WO1999052891A1 - Process for producing hydroxylactone compound - Google Patents

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WO1999052891A1
WO1999052891A1 PCT/JP1999/001615 JP9901615W WO9952891A1 WO 1999052891 A1 WO1999052891 A1 WO 1999052891A1 JP 9901615 W JP9901615 W JP 9901615W WO 9952891 A1 WO9952891 A1 WO 9952891A1
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WO
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group
compound
formula
salt
ring
Prior art date
Application number
PCT/JP1999/001615
Other languages
French (fr)
Japanese (ja)
Inventor
Masahiko Seki
Tooru Kuroda
Takeshi Yamanaka
Ritsuo Imashiro
Takeji Shibatani
Original Assignee
Tanabe Seiyaku Co., Ltd.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tanabe Seiyaku Co., Ltd. filed Critical Tanabe Seiyaku Co., Ltd.
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Publication of WO1999052891A1 publication Critical patent/WO1999052891A1/en

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D321/00Heterocyclic compounds containing rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by groups C07D317/00 - C07D319/00

Definitions

  • the present invention relates to a method for producing a ketone compound used as a catalyst in the production of an optically active phenylglycidic acid derivative and a hydroxylactone compound which is a precursor thereof. More specifically, an asymmetric ketone compound used as a catalyst in the production of an optically active phenyldaricidic acid derivative, which is an intermediate for producing a 1,5-benzothiazepine derivative useful as a medicament, and a precursor, i.e.
  • the present invention relates to a method for producing a droxylactone compound.
  • Certain 1,5-benzothiazepine derivatives are useful compounds for cardiovascular diseases such as angina pectoris, myocardial infarction and arrhythmia, hypertension, coronary infarction and cerebral infarction It is known that, in particular, diltiazem hydrochloride [Chemical name: (2S, 3S)
  • 1,5-benzothiazepine derivatives can be produced by various methods. One of them is to use an optically active phenyldaricic acid derivative, which is reacted with o-amino thiophenol and then subjected to a ring closure reaction.
  • a method has been proposed in which an optically active 1,5-benzothiazepine derivative is obtained by the addition of a derivative thereof (Japanese Patent Laid-Open No. 60-137776).
  • Various methods have been proposed as a method for producing the optically active phenylglycidic acid derivative of the starting compound used in this method.
  • asymmetric ketone compounds are known to be used for catalytic asymmetric epoxidation of olefins (J. Am. Chem. Soc., Vol. 118, 491-492 and 11311-11312, 1996), It is produced by reacting asymmetric 1,1-binaphthyl-2,2,1-dicarboxylic acid with dihydroxyacetone in an organic solvent (see j. Am. Chem. Soc.
  • the above-mentioned known method for producing an asymmetric ketone compound requires a large amount of an organic solvent, and is not suitable as an industrial production method.
  • the present inventors have conducted various studies to find a method for efficiently producing a series of asymmetric ketone compounds considered to be useful for such catalytic asymmetric epoxidation, and as a result, using an epoxy derivative of a biaryl compound, By subjecting the compound to an internal ring-closure reaction, a hydroxylactone compound as a precursor was obtained in high yield, and it was found that oxidation of this compound could lead to a desired asymmetric ketone compound. I got it.
  • the present invention provides a compound of the general formula (I)
  • ring Ar is a monocyclic to tricyclic aromatic ring which may have a substituent
  • Alk is a single bond or may have a substituent
  • an alkylene group and Q is a carbonyl.
  • X represents an oxygen atom or a sulfur atom
  • R 1 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group.
  • the present invention also provides a compound represented by the general formula (VI): oxidizing the hydroxylactone compound (II) or a salt thereof.
  • reaction formula 11 the epoxy compound represented by the general formula (I) or the salt thereof is subjected to intramolecular ring closure to lead to the hydroxylatatatone compound represented by the general formula (II) or a salt thereof.
  • the epoxy compound (I) or a salt thereof is converted to a hydroxylactone compound by the above method.
  • reaction leading to (II) or a salt thereof is easily carried out by the following methods (a) and (b).
  • the hydroxylactone compound (II) or a salt thereof is obtained by reacting the epoxy compound (I) or a salt thereof with an ammonium salt in a suitable solvent in the presence of a base.
  • Solvents used include alcoholic solvents (methanol, ethanol, isopropyl alcohol / t-butyl alcohol / t-butyl alcohol), ether solvents (jetinole-no-tenol, disopropinole-no-tenol, t-butynol-methinole) Ethanol, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane), aliphatic hydrocarbon solvents that may be halogenated (hexane, methylene chloride, chloroform, 1,2-dichloroethane, carbon tetrachloride), Aromatic hydrocarbon solvents that may be hydrogenated (benzene, toluene, xylene, benzene, dichlorobenzene), ester solvent
  • the amount of the solvent to be used is generally in the range of 2 to 50 g, preferably 10 to 30 g, per 1 g of compound (I).
  • Bases include alkali metal hydrides (lithium hydride, sodium hydride, lithium hydride), alkali metal hydroxides (lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide). ), Alkaline earth metal hydroxides (calcium hydroxide, barium hydroxide), alkylamines (triethylamine, N, N-diisopropyl-N-ethylethylamine) and the like, preferably lithium hydroxide and sodium hydroxide. It is.
  • ammonium salt to be reacted examples include a quaternary ammonium salt [quaternary ammonium hydroxide / phosphate (tetra-n-butyl ammonium hydroxide sulfate), and a quaternary ammonium halide (tetra-n-butyl).
  • Ammonia a phosphonium salt [quaternary phosphonium borate (methyltrimethoxyphosphate tetrafluoroborate)] and the like, and preferably tetra-n-butylammonium oxide and tetra-n-butylammonium. It is hydrohydrogen sulfate.
  • the amount of use is from 10 mg to 20 O mg, preferably from 20 mg to 5 O mg, based on 1 g of compound (I).
  • the above reaction is carried out under cooling to heating, and is usually carried out at a temperature of 5 to 150 ° C, preferably 80 to 120 ° C.
  • a hydroxylatatatone compound (II) or a salt thereof treatments of the epoxy compound (I) or a salt thereof with a transition metal complex catalyst in a suitable solvent in the presence of a base leads to a hydroxylatatatone compound (II) or a salt thereof.
  • the solvent to be used include ether solvents (getyl ether, diisopropionate ethere, butynolemethinoleatenole, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane), aliphatic hydrocarbon solvents which may be halogenated ( Hexane, methylene chloride, chloroform, 1,2-dichloroethane, carbon tetrachloride), aromatic hydrocarbon solvents which may be halogenated (benzene, toluene, xylene, cyclobenzene, dichlorobenzene) , Ester solvents (methyl acetate, ethyl acetate), nitrile solvents (aceton
  • the amount of the compound to be used is 2 to 50 g, preferably to compound (I) )
  • a base a plate group [alkylamine (triethylamine, N, N-diisopropyl-1-N-ethylamine); aromatic amine (pyridine, lutidine, 41N, N-dimethylaminopyridine), Arylamine (aniline, N, N-Jetylaniline), Bridged amine (1,4-diazabicyclo [2,2,2] octane, 1,8-diazabicyclo [5,4,0] pandeca7-ene)] And N, N-diisopropyl-1-N-ethylamine.
  • This reaction is carried out under cooling to heating, usually from 0 to 100 ° C, preferably from 10 to 30 ° C. Performed in the range of C.
  • the transition metal complex catalyst used in the above method (b) includes any chiral catalyst used for the epoxidation reaction of ethylene and the like.
  • any chiral catalyst used for the epoxidation reaction of ethylene includes any chiral catalyst used for the epoxidation reaction of ethylene and the like.
  • JP-A-59-219272, JP-A-6-219272 The compounds described in JP-A-49051, JP-A-5-507645, JP-T-6-5099981, and International Publication No. 96-28402 pamphlet can be used.
  • transition metal complex catalyst examples include a complex represented by the following formula (VII) or a complex in which a halogen ion or a fatty acid ion is further coordinated to this complex.
  • ⁇ I a hydrogen atom, an alkyl or aryl group
  • R 2 'to R 5 ' and R 2 "to R 5 " are a hydrogen atom, an alkyl or aryl group
  • R al ′ to R a4 ′ are a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group), or (iii) a bond represented by the following formula:
  • M is a transition metal or Means aluminum
  • a straight-chain or branched-chain alkyl group having 1 to 6 carbon atoms preferably a straight-chain or branched-chain alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably Is a branched-chain alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, most preferably t-butyl
  • the aryl group is an aromatic hydrocarbon group having 6 to 10 carbon atoms, preferably an aromatic hydrocarbon group having 6 to 8 carbon atoms.
  • a hydrocarbon group more preferably a phenyl group
  • the alkylene group is a straight-chain or branched-chain alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, preferably a straight-chain or branched-chain alkylene group having 3 to 5 carbon atoms; More preferably, it is a straight-chain alkylene group having 3 to 5 carbon atoms, most preferably a tetramethylene group.
  • the transition metal of M include cobalt, titanium, vanadium, and chromium, with cobalt and titanium being most preferred, and cobalt being most preferred.
  • a preferred complex used in the present invention is a compound represented by the formula (VII) wherein R a ′ and R a ′′ are bonded to each other.
  • R al 'to R a4 ' are a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group) or bonded to each other to form a compound represented by the formula:
  • R bl ′ and R b2 ′ are a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, and Alk ′ is the same as above
  • Another preferred complex used in the present invention is a compound represented by the formula (VII), wherein R 1 ′ and R 1 ′′ are a hydrogen atom, and R 2 ′ to R 5 ′ and R 2 ′′ to R 5 ′′ are a hydrogen atom or an alkyl group. ,
  • R a1 ′ to R a4 ′ are each a hydrogen atom, and R b 1 ′ and R b 2 ′ are hydrogen atoms.
  • R 1 ′ and R 1 ′′ are a hydrogen atom
  • R 3 ′, R 5 ′, R 3 ′′ and R 5 ′′ are each a hydrogen atom or Alkyl group
  • R 2 ′, R 4 ′, R 2 ′′ and R 4 ′′ are each a hydrogen atom
  • R a ′ and R a are bonded to each other and are unsubstituted o-phenylene group or It is a compound that forms an unsubstituted 1,2-cyclohexylene group.
  • Preferred complexes (VII) for use in the present invention are those wherein the transition metal M is cobalt, titanium, nonadium or chromium, more preferably M is cobalt, especially divalent cobalt.
  • the complex (VII) used in the present invention includes those in which haguchigenion or fatty acidion is coordinated to the transition metal M site, and those in which these ions are not coordinated are also preferably used.
  • transition metal complex catalyst used in the present invention include complexes represented by the following formulas (VIII) and (IX).
  • the ton compounds can also be converted to R-type hydroxylactone compounds (II-a) or S-type hydroxylactone compounds ( ⁇ -b), respectively. Be guided.
  • ring Ar is an optionally substituted 1 to 3 cyclic aromatic ring, has a configuration in which the part shown by a bold line is in front, and Alk is a single bond
  • solvent used in the above reaction examples include aromatic hydrocarbon solvents that may be halogenated (benzene, toluene, xylene, cyclobenzene, dichlorobenzene), and among them, toluene is preferable.
  • the oxidizing agent examples include a metal oxidizing agent [manganese dioxide, potassium dichromate, pyridinum chromate chromate, ruthenium oxide, ruthenium chloride sodium periodate, tetrapropylammonium pearltenate-N-methylmorpholine Oxide] and non-metallic acid oxidizing agent [Dic oxalic acid dimethyl sulfoxide, 1,1,1-tris (acetyl oxy) -1,1,1-dihydro-1,2, benzodoxol _ 3 (1H) —one], of which manganese dioxide is preferred.
  • the above reaction is usually carried out at 10 to 200 ° C., preferably 20 to: I 10. Performed at C.
  • ring Ar is an optionally substituted 1 to 3 cyclic aromatic ring, has a configuration in which the part shown by a bold line is in front, and Alk is a single bond
  • the epoxy compound (I) or a salt thereof, which is a starting compound in the method of the present invention, can be produced by the two routes using the biaryl compound (III) as shown in the following reaction formula 13. Reaction formula 1 3
  • an acid anhydride is produced from a biaryl compound ( ⁇ ) by a conventional method.
  • the compound (Pro-III) is reacted with the compound (V-a) in a suitable solvent in the presence or absence of a base by reacting the compound represented by or a salt thereof to introduce a protecting group.
  • the desired epoxy compound (I) is obtained by reacting and removing the protecting group.
  • a dehydrating agent is allowed to act on compound (III) in an appropriate solvent.
  • the dehydrating agents used in this method include ⁇ , ⁇ '-dicyclohexylcarbodiimide (DCC), DCC and 1-hydroxybenzotriazolone, azodiphenol diesterol olevonate (diethyl azodicarboxylate). ), Acid anhydrides (acetic anhydride, propionic anhydride), etc., of which anhydrous acetic acid is preferred.
  • Solvents include acid anhydrides (acetic anhydride, propionic anhydride), ether solvents (getyl ether, diisopropyl ether, t-butylmethyl ether, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane), and halogenated solvents.
  • aliphatic hydrocarbon solvents hexane, methylene chloride, chloroform, 1,2-dichloroethane, carbon tetrachloride
  • aromatic hydrocarbon solvents benzene, ⁇ Ene, xylene, benzene, dichlorobenzene
  • ester solvents methyl acetate, ethyl acetate
  • nitrile solvents acetonitrile
  • ketone solvents acetone, 2-butanone, methyl isobutyl ketone
  • Amide solvents dimethylformamide, dimethylacetamide
  • acetic anhydride is particularly Preferred.
  • An alternative method for producing the acid anhydride is to react the biaryl compound (III) with a reactive derivative of a fatty acid, phosphoric acid or sulfonic acid or a halogenating agent in a suitable solvent in the presence of a deoxidizing agent.
  • the reactive derivatives of fatty acids, phosphoric acids or sulfonic acids used in this method include acid halides (p-toluenesulfochloride, benzenesulfonic acid chloride, methanesulfonic acid chloride, acetylc-mouth chloride, formic acid) And diphenylphosphoric acid chloride), among which diphenylphosphoric acid chloride is particularly preferred.
  • halogenating agent examples include thionyl chloride, oxalyl chloride, phosphorus oxychloride, phosphorus pentoxide, phosphorus trioxide and the like. Of these, thioyl chloride and oxalyl chloride are particularly preferred.
  • the deoxidizing agent examples include alkali metal hydroxides (sodium hydroxide and potassium hydroxide), alkaline earth metal hydroxides (calcium hydroxide and barium hydroxide), and organic radicals such as alkylamine (triethylamine, N, N-diisopropyl-N-ethylamine); Aroma Aromatic amines (pyridine, lutidine, 4- ⁇ , ⁇ -dimethylaminopyridine), arylamines (aniline, ⁇ , ⁇ ⁇ -getylaniline), bridged amines (1,4-diazabicyclo [2,2,2] octane, 1 , 8-Diazabicyclo [5,4,0] indene 7-ene)], of which triethylamine is particularly preferred.
  • alkali metal hydroxides sodium hydroxide and potassium hydroxide
  • alkaline earth metal hydroxides calcium hydroxide and barium hydroxide
  • organic radicals such as alkylamine (
  • solvent to be used examples include ether solvents (getyl ether, diisopropyl ether, t-butyl methyl ether, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane), and aliphatic hydrocarbon solvents (optionally).
  • Xane dimethylene chloride, chloroform, 1,2-dichloroethane, carbon tetrachloride
  • aromatic hydrocarbon solvents which may be halogenated (benzene, toluene, xylene, cyclobenzene, cyclobenzene), Ester solvents (methyl acetate, ethyl acetate), nitrile solvents (acetonitrile), ketone solvents (acetone, 2-butanone, methyl isobutyl ketone), amide solvents (dimethylformamide, dimethylacetamide) And the like, of which methylene chloride is particularly preferred.
  • the acid anhydride produced by any of the above methods includes, for example, the following formula ( ⁇ ):
  • an acid anhydride may be formed between molecules as shown in the above. Any of the acid anhydrides is used in the following steps and is similarly used, but the acid anhydride is used in the molecule of the formula ( ⁇ '). Are preferred.
  • the protecting group is introduced by reacting the above acid anhydride with compound (IV) or a salt thereof in a suitable solvent in the presence of a deoxidizing agent.
  • a compound which is useful for protecting one Q—X— ⁇ group that is, a carboxylic acid or a sulfonic acid, and in which the protecting group can be removed by a method other than hydrolysis, may be mentioned.
  • the substituent include an alkyl group such as a methyl group and an ethyl group; an alkoxy group such as a methoxy group; a nitro group; an aryl group such as a phenyl group and a naphthyl group; an aralkyl group such as a trityl group.
  • Preferred compound (IV) is benzyl alcohol.
  • Salt of the compound (IV) Examples include: alkali metal salts (lithium salt, sodium salt, potassium salt), alkaline earth metal salts (calcium salt, norium salt), organic amine salts [alkylamine salts (triethylammonium salt, N, N —Disopropyl-1-N-ethylammonium salt), aromatic amine salts (pyridinium salt, lutidinium salt, 4-N, N-dimethylaminopyridinium salt)], of which lithium salt and sodium salt are preferred.
  • the compound (IV) or a salt thereof is used in an amount of 1 to 10 mol, preferably 1.5 to 3.0 mol, per 1 mol of the compound ( ⁇ ) before forming an acid anhydride.
  • Examples of the deoxidizing agent used in the above reaction include organic amines [alkylamines (triethylamine, N, N-diisopropyl-1-N-ethylamine); aromatic amines (pyridines, 4-N, N-dimethylaminopyridine); Arylamine (anilin, ⁇ , ⁇ -ethylylaniline)], among which triethylamine, 4-—, ⁇ -dimethylaminopyridine, and mixtures thereof are preferable.
  • Examples of the solvent include halogenated aliphatic hydrocarbon solvents (methylene chloride, chloroform, 1,2-dichloroethane, carbon tetrachloride), and optionally halogenated aromatic hydrocarbons.
  • Hydrogen solvents (benzene, toluene, xylene, black benzene, dichlorobenzene), ether solvents (getyl ether, diisopropyl ether, t-butylmethyl ether, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane), amides Solvents (dimethylformamide, dimethylacetamide) and sulfoxide solvents (dimethylsulfoxide). Of these, methylene chloride and tetrahydrofuran are preferable.
  • the reaction is usually carried out at 5 to 150 ° C, preferably at 20 to 30 ° C. Performed at a temperature of C.
  • the compound (Prot-111) protected by the above method is reacted with an epoxy compound (V-a) to lead to an epoxy compound (Prot-I).
  • This reaction can be carried out according to a known method. For example, J. Org. Chem. Vol. 26, 2681-2688 (1961), Ind. Eng. Chem. Prod. Res. Dev. Vol. 23, 452 -454 (1984) and so on.
  • the protected epoxy compound (Prot-III) is reacted with an epoxy compound (Va) in a suitable solvent in the presence or absence of a base to thereby protect the protected epoxy compound (Prot-II).
  • a suitable solvent in the presence or absence of a base to thereby protect the protected epoxy compound (Prot-II).
  • the solvent to be used include aliphatic hydrocarbon solvents which may be halogenated (methylene chloride, chloroform, 1,2-dichloroethane, carbon tetrachloride), and aromatic hydrocarbons which may be halogenated.
  • Solvents (benzene, toluene, xylene, black benzene, dichlorobenzene), ether solvents (getyl ether, diisopropyl ether, t-butylmethylinoether, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane), amide solvents (Dimethylformamide, dimethylacetamide), sulfoxide-based solvents (dimethylsulfoxide), and the like, with toluene being particularly preferred.
  • alkali metal hydrides lithium hydride, sodium hydride, potassium hydride
  • alkali metal hydroxides lithium hydroxide, sodium hydroxide, lithium hydroxide
  • alkaline earth metal hydroxide Calcium hydroxide, barium hydroxide
  • alkylamines triethylamine, N, N-diisopropyl-N-ethylethylamine
  • a quaternary ammonium salt [quaternary ammonium hydroxide salt (tetra-n-butyl / ammonium hydroxide salt sulfate), a quaternary ammonium halide (tetra-n-butylammonium salt) ), And phosphonium salts [quaternary phosphonium borate (methinoletrimethoxyphosphate tetraf / leoloborolate)] and the like, among which tetra n-butylammonium hydrogen sulfate, Tetra n-butyl ammonium hydroxide is preferred.
  • the above reaction is usually carried out at a temperature of from 10 to 200 ° C, preferably from 80 to 150 ° C.
  • a conventional leaving group can be used, and examples thereof include a halogen atom such as a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom; and toluenesulfonyloxy.
  • a sulfonyloxy group such as a methanesulfonyloxy group; and an acyloxy group such as an acetoxy group and a ptyryloxy group.
  • the compound (V-a) is used in an amount of about 1.0 to 1.5 mol per 1 mol of the compound (Prot-III).
  • Protected epoxy compound (Prot-I) obtained by the above method The desired epoxy compound (I) can be obtained by removing the protecting group.
  • the protecting group can be removed by a conventional method according to the type of the protecting group.
  • the method includes catalytic hydrogenation (for example, hydrogenation using palladium-carbon) in an appropriate solvent, or treatment with formic acid or ammonium formate.
  • Solvents used include alcohol solvents (methanol, ethanol, isopropyl alcohol, t-butyl alcohol), and ether solvents (getyl ether, diisopropyl ether, t-butyl methyl ether, tetrahydrofuran,
  • 1,4-dioxane 1,4-dioxane
  • aromatic hydrocarbon solvents benzene, tonolene, xylene
  • methanol and ethanol are preferred.
  • the reaction temperature varies depending on the type of the protecting group removing means, but is usually in the range of 10 to 100 ° C, preferably 20 to 30 ° C.
