WO1999065010A1 - Display device - Google Patents

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WO1999065010A1
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Ritsuo Inaba
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Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.
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    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1343Electrodes
    • G02F1/134309Electrodes characterised by their geometrical arrangement
    • G02F1/134336Matrix
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10OLED displays
    • H10K59/12Active-matrix OLED [AMOLED] displays

Abstract

A display device (1) comprises a first substrate (10), a second substrate (15) opposed to the first substrate (10), and a functional material layer (12) between the first substrate (10) and the second substrate (15). A plurality of signal electrodes (11) connected with a common signal line are formed on the first substrate (10). Scanning electrodes (13) are formed on the second substrate (15) in such a manner that they are opposed to the signal electrodes (11).

Description

明 細 書 ディスプレイデバイス 技術分野  Description Display device Technical field
本発明は、 ディスプレイデバイスに関し、 特に、 大面積または高精細な画面を 実現することに適したディスプレイデバイスに関する。 背景技術  The present invention relates to a display device, and more particularly to a display device suitable for realizing a large-area or high-definition screen. Background art
平面型のディスプレイを走査する方法としては、 点走査とライン走查とが知ら れている。  Point scanning and line scanning are known as methods for scanning a flat display.
点走査は、 平面を点で走査する方法である。 例えば、 ブラウン管のように発光 点を走査することにより、 その残光を利用して平面全体を発光させることができ る。 ライン走査は、 平面を 1ラインごとに走査する方法である。 例えば、 ある列 に配列された複数の発光素子を発光させた後に次の列に配列された複数の発光素 子を発光させるという動作を順次繰り返すことにより、 平面全体を発光させるこ とができる。  Point scanning is a method of scanning a plane with points. For example, by scanning a light emitting point like a CRT, the afterglow can be used to emit light over the entire plane. Line scanning is a method of scanning a plane line by line. For example, by sequentially repeating an operation of causing a plurality of light emitting elements arranged in a certain row to emit light and then causing a plurality of light emitting elements arranged in the next row to emit light, the entire plane can be made to emit light.
大面積または高精細な画面を実現するためには、 発光領域を広くしたり、 発光 線の密度を増加させたりする必要があった。 そのためには、 点走査またはライン 走査のいずれの場合でも発光部のエネルギーを増加させる必要があった。 しかし、 発光部のエネルギーを増加させることは、 熱の発生、 信号のリーク、 電圧の増加、 発光の飽和などという種々の問題を引き起こす。  In order to realize a large-area or high-definition screen, it was necessary to increase the light-emitting area and increase the density of light-emitting lines. For that purpose, it was necessary to increase the energy of the light emitting part in either the point scan or the line scan. However, increasing the energy of the light emitting section causes various problems such as heat generation, signal leakage, voltage increase, and light emission saturation.
また、 大面積または高精細な画面を実現するためには、 点走査またはライン走 査のいずれの場合でも走査線の数を増加させる必要があった。 しかし、 走査線の 数を増加させることは、 表示の応答速度が遅くなるという問題を引き起こす。 従来、 単純マトリックス構造を有するディスプレイデバイスと、 アクティブマ トリックス構造を有するディスプレイデバイスとが知られている。 現在の技術で は、 以下の理由から、 単純マトリックス構造のディスプレイデバイスを用いて大 面積または高精細な画面を実現することは限界があるとされている。 In addition, in order to realize a large-area or high-definition screen, it was necessary to increase the number of scanning lines in either point scanning or line scanning. However, increasing the number of scanning lines causes a problem in that the response speed of the display becomes slow. Conventionally, a display device having a simple matrix structure and an active Display devices having a tricks structure are known. With the current technology, it is said that there is a limit in realizing a large-area or high-definition screen using a display device with a simple matrix structure for the following reasons.
1 . ディスプレイデバイスの発光面積の限界  1. Limit of light emitting area of display device
2 . 発光サイズと素子密度の限界  2. Limits of emission size and device density
3 . 発光輝度  3. Luminance
4 . 発光効率  4. Luminous efficiency
5 . 画素間のクロス! ク  5. Cross between pixels! K
このため、 大面積または高精細な画面を実現するディスプレイデバイスとして は、 アクティブマトリックス構造のディスプレイデバイスが主流となっている。 しかし、 アクティブマトリックス構造のディスプレイデバイスは、 画素ごとに スィツチング素子やサンプルホールド素子などの素子を必要とするため、 単純マ トリックス構造のディスプレイデバイスに比べて構造が複雑であり、 コス卜が増 大するという問題を有している。  For this reason, active matrix display devices have become the mainstream display devices for realizing large-area or high-definition screens. However, an active matrix display device requires elements such as a switching element and a sample-and-hold element for each pixel, so the structure is more complicated than a simple matrix display device, and costs increase. There is a problem that.
本発明は、 大面積または高精細な画面を実現するディスプレイデバイスを提供 することを目的とする。 特に、 本発明は、 単純マトリックス構造を利用して、 低 コス卜で大面積または高精細な画面を実現するディスプレイデバイスを提供する ことを目的とする。 発明の開示  An object of the present invention is to provide a display device that realizes a large-area or high-definition screen. In particular, an object of the present invention is to provide a display device that realizes a large-area or high-definition screen at low cost by using a simple matrix structure. Disclosure of the invention
本発明のディスプレイデバイスは、 第 1基板と、 前記第 1基板に対向する第 2 基板と、 前記第 1基板と前記第 2基板との間に設けられた機能材料層とを備え、 共通の信号電圧によつて駆動される複数の信号電極が前記第 1基板上に形成され ており、 走査電極が前記複数の信号電極に対向するように前記第 2基板上に形成 されており、 これにより、 上記目的が達成される。  The display device of the present invention includes a first substrate, a second substrate facing the first substrate, and a functional material layer provided between the first substrate and the second substrate, and a common signal. A plurality of signal electrodes driven by a voltage are formed on the first substrate, and a scan electrode is formed on the second substrate so as to face the plurality of signal electrodes. The above object is achieved.
前記第 1基板は透明基板であり、 前記信号電極は透明電極であってもよい。 前記第 2基板は透明基板であり、 前記走査電極は透明電極であってもよい。 本発明の他のディスプレイデバイスは、 第 1基板と、 前記第 1基板に対向する 第 2基板と、 前記第 1基板と前記第 2基板との間に設けられた機能材料層とを備 え、 複数の信号電極群が前記第 1基板上に形成され、 前記複数の信号電極群のそ れぞれは所定の第 1の方向に配列された複数の信号電極を含み、 複数の走査電極 群が前記複数の信号電極群に対向するように前記第 2基板上に形成され、 前記複 数の走査電極群のそれぞれは所定の第 2の方向に延びる複数の走査電極を含み、 前記複数の走査電極群から選択された複数の走査電極に走査電圧が印加されると ともに、 前記複数の信号電極群のうちの 1つに含まれる前記複数の信号電極に信 号電圧が印加される。 これにより、 上記目的が達成される。 The first substrate may be a transparent substrate, and the signal electrode may be a transparent electrode. The second substrate may be a transparent substrate, and the scanning electrode may be a transparent electrode. Another display device according to the present invention includes a first substrate, a second substrate facing the first substrate, and a functional material layer provided between the first substrate and the second substrate. A plurality of signal electrode groups are formed on the first substrate, each of the plurality of signal electrode groups includes a plurality of signal electrodes arranged in a predetermined first direction, and a plurality of scan electrode groups are provided. The plurality of scan electrode groups are formed on the second substrate so as to face the plurality of signal electrode groups, each of the plurality of scan electrode groups includes a plurality of scan electrodes extending in a predetermined second direction, and the plurality of scan electrodes A scan voltage is applied to the plurality of scan electrodes selected from the group, and a signal voltage is applied to the plurality of signal electrodes included in one of the plurality of signal electrode groups. Thereby, the above object is achieved.
前記第 1基板は透明基板であり、 前記信号電極は透明電極であってもよい。 前記第 2基板は透明基板であり、 前記走査電極は透明電極であつてもよい。 前記ディスプレイデバイスは、 前記第 1基板上に形成された複数の信号線をさ らに含み、 前記複数の信号線のうちの 1つは、 前記複数の信号電極群のうちの 1 つに含まれる前記複数の信号電極に接続されていてもよい。  The first substrate may be a transparent substrate, and the signal electrode may be a transparent electrode. The second substrate may be a transparent substrate, and the scanning electrode may be a transparent electrode. The display device further includes a plurality of signal lines formed on the first substrate, and one of the plurality of signal lines is included in one of the plurality of signal electrode groups. It may be connected to the plurality of signal electrodes.
前記複数の信号線は、 隣接する信号電極の間に設けられていてもよい。  The plurality of signal lines may be provided between adjacent signal electrodes.
前記複数の走査電極のうち隣接する走査電極の隙間に対応する前記第 1基板上 の位置にパッドが形成され、 前記複数の信号線のうちの 1つは、 前記パッドを介 して取り出されてもよい。  A pad is formed at a position on the first substrate corresponding to a gap between adjacent scan electrodes of the plurality of scan electrodes, and one of the plurality of signal lines is taken out through the pad. Is also good.
前記信号電極の面抵抗は、 1 0 0ォ一厶 平方センチメートルから 1 0キロォ. ーム Z平方センチメ一トルであってもよい。  The sheet resistance of the signal electrode may be in the range of 100 km 2 to 10 km 2 Z cm 2.
前記信号電極は、 酸化スズまたは酸化亜鉛の単体材料あるいはこれらの混合材 料からなっていてもよい。  The signal electrode may be made of a single material of tin oxide or zinc oxide or a mixed material thereof.
前記信号線は、 アルミニウムまたは銅を含む二元合金材料からなっていてもよ い。  The signal line may be made of a binary alloy material containing aluminum or copper.
本発明の他のディスプレイデバイスは、 多層構造を有する基板と、 前記基板の 上に形成された複数の第 1電極と、 前記複数の第 1電極の上に形成された機能材 料層と、 前記機能材料層の上に形成された複数の透明な第 2電極とを備え、 前記 第 1電極および前記第 2電極のそれぞれが、 前記多層構造を有する前記基板内に 設けられた配線に電気的に接続されている。 これにより、 上記目的が達成される。 本発明の他のディスプレイデバイスは、 第 1面と前記第 1面に対向する第 2面 とを有する基板と、 前記基板の前記第 1面上に形成された複数の第 1電極と、 前 記複数の第 1電極の上に形成された機能材料層と、 前記機能材料層の上に形成さ れた複数の透明な第 2電極とを備え、 前記複数の第 1電極に印加される電圧と前 記複数の第 2電極に印加される電圧とがいずれも前記基板の前記第 2面から供給 される。 これにより、 上記目的が達成される。 Another display device of the present invention includes: a substrate having a multilayer structure; A plurality of first electrodes formed thereon, a functional material layer formed on the plurality of first electrodes, and a plurality of transparent second electrodes formed on the functional material layer Each of the first electrode and the second electrode is electrically connected to a wiring provided in the substrate having the multilayer structure. Thereby, the above object is achieved. Another display device of the present invention includes: a substrate having a first surface and a second surface facing the first surface; a plurality of first electrodes formed on the first surface of the substrate; A functional material layer formed on the plurality of first electrodes, and a plurality of transparent second electrodes formed on the functional material layer; and a voltage applied to the plurality of first electrodes. All of the voltages applied to the plurality of second electrodes are supplied from the second surface of the substrate. Thereby, the above object is achieved.
前記複数の第 1電極と前記複数の第 2電極とを駆動する手段が前記基板の前記 第 2面に設けられていてもよい。  Means for driving the plurality of first electrodes and the plurality of second electrodes may be provided on the second surface of the substrate.
