WO1997011478A1 - Tube cathodique couleur - Google Patents

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shadow mask
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thermal expansion
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Toshihiko Tanaka
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Hitachi, Ltd.
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J29/00Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
    • H01J29/02Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
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    • H01J29/07Shadow masks for colour television tubes
    • H01J29/073Mounting arrangements associated with shadow masks
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    • H01J2229/07Shadow masks
    • H01J2229/0705Mounting arrangement of assembly to vessel
    • H01J2229/0711Spring and plate (clip) type

Definitions

  • the present invention relates to a color cathode ray tube incorporated in a color monitor set or a color television set, and more particularly, to an increase in temperature or shadow mass in a set when a color monitor set or a color television set is operated.
  • the present invention relates to a color cathode ray tube in which the occurrence of beam landing error due to the movement of a shadow mask structure due to an increase in the temperature of the mask is reduced.
  • a color cathode ray tube generally includes a panel, which is a video screen, a neck for accommodating an electron gun, and a funnel for connecting the panel and the neck, and the funnel is fired from the electron gun.
  • a deflecting device is installed to scan the phosphor screen coated on the inner surface of the panel with the electron beam.
  • FIG. 1 is a schematic diagram of a cathode ray tube
  • 1 is a panel
  • 2 is a funnel
  • 3 is a neck
  • 4 is a phosphor screen (screen)
  • 5 is a shadow mask structure
  • 5 1 supports a shadow mask structure.
  • 6 is a magnetic shield
  • 7 is a deflection yoke
  • 8 is a magnet for adjusting the utility
  • 9 is a sensor for adjusting the sensitivity of the beam
  • 10 is a magnet for adjusting the presence of the beam.
  • Zens adjustment magnet 11 is an electron gun
  • B is an electron beam.
  • the electron beams for R (red), G (green), and B (blue) are directed horizontally and vertically by the deflection device provided in the funnel on the way from the electron gun to the phosphor screen.
  • each color is selected by the shadow mask arranged inside the panel section, and by colliding with each phosphor screen, the phosphor screen of each color emits light, and the image is displayed on the phosphor screen. To form.
  • FIG. 2 is a schematic diagram of a shadow mask structure.
  • the shadow mask structure includes a shadow mask 12 having a plurality of electron beam passage holes for color selection, a support frame 13 holding the shadow mask 12, and a support frame.
  • a mask spring 14 for holding the system 13 in the panel.
  • the shadow mask structure 5 is held by joining a mask spring support hole 141 to a panel pin 51 formed on a panel.
  • Invar shadow mask 1 2 e.g., thermal expansion coefficient 6. 9 x 1 0- 6 / ° C
  • steel for example, the support frame 1 3, the thermal expansion coefficient number 1. 1 5 X 1 0 -. 5 / ° C
  • the mask spring 1 4 in example stainless steel (e.g., thermal expansion coefficient 1 0 4 X 1 0- 5 / ° C) and it it used.
  • the coefficient of thermal expansion refers to the coefficient of linear thermal expansion.
  • the doping of the shadow mask is suppressed due to the low thermal expansion properties of the amber material and its own.
  • a single material having no bimetal action may be used for the mask spring 14 in some cases.
  • the temperature in the set including the funnel and the neck is caused by the heat energy generated from the circuit components in the set. It gradually rises and reaches an equilibrium state at a certain temperature.
  • the temperature of the panel is lower than the temperature in the set because it is exposed.
  • the heat energy generated by these circuit components raises the temperature in the set, which in turn raises the temperature of the funnel.
  • the temperature of the inner shield rises due to radiant heat, and the temperature of the support frame and mask spring also rises.
  • the temperature surrounding the cathode ray tube is lower around the panel than around the funnel, and the temperature of the panel is lower than that of the funnel.
  • the temperature of the mask spring connected to the panel pin embedded in the panel is lower than that of the support frame, and therefore, when the mask spring and the support frame have the same coefficient of thermal expansion, the same amount of thermal expansion is applied. do not do.
  • the mask spring support point 141 on the short side or the long side of the shadow mask structure, the point 131 on the support frame near the mask spring support point, and the mask spring support point 141 are on one straight line, and if their relative positional relationship is the same, no distortion occurs in the shadow mask.
  • the shadow mask structure is distorted because the mask spring and the support frame do not expand by the same amount. There is a problem that distortion of the shadow mask structure causes a beam landing shift and deteriorates color purity.
