TWI796764B - 光學顯示器結構 - Google Patents
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Abstract
一種光學顯示器結構，包括基底層、光源層及上蓋層，基底層包含基板與至少一排線佈置層。光源層設置於基底層上，以提供光源並發射複數條光線。上蓋層設置於光源層之上，封合所述的光學顯示器結構。一上層光遮擋層係可選擇性地設置於光源層上，以利用上層光遮擋層屏蔽光源層所發射之該些光線之間所產生的串音干擾。一下層光遮擋層亦可選擇性地設置於基底層下方，以利用下層光遮擋層屏蔽基板背面的反射光。較佳地，在光學顯示器結構中亦可同時設有所述的上、下層光遮擋層，以同時遮擋串音干擾與基板背面反射光，實現本發明最佳化之發明功效。
Description
本發明係有關於一種具有多層薄膜堆棧結構設計之屏幕顯示器裝置，特別是一種在其中利用黑色矩陣作為光遮擋層以提升其顯示解析度與透視度之光學顯示器結構。
近年來，隨著資訊技術、無線通訊及資訊家電的快速發展與廣泛應用，許多資訊產品的操作介面已由傳統的鍵盤或滑鼠改為使用觸控面板作為輸入裝置，並常與顯示裝置一併作結合，作為常見的面板顯示器裝置。一般而言，現有的面板顯示器裝置已被大量地運用於工作及生活中，並且，可依據其上所設置有的感應區域用以感應人體的手指或類似於觸控筆之書寫工具，藉此來達到觸控的目的。舉例而言，觸控面板顯示器裝置依據其原理，可分為電阻式、電容式、紅外線式，和表面聲波式等等。
而其中，電子顯示裝置是一種幾乎無所不在的媒介，用於向各種設備和產品的使用者傳達訊息。最常用的電子顯示裝置包括陰極射線管（CRT）、電漿顯示面板（PDP）、液晶顯示器（LCD）、電致發光顯示器（EL）、發光二極體（LED）顯示器、主動式矩陣有機發光二極體（AMOLED）顯示器、電泳顯示器（EP）、和使用機電或電流體光調變的各種顯示器（例如，數位微鏡裝置、電潤濕顯示器）等等。一般而言，發光二極體（LED）顯示器由於係採用低電壓掃描驅動，具有：低耗電、使用壽命長、成本低、發光亮度高、故障率低、視角大、以及可視距離遠等優勢，故較其他顯示器種類更為市場所廣泛地使用。然而，在現有的發光二極體顯示器結構中，由於常採用多層的薄膜堆棧結構設計，又，不同層的薄膜之間係具有不一樣的材料折射率與散射能力，在此條件之下，常會在堆棧的結構中導致許多雜散光的產生，進而降低透明發光二極體薄膜顯示器的解析度，並影響其透視度與對比度。
請配合參見本發明圖示第1圖與第2圖所示，其係為現有發光二極體顯示器裝置在其正面所觀察到的雜散光模擬示意圖，其中第2圖中所示之圓形區域P1係為一雜散光分析區域。詳細來看，其雜散光路徑係包含有如第3圖所示的發光二極體串音干擾、如第4圖所示的金屬網格反射、以及如第5圖所示的底部反射等問題。其中，第3圖所示的發光二極體串音干擾係來自於發光二極體陣列中較大的雜散角度，第4圖所示的金屬網格反射係來自於發光二極體光源經過上覆蓋玻璃層反射回金屬網格再反射至上覆蓋玻璃層所形成，而第5圖所示的底部反射則來自於發光二極體光源經過上覆蓋玻璃層反射回底部之橡膠層再反射至上覆蓋玻璃層所形成。
