TWI770868B - 光學裝置 - Google Patents

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Abstract

本揭露提供一種光學裝置。該光學裝置包含一基板和複數個濾光片。該等複數個濾光片置於該基板上方。每一該等濾光片包含一支撐體、一濾光片層和一中心對稱墊片。該支撐體具有一第一側面和與該第一側面相對的一第二側面。該濾光片層在該第一側面上。該墊片通過該第一側面上的一第二黏著劑層附接到該第一側面。該中心對稱墊片附接到該濾光片層，該濾光片層的至少一外圍部分沒有被該中心對稱墊片覆蓋。

Description

光學裝置
本揭露係關於一種光學裝置，特別是具有高密度分波多工(Dense wavelength-division multiplexing，DWDM)濾光片結構的光學裝置，其在寬操作溫度之下，例如在工業級範圍之內，於中心波長偏移(Central wavelength shifting，CWTS)和極化相依損耗(Polarization dependent loss，PDL)方面具有良好且穩定的性能。
分波多工(Wavelength-division multiplexing，WDM)是一種將多種不同波長的光多工(例如相加)到單一光纖上，並從單一光纖中解多工為(例如分路)多種不同波長的光的技術，從而增加資訊容量並實現雙向訊號傳輸。複數個光訊號在發射器處以通過多工器結合之不同波長的光進行多工處理，導向單一光纖以傳輸訊號，並由解多工器分到接收器的指定通道。基於可將複數個光通道合併為一個通道之功能，WDM組合件和相關聯的裝置可被應用於光學網路當中。
通常，WDM傳輸系統可充分利用頻寬並增加光於自由空間鏈路的傳輸容量。使用不同光通道(波長)來承載資料訊號的自由空間WDM(Free-space WDM)傳輸系統對於光於自由空間鏈路同時提供資料與電信服務而言將非常有用。此所指之自由空間光學系統是一種使用空氣或 真空作為傳播媒介之直視性通訊系統。其使用非引導式媒介而具有提供寬頻之潛力，同時支援堪比光纖的高資料速率，從而使其在滿足日益增長的寬頻流量方面極具吸引力。
本揭露的一實施例關於一種光學裝置。該光學裝置包含一基板和複數個濾光片。該等複數個濾光片置於該基板上方。每個濾光片包含一支撐體、一濾光片層和一中心對稱墊片。該支撐體具有一第一側面和與該第一側面相對的一第二側面。該濾光片層在該第一側面上。該墊片通過該第一側面上的一第二黏著劑層附接到該第一側面。該中心對稱墊片附接到該濾光片層，該濾光片層的至少一外圍部分沒有被該中心對稱墊片覆蓋。
本揭露的另一實施例關於一種光學裝置。該光學裝置包含一基板和複數個濾光片。該等複數個濾光片在該基板上方。每個濾光片包含一支撐體、一濾光片層、一墊片和一應力平衡機構。該支撐體具有一第一側面和與該第一側面相對的一第二側面。該濾光片層在該第一側面上。該墊片附接至該濾光片層。該應力平衡機構附接至該支撐體。
本揭露的再一實施例關於一種光學裝置。該光學裝置包含一基板和複數個濾光片。該等複數個濾光片置於該基板上方。每個濾光片包含一支撐體、一濾光片層和一墊片。該支撐體具有一第一側面和與該第一側面相對的一第二側面。該濾光片層在該第一側面上。該墊片附接至該濾光片層。每個濾光片在約-40℃至約85℃的溫度範圍內具有小於約0.03nm的帶通中心波長漂移。
10:基板
10A:上表面
10B:下表面
12:覆蓋基板
20、201-208:濾光片
21:支撐體
22:第一側面
23:第二側面
24:濾光片層
25:抗反射層
30:墊片
31:開口
41:第一黏著劑層
41A:外邊緣
42:第二黏著劑層
43:第三黏著劑層
44:第四黏著劑層
51:第一陣列
52:第二陣列
60、600-608:準直儀