  • the desired epoxy compound (I) can be obtained by introducing the biaryl aldehyde compound (III) to the acid anhydride in the same manner as described above, and then directly reacting the resulting compound with the epoxy compound (V-b).
  • the reaction between the acid anhydride and the compound (Vb) is performed in a suitable solvent in the presence of a deoxidizing agent.
  • the amount of the compound (Vb) to be used in this reaction is in the range of 1 to 10 mol, preferably 1.0 to 1.5 mol, per 1 mol of the compound (II) before being converted into the acid anhydride.
  • the deoxidizing agents used include alkali metal hydrides (lithium hydride, sodium hydride, potassium hydride), alkali metal hydroxides (lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide), organic amines [ Alkylamines (triethylamine, N, N-diisopropyl-1-N-ethylamine); aromatic amines (pyridine, 4- ⁇ , ⁇ -dimethylaminopyridine), arylamines (aniline, ⁇ , ⁇ ⁇ -ethylenilamine), etc. Among them, triethylamine, 4- ⁇ , ⁇ -dimethylaminopyridine, or a mixture thereof is preferable.
  • the solvent examples include an aliphatic hydrocarbon solvent which may be halogenated (methylene chloride, chloroform, 1,2-dichloroethane, carbon tetrachloride), a non-halogenated aromatic hydrocarbon which may be halogenated.
  • aliphatic hydrocarbon solvent which may be halogenated (methylene chloride, chloroform, 1,2-dichloroethane, carbon tetrachloride), a non-halogenated aromatic hydrocarbon which may be halogenated.
  • Hydrogen solvents (benzene, toluene / xylene, xylene, benzene, dichlorobenzene), ether solvents (getyl ether, diisopropyl ether, t-butyl methyl ether, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane) ), Amide solvents (dimethylformamide, dimethylacetamide), sulfoxide solvents (dimethylsulfoxide) And methylene chloride and tetrahydrofuran are preferred. This reaction is usually carried out at a temperature of 5 to 150 ° C, preferably 20 to 30 ° C.
  • the compound (III) is an asymmetric compound, that is, if an R-type compound or an S-type compound is used, the corresponding asymmetric compound is obtained. Through the compound, it is led to an R-type epoxy compound (I-a) or an S-type epoxy compound (I-b).
  • ring Ar is a 1 to 3 cyclic aromatic ring which may have a substituent, has a configuration in which a portion shown by a bold line is in front, and Alk is a single ring.
  • the optionally substituted 1 to 3 cyclic aromatic ring of the ring Ar includes, for example, a benzene ring, a naphthalene ring, a naphthoquinone ring, Examples include anthracene ring, anthraquinone ring, and phenanthrene ring.
  • the substitution position of Alk that bonds the aromatic ring is not particularly limited as long as it causes molecular asymmetry, but it is preferable that Alk is bonded to the ortho position of the bond between two rings Ar. .
  • Examples of the substituent on the aromatic ring include a halogen atom represented by a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom, a nitro group, a methylsulfonyl group, a p-toluenesulfonyl group, a trifluoromethyl group, and a cyano group.
  • An electron-withdrawing group such as a group, a methoxycarbonyl group, a methylsulfoxide group or a sulfolamide group; a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms represented by a methyl group, an ethyl group, a propyl group and a butyl group; Lower alkoxy groups having 1 to 4 carbon atoms, such as methoxy, ethoxy, propoxy and butoxy groups, cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl And electron-donating groups such as a cycloalkyl group having 3 to 7 carbon atoms typified by a group and a cyclohexyl group, and an aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms typified by a benzyl group and a phenethyl group.
  • an electron-withdrawing group is preferable, and a halogen atom is particularly preferable.
  • Examples of preferred rings Ar include the following partial structures:
  • R e and R b each represent a hydrogen atom or a substituent, and R e and R d represent groups satisfying the following conditions:
  • R d are each a hydrogen atom or a substituent, or /, Is
  • RR j , R k, and R m each represent a hydrogen atom or a substituent
  • Examples of the substituent in R a to R m include a halogen atom represented by a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom, a nitro group, a methylsulfonyl group, a p-toluenesulfonyl group, a trifluoromethyl group, Electron-withdrawing groups such as cyano, methoxycarbonyl, methylsulfoxide, and sulfonylamide; lower alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms, such as methyl, ethyl, propyl, and butyl; Group, ethoxy group, propoxy group and butoxy group represented by lower alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group and cyclohexyl group having 3 to 7 carbon atoms Electron donation of C7-C10 aralkyl
  • a lk represents a single bond or a linear or branched lower alkylene group having 1 to 5 carbon atoms which may have a substituent.
  • the lower alkylene group include, for example, a linear or branched group represented by a methylene group, an ethylene group, a trimethylene group, a tetramethylene group, a methylmethylene group, a methylethylene group and a methyltrimethylene group.
  • a lower alkylene group having 1 to 4 carbon atoms having a branched chain is exemplified.
  • substituents examples include a sulfiel group, a sulfonyl group, a hydroxy group, a nitro group, a nitrile group, an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an aralkyloxy group, and a quaternary amino group.
  • ring Ar is, for example, a benzene ring, a naphthalene ring, Or when the configuration of an anthracene ring compound is represented, the R-type and S-type configurations are represented by the following partial structures:
  • the starting compound (III) used in the method of the present invention is described in Journal of, The Chemistry, Society (J. Chem. Soc.) 1242-1251 (1955) and 1579-1. 1 582 (1949), Chemical 'and' Pharmaceutical 'Bulletin (Chem. Pharm. Bull.) 37 (8) Vol. 2207-2208 (1 989), Journal' Ob 'American' Chemical ' Society (J. Am. Chem. Soc) 111 4 9309- 931 7 (1992), Journal of America (Chemical) Society (J. Am. Chem.
  • Soc 118 1849 49- It can be produced according to the method described in “Supplementary Material” on page 492 (1996), and its optical resolution can be determined by using optically active amines (eg, quinidine, cinchonidine, amino acids, amino acid esters) , Kyun, Brusin, amino alcohol) etc.
  • optically active amines eg, quinidine, cinchonidine, amino acids, amino acid esters
  • Kyun Brusin, amino alcohol
  • catalysts that generate reactive species include acetone, methyl ethyl ketone, isobutyl methyl ketone, and lower fatty acids (acetic acid and propionic acid).
  • Cobalt acetate (11), cobalt bromide (II), cobalt chloride (11), manganese acetate (11), manganese bromide (11), manganese chloride (II), etc. can also be used.
  • the oxidation reaction can be carried out in an oxygen gas atmosphere of 1 to 30 atm. However, oxygen gas may be allowed to act on the reaction solution by publishing. The reaction can easily proceed at 20-200 ° C, especially at 90-150 ° C.
  • the carboxyl group of the resulting compound (XI) can be esterified by a conventional esterification reaction. If necessary, the carboxyl group of the compound (XI) can be esterified with a nitrogenating agent, a mixed acid ester, or the like. And then react with an alcohol (methanol, ethanol).
  • a dehydrating agent sulfuric acid, P-toluene Sulfonic acid
  • a deoxidizing agent triethylamine, pyridine, N, N-dimethylaniline.
  • Alcohol-based solvents methanol, ethanol
  • Alcohol, which is a reactant can also serve as a solvent.
  • the reaction is preferably carried out at 0 to 150 ° C, especially at 50 to 90 ° C.
  • Subsequent coupling can be carried out by the usual method of the Ullmann reaction [Merck Index (12th ed.) 0NR—92 383]. It can be carried out by stirring at 1170 ° C.
  • Ester hydrolysis of the product is carried out according to the usual method, using an acid (hydrochloric acid, sulfuric acid) or a base (alkali metal hydroxide, alkaline earth metal hydroxide) in water or an aqueous solvent (water-ethanol, water-tetrahydrofuran). By doing so, it can be implemented.
  • the corresponding starting compounds were (A) any one of Examples 1- (1) to (3) or Examples 6 to 10, and (B) any one of Examples 1- (4) or Examples 2-4.
  • the compounds described in Table 2 are obtained by treating according to the procedure described in Example 5 with force. Table 2
  • the compound 12 (46.69 g, yield: 82.5%) is obtained by air drying at 50 ° C. COOCH 3
  • HPLC HPLC was measured under the following conditions, and no contamination with isomers was observed.
  • reaction mixture is poured into half-saturated saline and extracted with ether.
  • organic layer is washed with saturated saline and then dried over anhydrous magnesium sulfate.
  • an asymmetric ketone compound which is used as a catalyst in the production of an optically active furglycidic acid derivative which is an intermediate for producing a 1,5-benzothiazepine derivative useful as a medicament, and a precursor which is a precursor thereof. Since the droxylactone compound can be obtained in a high yield without using a large amount of an organic solvent, the method of the present invention is useful as an industrial production method of the compound.

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Abstract

A process for industrially producing a ketone compound for use as a catalyst in the production of an optically active phenylglycidic acid derivative and for producing a hydroxylactone compound as a precursor for the ketone compound, which comprises subjecting an epoxy compound (I) or a salt thereof to intramolecular ring closure to produce the hydroxylactone compound (II) or a salt thereof and oxidizing this compound (II) to obtain the corresponding ketone compound. (In the formulae, ring Ar is an optionally substituted mono- to tricyclic aromatic ring; Alk is a single bond or optionally substituted alkylene; Q is CO or SO2; X is O or S; and R1 is H or lower alkyl).

Description

明 細 書 ヒ ドロキシラク トン化合物の製法 技術分野  Description Manufacturing method for hydroxylactone compounds Technical field
本発明は、 光学活性フエ二ルグリシッド酸誘導体の製造において触媒として用 いられるケトン化合物およびその前駆体であるヒ ドロキシラク トン化合物の製法 に関する。 さらに詳しくは、 医薬として有用な 1, 5 _ベンゾチアゼピン誘導体 の製造中間体である光学活性フエニルダリシッド酸誘導体の製造に際して触媒と して用いられる不斉ケトン化合物およびその前駆体であるヒ ドロキシラク トン化 合物の製法に関する。  The present invention relates to a method for producing a ketone compound used as a catalyst in the production of an optically active phenylglycidic acid derivative and a hydroxylactone compound which is a precursor thereof. More specifically, an asymmetric ketone compound used as a catalyst in the production of an optically active phenyldaricidic acid derivative, which is an intermediate for producing a 1,5-benzothiazepine derivative useful as a medicament, and a precursor, i.e. The present invention relates to a method for producing a droxylactone compound.
背景技術 Background art
ある種の 1, 5—べンゾチアゼピン誘導体が、 狭心症、 心筋梗塞、 不整脈など の心疾患、 高血圧症、 冠血管梗塞、 脳梗塞などの循環器系疾患に対して有用な化 合物であることが知られており、 特に、 塩酸ジルチアゼム [化学名: ( 2 S , 3 S ) Certain 1,5-benzothiazepine derivatives are useful compounds for cardiovascular diseases such as angina pectoris, myocardial infarction and arrhythmia, hypertension, coronary infarction and cerebral infarction It is known that, in particular, diltiazem hydrochloride [Chemical name: (2S, 3S)
—3—ァセトキシ一 5— [ 2—(ジメチルァミノ)ェチル]一 2—(4—メ トキシフ ェニル)一 1 , 5—ベンゾチアゼピン一 4 ( 5 H)—オン塩酸塩]は、 狭心症、 本態 性高血圧症の治療に広く使用されている。 —3—acetoxy-5— [2- (dimethylamino) ethyl] -1-2- (4-methoxyphenyl) 1-1,5-benzothiazepine-14 (5H) -one hydrochloride] is a drug for angina pectoris, It is widely used to treat essential hypertension.
このような 1 , 5—べンゾチアゼピン誘導体は種々の方法で製造されうるが、 その一^ 3として光学活性フエニルダリシッド酸誘導体を用い、 これを o—ァミノ チォフエノールと反応させたのち閉環反応に付して光学活性 1 , 5—べンゾチア ゼピン誘導体に導く方法が提案されている(特開昭 6 0— 1 3 7 7 6号公報)。 この方法で用いられる出発化合物の光学活性フヱニルグリシッド酸誘導体の製 法としては、 種々の方法が提案されている力 特表平 4— 5 0 1 3 6 0号公報、 特開平 4 - 2 2 8 0 9 5号公報、 特開昭 6 0— 1 3 7 7 6号公報、 国際公開第 9 5 / 0 7 3 5 9号パンフレツト等)、 これらはいずれも原料としてラセミ型トラ ンスーグリシッド酸誘導体を使用しているため、 目的とする光学活性体の収率が ラセミ体の 5 0 %以下と、 きわめて低い欠点がある。  Such 1,5-benzothiazepine derivatives can be produced by various methods. One of them is to use an optically active phenyldaricic acid derivative, which is reacted with o-amino thiophenol and then subjected to a ring closure reaction. A method has been proposed in which an optically active 1,5-benzothiazepine derivative is obtained by the addition of a derivative thereof (Japanese Patent Laid-Open No. 60-137776). Various methods have been proposed as a method for producing the optically active phenylglycidic acid derivative of the starting compound used in this method. Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-501130, Japanese Patent Application Laid-Open No. No. 2,280,955, Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-137776, International Publication No. 95/07359, pamphlet, etc.), all of which are used as raw materials for racemic trans-glycidic acid. Since the derivative is used, the yield of the target optically active substance is very low, less than 50% of that of the racemic form.
しかして、 この光学活性フエニルダリシッド酸誘導体の改良製法として、 ケィ 皮酸誘導体に下記式: As an improved process for producing this optically active phenyldaricidic acid derivative, The following formula is used for the cinnamate derivative:
Figure imgf000004_0001
で示される不斉ケトン化合物および酸化剤を作用させて光学活性フエニルダリシ ッド酸誘導体に導く方法が提案されている(国際公開第 9 8 / 5 6 7 6 2号パン フレツト)。
Figure imgf000004_0001
A method for deriving an optically active phenyldaric acid derivative by reacting with an asymmetric ketone compound and an oxidizing agent represented by the following formula (WO98 / 56672) has been proposed.
上記不斉ケトン化合物はォレフイン類の触媒的不斉エポキシ化に用いられるこ とが知られており(J. Am. Chem. Soc., vol. 118, 491- 492 および 11311— 11312, 1996)、 不斉 1, 1一ビナフチルー 2 , 2,一ジカルボン酸に有機溶媒中ジ ヒドロキシアセトンを作用させて製造される(上記 j. Am. Chem. Soc.サブレメ ンタリ一 .マテリアル)。  The above-mentioned asymmetric ketone compounds are known to be used for catalytic asymmetric epoxidation of olefins (J. Am. Chem. Soc., Vol. 118, 491-492 and 11311-11312, 1996), It is produced by reacting asymmetric 1,1-binaphthyl-2,2,1-dicarboxylic acid with dihydroxyacetone in an organic solvent (see j. Am. Chem. Soc.
発明の開示 Disclosure of the invention
上記公知の不斉ケトン化合物の製法においては大量の有機溶媒を必要とし、 ェ 業的な製法としては適していない。  The above-mentioned known method for producing an asymmetric ketone compound requires a large amount of an organic solvent, and is not suitable as an industrial production method.
本発明者らは、 かかる触媒的不斉エポキシ化に有用と考えられる一連の不斉ケ トン化合物を効率よく製造する方法を見出すべく種々研究した結果、 ビアリ一ル 化合物のエポキシ誘導体を用い、 分子内閉環反応に付すことにより、 前駆体であ るヒドロキシラクトン化合物が高収率で得られ、 これを酸化することにより所望 の不斉ケトン化合物に導き得ることを知り、 本発明を完成するに至つた。  The present inventors have conducted various studies to find a method for efficiently producing a series of asymmetric ketone compounds considered to be useful for such catalytic asymmetric epoxidation, and as a result, using an epoxy derivative of a biaryl compound, By subjecting the compound to an internal ring-closure reaction, a hydroxylactone compound as a precursor was obtained in high yield, and it was found that oxidation of this compound could lead to a desired asymmetric ketone compound. I got it.
発明を実施するための最良の形態 BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
本発明は、 一般式(I ) :  The present invention provides a compound of the general formula (I)
Figure imgf000004_0002
(式中、 環 Arは置換基を有していてもよい 1〜 3環式の芳香環、 Alkは単結合手 または置換基を有していてもよレ、アルキレン基、 Qはカルボ-ル基またはスルホ ニル基、 Xは酸素原子または硫黄原子、 R 1は水素原子または低級アルキル基を 表す)
Figure imgf000004_0002
(Wherein, ring Ar is a monocyclic to tricyclic aromatic ring which may have a substituent, Alk is a single bond or may have a substituent, an alkylene group, and Q is a carbonyl. Group or a sulfonyl group, X represents an oxygen atom or a sulfur atom, and R 1 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group.)
で示されるエポキシ化合物またはその塩を分子内閉環することにより、 一般式 (II) : The intramolecular ring closure of the epoxy compound or a salt thereof represented by the formula (II):
Figure imgf000005_0001
Figure imgf000005_0001
(式中、 環 Ar、 Alk、 Q、 Xおよび R 1は前記と同一意味を有する) (Wherein, the rings Ar, Alk, Q, X and R 1 have the same meanings as described above)
で示されるヒドロキシラク トン化合物またはその塩を製造する方法を提供するも のである。 And a method for producing the hydroxylactone compound or a salt thereof represented by the formula:
本発明は、 また、 該ヒ ドロキシラク トン化合物(Π)またはその塩を酸化して一 般式 (VI) :  The present invention also provides a compound represented by the general formula (VI): oxidizing the hydroxylactone compound (II) or a salt thereof.
Figure imgf000005_0002
Figure imgf000005_0002
(式中、 環 Ar、 Alk、 Q、 Xおよび R 1は前記と同じ) (Wherein, rings Ar, Alk, Q, X and R 1 are the same as described above)
で示されるケトン化合物を^するものであり、 その際、 ヒ ドロキシラク トン化 合物(II)として不斉体を用いることにより、 対応する不斉ケトン化合物が得られ る。 In this case, by using an asymmetric compound as the hydroxylactone compound (II), a corresponding asymmetric ketone compound can be obtained.
一般式( I )で示されるエポキシ化合物またはその塩は下記反応式一 1に示され るように、 分子内閉環して一般式 (II)に示されるヒ ドロキシラタ トン化合物また はその塩に導かれる。 反応式- As shown in the following reaction formula 11, the epoxy compound represented by the general formula (I) or the salt thereof is subjected to intramolecular ring closure to lead to the hydroxylatatatone compound represented by the general formula (II) or a salt thereof. . Reaction formula-
Figure imgf000006_0001
Figure imgf000006_0001
(I) (Π)  (I) (Π)
(式中、 環 Ar、 Alk、 Q、 Xおよび R 1は前記に同じ)。 (Wherein the rings Ar, Alk, Q, X and R 1 are as defined above).
上記の方法で、 エポキシ化合物( I )またはその塩をヒ ドロキシラク トン化合物 The epoxy compound (I) or a salt thereof is converted to a hydroxylactone compound by the above method.
(I I)またはその塩に導く反応は下記の方法( a )および( b )によつて容易に行われ る。 The reaction leading to (II) or a salt thereof is easily carried out by the following methods (a) and (b).
方法(a ) : Method (a):
ェポキシ化合物( I )またはその塩を適当な溶媒中、 塩基の存在下にァンモニゥ ム塩と反応させることによりヒ ドロキシラク トン化合物(II)またはその塩を得る。 用いられる溶媒としては、 アルコール系溶媒(メタノール、 エタノール、 イソ プロピ /レアルコール、 t一ブチルァ/レコール)、 エーテル系溶媒(ジェチノレエ一テ ノレ、 ジィソプロピノレエ一テノレ、 t—ブチノレメチノレエ一テノレ、 テトラヒ ドロフラン、 1 , 4—ジォキサン)、 ハロゲン化されていてもよい脂肪族炭化水素系溶媒 (へキ サン、 塩化メチレン、 クロ口ホルム、 1, 2—ジクロロェタン、 四塩化炭素)、 ノヽ ロゲン化されていてもよい芳香族炭化水素系溶媒 (ベンゼン、 トルエン、 キシレ ン、 クロ口ベンゼン、 ジクロロベンゼン)、 エステル系溶媒(酢酸メチル、 酢酸ェ チル)、 二トリル系溶媒 (ァセトニトリル)、 ケトン系溶媒 (アセトン、 2—ブタノ ン、 メチルイソブチルケトン)、 アミ ド系溶媒(ジメチルホルムァミド、 ジメチル ァセトアミド)等が挙げられ、 好ましくは、 エタノール、 テトラヒドロフラン、 4一ジォキサンである。 その溶媒の使用量は、 通常、 化合物(I ) l gに対し、 2〜 5 0 g、 好ましくは化合物(1 ) 1 gに対し、 1 0〜 3 0 gの範囲である。 塩基 としては、 水素化アルカリ金属(水素化リチウム、 水素化ナトリウム、 水素化力 リウム)、 水酸化アルカリ金属 (水酸化リチウム、 水酸化ナトリウム、 水酸化カリ ゥム)、 水酸ィヒアルカリ土類金属(水酸化カルシウム、 水酸化バリウム)、 アルキ ルァミン(トリェチルァミン、 N, N-ジィソプロピル一N—ェチルァミン)等が含 まれ、 好ましくは、 水酸化リチウム、 水酸化ナトリウムである。 The hydroxylactone compound (II) or a salt thereof is obtained by reacting the epoxy compound (I) or a salt thereof with an ammonium salt in a suitable solvent in the presence of a base. Solvents used include alcoholic solvents (methanol, ethanol, isopropyl alcohol / t-butyl alcohol / t-butyl alcohol), ether solvents (jetinole-no-tenol, disopropinole-no-tenol, t-butynol-methinole) Ethanol, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane), aliphatic hydrocarbon solvents that may be halogenated (hexane, methylene chloride, chloroform, 1,2-dichloroethane, carbon tetrachloride), Aromatic hydrocarbon solvents that may be hydrogenated (benzene, toluene, xylene, benzene, dichlorobenzene), ester solvents (methyl acetate, ethyl acetate), nitrile solvents (acetonitrile), Ketone solvents (acetone, 2-butanone, methyl isobutyl ketone), amide solvents (dimension Ruhorumuamido, dimethyl Asetoamido), and the like, preferably, ethanol, tetrahydrofuran, 4 one Jiokisan. The amount of the solvent to be used is generally in the range of 2 to 50 g, preferably 10 to 30 g, per 1 g of compound (I). Bases include alkali metal hydrides (lithium hydride, sodium hydride, lithium hydride), alkali metal hydroxides (lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide). ), Alkaline earth metal hydroxides (calcium hydroxide, barium hydroxide), alkylamines (triethylamine, N, N-diisopropyl-N-ethylethylamine) and the like, preferably lithium hydroxide and sodium hydroxide. It is.
