TWI761343B - 用於高頻寬記憶體介面之橋接晶粒設計 - Google Patents

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Abstract

一微電子封裝橋接器可包含有複數個接地層、及與該複數個接地層交織之複數個信號層。各該信號層可包括有複數條導電路徑。各該導電路徑可布置來在一第一晶粒之第一複數個凸塊其中一者與一第二晶粒之第二複數個凸塊其中一者之間形成一電氣連接。該複數條導電路徑各可具有彼此實質相等之一長度。

Description

用於高頻寬記憶體介面之橋接晶粒設計
大致在本文中所述之實施例係有關於微電子封裝。更特別的是，大致在本文中所述之實施例係有關於微電子封裝內之電氣連接。
微電子大致包括有一中央處理單元(CPU)。為了增強效能，CPU產品正逐漸在CPU封裝內採用一並列或其他多晶片模組(MCM)格式整合多個晶粒。一嵌埋式多晶粒互連橋接(EMIB)是一種用以在一微電子封裝內電氣連接多個晶粒之方式。
依據本發明之一實施例，係特地提出一種微電子封裝橋接器，其包含：複數個接地層，以及與該複數個接地層交織之複數個信號層，各該信號層包括複數條導電路徑，各該導電路徑係布置來在一第一晶粒之第一複數個凸塊其中一者與一第二晶粒之第二複數個凸塊其中一者之間形成一電氣連接，其中，各該複數條導電路徑具有彼此實質相等之一長度。
一EMIB可容許密集的微電子或多晶片封裝。舉例而言，一EMIB之一種應用可以是將高頻寬記憶體(HBM)晶粒與一記憶體控制器晶粒互連。如本文中所揭示，使用具有一適當長度之經適當隔開之凸塊連接的一橋接器可容許介於控制器晶粒與記憶體晶粒之間的一輸入/輸出(I/O)連結具備低損耗、低串擾、及低電力消耗量。
如本文中所揭示，橋接器可使用適當的程序及設計規則能力，藉由利用一適當的走線寬度/間隔、信號/接地置放、及路由安排策略，來容許最佳電氣效能與電力效率。
根據美國電子工程設計發展聯合協會(JEDEC)所提出之標準的HBM裝置可提供大封裝上記憶體頻寬，並且可在一有限空間中具有約1700個連接至記憶體控制器之輸入/輸出(I/O)信號。由於微型凸出及路由安排的密度能力高，一EMIB可以是此具有挑戰性之多晶片封裝的一解決方案。
如本文中所揭示EMIB可包括有複數條導電路徑。各該導電路徑可包括有一長度。各該導電路徑之長度可實質相同。以另一方式陳述，各該導電路徑之長度彼此可在一給定百分比、標準差、或長度範圍內。舉例來說，各該導電路徑之長度可為X mm長+/- 1%-2%或X mm長+/- Y μm。
除了具有實質相同的長度以外，可使該等導電路徑隔開，以便使介於相鄰信號通道之間的間隔達到最大。如本文中所揭示，使介於諸信號通道之間的間隔達到最大可使介於諸信號通道之間的串擾降低。
現請參照圖式，圖1根據本文中所揭示之實施例，繪示一微電子封裝100 (有時稱為多晶片封裝)的一側視圖。微電子封裝100可包括有一第一晶粒102、一第二晶粒104、一橋接器106、以及一基材108。橋接器106可嵌埋到基材108內，並且可連接介於第一晶粒102與第二晶粒104之間的大量輸入/輸出(I/O)凸塊。舉例而言，第一晶粒102與第二晶粒104可藉由橋接器106來電氣耦合。介於第一晶粒102與橋接器106之間的連接可以是第一複數個凸塊110。介於第二晶粒104與橋接器106之間的連接可以是第二複數個凸塊112。另外，第一晶粒102可以是一控制器晶粒，並且第二晶粒104可以是一記憶體晶粒。
該等凸塊可布置成具有一指定凸塊間距之一面心矩形(FCR)圖型。舉例而言，該等凸塊可布置成具有55微米凸塊間距之FCR。
如圖2及3所示，可將該等凸塊組織成DWORD與AWORD區塊。圖2根據一些實施例，繪示一橋接器(諸如橋接器106)之一鏡射I/O區的一俯視圖。圖3根據本文中所揭示之一些實施例，繪示一橋接器之一複製I/O區的一俯視圖。各種凸塊圖型可建立一凸塊圖型。第一晶粒102之凸塊圖型可與第二晶粒104之凸塊圖型不同。第一晶粒102之凸塊圖型與第二晶粒104之凸塊圖型可相同。I/O連接可分解成簡化設計導電路徑之一區塊級。舉例而言，如圖2及3所示，可有兩行區塊202、204、302及304。
如圖2及3所示，這兩行區塊202、204、302及304可組織成兩路。圖2展示區塊202與204之一鏡射設計。區塊302與304可以是如圖3所示之一複製設計。在一鏡射或複製設計中，區塊指定可順著垂直方向維持相同。如圖2及3所示，可輕易地重複要在一區塊高度內實施的I/O互連。舉例而言，可單純地複製區塊D0_e及D0_a之互連設計以降低設計複雜度。
