TWI833527B - 製備次氯酸水的裝置 - Google Patents
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Abstract
一種製備次氯酸水的裝置，包含一本體及一上蓋，該本體成形一電解用料輸入口，一電解腔，至少一導流腔，及至少一液體出口，該本體具有一組接面，該組接面上成形一連通該電解腔的氣態還原物出口，一環該氣態還原物出口設置的凹槽，及至少一連通該導流腔的連通孔。該上蓋組接於該本體的該組接面上，該上蓋具有一液體入口，以及一對應該凹槽設置的環壁，該環壁具有一缺口，該上蓋與該本體共同界定出一位於該環壁內並與該氣態還原物出口連通的氣室，以及一位於該環壁外並連通該液體入口與該連通孔的混合室，該混合室經該缺口與該氣室連通。
Description
本發明涉及一種製備次氯酸水的裝置，尤指一種設有氣室並令混合室經缺口連通氣室的裝置。
查，TW M416635公開一種電解裝置，該電解裝置包含有一電解隔室，一運水隔室以及一設於該電解隔室與該運水隔室之間的單向閥。其中，該電解隔室提供稀鹽酸電解功能，該運水隔室提供液體流動功能，而該單向閥則用以決定兩者之間的連通，當該電解隔室內的稀鹽酸被電解後產生一氯氣與一氫氣，該單向閥接受該氯氣與該氫氣的氣體壓力作用而被推動，進而開啟，令該氯氣與該氫氣得以進入該運水隔室中。惟，習用電解裝置一旦電解過程中所產生的氣體壓力不足時，將導致該單向閥無法被推動，致使該氯氣無法進入至該運水隔室內形成次氯酸水。
本發明的主要目的，在於解決習用裝置不利於製備次氯酸水的問題。
為達上述目的，本發明提供一種製備次氯酸水的裝置，包含一本體及一上蓋，該本體成形一電解用料輸入口，一連通該電解用料輸入口的電解腔，至少一與該電解腔並列的導流腔，以及至少一連通該導流腔的液體出口，該電解腔內具有至少二間隔設置其中的電極，該本體具有一位於遠離該電解用料輸入口一端的組接面，該組接面上成形至少二提供該二電極由該電解腔穿出的第一穿孔，一連通該電解腔的氣態還原物出口，一環該氣態還原物出口設置的凹槽，以及至少一連通該導流腔的連通孔。該上蓋組接於該本體的該組接面上，該上蓋具有一液體入口，至少二對應該二第一穿孔並提供該二電極穿出的第二穿孔，以及一對應該凹槽設置的環壁，該環壁具有一缺口，該上蓋與該本體共同界定出一位於該環壁內並與該氣態還原物出口連通的氣室，以及一位於該環壁外並連通該液體入口與該連通孔的混合室，該混合室經該缺口與該氣室連通。
一實施例中，該缺口頂緣的水平高度略高於該組接面的水平高度。
一實施例中，該電解用料輸入口位於該電解腔的底部。
一實施例中，該本體具有至少一間隔該電解腔與該導流腔的隔牆。
一實施例中，該本體具有一設於該電解腔內並提供該二電極定位的定位塊。
一實施例中，該本體具有至少一設於該組接面的第一組裝槽，該上蓋具有至少一朝該本體延伸並與該第一組裝槽組接的第一組裝肋。
一實施例中，該本體包含一與該上蓋組接的第一半殼，以及一組接該第一半殼並與該第一半殼共同形成該電解腔與該導流腔的第二半殼。
一實施例中，該第二半殼成形一位於面對該第一半殼一側的第二組裝槽，該第一半殼成形一與該第二組裝槽組接的第二組裝肋。
一實施例中，該二電極的其中之一具有一位於該電解腔內的工作段，一自該工作段延伸並位於該混合室內的延伸段。
一實施例中，該氣態還原物出口位於該二電極之間。
透過本發明前述實施，相較於習用具有以下特點：本發明該裝置未設置有單向閥，而是透過該氣態還原物出口與該缺口的設置，當電解用料被電解後生成氣態還原物後，氣態還原物可依序經過該氣態還原物出口、該氣室與該缺口進入該混合室中。相較於習用，本發明解決習用電解裝置取決於氣體壓力與單向閥工作有所不同，並可具體解決習用單向閥無法被推動，進而導致電解裝置無法製備出次氯酸水的問題。
本發明詳細說明及技術內容，茲配合圖式說明如下：
