Article de desionisation de l'eau
WO2005094230A3 (fr) Nanocristaux creux et methode de production
WO2007059265A3 (fr) Mise en motifs de films dans le sens des images et dispositifs associés
BR0318128B1 (pt) composição para a limpeza ou o enxaguamento em meio aquoso ou hidroalcoólico de superfície duras, utilização de pelo menos uma polibetaína e, processos para melhorar as propriedades de composições que compreendem pelo menos um agente tensoativo para a limpeza ou enxaguamento em meio aquoso ou hidroalcoólico de superfície duras e processo para facilitar a limpeza ou enxaguamento de superfícies duras
WO2003080258A3 (fr) Procede et appareil permettant la formation de surfaces hydrophobes
AU2001266018A1 (en) Substrate with a reduced light-scattering, ultraphobic surface and a method for the production of the same
EP1468728A3 (fr) Dispositif de controle du movement d'un liquide sur une surface nanoestructurée ou microstructurée
ATE331575T1 (de) Führungslenker und verfahren zu dessen herstellung
WO2004076811A3 (fr) Composant de fluide de forage
WO2005097506A3 (fr) Details dans des substrats et leurs procedes de formation
WO2007003826A3 (fr) Procede de realisation de nanostructures
WO2002044101A3 (fr) Procede de preparation d'argiles organiques
WO2002030809A3 (fr) Composant micro-usine et procede de fabrication
WO2003098270A3 (fr) Element de guidage de lumiere ameliore et procede de production de cet element
TW200519061A (en) Etched article, mold structure using the same and method for production thereof
WO2003033557A3 (fr) Copolymeres fluores, leur production et leur utilisation
DE50013544D1 (de) Verfahren zur Herstellung oberflächenmikromechanischer Strukturen durch Ätzung mit einem dampfförmigen, flusssäurehaltigen Ätzmedium
WO2002001297A3 (fr) Procedes pour le traitement de surfaces, objets produits selon ces procedes et utilisation de composes en tant que reactifs clivables photochimiquement
WO2005038930A3 (fr) Procede de structuration et transistors a effet de champ
DE50109512D1 (de) Verfahren und vorrichtung zur herstellung eines werkstückes mit innenverzahnung, insbesondere eines hohlrades
TW200710920A (en) Microstructure and manufacturing method thereof
PT1268099E (pt) Processo para produzir componentes utilizando um meio activo fluivel e uma ferramenta de moldagem

Legal Events

Date Code Title Description
AK Designated states

Kind code of ref document: A2

Designated state(s): JP US

AL Designated countries for regional patents

Kind code of ref document: A2

Designated state(s): AT BE CH CY DE DK ES FI FR GB GR IE IT LU MC NL PT SE TR

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application
DFPE Request for preliminary examination filed prior to expiration of 19th month from priority date (pct application filed before 20040101)
AK Designated states

Kind code of ref document: A3

Designated state(s): JP US

AL Designated countries for regional patents

Kind code of ref document: A3

Designated state(s): AT BE CH CY DE DK ES FI FR GB GR IE IT LU MC NL PT SE TR

122 Ep: pct application non-entry in european phase
NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: JP