[發明所欲解決之課題] [0005] 然而，在圖像傳感器中微透鏡之被覆等，需要在指定位置以正確尺寸形成作為低折射率膜的硬化膜，而使用專利文獻1記載之感光性組成物之情形，有顯影後易於圖型附近產生殘渣，其結果硬化膜之圖型的表觀上的尺寸比期望的尺寸還要大之情形。 [0006] 本發明係有鑑於上述課題而成者，以提供在範圍廣泛的曝光量下，容易形成具有期望尺寸的良好形狀的圖型且無殘渣產生的圖型形成用感光性樹脂組成物、將該圖型形成用感光性樹脂組物硬化而形成的硬化膜及低折射率膜、具備該硬化膜或該低折射率的光學裝置、與使用前述圖型形成用感光性樹脂組成物的硬化膜或低折射率膜之製造方法為目的。 [0007] 本發明者們發現藉由於含有樹脂(A)、光聚合性化合物(B)、與聚合起始劑(C)的圖型形成用感光性樹脂組成物中，摻混分子量230～1500的受阻酚系化合物作為聚合抑制劑(D)，可解決上述課題，完成本發明。具體上，本發明提供以下者。 [0008] 本發明之第1態樣為含有樹脂(A)、光聚合性化合物(B)、聚合起始劑(C)、與聚合抑制劑(D)， 聚合抑制劑(D)含有分子量230～1500之受阻酚系化合物的圖型形成用感光性樹脂組成物。 [0009] 本發明之第2態樣為使第1態樣之圖型形成用感光性樹脂組成物硬化而形成的硬化膜。 [0010] 本發明之第3態樣為使低折射率膜形成用使用的第1態樣之圖型形成用感光性樹脂組成物硬化而形成的低折射率膜。 [0011] 本發明之第4態樣為具備第2態樣之硬化膜或第3態樣之低折射率膜的光學裝置。 [0012] 本發明之第5態樣為包含： 形成第1態樣之圖型形成用感光性樹脂組成物的塗佈膜、 使塗佈膜因應指定圖型進行位置選擇性地曝光、 使經曝光的塗佈膜顯影的經圖型化的硬化膜或低折射率膜之形成方法。 [發明之效果] [0013] 根據本發明，可提供在範圍廣泛的曝光量下，容易形成具有期望尺寸的良好形狀的圖型且無殘渣產生的圖型形成用感光性樹脂組成物、將該圖型形成用感光性樹脂組物硬化而形成的硬化膜及低折射率膜、具備該硬化膜或該低折射率的光學裝置、與使用前述圖型形成用感光性樹脂組成物的硬化膜或低折射率膜之製造方法。 [實施發明之最佳形態] [0014] 以下關於本發明，根據適宜之實施形態進行說明。又，本發明說明書中之「～」若未特別限定下，表示以上(下限值)到以下(上限值)。 本發明說明書中，僅記載為「感光性樹脂組成物」之情形，若未特別說明，表示「圖型形成用感光性組成物」。 本發明說明書中，「(甲基)丙烯酸酯」包含丙烯酸酯與甲基丙烯酸酯之兩者。 本發明說明書中，「(甲基)丙烯酸基」包含丙烯酸基與甲基丙烯酸基之兩者。 本發明說明書中，「(甲基)丙烯醯基」包含丙烯醯基與甲基丙烯醯基之兩者。 [0015] ≪圖型形成用感光性樹脂組成物≫ 圖型形成用感光性樹脂組成物含有樹脂(A)、光聚合性化合物(B)、聚合起始劑(C)、與聚合抑制劑(D)。又，聚合抑制劑(D)含有分子量230～1500之受阻酚系化合物。 以下說明圖型形成用感光性樹脂組成物所含有的必須或任意成分。 [0016] ＜樹脂(A)＞ 圖型形成用感光性樹脂組成物含有樹脂(A)。樹脂(A)為對圖型形成用感光性樹脂組成物賦予可形成塗膜及經圖型化的膜的製膜性之成分。 作為樹脂(A)，為以往摻混於圖型形成用感光性樹脂組成物的樹脂則不特別限定。作為樹脂(A)，由容易形成具有良好形狀的經圖型化的硬化膜，以鹼可溶性樹脂為佳。 含有鹼可溶性樹脂的感光性樹脂組成物對鹼顯影液為可溶，而經曝光的感光性樹脂組成物進行硬化。因此，將經位置選擇性地曝光的感光性樹脂組成物的塗佈膜使用鹼顯影液進行顯影，則僅未曝光部溶於鹼顯影液而硬化的曝光部殘存，形成經圖型化的硬化膜。 [0017] 鹼可溶性樹脂係指以樹脂濃度20質量%的樹脂溶液(溶劑：丙二醇單甲基醚乙酸酯)，在基板上形成膜厚1μm的樹脂膜，於濃度0.05質量%的四甲基氫氧化銨(TMAH)水溶液浸漬1分鐘時，膜厚溶解0.01μm以上者。 [0018] 鹼可溶性樹脂的較佳例，可舉例如具有Cardo構造的樹脂(A1)。藉由使用含有具有Cardo構造的樹脂(A1)作為鹼可溶性樹脂的感光性樹脂組成物，容易形成耐熱性、機械特性、耐溶劑性、化學藥品耐性等平衡的優之硬化膜。 [0019] 具有Cardo構造的樹脂(A1)方面，不特別限制，可使用以往習知樹脂。其中，以下述式(a-1)所表示之樹脂為佳。 [0020][0021] 上述式(a-1)中，Xa
為下述式(a-2)所表示之基。 [0022][0023] 上述式(a-2)中，Ra1
各自獨立，為氫原子、碳原子數1～6的烴基或鹵素原子，Ra2
各自獨立，為氫原子或甲基，Wa
為單鍵或下述式(a-3)所表示之基。 [0024][0025] 又，上述式(a-1)中，Ya
為從二羧酸酐除去酸酐基(-CO-O-CO-)的殘基。二羧酸酐之例，可舉例如馬來酸酐、琥珀酸酐、伊康酸酐、鄰苯二甲酸酐、四氫苯二甲酸酐、六氫苯二甲酸酐、甲基內亞甲基四氫鄰苯二甲酸酐、氯菌酸酐、甲基四氫鄰苯二甲酸酐、戊二酸酐等。 [0026] 又，上述式(a-1)中，Za
為從四羧酸二酐除去2個酸酐基的殘基。四羧酸二酐之例，可舉例如均苯四酸二酐、二苯甲酮四羧酸二酐、聯苯基四羧酸二酐、聯苯基醚四羧酸二酐等。 又，上述式(a-1)中，m為0～20的整數。 [0027] 具有Cardo構造的樹脂(A1)之質量平均分子量(Mw：膠體滲透層析法(GPC)之聚苯乙烯換算的測定值。本說明書中為相同)。以1000～40000為佳、2000～30000更佳。藉由在上述範圍，得到良好的顯影性同時可得到充分的耐熱性、膜強度。 [0028] 由容易形成機械強度或對基板之密著性優異的膜之觀點來看，至少聚合(a1)不飽和羧酸而成的共聚物(A2)亦可宜用作為鹼可溶性樹脂。 [0029] (a1)不飽和羧酸方面，可舉例如(甲基)丙烯酸、巴豆酸等之單羧酸；馬來酸、富馬酸、檸康酸、甲基延胡索酸、伊康酸等之二羧酸；此等二羧酸的酐；等。此等中，由共聚合反應性、得到的樹脂之鹼溶解性、取得容易性等之點來看，以(甲基)丙烯酸及馬來酸酐為佳。此等之(a1)不飽和羧酸可單獨或2種以上組合使用。 [0030] 共聚物(A2)可為(a1)不飽和羧酸與(a2)含脂環式環氧基之不飽和化合物的共聚物。(a2)含脂環式環氧基之不飽和化合物，為具有脂環式環氧基的不飽和化合物則不特別限定。構成脂環式環氧基的脂環式基可為單環亦可為多環。單環的脂環式基方面，可舉例如環戊基、環己基等。又，多環的脂環式基方面，可舉例如降冰片基、異冰片基、三環壬基、三環癸基、四環十二基等。此等之(a2)含脂環式環氧基之不飽和化合物可單獨或2種以上組合使用。 [0031] 具體上，(a2)含脂環式環氧基之不飽和化合物方面，可舉例如下述式(a2-1)～(a2-15)所表示之化合物。此等之中，為了使顯影性為適度者，以下述式(a2-1)～(a2-5)所表示之化合物為佳、下述式(a2-1)～(a2-3)所表示之化合物更佳。 [0032][0033][0034][0035] 上述式中，Ra20
為氫原子或甲基，Ra21
為碳原子數1～6的2價脂肪族飽和烴基，Ra22
為碳原子數1～10的2價烴基，t為0～10的整數。Ra21
方面，為直鏈狀或分枝鏈狀的伸烷基，以例如亞甲基、伸乙基、伸丙基、四亞甲基、乙基伸乙基、五亞甲基、六亞甲基為佳。Ra22
以例如亞甲基、伸乙基、伸丙基、四亞甲基、乙基伸乙基、五亞甲基、六亞甲基、伸苯基、伸環己基、-CH2
-Ph-CH2
-(Ph為伸苯基)為佳。 [0036] 共聚物(A2)亦可為上述(a1)不飽和羧酸及(a2)上述含脂環式環氧基之不飽和化合物與不具有環氧基的(a3)含脂環式基之不飽和化合物共聚合而成者。 (a3)含脂環式基之不飽和化合物，為具有脂環式基的不飽和化合物則不特別限定。脂環式基可為單環亦可為多環。單環的脂環式基方面，可舉例如環戊基、環己基等。又，多環的脂環式基方面，可舉例如金剛烷基、降冰片基、異冰片基、三環壬基、三環癸基、四環十二基等。此等之(a3)含脂環式基之不飽和化合物可單獨或2種以上組合使用。 [0037] 具體上，(a3)含脂環式基之不飽和化合物方面，可舉例如下述式(a3-1)～(a3-7)所表示之化合物。此等之中，為了使顯影性為適度者，以下述式(a3-3)～(a3-8)所表示之化合物為佳、下述式(a3-3)，(a3-4)所表示之化合物更佳。 [0038][0039] 上述式中，Ra23
為氫原子或甲基，Ra24
為單鍵或碳原子數1～6的2價脂肪族飽和烴基，Ra25
為氫原子或碳原子數1～5的烷基。Ra24
為單鍵、直鏈狀或分枝鏈狀的伸烷基，以例如亞甲基、伸乙基、伸丙基、四亞甲基、乙基伸乙基、五亞甲基、六亞甲基為佳。Ra25
方面，以例如甲基、乙基為佳。 [0040] 又，共聚物(A2)可為含有上述(a1)不飽和羧酸與不具有脂環式基的(a4)含環氧基之不飽和化合物的單體的聚合物。 該共聚物(A2)可為上述(a1)不飽和羧酸與(a4)含環氧基之不飽和化合物之共聚物， 亦可為上述(a1)不飽和羧酸與上述(a2)含脂環式環氧基之不飽和化合物與(a4)含環氧基之不飽和化合物之共聚物， 亦可為上述(a1)不飽和羧酸與上述(a3)含脂環式基之不飽和化合物與(a4)含環氧基之不飽和化合物之共聚物， 亦可為上述(a1)不飽和羧酸與上述(a2)含脂環式環氧基之不飽和化合物與上述(a3)含脂環式基之不飽和化合物與(a4)含環氧基之不飽和化合物之共聚物。 [0041] (a4)含環氧基之不飽和化合物方面，可舉例如縮水甘油基(甲基)丙烯酸酯、2-甲基縮水甘油基(甲基)丙烯酸酯、3,4-環氧基丁基(甲基)丙烯酸酯、6,7-環氧基庚基(甲基)丙烯酸酯等之(甲基)丙烯酸環氧基烷基酯類；α-乙基丙烯酸縮水甘油基酯、α-n-丙基丙烯酸縮水甘油基酯、α-n-丁基丙烯酸縮水甘油基酯、α-乙基丙烯酸6,7-環氧基庚基酯等之α-烷基丙烯酸環氧基烷基酯類；等。此等之中，由共聚合反應性、硬化後的樹脂的強度等之點來看，以縮水甘油基(甲基)丙烯酸酯、2-甲基縮水甘油基(甲基)丙烯酸酯、及6,7-環氧基庚基(甲基)丙烯酸酯為佳。此等之(a4)含環氧基之不飽和化合物可單獨或2種以上組合使用。 [0042] 又，共聚物(A2)可為含有上述(a1)不飽和羧酸與上述以外的其他化合物的單體的共聚物。 共聚物(A2)可為含有由上述(a1)不飽和羧酸、上述(a2)含脂環式環氧基之不飽和化合物、上述(a3)含脂環式基之不飽和化合物、及上述(a4)含環氧基之不飽和化合物所構成群組中選出的1種以上之單體、與上述以外的其他化合物的單體的共聚物。 [0043] 其他化合物方面，可舉例如(甲基)丙烯酸烷基酯、(甲基)丙烯酸羥基烷基酯、具有醚鍵的(甲基)丙烯酸酯、上述其他之(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯醯胺類、烯丙基化合物、乙烯基醚類、乙烯基酯類、苯乙烯類、二羧酸二酯類、共軛二烯烴、含腈之聚合性化合物、含氯之聚合性化合物等。此等之化合物可單獨或2種以上組合使用。 [0044] (甲基)丙烯酸烷基酯方面，可舉例如甲基(甲基)丙烯酸酯、乙基(甲基)丙烯酸酯、n-丙基(甲基)丙烯酸酯、n-丁基(甲基)丙烯酸酯、戊基(甲基)丙烯酸酯、tert-辛基(甲基)丙烯酸酯等之直鏈狀或分支鏈狀的烷基(甲基)丙烯酸酯。 [0045] (甲基)丙烯酸羥基烷基酯方面，可舉例如2-羥基乙基(甲基)丙烯酸酯、2-羥基丙基(甲基)丙烯酸酯、2-二甲基羥基丙基(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷單(甲基)丙烯酸酯等。 [0046] 具有醚鍵的(甲基)丙烯酸酯方面，可舉例如2-甲氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、甲氧基三乙二醇(甲基)丙烯酸酯、3-甲氧基丁基(甲基)丙烯酸酯、乙基卡必醇(甲基)丙烯酸酯、苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、四氫糠基(甲基)丙烯酸酯，以2-甲氧基乙基(甲基)丙烯酸酯及甲氧基三乙二醇(甲基)丙烯酸酯為佳。 [0047] 上述其他之(甲基)丙烯酸酯方面，可舉例如氯乙基(甲基)丙烯酸酯、苄基(甲基)丙烯酸酯、苯基(甲基)丙烯酸酯。 [0048] (甲基)丙烯醯胺類方面，可舉例如(甲基)丙烯醯胺、N-烷基(甲基)丙烯醯胺、N-芳基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二烷基(甲基)丙烯醯胺、N,N-芳基(甲基)丙烯醯胺、N-甲基-N-苯基(甲基)丙烯醯胺、N-羥基乙基-N-甲基(甲基)丙烯醯胺等。 [0049] 烯丙基化合物方面，可舉例如乙酸烯丙基酯、己酸烯丙基酯、辛酸烯丙基酯、月桂酸烯丙基酯、棕櫚酸烯丙基酯、硬脂酸烯丙基酯、安息香酸烯丙基酯、乙醯乙酸烯丙基酯、乳酸烯丙基酯等之烯丙基酯類；烯丙基氧基乙醇；等。 [0050] 乙烯基醚類方面，可舉例如己基乙烯基醚、辛基乙烯基醚、癸基乙烯基醚、乙基己基乙烯基醚、甲氧基乙基乙烯基醚、乙氧基乙基乙烯基醚、氯乙基乙烯基醚、1-甲基-2,2-二甲基丙基乙烯基醚、2-乙基丁基乙烯基醚、羥基乙基乙烯基醚、二乙二醇乙烯基醚、二甲基胺基乙基乙烯基醚、二乙基胺基乙基乙烯基醚、丁基胺基乙基乙烯基醚、苄基乙烯基醚、四氫糠基乙烯基醚等之烷基乙烯基醚；乙烯基苯基醚、乙烯基甲苯基醚、乙烯基氯苯基醚、乙烯基-2,4-二氯苯基醚、乙烯基萘基醚、乙烯基蒽基醚等之乙烯基芳基醚；等。 [0051] 乙烯基酯類方面，可舉例如乙烯基乙酸酯、乙烯基丁酸酯、乙烯基異丁酸酯、乙烯基三甲基乙酸酯、乙烯基二乙基乙酸酯、乙烯基戊酸酯、乙烯基己酸酯、乙烯基氯乙酸酯、乙烯基二氯乙酸酯、乙烯基甲氧基乙酸酯、乙烯基丁氧基乙酸酯、乙烯基苯基乙酸酯、乙醯乙酸乙烯酯、乙烯基乳酸酯、乙烯基-β-苯基丁酸酯、安息香酸乙烯基酯、水楊酸乙烯基酯、氯安息香酸乙烯基酯、四氯安息香酸乙烯基酯、萘甲酸酯乙烯基酯等。 [0052] 苯乙烯類方面，可舉例如苯乙烯；甲基苯乙烯、二甲基苯乙烯、三甲基苯乙烯、乙基苯乙烯、二乙基苯乙烯、異丙基苯乙烯、丁基苯乙烯、己基苯乙烯、環己基苯乙烯、癸基苯乙烯、苄基苯乙烯、氯甲基苯乙烯、三氟甲基苯乙烯、乙氧基甲基苯乙烯、乙醯氧基甲基苯乙烯等之烷基苯乙烯；甲氧基苯乙烯、4-甲氧基-3-甲基苯乙烯、二甲氧基苯乙烯等之烷氧基苯乙烯；氯苯乙烯、二氯苯乙烯、三氯苯乙烯、四氯苯乙烯、五氯苯乙烯、溴苯乙烯、二溴苯乙烯、碘苯乙烯、氟苯乙烯、三氟苯乙烯、2-溴-4-三氟甲基苯乙烯、4-氟-3-三氟甲基苯乙烯等之鹵代苯乙烯；等。 [0053] 二羧酸二酯類方面，可舉例如馬來酸二乙基酯、富馬酸二丁基酯。 [0054] 共軛二烯烴方面，可舉例如丁二烯、異戊二烯。 [0055] 含腈基之聚合性化合物方面，可舉例如(甲基)丙烯腈。 [0056] 含氯之聚合性化合物方面，可舉例如氯化乙烯基酯、偏氯乙烯。 [0057] 關於共聚物(A2)，在含有上述(a1)不飽和羧酸與上述以外的其他化合物的單體的共聚物中，以含有上述(a1)不飽和羧酸與上述具有醚鍵的(甲基)丙烯酸酯的單體的共聚物為佳。 