TWI746006B - 產生遮罩的方法及執行此方法的投影裝置 - Google Patents
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Abstract
本發明提供一種產生遮罩的方法及可執行上述方法的投影裝置。所述方法包括：投射第一圖樣至投影面，其中投影面包括非平面區域，且第一圖樣包括多個第一直線；對呈現有第一圖樣的投影面拍攝第一影像；在第一影像中找出至少一第一特定線段，其中各第一特定線段包括至少一第一轉折點；當判定第一影像中的至少一第一轉折點適合用於描繪第一輪廓，則依據至少一第一轉折點描繪第一輪廓；以及當判定第一輪廓匹配於非平面區域的區域輪廓，則基於第一輪廓產生第一遮罩圖樣，其中第一遮罩圖樣用以遮蔽第一輪廓的外部區域。
Description
本發明是有關於一種投影技術，且特別是有關於一種產生遮罩的方法及投影裝置。
在現有技術中，若需在具有非平面區域(例如凸面、凹面或其結合)的投影面上進行投影，並讓投影內容僅呈現於非平面區域中，則投影裝置可利用影像遮罩(masking)的功能來實現上述目的。一般而言，投影裝置所執行的影像遮罩功能是將投影內容中未對應於非平面區域的部分區域皆設置為黑畫面，從而令投影內容中僅保留對應於非平面區域的部分。然而，在投影裝置將實施影像遮罩後的投影內容投射至投影面後，多半還需使用者以手動方式調整相關的投影裝置參數(例如投影畫面的尺寸、位置等)，以讓投影內容可正確地呈現在非平面區域內。
請參照圖1A至圖1D，其是習知的將經遮罩後的投影內容投射至具有非平面區域的投影面的機制。
在圖1A中，假設投影面199具有一非平面區域199a，
而由投影面199的側視圖可看出，非平面區域199a例如是一圓形凸面。多媒體播放器110具有投影內容112。另外，假設連接於投影裝置100的多媒體播放器110欲透過投影裝置100將投影內容112投射至投影面199上，其中投影內容112可包括遮罩區域112a及對應於非平面區域199a的未遮罩區域112b。
然而，由圖1B可看出，在投影裝置100將投影內容112投射至投影面199上之後，因為非平面區域199a的凹凸不平而造成未遮罩區域112b無法正確地呈現於非平面區域199a中。在此情況下，使用者例如可藉由調整投影裝置100的相關投影參數來令投影畫面變形，以試圖讓未遮罩區域112b正確地呈現於非平面區域199a中，如圖1C所示。
在經一番調整後，未遮罩區域112b應可正確地呈現於非平面區域199a中，如圖1D所示。
然而，以上作法對於使用者而言在操作上並不方便。並且，當投影畫面中的未遮罩區域112b的尺寸小於非平面區域199a時，使用者便無法透過圖1C所示方式來將投影畫面進行變形。而若遮罩區域112a與非遮罩區域112b的位置無法調整，則勢必只能透過重新製作投影內容112方能令未遮罩區域112b正確地呈現於非平面區域199a中。
“先前技術”段落只是用來幫助了解本發明內容，因此在“先前技術”段落所揭露的內容可能包含一些沒有構成所屬技術領域中具有通常知識者所知道的習知技術。在“先前技術”段落所揭
露的內容，不代表該內容或者本發明一個或多個實施例所要解決的問題，在本發明申請前已被所屬技術領域中具有通常知識者所知曉或認知。
本發明提供一種產生遮罩的方法及投影裝置，其可適應性地依據非平面區域的區域輪廓產生對應的遮罩圖樣。
本發明的其他目的和優點可以從本發明所揭露的技術特徵中得到進一步的了解。
本發明提供一種產生遮罩的方法，適於投影裝置，包括：投射第一圖樣至投影面，其中投影面包括非平面區域，且第一圖樣包括多個第一直線；對呈現有第一圖樣的投影面拍攝第一影像；在第一影像中找出至少一第一特定線段，其中各第一特定線段包括至少一第一轉折點；當判定第一影像中的至少一第一轉折點適合用於描繪第一輪廓，則依據至少一第一轉折點描繪第一輪廓；以及當判定第一輪廓匹配於非平面區域的區域輪廓，則基於第一輪廓產生第一遮罩圖樣，其中第一遮罩圖樣用以遮蔽第一輪廓的外部區域。
在本發明的一實施例中，當判定第一影像中的至少一第一轉折點不適合用於描繪第一輪廓，或者，當判定第一輪廓未匹配於非平面區域的區域輪廓，則所述方法更包括：投射第二圖樣至投影面，其中第二圖樣包括多個第二直線，其中前述第二直線
的其中之一不平行於前述第一直線的其中之一；對呈現有第二圖樣的投影面拍攝第二影像；在第二影像中找出至少一第二特定線段，其中各第二特定線段包括至少一第二轉折點；當判定第一影像中的至少一第一轉折點及第二影像中的至少一第二轉折點適合用於描繪第二輪廓，則依據第一影像中的至少一第一轉折點及第二影像中至少一第二轉折點描繪第二輪廓；以及當判定第二輪廓匹配於非平面區域的區域輪廓，基於第二輪廓產生第二遮罩圖樣，其中第二遮罩圖樣用以遮蔽第二輪廓的外部區域。
在本發明的一實施例中，前述第一直線之間存在第一間距，前述第二直線之間存在第二間距，且當判定第二輪廓未匹配於非平面區域的區域輪廓，則所述方法更包括：投射第三圖樣至投影面，其中第三圖樣包括多個第三直線，其中各第三直線平行於各第一直線，且前述第一直線之間的第一間距大於前述第三直線之間的第三間距；對呈現有第三圖樣的投影面拍攝第三影像；在第三影像中找出至少一第三特定線段，其中各第三特定線段包括至少一第三轉折點；投射第四圖樣至投影面，其中第四圖樣包括多個第四直線，其中各第四直線平行於各第二直線，且前述第二直線之間的第二間距大於前述第四直線之間的第四間距；對呈現有第四圖樣的投影面拍攝第四影像；在第四影像中找出至少一第四特定線段，其中各第四特定線段包括至少一第四轉折點；當判定第三影像中的至少一第三轉折點及第四影像中的至少一第四轉折點適合用於描繪第三輪廓，則依據第三影像中的至少一第三
轉折點及第四影像中的至少一第四轉折點描繪第三輪廓；以及當判定第三輪廓匹配於非平面區域的區域輪廓，基於第三輪廓產生第三遮罩圖樣，其中第三遮罩圖樣用以遮蔽第三輪廓的外部區域。
在本發明的一實施例中，第一圖樣更包括多個第二直線，其中前述第二直線的其中之一不平行於前述第一直線的其中之一，且所述方法更包括：在第一影像中找出至少一第二特定線段，其中各第二特定線段包括至少一第二轉折點；以及當判定第一影像中的至少一第一轉折點及至少一第二轉折點適合用於描繪第一輪廓，則依據第一影像中的至少一第一轉折點及至少一第二轉折點描繪第一輪廓。
在本發明的一實施例中，至少一第一轉折點的數量為至少三個，且依據至少一第一轉折點描繪第一輪廓的步驟包括：將至少三個第一轉折點其中各相鄰的兩者連接以形成封閉線段，並以封閉線段作為第一輪廓。
在本發明的一實施例中，在依據第一影像中的至少一第一轉折點描繪第一輪廓之後，所述方法更包括：當判定接收到確認命令，判定第一輪廓匹配於非平面區域的區域輪廓；或者當判定接收到否定命令，判定第一輪廓未匹配於非平面區域的區域輪廓。
在本發明的一實施例中，各第一直線具有第一預設斜率，而各第一特定線段包含特定斜率，特定斜率不同於第一預設斜率。