圖4根據本文中所揭示之一些實施例，展示一凸塊圖型400的一區塊設計。舉例而言，圖4可代表區塊D0_a中24個信號之互連設計。如圖4所示，該互連設計可區分成三個區域，有一記憶體凸塊區402、一開區域404、以及一控制器凸塊區406。位在中間的開區域404可連接導電路徑之一延伸，有時稱為連接走線。開區域404之一長度可由介於諸I/O凸塊區塊之間的一距離來判定，諸如記憶體凸塊區402及控制器凸塊區406。
如圖4所示，記憶體凸塊區402中之各凸塊1-24可對應於控制器凸塊區406中之各凸塊1-24。記憶體凸塊區402中之各該凸塊1-24可使用一導電路徑、或走線來連接至控制器406中之一對應凸塊1-24。結果是，在圖4所示之實例中，橋接器106中可有24條導電路徑將各種凸塊連接，以在第一晶粒102與第二晶粒104之間運載信號。記憶體凸塊區402可對應於一記憶體晶粒(諸如第二晶粒104)，並且控制器凸塊區406可對應於一控制器晶粒(諸如第一晶粒102)。可選擇各該導電路徑以便匹配所有24個信號中的凸塊對凸塊距離。以另一方式陳述，凸塊對凸塊距離、或導電路徑之長度可彼此實質相等。令所有24個信號之凸塊對凸塊距離實質相等有助於確保所有信號的時序都準確對準，以就更好的效能最佳化取樣點。儘管圖4展示24個凸塊，各種晶粒可具有任意數量的凸塊。
舉凸塊對凸塊距離之一實例來說，離對應凸塊14之最短距離可以是5 mm。離對應凸塊2之最短距離可以是4 mm。結果是，必須加長對應凸塊2之凸塊對凸塊距離，以便該等凸塊對凸塊距離實質相同。如本文中所揭示，各該導電路徑之長度(凸塊對凸塊距離)可以是X mm長+/- Y%-Z%或X mm長+/- W μm。在這項實例中，X可以是5 mm，Y可以是1%，Z可以是2%，或W可以是50 μm。結果是，介於諸對應凸塊2之間的導電路徑可以是5 mm +/- 1%-2%或5mm +/- 50 μm。
如可參照圖4，隨著凸塊數量增加，在諸凸塊之間具有純直連接的能力變為更加困難。另外，給予對應凸塊的位置，可能需要延伸導電路徑才能使所有凸塊對凸塊距離全都實質相等。舉例而言，介於諸對應凸塊14之間的距離可以是微電子封裝100內最大者。結果是，可能需要增大介於若干剩餘凸塊之間的距離才能使所有凸塊對凸塊距離全都實質相等。為了增大各種導電路徑之長度，導電路徑可跨越橋接器106之多層。換句話說，各種導電路徑之布局實作態樣可使用一垂直走線來完成一連接並延伸該連接之長度。
另外，由於有許多信號走線，不可避免地，一些垂直走線可能需要交叉其他信號之水平走線。如圖5所示，一跳線502可穿越一相鄰接地層以完成該交叉。舉例而言，如圖5所示，一第一信號504與一第二信號506可在一第一信號層508中彼此平行流動。一第三信號510可能需要交叉第一信號504及第二信號506之路徑。跳線502可用於在一相鄰接地層512中置放一垂直節段，並且連接至具有通孔514及516之水平節段。為求清楚，圖5己省略接地結構及其他信號。
圖6根據本文中所揭示之一些實施例，繪示一橋接器600。橋接器600可包括有一第一層602、一第二層604、一第三層606、以及一第四層608。儘管圖6展示四層，橋接器600仍可包括有任意數量的層。層602、604、606及608可由具有介電夾層之金屬所建構。舉例而言，金屬層可以是1至4微米厚，並且層間介電層可以是1至4微米厚，端視用於製作橋接器600之矽(Si)程序而定。第一層602及第三層606可以是可用於信號路由安排之金屬層，有時稱為信號層。第二層604及第四層608可以是可用於接地參考之金屬層，有時稱為接地層。
可使用一例示性鏡射區塊指定，透過第一層602來連接D0_a區塊。D0_e區主要可透過第三層606進行連接。結果是，不同區塊之信號以接地隔離分成不同層以降低介於不同DWORD與AWORD之間的串擾。
信號層(例如第一層602與第三層606)可包含密集走線(即導電路徑)。舉一例來說，諸走線中有三分之二(或任何其他比率)可以是信號，並且該等走線中有三分之一可當作接地參考使用。舉例而言，如圖7A所示，信號與接地走線可接在兩個信號與一個接地圖型之後。走線可為約1微米至4微米寬。更窄的走線因電阻性損耗顯著更高而會使信令效能劣化，而更寬的走線因電容大且諸通道之間的串擾更高也會不令人期望。如圖7A所示，信號走線702及704可有計畫地更靠近相鄰接地走線706及708置放，以增大介於兩者之間的間隔，使串擾更小。以另一方式陳述，如圖7A所示，c可大於a。
