TWM561229U - 曝光機的光源系統 - Google Patents

Abstract

本創作係揭露一種曝光機的光源系統，用於提供光源至照射面，包含基座、光源陣列裝置、光源調整裝置及反光罩；該基座係供可拆地安裝至曝光機上；該光源陣列裝置設置於該基座上，該光源陣列裝置包括以行列排列而成的複數排LED燈組；該光源調整裝置係與該光源陣列裝置連接，用以調整該等LED燈組相對於該基座的位置；該反光罩設置於該基座下方，用以反射該等LED燈組發出的光線，本創作揭露之光源系統係具有模組化之特點，而可快速、方便地替代習知曝光機光源，並達到提高習知曝光機光照度均勻性的效果。

Description

曝光機的光源系統

本創作係關於一種曝光機的光源系統，其係作為提供曝光製程所需之光源(例如紫外光)，而為曝光機上的一種模組組件；或亦可作為傳統曝光機的替代光源模組。

請參照圖1，其係為習知曝光機的曝光光源之結構示意圖。

習知曝光機的曝光光源係包含一燈箱101及裝設於該燈箱中的一UV燈管102。於習知技術中，該UV燈管102係採用金屬鹵素曝光燈管，以對曝光機之照射面提供紫外光。

然而，習知曝光機的曝光光源係存在下列缺失：首先，該UV燈管102所採用的金屬鹵素曝光燈管，其平均壽命僅有1000-1200小時，相對壽命較短，因而需要頻繁的更換，致使提高工廠採購成本。其次，採用金屬鹵素曝光燈管之該UV燈管102的光電轉換效率不佳，耗電量大，不僅提高了使用成本還存在耗能的缺點。再者，採用金屬鹵素曝光燈管之該UV燈管102於使用時，產生的熱能易快速累積而導致周遭升溫，且底片漲縮值大，隨著環境溫度越高，底片受的影響就越大，進而在製程上產生誤差度，因而不利於曝光之精度。更甚者，金屬鹵素曝光燈管衰減快，因此使用一段時間之後，該UV燈管102對曝光機之照射面提供之照度與均勻度就不足了，故需要經常性地檢修維護及汰換該UV燈管102，致使生產效率的降低。另一方面，金屬鹵素曝光燈管無論製造過程與廢棄皆存在有汙染的問題，而具有不環保的缺點。

本創作之一目的在於提供一種模組化而可快速替代習知曝光機光源的光源系統。

本創作之另一目的在於提供一種可調整光源出光角度而優化曝光機照射面上的光照度均勻性的光源系統。

本創作之再一目的在於解決習知曝光機光源採用金屬鹵素曝光燈管而產生壽命短、光電轉換效率不佳、耗電量大及不環保等缺失。

為達上述目的及其他目的，本創作係揭露一種曝光機的光源系統，用於提供光源至一照射面，包含一基座、一光源陣列裝置、一光源調整裝置及一反光罩；該基座係供可拆地安裝至曝光機上；該光源陣列裝置設置於該基座上，該光源陣列裝置包括以行列排列而成的複數排LED燈組；該光源調整裝置係與該光源陣列裝置連接，用以調整該等LED燈組相對於該基座的位置；該反光罩設置於該基座下方，用以反射該等LED燈組發出的光線。

於本創作的一實施例中，該光源陣列裝置係包括並排形成該等LED燈組的複數個條型燈座，每一條型燈座上係線性排列有二個以上LED燈板。

於本創作的一實施例中，位於各該條型燈座二端的LED燈板係以照射方向朝外的方式傾斜配置。

於本創作的一實施例中，各該條型燈座二端係分別具有一傾斜部，各該傾斜部係具有面朝外之傾斜面，各該LED燈板設置於該傾斜面上。

於本創作的一實施例中，位於各該條型燈座二端係有至少一個LED燈板係以照射方向與該照射面呈7-13度之夾角的方式傾斜配置。

於本創作的一實施例中，各該LED燈板前係設置有一透鏡組。

於本創作的一實施例中，該光源調整裝置包括複數支架與複數個調節臂，該等支架係設置於該基座上，每一條型燈座係藉由對應之調節臂與對應之支架可拆地結合，並供藉由調整該等調節臂與對應之支架或對應之條型燈座之間的固定角度或固定位置來調整該等LED燈組對於該照射面的出光角度及強度。