在本發明的一實施例中，第一影像中存在對應於前述第一直線的多個參考線段，且在第一影像中找出至少一第一特定線段的步驟包括：當判定前述參考線段中的第i個參考線段上存在至少一參考轉折點，則判斷前述參考線段中的第i-1個參考線段或第i+1個參考線段上是否存在至少一參考轉折點，其中各前述參考線段所包含的參考斜率不同於第一預設斜率，且i為前述參考線段的索引值；當判定前述參考線段中的所述第i-1個參考線段或所述第i+1個參考線段上存在至少一參考轉折點，則判定所述第i個參考線段屬於至少一第一特定線段，並判定所述第i個參考線段上的至少一參考轉折點屬於至少一第一轉折點；或者當判定前述參考線段中的所述第i-1個參考線段及所述第i+1個參考線段上皆不存在任何參考轉折點，則判定所述第i個參考線段不屬於至少一第一特定線段，並判定所述第i個參考線段上的至少一參考轉折點不屬於至少一第一轉折點。
在本發明的一實施例中，各第一直線具有第一預設曲率，而各第一特定線段包含特定曲率，特定曲率不同於第一預設曲率。
在本發明的一實施例中，更包括：取得投影內容，並以第一遮罩圖樣遮蔽投影內容；將遮蔽後的投影內容投射至投影面。
在本發明的一實施例中，當判定第一影像中的至少一第一轉折點不適合用於描繪第一輪廓，或者，當判定第一輪廓未匹配於非平面區域的區域輪廓，則所述方法更包括：投射第五圖樣
至投影面，其中第五圖樣包括多個第五直線，其中各第五直線平行於各第一直線，且前述第一直線之間的第一間距大於前述第五直線之間的第五間距；對呈現有第五圖樣的投影面拍攝第五影像；在第五影像中找出至少一第五特定線段，其中各第五特定線段包括至少一第五轉折點；當判定第五影像中的至少一第五轉折點適合用於描繪第四輪廓，則依據第五影像中的至少一第五轉折點描繪第四輪廓；以及當判定第四輪廓匹配於非平面區域的區域輪廓，則基於第四輪廓產生第四遮罩圖樣，其中第四遮罩圖樣用以遮蔽第四輪廓的外部區域。
本發明提供一種投影裝置，包括儲存電路、投影電路、取像電路及處理器。儲存電路儲存多個模組。處理器耦接儲存電路、投影電路及取像電路，並存取前述模組，其中：處理器控制投影電路以投射第一圖樣至投影面，其中投影面包括非平面區域，且第一圖樣包括多個第一直線；處理器控制取像電路以對呈現有第一圖樣的投影面拍攝第一影像；處理器控制前述模組在第一影像中找出至少一第一特定線段，其中各第一特定線段包括至少一第一轉折點；當判定第一影像中的至少一第一轉折點適合用於描繪第一輪廓，則處理器控制前述模組依據至少一第一轉折點描繪第一輪廓；以及當判定第一輪廓匹配於非平面區域的區域輪廓，則處理器控制前述模組基於第一輪廓產生第一遮罩圖樣，其中第一遮罩圖樣用以遮蔽第一輪廓的外部區域。
在本發明的一實施例中，當判定第一影像中的至少一第
一轉折點不適合用於描繪第一輪廓，或者，當判定第一輪廓未匹配於非平面區域的區域輪廓，則：處理器控制投影電路以投射第二圖樣至投影面，其中第二圖樣包括多個第二直線，其中前述第二直線的其中之一不平行於前述第一直線的其中之一；處理器控制取像電路以對呈現有第二圖樣的投影面拍攝第二影像；處理器控制前述模組在第二影像中找出至少一第二特定線段，其中各第二特定線段包括至少一第二轉折點；當判定第一影像中的至少一第一轉折點及第二影像中的至少一第二轉折點適合用於描繪第二輪廓，則處理器控制前述模組依據第一影像中的至少一第一轉折點及第二影像中至少一第二轉折點描繪第二輪廓；以及當判定第二輪廓匹配於非平面區域的區域輪廓，處理器控制前述模組基於第二輪廓產生第二遮罩圖樣，其中第二遮罩圖樣用以遮蔽第二輪廓的外部區域。
在本發明的一實施例中，前述第一直線之間存在第一間距，前述第二直線之間存在第二間距，且當判定第二輪廓未匹配於非平面區域的區域輪廓，則：處理器控制投影電路以投射第三圖樣至投影面，其中第三圖樣包括多個第三直線，其中各第三直線平行於各第一直線，且前述第一直線之間的第一間距大於前述第三直線之間的第三間距；處理器控制取像電路以對呈現有第三圖樣的投影面拍攝第三影像；處理器控制前述模組在第三影像中找出至少一第三特定線段，其中各第三特定線段包括至少一第三轉折點；處理器控制投影電路以投射第四圖樣至投影面，其中第
四圖樣包括多個第四直線，其中各第四直線平行於各第二直線，且前述第二直線之間的第二間距大於前述第四直線之間的第四間距；處理器控制取像電路以對呈現有第四圖樣的投影面拍攝第四影像；處理器控制前述模組在第四影像中找出至少一第四特定線段，其中各第四特定線段包括至少一第四轉折點；當判定第三影像中的至少一第三轉折點及第四影像中的至少一第四轉折點適合用於描繪第三輪廓，則處理器控制前述模組依據第三影像中的至少一第三轉折點及第四影像中的至少一第四轉折點描繪第三輪廓；以及當判定第三輪廓匹配於非平面區域的區域輪廓，處理器控制前述模組基於第三輪廓產生第三遮罩圖樣，其中第三遮罩圖樣用以遮蔽第三輪廓的外部區域。
在本發明的一實施例中，第一圖樣更包括多個第二直線，其中前述第二直線的其中之一不平行於前述第一直線的其中之一，且其中：處理器控制前述模組在第一影像中找出至少一第二特定線段，其中各第二特定線段包括至少一第二轉折點；以及當判定第一影像中的至少一第一轉折點及至少一第二轉折點適合用於描繪第一輪廓，則處理器控制前述模組依據第一影像中的至少一第一轉折點及至少一第二轉折點描繪第一輪廓。
在本發明的一實施例中，至少一第一轉折點的數量為至少三個，且其中處理器控制前述模組將至少三個第一轉折點其中各相鄰的兩者連接以形成封閉線段，並以封閉線段作為第一輪廓。
在本發明的一實施例中，在依據第一影像中的至少一第
一轉折點描繪第一輪廓之後：當處理器判定接收到確認命令，判定第一輪廓匹配於非平面區域的區域輪廓；或者當處理器判定接收到否定命令，判定第一輪廓未匹配於非平面區域的區域輪廓。
在本發明的一實施例中，各第一直線具有第一預設斜率，而各第一特定線段包含特定斜率，特定斜率不同於第一預設斜率。
在本發明的一實施例中，第一影像中存在對應於前述第一直線的多個參考線段，且其中：當處理器控制前述模組判定前述參考線段中的第i個參考線段上存在至少一參考轉折點，則處理器控制前述模組判斷前述參考線段中的第i-1個參考線段或第i+1個參考線段上是否存在至少一參考轉折點，其中各前述參考線段所包含的參考斜率不同於第一預設斜率，且i為前述參考線段的索引值；當處理器控制前述模組判定前述參考線段中的所述第i-1個參考線段或所述第i+1個參考線段上存在至少一參考轉折點，則判定所述第i個參考線段屬於至少一第一特定線段，並判定所述第i個參考線段上的至少一參考轉折點屬於至少一第一轉折點；或者當處理器控制前述模組判定前述參考線段中的所述第i-1個參考線段及所述第i+1個參考線段上皆不存在任何參考轉折點，則判定所述第i個參考線段不屬於至少一第一特定線段，並判定所述第i個參考線段上的至少一參考轉折點不屬於至少一第一轉折點。
在本發明的一實施例中，各第一直線具有第一預設曲率，而各第一特定線段包含特定曲率，特定曲率不同於第一預設
曲率。
在本發明的一實施例中，處理器控制前述模組取得投影內容，並以第一遮罩圖樣遮蔽投影內容，且處理器控制投影電路以將遮蔽後的投影內容投射至投影面。
