WO2001030740A1 - Process for the production of fluorodicarbonyl compounds - Google Patents

Process for the production of fluorodicarbonyl compounds Download PDF

Info

Publication number
WO2001030740A1
WO2001030740A1 PCT/JP2000/007393 JP0007393W WO0130740A1 WO 2001030740 A1 WO2001030740 A1 WO 2001030740A1 JP 0007393 W JP0007393 W JP 0007393W WO 0130740 A1 WO0130740 A1 WO 0130740A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
fluorine
concentration
continuously
flow rate
fluorine gas
Prior art date
Application number
PCT/JP2000/007393
Other languages
French (fr)
Japanese (ja)
Inventor
Sumi Ishihara
Kenji Adachi
Original Assignee
Daikin Industries Ltd.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Daikin Industries Ltd. filed Critical Daikin Industries Ltd.
Publication of WO2001030740A1 publication Critical patent/WO2001030740A1/en

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C45/00Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
    • C07C45/61Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups
    • C07C45/63Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups by introduction of halogen; by substitution of halogen atoms by other halogen atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C67/00Preparation of carboxylic acid esters
    • C07C67/30Preparation of carboxylic acid esters by modifying the acid moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group
    • C07C67/307Preparation of carboxylic acid esters by modifying the acid moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group by introduction of halogen; by substitution of halogen atoms by other halogen atoms

Abstract

A process for the production of fluorodicarbonyl compounds of general formula (2):R1 COCFR2 COR3 by fluorinating dicarbonyl compounds of general formula (1):R1 COCHR2 COR3 with fluorine, wherein at least part of the above fluorination is conducted while changing the molar ratio of fluorine gas to the dicarbonyl compound: (2) (wherein R1 is hydrogen, optionally substituted alkyl, or aryl; R2 is hydrogen, halogeno, optionally substituted alkyl, or aryl; and R3 is hydrogen, optionally substituted alkyl, aryl, alkoxy, or aryloxy, or alternatively at least two of R?1, R2 and R3¿ may be united to form a part of a ring structure which may involve a heteroatom). According to this process, the fluorination of dicarbonyl compounds (1) with fluorine gas into fluorodicarbonyl compounds (2) can be efficiently carried out.