於本創作的一實施例中，該光源陣列裝置係具有設置於每一條型燈座上的冷卻機構。

於本創作的一實施例中，每一條型燈座上的冷卻機構係可選自下述之其一者：一水冷式管線、一散熱鰭片、一水冷式管線與散熱鰭片的組合。

於本創作的一實施例中，該光源陣列裝置係包括一玻璃板，其係配置於該等LED燈組前方。

於本創作的一實施例中，該光源陣列裝置還包括一補償燈組，其係安裝於該光源調整裝置上並配置在該等條型燈座之間，該補償燈組係具有長度小於該條型燈座之一移動燈座及設置於該移動燈座上的LED燈板。

於本創作的一實施例中，該補償燈組的該LED燈板前係設置有一透鏡組。

於本創作的一實施例中，該補償燈組的該移動燈座係設置有一反射板，該反射板係鄰近該LED燈板設置並相對於照射面具有135-150度之夾角。

於本創作的一實施例中，該反光罩係包括環繞該照射面且形成弧面的反射面。

於本創作的一實施例中，所述弧面具有0.4~0.7 rad的曲度。

於本創作的一實施例中，該反光罩係包括環繞該照射面且與該照射面形成銳角的反射面。

於本創作的一實施例中，所述銳角係為50-55度。

於本創作的一實施例中，該反光罩係包括環繞該照射面且具有複數個斜率之傾斜面的反射面。

於本創作的一實施例中，該反射面係具有三種斜率，且各該斜率間的關係係由該光源陣列裝置至該照射面的方向逐漸增加。

於本創作的一實施例中，每一排LED燈組係包括複數個獨立燈座及複數個LED燈板，每一LED燈板係設置於一個獨立燈座上，而可供每一LED燈板各自之照射方向的調整。

上述本創作所揭露之光源系統係藉由與曝光機上供光源結構組裝的安裝口匹配的基座設計，而可實現直接替代習知曝光機上的光源結構的模組化運用，無須修改習知曝光機的結構，就可以進一步優化曝光機的效能，而可具備LED之使用壽命長及節能等優點，當然本實施例之光源系統並非僅作為替換舊光源之用，亦可做為為新型曝光機上之光源。

再者，本創作所揭露之光源系統係主要藉由該光源調整裝置來調整該光源陣列裝置上的LED燈組的位置，同時搭配反光罩，而可提升曝光機的照射面上之光照度均勻性；並且，當其中一個LED燈組的LED零件發生衰減、或反光罩因髒汙而影響到光線反射的效果時，可以藉由光源調整裝置對於每一個LED燈組的調整，而使曝光機的照射面上之光照度均勻性達到容許範圍的程度。

另一方面，本創作所揭露之光源系統即使發生LED燈組中有部分損壞時，只要更換對應的LED燈組當中的LED燈板即可，而無須把整個光源陣列裝置都汰換掉。

綜上所述，本創作所揭露之光源系統具備了模組化、方便替換、降低維修頻率、低耗能、減少材料浪費及可增進曝光機本身曝光品質與效率等優點。

為充分瞭解本創作之目的、特徵及功效，茲藉由下述具體之實施例，並配合所附之圖式，對本創作做一詳細說明，說明如後：

於本文中，所描述之用語「包含、包括、具有」或其他任何類似用語意係非僅限於本文所列出的此等要件而已，而是可包括未明確列出但卻是該元件或裝置中通常固有的其他要件。

於本文中，所描述之用語「一」或「一個」來描述所述的元件、裝置等。此舉只是為了方便說明，並且對本創作之範疇提供一般性的意義。因此，除非很明顯地另指他意，否則此種描述應理解為包括一個或至少一個，且單數也同時包括複數。