除此之外，第6圖與第7圖又更進一步揭露從發光二極體顯示器裝置在其背面所觀察到的雜散光模擬示意圖，其個別之光通量係近乎於2360勒克斯（lux）與851勒克斯。詳細來說，發光二極體顯示器裝置背面的雜散光路徑係包括有如第8圖與第9圖所示的反射光干擾，其中，當發光二極體光源經過上覆蓋玻璃層反射回底部之橡膠層時，其雜散光路徑係如第8圖所示，至於發光二極體光源經過上層橡膠層再反射回底部之橡膠層時，其雜散光路徑則如第9圖所示。從上揭這些種種雜散光的模擬分析，可以明顯看出，由於發光二極體顯示器裝置中多層的薄膜堆棧結構設計，又，其中每一層薄膜之間係具有相異的材料折射率與散射能力，導致這些由反射所造成之種種雜散光，將會影響最終顯示器影像的成像效果，並降低其影像解析度與透視度，對於顯示器之顯示效果以及使用者之觀看品質形成嚴重之劣化。
有鑒於此，本發明人係有感於上述缺失之可改善，且依據多年來從事此方面之相關經驗，悉心觀察且研究之，並配合學理之運用，而提出一種設計新穎且有效改善上述缺失之本發明，其係揭露一種改良後之光學顯示器結構，其具體之架構及實施方式將詳述於下。
為解決習知技術存在的問題，本發明之一目的係在於提供一種光學顯示器結構，其係針對現行的發光二極體薄膜顯示器裝置作一改良，相較於現有技藝，此一創新之光學顯示器結構係有助於遮擋雜散光，進而提升透明發光二極體薄膜顯示器裝置的解析度、透明度、以及對比度，藉此提供較佳的透視度與影像品質。
本發明之又一目的係在於提供一種光學顯示器結構，其係藉由在發光二極體光源之上層或下層設置一上層光遮擋層或一下層光遮擋層，通過這些光遮擋層可以達到吸收光學的效果，以有效屏蔽雜散光。根據本發明所揭露之技術方案，亦可同時選在發光二極體光源層之雙面皆設置有所述的上層光遮擋層與下層光遮擋層，以更進一步優化本發明之發明功效。
除此之外，本發明之再一目的係在於提供一種適於大型屏幕之光學顯示器結構，其中所設計使用的光遮擋層係可通過黑色矩陣來形成，當發光二極體光源層之雙面皆設置有所述的上層光遮擋層與下層光遮擋層時，這些上層、下層光遮擋層的相對位置可以是一致，亦可以呈現錯位設計，其黑色矩陣的外型亦可因應實際產品需求而設計為任何形狀，基於此等變化性，本發明確信可符合不同產品之應用需求與產業效益，更可廣泛運用於觸控產品及其領域。
鑒於以上，本發明係揭露一種光學顯示器結構，其係包括：一基底層，係包括一基板與至少一排線佈置層；一光源層，其係設置於該基底層之上，以提供光源並發射出複數條光線；一上層光遮擋層，設置於光源層之上，所述的上層光遮擋層係用以屏蔽光源層所發射之該些光線之間所產生的串音干擾；以及一上蓋層，其係設置於上層光遮擋層之上，以封合該光學顯示器結構。
其中，根據本發明之一實施例，所述之光源層係可包括一發光二極體陣列，其係包含複數個發光二極體以提供該光源並發射出該些光線。
在一實施例中，其中，排線佈置層係可選擇性地僅設置於所述基板之一上表面或者所述基板之一下表面。在另一實施例中，基底層中亦可包括有二該排線佈置層，使一該排線佈置層係設置於所述基板之一上表面，另一該排線佈置層係設置於所述基板之一下表面，則亦可用以實施本發明之實施態樣。
一接合層係設置於上層光遮擋層與光源層之間，並包括一熱塑材料層，其係鄰近設置於光源層，並通過一光學透明膠層接合於上層光遮擋層。另一方面，上蓋層係包括一上玻璃材質層，並通過一光學透明膠層接合於上層光遮擋層。
根據本發明之實施例，其中，所述的上層光遮擋層係可包括一黑色矩陣結構，所述的黑色矩陣結構係可通過額外貼附、黃光製程、絲網印刷、或墨水印刷等方式形成於上層光遮擋層中，以利用這些黑色矩陣結構的吸收光學效果，達到遮擋與屏蔽該光源層所發射光線之間所產生串音干擾之目的。