請參閱圖1至圖8，本發明為一種製備次氯酸水的裝置100，該裝置100包含一本體10及一上蓋20，該本體10成形一電解腔11，一電解用料輸入口12，至少一導流腔13，及至少一液體出口14。該電解腔11連通該電解用料輸入口12，並接受由該電解用料輸入口12而來的一電解用料70，該電解腔11作為電解實施的區域，該電解腔11具有至少二間隔設置其中的電極111，該二電極111通電後對該電解用料70電解。一實施例中，該電解用料70為一稀鹽酸，而該二電極111分別為一以鈦金屬製成的電解基板。該導流腔13與該電解腔11並列，並連通該液體出口14，該導流腔13用以導流混合後的液體，並令液體由該液體出口14流出該裝置100外。
又，該本體10具有一組接面15，該組接面15位於該本體10遠離該電解用料輸入口12一端，該組接面15上成形至少二第一穿孔151，一氣態還原物出口152，一凹槽153以及至少一連通孔154，該二第一穿孔151提供該二電極111由該電解腔11穿出，該氣態還原物出口152連通該電解腔11，並位於該電解腔11相對頂端的位置，其因在於，該電解用料70經電解後將產生複數氣態還原物71，該些氣態還原物71根據自身氣體特性將朝該電解腔11相對頂端的方向移動，經由該氣態還原物出口152流出該電解腔11外。又，該凹槽153環該氣態還原物出口152設置而呈現環型，該連通孔154位於該凹槽153外圍，並與該導流腔13連通。
另外，該上蓋20組接於該本體10的該組接面15上，該上蓋20具有一液體入口21，至少二第二穿孔22，以及一環壁23，該液體入口21接受一液體80流動其中，該液體80的功用在於，與該些氣態還原物71混合形成一含有次氯酸成份的水溶液90，該液體80舉例來說，可以是一原水(raw water)，或是一次氯酸濃度未達所需的水溶液。該二第二穿孔22對應該二第一穿孔151並提供該二電極111穿出，使得該二電極111的至少部分顯露於該上蓋20外。又，該環壁23由該上蓋20朝該組接面15方向延伸，並對應該凹槽153設置，該環壁23成形一缺口231，該缺口231位在該環壁23的端緣，當該上蓋20與該本體10組接時，該缺口231對應該凹槽153。該上蓋20與該本體10共同界定出一位於該環壁23內的氣室24，以及一位於該環壁23外的混合室25，該氣室24直接與該氣態還原物出口152連通，而該混合室25位於該氣室24外圍，該混合室25連通該液體入口21與該連通孔154，該混合室25經該缺口231與該氣室24連通。
請參閱圖2至圖8，現就該裝置100的實施進行說明。為利於讀者理解本案，於後將暫以該稀鹽酸作為該電解用料70，而該電解用料70受電解後所產生的該些氣態還原物71分別為一氯氣與一氫氣進行解釋。假設實施時，該電解腔11接受該稀鹽酸，而未對該稀鹽酸實施電解。當該二電極111通電後，該稀鹽酸於該電解腔11內解離，令該電解腔11內產生該氯氣、該氫氣與一還原水72。該氯氣、該氫氣受自身氣體特性經由該缺口231流入該氣室24之中，而該電解腔11內的該還原水72受後來加入的該稀鹽酸作用溢出該電解腔11，需注意到，本文所指的該還原水72可以是被完全電解後產生的水(H
2O)，也可以是未被完全電解而氯含量較低的溶液，由於該還原水72的濃度低於該稀鹽酸，因此該還原水72相對於該稀鹽酸位於該電解腔11相對頂端，當該電解腔11內持續加入該稀鹽酸後，該還原水72將朝向該氣態還原物出口152方向流動，並流入該氣室24中。於後，該還原水72、該氯氣與該氫氣依序經由該氣態還原物出口152、該氣室24與該缺口231進入該混合室25內，該還原水72混入該液體80中，該氫氣根據自身不溶於水的特性，不與該液體80產生反應，而該氯氣則混入該液體80中並生成該含有次氯酸成份的水溶液90。需了解到，本文所述的該水溶液90在一次氯酸水製備裝置(圖中未示)未完成次氯酸水的製備作業時為次氯酸濃度未達需求的溶液，一旦該次氯酸水製備裝置完成次氯酸水的製備作業時，則該水溶液90所指為次氯酸濃度符合需求的次氯酸水。於後，該水溶液90經由該連通孔154流入該導流腔13中，再由該液體出口14流出該裝置100外。