在本發明的一實施例中，當判定第一影像中的至少一第一轉折點不適合用於描繪第一輪廓，或者，當判定第一輪廓未匹配於非平面區域的區域輪廓，則：處理器控制投影電路以投射第五圖樣至投影面，其中第五圖樣包括多個第五直線，其中各第五直線平行於各第一直線，且前述第一直線之間的第一間距大於前述第五直線之間的第五間距；處理器控制取像電路以對呈現有第五圖樣的投影面拍攝第五影像；在第五影像中找出至少一第五特定線段，其中各第五特定線段包括至少一第五轉折點；當判定第五影像中的至少一第五轉折點適合用於描繪第四輪廓，則處理器控制前述模組依據第五影像中的至少一第五轉折點描繪第四輪廓；以及當判定第四輪廓匹配於非平面區域的區域輪廓，則處理器控制前述模組基於第四輪廓產生第四遮罩圖樣，其中第四遮罩圖樣用以遮蔽第四輪廓的外部區域。
基於上述，本發明的方法及投影裝置可在投射一或多個圖樣至具非平面區域的投影面之後，基於這些圖樣因應於非平面區域而出現的轉折點描繪出對應於非平面區域的區域輪廓的輪廓，並據以產生對應的遮罩圖樣，其中此遮罩圖樣可用以遮蔽上述輪廓的外部區域。亦即，本發明的投影裝置可適應性地依據非
平面區域的區域輪廓產生對應的遮罩圖樣，從而讓投影內容中的未遮罩區域能夠正確地呈現於非平面區域中。
為讓本發明的上述特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例，並配合所附圖式作詳細說明如下。
100:投影裝置
112:投影內容
112a:遮罩區域
112b:未遮罩區域
199:投影面
199a:非平面區域
200:投影裝置
201:儲存電路
202:投影電路
203:取像電路
204:處理器
310:第一圖樣
311:第一直線
321,322,323:第一特定線段
321a~323b:第一轉折點
330:第二圖樣
331:第二直線
341~345:第二特定線段
342a,342b:第二轉折點
C1:封閉線段
M1:第一影像
M2:第二影像
MK:遮罩圖樣
MK1:未遮罩區域
MR:參考影像
MR1:轉折點
S410~S450:步驟
圖1A至圖1D是習知的將經遮罩後的投影內容投射至具有非平面區域的投影面的機制。
圖2是依據本發明的一實施例繪示的投影裝置示意圖。
圖3A是依據本發明的一實施例繪示的向投影面投射第一圖樣的示意圖。
圖3B是依據本發明另一實施例繪示的向投影面投射第二圖樣的示意圖。
圖3C是依據圖3A及圖3B繪示的參考影像示意圖。
圖4是依據本發明的一實施例繪示的產生遮罩的方法流程圖。
有關本發明的前述及其他技術內容、特點與功效，在以下配合參考圖式的一較佳實施例的詳細說明中，將可清楚的呈現。以下實施例中所提到的方向用語，例如：上、下、左、右、
前或後等，僅是參考附加圖式的方向。因此，使用的方向用語是用來說明並非用來限制本發明。
請參照圖2，其是依據本發明的一實施例繪示的投影裝置示意圖。如圖2所示，投影裝置200包括儲存電路201、投影電路202、取像電路203及處理器204。
儲存電路201例如是任意型式的固定式或可移動式隨機存取記憶體(Random Access Memory，RAM)、唯讀記憶體(Read-Only Memory，ROM)、快閃記憶體(Flash memory)、硬碟或其他類似裝置或這些裝置的組合，而可用以儲存多個模組，例如是多個程式碼或多個軟體。
投影電路202用於控制投影模組(未顯示)，投影模組可包括光閥、調焦鏡頭及光源等，並可用於投射投影內容或指定的圖樣，但可不限於此。取像電路203例如是用於控制電荷耦合元件(Charge coupled device，CCD)鏡頭及/或互補式金氧半電晶體(Complementary metal oxide semiconductor transistors，CMOS)鏡頭，並可用於擷取影像，但可不限於此。
處理器204耦接於儲存電路201、投影電路202、取像電路203，並可為一般用途處理器、特殊用途處理器、數位訊號處理器、微處理器(microprocessor)、一個或多個結合數位訊號處理器核心的微處理器、控制器、微控制器、特殊應用積體電路(Application Specific Integrated Circuit，ASIC)、現場可程式閘陣列電路(Field Programmable Gate Array，FPGA)、任何其他種類
的積體電路、狀態機、基於進階精簡指令集機器(Advanced RISC Machine，ARM)的處理器以及類似品。
概略而言，同時參考圖2及圖3A至圖3C，本發明的投影裝置200可在向投影面199投射具特定態樣(例如多個直線)的圖樣之後，對投影面199拍攝/擷取影像，再依據上述圖樣的線段於影像中的轉折點試圖建構/描繪非平面區域199a的輪廓。並且，若所描繪的輪廓經判定符合非平面區域199a的區域輪廓，投影裝置200可據以產生一遮罩圖樣，其中此遮罩圖樣可用以遮蔽上述輪廓的外部區域。換言之，此遮罩圖樣中的未遮罩區域係對應於非平面區域199a。
另一方面，若投影裝置200無法成功建構/描繪非平面區域199a的輪廓，或是所描繪的輪廓經判定未符合非平面區域199a的區域輪廓，則投影裝置200可再投射其他的一或多個圖樣以試圖建構/描繪非平面區域199a的輪廓，以及產生對應的遮罩圖樣。
為使本發明的概念更易於理解，以下將輔以圖2以及圖3A至圖3C作進一步說明，但其僅用以舉例，並非用以限定本發明可能的實施方式。
請參照圖3A，其是依據本發明的一實施例繪示的向投影面投射第一圖樣的示意圖。在本實施例中，投影裝置200可透過處理器204控制投影電路202以向包括非平面區域199a的投影面199投射第一圖樣310，其中第一圖樣310可包括多個第一直線311，且各第一直線311可彼此平行。此外，非平面區域199a在
投影面199上的型態亦可參考圖1A所繪示的側視圖。
如圖3A所示，在第一圖樣310被投射至投影面199之後，第一圖樣310中的一部分直線將因非平面區域199a而出現轉折點。為便於說明，以下將因非平面區域199而出現轉折點的第一直線311稱為第一特定線段，但可不限於此。之後，投影裝置200可透過處理器204控制取像電路203以對呈現有第一圖樣310的投影面199拍攝第一影像M1，並可透過處理器204控制儲存電路201所儲存的模組在第一影像M1中找出上述第一特定線段。
在一實施例中，投影裝置200可基於各第一直線311在第一影像M1中的斜率/曲率變化而找出上述第一特定線段。具體而言，在第一圖樣310中，各第一直線311可經設定有一第一預設斜率，而投影裝置200可在第一影像M1中找出斜率不等於上述第一預設斜率的一或多個線段，以作為上述第一特定線段。從另一觀點而言，所找出的各第一特定線段可視為具有一特定斜率，而此特定斜率可不同於上述第一預設斜率。此外，在一些實施例中，由於第一特定線段可能包括曲線，故可包括多個不同的特定斜率，但可不限於此。
另外，各第一直線311亦可理解為具有第一預設曲率(例如0)，而各第一特定線段可視為具有不同於第一預設曲率的特定曲率，但可不限於此。
基此，在第一影像M1中，投影裝置200可相應地找出斜率不等於上述第一預設斜率(或是曲率不等於上述第一預設曲率)