Description

明細書 含フッ素ジカルボニル化合物の製造方法 誘 卜の禾 ilffl^ ?  Description Method for producing fluorine-containing dicarbonyl compound
本発明は、 ジカルボニル化合物をフッ素ガスによりフッ素化する含フ ッ素ジカルボニル化合物の製造方法に関するものである。  The present invention relates to a method for producing a fluorine-containing dicarbonyl compound by fluorinating a dicarbonyl compound with fluorine gas.
従 の 術 Art of obedience
ジカルボニル化合物をフッ素ガスによりフッ素ィ匕し、 含フッ素ジカル ボニル化合物を製造する方法は知られている 〔特願平 6 - 5 10893 号(WO 94Zl 0120)、 特開平 9— 2556 1 1号、 095/1 4646〕。  A method for producing a fluorinated dicarbonyl compound by fluorinating a dicarbonyl compound with fluorine gas is known [Japanese Patent Application No. 6-510893 (WO 94Zl 0120), Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-255611, 095/1 4646].
しかしながら、 いずれの場合のフッ素化反応も、 反応完結に要するフ ッ素ガスの量が必要以上に多くなり、 反応効率が悪くなるものが多い。 工業的にこれらの反応を行う場合、 反応効率は経済的にも極めて重要で あり、 従来の技術ではこれに対応できないという問題点がある。  However, in either case, the amount of fluorine gas required for the completion of the fluorination reaction is unnecessarily large, and the reaction efficiency is often deteriorated. When these reactions are carried out industrially, the reaction efficiency is extremely important economically, and there is a problem that conventional techniques cannot cope with this.
日 の曰  Say of the day
従って、 本発明の目的は、 ジカルボニル化合物をフッ素ガスによりフ ッ素化し、 含フッ素ジカルボニル化合物を製造する反応を効率良く行う ことにある。  Accordingly, an object of the present invention is to efficiently perform a reaction for producing a fluorine-containing dicarbonyl compound by fluorinating the dicarbonyl compound with fluorine gas.
発日月の構成, Composition of departure date,
このような現状において、 本発明者は鋭意研究の結果、 ジカルボニル 化合物のフッ素ガスによるフッ素化を効率良く行うためには、 特に、 原 料のジカルボニル化合物のモル数を 100としたときに、 1分間あたり のフッ素の相対的な導入モル数が 0. 0001から 2. 0の範囲内とな るように、 前記フッ素ガスの流速又は/及び濃度をコントロールして、 前記フッ素化を行えばよいことを見い出し、本発明に到達した。さらに、 反応溶媒として、 ァセ トニトリルとギ酸との混合溶媒を用いることによ り、 一層効率良くフッ素化が進行することも見い出した。 Under such circumstances, the present inventors have conducted intensive studies and found that in order to efficiently perform fluorination of a dicarbonyl compound with fluorine gas, in particular, when the number of moles of the dicarbonyl compound in the raw material was set to 100, The relative number of moles of fluorine introduced per minute is in the range of 0.0001 to 2.0. As described above, it has been found that the fluorination may be performed by controlling the flow rate and / or the concentration of the fluorine gas, and the present invention has been achieved. Furthermore, they have found that fluorination proceeds more efficiently by using a mixed solvent of acetonitrile and formic acid as a reaction solvent.
即ち、 本発明は、 下記一般式 ( 1 ) で表されるジカルボニル化合物か らなる原料をフッ素によりフッ素化して、 下記一般式 ( 2 ) で表される 含フッ素ジカルボニル化合物を製造するに際し、 前記ジカルボニル化合 物に対する前記フッ素ガスの相対的なモル数を変化させながら前記フッ 素化の少なくとも一部を行う、 含フッ素ジカルボニル化合物の製造方法 に係るものである。  That is, the present invention provides a method for producing a fluorine-containing dicarbonyl compound represented by the following general formula (2) by fluorinating a raw material comprising a dicarbonyl compound represented by the following general formula (1) with fluorine: The present invention relates to a method for producing a fluorinated dicarbonyl compound, wherein the fluorination is performed at least in part while changing the relative number of moles of the fluorine gas with respect to the dicarbonyl compound.
一般式 ( 1 ): General formula (1):
R1 CO CHR2 COR3 R 1 CO CHR 2 COR 3
(但し、 この一般式 ( 1 ) 中、 Ri は水素原子、 置換若しくは未置換の アルキル基、 又はァリール基であり、 R2 は水素原子、 ハロゲン原子、 置換若しくは未置換のアルキル基、 又はァリール基であり、 R3 は水素 原子、 置換若しくは未置換のアルキル基、 ァリール基、 アルコキシ基、 又はァリールォキシ基である。 なお、 R1 、 R2 及び R3 の少なく とも 2つが一体となって、 ヘテロ原子の介在若しくは非介在で環状構造の一 部を形成してもよい。) (However, in this general formula (1), Ri is a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, or an aryl group, and R2 is a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, or an aryl group. And R 3 is a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, or an aryloxy group, wherein at least two of R 1 , R 2, and R 3 are combined to form a heteroatom A part of the annular structure may be formed with or without interposition of a ring structure.)
一般式 ( 2) General formula (2)
R1 CO CFR2 C OR3 R 1 CO CFR 2 C OR 3
(但し、 この一般式 ( 2) 中、 R1 、 R2 及び R3 は前記したものと同 意義である。) (In the general formula (2), R 1 , R 2 and R 3 have the same meanings as described above.)
本発明の含フッ素ジカルボニル化合物の製造反応において、 原料の前 記ジカルボニル化合物のモル数を 1 00としたときに 1分間あたりの前 記フッ素の相対的な導入モル数が 0. 0001から 2. 0 (より好まし くは 0. 001〜1. 5) の範囲内となるように、 前記フッ素の流速又 は/及び濃度をコントロールすることにより、 効率良くフッ素化反応を 行うことができる。 これは、 前記導入モル数が 0. 0001未満である と、反応時間が長くなりすぎて効果に乏しく、また前記導入モル数が 2. 0を超えると、 フッ素ガス導入により反応溶液から溶媒が飛散し易く、 危険性も伴なうからである。 In the production reaction of the fluorinated dicarbonyl compound of the present invention, when the number of moles of the dicarbonyl compound as the raw material is 100, The flow rate and / or concentration of the fluorine is controlled so that the relative mole number of the fluorine is in the range of 0.0001 to 2.0 (more preferably, 0.001 to 1.5). By doing so, the fluorination reaction can be performed efficiently. If the number of moles introduced is less than 0.0001, the reaction time becomes too long and the effect is poor, and if the number of moles introduced exceeds 2.0, the solvent is scattered from the reaction solution by the introduction of fluorine gas. It is easy and dangerous.
また、 より一層効率良くフッ素化を行うためには、 反応溶媒として、 ァセ トニトリルとギ酸との混合溶媒を用いること (特にギ酸の割合を多 くすること) が望ましい。  Further, in order to perform fluorination more efficiently, it is desirable to use a mixed solvent of acetonitrile and formic acid as a reaction solvent (particularly, increase the ratio of formic acid).
本発明の含フッ素ジカルボニル化合物の製造方法において、 前記一般 式 ( 1) 及び (2) 中の前記アルキル基とは、 好ましくは炭素数 1〜2 0 (より好ましくは 1〜 10 ) のアルキル基を意味し、 アルキル基は場 合によりハロゲン原子、 水酸基、 シァノ基、 ァリール基、 ァシル基、 ァ ルコキシ基、 ァリールォキシ基、 ァシルォキシ基、 アルコキシカルボ二 ル基、 ァリールォキシカルボニル基、 アルカンスルホニル基、 ァリール スルホニル基、ァシルアミノ基などの置換基により置換されていてよい。 また、 ァリール基とは、 好ましくは炭素数 6〜 14 (より好ましくは 炭素数 6~10) の芳香族基であり、 ァリール基もアルキル基、 ハロゲ ン原子、 シァノ基、 ニトロ基、 ァシル基、 ァシルォキシ基、 アルコキシ カルボニル基、 ァリールォキシカルボニル基、 アルカンスルホニル基、 ァリ一ルスルホニル基などの置換基により置換されていてよい。  In the method for producing a fluorine-containing dicarbonyl compound of the present invention, the alkyl group in the general formulas (1) and (2) is preferably an alkyl group having 1 to 20 (more preferably 1 to 10) carbon atoms. Alkyl group represents a halogen atom, a hydroxyl group, a cyano group, an aryl group, an acyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an acyloxy group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, or an alkane sulfonyl group, as the case may be. And it may be substituted by a substituent such as an arylsulfonyl group or an acylamino group. The aryl group is preferably an aromatic group having 6 to 14 carbon atoms (more preferably 6 to 10 carbon atoms), and the aryl group is also an alkyl group, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, an acyl group, It may be substituted by a substituent such as an acyloxy group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an alkanesulfonyl group, or an arylsulfonyl group.
また、 アルコキシ基は、 好ましくは炭素数 1〜20 (より好ましくは 1〜10) のアルコキシ基を意味し、 アルコキシ基も上記のアルキル基 の場合と同様の置換基により置換されていてよい。 また、 ァリールォキシ基は、 好ましくは炭素数 6〜 14 (より好まし くは炭素数 6〜 10) のァリールォキシ基を意味し、 ァリールォキシ基 も上記のァリール基の場合と同様の置換基により置換されていてよい。 また、 ハロゲン原子は、 フッ素、 塩素、 臭素又はヨウ素であり得る。 前記 R1 、 R2 及び R3 を組み合わせて形成され得る前記環状構造の 例としては、 3員数〜 20員数からなる単環、 双環、 またはそれ以上の 多環の構造を示すことができる。 Further, the alkoxy group preferably means an alkoxy group having 1 to 20 (more preferably 1 to 10) carbon atoms, and the alkoxy group may be substituted by the same substituent as in the case of the above alkyl group. The aryloxy group preferably means an aryloxy group having 6 to 14 carbon atoms (more preferably, 6 to 10 carbon atoms), and the aryloxy group is also substituted by the same substituent as in the above aryl group. May be. Also, the halogen atom can be fluorine, chlorine, bromine or iodine. Examples of the cyclic structure that can be formed by combining R 1 , R 2, and R 3 include a monocyclic, bicyclic, or polycyclic structure having 3 to 20 members.
本発明の製造方法において、 原料である一般式 ( 1) で表されるジカ ルポニル化合物は、 工業的に容易に入手できるか、 又は、 通常の合成方 法によって容易に合成できる化合物である。 一般式 ( 1) のジカルボ二 ル化合物としては、 たとえば、 下記のものを例示できる。  In the production method of the present invention, the dicalponyl compound represented by the general formula (1) as a raw material is a compound that can be easily obtained industrially or can be easily synthesized by a general synthesis method. Examples of the dicarbonate compound of the general formula (1) include the following.
H C 0 C H2 C O H、 C H3 C 0 C H2 C O H、 C H3 C 0 C H2 CHC 0 CH 2 COH, CH 3 C 0 CH 2 COH, CH 3 C 0 CH 2 C
O C H3、 C H3 C 0 C H2 C〇 C2 H5 、 C H3 C 0 C H2 C〇 C5 H l l s C H3 C 0 C H2 C 0 C8 H i 7、 C H3 C 0 C H2 CO CioH2" OCH 3, CH 3 C 0 CH 2 C_〇 C 2 H 5, CH 3 C 0 CH 2 C_〇 C 5 H lls CH 3 C 0 CH 2 C 0 C 8 H i 7, CH 3 C 0 CH 2 CO CioH 2 "
C H3 C O C H ( C H3 ) CO CH3 、 C Hs C O C H ( C8 H 1 7 ) CCH 3 COCH (CH 3 ) CO CH3, C Hs COCH (C 8 H 17 ) C
0 C H3 、 C H3 C O CH F CO CH3 、 C H3 C0 CHC 1 C0 CH0 CH 3 , CH 3 CO CH F CO CH3, CH 3 C0 CHC 1 C0 CH
3 、 C H3 COCHB r COCH3 、 C H3 CO CH I CO CHs 、 P h C 0 C H2 C0 CH3 、 C H3 C O C H P h C O C Hs 、 P h C O C3, CH 3 COCHBr COCH 3 , CH 3 CO CH I CO CHs, P h C 0 CH 2 C0 CH 3 , CH 3 COCHP h COC Hs, P h COC
H2 C O P h, P h C O C H F C O P h, C H3 C 0 C H2 C 0 C H2 P h、 C H3 C 0 C H ( C H2 P h ) C O C H3 、 C l C H2 C 0 C H2 CH 2 COP h, P h COCHFCOP h, CH 3 C 0 CH 2 C 0 CH 2 P h, CH 3 C 0 CH (CH 2 P h) COCH 3 , C l CH 2 C 0 CH 2 C
O CH3 、 B r C H2 C O C H2 C0CH3 、 CF3 C 0 C H2 C 0 CO CH3, Br CH 2 COC H2 C0CH 3 , CF 3 C 0 CH 2 C 0 C
H3 、 C F3 C 0 C H2 C 0 C F3 、 C F3 C 0 C H F C 0 C F3 、 CH 3 , CF 3 C 0 CH 2 C 0 CF 3 , CF 3 C 0 CHFC 0 CF 3 , C
6 H5 C 0 C H2 C 0 C6 F5 、 Ce F5 C 0 C H2 C 0 C6 F5 、 Ce F5 C O C H F C O Ce F5
Figure imgf000007_0001
6 H 5 C 0 CH 2 C 0 C 6 F 5, Ce F 5 C 0 CH 2 C 0 C 6 F 5, Ce F 5 COCHFCO Ce F 5,
Figure imgf000007_0001
Figure imgf000008_0001
Figure imgf000008_0001
Figure imgf000009_0001
Figure imgf000009_0001
H C 0 C H2 COO CH3 、 H C 0 C H2 C 00 C2 H5 、 CH3 C 0 C H2 C 00 C2 H5 、 C H3 C 0 C H2 C 00 C3 H7 、 CH3 C 0 C H2 COO C4 H9 、 C H3 C 0 C H2 C 00 C8 H17、 C H3 C ◦ CH ( C H3 ) C 00 C H3 、 P h C H2 C 0 C H2 C 00 C H3 、 C H3 CO CH2 COOP h、 C H3 C 0 C H2 C 00 C H2 P h、 C H3 CO CHP hCOO Ca H7 、 C H3 CO CH ( C H2 P h) CO 0 C2 H5 、 C H3 C O CH F COO C2 H5 、 C H3 CO CH C 1 C 00 C2 H5 、 CH3 CO CHB r CO O C2 H5 、 C H3 CO CH I C 00 C2 H5 、 F C H2 C 0 C H2 C O O C2 H5 、 C 1 C H2 C 0 C H2 C 00 C H3
Figure imgf000010_0001
HC 0 CH 2 COO CH3, HC 0 CH 2 C 00 C 2 H 5 , CH 3 C 0 CH 2 C 00 C 2 H 5 , CH 3 C 0 CH 2 C 00 C 3 H 7 , CH 3 C 0 CH 2 COO C4 H 9, CH 3 C 0 CH 2 C 00 C 8 H 17, CH 3 C ◦ CH (CH 3) C 00 CH 3, P h CH 2 C 0 CH 2 C 00 CH 3, CH 3 CO CH2 COOP h, CH 3 C 0 CH 2 C 00 CH 2 P h, CH 3 CO CHP hCOO Ca H 7 , CH 3 CO CH (CH 2 P h) CO 0 C 2 H 5 , CH 3 CO CH F COO C2 H 5 , CH 3 CO CH C 1 C 00 C 2 H 5 , CH 3 CO CHB r CO OC 2 H 5 , CH 3 CO CH IC 00 C 2 H 5 , FCH 2 C 0 CH 2 COO C2 H 5 , C 1 CH 2 C 0 CH 2 C 00 CH 3