  • the point 13 1 on the support frame near the mask spring support point 14 1 moves due to the difference in the amount of thermal expansion between the mask spring 14 and the support frame 13 caused by the rise in temperature in the set. to cause.
  • the point 1 3 1 moves in the direction of the arrow, so that the rotational force acts on the shadow mask as a whole.
  • FIG. 4 shows a point 1 on the support frame near the mask spring support point 1 4 1 of the 3-pin type shadow mask structure when the thermal expansion of the mask spring is smaller than the thermal expansion of the support frame.
  • FIG. 3 is a diagram showing the movement of 3 1, where point 1 3 1 moves in the direction of the arrow.
  • the point 1 3 1 moves in the direction of the arrow, so that the entire shadow mask concentrates on the upper right corner.
  • Fig. 5 shows the beam landing shift direction of the electron beam that occurs when the cathode ray tube using the 3-bin type shadow mask structure shown in Fig. 4 is mounted on a color television set.
  • the mask spring and the support frame are considered for the heat energy generated when the electron beam hits the shadow mask, but not for the heat energy generated from the circuit components in the above set. Was not taken into account.
  • the color display tube used for the color monitor set has a dot-type phosphor screen structure, and the color purity problem is more severe than that of the stripe-type phosphor screen structure.
  • the difference between the amount of thermal expansion of the mask spring and the amount of thermal expansion of the servo frame can be reduced. It is possible to suppress color purity deterioration due to beam landing shift caused by the difference between the thermal expansion of the mask brace and the thermal expansion of the support frame, and stable color independent of the temperature change in the set It is possible to provide a color cathode ray tube which maintains purity.
  • FIG. 1 is a sectional view of a cathode ray tube.
  • FIG. 2 is a schematic view of a shadow mask structure.
  • FIG. 3 shows the movement of a point on the support frame near the mask spring support point in a conventional 4-pin type shadow mask structure in which the thermal expansion coefficient of the mask spring and the thermal expansion coefficient of the support frame are almost the same.
  • FIG. 4 shows the thermal expansion coefficient of the mask spring and the heat of the support frame.
  • FIG. 9 is a diagram showing movement of points on a support frame near a mask spring support point in a conventional three-pin type shadow mask structure having almost the same expansion coefficient.
  • FIG. 5 shows the beam landing shift direction of a cathode ray tube using a conventional 3-pin type shadow mask structure in which the thermal expansion coefficient of the mask spring and the thermal expansion coefficient of the support frame are almost the same. .
  • FIG. 6 is a comparison diagram of one embodiment of the present invention and a conventional example.
  • FIG. 7 is a comparison diagram of the beam movement amount with respect to the elapsed time of the three-bin type shadow mask structure according to the embodiment of the present invention and the conventional example.
  • FIG. 8 is a graph showing the relationship between the ratio of the thermal expansion coefficient of the mask spring to the thermal expansion coefficient of the support frame and the beam movement amount.
  • FIG. 6 shows a comparison between one embodiment of the present invention and a conventional example.
  • the shadow mask 12 is made of an amber material (thermal expansion coefficient: 6.9 ⁇ 10-6 / ° C), the bets frame 13 steel (thermal expansion coefficient 1. 15x 10- 5 / ° C) , the mask spring 14 is used stainless steel (thermal expansion coefficient 1. 73 X 10- 5 / ° C ) , respectively.
  • the shadow mask 12 of this embodiment made of such a material, when the temperature rise of the support frame is large and the temperature rise of the mask spring is small with the rise of the temperature in the set, even causing their respective thermal expansion, the first coefficient of thermal expansion of the mask spring 14 (1. 73x 10- 5 / ° C) coefficient of thermal expansion of the support frame 13 (1. 15 X 10- 5 / ° C) Since it is 5 times, the difference in thermal expansion between the mask spring 14 and the support frame 13 is small.
  • Panel of color cathode ray tube The amount of movement of the point 1 3 1 on the servo frame 13 near the support point 1 4 1 of the mask spring 14 held in the set due to the temperature rise in the set is determined by the thermal expansion of the mask spring. We keep them offsettingly low. By reducing the amount of movement of the support frame, the amount of movement of the shadow mask fixed to the support frame can also be reduced, and the beam landing shift can be reduced.