的第一特定線段321、322、323，而其可個別包括由非平面區域199a所導致的一或多個第一轉折點。以第一特定線段321為例，其可包括第一轉折點321a、321b；以第一特定線段322為例，其可包括第一轉折點322a、322b；以第一特定線段323為例，其可包括第一轉折點323a、323b。
依先前所言，第一影像M1中的第一轉折點可用於建構/描繪非平面區域199a的輪廓。然而，在一些實施例中，為避免找到錯誤的轉折點，本發明另提出了相關的轉折點驗證機制。概略而言，在此轉折點驗證機制中，當投影裝置200透過處理器204控制儲存電路201所儲存的模組找到具有轉折點的線段時，投影裝置200將可透過處理器204控制儲存電路201所儲存的模組另判斷此線段的相鄰線段是否亦屬於具有轉折點的特定線段。若是，則投影裝置200可確認此線段屬於特定線段。相反地，若上述線段的相鄰線段皆不具有轉折點，則代表此線段上的轉折點可能不是真正的轉折點，而有可能是誤判的情況，故投影裝置200可忽略此線段上的轉折點(即，此線段上的轉折點將不會用於描繪非平面區域199a的輪廓)。
具體而言，第一影像M1可假設為具有對應於第一圖樣310中的第一直線311的多個參考線段。在此情況下，當投影裝置200透過處理器204控制儲存電路201所儲存的模組判定上述參考線段中的第i個參考線段(i為上述參考線段的索引值)上存在至少一參考轉折點，投影裝置200可透過處理器204控制儲存電路
201所儲存的模組進一步判斷上述參考線段中的第i-1個參考線段或第i+1個參考線段上是否存在至少一參考轉折點，其中各參考線段所包含的參考斜率不同於第一預設斜率。舉例而言，當第一特定線段322被設定為第i個參考線段，則第i-1個參考線段可為第一特定線段321，第i+1個參考線段可為第一特定線段323。
當投影裝置200透過處理器204控制儲存電路201所儲存的模組判定所述第i-1個參考線段或所述第i+1個參考線段上存在參考轉折點，則可判定所述第i個參考線段屬於第一特定線段，並判定所述第i個參考線段上的至少一參考轉折點屬於第一轉折點。舉例而言，第一特定線段321(第i-1個參考線段)被判定為存在參考轉折點(第一轉折點321a、321b)，第一特定線段323(第i+1個參考線段)被判定為存在參考轉折點(第一轉折點323a、323b)，因此，存在參考轉折點(第一轉折點322a、322b)的第一特定線段322(第i個參考線段)可被判定為第一特定線段。另一方面，當投影裝置200透過處理器204控制儲存電路201所儲存的模組判定所述第i-1個參考線段及所述第i+1個參考線段上皆不存在任何參考轉折點，則可判定所述第i個參考線段不屬於第一特定線段，並判定所述第i個參考線段上的至少一參考轉折點不屬於第一轉折點，但本發明可不限於此。
在取得第一影像M1中的第一轉折點321a~323b之後，投影裝置200可判斷第一轉折點321a~323b是否適合用於描繪第一輪廓。
在一些實施例中，若第一轉折點321a~323b數量過少或是彼此相距過遠，將可能造成後續據以描繪的第一輪廓無法準確地對應於非平面區域199a的區域輪廓。因此，投影裝置200可藉由處理器204控制儲存電路201所儲存的模組判斷第一轉折點321a~323b的數量是否大於一預設數量(例如3個)及/或判斷第一轉折點321a~323b兩兩之間的距離是否超過一預設距離而來判斷第一轉折點321a~323b是否適合用於描繪第一輪廓。若第一轉折點321a~323b的數量少於預設數量及/或第一轉折點321a~323b兩兩之間的距離超過預設距離，則投影裝置200例如可判定第一轉折點321a~323b不適合用於描繪第一輪廓。在此情況下，如先前所言，本發明的投影裝置200可進一步投射其他的一或多個圖樣以試圖建構/描繪非平面區域199a的輪廓，以及產生對應的遮罩圖樣，而相關細節將在之後詳述。
相反地，若第一轉折點321a~323b的數量不少於預設數量，且第一轉折點321a~323b兩兩之間的距離不超過預設距離，則投影裝置200例如可判定第一轉折點321a~323b適合用於描繪第一輪廓，但本發明可不限於此。
在圖3A中，假設投影裝置200判定第一轉折點321a~323b適合用於描繪第一輪廓，投影裝置200可進一步藉由處理器204控制儲存電路201所儲存的模組依據第一轉折點321a~323b描繪第一輪廓。在一實施例中，投影裝置200可將第一轉折點321a~323b中各相鄰的兩者連接以形成封閉線段，並以此封閉線段
作為上述第一輪廓，但可不限於此。
之後，本發明可進一步確認所描繪的第一輪廓是否匹配於非平面區域199a的區域輪廓。在一實施例中，投影裝置200可在描繪第一輪廓之後，藉由處理器204判定是否接收到確認命令或否定命令。
舉例而言，在投影裝置200描繪第一輪廓之後，投影裝置200可將第一輪廓呈現予使用者觀看，並同時提供可用於讓使用者確認第一輪廓是否匹配於非平面區域199a的區域輪廓的對話框。在此情況下，上述確認命令例如是使用者經目視確認第一輪廓匹配於非平面區域199a的區域輪廓之後，透過操作上述對話框而產生。另一方面，若使用者經目視確認第一輪廓未匹配於非平面區域199a的區域輪廓，則使用者亦可透過操作上述對話框來產生上述否定命令，但可不限於此。
因此，在第一實施例中，當投影裝置200藉由處理器204判定接收到確認命令，可判定第一輪廓匹配於非平面區域199a的區域輪廓。之後，投影裝置200可藉由處理器204控制儲存電路201所儲存的模組基於第一輪廓產生第一遮罩圖樣，其中第一遮罩圖樣可用以遮蔽第一輪廓的外部區域。換言之，此第一遮罩圖樣中的未遮罩區域係對應於非平面區域199a。接著，投影裝置200可藉由處理器204控制儲存電路201所儲存的模組取得投影內容，並以上述第一遮罩圖樣遮蔽投影內容。在此情況下，遮蔽後的投影內容除了對應於非平面區域199a的部分之外，其餘的部分
皆將被遮蔽。相應地，投影裝置200可藉由處理器204控制投影電路202以將遮蔽後的投影內容投射至投影面199。由上可知，本發明的投影裝置200可適應性地依據非平面區域199a的區域輪廓產生對應的第一遮罩圖樣，從而讓投影內容中的未遮罩區域能夠正確地呈現於非平面區域199a中。
另一方面，在第二實施例中，當投影裝置200藉由處理器204判定接收到否定命令，可判定第一輪廓未匹配於非平面區域199a的區域輪廓。以圖3A為例，假設使用者經目視判定基於第一轉折點321a~323b所描繪的第一輪廓未匹配於非平面區域199a，並相應地操作上述對話框，則投影裝置200可依所收到的否定命令判定第一輪廓未匹配於非平面區域199a的區域輪廓。
在此情況下，如先前所言，本發明的投影裝置200可進一步投射其他的一或多個圖樣以試圖建構/描繪非平面區域199a的輪廓，以及產生對應的遮罩圖樣。相關細節將輔以以下的第三、第四、第五實施例作說明。
請參照圖3B，其是依據本發明另一實施例(第三實施例)繪示的向投影面投射第二圖樣的示意圖。在第三實施例中，當投影裝置200判定第一影像M1中的第一轉折點321a~323b不適合用於描繪第一輪廓，或是所描繪的第一輪廓未匹配於非平面區域199a的區域輪廓，投影裝置200可在停止投射第一圖樣310之後另透過處理器204控制投影電路202以投射第二圖樣330至投影面199。如圖3B所示，第二圖樣330可包括多個第二直線331，