前記機能材料層は、 液晶層であってもよい。  The functional material layer may be a liquid crystal layer.
前記機能材料層は、 有機エレクトロルミネッセンス発光層であってもよい。 前記機能材料層は、 無機エレクト口ルミネッセンス発光層であってもよい。 前記基板は、 可撓性を有する材料からなっていてもよい。  The functional material layer may be an organic electroluminescence light emitting layer. The functional material layer may be an inorganic electorescence luminescent layer. The substrate may be made of a flexible material.
前記基板の前記第 2面から前記第 2電極に至る前記ディスプレイデバイスの厚 さが、 5 0ミクロンから 1 5 0ミクロンであってもよい。 図面の簡単な説明  The thickness of the display device from the second surface of the substrate to the second electrode may be between 50 microns and 150 microns. BRIEF DESCRIPTION OF THE FIGURES
図 1は、 本発明の実施形態 1のディスプレイデバイス 1の構造を示す図である。 図 2は、 図 1に示される第 1基板 1 0の平面図である。  FIG. 1 is a diagram illustrating a structure of a display device 1 according to a first embodiment of the present invention. FIG. 2 is a plan view of the first substrate 10 shown in FIG.
図 3は、 図 1に示される第 2基板 1 5の平面図である。  FIG. 3 is a plan view of the second substrate 15 shown in FIG.
図 4は、 第 1基板 1 0上に設けられた信号線の改良された配置を示す。  FIG. 4 shows an improved arrangement of the signal lines provided on the first substrate 10.
図 5は、 第 1基板 1 0上に形成される複数の信号電極 1 1の配置を示す平面図 である。 図 6は、 本発明の実施形態 1のディスプレイデバイス 1 aの構造を示す図であ る。 FIG. 5 is a plan view showing the arrangement of a plurality of signal electrodes 11 formed on the first substrate 10. FIG. 6 is a diagram showing a structure of the display device 1a according to the first embodiment of the present invention.
図 7は、 本発明の実施形態 2のディスプレイデバイス 2の構造を示す図である。 図 8は、 図 7に示される A— B線に沿つたディスブレイデバイス 2の断面を示 す図である。  FIG. 7 is a diagram illustrating a structure of the display device 2 according to the second embodiment of the present invention. FIG. 8 is a diagram showing a cross section of the display device 2 along the line AB shown in FIG.
図 9は、 図 7に示される基板 2 1 1の裏面の構造を示す図である。  FIG. 9 is a diagram showing the structure of the back surface of the substrate 211 shown in FIG.
図 1 0は、 基板 2 1 1の多層構造の例を示す図である。  FIG. 10 is a diagram showing an example of the multilayer structure of the substrate 211.
図 1 1は、 基板 2 1 1の裏面にアクティブマトリックス素子を形成した例を示 す図である。  FIG. 11 is a diagram showing an example in which an active matrix element is formed on the back surface of the substrate 211. FIG.
図 1 2は、 図 1 1に示される回路素子の回路構成を示す図である。 発明を実施するための最良の形態  FIG. 12 is a diagram showing a circuit configuration of the circuit element shown in FIG. BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
(実施形態 1 )  (Embodiment 1)
図 1は、 本発明の実施形態 1のディスプレイデバイス 1の構造を示す。  FIG. 1 shows the structure of the display device 1 according to the first embodiment of the present invention.
ディスプレイデバイス 1は、 第 1基板 1 0と、 第 1基板 1 0に対向する第 2基 板 1 5と、 第 1基板 1 0と第 2基板 1 5との間に設けられた機能材料層 1 2とを 含む。 ディスプレイデバイス 1は、 単純マトリックス構造を有している。  The display device 1 includes a first substrate 10, a second substrate 15 facing the first substrate 10, and a functional material layer 1 provided between the first substrate 10 and the second substrate 15. Including 2. The display device 1 has a simple matrix structure.
複数の信号電極 1 1が第 1基板 1 0上に形成されている。 複数の走査電極 1 3 が複数の信号電極 1 1に対向するように第 2基板 1 5上に形成されている。 信号 電極 1 1には信号電圧が印加される。 走査電極 1 3には走査電圧が印加される。 信号電圧が印加されている信号電極 1 1と走査電圧が印加されている走査電極 1 3とに対応する位置にある機能材料層 1 2の画素領域が駆動される。  A plurality of signal electrodes 11 are formed on the first substrate 10. The plurality of scanning electrodes 13 are formed on the second substrate 15 so as to face the plurality of signal electrodes 11. A signal voltage is applied to the signal electrode 11. A scanning voltage is applied to the scanning electrode 13. The pixel region of the functional material layer 12 at a position corresponding to the signal electrode 11 to which the signal voltage is applied and the scan electrode 13 to which the scanning voltage is applied is driven.
第 1基板 1 0は透明基板であり、 かつ、 複数の信号電極 1 1のそれぞれは透明 電極であり得る。 この場合には、 ディスプレイデバイス 1からの出力光は、 透明 な信号電極 1 1を介して透明な第 1基板 1 0から出力される。 あるいは、 第 2基 板 1 5が透明基板であり、 かつ、 複数の走查電極 1 3のそれぞれが透明電極であ つてもよい。 この場合には、 ディスプレイデバイス 1からの出力光は、 透明な走 査電極 1 3を介して透明な第 2基板 1 5から出力される。 The first substrate 10 may be a transparent substrate, and each of the plurality of signal electrodes 11 may be a transparent electrode. In this case, the output light from the display device 1 is output from the transparent first substrate 10 via the transparent signal electrode 11. Alternatively, the second substrate 15 is a transparent substrate, and each of the plurality of scanning electrodes 13 is a transparent electrode. You can use it. In this case, the output light from the display device 1 is output from the transparent second substrate 15 via the transparent scanning electrode 13.
透明基板は, 例えば、 ガラス基板またはブラスティック基板である。 透明基板 に対向する対向基板は、 電極保持材料からなる。  The transparent substrate is, for example, a glass substrate or a plastic substrate. The opposite substrate facing the transparent substrate is made of an electrode holding material.
複数の信号電極 1 1が第 1基板 1 0上に形成された信号線 1 6— 1に電気的に 接続されている。 同様にして、 複数の信号電極 1 1が信号線 1 6 - 2、 1 6— 3、 1 6 - 4 , · · -に電気的に接続されている。 信号線 1 6— 1 、 1 6— 2、 1 6 — 3、 1 6 - 4 , · · ·のそれぞれは、 複数の信号電極 1 1に信号電圧を印加す るために使用される。  The plurality of signal electrodes 11 are electrically connected to the signal lines 16-1 formed on the first substrate 10. Similarly, a plurality of signal electrodes 11 are electrically connected to signal lines 16-2, 16-3, 16-4,. Each of the signal lines 16-1, 16-2, 16-3, 16-4,... Is used to apply a signal voltage to the plurality of signal electrodes 11.
機能材料層 1 2は、 様々な材料によって構成され得る。 機能材料層 1 2の材料 を変更することによって、 本発明を任意のタイプのディスプレイデバイスに適用 することができる。 例えば、 本発明を液晶ディスプレイデバイスに適用する場合 には、 機能材料層 1 2として液晶層を使用すればよい。 本発明を有機発光デバィ スに適用する場合には、 機能材料層 1 2として有機エレクトロルミネッセンス発 光層を使用すればよい。 本発明を無機発光デバイスに適用する場合には、 機能材 料層 1 2として無機エレクト口ルミネッセンス発光層を使用すればよい。  The functional material layer 12 can be made of various materials. The present invention can be applied to any type of display device by changing the material of the functional material layer 12. For example, when the present invention is applied to a liquid crystal display device, a liquid crystal layer may be used as the functional material layer 12. When the present invention is applied to an organic light emitting device, an organic electroluminescent light emitting layer may be used as the functional material layer 12. When the present invention is applied to an inorganic light emitting device, an inorganic electorescence luminescent layer may be used as the functional material layer 12.
なお、 ディスプレイデバイス 1が液晶ディスプレイデバイスである場合には、 偏向フィル夕やカラーフィル夕などの構成がさらに必要であるが、 図 1ではこれ らの構成は省略されている。  Note that, when the display device 1 is a liquid crystal display device, further configurations such as a deflection filter and a color filter are necessary, but these configurations are omitted in FIG.
図 2は、 第 1基板 1 0の平面図である。 第 1基板 1 0上には複数の信号電極 1 . FIG. 2 is a plan view of the first substrate 10. A plurality of signal electrodes 1.
1が配列されている。 複数の信号電極 1 1のそれぞれは、 画素に対応する大きさ を有している。 例えば、 信号電極 1 1の大きさは画素の大きさに一致していても よいし、 画素の大きさより大きくてもよい。 画素の大きさは、 例えば、 1 0 0ミ クロン角である。 また、 複数の信号電極 1 1のそれぞれは、 画素に対応する位置 に配置されている。 1 is arranged. Each of the plurality of signal electrodes 11 has a size corresponding to a pixel. For example, the size of the signal electrode 11 may match the size of the pixel, or may be larger than the size of the pixel. The size of the pixel is, for example, 100 micron angles. Each of the plurality of signal electrodes 11 is arranged at a position corresponding to a pixel.
第 1基板 1 0上に形成されている複数の信号電極 1 1は、 複数の信号電極群に 区分されている。 図 2に示される例では、 複数の信号電極 11は 3つの信号電極 群 l l a、 1 1 b、 1 1 cに区分されている。 しかし、 信号電極群の数は 3に限 定されない。 複数の信号電極 1 1は、 任意の数の信号電極群に区分され得る。 信号電極群 1 1 aは、 X方向に配列された複数の信号電極 1 1一 1 1 (例えば、 64個の信号電極 1 1— 1 1) と、 X方向に配列された複数の信号電極 1 1— 1The plurality of signal electrodes 11 formed on the first substrate 10 form a plurality of signal electrode groups. It is classified. In the example shown in FIG. 2, the plurality of signal electrodes 11 are divided into three signal electrode groups lla, 11b, and 11c. However, the number of signal electrode groups is not limited to three. The plurality of signal electrodes 11 can be divided into an arbitrary number of signal electrode groups. The signal electrode group 11a includes a plurality of signal electrodes 11 arranged in the X direction (for example, 64 signal electrodes 11-1-11) and a plurality of signal electrodes 1 arranged in the X direction. 1— 1
2 (例えば、 64個の信号電極 1 1一 1 2) と、 X方向に配列された複数の信号 電極 1 1一 13 (例えば、 64個の信号電極 1 1— 13) と、 X方向に配列され た複数の信号電極 1 1一 14 (例えば、 64個の信号電極 1 1一 14) とを含む。 複数の信号電極 1 1— 1 1〜 1 1一 14は、 Y方向に隣接して配列される。 2 (for example, 64 signal electrodes 1 1 1 1 2) and a plurality of signal electrodes 1 1 1 13 arranged in the X direction (for example, 64 signal electrodes 1 1 13), and an array in the X direction A plurality of signal electrodes 111-114 (for example, 64 signal electrodes 111-114). The plurality of signal electrodes 11-11 to 11-14 are arranged adjacent to each other in the Y direction.
なお、 X方向は、 図 2に示される矢印 Xの方向である。 Y方向は、 図 2に示さ れてる矢印 Yの方向である。 X方向と Y方向とは典型的には直交するが、 必ずし も直交しなくてもよい。  Note that the X direction is the direction of the arrow X shown in FIG. The Y direction is the direction of the arrow Y shown in FIG. The X direction and the Y direction are typically orthogonal, but need not be.