該場合，共聚物(A2)中所佔的來自具有醚鍵的(甲基)丙烯酸酯的構成單位之比例，以30～90質量%為佳、40～80質量%更佳。 [0058] 共聚物(A2)中所佔的來自上述(a1)不飽和羧酸的構成單位之比例，以1～50質量%為佳、5～45質量%更佳。 又，共聚物(A2)含有來自上述(a2)含脂環式環氧基之不飽和化合物的構成單位與來自上述(a4)含環氧基之不飽和化合物的構成單位之情形，共聚物(A2)中所佔的來自(a2)含脂環式環氧基之不飽和化合物的構成單位的比例與來自上述(a4)含環氧基之不飽和化合物的構成單位的比例之合計，以71質量%以上為佳、71～95質量%較佳、75～90質量%再更佳。尤其，共聚物(A2)中所佔的來自上述(a2)含脂環式環氧基之不飽和化合物的構成單位的比例以單獨在71質量%以上為佳、71～80質量%更佳。來自上述(a2)含脂環式環氧基之不飽和化合物的構成單位的比例藉由在上述範圍，可使感光性樹脂組成物的經時安定性更提升。 又，共聚物(A2)含有來自(a3)含脂環式基之不飽和化合物的構成單位之情形，共聚物(A2)中所佔的來自上述(a3)含脂環式基之不飽和化合物的構成單位之比例，以1～30質量%為佳、5～20質量%更佳。 [0059] 共聚物(A2)之質量平均分子量以2000～200000為佳、3000～30000更佳。藉由在上述範圍，有感光性樹脂組成物的膜形成能力、曝光後的顯影性容易得到平衡之傾向。 [0060] 又，鹼可溶性樹脂方面，亦可宜使用含有(A3)至少具有來自上述(a1)不飽和羧酸的構成單位與後述之具有可與光聚合性化合物(B)聚合之部位的構成單位的共聚物或(A4)至少具有來自上述(a1)不飽和羧酸的構成單位與上述(a2)含脂環式環氧基之不飽和化合物及/或來自(a4)含環氧基之不飽和化合物的構成單位與後述之具有可與光聚合性化合物(B)聚合之部位的構成單位的共聚物的樹脂。鹼可溶性樹脂含有共聚物(A3)或共聚物(A4)之情形，可提高使用感光性樹脂組成物所形成的膜之對基板之密著性或使用感光性樹脂組成物而得到的硬化膜之機械強度。 [0061] 共聚物(A3)、及共聚物(A4)可為再共聚合共聚物(A2)中記載為其他化合物之(甲基)丙烯酸酯類、(甲基)丙烯醯胺類、烯丙基化合物、乙烯基醚類、乙烯基酯類、苯乙烯類等而成者。 [0062] 具有可與光聚合性化合物(B)聚合之部位的構成單位，以具有乙烯性不飽和基者作為可與光聚合性化合物(B)聚合之部位為佳。具有如此之構成單位的共聚物化，關於共聚物(A3)，可藉由使含有來自上述(a1)不飽和羧酸的構成單位的聚合物所含有的羧基的至少一部份與上述(a2)含脂環式環氧基之不飽和化合物及/或(a4)含環氧基之不飽和化合物進行反應來調製。又，共聚物(A4)可藉由使具有來自上述(a1)不飽和羧酸的構成單位與(a2)含脂環式環氧基之不飽和化合物及/或來自(a4)含環氧基之不飽和化合物的構成單位的共聚物中的環氧基的至少一部份與(a1)不飽和羧酸進行反應來調製。 [0063] 共聚物(A3)中之來自(a1)不飽和羧酸的構成單位之佔有比例以1～50質量%為佳、5～45質量%更佳。共聚物(A3)中之具有可與光聚合性化合物(B)聚合之部位的構成單位之佔有比例以1～45質量%為佳、5～40質量%更佳。共聚物(A3)以如此之比率含有各構成單位之情形，容易得到可形成與基板之密著性優異的膜的感光性樹脂組成物。 [0064] 共聚物(A4)中之來自(a1)不飽和羧酸的構成單位之佔有比例以1～50質量%為佳、5～45質量%更佳。共聚物(A4)中之來自(a2)含脂環式環氧基之不飽和化合物及/或(a4)含環氧基之不飽和化合物的構成單位之佔有比例以55質量%以上為佳、71質量%以上更佳、71～80質量%特別佳。 共聚物(A4)中之具有可與光聚合性化合物(B)聚合之部位的構成單位之佔有比例以1～45質量%為佳、5～40質量%更佳。共聚物(A4)以如此之比率含有各構成單位之情形，容易得到可形成與基板之密著性優異的膜的感光性樹脂組成物。 [0065] 共聚物(A3)、及共聚物(A4)之質量平均分子量以2000～50000為佳、5000～30000更佳。藉由在上述範圍，有感光性樹脂組成物的膜形成能力、曝光後的顯影性容易得到平衡之傾向。 [0066] 樹脂(A)的感光性樹脂組成物中之含量，相對於除去後述之填料(E)之質量與有機溶劑(S)之質量的感光性樹脂組成物的質量，以20～85質量%為佳、30～70質量%更佳。 [0067] ＜光聚合性化合物(B)＞ 光聚合性化合物(B)方面，可宜使用具有乙烯性不飽和基之單體。該具有乙烯性不飽和基之單體中，有單官能單體與多官能單體。 [0068] 單官能單體方面，可舉例如(甲基)丙烯醯胺、羥甲基(甲基)丙烯醯胺、甲氧基甲基(甲基)丙烯醯胺、乙氧基甲基(甲基)丙烯醯胺、丙氧基甲基(甲基)丙烯醯胺、丁氧基甲氧基甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥基甲基(甲基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯酸、富馬酸、馬來酸、馬來酸酐、伊康酸、伊康酸酐、檸康酸、檸康酸酐、巴豆酸、2-丙烯醯胺-2-甲基丙烷磺酸、tert-丁基丙烯醯胺磺酸、甲基(甲基)丙烯酸酯、乙基(甲基)丙烯酸酯、丁基(甲基)丙烯酸酯、2-乙基己基(甲基)丙烯酸酯、環己基(甲基)丙烯酸酯、2-羥基乙基(甲基)丙烯酸酯、2-羥基丙基(甲基)丙烯酸酯、2-羥基丁基(甲基)丙烯酸酯、2-苯氧基-2-羥基丙基(甲基)丙烯酸酯、2-(甲基)丙烯醯基氧基-2-羥基丙基苯二甲酸酯、甘油單(甲基)丙烯酸酯、四氫糠基(甲基)丙烯酸酯、二甲基胺基乙基(甲基)丙烯酸酯、縮水甘油基(甲基)丙烯酸酯、2,2,2-三氟乙基(甲基)丙烯酸酯、2,2,3,3-四氟丙基(甲基)丙烯酸酯、鄰苯二甲酸衍生物的半(甲基)丙烯酸酯等。此等之單官能單體可單獨或2種以上組合使用。 [0069] 另一方面，多官能單體方面，可舉例如乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己烷甘醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改性三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、甘油二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、2,2-雙(4-(甲基)丙烯醯氧基二乙氧基苯基)丙烷、2,2-雙(4-(甲基)丙烯醯氧基聚乙氧基苯基)丙烷、2-羥基-3-(甲基)丙烯醯基氧基丙基(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二縮水甘油基醚二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二縮水甘油基醚二(甲基)丙烯酸酯、鄰苯二甲酸二縮水甘油基酯二(甲基)丙烯酸酯、甘油三丙烯酸酯、甘油聚縮水甘油基醚聚(甲基)丙烯酸酯、胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯(即、甲苯二異氰酸酯、三甲基六亞甲基二異氰酸酯或六亞甲基二異氰酸酯等與2-羥基乙基(甲基)丙烯酸酯之反應物)、亞甲基雙(甲基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯醯胺亞甲基醚、多元醇與N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺之縮合物等之多官能單體或三丙烯酸基甲縮醛等。此等之多官能單體可單獨或2種以上組合使用。 [0070] 此等之具有乙烯性不飽和基之單體中，由有提高感光性樹脂組成物的對基板之密著性、感光性樹脂組成物的硬化後的強度之傾向點來看，以3官能以上之多官能單體為佳、4官能以上之多官能單體更佳、5官能以上之多官能單體又更佳。 [0071] 又，以光聚合性化合物(B)為含有6官能以上之多官能性化合物者特別佳。 例如將形成於矽基板等之半導體基板上的RGB的著色膜上所形成的微透鏡的表面以硬化膜(低折射率膜)被覆時，有硬化膜之表面以保護膠帶黏貼狀態進行半導體基板之研削之情形。 該研削後，保護膠帶從硬化膜之表面剝離，但因保護膠帶之剝離而硬化膜之表面變粗糙、且硬化膜之表面容易粗面化。 使感光性樹脂組成物的塗佈膜曝光而使其硬化時，在硬化膜之表面因氧造成硬化阻礙，而硬化膜之表面的硬化度稍低。因此，認為上述保護膠帶之剝離導致硬化膜之表面之粗面化。 [0072] 但是感光性樹脂組成物含有含6官能以上之多官能性化合物的光聚合性化合物(B)，則曝光而硬化時，因為在硬化膜之表面進行高度交聯，容易形成硬且緊密的硬化膜。 因此，即使將保護膠帶從硬化膜剝離，硬化膜之表面不易粗糙。 [0073] 光聚合性化合物(B)的感光性樹脂組成物中之含量，相對於除去後述之填料(E)之質量與有機溶劑(S)之質量的感光性樹脂組成物的質量，以1～70質量%為佳、5～60質量%更佳。藉由在上述範圍，有容易取得感度、顯影性、解像性之平衡的傾向。 [0074] ＜光聚合起始劑(C)＞ 作為光聚合起始劑(C)，不特別限制，可使用以往習知光聚合起始劑。 [0075] 光聚合起始劑(C)方面，具體上，可舉例如1-羥基環己基苯基酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、1-〔4-(2-羥基乙氧基)苯基〕-2-羥基-2-甲基-1-丙烷-1-酮、1-(4-異丙基苯基)-2-羥基-2-甲基丙烷-1-酮、1-(4-十二基苯基)-2-羥基-2-甲基丙烷-1-酮、2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙烷-1-酮、雙(4-二甲基胺基苯基)酮、2-甲基-1-〔4-(甲基硫基)苯基〕-2-嗎啉基丙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-丁烷-1-酮、O-乙醯基-1-[6-(2-甲基苯甲醯基)-9-乙基-9H-咔唑-3-基]乙酮肟、O-乙醯基-1-[6-(吡咯-2-基羰基)-9-乙基-9H咔唑-3-基]乙酮肟、(9-乙基-6-硝基-9H-咔唑-3-基)[4-(2-甲氧基-1-甲基乙氧基)-2-甲基苯基]甲酮O-乙醯基肟、2-(苯甲醯基氧基亞胺基)-1-[4-(苯基硫基)苯基]-1-辛酮、2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦、4-苯甲醯基-4’-甲基二甲基硫化物、4-二甲基胺基安息香酸、4-二甲基胺基安息香酸甲基酯、4-二甲基胺基安息香酸乙基酯、4-二甲基胺基安息香酸丁基酯、4-二甲基胺基-2-乙基己基安息香酸、4-二甲基胺基-2-異戊基安息香酸、苄基-β-甲氧基乙基縮醛、苄基二甲基縮酮、1-苯基-1,2-丙烷二酮-2-(O-乙氧基羰基)肟、o-苯甲醯基安息香酸甲基酯、2,4-二乙基噻噸酮、2-氯噻噸酮、2,4-二甲基噻噸酮、1-氯-4-丙氧基噻噸酮、硫雜蒽、2-氯硫雜蒽、2,4-二乙基硫雜蒽、2-甲基硫雜蒽、2-異丙基硫雜蒽、2-乙基蒽醌、八甲基蒽醌、1,2-苯並蒽醌、2,3-二苯基蒽醌、偶氮二異丁腈、苯甲醯基過氧化物、異丙苯過氧化氫、2-巰基苯並咪唑、2-巰基苯並噁唑、2-巰基苯並噻唑、2-(o-氯苯基)-4,5-二(m-甲氧基苯基)-咪唑基二聚物、二苯甲酮、2-氯二苯甲酮、p,p’-雙二甲基胺基二苯甲酮、4,4’-雙二乙基胺基二苯甲酮、4,4’-二氯二苯甲酮、3,3-二甲基-4-甲氧基二苯甲酮、苄基酯、安息香、安息香甲基醚、安息香乙基醚、安息香異丙基醚、安息香-n-丁基醚、安息香異丁基醚、安息香丁基醚、苯乙酮、2,2-二乙氧基苯乙酮、p-二甲基苯乙酮、p-二甲基胺基苯丙酮、二氯苯乙酮、三氯苯乙酮、p-tert-丁基苯乙酮、p-二甲基胺基苯乙酮、p-tert-丁基三氯苯乙酮、p-tert-丁基二氯苯乙酮、α,α-二氯-4-苯氧基苯乙酮、噻噸酮、2-甲基噻噸酮、2-異丙基噻噸酮、二苯並環庚酮、戊基-4-二甲基胺基苯甲酸酯、9-苯基吖啶、1,7-雙-(9-吖啶基)庚烷、1,5-雙-(9-吖啶基)戊烷、1,3-雙-(9-吖啶基)丙烷、p-甲氧基三嗪、2,4,6-參(三氯甲基)-s-三嗪、2-甲基-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-[2-(5-甲基呋喃-2-基)乙烯基]-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-[2-(呋喃-2-基)乙烯基]-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-[2-(4-二乙基胺基-2-甲基苯基)乙烯基]-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-[2-(3,4-二甲氧基苯基)乙烯基]-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4-甲氧基苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4-乙氧基苯乙烯基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4-n-丁氧基苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2,4-雙-三氯甲基-6-(3-溴-4-甲氧基)苯基-s-三嗪、2,4-雙-三氯甲基-6-(2-溴-4-甲氧基)苯基-s-三嗪、2,4-雙-三氯甲基-6-(3-溴-4-甲氧基)苯乙烯基苯基-s-三嗪、2,4-雙-三氯甲基-6-(2-溴-4-甲氧基)苯乙烯基苯基-s-三嗪等。此等之光聚合起始劑可單獨或2種以上組合使用。 [0076] 此等之中，使用肟酯化合物作為光聚合起始劑(C)此點，在感度面上尤佳。肟酯化合物方面，較佳的化合物的例，可舉例如O-乙醯基-1-[6-(2-甲基苯甲醯基)-9-乙基-9H-咔唑-3-基]乙酮肟、O-乙醯基-1-[6-(吡咯-2-基羰基)-9-乙基-9H咔唑-3-基]乙酮肟、及、2-(苯甲醯基氧基亞胺基)-1-[4-(苯基硫基)苯基]-1-辛酮。 [0077] 使用肟酯化合物作為光聚合起始劑(C)時，亦宜併用肟酯化合物與肟酯化合物以外的其他光聚合起始劑。 併用肟酯化合物與其他光聚合起始劑時，容易將感光性樹脂組成物的感度調整為適當的範圍。因此，因為不易造成曝光所致之進行過度硬化，難以形成寬度大於期望寬度的經圖型化的硬化膜。 與肟酯化合物併用的其他光聚合起始劑方面，以α-胺基烷基苯酮系的光聚合起始劑為佳。α-胺基烷基苯酮系的光聚合起始劑的較佳例，可舉例如2-甲基-1-〔4-(甲基硫基)苯基〕-2-嗎啉基丙烷-1-酮(IRGACURE907(IR-907)、商品名、BASF公司製)、及2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-丁烷-1-酮(IRGACURE369E(IR-369E)、商品名、BASF公司製)。 [0078] 又，肟酯化合物方面，亦宜使用下述式(c1)所表示之肟酯化合物。(Rc1