且第二直線331的其中之一不平行於圖3A中第一直線311的其中之一。舉例而言，圖3A中的第一直線311例如為縱向的直線，而圖3B中的第二直線331例如為橫向的直線。
之後，投影裝置200可透過處理器204控制取像電路203以對呈現有第二圖樣330的投影面199拍攝第二影像M2，並可透過處理器204控制儲存電路201所儲存的模組在第二影像M2中找出至少一第二特定線段，其中各第二特定線段包括由非平面區域199a所導致的至少一第二轉折點。在本實施例中，投影裝置200在第二影像M2中找出第二特定線段的機制可參照在第一影像M1中找出第一特定線段的機制，故其細節於此不另贅述。
在圖3B中，假設投影裝置200在第二影像M2中找出第二特定線段341~345，而其可個別包括一或多個第二轉折點。以第二特定線段342為例，其可包括第二轉折點342a及342b，而本領域具通常知識者應可相應推得其餘各第二特定線段中的第二轉折點，故其細節於此不另贅述。
之後，投影裝置200可判斷第一影像M1中的第一轉折點及第二影像M2中的第二轉折點(例如第二轉折點342a及342b)是否適合用於描繪第二輪廓。在一實施例中，投影裝置200可將第一影像M1中的第一轉折點及第二影像M2中的第二轉折點映射至同一幅參考影像上再判斷上述第一轉折點及第二轉折點是否適合用於描繪第二輪廓。
請參照圖3C，其是依據圖3A及圖3B繪示的參考影像示
意圖。在本實施例中，假設投影裝置200可將第一影像M1中的第一轉折點及第二影像M2中的第二轉折點映射至同一幅參考影像MR。在此情況下，投影裝置200可藉由處理器204控制儲存電路201所儲存的模組判斷參考影像MR中的第一轉折點及第二影像M2中的第二轉折點的數量是否大於一預設數量(例如3個)及/或判斷第一轉折點與第二轉折點兩兩之間的距離是否超過一預設距離而來判斷第一轉折點及第二轉折點是否適合用於描繪第二輪廓。
若參考影像MR中第一轉折點及第二轉折點的數量少於預設數量及/或第一轉折點及第二轉折點兩兩之間的距離超過預設距離，則投影裝置200例如可判定第一轉折點及第二轉折點不適合用於描繪第二輪廓。相反地，若參考影像MR中第一轉折點及第二轉折點的數量不少於預設數量，且第一轉折點及第二轉折點兩兩之間的距離不超過預設距離，則投影裝置200例如可判定第一轉折點及第二轉折點適合用於描繪第二輪廓，但本發明可不限於此。
在第三實施例中，當判定第一影像M1中的第一轉折點及第二影像M2中的第二轉折點適合用於描繪第二輪廓，投影裝置200可藉由處理器204控制儲存電路201所儲存的模組依據第一影像M1中的第一轉折點及第二影像M2中的第二轉折點描繪第二輪廓。例如，投影裝置200可將參考影像MR所示的轉折點MR1中各相鄰的兩者連接以形成封閉線段C1，並以此封閉線段C1作為
上述第二輪廓，如圖3C所示，但可不限於此。
在第三實施例中，投影裝置200可在描繪第二輪廓之後，藉由處理器204判定是否接收到確認命令或否定命令。相似於先前所提及的，在投影裝置200描繪第二輪廓之後，投影裝置200可將第二輪廓呈現予使用者觀看，並同時提供可用於讓使用者確認第二輪廓是否匹配於非平面區域199a的區域輪廓的對話框。在此情況下，上述確認命令例如是使用者經目視確認第二輪廓匹配於非平面區域199a的區域輪廓之後，透過操作上述對話框而產生。另一方面，若使用者經目視確認第二輪廓未匹配於非平面區域199a的區域輪廓，則使用者亦可透過操作上述對話框來產生上述否定命令，但可不限於此。
此外，在第一實施例中，第一圖樣310也可直接包括多個第一直線311以及多個第二直線331，其中第二直線331的其中之一不平行於第一直線311的其中之一。舉例而言，第一圖樣310可包括例如第一直線311與第二直線331形成的棋盤格圖案，或者，第一圖樣310可包括相互交叉的兩非平行直線。如此一來，可參照上述在第一影像M1中找出第一特定線段的機制，同時透過處理器204控制儲存電路201所儲存的模組在第一影像M1中找出包括第二轉折點(例如圖3B中所標示的342a及342b)的第二特定線段(圖3B中所標示的341~345)。當判定第一影像M1中的第一轉折點及第二轉折點適合用於描繪第一輪廓，則處理器204控制儲存電路201所儲存的模組依據第一影像M1中的第一轉折點及
第二轉折點描繪第一輪廓。此方法由於同時提供包含相互不行形的兩種直線圖樣，可增加作為描繪輪廓的轉折點的數量，因此較容易達成描繪可匹配於非平面區域199a的區域輪廓的輪廓的目的。
在第三實施例中，當投影裝置200藉由處理器204判定接收到確認命令，可判定第二輪廓匹配於非平面區域199a的區域輪廓。之後，如圖3C所示，投影裝置200可藉由處理器204控制儲存電路201所儲存的模組基於第二輪廓產生對應的遮罩圖樣MK(第二遮罩圖樣)，其中遮罩圖樣MK可用以遮蔽第二輪廓的外部區域。換言之，此遮罩圖樣MK中的未遮罩區域MK1係對應於非平面區域199a。接著，投影裝置200可藉由處理器204控制儲存電路201所儲存的模組取得投影內容，並以遮罩圖樣MK遮蔽投影內容。在此情況下，遮蔽後的投影內容除了對應於非平面區域199a的部分之外，其餘的部分皆將被遮蔽。相應地，投影裝置200可將遮蔽後的投影內容投射至投影面199。由上可知，在第三實施例中，本發明的投影裝置200可在投射不同的圖樣至投影面之後，藉由整合各圖樣對應的轉折點來描繪非平面區域199a的區域輪廓，並產生對應的遮罩圖樣。
換言之，若投影裝置200無法僅基於單一個圖樣對應的轉折點描繪出非平面區域199a的區域輪廓，投影裝置200還可在投射另一圖樣至投影面之後，將兩種圖樣對應的轉折點整合以描繪非平面區域199a的區域輪廓，進而適應性地產生適合的遮罩圖
樣。
此外，在第三實施例中，假設使用者經目視判定基於第一轉折點及第二轉折點所描繪的第二輪廓未匹配於非平面區域199a，並相應地操作上述對話框，則投影裝置200可依所收到的否定命令判定第二輪廓未匹配於非平面區域199a的區域輪廓。在此情況下，投影裝置200可進一步投射其他的一或多個圖樣以試圖建構/描繪非平面區域199a的輪廓，以及產生對應的遮罩圖樣。
舉例而言，在第四實施例中，投影裝置200可透過處理器204控制投影電路202以投射第三圖樣(未繪示)至投影面199，其中第三圖樣可包括多個第三直線，各第三直線平行於各第一直線311，且前述第一直線311之間的第一間距大於前述第三直線之間的第三間距。亦即，在所述第三圖樣中第三直線的密度高於第一圖樣310中第一直線311的密度。
之後，投影裝置200可透過處理器204控制取像電路203以對呈現有第三圖樣的投影面199拍攝第三影像(未繪示)，並在第三影像中找出至少一第三特定線段，其中各第三特定線段包括至少一第三轉折點。在第四實施例中，投影裝置200可透過處理器204控制儲存電路201所儲存的模組基於先前提及的方式在第三影像中找出具轉折點的至少一第三特定線段，而其細節於此不另贅述。
