TWI812468B - 散熱風罩的多變化管理控制系統 - Google Patents

Abstract

一種散熱風罩的多變化管理控制系統包含散熱風罩、風扇以及處理單元。散熱風罩包含數個扇葉以及致動元件。扇葉設置於散熱風罩之數個通風口中。致動元件配置以致動扇葉。風扇鄰近散熱風罩。處理單元連接風扇以及散熱風罩。處理單元包含熱感應器以及溫控元件。熱感應器配置以感測處理單元之溫度。溫控元件配置以基於溫度控制風扇以及致動元件。

Description

散熱風罩的多變化管理控制系統

本揭露係有關於一種散熱風罩的多變化管理控制系統。

隨著伺服器的處理速度及效能提升，伺服器的散熱效能更加影響了整個系統之效能。伺服器系統的散熱元件已無法預留出足夠空間容置各電子元件，導熱能力的不足將造成電子元件(例如，中央處理單元(CPU))降頻或是熱當。因此，為了提升散熱效能，勢必需要增加風流量及散熱面積。現有的伺服器中係將熱源藉由熱板傳導至熱管上經由風扇將熱源帶走，若要提昇散熱效能就必須增加散熱面積，電腦或其他電子元件的負載愈多，其所耗用的電力愈多，其產生的熱也就愈多。然而，現有伺服器系統的散熱元件之配置已經無法滿足高負載電子元件的散熱需求。

因此，如何提出一種散熱風罩的多變化管理控制系統來達成可以更靈活地多變化控制的功效，是目前業界亟欲投入研發資源解決的問題之一。

有鑑於此，本揭露之一目的在於提出一種可有解決上述問題的散熱風罩的多變化管理控制系統。

為了達到上述目的，依據本揭露之一實施方式，一種散熱風罩包含底板、頂板、導風牆、導風槽以及數個扇葉。頂板設置於底板上方。導風牆連接於底板與頂板之間。導風牆具有數個通風口。導風槽穿過導風牆於底板與頂板之間。扇葉設置於通風口中，且扇葉樞接導風牆於通風口中。

於本揭露的一或多個實施方式中，散熱風罩進一步包含兩第一側牆、兩第二側牆以及兩第三側牆。第一側牆連接於底板的兩端。第二側牆連接底板於第一側牆之間。第三側牆連接底板於第一側牆之間。導風槽至少由頂板、兩第二側牆中之一者以及兩第三側牆中之一者所定義，或者至少由頂板、兩第二側牆中之另一者以及兩第三側牆中之另一者所定義。

於本揭露的一或多個實施方式中，導風牆連接於兩第一側牆中之一者與兩第二側牆中之一者之間、兩第一側牆中之另一者與兩第二側牆中之另一者之間以及兩第三側牆之間。

於本揭露的一或多個實施方式中，通風口設置於導風牆之靠近兩第一側牆中之一者之一側。

於本揭露的一或多個實施方式中，散熱風罩進一步 包含數個連動桿、擋板以及致動元件。連動桿連接扇葉。擋板連接連動桿。致動元件設置於擋板上，並經由擋板以及連動桿致動扇葉。

為了達到上述目的，依據本揭露之一實施方式，一種散熱風罩的多變化管理控制系統包含散熱風罩、風扇以及處理單元。散熱風罩包含數個扇葉以及致動元件。扇葉設置於散熱風罩之數個通風口中。致動元件配置以致動扇葉。風扇鄰近散熱風罩。處理單元連接風扇以及散熱風罩。處理單元包含熱感應器以及溫控元件。熱感應器配置以感測處理單元之溫度。溫控元件配置以基於溫度控制風扇以及致動元件。