信号電極群 1 1 bおよび信号電極群 1 1 cの構成は、 信号電極群 11 aの構成 と同様である。  The configuration of the signal electrode group 11b and the signal electrode group 11c is the same as the configuration of the signal electrode group 11a.
なお、 図 2では、 簡単のため、 各信号電極群において 4列分の信号電極のみを 示し、 5列目以降の信号電極を省略している。 各信号電極群において、 Y方向に 配列される信号電極の数は任意の数であり得る。  In FIG. 2, for simplicity, only signal electrodes for four columns are shown in each signal electrode group, and signal electrodes for the fifth and subsequent columns are omitted. In each signal electrode group, the number of signal electrodes arranged in the Y direction can be any number.
信号線 16— 1は、 3本の信号線 16— 1 1〜 16— 31を含む。 信号線 1 6 一 11〜 16— 31は、 複数の信号電極 1 1一 1 1〜 11— 31に隣接して設け られている。 信号線 16— 1 1は、 信号電極群 11 aに含まれる複数の信号電極 1 1 - 1 1に電気的に接続されている。 信号線 16— 21は、 信号電極群 1 1 b に含まれる複数の信号電極 11— 21に電気的に接続されている。 信号線 16— 31は、 信号電極群 1 1 cに含まれる複数の信号電極 1 1 -31に電気的に接続 されている。  The signal line 16-1 includes three signal lines 16-11 to 16-31. The signal lines 16 11-16-31 are provided adjacent to the plurality of signal electrodes 11-11-11-31. The signal line 16-11 is electrically connected to a plurality of signal electrodes 11-1-11 included in the signal electrode group 11a. The signal lines 16-21 are electrically connected to the plurality of signal electrodes 11-21 included in the signal electrode group 11b. The signal lines 16-31 are electrically connected to a plurality of signal electrodes 11-31 included in the signal electrode group 11c.
信号線 16— 12〜 16— 32は、 複数の信号電極 1 1一 1 1〜: L 1— 31と 複数の信号電極 11一 12〜 11一 32との間に設けられている。 同様にして、 信号線 16— 13〜: 16— 33および信号線 16 - 14〜: 16— 34も、 Y方向 に隣接した信号電極の間に設けられている。 The signal lines 16-12 to 16-32 are provided between the plurality of signal electrodes 11-11 and L 1-31 and the plurality of signal electrodes 11-12 to 11-32. Similarly, The signal lines 16-13 to 16-33 and the signal lines 16-14 to 16-34 are also provided between the signal electrodes adjacent in the Y direction.
図 3は、 第 2基板 15の平面図である。 第 2基板 1 5上には複数の走査電極 1 3が配列されている。 なお、 走査電極 13は図 3の紙面の裏側に形成されるため、 走査電極 13は図 3では破線で示されている。  FIG. 3 is a plan view of the second substrate 15. A plurality of scan electrodes 13 are arranged on the second substrate 15. Since the scanning electrode 13 is formed on the back side of the paper surface of FIG. 3, the scanning electrode 13 is shown by a broken line in FIG.
第 2基板 15上に形成されている複数の走査電極 13は、 複数の走査電極群に 区分されている。 図 3に示される例では、 複数の走査電極 13は、 3つの信号電 極群 l l a、 l l b、 1 1 cにそれぞれ対応するように 3つの走査電極群 13 a、 13 b、 13 cに区分されている。 しかし、 走査電極群の数は 3に限定されない。 複数の走査電極 13は、 信号電極群の数に対応して任意の数の走査電極群に区分 され得る。  The plurality of scan electrodes 13 formed on the second substrate 15 are divided into a plurality of scan electrode groups. In the example shown in FIG. 3, the plurality of scan electrodes 13 are divided into three scan electrode groups 13a, 13b, and 13c so as to correspond to three signal electrode groups lla, llb, and 11c, respectively. ing. However, the number of scan electrode groups is not limited to three. The plurality of scan electrodes 13 can be divided into an arbitrary number of scan electrode groups corresponding to the number of signal electrode groups.
走査電極群 13 aは、 X方向に配列された複数の走査電極 13 (例えば、 64 個の走査電極 13) を含む。 複数の走査電極 13のそれぞれは、 Y方向に延びて いる。  Scan electrode group 13a includes a plurality of scan electrodes 13 (for example, 64 scan electrodes 13) arranged in the X direction. Each of the plurality of scanning electrodes 13 extends in the Y direction.
走査電極群 13 bおよび走査電極群 1 3 cの構成は、 走査電極群 13 aの構成 と同様である。  The configuration of scan electrode group 13b and scan electrode group 13c is the same as the configuration of scan electrode group 13a.
なお、 図 3では、 簡単のため、 走査電極群 13 aに含まれる複数の走査電極 1 3のうち 3本の走査電極 13— 1 1〜 13— 13のみを示し、 走査電極群 13 b に含まれる複数の走査電極 13のうち 3本の走査電極 13— 21〜 13— 23の みを示し、 走査電極群 13 cに含まれる複数の走査電極 13のうち 3本の走査電 極 13— 31〜: 13— 33のみを示している。  In FIG. 3, for simplicity, only three of the plurality of scan electrodes 13-11 to 13-13 of the plurality of scan electrodes 13 included in the scan electrode group 13a are shown, and are included in the scan electrode group 13b. Only three scan electrodes 13-21 to 13-23 of the plurality of scan electrodes 13 shown are shown, and three scan electrodes 13-31 to three of the plurality of scan electrodes 13 included in the scan electrode group 13c are shown. : Only 13-33 is shown.
以下、 図 2および図 3を参照して、 ディスプレイデバイス 1の動作を説明する。 第 1の走査期間において、 走査電極群 13 aに含まれる走査電極 13— 1 1と、 走査電極群 13 bに含まれる走査電極 1 3— 21と、 走査電極群 13 cに含まれ る走査電極 13— 31とに走査電圧が印加される。  Hereinafter, the operation of the display device 1 will be described with reference to FIGS. In the first scanning period, scan electrodes 13-11 included in scan electrode group 13a, scan electrodes 13-21 included in scan electrode group 13b, and scan electrodes included in scan electrode group 13c Scan voltages are applied to 13-31.
次に、 第 2の走査期間において、 走査電極群 13 aに含まれる走査電極 13— 12と、 走査電極群 13 bに含まれる走査電極 1 3— 22と、 走査電極群 1 3 c に含まれる走査電極 1 3— 32とに走査電圧が印加される。 Next, in the second scanning period, the scanning electrodes 13- A scan voltage is applied to 12, scan electrodes 13 to 22 included in scan electrode group 13b, and scan electrodes 13 to 32 included in scan electrode group 13c.
次に、 第 3の走査期間おいて、 走査電極群 13 aに含まれる走査電極 1 3— 1 3と、 走査電極群 1 3 bに含まれる走査電極 13— 23と、 走査電極群 1 3 cに 含まれる走査電極 1 3— 33とに走査電圧が印加される。  Next, in the third scanning period, scan electrodes 13-13 included in scan electrode group 13a, scan electrodes 13-23 included in scan electrode group 13b, and scan electrode group 13c The scanning voltage is applied to the scanning electrodes 13 to 33 included in the scanning.
このように、 各走查期間において、 複数の走査電極群からそれぞれ 1本ずつ選 択された複数の走査電極に同時に走査電圧が印加されるように、 走查電極が駆動 される。 このような駆動は、 走査電極駆動回路 (図示せず) によって制御される。 信号電極群 1 1 aに含まれる複数の信号電極 1 1— 1 1、 1 1— 1 2、 1 1一 1 3、 1 1— 14には、 それぞれ、 信号線 16— 1 1、 16— 12、 16— 1 3、 1 6- 14を介して信号電圧が印加される。 信号電極群 1 1 bに含まれる複数の 信号電極 1 1一 2 1、 1 1— 22、 1 1— 23、 1 1一 24には、 それぞれ、 信 号線 16— 2 1、 16— 22、 1 6— 23、 16— 24を介して信号電圧が印加 される。 信号電極群 1 1 cに含まれる複数の信号電極 1 1一 3 1、 1 1一 32、 1 1— 33、 1 1— 34には、 それぞれ、 信号線 16— 31、 16— 32、 1 6 — 33、 16- 34を介して信号電圧が印加される。  As described above, in each scanning period, the scanning electrodes are driven such that the scanning voltage is simultaneously applied to the plurality of scanning electrodes selected one by one from the plurality of scanning electrode groups. Such driving is controlled by a scan electrode driving circuit (not shown). A plurality of signal electrodes 11-1-11, 11-1-12, 11-11, 11-14 included in the signal electrode group 11a have signal lines 16-11, 16-12, respectively. , 16—13, 16-14, the signal voltage is applied. A plurality of signal electrodes included in the signal electrode group 1 1 b 1 1 1 2 1, 1 1 -22, 1 1 -23, 1 1 -24 are respectively connected to signal lines 16 -21, 16 -22, 1 Signal voltage is applied via 6−23, 16−24. A plurality of signal electrodes included in the signal electrode group 1 1 c 1 1 1 3 1, 1 1 1 32, 1 1-33, 1 1-34 have signal lines 16-31, 16-32, 16 respectively. — Signal voltage is applied via 33, 16-34.
信号電圧の値は、 走查期間の変更に同期して更新される。 信号電圧の信号電極 への印加は、 信号電極駆動回路 (図示せず) によって制御される。  The signal voltage value is updated in synchronization with the change in the running period. The application of the signal voltage to the signal electrodes is controlled by a signal electrode drive circuit (not shown).
走査電圧が印加される走査電極と信号電圧が印加される信号電極とに挾まれた 機能材料層 1 2の画素領域が駆動される。 従って、 各走査期間において、 3つの. 画素領域が同時に駆動される。 例えば、 機能材料層 12が有機エレクトロルミネ ッセンス発光層である場合には、 各走査期間において、 3つの画素領域が同時に 発光することになる。  The pixel region of the functional material layer 12 sandwiched between the scanning electrode to which the scanning voltage is applied and the signal electrode to which the signal voltage is applied is driven. Therefore, in each scanning period, three pixel regions are simultaneously driven. For example, when the functional material layer 12 is an organic electroluminescent light emitting layer, three pixel regions emit light simultaneously in each scanning period.
例えば、 第 1の走査期間においては、 走査電極 1 3— 1 1と信号電極 1 1一 1 1 1 - 12. 1 1 - 1 3, 1 1 - 14, · · · とに挟まれた機能材料層 1 2 の画素領域と、 走査電極 1 3— 2 1と信号電極 1 1— 2 1、 1 1一 22、 1 1— 2 3、 1 1— 2 4、 · · · とに挟まれた機能材料層 1 2の画素領域と、 走査電極 1 3— 3 1 と信号電極 1 1— 3 1 、 1 1 — 3 2 、 1 1 — 3 3 、 1 1 — 3 4、 · · · とに挟まれた機能材料層 1 2の画素領域とが発光する。 For example, in the first scanning period, the functional material sandwiched between the scanning electrode 13-11 and the signal electrode 11-1 1 1 1-12.1 1-1 3, 1 1-14, Pixel area of layer 1 2, scan electrode 13-21, signal electrode 11-21, 1 11-22, 1 1- The pixel area of the functional material layer 12 sandwiched between 23, 1 1—24,..., The scanning electrode 13—31, and the signal electrode 11—31, 1 1—32 The pixel region of the functional material layer 12 sandwiched between 1 — 3 3, 1 1 — 3 4, and · · · emits light.
このように、 複数の画素領域を同時に駆動することにより、 単純マトリックス 構造のディスプレイデバイスを用いて、 大面積または高精細な画面を実現するこ とが可能になる。  As described above, by simultaneously driving a plurality of pixel regions, a large-area or high-definition screen can be realized using a display device having a simple matrix structure.