首先請參閱圖2及圖3，係本創作實施例之曝光機的光源系統的結構分解示意圖及結構示意圖。

本實施例之曝光機的光源系統200，係用於提供例如紫外光等之所需光源至一照射面，以對於照射面上的基板(例如PCB)提供曝光製程上所需的紫外光。該光源系統200主要包含一基座210、一光源陣列裝置220、一光源調整裝置230以及一反光罩240。該基座210係供可拆地安裝至曝光機(圖未示)上，其尺寸係匹配於曝光機上供光源結構組裝的開口(圖未示)；該光源陣列裝置220設置於該基座210上，該光源陣列裝置220包括以行列排列而成的複數排LED燈組221；該光源調整裝置230係與該光源陣列裝置220連接，用以調整該等LED燈組221相對於該基座210的位置，而使例如該等LED燈組221的配置密度、出光方向以及相對於該照射面的距離等配置方式能被調整；該反光罩240係設置於該基座210下方，用以反射該等LED燈組221發出的光線。

本實施例之光源系統200係藉由與曝光機上供光源結構組裝的安裝口(圖未示)匹配的基座210設計，而可實現直接替代習知曝光機上的光源結構的模組化運用，無須修改習知曝光機的結構，就可以進一步優化曝光機的效能，進一步可具備LED之使用壽命長及節能等優點，當然本實施例之光源系統200並非僅作為替換舊光源之用，亦可做為為新型曝光機上之光源。

再者，本實施例之光源系統200係可藉由該光源調整裝置230來調整該光源陣列裝置220上的該等LED燈組221的位置，同時搭配該反光罩240，而可提升曝光機的照射面上之光照度均勻性；並且，當其中一個LED燈組221的LED零件發生衰減、或反光罩因髒汙而影響到光線反射的效果時，可以藉由該光源調整裝置230對於每一個LED燈組221的調整，而使曝光機的照射面上之光照度均勻性達到容許範圍的程度。

另一方面，本實施例之光源系統200即使發生其中一個LED燈組221損壞時，只要更換對應的LED燈組當中的LED零件即可，而無須把整個光源陣列裝置220都汰換掉。

綜上所述，本實施例之光源系統200具備了模組化、方便替換、降低維修頻率、低耗能、減少材料浪費及可增進曝光機本身曝光品質與效率等優點。

如圖2所示，該光源陣列裝置220可包括一玻璃板225，其係配置於該等LED燈組221前方，該玻璃板225係可設置於該基座210之開口211上，用於保護該等LED燈組221中的LED晶片。其中，該玻璃板225之材料係可為高硼矽或石英或其他適用於保護LED晶片之材料。

如圖4所示，其係為本實施例中光源陣列裝置的其中一種實施態樣。該光源陣列裝置220係包括並排形成該等LED燈組221的複數個條型燈座222，每一條型燈座222上係線性排列有二個以上的LED燈板223，圖4中顯示為7個LED燈板223作為示例，然該等LED燈板223的數量並不限於此，其係可依據所需要的光強度來增減。此外，每一LED燈板223的晶片，舉例來說，可以採用可發出365~435nm波長範圍的紫外光晶片，也可以依據不同產品之需要來進行不同波長的紫外光晶片進行排列組合的變換，藉以擴充可應用性。此外，各該LED燈板前係可選擇性地設置有一透鏡組(圖未示)，藉以依需求使所有或特定之LED燈板2242的光線集中，而使曝光機的照射面上的光照度均勻性進一步達到更高的可容許範圍。

如圖5所示，位於各該條型燈座222二端的LED燈板223係以照射方向朝外的方式傾斜配置，而使位於各該條型燈座222二端的LED燈板223發出的光線可經由反光罩240的反射至該照射面上。