承此，本發明該裝置100不受單向閥的限制，該些氣態還原物71生成後，連通該還原水72依序經過該氣態還原物出口152、該氣室24與該缺口231進入該混合室25中。相較於習用，本發明解決習用電解裝置取決於氣體壓力大小與單向閥工作有所不同，並可具體解決習用單向閥無法被推動，進而導致電解裝置無法混合氯氣與液體的問題。
承上，請參閱圖2至圖5，一實施例中，本發明為減少該液體80與該水溶液90進入該氣室24內的情況，一實施例中，該缺口231頂緣的水平高度略高於該組接面15的水平高度。換句話來說，該環壁23於該缺口231成形處的長度短於該環壁23未成形有該缺口231處的長度，藉此令該缺口231僅允許該些氣態還原物71通過。
承上，復請參閱圖1至圖8，本發明該本體具有至少一隔牆16，該隔牆16用以間隔該電解腔11與該導流腔13，也就是說，該導流腔13的其中一壁面與該電解腔11的其中一壁面分別為該隔牆16的兩面，該導流腔13接受該混合室25內的該水溶液90流入，並令進入其中的該水溶液90不與該電解腔11內的溶液混合。進一步地，一實施例中，該電解用料輸入口12位於該電解腔11的底部，如此一來，該電解用料70經由該電解腔11底部後，由於該電解用料70的比重大於該還原水72，該電解用料70可直接留存於該電解腔11底部。另外，為利於該還原水72與該些氣態還原物71流入該氣室24中，該氣態還原物出口152則被設置於該電解腔11的頂部並位於該二電極111之間。
承上，請參閱圖2至圖8，一實施例中，本發明為定位該二電極111，該本體10具有至少一定位塊17，該定位塊17位於該電解腔11內並提供該二電極111定位功能。於另一實施例中，該定位塊17可以環該電解腔11的四周壁設置，藉此以達到具體限制該二電極111組裝位置的功能，並且可避免該二電極111接觸。
承上，一實施例中，該二電極111的其中之一具有一位於該電解腔11內的工作段112，一自該工作段112延伸的延伸段113，以及一連接該延伸段113並提供接電的接電段114，更詳細來說，該工作段112位於該電解腔11內，當該二電極111通電時提供電解功能，而該延伸段113由該二第一穿孔151的其中之一穿出，並位於該混合室25內，該接電段114則由該二第二穿孔22的其中之一穿出，並顯露於該裝置100外。於本實施例中，該接電段114可連接一檢知電路，並用以檢測該電解腔11內的次氯酸濃度，當該檢知電路判斷次氯酸濃度符合需求時，則停止該二電極111的電解；反之，則令該二電極111持續對該電解用料70進行電解。
另一方面，一實施例中，本發明為令該本體10與該上蓋20穩定組接，該本體10具有至少一設於該組接面15的第一組裝槽18，該上蓋20具有至少一朝該本體10延伸的第一組裝肋26，該第一組裝肋26與該第一組裝槽18配合，當該本體10與該上蓋20組接時，該第一組裝肋26伸入該第一組裝槽18中，並與該第一組裝槽18形成組裝關係。於另一實施例中，該本體10更包含一與該上蓋20組接的第一半殼101，以及一與該第一半殼101組接的第二半殼102，該第一半殼101與該第二半殼102組接後共同形成該電解腔11與該導流腔13。本發明為穩定該第一半殼101與該第二半殼102的組裝，該第二半殼102成形一位於面對該第一半殼101一側的第二組裝槽103，該第一半殼101具有一位於面對該第二半殼102一側的第二組裝肋104，該第二組裝肋104與該第二組裝槽103配合，當該第一半殼101與該第二半殼102組接時，該第二組裝肋104伸入該第二組裝槽103中，並與該第二組裝槽103形成組裝關係。
綜上所述者，僅爲本發明的一較佳實施例而已，當不能以此限定本發明實施的範圍，即凡依本發明申請專利範圍所作的均等變化與修飾，皆應仍屬本發明的專利涵蓋範圍。
