TWM586276U - 柴可拉斯基生長裝置轉換配件 - Google Patents

Abstract

本創作是關於一種生長裝置轉換配件以及用於改進並轉換柴可拉斯基生長裝置的方法，特別是將批量柴可拉斯基生長裝置轉換成連續柴可拉斯基生長裝置。尤其，分離閥設置在上料斗與下料斗之間，以便在上料斗正在被重新填充時維持下料斗內的狀態。

Description

柴可拉斯基生長裝置轉換配件

本創作係關於一種用於將柴可拉斯基法生長裝置轉換成連續的柴可拉斯基法生長裝置的裝置轉換配件。

以單晶矽錠製備用於製造集成電路和光伏太陽能電池的材料的的最有效和經濟的方法之一是柴可拉斯基(Czochrakski，CZ)方法。在典型的CZ製程中，將矽裝料置於坩堝中並通常在約1416℃的溫度熔化至液態。然後，降低具有預定結晶取向的小的結晶矽晶種以與熔體表面接觸而被逐漸取出。在適當溫度的控制下，液態矽以相同於晶種的結晶取向而凝結於晶種上。然後將晶種從熔體中緩慢取出，以形成具有整體為圓柱形狀，且最終長度為1米或以上，直徑為數百毫米的生長矽晶錠。

一般而言，已知兩種類型的CZ技術，通常稱為柴可拉斯基批量法和連續柴可拉斯基法。在批量CZ中，用於生長矽晶錠(silicon ingot)所需的裝料材料量係在製程的開始時熔化於加熱的坩堝中，然後拉出一錠以實質上將坩堝耗盡，然後可以捨棄坩堝，或者可以再填充坩堝並重複該過程以生長另外的矽晶錠，這有時稱之為半批量製程。此外，當錠停止生 長或是添加原料於坩堝以使生長再開始時可以使用批量再裝料(batch recharge)製程。在兩種批量情況下，在錠生長期間不會添加原料材料。並且，錠的數量和它們的長度通常會受到坩堝尺寸的限制。相比之下，在連續柴可拉斯基(CCZ)法生長過程中，在生長過程期間連續或周期性地補充裝料，結果將導致可以一次從在生長期間補充的單一坩堝拉出多個錠。此外，由於坩堝在生長期間得到補充，因此可以一次拉出更長和更高質量的錠。坩堝僅會在數個錠循環後被捨棄然後用新坩堝取代。一次生長出多個長度較長之錠提供了經濟和程序上的優點，但所需要的生長裝置和設備與可用於批量CZ法生長的生長裝置和設備類型顯著不同。

本創作是關於一種生長裝置轉換配件，用以將柴可拉斯基生長裝置，特別是批量柴可拉斯基生長裝置，轉換成連續柴可拉斯基生長裝置。包含有給料器配件的該生長裝置轉換配件包含：給料器，可連接至該生長室並配置成供給固態原料至該生長室中；下料斗，連接至該給料器並配置成供給固態原料給該給料器中；至少一上料斗，以可移除的方式接附在該下料斗上面並配置成供給固態原料至該下料斗中；以及給料分離閥，位於該上料斗與該下料斗之間，該給料分離閥組構成當該上料斗正在被再補充時維持該下料斗的狀態。此外，關閉閥也可位於該上料斗與該下料斗之間。在某些實施例中，生長裝置轉換配件進一步包含給料口，其組構成位於該批量柴可拉斯基生長裝置的該生長室的側壁並用以耦合至該給料器配件。在某些實施例中，生長裝置轉換配件進一步包含給料噴口，其組構 成固定位在該批量柴可拉斯基生長裝置的該生長室內，用以將來自該給料器配件的該固態原料導引至該生長室的坩鍋中。該給料噴口可具有傾斜下端部，用以接收來自該給料器的該固態原料並將該固態原料供給至該坩鍋中。

本創作更關於一種方法，其中提供一種具有生長室的批量柴可拉斯基生長裝置，包含：室殼，具有頂壁與至少一側壁；坩鍋，含有位於該室殼內的熔化物；以及提拉機構，以可縮回的方式支撐晶種以接觸該熔化物。該方法進一步包含提供一種包括給料器配件的生長裝置轉換配件，該給料器配件包含：給料器，可連接至該生長室並配置成供給固態原料至該生長室中；下料斗，連接至該給料器並配置成供給固態原料至該給料器中；至少一上料斗，以可移除的方式接附在該下料斗上面並配置成供給固態原料至該下料斗中；以及給料分離閥，位於該上料斗與該下料斗之間，該給料分離閥組構成當該上料斗正在被再填充時維持該下料斗的狀態。該方法進一步包含將該生長裝置轉換配件的該給料器配件耦合至該生長室的該側壁。在某些實施例中，生長裝置轉換配件進一步包含給料口，其耦合該給料器配件包含將該給料口置於該批量柴可拉斯基生長裝置的該生長室的側壁並將該給料器配件的該給料器耦合至該給料口。在某些實施例中，該生長裝置轉換配件進一步包含給料噴口，而該方法進一步包含將該給料噴口配置於該批量柴可拉斯基生長裝置的該生長室內。在某些實施例中，該生長裝置轉換配件進一步包含給料噴口，而該方法包含將該給料噴口固定配置於該批量柴可拉斯基生長裝置的該生長室內，用以將來自該給料器配件的該固態原料導引至該生長室的坩鍋中。該給料噴口可具有傾斜下端 部，用以接收來自該給料器的該固態原料，並將該固態原料供給至該坩鍋中。以此方式，該方法提供將柴可拉斯基生長裝置，特別是批量柴可拉斯基生長裝置，轉換成連續柴可拉斯基生長裝置。