較佳地是，位於各該條型燈座222二端係有至少一個LED燈板223係以照射方向與該照射面呈7-13度之夾角的方式傾斜配置，圖5中係示意了該條型燈座222二端分別有2個LED燈板223是傾斜配置的。作為一個示例性的說明，圖中顯示的條型燈座222二端係分別具有一傾斜部2211，各該傾斜部2211係具有面朝外之傾斜面，各該LED燈板223設置於該傾斜面上，其中，位於各該條型燈座222同一端並相鄰的傾斜部2211，其傾斜的角度係可為相同或不同，在傾斜角度不同的例子中，舉例來說，最外側的傾斜部2211之傾斜面與作為水平基準面之照射面所夾的角度係例如為12度，而與其相鄰之傾斜部2211(相對在內側的傾斜部2211)之傾斜面與作為水平基準面之照射面所夾的角度則例如為8度。

然而，條型燈座的結構並不限於上述之方式，其亦可如圖6所示為具有全然平面的燈板設置面的結構，該等LED燈板223係可全部皆水平配置，或利用其他的固定結構(例如墊片、支架等)而使其被配置為具有傾斜的效果。

除此之外，本創作實施例之LED燈組的架構並不限於上述之示例，每一排LED燈組係可為由複數個獨立燈座及複數個LED燈板所並排構成，舉例來說，每一LED燈板係設置於一個獨立燈座上，並每一獨立燈座係與光源調整裝置可拆地結合，而可調整每一LED燈板各自的照射方向。

請參照圖7，其為本實施例中的基座、光源陣列裝置及光源調整裝置的結構示意圖。

該光源調整裝置230包括複數支架231與複數個調節臂232，該等支架231係設置於該基座210上，每一條型燈座222係藉由對應之調節臂232可拆地結合至對應之支架231，並藉由調整該等調節臂232與對應之支架231或對應之條型燈座222之間的固定角度或固定位置來調整該等LED燈組221對於該照射面的出光角度(照射方向)及強度。如圖所示，二個概呈ㄇ型的支架231係配置於該基座210底面開口211的相對二側上，每一條型燈座222的二端係分別組裝一個調節臂232，以與對應之支架231可拆地結合，並可藉由將各該調節臂232鎖固在所需的傾斜角度之下，而使每一條型燈座222上設置有該等LED燈板223的一面朝向特定方向，藉此達成該等LED燈組221出光方向的調整；並且，該等調節臂232可拆地結合在該等支架231的位置亦可依需求改變，藉以達成調整不同行列的該等LED燈組221之間的距離，而調控該等LED燈組221的密度，進而使曝光機的照射面上達到更佳的光照度均勻性。

然而，本創作之該光源調整裝置230並不限於圖式與實施例的限制，其係可為其他可達成同樣固定與調整LED燈組目的的結構，而將此種進一步的調節特徵，配置在曝光機的光源系統內。

請同時參照圖7及圖8，圖7係本實施例中的基座、光源陣列裝置及光源調整裝置的結構示意圖；圖8係為本實施例中之補償燈組的結構示意圖。

於本實施例中，該光源陣列裝置220還可包括一補償燈組226，其係安裝於該光源調整裝置230上並配置在該等條型燈座222之間，舉例來說，本實施例係配置有二個補償燈組226，該等補償燈組226係位在相對於位在中央的條型燈座222之二側，該補償燈組226係與該光源調整裝置230之L型懸吊臂233結合，該L型懸吊臂233係固定於該等支架231上的其中一者上。其中，各該L型懸吊臂233係具有供鎖固各該補償燈組226的一長孔2331，各該補償燈組226係可藉由鎖固在該長孔2331中不同之位置，而調整各該補償燈組226相對於曝光機的照射面之距離，藉此依需求來調整各該補償燈組226到達照射面的光照度。

如圖8所示，各該補償燈組226係具有長度小於該條型燈座222之一移動燈座2261及設置於該移動燈座2261上的LED燈板2262。據此，藉由與不同長度的L型懸吊臂233結合，可依需求調整各該補償燈組226在整個光源陣列裝置220當中的位置。