Figure imgf000010_0001
CO CO
Figure imgf000011_0001
Figure imgf000011_0001
Figure imgf000012_0001
本発明の含フッ素ジカルボニル化合物の製造方法によれば、
Figure imgf000012_0001
According to the method for producing a fluorine-containing dicarbonyl compound of the present invention,
2  Two
R1 COCHR2 COR3 R1 COCFR2 CORS のごとくにフッ素化反応が進行するが、 一般式 ( 1 ) のジカルボニル化 合物において R2 =Hの場合、 下記反応式のごとく、 導入されたフッ素 の量に依存して、 フッ素化工程が 2回く り返された生成物、 すなわち含 フッ素ジカルボニル化合物が得られる。 或いは、 一般式 ( 1 ) において R2 =Fの場合も、 導入されたフッ素によって一段階で、 ジフルォロ化 された同様のジカルボニル化合物が得られる。 F2 1 F2 The fluorination reaction proceeds as in R 1 COCHR 2 COR 3 R 1 COCFR 2 COR S , but when R 2 = H in the dicarbonyl compound of the general formula (1), it is introduced as shown in the following reaction formula. Depending on the amount of fluorine, a product obtained by repeating the fluorination step twice, that is, a fluorinated dicarbonyl compound is obtained. Alternatively, also in the case where R 2 = F in the general formula (1), the same dicarbonyl compound difluorinated in one step by the introduced fluorine can be obtained. F 2 1 F 2
R1COCH2 COR3 ~~ ^ R^OCHFCOR3 ~ ^R1COCF2 COR3 本発明の含フッ素ジカルボニル化合物の製造方法で使用するフッ素 (F2 ) は、 その激しい反応を抑制するために、 不活性ガスの容量が 9 9. 9 %から 50 % (好ましくは 9 9 %から 70 %、 さらに好ましくは 97%から 80%) の範囲内となるように不活性ガスで希釈したフッ素 ガスを使用するのがよい。 希釈に用いる不活性ガスとしては、 窒素、 へ リウム、 アルゴン、 二酸化炭素などを例示することができる。 R 1 COCH 2 COR 3 ~~ ^ R ^ OCHFCOR 3 ~ ^ R 1 COCF 2 COR 3 Fluorine (F 2 ) used in the method for producing a fluorine-containing dicarbonyl compound of the present invention is used to suppress the violent reaction. Fluorine gas diluted with an inert gas such that the volume of the inert gas is in the range of 99.9% to 50% (preferably 9.9% to 70%, more preferably 97% to 80%) Good to use. Examples of the inert gas used for dilution include nitrogen, helium, argon, and carbon dioxide.
前記フッ素化において、 フッ素の導入方法は、 ジカルボニル化合物の フッ素化を効率良く行うために、 非常に重要である。 フッ素化が進行す るにつれて、 反応系中の原料のジカルボニル化合物の量が徐々に減少し ていくので、 効率良くフッ素化を進行させるためには、 フッ素の導入量 も減少させていかなければならない。 そうでなければ、 過剰に導入した フッ素を無駄にするばかりでなく、 それによりさらなる副反応を起こす 可能性がある。 これは非常に不経済なことであり、 なおかつ反応性の高 い過剰分のフッ素を処理しなければならず、 安全面においても、 環境面 においても問題となる。  In the fluorination, the method of introducing fluorine is very important in order to efficiently fluorinate the dicarbonyl compound. As the fluorination proceeds, the amount of the raw material dicarbonyl compound in the reaction system gradually decreases, so in order to proceed with the fluorination efficiently, the amount of introduced fluorine must also be reduced. No. Otherwise, not only would excess fluorine be wasted, but it could also cause additional side reactions. This is extremely uneconomical and requires the disposal of excess fluorine, which is highly reactive, and poses both safety and environmental concerns.
大量スケールでこの反応を行う場合、 フッ素の導入を開始する時に、 フッ素化の発熱による副反応を抑えるために、 あるいは安全に反応を行 うために、 フッ素の導入量を始め少なく し、 その後に徐々に増加させ、 反応系中のジカルボニル化合物の減少に応じて、 ふたたび減少させてい く方法が望ましい。  When performing this reaction on a large scale, when starting the introduction of fluorine, the amount of fluorine introduced should be reduced at first to suppress side reactions due to the heat generated by fluorination, or to carry out the reaction safely. It is desirable to increase the amount gradually and then decrease it again as the amount of dicarbonyl compound in the reaction system decreases.
フッ素の導入量をコントロールする方法としては、 希釈フッ素ガスの 流速をコントロールすること、 或いは希釈フッ素ガスの濃度をコント口 —ルすること、 あるいは流速、 濃度ともにコントロールすることの 3つ の方法が考えられる。 フッ素の導入量は、 原料のジカルボニル化合物の 反応前のモル数を 1 0 0とした時の、 1分間あたりの相対的な導入モル 数で表わすことができ、 0 . 0 0 0 1から 2 . 0の範囲内 (好ましくは 0 . 0 0 1から 1 . 5の範囲内) となるように、 希釈フッ素ガスの流速 又は Z及び濃度を段階的に又は/及び連続的にコントロールすればよい ( このコントロールの態様をまとめると、 以下の通りである。 There are three ways to control the amount of fluorine introduced: controlling the flow rate of the diluted fluorine gas, controlling the concentration of the diluted fluorine gas, or controlling both the flow rate and the concentration. The method is conceivable. The amount of fluorine introduced can be represented by the relative number of moles introduced per minute, assuming that the number of moles of the starting dicarbonyl compound before reaction is 100, from 0.0001 to 2 The flow rate or the Z and concentration of the diluted fluorine gas may be controlled stepwise or / and continuously so as to fall within the range of 0.0 (preferably within the range of 0.001 to 1.5) ( The following is a summary of aspects of this control.
( 1 )、前記フッ素ガスの流速を段階的に又は/及び連続的に変化させ ながら、 前記フッ素化の少なくとも一部を行う。 この際、 前記フッ素ガ スの流速を段階的に又は/及び連続的に減少させる、 或いは前記フッ素 ガスの流速を段階的に又は/及び連続的に増加させ、 その後、 減少させ る。  (1) At least a part of the fluorination is performed while changing the flow rate of the fluorine gas stepwise and / or continuously. At this time, the flow rate of the fluorine gas is reduced stepwise or / and continuously, or the flow rate of the fluorine gas is stepwise or / and continuously increased and then reduced.
( 2 )、前記フッ素ガスの濃度を段階的に又は/及び連続的に変化させ ながら、 前記フッ素化の少なくとも一部を行う。 この際、 前記フッ素ガ スの濃度を段階的に又は/及び連続的に減少させる。 或いは前記フッ素 ガスの濃度を段階的に又は/及び連続的に増加させ、 その後、 減少させ る。  (2) At least a part of the fluorination is performed while changing the concentration of the fluorine gas stepwise or / and continuously. At this time, the concentration of the fluorine gas is reduced stepwise and / or continuously. Alternatively, the concentration of the fluorine gas is increased stepwise or / and continuously, and then decreased.
( 3 )、前記フッ素ガスの流速及び濃度をそれそれ段階的に又は/及び 連続的に変化させながら、 前記フッ素化の少なくとも一部を行う。 この 際、 前記フッ素ガスの流速及び濃度をそれそれ、 段階的に又は/及び連 続的に減少させる。 或いは、 前記フッ素ガスの流速を段階的に又は/及 び連続的に減少させ、 かつ、 前記フッ素ガスの濃度を段階的に又は/及 び連続的に増加させ、 その後、 減少させる。 或いは、 前記フッ素ガスの 流速を段階的に又は/及び連続的に増加させ、その後、減少させ、かつ、 前記フッ素ガスの濃度を段階的に又は/及び連続的に減少させる。 或い は、 前記フッ素ガスの流速及び濃度をそれそれ、 段階的に又は/及び連 続的に増加させ、 その後、 減少させる。 (3) At least part of the fluorination is performed while changing the flow rate and the concentration of the fluorine gas stepwise or / and continuously. At this time, the flow rate and the concentration of the fluorine gas are reduced stepwise or / and continuously. Alternatively, the flow rate of the fluorine gas is decreased stepwise and / or continuously, and the concentration of the fluorine gas is increased stepwise and / or continuously and then decreased. Alternatively, the flow rate of the fluorine gas is increased stepwise or / and continuously, and then reduced, and the concentration of the fluorine gas is reduced stepwise or / and continuously. Alternatively, the flow rate and concentration of the fluorine gas may be varied stepwise or / and continuously. Increase continuously and then decrease.
フッ素ガスの流速又は/及び濃度の変化のさせ方は、 以上の態様以外 にも様々であってよい。 また、 その変化の期間はフッ素化反応全体のう ち、 一部分であってよいし、 或いは全体を通して変化させてよい。 この 場合、 変化の開始は、 フッ素化が始まってから一定時間経過した時点で あるのがよいが、 フッ素化初期はむしろ低レベルにしてから一旦高レぺ ルに上げ、 反応がスムーズに進行することを確認してから、 流速又は/ 及び濃度を減少させるのがよい。 なお、 この変化後に、 流速又は/及び 濃度を高める期間があってもよく、 これは例えばフッ素化反応の最終期 に行ってもよい。  The method of changing the flow rate and / or the concentration of the fluorine gas may be various other than the above embodiments. The period of the change may be a part of the whole fluorination reaction, or may be changed throughout. In this case, the change should start at a certain time after the start of the fluorination, but the initial stage of the fluorination is rather low and then raised to a high level, and the reaction proceeds smoothly. After confirming that the flow rate and / or concentration should be reduced. After this change, there may be a period during which the flow rate and / or concentration is increased, and this may be performed, for example, at the final stage of the fluorination reaction.
本発明の含フッ素ジカルボニル化合物の製造方法においては、 反応は バッチ式で行ってもよく、 或いは連続式で行ってもよい。 連続式で反応 する場合、 原料のジカルボニル化合物を塩や酸などの添加物とともに溶 媒に溶かしたものを、 或いは酸が溶媒を兼ねる場合は、 その他の溶媒は 加えずに、 フッ素ガスとともに同時に連続式の反応装置に導入してフッ 素化の少なくとも一部を連続的に行なうことができる。  In the method for producing a fluorinated dicarbonyl compound of the present invention, the reaction may be performed in a batch system or a continuous system. In the case of a continuous reaction, the raw material dicarbonyl compound dissolved in a solvent together with an additive such as a salt or an acid, or in the case where an acid also serves as a solvent, together with fluorine gas without adding other solvents It can be introduced into a continuous reactor to perform at least part of the fluorination continuously.
この場合、 フッ素ガスの導入方法は、 同時に加える原料のジカルボ二 ル化合物の量又は濃度又は導入速度に合わせ、 上述した如く、 その流速 又は/及び濃度を適当に変化させて行なえばよい。  In this case, the method of introducing the fluorine gas may be performed by appropriately changing the flow rate and / or the concentration as described above in accordance with the amount or concentration or the introduction rate of the dicarbonate compound as the raw material to be added at the same time.
また、 連続式の反応装置としては、 充填塔方式等の反応装置が挙げら れる。 充填塔方式の装置の場合には、 原料とフッ素ガスを同一方向から 流通させる並流方式や、 原料とフッ素ガスを反対方向から流通させる向 流方式が採用できる。 並流方式を用いた場合は、 フッ素ガスの原料に対 する相対的な濃度が徐々に減少していくので、 より効果的に本発明を実 施することができる。 本発明の含フッ素ジカルボニル化合物の製造方法においては、 フッ素 の導入方法を除くフッ素化反応の条件 (溶媒、 塩や酸などの添加物、 反 応温度など) については、 すでにジカルボニル化合物のフッ素ガスによ るフッ素化について開示している特願平 6— 5 1 08 93号 (W 094 / 1 0 1 20 )、 特開平 9— 2 55 6 1 1号、 W09 5/14646で述 ベられている条件を使用することができる。 In addition, examples of the continuous reaction apparatus include a reaction apparatus of a packed tower system and the like. In the case of a packed tower system, a parallel flow system in which the raw material and the fluorine gas flow in the same direction or a countercurrent system in which the raw material and the fluorine gas flow in the opposite direction can be adopted. When the co-current method is used, the relative concentration of the fluorine gas with respect to the raw material gradually decreases, so that the present invention can be implemented more effectively. In the method for producing a fluorinated dicarbonyl compound of the present invention, the conditions of the fluorination reaction (solvents, additives such as salts and acids, reaction temperatures, etc.) except for the method of introducing fluorine already include the fluorine of the dicarbonyl compound. Reference is made to Japanese Patent Application No. 6-51093 (W094 / 110120), which discloses gas fluorination, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-255610, W095 / 14646. Conditions can be used.
使用する溶媒の量は基質に合わせて自由に調整すればよく、 非常に少 ない使用量、 たとえば基質に対して、 5重量%以下であっても溶媒とし て用いられる。  The amount of the solvent to be used may be freely adjusted according to the substrate. Even if the amount is very small, for example, 5% by weight or less based on the substrate, the solvent is used as the solvent.