また反応させるアンモニゥム塩としては、 第 4級アンモニゥム塩 [第 4級アン モ -ゥムハイ ドロジェンサ /レフェート(テトラ n—ブチルアンモニゥムハイ ドロ ジェンサルフェート)、 第 4級アンモ-ゥムハライ ド(テトラ n—ブチルアンモニ ゥムョージド)] 、 ホスホニゥム塩 [第 4級ホスホニゥムボレート(メチルトリメ トキシホスフェートテトラフルォロボレート)] 等が挙げられ、 好ましくはテト ラ n—ブチルアンモユウムョージド、 テトラ n—ブチルアンモニゥムハイドロジ ェンサルフェートである。 その使用量は、 化合物( I ) l gに対し、 1 0 mg〜2 0 O mg、 好ましくは、 2 0 mg〜5 O mgの範囲である。 上記の反応は冷却〜加熱下に 行われ、 通常、 5〜 1 5 0 °C、 好ましくは 8 0〜1 2 0 °Cの範囲で行われる。 方法(b ) :  Examples of the ammonium salt to be reacted include a quaternary ammonium salt [quaternary ammonium hydroxide / phosphate (tetra-n-butyl ammonium hydroxide sulfate), and a quaternary ammonium halide (tetra-n-butyl). Ammonia), a phosphonium salt [quaternary phosphonium borate (methyltrimethoxyphosphate tetrafluoroborate)] and the like, and preferably tetra-n-butylammonium oxide and tetra-n-butylammonium. It is hydrohydrogen sulfate. The amount of use is from 10 mg to 20 O mg, preferably from 20 mg to 5 O mg, based on 1 g of compound (I). The above reaction is carried out under cooling to heating, and is usually carried out at a temperature of 5 to 150 ° C, preferably 80 to 120 ° C. Method (b):
エポキシ化合物( I )またはその塩を適当は溶媒中、 塩基の存在下に遷移金属錯 体触媒で処理することによりヒ ドロキシラタ トン化合物(Π)またはその塩に導く。 用いられる溶媒としては、 エーテル系溶媒(ジェチルエーテル、 ジイソプロピ ノレエーテノレ、 ーブチノレメチノレエーテノレ、 テトラヒ ドロフラン、 1 , 4—ジォキ サン)、 ハロゲン化されていてもよい脂肪族炭化水素系溶媒 (へキサン、 塩化メチ レン、 クロ口ホルム、 1 , 2—ジクロロェタン、 四塩化炭素)、 ハロゲン化されて いてもよい芳香族炭化水素系溶媒 (ベンゼン、 トルエン、 キシレン、 クロ口ベン ゼン、 ジクロロベンゼン)、 エステル系溶媒 (酢酸メチル、 酢酸ェチル)、 二トリ ル系溶媒 (ァセトニトリル)、 ケトン系溶媒(アセトン、 2—ブタノン、 メチルイ ソブチルケトン)、 アミ ド系溶媒(ジメチルホルムアミド、 ジメチルァセトアミ ド)、 アルコール系溶媒(メタノール、 エタノール、 イソプロピルアルコール、 t —ブチルアルコール)等が挙げられ、 好ましくは、 テトラヒドロフラン、 塩化メ チレン、 クロ口ベンゼンであり、 その使用量は化合物(I ) l gに対し、 2〜5 0 g、 好ましくは化合物(I ) l gに対し、 1 0〜3 0 gである。 塩基として、 有皿基 [アルキルアミン(トリエチルァミン、 N, N -ジイソプロピル一 N—ェチルアミ ン) ;芳香族ァミン(ピリジン、 ルチジン、 4一 N, N—ジメチルァミノピリジン)、 ァリールァミン(ァニリン、 N, N—ジェチルァニリン)、 架橋アミン(1, 4ージ ァザビシクロ [2, 2, 2] オクタン、 1, 8—ジァザビシクロ [5, 4, 0] ゥン デカー 7—ェン)] 等が挙げられ、 好ましくは、 N, N-ジイソプロピル一 N—ェ チルァミンである。 この反応は冷却〜加熱下に行われ、 通常、 0〜100°C、 好 ましくは、 10〜30。Cの範囲で行われる。 Treatment of the epoxy compound (I) or a salt thereof with a transition metal complex catalyst in a suitable solvent in the presence of a base leads to a hydroxylatatatone compound (II) or a salt thereof. Examples of the solvent to be used include ether solvents (getyl ether, diisopropionate ethere, butynolemethinoleatenole, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane), aliphatic hydrocarbon solvents which may be halogenated ( Hexane, methylene chloride, chloroform, 1,2-dichloroethane, carbon tetrachloride), aromatic hydrocarbon solvents which may be halogenated (benzene, toluene, xylene, cyclobenzene, dichlorobenzene) , Ester solvents (methyl acetate, ethyl acetate), nitrile solvents (acetonitrile), ketone solvents (acetone, 2-butanone, methyl isobutyl ketone), amide solvents (dimethylformamide, dimethylacetamide), Alcohol solvents (methanol, ethanol, isopropyl alcohol) Alcohol, t-butyl alcohol) and the like, preferably, tetrahydrofuran, methylene chloride, and benzene having a chloro opening. The amount of the compound to be used is 2 to 50 g, preferably to compound (I) ) For lg, it is 10 to 30 g. As a base, a plate group [alkylamine (triethylamine, N, N-diisopropyl-1-N-ethylamine); aromatic amine (pyridine, lutidine, 41N, N-dimethylaminopyridine), Arylamine (aniline, N, N-Jetylaniline), Bridged amine (1,4-diazabicyclo [2,2,2] octane, 1,8-diazabicyclo [5,4,0] pandeca7-ene)] And N, N-diisopropyl-1-N-ethylamine. This reaction is carried out under cooling to heating, usually from 0 to 100 ° C, preferably from 10 to 30 ° C. Performed in the range of C.
上記の方法(b)で用いられる遷移金属錯体触媒としては、 エチレンのエポキシ 化反応などに使用されるキラル触媒がいずれも含まれ、 例えば、 特開昭 59— 2 19272号公報、 特開平 6— 49051号公報、 特表平 5— 507645号公 報、 特表平 6— 50998 1号公報および国際公開第 96ノ 28402号パンフ レツト等に記載の化合物がいずれも用いられる。  The transition metal complex catalyst used in the above method (b) includes any chiral catalyst used for the epoxidation reaction of ethylene and the like. For example, JP-A-59-219272, JP-A-6-219272 The compounds described in JP-A-49051, JP-A-5-507645, JP-T-6-5099981, and International Publication No. 96-28402 pamphlet can be used.
具体的な遷移金属錯体触媒としては、 次式 (VII)で示される錯体あるいはこの 錯体に更にハロゲンイオンまたは脂肪酸イオンが配位した錯体が挙げられる。  Specific examples of the transition metal complex catalyst include a complex represented by the following formula (VII) or a complex in which a halogen ion or a fatty acid ion is further coordinated to this complex.
Figure imgf000008_0001
Figure imgf000008_0001
[式中、 ぉょび!^ は水素原子、 アルキル基またはァリール基、 R 2'〜R5 'および R2"〜R5"は水素原子、 アルキル基またはァリール基、 Ra'および Re" は(i )水素原子、 アルキル基またはァリール基であるか、 または(ii)互いに結合 して式: [In the formula, ^ Is a hydrogen atom, an alkyl or aryl group, R 2 'to R 5 ' and R 2 "to R 5 " are a hydrogen atom, an alkyl or aryl group, R a 'and R e "are (i) a hydrogen atom, Alkyl or aryl groups, or (ii) linked to each other to form
Figure imgf000008_0002
Figure imgf000008_0002
(式中、 Ra l'〜Ra4'は水素原子、 アルキル基またはァリール基)で示される基、 または(iii)互いに結合して式:
Figure imgf000009_0001
(Wherein, R al ′ to R a4 ′ are a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group), or (iii) a bond represented by the following formula:
Figure imgf000009_0001
(式中、 !^ぃぉょび!^ は水素原子、 アルキル基またはァリール基、 Alk'は アルキル基またはァリール基で置換されていてもよいアルキレン基)で示される 基、 Mは遷移金属またはアルミニウムを意味する]。  (Where, ^ is a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, Alk 'is an alkylene group optionally substituted with an alkyl group or an aryl group), M is a transition metal or Means aluminum].
上記錯体 (VII)における置換基のアルキル基としては、 炭素数 1〜 6の直鎖ま たは分枝鎖アルキル基、 好ましくは炭素数 1〜 4の直鎖または分枝鎖アルキル基、 更に好ましくは炭素数 1〜4の分枝鎖アルキル基、 最も好ましいのは t—プチル であり、 ァリール基としては、 炭素数 6〜10の芳香族炭化水素基、 好ましくは 炭素数 6〜 8の芳香族炭化水素基、 更に好ましくはフエニル基であり、 アルキレ ン基としては、 炭素数 1〜 6の直鎖または分枝鎖アルキレン基、 好ましくは炭素 数 3〜 5の直鎖または分枝鎖アルキレン基、 更に好ましくは炭素数 3〜 5の直鎖 アルキレン基、 最も好ましいのはテトラメチレン基である。 また Mの遷移金属と しては、 コバルト、 チタン、 バナジウム、 クロムが挙げられ、 好ましいのはコバ ルト、 チタン、 最も好ましいのはコバルトである。  As the alkyl group for the substituent in the complex (VII), a straight-chain or branched-chain alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, preferably a straight-chain or branched-chain alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably Is a branched-chain alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, most preferably t-butyl, and the aryl group is an aromatic hydrocarbon group having 6 to 10 carbon atoms, preferably an aromatic hydrocarbon group having 6 to 8 carbon atoms. A hydrocarbon group, more preferably a phenyl group, and the alkylene group is a straight-chain or branched-chain alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, preferably a straight-chain or branched-chain alkylene group having 3 to 5 carbon atoms; More preferably, it is a straight-chain alkylene group having 3 to 5 carbon atoms, most preferably a tetramethylene group. Examples of the transition metal of M include cobalt, titanium, vanadium, and chromium, with cobalt and titanium being most preferred, and cobalt being most preferred.
本発明に用いられる好ましい錯体は、 上記式 (VII)において、 Ra'および Ra" が互いに結合して式: A preferred complex used in the present invention is a compound represented by the formula (VII) wherein R a ′ and R a ″ are bonded to each other.
Figure imgf000009_0002
Figure imgf000009_0002
(式中、 Ra l'〜Ra4'は水素原子、 アルキル基、 またはァリール基)または互い に結合して式:
Figure imgf000009_0003
(Wherein, R al 'to R a4 ' are a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group) or bonded to each other to form a compound represented by the formula:
Figure imgf000009_0003
(式中、 Rbl'および Rb2'は水素原子、 アルキル基またはァリール基、 Alk'は 上記に同じ) の化合物である。 (Where R bl ′ and R b2 ′ are a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, and Alk ′ is the same as above) Is a compound of
本発明に用いられる他の好ましい錯体は、 上記式 (VII)において、 R1'および R 1 "が水素原子、 R 2 '〜 R 5 'および R 2 "〜 R 5 "が水素原子またはアルキル基、Another preferred complex used in the present invention is a compound represented by the formula (VII), wherein R 1 ′ and R 1 ″ are a hydrogen atom, and R 2 ′ to R 5 ′ and R 2 ″ to R 5 ″ are a hydrogen atom or an alkyl group. ,
R a 1 '〜 R a 4 'がそれぞれ水素原子、 R b 1 'および R b 2 'が水素原子である化合物 である。 R a1 ′ to R a4 ′ are each a hydrogen atom, and R b 1 ′ and R b 2 ′ are hydrogen atoms.
本発明で用いられるさらに好ましい他の錯体は、 上記式 (VII)において、 R1' および R1"が水素原子、 R3'、 R5'、 R3"および R5"が各々水素原子またはァ ルキル基、 R2'、 R4'、 R2"および R4"が各々水素原子、 Ra 'および Ra が互 いに結合して非置換 o—フエ二レン基または互いに結合して非置換 1 , 2—シク 口へキシレン基を形成したものである化合物である。 Further preferred other complexes used in the present invention are, in the above formula (VII), R 1 ′ and R 1 ″ are a hydrogen atom, R 3 ′, R 5 ′, R 3 ″ and R 5 ″ are each a hydrogen atom or Alkyl group, R 2 ′, R 4 ′, R 2 ″ and R 4 ″ are each a hydrogen atom, R a ′ and R a are bonded to each other and are unsubstituted o-phenylene group or It is a compound that forms an unsubstituted 1,2-cyclohexylene group.
本発明で用いられる好ましい錯体 (VII)は遷移金属 Mがコバルト、 チタン、 ノ ナジゥムまたはクロムのもの、 さらに好ましくは Mがコバルト、 なかんずく 2価 のコバルトのものである。  Preferred complexes (VII) for use in the present invention are those wherein the transition metal M is cobalt, titanium, nonadium or chromium, more preferably M is cobalt, especially divalent cobalt.
本発明で用いられる上記錯体 (VII)はハ口ゲンィオンまたは脂肪酸ィオンが遷 移金属 Mの部位に配位したものも含まれるが、 これらィオンの配位していないも のも好ましく用いられる。  The complex (VII) used in the present invention includes those in which haguchigenion or fatty acidion is coordinated to the transition metal M site, and those in which these ions are not coordinated are also preferably used.
本発明で遷移金属錯体触媒として用いられる好ましい具体例としては、 下記式 (VIII)および式(IX)で示される錯体が挙げられる。  Preferred specific examples of the transition metal complex catalyst used in the present invention include complexes represented by the following formulas (VIII) and (IX).
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上記のいずれの方法においても、 出発エポキシ化合物(I )として、 R型ェポキ シ化合物(I—a)を用いる力、 または S型エポキシ化合物(I—b)を用いることに より、 得られるヒ ドロキシラク トン化合物も、 それぞれ、 下記反応式一 1 'およ び反応式一 1〃で示されるように、 R型ヒドロキシラク トン化合物(II- a)または S型ヒ ドロキシラク トン化合物(Π-b)に導かれる。
Figure imgf000010_0002
In any of the above methods, hydroxylactone obtained by using the R-type epoxy compound (I-a) or the S-type epoxy compound (I-b) as the starting epoxy compound (I). As shown in the following Reaction Formula 11 'and Reaction Formula 11 に, the ton compounds can also be converted to R-type hydroxylactone compounds (II-a) or S-type hydroxylactone compounds (Π-b), respectively. Be guided.
反応式一 1 ' Reaction formula 1 '
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(I-a) (II-a)  (I-a) (II-a)
(式中、 環 Arは置換基を有していてもよい 1〜 3環式の芳香環であり、 太線で示 す部分が手前に出ている構造の立体配置を有し、 Alkは単結合手または置換基を 有していてもよいアルキレン基、 Qはカルボニル基またはスルホニル基、 Xは酸 素原子または硫黄原子、 R 1は水素原子または低級アルキル基を表す)。 (In the formula, ring Ar is an optionally substituted 1 to 3 cyclic aromatic ring, has a configuration in which the part shown by a bold line is in front, and Alk is a single bond An alkylene group which may have a hand or a substituent, Q is a carbonyl group or a sulfonyl group, X is an oxygen atom or a sulfur atom, and R 1 is a hydrogen atom or a lower alkyl group).
反応式一 1 " Reaction formula 1 "
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(I-b) (Π-b)  (I-b) (Π-b)
(式中、 環 Arおよびその太線部分、 Alk、 Q、 Xおよび R 1は上記に同じ)。 上記の方法で得られるヒ ドロキシラクトン化合物(Π)またはその塩を適当な溶 媒中で酸化剤で処理することにより、 下記反応式一 2で示されるように、 対応す るケトン化合物が得られる。 反応式一 2 (Wherein, ring Ar and its bold line, Alk, Q, X and R 1 are the same as above). By treating the hydroxylactone compound (Π) or its salt obtained by the above method with an oxidizing agent in an appropriate solvent, a corresponding ketone compound is obtained as shown in the following reaction formula 12. Can be Reaction Formula 1 2
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(Π) (VI) (Π) (VI)
(式中、 環 Ar、 Alk、 Q、 Xおよび R 1は前記に同じ)。 (Wherein the rings Ar, Alk, Q, X and R 1 are as defined above).
上記の反応で用いられる溶媒としては、 ハロゲン化されていてもよい芳香族炭 化水素系溶媒(ベンゼン、 トルエン、 キシレン、 クロ口ベンゼン、 ジクロロベン ゼン)が挙げられ、 そのうち、 トルエンが好ましい。 酸化剤としては、 金属酸ィ匕 剤 [二酸化マンガン、 重クロム酸カリウム、 ピリジニゥムクロ口クロメート、 酸 化ルテニウム、 ルテニウムクロリ ドー過ヨウ素酸ナトリウム、 テトラプロピルァ ンモニゥムパールテネート一 N—メチルモルホリンォキシド] および非金属酸ィ匕 剤 [シュゥ酸ジク口リ ドージメチルスルホキシド、 1, 1, 1—トリス(ァセチル ォキシ)一 1 , 1—ジヒドロ一 1, 2—ベンズョードォキソール _ 3 ( 1 H)—ォ ン] が挙げられ、 それらのうち二酸化マンガンが好ましい。 上記反応は通常 1 0 〜2 0 0 °C、 好ましくは 2 0〜: I 1 0。Cにて行われる。  Examples of the solvent used in the above reaction include aromatic hydrocarbon solvents that may be halogenated (benzene, toluene, xylene, cyclobenzene, dichlorobenzene), and among them, toluene is preferable. Examples of the oxidizing agent include a metal oxidizing agent [manganese dioxide, potassium dichromate, pyridinum chromate chromate, ruthenium oxide, ruthenium chloride sodium periodate, tetrapropylammonium pearltenate-N-methylmorpholine Oxide] and non-metallic acid oxidizing agent [Dic oxalic acid dimethyl sulfoxide, 1,1,1-tris (acetyl oxy) -1,1,1-dihydro-1,2, benzodoxol _ 3 (1H) —one], of which manganese dioxide is preferred. The above reaction is usually carried out at 10 to 200 ° C., preferably 20 to: I 10. Performed at C.
上記の方法において、 ヒ ドロキシラク トン化合物(Π)として R型ヒドロキシラ ク トン化合物(Π- a)を用いる力 \ または S型ヒ ドロキシラク トン化合物(Il-b)を 用いることにより、 得られるケトン化合物も、 それぞれ、 下記反応式一 2 'およ び反応式一 2〃で示されるように R型ケトン化合物 (VI—a)または S型ケトン化合 物 (VI— b)に導かれる。 反応式一 2 ' In the above method, the ketone compound obtained by using an R-type hydroxylactone compound (Π-a) as the hydroxylactone compound (Π) or an S-type hydroxylactone compound (Il-b) is used. Is also led to the R-type ketone compound (VI-a) or the S-type ketone compound (VI-b) as shown in the following reaction formulas 12 'and 12', respectively. Reaction formula 1 2 '
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(II-a) (VI-a) (II-a) (VI-a)
(式中、 環 Arは置換基を有していてもよい 1〜 3環式の芳香環であり、 太線で示 す部分が手前に出ている構造の立体配置を有し、 Alkは単結合手または置換基を 有していてもよいアルキレン基、 Qはカルボニル基またはスルホニル基、 Xは酸 素原子または硫黄原子、 R 1は水素原子または低級アルキル基を表す)。 (In the formula, ring Ar is an optionally substituted 1 to 3 cyclic aromatic ring, has a configuration in which the part shown by a bold line is in front, and Alk is a single bond An alkylene group which may have a hand or a substituent, Q is a carbonyl group or a sulfonyl group, X is an oxygen atom or a sulfur atom, and R 1 is a hydrogen atom or a lower alkyl group).
反応式一 2 " Reaction Formula 1 "
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(II-b) (VI-b) (II-b) (VI-b)
(式中、 環 Arおよびその太線部分、 Alk、 Q、 Xおよび R 1は上記に同じ)。 本発明方法における出発化合物であるエポキシ化合物( I )またはその塩は、 下 記反応式一 3で示されるように、 ビアリ一ル化合物(III)を用いて 2つのルート により製造することができる。 反応式一 3 (Wherein, ring Ar and its bold line, Alk, Q, X and R 1 are the same as above). The epoxy compound (I) or a salt thereof, which is a starting compound in the method of the present invention, can be produced by the two routes using the biaryl compound (III) as shown in the following reaction formula 13. Reaction formula 1 3
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(Prot-I)  (Prot-I)
(Prot-III)  (Prot-III)
(式中、 環 Ar、 Alk、 Q、 Xおよび R1は前記に同じ、 Protは保護基、 Lは離 脱しうる基を意味する)。 (Wherein, rings Ar, Alk, Q, X and R 1 are the same as above, Prot represents a protecting group, and L represents a removable group).