  • FIG. 7 applies the present invention to a shadow mask structure having a 3-pin type spring, and furthermore, this shadow mask structure is used for a 36 cm color display tube, and is operated when assembled in a set.
  • FIG. 4 is a diagram showing the characteristics of beam landing, and comparing the characteristics of the conventional beam landing with the characteristics of the beam landing of the present invention.
  • the vertical axis represents the amount of electron beam movement by m
  • the horizontal axis represents elapsed time by min.
  • Line 15 is the beam movement amount in the lower left corner of the panel in the conventional color display tube
  • line 16 is the beam movement amount in the lower left corner of the panel in the color display tube of the present invention.
  • the beam landing change amount can be significantly improved from 17 m to 5 m when 10 O min has elapsed after the operation. That is, it is possible to improve the beam landing change amount in the peripheral portion of the panel display screen.
  • the mask spring 14 has been discussed as being made of stainless steel. However, in an actual color cathode ray tube, the mask spring 14 itself may be made of a bimetal in order to prevent so-called doming. In this bimetallic spring, the equivalent thermal expansion coefficient of the spring is two metals. May be averaged.
  • FIG. 8 is a graph showing the relationship between the thermal expansion ratio of the mask spring thermal expansion coefficient to the thermal expansion coefficient of the servo frame, the beam movement amount, and the temperature.
  • the ambient temperature was 40 ° C, high temperature, and 0 ° C, low temperature.
  • the temperature difference between the inside and outside of the set was 25 ° C, that is, the temperature difference between the panel peripheral part and the funnel peripheral part was 25 ° C.
  • 17 is the temperature between the panel periphery and the funnel periphery when the ambient temperature is high and there is no outside temperature difference between the panel periphery and the funnel periphery. If there is no difference, 19 is the case where the environmental temperature is low and the temperature difference between the panel peripheral part and the funnel peripheral part is 25 ° C, and 20 is the case where the environmental temperature is high and the panel peripheral part is This is the relationship between the thermal expansion ratio and the beam movement when the temperature difference around the funnel is 25 ° C.
  • the upper center of the panel was defined as a measurement point, and a brass (+) when deviated to the right from the measurement point and a minus (one) when deviated to the left.
  • the coefficient of thermal expansion When the coefficient of thermal expansion is 1.0, the ambient temperature of the entire CRT is uniform and the beam travel is 0 m even if the ambient temperature is high or low. When the ambient temperature is low and there is a temperature difference between the panel peripheral area and the funnel peripheral area, or when the environmental temperature is high and there is a temperature difference between the panel peripheral area and the funnel peripheral area, the beam movement amount may be different. Is 25 m. When the coefficient of thermal expansion is 2.0, the beam moves by 110 m when the ambient temperature is high and by 10 m when the environmental temperature is low.
  • the thermal expansion coefficient ratio will be 1.2 to 2.0.
  • the beam landing movement is ⁇ 7 / zm, and the beam landing movement is minimized.
  • the color cathode ray tube according to the present invention is incorporated in a color monitor set or a color television set, and when the temperature in the color monitor set or the color television set rises, or in a mask frame and a mask spring. Suitable for cathode ray tubes where a temperature difference occurs.

