TWI750305B - 具有定子連結密封件之泵總成 - Google Patents
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Abstract
本發明揭示一種泵總成,其包括:兩個半殼定子,其等界定一或多個真空泵室;端件,其等經安裝於該兩個半殼定子之任一端處;該真空泵室之任一側上的縱向密封件,其等用於在該兩個半殼定子之縱向接觸面之間進行密封;及至少一個進一步密封件,該至少一個進一步密封件用於在該等端件之一者與該等定子半殼之間進行密封。該等縱向密封件具有鄰接該至少一個環狀密封件之端部分;且該等縱向密封件及該進一步密封件之一寬度對高度縱橫比係在1:1與2:1之間。
Description
本發明之領域係關於泵且特定言之關於用於一泵之一定子的密封件。
藉由使用半殼定子,將一轉子安裝於一些泵總成之一定子內變得更簡單。此允許轉子放置於一個半殼內且允許另一半殼安裝於頂部上。接著在定子之任一端處使用頂板或端件以支撐軸承及驅動系統。需要在定子半殼之間且在端件與定子之間的一密封件。 半殼定子之間的分割線觸及在頂板與定子之間進行密封的密封件所處之點稱為T連結點。尤其在泵總成於高溫下操作之情況下,難以在此T連結點處提供一有效或可靠密封。 GB2489248揭示一種具有半殼定子之真空泵。該真空泵具有用於在定子半殼之間進行密封的縱向定子連結密封件及用於在定子與端件之間進行密封的環狀定子密封件。定子半殼具有用於抵著環狀密封件將縱向密封件保持於適當位置中由此改良此T連結點處之密封的構造。
本發明之一第一態樣提供一種真空泵總成,其包括:兩個半殼定子,其等界定一或多個真空泵室;端件,其等安裝於該兩個半殼定子之任一端處;該真空泵室之任一側上的縱向密封件,其等用於在該兩個半殼定子之縱向接觸面之間進行密封;及至少一個進一步密封件,該至少一個進一步密封件用於在該等端件之一者與該等定子半殼之間進行密封;其中該等縱向密封件具有鄰接該至少一個環狀密封件之端部分;且該等縱向密封件之各者及該進一步密封件之一寬度對高度縱橫比係在1:1與2:1之間。 本發明之發明人已認知,兩個不同密封件之間的一介面將受各密封件上之應力及壓縮影響,各密封件上之應力及壓縮的變動引起其等彈性性質及其等變形之對應改變。此外,發明人已認知,在一密封件處於壓縮下時密封件中之應力隨歸因於變形增大所致之寬度對高度比增大而增大,該變形改變密封幾何形狀從而導致在密封介面處出故障之風險增大。一密封件中之高應力亦加快壓縮形變之開始,其縮短密封件之壽命。 在各密封件中歸因於操作條件改變(諸如一溫度升高)所致之由密封件承受的應力改變為不同之情況下,一密封件間介面之幾何形狀尤其受影響。若一個密封件上之應力不同於另一密封件上之應力而增大,則此將導致一應力失配,其將影響密封介面之幾何形狀且因此該介面之密封性質將改變。此問題已藉由對密封件之各者提供一類似、相對低寬度對高度縱橫比而予以解決。此導致由各小密封件承受之應力的任何失配與密封件之間的介面幾何形狀隨操作溫度改變之對應小改變,從而跨一寬溫度範圍提供有效操作。 在一些實施例中,該進一步密封件係一環狀密封件且包括具有一1:1縱橫比之一O環且該縱向密封件具有一矩形截面。 由於泵總成之幾何形狀,端件與定子半殼之間的密封件可具有一環狀形狀且在一些情況下可包括一O環。O環係有效密封的且係現成的。密封件一般具有具一1:1縱橫比之一圓形截面。相比之下,縱向密封件將具有可為一正方形之一矩形截面且將具有在1:1與2:1之間的一縱橫比。縱向密封件可呈一墊圈之形式且墊圈一般形成有具有一大寬度對高度縱橫比之一矩形截面。提供具有類似於O環之縱橫比的一縱橫比之密封件歸因於密封件內承受之類似應力而跨大溫度範圍提供有效密封。