100:裝置
10:本體
101:第一半殼
102:第二半殼
103:第二組裝槽
104:第二組裝肋
11:電解腔
111:電極
112:工作段
113:延伸段
114:接電段
12:電解用料輸入口
13:導流腔
14:液體出口
15:組接面
151:第一穿孔
152:氣態還原物出口
153:凹槽
154:連通孔
16:隔牆
17:定位塊
18:第一組裝槽
20:上蓋
21:液體入口
22:第二穿孔
23:環壁
231:缺口
24:氣室
25:混合室
26:第一組裝肋
70:電解用料
71:氣態還原物
72:還原水
80:液體
90:含次氯酸成份的水溶液
圖1，本發明一實施例的立體結構示意圖。
圖2，本發明一實施例的分解示意圖。
圖3，圖1的A-A線段剖面示意圖。。
圖4，圖3的B-B線段剖面示意圖。。
圖5，圖4的部分結構放大示意圖。
圖6，圖4的C-C線段剖面示意圖。
圖7，圖6的D-D線段剖面示意圖。
圖8，圖7的E-E線段剖面示意圖。
100:裝置
10:本體
101:第一半殼
102:第二半殼
103:第二組裝槽
104:第二組裝肋
11:電解腔
111:電極
114:接電段
12:電解用料輸入口
14:液體出口
152:氣態還原物出口
18:第一組裝槽
20:上蓋
21:液體入口
23:環壁
231:缺口
24:氣室
25:混合室
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70:電解用料
71:氣態還原物
72:還原水
80:液體
90:含次氯酸成份的水溶液
Claims (10)
- 一種製備次氯酸水的裝置，包含： 一本體，成形一電解用料輸入口，一連通該電解用料輸入口的電解腔，至少一與該電解腔並列的導流腔，以及至少一連通該導流腔的液體出口，該電解腔內具有至少二間隔設置其中的電極，該本體具有一位於遠離該電解用料輸入口一端的組接面，該組接面上成形至少二提供該二電極由該電解腔穿出的第一穿孔，一連通該電解腔的氣態還原物出口，一環該氣態還原物出口設置的凹槽，以及至少一連通該導流腔的連通孔；以及 一上蓋，組接於該本體的該組接面上，該上蓋具有一液體入口，至少二對應該二第一穿孔並提供該二電極穿出的第二穿孔，以及一對應該凹槽設置的環壁，該環壁具有一缺口，該上蓋與該本體共同界定出一位於該環壁內並與該氣態還原物出口連通的氣室，以及一位於該環壁外並連通該液體入口與該連通孔的混合室，該混合室經該缺口與該氣室連通。
- 如請求項1所述的製備次氯酸水的裝置，其中，該缺口頂緣的水平高度略高於該組接面的水平高度。
- 如請求項1所述的製備次氯酸水的裝置，其中，該電解用料輸入口位於該電解腔的底部。
- 如請求項1至3任一項所述的製備次氯酸水的裝置，其中，該本體具有至少一間隔該電解腔與該導流腔的隔牆。
- 如請求項4所述的製備次氯酸水的裝置，其中，該本體具有一設於該電解腔內並提供該二電極定位的定位塊。
- 如請求項1至3任一項所述的製備次氯酸水的裝置，其中，該本體具有至少一設於該組接面的第一組裝槽，該上蓋具有至少一朝該本體延伸並與該第一組裝槽組接的第一組裝肋。
- 如請求項6所述的製備次氯酸水的裝置，其中，該本體包含一與該上蓋組接的第一半殼，以及一組接該第一半殼並與該第一半殼共同形成該電解腔與該導流腔的第二半殼。
- 如請求項7所述的製備次氯酸水的裝置，其中，該第二半殼成形一位於面對該第一半殼一側的第二組裝槽，該第一半殼成形一與該第二組裝槽組接的第二組裝肋。
- 如請求項1至3任一項所述的製備次氯酸水的裝置，其中，該二電極的其中之一具有一位於該電解腔內的工作段，一自該工作段延伸並位於該混合室內的延伸段。
- 如請求項1所述的製備次氯酸水的裝置，其中，該氣態還原物出口位於該二電極之間。
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