Landscapes

  • Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)

Description

明 細 書
カラー陰極線管
〔技術分野〕
本発明は、 カラ一モニタセットもしくはカラ一テレビセットに組み込 まれたカラ一陰極線管に係り、 特に、 カラ一モニタセットもしくはカラ —テレビセットを動作させた時のセット内温度の上昇又はシャドウマス クの温度の上昇によるシャドウマスク構体の移動に伴うビ一ムランディ ングエラ一の発生を低減させたカラ一陰極線管に関する。
〔背景技術〕
カラ一陰極線管は、 一般に、 映像スクリーンであるパネル部, 電子銃 を収容するネック部, およびパネル部とネック部を連結するファンネル 部とから構成され、 上記ファンネル部分には電子銃から発射された電子 ビームをパネル内面に塗布形成された蛍光面上を走査させる偏向装置が 装着される。
F I G . 1は陰極線管の概略構成図であって、 1はパネル、 2はファ ンネル、 3はネック部、 4は蛍光面 (画面) 、 5はシャドウマスク構体、 5 1はシャドウマスク構体を支持するためのパネルピン、 6は磁気シ一 ルド、 7は偏向ヨーク、 8はピユリティ調整マグネット、 9はセン夕一 ビ一ムス夕ティックコンパ'一ゼンス調整マグネット、 1 0はサイ ドビー ムスタティックコンパ'一ゼンス調整マグネット、 1 1は電子銃、 また B は電子ビームである。
R (赤) G (緑) B (青) 用電子ビームは、 電子銃から蛍光面に達す る途上においてファンネル部に設けた前記偏向装置により水平方向, 垂 直方向の偏向を受け、 パネル部の内側に配設されたシャドウマスクによ り各色に選別され、 各々の蛍光面に射突することで各色の蛍光面が発光 し、 蛍光面上に映像を形成するものである。
F I G . 2はシャドウマスク構体の模式図で、 シャドウマスク構体は、 色選別用の複数の電子ビーム通過孔を有するシャドウマスク 1 2と、 シ ャドウマスク 1 2を保持するサポートフレーム 1 3と、 サポートフレー ム 1 3をパネル内に保持するマスクスプリング 1 4とを備えている。
シャドウマスク構体 5はパネル形成されたパネルピン 5 1にマスクス プリング支持穴 1 4 1を接合し保持されている。
通常、 シャドウマスク 1 2にはアンバー材 (例えば、 熱膨張係数 6 . 9 x 1 0— 6/°C) 、 サポートフレーム 1 3には鋼材 (例えば、 熱膨張係 数 1 . 1 5 X 1 0 - 5/°C)、 マスクスプリング 1 4にはステンレス材(例 えば、 熱膨張係数 1 . 0 4 X 1 0— 5/°C) をそれそれ用いている。以下、 熱膨張係数とは線熱膨張係数を言う。
この場合、 フラットに近いシャドウマスク 1 2でも、 アンバー材それ 自信の持つ低熱膨張性によりシャドウマスクのドーミングを押さえてい る。 またフルラス夕表示におけるビームランディングの時間変化を低減 するためにマスクスプリング 1 4にはバイメタル作用のない単一材を採 用している場合がある。
陰極線管をカラ一モニタセットもしくはカラーテレビセット (以下、 セット) に組み込み動作させた場合、 ファンネル部及びネック部のある セット内の温度は、 セット内の回路部品から発生する熱エネルギに起因 して徐々に上昇し、 ある温度で平衡状態となる。 一方パネルの画面部は 露出しているためセット内の温度と比較して低くなつている。 セット内 の回路部品で発生した熱エネルギはセット内の温度を上昇させ、 次にフ アンネルの温度を上昇させる。 さらに、 輻射熱によりインナ一シールド の温度を上昇させ、 サポートフレーム、 マスクスプリングの温度も上昇 させる。
陰極線管を取り巻く温度は、 ファンネル部周辺よりパネル部周辺の方 が低く、 また、 パネル部もファンネル部と比較して温度が低い。
よって、 パネルに埋め込まれたパネルピンに接合しているマスクスブリ ングは、 サポートフレームと比べて温度上昇が低く、 そのためマスクス プリングとサポートフレームとが同じ熱膨張率のときは、 同じ量の熱膨 張をしない。
例えば、 シャドウマスク構体の短辺部又は長辺部にあるマスクスプリ ング支持点 1 4 1とその近傍のサポートフレーム上の点 1 3 1と、 該マ スクスプリング支持点 1 4 1に対向して配置してあるマスクスプリング 支持点 1 4 1とその近傍のサボ一トフレーム上の点 1 3 1とは 1直線上 にあり、 これらの相対的位置関係が同じならばシャドゥマスクに歪みは 生じない。