その中でも、 pK a 4. 5未満の酸を用いることが、 好ましい。 pK a 4. 5未満の酸としては、 たとえば、 硫酸、 硝酸、 リン酸、 ポリ リン 酸、 フッ化水素、 フッ酸、 塩化水素、 塩酸、 臭化水素、 沃化水素、 次亜 塩素酸、 亜塩素酸、 塩素酸、 過塩素酸、 過臭素酸、 過沃素酸等のハロゲ ン化水素又はハロゲン化水素酸、 次亜ハロゲン酸、 亜ハロゲン酸、 ハロ ゲン酸、 又は過ハロゲン酸;  Among them, it is preferable to use an acid having a pKa of less than 4.5. Examples of the acid having a pKa of less than 4.5 include sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid, polyphosphoric acid, hydrogen fluoride, hydrofluoric acid, hydrogen chloride, hydrochloric acid, hydrogen bromide, hydrogen iodide, hypochlorous acid, and hypochlorous acid. Hydrogen halide or hydrohalic acid such as chloric acid, chloric acid, perchloric acid, perbronic acid, or periodic acid, hypohalous acid, hypohalous acid, halogenic acid, or perhalogenic acid;
フルォロスルホン酸、 クロロスルホン酸、 メタンスルホン酸、 ェ夕ン スルホン酸、 ブタンスルホン酸、 オクタンスルホン酸、 トリフルォロメ 夕ンスルホン酸、 ジフルォロメ夕ンスルホン酸、 ト リクロロメ夕ンスル ホン酸、 パーフルォロブ夕ンスルホン酸、 パ一フルォロオクタンスルホ ン酸、 ベンゼンスルホン酸、 トルエンスルホン酸、 ニトロベンゼンスル ホン酸等のスルホン酸又はポリスチレンスルホン酸等のポリマ一担持ス ルホン酸;  Fluorosulfonic acid, chlorosulfonic acid, methanesulfonic acid, methanesulfonic acid, butanesulfonic acid, butanesulfonic acid, octanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, difluorodomesulfonic acid, trichloromethanesulfonic acid, perfluorobenzosulfonic acid, perflu Sulfonic acid such as olooctanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, toluenesulfonic acid, nitrobenzenesulfonic acid or polymer-supported sulfonic acid such as polystyrenesulfonic acid;
ギ酸、 クロル酢酸、 ブロム酢酸、 ジクロル酢酸、 トリクロル酢酸、 ト リフルォロ酢酸、 グリコ一ル酸、 乳酸、 安息香酸、 しゅう酸、 コハク酸 等のカルボン酸; B F3 、 B C 13 、 B (0 C H3 ) 3 、 B (0 C O C H3 ) 3 、 A 1 C 13 、 S b F3 、 S b C 13 、 S b F6 、 P F3 、 P F5 、 A s F3 、 A s C 13 、 A s F5 、 T i C I 4 等のルイス酸又はそのエーテル等と の錯体、 HB F5 、 H S b F6 、 H P F6 、 HA s F4 、 H S b C l 6 等 のルイス酸とハロゲン化水素とから成る酸又はこれらのエーテル等との 錯体; Carboxylic acids such as formic acid, chloroacetic acid, bromoacetic acid, dichloroacetic acid, trichloroacetic acid, trifluoroacetic acid, glycolic acid, lactic acid, benzoic acid, oxalic acid, and succinic acid; BF 3, BC 1 3, B (0 CH 3) 3, B (0 COCH 3) 3, A 1 C 1 3, S b F 3, S b C 1 3, S b F 6, PF 3, PF 5 , a s F 3, a s C 1 3, a s F 5, T i CI 4 Lewis acid such or complexes with its ether, HB F 5, HS b F 6, HPF 6, HA s F 4, complex with HS b C l 6 such as an acid or an ether such as consisting of a Lewis acid and a hydrogen halide;
又はこれらの混合物;  Or mixtures thereof;
を例示することができる。 Can be exemplified.
また、 これらの酸を他の溶媒、 ハロゲン化炭化水素 (たとえば、 クロ 口ホルム、 ジクロロメタン、 四塩化炭素、 クロロェタン、 ジクロロエタ ン、 トリクロロェタン、 テトラクロロェタン、 トリクロ口 トリフルォロ ェタン、 テトラフルォロェタン、 クロ口 トリフルォロェタン、 ペルフル ォロペンタンなど)、 二トリル化合物 (たとえば、 ァセ トニトリル、 プロ ピオ二トリルなど)、 水、 酢酸、 プロピオン酸、 酪酸、 イソ酪酸、 アルコ —ル (たとえば、 メタノール、 エタノール、 トリフルォロエタノール、 プロパノール、 イソプロパノール、 へキサフルォロイソプロパノ一ル、 H C F2 C F2 C H2 O H、 H ( C F2 C F2 ) 2 C H2 0H、 H ( C F2 C F2 ) 3 CH2 O Hなど) などと組み合わせてもよい。 In addition, these acids may be used in other solvents, halogenated hydrocarbons (e.g., chloroform, dichloromethane, carbon tetrachloride, chloroethane, dichloroethane, trichloroethane, tetrachloroethane, trichloromouth trifluoroethane, tetrafluoroethane). , Trifluoroacetane, perfluoropentane, etc.), nitrile compounds (eg, acetonitrile, propionitrile, etc.), water, acetic acid, propionic acid, butyric acid, isobutyric acid, alcohol (eg, methanol) , Ethanol, trifluoroethanol, propanol, isopropanol, hexafluoroisopropanol, HCF 2 C F2 C H2 OH, H (CF 2 CF 2 ) 2 CH 2 0H, H (CF 2 CF 2 ) 3 CH 2 OH, etc.).
このうち、 特に好ましいのは、 ギ酸とァセ トニトリルの組み合わせで ある。 ギ酸のみを溶媒として用いる場合よりも一層、 反応の効率が向上 する。 また、 ギ酸とァセ トニトリルとの混合比もまた重要であり、 ァセ トニトリルの割合が 80 %以下であることが好ましく、 35 %以下であ ることがさらに好ましい。 ギ酸とァセ トニトリルとの混合溶媒を用いる と、 希釈フッ素ガスの流速及び濃度が仮に一定でも、 反応効率の向上が 見られ、 さらに本発明によりフッ素の導入量をコントロールすることに より、 なお一層の反応効率の向上が見られる。 Of these, a combination of formic acid and acetonitrile is particularly preferred. The reaction efficiency is further improved as compared with the case where only formic acid is used as a solvent. Further, the mixing ratio of formic acid and acetonitrile is also important, and the proportion of acetonitrile is preferably 80% or less, more preferably 35% or less. When a mixed solvent of formic acid and acetonitrile is used, the reaction efficiency is improved even if the flow rate and concentration of the diluted fluorine gas are constant, and the present invention makes it possible to control the amount of fluorine introduced. Thus, the reaction efficiency is further improved.
また、 反応温度は、 フッ素化しようとする基質の反応性や用いる溶媒 に合わせて、 適宜、 設定すれば良く、 一 8 0 °Cから + 8 0 °Cの範囲内を 選択することができる。 経済的に好ましいのは— 5 0 °Cから + 5 0 °C、 特に— 3 0 °Cから + 3 0 °Cである。 反応温度は一定に保つ必要はなく、 反応途中で自在に変化させてもよい。  The reaction temperature may be appropriately set according to the reactivity of the substrate to be fluorinated and the solvent used, and can be selected from a range of 180 ° C to + 80 ° C. Economically preferred is -50 ° C to + 50 ° C, especially -30 ° C to + 30 ° C. The reaction temperature does not need to be kept constant, and may be freely changed during the reaction.
卜の禾 il ffl 十牛  Il ffl ten cows
本発明は、 上述した如く、 ジカルボニル化合物のフッ素ガスによるフ ッ素化を行う際、 フッ素ガスの導入量をコントロールする (特に流速又 は/及び濃度を変化させる) ので、 工業的に入手若しくは合成容易な一 般式 ( 1 ) のジカルボニル化合物を原料として、 安価なフッ素ガスを用 いて、 その流速、 濃度などをコントロールすることにより、 単一工程で しかも高効率で一般式 ( 2 ) の含フッ素ジカルボニル化合物を収率よく 製造することができる。  As described above, the present invention controls the amount of introduced fluorine gas (particularly, changes the flow rate and / or concentration) when fluorinating a dicarbonyl compound with fluorine gas. By using the dicarbonyl compound of the general formula (1), which is easy to synthesize, as a raw material and controlling the flow rate and concentration of the gas using inexpensive fluorine gas, the efficiency of the general formula (2) can be improved in a single step with high efficiency. Fluorine-containing dicarbonyl compounds can be produced with good yield.
冈面の簡単な説明 A brief description of the screen
図 1は、 例 1と例 9におけるフッ素の当量数と目的物の生成率及び反 応時間との関係を示すグラフである。  FIG. 1 is a graph showing the relationship between the equivalent number of fluorine, the production rate of a target substance, and the reaction time in Examples 1 and 9.
図 2は、 例 1におけるフッ素の当量数と希釈フッ素ガスの流速及び濃 度との関係を示すグラフである。  FIG. 2 is a graph showing the relationship between the number of equivalents of fluorine and the flow rate and concentration of the diluted fluorine gas in Example 1.
図 3は、 例 1におけるフッ素の当量数とフッ素の相対的な導入モル数 との関係を示すグラフである。  FIG. 3 is a graph showing the relationship between the number of equivalents of fluorine and the relative number of moles of fluorine introduced in Example 1.
図 4は、 例 2と例 9におけるフッ素の当量数と目的物の生成率及び反 応時間との関係を示すグラフである。  FIG. 4 is a graph showing the relationship between the number of equivalents of fluorine, the production rate of the target substance, and the reaction time in Examples 2 and 9.
図 5は、 例 2におけるフッ素の当量数と希釈フッ素ガスの流速及び濃 度との関係を示すグラフである。 図 6は、 例 2におけるフッ素の当量数とフッ素の相対的な導入モル数 との関係を示すグラフである。 FIG. 5 is a graph showing the relationship between the number of equivalents of fluorine and the flow rate and concentration of the diluted fluorine gas in Example 2. FIG. 6 is a graph showing the relationship between the number of equivalents of fluorine and the relative number of moles of fluorine introduced in Example 2.
図 7は、 例 3と例 1 0、 1 1におけるフッ素の当量数と目的物の生成 率及び反応時間との関係を示すグラフである。  FIG. 7 is a graph showing the relationship between the equivalent number of fluorine, the production rate of the target substance, and the reaction time in Example 3 and Examples 10 and 11.
図 8は、 例 3におけるフッ素の当量数と希釈フッ素ガスの流速及び濃 度との関係を示すグラフである。  FIG. 8 is a graph showing the relationship between the number of equivalents of fluorine and the flow rate and concentration of the diluted fluorine gas in Example 3.
図 9は、 例 3におけるフッ素の当量数とフッ素の相対的な導入モル数 との関係を示すグラフである。  FIG. 9 is a graph showing the relationship between the number of equivalents of fluorine and the relative number of moles of fluorine introduced in Example 3.
図 1 0は、 例 4と例 1 0、 1 1におけるフッ素の当量数と目的物の生 成率及び反応時間との関係を示すグラフである。  FIG. 10 is a graph showing the relationship between the equivalent number of fluorine, the production rate of the target substance, and the reaction time in Example 4 and Examples 10 and 11.
図 1 1は、 例 4におけるフッ素の当量数と希釈フッ素ガスの流速及び 濃度との関係を示すグラフである。  FIG. 11 is a graph showing the relationship between the number of equivalents of fluorine and the flow rate and concentration of the diluted fluorine gas in Example 4.
図 1 2は、 例 4におけるフッ素の当量数とフッ素の相対的な導入モル 数との関係を示すグラフである。  FIG. 12 is a graph showing the relationship between the number of equivalents of fluorine and the relative number of moles of fluorine introduced in Example 4.
図 1 3は、 例 5と例 9におけるフッ素の当量数と目的物の生成率及び 反応時間との関係を示すグラフである。  FIG. 13 is a graph showing the relationship between the number of equivalents of fluorine, the production rate of the target substance, and the reaction time in Examples 5 and 9.
図 1 4は、 例 5におけるフッ素の当量数と希釈フッ素ガスの流速及び 濃度との関係を示すグラフである。  FIG. 14 is a graph showing the relationship between the number of equivalents of fluorine and the flow rate and concentration of the diluted fluorine gas in Example 5.
図 1 5は、 例 5におけるフッ素の当量数とフッ素の相対的な導入モル 数との関係を示すグラフである。  FIG. 15 is a graph showing the relationship between the number of equivalents of fluorine and the relative number of moles of fluorine introduced in Example 5.
図 1 6は、 例 6と例 1 2におけるフッ素の当量数と目的物の生成率及 び反応時間との関係を示すグラフである。  FIG. 16 is a graph showing the relationship between the equivalent number of fluorine, the production rate of the target substance, and the reaction time in Examples 6 and 12.
図 1 7は、 例 6におけるフッ素の当量数と希釈フッ素ガスの流速及び 濃度との関係を示すグラフである。  FIG. 17 is a graph showing the relationship between the number of equivalents of fluorine and the flow rate and concentration of the diluted fluorine gas in Example 6.
図 1 8は、 例 6におけるフッ素の当量数とフッ素の相対的な導入モル 数との関係を示すグラフである。 Figure 18 shows the number of fluorine equivalents and the relative moles of fluorine introduced in Example 6. It is a graph which shows the relationship with a number.
図 1 9は、 例 1、 6と例 1 3におけるフッ素の当量数と目的物の生成 率及び反応時間との関係を示すグラフである。  FIG. 19 is a graph showing the relationship between the number of equivalents of fluorine, the production rate of the target substance, and the reaction time in Examples 1, 6, and 13.
図 2 0は、 例 7と例 1におけるフッ素の当量数と目的物の生成率及び 反応時間との関係を示すグラフである。  FIG. 20 is a graph showing the relationship between the number of equivalents of fluorine, the production rate of the target substance, and the reaction time in Examples 7 and 1.
図 2 1は、 例 7におけるフッ素の当量数と希釈フッ素ガスの流速及び 濃度との関係を示すグラフである。  FIG. 21 is a graph showing the relationship between the number of equivalents of fluorine and the flow rate and concentration of the diluted fluorine gas in Example 7.
図 2 2は、 例 7におけるフッ素の当量数とフッ素の相対的な導入モル 数との関係を示すグラフである。  FIG. 22 is a graph showing the relationship between the number of equivalents of fluorine and the relative number of moles of fluorine introduced in Example 7.
図 2 3は、 例 8と例 9におけるフッ素の当量数と目的物の生成率及び 反応時間との関係を示すグラフである。  FIG. 23 is a graph showing the relationship between the equivalent number of fluorine, the production rate of the target substance, and the reaction time in Examples 8 and 9.