なお、 信号電極 1 1に信号電圧を供給するための信号線は、 必ずしも、 隣接す る信号電極 1 1の間に配置する必要はない。  Note that a signal line for supplying a signal voltage to the signal electrode 11 does not necessarily need to be arranged between adjacent signal electrodes 11.
図 4は、 第 1基板 1 0上に設けられた信号線の改良された配置を示す。 隣接す る走査電極 1 3の隙間に対応する第 1基板 1 0上の位置に取り出しパッド 3 1が 設けられている。 取り出しパッド 3 1のそれぞれから隣接する走査電極 1 3の隙 間に沿って 1本の信号線が引き出される。 取り出しパッド 3 1から引き出された 信号線は、 取り出し電極 3 2に接続される。 取り出し電極 3 2は、 第 2基板 1 5 の走査電極 1 3に対応する位置に設けられる。 取り出し電極 3 2は、 例えば、 機 械的な応力による方法によって互いに接続され得る。  FIG. 4 shows an improved arrangement of the signal lines provided on the first substrate 10. An extraction pad 31 is provided at a position on the first substrate 10 corresponding to a gap between the adjacent scanning electrodes 13. One signal line is drawn from each of the extraction pads 31 along the gap between the adjacent scanning electrodes 13. The signal line drawn from the extraction pad 31 is connected to the extraction electrode 32. The extraction electrode 32 is provided on the second substrate 15 at a position corresponding to the scanning electrode 13. The extraction electrodes 32 can be connected to each other by, for example, a mechanical stress method.
図 4に示される配置によれば、 隣接する信号電極の間には 1本の信号線を設け るだけで済む。 これにより、 複数の信号線が信号電極 (または発光画素) の間を 通ることの煩雑さを避けることができる。  According to the arrangement shown in FIG. 4, only one signal line needs to be provided between adjacent signal electrodes. Thus, it is possible to avoid the complexity of passing a plurality of signal lines between signal electrodes (or light emitting pixels).
なお、 ディスプレイデバイスによっては、 走査電極 1 3を第 1基板 1 0の上に 設けることも可能である。 この場合には、 第 1基板 1 0に走査電極 1 3用の取り . 出しパッドを設け、 その取り出しパッドを介して走査電極 1 3に走査電圧を供給 するようにしてもよい。  Note that, depending on the display device, the scanning electrode 13 can be provided on the first substrate 10. In this case, an extraction pad for the scanning electrode 13 may be provided on the first substrate 10 and a scanning voltage may be supplied to the scanning electrode 13 via the extraction pad.
なお、 第 1基板 1 0上に形成されている複数の信号電極 1 1は、 必ずしも、 複 数の信号電極群に区分されている必要はない。  Note that the plurality of signal electrodes 11 formed on the first substrate 10 does not necessarily need to be divided into a plurality of signal electrode groups.
図 5は、 第 1基板 1 0上に形成される複数の信号電極 1 1の配置を示す平面図 である。 複数の信号電極 1 1のそれぞれは、 画素に対応する大きさを有している。 例えば、 信号電極 1 1の大きさは画素の大きさに一致していてもよいし、 画素の 大きさより大きくてもよい。 画素の大きさは、 例えば、 1 0 0ミクロン角である。 また、 複数の信号電極 1 1のそれぞれは、 画素に対応する位置に配置されている。 図 5に示される例では、 複数の信号電極 1 1一 1が X方向に配列されており、 複数の信号電極 1 1一 1のそれぞれは共通の信号線 1 6— 1に接続されている。 同様にして、 複数の信号電極 1 1 2、 1 1 - 3 , 1 1 4がそれぞれ X方向に 配列されている。 複数の信号電極 1 1— 2のそれぞれは共通の信号線 1 6— 2に 接続されている。 複数の信号電極 1 1— 3のそれぞれは共通の信号線 1 6— 3に 接続されている。 複数の信号電極 1 1一 4のそれぞれは共通の信号線 1 6— 4に 接続されている。 FIG. 5 is a plan view showing the arrangement of a plurality of signal electrodes 11 formed on the first substrate 10. Each of the plurality of signal electrodes 11 has a size corresponding to a pixel. For example, the size of the signal electrode 11 may match the size of the pixel, or may be larger than the size of the pixel. The size of the pixel is, for example, 100 microns square. Further, each of the plurality of signal electrodes 11 is arranged at a position corresponding to a pixel. In the example shown in FIG. 5, a plurality of signal electrodes 111 are arranged in the X direction, and each of the plurality of signal electrodes 111 is connected to a common signal line 161-1. Similarly, a plurality of signal electrodes 1 1 2, 1 1-3, 1 1 4 are respectively arranged in the X direction. Each of the plurality of signal electrodes 11-2 is connected to a common signal line 16-2. Each of the plurality of signal electrodes 11-3 is connected to a common signal line 16-3. Each of the plurality of signal electrodes 111 is connected to a common signal line 16-4.
なお、 図 5では、 簡単のため、 4列分の信号電極のみを示し、 5列目以降の信 号電極を省略している。 第 1基板 1 0上に Y方向に配列される信号電極の数は任 意の数であり得る。  In FIG. 5, for simplicity, only the signal electrodes for four columns are shown, and the signal electrodes for the fifth and subsequent columns are omitted. The number of signal electrodes arranged in the Y direction on the first substrate 10 can be any number.
図 5に示されるように複数の信号電極 1 1が配置された第 1基板 1 0は、 図 1 に示されるディスプレイデバイス 1における第 1基板 1 0として使用され得る。 すなわち、 第 1基板 1 0に対向するように第 2基板 1 5が設けられ、 第 1基板 1 0と第 2基板 1 5との間に機能材料層 1 2が設けられる。  The first substrate 10 on which the plurality of signal electrodes 11 are arranged as shown in FIG. 5 can be used as the first substrate 10 in the display device 1 shown in FIG. That is, the second substrate 15 is provided so as to face the first substrate 10, and the functional material layer 12 is provided between the first substrate 10 and the second substrate 15.
複数の走査電極 1 3が第 2基板 1 5上に形成される。 複数の走査電極 1 3のそ れぞれは Y方向に延びている。 複数の走査電極 1 3のうちの 1つに選択的に走査 電圧が印加される。 信号線 1 6— 1、 1 6 - 2 , 1 6— 3、 1 6—4、 · · .の それぞれに信号電圧が印加される。 その結果, 1本の信号線に共通に接続されて いる複数の信号電極 1 1に共通の信号電圧が印加される。 信号電圧が印加されて いる信号電極 1 1と走査電圧が印加されている走査電極 1 3とに対応する位置に ある機能材料層 1 2の画素領域が駆動される。  A plurality of scan electrodes 13 are formed on the second substrate 15. Each of the plurality of scanning electrodes 13 extends in the Y direction. A scanning voltage is selectively applied to one of the plurality of scanning electrodes 13. A signal voltage is applied to each of the signal lines 16-1, 16-2, 16-3, 16-4,. As a result, a common signal voltage is applied to a plurality of signal electrodes 11 commonly connected to one signal line. The pixel region of the functional material layer 12 at a position corresponding to the signal electrode 11 to which the signal voltage is applied and the scan electrode 13 to which the scanning voltage is applied is driven.
図 1を参照して既に説明したように、 第 1基板 1 0は透明基板であり、 かつ、 複数の信号電極 1 1のそれぞれは透明電極であり得る。 この場合には、 ディスプ レイデバイス 1からの出力光は、 透明な信号電極 1 1を介して透明な第 1基板 1 0から出力される。 あるいは、 第 2基板 1 5が透明基板であり、 かつ、 複数の走 査電極 1 3のそれぞれが透明電極であってもよい。 この場合には、 ディスプレイ デバイス 1からの出力光は、 透明な走査電極 1 3を介して透明な第 2基板 1 5か ら出力される。 As described above with reference to FIG. 1, the first substrate 10 may be a transparent substrate, and each of the plurality of signal electrodes 11 may be a transparent electrode. In this case, Output light from the ray device 1 is output from the transparent first substrate 10 via the transparent signal electrode 11. Alternatively, the second substrate 15 may be a transparent substrate, and each of the plurality of scanning electrodes 13 may be a transparent electrode. In this case, the output light from the display device 1 is output from the transparent second substrate 15 via the transparent scanning electrode 13.
なお、 走査電極 1 3が、 信号電極 1 1と同様に、 画素に対応する大きさを有し ていてもよい。 この場合には、 複数の走査電極 1 3が 1本の共通の走査線に接続 され、 その共通の走査線に接続された複数の走査電極 1 3に共通の走査電圧が印 加される。  Note that the scanning electrode 13 may have a size corresponding to a pixel, like the signal electrode 11. In this case, the plurality of scan electrodes 13 are connected to one common scan line, and a common scan voltage is applied to the plurality of scan electrodes 13 connected to the common scan line.
図 6は、 本発明の実施形態 1のディスプレイデバイス 1 aの構造を示す。 ディ スプレイデバイス 1 aは、 有機発光デバイスに適した構造を有している。  FIG. 6 shows the structure of the display device 1a according to the first embodiment of the present invention. The display device 1a has a structure suitable for an organic light emitting device.
ディスプレイデバイス 1 aは、 メタル基板 5 1と、 メタル基板 5 1の上に形成 された絶縁層 5 2とを含む。 絶縁層 5 2から各画素に対応する部分を取り除くこ とにより、 メタル基板 5 1を力ソード電極として用いることができる。 力ソード 電極の上に有機機能材料層が形成され、 有機機能材料層の上に透明電極が形成さ れる。 出力光が透明電極から取り出される。  The display device 1a includes a metal substrate 51 and an insulating layer 52 formed on the metal substrate 51. By removing a portion corresponding to each pixel from the insulating layer 52, the metal substrate 51 can be used as a force source electrode. An organic functional material layer is formed on the force source electrode, and a transparent electrode is formed on the organic functional material layer. Output light is extracted from the transparent electrode.
メタル基板 5 1の金属材料としては、 アルミニウム (アルミニウム一リチウム 合金などを含む) やステンレスなどが使用され得る。 メタル基板 5 1の上に有機 機能材料層として電子輸送層とホール輸送層とが形成される。 ホール輸送層の上 に透明電極が形成される。 透明電極は、 蒸着スパッタリングなどの方法で作製さ れる。  As the metal material of the metal substrate 51, aluminum (including an aluminum-lithium alloy or the like), stainless steel, or the like can be used. On the metal substrate 51, an electron transport layer and a hole transport layer are formed as organic functional material layers. A transparent electrode is formed on the hole transport layer. The transparent electrode is produced by a method such as vapor deposition sputtering.
有機発光デバィスは、 発光の各部で発光によらない熱の発生を避けることがで きないため、 大面積化には常に熱の問題を考慮しなければならない。 金属基板を 導入することにより、 熱の放熱条件が良くなること、 薄くすることが可能でフレ キシブルな発光素子が可能となること、 水分の透過率が低いことなどの利点が得 られる。 なお、 金属基板を力ソード電極として用いてもよいし、 金属基板の上にカソー ド電極を形成するようにしてもよい。 金属基板の上に絶縁膜を設け、 その絶緣膜 上に配線を形成してもよい。 Since organic light emitting devices cannot avoid the generation of heat that does not depend on light emission at each part of light emission, the problem of heat must always be considered when increasing the area. By introducing a metal substrate, advantages such as better heat radiation conditions, a thinner and more flexible light emitting element, and a lower moisture permeability are obtained. Note that a metal substrate may be used as the force source electrode, or a cathode electrode may be formed on the metal substrate. An insulating film may be provided on a metal substrate, and wiring may be formed on the insulating film.
