WO1998007666A2 - Achromatic lens system for ultraviolet radiation with germanium dioxide glass - Google Patents

Achromatic lens system for ultraviolet radiation with germanium dioxide glass Download PDF

Info

Publication number
WO1998007666A2
WO1998007666A2 PCT/EP1997/004468 EP9704468W WO9807666A2 WO 1998007666 A2 WO1998007666 A2 WO 1998007666A2 EP 9704468 W EP9704468 W EP 9704468W WO 9807666 A2 WO9807666 A2 WO 9807666A2
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
glass
lens
germanium dioxide
lens system
achromatic lens
Prior art date
Application number
PCT/EP1997/004468
Other languages
German (de)
French (fr)
Other versions
WO1998007666A3 (en
Inventor
Karl Heinz Schuster
Original Assignee
Carl Zeiss
Carl-Zeiss-Stiftung Handelnd Als Carl Zeiss
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Carl Zeiss, Carl-Zeiss-Stiftung Handelnd Als Carl Zeiss filed Critical Carl Zeiss
Priority to US09/051,339 priority Critical patent/US6064516A/en
Priority to DE59703783T priority patent/DE59703783D1/en
Priority to JP10510386A priority patent/JPH11514106A/en
Priority to EP97918988A priority patent/EP0855994B1/en
Publication of WO1998007666A2 publication Critical patent/WO1998007666A2/en
Publication of WO1998007666A3 publication Critical patent/WO1998007666A3/en

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00Glass compositions
    • C03C3/12Silica-free oxide glass compositions
    • C03C3/253Silica-free oxide glass compositions containing germanium

Definitions

  • the invention relates to an achromatic lens system for ultraviolet rays according to the preamble of claim 1, a projection exposure system according to claim 4 and a method for producing optical glass from germanium dioxide according to the preamble of claim 8.
  • crystalline Ge0 2 is generated by hydrolysis of GeCl 4 , melted and rapidly cooled. This serves as a raw material for grinding as a powdered catalyst material. Secrist and Mackenzie cut off an oxygen plasma with C H50Ge on a cooler surface from the gas phase Ge0 2 and thus produce non-crystalline films.
  • Ge0 2 glass bodies that can be used as lens blanks are not known.
  • the object of the invention is to provide an achromatic lens with good transmission in the deep ultraviolet (DUV) and a projection exposure system with such an achromatic lens.
  • a glass suitable for this in combination with quartz glass is to be provided.
  • Germanium dioxide glass in optical quality provides a DUV-transparent material that is not crystalline and therefore shows no polarization effects and is easy to polish and handle. In addition, it has a significantly higher dispersion than quartz glass, so that the larger converging lenses in achromatic can be made from the technologically mature quartz glass and the new material is used in the smaller formats of the diverging lenses.
  • Fluorides known for this application (CaF 2 etc., for example US Pat. No. 4,977,426) have only a slightly different, and indeed lower, dispersion and are crystalline, except BeF 2 , which is highly toxic.
  • Other crystals such as halides (NaCl etc.) or phosphates have higher dispersion than quartz glass, but have similar disadvantages (eg crystal defects).
  • very small lenses made of Ge0 2 can also be used , for example as elements of a honeycomb condenser.
  • the stated production method of claim 8 has the advantage that GeCl4 - n is available in a suitable, highly pure form as the industry standard from the production of germanium single crystals.
  • a disk as a supporting body can be produced by one of the methods cited or given here.
  • Fig. 1 shows an exemplary achromatic lens with quartz glass converging lens and germanium dioxide diverging lens
  • Fig. 2 shows schematically a projection exposure system with Ge0 2 glass lenses in lighting and projection lens.
  • FIG. 2 shows a DUV projection exposure system in which both in the illumination system 20 and in the
  • Projection objective 70 germanium oxide glass lenses 12, 41, 91 are used for achromatization in cooperation with quartz glass lenses 13, 42, 5, 7, 92.
  • the laser 11 is usually an excimer laser for the DUV range.
  • a mercury vapor lamp for example for the 312.5 nm line, can be provided.
  • a beam expanding lens system 12, 13 is achromatized by the choice of the diverging lens 12 made of Ge0 2 and the collecting lens 13 made of quartz glass.
  • the honeycomb condenser 14, often used for homogenization, in the example also consists of an array of Ge0 scattering lenses 41 and quartz glass collecting lenses 42. These groups 12, 13; 41, 42 can also have chromatic overcompensation, which then occurs with the further optics 5 in the reticle level 6 results in achromatic illumination.
  • the projection objective 70 with the aperture diaphragm 8 and the lens groups 7 and 9 likewise preferably has a GeO 2 diverging lens 91 in the region of small light beam diameters.
  • Lens 92 like the other lenses, is made of quartz glass. Further lenses, not shown, from lens groups 5, 7, 8 can consist of Ge0 2 glass and improve achromatization.
  • the wafer to be exposed is arranged in the image plane 10.
  • Germanium dioxide glass is produced by chemical vapor deposition, in which a combustion plasma of germanium tetrachloride or germanium tetrahydride - both substances available in the semiconductor industry with suitable purity - is deposited with pure oxygen on a carrier plate made of amorphous germanium dioxide.
  • the carrier plate can be produced by pressing (sintering) germanium dioxide powder, which was obtained by one of the specified methods from the prior art.
  • the same GeO 2 powder is melted in a platinum / Iridiu crucible at 1500 ° C. for about 20 hours and then slowly cooled and removed from the crucible by milling and sawing.
  • the Ge ⁇ 2 glass pane with a thickness of up to approx. 3 cm and a diameter of 25 cm and larger is, however, deteriorated in terms of absorption in the DUV due to the transition from the crucible material into the melt.
  • the carrier plate can be reused, since the grown layer near the boundary layer to the carrier plate is separated and then the surface can be polished again.
  • the Homogeneity of the CUD deposition is ensured in a known manner by rotating and eccentric movements of the carrier plate and suitable heating.