此外,相較於具有一3:1或更高寬度對高度縱橫比之一習知墊圈,縱向密封件之低寬度對高度縱橫比導致應力減小,從而導致密封件壽命更長。 在其他實施例中,該進一步密封件包括一環狀矩形密封件且該縱向密封件及該環狀密封件各具有在1:1與2:1之間的一寬度對高度縱橫比。 儘管O環係現成的且有效密封的且因此,常常用作環狀密封件,但在一些實施例中一矩形截面密封件用作進一步密封件。若使用一矩形密封件,則兩個密封件之截面可非常緊密地匹配。 在一些實施例中,該縱向密封件具有在1.1:1與1.3:1之間的一寬度對高度縱橫比。 稍大於1的縱向密封件之一縱橫比使得容易在凹槽中進行操控及放置。然而,在進一步密封件係一O環之情況下使得縱橫比接近於1提供一更緊密匹配,從而跨接面提供更均勻應力。此外,儘管具有稍大於1之一縱橫比使得容易在凹槽中進行操控、定位及保持,但使得縱橫比接近於1提供一更厚密封件,從而尤其朝向密封件之端提供一更均勻應力輪廓,其中該應力輪廓係重要的。一更低應力亦減小隨應力增大的密封件之化學易感性。 在一些實施例中,該進一步密封件亦具有在1.1:1與1.3:1之間的一寬度對高度縱橫比。 在一些實施例中,該進一步密封件及該縱向密封件具有彼此差距小於50%、較佳小於30%且在一些實施例中小於10%之一類似數量級截面積。 密封件之間的介面之最大可能面積受具有最小截面的密封件之截面積限制。因此,提供類似截面積避免介面面積過度地受一個特別低截面積限制。此外,在兩個不同密封件中存在良好應力匹配之情況下,此在各密封件內提供一壓力平衡,從而允許介面維持其形狀,且在良好匹配之情況下提供一平坦密封表面。 在一些實施例中,該縱向密封件在未經壓縮時包括用於與該進一步密封件鄰接之一平坦端表面。 儘管縱向密封件之端表面可具有用於與例如一O環匹配之一輪廓形狀,但在一些實施例中其包括一平坦表面。一平坦表面更容易製造且更容易操控。就此而言,當組裝泵時,縱向密封件之端可比定子半殼之端更遠地延伸且使用一工具推回以與定子半殼之端表面對準。若端表面係平坦的,則此程序及工具製造變得更簡單。此外,若壓縮O環,則此將提供一相對平坦表面,縱向密封件之平坦表面可在該相對平坦表面上有效地進行配合及密封。 在一些實施例中,該縱向密封件經製造為具有具一0.07 mm容限之一2 mm以上高度且該凹槽經製造為具有具一0.05 mm容限的比該墊圈之該高度小20%的一深度,歸因於該等容限所致之該壓縮變動低於7%。 在一些實施例中,該縱向密封件經製造為具有具一0.07 mm容限之一2.5 mm以上高度且該凹槽經製造為具有具一0.05 mm容限的比該墊圈之該高度小20%的一深度,歸因於該等容限所致之該壓縮變動低於5.5%。 如上述,若密封件之最小高度經設定為2毫米且容限係0.07毫米且該凹槽經製造為具有具一0.05 毫米容限的比該墊圈之該高度小20%的一深度,則歸因於該等容限所致之壓縮變動限於低於7%。然而,若該縱向密封件經製造為具有具類似容限之一2.5毫米以上高度,則歸因於該等容限所致之壓縮變動降至低於5.5%。此外,若該高度以相同容限仍進一步增大至3毫米,則歸因於該等容限所致之壓縮變動降至低於4.7%。以此方式,吾人可明白,增大密封件之高度(其中容限保持相同)使歸因於此等容限所致之壓縮變動減小且此導致可預測性增大且匹配由密封件在其等介面處感受到之應力及應變的能力更好。 針對上述密封件,在2.5毫米與3.5毫米之間較佳3毫米之一寬度提供所期望縱橫比。 當相較於密封件之彼寬度選擇凹槽之相對寬度時,應選擇該相對寬度足夠寬使得密封件在經壓縮或歸因於溫度升高而膨脹時不耗盡空間或超填凹槽。然而,該相對寬度不應比如上文所規定之要求寬得多,否則密封件可偏離或變得失準。 真空泵具有特別高壓力差且需要特別有效密封。因此,本發明之實施例尤其適用於此等真空泵。 在隨附的獨立技術方案及相依技術方案中陳述進一步特定及較佳態樣。相依技術方案之特徵可在適當時且以除技術方案中明確陳述之彼等組合方式外的組合方式與獨立技術方案之特徵組合。 在一裝置特徵被描述為可操作以提供一功能之情況下,將明白,此包含提供該功能或者經調適或經結構設計以提供該功能之一裝置特徵。