更進一步而言，本發明更可進一步地在所述的基底層之下方設置一下層光遮擋層，以利用該下層光遮擋層屏蔽基板之背面的反射光。根據本發明之一較佳實施例，其中，所述的下層光遮擋層亦可包括有另一黑色矩陣結構，該另一黑色矩陣結構亦可通過額外貼附、黃光製程、絲網印刷、或墨水印刷等方式形成於所述的下層光遮擋層中。有鑑於此，本發明更可進一步地利用下層光遮擋層中的黑色矩陣結構之吸收光學效果，達到遮擋與屏蔽該基板之背面的反射光之目的。
其中，值得說明的是，在本發明之較佳實施例中，當上層光遮擋層與下層光遮擋層係同時形成於基板的雙面時，其各自所包含的黑色矩陣結構更可不侷限其外型與位置配置等關係。舉例來說，本發明所揭露上層光遮擋層之黑色矩陣結構與下層光遮擋層之黑色矩陣結構的設置位置係可為一致的，或者，該些黑色矩陣結構之設置位置亦可為錯位設計的，緣此，基於此變化性，本發明更可進一步地滿足與因應不同顯示器產品的需求與多樣性，以廣泛提升本發明之應用性與符合市場需求。
另一方面而言，本發明並不以上列所舉之數種實施態樣為限。根據本發明之再一實施例，則本發明所公開之光學顯示器結構也可以選擇性地僅設置有下層光遮擋層於基底層之下方，以藉由下層光遮擋層屏蔽與遮擋基板之背面的反射光。本領域具通常知識之技術人士，自然可依據本發明所教示之技術思想與技術方案，自行根據其規範及需求設置所需之上層光遮擋層、下層光遮擋層、或是同時設置所需之上層光遮擋層以及下層光遮擋層。惟，在不脫離本發明之精神下，基於其均等論可有效改善現有技術所存在之諸多缺失者，則其變化例仍應隸屬於本發明之發明範圍。
在底下的實施方式段落中，本申請人係進一步藉由揭露其具體實施例，配合所附的圖式詳加說明，當更容易瞭解本發明之目的、技術內容、特點及其所達成之功效。
以上有關於本發明的內容說明，與以下的實施方式係用以示範與解釋本發明的精神與原理，並且提供本發明的專利申請範圍更進一步的解釋。有關本發明的特徵、實作與功效，茲配合圖式作較佳實施例詳細說明如下。
承以前列先前技術所舉，由於現有的發光二極體顯示器裝置，其係多由複數層的薄膜堆棧結構所組成，基於其中每一層薄膜皆具有相異的材料折射率與散射能力，導致從這些不同的薄膜層反射所形成之種種雜散光，將會影響最終顯示器影像的成像效果，並降低其顯示影像的解析度與透視度。有鑑於此，本發明遂針對這些種種缺失提出一種較佳的改良設計，其係揭露一種光學顯示器結構，請參閱第10圖所示，其係為根據本發明一第一實施例之光學顯示器結構之剖面示意圖，如圖所示，光學顯示器結構100係包括一光源層10，該光源層10例如可包含一發光二極體陣列，其係具有複數個發光二極體，以通過該些發光二極體提供光源並發射出複數條光線。
該光源層10係設置於一基底層20之上，所述的基底層20係包括一基板21與至少一排線佈置層22。根據本發明之實施例，排線佈置層22例如可以是由金屬走線所形成之金屬網格（metal mesh），在本發明之其他實施例中，排線佈置層22亦可以是非金屬材質之走線，惟本發明並不以此為限。除此之外，排線佈置層22亦可選擇性地僅設置於基板21之一上表面，或者是，排線佈置層22亦可選擇性地僅設置於基板21之一下表面。在本實施例中，申請人係以基板21之上表面與下表面皆形成有所述的排線佈置層22作為一示性例進行說明，其目的乃在於使本領域之技術人士可善加理解本發明之技術思想，而並非用以限制本發明之發明範疇。大抵而言，本技術領域具備通常知識之人士，當可根據其實際產品之規格與需求自行設置其排線佈置層，惟在本發明之均等範圍內，皆應隸屬於本發明之發明範疇。
