TWM638212U - 濺射靶 - Google Patents

Abstract

提供一種濺射靶，包括：管狀襯管、圓柱形的靶段以及黏結材料，其中，兩個圓柱形的靶段的至少兩個端部形成榫舌－凹槽配合，或濺射靶還包括止動構件以及周向的密封構件。

Description

濺射靶

本新型涉及一種濺射靶。

濺射是一種物理氣相沉積技術，指固體靶中的原子被高能量離子（通常來自電漿）撞擊而離開固體進入氣體的物理過程。濺射一般是在充有惰性氣體的真空系統中，透過高壓電場的作用，使得氬氣電離，產生氬離子流，轟擊靶陰極，被濺出的靶材料原子或分子沉澱積累在半導體晶片或玻璃、陶瓷上而形成薄膜。濺射的優點是能在較低的溫度下製備高熔點材料的薄膜，在製備合金和化合物薄膜的過程中保持原組成不變，所以在半導體器件和積體電路製造中已獲得廣泛的應用。

濺射靶材是一種透過濺射法生成薄膜的材料，由金屬及陶瓷加工製造而成。近年來，對電子元件提出了進一步低功耗和高速化的需求，為了實現這些需求，就需要各種高品質的濺射靶材。

一般來說，濺射靶材主要由靶胚、背板等部分構成，其中，靶胚是高速離子束流轟擊的目標材料，屬於濺射靶材的核心部分，在濺射鍍膜過程中，靶胚被離子撞擊後，其表面原子被濺射飛散出來並沉積於基板上製成電子薄膜；由於高純度金屬强度較低，而濺射靶材需要安裝在專用的機臺內完成濺射過程，機臺內部為高電壓、高真空環境，因此，超高純金屬的濺射靶胚需要與背板透過不同的焊接技術進行接合，背板起到主要起到固定濺射靶材的作用，且需要具備良好的導電、導熱性能。

在現有技術中，有一種管狀靶材，具有管狀靶體和兩個連接件，管狀靶體具有凹口，連接件具有凸緣，凸緣與凹口接合，連接件具有凹陷部，凹陷部內有焊料將管狀靶體與連接件連接，但是採用這種靶材的話，隨著溫度的上升，焊料容易從靶材接縫處或最下端洩漏。

在現有技術中，還有一種靶材組件，靶材組件具有多個靶材單元和多個連結部，多個靶材單元中的每一個都具有筒狀的靶材和筒狀的基體，筒狀的基體接合在筒狀的靶材的內側。連結部位於多個靶材單元的內側，而多個靶材單元中的每一個相互之間有間隙，但是採用這種靶材組件的話，隨著溫度的上升，焊料同樣容易從靶材接縫處或最下端洩漏。

在現有技術中，還有一種靶安裝機構，靶安裝機構安裝圓筒形的靶，靶具備圓筒形的支持管和覆蓋支持管的靶材，並且具有連結區域，靶與夾具相連，但是採用這種靶材的話，隨著溫度的上升，焊料同樣容易從靶材接縫處或最下端洩漏。

在現有技術中，還有一種互鎖圓柱形磁控管陰極和靶材，磁控管組件具有第一單元，第一單元允許靶材從陰極體移除，但是採用這種靶材的話，隨著溫度的上升，焊料同樣容易從靶材接縫處或最下端洩漏。

在現有技術中，還有一種管形靶，管形靶由支承管和濺射材料管構成，支承管透過螺紋連接與濺射材料管相連，O形密封環位於支承管與濺射材料管之間，但是採用這種管形靶的話，隨著溫度的上升，焊料同樣容易從靶材接縫處或最下端洩漏。

由此可見，能否基於現有技術中的不足，提供一種改進的濺射靶，防止焊料從靶材接縫處或最下端洩漏，顯著提高裝配精度和裝配穩定性，實現品質穩定、良品率高、節約成本，成為所屬技術領域中具有通常知識者亟待解決的技術難題。