在論述實施例的任何更多細節之前,首先將提供一概述。 實施例提出適合跨一大溫度範圍使用且具有一低寬度對高度縱橫比從而提供低密封件變形及低密封件應力的縱向密封件或墊圈。此低縱橫比係藉由相較於習知定子殼墊圈提供具有一增大之高度或厚度之一縱向密封件來提供,且此不僅減小墊圈內之應力而且其需要一更深凹槽,且此導致將密封件放置於凹槽內更容易。 減小的壓縮變動導致更易預測與端件密封件鄰接或配合之端表面上的表面壓力,從而允許更好的應力匹配,及隨操作條件變動(諸如溫度變動)變動更少之一密封介面幾何形狀。 歸因於寬度對高度縱橫比減小所致之內部應力減小亦減小化學易感性且增加密封件之壽命,因為永久性形變(即,不可逆變形)隨應力增大更快速地發生。 藉由對兩個密封件提供類似縱橫比,針對此等密封件達成一定程度應力匹配,且減小介面幾何形狀隨溫度改變之變動。 在兩個密封件之截面積類似的情況下,此亦提供改良的應力匹配及減小的介面幾何結構變動,從而導致在一更大溫度範圍之改良的密封有效性。此外,兩個密封件之一類似大小截面積提供一增大的介面面積,因為此面積的最大大小受到具有更小截面積之密封件的截面積限制。 相較於諸多習知密封件,具有一低寬度對高度縱橫比之一密封件導致一縱向密封件高度增大。一密封件高度增大導致一對應凹槽深度增大,且此不僅使得更容易將密封件放置且保持於凹槽中而且其減小歸因於製造容限出現之變動。例如,若容限係0.05毫米,則針對一1毫米高度密封件,此與一5%變動相關,而針對一3毫米高度密封件,變動係此5%變動之1/3。密封件大小之更小百分比變動導致壓縮範圍之更小變動且導致更易預測由密封件之端表面施加的表面壓力。 圖1圖解地展示穿過根據先前技術之具有一1 mm未壓縮高度及3 mm寬度的墊圈之一截面。如可見,若此等縱向墊圈在安裝於一泵總成之兩個定子殼之間時發生壓縮,則其等在凹槽之寬度內膨脹且承受相對高變形及應力。特定言之,如可見,密封件之邊緣部分具有一相對尖銳截面。與環狀密封件鄰接的密封件之端部分將以一類似方式變形且此尖銳截面可尤其在端件密封件不承受類似壓縮及應力之情況下觸及對應環狀端件密封件,且此導致介面變形,其繼而可導緻密封件洩漏。 圖2展示穿過根據本發明之一實施例的用於一泵總成之一墊圈的截面。在此情況下,在靜止時,墊圈之寬度係3 mm同時高度係2.5 mm。相較於圖1之墊圈,此形狀提供一低得多寬度對高度縱橫比,且當壓縮墊圈時,此導致相當低變形及應力。此外,應力跨墊圈更均勻,從而導致邊緣及端表面更平坦且並非如此尖銳。 圖3提供展示隨墊圈之厚度增大製造容限對壓縮比變動的影響之一表。特定言之,在深度0.8 mm之一墊圈凹槽內的寬度3 mm及厚度1 mm之一先前技術墊圈被展示為具有壓縮比變動,該比係在組裝定子時墊圈歸因於墊圈厚度之0.07 mm製造容限及凹槽深度之0.05 mm製造容限被壓縮的在7.5%與34.4%之間的百分比。 接著考量容限對根據不同實施例之墊圈的壓縮比之影響。此等墊圈具有相同3 mm寬度但具有一增大的高度或厚度。墊圈及凹槽之製造容限應被視為相同於先前技術,即,墊圈厚度之製造容限係0.07 mm且凹槽深度之製造容限係0.05 mm。 首先,考量2 mm厚且在一1.60 mm凹槽內之一墊圈。在此例項中,容限使在6.9與6.5之間的壓縮比產生低於7%之變動。 將墊圈厚度增大至2.5 mm會將壓縮比變動減小至5.5%或更低。將厚度進一步增大至3 mm (其提供具有一正方形截面之一墊圈)會將壓縮比變動減小至4.6%或更低。 