本實施例中，該補償燈組226的該LED燈板2262前係可設置一透鏡組2263，以使該LED燈板2262的光線集中而更加提高到達曝光機的照射面上的光照度。

請參照圖9，係為本實施例中之補償燈組的另一態樣之結構示意圖。

於本態樣中，該補償燈組226的該移動燈座2261係設置有一反射板2264，該反射板2264係鄰近該LED燈板2262而被設置，並相對於照射面具有135-150度之夾角，或者是，該反射板2264相對於該移動燈座2261之底面平面係具有45-65度之夾角。其中，該反射板2264係可為鋁材質或其他金屬材質，藉以使該LED燈板2262發出之光線可被反射至反光罩(再藉由反光罩反射至照射面)或是直接被反射至照射面上。

上述說明僅為示例性，本創作之補償燈組的數量、配置位置、安裝結構並不限於本實施例及圖式，其係可依實際需求進行變換。

請參考圖10及圖11，圖10係為本實施例中具有水冷式管線之LED燈組的一結構示意圖；圖11係為本實施例中具有散熱鰭片之LED燈組的一結構示意圖。

本實施例中，該光源陣列裝置220係可具有設置於每一條型燈座222上的冷卻機構224，舉例來說，如圖10所示，該條型燈座222上的冷卻機構224係可為一水冷式管線，該水冷式管線係連接冰水機或冷卻液循環裝置，以使冷卻工作液體可通過該條型燈座222當中，發揮優良的散熱效果，適於搭配高功率的LED燈板223使用；或者，如圖11所示，該條型燈座222上的冷卻機構224係可為一散熱鰭片，並可外加設置風扇，以藉由強制對流增進散熱效果，散熱鰭片的成本較為低廉，適於搭配較低功率的LED燈板223使用。又或者是，同時搭配水冷式管線及散熱鰭片的態樣(圖未示)。

此外，前述之補償燈組或獨立燈組亦可配置供LED燈板散熱之冷卻機構。

請參考圖12及圖13，其係為本實施例中反光罩的第一態樣立體示意圖及剖面示意圖。

該反光罩240係包括環繞曝光機的照射面上方且形成弧面的反射面241。其中，所述弧面(反射面241)之截面較佳地係具有0.4~0.7 rad(弧度)的曲度(以截面之視角)，藉以將該光源陣列裝置發出的光線反射至曝光機的照射面上，以增進照射面上的光照度均勻度。

該反光罩240係包括一頂部開口242及一底部開口243，該頂部開口242的大小係對應於該基座210之開口211(可參照圖2)，該底部開口243的大小係對應於曝光機之照射面。

請參考圖14及圖15，其係為本實施例中反光罩的第二態樣立體示意圖及剖面示意圖。

該反光罩240’係包括環繞曝光機的照射面上方且與該照射面形成銳角的反射面241’，如圖15所示，該反光罩240’的剖面係概呈上窄下寬的梯形。 其中，所述銳角θ係為50-55度，較佳地是，所述銳角θ係可為52-54度。

請參考圖16，其係為本實施例中反光罩的第三態樣立體示意圖。

該反光罩240’’係包括環繞該照射面上方且具有複數個斜率之傾斜面的反射面241’’A, 241’’B, 241’’C。其中，該反射面241’’A, 241’’B, 241’’C係具有三種斜率，且由該光源陣列裝置220至該照射面的方向逐漸增加。

綜合上述，本實施例之光源系統200具備了模組化、方便替換、降低維修頻率、低耗能、減少材料浪費及可增進曝光機本身曝光品質與效率等優點。

本創作在上文中已以較佳實施例揭露，然熟習本項技術者應理解的是，該實施例僅用於描繪本創作，而不應解讀為限制本創作之範圍。應注意的是，舉凡與該實施例等效之變化與置換，均應設為涵蓋於本創作之範疇內。因此，本創作之保護範圍當以申請專利範圍所界定者為準。

