TWM397261U - Odor-removing, anti-fungus and disinfection facility - Google Patents

Description

M397261 五、新型說明： 【新型所屬之技術領域】 本創作係之技術領域屬於空間除臭、防霉、滅菌等用途 之設備，特別是應用穩定二氧化氯與固態二氧化氣於密閉空間 殺菌、除臭、消毒之設備。 【先前技術】 ，定性二氧化氣（Stabi_ Ch— Di_e )，破壞微生 物的葡萄純化酶’使其不能參加氧化縣活動並導致細胞的 „發生障礙。二氧化氣還可與細菌中的部分氨基酸發生 ，化€原反應，使4基酸分解破壞，進而控制蛋白質的合成， 取終導致細g死亡制殺目絲。二氧化氣是安全料劑且且 有強的殺菌能力；同時在殺菌過程不產生有害物f，不影響食 活應㈣#品的風味和外觀性，不產生致癌物的多用途 祕型殺㈣毋劑，對人體及動物沒有危知及對環境不 =污染等獅，在常溫條件下職食品的雜變f，因二氧 老止蛋氨酸生成⑽，破壞已生成的㈣，賴果蔬衰 【新型内容】 本創作之目的在於提供設計包 與固態二氧化氯贿閉空間殺菌、除臭、消毒 亂喷霧 ㈣間賴，包括一穩定 口〜、一乳化虱填充裝置。該密閉空 性液i 1化k 1 ^讀貼條加強密閉系統。其中針對穩定 乳化乳貝務農置之附近另設置一手動控制喷霧啟動紐， M397261 圖（四）本創作之開啟裝置為把手式之結構示意圖 圖（五)本創作之開啟裝置為按壓式且附有塾腳之結構示意圖 圖（六）本_之·錢為凹槽式謂⑽輪墊腳之結構示意 圖 圖（七）本創作之開啟裝置：包括為按壓式(7A)、⑽式⑽）、把 手式（7C)之結構示意圖 圖（八）本創作之底部可附加滾輪墊腳(8A)或滾輪墊腳（8β)之結 構示意圖 【主要元件符號說明】 (10)本創作使用穩定性二氧化氣健與輯二氧化氣於密閉空 間殺菌、除臭、消毒設備 (20) 穩定性液態二氧化氣嘴霧裝置 (21) 穩定性液態二氧化氯噴霧裝置之充填部分 (22) 穩定性液態二氧化氯嘴霧裝置之噴霧部分 (23) 穩定性液態二氧化氣嘴霧裝置之噴霧部分之下方喷霧口 (30)手動啟動駭性液態二氧聽噴狀裝置按紐 (40)固態二氧化氣填充裝置 (50)溼度控制裝置 (60)遠紅外線滅菌裝置 (70)溫度控制裝置 (80) 本創作之開啟裝置 (81) 本創作之按壓式開啟叢置 (82) 本創作之把手式開啟裝置 (83) 本創作之凹槽式開啟裝置 (90)本創作之可調式隔版置放裝置 6

Claims (1)

1. M397261 ' 六、申請專利範圍： 1 · 一種使用二氧化氣之除臭防霉滅菌設備，包括一密閉空 間、一穩定性液態二氧化氣噴霧裝置、一固態二氧化氣填充 裝置，其中液態二氧化氣喷霧裝置位於密閉空間的開口面之 上部層前方，固態二氧化氣填充裝置位於密閉空間的開口面 之下底層前方。 2 ·依據申請專利範圍第1項所述之使用二氧化氣之除臭防 霉滅菌設備’其中該密閉空間之開口接觸壁面另貼以氣密貼 條加強密閉系統。 3 ·依據申請專利範圍第1項所述之使用二氧化氣之除臭防 霉滅菌設備，其中針對穩定性液態二氡化氣喷霧裝置之附近 另设置一手動控制喷霧啟動紐，以便利加強殺菌、除臭、消 毒之執行。 4 ·依據申請專利範圍第1項所述之使用二氧化氣之除臭防 霉滅菌設備，其中本設備之開啟置物方式，可以按壓方式、 門把開啟方式與凹槽方式執行。 5 .依據申請專利範圍第1項所述之使用二氧化氣之除臭防 霉滅菌設備’其中本設備另可加裝一遠紅外線滅菌裝置。 6 ·依據申請專利範圍第1項所述之使用二氧化氯之除臭防 霉滅菌設備’其中本設備更可加裝一溼度控制裝置。 7 .依據申請專利範圍第1項所述之使用二氧化氣之除臭防 霉滅菌設備，其中本設備更可加裝一溫度控制裝置。 8 ·依據申請專利範圍第1項所述之使用二氧化氣之除臭防 霉滅菌設備’其中本設備底部更可加裝滾輪或腳架與地面或 接觸面隔離。 7 M397261

   正充 修補 曰 4 ο月 3·年 M3 97261

   圖(四）

   M397261

   圖(五）

   M397261

   圖(七j M397261

   圖(八）