圖7A展示第一層602及第三層606中之接地走線706及708。第一層602及第三層606中之接地走線不僅可屏蔽該等信號之間的串擾，還可提供用以連接至相鄰層中諸接地走線之通孔712。
接地層(即第二層604及第四層608)可由網目平面所建構，如圖7B所示。可在一相鄰信號層中之每一條走線下置放水平接地走線。舉例而言，可在橋接器600中之信號走線702下置放接地走線710。一信號走線下之接地走線可有計畫地設計成更寬，以改善回波路徑品質，並且提升串擾屏蔽。舉例而言，如圖7A及7B所示，e可大於b。垂直接地走線可根據製造程序之金屬密度要求來置放。可在交叉點置放通孔714以連接相鄰層中之接地結構。
圖7C展示圖7A及7B中所示路由安排設計的一截面。如圖7C所示，第一層602與第三層606及連接良好之接地參考結構中信號對接地比為二比一之諸走線橫跨所有四層602、604、606及608。儘管圖6至7C展示第一層602與第三層606為信號層且第二層604與第四層608為接地層，仍可調換信號層與接地層之指定。舉例而言，第一層602與第三層606可以是接地層，而第二層604與第四層608可以是信號層。
圖8根據本文中所揭示之一些實施例，繪示用於製造諸如微電子封裝100之一微電子封裝之一方法800。方法800可始於階段802，可在此階段形成一第一信號層(諸如第三層606)。第一信號層可包括有複數條導電路徑。導電路徑可用於連接各種凸塊。
本方法可從階段802前往階段804，可在此階段形成一接地層。方法800可從階段804前往階段806，可在此階段形成一第二信號層(諸如第一層602)。第二信號層可包括有可用於連接各種凸塊之複數條導電路徑。
接地層可置於第一信號層與第二信號層之間。以另一方式陳述，該接地層(若有多個接地層則稱該等接地層)可與第一及第二信號層交織，或若有超過兩個信號層，還可與其他信號層交織。
如本文中所揭示，該複數條導電路徑可彼此實質相等。這並非意味著一單層中或各層中的所有導電路徑都彼此實質相等。連接對應凸塊(諸如凸塊14)之導電路徑可跨越多層，而且各層中之各種節段不需要相等。反而，連接諸對應凸塊之導電路徑的全長實質相等。
方法800可從階段806前往階段808，可在此階段提供一基材(諸如基材108)。所提供的各種信號與接地層可形成為一橋接器(諸如橋接器106)，並接著予以置放到基材內或上。
方法800可從階段808前往階段810，可在此階段提供複數個晶粒(諸如第一晶粒102及第二晶粒104)。可在適當位置置放該複數個晶粒，使得導電路徑連接適當的對應凸塊。可接著將晶粒置放就位並附接以完成封裝。另外，可提供各種層，並且配合就定位的晶粒安放走線，然後在單一製造程序中連接所有東西。
圖9根據本文中所揭示之一些實施例，繪示一系統級簡圖。舉例來說，圖9繪示包括有如上述微電子封裝100之一電子裝置(例如系統)之一實例。包括圖9是用來就微電子封裝100展示一更高階裝置應用之一實例。在一項實施例中，系統900包括有，但不限於一桌上型電腦、一膝上型電腦、一迷你筆記型電腦、一平板電腦、一筆記型電腦、一個人數位助理器(PDA)、一伺服器、一工作站、一蜂巢式電話、一行動運算裝置、一智慧型手機、一網際網路電器或任何其他類型的運算裝置。在一些實施例中，系統900為一系統單晶片(SOC)系統。
在一或多項實施例中，處理器910具有一或多個處理核心912及912N，其中912N代表處理器910內的第N個處理核心，其中N為一正整數。在一項實施例中，系統900包括有含910及905之多個處理器，其中處理器905與處理器910具有類似或等同的邏輯。在一些實施例中，處理核心912包括有，但不限於用以擷取指令之預取邏輯、用以解碼該等指令之解碼邏輯、用以執行指令之執行邏輯以及類似者。在一些實施例中，處理器910具有就系統900用以快取指令及/或資料之一快取記憶體916。快取記憶體916可組織成包括有一或多階快取記憶體之一階層式結構。
在一些實施例中，處理器910包括有一記憶體控制器914，其可操作以進行使處理器910能夠與包括有一依電性記憶體932及/或一非依電性記憶體934之記憶體930進行存取及通訊之功能。在一些實施例中，處理器910與記憶體930及晶片組920耦合。處理器910亦可耦合至一無線天線978以與被組配來傳送及/或接收無線信號之任何裝置進行通訊。在一項實施例中，無線天線介面978根據但不限於IEEE 802.11標準及其相關系列、Home Plug AV (HPAV)、超寬頻(UWB)、藍牙、WiMax、或任何形式之無線通訊協定進行操作。