圖3之表清楚地展示由製造容限引起之壓縮比變動隨墊圈厚度增大顯著地減小。此變動減小導致墊圈內的應力更易預測,從而使得更一致製造泵成為可能,其中在密封件之間具有更好應力匹配。 總言之,一1 mm低厚度導致可能壓縮範圍中之一寬變動,且此範圍之上端處的高壓縮比加快一墊圈中的壓縮形變之開始,此導致一早密封件故障。高墊圈壓縮亦導致墊圈在介面處切成O環。 在較佳實施例中,墊圈係3 mm寬及2.5 mm高且具有實質上相同於環狀密封件之截面積。低縱橫比1.2:1導致低密封件變形及低密封件應力。2.5 mm厚度導致一窄壓縮範圍且此範圍之上端處的較低壓縮比減慢墊圈中的壓縮形變之開始,從而延長密封件壽命。已使用有限元素分析以最佳化O環上的壓縮與墊圈上的壓縮之間的平衡使得壓縮及溫度之極值不引起一介面壓力損失或O環毀壞。此外,2.5 mm厚墊圈比一1 mm厚墊圈更積極地接合於一外殼中且不太可能脫離凹槽。此有助於墊圈在被壓縮螺桿壓縮時擠壓,此已在一1 mm厚墊圈中偶爾觀察到。 圖4a及圖4b示意性地展示環狀密封件40與定子半殼之間的縱向墊圈20中的端件之間的介面之形狀如何隨墊圈厚度增大而改變。 圖4a展示根據一實施例之一增大厚度的墊圈20與在壓縮下之一O環40之間的介面。如可見,墊圈20及O環將完全相等的壓力施加於彼此上,從而跨介面之多數面積導致一實質上平坦表面。來自各側之實質上相等壓力歸因於由各密封件承受之實質上相等應力。此外,跨一大溫度範圍維持此匹配。 圖4b展示一更薄墊圈且在此情況下由墊圈承受之應力及應變顯著高於由O環承受之彼應力及應變,且因此墊圈之端推入O環中從而引起介面變形且在密封件之間洩漏的可能性增大。 總言之,為使一密封件良好地工作,應跨操作溫度維持墊圈與O環之間的接觸壓力。墊圈與O環之間的介面將根據墊圈及O環上的相對壓縮而成形。在平衡墊圈及O環上的壓縮之情況下,介面係一實質上筆直的線(如圖4a中所展示)。假定在墊圈及O環上存在足夠壓縮,則在此處所展示之平衡情況下密封將不存在問題。 然而,若O環壓縮及墊圈壓縮不匹配,則一者將膨脹至另一者中。若例如墊圈壓縮大於O環壓縮(可能歸因於其形狀),墊圈將膨脹至O環中,如圖4b中所展示。 圖5至圖7展示縱向密封件與環狀密封件及使用其等之真空泵總成之特定實例。此等密封件受益於本發明之實施例之低寬度對高度縱橫比。密封件具有用於置中縱向密封件以改良與環狀密封件之介接且用於提供縱向密封件之軸向撓性的額外特徵。一些實施例亦包括用於使縱向密封件抵著最接近於泵室的凹槽之內表面偏移以禁止流體沿凹槽洩漏的特徵。 圖5示意性地展示具有兩個定子半殼及端件之多室旋轉真空泵總成,該總成可有利地使用根據實施例之密封件來密封。泵總成係由其間經安裝有一轉子(未展示)之兩個定子半殼104及102所形成。兩個殼被固定在一起以形成泵室。室106、108、110、112、114及116之各者係藉由泵室壁134而分離。端件122及124係安裝於定子之半殼上以完成泵總成。 圖6展示經配置於定子半殼之間且經配置於端面之間之密封件之一等角視圖。在此實施例中,於泵室30之任一側上存在縱向密封件20及22。在端件與定子半殼之間亦存在O環密封件40及42。 在此實施例中,環狀密封件40、42係一標準O環且經安裝於可使用一普通圓柱形工具加工之一恆定截面之一矩形凹槽中。可能難以維持縱向密封件20、22與O環40、42之間之一有效密封。特定言之,縱向密封件20、22係安裝在寬於密封件之一凹槽中,以對某些橫向移動提供自由度且提供墊圈在壓縮下及在一升高之溫度下膨脹的能力。然而,此對縱向密封件之端表面提供自由度,此意謂端表面之位置未被確切地判定,且端表面無法與O環密封件準確地配合。 圖7展示提供凹槽中之縱向密封件的置中以解決上述問題的特徵。