しかし実際は、 マスクスプリングとサポートフレームとが同じ量の熱 膨張をしないためシャドウマスク構体に歪みが生じる。 シャドウマスク 構体の歪みはビームランディングシフトを引き起こし色純度を劣化させ るという問題がある。
マスクスブリングの熱膨張係数とサポートフレームの熱膨張係数とを ほぼ同じにした場合、 即ちマスクスプリングの熱膨張量がサボ一トフレ —ムの熱膨張量に比較して小さい場合の 4ピン型シャドウマスク構体に おける、 マスクスプリング支持点 1 4 1近傍のサポートフレーム上の点 1 3 1の移動を F I G . 3に矢印で示した。
上記したようにマスクスプリング支持点 1 4 1近傍のサポートフレー ム上の点 1 3 1の移動は、 セット内の温度上昇によって生じるマスクス プリング 1 4とサポートフレーム 1 3との熱膨張量の差に起因する。
4ピン型シャドウマスク構体では、 点 1 3 1が矢印方向に移動するた めシャドウマスク全体としては回転方向の力がはたらく。
また、 F I G . 4はマスクスプリングの熱膨張量がサポートフレーム の熱膨張量と比較して小さい場合の、 3ピン型シャドウマスク構体のマ スクスプリング支持点 1 4 1近傍のサポートフレーム上の点 1 3 1の移 動を示す図であり、 点 1 3 1は矢印方向に移動する。 そのため 3ピン型 シャドウマスク構体では、 点 1 3 1が矢印方向に移動するためシャドウ マスク全体としては右上コーナ部に力が集中する。
F I G . 5は F I G . 4に示した 3ビン型のシャドウマスク構体を用 いた陰極線管をカラ一テレビセヅトに実装したときに起きる電子ビーム のビ一ムランディングシフト方向を示した。
一般に、 マスクスプリングとサポートフレームは、 電子ビームがシャ ドウマスクに射突した際に発生する熱エネルギに対しては考慮されてい るが、 上記したセット内の回路部品から発生する熱エネルギに対しては 考慮されていなかった。
特にカラ一モニタセットに用いられるカラ一ディスプレイ管では、 蛍 光面構造がドットタイブであり、 ストライブタイプの蛍光面構造に比べ て色純度の問題が厳しい。
また、 蛍光面のドットピッチを決定するシャドウマスクのホールピッ チが 0 . 3 1 mm以下の高精細カラ一ディスプレイ管では、 更に重要な 問題となる。
これに加えてカラ一ディスプレイ管では、 水平走査線数を多くする必 要が有り、 したがって偏向ヨークによる水平偏向周波数が高くなり偏向 ヨーク及びセット内の回路部品の発熱が大きい。 この発熱の問題は水平 走査線数が実質的に 1 0 0 0本を越えるような高精細表示において特に 顕著になる。
従って、 以上述べた問題点は高精細の力ラ一ディスプレイ管において 特に深刻な問題となる。
〔発明の開示〕
マスクスプリングの熱膨張係数をサポートフレームの熱膨張係数の 1 . 2乃至 2 . 0倍にしたシャドウマスク構体とすることで、 マスクスブリ ングの熱膨張量とサボ一トフレームの熱膨張量の差を抑えることが可能 となり、 マスクスブリングの熱膨張量とサポートフレームの熱膨張量の 差に起因したビームランディングシフトによる色純度の劣化を防止する ことができ、 セット内温度変化程度によらない安定な色純度を保つカラ 一陰極線管を提供することができる。
〔図面の簡単な説明〕
F I G . 1は陰極線管の断面図である。
F I G . 2はシャドウマスク構体の模式図である。
F I G . 3はマスクスブリングの熱膨張係数とサポートフレームの熱 膨張係数とがほぼ同じである従来の 4ピン型シャドウマスク構体におい て、 マスクスプリング支持点近傍のサポートフレーム上の点の移動を示 す図である。
F I G . 4はマスクスプリングの熱膨張係数とサポートフレームの熱 膨張係数とがほぼ同じである従来の 3ピン型シャドウマスク構体におレ て、 マスクスブリング支持点近傍のサポートフレーム上の点の移動を示 す図である。
F IG. 5はマスクスプリングの熱膨張係数とサポートフレームの熱 膨張係数とがほぼ同じである従来の 3ピン型のシャドウマスク構体を使 用した陰極線管のビームランディングシフト方向を示した図である。
F IG. 6は本発明の 1実施例と従来例の比較図である。
F I G. 7は 3ビン型シャドウマスク構体の本発明の 1実施例と従来 例の経過時間に対するビーム移動量の比較図である。
