WO1999012711A1 - Verfahren und vorrichtung zur herstellung von formkörpern aus zerkleinertem material - Google Patents

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WO1999012711A1
WO1999012711A1 PCT/EP1998/005562 EP9805562W WO9912711A1 WO 1999012711 A1 WO1999012711 A1 WO 1999012711A1 EP 9805562 W EP9805562 W EP 9805562W WO 9912711 A1 WO9912711 A1 WO 9912711A1
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plate
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curing
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PCT/EP1998/005562
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Georg Reif
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Fritz Egger Gmbh & Co.
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B27WORKING OR PRESERVING WOOD OR SIMILAR MATERIAL; NAILING OR STAPLING MACHINES IN GENERAL
    • B27NMANUFACTURE BY DRY PROCESSES OF ARTICLES, WITH OR WITHOUT ORGANIC BINDING AGENTS, MADE FROM PARTICLES OR FIBRES CONSISTING OF WOOD OR OTHER LIGNOCELLULOSIC OR LIKE ORGANIC MATERIAL
    • B27N3/00Manufacture of substantially flat articles, e.g. boards, from particles or fibres
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B27NMANUFACTURE BY DRY PROCESSES OF ARTICLES, WITH OR WITHOUT ORGANIC BINDING AGENTS, MADE FROM PARTICLES OR FIBRES CONSISTING OF WOOD OR OTHER LIGNOCELLULOSIC OR LIKE ORGANIC MATERIAL
    • B27N3/00Manufacture of substantially flat articles, e.g. boards, from particles or fibres
    • B27N3/002Manufacture of substantially flat articles, e.g. boards, from particles or fibres characterised by the type of binder

Definitions

  • the invention relates to a process for the production of moldings from comminuted, in particular cellulosic material, in particular for the production of chipboard, fiberboard or OSB (oriented beach board), in which the processed material is mixed with a hardenable binder, the mixture on a mold base is applied and compressed by compression to a shaped body and the binder is cured.
  • OSB oriented beach board
  • Such a method is generally known and is widely used for the production of chipboard or fiberboard.
  • thermally curable binders such as urea-formaldehyde resin, melamine-formaldehyde resin, isocyanates, phenol-formaldehyde resin, etc. used.
  • curing corresponds to a thermally accelerated polymerization or polycondensation reaction.
  • the dried and glue-bonded chips are fed to large-format stack presses or cycle presses (discontinuous production), or the continuous process (continuous production) is used, e.g.
  • the Conti-RoU method where an endless belt of chips passes a pressing section between progressively approaching conveyor belt runs and / or a roller gap, which causes the compression.
  • press factor which relates the time required for the panel hardening to the dimension perpendicular to the panel surface.
  • Usual press factors are in the range between 3 and 6 s / mm for co-roll systems and between 5 and 9 s / mm for cycle systems. For example, it takes 95 seconds to cure a 19 mm plate with a press factor of 5 s / mm.
  • the steam boost effect which is advantageous for accelerating curing, has the further disadvantage that the product moisture on the plate surface is almost zero and rises significantly towards the center, which means an inhomogeneous moisture profile. From the point of view of a stable product, however, a homogeneous moisture profile should be aimed for, which in practice only occurs after storage for several weeks. The processing and especially the lamination of boards with a clearly inhomogeneous moisture profile leads to quality problems. In addition, ever-increasing plant outputs have led to lower product moisture, which is now below the moisture that the product assumes in everyday use (compensation moisture). The product therefore endeavors to absorb moisture from the environment.
  • a mixture is formed as a radiation-curable binder unsaturated oligomers (at least 30% by weight), acrylonitrile (1 -30% by weight), non-polymerizing additives (maximum 30% by weight) and the remainder to 100% by weight of vinylically unsaturated monomers.
  • Polyester resins, acrylic resins, diallyl phthalate prepolymers, an acrylic-modified alkyd, epoxy or urethane resin are proposed as unsaturated monomers.
  • Polymerization accelerators are also used.
  • the invention has for its object to carry out the manufacturing process so that an increased production output is possible without having to accept an annoying moisture content and an inhomogeneous moisture distribution.
  • the process described at the outset is used, which is characterized in accordance with the invention in that the material is mixed with a binder which cures by means of electron beam energy and that, after compression, the binder is cured by electron radiation.
  • a binder which cures by means of electron beam energy and that, after compression, the binder is cured by electron radiation.
  • the invention is based on the fact that the activation and curing of the binder used - in contrast to the thermally curing binders - is carried out by high-energy radiation from an electron beam accelerator. Its performance is essentially determined by two characteristic values: the acceleration voltage in MeV, which is responsible for the range of the energy in the body to be irradiated, and the amount of energy emitted by the radiator to the irradiated body (radiator power, dose amount), which is the product of accelerator voltage and accelerator current is.
  • the emitter power determines the amount of energy introduced into and absorbed by the body, which is responsible for the hardening of the binder.
  • Available accelerator systems with an acceleration voltage of 10 MeV enable a penetration depth of approx. 40 mm when irradiating one side of a plate material, which has, for example, a specific weight of 750 kg / m, with 10 MeV of approx. 105 mm for double-sided irradiation.
  • the inventive method Compared to the previously usual manufacturing process for chipboard or Fase ⁇ latten, the inventive method has significant advantages.
  • the curing takes place within a few tenths of a second.
  • pressing factors of 0.05 s / mm are possible, so that the above-mentioned 19 mm plate has a curing time of about 1 second, whereas it was 95 seconds in conventional heat curing.
  • the water is advantageous on the one hand for transporting heat into the center of the plate, but is disadvantageous when the pressing pressure is reduced because of the risk of bursting, it hardly influences the process according to the invention.
  • There is no risk of moisture shifting because there is no one-sided thermal load on the product, which is the cause of the moisture migration in the product towards the cold plate center.
  • In the product itself there is no critical temperature increase due to the absorption of the incident radiation or through the polymerization, which would enable a significant water vapor pressure to be built up. There is therefore no risk of disk space. Maturation times of several days, as is the case with conventional production, are therefore not necessary, which is advantageous in terms of storage space requirements and tied-up capital.
  • Unsaturated oligomers are suitable as binders for electron beam curing. It may be advantageous to add these monomers in order to influence the type and degree of polymerisation of the binder. Accordingly, these monomers are also referred to as crosslinkers. Crosslinkers have mono- (eg HDDA), di- (DPGDA), tri- (eg TMPTA) or polyfunctional groups.
  • the choice of the crosslinking agent in coordination with the unsaturated oligomer with regard to the mixing ratio and with regard to a combination of different crosslinking agents influences the properties of the molded article or plate produced, for example bending strength, transverse tensile strength, bending modulus of elasticity, resistance to the effects of humidity and water).
  • a radiation dose between 70 and 100 kGy is required for complete curing.
  • Usable unsaturated oligomers are e.g. Polyester resins, acrylic resins, diallyl phthalate prepolymers, acrylic modified alkyd, epoxy or urethane resins. In contrast to the commonly used condensation resins, these are free of formaldehyde (test in accordance with DIN EN 120 with photometric evaluation) and enable the composite to be boiled-water resistant in the sense of EN 1087 Part 1.
  • a possibility which is advantageous for the same reasons consists in working with an increased pressing pressure and a corresponding over-compression, so that the uncured molded body or the plate springs back to the desired target thickness after passing through the pressing device. Then irradiation with electron energy, which is completely unobstructed not only by the pressing device but also by a holding device, can be carried out in order to effect the curing.
  • irradiation with electron energy which is completely unobstructed not only by the pressing device but also by a holding device, can be carried out in order to effect the curing.
  • this requires the use of a binder with a proportion of binder that is thermally curable.
  • an admixture of the thermally curable binder that is usually used can be considered.
  • thermal partial hardening or first hardening is also the addition of an organic peroxide (e.g. TBPEH), which is introduced together with the binder and initiates the crosslinking of the binder under the influence of temperature.
  • organic peroxide e.g. TBPEH
  • the initial thermal hardening only serves to fix the material in the compressed layer and can be carried out at a comparatively low temperature, so that the aforementioned technological disadvantages of thermal hardening are kept within limits.
  • top layers hardened in this way can have a thickness of 1 mm to several mm.
  • the binder in these top layers can consist of a non-electron-curable binder, a mixture of a thermally curable binder and an electron-curable binder or a mixture of an electron-curable binder with an organic peroxide.
  • the binder for the portion of the product other than the top layers is an electron-curable binder or a mixture of a thermally curable and an electron-curable portion.