為選自1價有機基、胺基、鹵素、硝基、及氰基所構成的群之基， n1為0～4的整數， n2為0或1， Rc2
為可具有取代基的苯基或可具有取代基的咔唑基， Rc3
為氫原子或碳原子數1～6的烷基)。 [0079] 式(c1)中，Rc1
在不阻礙本發明之目的範圍，不特別限制，從種種之有機基中適宜選擇。Rc1
為有機基時的較佳例，可舉例如烷基、烷氧基、環烷基、環烷氧基、飽和脂肪族醯基、飽和脂肪族醯基氧基、烷氧基羰基、可具有取代基的苯基、可具有取代基的苯氧基、可具有取代基的苯甲醯基、可具有取代基的苯氧基羰基、可具有取代基的苯甲醯基氧基、可具有取代基的苯基烷基、可具有取代基的萘基、可具有取代基的萘氧基、可具有取代基的萘甲醯基、可具有取代基的萘氧基羰基、可具有取代基的萘甲醯基氧基、可具有取代基的萘基烷基、可具有取代基的雜環基、胺基、被1個或2個有機基取代的胺基、嗎啉-1-基、及哌嗪-1-基、鹵素、硝基、及氰基等。n1為2～4的整數時，Rc1
可為相同亦可為相異。又，取代基的碳原子數中不包含取代基再具有的取代基的碳原子數。 [0080] Rc1
為烷基時，以碳原子數1～20為佳、碳原子數1～6更佳。又，Rc1
為烷基時，可為直鏈亦可為分支鏈。Rc1
為烷基時的具體例，可舉例如甲基、乙基、n-丙基、異丙基、n-丁基、異丁基、sec-丁基、tert-丁基、n-戊基、異戊基、sec-戊基、tert-戊基、n-己基、n-庚基、n-辛基、異辛基、sec-辛基、tert-辛基、n-壬基、異壬基、n-癸基、及異癸基等。又，Rc1
為烷基時，烷基為碳鏈中可含有醚鍵(-O-)。碳鏈中具有醚鍵的烷基的例，可舉例如甲氧基乙基、乙氧基乙基、甲氧基乙氧基乙基、乙氧基乙氧基乙基、丙基氧基乙氧基乙基、及甲氧基丙基等。 [0081] Rc1
為烷氧基時，以碳原子數1～20為佳、碳原子數1～6更佳。又，Rc1
為烷氧基時，可為直鏈亦可為分支鏈。Rc1
為烷氧基時的具體例，可舉例如甲氧基、乙氧基、n-丙基氧基、異丙基氧基、n-丁基氧基、異丁基氧基、sec-丁基氧基、tert-丁基氧基、n-戊基氧基、異戊基氧基、sec-戊基氧基、tert-戊基氧基、n-己基氧基、n-庚基氧基、n-辛基氧基、異辛基氧基、sec-辛基氧基、tert-辛基氧基、n-壬基氧基、異壬基氧基、n-癸基氧基、及異癸基氧基等。又，Rc1
為烷氧基時，烷氧基為碳鏈中可含有醚鍵(-O-)。碳鏈中具有醚鍵的烷氧基的例，可舉例如甲氧基乙氧基、乙氧基乙氧基、甲氧基乙氧基乙氧基、乙氧基乙氧基乙氧基、丙基氧基乙氧基乙氧基、及甲氧基丙基氧基等。 [0082] Rc1
為環烷基或環烷氧基時，以碳原子數3～10為佳、碳原子數3～6更佳。Rc1
為環烷基時的具體例，可舉例如環丙基、環丁基、環戊基、環己基、環庚基、及環辛基等。Rc1
為環烷氧基時的具體例，可舉例如環丙基氧基、環丁基氧基、環戊基氧基、環己基氧基、環庚基氧基、及環辛基氧基等。 [0083] Rc1
為飽和脂肪族醯基或飽和脂肪族醯基氧基時，以碳原子數2～20為佳、碳原子數2～7更佳。Rc1
為飽和脂肪族醯基時的具體例，可舉例如乙醯基、丙醯基、n-丁醯基、2-甲基丙醯基、n-戊醯基、2,2-二甲基丙醯基、n-己醯基、n-庚醯基、n-辛醯基、n-壬醯基、n-癸醯基、n-十一醯基、n-十二醯基、n-十三醯基、n-十四醯基、n-十五醯基、及n-十六醯基等。Rc1
為飽和脂肪族醯基氧基時的具體例，可舉例如乙醯基氧基、丙醯氧基、n-丁醯基氧基、2-甲基丙醯氧基、n-戊醯基氧基、2,2-二甲基丙醯氧基、n-己醯氧基、n-庚醯基氧基、n-辛醯基氧基、n-壬醯基氧基、n-癸醯基氧基、n-十一醯基氧基、n-十二醯基氧基、n-十三醯基氧基、n-十四醯基氧基、n-十五醯基氧基、及n-十六醯基氧基等。 [0084] Rc1
為烷氧基羰基時，以碳原子數2～20為佳、碳原子數2～7更佳。Rc1
為烷氧基羰基時的具體例，可舉例如甲氧基羰基、乙氧基羰基、n-丙基氧基羰基、異丙基氧基羰基、n-丁基氧基羰基、異丁基氧基羰基、sec-丁基氧基羰基、tert-丁基氧基羰基、n-戊基氧基羰基、異戊基氧基羰基、sec-戊基氧基羰基、tert-戊基氧基羰基、n-己基氧基羰基、n-庚基氧基羰基、n-辛基氧基羰基、異辛基氧基羰基、sec-辛基氧基羰基、tert-辛基氧基羰基、n-壬基氧基羰基、異壬基氧基羰基、n-癸基氧基羰基、及異癸基氧基羰基等。 [0085] Rc1
為苯基烷基時，以碳原子數7～20為佳、碳原子數7～10更佳。又Rc1
為萘基烷基時，以碳原子數11～20為佳、碳原子數11～14更佳。Rc1
為苯基烷基時的具體例，可舉例如苄基、2-苯基乙基、3-苯基丙基、及4-苯基丁基。Rc1
為萘基烷基時的具體例，可舉例如α-萘基甲基、β-萘基甲基、2-(α-萘基)乙基、及2-(β-萘基)乙基。Rc1
為苯基烷基或萘基烷基時，Rc1
在苯基或萘基上可再具有取代基。 [0086] Rc1
為雜環基時，雜環基為含有1個以上之N、S、O的5員或6員的單環或該單環彼此或該單環與苯環縮合而成的雜環基。雜環基為縮合環時，為環數至3為止者。構成該雜環基的雜環方面，可舉例如呋喃、噻吩、吡咯、噁唑、異噁唑、噻唑、噻二唑、異噻唑、咪唑、吡唑、三唑、吡啶、吡嗪、嘧啶、噠嗪、苯並呋喃、苯並噻吩、吲哚、異吲哚、吲哚嗪、苯並咪唑、苯並三唑、苯並噁唑、苯並噻唑、咔唑、嘌呤、喹啉、異喹啉、喹唑啉、酞嗪、噌啉、及喹喔啉等。Rc1
為雜環基時，雜環基可再具有取代基。 [0087] Rc1
為被1個或2個有機基取代的胺基時，有機基的適宜之例，可舉例如碳原子數1～20的烷基、碳原子數3～10的環烷基、碳原子數2～20的飽和脂肪族醯基、可具有取代基的苯基、可具有取代基的苯甲醯基、可具有取代基的碳原子數7～20的苯基烷基、可具有取代基的萘基、可具有取代基的萘甲醯基、可具有取代基的碳原子數11～20的萘基烷基、及雜環基等。此等之適宜之有機基的具體例與Rc1
相同。被1個或2個有機基取代的胺基的具體例，可舉例如甲基胺基、乙基胺基、二乙基胺基、n-丙基胺基、二-n-丙基胺基、異丙基胺基、n-丁基胺基、二-n-丁基胺基、n-戊基胺基、n-己基胺基、n-庚基胺基、n-辛基胺基、n-壬基胺基、n-癸基胺基、苯基胺基、萘基胺基、乙醯基胺基、丙醯胺基、n-丁醯基胺基、n-戊醯基胺基、n-己醯胺基、n-庚醯基胺基、n-辛醯基胺基、n-癸醯基胺基、苯甲醯基胺基、α-萘甲醯基胺基、及β-萘甲醯基胺基等。 [0088] Rc1
所含有的苯基、萘基、及雜環基再具有取代基時的取代基方面，可舉例如碳原子數1～6的烷基、碳原子數1～6的烷氧基、碳原子數2～7的飽和脂肪族醯基、碳原子數2～7的烷氧基羰基、碳原子數2～7的飽和脂肪族醯基氧基、具有碳原子數1～6的烷基的單烷基胺基、具有碳原子數1～6的烷基的二烷基胺基、嗎啉-1-基、哌嗪-1-基、鹵素、硝基、及氰基等。Rc1
所含有的苯基、萘基、及雜環基再具有取代基時，該取代基的數在不阻礙本發明之目的範圍，不被限定，但以1～4為佳。Rc1
所含有的苯基、萘基、及雜環基具有複數取代基時，複數的取代基可為相同亦可為相異。 [0089] Rc1
中，由為化學安定或立體阻礙少且容易合成肟酯化合物等來看，以由碳原子數1～6的烷基、碳原子數1～6的烷氧基、及碳原子數2～7的飽和脂肪族醯基所構成的群選擇出的基為佳、碳原子數1～6的烷基更佳、甲基特別佳。 [0090] Rc1
鍵結於苯基的位置，關於Rc1
鍵結的苯基，以苯基與肟酯化合物的主骨架的鍵結鍵的位置為1位，以甲基的位置為2位時，以4位或5位為佳、5位更佳。又，n1以0～3的整數為佳、0～2的整數更佳、0或1特別佳。 [0091] Rc2
為可具有取代基的苯基或可具有取代基的咔唑基。又，Rc2
為可具有取代基的咔唑基時，咔唑基上的氮原子可被碳原子數1～6的烷基取代。 [0092] Rc2
中，苯基或咔唑基具有的取代基在不阻礙本發明之目的範圍，不特別限定。苯基或咔唑基在碳原子上可具有的適宜之取代基的例，可舉例如碳原子數1～20的烷基、碳原子數1～20的烷氧基、碳原子數3～10的環烷基、碳原子數3～10的環烷氧基、碳原子數2～20的飽和脂肪族醯基、碳原子數2～20的烷氧基羰基、碳原子數2～20的飽和脂肪族醯基氧基、可具有取代基的苯基、可具有取代基的苯氧基、可具有取代基的苯基硫基、可具有取代基的苯甲醯基、可具有取代基的苯氧基羰基、可具有取代基的苯甲醯基氧基、可具有取代基的碳原子數7～20的苯基烷基、可具有取代基的萘基、可具有取代基的萘氧基、可具有取代基的萘甲醯基、可具有取代基的萘氧基羰基、可具有取代基的萘甲醯基氧基、可具有取代基的碳原子數11～20的萘基烷基、可具有取代基的雜環基、可具有取代基的雜環羰基、胺基、被1個或2個有機基取代的胺基、嗎啉-1-基、及哌嗪-1-基、鹵素、硝基、及氰基等。 [0093] Rc2
為咔唑基時，咔唑基在氮原子上可具有的適宜之取代基的例，可舉例如碳原子數1～20的烷基、碳原子數3～10的環烷基、碳原子數2～20的飽和脂肪族醯基、碳原子數2～20的烷氧基羰基、可具有取代基的苯基、可具有取代基的苯甲醯基、可具有取代基的苯氧基羰基、可具有取代基的碳原子數7～20的苯基烷基、可具有取代基的萘基、可具有取代基的萘甲醯基、可具有取代基的萘氧基羰基、可具有取代基的碳原子數11～20的萘基烷基、可具有取代基的雜環基、及可具有取代基的雜環羰基等。在此等之取代基中，以碳原子數1～20的烷基為佳、碳原子數1～6的烷基更佳、乙基特別佳。 [0094] 苯基或咔唑基可具有的取代基的具體例，關於烷基、烷氧基、環烷基、環烷氧基、飽和脂肪族醯基、烷氧基羰基、飽和脂肪族醯基氧基、可具有取代基的苯基烷基、可具有取代基的萘基烷基、可具有取代基的雜環基、及被1個或2個有機基取代的胺基方面，與Rc1
相同。 [0095] Rc2
中，苯基或咔唑基具有的取代基所含有的苯基、萘基、及雜環基再具有取代基時的取代基的例，可舉例如碳原子數1～6的烷基；碳原子數1～6的烷氧基；碳原子數2～7的飽和脂肪族醯基；碳原子數2～7的烷氧基羰基；碳原子數2～7的飽和脂肪族醯基氧基；苯基；萘基；苯甲醯基；萘甲醯基；被選自由碳原子數1～6的烷基、嗎啉-1-基、哌嗪-1-基、及苯基所構成的群之基取代的苯甲醯基；具有碳原子數1～6的烷基的單烷基胺基；具有碳原子數1～6的烷基的二烷基胺基；嗎啉-1-基；哌嗪-1-基；鹵素；硝基；氰基。苯基或咔唑基具有的取代基所含有的苯基、萘基、及雜環基再具有取代基時，該取代基的數在不阻礙本發明之目的範圍，不被限定，但以1～4為佳。苯基、萘基、及雜環基具有複數取代基時，複數的取代基可為相同亦可為相異。 [0096] Rc2
中，由容易得到感度優異的光聚合起始劑之點來看，以下述式(c2)或(c3)所表示之基為佳、下述式(c2)所表示之基更佳、下述式(c2)所表示之基且A為S之基特別佳。 [0097](Rc4
為選自1價有機基、胺基、鹵素、硝基、及氰基所構成的群之基，A為S或O，n3為0～4的整數)。 [0098](Rc5
及Rc6
各自為1價有機基)。 [0099] 式(c2)中之Rc4
為有機基時，在不阻礙本發明之目的範圍，可選自種種之有機基。式(c2)中Rc4
為有機基時的較佳例，可舉例如碳原子數1～6的烷基；碳原子數1～6的烷氧基；碳原子數2～7的飽和脂肪族醯基；碳原子數2～7的烷氧基羰基；碳原子數2～7的飽和脂肪族醯基氧基；苯基；萘基；苯甲醯基；萘甲醯基；被選自由碳原子數1～6的烷基、嗎啉-1-基、哌嗪-1-基、及苯基所構成的群之基取代的苯甲醯基；具有碳原子數1～6的烷基的單烷基胺基；具有碳原子數1～6的烷基的二烷基胺基；嗎啉-1-基；哌嗪-1-基；鹵素；硝基；氰基。 [0100] Rc4
中，以苯甲醯基；萘甲醯基；被選自由碳原子數1～6的烷基、嗎啉-1-基、哌嗪-1-基、及苯基所構成的群之基取代的苯甲醯基；硝基為佳、苯甲醯基；萘甲醯基；2-甲基苯基羰基；4-(哌嗪-1-基)苯基羰基；4-(苯基)苯基羰基更佳。 [0101] 又，式(c2)中，n3以0～3的整數為佳、0～2的整數更佳、0或1者特別佳。n3為1時，Rc4
之鍵結位置相對於Rc4
鍵結的苯基與氧原子或硫原子鍵結的鍵結鍵而言，以對位者為佳。 [0102] 式(c3)中之Rc5
在不阻礙本發明之目的範圍，可選自種種之有機基。Rc5
的較佳例，可舉例如碳原子數1～20的烷基、碳原子數3～10的環烷基、碳原子數2～20的飽和脂肪族醯基、碳原子數2～20的烷氧基羰基、可具有取代基的苯基、可具有取代基的苯甲醯基、可具有取代基的苯氧基羰基、可具有取代基的碳原子數7～20的苯基烷基、可具有取代基的萘基、可具有取代基的萘甲醯基、可具有取代基的萘氧基羰基、可具有取代基的碳原子數11～20的萘基烷基、可具有取代基的雜環基、及可具有取代基的雜環羰基等。 [0103] Rc5
中，以碳原子數1～20的烷基為佳、碳原子數1～6的烷基更佳、乙基特別佳。 [0104] 式(c3)中之Rc6
在不阻礙本發明之目的範圍，不特別限制，可選自種種之有機基。作為Rc6
適宜之基的具體例，可舉例如碳原子數1～20的烷基、可具有取代基的苯基、可具有取代基的萘基、及可具有取代基的雜環基。Rc6
方面，在此等之基中，以可具有取代基的苯基更佳、2-甲基苯基特別佳。 [0105] Rc4
、Rc5
或Rc6
所含有的苯基、萘基、及雜環基再具有取代基時的取代基方面，可舉例如碳原子數1～6的烷基、碳原子數1～6的烷氧基、碳原子數2～7的飽和脂肪族醯基、碳原子數2～7的烷氧基羰基、碳原子數2～7的飽和脂肪族醯基氧基、具有碳原子數1～6的烷基的單烷基胺基、具有碳原子數1～6的烷基的二烷基胺基、嗎啉-1-基、哌嗪-1-基、鹵素、硝基、及氰基等。Rc4
、Rc5
或Rc6
所含有的苯基、萘基、及雜環基再具有取代基時，該取代基的數在不阻礙本發明之目的範圍，不被限定，但以1～4為佳。Rc4
、Rc5
或Rc6
所含有的苯基、萘基、及雜環基具有複數取代基時，複數的取代基可為相同亦可為相異。 [0106] 式(c1)中之Rc3
為氫原子或碳原子數1～6的烷基。Rc3
方面，以甲基或乙基為佳、甲基更佳。 [0107] 式(c1)所表示之肟酯化合物，在p為0時，可藉由例如下述路徑1進行合成。具體上，將下述式(c1-1)所表示之芳香族化合物，使用下述式(c1-2)所表示之鹵代羰基化合物，藉由Friedel-Crafts反應進行醯基化，得到下述式(c1-3)所表示之酮化合物，使得到的酮化合物(c1-3)以羥基胺進行肟化，得到下述式(c1-4)所表示之肟化合物，接著使式(c1-4)的肟化合物中的羥基進行醯基化，可得到下述式(c1-7)所表示之肟酯化合物。作為醯基化劑，以使用下述式(c1-5)所表示之酸酐((Rc3
CO)2
O)或下述式(c1-6)所表示之酸鹵化物(Rc3