本新型的目的是在於克服現有技術的缺陷，提供一種濺射靶。根據本新型所提供的濺射靶，實現了品質穩定、良品率高、節約成本。

本新型的一些實施方式涉及一種濺射靶，其包括： 管狀襯管，其軸線定義為軸向，徑向所在的平面與該軸向垂直； 至少兩個圓柱形的靶段，沿該軸向並排設置在該管狀襯管上；以及 黏結材料，設置在該管狀襯管和所述至少兩個圓柱形的靶段之間， 其中，彼此面對的所述至少兩個圓柱形的靶段的至少兩個端部利用以下方式彼此形成榫舌－凹槽配合，當沿該徑向和／或該軸向方向觀察時，使得一個端部的至少一個榫舌與相鄰的圓柱形的靶段的相應的另一個端部的至少一個凹槽重疊，所述重疊至少圍繞相應的端部的圓周的一部分延伸。

在一些實施方式中，彼此面對的至少兩個圓柱形的靶段的至少兩個端部利用以下方式彼此形成榫舌－凹槽配合，當沿該徑向和／或該軸向方向觀察時，使得一個端部的一個榫舌與相鄰的圓柱形的靶段的相應的另一個端部的一個凹槽重疊。

在一些實施方式中，彼此面對的至少兩個圓柱形的靶段的至少兩個端部利用以下方式彼此形成榫舌－凹槽配合，當沿該徑向方向觀察時，使得具有多於一個榫舌和／或凹槽的一個端部與具有多於一個凹槽和／或榫舌的另一個端部重疊，從而每個榫舌與相應的面對的凹槽、或每個凹槽與相應的面對的榫舌重疊。

在一些實施方式中，當沿徑向方向觀察時，一個端部的至少一個榫舌和相應地另一個端部的至少一個凹槽設置在兩個相鄰的圓柱形的靶段的相應端部的徑向平面中從外壁起算的最大厚度的75%的內部範圍內。

在一些實施方式中，當沿徑向平面觀察時，所述重疊沿兩個相鄰的圓柱形的靶段的整個圓周上延伸，從而提供榫舌－凹槽配合。

在一些實施方式中，榫舌為具有矩形橫截面和兩個平行側壁的凸脊，凹槽為具有矩形橫截面和兩個平行側壁的槽部。

在一些實施方式中，當沿徑向和／或軸向方向觀察時，沿兩個相鄰的圓柱形的靶段的圓周上逐段地建立榫舌－凹槽配合。

在一些實施方式中，在榫舌和凹槽中的一者上設有突起，在榫舌和凹槽中的另一者上設有對應的槽部，從而透過兩個相鄰的圓柱形的靶段之間的相對轉動，使突起與槽部嚙合。

在一些實施方式中，濺射靶包括周向的密封構件，該密封構件沿兩個相鄰的圓柱形的靶段之間的間隙周向延伸。

在一些實施方式中，所述周向的密封構件設置在形成在兩個相鄰的圓柱形的靶段中的槽部中。

本新型的一些實施方式涉及一種濺射靶，其包括： 管狀襯管，其軸線定義為軸向，徑向所在的平面與該軸向垂直； 至少一個圓柱形的靶段，其設置在該管狀襯管上，該管狀襯管沿該軸向延伸通過該至少一個圓柱形的靶段的總長度的至少90%； 黏結材料，其設置在該管狀襯管和該至少一個圓柱形的靶段之間； 止動構件，用於與該止動構件相鄰的圓柱形的靶段，該止動構件在該管狀襯管的軸向端部區域與該管狀襯管一體成型且沿該管狀襯管的徑向突出，並至少圍繞該管狀襯管的圓周的一部分延伸， 周向的密封構件，插入該止動構件和與該止動構件相鄰的圓柱形的靶段之間，以防止黏結材料的洩漏。

在一些實施方式中，所述止動構件圍繞管狀襯管的圓周連續延伸。

在一些實施方式中，所述止動構件為突出的臺階部。

在一些實施方式中，所述突出的臺階部為具有兩個平行側壁的突出的脊。

在一些實施方式中，所述密封構件是由彈性材料製成的O形圈且被壓縮在靶段和止動構件之間。

在一些實施方式中，所述密封構件為具有沿徑向突出的唇緣並壓靠在止動構件和／或靶段上以提供密封功能的周向的密封構件。

在一些實施方式中，止動構件是管狀襯管的整體零件。

在一些實施方式中，止動構件和相鄰的圓柱形的靶段形成榫舌－凹槽配合。

在一些實施方式中，濺射靶包括沿該軸向並排設置在該管狀襯管上的至少兩個圓柱形的靶段，其中，彼此面對的該至少兩個圓柱形的靶段的至少兩個端部利用以下方式彼此形成榫舌－凹槽配合：當沿該徑向和／或該軸向方向觀察時，使得一個端部的至少一個榫舌與相鄰的圓柱形的靶段的相應的另一個端部的至少一個凹槽重疊，所述重疊至少圍繞相應的端部的圓周的一部分延伸。