一上層光遮擋層12係設置於光源層10之上，一接合層30係設置於所述的上層光遮擋層12與光源層10之間，其中，接合層30係包括一熱塑材料層31，其係鄰近設置該光源層10，並通過一光學透明膠層（optical clear adhesive，OCA）32接合於所述的上層光遮擋層12。根據本發明之實施例，上層光遮擋層12係用以遮擋並屏蔽該光源層10所發射之光線之間所產生的串音干擾（cross-talk）。
根據本發明之實施例，基板21之材質例如可以是但不限於聚酯（PET）或透明聚醯亞胺（Colorless Polyimide，CPI）基板。接合層30所使用之熱塑材料層31的材質例如可為一天然橡膠或一合成橡膠，其係通過由乙烯（E）和乙酸乙烯酯（VA）共聚所製成的乙烯/乙酸乙烯酯共聚物（ethylene vinyl acetate，EVA）。一般來說，EVA的特點在於具有良好的柔軟性與橡膠一樣的彈性，即便在攝氏-50℃仍能具有較好的可撓性、透明性和表面光澤性好，除此之外，EVA之化學穩定性良好、抗老化與耐臭氧強度良好，且無毒性。在常溫下為固體，加熱熔融到一定程度即變為能流動，並具有一定黏度的液體，因此常見可廣泛用於屏幕或面板顯示器結構中的熱塑材料或熱熔黏著材料。
上蓋層40係設置於所述的上層光遮擋層12之上，其係包括一上玻璃材質層（cover glass）41，並通過一光學透明膠層42接合於所述的上層光遮擋層12，以封合所述的光學顯示器結構100。
如前揭圖式第3圖至第5圖所示，基於透明發光二極體薄膜的雜散光分析模擬，其雜散光有部分係來自於基板上層的發光二極體串音干擾，有鑑於此，為了改善此缺失，本發明遂在於光源層10之上方設置有所述的上層光遮擋層12，以通過此上層光遮擋層12屏蔽光源層10所發射之複數條光線之間所產生的串音干擾。請配合參閱第11圖所示，其係為根據本發明實施例之上層光遮擋層之上視圖。根據本發明之實施例，上層光遮擋層12係包括一黑色矩陣（black matrix）結構BM1，所述的黑色矩陣結構BM1例如可以通過額外貼附、黃光製程、絲網印刷、或墨水印刷等方式形成於上層光遮擋層12之中。在一實施例中，當黑色矩陣結構BM1係通過額外貼膜形成時，其材質例如可為鉻（Cr）或氧化鉻（CrOx）鍍膜。緣此，本發明係可通過上層光遮擋層12之黑色矩陣結構BM1，達到吸收雜散光的光學效果，有效遮擋屏蔽基板之正面的雜散光，由此實現並提升光學顯示器結構之透光性與透視度。
更進一步而言，如本發明前揭圖式第8圖至第9圖所示，基於透明發光二極體薄膜的雜散光分析模擬，其雜散光亦有另一部分係來自於基板底層背面的反射光干擾，有鑑於此，為了改善此缺失，請參閱第12圖所示，其係為根據本發明一第二實施例之光學顯示器結構之剖面示意圖，在本發明第二實施例所揭露之光學顯示器結構102中，本發明更可在基底層20之下方亦進一步設置有一下層光遮擋層14，其係通過一接合層30接合於基底層20。其中，接合層30包含熱塑材料層31，其係鄰近設置排線佈置層22，並通過光學透明膠層32接合於所述的下層光遮擋層14。緣此，本發明便可以進一步地通過此下層光遮擋層14屏蔽基板21之背面的反射光。
請配合參閱第13圖所示，其係為根據本發明第二實施例之光學顯示器結構，其中所使用之下層光遮擋層之示意圖。根據本發明之實施例，下層光遮擋層14係包括一黑色矩陣（black matrix）結構BM2，所述的黑色矩陣結構BM2例如可以通過額外貼附、黃光製程、絲網印刷、或墨水印刷等方式形成於下層光遮擋層14之中。在一實施例中，當黑色矩陣結構BM2係通過額外貼膜形成時，其材質例如可為鉻（Cr）或氧化鉻（CrOx）鍍膜。緣此，本發明係可通過下層光遮擋層14之黑色矩陣結構BM2，達到吸收雜散光的光學效果，有效遮擋並屏蔽基板背面之反射的雜散光，由此再更進一步地實現並提升光學顯示器結構之透光性與透視度。