COHal、Hal為鹵素)。者為佳。又，下述式(c1-2)中，Hal為鹵素，下述式(c1-1)、(c1-2)、(c1-3)、(c1-4)、及(c1-7)中，Rc1
、Rc2
、Rc3
、及n1與式(c1)相同。 [0108] ＜路徑1＞[0109] 式(c1)所表示之肟酯化合物，在n2為1時，可藉由例如下述路徑2進行合成。具體上，使下述式(c2-1)所表示之酮化合物，在鹽酸存在下與下述式(c2-2)所表示之亞硝酸酯(RONO、R為碳原子數1～6的烷基)。進行反應，得到下述式(c2-3)所表示之酮肟化合物，接著，使下述式(c2-3)所表示之酮肟化合物中的羥基進行醯基化，可得到下述式(c2-6)所表示之肟酯化合物。作為醯基化劑，以使用下述式(c2-4)所表示之酸酐((Rc3
CO)2
O)或下述式(c2-5)所表示之酸鹵化物(Rc3
COHal、Hal為鹵素)。者為佳。又，下述式(c2-1)、(c2-3)、(c2-4)、(c2-5)、及(c2-6)中，Rc1
、Rc2
、Rc3
、及n1與式(c1)相同。 [0110] ＜路徑2＞[0111] 又，式(c1)所表示之肟酯化合物，在n2為1、Rc1
為甲基，且相對於Rc1
鍵結的苯環上鍵結的甲基而言，Rc1
鍵結於對位時，例如下述式(c2-7)所表示之化合物亦可以路徑1相同方法，藉由進行肟化、及醯基化來合成。又，下述式(c2-7)中，Rc2
與式(c1)相同。 [0112][0113] 式(c1)所表示之肟酯化合物中，特別佳之化合物方面，可舉例如下述PI-1～PI-42。[0114][0115][0116][0117][0118][0119] 又，下述式(c4)所表示之肟酯化合物亦宜作為光聚合起始劑。 [0120](Rc7
為氫原子、硝基或1價有機基，Rc8
及Rc9
各自為可具有取代基的鏈狀烷基、可具有取代基的環狀有機基或氫原子，Rc8
與Rc9
相互鍵結可形成環，Rc10
為1價有機基，Rc11
為氫原子、可具有取代基的碳原子數1～11的烷基或可具有取代基的芳基，n4為0～4的整數，n5為0或1)。 [0121] 在此，用以製造式(c4)的肟酯化合物的肟化合物，以下式(c5)所表示之化合物為宜。 [0122](Rc7
、Rc8
、Rc9
、Rc10
、n4、及n5與式(c4)相同)。 [0123] 式(c4)及(c5)中，Rc7
為氫原子、硝基或1價有機基。Rc7
在式(c4)中的茀環上，鍵結於與-(CO)n5
-所表示之基上鍵結的6員芳香環不同的6員芳香環。式(c4)中，Rc7
的對茀環之鍵結位置不特別限定。式(c4)所表示之化合物具有1個以上之Rc7
時，由容易合成式(c4)所表示之化合物之觀點等來看，以1個以上之Rc7
中的1個鍵結於茀環中的2位者為佳。Rc7
為複數時，複數的Rc7
可為相同亦可為相異。 [0124] Rc7
為有機基時，Rc7
在不阻礙本發明之目的範圍，不特別限制，從種種之有機基中適宜選擇。Rc7
為有機基時的較佳例，可舉例如烷基、烷氧基、環烷基、環烷氧基、飽和脂肪族醯基、飽和脂肪族醯基氧基、烷氧基羰基、可具有取代基的苯基、可具有取代基的苯氧基、可具有取代基的苯甲醯基、可具有取代基的苯氧基羰基、可具有取代基的苯甲醯基氧基、可具有取代基的苯基烷基、可具有取代基的萘基、可具有取代基的萘氧基、可具有取代基的萘甲醯基、可具有取代基的萘氧基羰基、可具有取代基的萘甲醯基氧基、可具有取代基的萘基烷基、可具有取代基的雜環基、可具有取代基的雜環羰基、被1個或2個有機基取代的胺基、嗎啉-1-基、及哌嗪-1-基等。 [0125] Rc7
為烷基時，烷基的碳原子數，以1～20為佳、1～6更佳。又，Rc7
為烷基時，可為直鏈亦可為分支鏈。Rc7
為烷基時的具體例，可舉例如甲基、乙基、n-丙基、異丙基、n-丁基、異丁基、sec-丁基、tert-丁基、n-戊基、異戊基、sec-戊基、tert-戊基、n-己基、n-庚基、n-辛基、異辛基、sec-辛基、tert-辛基、n-壬基、異壬基、n-癸基、及異癸基等。又，Rc7
為烷基時，烷基為碳鏈中可含有醚鍵(-O-)。碳鏈中具有醚鍵的烷基的例，可舉例如甲氧基乙基、乙氧基乙基、甲氧基乙氧基乙基、乙氧基乙氧基乙基、丙基氧基乙氧基乙基、及甲氧基丙基等。 [0126] Rc7
為烷氧基時，烷氧基的碳原子數，以1～20為佳、1～6更佳。又，Rc7
為烷氧基時，可為直鏈亦可為分支鏈。Rc7
為烷氧基時的具體例，可舉例如甲氧基、乙氧基、n-丙基氧基、異丙基氧基、n-丁基氧基、異丁基氧基、sec-丁基氧基、tert-丁基氧基、n-戊基氧基、異戊基氧基、sec-戊基氧基、tert-戊基氧基、n-己基氧基、n-庚基氧基、n-辛基氧基、異辛基氧基、sec-辛基氧基、tert-辛基氧基、n-壬基氧基、異壬基氧基、n-癸基氧基、及異癸基氧基等。又，Rc7
為烷氧基時，烷氧基為碳鏈中可含有醚鍵(-O-)。碳鏈中具有醚鍵的烷氧基的例，可舉例如甲氧基乙氧基、乙氧基乙氧基、甲氧基乙氧基乙氧基、乙氧基乙氧基乙氧基、丙基氧基乙氧基乙氧基、及甲氧基丙基氧基等。 [0127] Rc7
為環烷基或環烷氧基時，環烷基或環烷氧基的碳原子數，以3～10為佳、3～6更佳。Rc7
為環烷基時的具體例，可舉例如環丙基、環丁基、環戊基、環己基、環庚基、及環辛基等。Rc7
為環烷氧基時的具體例，可舉例如環丙基氧基、環丁基氧基、環戊基氧基、環己基氧基、環庚基氧基、及環辛基氧基等。 [0128] Rc7
為飽和脂肪族醯基或飽和脂肪族醯基氧基時，飽和脂肪族醯基或飽和脂肪族醯基氧基的碳原子數以2～21為佳、2～7更佳。Rc7
為飽和脂肪族醯基時的具體例，可舉例如乙醯基、丙醯基、n-丁醯基、2-甲基丙醯基、n-戊醯基、2,2-二甲基丙醯基、n-己醯基、n-庚醯基、n-辛醯基、n-壬醯基、n-癸醯基、n-十一醯基、n-十二醯基、n-十三醯基、n-十四醯基、n-十五醯基、及n-十六醯基等。Rc7
為飽和脂肪族醯基氧基時的具體例，可舉例如乙醯基氧基、丙醯氧基、n-丁醯基氧基、2-甲基丙醯氧基、n-戊醯基氧基、2,2-二甲基丙醯氧基、n-己醯氧基、n-庚醯基氧基、n-辛醯基氧基、n-壬醯基氧基、n-癸醯基氧基、n-十一醯基氧基、n-十二醯基氧基、n-十三醯基氧基、n-十四醯基氧基、n-十五醯基氧基、及n-十六醯基氧基等。 [0129] Rc7
為烷氧基羰基時，烷氧基羰基的碳原子數，以2～20為佳、2～7更佳。Rc7
為烷氧基羰基時的具體例，可舉例如甲氧基羰基、乙氧基羰基、n-丙基氧基羰基、異丙基氧基羰基、n-丁基氧基羰基、異丁基氧基羰基、sec-丁基氧基羰基、tert-丁基氧基羰基、n-戊基氧基羰基、異戊基氧基羰基、sec-戊基氧基羰基、tert-戊基氧基羰基、n-己基氧基羰基、n-庚基氧基羰基、n-辛基氧基羰基、異辛基氧基羰基、sec-辛基氧基羰基、tert-辛基氧基羰基、n-壬基氧基羰基、異壬基氧基羰基、n-癸基氧基羰基、及異癸基氧基羰基等。 [0130] Rc7
為苯基烷基時，苯基烷基的碳原子數，以7～20為佳、7～10更佳。又，Rc7
為萘基烷基時，萘基烷基的碳原子數，以11～20為佳、11～14更佳。Rc7
為苯基烷基時的具體例，可舉例如苄基、2-苯基乙基、3-苯基丙基、及4-苯基丁基。Rc7
為萘基烷基時的具體例，可舉例如α-萘基甲基、β-萘基甲基、2-(α-萘基)乙基、及2-(β-萘基)乙基。Rc7
為苯基烷基或萘基烷基時，Rc7
在苯基或萘基上可再具有取代基。 [0131] Rc7
為雜環基時，雜環基為含有1個以上之N、S、O的5員或6員的單環或該單環彼此或該單環與苯環縮合而成的雜環基。雜環基為縮合環時，為環數至3為止者。雜環基可為芳香族基(雜芳基)，亦可為非芳香族基。構成該雜環基的雜環方面，可舉例如呋喃、噻吩、吡咯、噁唑、異噁唑、噻唑、噻二唑、異噻唑、咪唑、吡唑、三唑、吡啶、吡嗪、嘧啶、噠嗪、苯並呋喃、苯並噻吩、吲哚、異吲哚、吲哚嗪、苯並咪唑、苯並三唑、苯並噁唑、苯並噻唑、咔唑、嘌呤、喹啉、異喹啉、喹唑啉、酞嗪、噌啉、喹喔啉、哌啶、哌嗪、嗎啉、哌啶、四氫吡喃、及四氫呋喃等。Rc7
為雜環基時，雜環基可再具有取代基。 [0132] Rc7
為雜環羰基時，雜環羰基所含有的雜環基，與Rc7
為雜環基時相同。 [0133] Rc7
為被1個或2個有機基取代的胺基時，有機基的適宜之例，可舉例如碳原子數1～20的烷基、碳原子數3～10的環烷基、碳原子數2～21的飽和脂肪族醯基、可具有取代基的苯基、可具有取代基的苯甲醯基、可具有取代基的碳原子數7～20的苯基烷基、可具有取代基的萘基、可具有取代基的萘甲醯基、可具有取代基的碳原子數11～20的萘基烷基、及雜環基等。此等之適宜之有機基的具體例與Rc7
相同。被1個或2個有機基取代的胺基的具體例，可舉例如甲基胺基、乙基胺基、二乙基胺基、n-丙基胺基、二-n-丙基胺基、異丙基胺基、n-丁基胺基、二-n-丁基胺基、n-戊基胺基、n-己基胺基、n-庚基胺基、n-辛基胺基、n-壬基胺基、n-癸基胺基、苯基胺基、萘基胺基、乙醯基胺基、丙醯胺基、n-丁醯基胺基、n-戊醯基胺基、n-己醯胺基、n-庚醯基胺基、n-辛醯基胺基、n-癸醯基胺基、苯甲醯基胺基、α-萘甲醯基胺基、及β-萘甲醯基胺基等。 [0134] Rc7
所含有的苯基、萘基、及雜環基再具有取代基時的取代基方面，可舉例如碳原子數1～6的烷基、碳原子數1～6的烷氧基、碳原子數2～7的飽和脂肪族醯基、碳原子數2～7的烷氧基羰基、碳原子數2～7的飽和脂肪族醯基氧基、具有碳原子數1～6的烷基的單烷基胺基、具有碳原子數1～6的烷基的二烷基胺基、嗎啉-1-基、哌嗪-1-基、鹵素、硝基、及氰基等。Rc7
所含有的苯基、萘基、及雜環基再具有取代基時，該取代基的數在不阻礙本發明之目的範圍，不被限定，但以1～4為佳。Rc7
所含有的苯基、萘基、及雜環基具有複數取代基時，複數的取代基可為相同亦可為相異。 [0135] 以上說明之基中，Rc7
方面，為硝基或Rc12
-CO-所表示之基，則有感度提升傾向，故佳。Rc12
在不阻礙本發明之目的範圍，不特別限制，可選自種種之有機基。作為Rc12
適宜之基的例，可舉例如碳原子數1～20的烷基、可具有取代基的苯基、可具有取代基的萘基、及可具有取代基的雜環基。Rc12
方面，在此等之基中，以2-甲基苯基、噻吩-2-基、及α-萘基特別佳。 又，Rc7
為氫原子，則有透明性變良好之傾向，故佳。又，Rc7
為氫原子且Rc10
為後述式(c4a)或(c4b)所表示之基，則有透明性變更良好之傾向。 [0136] 式(c4)中，Rc8
及Rc9
各自為可具有取代基的鏈狀烷基、可具有取代基的環狀有機基或氫原子。Rc8
與Rc9
可相互鍵結形成環。在此等之基中，Rc8
及Rc9
方面，以可具有取代基的鏈狀烷基為佳。Rc8
及Rc9
為可具有取代基的鏈狀烷基時，鏈狀烷基可為直鏈烷基亦可為分支鏈烷基。 [0137] Rc8
及Rc9
為不具有取代基的鏈狀烷基時，鏈狀烷基的碳原子數，以1～20為佳、1～10更佳、1～6特別佳。Rc8
及Rc9
為鏈狀烷基時的具體例，可舉例如甲基、乙基、n-丙基、異丙基、n-丁基、異丁基、sec-丁基、tert-丁基、n-戊基、異戊基、sec-戊基、tert-戊基、n-己基、n-庚基、n-辛基、異辛基、sec-辛基、tert-辛基、n-壬基、異壬基、n-癸基、及異癸基等。又，Rc8
及Rc9
為烷基時，烷基為碳鏈中可含有醚鍵(-O-)。碳鏈中具有醚鍵的烷基的例，可舉例如甲氧基乙基、乙氧基乙基、甲氧基乙氧基乙基、乙氧基乙氧基乙基、丙基氧基乙氧基乙基、及甲氧基丙基等。 [0138] Rc8
及Rc9
為具有取代基的鏈狀烷基時，鏈狀烷基的碳原子數，以1～20為佳、1～10更佳、1～6特別佳。該場合，取代基的碳原子數不包含於鏈狀烷基的碳原子數。具有取代基的鏈狀烷基，以直鏈狀者為佳。 烷基可具有的取代基在不阻礙本發明之目的範圍，不特別限定。取代基的適宜之例，可舉例如氰基、鹵素原子、環狀有機基、及烷氧基羰基。鹵素原子方面，可舉例如氟原子、氯原子、溴原子、碘原子。在此等之中，以氟原子、氯原子、溴原子為佳。環狀有機基方面，可舉例如環烷基、芳香族烴基、雜環基。環烷基的具體例方面，與Rc7
為環烷基時的較佳例相同。芳香族烴基的具體例，可舉例如苯基、萘基、聯苯基、蒽基、及菲基等。雜環基的具體例方面，與Rc7
為雜環基時的較佳例相同。Rc7
為烷氧基羰基時，烷氧基羰基所含有的烷氧基可為直鏈狀亦可為分支鏈狀，以直鏈狀為佳。烷氧基羰基所含有的烷氧基的碳原子數，以1～10為佳、1～6更佳。 [0139] 鏈狀烷基具有取代基之情形，取代基的數不特別限定。較佳取代基的數因應鏈狀烷基的碳原子數而變。取代基的數典型上為1～20、以1～10為佳、1～6更佳。 [0140] Rc8
及Rc9
為環狀有機基時，環狀有機基可為脂環式基，亦可為芳香族基。環狀有機基方面，可舉例如脂肪族環狀烴基、芳香族烴基、雜環基。Rc8
及Rc9
為環狀有機基時，環狀有機基可具有的取代基與Rc8
及Rc9
為鏈狀烷基時相同。 [0141] Rc8
及Rc9
為芳香族烴基時，芳香族烴基以苯基、或複數的苯環透過碳-碳鍵進行鍵結而形成的基、或複數的苯環行縮合而形成的基者為佳。芳香族烴基為苯基或複數的苯環進行鍵結或縮合而形成的基時，芳香族烴基所含有的苯環的環數不特別限制，以3以下為佳、2以下更佳、1特別佳。芳香族烴基的較佳具體例，可舉例如苯基、萘基、聯苯基、蒽基、及菲基等。 [0142] Rc8
及Rc9
為脂肪族環狀烴基時，脂肪族環狀烴基可為單環式亦可為多環式。脂肪族環狀烴基的碳原子數，雖不特別限制，以3～20為佳、3～10更佳。單環式的環狀烴基的例，可舉例如環丙基、環丁基、環戊基、環己基、環庚基、環辛基、降冰片基、異冰片基、三環壬基、三環癸基、四環十二基、及金剛烷基等。 [0143] Rc8
及Rc9
為雜環基時，雜環基為含有1個以上之N、S、O的5員或6員的單環或該單環彼此或該單環與苯環縮合而成的雜環基。雜環基為縮合環時，為環數至3為止者。雜環基可為芳香族基(雜芳基)，亦可為非芳香族基。構成該雜環基的雜環方面，可舉例如呋喃、噻吩、吡咯、噁唑、異噁唑、噻唑、噻二唑、異噻唑、咪唑、吡唑、三唑、吡啶、吡嗪、嘧啶、噠嗪、苯並呋喃、苯並噻吩、吲哚、異吲哚、吲哚嗪、苯並咪唑、苯並三唑、苯並噁唑、苯並噻唑、咔唑、嘌呤、喹啉、異喹啉、喹唑啉、酞嗪、噌啉、喹喔啉、哌啶、哌嗪、嗎啉、哌啶、四氫吡喃、及四氫呋喃等。 [0144] Rc8
與Rc9
可相互鍵結形成環。由Rc8
與Rc9
形成之環所構成的基，以環亞烷基者為佳。Rc8
與Rc9
鍵結而形成環亞烷基時，構成環亞烷基的環以5員環～6員環者為佳、5員環者更佳。 [0145] Rc8
與Rc9
鍵結而形成的基為環亞烷基時，環亞烷基可與1個以上之其他環縮合。可與環亞烷基縮合的環之例，可舉例如苯環、萘環、環丁烷環、環戊烷環、環己烷環、環庚烷環、環辛烷環、呋喃環、噻吩環、吡咯環、吡啶環、吡嗪環、及嘧啶環等。 [0146] 以上說明的Rc8
及Rc9
中適宜之基的例，可舉例如式-A1
-A2
所表示之基。式中，可舉例如A1
為直鏈伸烷基，A2
為烷氧基、氰基、鹵素原子、烷基鹵化物、環狀有機基或烷氧基羰基。 [0147] A1
之直鏈伸烷基的碳原子數，以1～10為佳、1～6更佳。A2