  • the thermal hardening of the cover layers does not have to lead to complete crosslinking of the binder, in particular if the binder used has a proportion curable in the electron beam. Rather, it is even desirable to keep the duration of the temperature exposure to the cover layers as short as possible in order to keep the adverse panel properties to be expected as low as possible due to the temperature impact.
  • the thermal partial curing is followed by a final curing of the product by the action of electron beam energy, which, depending on the requirements of the product properties, can be carried out either under the influence of a holding pressure already reduced compared to the first stage with thermal curing or without pressure.
  • the already partially hardened top layers simplify the application of a holding pressure in such a way that a form-stabilizing tape or a device with similar function and effect in the area of electron beam exposure can be completely dispensed with or these can be dimensioned significantly weaker and thus no or a significantly reduced absorption the electron beam energy takes place in the band or in the devices, which enables an improved use of the electron beam energy in the product.
  • the effect of temperature favors the surface properties of the product (coatability, achievable density and density distribution).
  • the method according to the invention is particularly suitable for the production of chipboard, fiberboard or OSB. However, it is also applicable to other cellulosic or similar material in particle or piece form, in which a mutual connection is achieved by a binder. Examples are the production of plywood boards, plate-shaped products made of paper or paper chips, textile fibers, bark or certain waste fractions such as plastic waste or composite materials made of plastic and paper or cardboard.
  • the invention also relates to a device for in particular continuous production of plate-shaped bodies, in particular chipboard and bevel boards, with a spreading device, a conveyor belt and a pressing device, as are generally used for the production of chipboard and bevel boards.
  • this device is characterized in that the pressing device is followed by an electron beam device in the transport direction.
  • the method according to the invention can be carried out so that the above-mentioned advantages also apply to the device according to the invention.
  • Examples 1 to 5 relate to tests for the detection of the improved mechanical-technological properties of chip bodies hardened according to the invention with electron beam energy: example 1
  • the two panels gave comparable results in terms of transverse tensile strength.
  • the samples of the following Examples 3 to 5 are round samples with a diameter of approx. 1 10 mm, they were cured in an electron beam accelerator system with an accelerator voltage of 10 MeV and a current of approx. 1.5 mA corresponding to an average emitter output of 15 kW.
  • Comparative test specimens were produced in an analogous manner with urea-formaldehyde binder (UF) (100 parts of chips, 10 parts of solid resin, ammonium sulfate as a hardness component in accordance with sample series J). The mechanical-technological properties were compared:
  • the binder was applied in the form of a 25% emulsion (for the purpose of improved distribution) of a melamine acrylate in the cold state.
  • the water introduced by the emulsion significantly increased the moisture in the chips when glued.
  • panels with such chip moisture can only be produced at an extremely low pressing temperature and the associated long pressing time.
  • the transverse tensile strength for R is comparable to UF-bound test specimens and lies in the range of the samples from Example 4. What is striking for the R series is the low 2-hour swelling.
  • Figure 1 shows a device for the continuous production of chipboard or fiberboard using a Vo ⁇ resse and with double-sided electron radiation
  • Figure 2 shows a device as in Figure 1, but in which the main press is designed differently;
  • Figure 3 shows a device corresponding to Figure 1 but without a press
  • Figure 4 is a device corresponding to Figure 3 with one-sided electron radiation
  • Figure 5 is a device corresponding to Figure 1, but in which a holding pressure is applied to the compacted plate in the area of electron radiation;
  • FIG. 6 shows a device with a press, which is formed by a deflection drum of large diameter, pressure rollers cooperating with it and a pressure belt, a single-acting electron beam device being provided;
  • Figure 7 is a device largely corresponding to Figure 2, which is used for combined thermal and electron beam curing, the latter being carried out in a separate unit downstream of the pressing device.
  • a container-shaped scattering device 1 which receives cellulosic material 2 (wood chips, wood fibers) glued with a binder that is hardened by electron radiation. This material 2 is distributed evenly on a continuous The surrounding belt 3 is poured onto which a loose scattering layer 4 is formed. This is pre-compressed in a press 5.
  • cellulosic material 2 wood chips, wood fibers
  • the Vo ⁇ resse 5 has a mirror-symmetrical design and arrangement of an upper pre-compression belt 6 and a lower pre-compression belt 7, which run over deflection rollers 8, tensioning rollers 9 and top-side pre-pressure rollers 10 and bottom-side pre-compression rollers 1 1.
  • the conveyor belt 3 with the scattering layer 4 runs between the precompression belts 6 and 7, which approach each other in the transport direction, which is achieved by the distance between the opposing pre-pressure rollers 10 and 11, which decreases in the transport direction. In this way, a thinner pre-compressed layer 12 is created from the scattering layer 4.
  • the conveyor belt 3 runs over deflection rollers 13 and a rigid table 14 in the area of feeding the material 2 and over support rollers 15 behind the feed 5.
  • a pressing device 16 main press
  • the press nip 19 of which is run through from the upper run of the conveyor belt 3 with the pre-compressed layer 12, so that from this creates the compressed layer 20, which runs over the support rollers 21 with the conveyor belt 3, the compressed layer 20 being given a somewhat greater thickness as a result of springback than corresponds to the dimension of the press nip 19.
  • the conveyor belt 3 with the compressed layer 20 then passes through an electron beam device 22 which comprises an upper electron beam accelerator 23 and a lower electron beam accelerator 24 which face one another.
  • an electron beam device 22 which comprises an upper electron beam accelerator 23 and a lower electron beam accelerator 24 which face one another.
  • a hardened plate 25 is produced on the electron beam device 22 from the compressed layer 20, which plate is fed to the finishing stage (cross cutting, surface grinding) via support rollers 26.
  • the device according to Figure 2 largely corresponds to the device described above. In this respect - as in the following figures - the same reference numerals are used and no further description is given.
  • the difference from Figure 1 is that instead of the pressing device 16, a differently designed pressing device 27 is provided.
  • This pressing device 27 is designed to work according to the conti-roll process, but can be made significantly shorter than is usually the case with processes with thermal hardening.
  • the pressing device 27 comprises an upper belt 28 and a lower belt 29, which rotate over deflection rollers 30.
  • Within the upper band 28 is an endless sequence of upper ones Rolling rods 31 are provided, and in a corresponding manner an endless row of lower rolling rods 32 is provided within the lower band 29, the rolling rods each rotating over deflecting rollers 33.
  • the upper roller bars 31 are assigned an upper pressure plate 34 with upper pressure cylinders 35, while the lower roller bars 32 are assigned a lower pressure plate 36 with lower pressure cylinders 37.
  • the pressure plates 34 and 36 are inclined slightly converging in the direction of transport, so that there is a tapering press nip 38 which is traversed by the conveyor belt 3 with the pre-compressed layer 12. Appropriate pressurization of the pressure cylinders 35 and 37 allows the pressing pressure of the pressing device 27 to take effect and thus the compression process to be adapted to the respective conditions and specifications.
  • the device according to FIG. 3 lacks the press 5. Accordingly, the scattering layer 4 is fed directly to the pressing device 16 and converted into the compressed layer 20.
  • the device according to Figure 4 differs from that according to Figure 3 only in that a simplified electron beam device 39 is provided, which has only one electron beam accelerator 23, which irradiates the compressed layer 20 only from the top. Of course, it would also be possible to provide radiation only from the underside.
  • the device in accordance with FIG. 5 is a further development of the device in accordance with FIG. 1, wherein in the area of the electron beam device 22 there is provided a shark printing device 40 which is passed through by the transport belt 3 with the compressed layer 20 and which has two holding transport belts, namely an encircling upper holding transport belt 41 which over Deflection rollers 42 is guided and, as shown, already passes through the pressing device 16, and a lower holding conveyor belt, which is formed here by the conveyor belt 3.
  • a shark printing device 40 which is passed through by the transport belt 3 with the compressed layer 20 and which has two holding transport belts, namely an encircling upper holding transport belt 41 which over Deflection rollers 42 is guided and, as shown, already passes through the pressing device 16, and a lower holding conveyor belt, which is formed here by the conveyor belt 3.
  • a holding pressure below the pressing pressure of the pressing device 16 is applied to the compressed layer 20 in the region of the electron beam device 22.
  • a vacuum device 43 is provided for forming a vacuum zone 44 through which the compressed layer 20 passes, so that the atmospheric pressure acting on the conveyor belts 3 and 41 from the outside supplies the holding pressure which ensures a thickness of the compressed layer 20 corresponding to the press nip 19 during the electron beam irradiation .