すなわち、 ビアリール化合物(III)からその酸無水物を製造し、 それに化合物 (IV)またはその塩を反応させて保護基を導入したのち、 エポキシ化合物(V - a)と 反応させ、 っレ、で脱保護基処理を行うルート( a )、 およびビアリ一ル化合物 That is, an acid anhydride is produced from the biaryl compound (III), and the compound (IV) or a salt thereof is reacted therewith to introduce a protecting group, and then reacted with the epoxy compound (V-a). Route (a) for deprotecting group treatment, and biaryl compound
(III)からその酸無水物を製造したのち、 これに直接エポキシ化合物(V - b)を反 応させるルート(b)とによって製造することができる。 これらの製法について以 下にさらに詳しく説明する。 After producing the acid anhydride from (III), it can be produced by a route (b) in which an epoxy compound (V-b) is directly reacted. These production methods will be described in more detail below.
ルー h (a) : Lou h (a):
まず、 ビアリール化合物(ΙΠ)から常法により酸無水物を製造し、 これに式 First, an acid anhydride is produced from a biaryl compound (ΙΠ) by a conventional method.
(IV) : (IV):
Prot-X-H (IV)  Prot-X-H (IV)
(式中、 Xおよび Protは前記に同じ)  (Where X and Prot are the same as above)
で示される化合物またはその塩を反応させて保護基を導入し、 得られた化合物 (Prot-III)を、 適当な溶媒中、 塩基の存在下または非存在下に化合物(V- a)と 反応させ、 ついて保護基を除去することにより、 所望のエポキシ化合物(I )が得 られる。 The compound (Pro-III) is reacted with the compound (V-a) in a suitable solvent in the presence or absence of a base by reacting the compound represented by or a salt thereof to introduce a protecting group. The desired epoxy compound (I) is obtained by reacting and removing the protecting group.
ビアリールイヒ合物(ΙΠ)から対応する酸無水物を調製するには、 適当な溶媒中、 化合物(III)に脱水剤を作用させる方法がある。 この方法で用いられる脱水剤と しては、 Ν, Ν' -ジシクロへキシルカルボジイミ ド(D C C)、 D C Cと 1—ヒ ド ロキシベンゾトリアゾーノレ、 ァゾジ力ノレボン酸ジエステノレ(ァゾジカルボン酸ジ ェチル)、 酸無水物(無水酢酸、 無水プロピオン酸)等が挙げられ、 そのうち、 無 水酢酸が好ましい。 また溶媒としては、 酸無水物(無水酢酸、 無水プロピオン酸)、 エーテル系溶媒(ジェチルエーテル、 ジィソプロピルエーテル、 t—プチルメチ ルエーテル、 テトラヒ ドロフラン、 1, 4—ジォキサン)、 ハロゲン化されていて もよレ、脂肪族炭化水素系溶媒 (へキサン、 塩化メチレン、 クロ口ホルム、 1 , 2— ジクロロェタン、 四塩化炭素)、 ハロゲン化されていてもよい芳香族炭化水素系 溶媒(ベンゼン、 ト^^エン、 キシレン、 クロ口ベンゼン、 ジクロロベンゼン)、 ェ ステル系溶媒 (酢酸メチル、 酢酸ェチル)、 二トリル系溶媒(ァセトニトリル)、 ケ トン系溶媒(アセトン、 2—ブタノン、 メチルイソプチルケトン)、 アミ ド系溶媒 (ジメチルホルムアミ ド、 ジメチルァセトアミ ド)等が挙げられるが、 無水酢酸が 特に好ましい。  In order to prepare the corresponding acid anhydride from the biaryl aldehyde compound (ΙΠ), there is a method in which a dehydrating agent is allowed to act on compound (III) in an appropriate solvent. The dehydrating agents used in this method include Ν, Ν'-dicyclohexylcarbodiimide (DCC), DCC and 1-hydroxybenzotriazolone, azodiphenol diesterol olevonate (diethyl azodicarboxylate). ), Acid anhydrides (acetic anhydride, propionic anhydride), etc., of which anhydrous acetic acid is preferred. Solvents include acid anhydrides (acetic anhydride, propionic anhydride), ether solvents (getyl ether, diisopropyl ether, t-butylmethyl ether, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane), and halogenated solvents. In addition, aliphatic hydrocarbon solvents (hexane, methylene chloride, chloroform, 1,2-dichloroethane, carbon tetrachloride), and aromatic hydrocarbon solvents (benzene, ^ Ene, xylene, benzene, dichlorobenzene), ester solvents (methyl acetate, ethyl acetate), nitrile solvents (acetonitrile), ketone solvents (acetone, 2-butanone, methyl isobutyl ketone), Amide solvents (dimethylformamide, dimethylacetamide) and the like, but acetic anhydride is particularly Preferred.
酸無水物を製造するための別法は、 ビアリール化合物(III)に、 適当な溶媒中、 脱酸剤の存在下に脂肪酸、 リン酸もしくはスルホン酸の反応性誘導体またはハロ ゲン化剤を反応させる方法である。 この方法で用いられる脂肪酸、 リン酸もしく はスルホン酸の反応性誘導体としては、 酸ハライド(p—トルエンスルホエルク ロリ ド、 ベンゼンスルホン酸クロリ ド、 メタンスルホン酸クロリ ド、 ァセチルク 口リ ド、 ギ酸ク口リ ド、 ジフエ二ルリン酸ク口リ ド)等が挙げられ、 そのうちジ フエニルリン酸クロリ ドが特に好ましい。 ハロゲン化剤としては、 チォニルクロ リ ド、 ォキサリルク口リ ド、 ォキシ塩化リン、 五酸化リン、 三酸化リン等が挙げ られ、 そのうちチォユルクロリ ド、 ォキサリルクロリ ドが特に好ましい。 また、 脱酸剤としては、 水酸化アルカリ金属 (水酸化ナトリウム、 水酸化カリウム)、 水 酸化アルカリ土類金属 (水酸化カルシウム、 水酸化バリウム)、 有 基 [アルキ ルァミン(トリエチルァミン、 N, N-ジイソプロピル— N—ェチルァミン) ;芳香 族ァミン(ピリジン、 ルチジン、 4—Ν,Ν—ジメチルァミノピリジン)、 ァリー ルァミン(ァニリン、 Ν, Ν—ジェチルァニリン)、 架橋アミン(1, 4—ジァザビ シクロ [2, 2, 2] オクタン、 1, 8—ジァザビシクロ [5, 4, 0] ゥンデカー 7—ェン)] が挙げられ、 そのうち、 トリェチルァミンが特に好ましい。 用いら れる溶媒としては、 エーテル系溶媒(ジェチルエーテル、 ジイソプロピルエーテ ル、 t—ブチルメチルエーテル、 テトラヒドロフラン、 1, 4一ジォキサン)、 ノヽ ロゲン化されていてもよい脂肪族炭化水素系溶媒 (へキサン、 塩ィヒメチレン、 ク ロロホルム、 1, 2—ジクロロェタン、 四塩化炭素)、 ハロゲン化されていてもよ い芳香族炭化水素系溶媒 (ベンゼン、 トルエン、 キシレン、 クロ口ベンゼン、 ジ クロ口ベンゼン)、 エステル系溶媒 (酢酸メチル、 酢酸ェチル)、 二トリル系溶媒 (ァセトニトリル)、 ケトン系溶媒(アセトン、 2—ブタノン、 メチルイソブチル ケトン)、 アミ ド系溶媒(ジメチルホルムアミ ド、 ジメチルァセトアミ ド)等が挙 げられ、 そのうち塩化メチレンが特に好ましい。 An alternative method for producing the acid anhydride is to react the biaryl compound (III) with a reactive derivative of a fatty acid, phosphoric acid or sulfonic acid or a halogenating agent in a suitable solvent in the presence of a deoxidizing agent. Is the way. The reactive derivatives of fatty acids, phosphoric acids or sulfonic acids used in this method include acid halides (p-toluenesulfochloride, benzenesulfonic acid chloride, methanesulfonic acid chloride, acetylc-mouth chloride, formic acid) And diphenylphosphoric acid chloride), among which diphenylphosphoric acid chloride is particularly preferred. Examples of the halogenating agent include thionyl chloride, oxalyl chloride, phosphorus oxychloride, phosphorus pentoxide, phosphorus trioxide and the like. Of these, thioyl chloride and oxalyl chloride are particularly preferred. Examples of the deoxidizing agent include alkali metal hydroxides (sodium hydroxide and potassium hydroxide), alkaline earth metal hydroxides (calcium hydroxide and barium hydroxide), and organic radicals such as alkylamine (triethylamine, N, N-diisopropyl-N-ethylamine); Aroma Aromatic amines (pyridine, lutidine, 4-Ν, Ν-dimethylaminopyridine), arylamines (aniline, Ν, ジ ェ -getylaniline), bridged amines (1,4-diazabicyclo [2,2,2] octane, 1 , 8-Diazabicyclo [5,4,0] indene 7-ene)], of which triethylamine is particularly preferred. Examples of the solvent to be used include ether solvents (getyl ether, diisopropyl ether, t-butyl methyl ether, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane), and aliphatic hydrocarbon solvents (optionally). Xane, dimethylene chloride, chloroform, 1,2-dichloroethane, carbon tetrachloride), aromatic hydrocarbon solvents which may be halogenated (benzene, toluene, xylene, cyclobenzene, cyclobenzene), Ester solvents (methyl acetate, ethyl acetate), nitrile solvents (acetonitrile), ketone solvents (acetone, 2-butanone, methyl isobutyl ketone), amide solvents (dimethylformamide, dimethylacetamide) And the like, of which methylene chloride is particularly preferred.
上記のいずれの方法によっても製造される酸無水物としては、 例えば、 下記式 (ΠΓ) :  The acid anhydride produced by any of the above methods includes, for example, the following formula (ΠΓ):
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(式中、 環 Ar、 Alk、 Qおよび Xは前記に同じ)  (Wherein, rings Ar, Alk, Q and X are the same as above)
で示される分子内で酸無水物を構成する場合と、 下記式 When an acid anhydride is formed in the molecule represented by
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Figure imgf000017_0001
(式中、 環 Ar、 Alk、 Qおよび Xは前記に同じ) (Wherein, rings Ar, Alk, Q and X are the same as above)
で示されるように分子間で酸無水物を構成する場合があり、 いずれの酸無水物も 以下の工程にぉレ、て同様に用いられるが、 式(ΙΠ' )の分子内で酸無水物を構成し た酸無水物が好ましい。 In some cases, an acid anhydride may be formed between molecules as shown in the above. Any of the acid anhydrides is used in the following steps and is similarly used, but the acid anhydride is used in the molecule of the formula (ΙΠ '). Are preferred.
上記酸無水物と化合物(IV)またはその塩とを適当な溶媒中、 脱酸剤の存在下に 反応させることにより保護基が導入される。  The protecting group is introduced by reacting the above acid anhydride with compound (IV) or a salt thereof in a suitable solvent in the presence of a deoxidizing agent.
化合物(IV)としては、 一 Q— X— Η基、 すなわち、 カルボン酸、 またはスルホ ン酸の保護に有用であって、 該保護基が加水分解以外の方法で除去可能なものの 化合物が挙げられる。 例えば、 置換または非置換べンジルアルコール、 または置 換または非置換ァリルアルコールが挙げられる。 それらの置換基としては、 メチ ル基、 ェチル基等のアルキル基;メ トキシ基等のアルコキシ基;ニトロ基;フエ ニル基、 ナフチル基等のァリール基; トリチル基等のァラルキル基等が挙げられ る。 好ましい化合物(IV)としてはべンジルアルコールである。 該化合物(IV)の塩 としては、 アルカリ金属塩(リチウム塩、 ナトリウム塩、 カリウム塩)、 アルカリ 土類金属塩(カルシウム塩、 ノ リウム塩)、 有機アミン塩 [アルキルアミン塩(ト リエチルアンモニゥム塩、 N, N—ジィソプロピル一 N—ェチルアンモニゥム塩)、 芳香族ァミン塩(ピリジニゥム塩、 ルチジニゥム塩、 4— N, N—ジメチルァミノ ピリジニゥム塩) ] 等が挙げられ、 そのうちリチウム塩、 ナトリウム塩が好まし い。 この化合物(IV)またはその塩は酸無水物を形成する前の化合物(Ι Π) 1モル に対し、 1〜1 0モル、 好ましくは 1 . 5〜 3 . 0モルの量で用いられる。 As the compound (IV), a compound which is useful for protecting one Q—X—Η group, that is, a carboxylic acid or a sulfonic acid, and in which the protecting group can be removed by a method other than hydrolysis, may be mentioned. . For example, substituted or unsubstituted benzyl alcohol, or substituted or unsubstituted aryl alcohol. Examples of the substituent include an alkyl group such as a methyl group and an ethyl group; an alkoxy group such as a methoxy group; a nitro group; an aryl group such as a phenyl group and a naphthyl group; an aralkyl group such as a trityl group. You. Preferred compound (IV) is benzyl alcohol. Salt of the compound (IV) Examples include: alkali metal salts (lithium salt, sodium salt, potassium salt), alkaline earth metal salts (calcium salt, norium salt), organic amine salts [alkylamine salts (triethylammonium salt, N, N —Disopropyl-1-N-ethylammonium salt), aromatic amine salts (pyridinium salt, lutidinium salt, 4-N, N-dimethylaminopyridinium salt)], of which lithium salt and sodium salt are preferred. . The compound (IV) or a salt thereof is used in an amount of 1 to 10 mol, preferably 1.5 to 3.0 mol, per 1 mol of the compound (Ι) before forming an acid anhydride.
上記反応で用いられる脱酸剤としては、 有機アミン [アルキルアミン(トリェ チルァミン、 N, N-ジイソプロピル一 N—ェチルァミン) ;芳香族アミン(ピリジ ン、 4—N, N—ジメチルァミノピリジン)、 ァリールァミン(ァニリン、 Ν, Ν— ジェチルァニリン)] 等が挙げられ、 そのうち、 トリェチルァミン、 4— Ν, Ν— ジメチルァミノピリジン、 またはこれらの混合物が好ましい。 また溶媒としては、 ハロゲン化されていてもょレ、脂肪族炭化水素系溶媒 (塩化メチレン、 クロ口ホル ム、 1, 2—ジクロロェタン、 四塩化炭素)、 ハロゲン化されていてもよい芳香族 炭化水素系溶媒(ベンゼン、 トルエン、 キシレン、 クロ口ベンゼン、 ジクロロべ ンゼン)、 ェ一テル系溶媒(ジェチルエーテル、 ジイソプロピルエーテル、 t—ブ チルメチルェ一テル、 テトラヒドロフラン、 1 , 4—ジォキサン)、 アミ ド系溶媒 (ジメチルホルムアミ ド、 ジメチルァセトアミ ド)、 スルホキシド系溶媒(ジメチ ルスルホキシド)等が挙げられ、 そのうち、 塩化メチレン、 テトラヒ ドロフラン が好ましい。 この反応は、 通常、 5〜: 1 5 0 °C、 好ましくは 2 0〜3 0。Cの温度 で行われる。  Examples of the deoxidizing agent used in the above reaction include organic amines [alkylamines (triethylamine, N, N-diisopropyl-1-N-ethylamine); aromatic amines (pyridines, 4-N, N-dimethylaminopyridine); Arylamine (anilin, Ν, Ν-ethylylaniline)], among which triethylamine, 4-—, Ν-dimethylaminopyridine, and mixtures thereof are preferable. Examples of the solvent include halogenated aliphatic hydrocarbon solvents (methylene chloride, chloroform, 1,2-dichloroethane, carbon tetrachloride), and optionally halogenated aromatic hydrocarbons. Hydrogen solvents (benzene, toluene, xylene, black benzene, dichlorobenzene), ether solvents (getyl ether, diisopropyl ether, t-butylmethyl ether, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane), amides Solvents (dimethylformamide, dimethylacetamide) and sulfoxide solvents (dimethylsulfoxide). Of these, methylene chloride and tetrahydrofuran are preferable. The reaction is usually carried out at 5 to 150 ° C, preferably at 20 to 30 ° C. Performed at a temperature of C.
上記の方法で保護された化合物( P rot-111)をェポキシ化合物( V -a)と反応さ せることによりエポキシ化合物( Prot-I)に導く。 この反応は公知の方法に準じ て行うことができ、 例えば、 J. Org. Chem. Vol. 26, 2681 - 2688 (1961)、 Ind. Eng. Chem. Prod. Res. Dev. Vol. 23, 452-454 (1984)等に記載される方法がい ずれも採用される。  The compound (Prot-111) protected by the above method is reacted with an epoxy compound (V-a) to lead to an epoxy compound (Prot-I). This reaction can be carried out according to a known method. For example, J. Org. Chem. Vol. 26, 2681-2688 (1961), Ind. Eng. Chem. Prod. Res. Dev. Vol. 23, 452 -454 (1984) and so on.
例えば、 該保護された化合物(Prot- II I)を適当な溶媒中、 塩基の存在下また は非存在下にェポキシ化合物(V—a)と反応させることにより保護されたェポキ シ化合物( P rot— I)が得られる。 用いられる溶媒としては、 ハロゲン化されていてもよい脂肪族炭化水素系溶媒 (塩化メチレン、 クロ口ホルム、 1 , 2—ジクロロェタン、 四塩化炭素)、 ハロゲ ン化されていてもよい芳香族炭化水素系溶媒 (ベンゼン、 トルエン、 キシレン、 クロ口ベンゼン、 ジクロロベンゼン)、 エーテル系溶媒(ジェチルエーテル、 ジィ ソプロピルエーテル、 t—プチルメチノレエ一テル、 テトラヒ ドロフラン、 1 , 4 一ジォキサン)、 アミ ド系溶媒(ジメチルホルムアミ ド、 ジメチルァセトアミ ド)、 スルホキシド系溶媒(ジメチルスルホキシド)等が挙げられ、 特にトルエンが好ま しい。 塩基としては、 水素化アルカリ金属 (水素化リチウム、 水素化ナトリウム、 水素化カリウム)、 水酸化アルカリ金属 (水酸化リチウム、 水酸化ナトリウム、 水 酸化力リウム)、 水酸化アル力リ土類金属(水酸ィヒカルシウム、 水酸化バリウム)、 アルキルアミン(トリェチルァミン、 N, N-ジィソプロピル一 N—ェチルァミン) 等が挙げられ、 そのうち水素化ナトリウムが好ましい。 また、 塩基としては、 第 4級アンモニゥム塩 [第 4級アンモニゥムハイ ドロジェンサルフエ一ト(テトラ n—ブチ^/アンモニゥムハイ ドロジェンサルフェート)、 第 4級アンモニゥムハ ライ ド(テトラ n _プチルアンモニゥムョージド)] 、 ホスホニゥム塩 [第 4級ホ スホニゥムボレート(メチノレトリメ トキシホスフエートテトラフ/レオロボレ一 ト)] 等のォニゥムも用いることができ、 そのうち、 テトラ n—ブチルアンモニ ゥムハイドロジェンサルフェート、 テトラ n—ブチルアンモニゥムョージドが好 ましい。 上記の反応は、 通常、 1 0〜2 0 0 °C、 好ましくは 8 0〜 1 5 0 °Cの温 度で行われる。 For example, the protected epoxy compound (Prot-III) is reacted with an epoxy compound (Va) in a suitable solvent in the presence or absence of a base to thereby protect the protected epoxy compound (Prot-II). — I) is obtained. Examples of the solvent to be used include aliphatic hydrocarbon solvents which may be halogenated (methylene chloride, chloroform, 1,2-dichloroethane, carbon tetrachloride), and aromatic hydrocarbons which may be halogenated. Solvents (benzene, toluene, xylene, black benzene, dichlorobenzene), ether solvents (getyl ether, diisopropyl ether, t-butylmethylinoether, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane), amide solvents (Dimethylformamide, dimethylacetamide), sulfoxide-based solvents (dimethylsulfoxide), and the like, with toluene being particularly preferred. As bases, alkali metal hydrides (lithium hydride, sodium hydride, potassium hydride), alkali metal hydroxides (lithium hydroxide, sodium hydroxide, lithium hydroxide), alkaline earth metal hydroxide ( Calcium hydroxide, barium hydroxide), alkylamines (triethylamine, N, N-diisopropyl-N-ethylethylamine) and the like, with sodium hydride being preferred. As the base, a quaternary ammonium salt [quaternary ammonium hydroxide salt (tetra-n-butyl / ammonium hydroxide salt sulfate), a quaternary ammonium halide (tetra-n-butylammonium salt) ), And phosphonium salts [quaternary phosphonium borate (methinoletrimethoxyphosphate tetraf / leoloborolate)] and the like, among which tetra n-butylammonium hydrogen sulfate, Tetra n-butyl ammonium hydroxide is preferred. The above reaction is usually carried out at a temperature of from 10 to 200 ° C, preferably from 80 to 150 ° C.
化合物(V- a)における離脱しうる基(L)としては、 慣用の脱離基を使用するこ とができ、 例えば、 塩素原子、 臭素原子、 ヨウ素原子等のハロゲン原子; トルェ ンスルホニルォキシ基、 メタンスルホニルォキシ基等のスルホニルォキシ基;ァ セトキシ基、 プチリルォキシ基等のァシルォキシ基等が含まれる。 この化合物 (V- a)の使用量は化合物(Pro t- III) 1モルに対し、 約 1 . 0〜: I . 5モルの量で 用いられる。  As the leaving group (L) in the compound (V-a), a conventional leaving group can be used, and examples thereof include a halogen atom such as a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom; and toluenesulfonyloxy. A sulfonyloxy group such as a methanesulfonyloxy group; and an acyloxy group such as an acetoxy group and a ptyryloxy group. The compound (V-a) is used in an amount of about 1.0 to 1.5 mol per 1 mol of the compound (Prot-III).