AB:線段
當結合附圖閱讀時，從以下詳細描述中可最佳理解本揭露態樣。請注意，根據業內的標準實踐，各種結構並未按比例繪製。事實上，為了討論的明確起見，許多結構的尺寸可能任意放大或縮小。
圖1A例示根據本揭露中一些具體實施例的一光學裝置之俯視圖。
圖1B例示根據本揭露中一些具體實施例的一光學裝置之剖面圖。
圖2描繪根據本揭露中一些具體實施例的一濾光片之立體圖。
圖3例示根據本揭露中一些具體實施例的一光學裝置一部分之側視圖。
圖4A例示根據本揭露中一些具體實施例的一光學裝置一部分之側視圖。
圖4B例示根據本揭露中一些具體實施例的一光學裝置一部分之俯視圖。
圖5例示用於根據本揭露中一些具體實施例的各種濾光片中CWTS相對於溫度之圖表。
圖6A例示根據本揭露中一些具體實施例的一墊片之前視圖。
圖6B例示根據本揭露中一些具體實施例的一墊片之前視圖。
圖6C例示根據本揭露中一些具體實施例的一墊片之前視圖。
圖7A例示根據本揭露中一些具體實施例的一墊片之前視圖。
圖7B例示根據本揭露中一些具體實施例的一墊片之前視圖。
圖8描繪根據本揭露中一些具體實施例的一濾光片之立體圖。
圖9例示根據本揭露中一些具體實施例的一光學裝置一部分之側視圖。
圖10描繪根據本揭露中一些具體實施例的一濾光片之立體圖。
圖11例示用於根據本揭露中一些具體實施例的各種濾光片中PDL相對於溫度之圖表。
下列揭示內容提供用於實現所提供主題中不同特徵之許多不同的具體實施例或範例。以下說明元件和配置的具體範例，以簡化本揭露。當然，這些僅為範例而非限制性。例如，以下描述中在第二特徵上或之上形成第一特徵可包含其中第一和第二特徵直接接觸形成的具體實施例，並且也可包含其中可在第一與第二特徵之間形成附加特徵，使得第一和第二特徵不直接接觸的具體實施例。此外，本揭露可在各個範例中重複參考編號及/或字母。該重複的目的在於簡單和清楚，並且本身並不表示所討論的各種具體實施例及/或配置之間的關係。
此外，本文可使用空間相關用語，例如「底下」、「下方」、「之下」、「上方」、「之上」、「上」等，以便於描述一個元件 或特徵與另一元件或特徵的關係，如圖中所示。除了圖中所描繪方位之外，此類空間相關用語還涵蓋裝置於使用或操作中的不同方位。該設備可以其他方式定向(旋轉90度或在其他方位上)，並且可相應地解釋本文中使用的空間相關描述符。
如此處所使用，諸如「第一」、「第二」和「第三」等詞描述許多元件、組件、區域、層及/或區段，這些元件、組件、區域、層及/或區段不應受限於這些詞。這些詞只用於將一個元件、組件、區域、層或區段與其他元件、組件、區域、層或區段分辨。除非上下文明確指出，否則本文中使用的諸如「第一」、「第二」和「第三」之術語並不暗示順序或次序。
高密度分波多工(DWDM)是一種光纖傳輸技術，其涉及將許多不同波長的訊號多工到一條光纖上的處理，而每條光纖都有一組平行的光通道，並且每條光纖使用的光波長都略有不同。該等光纖可採用光波長以位元平行或按字元串列來傳輸資料。DWDM是可供資料傳輸之光學網路中非常重要的組件。
DWDM中的濾光片是光學通訊的重要組件，但是DWDM濾光片對波長偏移很敏感，例如當DWDM濾光片在較高或較低溫度下工作，及/或像是有應力等機械性質存在時，波長就可能會偏移。肇因於惡劣的工作環境和應力而產生波長偏移，DWDM濾光片就會失效。通常，在自由空間DWDM系統中，每個DWDM濾光片都包含由玻璃基板或玻璃陶瓷基板側向支撐的DWDM薄膜。為滿足光學裝置的微型化要求，佈置在光學裝置中的DWDM濾光片是從一個原始單元分切成許多小塊，這些微小的玻璃基板都可能會受到其下方的黏著劑層的影響而承受張力，同 時，被DWDM薄膜覆蓋的玻璃基板之側面可能會因結構內的應力而具有凸輪廓。DWDM濾光片的這種變形在較低的操作溫度(例如低於0℃)下可能會加劇，因此中心波長偏移(CWTS)和極化相依損耗(PDL)都會增加。