於本揭露的一或多個實施方式中，散熱風罩進一步包含數個連動桿以及擋板。連動桿連接扇葉。擋板連接連動桿，且致動元件設置於擋板上。

於本揭露的一或多個實施方式中，溫控元件配置以：當處理單元之溫度維持恆定時，控制風扇以減少風扇之運轉率，並控制致動元件致動扇葉以增加通風口之開孔率。

於本揭露的一或多個實施方式中，溫控元件配置以：當處理單元之溫度上升時，控制風扇以增加風扇之運轉率或控制致動元件致動扇葉以增加通風口之開孔率。

於本揭露的一或多個實施方式中，溫控元件配置以：當處理單元之溫度下降時，控制風扇以減少風扇之運轉率或控制致動元件致動扇葉以減少通風口之開孔率。

綜上所述，在本揭露之散熱風罩的多變化管理控制 系統中，由於散熱風罩具有導風槽，所以風扇的風流可以穿過導風槽被導流至電子元件的區域(例如，中央處理單元區域)。在本揭露之散熱風罩中，由於散熱風罩具有通風口，所以風扇的風流可以穿過通風口被導流至電子元件的區域(例如，記憶卡區域)。在本揭露之散熱風罩的多變化管理控制系統中，由於通風口中設置有可被調控的扇葉，使得通風口的開孔率可以被調整。在本揭露之散熱風罩的多變化管理控制系統中，由於多變化管理控制系統中包含溫控元件，使得當處理單元的溫度有所變化時，溫控元件可以控制風扇來調整風扇的運轉率，以適時降低風扇的工作負載而延長風扇的使用壽命。在本揭露之散熱風罩的多變化管理控制系統中，由於散熱風罩具有連動桿、擋板以及致動元件，使得當處理單元的溫度有所變化時，致動元件可以受溫控元件的控制來調整扇葉的擺動，以調整通風口的開孔率的變化。藉此，多變化管理控制系統可以根據處理單元的溫度來控制風扇以及扇葉，以靈活調整伺服器系統的散熱效能，並避免熱回流的問題發生。

以上所述僅係用以闡述本揭露所欲解決的問題、解決問題的技術手段、及其產生的功效等等，本揭露之具體細節將在下文的實施方式及相關圖式中詳細介紹。

100,100A,100B:散熱風罩

110:底板

120L,120R:第一側牆

122:第二側牆

124:第三側牆

130:頂板

140:導風牆

142:扇葉

144:連動桿

146:擋板

1100:多變化管理控制系統

AE:致動元件

F:風扇

PU:處理單元

TC:溫控元件

TN:導風槽

TS:熱感應器

VO:通風口

X,Y,Z:方向

為讓本揭露之上述和其他目的、特徵、優點與實施例能更明顯易懂，所附圖式之說明如下： 第1圖繪示根據本揭露之一實施方式之散熱風罩的示意圖。

第2圖繪示根據本揭露之一實施方式之散熱風罩的局部示意圖。

第3圖繪示根據本揭露之一實施方式之通風口以及扇葉的示意圖。

第4圖繪示根據本揭露之一實施方式之通風口以及扇葉的另一示意圖。

第5圖繪示根據本揭露之一實施方式之致動元件、通風口以及扇葉的示意圖。

第6圖繪示根據本揭露之一實施方式之致動元件致動扇葉的剖面示意圖。

第7圖繪示根據本揭露之一實施方式之散熱風罩的俯視圖。

第8圖繪示根據本揭露之一實施方式之散熱風罩的俯視圖。

第9圖繪示根據本揭露之一實施方式之風扇運轉率以及通風口開孔率的關係的表格。

第10圖繪示根據本揭露之一實施方式之處理單元溫度、風扇運轉率以及通風口開孔率的關係的表格。

第11圖繪示根據本揭露之一實施方式之多變化管理控制系統的功能方塊圖。

以下將以圖式揭露本揭露之複數個實施方式，為明確說明起見，許多實務上的細節將在以下敘述中一併說明。然而，應瞭解到，這些實務上的細節不應用以限制本揭露。也就是說，在本揭露部分實施方式中，這些實務上的細節是非必要的。此外，為簡化圖式起見，一些習知慣用的結構與元件在圖式中將以簡單示意的方式繪示之。在所有圖式中相同的標號將用於表示相同或相似的元件。