上記の方法で得られる保護されたエポキシ化合物(Prot— I)力 保護基を除去 することにより所望のエポキシ化合物( I )が得られる。 その保護基の除去方法と しては、 保護基の種類に応じて、 慣用の方法により実施することができ、 例えば 適当な溶媒中、 接触水素添加 (例えば、 パラジウム一炭素を用いる水素添加)する か、 ギ酸またはギ酸ァンモニゥムで処理する方法が挙げられる。 Protected epoxy compound (Prot-I) obtained by the above method The desired epoxy compound (I) can be obtained by removing the protecting group. The protecting group can be removed by a conventional method according to the type of the protecting group. The method includes catalytic hydrogenation (for example, hydrogenation using palladium-carbon) in an appropriate solvent, or treatment with formic acid or ammonium formate.
用いられる溶媒としては、 アルコール系溶媒(メタノール、 エタノール、 イソ プロピルアルコール、 t一ブチルアルコール)、 ェ一テル系溶媒(ジェチルエーテ ル、 ジイソプロピルエーテル、 t—ブチルメチルエーテル、 テトラヒ ドロフラン、 Solvents used include alcohol solvents (methanol, ethanol, isopropyl alcohol, t-butyl alcohol), and ether solvents (getyl ether, diisopropyl ether, t-butyl methyl ether, tetrahydrofuran,
1 , 4一ジォキサン)、 芳香族炭化水素系溶媒 (ベンゼン、 トノレェン、 キシレン)等 が挙げられ、 そのうち、 メタノール、 エタノールが好ましい。 反応温度は、 上記 保護基除去手段の種類によっても変わるが、 通常、 1 0〜1 0 0 °C、 好ましくは 2 0〜3 0 °Cの範囲である。 1,4-dioxane), aromatic hydrocarbon solvents (benzene, tonolene, xylene) and the like, among which methanol and ethanol are preferred. The reaction temperature varies depending on the type of the protecting group removing means, but is usually in the range of 10 to 100 ° C, preferably 20 to 30 ° C.
ルート( b ) : Route (b):
ビアリールイヒ合物(III)を前記と同様にしてその酸無水物に導いたのち、 これ に直接エポキシ化合物(V - b)を反応させることにより所望のエポキシ化合物( I ) を得ることができる。  The desired epoxy compound (I) can be obtained by introducing the biaryl aldehyde compound (III) to the acid anhydride in the same manner as described above, and then directly reacting the resulting compound with the epoxy compound (V-b).
該酸無水物と化合物(V-b)との反応は、 適当な溶媒中、 脱酸剤の存在下に行わ れる。 この反応における化合物(V-b)の使用量は、 酸無水物とする前の化合物 (ΙΠ) 1モルに対し、 1〜1 0モル、 好ましくは 1 . 0〜1 . 5モルの範囲である。 用いられる脱酸剤としては、 水素化アルカリ金属(水素化リチウム、 水素化ナト リウム、 水素化カリウム)、 水酸化アルカリ金属(水酸化リチウム、 水酸化ナトリ ゥム、 水酸化カリウム)、 有機アミン [アルキルアミン(トリェチルァミン、 N, N-ジイソプロピル一 N—ェチルァミン) ;芳香族ァミン(ピリジン、 4— Ν, Ν— ジメチルァミノピリジン)、 ァリ一ルァミン(ァニリン、 Ν, Ν—ジェチルァニリ ン)] 等が挙げられ、 そのうち、 トリェチルァミン、 4—Ν, Ν—ジメチルァミノ ピリジン、 またはこれらの混合物が好ましい。 また、 溶媒としては、 ハロゲン化 されていてもよい脂肪族炭化水素系溶媒 (塩化メチレン、 クロ口ホルム、 1 , 2 _ ジクロロェタン、 四塩化炭素)、 ノ、ロゲン化されていてもよい芳香族炭化水素系 溶媒(ベンゼン、 ト /レエン、 キシレン、 クロ口ベンゼン、 ジクロロベンゼン)、 ェ —テル系溶媒(ジェチルエーテル、 ジィソプロピルエーテル、 t一ブチルメチル ェ一テル、 テトラヒ ドロフラン、 1 , 4—ジォキサン)、 アミ ド系溶媒(ジメチル ホルムアミ ド、 ジメチルァセトアミ ド)、 スルホキシド系溶媒(ジメチルスルホキ シド)等が挙げられ、 そのうち、 塩化メチレン、 テトラヒ ドロフランが好ましレ、。 この反応は、 通常、 5〜1 5 0 °C、 好ましくは 2 0〜3 0 °Cの温度で行われる。 上記ィ匕合物(Ι Π)から出発エポキシ化合物( I )を得る方法においても、 化合物 (III)として不斉化合物、 すなわち、 R型化合物または S型化合物を用いれば、 それぞれ、 対応する不斉化合物を経て、 R型エポキシ化合物(I一 a)または S型 エポキシ化合物(I一 b)に導かれる。 The reaction between the acid anhydride and the compound (Vb) is performed in a suitable solvent in the presence of a deoxidizing agent. The amount of the compound (Vb) to be used in this reaction is in the range of 1 to 10 mol, preferably 1.0 to 1.5 mol, per 1 mol of the compound (II) before being converted into the acid anhydride. The deoxidizing agents used include alkali metal hydrides (lithium hydride, sodium hydride, potassium hydride), alkali metal hydroxides (lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide), organic amines [ Alkylamines (triethylamine, N, N-diisopropyl-1-N-ethylamine); aromatic amines (pyridine, 4- 、, Ν-dimethylaminopyridine), arylamines (aniline, Ν, ジ ェ -ethylenilamine), etc. Among them, triethylamine, 4-Ν, Ν-dimethylaminopyridine, or a mixture thereof is preferable. Examples of the solvent include an aliphatic hydrocarbon solvent which may be halogenated (methylene chloride, chloroform, 1,2-dichloroethane, carbon tetrachloride), a non-halogenated aromatic hydrocarbon which may be halogenated. Hydrogen solvents (benzene, toluene / xylene, xylene, benzene, dichlorobenzene), ether solvents (getyl ether, diisopropyl ether, t-butyl methyl ether, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane) ), Amide solvents (dimethylformamide, dimethylacetamide), sulfoxide solvents (dimethylsulfoxide) And methylene chloride and tetrahydrofuran are preferred. This reaction is usually carried out at a temperature of 5 to 150 ° C, preferably 20 to 30 ° C. In the above method for obtaining the starting epoxy compound (I) from the conjugated product (Ι), if the compound (III) is an asymmetric compound, that is, if an R-type compound or an S-type compound is used, the corresponding asymmetric compound is obtained. Through the compound, it is led to an R-type epoxy compound (I-a) or an S-type epoxy compound (I-b).
反応式一 3 ' Reaction formula 1 3 '
Figure imgf000021_0001
Figure imgf000021_0001
(Prot-I-a) (Prot-I-a)
(Prot-m-a) (Prot-m-a)
(式中、 環 Arは置換基を有していてもよい 1〜3環式の芳香環であり、 太線で示 す部分が手前に出ている構造の立体配置を有し、 A lkは単結合手または置換基を 有していてもよいアルキレン基、 Qはカルボニル基またはスルホ-ル基、 Xは酸 素原子または硫黄原子、 R 1は水素原子または低級アルキル基、 P rotは保護基、 Lは離脱し得る基を意味する)。 反応式一 3 (In the formula, ring Ar is a 1 to 3 cyclic aromatic ring which may have a substituent, has a configuration in which a portion shown by a bold line is in front, and Alk is a single ring. An alkylene group which may have a bond or a substituent, Q is a carbonyl group or a sulfol group, X is an oxygen atom or a sulfur atom, R 1 is a hydrogen atom or a lower alkyl group, P rot is a protecting group, L represents a group capable of leaving). Reaction formula 1 3
Figure imgf000022_0001
Figure imgf000022_0001
(Prot-I-b) (Prot-I-b)
(Prot-III-b) (式中、 環 Arおよびその太線部分、 Alk、 Q、 X、 R Protおよび Lは上記 に同じ)。 (Prot-III-b) (wherein, ring Ar and its bold line, Alk, Q, X, R Prot and L are the same as above).
本発明における化合物(I )、 (Π)および(ΙΠ)における環 Arの置換基を有して いてもよい 1〜 3環式の芳香環としては、 例えば、 ベンゼン環、 ナフタレン環、 ナフトキノン環、 アントラセン環、 アントラキノン環、 フエナントレン環等を挙 げることができる。 また、 芳香環を結合する Alkの置換位置は、 分子不斉を生じ るものであれば、 特に制限はないが、 2つの環 Ar間の結合のオルト位に Alkが 結合しているものが好ましい。  In the compounds (I), (Π) and (ΙΠ) of the present invention, the optionally substituted 1 to 3 cyclic aromatic ring of the ring Ar includes, for example, a benzene ring, a naphthalene ring, a naphthoquinone ring, Examples include anthracene ring, anthraquinone ring, and phenanthrene ring. The substitution position of Alk that bonds the aromatic ring is not particularly limited as long as it causes molecular asymmetry, but it is preferable that Alk is bonded to the ortho position of the bond between two rings Ar. .
芳香環上の置換基としては、 例えば、 フッ素原子、 塩素原子、 臭素原子および ヨウ素原子に代表されるハロゲン原子、 ニトロ基、 メチルスルホニル基、 p—ト ルエンスルホニル基、 トリフルォロメチル基、 シァノ基、 メ トキシカルボニル基、 メチルスルホキシド基、 スルホ-ルアミ ド基等の電子吸引性基;メチル基、 ェチ ル基、 プロピル基およびブチル基に代表される炭素数 1〜 4の低級アルキル基、 メ トキシ基、 エトキシ基、 プロポキシ基およびブトキシ基に代表される炭素数 1 〜 4の低級アルコキシ基、 シクロプロピル基、 シクロブチル基、 シクロペンチル 基およびシクロへキシル基に代表される炭素数 3〜 7のシクロアルキル基、 ベン ジル基およびフエネチル基に代表される炭素数 7〜10のァラルキル基等の電子 供与性基をあげることができる。 これら基のなかでは、 電子吸引性基が好ましく、 とりわけハロゲン原子が好ましい。 Examples of the substituent on the aromatic ring include a halogen atom represented by a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom, a nitro group, a methylsulfonyl group, a p-toluenesulfonyl group, a trifluoromethyl group, and a cyano group. An electron-withdrawing group such as a group, a methoxycarbonyl group, a methylsulfoxide group or a sulfolamide group; a lower alkyl group having 1 to 4 carbon atoms represented by a methyl group, an ethyl group, a propyl group and a butyl group; Lower alkoxy groups having 1 to 4 carbon atoms, such as methoxy, ethoxy, propoxy and butoxy groups, cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl And electron-donating groups such as a cycloalkyl group having 3 to 7 carbon atoms typified by a group and a cyclohexyl group, and an aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms typified by a benzyl group and a phenethyl group. Among these groups, an electron-withdrawing group is preferable, and a halogen atom is particularly preferable.
好ましい環 Arの例としては、 次式の部分構造:  Examples of preferred rings Ar include the following partial structures:
が、 式 Is the expression
Figure imgf000023_0001
Figure imgf000023_0001
[式中、 Reおよび Rbはそれぞれ水素原子または置換基、 Reおよび Rdは以下 の条件を満足する基であることを表す: [Wherein, R e and R b each represent a hydrogen atom or a substituent, and R e and R d represent groups satisfying the following conditions:
( a ) R。および R dはそれぞれ水素原子または置換基であるか、 或!/、は (a) R. And R d are each a hydrogen atom or a substituent, or /, Is
(b)Rcおよび Rdは互いに結合して式: (b) R c and R d are bonded together to form:
Figure imgf000023_0002
Figure imgf000023_0002
(式中、 Re、 R !^ぉょぴ!^は、 次のいずれかであることを表す: (Where, R e , R! ^ ぉ ょ ぴ! ^ Represents one of the following:
( 隣接する 2つの基が互いに結合し、 その間の 2つの炭素原子と共に置換され ていてもよいベンゼン環を形成し、 他の 2つの基が水素原子もしくは置換基であ る力 または (Two adjacent groups are bonded to each other to form an optionally substituted benzene ring together with two carbon atoms between them, and the other two groups are a hydrogen atom or a substituent.
( β )それぞれが水素原子もしくは置換基である) で示される基を形成する力、 或いは (β) each is a hydrogen atom or a substituent) The force forming the group represented by or
( c ) 1^および R dが互いに結合して式: (c) 1 ^ and R d combine with each other to form the formula:
Figure imgf000024_0001
Figure imgf000024_0001
(式中、 R R j、 R kおよび Rmはそれぞれ水素原子または置換基を表す)] で示される部分構造である基が挙げられる。 (Wherein, RR j , R k, and R m each represent a hydrogen atom or a substituent).
上記 R a〜Rmにおける置換基としては、 フッ素原子、 塩素原子、 臭素原子お よびヨウ素原子に代表されるハロゲン原子、 ニトロ基、 メチルスルホニル基、 p 一トルエンスルホニル基、 トリフルォロメチル基、 シァノ基、 メ トキシカルボ二 ル基、 メチルスルホキシド基、 スルホニルアミド基等の電子吸引性基; メチル基、 ェチル基、 プロピル基およびブチル基に代表される炭素数 1〜 4の低級アルキル 基、 メ トキシ基、 エトキシ基、 プロポキシ基およびブトキシ基に代表される炭素 数 1〜4の低級アルコキシ基、 シクロプロピル基、 シクロブチル基、 シクロペン チル基およびシク口へキシル基に代表される炭素数 3〜 7のシクロアルキル基、 ベンジル基およびフエネチル基に代表される炭素数 7〜 1 0のァラルキル基等の 電子供与性基をあげることができる。 これらの基のなかで、 電子吸引性基が好ま しく、 なかでも特に、 ハロゲン原子が好ましい。 Examples of the substituent in R a to R m include a halogen atom represented by a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom, a nitro group, a methylsulfonyl group, a p-toluenesulfonyl group, a trifluoromethyl group, Electron-withdrawing groups such as cyano, methoxycarbonyl, methylsulfoxide, and sulfonylamide; lower alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms, such as methyl, ethyl, propyl, and butyl; Group, ethoxy group, propoxy group and butoxy group represented by lower alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group and cyclohexyl group having 3 to 7 carbon atoms Electron donation of C7-C10 aralkyl groups such as cycloalkyl, benzyl and phenethyl groups It is possible to increase the group. Among these groups, an electron-withdrawing group is preferable, and a halogen atom is particularly preferable.
化合物(1 )、 (Π)、 (III)および (VI)における A lkとしては、 単結合手または 置換基を有していてもよい炭素数 1〜 5の直鎖または分枝鎖低級アルキレン基が 含まれ、 その低級アルキレン基の具体例としては、 例えば、 メチレン基、 ェチレ ン基、 トリメチレン基、 テトラメチレン基、 メチルメチレン基、 メチルエチレン 基およびメチルトリメチレン基に代表される直鎖または分枝鎖を有する炭素数 1 〜 4の低級アルキレン基が挙げられる。 その置換基としては、 スルフィエル基、 スルホニル基、 ヒ ドロキシ基、 ニトロ基、 二トリル基、 アルキル基、 ァリール基、 ァラルキル基、 アルコキシ基、 ァリールォキシ基、 ァラルキルォキシ基、 4級ァ ミノ基が挙げられる。  In the compounds (1), (Π), (III) and (VI), A lk represents a single bond or a linear or branched lower alkylene group having 1 to 5 carbon atoms which may have a substituent. Specific examples of the lower alkylene group include, for example, a linear or branched group represented by a methylene group, an ethylene group, a trimethylene group, a tetramethylene group, a methylmethylene group, a methylethylene group and a methyltrimethylene group. A lower alkylene group having 1 to 4 carbon atoms having a branched chain is exemplified. Examples of the substituent include a sulfiel group, a sulfonyl group, a hydroxy group, a nitro group, a nitrile group, an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an aralkyloxy group, and a quaternary amino group.
なお、 本発明の化合物において環 Arが、 例えば、 ベンゼン環、 ナフタレン環、 またはアントラセン環である化合物の立体配置を表す場合、 それらの R型および S型立体配置の表示は、 次式の部分構造: In the compound of the present invention, ring Ar is, for example, a benzene ring, a naphthalene ring, Or when the configuration of an anthracene ring compound is represented, the R-type and S-type configurations are represented by the following partial structures:
Figure imgf000025_0001
が、 それぞれ、 環 Arがベンゼン環のとき、 下記式
Figure imgf000025_0001
Where, when the ring Ar is a benzene ring,
Figure imgf000025_0002
Figure imgf000025_0002
(式中、 太線で示した部分が手前に出ている構造の立体配置を有する) で示され、 環 Arがナフタレン環のとき、 下記式:  (Where the bold line has the configuration of the structure appearing in the foreground), and when the ring Ar is a naphthalene ring, the following formula:
Figure imgf000025_0003
Figure imgf000025_0003
R型 S型  R type S type
(式中、 太線で示した部分は上記と同じ意味を有する) (In the formula, the part shown by a bold line has the same meaning as above.)
で示され、 また環 Arがアントラセン環のとき、 下記式
Figure imgf000026_0001
And when ring Ar is an anthracene ring, the following formula
Figure imgf000026_0001
R型 s型  R type s type
(式中、 太線で示した部分は上記と同じ意味を有する) (In the formula, the part shown by a bold line has the same meaning as above.)
で示される。 Indicated by
また、 本発明の方法に使用する原料化合物(III)は、 ジャーナル ·ォブ,ザ - ケミカル . ソサイエティ(J. Chem. Soc. ) 1 242〜 1 251頁( 1 955年)お よび 1 579〜 1 582頁(1 949年)、 ケミカル 'アンド 'ファーマシューテ ィカル 'ブレティン(Chem. Pharm. Bull. ) 37 ( 8 )卷 2207〜 2208頁( 1 989年)、 ジャーナル 'ォブ 'アメリカン 'ケミカル' ソサイエティ(J. Am. Chem. Soc) 1 1 4卷 9309〜 931 7頁(1 992年)、 ジャーナル ·ォブ ·ァ メリカン 'ケミカル ' ソサイエティ(J. Am. Chem. Soc) 1 18卷 491〜 492 頁(1 996年)のサブレメンタリー ·マテリアル(Supplementary Material)等に 記載の方法に準じて製造することもでき、 また、 その光学分割は光学活性アミン (例えば、 キニジン、 シンコニジン、 アミノ酸、 アミノ酸エステル、 キュン、 ブ ルシン、 ァミノアルコール)等を用いる分別結晶法により実施することができる 力 このうち、 一般式:  The starting compound (III) used in the method of the present invention is described in Journal of, The Chemistry, Society (J. Chem. Soc.) 1242-1251 (1955) and 1579-1. 1 582 (1949), Chemical 'and' Pharmaceutical 'Bulletin (Chem. Pharm. Bull.) 37 (8) Vol. 2207-2208 (1 989), Journal' Ob 'American' Chemical ' Society (J. Am. Chem. Soc) 111 4 9309- 931 7 (1992), Journal of America (Chemical) Society (J. Am. Chem. Soc) 118 1849 49- It can be produced according to the method described in “Supplementary Material” on page 492 (1996), and its optical resolution can be determined by using optically active amines (eg, quinidine, cinchonidine, amino acids, amino acid esters) , Kyun, Brusin, amino alcohol) etc. The force can be carried out by the fractional crystallization method used.
Figure imgf000026_0002
Figure imgf000026_0002
(式中、 環 Arは前記と同一意味を有する) (Wherein, ring Ar has the same meaning as described above)
で示される化合物は、 一般式:
Figure imgf000027_0001
(式中、 Halは臭素原子またはヨウ素原子を表し、 環 Arは前記と同一意味を有す る)
The compound represented by the general formula:
Figure imgf000027_0001
(In the formula, Hal represents a bromine atom or an iodine atom, and ring Ar has the same meaning as described above.)
で示される化合物を、 ァシルラジカル等の反応活性種を生成する触媒および遷移 金属触媒の存在下、 酸素ガスにより酸化し、 生成する一般式: Is oxidized by oxygen gas in the presence of a catalyst that generates reactive species such as an acyl radical and a transition metal catalyst, to produce a compound represented by the following general formula:
Figure imgf000027_0002
Figure imgf000027_0002
(式中、 Halおよび環 Arは前記と同一意味を有する) (Wherein Hal and ring Ar have the same meaning as described above)
で示される化合物を製し、 生成物のカルボキシル基をエステル化後、 銅触媒の存 在下でカップリングし、 生成物をエステル加水分解することにより製造すること ができる。 Can be produced by esterifying a carboxyl group of the product, coupling the product in the presence of a copper catalyst, and subjecting the product to ester hydrolysis.
ァシルラジカル等の反応活性種を生成する触媒としては、 例えば、 アセトン、 メチルェチルケトン、 ィソブチルメチルケトン、 低級脂肪酸 (酢酸、 プロピオン 酸)等を使用することができ、 遷移金属触媒としては、 酢酸コバルト(11)、 臭化 コノ ルト(Π)、 塩化コバルト(11)、 酢酸マンガン(11)、 臭化マンガン(11)、 塩化 マンガン(Π)等を使用することもできる。 酸化反応 1 〜 3 0気圧の酸素ガス雰囲 気下で実施することもできるが、 反応液に酸素ガスをパブリングにより作用させ てもよレヽ。 反応は 2 0〜 2 0 0 °C、 とりわけ、 9 0〜 1 5 0 °Cで容易に進行させ ることができる。  Examples of catalysts that generate reactive species such as acyl radicals include acetone, methyl ethyl ketone, isobutyl methyl ketone, and lower fatty acids (acetic acid and propionic acid). Cobalt acetate (11), cobalt bromide (II), cobalt chloride (11), manganese acetate (11), manganese bromide (11), manganese chloride (II), etc. can also be used. The oxidation reaction can be carried out in an oxygen gas atmosphere of 1 to 30 atm. However, oxygen gas may be allowed to act on the reaction solution by publishing. The reaction can easily proceed at 20-200 ° C, especially at 90-150 ° C.