在一些實施例中，依電性記憶體932包括有，但不限於同步動態隨機存取記憶體(SDRAM)、動態隨機存取記憶體(DRAM)、RAMBUS動態隨機存取記憶體(RDRAM)、及/或任何其他類型的隨機存取記憶體裝置。非依電性記憶體934包括有，但不限於快閃記憶體、相變記憶體(PCM)、唯讀記憶體(ROM)、電氣可抹除可規劃唯讀記憶體(EEPROM)、或任何其他類型之非依電性記憶體裝置。
記憶體930儲存要由處理器910來執行之資訊及指令。在一項實施例中，記憶體930亦可在處理器910執行指令時儲存暫時變數或其他中間資訊。在說明性實施例中，晶片組920經由點對點(PtP或P-P)介面917及922與處理器910連接。晶片組920使處理器910能夠連接至系統900中之其他元件。在本發明之一些實施例中，介面917及922根據諸如IntelR QuickPath Interconnect (QPI)之一PtP通訊協定或類似者進行操作。在其他實施例中，可使用一不同互連。
在一些實施例中，晶片組920可操作以與處理器910、905N、顯示裝置940、及其他裝置972、976、974、960、962、964、966、977等進行通訊。晶片組920亦可耦合至一無線天線978以與被組配來傳送及/或接收無線信號之任何裝置進行通訊。
晶片組920經由介面926連接至顯示裝置940。顯示器940舉例而言，可以是一液晶顯示器(LCD)、一電漿顯示器、陰極射線管(CRT)顯示器、或任何其他形式之視覺化顯示裝置。在一些實施例中，處理器910與晶片組920乃合併成單一SOC。另外，晶片組920連接至將各種元件974、960、962、964、及966互連之一或多條匯流排950及955。匯流排950與955可經由一匯流排橋接器972互連在一起。在一項實施例中，晶片組920經由介面924及/或904、智慧電視976、消費性電子977等與一非依電性記憶體960、一(多個)大量儲存裝置962、一鍵盤/滑鼠964、及一網路介面966耦合。
在一項實施例中，大量儲存裝置962包括有，但不限於一固態驅動機、一硬碟機、一通用串列匯流排快閃記憶體驅動機、或任何其他形式之電腦資料儲存媒體。在一項實施例中，任何類型之眾所周知的網路介面標準實施網路介面966，包括有，但不限於一乙太網路介面、一通用串列匯流排(USB)介面、一快速週邊組件互連(PCI)介面、一無線介面及/或任何其他適合的介面類型。在一項實施例中，該無線介面根據但不限於IEEE 802.11標準及其相關系列、Home Plug AV (HPAV)、超寬頻(UWB)、藍牙、WiMax、或任何形式之無線通訊協定進行操作。
儘管圖9所示之模組乃繪示為系統900內之單獨區塊，這些區塊中有一些所進行的功能仍可整合於單一半導體電路內，或可使用二或更多個單獨積體電路來實施。舉例而言，雖然快取記憶體916乃繪示為處理器910內之一單獨區塊，仍可將快取記憶體916 (或916之所選擇態樣)併入處理器核心912。 附加註記與實例：
實例1包括有一種微電子封裝。該微電子封裝可包括有一第一晶粒、一第二晶粒、以及一橋接器。該第一晶粒可包括有界定一第一凸塊圖型之第一複數個凸塊。該第二晶粒可包括有界定一第二凸塊圖型之第二複數個凸塊。該橋接器可包括有複數個接地層及複數個信號層。該複數個信號層可與該複數個接地層交織。各該信號層可包括有複數條導電路徑。各該導電路徑可在該第一複數個凸塊其中一者與該第二複數個凸塊其中一者之間形成一電氣連接。該複數條導電路徑各可具有彼此實質相等之一長度。
在實例2中，實例1之微電子封裝可任選地包括有：該複數條導電路徑之各者之該長度彼此是在約1%至約2%之範圍內。
在實例3中，實例1之微電子封裝可任選地包括有：該複數條導電路徑之各者之該長度變化小於100微米。
在實例4中，實例1至3之任何一者或任何組合之微電子封裝可任選地包括有：各該信號層更包括有複數條接地路徑。
在實例5中，實例4之微電子封裝可任選地包括有：一各別信號層內該複數條導電路徑之各者之間的一距離達到最大，並且該等導電路徑其中至少一者與該各別信號層內該複數條接地路徑其中至少一者之間的一距離減到最小。
在實例6中，實例1至3之任何一者或任何組合之微電子封裝可任選地包括有：各該信號層包括有複數個接地連接。
在實例7中，實例1至6之任何一者或任何組合之微電子封裝可任選地包括有：該複數個接地層各包括有在該複數個接地層之一各別接地層內形成一網格之複數條接地路徑。
在實例8中，實例1至7之任何一者或任何組合之微電子封裝可任選地包括有：該複數條導電路徑之一第一子集乃侷限於一第一信號層，並且該複數條導電路徑之一第二子集跨越多個信號層。
在實例9中，實例1至8之任何一者或任何組合之微電子封裝可任選地包括有：該第一凸塊圖型與該第二凸塊圖型不同。