為烷氧基時，烷氧基可為直鏈狀亦可為分支鏈狀，以直鏈狀為佳。烷氧基的碳原子數，以1～10為佳、1～6更佳。A2
為鹵素原子時，以氟原子、氯原子、溴原子、碘原子為佳、氟原子、氯原子、溴原子更佳。A2
為烷基鹵化物時，烷基鹵化物所含有的鹵素原子，以氟原子、氯原子、溴原子、碘原子為佳、氟原子、氯原子、溴原子更佳。烷基鹵化物可為直鏈狀亦可為分支鏈狀，以直鏈狀為佳。A2
為環狀有機基時，環狀有機基的例與Rc8
及Rc9
具有的取代基之環狀有機基相同。A2
為烷氧基羰基時，烷氧基羰基的例與Rc8
及Rc9
具有的取代基之烷氧基羰基相同。 [0148] Rc8
及Rc9
的較佳具體例，可舉例如乙基、n-丙基、n-丁基、n-己基、n-庚基、及n-辛基等之烷基；2-甲氧基乙基、3-甲氧基-n-丙基、4-甲氧基-n-丁基、5-甲氧基-n-戊基、6-甲氧基-n-己基、7-甲氧基-n-庚基、8-甲氧基-n-辛基、2-乙氧基乙基、3-乙氧基-n-丙基、4-乙氧基-n-丁基、5-乙氧基-n-戊基、6-乙氧基-n-己基、7-乙氧基-n-庚基、及8-乙氧基-n-辛基等之烷氧基烷基；2-氰基乙基、3-氰-n-丙基、4-氰-n-丁基、5-氰-n-戊基、6-氰-n-己基、7-氰-n-庚基、及8-氰-n-辛基等之氰基烷基；2-苯基乙基、3-苯基-n-丙基、4-苯基-n-丁基、5-苯基-n-戊基、6-苯基-n-己基、7-苯基-n-庚基、及8-苯基-n-辛基等之苯基烷基；2-環己基乙基、3-環己基-n-丙基、4-環己基-n-丁基、5-環己基-n-戊基、6-環己基-n-己基、7-環己基-n-庚基、8-環己基-n-辛基、2-環戊基乙基、3-環戊基-n-丙基、4-環戊基-n-丁基、5-環戊基-n-戊基、6-環戊基-n-己基、7-環戊基-n-庚基、及8-環戊基-n-辛基等之環烷基烷基；2-甲氧基羰基乙基、3-甲氧基羰基-n-丙基、4-甲氧基羰基-n-丁基、5-甲氧基羰基-n-戊基、6-甲氧基羰基-n-己基、7-甲氧基羰基-n-庚基、8-甲氧基羰基-n-辛基、2-乙氧基羰基乙基、3-乙氧基羰基-n-丙基、4-乙氧基羰基-n-丁基、5-乙氧基羰基-n-戊基、6-乙氧基羰基-n-己基、7-乙氧基羰基-n-庚基、及8-乙氧基羰基-n-辛基等之烷氧基羰基烷基；2-氯乙基、3-氯-n-丙基、4-氯-n-丁基、5-氯-n-戊基、6-氯-n-己基、7-氯-n-庚基、8-氯-n-辛基、2-溴乙基、3-溴-n-丙基、4-溴-n-丁基、5-溴-n-戊基、6-溴-n-己基、7-溴-n-庚基、8-溴-n-辛基、3,3,3-三氟丙基、及3,3,4,4,5,5,5-七氟-n-戊基等之烷基鹵化物。 [0149] Rc8
及Rc9
方面，上述中適宜之基為乙基、n-丙基、n-丁基、n-戊基、2-甲氧基乙基、2-氰基乙基、2-苯基乙基、2-環己基乙基、2-甲氧基羰基乙基、2-氯乙基、2-溴乙基、3,3,3-三氟丙基、及3,3,4,4,5,5,5-七氟-n-戊基。 [0150] Rc10
的適宜之有機基的例方面，與Rc7
相同地，可舉例如烷基、烷氧基、環烷基、環烷氧基、飽和脂肪族醯基、烷氧基羰基、飽和脂肪族醯基氧基、可具有取代基的苯基、可具有取代基的苯氧基、可具有取代基的苯甲醯基、可具有取代基的苯氧基羰基、可具有取代基的苯甲醯基氧基、可具有取代基的苯基烷基、可具有取代基的萘基、可具有取代基的萘氧基、可具有取代基的萘甲醯基、可具有取代基的萘氧基羰基、可具有取代基的萘甲醯基氧基、可具有取代基的萘基烷基、可具有取代基的雜環基、可具有取代基的雜環羰基、被1個或2個有機基取代的胺基、嗎啉-1-基、及哌嗪-1-基等。此等之基的具體例與Rc7
中說明者相同。又，Rc10
方面，環烷基烷基、芳香環上可具有取代基的苯氧基烷基、芳香環上可具有取代基的苯基硫烷基亦佳。苯氧基烷基、及苯基硫烷基可具有的取代基與Rc7
所含有的苯基可具有的取代基相同。 [0151] 有機基中，Rc10
方面，以烷基、環烷基、可具有取代基的苯基或環烷基烷基、芳香環上可具有取代基的苯基硫烷基為佳。烷基方面，以碳原子數1～20的烷基為佳、碳原子數1～8的烷基更佳、碳原子數1～4的烷基特佳、甲基最佳。可具有取代基的苯基中，以甲基苯基為佳、2-甲基苯基更佳。環烷基烷基所含有的環烷基的碳原子數，以5～10為佳、5～8更佳、5或6特別佳。環烷基烷基所含有的伸烷基的碳原子數，以1～8為佳、1～4更佳、2特別佳。環烷基烷基中，以環戊基乙基為佳。芳香環上可具有取代基的苯基硫烷基所含有的伸烷基的碳原子數，以1～8為佳、1～4更佳、2特別佳。芳香環上可具有取代基的苯基硫烷基中，以2-(4-氯苯基硫基)乙基為佳。 [0152] 又，Rc10
方面，以-A3
-CO-O-A4
所表示之基亦佳。A3
為2價有機基，以2價烴基者為佳、伸烷基者為佳。A4
為1價有機基，以1價烴基者為佳。 [0153] A3
為伸烷基時，伸烷基可為直鏈狀亦可為分支鏈狀，以直鏈狀為佳。A3
為伸烷基時，伸烷基的碳原子數以1～10為佳、1～6更佳、1～4特別佳。 [0154] A4
的較佳例，可舉例如碳原子數1～10的烷基、碳原子數7～20的芳烷基、及碳原子數6～20的芳香族烴基。A4
的較佳具體例，可舉例如甲基、乙基、n-丙基、異丙基、n-丁基、異丁基、sec-丁基、tert-丁基、n-戊基、n-己基、苯基、萘基、苄基、苯乙基、α-萘基甲基、及β-萘基甲基等。 [0155] 以-A3
-CO-O-A4
所表示之基的適宜之具體例，可舉例如2-甲氧基羰基乙基、2-乙氧基羰基乙基、2-n-丙基氧基羰基乙基、2-n-丁基氧基羰基乙基、2-n-戊基氧基羰基乙基、2-n-己基氧基羰基乙基、2-苄基氧基羰基乙基、2-苯氧基羰基乙基、3-甲氧基羰基-n-丙基、3-乙氧基羰基-n-丙基、3-n-丙基氧基羰基-n-丙基、3-n-丁基氧基羰基-n-丙基、3-n-戊基氧基羰基-n-丙基、3-n-己基氧基羰基-n-丙基、3-苄基氧基羰基-n-丙基、及3-苯氧基羰基-n-丙基等。 [0156] 以上已在Rc10
說明，但Rc10
方面，以下述式(c4a)或(c4b)所表示之基為佳。(式(c4a)及(c4b)中，Rc13
及Rc14
，各自為有機基，n6為0～4的整數，Rc13
及R8
存在於苯環上的相鄰位置時，Rc13
與Rc14
可相互鍵結形成環，n7為1～8的整數，n8為1～5的整數，n9為0～(n8+3)的整數，Rc15
為有機基)。 [0157] 關於式(c4a)中的Rc13
及Rc14
的有機基的例與Rc7
相同。Rc13
方面，以烷基或苯基為佳。Rc13
為烷基時，其碳原子數，以1～10為佳、1～5更佳、1～3特佳、1最佳。亦即，以Rc13
為甲基者最佳。Rc13
與Rc14
鍵結而形成環時，該環可為芳香族環，亦可為脂肪族環。為式(c4a)所表示之基，且Rc13
與Rc14
形成環之基的適宜之例，可舉例如萘-1-基或1,2,3,4-四氫萘-5-基等。上述式(c4a)中，n6為0～4的整數，以0或1者為佳、0者更佳。 [0158] 上述式(c4b)中，Rc15
為有機基。有機基，可舉例如與在Rc7
說明的有機基相同之基。有機基中，以烷基為佳。烷基可為直鏈狀亦可為分支鏈狀。烷基的碳原子數以1～10為佳、1～5更佳、1～3特別佳。Rc15
方面，較佳例為甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基等，此等之中，甲基更佳。 [0159] 上述式(c4b)中，n8為1～5的整數，1～3的整數為佳、1或2更佳。上述式(c4b)中，n9為0～(n8+3)，以0～3的整數為佳、0～2的整數更佳、0特別佳。上述式(c4b)中，n7為1～8的整數，以1～5的整數為佳、1～3的整數更佳、1或2特別佳。 [0160] 式(c4)中，Rc11
為氫原子、可具有取代基的碳原子數1～11的烷基或可具有取代基的芳基。Rc11
為烷基時可具有的取代基方面，較佳例為苯基、萘基等。又，Rc7
為芳基時可具有的取代基方面，較佳例為碳原子數1～5的烷基、烷氧基、鹵素原子等。 [0161] 式(c4)中，Rc11
方面，較佳例為氫原子、甲基、乙基、n-丙基、異丙基、n-丁基、苯基、苄基、甲基苯基、萘基等，此等之中，甲基或苯基更佳。 [0162] 式(c4)所表示之化合物，藉由包含使前述式(c5)所表示之化合物所含有的肟基(＞C=N-OH)轉換為＞C=N-O-CORc11
所表示之肟酯基之步驟的方法來製造。Rc11
與式(c4)中的Rc11
相同。 [0163] 肟基(＞C=N-OH)的轉換為＞C=N-O-CORc11
所表示之肟酯基，係藉由使前述式(c5)所表示之化合物與醯基化劑反應而進行。 賦予-CORc11
所表示之醯基的醯基化劑方面，可舉例如(Rc11
CO)2
O所表示之酸酐或Rc11
COHal(Hal為鹵素原子)所表示之酸鹵化物。 [0164] 一般式(c4)所表示之化合物，在n5為0時，例如根據下述路徑3進行合成。在路徑3，使用下述式(c3-1)所表示之茀衍生物作為原料。Rc7
為硝基或1價有機基時，式(c3-1)所表示之茀衍生物可在9位被Rc8
及Rc9
取代的茀衍生物，以習知方法，導入取代基Rc7
而得到。9位以Rc8
及Rc9
取代的茀衍生物，例如Rc8
及Rc9
為烷基時，如特開平06-234668號公報記載，可在鹼金屬氫氧化物的存在下，非質子性極性有機溶劑中，使茀與烷基化劑反應而得到。又，藉由在茀之有機溶劑溶液中，添加烷基鹵化物般烷基化劑、鹼金屬氫氧化物的水溶液、碘化四丁基銨或叔丁醇鉀般相間移動觸媒，進行烷基化反應，可得到9,9-烷基取代茀。 [0165] 於式(c3-1)所表示之茀衍生物，藉由傅里德-克拉夫茨醯基化反應，導入-CO-Rc10
所表示之醯基，可得到式(c3-3)所表示之茀衍生物。為了導入-CO-Rc10
所表示之醯基用的醯基化劑可為鹵代羰基化合物，亦可為酸酐。醯基化劑方面，以式(c3-2)所表示之鹵代羰基化合物為佳。式(c3-2)中，Hal為鹵素原子。茀環上導入醯基的位置，可藉由適當變更Friedel-Crafts反應的條件、對被醯基化的位置之其他位置施以保護及脫保護之方法來選擇。 [0166] 接著，將得到的式(c3-3)所表示之茀衍生物中的-CO-Rc10
所表示之基變換為-C(=N-OH)-Rc10
所表示之基，得到式(c3-4)所表示之肟化合物。將-CO-Rc10
所表示之基變換為-C(=N-OH)-Rc10
所表示之基的方法雖不特別限制，以羥基胺之肟化為佳。使式(c3-4)的肟化合物與下式(c3-5)所表示之酸酐((Rc11
CO)2
O)或下述式(c3-6)所表示之酸鹵化物(Rc11
COHal、Hal為鹵素原子)。反應，可得到下述式(c3-7)所表示之化合物。 [0167] 又，式(c3-1)、(c3-2)、(c3-3)、(c3-4)、(c3-5)、(c3-6)、及(c3-7)中，Rc7
、Rc8
、Rc9
、Rc10
、及Rc11
與式(c4)相同。 [0168] 又，路徑3中，式(c3-2)、式(c3-3)、及式(c3-4)各自所含有的Rc10
，可為相同亦可為相異。亦即，式(c3-2)、式(c3-3)、及式(c3-4)中的Rc10
在路徑3所示之合成過程中，可接受化學修飾。化學修飾之例，可舉例如酯化、醚化、醯基化、醯胺化、鹵素化、胺基中的氫原子經有機基之取代等。Rc10
可接受的化學修飾不限於此等。 [0169] ＜路徑3＞[0170] 式(c4)所表示之化合物，在n5為1時，例如依據下述路徑4進行合成。在路徑4，使用下述式(c4-1)所表示之茀衍生物作為原料。式(c4-1)所表示之茀衍生物，可藉由路徑3相同之方法，於式(c3-1)所表示之化合物，以Friedel-Crafts反應導入-CO-CH2
-Rc10
所表示之醯基而得到。醯基化劑方面，以式(c3-8)：Hal-CO-CH2
-Rc10
所表示之羧酸鹵化物為佳。接著，使式(c4-1)所表示之化合物中的存在於Rc10
與羰基之間的亞甲基進行肟化，得到下式(c4-3)所表示之酮肟化合物。將亞甲基肟化之方法，雖不特別限制，以在鹽酸存在下使下述一般式(c4-2)所表示之亞硝酸酯(RONO、R為碳原子數1～6的烷基)。進行反應之方法為佳。接著，使下述式(c4-3)所表示之酮肟化合物與下述式(c4-4)所表示之酸酐(Rc11
CO)2
O)或下述式(c4-5)所表示之酸鹵化物(Rc11
COHal、Hal為鹵素原子)。進行反應，可得到下述式(c4-6)所表示之化合物。又，下述式(c4-1)、(c4-3)、(c4-4)、(c4-5)、及(c4-6)中，Rc7
、Rc8
、Rc9
、Rc10
、及Rc11
與式(c4)相同。 n5為1時，有可使在使用含有式(c4)所表示之化合物的感光性樹脂組成物所形成的圖型中異物的產生更降低之傾向。 [0171] 又，路徑4中，式(c3-8)、式(c4-1)、及式(c4-3)各自所含有的Rc10
，可為相同亦可為相異。亦即，式(c3-8)、式(c4-1)、及式(c4-3)中的Rc10
在路徑4所示之合成過程中，可接受化學修飾。化學修飾之例，可舉例如酯化、醚化、醯基化、醯胺化、鹵素化、胺基中的氫原子經有機基之取代等。Rc10