應瞭解到，上面的創作內容與下面的實施方式僅作為例示說明，並用以提供本創作的進一步說明，如申請專利範圍中所提出者。

100‧‧‧生長裝置轉換配件

110‧‧‧給料器配件

120‧‧‧上料斗

122‧‧‧蓋

124‧‧‧耦接器

130‧‧‧下料斗

140‧‧‧給料器

142‧‧‧給料盤

144‧‧‧風箱

145‧‧‧軌道

148‧‧‧腔室分離閥

150‧‧‧給料分離閥

152‧‧‧給料關閉閥

156‧‧‧基座

160‧‧‧給料口

170‧‧‧給料噴口

172‧‧‧下端部

190‧‧‧室殼

199‧‧‧坩堝

300‧‧‧程序

305、310、315、320、325‧‧‧步驟

通過結合附圖參考以下描述可以更好地理解本文的具體實施例，附圖中相同的附圖標記表示相同或功能相似的配件，其中：第1圖是本創作的生長裝置轉換配件的實施例之示意圖。

第2圖是本創作的生長裝置轉換配件的實施例之分解圖。

第3圖示出了根據本創作實施例用於將批量柴可拉斯基法生長裝置轉換為連續性柴可拉斯基法生長裝置的示例方法。

應當理解，上述附圖不一定按比例繪製，並且在某些情況下，可以呈現說明本揭示內容的基本原理的各種優選特徵的略微簡化表示。本揭示內容的特定設計特徵，包括例如特定尺寸，方向，位置和形狀，將部分地由特定的應用和使用環境來決定。

如上所述，批量CZ法生長裝置在結構上和操作上與CCZ法生長裝置非常不同。因此，在某些情況下，在批量生長裝置中實現連續 生長製程需要對裝置進行相當高成本的修改。例如，將傳統的批量柴可拉斯基法生長裝置修改成包含一機制以供額外的裝料材料熔化於連續性或半連續性而不會不利地影響晶錠的生長是必要的。這也可能還需要提供進入生長室內部的通道，例如經由添加通常在大多數批量CZ設備中不存在的端口。對於在晶錠的生長階段期間，相對低溫的原料進入生長裝置系統之機械性及熱能的變化也需要列入相當程度修改的考慮內。此外，為了減少同時在晶粒生長時補充原料這個動作所產生的不利因素，更佳的是，用典型的CCZ生長裝置，其具有供添加之材料傳遞的外部或環形熔融區以及使矽晶錠拉出之獨立內部生長區域的坩堝，以取代傳統批量CZ中使用的石英坩堝。不然，所生長晶錠的長度和/或數量可能會受限於坩堝尺寸。其他主要的結構和程序上的修改也可能是必要的。因此，藉由CCZ生長裝置以生長矽晶錠之實施通常必須購買特定設計給此目的的生長裝置以導致相當大的成本及額外物理上操作需求之空間。目前，沒有可行的解決方案可用於有效且有效率地將現有的批量CZ生長裝置轉換成CCZ生長裝置。

本創作係關於用於改造批量柴可拉斯基法生長裝置以將該生長裝置轉換為連續柴可拉斯基法生長裝置的轉換配件和方法。儘管該配件和方法對於從批量柴可拉斯基裝置轉換為連續裝置最特別有用，但是本文所述的技術一樣也可用於升級各種類型的連續柴可拉斯基生長裝置。因此，待改造的柴可拉斯基法生長裝置可以是本領域的任何已知裝置，並且可根據所需之具有各種不同類型構造和部件的生長裝置以生產晶錠，特別是矽晶錠。更佳的是，其生長裝置是批量柴可拉斯基法生長裝置，並配置 成在逐步(step-wise)製程中生產矽晶錠，在該製程中，晶錠生長會被中斷以便補充額外原料給坩鍋用於準備額外的晶錠。