在實例10中，實例1至9之任何一者或任何組合之微電子封裝可任選地包括有：該第一晶粒為一控制晶粒，並且該第二晶粒為一記憶體晶粒。
實例11可包括有一種微電子封裝。該微電子封裝可包括有一第一晶粒、一第二晶粒、以及一橋接器。該第一晶粒可包括有界定一第一凸塊圖型之第一複數個凸塊。該第二晶粒可包括有界定一第二凸塊圖型之第二複數個凸塊。該橋接器可包括有一第一接地層、一第二接地層、一第一信號層、以及一第二信號層。該第一信號層可相鄰該第一接地層。該第一信號層可包括有第一複數條導電路徑。該第一複數條導電路徑各可在該第一複數個凸塊之一第一子集其中一者與該第二複數個凸塊之一第一對應子集之間形成一電氣連接。該第二信號層可介於該第一接地層與該第二接地層之間。該第二信號層可包括有第二複數條導電路徑。該第二複數條導電路徑各可在該第一複數個凸塊之一第二子集與該第二複數個凸塊之一第二對應子集之間形成一電氣連接。該第一複數條導電路徑之各者與該第二複數條導電路徑之各者可具有彼此實質相等之一長度。
在實例12中，實例11之微電子封裝可任選地包括有：該第一複數條導電路徑之各者與該第二複數條導電路徑之各者的該長度彼此是在約1%至約2%之範圍內。
在實例13中，實例11之微電子封裝可任選地包括有：該第一複數條導電路徑之各者與該第二複數條導電路徑之各者的該長度變化小於100微米。
在實例14中，實例11至13之任何一者或任何組合之微電子封裝可任選地包括有：該第一信號層與該第二信號層各包括有複數條接地路徑。
在實例15中，實例14之微電子封裝可任選地包括有：一各別信號層內該複數條導電路徑之各者之間的一距離達到最大，並且該等導電路徑其中至少一者與該各別信號層內該複數條接地路徑其中至少一者之間的一距離減到最小。
在實例16中，實例11至15之任何一者或任何組合之微電子封裝可任選地包括有：該第二複數條導電路徑之各者穿越一對應通孔至一相鄰接地層。
在實例17中，實例11至16之任何一者或任何組合之微電子封裝可任選地包括有：該第一凸塊圖型與該第二凸塊圖型不同。
在實例18中，實例11至17之任何一者或任何組合之微電子封裝可任選地包括有：該第一晶粒為一控制晶粒，並且該第二晶粒為一記憶體晶粒。
實例19可包括有一種製造一微電子封裝之方法。該方法包含有：在一第一信號層中形成第一複數條導電路徑；在一第二信號層中形成第二複數條導電路徑；以及形成置於該第一信號層與該第二信號層之間的一接地層，該接地層界定複數個通孔，該第二複數條導電路徑各穿越一各別通孔，其中形成該第一複數條導電路徑與該第二複數條導電路徑包括有形成該第一複數條導電路徑之各者與該第二複數條導電路徑之各者，使得各具有彼此實質相等之一長度。
在實例20中，實例19之方法可任選地包括有：形成該第一複數條導電路徑之各者與該第二複數條導電路徑之各者使得各具有彼此實質相等之一長度包括有形成該第一複數條導電路徑之各者與該第二複數條導電路徑之各者，使得該第一複數條導電路徑之各者與該第二複數條導電路徑之各者的該長度彼此是在約1%至約2%之範圍內。
在實例21中，實例19之方法可任選地包括有：形成該第一複數條導電路徑之各者與該第二複數條導電路徑之各者使得各具有彼此實質相等之一長度包括有形成該第一複數條導電路徑之各者與該第二複數條導電路徑之各者，使得該第一複數條導電路徑之各者與該第二複數條導電路徑之各者的該長度變化小於100微米。
在實例22中，實例19至21之任何一者或任何組合之方法可任選地包括有：在該第一信號層與該第二信號層之各者中形成複數條接地路徑。
在實例23中，實例22之方法可任選地包括有：形成該第一複數條導電路徑之各者與該第二複數條導電路徑之各者使得各具有彼此實質相等之一長度包括有形成該第一複數條導電路徑之各者與該第二複數條導電路徑之各者，使得一各別信號層內該複數條導電路徑之各者之間的一距離達到最大，並且該等導電路徑其中至少一者與該各別信號層內該複數條接地路徑其中至少一者之間的一距離減到最小。
在實例24中，實例19至23之任何一者或任何組合之方法可任選地包括有：如請求項18之方法，將一第一晶粒及一第二晶粒附接至該第一複數條導電路徑及該第二複數條導電路徑，使得該第一晶粒之一凸塊與該第二晶粒之凸塊之間形成一電氣連接。
在實例25中，實例24之方法可任選地包括有：該第一晶粒為一控制晶粒，並且該第二晶粒為一記憶體晶粒。
實例26可包括有一種微電子封裝橋接器。該微電子封裝橋接器可包含有複數個接地層及複數個信號層。該複數個信號層可與該複數個接地層交織。各該信號層可包括有複數條導電路徑。各該導電路徑可布置來在一第一晶粒之第一複數個凸塊其中一者與一第二晶粒之第二複數個凸塊其中一者之間形成一電氣連接。該複數條導電路徑各可具有彼此實質相等之一長度。