可接受的化學修飾不限於此等。 [0172] ＜路徑4＞[0173] 式(c4)所表示之化合物的適宜之具體例，可舉例如以下之PI-43～PI-83。[0174][0175] 光聚合起始劑(C)之含量，相對於除去後述之有機溶劑(S)之質量的感光性樹脂組成物的質量，以0.5～30質量%為佳、1～20質量%更佳。光聚合起始劑(C)之含量藉由在上述範圍，可得到硬化性良好、不易產生圖型形狀不良的感光性樹脂組成物。 [0176] 光聚合起始劑(C)方面，有併用肟系酯化合物與肟酯化合物以外的其他光聚合起始劑之情形，肟酯化合物相對於光聚合起始劑(C)之質量的比率以50質量%以下為佳、1質量%以上50質量%以下更佳、3質量%以上30質量%以下特佳、5質量%以上20質量%以下最佳。 光聚合起始劑(C)含有該範圍內之量的肟酯化合物時，尤其難以形成寬度大於期望寬度的經圖型化的硬化膜。 [0177] 光聚合起始劑(C)中可組合光起始助劑。光起始助劑方面，可舉例如三乙醇胺、甲基二乙醇胺、三異丙醇胺、4-二甲基胺基安息香酸甲基酯、4-二甲基胺基安息香酸乙基酯、4-二甲基胺基安息香酸異戊基酯、4-二甲基胺基安息香酸2-乙基己基酯、安息香酸2-二甲基胺基乙基酯、N,N-二甲基對-甲苯胺、4,4’-雙(二甲基胺基)二苯甲酮、9,10-二甲氧基蒽、2-乙基-9,10-二甲氧基蒽、9,10-二乙氧基蒽、2-乙基-9,10-二乙氧基蒽、2-巰基苯並噻唑、2-巰基苯並噁唑、2-巰基苯並咪唑、2-巰基-5-甲氧基苯並噻唑、3-巰基丙酸、3-巰基丙酸甲基酯、季戊四醇四巰基乙酸酯、3-巰基丙酸酯等之硫醇化合物等。此等之光起始助劑可單獨或2種以上組合使用。 [0178] ＜聚合抑制劑(D)＞ 感光性樹脂組成物包含含有分子量230～1500的受阻酚系化合物之聚合抑制劑(D)。 理由雖不明，但感光性樹脂組成物藉由含有具有上述指定範圍內之分子量的受阻酚系化合物作為聚合抑制劑(D)，在範圍廣泛的曝光量下，容易形成具有期望尺寸的良好形狀的圖型且無殘渣產生。 又，聚合抑制劑(D)的分子量過小，則圖型形成時容易產生殘渣。聚合抑制劑(D)的分子量過大，則在感光性樹脂組成物中，因為聚合抑制劑(D)局部化，而難以得到使用聚合抑制劑(D)所致之期望的效果之情形。 [0179] 受阻酚係指酚性羥基的2個鄰位之至少一者具有氫原子及甲基以外的大體積取代基者。大體積取代基方面，可舉例如甲基以外的烷基、烯基、炔基、芳基、雜環式基、烷氧基、芳基氧基、取代胺基、硫烷基、硫基苯基等。 [0180] 分子量230～1500之受阻酚系化合物，為具有指定範圍內的分子量，且具有作為聚合抑制劑之作用的受阻酚系化合物則不特別限定。 分子量230～1500之受阻酚系化合物的具體例，可舉例如2,5-雙(1,1,3,3-四甲基丁基)對苯二酚(334.5)、2,5-雙(1,1-二甲基丁基)對苯二酚(250.4)、季戊四醇肆[3-(3,5-二-tert-丁基-4-羥基苯基)丙酸酯](1177.6)、N,N’-己烷-1,6-二基雙[3-(3,5-二-tert-丁基-4-羥基苯基)丙醯胺](637.0)、1,3,5-參(3,5-二-tert-丁基-4-羥基苄基)-1,3,5-三嗪-2,4,6(1H,3H,5H)-三酮(784.1)、4,4’,4”-(1-甲基-3-亞丙基)參(6-tert-丁基-m-甲酚(544.8)、6,6’-二-tert-丁基-4,4’-亞丁基二-m-甲酚(382.6)、十八基 3-(3,5-二-tetr-丁基-4-羥基苯基)丙酸酯(530.9)、3,9-雙{2-[3-(3-tert-丁基-4-羥基-5-甲基苯基)丙醯基氧基]-1,1-二甲基乙基}-2,4,8,10-四氧雜螺[5.5]十一烷(741.0)、1,3,5-參(3,5-二-tert-丁基-4-羥基苯基甲基)-2,4,6-三甲基苯(775.2)、2,2’-硫基二乙基雙[3-(3,5-二-tert-丁基-4-羥基苯基)丙酸酯](642.9)、異辛基3-(3,5-二-tetr-丁基-4-羥基苯基)丙酸酯(390.6)、鈣雙[3,5-二(tert-丁基)-4-羥基苄基(乙氧基)膦酸酯](692.8)、雙[3-(3-tert-丁基-4-羥基-5-甲基苯基)丙酸][乙烯雙(氧基乙烯)](586.8)、1,6-己二醇雙[3-(3,5-二-tert-丁基-4-羥基苯基)丙酸酯](638.9)、及4-[[4,6-雙(辛基硫基)-1,3,5-三嗪-2-基]胺基]-2,6-二-tert-丁基酚(589.0)。 各化合物名後括弧內的數值為各化合物的分子量。 聚合抑制劑(D)可組合含有2種以上之分子量230～1500之受阻酚系化合物。 [0181] 聚合抑制劑(D)亦可含有分子量230～1500之受阻酚系化合物以外的其他聚合抑制劑。 其他聚合抑制劑的具體例，可舉例如2,6-二-tert-丁基-p-甲酚(BHT)；對苯二酚、甲基對苯二酚、2,5-二-t-丁基對苯二酚、t-丁基對苯二酚等之對苯二酚化合物；p-苯醌、甲基-p-苯醌、t-丁基苯醌、2,5-二苯基-p-苯醌等之苯醌化合物；2-(2-羥基-5-甲基苯基)苯並三唑等之苯並三唑系化合物；N-亞硝基苯基羥基胺、N-亞硝基苯基羥基胺鋁鹽等之亞硝基胺系化合物；硫代二苯胺、二硫基苯甲醯基硫化物、二苄基四硫化物等之有機硫化合物；雙(1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶基)[{3,5-雙(1,1-二甲基乙基)-4-羥基苯基}甲基]丁基丙二酸酯等之受阻胺系化合物；p-苯二胺、N,N-二苯基-p-苯二胺等之芳香族胺；參(2,4-二-t-丁基苯基)亞磷酸酯、肆(2,4-二-tert-丁基苯基)[1,1-聯苯基]-4,4’-二基雙膦酸酯等之磷系化合物等。 聚合抑制劑(D)，可組合含有2種以上的分子量230～1500之受阻酚系化合物以外的其他聚合抑制劑。 [0182] 聚合抑制劑(D)中之分子量230～1500之受阻酚系化合物的含量，在不阻礙本發明之目的範圍，不特別限定。聚合抑制劑(D)中之分子量230～1500之受阻酚系化合物的含量，以70質量%以上為佳、80質量%以上更佳、90質量%以上特佳、100質量%者最佳。 [0183] 感光性樹脂組成物中之聚合抑制劑(D)之含量，在不阻礙本發明之目的範圍，不特別限定。感光性樹脂組成物中之聚合抑制劑(D)之含量，相對於除去後述之填料(E)之質量與有機溶劑(S)之質量的感光性樹脂組成物的質量，以0.001～1質量%為佳、0.01～1質量%更佳。聚合抑制劑(D)之含量藉由在上述範圍，使感光性樹脂組成物的硬化性維持於良好的範圍，同時在範圍廣泛的曝光量下，容易形成具有期望尺寸的良好形狀的圖型且無殘渣產生。 [0184] ＜填料(E)＞ 感光性樹脂組成物，由硬化膜之機械特性提升或硬化膜之低折射率化觀點來看，可含有填料(E)。填料(E)在不阻礙本發明之目的範圍，由以往感光性樹脂組成物中摻混的填料來適宜選擇。該填料(E)方面，以中空粒子或多孔質粒子為佳。 填料(E)方面，可使用1種類之粒子，亦可組合使用2種以上之粒子。又，填料(E)方面，可將中空粒子與多孔質粒子組合使用。 [0185] 中空粒子係指內部具有被外殻包圍的空洞之粒子。多孔質粒子係指內部具有許多空隙之多孔質的粒子。 中空粒子或多孔質粒子的空隙率，由填料(E)的耐久性為良好觀點與容易形成低折射率的硬化膜觀點來看，以10～80%為佳、20～60%更佳、30～60%特別佳。 [0186] 在中空粒子與多孔質粒子，由容易使硬化膜之折射率更低觀點來看，以中空粒子更佳。 例如中空二氧化矽粒子的折射率，比一般的二氧化矽之折射率1.46顯著低。此係因為中空二氧化矽粒子內部包含顯示1.0的低折射率之空氣。 [0187] 填料(E)的平均粒子徑在不阻礙本發明之目的範圍，不特別限定。填料(E)的平均粒子徑，以1～200nm為佳、10～100nm更佳。 填料(E)的平均粒子徑係由將分散的填料粒子以透過型電子顯微鏡觀察而得到的圖像求出。具體上，為以下之過程1)～3) 1)求出複數個之填料粒子各自之投影面積。 2)由求的得投影面積求出各填料粒子的等效圓直徑。 3)算出複數個之填料粒子的等效圓直徑的數平均值，作為填料(E)的平均粒子徑。 又，平均粒子徑的測定，典型上以300個以上之填料粒子為對象進行。 [0188] 填料(E)的比表面積，以10～2000m2
/g為佳、20～1800m2
/g更佳、50～1500m2
/g特別佳。 [0189] 填料(E)為中空粒子或多孔質粒子時，其折射率以1.10～1.40為佳、1.15～1.35更佳、1.15～1.30特別佳。在此之折射率為作為粒子全體的折射率，粒子為中空粒子時，非表示僅形成中空粒子的外殻之折射率者。粒子為多孔質粒子時，多孔質粒子的折射率可使用阿貝折射率計(ATAGO 公司製)進行測定。 [0190] 中空粒子或多孔質粒子的材質，由硬化膜之低折射率化觀點來看，以無機材料者為佳。該無機材料方面，可舉例如氟化鎂或二氧化矽之粒子。無機材料可為結晶性材料亦可為非晶質材料。 由容易形成低折射率的硬化膜、容易在感光性樹脂組成物中安定地分散、及便宜之觀點來看，無機材料所構成的中空粒子或多孔質粒子方面，以中空二氧化矽粒子或多孔質二氧化矽粒子為佳。 無機中空粒子或無機多孔質粒子的平均一次粒徑以1～100nm為佳、1～60nm更佳。 無機中空粒子或多孔質二氧化矽粒子，可為單分散粒子，亦可包含一次粒子凝集而成的凝集體。 [0191] 填料(E)為無機粒子時，以使填料(E)的分散液中或在感光性樹脂組成物中的填料(E)的分散安定性提升之目的或提高與樹脂(A)等之成分的親和性或鍵結性之目的，在無機粒子的表面，可施以電漿放電處理或電暈放電處理般物理性表面處理、界面活性劑或偶合劑等之化學性表面處理。 該表面處理中，以使用偶合劑的化學性表面處理為佳。 偶合劑方面，以鈦偶合劑、矽烷偶合劑等為佳、矽烷偶合劑更佳。 [0192] 例如將二氧化矽粒子以矽烷偶合劑處理，則藉由矽烷偶合劑與二氧化矽粒子表面之矽烷醇基的反應，有機矽烷基鍵結於二氧化矽粒子的表面。 經矽烷偶合劑之處理而導入的有機基方面，可舉例如可具有不飽和鍵的碳原子數1～18的烴基、可具有不飽和鍵的碳原子數1～18的鹵素化烴基等。 偶合劑之表面處理可在填料(E)之無機粒子摻混於感光性樹脂組成物前進行。又，亦可藉由將偶合劑添加至感光性樹脂組成物，進行填料(E)的表面處理。 [0193] 無機粒子等之填料(E)由防止凝集、在感光性組成物中的分散為容易之觀點來看，以調製感光性樹脂組成物前，預先在媒體中分散者為佳。 [0194] 作為填料(E)使用二氧化矽粒子時，可宜使用市售的二氧化矽粒子。 市售的二氧化矽粒子的具體例，可舉例如日揮觸媒化成(股)製的蘇利亞系列(異丙醇(IPA)分散液、4-甲基-2-戊酮(MIBK)分散液等)；日揮觸媒化成(股)製的OSCAL系列；日產化學(股)製的SNOWTEX系列(IPA分散液、乙二醇分散液、甲基乙基酮(MEK)分散液、二甲基乙醯胺分散液、MIBK分散液、丙二醇單甲基乙酸酯分散液、丙二醇單甲基醚分散液、甲醇分散液、乙酸乙基酯分散液、乙酸丁基酯分散液、二甲苯-n-丁醇分散液、甲苯分散液等)；日鐵礦業(股)製的Silinax；扶桑化學工業(股)製的PL系列(IPA分散液、甲苯分散液、丙二醇單甲基醚分散液、甲基乙基酮分散液等)；EVONIK公司製的AEROSIL系列(丙二醇乙酸酯分散液、乙二醇分散液、MIBK分散液等)。 [0195] 前述之填料(E)，以作為分散於媒體中的分散液，摻混於感光性樹脂組成物者為佳。 將二氧化矽粒子以分散液摻混於感光性樹脂組成物時，分散液中的二氧化矽粒子之含量以10～50質量%為佳、15～40質量%更佳、15～30質量%尤佳。 [0196] 將填料(E)分散於媒體中或感光性樹脂組成物中時，可使用分散劑。 分散劑的具體例，可舉例如聚醯胺胺、聚醯胺胺之鹽、聚羧酸、聚羧酸鹽、高分子量不飽和酸酯、改性聚胺基甲酸酯、改性聚酯、改性聚(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸系共聚物、及萘磺酸甲醛縮合物等之分散樹脂。 又，可使用聚氧化乙烯烷基磷酸酯、聚氧化乙烯烷基胺、烷醇胺等之化合物作為分散劑。 上述分散劑中，以分散樹脂為佳。分散樹脂由其構造，可分為直鏈狀高分子、末端改性型高分子、接枝型高分子、嵌段型高分子。 [0197] 分散樹脂具有吸附於填料粒子的表面，防止填料粒子的凝集之作用。因此，較佳可舉例如具有對填料粒子表面之錨部位的末端改性型高分子、接枝型高分子、嵌段型高分子。 [0198] 分散樹脂之質量平均分子量(以GPC法測定的聚苯乙烯換算值)以1000～200000為佳、2000～100000更佳、5000～50000特別佳。 [0199] 分散樹脂可以市售品取得。 市售之分散樹脂的具體例方面，可舉例如 BYKChemie公司製的Disperbyk-101(聚醯胺胺磷酸鹽)、Disperbyk-107(羧酸酯)、Disperbyk-110(含酸基之共聚合物)、Disperbyk-111(聚醯胺)、Disperbyk-130(聚醯胺)、Disperbyk-161(高分子共聚合物)、Disperbyk-162(高分子共聚合物)、Disperbyk-163(高分子共聚合物)、Disperbyk-164(高分子共聚合物)、Disperbyk-165(高分子共聚合物)、Disperbyk-166(高分子共聚合物)、Disperbyk-170(高分子共聚合物)、BYK-P104(高分子量不飽和聚羧酸)、BYK-P105(高分子量不飽和聚羧酸)； EFKA公司製的EFKA4047(聚胺基甲酸酯)、EFKA4050～4010～4165(聚胺基甲酸酯)、EFKA4330～4340(嵌段共聚物)、EFKA4400～4402(改性聚丙烯酸酯)、EFKA5010 (聚酯醯胺)、EFKA5765(高分子量聚羧酸鹽)、EFKA6220 (脂肪酸聚酯)、EFKA6745(酞菁衍生物)、EFKA6750(偶氮顏料衍生物)； 味之素精細技術公司製的Ajisper PB821、Ajisper PB822； 共榮社化學公司製的Florene TG-710(胺基甲酸酯寡聚物)、polyflow No.50E(丙烯酸系共聚物)、polyflow No.300 (丙烯酸系共聚物)； 楠本化成公司製的DISPARLON KS-860(高分子聚酯胺鹽)、DISPARLON KS-873SN(高分子聚酯胺鹽)、DISPARLON KS-874(高分子聚酯胺鹽)、DISPARLON 2150 (脂肪族多價羧酸)、DISPARLON 7004(聚醚酯)、DISPARLON DA-703-50、DISPARLON DA-705、DISPARLON DA-725； 花王公司製的Demol RN(萘磺酸甲醛聚縮合物)、Demol N(萘磺酸甲醛聚縮合物)、Demol MS(芳香族磺酸甲醛聚縮合物)、Demol C(芳香族磺酸甲醛聚縮合物)、Demol SN-B(芳香族磺酸甲醛聚縮合物)、HOMOGENOL L-18(高分子聚羧酸)、EMULGEN 920(聚氧化乙烯壬基苯基醚)、EMULGEN 930(聚氧化乙烯壬基苯基醚)、EMULGEN 935(聚氧化乙烯壬基苯基醚)、EMULGEN 985(聚氧化乙烯壬基苯基醚)、Acetamine 86(硬脂醯基胺乙酸酯)； Lubrizol 公司製的SOLSPERSE 5000(酞菁衍生物)、SOLSPERSE 22000(偶氮顏料衍生物)、SOLSPERSE 13240 (聚酯胺)、SOLSPERSE 3000(末端改性聚合物)、SOLSPERSE 17000(末端改性聚合物)、SOLSPERSE 27000 (末端改性聚合物)、SOLSPERSE 24000(接枝型高分子)、SOLSPERSE 28000(接枝型高分子)、SOLSPERSE 32000(接枝型高分子)、SOLSPERSE 38500(接枝型高分子)； 日光化學公司製的NIKKOL T106(聚氧化乙烯山梨糖醇酐單油酸酯)、MYS-IEX(聚氧化乙烯單硬脂酸酯)； 森下產業公司製的EFKA-46、EFKA-47、EFKA-47EA、EFKA聚合物100、EFKA聚合物400、EFKA聚合物401、EFKA聚合物450； Sannopco公司製的DISPERSE AID 6、DISPERSE AID 8、DISPERSE AID 15、DISPERSE AID 9100。 [0200] 又，分散劑方面，可使用非離子性、陰離子性、陽離子性界面活性劑。此等之界面活性劑可以市售品取得。 