透明基板として使用され得るガラス基板は、 例えば、 0 . 7 mm厚のソ一ダガ ラスであり得る。 そのソーダガラスの上にソーダ等のイオンの拡散防止のために 拡散防止膜が形成され、 その拡散防止膜の上に透明電極が形成される。 透明電極 は、 例えば、 0 . 0 5ミクロン厚のインジウムスズの酸化物である。  A glass substrate that can be used as a transparent substrate can be, for example, 0.7 mm thick soda glass. A diffusion prevention film is formed on the soda glass to prevent diffusion of ions such as soda, and a transparent electrode is formed on the diffusion prevention film. The transparent electrode is, for example, an oxide of indium tin having a thickness of 0.05 micron.
信号線は、 例えば、 アルミニウムで作製される。 信号線は、 2ミクロンの線幅 と 1ミクロンの厚さとを有するように形成され得る。  The signal line is made of, for example, aluminum. The signal lines can be formed to have a line width of 2 microns and a thickness of 1 micron.
1本の信号線の線幅を 2ミクロン, 信号線間のギャップを 2ミクロンとするこ とができる。 この場合、 3本の信号線を平行して設けるために必要とされる幅は、 The line width of one signal line can be 2 microns, and the gap between signal lines can be 2 microns. In this case, the width required to provide three signal lines in parallel is
( 2 + 2 ) ミクロン X 3本 + 2ミクロン = 1 4ミクロン (2 + 2) micron X 3 lines + 2 micron = 14 micron
となる。 このように、 3本の信号線を平行して設けても 3本の信号線の幅は十分 に小さいので、 それらの信号線により発光領域が制限されるおそれはない。 Becomes Thus, even if three signal lines are provided in parallel, the width of the three signal lines is sufficiently small, and there is no possibility that the light emitting area is limited by those signal lines.
走査電極の幅は、 信号線の幅に比べて広い。 従って、 走査電極は、 信号線に比 ベて容易に作製され得る。 走査電極には 1ラインに対応する比較的大きな電流を 流す必要がある。 走査電極は、 アルミニウムなどの金属で作製される。 走査電極 の幅は、 画素の大きさに対応して決定される。 例えば、 画素の大きさが 0 . l m m角である場合には、 走査電極の幅は 0 . 1 mmであり得る。  The width of the scanning electrode is wider than the width of the signal line. Therefore, the scanning electrode can be easily manufactured as compared with the signal line. A relatively large current corresponding to one line needs to flow through the scanning electrode. The scanning electrode is made of a metal such as aluminum. The width of the scanning electrode is determined according to the size of the pixel. For example, if the pixel size is 0.1 mm square, the width of the scan electrode may be 0.1 mm.
ディスプレイデバイス 1、 1 aが有機発光デバイスである場合には、 走査電極. の材料選択は重要である。 この場合、 一般的には、 走査電極の材料としてアルミ. 二ゥムとリチウムの合金、 または、 マグネシウムと銀の合金などが使用されてい る。 本実施の形態では、 走査電極は、 アルミニウム一リチウム合金を材料として 抵抗加熱法によりメタルマスクを用いて作製されている。  When the display device 1, 1a is an organic light emitting device, the selection of the material of the scanning electrode is important. In this case, an alloy of aluminum and lithium or an alloy of magnesium and silver is generally used as a material of the scanning electrode. In the present embodiment, the scanning electrode is manufactured using a metal mask by a resistance heating method using aluminum-lithium alloy as a material.
従来のディスプレイデバイスでは、 リード線部における電圧損失をできるだけ 低減するために、 透明電極の抵抗値をできるだけ低く抑える必要があった。 この ため、 本来の画素部分の機能で必要とされる抵抗値より桁違いに小さい抵抗値が 求められていた。 その結果、 透明電極の抵抗値を下げるために他のマイナス要因 を犠牲にして透明電極の構造、 材料を決定する必要があった。 In a conventional display device, it was necessary to keep the resistance of the transparent electrode as low as possible in order to reduce the voltage loss in the lead wire as much as possible. this Therefore, a resistance value that is orders of magnitude smaller than the resistance value required for the function of the original pixel portion has been required. As a result, it was necessary to determine the structure and material of the transparent electrode at the expense of other negative factors in order to reduce the resistance of the transparent electrode.
具体的には、 透明電極の材料をインジウムスズの酸化物化合物に限定したり、 その厚さを限定したりする必要があった。 このような限定は、 電力損失の増加, クロストークの発生、 信号の遅れという問題を生じさせる原因となっていた。 これに対し、 本発明のディスプレイデバイスでは、 透明電極の大きさを画素の 大きさに対応するようにできるため、 透明電極の抵抗値を低く抑える必要がない。 これは、 本発明のディスプレイデバイスによれば、 透明電極を流れる電流経路の 長さを従来に比べて格段に短くすることができるからである。 例えば、 透明電極 の大きさが 0 . 1 mm角である場合には、 透明電極を流れる電流経路の長さはた かだか 0 . 1 mmにすぎない。 このことは、 透明電極の材料選択を自由に行うこ とを可能にし、 透明電極の膜厚を 2桁薄くすることを可能にする。  Specifically, it was necessary to limit the material of the transparent electrode to an indium tin oxide compound or to limit the thickness thereof. Such limitations have caused problems such as increased power loss, crosstalk, and signal delay. On the other hand, in the display device of the present invention, since the size of the transparent electrode can be made to correspond to the size of the pixel, it is not necessary to suppress the resistance value of the transparent electrode. This is because, according to the display device of the present invention, the length of the current path flowing through the transparent electrode can be significantly shortened as compared with the related art. For example, when the size of the transparent electrode is 0.1 mm square, the length of the current path flowing through the transparent electrode is only 0.1 mm. This makes it possible to freely select the material of the transparent electrode and to reduce the thickness of the transparent electrode by two orders of magnitude.
透明電極の膜厚を薄くすることにより、 透明電極の材料コストを低減すること ができる。 特に、 透明電極としてインジウム電極を使用する場合には、 透明電極 のコストを全体のコス卜の 1 0分の 1以下にすることが可能となった。 このこと は、 材料プロセスコストの低減、 スパッタリングなどのプロセス時間の短縮、 :信 頼性の向上などにつながる。  By reducing the thickness of the transparent electrode, the material cost of the transparent electrode can be reduced. In particular, when an indium electrode is used as the transparent electrode, the cost of the transparent electrode can be reduced to less than one tenth of the total cost. This leads to reduced material processing costs, reduced processing time for sputtering and other processes, and improved reliability.
透明電極の材料と信号線の材料とは、 ディスプレイデバイスの寿命に影響する。 一般に、 材料に電気を流すことにより、 その材料がイオン化して物質の移動 (い わゆるマイグレーション) が生じるとディスプレイデバイスの特性の維持が妨げ られる。 上述したように、 本発明では、 透明電極の材料選択を自由に行うこと.が できる。 従って、 透明電極の材料と信号線の材料とを適切に選択することにより、 マイグレーションによる特性劣化の影響をなくすことができる。 これにより、 デ イスプレイデバイスの長寿命化を図ることが可能になる。  The material of the transparent electrode and the material of the signal line affect the life of the display device. In general, when electricity is passed through a material, the ionization of the material and the movement of a substance (so-called migration) hinder the maintenance of the characteristics of the display device. As described above, in the present invention, the material of the transparent electrode can be freely selected. Therefore, by appropriately selecting the material of the transparent electrode and the material of the signal line, it is possible to eliminate the influence of characteristic deterioration due to migration. This makes it possible to extend the life of the display device.
なお、 透明電極の抵抗値を比較的高い値に設定する場合には、 透明電極の面抵 抗 (幅 1 c m、 距離 1 c mあたりの電気抵抗) が 1 0 0オーム Z平方センチメ一 トルから 1 0キロオームノ平方センチメー卜ルであることが好ましい。 If the resistance value of the transparent electrode is set to a relatively high value, the surface resistance of the transparent electrode The resistance (electrical resistance per 1 cm width and 1 cm distance) is preferably from 100 ohm Z square centimeter to 10 kiloohm square centimeter.
透明電極は、 酸化スズまたは酸化亜鉛などの単体材料あるいはこれらの混合材 料からなっていてもよい。  The transparent electrode may be made of a single material such as tin oxide or zinc oxide or a mixed material thereof.
信号線は、 アルミニウムまたは銅を含む二元合金材料からなっていてもよい。 例えば、 信号線の材料は、 アルミニウムに他の金属 (例えば、 銅、 スズ、 銀、 二 ッケル、 亜鉛など) を混合した二元合金材料であり得る。 あるいは、 信号線の材 料は、 銅に他の金属 (例えば、 アルミニウム、 スズ、 ニッケル、 銀、 亜鉛など) を少量混合した二元合金材料であってもよい。  The signal line may be made of a binary alloy material containing aluminum or copper. For example, the material of the signal line can be a binary alloy material of aluminum mixed with other metals (eg, copper, tin, silver, nickel, zinc, etc.). Alternatively, the material of the signal line may be a binary alloy material in which copper is mixed with a small amount of another metal (eg, aluminum, tin, nickel, silver, zinc, or the like).
(実施形態 2 )  (Embodiment 2)
図 7は、 本発明の実施形態 2のディスプレイデバイス 2の構造を示す。  FIG. 7 shows a structure of the display device 2 according to the second embodiment of the present invention.
ディスプレイデバイス 2は、 基板 2 1 1と、 基板 2 1 1の上に形成された複数 の力ソード電極 2 1 2と、 複数のカツ一ド電極 2 1 2の上に形成された機能材料 '層 2 1 3と、 機能材料層 2 1 3の上に形成された複数の透明なアノード電極 2 1 5とを含む。 ディスプレイデバイス 2は、 単純マトリックス構造を有している。 複数の力ソード電極 2 1 2に印加される電圧と複数のアノード電極 2 1 5に印 加される電圧とはいずれも、 基板 2 1 1の面のうち、 力ソード電極 2 1 2が形成 されている面と反対側の面 (以下、 基板 2 1 1の裏面という) から供給される。 このように、 力ソード電極 2 1 2に印加される電圧 (マイナスの電源電圧) と アノード電極 2 1 5に印加される電圧 (プラスの電源電圧) とを基板 2 1 1の裏. 面から供給することにより、 それらの電圧を取り出すための取り出し電極をディ スプレイデバイス 2の側面部に配置する必要がなくなる。 このことは、 ディスプ レイデパイス 2を 2次元的にタイリングすることを可能にする。  The display device 2 includes a substrate 2 1 1, a plurality of force source electrodes 2 1 2 formed on the substrate 2 1 1, and a functional material layer formed on a plurality of cut electrodes 2 1 2 2 13 and a plurality of transparent anode electrodes 2 15 formed on the functional material layer 2 13. The display device 2 has a simple matrix structure. Both the voltage applied to the plurality of force source electrodes 2 12 and the voltage applied to the plurality of anode electrodes 2 15 form the force source electrode 2 12 on the surface of the substrate 211. It is supplied from the surface opposite to the surface on which it is placed (hereinafter referred to as the back surface of the substrate 211). Thus, the voltage (negative power supply voltage) applied to the force electrode 2 121 and the voltage (positive power supply voltage) applied to the anode electrode 2 15 are supplied from the back surface of the substrate 2 1 1 By doing so, it is not necessary to dispose an extraction electrode for extracting those voltages on the side surface of the display device 2. This makes it possible to tile the display device 2 in two dimensions.