  • the conveyor belt 3 and the table 14 are replaced by a short feed conveyor belt 45.
  • the press belt 48 is supported in the area of the press nip 49 on the back by pressure rollers 50 which apply the compression pressure.
  • the press belt 48 runs over an upper deflection pressure roller 51 and a lower deflection pressure roller 52, which are arranged adjacent to the deflection drum 47 and can be pretensioned in accordance with the arrows shown, as well as over further deflection rollers 53.
  • an electron beam device 54 is arranged with an electron beam accelerator 55, which is placed between the two last pressure rollers 50 in the direction of rotation.
  • an opposing electron accelerator could be arranged within the deflection drum 47 (not shown).
  • the device according to Figure 7 is largely the device already described with reference to Figure 2 with a comparatively short pressing device 27 '(conti-roll method).
  • the material is loaded 2 ', to which not only radiation-curable binder but also thermally curable binder is admixed, which is sufficient for a shape-stabilizing partial hardening (pre-hardening).
  • pre-hardening a shape-stabilizing partial hardening
  • heat is supplied via the pressure plates 34 and 36 to the pressing device 27 'and partial curing is already brought about by reaction of only the thermally curable binder.
  • the result is a partially hardened endless plate 56, which, as shown, is cut to length in a conventional manner by means of a diagonal saw 57 into partially hardened individual plates 58, which are placed in an intermediate stack 59 without already being radiation-hardened.
  • the radiation curing could also take place directly behind the pressing device 27 'before or after cutting to length using the diagonal saw 57 (not shown).
  • This arrangement is particularly suitable for the process variant of partial thermal curing of the two cover layers and final curing of the material by means of electron beam energy.
  • a holding pressure in the area of the electron beam can be applied by a device 40 shown in FIG. 5.
  • thermoly curing portion is a binder such as phenol-formaldehyde resin, tannin resin, urea-formaldehyde resin, melamine-formaldehyde resin or mixtures or mixed resins thereof.
  • thermoly curing portion is a binder such as isocyanate resin.

Abstract

Eine Spanplatte, Faserplatte oder OSB (oriented strand board) (25) wird aus zellulosischem Material (2) hergestellt, dem ein strahlenhärtbares Bindemittel beigemischt wurde. Dazu wird eine Streuschicht (4) gebildet, die - ggf. mit Vorverdichtung in einer Vorpresse (5) - in einer Pressvorrichtung (16) endverdichtet und dann mittels einer Elektronenstrahleinrichtung (22) schlagartig ausgehärtet wird. Im Gegensatz zur bekannten Herstellung mittels thermisch härtbarem Bindemittel ist die Produktion nicht durch den Wärmetransport bis in die Plattenmitte sowie durch ein inhomogenes Feuchteprofil und die Gefahr von Plattenplatzern behindert, so dass sich mit hoher Produktionsleistung Platten hoher Qualität herstellen lassen, die auch keiner Reifelagerung wie bei der Herstellung mittels thermisch härtbarem Bindemittel bedürfen.

Description

Bezeichnung: Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von
Formkörpern aus zerkleinertem Material
B e s c h r e i b u n g :
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Herstellen von Formkörpern aus zerkleinertem, insbesondere zellulosischem Material, insbesondere zum Herstellen von Spanplatten, Faserplatten oder OSB (oriented Strand board), bei dem das aufbereitete Material mit einem härtbaren Bindemittel vermischt wird, das Gemisch auf eine Formunterlage aufgebracht und durch Preßdruck zu einem Formkörper verdichtet wird und das Bindemittel ausgehärtet wird.
Ein derartiges Verfahren ist allgemein bekannt und wird für die Herstellung von Spanplatten oder Faserplatten in großem Umfang angewendet. Dabei werden thermisch härtbare Bindemittel wie beispielsweise Harnstoff-Formaldehyd-Harz, Melamin-Formaldehyd-Harz, Isocyanate, Phenol-Formaldehyd-Harz u.a. eingesetzt. Die Aushärtung entspricht chemisch gesehen einer thermisch beschleunigten Polymerisations- bzw. Polykondensationsreaktion. Zur Spanplattenherstellung werden die getrockneten und mit dem Bindemittel beleimten Späne großformatigen Etagenpressen oder Taktpressen (diskontinuierliche Herstellung) zugeführt, oder es wird im Durchlaufverfahren (kontinuierliche Herstellung) gearbeitet, z.B. nach dem Conti-RoU-Verfahren, wobei ein Endlosband aus Spänen eine Preßstrecke zwischen sich fortschreitend annähernden Förderbandtrumen und/oder einen Walzenspalt passiert, wodurch die Verdichtung bewirkt wird.
Die Produktionsleistung solcher Anlagen wird entscheidend durch die vergleichsweise langsame Aushärtung begrenzt. Der limitierende Faktor ist insbesondere der Transport der von außen aufgebrachten Wärme zur Plattenmitte. Zur Beschleunigung wird der sogenannte "Dampfstoßeffekt" ausgenutzt. Dabei wandert Dampf durch Kondensation von der heißen Plattenoberfläche zur Plattenmitte und beschleunigt den Wärmetransport. Dieser Beschleunigung sind jedoch physikalische Grenzen gesetzt, da sich in der Plattenmitte ein Dampfdruck in Abhängigkeit vom außen aufgebrachten Druck und von der Temperatur einstellt. Wenn am Ende des Preßprozesses der von außen aufgebrachte Preßdruck abfällt, kann der in der Platte vorhandene Dampfdruck zu hoch sein, so daß es zu Plattenplatzem kommt, nämlich einem Aufbrechen der Platte in der Plattenmitte.
Ein wichtiger Kapazitätskennwert einer Span- bzw. Faserplattenproduktionsanlage ist der Preßfaktor, der die erforderliche Zeit für die Plattenaushärtung auf die Dimension senkrecht zur Plattenoberfläche bezieht. Über die Plattendicke errechnet sich dann der maximal mögliche Vorschub (bei kontinuierlicher Herstellung) bzw. die maximal mögliche Taktanzahl bei Taktpressen und damit die Anlagenkapazität. Übliche Preßfaktoren liegen im Bereich zwischen 3 und 6 s/mm für Co ti-Roll-Anlagen und zwischen 5 und 9 s/mm für Taktanlagen. Beispielsweise ergibt sich für die Aushärtung einer 19 mm Platte bei einem Preßfaktor von 5 s/mm eine Herstellungszeit von 95 Sekunden.
Der für die Beschleunigung der Aushärtung vorteilhafte Dampfstoßeffekt hat den weiteren Nachteil, daß die Produktfeuchtigkeit an der Plattenoberfläche nahezu Null ist und zur Mitte hin deutlich ansteigt, was ein inhomogenes Feuchteprofil bedeutet. Unter dem Gesichtspunkt eines stabilen Produktes ist jedoch ein homogenes Feuchteprofil anzustreben, das sich in der Praxis erst nach einer Lagerung über mehrere Wochen hinweg einstellt. Die Verarbeitung und insbesondere die Kaschierung von Platten mit deutlich inhomogenem Feuchteprofil führt zu Qualitätsproblemen. Außerdem haben immer weiter gesteigerte Anlagenleistungen zu einer geringeren Produktfeuchtigkeit geführt, die nun unterhalb der Feuchtigkeit liegt, die das Produkt im alltäglichen Einsatz annimmt (Ausgleichsfeuchtigkeit). Das Produkt ist also bestrebt, Feuchtigkeit aus der Umgebung aufzunehmen.
Der Einsatz hochenergetischer Elektronenstrahlung (Gammastrahlen, Röntgenstrahlung, ionisierende Strahlung) zur Härtung von organischen Kunstharzen ist bereits bekannt. So wird in der AT 338 499 die Imprägnierung von Span- und Faserplatten mit strahlenhärtbaren Komponenten zur Erzielung bestimmter technologischer Eigenschaften beschrieben. Dabei wird ein Plattenwerkstoff nach herkömmlichem Verfahren im Heißpreßverfahren hergestellt. Anschließend wird eine Imprägnierung im Wechseldruckverfahren mit den strahlenhärtbaren Komponenten vorgenommen und deren Aushärtung mittels Elektronenstrahlenergie durchgeführt. Mit dieser Nachbehandlung sollen die mechanischen Eigenschaften der Platte und ihre Dimensionsstabilität bei Einwirkung von Wasser verbessert werden, weswegen die eigentliche Plattenherstellung mit einer deutlich reduzierten Menge an thermisch härtbarem Bindemittel durchgeführt werden kann. Als strahlenhärtbares Bindemittel wird ein Gemisch aus ungesättigten Oligomeren (mindestens 30 Gew. %), Acrylnitril (1 -30 Gew. %), nicht mitpo- lymerisierende Zusatzstoffe (maximal 30 Gew. %) und der Rest auf 100 Gew. % vinylisch ungesättigte Monomere beschrieben. Als ungesättigte Monomere werden Polyesterharze, Acrylharze, Diallylphtalat-Vorpolymerisate, ein acrylmodifiziertes Alkyd-, Epoxy- oder Urethanharz vorgeschlagen. Zumdem kommen Polymerisations-Beschleuniger zum Einsatz.