図 2 4は、 例 8におけるフッ素の当量数と希釈フッ素ガスの流速及び 濃度との関係を示すグラフである。  FIG. 24 is a graph showing the relationship between the number of equivalents of fluorine and the flow rate and concentration of the diluted fluorine gas in Example 8.
図 2 5は、 例 8におけるフッ素の当量数とフッ素の相対的な導入モル 数との関係を示すグラフである。  FIG. 25 is a graph showing the relationship between the number of equivalents of fluorine and the relative number of moles of fluorine introduced in Example 8.
図 2 6は、 例 1 3におけるフッ素の当量数と希釈フッ素ガスの流速及 び濃度との関係を示すグラフである。  FIG. 26 is a graph showing the relationship between the number of equivalents of fluorine and the flow rate and concentration of the diluted fluorine gas in Example 13.
図 2 7は、 例 1 3におけるフッ素の当量数とフッ素の相対的な導入モ ル数との関係を示すグラフである。  FIG. 27 is a graph showing the relationship between the number of equivalents of fluorine and the relative number of moles of fluorine introduced in Example 13.
卖施例 卖 Example
以下、 本発明を実施例についてさらに詳細に説明するが、 本発明は下 記の実施例に限定されるものではない。  Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to the following Examples.
まず、 以下の各例におけるフッ素量は 1モル = 2 4 . 3 7 1 ( 2 4 °C ) として計算した。 表 1、 表 2は各例の反応条件をまとめて示し、 表 3〜 表 1 5中 「生成率」 とは、 ガスクロマトグラフィ一から求めた、 未反応 の原料と目的物 ( 2—フロロ— 3—ケトー n—吉草酸メチル) との合計 量に対する 2—フロロ— 3—ケト— n—吉草酸メチルの比を百分率で表 したものであり、 また 「F2 流速」、 「F2 濃度」 はそれそれ、 希釈フッ 素ガスの流速、 フッ素濃度である。 また、 「F2 相対導入モル数」 とは、 原料のジカルボニル化合物の反応前のモル数を 1 00とした時の、 1分 間あたりのフッ素の相対的な導入モル数をフッ素ガスの流速と濃度から 求めたものである。 図 1〜図 27は、 表 3〜表 1 5の実験データをそれ それグラフ化したものである。 First, the amount of fluorine in each of the following examples was calculated as 1 mol = 24.337 1 (24 ° C.). Tables 1 and 2 summarize the reaction conditions for each example.In Tables 3 to 15, `` Production rate '' refers to the unreacted The ratio of 2-fluoro-3-keto-n-methyl valerate to the total amount of the raw material and the target product (2-fluoro-3-keto n-methyl valerate) is expressed as a percentage. F2 flow rate "," F 2 concentration "it it, the flow rate of the diluted fluorine gas, a fluorine concentration. The “relative mole number of F 2 ” is defined as the relative mole number of fluorine introduced per minute when the mole number of the starting dicarbonyl compound before reaction is 100, and the flow rate of fluorine gas per minute. And concentration. Figures 1 to 27 are graphs of the experimental data in Tables 3 to 15, respectively.
反応混合物は水にあけ、 塩化メチレンで抽出、 水洗後、 濃縮して得ら れる油状物の成分はほとんど目的物であった。 混入している副生成物の うち、 2 , 2—ジフロロ— 3—ケト— n—吉草酸メチル以外のものは痕 跡程度であったので、 19 F— NMRによる収率は、 目的物である 2—フ ロロ— 3—ケト—n—吉草酸メチルと副生成物である 2, 2—ジフロロ 一 3—ケト— n—吉草酸メチルのみについて各例において示した。 The reaction mixture was poured into water, extracted with methylene chloride, washed with water, and then concentrated to obtain an oily substance, which was almost the desired product. Of the by-products contaminated, those other than 2,2-difluoro-3-keto-n-methyl valerate were traces, so the yield by 19 F-NMR was the desired product. In each example, only 2-fluoro-3-keto-n-methyl valerate and the by-product 2,2-difluoro-13-keto-n-methyl valerate are shown.
Ά±. Ά ±.
ギ酸 27 mlに溶かした 3—ケト一 η—吉草酸メチル 1 0. 4 g ( 8 0 mmo 1) の溶液を 6 °Cに冷却し、 攪拌しながら、 窒素ガスで 1 0 % に希釈したフッ素ガスを、 表 3、 図 2に示した方法に従い、 流速を変化 させながら導入した。  A solution of 10.4 g (80 mmo 1) of 3-keto-η-methyl valerate in 27 ml of formic acid was cooled to 6 ° C and, with stirring, was diluted with nitrogen gas to 10% fluorine. The gas was introduced while changing the flow rate according to the method shown in Table 3 and Figure 2.
ガスクロマトグラフィーにより、 目的物の生成率をフッ素の当量数に 対して求め (表 3 )、 図 1に比較の例 9 (一定の希釈フッ素ガスの流速 1 90 m l/m i nで導入したもの) と共にその結果をグラフ化した。 目 的物と原料の比が 99. 5 : 0. 5となるのに要したフッ素は 1 32 m mo 1 ( 1. 6 5 e q :等量) であり、 反応時間は 3 O Omi nであつ た。 また、 原料である 3—ケト _ n—吉草酸メチルを 1 00とした 1分 間あたりのフッ素の相対的な導入モル数をフッ素ガスの流速、 濃度から 求め、 フッ素の当量数に対してプロッ トし、 図 3を作成した。 The production rate of the target product was determined by gas chromatography with respect to the number of equivalents of fluorine (Table 3). Fig. 1 shows the results together with Comparative Example 9 (introduced at a constant dilution fluorine gas flow rate of 190 ml / min). The results were graphed. Fluorine required for the target to raw material ratio to be 99.5: 0.5 was 132 mmo 1 (1.65 eq: equivalent), and the reaction time was 3 O Omin. Was. The raw material 3-keto_n-methyl valerate was set at 100 The relative number of moles of fluorine introduced per space was determined from the flow rate and concentration of fluorine gas, and plotted against the number of equivalents of fluorine to create Figure 3.
反応後、 基準物質としてフロロベンゼン 7 5 1 z l ( 8 mmo 1 ) を 加え、 19 F— NMRを測定し、 目的物である 2—フロロ— 3—ケト一 n —吉草酸メチルが 74. 7%、 副生成物である、 2 , 2—ジフロロ— 3 —ケト— n—吉草酸メチルが 2. 3 %生成していることを確認した。 希釈フッ素ガスの流速を表 4、 図 5に示した方法に従う以外は、 例 1 と同様に行った。 目的物と原料の比が 1 00 : 0となるのに要したフッ 素は 1 24 mmo 1 ( 1. 5 5 e q) であり、 反応時間は 2 98 m i n であった。 19 F— NMRによる収率は 2—フロロ一 3—ケトー n—吉草 酸メチルが 77. 3 %、 2, 2—ジフロロ— 3—ケト— n—吉草酸メチ ルが 2. 7%であった。 ギ酸 17mlに溶かした 3—ケト— n—吉草酸メチル 6. 5 g ( 50 mmo 1 ) の溶液を 6 °Cに冷却し、 攪拌しながら、 窒素ガスで希釈した フッ素ガスを、 表 5、 図 8に示した方法に従い、 フッ素ガスの濃度を変 化させながら、 1 0 Oml/mi nの流速で導入した。 After the reaction, fluorobenzene 751 zl (8 mmo 1) was added as a reference substance, and 19 F-NMR was measured. The target substance, 2-fluoro-3-keto-1-n-methylvalerate, was 74.7%. It was confirmed that 2.3% of 2, 2-difluoro-3-keto-n-methyl valerate, a by-product, was produced. The procedure was the same as in Example 1, except that the flow rate of the diluted fluorine gas was in accordance with the method shown in Table 4 and FIG. The fluorine required for the target to raw material ratio to become 100: 0 was 124 mmo 1 (1.55 eq), and the reaction time was 298 min. The 19 F-NMR yields were 77.3% for 2-fluoro-3-keto n-methyl valerate and 2.7% for 2,2-difluoro-3-keto-n-methyl valerate. Was. A solution of 6.5 g (50 mmo 1) of 3-keto-n-methyl valerate dissolved in 17 ml of formic acid was cooled to 6 ° C, and while stirring, the fluorine gas diluted with nitrogen gas was added to the solution in Table 5, Figure According to the method shown in FIG. 8, the fluorine gas was introduced at a flow rate of 10 Oml / min while changing the concentration of the fluorine gas.
ガスクロマトグラフィーにより、 目的物の生成率をフッ素の当量数に 対して求め (表 5)、 図 7に比較の例 1 0 (—定のフッ素濃度 10 %で導 入したもの)、 比較の例 1 1 (一定のフッ素濃度 5 %で導入したもの) と 共にその結果をグラフ化した。 目的物と原料の比が 9 6. 8 : 3. 2と なるのに要したフッ素は 1 00 mmo 1 ( 2. 0 e q) であり、 反応時 間は 402 mi nであった。 また、 原料である 3—ケト— n—吉草酸メ チルを 1 00とした 1分間あたりのフッ素の相対的な導入モル数をフッ 素ガスの流速、 濃度から求め、 フッ素の当量数に対してプロッ トし、 図The production rate of the desired product was determined by gas chromatography with respect to the number of equivalents of fluorine (Table 5). Fig. 7 shows a comparative example 10 (introduced at a constant fluorine concentration of 10%), and a comparative example. The results were graphed together with 1 1 (introduced at a constant fluorine concentration of 5%). Fluorine required for the ratio of the target substance to the raw material to be 96.8: 3.2 was 100 mmo 1 (2.0 eq), and the reaction time was 402 min. The relative number of moles of fluorine introduced per minute with respect to the starting material, 3-keto-n-methyl valerate, is 100. Calculated from the flow rate and concentration of raw gas, plotted against the number of fluorine equivalents,
9を作成した。 Created 9.
反応後、 規準物質としてフロロベンゼン 46 9〃 1 ( 5 mmo 1 ) を 加え、 19 F_NMRを測定し、 目的物である 2—フロロ— 3—ケト一 n 一吉草酸メチルが 70. 8 %、 副生成物である 2 , 2—ジフロロ— 3— ケト— n—吉草酸メチルが 2. 4%生成していることを確認した。 ΆΑ. After the reaction, fluorobenzene 469〃1 (5 mmo 1) was added as a reference substance, and 19 F_NMR was measured. The target substance, 2-fluoro-3-keto-1 n methyl monovalerate was 70.8%, It was confirmed that 2.4% of the product, 2,2-difluoro-3-keto-n-methyl valerate, was produced. ΆΑ.
希釈フッ素ガスの濃度を表 6、 図 1 1に示した方法に従う以外は、 例 3と同様に行った。 目的物と原料の比が 97. 4 : 2. 6となるのに要 したフッ素は l O Ommo l ( 2. 0 e q) であり、 反応時間は 420 m i nであった。 19 F— NMRによる収率は 2 _フロロ一 3—ケト一 n —吉草酸メチルが 73. 0 % 2 , 2—ジフロロ一 3—ケトー n—吉草 酸メチルが 2. 6 %であった。 希釈フッ素ガスの流速及び濃度を表 7、 図 14に示した方法に従う以 外は、 例 1と同様に行った。 目的物と原料の比が 1 00 : 0となるのに 要したフッ素は 1 36 mmo 1 ( 1. 7 e q) であり、 反応時間は 34 Omi nであった。 19 F— NMRによる収率は 2—フロロ— 3—ケト一 n—吉草酸メチルが 77. 6%、 2 , 2—ジフロロ— 3—ケト— n—吉 草酸メチルが 2. 4%であった。 The procedure was carried out in the same manner as in Example 3 except that the concentration of the diluted fluorine gas was in accordance with the method shown in Table 6 and FIG. The amount of fluorine required for the target to raw material ratio to be 97.4: 2.6 was lOOmmol (2.0 eq), and the reaction time was 420 min. The yield by 19 F-NMR was 73.0% for 2-fluoro-3-keto-n-methyl valerate, and 2.6% for 2,2-difluoro-13-keto-n-methyl valerate. The procedure was carried out in the same manner as in Example 1 except that the flow rate and concentration of the diluted fluorine gas were in accordance with the methods shown in Table 7 and FIG. The amount of fluorine required for the target to raw material ratio to become 100: 0 was 136 mmo 1 (1.7 eq), and the reaction time was 34 Omin. The yield by 19 F-NMR was 77.6% for 2-fluoro-3-keto-n-methyl valerate and 2.4% for 2,2-difluoro-3-keto-n-methyl valerate. .
Ά3. Ά3.
溶媒としてギ酸 27 m 1とァセ トニトリル 1 3. 5 mlとの混合溶媒 を用い、 希釈フッ素ガスの流速を表 8、 図 1 7に示した方法に従う以外 は、 例 1と同様に行った。 目的物と原料の比が 1 00 : 0となるのに要 したフッ素は 1 1 2 mm o l ( 1. 4 e q) であり、 反応時間は 1 8 9 m i nであった。 19 F— NMRによる収率は 2—フロロ— 3—ケト _n —吉草酸メチルが 79. 5 %、 2, 2—ジフロロ— 3—ケトー n—吉草 酸メチルが 2. 7%であった。 フッ素を 1. 3当量導入したところで、 ァセ トニトリル 1 3. 5ml を加え、 希釈フッ素ガスの流速を表 9、 図 2 1に示した方法に従う以外 は、 例 1と同様に行った。 目的物と原料の比が 1 00 : 0となるのに要 したフッ素は 1 24mmo l ( 1. 5 5 e q) であり、 反応時間は 2 5 2mi nであった。 19 F— NMRによる収率は 2—フロロ一 3—ケト一 n—吉草酸メチルが 77. 5 %、 2, 2—ジフロロ— 3—ケト— n—吉 草酸メチルが 2. 6 %であった。 希釈フッ素ガスの流速および濃度を表 1 0、 図 24に示した方法に従 い、 さらに反応温度をフッ素の導入量 1. 2当量までは 6°C、 ついで 1 2°Cに上げ、 1. 4当量から 20 °Cに、 さらに 1 5当量からは 27 °C に上げること以外は、 例 1と同様に行った。 目的物と原料の比が 9 6. 5 : 3. 5となるのに要したフッ素は 1 28mmo l ( 1. 6 e q) で あり、 反応時間は 3 97mi nであった。 i 9 F— N M Rによる収率は 2 —フロロ一 3—ケト— n—吉草酸メチルが 72. 7%、 2 , 2—ジフロ ロー 3 _ケト一 n—吉草酸メチルが 3. 1 %であった。 希釈フッ素ガスの流速を 1 9 Oml/mi n、 濃度を 1 0%に固定し て導入する以外は、例 1と同様に行った。 目的物と原料の比が 97. 2 : 2. 8となるのに要したフッ素は 20 Ommo l ( 2. 5 e q)であり、 反応時間は 2 57mi nであった。 19 F— N M Rによる収率は 2—フロ 口一 3—ケト一n_吉草酸メチルが 73. 5 %、 2 , 2—ジフロロ一 3 —ケト _ n—吉草酸メチルが 2. 6 %であった。 例 1 0 The procedure was performed in the same manner as in Example 1 except that a mixed solvent of 27 ml of formic acid and 13.5 ml of acetonitrile was used as a solvent, and the flow rate of the diluted fluorine gas was in accordance with the method shown in Table 8 and FIG. Fluorine required for the ratio of the target substance to the raw material to become 100: 0 was 112 mmol (1.4 eq), and the reaction time was 189 min. 19 F—NMR yield is 2-fluoro-3-keto_n -Methyl valerate was 79.5%, and 2,2-difluoro-3-keto n-methyl valerate was 2.7%. When 1.3 equivalents of fluorine were introduced, 13.5 ml of acetonitrile was added, and the same procedure as in Example 1 was performed, except that the flow rate of the diluted fluorine gas was in accordance with the method shown in Table 9 and FIG. 21. Fluorine required for the target to raw material ratio to become 100: 0 was 124 mmol (1.55 eq), and the reaction time was 255 min. The 19 F-NMR yields were 77.5% for 2-fluoro-3-keto-n-methyl valerate and 2.6% for 2,2-difluoro-3-keto-n-methyl valerate. . The flow rate and concentration of the diluted fluorine gas were set in accordance with the method shown in Table 10 and Figure 24, and the reaction temperature was further increased to 6 ° C and then to 12 ° C for up to 1.2 equivalents of fluorine. The procedure was as in Example 1, except that the temperature was increased from 4 equivalents to 20 ° C and from 15 equivalents to 27 ° C. Fluorine required for the ratio of the target substance to the raw material to be 96.5: 3.5 was 128 mmol (1.6 eq), and the reaction time was 397 min. The yield by i 9 F-NMR was 72.7% for 2-fluoro-3-keto-n-methyl valerate and 3.1% for 2,2-difluoro-3-keto-n-methyl valerate. Was. The procedure was the same as in Example 1, except that the flow rate of the diluted fluorine gas was fixed at 19 Oml / min and the concentration was fixed at 10%. Fluorine required for the ratio of the target substance to the raw material to be 97.2: 2.8 was 20 Omol (2.5 eq), and the reaction time was 257 min. The 19 F-NMR yields were 73.5% for 2-fluoro-1,3-keto-n-methylvalerate and 2.6% for 2,2-difluoro-13-keto_n-methyl valerate. Was. Example 1 0