Abstract

An achromatic product, in particular for uses in the DUV range below 350 nm wavelength, and therefore in particular for projection exposure systems for microlithography, combines quartz glass with lenses made of germanium dioxide glass (GeO2). The production of GeO2 glass by CVD on an amorphous base plate made of the same material is disclosed.

Description

Beschreibung:Description:
Achromatisches Linsensvstem für Ultraviolettstrahlen mit Germaniumdioxid-GlasAchromatic lens system for ultraviolet rays with germanium dioxide glass
Die Erfindung betrifft ein achromatisches Linsensystem für Ultraviolettstrahlen nach dem Oberbegriff des Anspruchs 1, ein Projektionsbelichtungsεyste nach Anspruch 4 und ein Verfahren zur Herstellung von optischem Glas aus Germaniumdioxid nach dem Oberbegriff des Anspruchs 8.The invention relates to an achromatic lens system for ultraviolet rays according to the preamble of claim 1, a projection exposure system according to claim 4 and a method for producing optical glass from germanium dioxide according to the preamble of claim 8.
Die Schwierigkeiten der Achromatisierung im tiefen Ultraviolett sind bekannt. Außer Quarzglas stehen im wesentlichen nur kristalline Materialien zur Verfügung. Probleme macht dabei die Anisotropie der Kristalle, die neben der Doppelbrechung auch zu schlechter Herstellbarkeit polierter gekrümmter Flächen führt. Zudem sind die möglichen Materialien wenig beständig gegen Umwelteinflüsse .The difficulties of achromatization in the deep ultraviolet are known. Apart from quartz glass, essentially only crystalline materials are available. Problems arise from the anisotropy of the crystals, which, in addition to birefringence, also leads to poorly producible polished curved surfaces. In addition, the possible materials are not very resistant to environmental influences.
In US 5,028,967 ist dies beschrieben. Als Problemlösung wird hier die Verwendung von Siθ2-Glas mit Beimischung von Ge02 , auch zusammen mit Boroxid, angegeben. Beansprucht wird ein Geθ2*-Gehalt bis zu 50 mol %. Das Beispiel mit dem höchsten Ge02-Gehalt hat 13,5 mol % Geθ2 und als bevorzugt werden bis zu 30 mol % angegeben. Dabei sind die Abweichungen von Brechzahl, Dispersion und Abbe-Zahl gegenüber reinem Quarzglas gering, die Achromatisierung damit ist daher schwierig.This is described in US 5,028,967. The use of SiO 2 glass with admixture of GeO 2 , also together with boron oxide, is given here as a solution to the problem. A GeO 2 * content of up to 50 mol% is claimed. The example with the highest Ge0 2 content has 13.5 mol% GeO 2 and up to 30 mol% are given as preferred. The deviations in refractive index, dispersion and Abbe number are small compared to pure quartz glass, making achromatization difficult.
Die Herstellung von amorphem Germaniumoxid aus farblosem Glas ist an sich bekannt, z.B. aus Ulimanns Encyklopädie der technischen Chemie 4. Auflage Band 12, Weinheim New York 1985, Aufsatz "Germanium und Germanium-Verbindungen" Seiten 221-226, Stichwort "Germaniumdioxid", Seite 225, und aus der dort zitierten FR-A 20 18 484 (Seite 1, Zeilen 12-19, zugehöriger Recherchenbericht, sowie Titel und Kurzanalyse des Zitats "Secrist und Mackenzie") .The production of amorphous germanium oxide from colorless glass is known per se, e.g. from Ulimann's Encyclopedia of Industrial Chemistry 4th Edition Volume 12, Weinheim New York 1985, article "Germanium and Germanium Compounds" pages 221-226, keyword "Germaniumdioxid", page 225, and from the FR-A 20 18 484 cited there ( Page 1, lines 12-19, associated research report, as well as title and brief analysis of the quote "Secrist and Mackenzie").