以下將詳細介紹本實施方式之散熱風罩100所包含的各元件的結構、功能以及各元件之間的連接關係。

請參考第1圖。第1圖為根據本揭露之一實施方式之散熱風罩100的示意圖。在本實施方式中，散熱風罩100設置於伺服器機箱(未繪示)中，並鄰近數個風扇(未繪示)以及電子元件(未繪示，例如中央處理單元(CPU)以及記憶體(DIMM))。更詳細地說，散熱風罩100設置於上述風扇與電子元件之間，並配置以將風扇的風流藉由散熱風罩100導流至上述電子元件。在本實施方式中，如第1圖所示，散熱風罩100包含底板110、第一側牆120L、第一側牆120R、第二側牆122、第三側牆124、頂板130、導風牆140以及導風槽TN。第一側牆120L以及第一側牆120R連接於底板110的兩端。第二側牆122位於第一側牆120L與第一側牆120R之間連接底板110。第三側牆124位於第一側牆120L與第一側牆120R之間連接底板110。頂板130連接第一側牆120L、第一側牆120R、 第二側牆122以及第三側牆124，且頂板130位於底板110上方。導風牆140連接於底板110與頂板130之間。如第1圖所示，導風牆140還具有數個通風口VO。在一些實施方式中，如第1圖所示，導風牆140連接於第一側牆120L與第二側牆122之間。或者，在一些實施方式中，如第1圖所示，導風牆140連接於第一側牆120R與第二側牆122之間。或者，在一些實施方式中，如第1圖所示，導風牆140連接於兩個第三側牆124之間。導風槽TN位於底板110與頂板130之間並穿過導風牆140。在一些實施方式中，如第1圖所示，導風槽TN至少由頂板130、第二側牆122以及第三側牆124所定義。

在一些實施方式中，導風牆140於第一方向(例如，方向X)上延伸。在一些實施方式中，第一側牆120L、第一側牆120R、第二側牆122以及第三側牆124於第二方向(例如，方向Y)上延伸。在一些實施方式中，上述第一方向係與第二方向垂直。在一些實施方式中，第一側牆120L、第一側牆120R、第二側牆122以及第三側牆124自底板110沿著第三方向(例如，方向Z)延伸至頂板130。

在一些實施方式中，第一側牆120L以及第一側牆120R的數量各為一個。在一些實施方式中，第二側牆122以及第三側牆124的數量各為兩個。但本揭露不意欲針對第一側牆120L、第一側牆120R、第二側牆122以及第三側牆124的數量進行限制。

請參考第2圖。第2圖為根據本揭露之一實施方式之散熱風罩100的局部示意圖。如第2圖所示，散熱風罩100進一步包含數個扇葉142。扇葉142位於通風口VO中。在一些實施方式中，扇葉142係樞接於導風牆140，使得扇葉142可以相對於導風牆140擺動。需要說明的是，雖然第2圖僅繪示位於第一側牆120R與第二側牆122之間的通風口VO中設置有扇葉142，但實際上扇葉142可以設置於導風牆140上的每一個通風口VO中。

以下將詳細說明本實施方式之扇葉142如何相對於導風牆140擺動。

請參考第3圖。第3圖為根據本揭露之一實施方式之通風口VO以及扇葉142的示意圖。在本實施方式中，如第3圖所示，扇葉142位於通風口VO中並樞接於導風牆140。在一些實施方式中，扇葉142可以選擇性地被致動。舉例來說，扇葉142的相位可以藉由手動來調整，但本揭露並不以此為限。以第3圖的視角觀之，由於扇葉142位於通風口VO中，因此扇葉142佔據了通風口VO的部分截面積。在本實施方式中，由於扇葉142佔據了通風口VO相對較小部分的截面積，使得通風口VO在如第3圖的所示的情境下具有相對較大的開孔率。在一使用情境中，若處理單元的溫度升高，使用者可以手動調整扇葉142的相位，使得通風口VO具有較大的開孔率，以使風扇的風流在通風口VO的通量較大，從而適切地降低處理單元的溫度。