希釈フッ素ガスの流速を 1 0 0m l/m i n、 濃度を 1 0 %に固定し て導入する以外は、例 3と同様に行った。 目的物と原料の比が 9 3. 9 : The procedure was the same as in Example 3, except that the flow rate of the diluted fluorine gas was fixed at 100 ml / min and the concentration was fixed at 10%. The ratio of target to raw material is 93.9:
6. 1となるのに要したフッ素は 1 2 5 mmo l ( 2. 5 e q)であり、 反応時間は 3 04 m i nであった。 19 F— NMRによる収率は 2—フロ 口— 3 _ケト— n—吉草酸メチルが 6 6. 4 %、 2, 2—ジフロロ— 3The amount of fluorine required to reach 6.1 was 125 mmol (2.5 eq), and the reaction time was 304 min. The yield by 19 F-NMR was 2-fluoro-3_keto-n-methylvalerate 66.4%, 2,2-difluoro-3
—ケトー n—吉草酸メチルが 2. 2 %であった。 —Keto n—methyl valerate was 2.2%.
例 1 1 Example 1 1
希釈フッ素ガスの流速を 1 0 0 m 1/m i n、 濃度を 5 %に固定して 導入する以外は、 例 3と同様に行った。 目的物と原料の比が 9 5. 9 : The procedure was performed in the same manner as in Example 3 except that the flow rate of the diluted fluorine gas was fixed at 100 m1 / min and the concentration was fixed at 5%. The ratio of the target substance to the raw material is 95.9:
4. 1となるのに要したフッ素は 1 0 0mmo l ( 2. O e q)であり、 反応時間は 48 5 m i nであった。 19 F— N M Rによる収率は 2—フロ ロー 3—ケト— n—吉草酸メチルが 7 1. 6 %、 2, 2—ジフロロ— 3The amount of fluorine required to reach 4.1 was 100 mmol (2.0 eq), and the reaction time was 485 min. The 19 F-NMR yield was 2-1.6-keto-n-methylvalerate, 71.6%, 2,2-difluoro-3.
—ケト _n—吉草酸メチルが 2. 5 %であった。 —Keto_n—methyl valerate was 2.5%.
例 1 Example 1
溶媒としてギ酸 2 7 m lとァセ トニトリル 1 3. 5 m lとの混合溶媒 を用い、 希釈フッ素ガスの流速を 1 9 0 m 1/m i n、 濃度を 1 0 %に 固定して導入する以外は、 例 1 と同様に行った。 目的物と原料の比が 1 Except that a mixed solvent of 27 ml of formic acid and 13.5 ml of acetonitrile was used as the solvent, and the flow rate of the diluted fluorine gas was fixed at 190 m1 / min and the concentration was fixed at 10%. Performed as in Example 1. The ratio of target to raw material is 1
00 : 0となるのに要したフッ素は 1 3 6 mmo 1 ( 1. 7 e q) であ り、 反応時間は 1 74 m i nであった。 19 F— N M Rによる収率は 2 - フロロ— 3—ケト一 n—吉草酸メチルが 77. 4%、 2, 2—ジフロロ 一 3—ケト— n—吉草酸メチルが 2. 7 %であった。 The fluorine required to reach 00: 0 was 13.6 mmo 1 (1.7 eq), and the reaction time was 174 min. The yield by 19 F-NMR was 77.4% for 2-fluoro-3-keto-n-methylvalerate and 2.7% for 2,2-difluoro-13-keto-n-methyl valerate. .
例 1 3 Example 1 3
溶媒としてギ酸とァセ トニトリル、 1: 5の混合溶媒 2 7 m 1を用い、 希釈フッ素ガスの流速を表 1 5、図 2 6に示した方法で導入する以外は、 例 1 と同様に行った。 目的物と原料の比が 1 0 0 : 0となるのに要した フヅ素は 149mmo l ( 1. 86 e q ) であり、 反応時間は 258 m i nであった。 19 F— NMRによる収率は 2—フロロ一 3—ケト一 n— 吉草酸メチルが 6 1. 1%、 2, 2—ジフロロ一 3—ケト—n—吉草酸 メチルが 5. 6%であった。 The procedure was performed in the same manner as in Example 1, except that formic acid and acetonitrile, 27 ml of a 1: 5 mixed solvent were used as the solvent, and the flow rate of the diluted fluorine gas was introduced as shown in Table 15 and Figure 26. Was. It was necessary for the ratio of the target substance to the raw material to become 100: 0 The fluorine was 149 mmol (1.86 eq) and the reaction time was 258 min. The 19 F-NMR yields were 61.1% for 2-fluoro-3-keto-n-methyl valerate and 5.6% for 2,2-difluoro-3-keto-n-methyl valerate. Was.
以上に述べた各例における結果を図 1、 図 4、 図 7、 図 10、 図 13、 図 16、 図 19、 図 20、 図 23に示した 〔ここでは、 使用したフッ素 の当量数 (eq) に対する、 目的物 ( 2—フロロ一 3—ケト _n—吉草 酸メチル) の生成率 (ガスクロマトグラフィーから求めた 2—フロロ一 3—ケト— n—吉草酸メチルの生成量を未反応の原料と 2—フロロ— 3 —ケトー n—吉草酸メチルの生成量との合計量で割ったもの)、および反 応時間を示す〕。  The results for each of the examples described above are shown in Figs. 1, 4, 7, 7, 10, 13, 16, 19, 20, and 23. [Here, the equivalent number of fluorine used (eq ) Of the desired product (2-fluoro-3-keto_n-methyl valerate) (the amount of 2-fluoro-13-keto-n-methyl valerate determined by gas chromatography Divided by the total amount of raw material and 2-fluoro-3-keto n-methyl valerate)) and the reaction time].
また、 図 2、 図 5、 図 8、 図 1 1、 図 14、 図 17、 図 2 1、 図 24、 図 26に、 フッ素の当量数に対する各例の希釈フッ素ガスの流速及び濃 度を示す。 さらに、 フッ素の当量数に対するフッ素の毎分の導入量 (す なわち、 原料のジカルボニル化合物の反応前のモル数を 100とした時 の 1分間あたりのフッ素の相対的な導入モル数) を、 フッ素ガスの流速 および濃度から計算して求め、 図 3、 図 6、 図 9、 図 12、 図 15、 図 18、 図 22、 図 25、 図 27に示した。  Fig. 2, Fig. 5, Fig. 8, Fig. 11, Fig. 11, Fig. 14, Fig. 17, Fig. 21, Fig. 24, and Fig. 26 show the flow rate and concentration of diluted fluorine gas for each example with respect to the number of equivalents of fluorine. . Furthermore, the amount of fluorine introduced per minute relative to the number of equivalents of fluorine (ie, the relative number of moles of fluorine introduced per minute when the number of moles before the reaction of the starting dicarbonyl compound is 100) is defined as Calculated from the flow rate and concentration of fluorine gas, and shown in Figure 3, Figure 6, Figure 9, Figure 12, Figure 15, Figure 18, Figure 22, Figure 25, and Figure 27.
そして、 各例の反応条件の一覧を表 1、 表 2に、 さらに各例の実験デ —夕をそれそれ表 3から表 15に示した。  Tables 1 and 2 list the reaction conditions for each case, and Tables 3 to 15 show the experimental data for each case.
例えば、 図 1、 図 4で見られるように、 希釈されたフッ素ガス (希釈 フッ素ガス) の流速をコントロールした例 1、 例 2において、 一定の流 速で行った例 9よりも非常に少ないフッ素の導入量で反応を行うことが できた。 また、 効率良く反応が進行したため、 フッ素の流速を減少させ たことによる反応時間の増加は、 わずかなものであった。 希釈フッ素ガ スの流速はそれそれ図 2、 図 5で示したようにコントロールし、 その 1 分間あたりのフッ素の相対的な導入モル数は図 3、 図 6で示した通りで ある。 For example, as can be seen in Figs. 1 and 4, in Examples 1 and 2 where the flow rate of the diluted fluorine gas (diluted fluorine gas) was controlled, there was much less fluorine than in Example 9 where the flow rate was constant. The reaction was able to be performed with the introduction amount of In addition, since the reaction proceeded efficiently, the increase in the reaction time due to the decrease in the flow rate of fluorine was slight. Dilution fluorine gas The flow rate of the gas was controlled as shown in Figs. 2 and 5, respectively, and the relative number of moles of fluorine introduced per minute was as shown in Figs.
同様の結果が、 例 3、 例 4において希釈フッ素ガスのフッ素濃度をコ ントロールすることによつても得られた (図 7〜図 1 2 )。例 3、 例 4と もに例 1 0 (フッ素濃度が 1 0 %で一定) よりも、 効率良く少ないフッ 素で反応をほぼ完結させることができた。 フッ素濃度を 5 %と始めから 低く設定して、 一定量で導入した場合(例 1 1 )、 例 3および例 4と同程 度のフッ素の導入量で反応を行うことができるが、 図 7、 図 1 0で見ら れるように、 反応時間がより長くなり、 効率的ではない。 希釈フッ素ガ スの流速および濃度をともに減少させた例 5においても、 同様に高い効 果が見られた (図 1 3〜図 1 5 )。  Similar results were obtained in Examples 3 and 4 by controlling the fluorine concentration of the diluted fluorine gas (FIGS. 7 to 12). In both Examples 3 and 4, the reaction could be almost completed with less fluorine than in Example 10 (the fluorine concentration was constant at 10%). When the fluorine concentration was set low at 5% from the beginning and introduced in a fixed amount (Example 11), the reaction can be performed with the same amount of fluorine introduced as in Examples 3 and 4. As can be seen in Figure 10, the reaction time is longer and less efficient. In Example 5 where both the flow rate and the concentration of the diluted fluorine gas were reduced, a similarly high effect was observed (Figures 13 to 15).
また、 例 1から例 5において、 高い効果が認められたことにより、 フ ッ素ガスの流速を段階的に又は/及び連続的に減少させ、 かつ、 フッ素 ガスの濃度を段階的に又は/及び連続的に増加させ、 その後、 減少させ ても、 或いは、 フッ素ガスの流速を段階的に又は/及び連続的に増加さ せ、 その後、 減少させ、 かつフッ素ガスの濃度を段階的に又は/及び連 続的に減少させても、 或いはフッ素ガスの流速及び濃度をそれそれ、 段 階的に又は Z及び連続的に増加させ、 その後、 減少させても、 同様の効 果が得られることは明らかである。  Also, in Examples 1 to 5, the high effect was observed, so that the flow rate of the fluorine gas was decreased stepwise or / and continuously, and the concentration of the fluorine gas was decreased stepwise and / or It can be continuously increased and then decreased, or the flow rate of fluorine gas can be increased stepwise or / and continuously and then decreased and the concentration of fluorine gas can be increased stepwise and / or and / or It is clear that the same effect can be obtained by continuously decreasing or increasing the flow rate and concentration of fluorine gas stepwise or Z and continuously, and then decreasing. It is.
また、 図 1 9で見られるとおり、 ギ酸とァセ トニトリルとの混合溶媒 を用いた例 6では、 ギ酸のみを溶媒として用いた例 1よりも一層、 反応 の効率が向上していることがわかる。  In addition, as can be seen in Fig. 19, in Example 6 using a mixed solvent of formic acid and acetonitrile, it can be seen that the reaction efficiency was further improved as compared with Example 1 using only formic acid as a solvent. .
さらに、 図 1 9で示したように、 ギ酸とァセ トニトリルの混合比もま た重要であり、 その混合比が 1 : 5である例 1 3では、 混合比 2 : 1の 例 6に比べ、 明らかに反応効率の低下が見られる。 さらに、 目的物であ る 2—フロロ一 3—ケト— n—吉草酸メチル、 副生成物である 2, 2— ジフロロ一 3—ケト— n—吉草酸メチルの収率は、 例 1が74. 7 %、 2. 3%、 例6が79. 5 %、 2. 7 %であるのに対し、 例 1 3では 6 1. 1 % 5. 6 %となり、 例 1 3において目的物の収率低下、 副生成 物の増加が見られた。 Furthermore, as shown in FIG. 19, the mixing ratio of formic acid and acetonitrile is also important, and in Example 13 where the mixing ratio is 1: 5, the mixing ratio of 2: 1 is also important. The reaction efficiency is clearly lower than that of Example 6. Furthermore, the yield of 2-fluoro-3-keto-n-methyl valerate, which is the target substance, and 2,2-difluoro-3-keto-n-methyl valerate, which is a by-product, was 74 in Example 1. 7%, 2.3% and Example 6 are 79.5% and 2.7%, while Example 13 is 61.1% and 5.6%. The rate decreased and by-products increased.
従って、 ギ酸とァセ トニト リルとの混合溶媒を用いる場合、 ァセ トニ トリルの割合が 80%以下であることが好ましく、 35 %以下であるこ とがさらに好ましい。 ギ酸とァセ トニトリルとの混合溶媒を用いると、 希釈フッ素ガスの流速および濃度が一定でも、 反応効率の向上が見られ る (例 9と例 1 2との比較) が、 さらに本発明に基づいてフッ素の導入 量をコントロールすることにより、 なお一層の反応効率の向上が見られ た (例 6と例 1 2 : 図 1 6 )。 Therefore, when a mixed solvent of formic acid and acetonitrile is used, the ratio of acetonitrile is preferably 80% or less, more preferably 35% or less. When a mixed solvent of formic acid and acetonitrile was used, the reaction efficiency was improved even when the flow rate and concentration of the diluted fluorine gas were constant (comparison between Example 9 and Example 12). By further controlling the amount of fluorine introduced, the reaction efficiency was further improved (Examples 6 and 12: Figure 16).