βESTÄTIGUNGSKOPIE In einer Version wird kristallines Ge02 durch Hydrolyse von GeCl4 erzeugt, geschmolzen und schnell abgekühlt. Dies dient als Vormaterial zum Vermählen als pulverförmiges Katalysatormaterial . Secrist und Mackenzie lassen aus einem Sauerstoffplasma mit C H50Ge auf eine kühlere Unterlage aus der Gasphase Ge02 abschneiden und erzeugen so nichtkristalline Filme .CONFIRMATION COPY In one version, crystalline Ge0 2 is generated by hydrolysis of GeCl 4 , melted and rapidly cooled. This serves as a raw material for grinding as a powdered catalyst material. Secrist and Mackenzie cut off an oxygen plasma with C H50Ge on a cooler surface from the gas phase Ge0 2 and thus produce non-crystalline films.
Als Linsenrohlinge brauchbare Ge02 -Glaskörper sind aber nicht bekannt .Ge0 2 glass bodies that can be used as lens blanks are not known.
Aus Ulimann a.a.O., Stichwort "Germanate" Seite 225 sind optische Gläser aus Germanaten, z.B. Zn2Geθ4 , bekannt, welche eine hohe Brechzahl aufweisen.Ulimann loc. Cit., Keyword "Germanate" page 225, discloses optical glasses made of Germanates, for example Zn 2 GeO 4 , which have a high refractive index.
Aufgabe der Erfindung ist die Bereitstellung eines Achromaten mit guter Transmission im tiefen Ultraviolett (DUV) und eines Projektionsbelichtungssystems mit einem solchen Achromaten. Ein in Kombination mit Quarzglas dafür geeignetes Glas soll bereitgestellt werden.The object of the invention is to provide an achromatic lens with good transmission in the deep ultraviolet (DUV) and a projection exposure system with such an achromatic lens. A glass suitable for this in combination with quartz glass is to be provided.
Gelöst wird diese Aufgabe durch ein achromatisches Linsensystem nach Anspruch 1, ein Projektionsbelichtungssystem nach Anspruch 4 und ein Herstellverfahren für Ge02-Glas gemäß Anspruch 8. Vorteilhafte Ausgestaltungen sind Gegenstand der Unteransprüche 2-3 und 5-7.This object is achieved by an achromatic lens system according to claim 1, a projection exposure system according to claim 4 and a manufacturing method for Ge0 2 glass according to claim 8. Advantageous embodiments are the subject of dependent claims 2-3 and 5-7.
Mit Germaniumdioxid-Glas in optischer Qualität wird ein DUV- transparentes Material bereitgestellt, das nicht kristallin ist und damit keine Polarisationseffekte zeigt und gut polierbar und handhabbar ist . Zudem hat es eine deutlich höhere Dispersion als Quarzglas, so daß die größeren Sammellinsen im Achromaten aus dem technologisch ausgereiften Quarzglas gefertigt werden können und der neue Werkstoff in den kleineren Formaten der zerstreuenden Linsen zum Einsatz gelangt.Germanium dioxide glass in optical quality provides a DUV-transparent material that is not crystalline and therefore shows no polarization effects and is easy to polish and handle. In addition, it has a significantly higher dispersion than quartz glass, so that the larger converging lenses in achromatic can be made from the technologically mature quartz glass and the new material is used in the smaller formats of the diverging lenses.
Mit einer Abbe-Zahl D = 40,946 und einem Brechungsindex von n-Q = 1,6075 - Meßwerte an einem Probeprisma von 1 cm Kantenlänge - ergeben sich zudem vorteilhaft große Differenzen zu Quarzglas, welche den Aufbau eines Achromaten gegenüber der US 5,028,967 vereinfachen.With an Abbe number D = 40.946 and a refractive index of nQ = 1.6075 - measured values on a sample prism of 1 cm edge length - there are also advantageously large differences from quartz glass, which simplify the construction of an achromatic lens compared to US 5,028,967.