在實例27中，實例26之微電子封裝橋接器可任選地包括有：該複數條導電路徑之各者之該長度彼此是在約1%至約2%之範圍內。
在實例28中，實例26之微電子封裝橋接器可任選地包括有：該複數條導電路徑之各者之該長度變化小於100微米。
在實例29中，實例26至28之任何一者或任何組合之微電子封裝橋接器可任選地包括有：各該信號層更包括有複數條接地路徑。
在實例30中，實例29之微電子封裝橋接器可任選地包括有：一各別信號層內該複數條導電路徑之各者之間的一距離達到最大，並且該等導電路徑其中至少一者與該各別信號層內該複數條接地路徑其中至少一者之間的一距離減到最小。
在實例31中，實例26至28之任何一者或任何組合之微電子封裝橋接器可任選地包括有：各該信號層包括有複數個接地連接。
在實例32中，實例26至31之任何一者或任何組合之微電子封裝橋接器可任選地包括有：該複數個接地層各包括有在該複數個接地層之一各別接地層內形成一網格之複數條接地路徑。
在實例33中，實例26至32之任何一者或任何組合之微電子封裝橋接器可任選地包括有：該複數條導電路徑之一第一子集乃侷限於一第一信號層，並且該複數條導電路徑之一第二子集跨越多個信號層。
在實例34中，實例26至33之任何一者或任何組合之微電子封裝橋接器可任選地包括有：一第一凸塊圖型與一第二凸塊圖型不同。
在實例35中，實例26至34之任何一者或任何組合之微電子封裝橋接器可任選地包括有：該第一晶粒為一控制晶粒，並且該第二晶粒為一記憶體晶粒。
實例36可包括有一種微電子封裝橋接器。該微電子封裝橋接器可包含有一第一接地層、一第二接地層、一第一信號層、以及一第二信號層。該第一信號層可相鄰該第一接地層。該第一信號層可包括有第一複數條導電路徑。該第一複數條導電路徑各可布置來在一第一晶粒之第一複數個凸塊之一第一子集其中一者與一第二晶粒之第二複數個凸塊之一第一對應子集之間形成一電氣連接。該第二信號層可介於該第一接地層與該第二接地層之間。該第二信號層可包括有第二複數條導電路徑。該第二複數條導電路徑各可布置來在該第一複數個凸塊之一第二子集與該第二複數個凸塊之一第二對應子集之間形成一電氣連接。該第一複數條導電路徑之各者與該第二複數條導電路徑之各者可具有彼此實質相等之一長度。
在實例37中，實例36之微電子封裝橋接器可任選地包括有：該第一複數條導電路徑之各者與該第二複數條導電路徑之各者的該長度彼此是在約1%至約2%之範圍內。
在實例38中，實例36之微電子封裝可任選地包括有：該第一複數條導電路徑之各者與該第二複數條導電路徑之各者的該長度變化小於100微米。
在實例39中，實例36至38之任何一者或任何組合之微電子封裝可任選地包括有：該第一信號層與該第二信號層各包括有複數條接地路徑。
在實例40中，實例39之微電子封裝可任選地包括有：一各別信號層內該複數條導電路徑之各者之間的一距離達到最大，並且該等導電路徑其中至少一者與該各別信號層內該複數條接地路徑其中至少一者之間的一距離減到最小。
在實例41中，實例36至40之任何一者或任何組合之微電子封裝可任選地包括有：該第二複數條導電路徑之各者穿越藉由該第一接地層所形成之一對應通孔。
在實例42中，實例36至41之任何一者或任何組合之微電子封裝可任選地包括有：該第一晶粒為一控制晶粒，並且該第二晶粒為一記憶體晶粒。
以上詳細說明包括有對附圖之參照，其形成此詳細說明的一部分。此等圖式以例示方式展示可實踐的特定實施例。這些實施例在本文中亦稱為「實例」。此類實例可包括有所示或所述者以外的元件。然而，亦思忖的是包括有所示或所述元件之實例。此外，亦忖思的是對照一特定實例(或其一或多種態樣)或對照本文中所示或所述之其他實例(或其一或多種態樣)，使用所示或所述那些元件(或其一或多種態樣)之任何組合或排列的實例。
本文件中涉及的公告、專利及專利文件的全文內容係以參考方式併入本文，正如個別併入本文一般。本文件與那些以參考方式併入的文件之間若有不一致的使用狀況，此(等)併入之參考文件中之使用狀況乃是本文件使用狀況之輔助；對於矛盾的不一致，以本文件中的使用狀況為主。
在本文件中，「一」一語如專利文件中常見，係獨立於「至少一個」或「一或多個」之任何其他例子或用法，用於包括有一個或超過一個。在本文件中，「或」一語係用於意指為非排他的或，因此「A或B」包括有「A但非B」、「B但非A」及「A與B」，除非另有所指。在隨附申請專利範圍中，「包括有」及「裡面」等詞是當作「包含有」及「其中」等各別用語之通俗中文對等詞使用。同樣地，在以下的申請專利範圍中，「包括有」及「包含有」等詞為開放式用語，也就是說，除了一請求項中之一用語後所列以外，還包括有元件之一系統、裝置、物品或程序，仍視為落在該請求項的範疇內。此外，在以下申請專利範圍中，「第一」、「第二」及「第三」等詞只是用來當作標籤，非意欲對其物件建議一數值順序。