例えば、 N X M個の画素を有するディスプレイデバイス 2を縦横 3個ずつ合計 9個配列することにより、 3 N X 3 M個の画素を有するディスプレイデバイスを 構成することが可能になる。 これにより、 単純マトリックス構造のディスプレイ デバイスを用いて、 大画面または高精細な画面を実現することが可能になる。 また、 力ソード電極 2 1 2に印加される電圧 (マイナスの電源電圧) とァノ一 ド電極 2 1 5に印加される電圧 (プラスの電源電圧) とを基板 2 1 1の裏面から 供給することにより、 開口率の低下を防止することができる。 For example, a display device having 3 NX 3 M pixels can be configured by arranging a total of 9 display devices 2 each having 3 NXM pixels each in 3 rows and 3 columns. This enables a simple matrix structure display Using a device, a large screen or a high-resolution screen can be realized. In addition, a voltage (negative power supply voltage) applied to the force source electrode 211 and a voltage (positive power supply voltage) applied to the anode electrode 215 are supplied from the back surface of the substrate 211. This can prevent a decrease in the aperture ratio.
さらに、 アノード電極 (透明電極) 2 1 5を保持するための基板が不要となる ため、 基板 2 1 1の裏面からアノード電極 2 1 5に至るディスプレイデバイス 2 の積層構造の厚さを薄くすることができる。 例えば、 その厚さを 5 0ミクロン〜 1 5 0ミクロンにすることが可能である。  Furthermore, since a substrate for holding the anode electrode (transparent electrode) 215 is not required, the thickness of the laminated structure of the display device 2 from the back surface of the substrate 211 to the anode electrode 215 should be reduced. Can be. For example, the thickness can be between 50 microns and 150 microns.
なお、 図 7では、 複数の力ソード電極 2 1 2と機能材料層 2 1 3とが空間的に 離れているように示されているが、 これは説明の便宜のためである。 実際には、 複数の力ソード電極層 2 1 2と機能材料層 2 1 3とは、 互いに接触するように形 成されている。 同様にして、 図 7では、 機能材料層 2 1 3と複数のアノード電極 2 1 5とが空間的に離れているように示されているが、 これは説明の便宜のため である。 実際には、 機能材料層 2 1 3と複数のアノード電極 2 1 5とは、 互いに 接触するように形成されている。  Although FIG. 7 shows that the plurality of force source electrodes 2 12 and the functional material layer 2 13 are spatially separated, this is for convenience of explanation. Actually, the plurality of force source electrode layers 21 and the functional material layers 21 are formed so as to be in contact with each other. Similarly, FIG. 7 shows that the functional material layer 2 13 and the plurality of anode electrodes 2 15 are spatially separated from each other, but this is for convenience of explanation. Actually, the functional material layer 2 13 and the plurality of anode electrodes 2 15 are formed so as to be in contact with each other.
図 8は、 図 7に示される A— B線に沿つたディスプレイデバイス 2の断面を示 す。 図 9は、 図 7に示される基板 2 1 1の裏面の構造を示す。  FIG. 8 shows a cross section of the display device 2 along the line A—B shown in FIG. FIG. 9 shows the structure of the back surface of the substrate 211 shown in FIG.
力ソード電極 2 1 2は、 導入線 2 1 8 aを介して基板 2 1 1の裏面に設けられ ている配線 2 1 9 aに電気的に接続される。 導入線 2 1 8 aは、 基板 2 1 1を貫 通するように形成されている。 配線 2 1 9 aは、 力ソード電極 2 1 2を駆動する ための力ソード電極駆動回路 2 2 0 aに電気的に接続される。 力ソード電極駆動 回路 2 2 0 aは、 基板 2 1 1の裏面に設けられている。 これにより、 力ソード電 極駆動回路 2 2 0 aから出力される電圧が基板 2 1 1の裏面から導入線 2 1 8 a を介して力ソード電極 2 1 2に供給される。  The force source electrode 2 12 is electrically connected to the wiring 2 19 a provided on the back surface of the substrate 2 1 1 via the lead-in line 2 18 a. The lead-in line 218 a is formed to penetrate the substrate 211. The wiring 219 a is electrically connected to a force sword electrode drive circuit 220 a for driving the force sword electrode 2 12. The force source electrode drive circuit 220 a is provided on the back surface of the substrate 211. As a result, the voltage output from the power source electrode drive circuit 220a is supplied to the power source electrode 212 from the back surface of the substrate 211 via the lead-in line 218a.
アノード電極 2 1 5は、 導入線 2 1 8 bを介して基板 2 1 1の裏面に設けられ ている配線 2 1 9 bに電気的に接続される。 導入線 2 1 8 bは、 有機材料層 2 1 3および基板 2 1 1を貫通するように形成されている。 特に、 導入線 2 1 8 bは、 基板 2 1 1上に形成されている隣接する力ソード電極 2 1 2の間を通るように形 成されている。 配線 2 1 9 bは、 アノード電極 2 1 5を駆動するためのアノード 電極駆動回路 2 2 0 bに電気的に接続される。 ァノ一ド電極駆動回路 2 2 0 bは、 基板 2 1 1の裏面に設けられている。 これにより、 アノード電極駆動回路 2 2 0 bから出力される電圧が基板 2 1 1の裏面から導入線 2 1 8 bを介してアノード 電極 2 1 5に供給される。 The anode electrode 215 is electrically connected to the wiring 219 b provided on the back surface of the substrate 211 via the lead-in wire 218 b. The lead-in line 2 18 b is the organic material layer 2 1 3 and the substrate 211 are formed to penetrate. In particular, the lead-in wire 2 18 b is formed so as to pass between adjacent force source electrodes 2 12 formed on the substrate 2 1 1. The wiring 219 b is electrically connected to an anode electrode driving circuit 220 b for driving the anode electrode 215. The anode electrode drive circuit 220 b is provided on the back surface of the substrate 211. As a result, the voltage output from the anode electrode driving circuit 220b is supplied from the back surface of the substrate 211 to the anode electrode 215 via the introduction line 218b.
なお、 力ソード電極駆動回路 2 2 0 aおよびアノード電極駆動回路 2 2 0 の 代わりに、 力ソード電極 2 1 2およびアノード電極 2 1 5を駆動する単一の駆動 回路を基板 2 1 1の裏面に設けるようにしてもよい。 その単一の駆動回路には、 配線 2 1 9 aおよび配線 2 1 9 bが接続される。  In addition, instead of the force electrode drive circuit 220 a and the anode electrode drive circuit 220, a single drive circuit for driving the force electrode electrode 212 and the anode electrode 215 is provided on the back of the substrate 211. May be provided. The wiring 219 a and the wiring 219 b are connected to the single driving circuit.
なお、 アノード電極 2 1 5を基板 2 1 1の裏面からではなく、 発光素子の表面 から取り出すようにしてもよい。  Note that the anode electrode 2 15 may be taken out from the front surface of the light emitting element instead of the back surface of the substrate 211.
力ソード電極 2 1 2とアノード電極 2 1 5との間に電圧が印加されている場合 には、 その力ソード電極 2 1 2とそのアノード電極 2 1 5とが交差する位置にあ る機能材料層 2 1 3の画素領域が駆動される。 例えば、 機能材料層 2 1 3が有機 エレクトロルミネッセンス発光層である場合には、 その力ソード電極 2 1 2とそ のアノード電極 2 1 5とが交差する位置にある画素領域が発光する。  When a voltage is applied between the force source electrode 2 12 and the anode electrode 2 15, the functional material at the position where the force electrode 2 12 intersects with the anode electrode 2 15 The pixel area of the layer 2 13 is driven. For example, when the functional material layer 2 13 is an organic electroluminescent light emitting layer, a pixel region at a position where the force electrode 2 12 intersects with the anode 2 15 emits light.
基板 2 1 1は、 樹脂、 セラミック、 金属のいずれかの材料またはそれらの材料 を複合化した材料から作製される。 セラミック、 金属は、 熱伝導の点では優れて. いる。 セラミックは絶縁性であり、 金属は導電性であるからそれぞれの特徴を活 かして基板設計を行う必要がある。 一方、 基板材料として有機材料を使用する場 合には、 熱伝導は悪いかわりに、 デバイス構成の容易さと電極の入出力の容易な ことなどが利点として挙げられる。  The substrate 211 is made of a resin, ceramic, or metal material, or a composite material of these materials. Ceramics and metals are superior in terms of heat conduction. Ceramics are insulative, and metals are conductive, so it is necessary to design the board by taking advantage of their characteristics. On the other hand, when an organic material is used as the substrate material, the heat conduction is poor, but the advantages of easy device configuration and easy input / output of electrodes are advantages.
基板 2 1 1として金属基板を使用する場合には、 金属表面に絶縁層を設けるこ とにより、 基板 2 1 1としてセラミック基板を使用する場合と同様に基板 2 1 1 を扱うことができる。 例えば、 基板 2 1 1がアルミニウム基板である場合には、 そのアルミニウムの表面にシユウ酸アルミニウムなどの絶縁層を設ければよい。 基板 2 1 1は、 可撓性を有していることが好ましい。 例えば、 ポリイミドと銅 箔とを接着することにより、 可撓性を有する基板 2 1 1を作製することができる。 あるいは、 ガラスエポキシ樹脂と銅箔とを接着することにより、 可撓性を有する 基板 2 1 1を作製してもよい。 基板 2 1 1の材料は、 画素ピッチにおける穴形成 加工を精度よく行うことができる材料であることが好ましい。 このような観点か ら、 基板 2 1 1の材料として、 ポリエステル、 ァラミドその他の各種の汎用フィ ルムを広く用いることができる。 When a metal substrate is used as the substrate 2 11, an insulating layer is provided on the metal surface so that the substrate 2 1 1 Can be handled. For example, when the substrate 211 is an aluminum substrate, an insulating layer such as aluminum oxalate may be provided on the surface of the aluminum. It is preferable that the substrate 211 has flexibility. For example, by bonding a polyimide and a copper foil, a flexible substrate 211 can be manufactured. Alternatively, a flexible substrate 211 may be manufactured by bonding a glass epoxy resin and a copper foil. It is preferable that the material of the substrate 211 is a material that can accurately perform a hole forming process at a pixel pitch. From such a viewpoint, polyester, aramide, and various other general-purpose films can be widely used as the material of the substrate 211.
力ソード電極 2 1 2は、 例えば、 A 1 L i合金または M g A g合金から成り、 The force source electrode 2 1 2 is made of, for example, A 1 Li alloy or Mg Ag alloy,
1 5 0 0オングストロームの厚さを有するように形成される。 アノード電極 (透 明電極) 2 1 5は、 例えば、 I T O、 Ζ η〇または A uなどから成る。 アノード 電極 2 1 5の上には、 パッシベ一シヨン膜 2 1 6が形成され、 パッシベーシヨン 膜 2 1 6の上には外部カバー 2 1 7が形成される。 It is formed to have a thickness of 150 Å. The anode electrode (transparent electrode) 215 is made of, for example, ITO, {η}, or Au. A passivation film 216 is formed on the anode electrode 215, and an outer cover 217 is formed on the passivation film 216.
なお、 基板 2 1 1は、 単一層構造を有していてもよいが、 多層構造を有してい ることが好ましい。 多層構造の異なる層に、 信号線と走査線とを分離して形成す ることができるからである。 多層構造における各層は、 樹脂、 セラミックまたは 金属から成る。  The substrate 211 may have a single-layer structure, but preferably has a multilayer structure. This is because signal lines and scanning lines can be formed separately in different layers of a multilayer structure. Each layer in the multilayer structure is made of resin, ceramic or metal.
図 1 0は、 基板 2 1 1の多層構造の例を示す。 図 1 0に示される例では、 基板 2 1 1の内部に中間配線層 2 2 3 a、 2 2 3 bが形成されており、 基板 2 1 1の . 裏面に裏面配線層 2 1 9 a , 2 1 9 bが形成されている。  FIG. 10 shows an example of the multilayer structure of the substrate 211. In the example shown in FIG. 10, the intermediate wiring layers 2 23 a and 22 3 b are formed inside the substrate 2 11, and the rear wiring layers 2 19 a, 2 19 b is formed.