值得說明的是，根據本發明之第二實施例，當光學顯示器結構102同時在其基板21的正面與背面皆設置有所述的上層光遮擋層12與下層光遮擋層14時，其各自所包含的黑色矩陣結構BM1與BM2的設置位置係可為一致的或者是呈錯位設計。除此之外，黑色矩陣結構BM1與BM2的外型亦可因應不同光學顯示器產品需求而設計為任何形狀，大抵而言，本技術領域具通常知識之人士當可在本發明所教示之技術思想下自行修飾其變化例，惟在本發明之均等且不脫離本發明之發明精神下，仍應隸屬於本發明之發明範疇。
綜合上述，基於此等黑色矩陣結構之外型與設置位置的多樣性與變化性，可以確信的是，本發明所公開之技術方案實可符合不同產品之應用需求與產業效益，更可進一步結合於觸控感應區域，以廣泛應用於觸控產品及其領域。
另一方面而言，根據本發明所教示之技術方案，則光學顯示器結構亦可選擇性地僅在其基板之背面設置有所述的下層光遮擋層14，如本發明之第三實施例所公開者，請參閱圖式第14圖所示，其係揭露本發明一第三實施例之光學顯示器結構之剖面示意圖。如第14圖所示，光學顯示器結構101包括光源層10、基底層20、上蓋層40、接合層30以及下層光遮擋層14。位於基底層20底下之接合層30係包括熱塑材料層31，其係鄰近設置排線佈置層22，並通過光學透明膠層32接合於下層光遮擋層14。下層光遮擋層14之結構特徵係如前揭第13圖所示，可包括黑色矩陣結構BM2，該黑色矩陣結構BM2例如可以通過額外貼附、黃光製程、絲網印刷、或墨水印刷等方式形成於下層光遮擋層14之中。緣此，當光源層10所發射之光線投射到上蓋層40並反射回基底層20時，下層光遮擋層14係可以有效遮擋並屏蔽該基板21之背面的反射光。是以，有鑑於此結構特徵，本發明係可通過下層光遮擋層14之黑色矩陣結構BM2，達到吸收雜散光的光學效果，有效遮擋並屏蔽基板背面之反射的雜散光。
綜觀以上，鑒於本發明所公開的技術方案，本發明之重要核心技術乃在於在基板之正面或背面設置有光遮擋層，其中，位於基板正面的光遮擋層係可以屏蔽發光源之間的串音干擾，位於基板背面的光遮擋層係可以屏蔽基板背面之反射光。在本發明之較佳實施例中，為了進一步優化本發明之發明功效，則光學顯示器結構亦可同時選擇在其基板之正面與背面皆設置有所述的上層光遮擋層與下層光遮擋層，以同時屏蔽發光源間的串音干擾與基板背面的反射光，由此提升透明顯示器薄膜的解析度、透視度與對比度。在本發明之較佳實施例中，當上層光遮擋層與下層光遮擋層係同時形成於基板的雙面時，其所包含的黑色矩陣結構更可不侷限其外型與位置配置等關係，藉此滿足與因應不同顯示器產品的需求與多樣性，以廣泛提升本發明之應用性與符合市場需求。
是以，鑒於以上所述，可明顯觀之，相較於習知技術，本發明所揭露之新穎的光學顯示器結構係可有效解決先前技術中尚存的問題，使發光二極體面板裝置可具有較佳的透視度與影像品質。值得提醒的是，根據本發明所教示之技術方案，本領域具通常知識者當可在其實際實施層面上自行變化其設計，而皆屬於本發明之發明範圍。本發明在前述段落中所列舉出之數個示性例，其目的是為了善加解釋本發明主要之技術特徵，而使本領域人員可理解並據以實施之，唯本發明當不以該些示性例為限。