101‧‧‧燈箱
102‧‧‧UV燈管
200‧‧‧光源系統
210‧‧‧基座
211‧‧‧開口
220‧‧‧光源陣列裝置
221‧‧‧LED燈組
222‧‧‧條型燈座
223‧‧‧LED燈板
224‧‧‧冷卻機構
225‧‧‧玻璃板
226‧‧‧補償燈組
2261‧‧‧移動燈座
2262‧‧‧LED燈板
2263‧‧‧透鏡組
2264‧‧‧反射板
230‧‧‧光源調整裝置
231‧‧‧支架
232‧‧‧調節臂
240,240’,240’’‧‧‧反光罩
241,241’‧‧‧反射面
241’’A, 241’’B, 241’’C‧‧‧反射面
242‧‧‧頂部開口
243‧‧‧底部開口

[圖1]係習知的曝光機之光源結構的示意圖。 [圖2]係本創作實施例之曝光機的光源系統的結構分解示意圖。 [圖3]係本創作實施例之曝光機的光源系統的結構示意圖。 [圖4]係本實施例中光源陣列裝置的其中一種實施態樣。 [圖5]係本實施例中LED燈組的一實施態樣。 [圖6]係本實施例中LED燈組的另一實施態樣。 [圖7]係本實施例中的基座、光源陣列裝置及光源調整裝置的結構示意圖。 [圖8]係本實施例中之補償燈組的結構示意圖。 [圖9]係本實施例中之補償燈組的另一態樣之結構示意圖。 [圖10]係本實施例中具有水冷式管線之LED燈組的一結構示意圖。 [圖11]係本實施例中具有散熱鰭片之LED燈組的一結構示意圖。 [圖12]係為本實施例中反光罩的第一態樣立體示意圖。 [圖13]係為本實施例中反光罩的第一態樣剖面示意圖。 [圖14]係為本實施例中反光罩的第二態樣立體示意圖。 [圖15]係為本實施例中反光罩的第二態樣剖面示意圖。 [圖16]係為本實施例中反光罩的第三態樣立體示意圖。

Claims (33)