通常，待改造的柴可拉斯基法生長裝置包括生長室，在該生長室中可以製備諸如矽晶錠的晶錠。特別地，生長室包括具有頂壁和一個或多個側壁的室殼，該等側壁形成可加熱空間，在可加熱空間中提供包含有原料之坩堝。例如，坩堝可以包含含矽的預裝料，其隨後在成長室內的坩堝中熔化。坩堝可以由一個或多個墊座從下面支撑並且如果需要還可以旋轉，其坩堝可以是本領域已知的任何用於晶體生長的坩堝，其能夠包含固態和液態材料，特別是固態矽和液態矽。例如，坩堝可以是石英坩堝，或者可以是含有石英內襯墊的石墨坩堝。坩堝還可具有依據晶體生長系統之幾何形狀所形成的任何橫截面形狀，但其通常具有圓形橫截面形狀。

在一些實施例中，坩堝包括至少兩個區域，每個區域由壁或其他分隔方式分開並具有至少一開口(像是凹口、孔或管)，以提供區域之間受限的流體連通。例如，坩堝可包括將其分成兩個區域的壁，該兩個區域為本文中稱為內部生長區域的內部區域，和本文中稱為外部給料區域的外部區域。這些區域彼此流體連通。內部區域是晶錠的生長開始和晶錠生長(例如，拉出)的地方，而外部區域在晶錠生長時將額外的材料給料到內部區域。因此，當藉由結晶製程從內部生長區域移除材料時，新的材料可以從外部給料區域進入。更佳的是，內部生長區域和/或外部給料區域包含待熔化之包含矽的固態預裝料，並且還可包含至少一種摻雜材料，包括例如磷，硼，鎵，銦，鋁，砷或銻。

待改造和轉換的柴可拉斯基生長裝置還包括至少一個系統，從該系統可以開始結晶錠之生長。例如，該裝置可以進一步包括提拉機構，該提拉機構包括可縮回綫纜，在該可縮回綫纜上支撐像是矽晶體的小晶種。利用這種機構，具有預定結晶方向的晶種可以降低與坩堝中所含熔融材料(例如原料)的接觸，然後逐漸取出。在適當的溫度控制下，具有相同結晶方向的液態材料會凝結於晶種上，從而開始晶錠的生長。然後將晶種從熔體中緩慢取出以形成具有所需最終長度和直徑的生長晶錠，還可以使用一個或多個支撑提拉機構的測力傳感器，以搭配反應於測力傳感器的控制方式，用於激活從固態原料輸送系統向生長裝置供應原料。

如上所述，通常將原料之預裝料提供給生長室中的坩堝並熔化，然後從熔體開始生長。在一些實施例中，待改造的柴可拉斯基法生長裝置(例如，批量CZ法生長裝置)可進一步包括在沒有生長發生時，輸送原料到坩堝中以提供預裝料的系統。在生長之前或生長期間或生長完成之後，可以使用能夠提供諸如矽的原料(包括冶金級矽或太陽能級矽)的任何預裝料輸送系統，其還可以包括至少一種摻雜材料，例如磷，硼，鎵，銦，鋁，砷，或銻。例如，作為預裝料的固態原料可以透過給料管從料斗經由重力給料提供，其中給料管可以從料斗傳遞原料至生長室的坩堝中。室殼的給料口，例如頂壁中的給料口，可以提供給料器通過其傳送預裝料的通道。給料口可以提供密封，以至於當預裝料被補充於坩堝時能維持生長室內的狀態。

待改造的柴可拉斯基法生長裝置還可包括位於坩堝上方的隔熱罩。隔熱罩組構成用於保護生長的晶錠不被過度加熱成為熔融裝料於坩堝中，因此其具有能夠承受生長裝置內的高溫和狀態的低熱傳導性材料。各種在本領域中已知類型的隔熱罩皆可用於生長裝置中，其尺寸和形狀將取決於生長裝置的幾何形狀。例如，對於具有圓形橫截面形狀的坩堝，並且用於形成具有大致上為圓形橫截面形狀的矽晶錠，該隔熱罩較佳為也具有圓形橫截面形狀並且通常為幾何圓柱形或圓錐形，特別地，隔熱罩可以具有倒圓錐形狀，在隔熱罩頂部的橫截面積大於在底部的橫截面積，並且在底部具有大到足夠讓生長中的晶錠通過之直徑。

根據本創作的實施例，提供生長裝置轉換配件，以將批量柴可拉斯基法生長裝置轉換為連續的柴可拉斯基法生長裝置。生長裝置轉換配件包括用於當矽晶錠生長時提供固態原料的給料器配件，並且還可包括附加配件，其將更詳細地描述如下。給料器配件組構成連接或以其他方式耦接到批量柴可拉斯基法生長裝置的生長室，以使得生長晶錠時，其生長裝置能連續供給原料。更佳的是，給料器配件組構成連接到生長裝置的室殼之側壁，如此的配置使得在生長期間添加原料對晶錠生長過程或晶錠生長之特性有最小的影響。