在一些實施方式中，靶段由金屬材料製成。

在一些實施方式中，靶段由基於鉬、鎢、鉭或其組合的材料製成。

在一些實施方式中，黏結材料為焊料。

在一些實施方式中，焊料為銦焊料或銦合金焊料。

在本新型的一些實施方式中，濺射靶防止焊料從靶材接縫處或最下端洩漏，顯著提高裝配精度和裝配穩定性，實現了品質穩定、良品率高、節約成本。

下面將結合圖式對本新型的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例是本新型一部分實施例，而不是全部的實施例。基於本新型中的實施例，本新型所屬技術領域中具有通常知識者在沒有做出進步性工作前提下所獲得的所有其他實施例，都屬於本新型保護的範圍。

在本新型的描述中，需要說明的是，術語「中心」、「上」、「下」、「頂」、「底」、「內」、「外」等指示的方位或位置關係為基於圖式所示的方位或位置關係，僅是為了便於描述本新型和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構造和操作，因此不能理解為對本新型的限制。

在本新型的描述中，需要說明的是，除非另有明確的規定和限定，術語「安裝」、「相連」、「連接」應做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或一體地連接。對於本新型所屬技術領域中具有通常知識者而言，可以具體情況理解上述術語在本新型中的具體含義。

此外，下面所描述的本新型不同實施方式中所涉及的技術特徵只要彼此之間未構成衝突就可以相互結合。

圖1為本新型的第一實施方式的濺射靶的示意圖。如圖1所示，濺射靶包括管狀襯管1和圓柱形的靶段2、3，靶段的數量不限於兩個，也可以是三個或更多個。將管狀襯管1的軸線定義為軸向（在圖1中為上下方向），管狀襯管1的徑向（在圖1中為左右方向）所在的面與軸向垂直。圓柱形的靶段2、3設置在管狀襯管1上，管狀襯管1沿軸向延伸通過靶段2、3的整個總長度（即總長度的100%）。在一些實施方式中，靶段2、3由金屬材料製成，例如是由基於鉬、鎢或其組合的材料製成。在管狀襯管1和靶段2、3之間設置有黏結材料。在一些實施方式中，黏結材料為焊料，例如是銦焊料或銦合金焊料。在靶段3的下側（圖1中的區域A）設有止動構件。

圖2為圖1中區域B的局部放大圖。如圖2所示，彼此面對的靶段2、3的兩個端部以如下方式彼此形成榫舌－凹槽配合，當沿徑向和／或軸向方向觀察時，使得靶段2的端部的一個榫舌6與靶段3的相應的另一個端部的一個凹槽7重疊，上述重疊圍繞相應的端部的圓周的一部分延伸。榫舌6和凹槽7的數量並不限於一個，也可以有多個榫舌6和凹槽7，例如是在沿兩個相鄰的靶段的圓周上逐段地建立榫舌－凹槽配合（特別是在與下述卡口機構結合的情況下）。在一些實施方式中，上述重疊圍繞相應的端部的整個圓周延伸。在一些實施方式中，榫舌6為具有矩形橫截面和兩個平行側壁的凸脊，凹槽7為具有矩形橫截面和兩個平行側壁的槽部，但並不限於此，榫舌6和凹槽7也可以是其他合適的結構，例如具有錐形橫截面和相應錐形凹槽的舌頭。在一些實施方式中，在榫舌6上設有突起，在凹槽7上設有對應的槽部，或者在榫舌6上設有槽部，在凹槽7上設有對應的突起，從而透過靶段2、3之間的相對轉動，使突起與槽部嚙合，即與卡口結構結合，但並不限於此，榫舌6和凹槽7上也可以設有凹槽、槽、或臺階。