Beimengungen anderer Stoffe im Germaniumdioxid-Glas, insgesamt jedoch weniger als 50 % und vorzugsweise minimale Mengen, sind möglich.Mixtures of other substances in the germanium dioxide glass, but in total less than 50% and preferably minimal amounts, are possible.
Für diese Anwendung bekannte Fluoride (CaF2 usw. z.B. US 4,977,426) haben eine nur wenig abweichende, und zwar geringere, Dispersion und sind kristallin, außer BeF2 , welches aber hochgiftig ist. Andere Kristalle wie Halogenide (NaCl u.a.) oder Phosphate haben zwar höhere Dispersion als Quarzglas, aber ähnliche Nachteile (z.B. Kristallfehler).Fluorides known for this application (CaF 2 etc., for example US Pat. No. 4,977,426) have only a slightly different, and indeed lower, dispersion and are crystalline, except BeF 2 , which is highly toxic. Other crystals such as halides (NaCl etc.) or phosphates have higher dispersion than quartz glass, but have similar disadvantages (eg crystal defects).
Gegenüber dem Ge02- haltigen Glasgemisch der US 5,289,967 haben reine Stoffe grundsätzlich den Vorteil höherer Transmission im DUV. Die Unterschiede der optischen Eigenschaften sind deutlich größer .Compared to the Ge0 2 - containing glass mixture of US 5,289,967, pure substances basically have the advantage of higher transmission in the DUV. The differences in the optical properties are significantly larger.
Im Beleuchtungsstrahlengang, wie gemäß Anspruch 6 vorgesehen, sind auch sehr kleine Linsen aus Ge02 brauchbar, z.B. als Elemente eines Wabenkondensors .In the illumination beam path, as provided in accordance with claim 6, very small lenses made of Ge0 2 can also be used , for example as elements of a honeycomb condenser.
Die angegebene Herstellmethode des Anspruchs 8 hat den Vorteil , daß GeCl4 --n geeignet hochreiner Form als Industriestandard aus der Produktion von Germanium-Einkristallen verfügbar ist . Die Herstellung einer Scheibe als Tragkörper kann nach einem der zitierten oder den hier angegebenen Verfahren erfolgen.The stated production method of claim 8 has the advantage that GeCl4 - n is available in a suitable, highly pure form as the industry standard from the production of germanium single crystals. A disk as a supporting body can be produced by one of the methods cited or given here.
Näher erläutert wird die Erfindung anhand der Zeichnungen.The invention is explained in more detail with reference to the drawings.
Fig. l zeigt einen exemplarischen Achromaten mit Quarzglas- Sammellinse und Germaniumdioxid-Zerstreuungslinse; Fig. 2 zeigt schematisch ein Projektionsbelichtungssystem mit Ge02-Glas-Linsen in Beleuchtung und Projektionsobjektiv .1 shows an exemplary achromatic lens with quartz glass converging lens and germanium dioxide diverging lens; Fig. 2 shows schematically a projection exposure system with Ge0 2 glass lenses in lighting and projection lens.
Der Achromat der Fig. 1 hat die Konstruktionsdaten der Tabelle 1 mit den Linsenflächen 1, 2 der sammelnden Quarzlinse und den Linsenflächen 3, 4 der zerstreuenden Germaniumdioxid-Linse . Er bildet das Objekt Ob aus dem Unendlichen auf die Bildebene Im ab mit einem chromatischen Längsfehler CHV «= 3,3 μm bei der Wellenlänge Λ = 312,56 ± 5 nm. (Bei 248,5 ± 5 nm ist CHV = 19 μm, bei 248,5 ± 0,5 nm noch CHV = 0,5 μm.) Das Verhältnis der "Abbe-Zahl" von Quarz und Ge02-Glas beträgt bei dieser Wellenlänge Λ =1 has the construction data of Table 1 with the lens surfaces 1, 2 of the collecting quartz lens and the lens surfaces 3, 4 of the diverging germanium dioxide lens. It forms the object whether from the infinite onto the image plane Im with a chromatic longitudinal error CHV «= 3.3 μm at the wavelength Λ = 312.56 ± 5 nm. (At 248.5 ± 5 nm, CHV = 19 μm, at 248.5 ± 0.5 nm still CHV = 0.5 μm.) The ratio of the "Abbe number" of quartz and Ge0 2 glass is Λ = at this wavelength