市售之界面活性劑的具體例方面，可舉例如 EFKA公司製的EFKA-745； 信越化學工業公司製之有機矽氧烷聚合物KP341； 共榮社油脂化學工業公司製的聚合物polyflow No.75、聚合物polyflow No.90、聚合物polyflow No.95； 裕商公司製的W001、W004、W005、W017； 日本Lubrizol公司製的SOLSPERSE 3000、SOLSPERSE 5000、SOLSPERSE 9000、SOLSPERSE 12000、SOLSPERSE 13240、SOLSPERSE 13940、SOLSPERSE 17000、SOLSPERSE 24000、SOLSPERSE 26000、SOLSPERSE 28000； ADEKA公司製的AdekaPluronicL31、AdekaPluronicF38、AdekaPluronicL42、AdekaPluronicL44、AdekaPluronicL61、AdekaPluronicL64、AdekaPluronicF68、AdekaPluronicL72、AdekaPluronicP95、AdekaPluronicF77、AdekaPluronicP84、AdekaPluronicF87、AdekaPluronicP94、AdekaPluronicL101、AdekaPluronicP103、AdekaPluronicF108、AdekaPluronicL121、AdekaPluronicP-123； 三洋化成公司製的Isonetto S-20； Kawaken Fine Chemicals公司製的HINOACT T-8000E； 青木油脂工業公司製的ELEBASE BA-100、ELEBASE BA-200、ELEBASE BCP-2、ELEBASE BUB-3、ELEBASE BUB-4、ELEBASE CP-800K、ELEBASE EDP-475、ELEBASE HEB-5、FINESURF 270、FINESURF 7045、FINESURF 7085、BLAUNON DSP-12.5、BLAUNON DT-03、BLAUNON L-205、BLAUNON LPE-1007、BLAUNON O-205、BLAUNON S-202、BLAUNON S-204、BLAUNON S-207、BLAUNON S-205T； 花王公司製的EMULGEN A-500、EMULGEN PP-290、AMIET 102、AMIET 105、AMIET 302、AMIET 320、AMINON PK-02S、EMANON CH-25、EMULGEN 104P、EMULGEN 108、EMULGEN 404、EMULGEN 408、EMULGEN A-60、EMULGEN A-90、EMULGEN B-66、EMULGEN LS-106、EMULGEN LS-114、RHEODOL 430V、RHEODOL 440V、RHEODOL 460V、RHEODOL TW-S106、RHEODOL TW-S120V、RHEODOL SUPER TW-L120、PHOSPHANOL ML-200、EMAL 20T、EMAL E-27、NEOPELEX GS、PELEX NBL、PELEX SS-H、PELEX SS-L、POIZ 532A、LATEMUL ASK、LATEMUL E-118B、LATEMUL E-150； 竹本油脂公司製的Newkalgen 3000S、Newkalgen FS-3PG、Newkalgen FE-7PG、Pionin D-6414、Pionin A-24-EA、Pionin A-28-B、Pionin A-29-M、Pionin A-44-B、Pionin A-44TW； 日信化學工業公司製的Dynol 604、Olfine PD-002W、SURFYNOL 2502、SURFYNOL 440、SURFYNOL 465、SURFYNOL 485、SURFYNOL 61； Clariant公司製的EMULSOGEN COL-020、EMULSOGEN 070、EMULSOGEN 080、 第一工業製藥公司製的PLYSURF A208B、PLYSURF A210B、PLYSURF A210G、PLYSURF A219B、PLYSURF AL、Lavelin FC-45； Nippon Surfactant公司製的AKYPO RLM100NV、AKYPO RLM45、AKYPO RLM45NV、AKYPO ECT-3、AKYPO ECT-3NEX、AKYPO ECT-7、Phosten HLP、Phosten HLP-1、Phosten HLP-TEA。 此等之分散劑可單獨使用亦可2種以上組合使用。 [0201] 感光性樹脂組成物中之分散劑之含量，相對填料之質量，以1～100質量%為佳、5～80質量%更佳、10～60質量%特別佳。分散劑為分散樹脂時，分散劑的使用量，相對填料之質量，以5～100質量%為佳、10～80質量%更佳。 [0202] 感光性樹脂組成物含有填料(E)時，感光性樹脂組成物中之填料(E)的使用量在不阻礙本發明之目的範圍，不特別限定。感光性樹脂組成物中之填料(E)之含量，相對於除去後述之有機溶劑(S)之質量的感光性樹脂組成物的質量，以80質量%以下為佳、20～80質量%更佳、30～70質量%特別佳。 [0203] ＜酸產生劑(F)＞ 感光性樹脂組成物可含有酸產生劑(F)。 例如將形成於矽基板等之半導體基板上的RGB的著色膜上所形成的微透鏡的表面以硬化膜(低折射率膜)被覆時，有硬化膜之表面以保護膠帶黏貼狀態進行半導體基板之研削之情形。 該研削後，保護膠帶從硬化膜之表面剝離，但因保護膠帶之剝離而硬化膜之表面變粗糙、且硬化膜之表面容易粗面化。 使感光性樹脂組成物的塗佈膜曝光而使其硬化時，在硬化膜之表面因氧造成硬化阻礙，而硬化膜之表面的硬化度稍低。因此，認為上述保護膠帶之剝離導致發生硬化膜之表面之粗面化。 [0204] 但是感光性樹脂組成物具有藉由環氧基等之酸的作用而可交聯的官能基時，感光性樹脂組成物含有酸產生劑(F)，則藉由曝光而產生之酸，即使在硬化膜之表面，亦進行交聯性基間的交聯，硬化膜之表面充分地硬化。 因此，即使將保護膠帶從硬化膜剝離，硬化膜之表面不易粗糙。 [0205] 酸產生劑(F)為經活性光線或放射線之照射而產生酸的化合物，為透過光而直接或間接地產生酸之化合物則不特別限定。酸產生劑(F)方面，以如下說明之第一～第五態樣之酸產生劑為佳。以下關於感光性樹脂組成物可含有的酸產生劑(F)中適宜者，以第一～第五態樣說明。 [0206] 〔第一態樣〕 酸產生劑(F)中之第一態樣方面，可舉例如下述式(f1)所表示之化合物。[0207] 上述式(f1)中，Xf1
為原子價g的硫原子或碘原子，g為1或2。h為括弧內構造之重複單位數。Rf1
為Xf1
所鍵結的有機基，為碳原子數6～30的芳基、碳原子數4～30的雜環基、碳原子數1～30的烷基、碳原子數2～30的烯基或碳原子數2～30的炔基，Rf1
可被烷基、羥基、烷氧基、烷基羰基、芳基羰基、烷氧基羰基、芳基氧基羰基、芳基硫基羰基、醯氧基、芳基硫基、烷基硫基、芳基、雜環、芳基氧基、烷基亞磺醯基、芳基亞磺醯基、烷基磺醯基、芳基磺醯基、伸烷基氧基、胺基、氰基、硝基的各基、及鹵素所構成的群所選出的至少1種取代。Rf1
的個數為g+h(g-1)+1，且Rf1
可互為相同亦可相異。又，2個以上之Rf1
彼此直接或透過-O-、-S-、-SO-、-SO2
-、-NH-、-NRf2
-、-CO-、-COO-、-CONH-、碳原子數1～3的伸烷基或者伸苯基鍵結，亦可形成包含Xf1
之環構造。Rf2
為碳原子數1～5的烷基或碳原子數6～10的芳基。 [0208] Xf2
為下述式(f2)所表示之構造。[0209] 上述式(f2)中，Xf4
為碳原子數1～8的伸烷基、碳原子數6～20的伸芳基或碳原子數8～20的雜環化合物的2價基，Xf4
可被碳原子數1～8的烷基、碳原子數1～8的烷氧基、碳原子數6～10的芳基、羥基、氰基、硝基的各基、及鹵素所構成的群所選出的至少1種取代。Xf5
為 -O-、-S-、-SO-、-SO2
-、-NH-、-NRf2
-、-CO-、-COO-、 -CONH-、碳原子數1～3的伸烷基或伸苯基。h為括弧內構造之重複單位數。h+1個的Xf4
及h個的Xf5
，各自可相同亦可為相異。Rf2
同前述定義。 [0210] Xf3-
為鎓的抗衡離子，可舉例如下述式(f17)所表示之氟化烷基氟磷酸陰離子或下述式(f18)所表示之硼酸鹽陰離子。[0211] 上述式(f17)中，Rf3
為氫原子的80%以上被氟原子取代的烷基。j為其個數，為1～5的整數。j個的Rf3
，各自可相同亦可為相異。[0212] 上述式(f18)中，Rf4
～Rf7
各自獨立，為氟原子或苯基，該苯基的氫原子的一部份或全部，可被氟原子及三氟甲基所構成的群所選出的至少1種取代。 [0213] 上述式(f1)所表示之化合物中的鎓離子方面，可舉例如三苯基鋶、三-p-甲苯基鋶、4-(苯基硫基)苯基二苯基鋶、雙[4-(二苯基二氫硫基)苯基]硫化物、雙〔4-{雙[4-(2-羥基乙氧基)苯基]二氫硫基}苯基〕硫化物、雙{4-[雙(4-氟苯基)二氫硫基]苯基}硫化物、4-(4-苯甲醯基-2-氯苯基硫基)苯基雙(4-氟苯基)鋶、7-異丙基-9-側氧基-10-硫雜-9,10-二氫蒽-2-基二-p-甲苯基鋶、7-異丙基-9-側氧基-10-硫雜-9,10-二氫蒽-2-基二苯基鋶、2-[(二苯基)二氫硫基]噻噸酮、4-[4-(4-tert-丁基苯甲醯基)苯基硫基]苯基二-p-甲苯基鋶、4-(4-苯甲醯基苯基硫基)苯基二苯基鋶、二苯基苯乙酮鋶、4-羥基苯基甲基苄基鋶、2-萘基甲基(1-乙氧基羰基)乙基鋶、4-羥基苯基甲基苯乙酮鋶、苯基[4-(4-聯苯基硫基)苯基]4-聯苯基鋶、苯基[4-(4-聯苯基硫基)苯基]3-聯苯基鋶、[4-(4-乙醯苯硫基)苯基]二苯基鋶、十八基甲基苯乙酮鋶、二苯基碘鎓、二-p-甲苯基碘鎓、雙(4-十二基苯基)碘鎓、雙(4-甲氧基苯基)碘鎓、(4-辛基氧基苯基)苯基碘鎓、雙(4-癸基氧基)苯基碘鎓、4-(2-羥基十四基氧基)苯基苯基碘鎓、4-異丙基苯基(p-甲苯基)碘鎓或4-異丁基苯基(p-甲苯基)碘鎓等。 [0214] 上述式(f1)所表示之化合物中的鎓離子中，較佳鎓離子方面，可舉例如下述式(f19)所表示之鋶離子。[0215] 上述式(f19)中，Rf8
，各自獨立，為氫原子、烷基、羥基、烷氧基、烷基羰基、烷基羰基氧基、烷基氧基羰基、鹵素原子、可具有取代基的芳基、芳基羰基、所構成的群所選出的基。Xf2
與上述式(f1)中的Xf2
同義。 [0216] 上述式(f19)所表示之鋶離子的具體例，可舉例如4-(苯基硫基)苯基二苯基鋶、4-(4-苯甲醯基-2-氯苯基硫基)苯基雙(4-氟苯基)鋶、4-(4-苯甲醯基苯基硫基)苯基二苯基鋶、苯基[4-(4-聯苯基硫基)苯基]4-聯苯基鋶、苯基[4-(4-聯苯基硫基)苯基]3-聯苯基鋶、[4-(4-乙醯苯硫基)苯基]二苯基鋶、二苯基[4-(p-聯三苯硫基)苯基]二苯基鋶。 [0217] 上述式(f17)所表示之氟化烷基氟磷酸陰離子中，Rf3
為被氟原子取代的烷基，較佳碳原子數為1～8，再佳碳原子數為1～4。烷基的具體例，可舉例如甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、辛基等之直鏈烷基；異丙基、異丁基、sec-丁基、tert-丁基等之分枝烷基；進而環丙基、環丁基、環戊基、環己基等之環烷基等，烷基的氫原子被氟原子取代的比例，通常為80%以上、較佳為90%以上、更佳為100%。氟原子的取代率未達80%時，上述式(f1)所表示之鎓氟化烷基氟磷酸鹽的酸強度降低。 [0218] 尤佳之Rf3
為碳原子數1～4、且氟原子的取代率為100%之直鏈狀或分枝狀的全氟烷基，具體例，可舉例如CF3
、CF3
CF2
、(CF3
)2
CF、CF3
CF2
CF2
、CF3
CF2
CF2
CF2
、(CF3
)2
CFCF2
、CF3
CF2
(CF3
)CF、(CF3
)3
C。Rf3
的個數j為1～5的整數，較佳為2～4、特佳為2或3。 [0219] 較佳氟化烷基氟磷酸陰離子的具體例，可舉例如[(CF3
CF2
)2
PF4
]-
、[(CF3
CF2
)3
PF3
]-
、[((CF3
)2
CF)2
PF4
]-
、[((CF3
)2
CF)3
PF3
]-
、[(CF3
CF2
CF2
)2
PF4
]-
、[(CF3
CF2
CF2
)3
PF3
]-
、[((CF3
)2
CFCF2
)2
PF4
]-
、[((CF3
)2
CFCF2
)3
PF3
]-
、[(CF3
CF2
CF2
CF2
)2
PF4
]-
或[(CF3
CF2
CF2
)3
PF3
]-
，此等中，以[(CF3
CF2
)3
PF3
]-
、[(CF3
CF2
CF2
)3
PF3
]-
、[((CF3
)2
CF)3
PF3
]-
、[((CF3
)2
CF)2
PF4
]-
、[((CF3
)2
CFCF2
)3
PF3
]-
或[((CF3
)2
CFCF2
)2
PF4
]-
特別佳。 [0220] 上述式(f18)所表示之硼酸鹽陰離子的較佳具體例，可舉例如肆(五氟苯基)硼酸鹽([B(C6
F5
)4
]-
)、肆[(三氟甲基)苯基]硼酸鹽([B(C6
H4
CF3
)4
]-
)、二氟雙(五氟苯基)硼酸鹽([(C6
F5
)2
BF2
]-
)、三氟(五氟苯基)硼酸鹽([(C6
F5
)BF3
]-
)、肆(二氟苯基)硼酸鹽([B(C6
H3
F2
)4
]-
)等。此等之中，以肆(五氟苯基)硼酸鹽([B(C6
F5
)4
]-