特別地，本創作的生長裝置轉換配件的給料器配件包括給料器、下料斗和至少一個上料斗。在一些實施例中，給料器配件可連接到在給料器處之批量柴可拉斯基裝置的生長室，其組構成將固態原料輸送到生長室中，將更詳細描述如下。下料斗連接到給料器並定位成將固態原料供 給到給料器中，更佳的是從上方給料(即重力給料)，也可以使用其他將固態原料供給到下料斗中之方法，例如來自遠端的上料斗的輸送機或給料系統。此外，上料斗連接到下料斗並定位成將固態原料供給到下料斗中，其亦以從上方重力給料為更佳。如此，包含在上料斗中的固態原料可以給料到下料斗中，然後固態原料可以之後進入通過給料器以輸送到柴可拉斯基法生長裝置的生長室中。

上料斗和下料斗是用於容納固態原料的容器，並且可以具有本領域已知的任何形狀或構造。更佳的是，料斗具有圓柱形上部區段和漏斗形錐形下部區段及具有固態原料可以通過的開口(例如，噴口)。還可以包括蓋子或蓋子，以防止灰塵或其他污染物進入固態原料。此外，上料斗和下料斗可以相同或不同，並且它們的容量可以根據例如成本、可利用空間以及待製備之晶錠的尺寸和數量而變化。在一些實施例中，上料斗可以小於下料斗。如此，高容量之下料斗足夠生長所需的晶錠，而低容量的上料斗將可易於移除，如下所述。而且，下料斗必須能夠承受諸如真空和/或加熱之類的狀態，以提供適當狀態之固態原料以進入給料器中，然後再進入批量柴可拉斯基法生長裝置的生長室。

此外，在本創作的實施例中，例如將固態原料從給料器供給到生長室期間，上料斗能夠從下料斗移除。特別地，生長裝置轉換配件的給料器配件可包括上料斗，該上料斗可組構成與下料斗分離，以便遠離其所在位置輸送或移動以將原料提供給下料斗。例如，上料斗可以與下料斗物理性地分離，並且被遷移或以其他方式輸送到可以再填充或用於料斗配 件的維護/修理的位置。或者或另外，在一些實施例中，根據相對尺寸(即，在大型料斗上再填充多個給料器)，上料斗可以被橫向操縱(例如，沿著軌道移動)或者樞轉(例如，圍繞樞轉軸綫旋轉)以遠離下料斗至某個位置，其位置使得固態原料不再將固態原料輸送至下料斗，或其位置再填充原料於不同之下料斗。在這第二位置，上料斗的再填充或其他實施可能會發生。如果給料器配件包括多個上料斗，上料斗可能發生拆除，而隨後或同時用不同的上料斗(例如，通過轉盤或其他裝置)取代。

為了在已連接的上料斗被移除時保持下部料斗中的狀態，給料器配件還包括在已連接的上料斗和下料斗之間的給料分離閥，如此，如果上料斗被拆除，則可以關閉和/或密封給料分離閥，從而保持在下料斗內提供的狀態。當被拆除的上料斗被重新連接或被更換時，可以重新打開閥門，以重新建立給料器配件中包括在兩個料斗中的狀態，。因此，在上料斗和下料斗被連接之後，供給固態原料至給料器及生長室內之狀態會被建立於給料器配件內，藉由第一次關閉給料分離閥移除上料斗，以隔離上料斗並維持下料斗及給料器的狀態。如此，當分離的上料斗被補充或維修時，固態原料可以繼續供給至生長室內而不被中斷，且當重新連接時，可建立上料斗之狀態而不會對狀態產生相當大的影響。

另外，在上料斗和下料斗之間可以包括給料關閉閥(有時也稱為卸料閥或排料閥)，以提供可以控制和調整固態原料之流動。例如，在給料分離閥打開的情況下，可以打開給料關閉閥以改變固態原料進入下料斗的流速。如果上料斗被移除，供給會藉由關閉給料關閉閥而先停止給料， 然後給料分離閥可關閉以維持下料斗中的狀態。給料關閉閥還可以防止固態原料干擾分離閥的操作。

如上所述，生長裝置轉換配件的給料器配件包括用於將固態原料輸送到生長室中的給料器，更具體地，給料到批量柴可拉斯基生長裝置的坩堝中，該坩堝將被轉換成連續的柴可拉斯基生長裝置。例如，給料器可以是槽化系統，受控量的固態矽原料會通過該系統被提供至坩堝。給料器可包括至少一個懸垂在坩堝上的輸送點。當坩堝包括內部生長區域和外部給料區域時，為了使晶錠從熔融矽生長或被拉出的干擾最小化，給料器更佳地向坩堝的外部給料區域提供材料。