因此，本揭露的一些具體實施例提供一種光學裝置，其可減輕由DWDM濾光片中的操作溫度或應力變化引起之CWTS和PDL問題。在一些具體實施例中，可將墊片及/或應力平衡機構用於DWDM濾光片。通過利用墊片及/或應力平衡機構，可在工業級範圍內的操作溫度下(即，從大約-40℃到大約85℃)將DWDM濾光片的CWTS控制在±0.03nm以內。同樣，在上述操作溫度的工業級範圍內，可以將PDL控制為小於約0.1dB。
圖1A和圖1B分別例示根據本揭露中一些具體實施例的光學裝置以及沿AB線的剖面圖。在一些具體實施例中，本揭露中的光學裝置是自由空間DWDM系統的至少一部分。該光學裝置包含一基板10和複數個濾光片20。基板10包含上表面10A和與上表面10A相對的下表面10B，並且複數個濾光片20設置在基板10的上表面10A上方。在一些具體實施例中，複數個濾光片20以第一陣列51(例如，包含濾光片201-204)和實質上平行於第一陣列的第二陣列52(例如，包含濾光片205-208)佈置在基板10上方。此外，光學裝置可包含置於基板10上方的複數個準直儀60(例如，包含600-608)，並且複數個準直儀60分別與複數個濾光片20中之每一者對準。
基於這種結構，從準直儀600發射的光可先穿過濾光片201，並且具有選定波長的透射光可由準直儀601靠近濾光片201的一側所接收，並且透射光相應地被引導到所連接的光纖。同時，具有其他波長的 反射光可由濾光片201反射到濾光片205，後者是第二陣列52中的第一濾光片。同樣地，反射光的特定波長可透射濾光片205並由準直儀606接收，而未透射光則反射到第一陣列51中的濾光片202，依此類推。因此，從準直儀600發射的不同波長的光可由不同的濾光片201-208分開，並且在光連續反射期間可通過準直儀601-608而被引導到不同的光纖，並且可沿著第一陣列51與第二陣列52之間空間內的曲折路徑行進。
請參照圖2，在一些具體實施例中，每個濾光片20都包含支撐體21和墊片30。支撐體21是透明的，並且可由包含玻璃、石英、光學塑膠、矽等多種材料當中選用製成，並且一般而言，支撐體21的形狀通常是正方體或長方體。如圖3內所示，支撐體21可具有一底部表面，其與夾在支撐體21和基板10中間的第一黏著劑層41接觸，因此支撐體21固定在基板10的上表面10A上方。
在一些替代具體實施例中，支撐體21的底部表面不與第一黏著劑層41接觸。例如，請參閱圖4A所示的側視圖，支撐體21的底部表面與基板10的上表面10A接觸，而第一黏著劑層41與支撐體21的下側部分接觸。因此，支撐體21的下側部分被第一黏著劑層41圍繞，並且支撐體21由此固定在基板10上方。在這種具體實施例中，請參照圖4B中所示的俯視圖，第一黏著劑層41可具有圍繞支撐體21的外邊緣41A。在其他具體實施例中，取決於支撐體21的黏貼技術，第一黏著劑層41可置於支撐體21下方並且也與支撐體21的下側部分接觸。此外，第一黏著劑層41可進一步與墊片30接觸。
如前述圖2所示，支撐體21具有第一側面22和與第一側面22相對的第二側面23。在一些具體實施例中，濾光片層24塗覆在支撐體 21的第一側面22上。濾光片層24是薄膜，其可包含由不同材料製成的複數個子層。在一些具體實施例中，濾光片層24包含由二氧化矽(SiO2)、五氧化鉭(Ta2O5)、二氧化鈦(TiO2)、氧化鋁(Al2O3)、二氧化鉿(HfO2)、二氧化鋯(ZrO2)或其組合所製成的子層。在一些具體實施例中，包含由不同材料所製成子層的濾光片層24彼此交替沉積以形成堆疊。在一些具體實施例中，濾光片層24包含沉積在支撐體21的第一側面22上由高折射率和低折射率材料交替堆疊的複數個子層。通常，濾光片層24的特徵係基於在子層之間許多介面處反射或透射的光之波長相依性干涉。另外，基於濾光片層24的多樣應用，濾光片層24可以根據應用場景而被稱為WDM薄膜或DWDM薄膜。