中間配線層 2 2 3 a、 2 2 3 bには、 信号線、 走査線, アース線、 電源線など の線のうち 1つないし 2つが形成される。 例えば、 中間配線層 2 2 3 aに信号線 を形成し、 中間配線層 2 2 3 bに走査線を形成することにより、 基板 2 1 1の内 部において信号線と走査線とを分離することができる。 裏面配線層 2 1 9 a , 2 1 9 bには、 中間配線層 2 2 3 a , 2 2 3 bに形成されない他の線が形成され得 る。 One or two of signal lines, scanning lines, ground lines, power lines, and the like are formed on the intermediate wiring layers 222 a and 222 b. For example, by forming signal lines on the intermediate wiring layer 223a and forming scanning lines on the intermediate wiring layer 223b, the signal lines and the scanning lines are separated inside the substrate 211. Can be. On the back wiring layers 2 19 a and 2 19 b, other lines not formed on the intermediate wiring layers 2 2 3 a and 2 23 b may be formed. You.
特に、 基板 2 1 1の上にアクティブマトリックス素子を形成する場合には、 基 板 2 1 1を多層構造とすることが好ましい。 アクティブマトリックス素子は、 電 力供給線を必要とするからである。  In particular, when an active matrix element is formed on the substrate 211, it is preferable that the substrate 211 has a multilayer structure. Active matrix elements require power supply lines.
なお、 基板 2 1 1が 3層以上の多層構造を有し得ることはいうまでもない。 特 に、 基板 2 1 1の内部に 2層以上の中間配線層を設けるようにしてもよい。  Needless to say, the substrate 211 can have a multilayer structure of three or more layers. In particular, two or more intermediate wiring layers may be provided inside the substrate 211.
なお、 基板 2 1 1が多層構造を有する場合には、 図 9に示される力ソード電極 駆動回路 2 2 0 a , アノード電極駆動回路 2 2 0 bの一方または両方を基板 2 1 1の多層構造内に形成するようにしてもよい。 例えば、 力ソード電極駆動回路 2 2 0 aは、 基板 2 1 1の内部に設けられた中間配線層 2 2 3 aを介して力ソード 電極 2 1 2に電気的に接続され得る。 アノード電極駆動回路 2 2 O bは、 基板 2 1 1の内部に設けられた中間配線層 2 2 3 bを介してアノード電極 2 1 5に電気 的に接続され得る。 基板 2 1 1の多層構造内に力ソード電極 2 1 2およびァノー ド電極 2 1 5を駆動するために必要なすべての回路が形成される場合には、 基板 2 1 1の裏面に裏面配線層を形成する必要はない。  When the substrate 211 has a multilayer structure, one or both of the force source electrode driving circuit 220 a and the anode electrode driving circuit 220 b shown in FIG. It may be formed inside. For example, the power source electrode drive circuit 220 a can be electrically connected to the power source electrode 212 via an intermediate wiring layer 222 a provided inside the substrate 211. The anode electrode driving circuit 222 can be electrically connected to the anode electrode 215 via an intermediate wiring layer 223b provided inside the substrate 211. When all the circuits required to drive the force source electrode 2 12 and the anode electrode 2 15 are formed in the multilayer structure of the substrate 211, the backside wiring layer is formed on the backside of the substrate 211. Need not be formed.
基板 2 1 1の多層構造内には、 力ソード電極駆動回路 2 2 0 a、 アノード電極 駆動回路 2 2 0 bの他に、 ディスプレイデバイス 2を動作させるためのメモリ素 子、 制御素子、 メモリ表示コントローラ、 ドライバなどの任意の素子が設けられ 得る。  In the multilayer structure of the substrate 211, in addition to the power source electrode drive circuit 220a and the anode electrode drive circuit 220b, a memory element for operating the display device 2, a control element, and a memory display Arbitrary elements such as a controller and a driver can be provided.
機能材料層 2 1 3は、 様々な材料によって構成され得る。 機能材料層 2 1 3の 材料を変更することによって、 本発明を任意のタイプのディスプレイデバィスに 適用することができる。 例えば、 本発明を液晶ディスプレイデパイスに適用する 場合には、 機能材料層 2 1 3として液晶層を使用すればよい。 本発明を有機発光 デバイスに適用する場合には、 機能材料層 2 1 3として有機エレク卜口ルミネッ センス発光層を使用すればよい。 この場合には、 機能材料層 2 1 3は、 電子輸送 層 2 1 3 aと、 ホール輸送層 2 1 3 bとを含む。 本発明を無機発光デバイスに適 用する場合には、 機能材料層 2 1 3として無機エレクト口ルミネッセンス発光層 を使用すればよい。 The functional material layer 2 13 can be made of various materials. The present invention can be applied to any type of display device by changing the material of the functional material layer 2 13. For example, when the present invention is applied to a liquid crystal display device, a liquid crystal layer may be used as the functional material layer 21. When the present invention is applied to an organic light emitting device, an organic electroluminescent light emitting layer may be used as the functional material layer 21. In this case, the functional material layer 213 includes an electron transport layer 213a and a hole transport layer 213b. The present invention is suitable for inorganic light emitting devices. When used, an inorganic electorescence luminescent layer may be used as the functional material layer 21.
なお、 ディスプレイデバイス 2が液晶ディスプレイデバイスである場合には、 偏向フィル夕やカラーフィル夕などの構成がさらに必要であるが、 図 7および図 8ではこれらの構成は省略されている。  When the display device 2 is a liquid crystal display device, further configurations such as a deflection filter and a color filter are required, but these configurations are omitted in FIGS. 7 and 8.
図 1 1は、 基板 2 1 1の裏面にアクティブマトリックス素子を形成した例を示 す。 アクティブマトリックス素子 (例えば、 MO Sトランジスタ) は、 基板 2 1 1上にァモルファスシリコンまたはポリシリコンなどの薄膜ゃゲ一卜層を C V D、 スパッ夕リングなどの方法を用レ ^て形成することによって形成される。  FIG. 11 shows an example in which an active matrix element is formed on the back surface of a substrate 211. An active matrix element (for example, a MOS transistor) is formed by forming a thin film gate layer of amorphous silicon or polysilicon on a substrate 211 using a method such as CVD or sputtering. It is formed.
アクティブマトリックス素子を形成する際には、 高温プロセスが必要である。 従って、 基板 2 1 1の材料は 3 0 0度以上の耐熱性を有するセラミックまたは金 属であることが好ましい。  High-temperature processes are required when forming active matrix devices. Therefore, the material of the substrate 211 is preferably a ceramic or a metal having a heat resistance of 300 degrees or more.
ァクティブマトリックス駆動を行うためには、 画素に供給する信号を走査線の 1周期に相当する期間中メモリし、 その 1周期に相当する時間信号に応じた電流 をその画素に送り続ける必要がある。 そのためには、 メモリ機能 (すなわち、 信 号をメモリして、 そのメモリ量に応じた電流を画素に供給する機能) を有するメ モリ素子と、 逆流防止機能 (すなわち、 特定の画素のみに電力が供給され、 他の 画素に電力が供給されることを防止するスィツチング機能) を有する制御素子と が少なくとも必要になる。  In order to perform active matrix driving, it is necessary to store signals to be supplied to a pixel during a period corresponding to one cycle of a scanning line, and to continuously send a current corresponding to the time signal corresponding to the one cycle to the pixel. . To do so, a memory element having a memory function (that is, a function of storing a signal and supplying a current corresponding to the amount of memory to the pixel) and a backflow prevention function (that is, power is supplied only to a specific pixel) And a control element having a switching function for preventing power from being supplied to other pixels.
このような機能を有するメモリ素子と制御素子とは、 公知のプロセスを用いて. 基板 2 1 1の上に直接的に形成され得る。  The memory element and the control element having such a function can be formed directly on the substrate 211 using a known process.
図 1 1において、 2 3 1は電流のゲート回路素子、 2 3 2は電流のコントロー ル回路素子を示す。 2 3 3は時定数を決めるためのコンデンサを示す。 さらに、 電力を供給するための電力線 2 3 4とグランド線 2 3 5 (アース) とが設けられ ている。 なお、 2 3 6はドレイン、 2 3 7はゲート、 2 3 8はソース、 2 3 9は 信号線、 2 4 0は走査線を示す。 図 1 2は、 図 1 1に示される回路素子の回路構成を示す。 In FIG. 11, reference numeral 231 denotes a current gate circuit element, and reference numeral 232 denotes a current control circuit element. 2 3 3 indicates a capacitor for determining the time constant. Further, a power line 234 for supplying power and a ground line 235 (earth) are provided. Note that reference numeral 236 denotes a drain, 237 denotes a gate, 238 denotes a source, 239 denotes a signal line, and 240 denotes a scanning line. FIG. 12 shows a circuit configuration of the circuit element shown in FIG.
このように、 ディスプレイデバイス 2の発光面と反対側の面 (すなわち、 基板 の裏面〉 に、 ディスプレイデバイス 2を動作させるためのメモリ素子、 制御素子、 メモリ表示コントローラ、 ドライバなどを設けることにより、 配線の長さの短縮 化とシステムのコンパクト化とを図ることができる。 配線の長さを短縮すること により、 配線の低抵抗化を図ることができる。 さらに、 上述したように、 基板の 裏面に配線および素子を設けることは、 大面積または高精細な画面を実現する上 で非常に有効である。 産業上の利用可能性  As described above, by providing a memory element, a control element, a memory display controller, a driver, and the like for operating the display device 2 on the surface opposite to the light emitting surface of the display device 2 (that is, the back surface of the substrate), wiring can be achieved. By reducing the length of the wiring, it is possible to reduce the resistance of the wiring, and further, as described above, on the back surface of the substrate. Providing wiring and elements is very effective in realizing a large-area or high-definition screen.
本発明によれば、 複数の画素領域が同時に駆動される。 これにより、 単純マト リックス構造のディスプレイデバイスを用いて、 大面積または高精細な画面を実 現することが可能になる。  According to the present invention, a plurality of pixel regions are driven simultaneously. As a result, a large-area or high-definition screen can be realized using a display device having a simple matrix structure.
本発明では、 単純マトリックス構造を利用するため、 アクティブマトリックス 構造に比較して、 ディスプレイデバイスの作製に要するプロセスが短く、 かつ、 その作製プロセスにおいて高温プロセスが不要であるという利点がある。 これに より、 コストの低減を図ることができる。  In the present invention, since a simple matrix structure is used, there is an advantage that a process required for manufacturing a display device is shorter than an active matrix structure, and a high-temperature process is not required in the manufacturing process. As a result, costs can be reduced.
また、 本発明によれば、 透明電極の抵抗値を低く抑える必要がない。 これによ り、 透明電極の材料選択を自由に行うことができる。 また、 透明電極の厚さを薄 くすることができる。 このことは、 コストを低減し、 かつ、 信頼性を向上させる。 このように、 本発明は、 低コストで、 大面積または高精細な画面を実現するデ イスプレイデバイスを提供することを可能にする。 さらに、 本発明は、 様々なデ イスプレイに適用可能な共通の基本技術である。 従って、 本発明による複合的な 効果が大きい。  Further, according to the present invention, it is not necessary to suppress the resistance value of the transparent electrode. Thereby, the material of the transparent electrode can be freely selected. Further, the thickness of the transparent electrode can be reduced. This reduces costs and increases reliability. Thus, the present invention makes it possible to provide a display device that realizes a large-area or high-definition screen at low cost. Further, the present invention is a common basic technology applicable to various displays. Therefore, the combined effect of the present invention is large.