另外，投影裝置200可再透過處理器204控制投影電路202以投射第四圖樣(未繪示)至投影面199，其中第四圖樣包括
多個第四直線，其中各第四直線平行於各第二直線331，且前述第二直線331之間的第二間距大於前述第四直線之間的第四間距。亦即，在所述第四圖樣中第四直線的密度高於第二圖樣330中第二直線331的密度。
之後，投影裝置200可透過處理器204控制取像電路203以對呈現有第四圖樣的投影面199拍攝第四影像(未繪示)，並在第四影像中找出至少一第四特定線段，其中各第四特定線段包括至少一第四轉折點。在第四實施例中，投影裝置200可透過處理器204控制儲存電路201所儲存的模組基於先前提及的方式在第四影像中找出具轉折點的至少一第四特定線段，而其細節於此不另贅述。
接著，投影裝置200可判斷第三影像中的第三轉折點及第四影像中的第四轉折點是否適合用於描繪第三輪廓。例如，投影裝置200可判斷第三轉折點及第四轉折點的總數量是否大於預設數量及/或第三轉折點及第四轉折點兩兩之間的距離是否小於預設距離，但可不限於此。
當判定第三影像中的第三轉折點及第四影像中的第四轉折點適合用於描繪第三輪廓，投影裝置200可藉由處理器204控制儲存電路201所儲存的模組依據第三影像中的第三轉折點及第四影像中的第四轉折點描繪第三輪廓，而相關的作法可參照圖3C的相關說明，於此不另贅述。
之後，相似於第三實施例，投影裝置200可基於來自使
用者的確認命令或否定命令判斷第三輪廓是否匹配於非平面區域199a的區域輪廓，而相關細節可參照第三實施例中的說明，於此不另贅述。
在第四實施例中，當判定第三輪廓匹配於非平面區域199a的區域輪廓，投影裝置200可藉由處理器204控制儲存電路201所儲存的模組基於第三輪廓產生第三遮罩圖樣，其中第三遮罩圖樣用以遮蔽第三輪廓的外部區域。換言之，此第三遮罩圖樣中的未遮罩區域係對應於非平面區域199a。接著，投影裝置200可藉由處理器204控制儲存電路201所儲存的模組取得投影內容，並以第三遮罩圖樣遮蔽投影內容。在此情況下，遮蔽後的投影內容除了對應於非平面區域199a的部分之外，其餘的部分皆將被遮蔽。相應地，投影裝置200可將遮蔽後的投影內容投射至投影面199。
由上可知，在第四實施例中，若投影裝置200基於密度較低的第一、第二圖樣對應的轉折點描繪而得的第二輪廓未匹配於非平面區域199a的區域輪廓，則本發明的投影裝置200可進一步投射具更高密度的第三、第四圖樣，從而描繪更匹配於非平面區域199a的區域輪廓的第三輪廓，並據以產生第三遮罩圖樣。
此外，在第四實施例中，若第三輪廓仍未匹配於非平面區域199a的區域輪廓，則投影裝置200還可進一步投射具更高密度的其他一或多個圖樣，從而描繪更匹配於非平面區域199a的區域輪廓的其他輪廓，並據以產生對應遮罩圖樣，但可不限於此。
進一步而言，即便面對具更複雜輪廓的非平面區域，本發明的投影裝置200仍可藉由投射更密的圖樣來適應性地產生適合的遮罩圖樣，從而讓投影內容中的未遮罩區域能夠正確地呈現於非平面區域中。
此外，在第五實施例中，若投影裝置200在第二實施例中判定第一轉折點321a~323b不適合用於描繪第一輪廓，或是所描繪的第一輪廓未匹配於非平面區域199a的區域輪廓，則投影裝置200可透過處理器204控制投影電路202以另投射第五圖樣(未繪示)至投影面199，其中第五圖樣可包括多個第五直線，其中各第五直線平行於各第一直線311，且前述第一直線311之間的一第一間距大於前述第五直線之間的一第五間距。亦即，在所述第五圖樣中第五直線的密度高於第一圖樣310中第一直線311的密度。
之後，投影裝置200可透過處理器204控制取像電路203以對呈現有第五圖樣的投影面199拍攝第五影像(未繪示)，並在第五影像中找出至少一第五特定線段，其中各第五特定線段包括至少一第五轉折點。在第五實施例中，投影裝置200可透過處理器204控制儲存電路201所儲存的模組基於先前提及的方式在第五影像中找出具轉折點的至少一第五特定線段，而其細節於此不另贅述。
接著，投影裝置200可判斷第五影像中的第五轉折點是否適合用於描繪第四輪廓。例如，投影裝置200可判斷第五轉折點的數量是否大於預設數量及/或第五轉折點兩兩之間的距離是否
小於預設距離，但可不限於此。
當判定第五影像中的第五轉折點適合用於描繪一第四輪廓，投影裝置200可藉由處理器204控制儲存電路201所儲存的模組依據第五影像中的第五轉折點描繪第四輪廓，而相關的作法可參照圖3C的相關說明，於此不另贅述。
之後，相似於第三實施例，投影裝置200可基於來自使用者的確認命令或否定命令判斷第四輪廓是否匹配於非平面區域199a的區域輪廓，而相關細節可參照第三實施例中的說明，於此不另贅述。
在第五實施例中，當判定第四輪廓匹配於非平面區域199a的區域輪廓，投影裝置200可藉由處理器204控制儲存電路201所儲存的模組基於第四輪廓產生一第四遮罩圖樣，其中第四遮罩圖樣用以遮蔽第四輪廓的外部區域。換言之，此第四遮罩圖樣中的未遮罩區域係對應於非平面區域199a。接著，投影裝置200可藉由處理器204控制儲存電路201所儲存的模組取得投影內容，並以第四遮罩圖樣遮蔽投影內容。在此情況下，遮蔽後的投影內容除了對應於非平面區域199a的部分之外，其餘的部分皆將被遮蔽。相應地，投影裝置200可將遮蔽後的投影內容投射至投影面199。
由上可知，在第五實施例中，若投影裝置200基於密度較低的第一圖樣對應的轉折點描繪而得的第一輪廓未匹配於非平面區域199a的區域輪廓，則本發明的投影裝置200可進一步投射
具更高密度的第五圖樣，從而描繪更匹配於非平面區域199a的區域輪廓的第四輪廓，並據以產生第四遮罩圖樣。
應了解的是，在其他實施例中，本發明的投影裝置可因應於具不同輪廓區域的非平面區域產生適合的遮罩圖樣，並不限於以上實施例所提及的非平面區域199a。此外，雖以上實施例中係假設非平面區域199a為凸面，但在其他實施例中，對於具凹面或同時具備凹凸面的其他非平面區域，本發明的投影裝置200仍可適應性地自動產生適合的遮罩圖樣。
另外，在其他的實施例中，投影裝置200投射至投影面的圖樣亦不限於以上實施例所提及的態樣。在不同的實施例中，設計者可依需求將所使用的圖樣調整為其他態樣，例如各式縱橫交錯的直線，但可不限於此。
請參照圖4，其是依據本發明的一實施例繪示的產生遮罩的方法流程圖。在本實施例中，投影裝置200的處理器204可存取儲存電路201中記錄的模組、程式碼來實現圖4的方法，而以下即搭配圖2來說明圖4的各步驟。
首先，在步驟S410中，處理器204可控制投影電路202以投射第一圖樣310至投影面199。在步驟S420中，處理器204可控制取像電路203以對呈現有第一圖樣310的投影面199拍攝第一影像M1。在步驟S430中，處理器204可在第一影像M1中找出至少一第一特定線段321~323。在步驟S440中，當判定第一影像M1中的至少一第一轉折點321a~323b適合用於描繪第一輪
廓，處理器204可依據至少一第一轉折點321a~323b描繪第一輪廓。在步驟S450中，當判定第一輪廓匹配於非平面區域199a的區域輪廓，處理器204可基於第一輪廓產生第一遮罩圖樣。以上各步驟的細節可參照先前實施例中的說明，於此不另贅述。