特定言之,墊圈20包括一端迴圈25,該端迴圈25係在凹槽50內且具有形成一弓形狀之彎曲縱向臂。由於該迴圈之對稱性質,弓形狀在該迴圈之任一側上反作用於凹槽之外表面,各側產生量值實質上相同但方向相反之一力,由此置中密封件,且特定言之置中自該迴圈延伸且與O環配合之密封件的端部分29。 迴圈之弓形狀保留軸向剛性但允許橫向撓性以確保一干涉配合係可能的。墊圈之截面/寬度係維持於弓形置中特徵中以避免在高溫下過度膨脹。空間經提供於弓側及筆直構件內,以在更高溫度下壓縮及膨脹期間對伸展提供自由度。 除提供此置中特徵外,該迴圈亦提供某些軸向穩定性及軸向撓性。由形成沿任一方向自縱向凹槽延伸的臂之外表面的凹槽之軸向對準面52提供軸向穩定性。密封件之迴圈部分接觸軸向對準面且此將縱向密封件軸向地保持於適當位置中。在定子之各端處的軸向對準面之間的凹槽之長度經結構設計使得縱向密封件在一微張力下予以安裝且因此更牢固地保持於凹槽中。由橫向臂之撓曲提供軸向撓性,以允許密封件之一定軸向移動由此禁止其變得過度拉緊,其中此可能觸發對應密封件薄化。 在圖7之實施例中,迴圈25在外表面上具有鄰接定子半殼之軸向對準表面52的小突起23。此等小突起23對迴圈提供與針對軸向張力定位墊圈之軸向對準面52接觸之一已知位置。該等小突起係朝向迴圈之一外側定位,以允許歸因於小突起23之間的迴圈部分之彎曲而發生軸向撓曲增大。在此實施例中,由縱向歧離部或凸塊27提供進一步軸向撓曲,此亦提供墊圈抵著凹槽之內表面的偏移。此凸塊可收縮及膨脹以允許軸向撓曲。 墊圈之各端包括自迴圈25延伸之一端部分29。此端部分29與定子半殼之端對準且接觸O環。在此實施例中,端部分29置中於迴圈之弓形狀。 當組裝泵總成時,下定子具有安裝於凹槽50內的泵之任一側上的兩個墊圈。在張力下抵著軸向對準面52將該兩個墊圈安裝於定子之任一端處。接著藉由一平坦端工具使突出端29抵靠定子半殼之端,且將上定子半殼下降至下定子半殼上且將該上定子半殼及該下定子半殼固定在一起使得墊圈在壓縮下保持於適當位置中。接著可抵著定子端面安裝含有O環密封件40、42之端件122、124。 如可見,凹槽50具有一恆定寬度且因此可使用一個工具一次完成加工。此提供優於含有小突起以將密封件維持於適當位置中之凹槽的一優點。此外,缺少此等小突起會減小當墊圈在壓縮及溫度改變下膨脹時墊圈存在擠壓點之機會。 在組裝期間,推回突部29以與定子之端面齊平。此歸因於迴圈25之撓性且特定言之歸因於迴圈之橫向臂而成為可能,該等橫向臂可向內及向外撓曲且提供此軸向撓性。凹槽50在其接近軸向對準面52時朝向泵室歧離。提供此歧離部使得墊圈朝向(若干)泵室之偏移不使墊圈抵著接近於其端的凹槽之內側偏移。凹槽內的墊圈之置中允許墊圈20回應於橫向力而朝向迴圈25橫向移動。當自任一側施加相反橫向力時,此有助於端突部29之置中。 總言之,上述墊圈設計使用一簡化幾何形狀。端區具有提供所要功能之一「單盒」形狀。根據本發明,形成具有上文所陳述之寬度對高度縱橫比的平坦端墊圈以介接至一端密封件,在此情況下標準圓形截面O環。 軸向對準墊圈與O環凹槽對一良好品質密封而言係重要的。此置中係藉由確保當墊圈放置於外殼中時其等突出超過O環凹槽且接著藉由使用訂製工具將墊圈推回至O環凹槽而達成。 在墊圈之端中需要軸向撓性以提供可推回之一突出端。由支撐端密封表面之橫向或側向構件提供此撓性,參見圖7。 墊圈之中心中的軸向撓性幫助確保其在張力下且不彎曲。墊圈經伸展且在一些實施例中抵著對準面52定位於對準小突起23上。由支撐對準小突起之橫向撓性構件提供撓性。墊圈之中央區中的凸塊27提供額外軸向撓性。 儘管本文中已參考隨附圖式詳細揭示本發明之繪示性實施例,但應理解,本發明不限於精確實施例且熟習此項技術者可在不背離如由隨附申請專利範圍及其等效物界定的本發明之範疇的情況下在其中實現各種改變及修改。