在一些實施方式中，榫舌6和凹槽7設置在靶段2、3的每個相應端部的徑向平面中最大厚度的75%的內部範圍內，但並不限於此，也可以設置在其他適當的位置。

圖3為圖1中區域A的局部放大圖。如圖3所示，止動構件4在管狀襯管1的軸向端部區域與管狀襯管1一體成型且沿管狀襯管1徑向突出，並至少圍繞管狀襯管1的圓周的一部分延伸，即止動構件4為管狀襯管1的整體零件，止動構件4和相鄰的靶段3形成榫舌－凹槽配合。「一體成型」應包括用相同的材料一步成型。在止動構件4和靶段3之間插入防止黏結材料的洩漏的周向的密封構件5。在一些實施方式中，止動構件4圍繞管狀襯管1的圓周連續延伸。在一些實施方式中，密封構件5是由彈性材料製成的O形圈且被壓縮在靶段3和止動構件4之間，但是並不限於此，也可以是其他適用的結構。

在一些實施方式中，止動構件4為突出的臺階部，但是並不限於此，也可以是其他適用的結構。突出的臺階部可以為具有兩個平行側壁的突出壁的突出的脊，其包括具有兩個平行側壁的基本矩形橫截面，但是並不限於此，也可以是其他適用的結構，例如也可以是具有錐形橫截面和相應錐形凹槽的臺階部。

在一些實施方式中，密封構件5為具有沿徑向突出的唇緣並壓靠在止動構件4和／或靶段3上以提供密封功能的周向的密封構件，但是並不限於此，也可以是其他適用的結構。即所述密封構件沿兩個相鄰靶段之間的間隙沿周向延伸，例如為唇緣、T型輪廓、箔片、具有彈簧功能的環形金屬件等。

在一些實施方式中，止動構件4包括例如在軸向方向上延伸的凹槽或榫舌，但是並不限於此，也可以是其他適用的結構。

現有的濺射靶在多段靶材拼接處一般都為平面接縫，也沒有在背管表面設有固定靶材凸臺。與現有的切割方式相比，本新型一些實施方式中的濺射靶在彼此面對的靶段的兩個端部彼此形成榫舌－凹槽配合，或一些實施方式中的濺射靶包括一體成型的止動構件、還包括密封構件，可以顯著提高裝配精度和裝配穩定性，而且在靶材應用過程中，隨著溫度的上升，還能防止焊料從靶材最下端洩漏。

以下，將對本新型合適的實施例做說明，不過本新型的實施形式不限於此。

〈實施例 1 〉

實施例1中的濺射靶包括：管狀襯管1、由鉬製成的圓柱形的靶段2、3、止動構件4、密封構件5，靶段2、3設置在管狀襯管1上，管狀襯管1沿軸向延伸通過靶段2、3的整個總長度。在管狀襯管1和靶段2、3之間設置有銦焊料，彼此面對的靶段2、3的兩個端部利用以下方式彼此形成榫舌－凹槽配合，當沿徑向和軸向方向觀察時，使得靶段2的端部的一個榫舌6與靶段3的相應的另一個端部的一個凹槽7重疊，上述重疊圍繞相應的端部的圓周的一部分延伸，榫舌6為具有矩形橫截面和兩個平行側壁的凸脊，凹槽7為具有矩形橫截面和兩個平行側壁的槽部，在榫舌6上設有突起，在凹槽7上設有對應的槽部，從而透過靶段2、3之間的相對轉動，使突起與槽部嚙合。在靶段3設有止動構件4。止動構件4使用與管狀襯管1相同的材料在管狀襯管1的軸向端部區域與管狀襯管1一體成型且沿管狀襯管1徑向突出，並圍繞管狀襯管1的圓周連續延伸。止動構件4為突出的臺階部，具有兩個平行側壁的突出的脊，其包括具有兩個平行側壁的基本矩形橫截面。應用了本新型的濺射靶之後，防止焊料從靶材最下端洩露，顯著提高裝配精度和裝配穩定性，大大提高了生產效率。