Hier handelt es sich nicht um die Herstellung einer Platte durch Elektronenbestrahlung sondern um eine in einem nachgeschalteten Verfahren erfolgende Nach Veredelung mittels Elektronenbestrahlung zur Verbesserung der Platteneigenschaften. Die eigentliche Plattenherstellung erfolgt auch hier unter Verwendung eines thermisch härtbaren Bindemittels und durch Wärmezufuhr im Preßbereich mit einer vollständigen Aushärtung des in der verdichteten Platte enthaltenen Bindemittels. Damit werden die vorgenannten Nachteile - Leistungsbegrenzung durch die Wärmetransportzeit, inhomogenes Feuchteprofil und Gefahr von Plattenplatzem - im Grundsatz nicht beseitigt.
Aus der US 3 549 509 ist es bekannt, einen Formkörper unter Verwendung von strahlenhärtbarem Bindemittel herzustellen. Dabei wird Holzstaub oder Sägemehl mit einem strahlenhärtbaren flüssigen Monomer gemischt, in eine Form eingebracht, in dieser verdichtet und durch die Einwirkung von Strahlenenergie gehärtet. Als Strahlenquelle werden radioaktive Elektronenstrahler (z.B. Cobalt 60) oder ionisierende Strahlenquellen (z.B. Röntgenstrahlen) genannt. Nach den angeführten Beispielen erfolgt die Härtung in einer Cobalt-60-Strahlen- kammer. Als strahlenhärtbares Monomer werden Methylacrylat, Methylmetacrylat und Pro- pylacrylat vorgeschlagen.
Die Aushärtung in einer geschlossenen Form (Strahlenkammer) und die vergleichsweise langsame Aushärtung von Monomeren durch Gammastrahlung sind einer Hochleistungsherstellung abträglich. Dementsprechend ist auch dieses bekannte Verfahren nicht für die Herstellung von vergleichsweise dicken Platten oder Formkörpern aus Spänen oder Fasern sondern für dünne Beschichtungen von bereits formfesten Erzeugnissen vorgesehen, die als erstes in die Form eingelegt werden.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, das Herstellungsverfahren so durchzuführen, daß eine erhöhte Produktionsleistung möglich wird, ohne daß ein störender Feuchtigkeitsgehalt sowie eine inhomogene Feuchtigkeitsverteilung in Kauf genommen werden müssen.
Zur Lösung dieser Aufgabe wird von dem eingangs beschriebenen Verfahren ausgegangen, das erfindungsgemäß dadurch gekennzeichnet ist, daß das Material mit einem durch Elektro- nenstrahlenergie aushärtenden Bindemittel vermischt wird und daß nach dem Verdichten das Bindemittel durch Elektronenbestrahlung ausgehärtet wird. Zweckmäßige Ausgestaltungen und Weiterbildungen des erfindungsgemäßen Verfahrens ergeben sich aus den Unteransprüchen.
Die Erfindung beruht darauf, daß die Aktivierung und Aushärtung des eingesetzten Bindemittels - im Gegensatz zu den thermisch härtenden Bindemitteln - durch hochenergetische Strahlung eines Elektronenstrahlbeschleunigers erfolgt. Dessen Leistungsfähigkeit wird im wesentlichen durch zwei Kennwerte bestimmt: Die Beschleunigungsspannung in MeV, die für die Reichweite der Energie in den zu durchstrahlenden Köφer verantwortlich ist, und die vom Strahler an den durchstrahlten Körper abgegebene Energiemenge (Strahlerleistung, Dosismenge), die das Produkt aus Beschleunigerspannung und Beschleunigerstrom ist. Die Strahlerleistung bestimmt die in den Köφer eingebrachte und von diesem absorbierte Energiemenge, die für die Härtung des Bindemittels verantwortlich ist. Verfügbare Beschleunigersysteme mit einer Beschleunigungsspannung von 10 MeV ermöglichen bei einseitiger Be- Strahlung eines Plattenwerkstoffs, der beispielsweise ein spezifisches Gewicht von 750 kg/m hat, eine Eindringtiefe von ca. 40 mm, bei zweiseitiger Bestrahlung mit je 10 MeV von ca. 105 mm.
Im Vergleich zum bisher üblichen Herstellungsprozeß für Span- oder Faseφlatten weist das erfindungsgemäße Verfahren wesentliche Vorteile auf. Die Polymerisation des insbesondere Oligomere enthaltenden Bindemittels erfolgt schlagartig und wird primär durch die Einbringung der erforderlichen Polymerisationsenergie (Strahlungsdosis in kGy) bestimmt. Die Aushärtung erfolgt innerhalb weniger Zehntel Sekunden. Dadurch sind Preßfaktoren von 0,05 s/mm möglich, so daß sich für die bereits vorstehend angesprochene 19 mm-Platte eine Aushärtezeit von etwa 1 Sekunde ergibt, während es bei der üblichen Wärmehärtung 95 Sekunden waren.
Ist bei der üblichen thermischen Härtung das Wasser einerseits zum Wärmetransport in die Plattenmitte vorteilhaft, beim Absenken des Preßdrucks jedoch wegen der Platzergefahr nachteilig, so beeinflußt es das erfindungsgemäße Verfahren kaum. Die Gefahr einer Feuchteverschiebung ist nicht gegeben, da auf das Produkt keine einseitige thermische Belastung einwirkt, welche die Ursache für die Feuchtewanderung im Produkt zur kalten Plattenmitte hin bildet. Im Produkt selbst erfolgt durch die Absoφtion der einfallenden Strahlung bzw. durch die Polymerisation keine kritische Temperaturerhöhung, die den Aufbau eines nennenswerten Wasserdampfdrucks ermöglichen würde. Die Gefahr von Plattenplatzem besteht daher nicht. Reifezeiten von mehreren Tagen wie bei der üblichen Herstellung notwendig sind daher nicht erforderlich, was hinsichtlich des Lagerplatzbedarfs und des gebundenen Kapitals von Vorteil ist. Als Bindemittel für die Elektronenstrahlhärtung eignen sich ungesättigte Oligomere. Es kann vorteilhaft sein, diesen Monomere beizumischen, um die Art und den Grad der Polymerisation des Bindemittels zu beeinflussen. Dementsprechend werden diese Monomere auch als Vernetzer bezeichnet. Vernetzer verfügen über mono- (z.B. HDDA), di- (DPGDA), tri- (z.B. TMPTA) oder polyfunktionelle Gruppen. Die Wahl des Vernetzers in Abstimmung mit dem ungesättigten Oligomer hinsichtlich des Mischungsverhältnisses und hinsichtlich einer Kombination von verschiedenen Vernetzern beeinflußt die Eigenschaften des hergestellten Formkörpers bzw. der Platte, z.B. Biegefestigkeit, Querzugfestigkeit, Biege-E-Modul, Beständigkeit gegen Luftfeuchte- und Wassereinwirkung).
Für die untersuchten Oligomere und Gemische von Oligomeren mit Vernetzern ist zur vollständigen Aushärtung eine Strahlendosis zwischen 70 und 100 kGy erforderlich. Einsetzbare ungesättigte Oligomere sind z.B. Polyesterharze, Acrylharze, Diallylphtalat-Voφolymeri- sate, acryl modifizierte Alkyd-, Epoxy- oder Urethanharze. Diese sind im Gegensatz zu den üblicherweise eingesetzten Kondensationsharzen frei von Formaldehyd (Prüfung nach DIN EN 120 mit photometrischer Auswertung) und ermöglichen eine kochwasserfeste Verbindung des Verbundstoffes im Sinne der EN 1087-Teil 1.