更詳細地，生長裝置轉換配件的給料器將固態原料輸送到生長室中，並且可以使用各種不同類型的給料器。例如，給料器可以包括給料盤，該給料盤既可插入生長室中，也可從生長室移回到給料器配件中。在一個實施例中，給料器盤可以為可移動的，以便在給料器本身靜止時插入生長室。在其他實施例中，給料盤相對於給料器是靜止的，而給料器(並且因此相應的給料器配件)可沿給料器軌道可移動地定位。如此，給料器配件和給料器可以適當地定位以耦接到批量柴可拉斯基生長裝置的生長室，並提供固態原料進入生長室。

給料盤可以由本領域已知的能夠承受高溫晶體生長爐中的溫度和條件的任何材料形成，包括例如高模量、無污染的材料，例如碳化矽。更佳的是，給料盤包括接收區段，其中從下料斗沿著注入器區段連接接收區段以接收原料，其注入器區段例如通過如下描述的給料口和/或分離閥。下料斗的噴口可位於接收區段的側壁內。在一些實施例中，注入器 區段的橫截面小於接收區段的橫截面。此外，注入器區段可以具有凹入橫截面形狀的下端部，包括例如具有其側壁與竪直方向相對呈V形之下端部。凹底的斜率可以根據例如給料到生長室中原料的量而變化。例如，注入器區段的壁可具有介於約30°和約60°之間的斜率。此外，給料盤的接收區段可以由振動器支撐而協助輸送原料。例如，振動器可以支撐在容器的料斗上，並且料斗可以藉由至少一個測力傳感器(load cell)提供在給料室中，該測力傳感器能夠測量當前的材料量。因此，給料盤可以是振動給料器，具有沿著給料盤的振動引起的固態原料運動，或者，給料盤可以是旋轉給料管，其配置成沿著旋轉軸移動固態原料。

當給料器配件和給料器可相對於生長室沿著給料器軌道移動時，給料器還可包括一個或多個風箱，以在給料器移動時提供膨脹和收縮。如此，通過風箱的移位，給料器可以縮回或移向生長室，而不會使給料器與生長室斷開。另外，對於振動給料盤，風箱還可以提供阻尼特性以防止振動能量傳遞到生長室，這可能導致生長的晶錠中的缺陷。此外，如果需要，也可以使用屏蔽系統，安插在給料盤和風箱之間，以保護風箱免受任何潜在的鬆散固態原料的影響。

在一些實施例中，本創作的生長裝置轉換配件還包括腔室分離閥，該腔室分離閥組構成在卸下給料器配件時維持生長室內的狀態。以這種方式，存在於閥門一側的製程狀態(例如，晶錠生長條件)可以與另一側的不同製程條件(例如，原料維持狀態)分離。如本領域技術人員將理解的，可以使用各種不同類型的閥，例如滑閥、閘閥、薄餅閥(pancake valve)等。例如，腔室分離閥可以連接到生長室中的給料口，或者可以連接到給 料器配件的給料器，以下將更詳細討論。在較佳實施例中，給料器配件包括腔室分離閥，其連接到給料器，從而分離給料器配件內存在的條件。對於該實施例，給料器配件可以在腔室分離閥處真空密封至生長室，從而給料器可插入生長室中，並且還可以通過腔室分離閥從生長室移回到給料器配件中。其中腔室分離閥可以是本領域已知的任何閥，但較佳的是具有可膨脹水冷式閘門的閘閥，例如在美國專利申請公開No.2011/0006235,2011/0006236和2011/0006240中所完整描述之。在一些實施例中使用分離閥可能是有利的，有些閥的使用是視需要的，然而在本創作的另一個實施例中，生長系統不包括任何分離閥。

在一些實施例中，生長裝置轉換配件還包括給料口，該給料口組構成配置在生長室的室殼中，並且當矽晶錠生長時，通過該給料口輸送諸如矽的原料。雖然給料口可以設置在沿著腔室殼體的任何位置，包括在側壁或頂壁中的至少一個中，取決於例如批量柴可拉斯基生長裝置的構造，較佳地，給料口設置在生長室的室殼之側壁上，以便於輸送原料。此外，更佳的是，給料口位於生長室的側壁中的高度，使得原料被輸送到坩堝中而不會對形成在其中的熔體產生顯著影響。例如，較佳地，給料口定位成使得原料從給料器配件的給料器進入生長室，其高度基本上類似於坩堝的高度。另外，亦較佳的是，給料口定位成使得原料基本上水平地進入坩堝。例如，給料口傾向處於這樣的高度，使得端口的中心形成整個輸送路徑，其具有在0°(即水平)和約45°之間的角度，較佳地在約0°和約30°之間，甚至更優在約0°和約20°之間。因此，略微傾斜使得原料傾向緩慢且一致地進入坩堝而不會黏結或堵塞，但不會以足以引起飛濺或回彈的高速 進入坩堝。另外，給料路徑的高度和/或角度可在這些參數內調節，包括在原料輸送的過程。通過定位給料口使得原料以低的高度和入口角從生長室的側面輸送，可以使用本創作的生長裝置轉換配件，從批量柴可拉斯基生長裝置轉換成連續的柴可拉斯基生長過程來生產具有改善的總體性能的錠。