綜上所述，本發明的方法及投影裝置可在投射一或多個圖樣至具非平面區域的投影面之後，基於這些圖樣因應於非平面區域而出現的轉折點描繪出對應於非平面區域的區域輪廓的輪廓，並據以產生對應的遮罩圖樣，其中此遮罩圖樣可用以遮蔽上述輪廓的外部區域。亦即，本發明的投影裝置可適應性地依據非平面區域的區域輪廓產生對應的遮罩圖樣，從而讓投影內容中的未遮罩區域能夠正確地呈現於非平面區域中。
惟以上所述者，僅為本發明的較佳實施例而已，當不能以此限定本發明實施的範圍，即大凡依本發明申請專利範圍及發明說明內容所作的簡單的等效變化與修飾，皆仍屬本發明專利涵蓋的範圍內。另外本發明的任一實施例或申請專利範圍不須達成本發明所揭露的全部目的或優點或特點。此外，摘要部分和標題僅是用來輔助專利文件搜尋之用，並非用來限制本發明的權利範圍。此外，本說明書或申請專利範圍中提及的“第一”、“第二”等用語僅用以命名元件(element)的名稱或區別不同實施例或範圍，而並非用來限制元件數量上的上限或下限。
S410~S450:步驟
Claims (22)
- 一種產生遮罩的方法，適於一投影裝置，包括： 投射一第一圖樣至一投影面，其中該投影面包括一非平面區域，且該第一圖樣包括多個第一直線； 對呈現有該第一圖樣的該投影面拍攝一第一影像； 在該第一影像中找出至少一第一特定線段，其中各該第一特定線段包括至少一第一轉折點； 當判定該第一影像中的該至少一第一轉折點適合用於描繪一第一輪廓，則依據該至少一第一轉折點描繪該第一輪廓；以及 當判定該第一輪廓匹配於該非平面區域的一區域輪廓，則基於該第一輪廓產生一第一遮罩圖樣，其中該第一遮罩圖樣用以遮蔽該第一輪廓的外部區域。
- 如請求項1所述的產生遮罩的方法，其中當判定該第一影像中的該至少一第一轉折點不適合用於描繪該第一輪廓，或者，當判定該第一輪廓未匹配於該非平面區域的該區域輪廓，則所述方法更包括： 投射一第二圖樣至該投影面，其中該第二圖樣包括多個第二直線，其中該些第二直線的其中之一不平行於該些第一直線的其中之一； 對呈現有該第二圖樣的該投影面拍攝一第二影像； 在該第二影像中找出至少一第二特定線段，其中各該第二特定線段包括至少一第二轉折點； 當判定該第一影像中的該至少一第一轉折點及該第二影像中的該至少一第二轉折點適合用於描繪一第二輪廓，則依據該第一影像中的該至少一第一轉折點及該第二影像中該至少一第二轉折點描繪該第二輪廓；以及 當判定該第二輪廓匹配於該非平面區域的該區域輪廓，基於該第二輪廓產生一第二遮罩圖樣，其中該第二遮罩圖樣用以遮蔽該第二輪廓的外部區域。
- 如請求項2所述的產生遮罩的方法，其中該些第一直線之間存在一第一間距，該些第二直線之間存在一第二間距，且當判定該第二輪廓未匹配於該非平面區域的該區域輪廓，則所述方法更包括： 投射一第三圖樣至該投影面，其中該第三圖樣包括多個第三直線，其中各該第三直線平行於各該第一直線，且該些第一直線之間的該第一間距大於該些第三直線之間的一第三間距； 對呈現有該第三圖樣的該投影面拍攝一第三影像； 在該第三影像中找出至少一第三特定線段，其中各該第三特定線段包括至少一第三轉折點； 投射一第四圖樣至該投影面，其中該第四圖樣包括多個第四直線，其中各該第四直線平行於各該第二直線，且該些第二直線之間的該第二間距大於該些第四直線之間的一第四間距； 對呈現有該第四圖樣的該投影面拍攝一第四影像； 在該第四影像中找出至少一第四特定線段，其中各該第四特定線段包括至少一第四轉折點； 當判定該第三影像中的該至少一第三轉折點及該第四影像中的該至少一第四轉折點適合用於描繪一第三輪廓，則依據該第三影像中的該至少一第三轉折點及該第四影像中的該至少一第四轉折點描繪該第三輪廓；以及 當判定該第三輪廓匹配於該非平面區域的該區域輪廓，基於該第三輪廓產生一第三遮罩圖樣，其中該第三遮罩圖樣用以遮蔽該第三輪廓的外部區域。
- 如請求項1所述的產生遮罩的方法，其中該第一圖樣更包括多個第二直線，其中該些第二直線的其中之一不平行於該些第一直線的其中之一，且所述方法更包括： 在該第一影像中找出至少一第二特定線段，其中各該第二特定線段包括至少一第二轉折點；以及 當判定該第一影像中的該至少一第一轉折點及該至少一第二轉折點適合用於描繪該第一輪廓，則依據該第一影像中的該至少一第一轉折點及該至少一第二轉折點描繪該第一輪廓。
- 如請求項1所述的產生遮罩的方法，其中該至少一第一轉折點的數量為至少三個，且依據該至少一第一轉折點描繪該第一輪廓的步驟包括： 將該至少三個第一轉折點其中各相鄰的兩者連接以形成一封閉線段，並以該封閉線段作為該第一輪廓。
- 如請求項1所述的產生遮罩的方法，其中在依據該第一影像中的該至少一第一轉折點描繪該第一輪廓之後，所述方法更包括： 當判定接收到一確認命令，判定該第一輪廓匹配於該非平面區域的該區域輪廓；或者 當判定接收到一否定命令，判定該第一輪廓未匹配於該非平面區域的該區域輪廓。
- 如請求項1所述的產生遮罩的方法，其中各該第一直線具有一第一預設斜率，而各該第一特定線段包含一特定斜率，該特定斜率不同於該第一預設斜率。
- 如請求項7所述的產生遮罩的方法，其中該第一影像中存在對應於該些第一直線的多個參考線段，且在該第一影像中找出該至少一第一特定線段的步驟包括： 當判定該些參考線段中的第i個參考線段上存在至少一參考轉折點，則判斷該些參考線段中的第i-1個參考線段或第i+1個參考線段上是否存在至少一參考轉折點，其中各該些參考線段所包含的一參考斜率不同於該第一預設斜率，且i為該些參考線段的一索引值； 當判定該些參考線段中的所述第i-1個參考線段或所述第i+1個參考線段上存在該至少一參考轉折點，則判定所述第i個參考線段屬於該至少一第一特定線段，並判定所述第i個參考線段上的該至少一參考轉折點屬於該至少一第一轉折點；或者 當判定該些參考線段中的所述第i-1個參考線段及所述第i+1個參考線段上皆不存在任何參考轉折點，則判定所述第i個參考線段不屬於該至少一第一特定線段，並判定所述第i個參考線段上的該至少一參考轉折點不屬於該至少一第一轉折點。
- 如請求項1所述的產生遮罩的方法，其中各該第一直線具有一第一預設曲率，而各該第一特定線段包含一特定曲率，該特定曲率不同於該第一預設曲率。
- 如請求項1所述的產生遮罩的方法，更包括： 取得一投影內容，並以該第一遮罩圖樣遮蔽該投影內容； 將遮蔽後的該投影內容投射至該投影面。
- 如請求項1所述的產生遮罩的方法，其中當判定該第一影像中的該至少一第一轉折點不適合用於描繪該第一輪廓，或者，當判定該第一輪廓未匹配於該非平面區域的該區域輪廓，則所述方法更包括： 投射一第五圖樣至該投影面，其中該第五圖樣包括多個第五直線，其中各該第五直線平行於各該第一直線，且該些第一直線之間的一第一間距大於該些第五直線之間的一第五間距； 對呈現有該第五圖樣的該投影面拍攝一第五影像； 在該第五影像中找出至少一第五特定線段，其中各該第五特定線段包括至少一第五轉折點； 當判定該第五影像中的該至少一第五轉折點適合用於描繪一第四輪廓，則依據該第五影像中的該至少一第五轉折點描繪該第四輪廓；以及 當判定該第四輪廓匹配於該非平面區域的該區域輪廓，則基於該第四輪廓產生一第四遮罩圖樣，其中該第四遮罩圖樣用以遮蔽該第四輪廓的外部區域。