請參考第4圖。第4圖為根據本揭露之一實施方式之通風口VO以及扇葉142的另一示意圖。以第4圖的視角觀之，由於扇葉142位於通風口VO中，因此扇葉142佔據了通風口VO的部分截面積。更詳細地說，扇葉142可以選擇性地被致動，使得扇葉142可以擺動以佔據通風口VO相對較大部分的截面積，從而使通風口VO在如第4圖的所示的情境下具有相對較小的開孔率。在一使用情境中，若處理單元的溫度降低，使用者可以手動調整扇葉142的相位，使得通風口VO具有較小的開孔率，以使風扇的風流在通風口VO的通量較小，從而適切地降低處理單元的溫度。

接著將詳細說明本揭露的扇葉142相對於導風牆140擺動之另一實施方式。

請參考第5圖。第5圖為根據本揭露之一實施方式之致動元件AE、通風口VO以及扇葉142的示意圖。在本實施方式中，如第5圖所示，散熱風罩100進一步包含致動元件AE。致動元件AE係鄰近扇葉142設置。致動元件AE配置以致動扇葉142。

請參考第6圖。第6圖為根據本揭露之一實施方式之致動元件AE致動扇葉142的剖面示意圖。第6圖繪示了更詳細的扇葉142相對於導風牆140擺動之另一實施方式。在本實施方式中，如第6圖所示，散熱風罩100進一步包含數個連動桿144以及擋板146。連動桿144連接扇葉142。更詳細地說，每一個連動桿144分別對應連接 每一個扇葉142。如第6圖所示，擋板146連接連動桿144。更詳細地說，上述連動桿144可以是例如等間隔地設置於擋板146上。在連動桿144是等間隔地設置於擋板146上的實施方式中，扇葉142是等間隔地設置於通風口VO中。在一些實施方式中，如第6圖所示，致動元件AE設置於擋板146上。藉由前述結構配置，由於致動元件AE設置於擋板146上，故致動元件AE可以經由擋板146帶動連動桿144致動扇葉142，具體來說，致動元件AE可以經由擋板146以及連動桿144以使扇葉142相對於導風牆140擺動。在一使用情境中，當致動元件AE接受來自例如處理單元的與處理單元的溫度相關連的訊號，致動元件AE可以基於上述與處理單元的溫度相關連的訊號致動擋板146(例如，使擋板146相對於導風牆140移動)，設置於擋板146上的連動桿144再連動扇葉142使之相對於導風牆140擺動，以調整通風口VO的開孔率。

在一些實施方式中，如第6圖所示，連動桿144以及致動元件AE設置於擋板146的相反兩側。但本揭露不以此為限。

在一些實施方式中，致動元件AE可以是馬達(Motor)、氣動閥(Pneumatic Valve)、電磁閥(Solenoid Valve)或其他類似的致動元件。

在一些實施方式中，扇葉142可以是塑膠或其他類似的材料。在一些實施方式中，扇葉142可以是塑膠散熱片或其他類似的散熱材料。在一些實施方式中，扇葉142 可以是片狀、條狀或其他類似的形狀。

在一些實施方式中，扇葉142於第一方向(例如，方向X)上拉長延伸。

在一些實施方式中，扇葉142的數量與連動桿144的數量相同。在一些實施方式中，如第6圖所示，扇葉142在通風口VO的數量為五個，但本揭露不以此為限。在一些實施方式中，扇葉142可以具有小於五個或大於五個的數量。舉例來說，如第1圖所示，扇葉142在兩個第三側牆124之間的通風口VO中的數量可以是三個。

在一些實施方式中，扇葉142係以沿著平行於第一方向(例如，方向X)為旋轉軸相對於導風牆140擺動，但本揭露不以此為限。在一些實施方式中，扇葉142以平行於導風牆140自底板110至頂板130延伸的方向為旋轉軸相對於導風牆140擺動。