(312,6 ± 10 nm) 2,47. Der Vergleichswert für Kalziumfluorid beträgt 0,70.(312.6 ± 10 nm) 2.47. The comparative value for calcium fluoride is 0.70.
Durch den großen Dispersionsunterschied von Germaniumdioxid- Glas zu Quarzglas gelingt es auch bei einem Achromaten mit Luftabstand wie in diesem Beispiel, den Gaußfehler zu korrigieren.Due to the large dispersion difference between germanium dioxide glass and quartz glass, it is also possible to correct the Gaussian error with an achromat with an air gap as in this example.
Figur 2 stellt ein DUV-Projektionsbelichtungssystem dar, bei der sowohl im Beleuchtungssystem 20 als auch imFIG. 2 shows a DUV projection exposure system in which both in the illumination system 20 and in the
Projektionsobjektiv 70 Germaniumoxid-Glas-Linsen 12, 41, 91 zur Achromatisierung im Zusammenwirken mit Quarzglas-Linsen 13, 42, 5, 7, 92 dienen.Projection objective 70 germanium oxide glass lenses 12, 41, 91 are used for achromatization in cooperation with quartz glass lenses 13, 42, 5, 7, 92.
Der Laser 11 ist für den DUV-Bereich gewöhnlich ein Excimer- Laser. Alternativ kann eine Quecksilberdampflampe, zum Beispiel für die 312,5 nm-Linie, vorgesehen sein.The laser 11 is usually an excimer laser for the DUV range. Alternatively, a mercury vapor lamp, for example for the 312.5 nm line, can be provided.
Ein strahlaufweitendes Linsensystem 12, 13 ist durch Wahl der Zerstreuungslinse 12 aus Ge02 und der Sammellinse 13 aus Quarzglas achromatisiert . Der Wabenkondensor 14, zur Homogenisierung häufig eingesetzt, besteht im Beispiel ebenfalls aus einem Array von Ge0 -Zerstreuungslinsen 41 und Quarzglas-Sammellinsen 42. Diese Gruppen 12, 13; 41, 42 können auch eine chromatische Überkompensation aufweisen, die dann mit der weiteren Optik 5 in der Reticle-Ebene 6 eine achromatische Beleuchtung ergibt. Das Projektionsobjektiv 70 mit der Aperturblende 8 und den Linsengruppen 7 und 9 weist ebenfalls bevorzugt im Bereich kleiner Lichtbündeldurchmesser eine Ge02 - Zerstreuungslinse 91 auf. Linse 92 ist wie die übrigen Linsen aus Quarzglas. Weitere, nicht dargestellte Linsen aus den Linsengruppen 5, 7, 8 können aus Ge02-Glas bestehen und die Achromatisierung verbessern. In der Bildebene 10 wird der zu belichtende Wafer angeordnet.A beam expanding lens system 12, 13 is achromatized by the choice of the diverging lens 12 made of Ge0 2 and the collecting lens 13 made of quartz glass. The honeycomb condenser 14, often used for homogenization, in the example also consists of an array of Ge0 scattering lenses 41 and quartz glass collecting lenses 42. These groups 12, 13; 41, 42 can also have chromatic overcompensation, which then occurs with the further optics 5 in the reticle level 6 results in achromatic illumination. The projection objective 70 with the aperture diaphragm 8 and the lens groups 7 and 9 likewise preferably has a GeO 2 diverging lens 91 in the region of small light beam diameters. Lens 92, like the other lenses, is made of quartz glass. Further lenses, not shown, from lens groups 5, 7, 8 can consist of Ge0 2 glass and improve achromatization. The wafer to be exposed is arranged in the image plane 10.