〈實施例 2 〉

實施例2中的濺射靶包括：管狀襯管1、由鎢製成的圓柱形的靶段2、3、止動構件4、密封構件5，靶段2、3設置在管狀襯管1上，管狀襯管1沿軸向延伸通過靶段2、3的整個總長度，在靶段2、3之間還可以設有多個靶段，彼此面對的靶段的兩個端部利用以下方式彼此形成榫舌－凹槽配合，當沿徑向方向觀察時，使得一個靶段的端部的兩個榫舌與另一個靶段的相應的另一個端部的兩個凹槽重疊，上述重疊圍繞相應的端部的整個圓周延伸。在管狀襯管1和靶段2、3之間設置有銦合金焊料。在靶段3設有止動構件4。止動構件4使用焊接的方式向外突設在管狀襯管1的軸向端部區域且沿管狀襯管1徑向突出，並圍繞管狀襯管1的圓周連續延伸。密封構件5為具有沿徑向突出的唇緣並壓靠在止動構件4和靶段3上以提供密封功能的周向構件。應用了本新型的濺射靶之後，防止焊料從靶材最下端洩露，顯著提高裝配精度和裝配穩定性，大大提高了生產效率。

〈實施例 3 〉

實施例3中的濺射靶包括：管狀襯管1、由鉭製成的圓柱形的靶段2、3、止動構件4、密封構件5，靶段2、3設置在管狀襯管1上，管狀襯管1沿軸向延伸通過靶段2、3的整個總長度，在靶段2、3之間還可以設有多個靶段，彼此面對的靶段的兩個端部利用以下方式彼此形成榫舌－凹槽配合，當沿徑向軸向方向觀察時，使得一個靶段的端部的三個榫舌與另一個靶段的相應的另一個端部的三個凹槽重疊，上述重疊圍繞相應的端部的整個圓周延伸。在管狀襯管1和靶段2、3之間設置有銦合金焊料。在靶段3設有止動構件4。止動構件4使用膠水連接的方式向外突設在管狀襯管1的軸向端部區域且沿管狀襯管1徑向突出，並圍繞管狀襯管1的圓周連續延伸。密封構件5為具有彈簧功能的環形金屬件。應用了本新型的濺射靶之後，防止焊料從靶材最下端洩露，顯著提高裝配精度和裝配穩定性，大大提高了生產效率。

〈實施例 4 〉

實施例4中的濺射靶包括：管狀襯管1、由鉬製成的圓柱形的靶段2、3、止動構件4、密封構件5，靶段2、3設置在管狀襯管1上，管狀襯管1沿軸向延伸通過靶段2、3的整個總長度。在管狀襯管1和靶段2、3之間設置有銦焊料。在靶段3設有止動構件4。止動構件4使用與管狀襯管1相同的材料在管狀襯管1的軸向端部區域與管狀襯管1一體成型且沿管狀襯管1徑向突出，並圍繞管狀襯管1的圓周連續延伸。止動構件4為突出的臺階部，具有兩個平行側壁的突出的脊，其包括具有兩個平行側壁的基本矩形橫截面。應用了本新型的濺射靶之後，防止焊料從靶材最下端洩漏，顯著提高裝配精度和裝配穩定性，大大提高了生產效率。

〈實施例 5 〉

實施例5中的濺射靶包括：管狀襯管1、由鎢製成的圓柱形的靶段2、3、止動構件4、密封構件5，靶段2、3設置在管狀襯管1上，管狀襯管1沿軸向延伸通過靶段2、3的整個總長度，在靶段2、3之間還可以設有多個靶段。在管狀襯管1和靶段2、3之間設置有銦合金焊料。在靶段3設有止動構件4。止動構件4使用焊接的方式向外突設在管狀襯管1的軸向端部區域且沿管狀襯管1徑向突出，並圍繞管狀襯管1的圓周連續延伸。密封構件5具有沿徑向突出的唇緣並壓靠在止動構件4和靶段3上以提供密封功能。應用了本新型的濺射靶之後，防止焊料從靶材最下端洩漏，顯著提高裝配精度和裝配穩定性，大大提高了生產效率。