一般而言，濾光片層24的厚度太薄而不能獨自豎立在基板10上，因此濾光片層24是塗覆在支撐體21的第一側面22上。然而，與支撐體21的厚度相比，濾光片層24的厚度不可忽略，並且由於濾光片層24是塗覆在支撐體21上，所以濾光片層24可能導致支撐體21內存在應力，從而可能會影響支撐體21的光學性質。此外，具有濾光片層24的支撐體21也對溫度變化敏感，例如原始濾光片的結構(即，僅包含具有濾光片層24的支撐體21)在加熱時會膨脹並且在相反情況下明顯收縮。
例如，如圖5內所示，在一些示例情況下，未置於基板10上的濾光片(即，圖5中的「原始濾光片」線)本身可具有寬範圍的CWTS，或者如圖5內所示的帶通中心波長漂移(例如，從約-0.032nm至約0.030nm)，其在工業級操作溫度範圍內呈線性趨勢。換句話說，濾光片的CWTS最初應是與溫度成比例，但其一旦受到與濾光片物理接觸的另一個組件所施加之外部應力影響時，這種光學性質就會改變。例如，仍如圖5 中所例示的，在將濾光片置於基板10上的情況下(即，圖5中的「載盤上」線)，濾光片的CWTS可具有較窄的範圍(例如，從約-0.030nm至約0.008nm)，在相同溫度範圍內具有非線性趨勢；意即，可通過接觸另一組件，例如基板10及/或位於基板與其之間的第一黏著劑層41，來改變或調整濾光片的光學性質。
因此，在本揭露的一些具體實施例中，墊片30通過第一側面22上的第二黏著劑層42附接到支撐體21的第一側面22。墊片30設置成補償或抵消置於基板10上的濾光片之光學性質變化。如之前段落內例示的範例，無論濾光片是否置於基板10上，低溫下濾光片的CWTS超過約0.020nm，這意味著濾光片對溫度相對敏感，特別是對低溫敏感。準此，墊片30可用於在特定溫度範圍內「拉直」及/或「平坦化」CWTS的趨勢，且可因此將濾光片的CWTS控制在較佳範圍內，例如在工業級操作溫度範圍內小於約0.03nm，或進一步在此操作溫度範圍內達到小於約0.01nm。也就是說，一般而言，超過約0.03nm的CWTS可能無法滿足業界要求，而本揭露中的具體實施例可將CWTS控制為小於約0.03nm或甚至更好，例如在工業級操作溫度範圍內小於約0.01nm。
在一些具體實施例中，墊片30可由金屬製成。在一些具體實施例中，墊片30可由不鏽鋼製成。在一些具體實施例中，墊片30的熱膨脹係數(Coefficient of thermal expansion，CTE)在約8ppm/℃至約12ppm/℃的範圍內。在一些具體實施例中，CTE係確定採用哪種墊片30材料的主要參數。例如，如圖5內所示，一旦具有第一CTE的第一墊片通過第二黏著劑層(即，圖5中的「含1號墊片」線)附接到支撐體，則可使濾光片的CWTS優化為在約-40℃至約85℃的操作溫度範圍內下為約0.014nm 至約-0.018nm。然而，由於濾光片在低溫下的CWTS變為正值，而在高溫下的CWTS也顯著相反地變為負值，因此較佳使用具有第二CTE(小於第一CTE)的第二墊片，以獲取特定溫度範圍內CWTS的較平坦趨勢(即，圖5中的「含2號墊片」線)。通過使用第二墊片而不是第一墊片，可將濾光片的CWTS控制在較佳範圍內，並且證明了可通過使用具有與濾光片配合的合適CTE之墊片，來調整濾光片的CWTS。