Die Herstellung von Germaniumdioxid-Glas erfolgt durch chemisches Abscheiden aus der Dampfphase, bei dem ein Verbrennungsplasma von Germaniumtetrachlorid oder Germaniumtetrahydrid - beides in der Halbleiterindustrie in geeigneter Reinheit verfügbare Stoffe - mit reinem Sauerstoff auf eine Trägerplatte aus amorphem Germaniumdioxid abgeschieden wird. Die Trägerplatte kann durch Verpressen (Sintern) von Germaniumdioxid-Pulver, das nach einem der angegebenen Verfahren aus dem Stand der Technik gewonnen wurde, hergestellt werden .Germanium dioxide glass is produced by chemical vapor deposition, in which a combustion plasma of germanium tetrachloride or germanium tetrahydride - both substances available in the semiconductor industry with suitable purity - is deposited with pure oxygen on a carrier plate made of amorphous germanium dioxide. The carrier plate can be produced by pressing (sintering) germanium dioxide powder, which was obtained by one of the specified methods from the prior art.
Alternativ wird gleiches Geθ2~Pulver bei 1500° C etwa 20 Stunden in einem Platin/Iridiu -Tiegel aufgeschmolzen und dann langsam abgekühlt und aus dem Tiegel durch Fräsen und Sägen entfernt. Die Geθ2 -Glasscheibe mit bis zu ca. 3 cm Dicke und 25 cm Durchmesser und größer ist durch den Übergang von Tiegel- Material in die Schmelze allerdings hinsichtlich der Absorption im DUV verschlechtert .Alternatively, the same GeO 2 powder is melted in a platinum / Iridiu crucible at 1500 ° C. for about 20 hours and then slowly cooled and removed from the crucible by milling and sawing. The Geθ2 glass pane with a thickness of up to approx. 3 cm and a diameter of 25 cm and larger is, however, deteriorated in terms of absorption in the DUV due to the transition from the crucible material into the melt.
Die Unterseite dieser primären Ge02-Glasscheibe - Blasen wandern in der Schmelze nach oben, daher ist unten das Material homogener - wird nun bearbeitet und feinoptisch poliert. Darauf wird dann die CVD-Abscheidung des reinen Ge0 -Glases ausgeführt .The underside of this primary Ge0 2 glass pane - bubbles migrate upwards in the melt, therefore the material is more homogeneous below - is now processed and polished to a fine optical finish. Then the CVD deposition of the pure Ge0 glass is carried out.
Die Trägerplatte ist wieder verwendbar, da die aufgewachsene Schicht nahe der Grenzschicht zur Trägerplatte abgetrennt wird und dann wieder die Oberfläche poliert werden kann. Die Homogenität der CUD-Abscheidung wird in bekannter Weise durch Dreh- und Exzenterbewegungen der Trägerplatte und geeignete Beheizung sichergestellt.The carrier plate can be reused, since the grown layer near the boundary layer to the carrier plate is separated and then the surface can be polished again. The Homogeneity of the CUD deposition is ensured in a known manner by rotating and eccentric movements of the carrier plate and suitable heating.
Bei der Politur ist darauf zu achten, daß wasserfrei z.B. mit Alkohol gearbeitet wird, da durch Wasser die Rekristallisation begünstigt wird. An Luft mit bis zu 40 % relativer Luftfeuchtigkeit ist die Handhabung der polierten Ge02-Glas- Linsen bei zur Versiegelung durch dünne optische Schichten - als Antireflexschichten sowieso nötig - problemlos möglich.When polishing, care must be taken that water is used, for example with alcohol, since water promotes recrystallization. In air with up to 40% relative air humidity, the polished Ge0 2 glass lenses can be handled without any problems for sealing with thin optical layers - which are necessary as anti-reflective layers anyway.
Tabelle 1Table 1
Nr. Radius (mm) Abstand (mm) MaterialRadius (mm) Distance (mm) Material
Ob 0000
1 33,555 5,904 Quarz Suprasil1 33.555 5.904 quartz Suprasil
2 -45,723 5,3062 -45.723 5.306
3 -33,666 2,000 Ge02-Glas3 -33.666 2.000 Ge0 2 glass
4 -300,102 80,3154 -300.102 80.315
Imin the
Numerische Apertur NA = 0,10 Numerical aperture NA = 0.10