〈實施例 6 〉

實施例6中的濺射靶包括：管狀襯管1、由鉭製成的圓柱形的靶段2、3、止動構件4、密封構件5，靶段2、3設置在管狀襯管1上，管狀襯管1沿軸向延伸通過靶段2、3的整個總長度，在靶段2、3之間還可以設有多個靶段。在管狀襯管1和靶段2、3之間設置有銦合金焊料。在靶段3設有止動構件4。止動構件4使用膠水連接的方式向外突設在管狀襯管1的軸向端部區域且沿管狀襯管1徑向突出，並圍繞管狀襯管1的圓周連續延伸。密封構件5為具有彈簧功能的環形金屬件。應用了本新型的濺射靶之後，防止焊料從靶材最下端洩漏，顯著提高裝配精度和裝配穩定性，大大提高了生產效率。

本新型的濺射靶有效解決在靶材應用過程中，隨著溫度的上升，焊料容易從靶材接縫處或最下端洩漏的問題，實現品質穩定、良品率高、節約成本。

以上所述僅為本新型的具體實施方式，但本新型的保護範圍並不侷限於此，任何本新型所屬技術領域中具有通常知識者在本新型揭露的技術範圍內，易於思及的變化或替換，都應涵蓋在本新型的保護範圍之內。因此，本新型的保護範圍應以所述請求項的保護範圍為準。

1:管狀襯管 2:靶段 3:靶段 4:止動構件 5:密封構件 6:榫舌 7:凹槽 A:區域 B:區域

圖1為本新型的濺射靶的示意圖。 圖2為圖1中的濺射靶中的區域B的局部放大圖。 圖3為圖1中的濺射靶中的區域A的局部放大圖。

1:管狀襯管

2:靶段

3:靶段

A:區域

B:區域

Claims (23)