Schon bei der üblichen Herstellung mittels Wärmehärtung ist man bestrebt, die Härtung im Moment der größten Verdichtung des Formköφers bzw. der Platte durchzuführen oder zumindest einzuleiten, damit die Form- bzw. Dimensionsstabilität gewährleistet ist und keine Rückfederung beim Nachlassen des Preßdrucks erfolgt. Bei der Elektronenstrahlhärtung ist die schlagartige Aushärtung in dieser Hinsicht von Vorteil. Andererseits ist das Einbringen der Strahlenenergie im Bereich des hohen Preßdrucks unzweckmäßig, soweit hier der mechanischen Belastung entsprechend dicke Stahlplatten oder andere Druckbeaufschlagungseinrichtungen vorhanden sind, die in erheblichem Maße stahlenabsorbierend wirken und die Eindringtiefe der Strahlung herabsetzen. In diesem Zusammenhang wurde festgestellt, daß zur Sicherung der maximalen Materialverdichtung vor dem Aushärten ein Haltedruck ausreicht, der deutlich unter dem (maximalen) Preßdruck liegt. Es ist daher vorteilhaft, die Aushärtung bei einem entsprechend niedrigen Haltedruck außerhalb der die Elektronenstrahlen schwächenden Preßvorrichtung durchzuführen, also beispielsweise beim Conti-Roll-Ver- fahren im Abstand hinter dem engsten Preßspalt.
Eine aus den gleichen Erwägungen heraus vorteilhafte Möglichkeit besteht darin, mit einem erhöhten Preßdruck und einer entsprechenden Überverdichtung zu arbeiten, so daß der un- ausgehärtete Formkörper bzw. die Platte nach dem Passieren der Preßvorrichtung bis auf die gewünschte Solldicke zurückfedert. Dann kann eine nicht nur von der Preßvorrichtung sondern auch von einer Halteeinrichtung völlig unbehinderte Bestrahlung mit Elektronenenergie durchgeführt werden, um die Aushärtung zu bewirken. Im Interesse einer ungehinderten bzw. ungeschwächten Bestrahlung mit Elektronenenergie kann auch zweistufig mit einer ersten formstabilisierenden thermischen Teilhärtung unter Preßdruck und einer anschließenden von äußerer Druckbeaufschlagung freien Elektronen- Strahlaushärtung gearbeitet werden. Das setzt natürlich die Verwendung eines Bindemittels mit einem Bindemittelanteil voraus, der thermisch härtbar ist. Hierfür kommt eine Beimischung von üblicherweise verwendetem thermisch härtbarem Bindemittel in Betracht.
Als Variante für eine thermische Teilhärtung oder Ersthärtung kommt aber auch die Zugabe eines organischen Peroxids (z.B. TBPEH) in Betracht, das zusammen mit dem Bindemittel eingebracht wird und unter Temperatureinwirkung die Vernetzung des Bindemittels initialisiert. Auch hier handelt es sich um eine Zweistufenhärtung, wobei in der ersten Stufe unter Einwirkung von Druck und Wärme eine Ersthärtung oder Teilhärtung unter Stabilisierung der verdichteten Form erfolgt, und in einer zweiten Stufe ohne äußere Einwirkung von Druck die vollständige Aushärtung bzw. Polymerisation des Bindemittels durch Elektronen- Strahlenergie erfolgt. Die thermische Ersthärtung dient auch hier lediglich zur Fixierung des Materials in der verdichteten Lage und kann bei vergleichsweise geringer Temperatur erfolgen, so daß die vorgenannten technologischen Nachteile der thermischen Härtung in Grenzen gehalten werden.
Eine weitere Variante der thermischen Teilhärtung stellt die Härtung lediglich der Decklagen durch Druck und Temperatur dar. Diese so gehärteten Decklagen können eine Dicke von 1 mm bis mehrere mm aufweisen. Das Bindemittel in diesen Decklagen kann aus einem nicht im Elektronenstrahl härtbaren Bindemittel, aus einem Gemisch aus einem thermisch härtbaren Bindemittel und einem im Elektronenstrahl härtbaren Bindemittel oder aus einem Gemisch aus einem im Elektronenstrahl härtbaren Bindemittel mit einem organischen Peroxid bestehen. Das Bindemittel für den Anteil des Produktes außer den Decklagen stellt ein im Elektronenstrahl härtbares Bindemittel dar oder ein Gemisch aus einem thermisch härtbaren und einem im Elektronenstrahl härtbaren Anteil.
Die thermische Härtung der Decklagen muß nicht bereits zu einer vollständigen Vernetzung des Bindemittels führen, insbesondere dann, wenn das verwendete Bindemittel über einen im Elektronenstrahl härtbaren Anteil verfügt. Vielmehr ist sogar anzustreben die Temperatureinwirkungsdauer auf die Decklagen so kurz als möglich zu halten, um die durch die Temperatureinwirkung zu erwartenden nachteiligen Platteneigenschaften so gering als möglich zu halten. Der thermischen Teilhärtung nachgeschaltet ist eine Endhärtung des Produktes durch die Einwirkung von Elektronenstrahlenergie, wobei diese je nach Anforderung an die Produkteigenschaften wahlweise unter Einwirkung eines gegenüber der ersten Stufe mit thermischer Härtung bereits verminderten Haltedruckes oder drucklos erfolgen kann. Die bereits teilgehärteten Decklagen vereinfachen das Aufbringen eines Haltedruckes in der Art, daß auf ein formstabilisierendes Band oder eine in der Funktion und Wirkung ähnliche Vorrichtung im Bereich der Elektronenstrahleinwirkung völlig verzichtet werden kann oder diese deutlich schwächer dimensioniert werden können und somit keine oder eine deutlich verminderte Absorption der Elektronenstrahlenergie im Band oder in den Vorrichtungen erfolgt, was eine verbesserte Nutzung der Elektronenstrahlenergie im Produkt ermöglicht. Im übrigen begünstigt bei der zweistufigen Härtung die Einwirkung von Temperatur die Oberflächeneigenschaften des Produktes (Beschichtbarkeit, erzielbare Dichte und Dichteverteilung).
Das erfindungsgemäße Verfahren eignet sich in besonderem Maße zur Herstellung von Spanplatten, Faserplatten oder OSB. Es ist aber auch auf anderes zellulosisches oder ähnliches Material in Teilchen- oder Stückform anwendbar, bei dem eine gegenseitige Verbindung durch ein Bindemittel erreicht wird. Beispiele sind die Herstellung von Sperrholzplatten, platten förmige Erzeugnisse aus Papier bzw. Papierschnitzeln, Textilfasern, Rinde oder auch bestimmte Müllfraktionen wie Kunststoffabfälle oder Verbundstoffe aus Kunststoff und Papier bzw. Karton.
Die Erfindung bezieht sich auch auf eine Vorrichtung zur insbesondere kontinuierlichen Herstellung von plattenförmigen Köφern, insbesondere Span- und Faseφlatten, mit einer Streuvorrichtung, einem Transportband und einer Preßvorrichtung, wie sie allgemein für die Herstellung von Span- und Faseφlatten zum Einsatz kommen. Diese Vorrichtung ist erfindungs- gemäß dadurch gekennzeichnet, daß der Preßvorrichtung in Transportrichtung eine Elektronenstrahleinrichtung nachfolgt.
Zweckmäßige Ausgestaltungen und Weiterbildungen dieser Vorrichtung ergeben sich ebenfalls aus den Unteransprüchen.
Mit einer derartigen erfindungsgemäßen Vorrichtung läßt sich das erfindungsgemäße Verfahren durchführen, so daß dessen obengenannte Vorteile auch für die erfindungsgemäße Vorrichtung gelten.