在一些具體實施例中，墊片30為中心對稱，並且支撐體21的第一側面22之中心部分沒有被墊片30覆蓋。例如，如圖6A所示，從前視圖的角度來看，墊片30可為環形，因此墊片30可在其中心部分具有讓光通過的開口31。如圖6B和圖6C所示，在其他範例中，從前視圖的角度來看，墊片30可為正方形或多邊形，並且在其中心部分也具有讓光通過的開口31。在其他具體實施例中，墊片30的內部形狀和外部形狀可以不同，例如，如圖7A和圖7B所示，墊片30的內部形狀可為環形，但是墊片30的外部形狀可為與支撐體21的邊緣對齊之正方形或多邊形。此外，通過使用圖6A、圖6C和圖7B所示的中心對稱墊片30，則濾光片層24的至少一外圍部分(如，濾光片層24的四角部分)可以不被中心對稱墊片30覆蓋，例如先前在圖2中所示的具體實施例。
在一些具體實施例中，墊片30可由玻璃陶瓷製成。由於玻璃陶瓷可為透明或不透明，因此在墊片30是透明的情況下，墊片30的中央部分可不具有開口。此外，由透明玻璃陶瓷(Transparent glass ceramics，TGCs)製成的墊片30之形狀可與支撐體21的側面相同，並且這種墊片30易於附接到支撐體21。像由金屬製成的墊片30一樣，由玻璃陶瓷製成的墊片30之CTE也在約8ppm/℃至約12ppm/℃的範圍內。
在其它具體實施例中，墊片30為非中心對稱。例如，墊片30可為三角形，並且在其中心部分具有讓光通過的開口。在一些具體實施例中，非中心對稱墊片用於平衡支撐體21中的應力。更詳細而言，由於支撐體21通過第一黏著劑層41而固定在基板上，因此至少支撐體21的下部與第一黏著劑層41接觸，並且因此第一黏著劑層41可導致支撐體21內存在應力並影響支撐體21的光學性質。因此，在本揭露的一些具體實施例中，非中心對稱墊片是用來平衡前述支撐體21中的應力，因此墊片30的形狀是對應於應力源。據此，可將支撐體21的光學性質調整至較佳的狀態，例如在約-40℃至約85℃的操作溫度範圍下，CWTS小於約0.01nm。
如前所述，第一黏著劑層41用於將支撐體21固定在基板10上方，而第二黏著劑層42用於將墊片30固定在支撐體21的側面上，或更準確地說，第二黏著劑層42用於固定墊片30並使其與濾光片層24接觸。在一些具體實施例中，第一黏著劑層41的材料與第二黏著劑層42的材料相同。在一些具體實施例中，第一黏著劑層41和第二黏著劑層42均包含UV可固化黏著劑或熱固化黏著劑。在一些具體實施例中，第一黏著劑層41和第二黏著劑層42均包含環氧樹脂。
此外，可通過在支撐體21上採用除了第一黏著劑層41和第二黏著劑層42以外的附加黏著劑材料來調整濾光片的CWTS。在一些具體實施例中，可在不利用墊片的情況下採用附加黏著劑材料。例如，如圖8內所示，在不使用墊片的情況下，第四黏著劑層44可與支撐體21的上側部分接觸，並且第四黏著劑層44可不與第一黏著劑層41接觸。在這種具體實施例中，第四黏著劑層44僅用於調整濾光片的光學性質，並且沒有其他組件固定在支撐體21上。一般而言，第四黏著劑層44是置於支撐體21 塗覆有濾光片層24之一側。在一些替代具體實施例中，第四黏著劑層44可置於支撐體21的另一側。
與原始濾光片和僅置於具有第一黏著劑層41的基板上之濾光片的光學性質相比，使用第四黏著劑層44可讓CWTS在特定溫度範圍內有更好的穩定性。如前面提到在圖5所示的分析，通過第一黏著劑層41固定在基板10上並且在一側面具有第四黏著劑層44的支撐體21(即，圖5中的「含環氧樹脂」線)的CWTS可具有比原始濾光片(即，圖5中的「原始濾光片」線)的CWTS和濾光片20置於僅具有第一黏著劑層41的基板10上(即，圖5中的「載盤上」線)的CWTS為更線性的趨勢表現。然而，在低溫下使用具有第四黏著劑層44的濾光片20之CWTS接近約0.020nm。換句話說，與僅使用第四黏著劑層44相比，使用墊片30的示例可提供更好的光學性質。