1. 一種濺射靶，其包括： 管狀襯管，其軸線定義為軸向，徑向所在的平面與該軸向垂直； 至少兩個圓柱形的靶段，沿該軸向並排設置在該管狀襯管上；以及 黏結材料，設置在該管狀襯管和所述至少兩個圓柱形的靶段之間， 其中，彼此面對的所述至少兩個圓柱形的靶段的至少兩個端部利用以下方式彼此形成榫舌－凹槽配合：當沿該徑向和／或該軸向方向觀察時，使得一個端部的至少一個榫舌與相鄰的圓柱形的靶段的相應的另一個端部的至少一個凹槽重疊，所述重疊至少圍繞相應的端部的圓周的一部分延伸。
2. 如請求項1所述之濺射靶，其中， 彼此面對的所述至少兩個圓柱形的靶段的至少兩個端部利用以下方式彼此形成所述榫舌－凹槽配合：當沿該徑向和／或該軸向方向觀察時，使得一個端部的一個榫舌與相鄰的圓柱形的靶段的相應的另一個端部的一個凹槽重疊。
3. 如請求項1所述之濺射靶，其中， 彼此面對的所述至少兩個圓柱形的靶段的至少兩個端部利用以下方式彼此形成所述榫舌－凹槽配合：當沿該徑向方向觀察時，使得具有多於一個榫舌的一個端部與具有多於一個凹槽的另一個端部重疊，從而每個榫舌與相應的面對的凹槽；或者， 當沿該徑向方向觀察時，使得具有榫舌和凹槽的一個端部與具有凹槽和榫舌的另一個端部重疊，從而每個凹槽與相應的面對的榫舌重疊。
4. 如請求項1所述之濺射靶，其中， 當沿該徑向方向觀察時，一個端部的至少一個榫舌和相應地另一個端部的至少一個凹槽設置在兩個相鄰的圓柱形的靶段的相應端部的徑向平面中從外壁起算的最大厚度的75%的內部範圍內。
5. 如請求項1所述之濺射靶，其中， 當沿該徑向平面觀察時，所述重疊係沿兩個相鄰的圓柱形的靶段的整個圓周上延伸。
6. 如請求項1所述之濺射靶，其中， 該榫舌為具有矩形橫截面和兩個平行側壁的凸脊，該凹槽為具有矩形橫截面和兩個平行側壁的槽部。
7. 如請求項1所述之濺射靶，其中， 當沿該徑向和／或該軸向方向觀察時，沿兩個相鄰的圓柱形的靶段的圓周上逐段地建立榫舌－凹槽配合。
8. 如請求項1所述之濺射靶，其中， 在該榫舌和該凹槽中的一者上設有突起，在該榫舌和該凹槽中的另一者上設有對應的槽部，從而該突起和該槽部係可透過兩個相鄰的圓柱形的靶段之間的相對轉動而嚙合。
9. 如請求項1所述之濺射靶，還包括周向的密封構件，該密封構件沿兩個相鄰的圓柱形的靶段之間的間隙周向延伸。
10. 如請求項9所述之濺射靶，其中，該周向的密封構件設置在形成在兩個相鄰的圓柱形的靶段中的槽部中。
11. 一種濺射靶，其包括： 管狀襯管，其軸線定義為軸向，徑向所在的平面與該軸向垂直； 至少一個圓柱形的靶段，其設置在該管狀襯管上，該管狀襯管沿該軸向延伸通過該至少一個圓柱形的靶段的總長度的至少90%； 黏結材料，其設置在該管狀襯管和該至少一個圓柱形的靶段之間； 止動構件，用於與該止動構件相鄰的圓柱形的靶段，該止動構件在該管狀襯管的軸向端部區域與該管狀襯管一體成型且沿該管狀襯管的徑向突出，並至少圍繞該管狀襯管的圓周的一部分延伸；以及 周向的密封構件，插入該止動構件和與該止動構件相鄰的圓柱形的靶段之間，以防止該黏結材料的洩漏。
12. 根據請求項11所述之濺射靶，其中，該止動構件圍繞該管狀襯管的圓周連續延伸。
13. 根據請求項11所述之濺射靶，其中，該止動構件為突出的臺階部。
14. 根據請求項13所述之濺射靶，其中，該突出的臺階部為具有兩個平行側壁的突出的脊。
15. 根據請求項11所述之濺射靶，其中，該密封構件是由彈性材料製成的O形圈且被壓縮在該止動構件與該止動構件相鄰的圓柱形的靶段之間。
16. 根據請求項11所述之濺射靶，其中，該密封構件為具有沿徑向突出的唇緣並壓靠在該止動構件與該止動構件相鄰的圓柱形的靶段上以提供密封功能的周向的密封構件。
17. 根據請求項11所述之濺射靶，其中，該止動構件是該管狀襯管的整體零件。
18. 根據請求項11所述之濺射靶，其中，該止動構件和該相鄰的圓柱形的靶段形成榫舌－凹槽配合。
19. 一種濺射靶，其包括： 管狀襯管，其軸線定義為軸向，徑向所在的平面與該軸向垂直； 至少兩個圓柱形的靶段，沿該軸向並排設置在該管狀襯管上，該至少兩個圓柱形的靶段包括至少一個圓柱形的靶段，該管狀襯管沿該軸向延伸通過該至少一個圓柱形的靶段的總長度的至少90%； 黏結材料，設置在該管狀襯管和該至少兩個圓柱形的靶段之間； 止動構件，用於與該止動構件相鄰的圓柱形的靶段，該止動構件在該管狀襯管的軸向端部區域與該管狀襯管一體成型且沿該管狀襯管的徑向突出，並至少圍繞該管狀襯管的圓周的一部分延伸；以及 周向的密封構件，插入該止動構件和與該止動構件相鄰的圓柱形的靶段之間，以防止該黏結材料的洩漏； 其中，彼此面對的所述至少兩個圓柱形的靶段的至少兩個端部利用以下方式彼此形成榫舌－凹槽配合：當沿該徑向和／或該軸向方向觀察時，使得一個端部的至少一個榫舌與相鄰的圓柱形的靶段的相應的另一個端部的至少一個凹槽重疊，所述重疊至少圍繞相應的端部的圓周的一部分延伸。
20. 根據請求項1、11或19所述之濺射靶，其中，該圓柱形的靶段由金屬材料製成。
21. 根據請求項20所述之濺射靶，其中，該靶段由鉬、鎢、鉭或其組合的材料製成。
22. 根據請求項1、11或19所述之濺射靶，其中，該黏結材料為焊料。
23. 根據請求項22所述之濺射靶，其中，該焊料為銦焊料或銦合金焊料。

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