TWM400012U - Heat pipe - Google Patents

Description

M400012 五、新型說明： 【新型所屬之技術領域】 本創作涉及一種熱管，其毛細結構的厚度是沿著外殼體的延伸 方向在内側壁上呈不均勻分布。 【先前技術】 這幾年來，資訊科技的進步速度可以說是相當快速，尤其是在 ' 中央處理器（Central processing unit,簡稱CPU)等電子組件的運 '作頻率和内涵的電晶體數目方面。也由於中央處理器的運作頻率 鲁相當高，故連帶產生的廢熱也相當大。為了使中央處理器在所允 炸的溫度下正常工作’設計良好的導熱或散熱系統便扮 的角色。 、 女 在早期，中央處理器的廢熱是通過風扇進行散熱。之後，隨 中央處理騎產生的廢熱愈來愈大，且電子|置愈來愈輕薄^例 如：筆記本制），便有廠商引進熱管(heatp丨pe)以協助中央處理界 進行散熱。上賴熱管是設置在散熱片與電子組件之間，電子: 件所產生的廢熱會被熱管的-側（即：吸熱側）内的液體所吸收， 液體吸熱蒸發後’蒸發賴氣會因為壓力錢原因而㈣管的另 一側（即：散熱側）移動，並於散熱侧上凝結後，再回;;至 的吸熱側。 ’' 然而，雖然傳統的熱管已有相當不錯的散熱功效，但由於電子 產品的體積愈來愈㈣已漸成趨勢，故相對地對熱管的散埶效能 來愈高° ，讓熱管具有更高的散熱效能，是 值侍所屬技術領域的技術人貝去思量的。 【新型内容】 本創作的目的是提供-種熱管，其可以更佳提升熱管的散熱能 M400012 力。 根據上述目的與其他目的，本創作提供一種熱管，此熱管包括 一外殼體與一毛細結構。毛細結構形成於外殼體的内側壁上’且 毛細結構的厚度沿著外殼體的延伸方向在内側壁上呈不均勻分 布。其中，毛細結構於靠近發熱源的一端具有較厚的厚度，而毛 細結構於遠離發熱源的一端具有較薄的厚度。 於上述的熱管中，毛細結構為一燒結層。其中，毛細結構是由 金屬粉末所燒結而成，且該金屬粉末例如為銅粉。 於上述的熱管中，外殼體的内側壁上形成有多個溝槽。 於上述的熱管中，外殼體呈圓管狀或扁管狀。 段^^管中’毛細結構的厚度變化是呈連續式的變化或呈 由於靠近吸熱端的燒結層較厚，而靠 較薄，故相較於習知的熱管，吸熱端的繞 之工作流體，而蒸發後的工作流體貝父夕 動空間，從而提高了熱導管的散熱能力。4有車父大的流 為讓本創作的上述目的、_和優點更 實例並配合所關示，作_制。 ’下文將以 【實施方式】 請參間圖1，圖】繪示出本創作之第〜徐 著水平方向的剖面圖。此埶管是沿著汽施例的熱管沿 伸，其兩端分別為散熱端;二 熱端⑻是設置於—電子晶片1()上，而散丄且熱管的吸 其他散熱裝置（未緣示，例如：散熱片、風、，⑻則是與 吸屬）相結合。 M400012 熱管包括一外殼體100與一燒結層l〇3，該燒結層丨〇3形 成於外殼體100的内側壁上。且燒結層丨03的厚度是呈不 均勻分布。罪近吸熱端1 〇 1的燒結層丨03較厚且靠近電子 晶片10，而罪近散熱端丨〇2的燒結層1 〇3較薄且遠離電子 晶片10。在本實例中，燒結層1〇3的厚度變化是呈連續式的 變化，其是由吸熱端1〇1至散熱端〖〇2逐漸變薄。當電子 晶片10在運作時，其所放出的熱量會透過外殼體1〇〇而被 位於燒結層】03内部的工作流體所吸收。吸收熱量後，工 作流體蒸發進入流動空間104中，並因為壓力差的緣故而 k及熱鈿101往放熱端丨02移動。蒸發後的工作流體於散 熱端H)2散熱後，會凝結為液體而進入燒糾1〇3中，、而 凝結後的工作流體會通魏結層⑻的毛細力 熱端10】。 其中，外殼體100是呈封閉的狀態，也就是說外續體 内部是與外界環境相隔離的，且外殼體刚的^部 中。此工作流體是位於燒結層〗03的孔隙 人員可將其替:為但所屬技術領域的技術 供马酒精或其他種類的工作流體。 熱端的剖面側視圖“士人2’，第一貫施例的熱管之散 ⑻的燒Μ丨圖3可看出：位於吸熱端 多。層103比位於散熱端102的燒結層103要厚許 在圖I中，為了顯示出工作产娜沾、 ⑻以剖面線表示。但本領域ΐΤ：的^向’故未將燒結層 圖2、與圖3的情況τ，/可知識者在結合圖】 α 了 β疋的判別出圖】燒結層】〇3 Έ400012 所位於的區域。 接著，請同時參照圖1、圖2、與圖3。在本實例中， 位於吸熱端的燒結層〗03較厚的原因在於使毛細力增強， 以加快凝結後的工作流體回流至吸熱端101的速度。而位 於散熱端102的燒結層103較薄的原因在於減低熱阻，使 蒸發後的工作流體能以較快的速度將熱量傳遞至外界並進 行凝結。由於靠近吸熱端10〗的燒結層103較厚而靠近散 熱端102的燒結層103較薄，故相較於習知的熱管，吸熱 端丨〇1的燒結層103能儲存較多之工作流體，而蒸發後的 工作流體則於散熱端102有較大的流動空間，從而提高了 熱導管的散熱能力。因此，本創作所述的熱管具有更高的 散熱效能。 請參照圖4,圖4繪示出本創作之第二實施例之熱管平 面剖示圖。在本實施例中，熱管包括一外殼體400與一燒 結層403，此燒結層403的厚度變化是呈段差式的變化。燒結 層403包括第一燒結層403a與第二燒結層403b，其中第 一燒結層403a的厚度大於第二燒結層403b，故在其之間 的連接處產生一段差。當電子晶片20在運作時，其所放出 的熱量會透過外殼體400而被位於燒結層403内部的工作 流體所吸收。吸收熱量後，工作流體蒸發進入流動空間404 中，並因為壓力差的緣故而從吸熱端401往散熱端402移 動。蒸發後的工作流體於散熱端402散熱後，會凝結為液 體而進入燒結層403中，而凝結後的工作流體會通過燒結 層403的毛細力而回流至吸熱端401。在圖4中，為了顯 示出工作流體的流向，故未將燒結層403以剖面線表示。 但本領域具有通常知識者應可清楚的判別出圖4燒結層 M400012 403所位於的區域。 此外’熱管的製造者也可在外殼體的内壁上開 槽，以增加熱管的散熱效率。請參照圖5綠示出本創作^ 二貫施例熱管加熱端平面剖示圖，圖6績示出本 實施例熱讀熱端平面剖示圖。在本實施例中，勺: -外殼體，與一燒結層503，|中外殼體5〇〇 :内二 上形成有多個溝槽505，這些溝槽505也可提供毛細力了 故可增加凝結液體的回流速度。另外，在吸 作流體蒸發進入流動空間504申 …麦’工 此外’在上述的實施例中，熱管的外殼體是呈扁管狀，此類型 的熱管適於應用在體型較輕薄的電子裝置（例如：筆記本電腦） 中’但所屬技術領域的技術人貢可將其改設計成其他的形狀，例 如圖7所示的熱管之外殼體500為圓管狀。 本創作以實例說明如上’然其並非用以限定本創作所主 張的權利要求。其專利保護範圍應當以權利要求書及其等 同湏域而疋。凡所屬技術領域的技術人員，在不脫離本專 利精神或範圍内，所作的變動或修改，均屬於本創作所揭 不的精神下完成的等效改變或設計，且應包含在權利要求 書中的的權利要求範圍内。 【圖式簡單說明】 圖丨繪示出本創作之第一實施例的熱管沿著水平方向 的剖面圖。 圖2繪示出本創作之第一實施例的熱管之加熱端的剖 面側視圖。 圖3緣示出了本創作之第一實施例的熱管之散熱端的 7 M400012 剖面側視圖。 圖4繪示出本創作之第二實施例之熱管平面剖示圖。 圖5繪示出本創作第三實施例熱管加熱端平面剖示圖。 圖6繪示出本創作第三實施例熱管散熱端平面剖示圖。 圖7繪示出本創作的第四實施例的熱管。 【主要元件符號說明】 100、 400、500 :外殼體 101、 401 :吸熱端 102、 402 :散熱端 103、 403、503 :燒結層 104、 404、504:流動空間 505 :溝槽 403 a:第一燒結層 403b :第二燒結層 10、20 :發熱源 E :方向 S :圍繞方向