如圖9內所示，在一些具體實施例中，應力平衡機構包含通過第三黏著劑層43置於複數個濾光片20上方的覆蓋基板12。覆蓋基板12也在濾光片層24的頂面上。在這種具體實施例中，第三黏著劑層43的材料與第一黏著劑層41的材料相同，而覆蓋基板12可覆蓋支撐體21的整個頂面。第三黏著劑層43與支撐體21的頂面接觸，並且因此被支撐體21和覆蓋基板20夾在中間。覆蓋基板12和第三黏著劑層43用來當成應力平衡機構，因為支撐體21中的應力可能由第一黏著劑層41和基板10引起。也就是說，第一黏著劑層41和基板10可自支撐體21的下部分引起應力，因此第三黏著劑層43和覆蓋基板12可自反方向引起應力，以補償或抵消支撐體21的光學性質變化。在一些具體實施例中，覆蓋基板12係用於封裝或密封光學裝置的蓋板之一部分。
如圖10內所示，在一些具體實施例中，濾光片另包含塗覆在支撐體21上的抗反射層25。通常，抗反射層25塗覆在支撐體21的第二側面23上，其與濾光片層24的位置相反。
除如先前在圖5所示的CWTS變化之外，通過使用提供足夠的CTE以改善低溫下光學性質的墊片30，墊片30和其他應力平衡機構也可減輕PDL。例如，在特定操作溫度之下，可將PDL控制為小於約0.1dB。如圖11所示，在將濾光片20置於基板10上的情況下(即，圖11中的「載盤上」線)，在從約-40℃至約40℃的操作溫度範圍下，PDL相對較高(例如，超過0.1dB)。接下來，在將濾光片20置於基板10上並且進一步由第四黏著劑層44側向覆蓋之情況下(即，圖11中的「含環氧樹脂」線)，可在上述操作溫度範圍內稍微減輕PDL，但PDL在約-40℃至約15℃的操作溫度範圍下仍超過0.1dB。此外，通過使用由第二黏著劑層42附接到支撐體21的第一側面22上之第一墊片(即，圖11中的「含1號墊片」線)，PDL顯著減輕，例如在約-20℃至約85℃的操作溫度範圍下，PDL小於0.1dB。基於此，通過使用由第二黏著劑層42附接到支撐體21的第一側面22上的第二墊片(即，圖11中的「含2號墊片」線)，因為第二墊片具有小於第一墊片的第一CTE之第二CTE，在約-40℃至約85℃的操作溫度範圍下，PDL的減輕可進一步改善為小於約0.1dB。也就是說，通過使用墊片或其他應力平衡機構，可減輕濾光片20的PDL，並且具有適當與支撐體21配合的特定CTE之墊片可更好地減輕PDL。換句話說，墊片30的CTE是改善濾光片20的光學性質之關鍵因素。在一些具體實施例中，墊片的較佳CTE在從約8ppm/℃至約12ppm/℃的範圍內。
本揭露揭示了一種光學裝置。總體而言，該光學裝置在寬 操作溫度範圍內可出色地表現出極低的CWTS和PDL。CWTS和PDL可以通過使用具有CTE與光學裝置中支撐體配合的墊片，及/或進一步與其他應力平衡機構組合以補償或抵消由不可避免的應力源所引起之應力，從而被減少或減輕。由於光學裝置中濾光片的光學性質得到改善並且對溫度不那麼敏感，因此光學裝置在寬操作溫度範圍內，尤其是在諸如低於0℃的低溫下，可具有穩定的性能。
在一個示範態樣中，提供一種光學裝置。該光學裝置包含一基板和複數個濾光片。該等複數個濾光片置於該基板上方。每個濾光片包含一支撐體、一濾光片層和一中心對稱墊片。該支撐體具有一第一側面和與該第一側面相對的一第二側面。該濾光片層在該第一側面上。該墊片通過該第一側面上的一第二黏著劑層附接到該第一側面。該中心對稱墊片附接到該濾光片層，該濾光片層的至少一外圍部分沒有被該中心對稱墊片覆蓋。
在另一個示範態樣中，提供一種光學裝置。該光學裝置包含一基板和複數個濾光片。該等複數個濾光片在該基板上方。每個濾光片包含一支撐體、一濾光片層、一墊片和一應力平衡機構。該支撐體具有一第一側面和與該第一側面相對的一第二側面。該濾光片層在該第一側面上。該墊片附接至該濾光片層。該應力平衡機構附接至該支撐體。