在一些實施例中，生長裝置轉換配件還包括固定在批量柴可拉斯基生長裝置的生長室內的適當位置的給料口。給料口組構成從給料器配件的給料器接收固態給料並將給料引導到生長室中的坩堝中。例如，給料口可以具有傾斜的下端部和位於坩堝上方的噴口，使得從給料器配件提供的原料可以進入給料口並且添加到坩堝中而沒有相當大的飛濺。給料口下端部的斜度可以根據例如坩堝上方的給料口的高度和所需的原料添加速率而變化。例如，傾斜下端部可以以約30°和約60°之間的角度傾斜。對於具有內部區和外部區的坩堝，較佳地，給料口的噴口設置在外部給料區域上方。給料口容器可包括本領域已知可承受高溫晶體生長爐中的溫度和條件的任何材料，包括例如高模量，無污染的材料，例如碳化矽。

本創作的生長裝置轉換配件的特定實施例和配件示於第1-3圖中並討論如下。然而，對於本領域技術人員來說，顯然這些舉例僅僅是說明性的而非具有限制性的。許多修改和其他實施例在本領域普通技術人員的了解範圍內，係涵括於本創作的範圍內。另外，本領域技術人員應該理解，特定構造是示例性的，其實際構造將取決於特定之系統。藉由使用不超過常規的實驗，本領域技術人員還能夠識別和認出所示特定配件的等同物。

第1圖是根據本創作的具體例的生長裝置轉換配件100的側視圖。如圖所示，配件包括給料器配件110、給料口160和給料噴口170。第2圖是沒有給料口的生長裝置轉換配件100的分解透視圖。如圖所示，給料器配件110包括位於下料斗130上方並可拆卸地連接到下料斗130的上料斗120，如圖所示，下料斗130定位在給料器140上方並連接到給料器140。這樣，固態給料從上料斗重力給料到下料斗和給料器。在此特定實施例中，上料斗120具有比下料斗130小的容量，並且兩者都具有整體圓柱形狀，具有大致錐形的漏斗形噴口。上料斗120在頂部包括蓋122，並且還包括耦接器124，耦接器124能夠接附到下料斗以及從下料斗拆卸。給料分離閥150位於上料斗120和下料斗130之間，當打開時，允許兩個料斗和給料器處於相似的給料條件(溫度，真空等)下，並且當關閉時，使下料斗與給料器從上料斗分離，並允許上料斗在不改變給料條件的情況下被移除。另外，給料關閉閥152也配置在這些料斗之間，允許根據需要中斷或調節從上料斗120到下料斗130的固態給料之流動。

在第1圖和第2圖所示的特定具體例中，給料器配件110的給料器140可連接到批量柴可拉斯基生長裝置的室殼190，以進行改造並轉換成連續的柴可拉斯基生長裝置。特別地，給料器配件還包括軌道145，給料器140定位在軌道145上，使得給料器配件可以沿著軌道移動到鄰近腔室殼體的位置。給料器配件110可以任選地擱置在基座156上以便支撑並將進給器配件配置在目標柴可拉斯基生長裝置的適當高度。基座的高度可以是固定的或可調節的。

給料器140包括給料盤142，其從下料斗130接收固態給料並將給料輸送到批量柴可拉斯基生長裝置的生長室中。在一些實施例中，如第1圖和第2圖所示的具體例中，當給料盤可移動至將固態原料輸送到生長室中的位置時，給料盤相對於給料配件是固定的，並且給料配件可沿著軌道145移動到位。給料器140還包括風箱144，當給料器配件沿軌道145移動時，風箱144會膨脹和收縮，而在給料盤透過振動給料操作時，風箱144還提供振動阻尼。

如第1圖所示，生長裝置轉換配件100還包括給料口160，給料口160位於室殼190的側壁中，其高度基本上與在生長室內的坩堝頂部水平同高。如第1圖和第2圖所示，給料器140還包括腔室分離閥148，該腔室分離閥148可連接到給料口160，並且當關閉時，在給料器配件被拆卸時保持生長室中的狀態。當給料器140沿著軌道145移動時，通過風箱144的膨脹和收縮，以允許給料器配件110相對於連接的腔室分離閥148移動。這樣，給料盤142通過給料口160插入生長室。須注意的是，在一些實施例中，給料口可以是生長裝置轉換配件的選擇性配件。例如，如果要被改造和轉換的柴可拉斯基生長裝置已經包括位於生長室側壁中的口，則可以不需要給料口160。