表 1 table 1
to to
Figure imgf000029_0001
Figure imgf000029_0001
表 2 Table 2
Figure imgf000030_0001
Figure imgf000030_0001
表 3— 1 ^!LL Table 3—1 ^! LL
F2当量数 反応時間 生成率 F2流速 F2濃度 F2相対導入モル数 (eq) (min) (%) (ml/mm) ( % ) F 2 Equivalents Reaction time Production rate F 2 Flow rate F 2 Concentration F 2 Relative moles introduced (eq) (min) (%) (ml / mm) (%)
0.00 0 0.00 190 10 0.9750.00 0 0.00 190 10 0.975
0.20 21 17.2 0.20 21 17.2
0.25 180 0.923 0.25 180 0.923
0.40 42 32.6 0.40 42 32.6
0.50 170 0.872 0.50 170 0.872
0.60 64 46.1 0.60 64 46.1
0.65 160 0.821 0.65 160 0.821
0.70 150 0.7690.70 150 0.769
0.80 89 62.9 140 0.7180.80 89 62.9 140 0.718
0.90 130 0.6670.90 130 0.667
1.00 119 74.6 1.00 119 74.6
1.06 120 0.616 1.06 120 0.616
1.12 110 0.5641.12 110 0.564
1.17 100 0.5131.17 100 0.513
1.20 152 83.8 90 0.4621.20 152 83.8 90 0.462
1.30 174 88.4 1.30 174 88.4
1.37 80 0.410 1.37 80 0.410
1.40 196 91.7 60 0.3081.40 196 91.7 60 0.308
1.47 50 0.2561.47 50 0.256
1.50 231 95.6 1.50 231 95.6
1.52 40 0.205 1.52 40 0.205
1.55 252 97.3 表 3— 2 βϋ. 1.55 252 97.3 Table 3-2 βϋ.
F2当量数 反応時間 生成率 F2流速 F2濃度 F2相対導入モル数F 2 equivalents Reaction time Production rate F 2 Flow rate F 2 Concentration F 2 Relative moles introduced
(eq) (min) (%) (ml/min) ( ) (eq) (min) (%) (ml / min) ()
1.60 276 98.8 1.60 276 98.8
1.65 300 99.5 40 10 0.205 1.65 300 99.5 40 10 0.205
表 4— 1 _ Table 4— 1 _
F2当量数 反応時間 生成率 F2流速 F2濃度 F2相対導入モル数 (eq) (min) (%) (ml/min) (%) F 2 Equivalents Reaction time Production rate F 2 Flow rate F 2 Concentration F 2 Relative moles introduced (eq) (min) (%) (ml / min) (%)
0.00 0 0.00 60 10 0.3080.00 0 0.00 60 10 0.308
0.05 90 0.4620.05 90 0.462
0.20 49 16.1 180 0.9230.20 49 16.1 180 0.923
0.35 170 0.8720.35 170 0.872
0.40 72 34.8 0.40 72 34.8
0.56 160 0.821 0.56 160 0.821
0.60 96 48.0 0.60 96 48.0
Π U.7 /Π U ν n 7fiQ Π U.7 / Π U ν n 7fiQ
0.80 122 63.6 140 0.7180.80 122 63.6 140 0.718
0.87 130 0.6670.87 130 0.667
0.94 120 0.6160.94 120 0.616
1.00 152 75.1 1.00 152 75.1
1.02 110 0.564 1.02 110 0.564
表 4— 2 i2J_2_ Table 4-2 i2J_2_
F2当量数 反応時間 生成率 F2流速 F2濃度 F2相対導入モル数 (eq) (min) ( %) (ml/min) ( %) F 2 equivalents Reaction time Production rate F 2 Flow rate F 2 concentration F 2 Relative moles introduced (eq) (min) (%) (ml / min) (%)
1.10 168 81.9 100 0.5131.10 168 81.9 100 0.513
1.20 187 88.1 90 0.4621.20 187 88.1 90 0.462
1.25 80 0.4101.25 80 0.410
1.30 212 92.31.30 212 92.3
. OO 70  . OO 70
1.40 235 95.3  1.40 235 95.3
1.42 50 0.256 1.42 50 0.256
1.46 255 97.1 1.46 255 97.1
1.50 272 99.0 40 0.205 1.50 272 99.0 40 0.205
1.55 298 100 40 10 0.205 1.55 298 100 40 10 0.205
表 5 Ά2. Table 5 Ά2.
F2当量数 反応時間 生成率 F2流速 F2濃度 F2相対導入モル数F 2 equivalents Reaction time Production rate F 2 Flow rate F 2 Concentration F 2 Relative moles introduced
(eq) (min) ( % ) (ml/min) (%) (eq) (min) (%) (ml / min) (%)
0.00 0 0.00 100 10 0.8210.00 0 0.00 100 10 0.821
0.20 24 15.6 0.20 24 15.6
0.40 49 30.3 9 0.739 0.40 49 30.3 9 0.739
0.60 76 43.2 8 0.6570.60 76 43.2 8 0.657
0.80 107 55.2 7 0.5740.80 107 55.2 7 0.574
1.00 140 65.1 1.00 140 65.1
1.10 6 0.492 1.10 6 0.492
1.20 179 75.9 1.20 179 75.9
1.40 219 82.4 5 0.410 1.40 219 82.4 5 0.410
1.50 244 85.3 1.50 244 85.3
1.60 268 87.4  1.60 268 87.4
1.65 4 0.328 1.65 4 0.328
1.70 294 90.4 1.70 294 90.4
1.80 324 92.3 3 0.246 1.80 324 92.3 3 0.246
1.90 364 94.9 1.90 364 94.9
1.95 382 95.9  1.95 382 95.9
2.00 402 96.8 100 3 0.246 2.00 402 96.8 100 3 0.246
表 6 ΆΑ. Table 6 ΆΑ.
F2当量数 反応時間 生成率 F2流速 F2濃度 F2相対導入モル数F 2 equivalents Reaction time Production rate F 2 Flow rate F 2 Concentration F 2 Relative moles introduced
(eq) (min) ( %) (ml/min) ( %) (eq) (min) (%) (ml / min) (%)
0.00 0 0.00 100 5 0.4100.00 0 0.00 100 5 0.410
0.10 7 0.5740.10 7 0.574
0.20 42 17.9 10 0.8210.20 42 17.9 10 0.821
0.40 67 30.7 9 0.7390.40 67 30.7 9 0.739
0.60 95 42.7 8 0.6570.60 95 42.7 8 0.657
0.80 125 55.8 7 0.5740.80 125 55.8 7 0.574
1.00 159 65.1 1.00 159 65.1
1.10 6 0.492 1.10 6 0.492
1.20 196 74.1 1.20 196 74.1
1.40 236 81.4 5 0.410 1.40 236 81.4 5 0.410
1 ^ί) n 1 ^ ί) n
1.60 285 87.8 4 0.328 1.60 285 87.8 4 0.328
1.70 313 90.3 1.70 313 90.3
1.80 344 94.1 3 0.246 1.80 344 94.1 3 0.246
1.90 361 96.1 1.90 361 96.1
2.00 420 97.4 100 3 0.246 2.00 420 97.4 100 3 0.246
表 7 _5_ Table 7 _5_
F2当量数 反応時間 生成率 F2流速 F2濃度 F2相対導入モル数F 2 equivalents Reaction time Production rate F 2 Flow rate F 2 Concentration F 2 Relative moles introduced
(eq) (min) (% ) (ml/min) ( % ) (eq) (min) (%) (ml / min) (%)
0.00 0 0.00 190 10 0.9750.00 0 0.00 190 10 0.975
0.10 180 0.9230.10 180 0.923
0.20 21 17.1 0.20 21 17.1
0.30 170 0.872 0.30 170 0.872
0.40 44 30.4 0.40 44 30.4
0.45 160 0.821 0.45 160 0.821
0.55 150 0.7690.55 150 0.769
0.60 68 46.3 0.60 68 46.3
0.70 140 0.718 0.70 140 0.718
0.80 95 61.0 9 0.6460.80 95 61.0 9 0.646
0.90 130 0.6000.90 130 0.600
1.00 128 71.7 8 0.5331.00 128 71.7 8 0.533
1.05 120 0.4921.05 120 0.492
1.10 147 77.0 110 0.4511.10 147 77.0 110 0.451
1.20 169 82.6 7 0.3951.20 169 82.6 7 0.395
1.30 194 85.8 100 0.3591.30 194 85.8 100 0.359
1.40 223 90.1 6 0.3081.40 223 90.1 6 0.308
1.50 254 93.7 5 0.2561.50 254 93.7 5 0.256
1.60 292 96.9 80 0.2051.60 292 96.9 80 0.205
1.65 316 98.3 1.65 316 98.3
1.70 340 100 80 5 0.205 表 8 Μ . 1.70 340 100 80 5 0.205 Table 8.
Figure imgf000038_0001
表 9 i.
Figure imgf000038_0001
Table 9 i.
F。当量数 反応時間 生成率 F2流速 F2濃度 F2相対導入モル数F. Equivalent number Reaction time Production rate F 2 Flow rate F 2 Concentration F 2 Relative moles introduced
(eq) (miru ( % ) (ml/min ( % ) (eq) (miru (%) (ml / min (%)
0.00 0 0.00 190 10 0.9750.00 0 0.00 190 10 0.975
0.20 20 17.4 0.20 20 17.4
0.25 180 0.923 0.25 180 0.923
0.40 42 32.5 0.40 42 32.5
0.50 170 0.872 0.50 170 0.872
0.60 64 48.1 0.60 64 48.1
0.65 160 0.821 0.65 160 0.821
0.70 150 0.7690.70 150 0.769
0.80 89 63.8 140 0.7180.80 89 63.8 140 0.718
0.90 130 0.6670.90 130 0.667
1.00 118 77.0 1.00 118 77.0
1.06 120 0.616 1.06 120 0.616
1.12 110 0.5641.12 110 0.564
1.17 100 0.5131.17 100 0.513
1.20 152 86.8 90 0.4621.20 152 86.8 90 0.462
1.30 173 90.8 1.30 173 90.8
1.37 80 0.410 1.37 80 0.410
1.40 194 95.8 60 0.3081.40 194 95.8 60 0.308
1.47 50 0.2561.47 50 0.256
1.50 230 99.0 1.50 230 99.0
1.52 40 0.205 1.52 40 0.205
1.55 252 100 40 10 0.205 表 1 o ω_ 1.55 252 100 40 10 0.205 Table 1 o ω_
F2当量数 反応時間 生成率 F2流速 F2濃度 F2相対導 反応温度F 2 equivalents Reaction time Production rate F 2 Flow rate F 2 Concentration F 2 Relative induction Reaction temperature
(eq) (mm) ( % ) (ml/min) ( ) 入モル数 C ) (eq) (mm) (%) (ml / min) () Number of moles C)
0.00 0 0.00 180 10 1.00 60.00 0 0.00 180 10 1.00 6
0.10 170 0.949 0.10 170 0.949
0.14 160 0.893  0.14 160 0.893
0.20 23 17.6 150 0.837  0.20 23 17.6 150 0.837
0.24 140 0.781  0.24 140 0.781
0.30 9 0.703  0.30 9 0.703
0.35 130 0.653  0.35 130 0.653
0.40 54 30.5 8 0.580  0.40 54 30.5 8 0.580
0.50 120 0.536  0.50 120 0.536
0.60 91 46.8  0.60 91 46.8
0.70 110 0.491  0.70 110 0.491
0.80 135 63.8  0.80 135 63.8
0.85 7 0.430  0.85 7 0.430
1.01 186 70.6  1.01 186 70.6
1.02 100 0.391  1.02 100 0.391
1.10 210 75.2 6 0.335  1.10 210 75.2 6 0.335
1.20 242 79.3 5 0.279 12 1.20 242 79.3 5 0.279 12
1.30 281 84.5 1.30 281 84.5
1.40 319 89.1 20 1.40 319 89.1 20
1.50 358 93.2 271.50 358 93.2 27
1.60 397 96.5 100 5 0.279 27 表 1 1 1.60 397 96.5 100 5 0.279 27 Table 11
F2当量数 反応時間 生成率 F2流速 F2濃 J F2相対導入モル数 (eq) (min) ( % ) (ml/mm) ( % ) F 2 equivalents Reaction time Production rate F 2 Flow rate F 2 Concentrated JF 2 Relative moles introduced (eq) (min) (%) (ml / mm) (%)
0.00 0 0.00 190 10 0.9750.00 0 0.00 190 10 0.975
0.20 21 16.8 0.20 21 16.8
0.40 41 31.8  0.40 41 31.8
0.60 62 43.1  0.60 62 43.1
0.80 82 59.5  0.80 82 59.5
1.00 103 68.7  1.00 103 68.7
1.10 113 72.3  1.10 113 72.3
1.20 123 74.1  1.20 123 74.1
1.30 133 78.7  1.30 133 78.7
1.40 143 81.6  1.40 143 81.6
1.50 153 83.4  1.50 153 83.4
o * r  o * r
1.60 163 86.0  1.60 163 86.0
1.80 184 89.6  1.80 184 89.6
2.00 204 92.4  2.00 204 92.4
2.20 225 95.1  2.20 225 95.1
2.40 246 96.5  2.40 246 96.5
2.50 256 97.2 190 10 0.975 表 1 2 例 1 0 2.50 256 97.2 190 10 0.975 Table 1 2 Example 10
F2当量数 反応時間 生成率 F2流速 F2濃度 F2相対導入モル数 (eq) (min) ( % ) (ml/min) ( %) F 2 Equivalents Reaction time Production rate F 2 Flow rate F 2 Concentration F 2 Relative moles introduced (eq) (min) (%) (ml / min) (%)
0.00 0 0.00 100 10 0.8210.00 0 0.00 100 10 0.821
0.20 24 16.4 0.20 24 16.4
0.40 50 31.0  0.40 50 31.0
0.60 73 43.2  0.60 73 43.2
0.80 97 54.0  0.80 97 54.0
1.00 122 62.5  1.00 122 62.5
1.20 146 70.3  1.20 146 70.3
1.40 170 76.0  1.40 170 76.0
1.50 183 79.1  1.50 183 79.1
1.60 195 80.5  1.60 195 80.5
1.80 219 85.4  1.80 219 85.4
2.00 243 87.7  2.00 243 87.7
2.20 267 91.3  2.20 267 91.3
2.40 292 93.8  2.40 292 93.8
2.50 304 93.9 100 10 0.821 2.50 304 93.9 100 10 0.821
表 1 3 例 1 1 Table 13 Example 1 1
F2当量数 反応時間 生成率 F2流速 F2濃度 F2相対導入モル数 (eq) (min) (%) (ml/min) (%) F 2 Equivalents Reaction time Production rate F 2 Flow rate F 2 Concentration F 2 Relative moles introduced (eq) (min) (%) (ml / min) (%)
0.00 0 0.00 100 5 0.4100.00 0 0.00 100 5 0.410
0.20 48 16.1 0.20 48 16.1
0.40 97 30.6  0.40 97 30.6
0.60 148 45.9  0.60 148 45.9
0.80 198 59.2  0.80 198 59.2
1.00 243 68.8  1.00 243 68.8
9Q1 1 .1  9Q1 1.1
1.40 340 83.7  1.40 340 83.7
1.50 364 86.6  1.50 364 86.6
1.60 388 89.4  1.60 388 89.4
1.80 437 93.1  1.80 437 93.1
2.00 485 95.9 100 5 0.410 2.00 485 95.9 100 5 0.410
表 1 4 例 1 2 Table 14 Example 1 2
F2当量数 反応時間 生成率 F2流速 F2濃度 F2相対導入モル数 (eq) (min) ( %) (ml/min) ( % ) F 2 equivalents Reaction time Production rate F 2 Flow rate F 2 concentration F 2 Relative moles introduced (eq) (min) (%) (ml / min) (%)
0.00 0 0.00 190 10 0.9750.00 0 0.00 190 10 0.975
0.20 20 14.5 0.20 20 14.5
0.40 41 32.7  0.40 41 32.7
0.60 61 49.1  0.60 61 49.1
0.80 82 65.3  0.80 82 65.3
1.00 102 78.2  1.00 102 78.2
1.20 123 87.3  1.20 123 87.3
1 on 1 QQ no π  1 on 1 QQ no π
1.40 143 96.0  1.40 143 96.0
1.50 154 97.7  1.50 154 97.7
1.55 159 98.7  1.55 159 98.7
1.60 164 99.3  1.60 164 99.3
1.70 174 100 190 10 0.975 1.70 174 100 190 10 0.975
表 1 5 例 1 Table 15 Example 1
F2当量数 反応時間 生成率 F2流速 F2濃度 F2相対導入モル数 (eq) (min) (%) (ml/min) ( %) F 2 Equivalents Reaction time Production rate F 2 Flow rate F 2 Concentration F 2 Relative moles introduced (eq) (min) (%) (ml / min) (%)
0.00 0 0.00 200 10 1.030.00 0 0.00 200 10 1.03
0.20 20 8.40 160 0.8210.20 20 8.40 160 0.821
0.40 44 19.9 0.40 44 19.9
0.60 69 32.3  0.60 69 32.3
0.80 93 44.9  0.80 93 44.9
1.00 119 59.8 150 0.769 1.00 119 59.8 150 0.769
1.20 154 72.5 1.20 154 72.5
1.30 140 0.718  1.30 140 0.718
1 Q  1 Q
丄 o丄 1  丄 o 丄 1
1.50 195 88.4  1.50 195 88.4
1.64 213 93.9  1.64 213 93.9
1.70 223 96.0 110 0.564 1.70 223 96.0 110 0.564
1.80 242 98.7 70 0.3591.80 242 98.7 70 0.359
1.86 258 100 70 10 0.359 1.86 258 100 70 10 0.359