20‧‧‧縱向墊圈/縱向密封件22‧‧‧縱向密封件23‧‧‧小突起25‧‧‧端迴圈27‧‧‧縱向歧離部或凸塊29‧‧‧端部分/突出端/端突部30‧‧‧泵室40‧‧‧環狀密封件/O環/O環密封件42‧‧‧O環密封件/環狀密封件/O環50‧‧‧凹槽52‧‧‧軸向對準面/軸向對準表面102‧‧‧定子半殼104‧‧‧定子半殼106‧‧‧泵室108‧‧‧泵室110‧‧‧泵室112‧‧‧泵室114‧‧‧泵室116‧‧‧泵室122‧‧‧端件124‧‧‧端件134‧‧‧泵室壁
現將參考隨附圖式進一步描述本發明之實施例,其中: 圖1繪示穿過在一自由狀態及一壓縮狀態下之具有一3 mm寬度及1 mm高度的先前技術之墊圈的截面; 圖2繪示穿過根據一實施例之在自由狀態及壓縮狀態下的墊圈之截面; 圖3展示容限對先前技術之墊圈及根據實施例之墊圈的影響; 圖4a及圖4b展示墊圈與不同縱橫比之縱向密封件之O環之間的介面之一截面視圖; 圖5展示具有一水平分割線之一泵總成; 圖6展示根據一實施例之具有密封件的一泵總成之一等角視圖;及 圖7展示根據一實施例的一縱向密封件之輪廓。
Claims (13)
- 一種真空泵總成,其包括:兩個半殼定子,其等界定一或多個真空泵室;端件,其等經安裝於該兩個半殼定子之任一端處;該真空泵室之任一側上的多個縱向密封件,用於在該兩個半殼定子的縱向接觸面之間進行密封;及至少一個進一步密封件,用於在該等端件之一者與該等定子半殼之間進行密封;其中該等縱向密封件具有鄰接該至少一個進一步密封件的端部分;且該等縱向密封件及該至少一個進一步密封件之一寬度對高度縱橫比係在1:1與2:1之間。
- 如請求項1之真空泵總成,其中該進一步密封件係一環狀密封件且包括具有一1:1縱橫比之一O環,且該等縱向密封件具有一矩形截面。
- 如請求項1之真空泵總成,其中該進一步密封件包括一環狀矩形密封件,且該等縱向密封件及該環狀矩形密封件各具有在1:1與2:1之間。
- 如請求項3之真空泵總成,其中該等縱向密封件及該環狀矩形密封件各具有在1.1:1與1.3:1之間之一寬度對高度縱橫比。
- 如請求項1之真空泵總成,其中該等縱向密封件具有在1.1:1與1.3:1 之間之一寬度對高度縱橫比。
- 如請求項1之真空泵總成,其中該進一步密封件及該等縱向密封件具有彼此差距小於50%之一類似數量級截面積。
- 如請求項6之真空泵總成,其中該進一步密封件及該等縱向密封件具有彼此差距小於30%之截面積。
- 如請求項1之真空泵總成,其中該等縱向密封件在未經壓縮時包括用於與該進一步密封件鄰接之一平坦端表面。
- 如請求項1之真空泵總成,其中該等縱向密封件經製造為具有具一0.07mm容限之一2mm以上高度,且該等凹槽經製造為具有具一0.05mm容限之比該等縱向密封件之該高度小20%之一深度,歸因於該等容限所致之該壓縮變動低於7%。
- 如請求項1之真空泵總成,其中該等縱向密封件經製造為具有具一0.07mm容限之一2.5mm以上高度,且該等凹槽經製造為具有具一0.05mm容限之比該等縱向密封件之該高度小20%之一深度,歸因於該等容限所致之該壓縮變動低於5.5%。
- 如請求項1之真空泵總成,其中該等縱向密封件經製造為具有具一0.07mm容限之一3mm以上高度,且該等凹槽經製造為具有具一0.05mm 容限之比該等縱向密封件之該高度小20%之一深度,歸因於該等容限所致之該壓縮變動低於4.7%。
- 如請求項9至11中任一項之真空泵總成,其中該等縱向密封件包括在2.5mm與3.5mm之間。
- 如請求項12之真空泵總成,其中該等縱向密封件之寬度為3mm。
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