又如第1圖和第2圖所示，生長裝置轉換配件100還包括給料噴口170，其固定地配置在柴可拉斯基生長裝置的生長室內以突出在坩堝199上。如圖所示，給料噴口170被定位在一定高度，以提供來自給料器140的實質上水平的流動路徑。來自給料器的固態原料通過給料口160然後流過給料噴口170，以被引導到柴可拉斯基生長裝置的坩堝中。給料 噴口170包括傾斜的下端部172，用於從給料器接收固態原料，並且固態原料可以向下流入坩堝199。

如上所述，本創作還關於轉換柴可拉斯基生長裝置的方法，特別是將批量CZ生長裝置轉換成連續柴可拉斯基生長裝置的方法。第3圖示出了該方法的示例簡化過程。例如，程序300可以在步驟305開始並繼續到步驟310，其中，如上所詳細描述的，提供具有生長室的批量柴可拉斯基生長裝置。而批量柴可拉斯基生長裝置可以在特定構造和配件變化，在一些實施例中，生長室包括具有頂壁和至少一個側壁的室殼，包含位於室殼內的熔體的坩堝，以及用於可縮回地支撑晶種以接觸熔體的提拉機構。

在步驟315，該方法還包括提供包括給料器配件的生長裝置轉換配件，如上所詳細描述的。上述任何配件都可以用在本創作之方法中。在一些實施例中，生長裝置轉換配件包括：給料器配件；給料口，配置在腔室殼體的側壁中(在一些實施例中可以是視需要的)；以及給料噴口，固定地配置在生長室內，用以將固態原料流引入坩堝。給料器配件包括給料器，該給料器可連接到生長室並配置成將固態給料給料到生長室中。給料器配件還包括下料斗，該下料斗連接到給料器並配置成將固態原料給料到給料器，並且至少一個上料斗以可拆卸的方式連接在下料斗上方並配置成將固態原料給料到下料斗中。此外，給料器配件還包括位於上料斗和下料斗之間的給料分離閥，其組構成在上料斗被填充時保持下料斗中的狀態。

在步驟320，該方法還包括將生長裝置轉換配件的給料器配件耦合到生長室的側壁，如上所詳細描述者。在生長裝置轉換配件包括給 料口的實施例中，耦合給料器配件包括將給料口配置在批量柴可拉斯基生長裝置的生長室的側壁中，並將給料器配件的給料器耦合到給料口。耦合還可以包括將給料器配件沿著軌道移動到與批量柴可拉斯基生長裝置的室殼相鄰的位置。可以根據需要通過膨脹和/或收縮來調節給料器的風箱，以將給料器配件耦接到生長室。視需要的底座也可用於調節給料器配件的高度以便於耦合。然後，程序300在步驟325結束。

應當注意的是，雖然如上所述，程序300內的某些步驟可以是視需要的，但是第3圖中所示的步驟僅僅是用於說明的示例，並且可以根據需要包括或排除某些其他步驟。此外，雖然示出了特定順序的步驟，但是這種排序僅僅是說明性的，並且可以在不脫離本申請實施例範圍的情況下作任何合適的步驟安排。

在將批量柴可拉斯基生長裝置轉換成連續柴可拉斯基生長裝置的方法中，生長裝置轉換配件的使用提供了顯著的優點。例如，批量製程的使用者可以在不購買全新的生長裝置的情況下，期望以連續製程的方式生長矽晶錠。可以在不對現有生長室及其配件進行顯著改變的情況下對現有批量裝置進行改造。此外，一旦耦合到生長室，本創作的生長裝置轉換配件允許矽晶錠的不間斷加工處理。特別地，由於給料器配件包括由分離閥分開的兩個固態原料料斗，所以固態矽可以通過給料器從上料斗給料到下料斗並進入生長裝置的坩堝中。在生長矽晶錠時，上料斗於清空時可以藉由關閉給料分離閥來移除，從而允許在上料斗重新填充時繼續生長相同或額外的晶錠。一旦填充完，上料斗可以重新連接，給料分離閥可以被打開，並且可以繼續從上料斗給料至下料斗。此動作可以重複多次，皆 不會中斷矽晶錠的生長過程。實質上，可以生長幾乎無限長度的晶錠，因為在生長期間通過重新填充可移除且可分離的上料斗來連續補充原料。這在批量柴可拉斯基製程中是不可能的，其晶錠長度受限於坩堝尺寸，並且通常也不能在標準連續的柴可拉斯基製程中實現，其晶錠長度會受到填充坩堝的料斗尺寸的限制。鑒於本公開的益處，本領域普通技術人員將會了解到其他優點。

前面對本創作較佳實施例的描述已被提出用於說明及描述。其並非旨在窮舉或將本創作限制於所公開的精確態樣。根據上述教示或本創作之實施，修改及變化是可能的。實施例的選擇和描述是為了解釋本創作的原理及其實際應用，以使本領域技術人員能夠在各種實施例中利用本創作，並且各種修改為適合所考慮到之特定用途之態樣。本創作的範圍旨在由所附申請專利範圍及其等同物限定。

Claims (21)