F IG. 8はマスクスプリングの熱膨張係数のサポートフレームの熱 膨張係数に対する熱膨張比率とビーム移動量との関係を示す図である。 〔発明を実施するための最良の形態〕
F IG. 6には本発明の 1実施例と従来例の比較がしてあり、 本発明 ではシャドウマスク 12にはアンバー材 (熱膨張係数 6. 9 x 10— 6 /°C) 、 サボ一トフレーム 13には鋼材 (熱膨張係数 1. 15x 10— 5 /°C) 、 マスクスプリング 14にはステンレス材 (熱膨張係数 1. 73 X 10— 5/°C) をそれぞれ用いている。
このような材料を用いて構成した本実施例のシャドウマスク 12を用 いることで、 セット内の温度の上昇に伴いサポートフレームの温度上昇 は大きく、 かつ、 マスクスプリングの温度上昇は少ない場合に、 それぞ れ熱膨張を引き起こしても、 マスクスプリング 14の熱膨張係数 (1. 73x 10— 5/°C) がサポートフレーム 13の熱膨張係数 ( 1. 15 X 10— 5/°C) の 1. 5倍となっているためマスクスプリング 14とサボ —トフレーム 13の熱膨張量差がわずかとなる。 カラー陰極線管のパネ ル内に保持するマスクスプリング 1 4の支持点 1 4 1近傍にあるサボ一 トフレーム 1 3上の点 1 3 1がセット内の温度上昇に起因して移動する 量をマスクスプリングの熱膨張によって相殺的に少なく抑えている。 サポートフレームの移動量を少なくすることにより、 サポートフレー ムに固着されているシャドウマスクの移動量も少なくでき、 ビームラン ディングシフトを少なくできる。
F I G . 7は 3ピン型スプリングを有するシャドウマスク構体に本発 明を適用し、 さらに、 このシャドウマスク構体を 3 6 c mカラ一デイス プレイ管に用い、 セットに組み込んだ状態で動作させた場合のビームラ ンディングの特性を示しており、 従来のビームランディングの特性と本 発明のビームランディングの特性とを比較した図である。同図において、 縦軸は電子ビーム移動量を mで表し、 横軸は経過時間を m i nで表し ている。 線 1 5は従来のカラ一ディスプレイ管でのパネル左下コーナ部 のビーム移動量で、 線 1 6は本発明のカラ一ディスプレイ管でのパネル 左下コーナ部のビーム移動量である。 また、 このディスプレイ管をセッ トに実装して動作させたときセット内の温度は 5 0 °Cで平衡となってい た。 なお、 セット内の温度はファンネル上方で測定した。
本発明を実施することで動作後 1 0 O m i n経過時でビームランディ ング変化量が 1 7 mから 5 mへと大幅に改善できる。 即ち、 パネル 表示画面内の周辺部においてビームランデイング変化量を改善できる。
以上の実施例では、 マスクスプリング 1 4はステンレス材として議論 してきたが、 実際のカラー陰極線管では、 所謂ドーミング対策のために、 マスクスプリング 1 4自体をバイメタルとする場合がある。 このバイメ 夕ルスプリングにおいては、 スプリングの等価熱膨張係数は 2つの金属 の熱膨張係数の平均をとればよい。
F I G . 8はマスクスプリングの熱膨張係数のサボ一トフレームの熱 膨張係数に対する熱膨張比率とビーム移動量と温度との関係を示す図で める。
環境温度は 4 0 °Cで高温、 0 °Cで低温とし、セット内外温度差を 2 5 °C 即ちパネル周辺部とファンネル周辺部の温度差を 2 5 °Cとした。 同図に おいて 1 7は環境温度が高温の下でパネル周辺部とファンネル周辺部の 外温度差が無い場合、 1 8は環境温度が低温の下でパネル周辺部とファ ンネル周辺部の温度差が無い場合、 1 9は環境温度が低温の下で且つパ ネル周辺部とファンネル周辺部の温度差が 2 5 °Cある場合、 2 0は環境 温度が高温の下で且つパネル周辺部とフアンネル周辺部の温度差が 2 5 °Cある場合の熱膨張比率とビーム移動量との関係である。 パネル中央 上部を測定点とし、 測定点から右側へずれたときをブラス (+ ) 、 左側 へずれたときをマイナス (一) とした。