Claims (1)

1. M400012 六、申請專利範圍： 1. 一種熱管，设置於—發熱源上，該熱管包括·· -外殼體，該外殼奴呈封閉的狀態，且該外殼體内部 有工作流體；及 、 一毛細結構，該毛細結構形成於該外殼體的内側辟上.

   呈不=毛的厚度沿著外殼體的延伸方向蝴壁上 呈不均勻刀布，耗崎構於#近該發熱源的1具有 度，而該毛細結構於遠離該發熱源的-端具有_的厚卜予 一^層如申請專利範圍第丨項所述之熱管，其中該毛細ς構包括 屬粉柄狀歸，料魏結層是由金 粉 屯如申請專利範圍第3項所述之熱管，其中該金屬粉末為銅 3項所述之熱管，其 其中該外殼體呈圓管 其中該外殼體呈扁管 其中該毛細結構的厚 其中該毛細結構的厚 5·如申請專利範圍第1項、第2項或第 中於該外殼體的内側壁上形成有多個溝槽。 6. 如申請專利範圍第]項所述之熱管， 狀。 7, 如申請專利範圍第1項所述之熱管， 狀。 8·如申請專利範圍第1項所述之熱管， 度變化是呈連續式的變化。 9.如申請專利範圍第1項所述之熱管， 度變化是呈段差式的變化。