1. 一種曝光機的光源系統，用於提供光源至一照射面，包含： 一基座，係供可拆地安裝至曝光機上； 一光源陣列裝置，設置於該基座上，該光源陣列裝置包括以行列排列而成的複數排LED燈組； 一光源調整裝置，係與該光源陣列裝置連接，用以調整該等LED燈組相對於該基座的位置；以及 一反光罩，設置於該基座下方，用以反射該等LED燈組發出的光線。
2. 如請求項1所述之光源系統，其中該光源陣列裝置係包括並排形成該等LED燈組的複數個條型燈座，每一條型燈座上係線性排列有二個以上LED燈板。
3. 如請求項2所述之光源系統，其中位於各該條型燈座二端的LED燈板係以照射方向朝外的方式傾斜配置。
4. 如請求項3所述之光源系統，其中各該條型燈座二端係分別具有一傾斜部，各該傾斜部係具有面朝外之傾斜面，各該LED燈板設置於該傾斜面上。
5. 如請求項4所述之光源系統，其中位於各該條型燈座二端係有至少一個LED燈板係以照射方向與該照射面呈7-13度之夾角的方式傾斜配置。
6. 如請求項5所述之光源系統，其中各該LED燈板前係設置有一透鏡組。
7. 如請求項6所述之光源系統，其中該光源調整裝置包括複數支架與複數個調節臂，該等支架係設置於該基座上，每一條型燈座係藉由對應之調節臂與對應之支架可拆地結合，並供藉由調整該等調節臂與對應之支架或對應之條型燈座之間的固定角度或固定位置來調整該等LED燈組對於該照射面的出光角度及強度。
8. 如請求項7所述之光源系統，其中該光源陣列裝置係具有設置於每一條型燈座上的冷卻機構。
9. 如請求項8所述之光源系統，其中每一條型燈座上的冷卻機構係選自下述之其一者：一水冷式管線、一散熱鰭片、一水冷式管線與散熱鰭片的組合。
10. 如請求項9所述之光源系統，其中該光源陣列裝置係包括一玻璃板，其係配置於該等LED燈組前方。
11. 如請求項2至10中任一項所述之光源系統，其中該光源陣列裝置還包括一補償燈組，其係安裝於該光源調整裝置上並配置在該等條型燈座之間，該補償燈組係具有長度小於該條型燈座之一移動燈座及設置於該移動燈座上的LED燈板。
12. 如請求項11所述之光源系統，其中該補償燈組的該LED燈板前係設置有一透鏡組。
13. 如請求項11所述之光源系統，其中該補償燈組的該移動燈座係設置有一反射板，該反射板係鄰近該LED燈板設置並相對於照射面具有135-150度之夾角。
14. 如請求項2至10中任一項所述之光源系統，其中該反光罩係包括環繞該照射面且形成弧面的反射面。
15. 如請求項14所述之光源系統，其中所述弧面具有0.4~0.7 rad的曲度。
16. 如請求項2至10中任一項所述之光源系統，其中該反光罩係包括環繞該照射面且與該照射面形成銳角的反射面。
17. 如請求項16所述之光源系統，其中所述銳角係為50-55度。
18. 如請求項2至10中任一項所述之光源系統，其中該反光罩係包括環繞該照射面且具有複數個斜率之傾斜面的反射面。
19. 如請求項18所述之光源系統，其中該反射面係具有三種斜率，且各該斜率間的關係係由該光源陣列裝置至該照射面的方向逐漸增加。
20. 如請求項1所述之光源系統，其中每一排LED燈組係包括複數個獨立燈座及複數個LED燈板，每一LED燈板係設置於一個獨立燈座上，而可供每一LED燈板各自之照射方向的調整。
21. 如請求項20所述之光源系統，其中該光源調整裝置包括複數支架與複數個調節臂，該等支架係設置於該基座上，每一獨立燈座係藉由對應之調節臂與對應之支架可拆地結合，並藉由調整該等調節臂與對應之支架或對應之獨立燈座之間的固定角度或固定位置來調整該等LED燈組對於該照射面的出光角度及強度。
22. 如請求項21所述之光源系統，其中該光源陣列裝置係具有設置於每一獨立燈座上的冷卻機構。
23. 如請求項22所述之光源系統，其中每一獨立燈座上的冷卻機構係選自下述之其一者：一水冷式管線、一散熱鰭片、一水冷式管線與散熱鰭片的組合。
24. 如請求項23所述之光源系統，其中該光源陣列裝置係包括一玻璃板，其係配置於該等LED燈組前方。
25. 如請求項20所述之光源系統，其中每一LED燈板前係設置有一透鏡組。
26. 如請求項20所述之光源系統，其中每一排LED燈組中位於二端的LED燈板係以照射方向朝外的方式傾斜配置。
27. 如請求項26所述之光源系統，其中位於每一排LED燈組二端係有至少一個LED燈板係以照射方向與該照射面呈7-13度之夾角的方式傾斜配置。
28. 如請求項20至27中任一項所述之光源系統，其中該反光罩係包括環繞該照射面且形成弧面的反射面。
29. 如請求項28所述之光源系統，其中所述弧面具有0.4~0.7 rad曲度。
30. 如請求項20至27中任一項所述之光源系統，其中該反光罩係包括環繞該照射面且與該照射面形成銳角的反射面。
31. 如請求項30所述之光源系統，其中所述銳角係為50-55度。
32. 如請求項20至27中任一項所述之光源系統，其中該反光罩係包括環繞該照射面且具有複數個斜率之傾斜面的反射面。
33. 如請求項32所述之光源系統，其中該反射面係具有三種斜率，且各該斜率間的關係係由該光源陣列裝置至該照射面的方向逐漸增加。