接著將說明本揭露之一實施方式的散熱風罩100A。

請參考第7圖。第7圖為根據本揭露之一實施方式之散熱風罩100A的俯視圖。第7圖的散熱風罩100A的結構配置與第1圖的散熱風罩100的結構配置大致相同，散熱風罩100A與散熱風罩100的不同之處，在於散熱風罩100A僅在其導風牆140的靠近第一側牆120R的一側具有通風口VO。具體來說，散熱風罩100A在第一側牆120L與第二側牆122之間不具有通風口VO，並且散熱風罩100A的位於兩個第三側牆124之間的導風牆140 上僅具有靠近第一側牆120R的一側(即，右側)的兩個通風口VO。舉例來說，在製造散熱風罩100A的過程中可以不在第一側牆120L與第二側牆122之間形成通風口VO，以及不在位於兩個第三側牆124之間的導風牆140的靠近第一側牆120L的一側(即，左側)形成通風口VO。或者，在一些實施方式中，使用者可以在散熱風罩100的位於第一側牆120L與第二側牆122之間以及位於兩個第三側牆124之間的導風牆140的靠近第一側牆120L的一側貼附例如片狀的聚酯樹脂(Mylar)覆蓋通風口VO，以形成可以達成相同功效的散熱風罩100A。在一使用情境中，若在伺服器機箱中靠近第一側牆120R的一側的電子元件(例如，中央處理單元(CPU)以及記憶體(DIMM))具有相對較大的散熱需求，可以使用散熱風罩100A以適切地降低上述電子元件的溫度。

接著將說明本揭露之散熱風罩100的再一實施方式。

請參考第8圖。第8圖為根據本揭露之一實施方式之散熱風罩100B的俯視圖。第7圖的散熱風罩100B的結構配置與第1圖的散熱風罩100的結構配置大致相同，散熱風罩100B與散熱風罩100的不同之處，在於散熱風罩100B僅在其導風牆140的靠近第一側牆120L的一側具有通風口VO。具體來說，散熱風罩100B在第一側牆120R與第二側牆122之間不具有通風口VO，並且散熱風罩100B的位於兩個第三側牆124之間的導風牆140 上僅具有靠近第一側牆120L的一側(即，左側)的兩個通風口VO。舉例來說，在製造散熱風罩100B的過程中可以不在第一側牆120R與第二側牆122之間形成通風口VO，以及不在位於兩個第三側牆124之間的導風牆140的靠近第一側牆120R的一側(即，右側)形成通風口VO。或者，在一些實施方式中，使用者可以在散熱風罩100的位於第一側牆120R與第二側牆122之間以及位於兩個第三側牆124之間的導風牆140的靠近第一側牆120R的一側貼附例如片狀的聚酯樹脂(Mylar)覆蓋通風口VO，以形成可以達成相同功效的散熱風罩100B。在一使用情境中，若在伺服器機箱中靠近第一側牆120L的一側的電子元件(例如，中央處理單元(CPU)以及記憶體(DIMM))具有相對較大的散熱需求，可以使用散熱風罩100B以適切地降低上述電子元件的溫度。

需要說明的是，第7圖的散熱風罩100A以及第8圖的散熱風罩100B的各元件的結構配置僅位簡單說明而舉例，實際上製造者可以根據不同的使用需求而在導風牆140上的不同位置形成一或多個通風口VO，以提升電子元件的散熱效能。

接著將說明在本揭露的不同使用情境中風扇的運轉率與通風口VO的開孔率的關係。

請參考第9圖。第9圖為根據本揭露之一實施方式之風扇運轉率以及通風口VO開孔率的關係的表格。更詳細地說，第9圖繪示了處理單元在一恆定溫度的狀態下 數個風扇運轉率以及通風口VO開孔率的配置。在一使用情境中，若處理單元的溫度維持恆定，處理單元可以同時控制風扇以及設置於通風口VO中的扇葉142的相位。舉例來說，處理單元可以控制風扇的運轉率為25%且通風口VO的開孔率為100%，或者可以控制風扇的運轉率為50%且通風口VO的開孔率為50%，或者可以控制風扇的運轉率為75%且通風口VO的開孔率為25%，或者可以控制風扇的運轉率為100%且通風口VO的開孔率為0%。在風扇的運轉率相對較低的配置的實施方式中，風扇的工作負載可以降低而延長風扇的使用壽命。