Claims

Patentansprüche : Claims:
1. Achromatisches Linsensystem für Ultraviolettstrahlen mit mindestens einer ersten Linse (1, 2) aus Quarzglas oder einem überwiegend Quarz enthaltenden Glas, dadurch gekennzeichnet, daß mindestens eine zweite Linse (3, 4) aus überwiegend, insbesondere über 70 %, Germaniumdioxid enthaltendem Glas besteht .1. Achromatic lens system for ultraviolet rays with at least one first lens (1, 2) made of quartz glass or a glass predominantly containing quartz, characterized in that at least one second lens (3, 4) consists mainly of, in particular over 70%, glass containing germanium dioxide .
2. Achromatisches Linsensystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die zweite Linse (3, 4) aus reinem Germaniumdioxid besteht .2. Achromatic lens system according to claim 1, characterized in that the second lens (3, 4) consists of pure germanium dioxide.
3. Achromatisches Linsensystem nach Anspruch 1 oder3. Achromatic lens system according to claim 1 or
Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die erste LinseClaim 2, characterized in that the first lens
(1, 2) sammelnd und die zweite Linse (3, 4) zerstreuend ist .(1, 2) collecting and the second lens (3, 4) is diverging.
4. Projektionsbelichtungssystem mit einer Lichtquelle (11) mit einer Wellenlänge von 350 nm oder weniger, gekennzeichnet durch ein achromatisches Linsensystem (20, 70) nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 3.4. projection exposure system with a light source (11) with a wavelength of 350 nm or less, characterized by an achromatic lens system (20, 70) according to at least one of claims 1 to 3.
5. Projektionsbelichtungssystem nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Lichtquelle (11) ein Excimer-Laser oder ein anderer UV-Laser ohne Maßnahmen zur spektralen Einengung ist .5. Projection exposure system according to claim 4, characterized in that the light source (11) is an excimer laser or another UV laser without measures for spectral narrowing.
6. Projektionsbelichtungssystem nach Anspruch 4 oder Anspruch6. Projection exposure system according to claim 4 or claim
5, dadurch gekennzeichnet, daß das achromatische Linsensystem (12, 13; 41, 42) im Beleuchtungsstrahlengang (20) eingesetzt ist.5, characterized in that the achromatic lens system (12, 13; 41, 42) is used in the illumination beam path (20).
7. Projektionsbelichtungssystem nach Anspruch 5 oder Anspruch7. Projection exposure system according to claim 5 or claim
6, dadurch gekennzeichnet, daß das achromatische Linsensystem (91, 92) im Projektionsobjektiv (70) angeordnet ist . Verfahren zur Herstellung von optischem Glas aus Germaniumdioxid, dadurch gekennzeichnet, daß aus hochreinem pulverförmigem Germaniumdioxid ein Basiskörper hergestellt wird und auf diesen Basiskörper aus einem Verbrennungsplasma von Germaniumtetrachlorid oder Germaniumtetrahydrid mit reinem Sauerstoff amorphes Germaniumdioxid gleichmäßig abgeschieden und dabei rapide gekühlt wird. 6, characterized in that the achromatic lens system (91, 92) is arranged in the projection objective (70). Process for the production of optical glass from germanium dioxide, characterized in that a base body is produced from high-purity powdered germanium dioxide and amorphous germanium dioxide is deposited uniformly on this base body from a combustion plasma of germanium tetrachloride or germanium tetrahydride and is thereby rapidly cooled.
PCT/EP1997/004468 1996-08-16 1997-08-15 Achromatic lens system for ultraviolet radiation with germanium dioxide glass WO1998007666A2 (en)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US09/051,339 US6064516A (en) 1996-08-16 1997-08-15 Achromatic lens system for ultraviolet radiation with germanium dioxide glass
DE59703783T DE59703783D1 (en) 1996-08-16 1997-08-15 ACHROMATIC LENS SYSTEM FOR ULTRAVIOLET RAYS WITH GERMANIUM DIOXIDE GLASS
JP10510386A JPH11514106A (en) 1996-08-16 1997-08-15 UV achromatic lens optics containing germanium dioxide glass
EP97918988A EP0855994B1 (en) 1996-08-16 1997-08-15 Achromatic lens system for ultraviolet radiation with germanium dioxide glass

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19633128A DE19633128A1 (en) 1996-08-16 1996-08-16 Achromatic lens system for ultraviolet rays with germanium dioxide glass
DE19633128.5 1996-08-16

Publications (2)

Publication Number Publication Date
WO1998007666A2 true WO1998007666A2 (en) 1998-02-26
WO1998007666A3 WO1998007666A3 (en) 1998-05-28

Family

ID=7802840

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/EP1997/004468 WO1998007666A2 (en) 1996-08-16 1997-08-15 Achromatic lens system for ultraviolet radiation with germanium dioxide glass

Country Status (5)

Country Link
US (1) US6064516A (en)
EP (1) EP0855994B1 (en)
JP (1) JPH11514106A (en)
DE (2) DE19633128A1 (en)
WO (1) WO1998007666A2 (en)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19855106A1 (en) * 1998-11-30 2000-05-31 Zeiss Carl Fa Illumination system for VUV microlithography
US7466489B2 (en) * 2003-12-15 2008-12-16 Susanne Beder Projection objective having a high aperture and a planar end surface
KR101200654B1 (en) * 2003-12-15 2012-11-12 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 Projection objective having a high aperture and a planar end surface
JP5102492B2 (en) 2003-12-19 2012-12-19 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー Objective lens for microlithography projection with crystal elements
WO2006133884A2 (en) 2005-06-14 2006-12-21 Carl Zeiss Smt Ag Optical element with an antireflection coating, projection objective, and exposure apparatus comprising such an element
CN101620317B (en) * 2008-06-30 2011-06-22 富士迈半导体精密工业(上海)有限公司 Laser device with long depth of focus

