Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kyiv Polytechnical InstitutefiledCriticalKyiv Polytechnical Institute
Priority to UAU201405886UpriorityCriticalpatent/UA97170U/uk
Publication of UA97170UpublicationCriticalpatent/UA97170U/uk
Установка для лазерної обробки, переважно поверхонь тертя містить два лазери з різними довжинами хвиль випромінювання, фокусуючу систему, дзеркало з покриттям для пропускання випромінювання одного лазера і повного відображення випромінювання другого лазера. Забезпечена додатковою фокусуючою системою, яка розміщена на оптичній осі другого лазера, причому оптична вісь останнього розташована під прямим кутом до оптичної осі першого лазера, а дзеркало встановлено на перетині цих осей під кутом до них, рівним 45°.
UAU201405886U2014-05-302014-05-30Установка для лазерної обробки деталей
UA97170U
(uk)