請參考第10圖。第10圖為根據本揭露之一實施方式之處理單元溫度、風扇運轉率以及通風口VO開孔率的關係的表格。更詳細地說，第10圖繪示了處理單元在不同溫度的狀態下數個風扇運轉率以及通風口VO開孔率的配置。在一使用情境中，處理單元可以根據其溫度的變化控制設置於通風口VO中的扇葉142的相位，具體來說，當處理單元溫度較高時，通風口VO的開孔率亦較高，而當處理單元溫度較低時，通風口VO的開孔率亦較低。舉例來說，如第10圖所示，當處理單元溫度高時，處理單元可以控制風扇的運轉率為100%且通風口VO的開孔率為100%，或者當處理單元溫度次高時，處理單元可以控制風扇的運轉率為100%且通風口VO的開孔率為90%，或者當處理單元溫度次低時，處理單元可以控制風扇的運轉率為100%且通風口VO的開孔率為80%，或者當處理單元 溫度低時，處理單元可以控制風扇的運轉率為100%且通風口VO的開孔率為70%。在如以上之風扇的運轉率維持恆定的配置的實施方式中，通風口VO中的扇葉142的相位可以適應性的根據處理單元溫度來改變。

接著將詳細說明本揭露之一實施方式的散熱風罩100的多變化管理控制系統1100如何控制風扇F以及散熱風罩100的各元件。

請參考第11圖。第11圖為根據本揭露之一實施方式之多變化管理控制系統1100的示意圖。在本實施方式中，多變化管理控制系統1100包含處理單元PU、風扇F以及散熱風罩100。處理單元PU連接風扇F以及散熱風罩100。處理單元PU包含熱感應器TS以及溫控元件TC。風扇F設置鄰近於散熱風罩100。散熱風罩100至少包含致動元件AE以及扇葉142。在一些實施方式中，散熱風罩100進一步包含連動桿144以及擋板146。需要說明的是，散熱風罩100的其他各元件已在上文詳細說明，故此處不再贅述。在一些實施方式中，多變化管理控制系統1100使用了演算法，此演算法根據處理單元PU的熱感應器TS感測到的溫度之讀數作為其輸入參數。當溫控元件TC收到上述輸入參數時，將定期評估處理單元PU的區域周邊的溫度(即，熱感應器TS感測到的溫度)，並根據上述溫度判斷套用上述演算法以控制風扇F以及扇葉142。藉由前述結構配置，處理單元PU的熱感應器TS感測處理單元PU的溫度，處理單元PU的溫控元件TC基於上述溫 度控制風扇F以及致動元件AE。具體來說，溫控元件TC配置以控制風扇F以調整風扇F的運轉率，並控制致動元件AE致動扇葉142以調整通風口VO的開孔率。風扇F提供風流通過散熱風罩100至處理單元PU，以對處理單元PU散熱。

請同時參考第9圖以及第11圖。在一使用情境中，當處理單元PU的溫度維持恆定時，溫控元件TC控制風扇F以減少風扇F的運轉率，並控制致動元件AE致動扇葉142以增加通風口VO之開孔率。或者，溫控元件TC控制風扇F以增加風扇F的運轉率，並控制致動元件AE致動扇葉142以減少通風口VO的開孔率。

請同時參考第10圖以及第11圖。在一使用情境中，當處理單元PU的溫度上升時，溫控元件TC控制致動元件AE致動扇葉142以增加通風口VO的開孔率。當處理單元PU的溫度下降時，溫控元件TC控制致動元件AE致動扇葉142以減少通風口VO的開孔率。