Claims

請求の範囲 The scope of the claims
1 . 下記一般式 ( 1 ) で表されるジカルボニル化合物をフッ素 によりフッ素化して、 下記一般式 ( 2 ) で表される含フッ素ジカルボ二 ル化合物を製造するに際し、 前記ジカルボニル化合物に対する前記フッ 素ガスの相対的なモル数を変化させながら前記フッ素化の少なくとも一 部を行う、 含フッ素ジカルボニル化合物の製造方法。 1. When a dicarbonyl compound represented by the following general formula (1) is fluorinated with fluorine to produce a fluorine-containing dicarbonate compound represented by the following general formula (2), A method for producing a fluorinated dicarbonyl compound, wherein at least a part of the fluorination is performed while changing the relative number of moles of the raw gas.
一般式 ( 1 ): General formula (1):
R1 CO CHR2 COR3 R 1 CO CHR 2 COR 3
(但し、 この一般式 ( 1 ) 中、 Ri は水素原子、 置換若しくは未置換の アルキル基、 又はァリール基であり、 R2 は水素原子、 ハロゲン原子、 置換若しくは未置換のアルキル基、 又はァリール基であり、 R3 は水素 原子、 置換若しくは未置換のアルキル基、 ァリール基、 アルコキシ基、 又はァリールォキシ基である。 なお、 R1 、 R2 及び R3 の少なくとも 2つが一体となって、 ヘテロ原子の介在若しくは非介在で環状構造の一 部を形成してもよい。) (However, in this general formula (1), Ri is a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, or an aryl group, and R 2 is a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, or an aryl group. And R 3 is a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, or an aryloxy group, wherein at least two of R 1 , R 2 and R 3 are taken together to form a heteroatom A part of the annular structure may be formed with or without interposition of a ring structure.)
一般式 ( 2):General formula (2):
Figure imgf000046_0001
Figure imgf000046_0001
(但し、 この一般式 ( 2) 中、 R1 、 R2 及び R3 は前記したものと同 意義である。) (In the general formula (2), R 1 , R 2 and R 3 have the same meanings as described above.)
2. 原料の前記ジカルボニル化合物のモル数を 100としたと きに 1分間あたりの前記フッ素の相対的な導入モル数が 0. 000 1か ら 2. 0の範囲内となるように、 前記フッ素の流速又は/及び濃度をコ ントロールして、 前記フッ素化の少なくとも一部を行う、 請求の範囲の 第 1項に記載した含フッ素ジカルボニル化合物の製造方法。 2. Assuming that the number of moles of the dicarbonyl compound as the raw material is 100, the relative number of moles of fluorine introduced per minute is in the range of 0.0001 to 2.0. The method for producing a fluorinated dicarbonyl compound according to claim 1, wherein the fluorination is performed at least in part by controlling the flow rate and / or concentration of fluorine.
3 . 前記フッ素ガスの流速を段階的に又は/及び連続的に変化 させながら、 前記フッ素化の少なくとも一部を行う、 請求の範囲の第 1 項に記載した含フッ素ジカルボニル化合物の製造方法。 3. The method for producing a fluorinated dicarbonyl compound according to claim 1, wherein the fluorination is performed at least partially while changing the flow rate of the fluorine gas stepwise or / and continuously.
4 . 前記フッ素ガスの流速を段階的に又は/及び連続的に減少 させる、 請求の範囲の第 3項に記載した含フッ素ジカルボニル化合物の 製造方法。  4. The method for producing a fluorinated dicarbonyl compound according to claim 3, wherein the flow rate of the fluorine gas is reduced stepwise or / and continuously.
5 . 前記フッ素ガスの流速を段階的に又は/及び連続的に増加 させ、 その後、 減少させる、 請求の範囲の第 3項に記載した含フッ素ジ カルボニル化合物の製造方法。  5. The method for producing a fluorinated dicarbonyl compound according to claim 3, wherein the flow rate of the fluorine gas is increased stepwise or / and continuously, and then decreased.
6 . 前記フッ素ガスの濃度を段階的に又は/及び連続的に変化 させながら、 前記フッ素化の少なくとも一部を行う、 請求の範囲の第 1 項に記載した含フッ素ジカルボニル化合物の製造方法。  6. The method for producing a fluorinated dicarbonyl compound according to claim 1, wherein the fluorination is performed at least partially while changing the concentration of the fluorine gas stepwise or / and continuously.
7 . 前記フッ素ガスの濃度を段階的に又はノ及び連続的に減少 させる、 請求の範囲の第 6項に記載した含フッ素ジカルボニル化合物の 製造方法。  7. The method for producing a fluorine-containing dicarbonyl compound according to claim 6, wherein the concentration of the fluorine gas is reduced stepwise or continuously and continuously.
8 . 前記フッ素ガスの濃度を段階的に又はノ及び連続的に増加 させ、 その後、 減少させる、 請求の範囲の第 6項に記載した含フッ素ジ カルボニル化合物の製造方法。  8. The method for producing a fluorine-containing dicarbonyl compound according to claim 6, wherein the concentration of the fluorine gas is increased stepwise or continuously and continuously, and thereafter reduced.
9 . 前記フッ素ガスの流速及び濃度をそれそれ、 段階的に又は /及び連続的に変化させながら、前記フッ素化の少なくとも一部を行う、 請求の範囲の第 1項に記載した含フッ素ジカルボニル化合物の製造方法 <  9. The fluorinated dicarbonyl according to claim 1, wherein at least a part of the fluorination is performed while changing the flow rate and the concentration of the fluorine gas stepwise or / and continuously. Method for producing compound <
1 0 . 前記フッ素ガスの流速及び濃度をそれそれ、 段階的に又 は/及び連続的に減少させる、 請求の範囲の第 9項に記載した含フッ素 ジカルボニル化合物の製造方法。  10. The method for producing a fluorine-containing dicarbonyl compound according to claim 9, wherein the flow rate and the concentration of the fluorine gas are reduced stepwise or / and continuously.
1 1 . 前記フッ素ガスの流速を段階的に又は/及び連続的に減 少させ、 かつ、 前記フッ素ガスの濃度を段階的に又は/及び連続的に増 加させ、 その後、 減少させる、 請求の範囲の第 9項に記載した含フッ素 ジカルボニル化合物の製造方法。 11 1. Reduce the flow rate of the fluorine gas stepwise or / and continuously 10. The method for producing a fluorinated dicarbonyl compound according to claim 9, wherein the concentration is decreased and / or the concentration of the fluorine gas is increased stepwise or / and continuously, and thereafter decreased.
1 2 . 前記フッ素ガスの流速を段階的に又は/及び連続的に増 加させ、 その後、 減少させ、 かつ、 前記フッ素ガスの濃度を段階的に又 は/及び連続的に減少させる、 請求の範囲の第 9項に記載した含フッ素 ジカルボニル化合物の製造方法。  12. The flow rate of the fluorine gas is increased stepwise or / and continuously, and thereafter decreased, and the concentration of the fluorine gas is reduced stepwise / and / or continuously. 10. The method for producing a fluorinated dicarbonyl compound according to item 9 in the range.
1 3 . 前記フッ素ガスの流速及び濃度をそれそれ、 段階的に又 は/及び連続的に増加させ、 その後、 減少させる、 請求の範囲の第 9項 に記載した含フッ素ジカルボニル化合物の製造方法。  13. The method for producing a fluorine-containing dicarbonyl compound according to claim 9, wherein the flow rate and the concentration of the fluorine gas are increased stepwise or / and continuously, and then reduced. .
1 4 . 反応溶媒としてァセ トニトリルとギ酸との混合溶媒を用 いる、 請求の範囲の第 1項〜第 1 3項のいずれか 1項に記載した含フッ 素ジカルボニル化合物の製造方法。  14. The process for producing a fluorine-containing dicarbonyl compound according to any one of claims 1 to 13, wherein a mixed solvent of acetonitrile and formic acid is used as a reaction solvent.
1 5 . 原料の前記ジカルボニル化合物と前記フッ素ガスを同時 に連続式反応装置に導入することにより、 前記フッ素化の少なくとも一 部を連続的に行う、 請求の範囲の第 1項に記載した含フッ素ジカルボ二 ル化合物の製造方法。  15. The method according to claim 1, wherein at least a part of the fluorination is continuously performed by simultaneously introducing the raw material dicarbonyl compound and the fluorine gas into a continuous reaction apparatus. A method for producing a fluorine dicarbonate compound.
PCT/JP2000/007393 1999-10-26 2000-10-23 Process for the production of fluorodicarbonyl compounds WO2001030740A1 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11/303945 1999-10-26
JP30394599 1999-10-26

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2001030740A1 true WO2001030740A1 (en) 2001-05-03

Family

ID=17927190

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2000/007393 WO2001030740A1 (en) 1999-10-26 2000-10-23 Process for the production of fluorodicarbonyl compounds

Country Status (1)

Country Link
WO (1) WO2001030740A1 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002051789A1 (en) * 2000-12-26 2002-07-04 Tosoh F-Tech, Inc. Processes for preparing 2-fluoro-3-oxoalkylcarboxylic acid esters
JP2017197511A (en) * 2016-04-28 2017-11-02 三和ペイント工業株式会社Samhwa Paints Ind.Co.,Ltd. Method for producing difluoro alcohol

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1995014646A1 (en) * 1993-11-20 1995-06-01 Bnfl Fluorochemicals Ltd The preparation of dicarbonyls
US5569778A (en) * 1992-10-30 1996-10-29 Daikin Industries Ltd. Process for preparing fluorine-containing dicarbonyl compound
EP0891962A1 (en) * 1996-03-26 1999-01-20 F-Tech Inc. Process for the preparation of fluorinated dicarbonyl compounds

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5569778A (en) * 1992-10-30 1996-10-29 Daikin Industries Ltd. Process for preparing fluorine-containing dicarbonyl compound
WO1995014646A1 (en) * 1993-11-20 1995-06-01 Bnfl Fluorochemicals Ltd The preparation of dicarbonyls
EP0891962A1 (en) * 1996-03-26 1999-01-20 F-Tech Inc. Process for the preparation of fluorinated dicarbonyl compounds

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002051789A1 (en) * 2000-12-26 2002-07-04 Tosoh F-Tech, Inc. Processes for preparing 2-fluoro-3-oxoalkylcarboxylic acid esters
US7019162B2 (en) 2000-12-26 2006-03-28 Tosoh F-Tech, Inc. Process for preparing 2-fluoro-3-oxoalkylcarboxylic acid ester
JP2017197511A (en) * 2016-04-28 2017-11-02 三和ペイント工業株式会社Samhwa Paints Ind.Co.,Ltd. Method for producing difluoro alcohol

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101676054B1 (en) Processes for preparing poly(pentafluorosulfanyl)aromatic compounds
JP5426880B2 (en) Process for producing 5-fluoro-1,3-dialkyl-1H-pyrazole-4-carbonyl fluoride
JP3220986B2 (en) Method for producing fluorine-containing dicarbonyl compound
EP1344772B1 (en) Arylbis (perfluoroalkylsulfonyl) methane, metal salt of the same, and processes for producing these
JP2019081748A (en) Method for producing halogen compound
EP0253836A1 (en) Preparation of fluoroaromatic compounds in dispersion of potassium fluoride.
WO2001030740A1 (en) Process for the production of fluorodicarbonyl compounds
JP3817605B2 (en) Method for producing fluorine-containing dicarbonyl compound
JP2006219419A (en) Method for producing perfluorovinyl ether monomer
US4849552A (en) Preparation of fluoroaromatic compounds in dispersion of potassium fluoride
CN114133349B (en) Preparation method of 3, 4-disubstituted pyrrole derivative
JP5853771B2 (en) Method for producing α, α-difluoroaromatic compound
JP3459892B2 (en) Fluorinated surfactant compound and method for producing the same
JP3918883B2 (en) Method for producing benzoyl chlorides
JPS6114144B2 (en)
JP5853772B2 (en) Method for producing α, α-difluoroaromatic compound
JPH11343287A (en) Production of isochroman-3-one
JP3641836B2 (en) (Perfluoroalkoxy) biphenyldiazonium compound, production intermediate thereof, and perfluoroalkylation method
JP5127114B2 (en) CF3-CHF-CF2-NR2 synthesis method
JP4314799B2 (en) Process for producing 2-naphthol derivative and its intermediate
CN114874061B (en) Preparation method of prasugrel intermediate and analogues thereof
JP4792572B2 (en) Method for producing head-to-tail ordered polyurethane
JP4356296B2 (en) Method for producing 2-naphthol derivative
JP2001122847A (en) Production of binaphthyl derivative
JP4273383B2 (en) Method for producing fluorine-containing aromatic alcohols

Legal Events

Date Code Title Description
AK Designated states

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): JP US

AL Designated countries for regional patents

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): AT BE CH CY DE DK ES FI FR GB GR IE IT LU MC NL PT SE

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application
DFPE Request for preliminary examination filed prior to expiration of 19th month from priority date (pct application filed before 20040101)
122 Ep: pct application non-entry in european phase