Die nachfolgenden Beispiele 1 bis 5 betreffen Versuche zum Nachweis der verbesserten mechanisch-technologischen Eigenschaften von erfindungsgemäß mit Elektronenstrahlenergie gehärteten Spanköφem: Beispiel 1
Zur Untersuchung der als ergänzende Maßnahme vorgesehenen radikalischen Härtung durch organische Peroxide wurden in einem Rührapparat 100 Teile Deckschichtspäne aus der industriellen Spänetrocknυng mit 20 Teilen Bindemittel (Urethanacrylat) und 0,7 Teilen organisches Peroxid (TBPEH) vermischt und anschließend in einer Laborpresse (Format 33x33 cm) 150°C für 10 Minuten und einem spezifischen Preßdruck von 13 N/mm2 ausgesetzt. Die mechanisch-technologischen Eigenschaften waren wie folgt:
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Beispiel 2
Auf 100 Teile industriell getrocknete Mittelschichtspäne wurden in einer Beleimungstrommel durch Luftzerstäubung 10 Teile Bindemittel (Urethanacrylat) und 0,4 Teile organisches Peroxid (TBPEH) auf die Späne aufgebracht. In einer Laborpresse wurden Platten vom Format 40x40 cm hergestellt bei 150°C für 5 Minuten und einem spezifischen Preßdruck von 10 N/mm . Die Herstellung erfolgte zur Einstellung einer einheitlichen Plattendicke mit Abstandsleisten. In analoger Weise wurden Vergleichsplatten mit einem UF-Harz als Bindemittel hergestellt (Probenserie A). Die mechanisch-technologischen Eigenschaften vvaren wie folgt:
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Die beiden Platten lieferten vergleichbare Ergebnisse hinsichtlich der Querzugfestigkeit. Die Proben der nachfolgenden Beispiele 3 bis 5 sind Rundproben mit einem Durchmesser von ca. 1 10 mm, sie wurden bei einer Elektronenstrahlbeschleunigeranlage mit einer Beschleunigerspannung von 10 MeV und einem Strom von ca. 1 ,5 mA entsprechend einer mittleren Strahlerleistung von 15 kW ausgehärtet.
Beispiel 3
Industriell getrocknete Mittelschichtspäne wurden vor der weiteren Verarbeitung fraktioniert und das Siebgut mit einer Maschenweite von 2 bis 4 mm verwendet. Im Anschluß daran erfolgte die Beleimung in einer Laborbelei mtrommel von 100 Teilen Späne mit 10 Teilen Bindemittel (Epoxyacrylat) und 1 Teil Vernetzer (HDDA, TMPTH, DPGDA entsprechend der Probenserie K, L und M). Die Beleimung erfolgte heiß bei ca. 80°C Bindemitteltemperatur mittels Zerstäubung durch eine Zweistoffdüse. Die Spanfeuchte betrug ca 4 % bezogen auf die Trockenmasse. Das beleimte Spangut wurde zu Rundlingen gepreßt und mittels Elektronenstrahl bei einer Dosis (bestimmt an der Probenoberfläche) von ca. 1 10 kGy gehärtet. Vergleichende Probeköφer wurden in analoger Weise mit Harnstoff-Formaldehyd-Bindemittel (UF) hergestellt (100 Teile Späne, 10 Teile Festharz, Ammonsulfat als Härtekomponente entsprechend der Probenserie J). Die mechanisch-technologischen Eigenschaften waren im Vergleich:
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Man erkennt im Vergleich für die im Elektronenstrahl gehärteten Proben, daß bei selbem Beleimungsgrad die Querzugfestigkeit höher liegt, die Proben eine Kochquerzugfestigkeit aufweisen und die 2-Stundenquellung vermindert ist. Anzumerken ist, daß das Harnstoff- Formaldehyd-Bindemittel eine Kochquerzugfestigkeitsprüfung nicht zuläßt (die Probe löst sich beim Kochen auf). Der Formaldehydgehalt der strahlengehärteten Proben lag unterhalb der Nachweisgrenze von 0,5 mg pro 100 g Platte nach EN 120. Beispiel 4
Die Proben wurden in analoger Weise wie in Beispiel 3 beschrieben hergestellt, der Belei- mungsgrad jedoch um 50% reduziert. Die mechanisch-technologischen Eigenschaften waren im Vergleich:
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Man erkennt im Vergleich für die im Elektronenstrahl gehärteten Proben, daß bei deutlich geringerem Beleimungsgrad die Querzugfestigkeit um bis zu 9,3% abfällt, eine Kochquerzugfestigkeit noch gegeben ist und zu den Werten in Beispiel 3 um 50% geringer ist. Der Formaldehydgehalt der strahlengehärteten Proben lag unterhalb der Nachweisgrenze von 0,5 mg pro 100 g Platte nach EN 120.
Beispiel 5
Das Bindemittel wurde im Vergleich zu den Beispielen 3 und 4 in diesem Fall in Form einer 25 %-igen Emulsion (zwecks verbesserter Verteilung) eines Melaminäcrylates in kaltem Zustand aufgebracht. Das durch die Emulsion eingebrachte Wasser erhöhte die Spänefeuchtigkeit im beleimten Zustand noch erheblich. Im herkömmlichen Herstellungsverfahren mit üblichen Bindemitteln lassen sich Platten mit solcher Spanfeuchtigkeit nur bei ausgesprochen geringer Preßtemperatur und damit verbunden langer Preßzeit herstellen.
Die mechanisch-technologischen Eigenschaften waren im Vergleich:
Figure imgf000012_0002
Trotz hoher Plattenrestfeuchte und geringem Beleimungsgrad ist die Querzugfestigkeit für R vergleichbar mit UF-gebundenen Probekörpern und liegt im Bereich der Proben aus Beispiel 4. Auffallend ist für die Serie R die geringe 2-Stundenquellung.
Ausführungsbeispiele der erfindungsgemäßen Vorrichtung werden nachfolgend anhand einer schematischen Zeichnung näher erläutert: Es zeigen:
Abbildung 1 eine Vorrichtung zur kontinuierlichen Herstellung von Span- oder Faserplatten unter Verwendung einer Voφresse und mit beidseitiger Elektronenbestrahlung;
Abbildung 2 eine Vorrichtung wie in Abbildung 1 , bei der jedoch die Hauptpresse anders ausgebildet ist;
Abbildung 3 eine der Abbildung 1 entsprechende Vorrichtung jedoch ohne Voφresse;
Abbildung 4 eine Abbildung 3 entsprechende Vorrichtung mit einseitiger Elektronenbestrahlung;
Abbildung 5 eine Abbildung 1 entsprechende Vorrichtung, bei der jedoch im Bereich der Elektronenbestrahlung ein Haltedruck auf die verdichtete Platte aufgebracht wird;
Abbildung 6 eine Vorrichtung mit einer Presse, die von einer Umlenktrommel großen Durchmessers, mit dieser zusammenarbeitenden Druckrollen und einem Druckband gebildet ist, wobei eine einseitig wirkende Elektronenstrahleinrichtung vorgesehen ist; und
Abbildung 7 eine weitgehend Abbildung 2 entsprechende Vorrichtung, die der kombinierten thermischen und Elektronenstrahl-Härtung dient, wobei letztere in einer der Preßvorrichtung nachgeschalteten getrennten Einheit durchgeführt wird.
Gemäß Abbildung 1 ist eine behälterförmige Streuvorrichtung 1 vorgesehen, die mit durch Elektonenbestrahlung härtbarem Bindemittel beleimtes zellulosisch.es Material 2 (Holzspäne, Holzfasern) aufnimmt. Dieses Material 2 wird in gleichmäßiger Verteilung auf ein kontinu- ierlich umlaufendes Band 3 geschüttet, auf dem sich eine lockere Streuschicht 4 bildet. Diese wird in einer Voφresse 5 vorverdichtet.
Die Voφresse 5 weist in spiegelsymmetrischer Ausbildung und Anordnung ein oberes Vorverdichtungsband 6 und ein unteres Vorverdichtungsband 7 auf, die über Umlenkrollen 8, Spannrollen 9 sowie oberseitige Vordruckrollen 10 und unterseitige Vordruckrollen 1 1 umlaufen. Das Transportband 3 mit der Streuschicht 4 läuft zwischen den Vorverdichtungsbändern 6 und 7 hindurch, die sich in Transportrichtung einander annähern, was durch den in Transportrichtung sich verringernden Abstand zwischen sich den sich gegenüberliegenden Vordruckrollen 10 und 11 erreicht wird. Auf diese Weise entsteht aus der Streuschicht 4 eine dünnere vorverdichtete Schicht 12.
Das Transportband 3 läuft über Umlenkrollen 13 sowie einen starren Tisch 14 im Bereich der Aufgabe des Materials 2 und über Stützrollen 15 hinter der Voφresse 5 um. In Trans- portrichtung hinter der Voφresse 5 ist eine Preßvorrichtung 16 (Hauptpresse) vorgesehen, die von einer oberen Trommel 17 und einer unteren Trommel 18 gebildet wird, deren Preßspalt 19 vom Obertrum des Transportbandes 3 mit der vorverdichteten Schicht 12 durchlaufen wird, so daß aus dieser die verdichtete Schicht 20 entsteht, die mit dem Transportband 3 über die Stützrollen 21 hinweg läuft, wobei die verdichtete Schicht 20 infolge Rückfederung eine etwas größere Dicke erhält, als es der Abmessung des Preßspalts 19 entspricht.