また、 本発明では、 複数の画素領域を同時に駆動するため、 走査すべき画面の 面積を低減することができる。 その結果、 ディスプレイデバイスの応答速度が向 上する。 また、 走査すべき画面の面積が低減されるため、 走査電極および信号電 極に印加される電圧を低くすることができる。 これにより、 クロストークの発生 を抑制することが可能になる。 その結果、 ディスプレイデバイスの品質が向上す る。 また、 走査電極および信号電極に印加される電圧の低下によって、 消費電力 の低下、 信頼性の向上、 駆動回路のコストの低減を図ることができる。 Further, in the present invention, since a plurality of pixel regions are driven at the same time, the area of the screen to be scanned can be reduced. As a result, the response speed of the display device is improved. Up. Further, since the area of the screen to be scanned is reduced, the voltage applied to the scanning electrodes and the signal electrodes can be reduced. This makes it possible to suppress the occurrence of crosstalk. As a result, the quality of the display device is improved. In addition, a reduction in the voltage applied to the scanning electrode and the signal electrode can reduce power consumption, improve reliability, and reduce the cost of the driving circuit.
さらに、 本発明によれば、 力ソード電極を駆動する駆動回路とアノード電極を 駆動する駆動回路とが基板の多層構造内に設けられる。 あるいは、 力ソード電極 に印加される電圧とアノード電極に印加される電圧とが基板の裏面から供給され る。 これにより、 それらの電圧を取り出すための取り出し電極をディスプレイデ バイスの側面部に配置する必要がなくなる。 このことは、 ディスプレイデバイス を 2次元的にタイリングすることを可能にする。 その結果、 単純マトリックス構 造のディスプレイデバイスを用いて、 大画面または高精細な画面を実現すること が可能になる。  Further, according to the present invention, a drive circuit for driving the force source electrode and a drive circuit for driving the anode electrode are provided in the multilayer structure of the substrate. Alternatively, a voltage applied to the force source electrode and a voltage applied to the anode electrode are supplied from the back surface of the substrate. As a result, it is not necessary to arrange an extraction electrode for extracting those voltages on the side surface of the display device. This makes it possible to tiling display devices in two dimensions. As a result, a large-screen or high-definition screen can be realized using a display device having a simple matrix structure.
また、 それらの電圧を基板の裏面から供給することにより、 開口率を大きくす ることができる、 配線の作業と発光素子の作製作業とを分離することができる、 アクティブマトリックス素子を基板上に直接的に作製することができる、 基板を 多層構造にすることにより多層配線を実現することができるという利点が得られ る。  In addition, by supplying those voltages from the back surface of the substrate, the aperture ratio can be increased, the work of wiring and the work of manufacturing the light emitting element can be separated, and the active matrix element can be directly placed on the substrate. The advantage is that multilayer wiring can be realized by making the substrate a multilayer structure.
また、 基板材料をガラス以外のセラミック、 金属とすることにより、 放熱特性 を改善することができる。  Further, by using a ceramic or metal other than glass as the substrate material, the heat radiation characteristics can be improved.

Claims

請求の範囲 The scope of the claims
1 . 第 1基板と、 前記第 1基板に対向する第 2基板と、 前記第 1基板と前記第 2 基板との間に設けられた機能材料層とを備え、 1. A first substrate, including a second substrate facing the first substrate, and a functional material layer provided between the first substrate and the second substrate,
共通の信号電圧によって駆動される複数の信号電極が前記第 1基板上に形成さ れており、  A plurality of signal electrodes driven by a common signal voltage are formed on the first substrate;
走査電極が前記複数の信号電極に対向するように前記第 2基板上に形成されて いる、 ディスプレイデバイス。  A display device, wherein a scanning electrode is formed on the second substrate so as to face the plurality of signal electrodes.
2 . 前記第 1基板は透明基板であり, 前記信号電極は透明電極である、 請求の範 囲第 1項に記載のディスプレイデバイス。 2. The display device according to claim 1, wherein the first substrate is a transparent substrate, and the signal electrode is a transparent electrode.
3 . 前記第 2基板は透明基板であり、 前記走査電極は透明電極である、 請求の範 囲第 1項に記載のディスプレイデパイス。 3. The display device according to claim 1, wherein the second substrate is a transparent substrate, and the scanning electrode is a transparent electrode.
4 . 第 1基板と、 前記第 1基板に対向する第 2基板と、 前記第 1基板と前記第 2 基板との間に設けられた機能材料層とを備え、 4. A first substrate, including a second substrate facing the first substrate, and a functional material layer provided between the first substrate and the second substrate,
複数の信号電極群が前記第 1基板上に形成され、 前記複数の信号電極群のそれ ぞれは所定の第 1の方向に配列された複数の信号電極を含み、  A plurality of signal electrode groups are formed on the first substrate, each of the plurality of signal electrode groups includes a plurality of signal electrodes arranged in a predetermined first direction,
複数の走査電極群が前記複数の信号電極群に対向するように前記第 2基板上に 形成され、 前記複数の走査電極群のそれぞれは所定の第 2の方向に延びる複数の 走査電極を含み、  A plurality of scan electrode groups are formed on the second substrate so as to face the plurality of signal electrode groups, each of the plurality of scan electrode groups includes a plurality of scan electrodes extending in a predetermined second direction;
前記複数の走査電極群から選択された複数の走査電極に走査電圧が印加される とともに、 前記複数の信号電極群のうちの 1つに含まれる前記複数の信号電極に 信号電圧が印加される、 ディスプレイデバイス。 A scan voltage is applied to a plurality of scan electrodes selected from the plurality of scan electrode groups, and a signal voltage is applied to the plurality of signal electrodes included in one of the plurality of signal electrode groups. Display device.
5. 前記第 1基板は透明基板であり、 前記信号電極は透明電極である、 請求の範 囲第 4項に記載のディスプレイデバイス。 5. The display device according to claim 4, wherein the first substrate is a transparent substrate, and the signal electrode is a transparent electrode.
6. 前記第 2基板は透明基板であり、 前記走査電極は透明電極である、 請求の範 囲第 4項に記載のディスプレイデバイス。 6. The display device according to claim 4, wherein the second substrate is a transparent substrate, and the scanning electrode is a transparent electrode.
7. 前記ディスプレイデバイスは、 前記第 1基板上に形成された複数の信号線を さらに含み、 前記複数の信号線のうちの 1つは、 前記複数の信号電極群のうちの 1つに含まれる前記複数の信号電極に接続されている、 請求の範囲第 4項に記載 7. The display device further includes a plurality of signal lines formed on the first substrate, and one of the plurality of signal lines is included in one of the plurality of signal electrode groups. The method according to claim 4, wherein the signal electrodes are connected to the plurality of signal electrodes.
8. 前記複数の信号線は、 隣接する信号電極の間に設けられている、 請求の範囲 第 7項に記載のディスプレイデバイス。 8. The display device according to claim 7, wherein the plurality of signal lines are provided between adjacent signal electrodes.
9. 前記複数の走查電極のうち隣接する走査電極の隙間に対応する前記第 1基板 上の位置にパッドが形成され、 前記複数の信号線のうちの 1つは、 前記パッドを 介して取り出される、 請求の範囲第 7項に記載のディスプレイデバイス。 9. A pad is formed at a position on the first substrate corresponding to a gap between adjacent scan electrodes of the plurality of scan electrodes, and one of the plurality of signal lines is taken out through the pad. The display device according to claim 7, wherein:
1 0. 前記信号電極の面抵抗は、 1 0 0オーム Z平方センチメートルから 1 0キ 口オーム Z平方センチメ一トルである、 請求の範囲第 1項から第 9項のいずれか に記載のディスプレイデバイス。 10. The display device according to claim 1, wherein a sheet resistance of the signal electrode is from 100 ohm Z square centimeter to 10 ohm Z square centimeter.
1 1 . 前記信号電極は、 酸化スズまたは酸化亜鉛の単体材料あるいはこれらの混 合材料からなる、 請求の範囲第 1項から第 1 0項のいずれかに記載のディスプレ イデバイス。 11. The display device according to any one of claims 1 to 10, wherein the signal electrode is made of a simple material of tin oxide or zinc oxide or a mixed material thereof.
1 2 . 前記信号線は、 アルミニウムまたは銅を含む二元合金材料からなる、 請求 の範囲第 7項〜第 1 1項のいずれかに記載のディスプレイデバイス。 12. The display device according to any one of claims 7 to 11, wherein the signal line is made of a binary alloy material containing aluminum or copper.
1 3 . 多層構造を有する基板と、 13. A substrate having a multilayer structure;
前記基板の上に形成された複数の第 1電極と、  A plurality of first electrodes formed on the substrate,
前記複数の第 1電極の上に形成された機能材料層と、  A functional material layer formed on the plurality of first electrodes,
前記機能材料層の上に形成された複数の透明な第 2電極と  A plurality of transparent second electrodes formed on the functional material layer;
を備え、  With
前記第 1電極および前記第 2電極のそれぞれが、 前記多層構造を有する前記基 板内に設けられた配線に電気的に接続されている、  Each of the first electrode and the second electrode is electrically connected to a wiring provided in the substrate having the multilayer structure.
1 4. 第 1面と前記第 1面に対向する第 2面とを有する基板と、 1 4. a substrate having a first surface and a second surface facing the first surface;
前記基板の前記第 1面上に形成された複数の第 1電極と、  A plurality of first electrodes formed on the first surface of the substrate,
前記複数の第 1電極の上に形成された機能材料層と、  A functional material layer formed on the plurality of first electrodes,
前記機能材料層の上に形成された複数の透明な第 2電極と  A plurality of transparent second electrodes formed on the functional material layer;
を備え、  With
前記複数の第 1電極に印加される電圧と前記複数の第 2電極に印加される電圧 とがいずれも前記基板の前記第 2面から供給される、 ディスプレイデバイス。  The display device, wherein both the voltage applied to the plurality of first electrodes and the voltage applied to the plurality of second electrodes are supplied from the second surface of the substrate.
1 5 . 前記複数の第 1電極と前記複数の第 2電極とを駆動する手段が前記基板の 前記第 2面に設けられている、 請求の範囲第 1 4項に記載のディスプレイデパイ ス。 15. The display device according to claim 14, wherein means for driving the plurality of first electrodes and the plurality of second electrodes is provided on the second surface of the substrate.
1 6 . 前記機能材料層は、 液晶層である、 請求の範囲第 1 4項に記載のディスプ レイデバイス。 16. The display device according to claim 14, wherein the functional material layer is a liquid crystal layer.
17. 前記機能材料層は、 有機エレクト口ルミネッセンス発光層である、 請求の 範囲第 14項に記載のディスプレイデバイス。 17. The display device according to claim 14, wherein the functional material layer is an organic electroluminescent luminescent layer.
18. 前記機能材料層は、 無機エレクト口ルミネッセンス発光層である、 請求の 範囲第 14項に記載のディスプレイデバイス。 18. The display device according to claim 14, wherein the functional material layer is an inorganic electroluminescent layer.
19. 前記基板は、 可撓性を有する材料からなる、 請求の範囲第 14項に記載の ディスプレイデバイス。 19. The display device according to claim 14, wherein the substrate is made of a flexible material.
20. 前記基板の前記第 2面から前記第 2電極に至る前 K 20. Before reaching the second electrode from the second surface of the substrate K
の厚さ力 50ミクロンから 1 50ミクロンである、 請求の範囲第 14項に記載 のディスプレイデバイス。 15. The display device of claim 14, wherein the thickness of the display device is between 50 microns and 150 microns.
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