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DD211545A1 (en) * 1982-11-19 1984-07-18 Univ Schiller Jena METHOD FOR PRODUCING INFRARED LIQUID GLASS
EP0284414A2 (en) * 1987-03-27 1988-09-28 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Exposure apparatus

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5826050A (en) * 1981-08-06 1983-02-16 Agency Of Ind Science & Technol Manufacture of mass of germanium dioxide-diantimony trioxide glass

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DD211545A1 (en) * 1982-11-19 1984-07-18 Univ Schiller Jena METHOD FOR PRODUCING INFRARED LIQUID GLASS
EP0284414A2 (en) * 1987-03-27 1988-09-28 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Exposure apparatus

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
DATABASE WPI Section Ch, Week 8313 Derwent Publications Ltd., London, GB; Class L01, AN 83-30430K XP002050077 & JP 58 026 050 A (AGENCY OF IND SCI & TECHNOLOGY) , 16.Februar 1983 *
SHIGEKI SAKAGUCHI: "CONSOLIDATION OF GEO2 SOOT BODY PREPARED BY FLAME HYDROLYSIS REACTION" JOURNAL OF NON-CRYSTALLINE SOLIDS, Bd. 171, Nr. 3, 2.August 1994, Seiten 228-235, XP000486705 *

Also Published As

Publication number Publication date
JPH11514106A (en) 1999-11-30
DE59703783D1 (en) 2001-07-19
WO1998007666A3 (en) 1998-05-28
EP0855994B1 (en) 2001-06-13
DE19633128A1 (en) 1998-02-19
US6064516A (en) 2000-05-16
EP0855994A2 (en) 1998-08-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE112005003308B4 (en) High refractive index homogeneity quartz glass and method of making same
DE602004009553T2 (en) Silica glass containing TiO 2 and optical material for EUV lithography
DE60033481T2 (en) Quartz glass optical material for excimer laser and excimer lamp, and process for its production
DE69629119T2 (en) POT TO MAKE SILICAGLAS
DE60015684T2 (en) Quartz glass optical element for transmitting fluorine-excimer laser radiation and method for its production
EP1006373A2 (en) Objective with crystal lenses and projection exposure apparatus for microlithography
DE60013901T2 (en) PHOTOLITHOGRAPHIC METHOD, MASK ROLLING AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF
DE602004005793T2 (en) Optical glass with low photoelastic constant
DE102013101328B3 (en) Blank made of TiO2-SiO2 glass for a mirror substrate for use in EUV lithography and method for its production
DE60035142T2 (en) Synthetic quartz glass component for use in ArF excimer laser lithography
DE102007041151A1 (en) F-doped quartz glass and method of making the same
DE102018111144A1 (en) precision component
DE102022105930A1 (en) Glass ceramic with specific thermal expansion behavior
EP0855994B1 (en) Achromatic lens system for ultraviolet radiation with germanium dioxide glass
DE19533321A1 (en) Light transmissivity measurement test-piece prodn.
DE10302914A1 (en) Process for the production of synthetic quartz glass
DE4008383A1 (en) ACHROMAT FOR ULTRAVIOLET BEAMS
DE102006060362A1 (en) Glass and low expansion elements and reduced streaks and a method of making same
DE112021002571T5 (en) Glass
EP1327613A1 (en) Quartz glass blank for preparing an optical component and its application
DE69915420T2 (en) Process for the production of synthetic silica glass for use in ArF excimer laser lithography
DE60218736T2 (en) MELTING QUARTZ GLASS CONTAINING ALUMINUM
DE102006018711B4 (en) Material, in particular for an optical component for use in microlithography and method for producing a molded article from the material
DE102006031995B4 (en) Lens blanks and lens elements and process for their preparation
WO2010015296A2 (en) Transmitting optical element consisting of magnesium-aluminium spinel

Legal Events

Date Code Title Description
AK Designated states

Kind code of ref document: A2

Designated state(s): JP US

AL Designated countries for regional patents

Kind code of ref document: A2

Designated state(s): AT BE CH DE DK ES FI FR GB GR IE IT LU MC NL PT SE

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 1997918988

Country of ref document: EP

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 09051339

Country of ref document: US

ENP Entry into the national phase

Ref country code: JP

Ref document number: 1998 510386

Kind code of ref document: A

Format of ref document f/p: F

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application
WR Later publication of a revised version of an international search report
WWP Wipo information: published in national office

Ref document number: 1997918988

Country of ref document: EP

WWG Wipo information: grant in national office

Ref document number: 1997918988

Country of ref document: EP