或者，在其他實施方式中，當處理單元PU的溫度上升時，溫控元件TC控制風扇F以增加風扇F的運轉率。當處理單元PU的溫度下降時，溫控元件TC控制風扇F以減少風扇F的運轉率。

在一些實施方式中，熱感應器TS可以是溫度感測器或其他類似的感測器。

在一些實施方式中，溫控元件TC可以是基板管理控制(Board Management Controller；BMC)晶片或 其他類似的溫控元件。

在一些實施方式中，上述演算法可以是有關於在BMC的規格中的熱節流演算法。

由以上對於本揭露之具體實施方式之詳述，可以明顯地看出，在本揭露之散熱風罩的多變化管理控制系統中，由於散熱風罩具有導風槽，所以風扇的風流可以穿過導風槽被導流至電子元件的區域(例如，中央處理單元區域)。在本揭露之散熱風罩中，由於散熱風罩具有通風口，所以風扇的風流可以穿過通風口被導流至電子元件的區域(例如，記憶卡區域)。在本揭露之散熱風罩的多變化管理控制系統中，由於通風口中設置有可被調控的扇葉，使得通風口的開孔率可以被調整。在本揭露之散熱風罩的多變化管理控制系統中，由於多變化管理控制系統中包含溫控元件，使得當處理單元的溫度有所變化時，溫控元件可以控制風扇來調整風扇的運轉率，以適時降低風扇的工作負載而延長風扇的使用壽命。在本揭露之散熱風罩的多變化管理控制系統中，由於散熱風罩具有連動桿、擋板以及致動元件，使得當處理單元的溫度有所變化時，致動元件可以受溫控元件的控制來調整扇葉的擺動，以調整通風口的開孔率的變化。藉此，多變化管理控制系統可以根據處理單元的溫度來控制風扇以及扇葉，以靈活調整伺服器系統的散熱效能，並避免熱回流的問題發生。

在本揭露的一實施方式中，本揭露之散熱風罩係可應用於伺服器，該伺服器係可用於人工智慧(Artificial Intelligence，簡稱AI)運算、邊緣運算(edge computing)，亦可當作5G伺服器、雲端伺服器或車聯網伺服器使用。

雖然本揭露已以實施方式揭露如上，然其並不用以限定本揭露，任何熟習此技藝者，在不脫離本揭露的精神和範圍內，當可作各種的更動與潤飾，因此本揭露的保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。

100:散熱風罩

110:底板

120L,120R:第一側牆

122:第二側牆

124:第三側牆

130:頂板

140:導風牆

TN:導風槽

VO:通風口

X,Y,Z:方向

Claims (4)

1. 一種散熱風罩的多變化管理控制系統，包含：一散熱風罩，包含：複數個扇葉，設置於該散熱風罩之複數個通風口中；以及一致動元件，配置以致動該些扇葉；一風扇，鄰近該散熱風罩；以及一處理單元，連接該風扇以及該散熱風罩並包含一熱感應器以及一溫控元件，其中該熱感應器配置以感測該處理單元之一溫度，該溫控元件配置以基於該溫度控制該風扇以及該致動元件，且該溫控元件進一步配置以在該處理單元之該溫度維持恆定時，控制該風扇以減少該風扇之一運轉率，並控制該致動元件致動該些扇葉以增加該些通風口之一開孔率。
2. 如請求項1所述之多變化管理控制系統，其中該散熱風罩進一步包含：複數個連動桿，連接該些扇葉；以及一擋板，連接該些連動桿，且該致動元件設置於該擋板上。
3. 如請求項1所述之多變化管理控制系統，其中該溫控元件進一步配置以： 當該處理單元之該溫度上升時，控制該風扇以增加該風扇之該運轉率或控制該致動元件致動該些扇葉以增加該些通風口之該開孔率。
4. 如請求項1所述之多變化管理控制系統，其中該溫控元件進一步配置以：當該處理單元之該溫度下降時，控制該風扇以減少該風扇之該運轉率或控制該致動元件致動該些扇葉以減少該些通風口之該開孔率。

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