以上說明係意欲為說明性而非限制性。舉例而言，上述實例(或其一或多種態樣)可與其他實例組合使用。可使用其他實施例，例如可由所屬技術領域中具有通常知識者在檢閱以上說明後來使用。所提供的[發明摘要]容許讀者快速確定本技術揭露的性質，並且乃是基於瞭解將不會用於解讀或限制申請專利範圍之範疇或意義來提交。同樣地，在以上的「實施方式」中，可將各種特徵集結在一起而讓本揭露更順暢。然而，申請專利範圍可能未提出本文中所揭示之特徵，因為實施例可包括有該等特徵之一子集。再一實施例可包括有比一特定實例中所揭示者更少的特徵。因此，以下申請專利範圍藉此係併入本文的[實施方式]中，一請求項本身代表一各別的實施例。本文中所揭示之實施例之範疇連同此類請求項給與權利之均等例的全部範疇，要參照隨附申請專利範圍來判定。
100‧‧‧微電子封裝102、104‧‧‧晶粒106、600‧‧‧橋接器108‧‧‧基材110、112‧‧‧凸塊202、204、302、304‧‧‧區塊400‧‧‧凸塊圖型402‧‧‧記憶體凸塊區404‧‧‧開區域406‧‧‧控制器凸塊區502‧‧‧跳線504、506‧‧‧信號508、510‧‧‧信號層512‧‧‧接地層514、516、712、714‧‧‧通孔602~608‧‧‧第一層702、704‧‧‧信號走線706、708、710‧‧‧接地走線800‧‧‧方法802~810‧‧‧階段900‧‧‧系統905、910‧‧‧處理器912、912N‧‧‧處理核心914‧‧‧記憶體控制器916‧‧‧快取記憶體917、922、924、926‧‧‧介面920‧‧‧晶片組930‧‧‧記憶體932‧‧‧依電性記憶體934、960‧‧‧非依電性記憶體940‧‧‧顯示裝置950、955‧‧‧匯流排962、964、966、972、974、976、977、978‧‧‧裝置
圖式不必然按照比例繪示，在此等圖式中，相似的符號可描述不同視圖中類似的組件。具有不同字母下標之相似符號可代表類似組件的不同個體。此等圖式以舉例方式，但不是要作為限制，大致繪示本文件中所論述的各項實施例。
圖1根據本文中所揭示之一些實施例，繪示一微電子封裝的一側視圖。
圖2根據本文中所揭示之一些實施例，繪示一橋接器之一鏡射輸入/輸出區的一俯視圖。
圖3根據本文中所揭示之一些實施例，繪示一橋接器之一複製輸入/輸出區的一俯視圖。
圖4根據本文中所揭示之一些實施例，繪示一凸塊圖型的一區塊設計。
圖5根據本文中所揭示之一些實施例，繪示一跳線設計。
圖6根據本文中所揭示之一些實施例，繪示一橋接器。
圖7A至7C根據本文中所揭示之一些實施例，繪示一橋接路由安排設計。
圖8根據本文中所揭示之一些實施例，繪示用於製造一微電子封裝之方法。
圖9根據本文中所揭示之一些實施例，繪示一系統級簡圖。
100‧‧‧微電子封裝
102、104‧‧‧晶粒
106‧‧‧橋接器
108‧‧‧基材
110、112‧‧‧凸塊

Claims (21)

  1. 一種微電子封裝橋接器，其包含：複數個接地層，以及與該等複數個接地層交織之複數個信號層，各該等信號層包括複數條導電路徑，各該等導電路徑被布置來在一第一晶粒之第一複數個凸塊之其中一者與一第二晶粒之第二複數個凸塊之其中一者之間形成一電氣連接，其中，各該等複數條導電路徑具有彼此實質相等之一長度，其中各該等信號層更包括複數條接地路徑，並且其中一第一距離係位於一各別信號層內之各該等複數條導電路徑之間，且一第二距離係位於該各別信號層內之該等導電路徑之其中至少一者與該等複數條接地路徑之其中至少一者之間，其中該第二距離相對於該第一距離較小。
  2. 如請求項1之微電子封裝橋接器，其中各該等複數條導電路徑之該長度是在彼此之約1%至約2%的範圍內。
  3. 如請求項1之微電子封裝橋接器，其中各該等複數條導電路徑之該長度變化小於100微米。
  4. 如請求項1之微電子封裝橋接器，其中各該等信號層包括複數個接地連接。
  5. 如請求項1之微電子封裝橋接器，其中各該等複數個接地層包括在該等複數個接地層之一各別接地 層內形成一網格之複數條接地路徑。
  6. 如請求項1之微電子封裝橋接器，其中該等複數條導電路徑之一第一子集係侷限於一第一信號層，且該等複數條導電路徑之一第二子集跨越多個信號層。
  7. 如請求項1之微電子封裝橋接器，其中該第一凸塊圖型與該第二凸塊圖型不同。