- 一種投影裝置，包括： 一儲存電路，儲存多個模組； 一投影電路； 一取像電路；以及 一處理器，其耦接該儲存電路、該投影電路及該取像電路，並存取該些模組，其中： 該處理器控制該投影電路以投射一第一圖樣至一投影面，其中該投影面包括一非平面區域，且該第一圖樣包括多個第一直線； 該處理器控制該取像電路以對呈現有該第一圖樣的該投影面拍攝一第一影像； 該處理器控制該些模組在該第一影像中找出至少一第一特定線段，其中各該第一特定線段包括至少一第一轉折點； 當判定該第一影像中的該至少一第一轉折點適合用於描繪一第一輪廓，則該處理器控制該些模組依據該至少一第一轉折點描繪該第一輪廓；以及 當判定該第一輪廓匹配於該非平面區域的一區域輪廓，則該處理器控制該些模組基於該第一輪廓產生一第一遮罩圖樣，其中該第一遮罩圖樣用以遮蔽該第一輪廓的外部區域。
- 如請求項12所述的投影裝置，其中當判定該第一影像中的該至少一第一轉折點不適合用於描繪該第一輪廓，或者，當判定該第一輪廓未匹配於該非平面區域的該區域輪廓，則： 該處理器控制該投影電路以投射一第二圖樣至該投影面，其中該第二圖樣包括多個第二直線，其中該些第二直線的其中之一不平行於該些第一直線的其中之一； 該處理器控制該取像電路以對呈現有該第二圖樣的該投影面拍攝一第二影像； 該處理器控制該些模組在該第二影像中找出至少一第二特定線段，其中各該第二特定線段包括至少一第二轉折點； 當判定該第一影像中的該至少一第一轉折點及該第二影像中的該至少一第二轉折點適合用於描繪一第二輪廓，則該處理器控制該些模組依據該第一影像中的該至少一第一轉折點及該第二影像中該至少一第二轉折點描繪該第二輪廓；以及 當判定該第二輪廓匹配於該非平面區域的該區域輪廓，該處理器控制該些模組基於該第二輪廓產生一第二遮罩圖樣，其中該第二遮罩圖樣用以遮蔽該第二輪廓的外部區域。
- 如請求項13所述的投影裝置，其中該些第一直線之間存在一第一間距，該些第二直線之間存在一第二間距，且當判定該第二輪廓未匹配於該非平面區域的該區域輪廓，則： 該處理器控制該投影電路以投射一第三圖樣至該投影面，其中該第三圖樣包括多個第三直線，其中各該第三直線平行於各該第一直線，且該些第一直線之間的該第一間距大於該些第三直線之間的一第三間距； 該處理器控制該取像電路以對呈現有該第三圖樣的該投影面拍攝一第三影像； 該處理器控制該些模組在該第三影像中找出至少一第三特定線段，其中各該第三特定線段包括至少一第三轉折點； 該處理器控制該投影電路以投射一第四圖樣至該投影面，其中該第四圖樣包括多個第四直線，其中各該第四直線平行於各該第二直線，且該些第二直線之間的該第二間距大於該些第四直線之間的一第四間距； 該處理器控制該取像電路以對呈現有該第四圖樣的該投影面拍攝一第四影像； 該處理器控制該些模組在該第四影像中找出至少一第四特定線段，其中各該第四特定線段包括至少一第四轉折點； 當判定該第三影像中的該至少一第三轉折點及該第四影像中的該至少一第四轉折點適合用於描繪一第三輪廓，則該處理器控制該些模組依據該第三影像中的該至少一第三轉折點及該第四影像中的該至少一第四轉折點描繪該第三輪廓；以及 當判定該第三輪廓匹配於該非平面區域的該區域輪廓，該處理器控制該些模組基於該第三輪廓產生一第三遮罩圖樣，其中該第三遮罩圖樣用以遮蔽該第三輪廓的外部區域。
- 如請求項12所述的投影裝置，其中該第一圖樣更包括多個第二直線，其中該些第二直線的其中之一不平行於該些第一直線的其中之一，且其中： 該處理器控制該些模組在該第一影像中找出至少一第二特定線段，其中各該第二特定線段包括至少一第二轉折點；以及 當判定該第一影像中的該至少一第一轉折點及該至少一第二轉折點適合用於描繪該第一輪廓，則該處理器控制該些模組依據該第一影像中的該至少一第一轉折點及該至少一第二轉折點描繪該第一輪廓。
- 如請求項12所述的投影裝置，其中該至少一第一轉折點的數量為至少三個，且其中該處理器控制該些模組將該至少三個第一轉折點其中各相鄰的兩者連接以形成一封閉線段，並以該封閉線段作為該第一輪廓。
- 如請求項12所述的投影裝置，其中在依據該第一影像中的該至少一第一轉折點描繪該第一輪廓之後： 當該處理器判定接收到一確認命令，判定該第一輪廓匹配於該非平面區域的該區域輪廓；或者 當該處理器判定接收到一否定命令，判定該第一輪廓未匹配於該非平面區域的該區域輪廓。
- 如請求項13所述的投影裝置，其中各該第一直線具有一第一預設斜率，而各該第一特定線段包含一特定斜率，該特定斜率不同於該第一預設斜率。
- 如請求項18所述的投影裝置，其中該第一影像中存在對應於該些第一直線的多個參考線段，且其中： 當該處理器控制該些模組判定該些參考線段中的第i個參考線段上存在至少一參考轉折點，則該處理器控制該些模組判斷該些參考線段中的第i-1個參考線段或第i+1個參考線段上是否存在至少一參考轉折點，其中各該些參考線段所包含的一參考斜率不同於該第一預設斜率，且i為該些參考線段的一索引值； 當該處理器控制該些模組判定該些參考線段中的所述第i-1個參考線段或所述第i+1個參考線段上存在該至少一參考轉折點，則判定所述第i個參考線段屬於該至少一第一特定線段，並判定所述第i個參考線段上的該至少一參考轉折點屬於該至少一第一轉折點；或者 當該處理器控制該些模組判定該些參考線段中的所述第i-1個參考線段及所述第i+1個參考線段上皆不存在任何參考轉折點，則判定所述第i個參考線段不屬於該至少一第一特定線段，並判定所述第i個參考線段上的該至少一參考轉折點不屬於該至少一第一轉折點。
- 如請求項12所述的投影裝置，其中各該第一直線具有一第一預設曲率，而各該第一特定線段包含一特定曲率，該特定曲率不同於該第一預設曲率。
- 如請求項12所述的投影裝置，其中該處理器控制該些模組取得一投影內容，並以該第一遮罩圖樣遮蔽該投影內容，且該處理器控制該投影電路以將遮蔽後的該投影內容投射至該投影面。
- 如請求項12所述的投影裝置，其中當判定該第一影像中的該至少一第一轉折點不適合用於描繪該第一輪廓，或者，當判定該第一輪廓未匹配於該非平面區域的該區域輪廓，則： 該處理器控制該投影電路以投射一第五圖樣至該投影面，其中該第五圖樣包括多個第五直線，其中各該第五直線平行於各該第一直線，且該些第一直線之間的一第一間距大於該些第五直線之間的一第五間距； 該處理器控制該取像電路以對呈現有該第五圖樣的該投影面拍攝一第五影像； 在該第五影像中找出至少一第五特定線段，其中各該第五特定線段包括至少一第五轉折點； 當判定該第五影像中的該至少一第五轉折點適合用於描繪一第四輪廓，則該處理器控制該些模組依據該第五影像中的該至少一第五轉折點描繪該第四輪廓；以及 當判定該第四輪廓匹配於該非平面區域的該區域輪廓，則該處理器控制該些模組基於該第四輪廓產生一第四遮罩圖樣，其中該第四遮罩圖樣用以遮蔽該第四輪廓的外部區域。
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