1. 一種生長裝置轉換配件，用以將具有生長室的批量柴可拉斯基生長裝置轉換成連續柴可拉斯基生長裝置，含有給料器配件的該生長裝置轉換配件包含：給料器，可連接至該生長室並置放成供給固態原料至該生長室中；下料斗，連接至該給料器並置放成供給固態原料至該給料器中；至少一上料斗，以可移除的方式接附在該下料斗上面並置放成供給固態原料至該下料斗中；以及給料分離閥，位於該上料斗與該下料斗之間，該給料分離閥組構成當該上料斗正在被再填充時維持該下料斗中的狀態。
2. 如申請專利範圍第1項所述的生長裝置轉換配件，其中，該給料器包含給料盤以及注入器區段，該給料盤具有從該下料斗接收該固態原料的接收區段，該注入器區段連接至該接收區段並可插入至該生長室中。
3. 如申請專利範圍第2項所述的生長裝置轉換配件，其中，該給料盤是振動式給料盤。
4. 如申請專利範圍第2項所述的生長裝置轉換配件，其中，該給料盤是滾筒式給料盤。
5. 如申請專利範圍第2項所述的生長裝置轉換配件，其中，該給料盤是可移動而被插入至該生長室中。
6. 如申請專利範圍第1項所述的生長裝置轉換配件，其中，該給料器配件係沿給料器軌道而可移動的。
7. 如申請專利範圍第6項所述的生長裝置轉換配件，其中，該給料器包含風箱，該風箱組構成在該給料器沿著該給料器軌道移動時膨脹或收縮。
8. 如申請專利範圍第1項所述的生長裝置轉換配件，其中，該給料器配件包含給料關閉閥，該給料關閉閥位於該上料斗與該下料斗之間。
9. 如申請專利範圍第1項所述的生長裝置轉換配件，其中，該給料器配件包含腔室分離閥，該腔室分離閥組構成當該給料器配件卸除時維持該生長室內的狀態。
10. 如申請專利範圍第9項所述的生長裝置轉換配件，其中，該腔室分離閥為具有可膨脹水冷式閘門的閘閥。
11. 如申請專利範圍第9項所述的生長裝置轉換配件，其中，該腔室分離閥連接至該給料器配件的該給料器。
12. 如申請專利範圍第9項所述的生長裝置轉換配件，其中，該給料器包含風箱，該風箱組構成在該給料器沿著該給料器軌道移動時膨脹或收縮，以及其中，該腔室分離閥連接至該給料器的該風箱。
13. 如申請專利範圍第1項所述的生長裝置轉換配件，進一步包含給料口，該給料口組構成位於該批量柴可拉斯基生長裝置的該生長室的側壁並用以耦合至該給料器配件。
14. 如申請專利範圍第13項所述的生長裝置轉換配件，其中，該給料器配件包含腔室分離閥，該腔室分離閥可連接至該給料口，並組構成當該給料器配件卸除時維持該生長室內的狀態。
15. 如申請專利範圍第14項所述的生長裝置轉換配件，其中，該給料器包含風箱，該風箱組構成在該給料器沿著該給料器軌道移動時膨脹或收縮，以及其中，該腔室分離閥接附至該給料器的該風箱。
16. 如申請專利範圍第13項所述的生長裝置轉換配件，其中，該給料器包含給料盤以及注入器區段，該給料盤具有用於從該下料斗接收該固態原料的接收區段，該注入器區段連接至該接收區段並經由該給料口而可插入至該生長室中。
17. 如申請專利範圍第1項所述的生長裝置轉換配件，進一步包含給料噴口，該給料噴口組構成固定位在該批量柴可拉斯基生長裝置的該生長室內，用以將來自該給料器配件的該固態原料導引至該生長室的坩鍋中。
18. 如申請專利範圍第17項所述的生長裝置轉換配件，其中，該給料噴口具有傾斜下端部，用以接收來自該給料器的該固態原料並將該固態原料供給至該坩鍋中。
19. 如申請專利範圍第17項所述的生長裝置轉換配件，其中，該坩鍋包含分隔出內部生長區域以及外部給料區域的至少一壁件，該壁件具有在該內部生長區域與該外部給料區域之間提供受限的流體連通的至少一開口，以及其中，該給料噴口將該固態原料的給料導引到該坩鍋的該外部給料區域。
20. 如申請專利範圍第1項所述的生長裝置轉換配件，其中，該批量柴可拉斯基生長裝置包含：室殼，具有頂壁與至少一側壁；坩鍋，含有位於該室殼內的熔化物；以及提拉機構，以可縮回的方式支撐晶種以接觸該熔化物。
21. 如申請專利範圍第1項所述的生長裝置轉換配件，其中，該批量柴可拉斯基生長裝置進一步包含位於該生長室外部的固態原料傳送系統，以及其中，該給料器配件為該固態原料傳送系統的替代品。