生成する化合物(XI)のカルボキシル基のエステル化は、 エステル化反応の常法 により、 実施することができ、 化合物 (XI)のカルボキシル基を必要に応じて、 ノヽ ロゲン化剤、 混合酸エステル等を作用させて反応性誘導体とした後、 アルコール (メタノール、 エタノール)と反応させることにより実施することができる。  The carboxyl group of the resulting compound (XI) can be esterified by a conventional esterification reaction. If necessary, the carboxyl group of the compound (XI) can be esterified with a nitrogenating agent, a mixed acid ester, or the like. And then react with an alcohol (methanol, ethanol).
化合物 (XI)を直接アルコ一ルと反応させる場合には脱水剤 (硫酸、 P-トルエン スルホン酸)の存在下に実施することができ、 一方、 反応性誘導体を用いる場合 には脱酸剤(トリエチルァミン、 ピリジン、 N, N—ジメチルァニリン)の存在下 で実施することができる。 これら反応の溶媒としては、 アルコール系溶媒(メタ ノール、 エタノール)を使用することができる力 反応体であるアルコールは溶 媒を兼ねることもできる。 反応は 0〜1 50°C、 とりわけ 50〜90°Cで実施す るのが望ましい。 When reacting compound (XI) directly with alcohol, a dehydrating agent (sulfuric acid, P-toluene Sulfonic acid), while in the case of using a reactive derivative, it can be performed in the presence of a deoxidizing agent (triethylamine, pyridine, N, N-dimethylaniline). . Alcohol-based solvents (methanol, ethanol) can be used as a solvent for these reactions. Alcohol, which is a reactant, can also serve as a solvent. The reaction is preferably carried out at 0 to 150 ° C, especially at 50 to 90 ° C.
続くカップリングは、 ウルマン(Ullmann)反応 [Merck Index (12th ed. )0NR— 92 383]の常法により、 実施することができ、 銅触媒の存在下、 20〜250°C、 と りわけ 140〜1 70°Cに攪拌することにより実施することができる。  Subsequent coupling can be carried out by the usual method of the Ullmann reaction [Merck Index (12th ed.) 0NR—92 383]. It can be carried out by stirring at 1170 ° C.
生成物のエステル加水分解は常法に従い、 水または水性溶媒 (水—エタノール、 水ーテトラヒ ドロフラン)中、 酸 (塩酸、 硫酸)または塩基 (水酸化アルカリ金属、 水酸化アルカリ土類金属)で処理することにより、 実施することができる。  Ester hydrolysis of the product is carried out according to the usual method, using an acid (hydrochloric acid, sulfuric acid) or a base (alkali metal hydroxide, alkaline earth metal hydroxide) in water or an aqueous solvent (water-ethanol, water-tetrahydrofuran). By doing so, it can be implemented.
実施例 Example
以下に実施例を挙げて、 本発明方法をさらに具体的に説明する。  Hereinafter, the method of the present invention will be described more specifically with reference to examples.
実施例 1 Example 1
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1 2 1 2
化合物 1 (1 7 g)に無水酢酸 1 7 Omlを加え、 1 5時間加熱還流する。 反応液 を減圧留去後、 トルエン 10 Omlを加えて減圧濃縮する。 残渣にトルエン 100 mlを加えて再度減圧濃縮後、 ベンジルアルコール 4 Omlを加えて 3時間加熱還流 する。 反応液を減圧濃縮し、 残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (溶 媒; η—へキサン:酢酸ェチル =4 : 1→1 : 1)で精製後、 n—へキサンで結 晶化することにより、 化合物 2 ( 9.6 g)を得る。 収率: 44. 7。/0 17 Oml of acetic anhydride is added to compound 1 (17 g), and the mixture is heated under reflux for 15 hours. After evaporating the reaction solution under reduced pressure, 10 Oml of toluene is added and the mixture is concentrated under reduced pressure. To the residue is added 100 ml of toluene, and the mixture is again concentrated under reduced pressure. 4 Oml of benzyl alcohol is added, and the mixture is refluxed for 3 hours. The reaction solution was concentrated under reduced pressure, and the residue was purified by silica gel column chromatography (solvent; η-hexane: ethyl acetate = 4: 1 → 1: 1), and crystallized with n-hexane to give the compound. 2 (9.6 g) are obtained. Yield: 44.7. / 0
m. p. : 161 - 1 62 °C m.p .: 161-162 ° C
S I MS (m/z) : 433 (M+) NMR(CDC 13, δ) : 4. 79-4. 92 (m, 2 H), 6. 70— 7. 24 (m, 9 H), 7.44-7. 52 (m, 2 H), 7.81 -8. 1 5 (m, 5 H), 8. 15-8. 20 (m, 1 H) SI MS (m / z): 433 (M +) NMR (CDC 13, δ): 4.79-4.92 (m, 2 H), 6.70—7.24 (m, 9 H), 7.44-7.52 (m, 2 H), 7.81- 8.15 (m, 5H), 8.15-8.20 (m, 1H)
(2) (2)
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2 3 twenty three
化合物 2 (432mg)をトルエン 0. 5mlに溶解し、 窒素気流下、 水素化ナトリ ゥム 38.4mgを 25°Cで加え、 25 °Cで 30分間撹拌し、 テトラ n—へキシルァ ンモ -ゥムプロミ ド 22mg、 ェピクロロヒドリン 185 mgを加えて 2時間加熱還 流する。 反応液を冷却後、 シリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶媒; n—へ キサン:酢酸ェチル =4 : 1)で精製することにより、 化合物 3 (356. 7mg)を 得る。 収率: 73.0%  Compound 2 (432 mg) was dissolved in 0.5 ml of toluene, 38.4 mg of sodium hydride was added at 25 ° C under a nitrogen stream, and the mixture was stirred at 25 ° C for 30 minutes, and tetra-n-hexylammo-prompromide Add 22 mg and 185 mg of epichlorohydrin and heat to reflux for 2 hours. After cooling, the reaction solution is purified by silica gel column chromatography (solvent; n-hexane: ethyl acetate = 4: 1) to obtain Compound 3 (356.7 mg). Yield: 73.0%
m. p . : 138- 1 39 °C m.p .: 138-1 39 ° C
E I |MS (m/z) : 488 (M+) EI | MS (m / z): 488 (M + )
NMR(CDC 13, δ) : 2. 1 8 - 2.27 (m, 1 H), 2.47 - 2.66 (m, 2 H), 3. 75 - 3.84 (m, 1 H), 3. 93 - 4.02 (m, 1 H), 4. 82-4. 92 (m, 2H), 6.84— 6.89 (m, 2H), 7.08— 7. 27 (m, 8H), 7.46— 7. 54 (m, 2H), 7.87-8. 25 (m, 5 H)  NMR (CDC 13, δ): 2.18-2.27 (m, 1 H), 2.47-2.66 (m, 2 H), 3.75-3.84 (m, 1 H), 3.93-4.02 (m , 1 H), 4.82-4.92 (m, 2H), 6.84-- 6.89 (m, 2H), 7.08-- 7.27 (m, 8H), 7.46--7.54 (m, 2H), 7.87 -8. 25 (m, 5 H)
(3)  (3)
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3 4 3 4
化合物 3 (140.4mg)をメタノール 10mlおよびテトラヒ ドロフラン 2ml混 合液に溶解し、 10%パラジウム一炭素(50%含水) 5 Omgを加え、 水素ガスを 25°Cで 1時間吹き込む。 反応液を濾過し、 濾液を減圧濃縮する。 濃縮残渣をシ リカゲルカラムクロマトグラフィー(溶媒; n—へキサン:酢酸ェチル =4 : 1 →クロ口ホルム: メタノール =30 : 1)で精製後、 酢酸ェチルー n—へキサン で結晶化することにより、 化合物 4 ( 92.6 mg)を得る。 収率: 80. 9 % m. p. : 1 58— 1 59。C Compound 3 (140.4 mg) was dissolved in a mixture of 10 ml of methanol and 2 ml of tetrahydrofuran, and 5 Omg of 10% palladium-carbon (containing 50% water) was added. Blow at 25 ° C for 1 hour. The reaction solution is filtered, and the filtrate is concentrated under reduced pressure. The concentrated residue was purified by silica gel column chromatography (solvent; n-hexane: ethyl acetate = 4: 1 → chloroform: methanol = 30: 1), and then crystallized by ethyl acetate-n-hexane. Compound 4 (92.6 mg) is obtained. Yield: 80.9% mp: 158—159. C
E I |MS (m/z) : 398 (M+) E I | MS (m / z): 398 (M +)
NMR(CDC 13, 6) : 2. 19-2.28 (m, l H), 2.47-2. 54 (m, 1 H), 2.60-2. 70 (m, 1 H), 3. 75- 3. 88 (m, 1 H), 3. 95— 4.05 (m, 1 H), 6.99— 7.03 (m, 2H), 7. 1 7— 7. 27 (m, 3H), 7.48— 7. 55 (m, 2 H), 7.90 - 8.02 (m, 3 H), 8, 1 1 - 8.20 (m, 2 H) (4) NMR (CDC 1 3, 6) :.. 2. 19-2.28 (m, l H), 2.47-2 54 (m, 1 H), 2.60-2 70 (m, 1 H), 3. 75- 3 88 (m, 1H), 3.95—4.05 (m, 1H), 6.99—7.03 (m, 2H), 7.17—7.27 (m, 3H), 7.48—7.55 ( m, 2 H), 7.90-8.02 (m, 3 H), 8, 1 1-8.20 (m, 2 H) (4)
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4 5 4 5
化合物 4 (ラセミ体) 398mg、 テトラ n—ブチルアンモニゥムハイドロジェン サルフエ一ト 1 6 mg、 水酸化ナトリウム 3 mgおよびェタノール 8 mlを 24時間加 熱還流する。 反応液を減圧留去後、 濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ ィ一(溶媒; トルエン:酢酸ェチル = 4 : 1→ n—へキサン:酢酸ェチル = 2 : 1 )で精製することにより、 化合物 5 ( 133.2mg)を得る。 収率: 33.4 % 398 mg of compound 4 (racemic), 16 mg of tetra-n-butylammonium hydrogen sulphate, 3 mg of sodium hydroxide and 8 ml of ethanol are heated to reflux for 24 hours. After evaporating the reaction solution under reduced pressure, the concentrated residue was purified by silica gel column chromatography (solvent; toluene: ethyl acetate = 4: 1 → n-hexane: ethyl acetate = 2: 1) to give compound 5 ( 133.2 mg). Yield: 33.4%
実施例 2 Example 2
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4 5 4 5
化合物 4 (ラセミ体) 10 Omgおよび Ν,Ν—ジイソプロピルェチルァミン 35 mgをテトラヒドロフラン 2mlに溶解し、 酸素雰囲気下、 室温にて化合物 7 (7.5 mg)を加え、 同温度にて 142時間撹拌する。 この反応液に飽和食塩水 1 Omlを 加え、 酢酸ェチル 2 Omlにて抽出する。 有機層を無水硫酸マグネシウムにて乾燥 後、 溶媒を減圧留去し、 得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (溶媒; n—へキサン:酢酸ェチル = 2 : 1)で精製することにより、 化合物 5 (10 Omg)を淡褐色粉末として得る。 収率: 100%  Dissolve 10 Omg of compound 4 (racemic) and 35 mg of Ν, Ν-diisopropylethylamine in 2 ml of tetrahydrofuran, add compound 7 (7.5 mg) at room temperature under oxygen atmosphere, and stir at the same temperature for 142 hours I do. To the reaction solution is added 1 Oml of saturated saline, and the mixture is extracted with 2 Oml of ethyl acetate. After the organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the obtained residue was purified by silica gel column chromatography (solvent; n-hexane: ethyl acetate = 2: 1) to give Compound 5. (10 Omg) as a light brown powder. Yield: 100%
物性値は、 実施例 1 (4)で得られた化合物と同一であった。  Physical properties were the same as those of the compound obtained in Example 1 (4).
実施例 3 Example 3
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4  Four
化合物 4 (ラセミ体) 10 Omgおよび N, N—ジィソプロピルェチルァミン 35 mgをテトラヒドロフラン 2mlに溶解し、 酸素雰囲気下、 室温にて化合物 8 (4. 7 mg)を加え、 同温度にて 1 90時間撹拌する。 この反応液に飽和食塩水 1 Omlを 加え、 酢酸ェチル 2 Omlにて抽出する。 有機層を無水硫酸マグネシウムにて乾燥 後、 溶媒を減圧留去し、 得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (溶媒; n—へキサン:酢酸ェチル = 2 : 1)で精製することにより、 化合物 5 (8 Omg)を無色結晶として得る。 収率: 80 % Compound 4 (racemic) 10 Omg and N, N-diisopropylethylamine 35 was dissolved in 2 ml of tetrahydrofuran, compound 8 (4.7 mg) was added at room temperature under an oxygen atmosphere, and the mixture was stirred at the same temperature for 190 hours. To the reaction solution is added 1 Oml of saturated saline, and the mixture is extracted with 2 Oml of ethyl acetate. After the organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the obtained residue was purified by silica gel column chromatography (solvent; n-hexane: ethyl acetate = 2: 1) to give Compound 5. (8 Omg) are obtained as colorless crystals. Yield: 80%
物性値は、 実施例 1 (4)で得られた化合物と同一であった。  Physical properties were the same as those of the compound obtained in Example 1 (4).
実施例 4 Example 4
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4 5 4 5
化合物 4 (ラセミ体) 10 Omg(0.25ミリモル)および N, N—ジイソプロピル ェチルァミン 35mg(0.275ミリモル)のテトラヒ ドロフラン 2 ml (窒素を吹き 込み脱気したもの)溶液にアルゴン雰囲気下室温にて化合物 7 (7. 5mg、 0.01 25ミリモル)を加え同温度にて 135時間攪拌する。 この反応液に飽和食塩水 1 Omlを加え、 酢酸ェチル 2 Omlにて抽出する。 有機層を無水硫酸マグネシウム にて乾燥後、 溶媒を減圧留去し、 得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ フィー (溶媒;へキサン:酢酸ェチル =2 : 1)で精製することにより化合物 5 (93mg、 93%)を無色粉末として得る。  Compound 4 (racemic) A solution of 10 Omg (0.25 mmol) and 35 mg (0.275 mmol) of N, N-diisopropylethylamine in 2 ml of tetrahydrofuran (degassed by blowing nitrogen) was added with Compound 7 (at room temperature) under an argon atmosphere at room temperature. (5 mg, 0.01 25 mmol) and stirred at the same temperature for 135 hours. To the reaction solution is added 1 Oml of saturated saline, and the mixture is extracted with 2 Oml of ethyl acetate. After the organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the obtained residue was purified by silica gel column chromatography (solvent; hexane: ethyl acetate = 2: 1) to give Compound 5 (93 mg). , 93%) as a colorless powder.
物性値は、 実施例 1 (4)で得られた化合物と同一であった。 実施例 5 Physical properties were the same as those of the compound obtained in Example 1 (4). Example 5
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5 6  5 6
化合物 5 (ラセミ体) 5 Omg(0. 1 25ミリモル)、 MnOz418mg、 および トルエン lmlの混合物を 50〜60°Cで 1 7時間攪拌する。 不溶物を濾別し、 濾 液を減圧濃縮する。 析出した結晶にジイソプロピルエーテルを加えた後、 濾取し、 n—へキサンで洗浄後、 減圧乾燥して化合物 6の 25mg(50.3%)を得る。 Compound 5 (racemic) 5 Omg (0. 1 25 mmol), MnO z 418mg, and a mixture of toluene lml stirred for 1 7 hours at 50-60 ° C. The insolubles are removed by filtration, and the filtrate is concentrated under reduced pressure. After adding diisopropyl ether to the precipitated crystals, the crystals are collected by filtration, washed with n-hexane, and dried under reduced pressure to obtain 25 mg (50.3%) of compound 6.
m. ρ . : > 280 °C m. ρ .:> 280 ° C
I R(KB r ) : 1754 c m一1 IR (KB r): 1754 cm- 1
実施例 6 Example 6
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1 4 14
(1)化合物 1 (342mg、 1ミリモル)を塩化メチレン 5 mlに懸濁し、 室温にてト リエチルァミン(223mg、 2. 2ミリモル)を加え、 ついで氷冷し、 その混合物 にォキサリルクロリ ド( 140 mg、 1. 1ミリモル)を塩化メチレン 1 mlで希釈し た溶液を 1時間かけて滴下したのち、 室温にて 1時間攪拌する。 反応液を濃縮後、 得られた残渣を塩化メチレン 5 mlに懸濁し、 これを氷冷し、 それにグリシドール (101mg、 1.3ミリモル)、 トリェチルァミン(0. 17ml、 1.2ミリモル)お よび 4ージメチルァミノピリジン(1 2mg、 0. 1ミリモル)を加えた後、 室温に て 1時間攪拌する。 その反応液を酢酸ェチル 50 mlで希釈後、 10 o/oクェン酸水 溶液、 水および飽和食塩水で洗浄し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥する。 その溶 液を濃縮して得られる残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (溶媒;ク 口口ホルム:酢酸ェチル = 50 : 1→クロロホルム:メタノ一ル 30 : 1 )に より精製して化合物 4 ( 320 mg、 80%)を無色粉末状で得る。 (1) Compound 1 (342 mg, 1 mmol) was suspended in 5 ml of methylene chloride, triethylamine (223 mg, 2.2 mmol) was added at room temperature, and the mixture was cooled with ice, and oxalyl chloride (140 mg, (1 mmol) was added dropwise over 1 hour, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. After concentrating the reaction mixture, the resulting residue was suspended in 5 ml of methylene chloride, cooled with ice, and added with glycidol (101 mg, 1.3 mmol), triethylamine (0.17 ml, 1.2 mmol) and 4-dimethylamino. After adding pyridine (12 mg, 0.1 mmol), the mixture is stirred at room temperature for 1 hour. The reaction mixture is diluted with 50 ml of ethyl acetate, washed with a 10 / o aqueous solution of citric acid, water and saturated saline, and dried over anhydrous magnesium sulfate. The residue obtained by concentrating the solution is subjected to silica gel column chromatography (solvent; Oral form: ethyl acetate = 50: 1 → chloroform: methanol 30: 1) to give compound 4 (320 mg, 80%) as a colorless powder.
( 2)上記(1)の方法において、 ォキサリルクロリ ドの代わりに塩化チォニル(1 43mg、 1.2ミリモル)を用いて、 同様に操作して化合物 4 (31 9mg、 80%) を得る。  (2) Compound 4 (319 mg, 80%) is obtained in the same manner as in the above (1), except that thionyl chloride (143 mg, 1.2 mmol) is used instead of oxalyl chloride.
(3)化合物 1 (342mg、 1ミリモル)を塩化メチレン 5 mlに懸濁し、 室温にてト リエチルァミン(223mg、 2.2ミリモル)を加える。 この混液を氷冷し、 ジフ ェニルホスホロクロリデ一ト(296mg、 1. 1ミリモル)を塩ィ匕メチレン lmlで 希釈した溶液を 1時間かけて滴下したのち、 室温にて 1日間攪拌する。 ついで反 応液を氷冷し、 これにグリシドール( 101 mg、 1. 3ミリモル)、 トリェチルァ ミン(0. 1 7ml、 1.2ミリモル)および 4—ジメチルァミノピリジン(12mg、 0. 1ミリモル)を加えたのち、 室温にて 1時間攪拌する。 その反応液を酢酸ェチ ル 5 Omlで希釈し、 10%クェン酸水溶液、 水および飽和食塩水で洗浄後、 無水 硫酸マグネシウムで乾燥する。 その混合液を濃縮し、 得られた残留物をシリカゲ ルカラムクロマトグラフィー(溶媒;クロ口ホルム:酢酸ェチル = 50 : 1→ク ロロホルム:メタノール =30 : 1 )で精製し、 化合物 4 (308mg、 77 %)を得 る。  (3) Compound 1 (342 mg, 1 mmol) is suspended in 5 ml of methylene chloride, and triethylamine (223 mg, 2.2 mmol) is added at room temperature. The mixture is cooled with ice, a solution of diphenyl phosphorochloride (296 mg, 1.1 mmol) diluted with 1 ml of methylene chloride is added dropwise over 1 hour, and the mixture is stirred at room temperature for 1 day. The reaction solution was then cooled on ice, and glycidol (101 mg, 1.3 mmol), triethylamine (0.17 ml, 1.2 mmol) and 4-dimethylaminopyridine (12 mg, 0.1 mmol) were added. Then, stir at room temperature for 1 hour. The reaction solution is diluted with 5 Oml of ethyl acetate, washed with a 10% aqueous solution of citric acid, water and saturated saline, and dried over anhydrous magnesium sulfate. The mixture was concentrated, and the obtained residue was purified by silica gel column chromatography (solvent: chloroform: ethyl acetate = 50: 1 → chloroform: methanol = 30: 1) to obtain Compound 4 (308 mg, 77%).
実施例 7— 9 Example 7-9
上記実施例 6に記載の方法において、 酸無水物生成反応の条件を表 1に示すよ うに種々変更し、 また、 グリシドールとの反応を、 トリェチルァミンを 1.3ミ リモルを用い、 グリシドールの用量を表 1に示すように変えた以外は同様に行う ことにより化合物 4を得る。  In the method described in Example 6 above, the conditions for the acid anhydride formation reaction were variously changed as shown in Table 1, and the reaction with glycidol was performed using 1.3 mimol of triethylamine and the dose of glycidol was adjusted as shown in Table 1. Compound 4 is obtained by carrying out in the same manner except for changing as shown in.