熱膨張率比が 1 . 0の場合では、 環境温度が高温もしくは低温であつ てもブラウン管全体の環境温度が一様でありビーム移動量は 0 mであ る。 また、 環境温度が低温で且つパネル周辺部とファンネル周辺部に温 度差があるとき、 又は、 環境温度が高温で且つパネル周辺部とファンネ ル周辺部に温度差があるときはそれぞれビーム移動量が 2 5 mとなる。 熱膨張率比が 2 . 0の場合では、 環境温度が高温のときは一 1 0 m、 環境温度が低温のときは 1 0〃mのビーム移動がある。 また、 環境温度 が低温で且つパネル周辺部とファンネル周辺部に温度差があるときは 0 m、 環境温度が高温で且つパネル周辺部とファンネル周辺部に温度差 があるときは一 2 0 ^ mのビーム移動がある。 ビ一ムランディング移動量の許容範囲を視覚的観点から ±2 O^mと すると熱膨張率比は 1. 2から 2. 0となる。
さらに、 熱膨張率比が 1. 71のときにビームランディング移動量は ±7/zmとなり、 ビームランディング移動量が最小となる。
〔産業上の利用可能性〕
以上のように、 本発明にかかるカラ一陰極線管はカラ一モニタセット またはカラーテレビセットに組み込まれ、 カラーモニタセットまたは力 ラーテレビセット内の温度が上昇する場合、 または、 マスクフレームと マスクスブリングに温度差が生じる陰極線管に適している。

Claims

請求の範囲
1 . シャドウマスクと、 前記シャドウマスクを保持するサポートフレ
—ムと、 前記サボ一トフレームをパネル内に保持するためのマスクスプ リングとから成るシャドウマスク構体を具備するカラー陰極線管におい て、 前記マスクスプリングの熱膨張係数をサポートフレームの熱膨張係 数の 1 . 2乃至 2 . 0倍にしたシャドウマスク構体を有することを特徴 とするカラ一陰極線管。
2 . 前記シャドウマスクはアンバー材、 前記サポートフレームは鋼材、 前記マスクスプリングはステンレス材を用いたことを特徴とする特許請 求の範囲第 1項記載のカラ一陰極線管。
3 . 前記マスクスプリングはバイメタルであることを特徴とする特許 請求の範囲第 1項記載のカラー陰極線管。
4 . パネル内側にシャドウマスクと、 前記シャドウマスクを保持するサ ポートフレームと、 前記サポートフレームをパネル内に保持するための マスクスプリングとから成るシャドウマスク構体を具備するカラー陰極 線管において、 パネル内面に形成された蛍光面の蛍光体構造はドット構 造であり、 前記シャドウマスクに形成されたホールピッチが 0 . 3 1 m m以下であり、 前記マスクスプリングの熱膨張係数をサポートフレーム の熱膨張係数の 1 . 2乃至 2 . 0倍にしたシャドウマスク構体を有する ことを特徴とするカラ一陰極線管。
5 . 前記シャドウマスクはアンバー材、 前記サポートフレームは鋼材、 前記マスクスプリングはステンレス材を用いたことを特徴とする特許請 求の範囲第 4項記載の力ラ一陰極線管。
6 . 前記マスクスプリングはバイメタルであることを特徴とする特許 請求の範囲第 4項記載の力ラ一陰極線管。
7 . パネル部、 ファンネル部、 ネック部を有するカラ一陰極線管と、 前 記ファンネル部に設けた偏向ヨークとを有するカラ一モニタセット又は カラーテレビセヅトにおいて、 前記カラ一陰極線管は前記パネル内側に シャドウマスクと前記シャドウマスクを保持するサポートフレームと、 前記サボ一トフレームをパネル内に保持するためのマスクスプリングと から成るシャドウマスク構体を具備し、 前記マスクスプリングの熱膨張 係数はサポートフレームの熱膨張係数の 1 . 2乃至 2 . 0倍で有り、 セ ット使用時の水平走査線数は実質的に 1 0 0 0本以上であることを特徴 とするカラーモニタセット又はカラ一テレビセット。
8 . パネル部、 ファンネル部、 ネック部を有するカラー陰極線管と、 前 記ファンネル部に設けた偏向ヨークとを有するカラ一モニタセットにお いて、 前記カラ一陰極線管は前記パネル内側にシャドウマスクと前記シ ャドウマスクを保持するサポートフレームと、 前記サポートフレームを パネル内に保持するためのマスクスプリングとから成るシャドウマスク 構体を具備し、 パネル内面に形成された蛍光面の蛍光体構造はドット構 造であり、 前記シャドウマスクに形成されたホールピッチは 0 . 3 1 m m以下であり、 前記マスクスプリングの熱膨張係数はサポートフレーム の熱膨張係数の 1 . 2乃至 2 . 0倍で有り、 モニタセット使用時の水平 走査線数は実質的に 1 0 0 0本以上であることを特徴とするカラ一モニ 夕セッ卜。
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