Darauf passiert das Transportband 3 mit der verdichteten Schicht 20 eine Elektronenstrahleinrichtung 22, die einen oberen Elektronenstrahlbeschleuniger 23 und einen unteren Elek- tronenstrahlbeschleuniger 24 umfaßt, die einander zugewandt sind. Durch die schlagartige Aushärtung des mit dem Material 2 vermischten Bindemittels durch die Elektronenbestrah- lung entsteht an der Elektronenstrahleinrichtung 22 aus der verdichteten Schicht 20 eine ausgehärtete Platte 25 (Endlosplatte), die über Stützrollen 26 der Endfertigung (Quertrennen, Oberflächenschleifen) zugeführt wird.
Die Vorrichtung nach Abbildung 2 stimmt weitgehend mit der zuvor beschriebenen Vorrichtung überein. Insoweit werden - wie auch bei den nachfolgenden Abbildungen - dieselben Bezugszeichen verwendet und wird von einer erneuten Beschreibung abgesehen. Der Unterschied zu Abbildung 1 besteht darin, daß anstelle der Preßvorrichtung 16 eine abweichend ausgebildete Preßvorrichtung 27 vorgesehen ist. Diese Preßvorrichtung 27 ist nach dem Conti-Roll-Verfahren arbeitend ausgeführt, kann jedoch deutlich kürzer ausgeführt sein, als es üblicherweise bei Verfahren mit thermischer Härtung der Fall ist.
Die Preßvorrichtung 27 umfaßt ein oberes Band 28 und ein unteres Band 29, die über Umlenkrollen 30 umlaufen. Innerhalb des oberen Bandes 28 ist eine endlose Folge von oberen Rollstäben 31 vorgesehen, und in entsprechender Weise ist innerhalb des unteren Bandes 29 eine endlose Reihe von unteren Rollstäben 32 vorgesehen, wobei die Rollstäbe jeweils über Umlenkrollen 33 umlaufen. Den oberen Rollstäben 31 ist eine obere Druckplatte 34 mit oberen Druckzylindern 35 zugeordnet, während den unteren Rollstäben 32 eine untere Druckplatte 36 mit unteren Druckzylindern 37 zugeordnet ist. Die Druckplatten 34 und 36 sind in Transportrichtung leicht konvergierend geneigt, so daß sich ein sich verjüngender Preßspalt 38 ergibt, der vom Transportband 3 mit der vorverdichteten Schicht 12 durchlaufen wird. Durch entsprechende Druckbeaufschlagung der Druckzylinder 35 und 37 läßt sich der zur Wirkung kommende Preßdruck der Preßvorrichtung 27 und damit der Verdichtungsvorgang den jeweiligen Bedingungen und Vorgaben anpassen.
Bei der Vorrichtung nach Abbildung 3 fehlt im Vergleich zu Abbildung 1 die Voφresse 5. Dementsprechend wird die Streuschicht 4 direkt der Preßvorrichtung 16 zugeführt und in die verdichtete Schicht 20 umgewandelt.
Die Vorrichtung nach Abbildung 4 unterscheidet sich von derjenigen nach Abbildung 3 nur dadurch, daß eine vereinfachte Elektronenstrahleinrichtung 39 vorgesehen ist, die nur einen Elektronenstrahlbeschleuniger 23 aufweist, der die verdichtete Schicht 20 nur von der Oberseite her bestrahlt. Natürlich wäre es auch möglich, eine Bestrahlung ausschließlich von der Unterseite her vorzusehen.
Die Vorrichtung gemäß Abbildung 5 ist eine Weiterbildung der Vorrichtung gemäß Abbildung 1 , wobei im Bereich der Elektronenstrahleinrichtung 22 eine von dem Transportband 3 mit der verdichteten Schicht 20 durchlaufene Haitedruckvorrichtung 40 vorgesehen ist, die zwei Haltetransportbänder aufweist, nämlich ein umlaufendes oberes Haltetransportband 41, das über Umlenkrollen 42 geführt ist und wie dargestellt bereits die Preßvorrichtung 16 durchläuft, und ein unteres Haltetransportband, das hier vom Transportband 3 gebildet ist.
Im Ausführungsbeispiel nach Abbildung 5 wird im Bereich der Elektronenstrahleinrichtung 22 ein unter dem Preßdruck der Preßvorrichtung 16 liegender Haltedruck auf die verdichtete Schicht 20 aufgebracht. Dazu ist eine Vakuumeinrichtung 43 zur Ausbildung einer von der verdichteten Schicht 20 durchlaufenen Vakuumzone 44 vorgesehen, so daß der von außen auf die Transportbänder 3 und 41 wirkende Atmosphärendruck den Haltedruck liefert, der eine dem Preßspalt 19 entsprechende Dicke der verdichteten Schicht 20 während der Elektronenbestrahlung sichert.
Bei der Vorrichtung gemäß Abbildung 6 sind das Transportband 3 und der Tisch 14 durch ein kurzes Zubringer-Transportband 45 ersetzt. Dieses führt die Streuschicht 4 zu einer Preßvorrichtung 46, zu der eine Umlenktrommel 47 von großem Durchmesser gehört, über deren halbe Umfangslänge ein Preßband 48 mit Radialabstand unter Bildung eines langen Preßspalts 49 mit umläuft. Das Preßband 48 ist im Bereich des Preßspalts 49 rückseitig durch Druckrollen 50 abgestützt, die den Verdichtungsdruck aufbringen. Das Preßband 48 läuft über eine obere Umlenkdruckrolle 51 und eine untere Umlenkdruckrolle 52, die der Umlenktrommel 47 benachbart angeordnet sind und entsprechend den eingezeichneten Pfeilen vorgespannt werden können, sowie über weitere Umlenkrollen 53.
Am Ende des Preßspalts 49 ist eine Elektronenstrahleinrichtung 54 mit einem Elektronenstrahlbeschleuniger 55 angeordnet, der zwischen den beiden in Umlaufrichtung letzten Druckrollen 50 plaziert ist. Zusätzlich könnte ein gegenüberliegender Elektronenbeschleuniger innerhalb der Umlenktrommel 47 angeordnet sein (nicht gezeichnet).
Durch die angedeutete Verlagerung der Umlenkdruckrollen 51 und 52 läßt sich eine entsprechende Zugspannung auf das Preßband 48 ausüben. Die eigentliche Verdichtung der Streuschicht 4 erfolgt wie dargestellt hauptsächlich im Bereich der unteren Umlenkdruckrolle 52 sowie ggf. auch noch im Bereich der in Umlaufrichtung vorderen Druckrollen 50. Da im Bereich der hinteren Druckrollen das Preßband 48 in gleichbleibendem Abstand zur Umlenktrommel 47 gehalten ist, übt das Preßband 48 im Bereich der Elektronenstrahleinrichtung 54 nur noch eine Haltefunktion aus, um ein Auffedern der verdichteten Schicht 20 vor dem Aushärten im Bereich des Elektronenstrahlbeschleumgers 55 zu verhindern. Die ausgehärtete Platte 25 (Endlosplatte) wird dann über Stützrollen 26 abgeführt.
Bei der Vorrichtung nach Abbildung 7 handelt es sich weitgehend um die bereits anhand von Abbildung 2 beschriebene Vorrichtung mit einer vergleichsweise kurzen Preßvorrichtung 27' (Conti-Roll-Verfahren). Abweichend erfolgt die Beschickung mit einem Material 2' , dem nicht nur strahlenhärtbares Bindemittel sondern auch thermisch härtbares Bindemittel zugemischt ist, das für eine formstabilisierende Teilhärtung (Vorhärtung) ausreicht. Dementsprechend wird über die Druckplatten 34 und 36 der Preßvorrichtung 27' Wärme zugeführt und bereits eine Teilaushärtung durch Reaktion nur des thermisch härtbaren Bindemittels bewirkt. Als Ergebnis entsteht eine teilgehärtete Endlosplatte 56, die wie dargestellt in üblicher Weise mittels einer Diagonalsäge 57 in teilgehärtete Einzelplatten 58 abgelängt wird, die in einem Zwischenstapel 59 abgelegt werden, ohne bereits strahlengehärtet zu sein.