その結果を表 1に示す。 表 1 The results are shown in Table 1. table 1
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実施例 10 Example 10
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1 4 14
化合物 1 (342 mg)に酢酸クロリ ド 2. Omlを加えて、 ー晚加熱還流する。 そ の反応液を減圧濃縮し、 残渣に THF 2mlを加えて再び減圧濃縮する。 この残渣 を塩化メチレン 2mlに溶解し、 氷冷下、 グリシドール(0. 10ml, 1. 5ミリモ ル)、 トリェチルァミン(0. 1 2ml、 1.5ミリモル)、 4—ジメチルァミノピリ ジン(1 2mg、 0. 1ミリモル)を加えて、 室温で 3時間反応させ、 その反応液を 醉酸ェチル 50 mlで希釈後、 10 %クェン酸水溶液、 水および飽和食塩水で洗浄 し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥する。 その溶液を濃縮して得られる残留物をシ リ力ゲル力ラムクロマトグラフィー(溶媒; クロロホルム:酢酸ェチル = 50 : 1→クロ口ホルム: メタノール =30 : 1)により精製して、 化合物 4 (247mg、 62%)を得る。 2. Oml of acetic chloride is added to compound 1 (342 mg), and the mixture is heated under reflux. The reaction mixture is concentrated under reduced pressure, 2 ml of THF is added to the residue, and the mixture is again concentrated under reduced pressure. This residue was dissolved in 2 ml of methylene chloride, and glycidol (0.1 ml, 1.5 mmol), triethylamine (0.1 ml, 1.5 mmol), 4-dimethylaminopyridine (12 mg, 0 1 mmol), and react at room temperature for 3 hours. Dilute the reaction solution with 50 ml of ethyl sulphate, wash with a 10% aqueous solution of citric acid, water and saturated saline, and dry over anhydrous magnesium sulfate. The residue obtained by concentrating the solution is Purification by force gel force chromatography (solvent; chloroform: ethyl acetate = 50: 1 → clonal form: methanol = 30 : 1) to obtain compound 4 (247 mg, 62%).
実施例 1 1 Example 1 1
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Figure imgf000036_0001
(R)-l (R)-4  (R) -l (R) -4
(R)一型化合物 1 (光学純度 99. 5 %e. e. ; 3.00 g、 8. 76ミリモル)を塩 化メチレン 44mlに溶解し、 室温にてトリエチルァミン(2.44ml、 1 7. 5ミ リモル)を加える。 この混合物を氷冷した後、 同温にて、 ォキサリルクロリ ド(1. 1 lg、 8. 76ミリモル)の塩化メチレン 8.8 ml溶液を 1時間かけて滴下する。 この混合物を室温にて 1時間攪拌後、 再び氷冷し、 同温にて、 トリェチルァミン (1.47ml、 10.5ミリモノレ)、 グリシドール (0.69 ml, 9.88ミリモル)お よび N, N—ジメチルァミノピリジン(107mg、 0.876ミリモル)を加える。 混合物を室温にて 1時間攪拌する。 反応混合物を 10%クェン酸で洗浄後、 水層 をクロ口ホルムで抽出し、 クロ口ホルム層を水、 飽和食塩水で洗浄し、 乾燥後、 濃縮する。 残渣をシリ力ゲルク口マトグラフィー (溶媒;クロロホルム :酢酸ェ チル =50 : 1→クロロホルム:メタノール =30 : 1)で精製することにより、 (R)—型化合物 4 (2. 52g、 収率: 72%)を無色泡状物として得る。  (R) Compound 1 (optical purity 99.5% ee; 3.00 g, 8.76 mmol) was dissolved in 44 ml of methylene chloride, and triethylamine (2.44 ml, 17.5 mmol) was added at room temperature. Add. After cooling this mixture on ice, at the same temperature, a solution of oxalyl chloride (1.1 lg, 8.76 mmol) in 8.8 ml of methylene chloride is added dropwise over 1 hour. The mixture was stirred at room temperature for 1 hour, cooled on ice again, and at the same temperature, triethylamine (1.47 ml, 10.5 mmol), glycidol (0.69 ml, 9.88 mmol) and N, N-dimethylaminopyridine (107 mg) , 0.876 mmol). The mixture is stirred at room temperature for 1 hour. After the reaction mixture is washed with 10% citric acid, the aqueous layer is extracted with chloroform, and the chloroform layer is washed with water and brine, dried and concentrated. The residue was purified by silica gel chromatography (solvent; chloroform: ethyl acetate = 50: 1 → chloroform: methanol = 30: 1) to give the (R) -type compound 4 (2.52 g, yield: 72%) as a colorless foam.
E 1 MS (m/Z) : 398 (M+) E 1 MS (m / Z): 398 (M +)
NMR(CDC 13, δ) : 2.21 - 2.30 (m, 1 H), 2. 50 - 2.56 (m, 1 H), 2.63— 2. 73 (m, 1H), 3.77— 3. 89 (m, 1H), 3.99— 4.07 NMR (CDC 13, δ): 2.21-2.30 (m, 1H), 2.50-2.56 (m, 1H), 2.63—2.73 (m, 1H), 3.77—3.89 (m, 1H ), 3.99— 4.07
(m, l H), 7.02 (d, J =8. 7Hz, 2H), 7. 19— 7.32(m, 2H), 7.4 8 - 7.56 (m, 2H), 7. 92-8.03 (m, 4H), 8. 1 1 -8. 19 (m, 2H) [a] 24 D=+36.7° (C=1.00、 クロ口ホルム) 実施例 1 2 (m, l H), 7.02 (d, J = 8.7 Hz, 2H), 7.19-7.32 (m, 2H), 7.4 8-7.56 (m, 2H), 7.92-8.03 (m, 4H ), 8.1 1 -8. 19 (m, 2H) [a] 24 D = + 36.7 ° (C = 1.00, black-hole form) Example 1 2
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(R)- (R)-6  (R)-(R) -6
(R)—型化合物 4に、 実施例 1一(4)または実施例 3記載の方法および実施例 5記載の方法を適用することにより、 (R)—型化合物 6を得る。 By applying the method described in Example 1- (4) or Example 3 and the method described in Example 5 to (R) -type compound 4, (R) -type compound 6 is obtained.
本品の物理化学的特性は、 ジャーナル .ォブ 'アメリカン 'ケミカル ' ソサイ エティ一 (Journal of American Chemical Society) Λ 第 1 1 8卷、 4 9 1〜 49 2頁( 1 9 96年)のサプリメンタリー .マテリアル(Supplementary Material)に 記載されたものと一致した。 Physicochemical properties of this product, the journal. Supplement of O Bed 'American' Chemical 'Vegetables Variety one (Journal of American Chemical Society) Λ first 1 8 Certificates, 4 9 1-49 2 pages (1 9 1996) It was the same as that described in the “Supplementary Material”.
実施例 1 3〜: 1 6 Example 13: 16
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9 10  9 10
対応原料化合物を、 (A)実施例 1— (1)〜(3)または実施例 6から 1 0のいず れか、 (B)実施例 1—(4)または実施例 2〜4のいずれ力、、 および(C)実施例 5 に準じて処理することにより、 表 2記載の化合物を得る。 表 2
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The corresponding starting compounds were (A) any one of Examples 1- (1) to (3) or Examples 6 to 10, and (B) any one of Examples 1- (4) or Examples 2-4. The compounds described in Table 2 are obtained by treating according to the procedure described in Example 5 with force. Table 2
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実施例 1 7— 20Example 17
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(R)-9 (R)-10 対応原料化合物を、 (A)実施例 1 1、 (B)実施例 1— (4)または実施例 3のい ずれか、 および(C)実施例 5に準じて処理することにより、 表 3に記載の化合物 を得る。 表 3 The (R) -9 (R) -10 corresponding starting compound was added to either (A) Example 11, (B) Example 1- (4) or Example 3, and (C) Example 5. The compound shown in Table 3 is obtained by treating according to the procedure. Table 3
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参考例
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Reference example
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11 12  11 12
(1)化合物 1 1 (50g 226ミリモル),酢酸コバルト(Π) · 4水和物(12 g (1) Compound 11 (50 g, 226 mmol), cobalt acetate (II) tetrahydrate (12 g
48ミリモル),メチルェチルケトン(6. 2ml 69ミリモル)および酢酸(400 ml)の混合物を、 酸素を吹き込みながら、 90 100°Cで 10時間攪拌する。 反応混合物を室温まで冷却後、 氷 50 Ogに注ぐ。 混合物を 1時間攪拌後、 析出 晶を濾取し、 水洗する。 得られる粗結晶を酢酸ェチル(600ml)に溶解し、 活性 炭処理および乾燥後、 不溶物を濾去する。 濾液を減圧濃縮し、 残渣に η—へキサ ンを加えて 10°C以下で 1時間攪拌する。 析出晶を濾取し、 n キサンで洗浄、A mixture of 48 mmol), methyl ethyl ketone (6.2 ml, 69 mmol) and acetic acid (400 ml) is stirred at 90 ° C. for 10 hours while blowing oxygen. After cooling the reaction mixture to room temperature, it is poured over 50 Og of ice. After stirring the mixture for 1 hour, the precipitated crystals are collected by filtration and washed with water. The obtained crude crystals are dissolved in ethyl acetate (600 ml), treated with activated carbon and dried, and the insoluble matter is removed by filtration. The filtrate is concentrated under reduced pressure, η-hexane is added to the residue, and the mixture is stirred at 10 ° C or less for 1 hour. The precipitated crystals are collected by filtration, washed with n-xane,
50°Cで送風乾燥することにより、 化合物 1 2 (46. 69g、 収率: 82. 5%) を得る。 COOCH3 The compound 12 (46.69 g, yield: 82.5%) is obtained by air drying at 50 ° C. COOCH 3
COOCH COOCH
CH3OH COOCH3
Figure imgf000040_0001
H,S04
CH 3 OH COOCH3
Figure imgf000040_0001
H, S0 4
Figure imgf000040_0002
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1 1
( 2— 1 )上記( 1 )で得られる化合物をメタノール中、 濃硫酸と共に加熱還流する ことにより、 メチルエステルとした後、 銅触媒の存在下、 2 70〜280°Cに 2 0分間加熱する。 反応混合物を冷却後、 トルエンで抽出し、 抽出液を冷却するこ とにより、 結晶を析出させる。 析出晶を濾取後、 エタノールから再結晶すること により、 化合物 1 4を得る。 この化合物を水酸化ナトリゥムを用いて加水分解し、 ェタノールから再結晶することにより、 化合物 1を得る。 (2-1) The compound obtained in (1) above is heated and refluxed with concentrated sulfuric acid in methanol to form a methyl ester, and then heated to 270 to 280 ° C for 20 minutes in the presence of a copper catalyst. . After cooling the reaction mixture, the mixture is extracted with toluene, and the extract is cooled to precipitate crystals. Compound 14 is obtained by filtering the precipitated crystals and recrystallizing from ethanol. This compound is hydrolyzed using sodium hydroxide and recrystallized from ethanol to obtain Compound 1.
本品の物理化学的特性は、 ジャーナル 'ォブ ·ザ ·ケミカル'ソサイエティ一 (Journal of Chemical Society) 1 242〜1 25 1頁(1 9 55年)に記載され たものと一致した。  The physicochemical properties of this product were consistent with those described in the Journal of the Chemical Society, Journal of Chemical Society, pages 1242-1251 (1955).
Figure imgf000040_0003
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(2- 2) 1 Lナスフラスコに上記(1)で得られる化合物(1 05. 3g、 4 1 9ミ リモル)およびメタノール(3 5 Oml)を入れ、 氷冷下、 チォニルクロリ ド(36. 7ml、 503ミリモル)を約 1 0分かけて滴下する。 滴下終了後、 3時間加熱還 流する。 (2-2) In a 1 L eggplant-shaped flask, put the compound obtained in the above (1) (105.3 g , 419 mmol) and methanol (35 Oml), and add thionyl chloride (36. 7 ml, 503 mmol) is added dropwise over about 10 minutes. After the completion of dropping, heat and reflux for 3 hours.
溶媒を ί¾ϊ留去して得られた残渣をトルエン(30 Oml)に溶解し、 これを水 (3 0 Oml), 飽和重曹水(3 0 Oml)および飽和食塩水(3 0 Oral)で順次洗浄後、 硫酸マグネシウム(1 Og)と活性炭(2 5g)を加えて濾過する。 濾液を減圧濃縮す ることにより、 化合物 1 3 ( 1 0 6. 3 4 g、 収率 9 6 %)を褐色結晶として得る。 化合物 1 3を上記( 2— 1 )と同様に処理することにより、 化合物 1を得ることが できる。 The residue obtained by distilling off the solvent was dissolved in toluene (30 Oml), and this was added to water. (30 Oml), saturated aqueous sodium bicarbonate (30 Oml) and saturated saline (30 Oral), then magnesium sulfate (1 Og) and activated carbon (25 g) were added, followed by filtration. The filtrate is concentrated under reduced pressure to obtain Compound 13 (10.634 g, yield 96%) as brown crystals. Compound 13 can be obtained by treating compound 13 in the same manner as in the above (2-1).
参考例 2 Reference example 2
Figure imgf000041_0002
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15 17 化合物 1 5 (2. 4 Og)をエタノール 1 20mlに溶解させ、 加熱還流させ、 さら に、 化合物 1 6 (3. 1 3 g)を少しずつ添加したのち、 1 5分間加熱還流する。 そ ののち、 室温まで放冷し、 ー晚放置し、 析出したビアントラキノンカルボン酸の キニジン塩を濾取し、 エタノールで洗浄したのち、 これに 1 %水酸化ナトリウム 水溶液 1 1 4 mlを添加し、 60°Cで 3 0分間加熱する。 加熱後、 室温まで放冷し、 3. 5 %塩酸を添加し、 p H 2に調整し、 3 0分間攪拌する。  15 17 Compound 15 (2.4 Og) is dissolved in 120 ml of ethanol, and the mixture is refluxed under heating. Further, compound 16 (3.13 g) is added little by little, and the mixture is heated under reflux for 15 minutes. Then, the mixture was allowed to cool to room temperature, allowed to stand, and the precipitated quinidine salt of bianthraquinonecarboxylic acid was collected by filtration, washed with ethanol, and added with 114 ml of a 1% aqueous sodium hydroxide solution. Heat at 60 ° C for 30 minutes. After heating, the mixture is left to cool to room temperature, adjusted to pH 2 by adding 3.5% hydrochloric acid, and stirred for 30 minutes.
次に、 その反応混合物に、 酢酸ェチルエステルを添加して抽出したのち、 乾燥 し、 溶媒を留去する。 得られた抽出物をメタノールに溶解させ、 再結晶を行ない、 溶媒が約 1 7 ml残存するまで留去を行い、 得られた結晶を濾取する。  Next, ethyl acetate is added to the reaction mixture for extraction, followed by drying and distilling off the solvent. The obtained extract is dissolved in methanol and recrystallized. The solvent is distilled off until about 17 ml of the solvent remains, and the obtained crystals are collected by filtration.
次に、 得られた結晶を 6 0〜70°Cで 1 6時間減圧乾燥させ、 化合物 1 7 (8 9 Omg)を得る。  Next, the obtained crystals are dried under reduced pressure at 60 to 70 ° C. for 16 hours to obtain Compound 17 (89 Omg).
本品の物性は以下のとおりである。  The physical properties of this product are as follows.
分解点(d p): 1 9 6. 8— 2 20. 6 [ひ ] D 25 : — 2 2 5° (C = 0. 8,Me OH) Decomposition point (dp): 1 96.8-2 20.6 [H] D 25 : — 2 25 ° (C = 0.8 MeOH)
I R (nujol)v ma x (cm-1) : 34 90, 1 7 2 1 , 1 6 70, 1 5 84 IR (nujol) v ma x ( cm- 1): 34 90, 1 7 2 1, 1 6 70, 1 5 84
LC-MS (E S l )m/z : 50 1 (M— H) LC-MS (E S l) m / z: 50 1 (M-H)
!HNMR (DMS O— d 6, a) 7. 8 0 - 7. 9 5 (m, 6H), 8. 2 1— 8. 26 (m, 2H), 8. 3 3 (d, J = 8H z ( 2 H), 8. 4 1 (d, J = 8H z , 2H), 1 3. 0 (b r s , 2H) ! HNMR (DMS O— d 6 , a) 7.80-7.95 (m, 6H), 8.2 1—8.26 (m, 2H), 8.33 (d, J = 8H z ( 2H), 8.4 1 (d, J = 8Hz, 2H), 13.0 (brs, 2H)
次に、 以下の条件で、 HP LCを測定したところ、 異性体の混入は認められな かつた。  Next, HPLC was measured under the following conditions, and no contamination with isomers was observed.
L i C h r o CART 2 50 -4 C h i r a D e c 5 m  L i C h ro CART 2 50 -4 C h i r a D e c 5 m
Me OH: 1/4 5Mリン酸緩衛液(p H6. 5) (50/5 0) Me OH: 1/4 5M phosphate buffer (pH 6.5) (50/5 0)
参考例 3 Reference example 3
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18 19 化合物 1 8 (1 9 2mg、 1. 0ミリモル)を、 1, 2—ジメ トキシェタン 1 5mlに 室温で溶解させたのち、 4 X 1 0—4Mエチレンジァミン四酢酸ニナトリゥム塩 水溶液 1 0mlを添カ卩し、 次いで(R)—型化合物 6 (40mg、 0. 1ミリモル)を添 加し、 外浴により、 0°Cに冷却する。 そののち、 ォキソン 6. 1 4g( l 0ミリモ ル)と重曹 2. 6g(3 1ミリモル)との混合物を 6回に分けて 1時間ごとに添加する。 添加終了後、 さらに 2時間攪拌を行ったのち、 得られた反応混合液を半飽和食塩 水にあけ、 エーテルで抽出する。 有機層を飽和食塩水で洗浄し、 次いで無水硫酸 マグネシウムで乾燥させる。 18 19 Compound 1 8 (1 9 2mg, 1. 0 mmol), 1, 2-dimethyl Tokishetan 1 5 ml After dissolving at room temperature, added to 4 X 1 0- 4 M Echirenjiamin tetraacetate Ninatoriumu salt solution 1 0 ml Then, (R) -type compound 6 (40 mg, 0.1 mmol) is added, and the mixture is cooled to 0 ° C by an external bath. Thereafter, a mixture of 6.14 g (10 mmol) of oxone and 2.6 g (31 mmol) of sodium bicarbonate is added in six portions every hour. After completion of the addition, the mixture is further stirred for 2 hours, and the obtained reaction mixture is poured into half-saturated saline and extracted with ether. The organic layer is washed with saturated saline and then dried over anhydrous magnesium sulfate.
乾燥後、 無水硫酸マグネシウムを濾別し、 濾液から溶媒を留去する。 得られた 残渣に、 齚酸ェチルと n—へキサンの 1 : 8 (容量比)の混合物 9 mlを添加し、 室 温で 1時間攪拌する。 析出した白色粉末を濾取し、 減圧下で乾燥し、 前記(R)—型化合物 6 (32mg) を回収する(回収率: 80重量%)。 After drying, anhydrous magnesium sulfate is filtered off, and the solvent is distilled off from the filtrate. To the obtained residue, 9 ml of a mixture of ethyl acetate and n-hexane (1: 8 by volume) is added, and the mixture is stirred at room temperature for 1 hour. The precipitated white powder is collected by filtration and dried under reduced pressure to recover the (R) -type compound 6 (32 mg) (recovery rate: 80% by weight).
一方、 得られた濾液(HP LCでの収率: 91 %)をシリカゲルのフラッシュ力 ラムクロマトグラフィー (移動相:酢酸ェチル: n—へキサン =1 : 8 (容量比)) で精製し、 化合物 1 9 (1 35mg、 単離収率: 65%)を得る。 本品の光学純度を HP LCにより求めたところ、 81 %e. e.であった。  On the other hand, the obtained filtrate (HP LC yield: 91%) was purified by flash chromatography on silica gel (mobile phase: ethyl acetate: n-hexane = 1: 8 (volume ratio)) to give the compound. This gives 19 (135 mg, isolation yield: 65%). The optical purity of this product determined by HP LC was 81% e.e.
参考例 4〜 7 Reference Examples 4 to 7
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Figure imgf000043_0001
18 19 化合物 18および実施例 1 7— 20で得られた表 4の化合物を、 参考例 3に準 じて処理することにより、 化合物 1 9を得る。  18 19 Compound 18 and the compound of Table 4 obtained in Examples 17 to 20 were treated according to Reference Example 3 to give Compound 19.
表 4  Table 4
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産業上の利用の可能性
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Industrial applicability
本発明方法によれば、 医薬として有用な 1, 5—べンゾチアゼピン誘導体の製 造中間体である光学活性フユ-ルグリシッド酸誘導体の製造に際して触媒として 用いられる不斉ケトン化合物およびその前駆体であるヒ ドロキシラク トン化合物 が、 大量の有機溶媒を用いずに、 かつ高収率で得られるので、 本発明方法は該化 合物の工業的製法として有用である。  According to the method of the present invention, an asymmetric ketone compound which is used as a catalyst in the production of an optically active furglycidic acid derivative which is an intermediate for producing a 1,5-benzothiazepine derivative useful as a medicament, and a precursor which is a precursor thereof. Since the droxylactone compound can be obtained in a high yield without using a large amount of an organic solvent, the method of the present invention is useful as an industrial production method of the compound.