在又另一個示範態樣中，提供一種光學裝置。該光學裝置包含一基板和複數個濾光片。該等複數個濾光片置於該基板上方。每個濾光片包含一支撐體、一濾光片層和一墊片。該支撐體具有一第一側面和與該第一側面相對的一第二側面。該濾光片層在該第一側面上。該墊片附接至該濾光片層。每個濾光片在約-40℃至約85℃的溫度範圍內具有小於約 0.03nm的帶通中心波長漂移。
上面概述若干具體實施例的結構，使得精通技術人士可更好地理解本揭露之各態樣。精通技術人士應理解，他們可輕易地使用本揭露作為設計或修改其他處理和結構之基礎，以實現相同目的及/或實現本文所介紹具體實施例的相同優點。精通技術人士也應了解，這樣的同等構造不脫離本揭露的精神和範圍，並且在不脫離本揭露的精神和範圍之情況下，可進行各種改變、替換和變更。
10:基板
10A:上表面
51:第一陣列
52:第二陣列
201-208:濾光片
600-608:準直儀
AB:線段

Claims (19)

  1. 一種光學裝置，包括：一基板；以及複數個濾光片，其置於該基板上方，每一該等濾光片包括：一支撐體，其具有一第一側面和與該第一側面相對的一第二側面；一濾光片層，其在該第一側面上，且其與該基板之間具有一第一黏著劑層；以及一中心對稱墊片，其附接到該濾光片層，且其與該濾光片層之間具有一第二黏著劑層，該濾光片層的至少一外圍部分沒有被該中心對稱墊片覆蓋。
  2. 如請求項1之光學裝置，其中該中心對稱墊片的熱膨脹係數(CTE)為約8ppm/℃至約12ppm/℃。
  3. 如請求項1之光學裝置，進一步包括一覆蓋基板，其通過一第三黏著劑層而位在該濾光片層的該頂面上方。
  4. 如請求項1之光學裝置，其中該濾光片進一步包括一抗反射層，其位於該支撐體的該第二側面上。
  5. 如請求項1之光學裝置，其中該濾光片層的一中心部分沒有被該中心對稱墊片覆蓋。
  6. 如請求項1之光學裝置，其中該中心對稱墊片對該光學裝置的操作波長而言係透明。
  7. 一種光學裝置，包括：一基板；以及複數個濾光片，其在該基板上方，每一該等濾光片包括：一支撐體，其具有一第一側面和與該第一側面相對的一第二側面，且其經一第一黏著劑層而黏著於該基板；一濾光片層，其在該第一側面上；一墊片，其附接至該濾光片層，且其與該濾光片層之間具有一第二黏著劑層；以及一應力平衡機構，其附接至該支撐體。
  8. 如請求項7之光學裝置，其中該應力平衡機構包括一覆蓋基板，其位於該等複數個濾光片之一者上方。
  9. 如請求項7之光學裝置，另包括一第一黏著劑層，其與該支撐體的一下側部分接觸。
  10. 如請求項9之光學裝置，其中該第一黏著劑層進一步與該墊片接觸。
  11. 如請求項9之光學裝置，進一步包括一第四黏著劑層，其與該支撐體的一上側部分接觸，並且該第四黏著劑層不與該第一黏著劑層接觸。
  12. 如請求項7之光學裝置，其中該墊片為非中心對稱。
  13. 如請求項7之光學裝置，其中該墊片包括玻璃陶瓷。
  14. 一種光學裝置，包括：一基板；以及複數個濾光片，其黏著於該基板上方，每一該等濾光片包括：一支撐體，其具有一第一側面和與該第一側面相對的一第二側面；一濾光片層，其在該第一側面上；以及一墊片，其黏著於至該濾光片層；其中每一該等濾光片在約-40℃至約85℃的溫度範圍內具有小於約0.03nm的帶通中心波長漂移。
  15. 如請求項14之光學裝置，另包括一黏著劑層，其附接至該支撐體，並且該黏著劑層與該濾光片層接觸。
  16. 如請求項15之光學裝置，其中該墊片的下部以及該支撐體的下側部分都與該黏著劑層接觸。
  17. 如請求項14之光學裝置，其中該墊片為中心對稱。
  18. 如請求項14之光學裝置，其中該墊片包括金屬，且具有約8ppm/℃至約12ppm/℃的熱膨脹係數(CTE)。
  19. 如請求項15之光學裝置，其中該黏著劑層包括環氧樹脂。
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