Die Strahlenhärtung erfolgt vielmehr in einer nachgeschalteten getrennten Einheit 60 mit einer Elektronenstrahleinrichtung 61 , mit einem oberen Elektronenstrahlbeschleuniger 62 und einem unteren Elektronenstrahlbeschleuniger 63, zwischen denen hindurch die teilgehärteten Einzelplatten 58 auf Stützrollen 64 hindurchgeführt werden, so daß voll ausgehärtete Einzelplatten 65 entstehen, in denen nunmehr auch das strahlenhärtbare Bindemittel chemisch rea- giert hat, so daß die Einzelplatten 65 ihre Endfestigkeit aufweisen. Sie werden dann auf einem Fertigstapel 66 abgelegt.
Bei entsprechender Anordnung der Elektronenstrahleinrichtung 61 könnte die Strahlenaushärtung auch unmittelbar hinter der Preßvorrichtung 27' vor oder nach dem Ablängen mittels der Diagonalsäge 57 erfolgen (nicht dargestellt). Diese Anordnung eignet sich insbesondere für die Verfahrensvariante einer thermischen Teilhärtung der beiden Decklagen und einer Endhärtung des Materials mittels Elektronenstrahlenergie. Das Aufbringen eines Haltedruk- kes im Bereich des Elektronenstrahls kann dabei durch eine in Abbildung 5 dargestellte Vorrichtung 40 erfolgen.
8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß das Bindemittel unter dem Preßdruck stehend elektronenstrahlgehärtet wird.
9. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß das Material bis unter die Solldicke verdichtet wird, so daß es nach dem Aufheben des Preßdrucks bis in die Solldicke auffedert, und daß dann das Bindemittel ohne äußeren Druck elektronenstrahlgehärtet wird.
10. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß das Bindemittel bei einem unter dem Preßdruck liegenden Haltedruck, der ein Auffedern des ungehärteten Formköφers verhindert, mittels Elektronenstrahlenergie ausgehärtet wird.
11. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß dem Material außer durch die Einwirkung von Elektronenstrahlenergie härtendem Bindemittel auch thermisch härtbares Bindemittel zugemischt wird, und daß zunächst eine formstabilisierende thermische Teilhärtung des unter äußerem Druck stehenden Formköφers erfolgt, bevor die Aushärtung mittels Elektronenstrahlenergie durchgeführt wird.
12. Verfahren nach Anspruch 11 , dadurch gekennzeichnet, daß die thermische Teilhärtung auf die außenliegenden Decklagen des Formköφers beschränkt wird.
13. Verfahren nach Anspruch 11 oder 12, dadurch gekennzeichnet, daß bezogen auf die Trokkenmasse des Materials der Anteil des thermisch härtbaren Bindemittels zwischen 0,5 und 20 Gew. %, bevorzugt zwischen 1 und 10 Gew. % , beträgt und der Anteil des strahlenhärtbaren Bindemittels zwischen 0,5 und 20 Gew. % , bevorzugt zwischen 1 und 10 Gew. %, beträgt.
14. Verfahren nach einem der Ansprüche 11 bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß der thermisch härtende Anteil ein Bindemittel wie Phenol-Formaldehydharz, Tanninharz, Harnstoff-Formaldehydharz, Melamin-Formaldehydharz oder Mischungen oder Mischharze dieser sind.
15. Verfahren nach einem der Ansprüche 11 bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß der thermisch härtende Anteil ein Bindemittel wie Isocyanatharz ist.
16. Verfahren nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß das Isocyanatharz ein PMDI ist.

Claims

P a t e n t a n s p r ü c h e
1. Verfahren zum Herstellen von Formköφern aus zerkleinertem, insbesondere zellulosischem Material, insbesondere zum Herstellen von Spanplatten, Faseφlatten oder OSB, bei dem das aufbereitete Material mit einem härtbaren Bindemittel vermischt wird, das Gemisch auf eine Formunterlage aufgebracht und durch Preßdruck zu einem Formkörper verdichtet wird und das Bindemittel ausgehärtet wird, dadurch gekennzeichnet, daß das Material mit einem durch Elektronenstrahlenergie aushärtendem Bindemittel vermischt wird und daß nach dem Verdichten das Bindemittel durch Elektronenbestrahlung ausgehärtet wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, daß als durch Elektronenstrahlenergie aushärtendes Bindemittel ein Kunstharz eingesetzt wird, das ein ungesättigtes Oligomer enthält.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß dem Oligomer ein Monomer als härtungsbeschleunigender Vernetzer zugesetzt wird.
4. Verfahren nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Anteil an Bindemittel bezogen auf die Trockenmasse des Materials für das ungesättigte Oligomer zwischen 0 und 30 Gew. % , bevorzugt zwischen 1 und 10 Gew. % , und für den Vernetzer zwischen 0 und 20 Gew. % , bevorzugt zwischen 0 und 5 Gew. % , beträgt.
5. Verfahren nach Anspruch 3 oder 4, dadurch gekennzeichnet, daß als Vernetzer Monomere mit mono-, bi-, tri- oder poly funktionellen Gruppen oder eine Mischung aus diesen Monomeren verwendet werden.
6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die funktionellen Gruppen der Monomere aus vinylisch ungesättigten Monomeren bestehen.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 2 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß als ungesättigte Oligomere Kunstharze mit polymerisierbaren C-C-Doppelbindungen aus der Gruppe der ungesättigten Polyesterharze, Etheracrylate, Epoxidacrylate, Urethan- acrylate oder der ungesättigten Acrylatharze verwendet werden.
17. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß dem Material außer dem durch Elektronenstrahlenergie härtenden Bindemittel Peroxid zugemischt wird, und daß bei unter äußerem Druck stehenden Formköφer zunächst eine formstabilisierende Teilhärtung des Bindemittels in Form einer radikalischen Härtung mittels Peroxid durch Zuführung von Wärme erfolgt, bevor die Aushärtung mittels Elektronenstrahlenergie durchgeführt wird.
18. Verfahren nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, daß als Peroxid organisches Peroxid verwendet wird.
19. Vorrichtung zur Durchfühung des Verfahrens nach den Ansprüchen 1 bis 18 zur insbesondere kontinuierlichen Herstellung von plattenförmigen Köφern (25, 58), insbesondere Span- und Faseφlatten, mit einer Streuvorrichtung (1), einem Transportband (3, 45) und einer Preßvorrichtung (16, 27, 46), dadurch gekennzeichnet, daß der Preßvorrichtung (16, 27, 46) in Transportrichtung eine Elektronenstrahleinrichtung (22, 39, 54, 61) nachfolgt.
20. Vorrichtung nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet, daß die Elektronenstrahleinrichtung (22, 61) zwei Elektronenstrahlbeschleuniger (23, 24; 62, 63) aufweist, die auf gegenüberliegenden Seiten der Transportbahn angeordnet sind.
21. Vorrichtung nach Anspruch 19 oder 20, dadurch gekennzeichnet, daß im Bereich der Elektronenstrahleinrichtung (22, 54) eine Haitedruckvorrichtung (40; 47, 48) zum Aufbringen eines den verdichtetem plattenförmigen Köφer (20) während des Bestrah- lens auf die Solldicke haltenden Haltedrucks vorgesehen ist.
22. Vorrichtung nach Anspruch 21, dadurch gekennzeichnet, daß die Haltedruckvorrich- tung (40; 47, 48) wenigstens ein Haltetransportband (3, 41 ; 48) umfaßt, das an den plattenförmigen Köφer (20) andrückbar ist.
23. Vorrichtung nach Anspruch 21 oder 22, dadurch gekennzeichnet, daß die Halte- druckvorrichtung (47, 48) eine Umlenktrommel (47) und ein um diese geführtes Haltetransportband (48) umfaßt, die auf gegenüberliegenden Seiten am plattenförmigen Köφer (20) anliegen.
24. Vorrichtung nach Anspruch 22 oder 23, dadurch gekennzeichnet, daß die Halte- druckvorrichtung (40) eine Vakuumeinrichtung (43) umfaßt, die an den vom plattenförmigen Köφer (20) durchlaufenden Zwischenraum (Vakuumzone 44) angeschlossen ist, so daß der Atmosphärendruck das Haltetransportband (3, 41 ; 48) andrückt.
25. Vorrichtung nach Anspruch 19 oder 20, dadurch gekennzeichnet, daß der Preßvorrichtung (27') eine Heizeinrichtung zum Einbringen von Wärme in den plattenförmigen Köφer (12) zugeordnet ist.
26. Vorrichtung nach Anspruch 25, dadurch gekennzeichnet, daß die Elektronenstrahleinrichtung (61) als getrennte Einheit (60) der Preßvorrichtung (27') nachgeschaltet ist.
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