Claims

請 求 の 範 囲 The scope of the claims
1 . 一般式(I ) : 1. General formula (I):
Figure imgf000045_0001
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(式中、 環 Arは置換基を有していてもよい 1〜3環式の芳香環、 Alkは単結合手 または置換基を有していてもよレ、アルキレン基、 Qはカルボ二ル基またはスルホ ニル基、 Xは酸素原子または硫黄原子、 R 1は水素原子または低級アルキル基を 表す) (Wherein, ring Ar is a 1 to 3 cyclic aromatic ring which may have a substituent, Alk is a single bond or may have a substituent, an alkylene group, and Q is carbonyl. Group or a sulfonyl group, X represents an oxygen atom or a sulfur atom, and R 1 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group.)
で示されるエポキシ化合物またはその塩を分子内閉環することを特徴とする一般 式 (II) : Wherein the epoxy compound or a salt thereof represented by the general formula (II):
Figure imgf000045_0002
Figure imgf000045_0002
(式中、 環 Ar、 Alk、 Q、 Xおよび R 1は前記と同一意味を有する) (Wherein, the rings Ar, Alk, Q, X and R 1 have the same meanings as described above)
で示されるヒ ドロキシラク トン化合物またはその塩を製造する方法 c In a method for producing a human Dorokishiraku tons or a salt thereof shown c
2 . i )一般式 (III) :  2. i) General formula (III):
Figure imgf000045_0003
Figure imgf000045_0003
(式中、 環 Arは置換基を有していてもよい 1〜 3環式の芳香環、 Alkは単結合手 または置換基を有していてもよいアルキレン基、 Qはカルボニル基またはスルホ ニル基、 Xは酸素原子または硫黄原子を表す) (Wherein, ring Ar is an optionally substituted 1 to 3 cyclic aromatic ring, Alk is a single bond Or an alkylene group which may have a substituent, Q represents a carbonyl group or a sulfonyl group, and X represents an oxygen atom or a sulfur atom.)
で示されるビアリ一ル化合物から対応する酸無水物を製造し、 To produce a corresponding acid anhydride from a biaryl compound represented by
(ii)-(a) その酸無水物に一般式 (IV) :  (ii)-(a) The acid anhydride has the general formula (IV):
Prot-X-H (IV)  Prot-X-H (IV)
(式中、 Protは保護基を表し、 Xは前記と同一意味を有する) (Wherein, Prot represents a protecting group, and X has the same meaning as described above)
で示される化合物またはその塩を反応させて保護基を導入した後、 一般式(V- a) :
Figure imgf000046_0001
After introducing a protecting group by reacting the compound represented by the formula (I) or a salt thereof, the compound represented by the general formula (V-a):
Figure imgf000046_0001
(式中、 Lは脱離基を表し、 R1は水素原子または低級アルキル基を表す) で示される化合物と反応させ、 ついで保護基を除去するか、 (Wherein L represents a leaving group, R 1 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group), and then the protecting group is removed or
(ii)— (b)その酸無水物を一般式(V- b) : (V-b)(ii) — (b) The acid anhydride is represented by the general formula (V-b): (V-b)
Figure imgf000046_0002
Figure imgf000046_0002
(式中、 R1および Xは前記と同一意味を有する) (Wherein, R 1 and X have the same meanings as described above)
で示される化合物と反応させて With the compound shown in
一般式(I) : General formula (I):
Figure imgf000046_0003
Figure imgf000046_0003
(式中、 環 Ar、 Alk、 Q、 Xおよび R1は前記と同一意味を有する) (Wherein, the rings Ar, Alk, Q, X and R 1 have the same meanings as described above)
で示されるエポキシ化合物を製造し、 To produce an epoxy compound represented by
(iii)ついでこの化合物またはその塩を分子内閉環する  (iii) Next, the compound or a salt thereof is intramolecularly closed.
ことを特徴とする一般式 (II) :
Figure imgf000047_0001
General formula (II) characterized by the following:
Figure imgf000047_0001
(式中、 環 Ar、 Alk、 Q、 Xおよび R1は前記と同一意味を有する) (Wherein, the rings Ar, Alk, Q, X and R 1 have the same meanings as described above)
で示されるヒ ドロキシラク トン化合物またはその塩を製造する方法。 A method for producing a hydroxylactone compound or a salt thereof represented by the formula:
3. 該エポキシ化合物( I )の分子内閉環を遷移金属錯体触媒の存在下に行う請 求の範囲 1または 2記載の方法。  3. The method according to claim 1, wherein the intramolecular ring closure of the epoxy compound (I) is performed in the presence of a transition metal complex catalyst.
4. 遷移金属触媒が、 一般式 (VII) :  4. The transition metal catalyst has the general formula (VII):
Figure imgf000047_0002
Figure imgf000047_0002
[式中、 R1'および ま水素原子、 アルキル基またはァリール基、 R2'〜R5 'および R2"〜R5 "は水素原子、 アルキル基またはァリール基、 Ra'および Ra" は( i )水素原子、 アルキル基またはァリール基である力 または(ii)互いに結合 して式: [Wherein, R 1 ′ and a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, R 2 ′ to R 5 ′ and R 2 ″ to R 5 ″ are a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, R a ′ and R a ″ Is (i) a force that is a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, or (ii)
Figure imgf000047_0003
Figure imgf000047_0003
(式中、 Ra l'〜Ra4'は水素原子、 アルキル基またはァリール基)で示される基、 または aii)互いに結合して式:
Figure imgf000047_0004
(Wherein, R al 'to R a4 ' are a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group), or aii) bonded to each other to form a group represented by the formula:
Figure imgf000047_0004
(式中、 Rbl'および Rb2'は水素原子、 アルキル基またはァリ一ル基、 Alk'は アルキル基またはァリ一ル基で置換されていてもょレ、アルキレン基)で示される 基、 Mは遷移金属またはアルミニウムを意味する] (Wherein, R bl 'and R b2 ' represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, and Alk 'may be substituted with an alkyl group or an aryl group, or an alkylene group) Group, M represents a transition metal or aluminum]
で示される化合物である請求の範囲 3記載の方法。 4. The method according to claim 3, which is a compound represented by the formula:
5. 遷移金属触媒が、 式 (VIII) :  5. The transition metal catalyst has the formula (VIII):
Figure imgf000048_0001
または式(IX) :
Figure imgf000048_0001
Or formula (IX):
Figure imgf000048_0002
である請求の範囲 4記載の方法。
Figure imgf000048_0002
5. The method according to claim 4, wherein the method is:
6. 該エポキシ化合物(I )の分子内閉環をアンモニゥム塩の存在下に行う請求 の範囲 1または 2記載の方法。  6. The method according to claim 1, wherein the intramolecular ring closure of the epoxy compound (I) is carried out in the presence of an ammonium salt.
7. アンモ-ゥム塩がテトラ n-ブチルアンモ -ゥムハイドロジェンサルフエ一 トである請求の範囲 6記載の方法。  7. The method according to claim 6, wherein the ammonium salt is tetra-n-butylammonium hydrogen sulfate.
8. エポキシ化合物(I)の分子内閉環において、 溶媒を化合物(I) lgに対し、 2〜 5 Og使用する請求の範囲 1または 2記載の方法。  8. The method according to claim 1 or 2, wherein in the intramolecular ring closure of the epoxy compound (I), a solvent is used in an amount of 2 to 5 Og per lg of the compound (I).
9. 一般式(1)、 (II)および (III)で示される化合物において、 次式の部分構  9. In the compounds represented by the general formulas (1), (II) and (III),
Figure imgf000048_0003
Figure imgf000048_0003
が、 式 Is the expression
Figure imgf000049_0001
Figure imgf000049_0001
[式中、 Raおよび Rbはそれぞれ水素原子または置換基、 FTおよび Rdは以下 の条件を満足する基であることを表す: [Wherein, R a and R b each represent a hydrogen atom or a substituent, and FT and R d represent groups satisfying the following conditions:
( a ) Reおよび Rdはそれぞれ水素原子または置換基であるか、 或いは (a) R e and R d are each a hydrogen atom or a substituent, or
(b) Rcおよび Rdは互いに結合して式: (b) Rc and R d are bonded to each other wherein:
Figure imgf000049_0002
Figure imgf000049_0002
(式中、 Re、 R !^ぉょび尺^ま、 次のいずれかであることを表す: (Where, R e , R! ^ ぉ ^ び ^ び ^^, which means one of the following:
(α 隣接する 2つの基が互いに結合し、 その間の 2つの炭素原子と共に置換され ていてもよいベンゼン環を形成し、 他の 2つの基が水素原子もしくは置換基であ るか、 または (α two adjacent groups are bonded to each other to form an optionally substituted benzene ring together with two carbon atoms between them, and the other two groups are a hydrogen atom or a substituent, or
( β )それぞれが水素原子もしくは置換基である)  (β) each is a hydrogen atom or a substituent)
で示される基を形成するか、 或いは Forming a group represented by or
(c ) Rcおよび Rdが互いに結合して式: (c) R c and R d are linked together to form:
Figure imgf000049_0003
Figure imgf000049_0003
(式中、 R R Rkおよび Rmはそれぞれ水素原子または置換基を表す)] で示される部分構造であり、 Alk、 Q、 Xおよび R 1が請求の範囲 1に定義した ものと同一である請求の範囲 1〜 8のいずれか 1つに記載の方法。 (Wherein, RRR k and R m each represent a hydrogen atom or a substituent)], wherein Alk, Q, X and R 1 are the same as defined in claim 1 The method according to any one of claims 1 to 8.
1 0. —般式(1)、 (Π)および(ΠΙ)において Alkが単結合手、 Qがカルボ二 ル基、 Xが酸素原子、 R 1が水素原子である請求の範囲 9記載の方法。 1 0. — In formulas (1), (Π) and (ΠΙ), Alk is a single bond and Q is 10. The method according to claim 9, wherein X is an oxygen atom, and R 1 is a hydrogen atom.
1 1 . 一般式(1 )、 (Π)および(ΠΙ)において、 次式の部分構造:  1 1. In the general formulas (1), (Π) and (ΠΙ), the partial structure of the following formula:
が式: Is the formula:
Figure imgf000050_0001
Figure imgf000050_0001
で示される部分構造である請求の範囲 1 0記載の方法。 10. The method according to claim 10, which is a partial structure represented by the formula:
1 2 . 請求の範囲 1において出発エポキシ化合物( I )として一般式( I  12. In claim 1, the starting epoxy compound (I) is represented by the general formula (I)
Figure imgf000050_0002
Figure imgf000050_0002
(式中、 環 Arは置換基を有していてもよい 1〜 3環式の芳香環であり、 太線で示 す部分が手前に出ている構造の立体配置を有し、 Alkは単結合手または置換基を 有していてもよいアルキレン基、 Qはカルボニル基またはスルホニル基、 Xは酸 素原子または硫黄原子、 R 1は水素原子または低級アルキル基を表す) で示される R型エポキシ化合物またはその塩を用いて一般式(II- a) : (In the formula, ring Ar is an optionally substituted 1 to 3 cyclic aromatic ring, has a configuration in which the part shown by a bold line is in front, and Alk is a single bond An alkylene group which may have a hand or a substituent, Q is a carbonyl group or a sulfonyl group, X is an oxygen atom or a sulfur atom, and R 1 is a hydrogen atom or a lower alkyl group. Or a salt thereof using the general formula (II-a):
Figure imgf000050_0003
Figure imgf000050_0003
(式中、 環 Arおよびその太線部分、 Alk、 Q、 Xおよび R 1は前記と同一意味を 有する) (Wherein, ring Ar and its thick line portion, Alk, Q, X and R 1 have the same meanings as described above. Have)
で示される R型ヒ ドロキシラク トン化合物またはその塩を製造する請求の範囲 記載の方法。 The method according to Claim, for producing an R-type hydroxylactone compound represented by or a salt thereof.
1 3 . 請求の範囲 2において出発ビアリールイヒ合物(ΙΠ)として一般式(III- a) :  13. In claim 2, the starting biaryl aldehyde compound (ΙΠ) is represented by the general formula (III-a):
Figure imgf000051_0001
Figure imgf000051_0001
(式中、 環 Arは置換基を有していてもよい 1〜3環式の芳香環であり、 太線で示 す部分が手前に出ている構造の立体配置を有し、 Alkは単結合手または置換基を 有していてもよいアルキレン基、 Qはカルボニル基またはスルホニル基、 Xは酸 素原子または硫黄原子を表す) (In the formula, ring Ar is an optionally substituted 1 to 3 cyclic aromatic ring, has a configuration in which the part shown by a bold line is in front, and Alk is a single bond An alkylene group which may have a hand or a substituent, Q represents a carbonyl group or a sulfonyl group, and X represents an oxygen atom or a sulfur atom)
で示される R型出発ビアリール化合物またはその塩を用いて一般式 (I I - a) Using an R-type starting biaryl compound or a salt thereof represented by the general formula (II-a)
Figure imgf000051_0002
Figure imgf000051_0002
(式中、 R 1は水素原子または低級アルキル基を表し、 環 Arおよびその太線部分、 Alk, Qおよび Xは上記に同じ) (Wherein, R 1 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group; ring Ar and its thick line portion; Alk, Q and X are the same as above)
で示される R型ヒ ドロキシラク トン化合物またはその塩を製造する請求の範囲 2 記載の方法。 3. The method according to claim 2, wherein the R-type hydroxylactone compound represented by or a salt thereof is produced.
1 4 . 請求の範囲 1において出発エポキシ化合物(I )として一般式(I _ b ) :
Figure imgf000052_0001
14. In claim 1, the starting epoxy compound (I) is represented by the general formula (I_b):
Figure imgf000052_0001
(式中、 環 Arは置換基を有していてもよい 1〜3環式の芳香環であり、 太線で示 す部分が手前に出ている構造の立体配置を有し、 Alkは単結合手または置換基を 有していてもよいアルキレン基、 Qはカルボニル基またはスルホニル基、 Xは酸 素原子または硫黄原子、 R 1は水素原子または低級アルキル基を表す) で示される S型エポキシ化合物またはその塩を用いて一般式(II- b) :(Wherein, ring Ar is a 1 to 3 cyclic aromatic ring which may have a substituent, has a configuration in which a portion shown by a bold line is in front, Alk is a single bond An alkylene group which may have a hand or a substituent, Q is a carbonyl group or a sulfonyl group, X is an oxygen atom or a sulfur atom, and R 1 is a hydrogen atom or a lower alkyl group. Or a salt thereof using the general formula (II-b):
Figure imgf000052_0002
Figure imgf000052_0002
(式中、 環 Arおよびその太線部分、 Alk、 Q、 Xおよび R 1は上記に同じ) で示される S型ヒドロキシラク トン化合物またはその塩を製造する請求の範囲 記載の方法。 (Wherein, ring Ar and its bold line portion, Alk, Q, X and R 1 are the same as described above) or a salt thereof.
1 5 . 請求の範囲 2において出発ビアリール化合物(ΠΙ)として一般式(III- b) : 15. In claim 2, the starting biaryl compound (ΠΙ) is represented by the general formula (III-b):
Figure imgf000052_0003
Figure imgf000052_0003
(式中、 環 Arは置換基を有していてもよい 1〜 3環式の芳香環であり、 太線で示 す部分が手前に出ている構造の立体配置を有し、 Alkは単結合手または置換基を 有していてもよいアルキレン基、 Qはカルボニル基またはスルホニル基、 Xは酸 素原子または硫黄原子を表す) (In the formula, ring Ar is an optionally substituted 1 to 3 cyclic aromatic ring, has a configuration in which the part shown by a bold line is in front, and Alk is a single bond An alkylene group which may have a hand or a substituent, Q is a carbonyl group or a sulfonyl group, and X is an acid Represents an elementary atom or a sulfur atom)
で示される S型ビアリール化合物またはその塩を用いて一般式(Π - b) Using an S-type biaryl compound represented by the formula or a salt thereof, the general formula (Π-b)
Figure imgf000053_0001
Figure imgf000053_0001
(式中、 R 1は水素原子または低級アルキル基を表し、 環 Arおよびその太線部分、 Alk、 Qおよび Xは上記に同じ) (In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group, and ring Ar and its thick line portion, Alk, Q and X are the same as above.)
で示される S型ヒ ドロキシラク トン化合物またはその塩を製造する請求の範囲 2 記載の方法。 3. The method according to claim 2, for producing an S-type hydroxylactone compound represented by or a salt thereof.
1 6 . 請求の範囲 1 2または 1 3において、 次式の部分構造:  1 6. In Claims 1 2 or 13, the partial structure of the following formula:
Figure imgf000053_0002
Figure imgf000053_0002
が式 Is the expression
Figure imgf000053_0003
で示される部分構造である請求の範囲 1 2または 1 3記載の方法。
Figure imgf000053_0003
The method according to claim 12 or 13, wherein the method is a partial structure represented by:
1 7 . 請求の範囲 1 4または 1 5において、 次式の部分構造:  17. In Claims 14 or 15, the partial structure of the following formula:
Figure imgf000053_0004
が式
Figure imgf000053_0004
Is the expression
Figure imgf000054_0001
Figure imgf000054_0001
で示される部分構造である請求の範囲 1 4または 1 5記載の方法。 16. The method according to claim 14 or 15, which is a partial structure represented by:
1 8 . 請求の範囲 1—1 1のいずれか一つで得られるヒドロキシラク トン化合 物(I I)またはその塩を酸化して一般式 (VI) :  18. Oxidizing the hydroxylactone compound (II) or a salt thereof obtained in any one of claims 1-11, and formula (VI):
Figure imgf000054_0002
Figure imgf000054_0002
(式中、 環 Arは置換基を有していてもよい 1〜 3環式の芳香環であり、 A lkは単 結合または置換基を有していてもよいアルキレン基、 Qはカルボ二ル基またはス ルホニル基、 Xは酸素原子または硫黄原子、 R 1は水素原子または低級アルキル 基を表す) (Wherein, ring Ar is an optionally substituted 1 to 3 ring aromatic ring, Alk is a single bond or an optionally substituted alkylene group, and Q is carbonyl Group or sulfonyl group, X represents an oxygen atom or a sulfur atom, and R 1 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group.)
で示されるケトン化合物またはその塩を製造する方法。 And a method for producing a ketone compound or a salt thereof.
1 9 . 請求の範囲 1 2または 1 3で得られる R型ヒ ドロキシラク トン化合物 (Π - a)またはその塩を酸化して一般式 (VI _a) :  1 9. Oxidizing the R-type hydroxylactone compound (Π-a) or a salt thereof obtained in Claims 12 or 13 to obtain a compound of the general formula (VI_a):
Figure imgf000054_0003
Figure imgf000054_0003
(式中、 環 Arは置換基を有していてもよい 1〜 3環式の芳香環であり、 太線で示 す部分が手前に出ている構造の立体配置を有し、 Alkは単結合手または置換基を 有していてもよいアルキレン基、 Qはカルボニル基またはスルホニル基、 Xは酸 素原子または硫黄原子、 R 1は水素原子または低級アルキル基を表す) で示される R型ケトン化合物またはその塩を製造する方法。 (In the formula, ring Ar is an optionally substituted 1 to 3 cyclic aromatic ring, has a configuration in which the part shown by a bold line is in front, and Alk is a single bond An alkylene group which may have a hand or a substituent, Q is a carbonyl group or a sulfonyl group, X is an oxygen atom or a sulfur atom, and R 1 is a hydrogen atom or a lower alkyl group) A method for producing an R-type ketone compound or a salt thereof represented by the formula:
2 0 . 請求の範囲 1 4または 1 5で得られる S型ヒ ドロキシラク トン化合物 (II - b)またはその塩を酸化して一般式 (VI _ b) :  20. Oxidizing the S-type hydroxylactone compound (II-b) or a salt thereof obtained in claims 14 or 15 to obtain a compound of the general formula (VI_b):
Figure imgf000055_0001
Figure imgf000055_0001
(式中、 環 Arは置換基を有していてもよい:!〜 3環式の芳香環であり、 太線で示 す部分が手前に出ている構造の立体配置を有し、 Alkは単結合手または置換基を 有していてもよいアルキレン基、 Qはカルボエル基またはスルホニル基、 Xは酸 素原子または硫黄原子、 R 1は水素原子または低級アルキル基を表す) で示される S型ケトン化合物またはその塩を製造する方法。 (Wherein, the ring Ar may have a substituent:! To a tricyclic aromatic ring, having a configuration in which a portion shown by a bold line is in front, and Alk is a single ring. An alkylene group which may have a bond or a substituent, Q is a carboel group or a sulfonyl group, X is an oxygen atom or a sulfur atom, and R 1 is a hydrogen atom or a lower alkyl group. A method for producing a compound or a salt thereof.
2 1 . 請求の範囲 1 9において、 次式の部分構造:  21. In Claim 19, the partial structure of the following formula:
Figure imgf000055_0002
が式:
Figure imgf000055_0002
Is the formula:
Figure imgf000055_0003
Figure imgf000055_0003
で示される部分構造である請求の範囲 1 9記載の方法。 20. The method according to claim 19, which is a partial structure represented by
2 2 . 請求の範囲 2 0において、 次式の部分構造:
Figure imgf000056_0001
22. In Claim 20, the partial structure of the following formula:
Figure imgf000056_0001
が式Is the expression
Figure imgf000056_0002
Figure imgf000056_0002
で示される部分構造である請求の範囲 20記載の方法。 21. The method according to claim 20, which is a partial structure represented by:
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DAN YANG, ET AL.: "HIGHLY ENANTIOSELECTIVE EPOXIDATION OF TRANS-STILBENES CATALYZED BY CHIRAL KETONES", JOURNAL OF THE AMERICAN CHEMICAL SOCIETY, AMERICAN CHEMICAL SOCIETY, US, vol. 118, no. 45, 1 January 1996 (1996-01-01), US, pages 11311/11312, XP002921245, ISSN: 0002-7863, DOI: 10.1021/ja9626805 *

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