除此之外，根據本發明所揭露之光學顯示器結構，亦可廣泛兼用於不限於光源是否為二極體元件的顯示器裝置上，皆可應用本發明，惟本發明所能應用之範疇亦不以此為限。由此可以確信的是，根據本發明所揭露之技術方案，確實具有極佳之產業利用性及競爭力。顯見本發明所揭露之技術特徵、方法手段與達成之功效係顯著地不同於現行方案，實非為熟悉該項技術者能輕易完成者，故應具備有專利要件。
10…光源層
12…上層光遮擋層
14…下層光遮擋層
20…基底層
21…基板
22…排線佈置層
30…接合層
31…熱塑材料層
32…光學透明膠層
40…上蓋層
41…上玻璃材質層
42…光學透明膠層
100, 101, 102…光學顯示器結構
BM1, BM2…黑色矩陣結構
P1…圓形區域
第1圖係為現有發光二極體顯示器裝置在其正面所觀察到的雜散光模擬示意圖。
第2圖係為現有發光二極體顯示器裝置在其正面所觀察到的雜散光模擬示意圖。
第3圖係為現有發光二極體顯示器裝置在其正面所具有之一雜散光路徑示意圖。
第4圖係為現有發光二極體顯示器裝置在其正面所具有之另一雜散光路徑示意圖。
第5圖係為現有發光二極體顯示器裝置在其正面所具有之又一雜散光路徑示意圖。
第6圖係為現有發光二極體顯示器裝置在其背面所觀察到的雜散光模擬示意圖。
第7圖係為現有發光二極體顯示器裝置在其背面所觀察到的雜散光模擬示意圖。
第8圖係為現有發光二極體顯示器裝置在其背面所具有之一雜散光路徑示意圖。
第9圖係為現有發光二極體顯示器裝置在其背面所具有之另一雜散光路徑示意圖。
第10圖係為根據本發明一第一實施例之光學顯示器結構之剖面示意圖。
第11圖係為根據本發明第一實施例之光學顯示器結構，其中所使用之上層光遮擋層之示意圖。
第12圖係為根據本發明一第二實施例之光學顯示器結構之剖面示意圖。
第13圖係為根據本發明第二實施例之光學顯示器結構，其中所使用之下層光遮擋層之示意圖。
第14圖係為根據本發明一第三實施例之光學顯示器結構之剖面示意圖。
10…光源層
12…上層光遮擋層
14…下層光遮擋層
20…基底層
21…基板
22…排線佈置層
30…接合層
31…熱塑材料層
32…光學透明膠層
40…上蓋層
41…上玻璃材質層
42…光學透明膠層
102…光學顯示器結構
Claims (23)
- 一種光學顯示器結構，包括：一基底層，係包括一基板與至少一排線佈置層；一光源層，其係設置於該基底層之上，以提供光源並發射出複數條光線；一上層光遮擋層，其係設置於該光源層之上，該上層光遮擋層係用以屏蔽該光源層所發射之該些光線之間所產生的串音干擾；一下層光遮擋層，其係設置於該基底層之下方，該下層光遮擋層係用以屏蔽該基板之背面的反射光，其中，該下層光遮擋層係包括一黑色矩陣結構，該黑色矩陣結構係通過額外貼附、黃光製程、絲網印刷、或墨水印刷方式形成於該下層光遮擋層中；以及一上蓋層，其係設置於該上層光遮擋層之上，以封合該光學顯示器結構。
- 如請求項1所述之光學顯示器結構，其中，該基底層中的該至少一排線佈置層係選擇性地設置於該基板之一上表面或該基板之一下表面。
- 如請求項1所述之光學顯示器結構，其中，該基底層係包括二該排線佈置層，其中，一該排線佈置層係設置於該基板之一上表面，另一該排線佈置層係設置於該基板之一下表面。
- 如請求項1所述之光學顯示器結構，更包括一接合層，其係設置於該上層光遮擋層與該光源層之間。
- 如請求項4所述之光學顯示器結構，其中，該接合層係包括一熱塑材料層，其係鄰近設置該光源層，並通過一光學透明膠層接合於該上層光遮擋層。