  8. 如請求項1之微電子封裝橋接器，其中該第一晶粒為一控制晶粒，且該第二晶粒為一記憶體晶粒。
  9. 一種微電子封裝橋接器，其包含：一第一接地層，一第二接地層，一與該第一接地層相鄰之第一信號層，該第一信號層包括第一複數條導電路徑，各該等第一複數條導電路徑被布置來在一第一晶粒之第一複數個凸塊之一第一子集之其中一者與一第二晶粒之第二複數個凸塊之一第一對應子集之間形成一電氣連接，以及一位於該第一接地層與該第二接地層之間的第二信號層，該第二信號層包括第二複數條導電路徑，各該等第二複數條導電路徑被布置來在該等第一複數個凸塊之一第二子集之其中一者與該等第二複數個凸塊之一第二對應子集之間形成一電氣連接，其中，各該等第一複數條導電路徑與各該等第二複數條導電路徑具有彼此實質相等之一長度。
  10. 如請求項9之微電子封裝橋接器，其中各 該等第一複數條導電路徑與各該等第二複數條導電路徑的該長度是在彼此之約1%至約2%的範圍內。
  11. 如請求項9之微電子封裝橋接器，其中各該等第一複數條導電路徑與各該等第二複數條導電路徑的該長度變化小於100微米。
  12. 如請求項9之微電子封裝橋接器，其中該第一信號層與該第二信號層各包括複數條接地路徑。
  13. 如請求項12之微電子封裝橋接器，其中一第一距離係位於一各別信號層內之各該等複數條導電路徑之間，且一第二距離係位於該各別信號層內之該等導電路徑之其中至少一者與該等複數條接地路徑之其中至少一者之間，其中該第一距離係比該第二距離更大。
  14. 如請求項9之微電子封裝橋接器，其中各該等第二複數條導電路徑穿越一對應通孔到一相鄰接地層。
  15. 如請求項9之微電子封裝橋接器，其中該第一晶粒為一控制晶粒，且該第二晶粒為一記憶體晶粒。
  16. 一種製造一微電子封裝之方法，該方法包含：在一第一信號層中形成第一複數條導電路徑；在一第二信號層中形成第二複數條導電路徑；形成一位於該第一信號層與該第二信號層之間的一接地層，該接地層界定複數個通孔，各該等第二複數條導電路徑穿越一各別通孔， 其中形成該等第一複數條導電路徑與該等第二複數條導電路徑包括：形成各該等第一複數條導電路徑與各該等第二複數條導電路徑，使得每一者具有彼此實質相等之一長度；以及在該第一信號層與該第二信號層之每一者中形成複數條接地路徑，其中形成各該等第一複數條導電路徑與各該等第二複數條導電路徑使得每一者具有彼此實質相等之一長度包括：形成各該等第一複數條導電路徑與各該等第二複數條導電路徑，使得一第一距離係位於一各別信號層內之各該等複數條導電路徑之間，且一第二距離係位於該各別信號層內之該等導電路徑之其中至少一者與該等複數條接地路徑之其中至少一者之間，其中該第一距離係比該第二距離更大。
  17. 如請求項16之方法，其中形成各該等第一複數條導電路徑與各該等第二複數條導電路徑使得每一者具有彼此實質相等之一長度包括：形成各該等第一複數條導電路徑與各該等第二複數條導電路徑，使得各該等第一複數條導電路徑與各該等第二複數條導電路徑的該長度是在彼此之約1%至約2%的範圍內。
  18. 如請求項16之方法，其中形成各該等第一複數條導電路徑與各該等第二複數條導電路徑使得每一者具有彼此實質相等之一長度包括：形成各該等第一複數條導電路徑與各該等第二複數條導電路徑，使得各該等第一 複數條導電路徑與各該等第二複數條導電路徑的該長度變化小於100微米。
  19. 如請求項16之方法，更包含提供一第一晶粒與一第二晶粒，各該等第一複數條導電路徑及各該等第二複數條導電路徑在該第一晶粒之一凸塊與該第二晶粒之凸塊之間形成一電氣連接。
  20. 一種微電子封裝，其包含：一第一晶粒，其包括界定一第一凸塊圖型之第一複數個凸塊；一第二晶粒，其包括界定一第二凸塊圖型之第二複數個凸塊；以及一橋接器，其包括：複數個接地層，及與該等複數個接地層交織之複數個信號層，各該等信號層包括複數條導電路徑及複數條接地路徑，各該等導電路徑在該等第一複數個凸塊之其中一者與該等第二複數個凸塊之其中一者之間形成一電氣連接，其中，各該等複數條導電路徑具有彼此實質相等之一長度，並且其中一第一距離係位於一各別信號層內之各該等複數條導電路徑之間，且一第二距離係位於該各別信號層內之該等導電路徑之其中至少一者與該等複數條接地路徑之其中至少一者之間，其中該第一距離係比該第二距離更大。
  21. 如請求項20之微電子封裝，其中各該等複數條導電路徑之該長度是在彼此之約1%至約2%的範圍內。
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