- 如請求項1所述之光學顯示器結構，其中，該上蓋層係包括一上玻璃材質層，並通過一光學透明膠層接合於該上層光遮擋層。
- 如請求項1所述之光學顯示器結構，其中，該上層光遮擋層係包括一黑色矩陣結構，該黑色矩陣結構係通過額外貼附、黃光製程、絲網印刷、或墨水印刷等方式形成於該上層光遮擋層中。
- 如請求項1所述之光學顯示器結構，更包括一接合層，其係設置於該下層光遮擋層與該基底層之間。
- 如請求項8所述之光學顯示器結構，其中，該接合層係包括一熱塑材料層，其係鄰近設置該至少一排線佈置層，並通過一光學透明膠層接合於該下層光遮擋層。
- 如請求項1所述之光學顯示器結構，其中，該上層光遮擋層與該下層光遮擋層係各自包括一黑色矩陣結構，該上層光遮擋層之該黑色矩陣結構與該下層光遮擋層之該黑色矩陣結構的設置位置係可為一致或錯位設計。
- 如請求項1所述之光學顯示器結構，其中，該光源層係包括一發光二極體陣列，其係包含複數個發光二極體以提供該光源並發射出該些光線。
- 一種光學顯示器結構，包括：一基底層，係包括一基板與至少一排線佈置層；一光源層，其係設置於該基底層之上，以提供光源並發射出複數條光線；一上蓋層，其係設置於該光源層之上，以封合該光學顯示器結構；以及一下層光遮擋層，其係設置於該基底層之下方，其中，當該光源層所發射之該些光線投射到該上蓋層並反射至該基底層時，該下層光遮擋層係用以屏蔽該基板之背面的反射光，其中，該下層光遮擋層係包括一黑色矩陣結構，該黑色矩陣結構係通過額外貼附、黃光製程、絲網印刷、或墨水印刷方式形成於該下層光遮擋層中。
- 如請求項12所述之光學顯示器結構，其中，該基底層中的該至少一排線佈置層係選擇性地設置於該基板之一上表面或該基板之一下表面。
- 如請求項12所述之光學顯示器結構，其中，該基底層係包括二該排線佈置層，其中，一該排線佈置層係設置於該基板之一上表面，另一該排線佈置層係設置於該基板之一下表面。
- 如請求項12所述之光學顯示器結構，更包括一接合層，其係設置於該下層光遮擋層與該基底層之間。
- 如請求項15所述之光學顯示器結構，其中，該接合層係包括一熱塑材料層，其係鄰近設置該至少一排線佈置層，並通過一光學透明膠層接合於該下層光遮擋層。
- 如請求項12所述之光學顯示器結構，更包括一上層光遮擋層，其係設置於該光源層與該上蓋層之間，該上層光遮擋層係用以屏蔽該光源層所發射之該些光線之間所產生的串音干擾。
- 如請求項17所述之光學顯示器結構，更包括一接合層，其係設置於該上層光遮擋層與該光源層之間。
- 如請求項18所述之光學顯示器結構，其中，該接合層係包括一熱塑材料層，其係鄰近設置該光源層，並通過一光學透明膠層接合於該上層光遮擋層。
- 如請求項17所述之光學顯示器結構，其中，該上蓋層係包括一上玻璃材質層，並通過一光學透明膠層接合於該上層光遮擋層。
- 如請求項17所述之光學顯示器結構，其中，該上層光遮擋層係包括一黑色矩陣結構，該黑色矩陣結構係通過額外貼附、黃光製程、絲網印刷、或墨水印刷等方式形成於該上層光遮擋層中。
- 如請求項17所述之光學顯示器結構，其中，該上層光遮擋層與該下層光遮擋層係各自包括一黑色矩陣結構，該上層光遮擋層之該黑色矩陣結構與該下層光遮擋層之該黑色矩陣結構的設置位置係可為一致或錯位設計。
- 如請求項12所述之光學顯示器結構，其中，該光源層係包括一發光二極體陣列，其係包含複數個發光二極體以提供該光源並發射出該些光線。
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