)特別佳。 [0221] 〔第二態樣〕 酸產生劑(F)中之第二態樣方面，可舉例如2,4-雙(三氯甲基)-6-胡椒基-1,3,5-三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-[2-(2-呋喃基)乙烯基]-s-三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-[2-(5-甲基-2-呋喃基)乙烯基]-s-三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-[2-(5-乙基-2-呋喃基)乙烯基]-s-三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-[2-(5-丙基-2-呋喃基)乙烯基]-s-三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-[2-(3,5-二甲氧基苯基)乙烯基]-s-三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-[2-(3,5-二乙氧基苯基)乙烯基]-s-三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-[2-(3,5-二丙氧基苯基)乙烯基]-s-三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-[2-(3-甲氧基-5-乙氧基苯基)乙烯基]-s-三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-[2-(3-甲氧基-5-丙氧基苯基)乙烯基]-s-三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-[2-(3,4-亞甲基二氧基苯基)乙烯基]-s-三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-(3,4-亞甲基二氧基苯基)-s-三嗪、2,4-雙-三氯甲基-6-(3-溴-4-甲氧基)苯基-s-三嗪、2,4-雙-三氯甲基-6-(2-溴-4-甲氧基)苯基-s-三嗪、2,4-雙-三氯甲基-6-(2-溴-4-甲氧基)苯乙烯基苯基-s-三嗪、2,4-雙-三氯甲基-6-(3-溴-4-甲氧基)苯乙烯基苯基-s-三嗪、2-(4-甲氧基苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三嗪、2-(4-甲氧基萘基)-4,6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三嗪、2-[2-(2-呋喃基)乙烯基]-4,6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三嗪、2-[2-(5-甲基-2-呋喃基)乙烯基]-4,6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三嗪、2-[2-(3,5-二甲氧基苯基)乙烯基]-4,6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三嗪、2-[2-(3,4-二甲氧基苯基)乙烯基]-4,6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三嗪、2-(3,4-亞甲基二氧基苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-1,3,5-三嗪、參(1,3-二溴丙基)-1,3,5-三嗪、參(2,3-二溴丙基)-1,3,5-三嗪等之含鹵素之三嗪化合物、以及參(2,3-二溴丙基)異氰脲酸酯等之下述式(f3)所表示之含鹵素之三嗪化合物。 [0222][0223] 上述式(f3)中，Rf9
、Rf10
、Rf11
各自獨立，為烷基鹵化物。 [0224] 〔第三態樣〕 酸產生劑(F)中之第三態樣方面，可舉例如α-(p-甲苯磺醯基氧基亞胺基)-苯基乙腈、α-(苯磺醯基氧基亞胺基)-2,4-二氯苯基乙腈、α-(苯磺醯基氧基亞胺基)-2,6-二氯苯基乙腈、α-(2-氯苯磺醯基氧基亞胺基)-4-甲氧基苯基乙腈、α-(乙基磺醯基氧基亞胺基)-1-環戊烯乙腈、以及含有肟磺酸酯基之下述式(f4)所表示之化合物。 [0225][0226] 上述式(f4)中，Rf12
為1價、2價或3價有機基，Rf13
為取代或者未取代的飽和烴基、不飽和烴基或芳香族性化合物基，n為括弧內構造之重複單位數。 [0227] 上述式(f4)中，芳香族性化合物基係指呈現芳香族化合物所特有之物理性･化學性性質的化合物的基，例如苯基、萘基等之芳基或呋喃基、噻吩基等之雜芳基。此等可於環上具有1個以上適當的取代基，例如鹵素原子、烷基、烷氧基、硝基等。又，Rf13
以碳原子數1～6的烷基特佳，可舉例如甲基、乙基、丙基、丁基。尤其，以Rf12
為芳香族性化合物基，且Rf13
為碳原子數1～4的烷基之化合物為佳。 [0228] 上述式(f4)所表示之酸產生劑方面，在n=1時，為Rf12
為苯基、甲基苯基、甲氧基苯基之任一，且Rf13
為甲基的化合物，具體上，可舉例如α-(甲基磺醯基氧基亞胺基)-1-苯基乙腈、α-(甲基磺醯基氧基亞胺基)-1-(p-甲基苯基)乙腈、α-(甲基磺醯基氧基亞胺基)-1-(p-甲氧基苯基)乙腈、〔2-(丙基磺醯基氧基亞胺基)-2,3-二羥基噻吩-3-叉〕(o-甲苯基)乙腈等。n=2時，上述式(f4)所表示之酸產生劑方面，具體上，可舉例如下述式所表示之酸產生劑。 [0229][0230] 〔第四態樣〕 酸產生劑(F)中之第四態樣方面，可舉例如陽離子部具有萘環的鎓鹽。該「具有萘環」係指具有來自萘的構造，維持至少2個環的構造與彼等之芳香族性之意義。該萘環可具有碳原子數1～6之直鏈狀或分枝狀的烷基、羥基、碳原子數1～6之直鏈狀或分枝狀的烷氧基等之取代基。來自萘環的構造可為1價基(游離原子價為1個)，亦可為2價基(游離原子價為2個)以上，但以1價基為佳(但，此時，為除去與上述取代基鍵結部分來計算游離原子價者)。萘環的數以1～3為佳。 [0231] 如此之陽離子部具有萘環的鎓鹽的陽離子部方面，以下述式(f5)所表示之構造為佳。[0232] 上述式(f5)中，Rf14
、Rf15
、Rf16
中至少1個為下述式(f6)所表示之基，其餘為碳原子數1～6之直鏈狀或者分枝狀的烷基、可具有取代基的苯基、羥基或碳原子數1～6之直鏈狀或者分枝狀的烷氧基。或者Rf14
、Rf15
、Rf16
中的1個為下述式(f6)所表示之基，其餘的2個各自獨立，為碳原子數1～6之直鏈狀或分枝狀的伸烷基，且此等之末端可鍵結形成環狀。 [0233][0234] 上述式(f6)中，Rf17
、Rf18
各自獨立，為羥基、碳原子數1～6之直鏈狀或者分枝狀的烷氧基或碳原子數1～6之直鏈狀或者分枝狀的烷基，Rf19
為單鍵或可具有取代基的碳原子數1～6之直鏈狀或者分枝狀的伸烷基。l及m各自獨立，為0～2的整數，l+m為3以下。但，Rf17
複數存在時，彼等可互為相同亦可相異。又，Rf18
複數存在時，彼等可互為相同亦可相異。 [0235] 上述Rf14
、Rf15
、Rf16
中上述式(f6)所表示之基的數，由化合物的安定性觀點來看，較佳為1個，其餘為碳原子數1～6之直鏈狀或分枝狀的伸烷基，且此等之末端可鍵結形成環狀。該場合，上述2個伸烷基包含硫原子而構成3～9員環。構成環的原子(包含硫原子)的數，較佳為5～6。 [0236] 又，上述伸烷基可具有的取代基方面，可舉例如氧原子(該場合，與構成伸烷基之碳原子一起形成羰基)、羥基等。 [0237] 又，苯基可具有的取代基方面，可舉例如羥基、碳原子數1～6之直鏈狀或分枝狀的烷氧基、碳原子數1～6之直鏈狀或分枝狀的烷基等。 [0238] 作為此等之陽離子部適宜者方面，可舉例如下述式(f7)、(f8)所表示者等，尤以下述式(f8)所表示之構造為佳。[0239] 如此之陽離子部方面，可為碘鎓鹽亦可為鋶鹽，但由酸產生效率等之觀點來看以鋶鹽為佳。 [0240] 因此，作為陽離子部具有萘環的鎓鹽的陰離子部，適宜者方面，以可形成鋶鹽的陰離子為佳。 [0241] 如此之酸產生劑的陰離子部方面，為氫原子的一部份或全部被氟化的氟烷基磺酸離子或芳基磺酸離子。 [0242] 氟烷基磺酸離子中之烷基可為碳原子數1～20之直鏈狀或分枝狀或環狀，由產生之酸的體積與其擴散距離來看，以碳原子數1～10為佳。尤其，分枝狀或環狀者因擴散距離短，故較佳。又，由可便宜地合成之觀點來看，較佳可舉例如甲基、乙基、丙基、丁基、辛基等。 [0243] 芳基磺酸離子中之芳基為碳原子數6～20的芳基，且可舉例如可被或未被烷基、鹵素原子取代的苯基、萘基。尤其，由可便宜地合成之觀點來看，以碳原子數6～10的芳基為佳。較佳者的具體例，可舉例如苯基、甲苯磺醯基、乙基苯基、萘基、甲基萘基等。 [0244] 上述氟烷基磺酸離子或芳基磺酸離子中，氫原子的一部份或全部被氟化時的氟化率，較佳為10～100%、更佳為50～100%，尤其氫原子全部被氟原子取代者因為酸強度變強，故較佳。如此者方面，具體上，可舉例如三氟甲磺酸酯、全氟丁烷磺酸酯、全氟辛烷磺酸酯、全氟苯磺酸酯等。 [0245] 此等之中，較佳陰離子部，可舉例如下述式(f9)所表示者。[0246] 上述式(f9)中，Rf20
為下述式(f10)、(f11)、及(f12)所表示之基。[0247] 上述式(f10)中，x為1～4的整數。又，上述式(f11)中，Rf21
為氫原子、羥基、碳原子數1～6之直鏈狀或者分枝狀的烷基或碳原子數1～6之直鏈狀或者分枝狀的烷氧基，y為1～3的整數。此等之中，由安全性觀點來看，以三氟甲磺酸酯、全氟丁烷磺酸酯為佳。 [0248] 又，陰離子部方面，亦可使用含有下述式(f13)、(f14)所表示之氮者。[0249] 上述式(f13)、(f14)中，Xf
為至少1個的氫原子被氟原子取代的直鏈狀或分枝狀的伸烷基，該伸烷基的碳原子數為2～6，較佳為3～5、最佳為碳原子數3。又，Yf
、Zf
各自獨立，為至少1個的氫原子被氟原子取代的直鏈狀或分枝狀的烷基，該烷基的碳原子數為1～10、較佳為1～7、更佳為1～3。 [0250] Xf
的伸烷基的碳原子數或Yf
、Zf
的烷基的碳原子數愈小，對有機溶劑之溶解性亦愈良好，故較佳。 [0251] 又，Xf
的伸烷基或Yf
、Zf
的烷基中，被氟原子取代的氫原子的數愈多，酸強度愈變強，故較佳。該伸烷基或烷基中的氟原子的比例，即氟化率較佳為70～100%、更佳為90～100%、最佳為全部的氫原子被氟原子取代的全氟伸烷基或全氟烷基。 [0252] 作為如此之陽離子部具有萘環的鎓鹽較佳者方面，可舉例如下述式(f15)、(f16)所表示之化合物。[0253] 〔第五態樣〕 酸產生劑(F)中之第五態樣方面，可舉例如雙(p-甲苯磺醯基)重氮基甲烷、雙(1,1-二甲基乙基磺醯基)重氮基甲烷、雙(環己基磺醯基)重氮基甲烷、雙(2,4-二甲基苯基磺醯基)重氮基甲烷等之雙磺醯基重氮基甲烷類；p-甲苯磺酸2-硝基苄基酯、p-甲苯磺酸2,6-二硝基苄基酯、硝基苄基對甲苯磺酸酯、二硝基苄基對甲苯磺酸酯、硝基苄基磺酸酯、硝基苄基碳酸酯、二硝基苄基碳酸酯等之硝基苄基酯衍生物；焦棓酚三磺酸酯、焦棓酚三對甲苯磺酸酯、苄基對甲苯磺酸酯、苄基磺酸酯、N-甲基磺醯基氧基琥珀醯亞胺、N-三氯甲基磺醯基氧基琥珀醯亞胺、N-苯基磺醯基氧基馬來醯亞胺、N-甲基磺醯基氧基鄰苯二甲醯亞胺等之磺酸酯類；N-羥基鄰苯二甲醯亞胺、N-羥基萘二甲醯亞胺等之三氟甲磺酸酯類；二苯基碘鎓六氟磷酸鹽、(4-甲氧基苯基)苯基碘鎓三氟甲烷磺酸酯、雙(p-tert-丁基苯基)碘鎓三氟甲烷磺酸酯、三苯基鋶六氟磷酸鹽、(4-甲氧基苯基)二苯基鋶三氟甲烷磺酸酯、(p-tert-丁基苯基)二苯基鋶三氟甲烷磺酸酯等之鎓鹽類；安息香對甲苯磺酸酯、α-甲基安息香對甲苯磺酸酯等之安息香對甲苯磺酸酯類；其他二苯基碘鎓鹽、三苯基鋶鹽、苯基重氮鎓鹽、苄基碳酸酯等。 [0254] 感光性樹脂組成物含有酸產生劑(F)時，感光性樹脂組成物中之酸產生劑(F)的使用量在不阻礙本發明之目的範圍，不特別限定。感光性樹脂組成物中之酸產生劑(F)之含量，相對於除去後述之有機溶劑(S)之質量的感光性樹脂組成物的質量，以5質量%以下為佳、0.01～3質量%更佳、0.1～1質量%特別佳。 [0255] ＜有機溶劑(S)＞ 感光性樹脂組成物為了塗佈性之改善或黏度調整，以含有有機溶劑(S)為佳。 [0256] 有機溶劑(S)方面，具體上，可舉例如甲醇、乙醇、n-丙醇、異丙醇、n-丁醇等之烷烴單醇；乙二醇單甲基醚、乙二醇單乙基醚、乙二醇單-n-丙基醚、乙二醇單-n-丁基醚、二乙二醇單甲基醚、二乙二醇單乙基醚、二乙二醇單-n-丙基醚、二乙二醇單-n-丁基醚、三乙二醇單甲基醚、三乙二醇單乙基醚、丙二醇單甲基醚、丙二醇單乙基醚、丙二醇單-n-丙基醚、丙二醇單-n-丁基醚、3-甲氧基-n-丁醇、二丙二醇單甲基醚、二丙二醇單乙基醚、二丙二醇單-n-丙基醚、二丙二醇單-n-丁基醚、三丙二醇單甲基醚、三丙二醇單乙基醚等之(聚)烷二醇單烷基醚類；乙二醇單甲基醚乙酸酯、乙二醇單乙基醚乙酸酯、二乙二醇單甲基醚乙酸酯、二乙二醇單乙基醚乙酸酯、丙二醇單甲基醚乙酸酯(PGMEA)、丙二醇單乙基醚乙酸酯等之(聚)烷二醇單烷基醚乙酸酯類；二乙二醇二甲基醚、二乙二醇甲基乙基醚、二乙二醇二乙基醚、四氫呋喃等之其他醚類；甲基乙基酮、環己酮、2-庚酮、3-庚酮等之酮類；2-羥基丙酸甲基酯、2-羥基丙酸乙基酯等之乳酸烷基酯類；2-羥基-2-甲基丙酸乙基酯、3-甲氧基丙酸甲基酯、3-甲氧基丙酸乙基酯、3-乙氧基丙酸甲基酯、3-乙氧基丙酸乙基酯、乙氧基乙酸乙基酯、羥基乙酸乙基酯、2-羥基-3-甲基丁烷酸甲基酯、3-甲氧基丁基乙酸酯、3-甲基-3-甲氧基丁基乙酸酯、3-甲基-3-甲氧基丁基丙酸酯、乙酸乙基酯、乙酸n-丙基酯、乙酸i-丙基酯、乙酸n-丁基酯、乙酸i-丁基酯、蟻酸n-戊基酯、乙酸i-戊基酯、乙酸苄基酯、丙酸n-丁基酯、酪酸乙基酯、酪酸n-丙基酯、酪酸i-丙基酯、酪酸n-丁基酯、丙酮酸甲基酯、丙酮酸乙基酯、丙酮酸n-丙基酯、乙醯乙酸甲酯、乙醯乙酸乙酯、2-側氧基丁烷酸乙基酯等之其他酯類；甲苯、二甲苯等之芳香族烴類；N-甲基-2-吡咯烷酮、N,N-二甲基甲醯胺、N,N-二甲基乙醯胺、N,N-二甲基異丁基醯胺、N,N-二乙基乙醯胺、N,N-二乙基甲醯胺、N-甲基己內醯胺、1,3-二甲基-2-咪唑啉酮、吡啶、及N,N,N’,N’-四甲基脲等含氮極性有機溶劑；等。 [0257] 此等之中，以烷烴單醇、烷二醇單烷基醚類、烷二醇單烷基醚乙酸酯類、上述之其他醚類、乳酸烷基酯類、上述之其他酯類為佳、烷二醇單烷基醚乙酸酯類、上述之其他醚類、乙酸苄基酯等之上述之其他酯類更佳。 又，在各成分之溶解性等之點，有機溶劑(S)含有含氮極性有機溶劑亦佳。含氮極性有機溶劑方面，可使用N,N,N’,N’-四甲基脲等。 此等之溶劑可單獨或2種以上組合使用。 [0258] 有機溶劑(S)之含量不特別限制，以可塗佈於基板等之濃度，因應塗佈膜厚適宜設定。有機溶劑(S)，例如感光性樹脂組成物的黏度以1～500cp為佳、1～50cp較佳、1～30cp再更佳。又，固形分濃度以1～50質量%為佳、1～20質量%更佳。 [0259] ＜其他成分＞ 感光性樹脂組成物中，因應必要，可含有界面活性劑、密著性提升劑、熱聚合抑制劑、消泡劑、著色劑、矽烷偶合劑等之添加劑。任一添加劑皆可使用以往已知者。 [0260] 感光性樹脂組成物為了形成透明的硬化膜，以透明為佳，但亦可經著色。因此，感光性樹脂組成物在不阻礙本發明之目的範圍，可含有顏料、染料等之著色劑。著色劑的色相不特別限制，因應使用感光性樹脂組成物所形成的硬化膜之用途而適宜選擇。 [0261] 進一步，感光性樹脂組成物，由容易形成形狀良好，且對基板之密著性優異的硬化膜之觀點來看，以含有矽烷偶合劑者為佳。矽烷偶合劑方面，可無特別限制使用以往已知者。 [0262] 界面活性劑方面，可舉例如陰離子系、陽離子系、非離子系等之化合物，熱聚合抑制劑方面，可舉例如氫基醌、氫醌單乙基醚等，消泡劑方面，可舉例如矽酮系、氟系化合物等。 [0263] ＜感光性樹脂組成物的調製方法＞ 以上說明的感光性樹脂組成物可藉由將上述各成分以各自指定量混合後，以攪拌機進行均勻混合而得到。又，為了使得到的混合物成為更均勻者，可使用過濾器進行過濾。 [0264] ≪硬化膜之製造方法≫ 硬化膜之製造方法方面，無特別限定而可採用使用含有(B)光聚合性化合物的感光性樹脂組成物的以往已知的硬化膜之製造方法。 [0265] 硬化膜的較佳製造方法方面，可舉例如包含 形成前述感光性樹脂組成物的塗佈膜、 使塗佈膜因應指定圖型進行位置選擇性地曝光、 使經曝光的塗佈膜顯影之方法。 [0266] 為了使用感光性樹脂組成物，形成硬化膜，首先將感光性樹脂組成物塗佈於因應硬化膜之用途而選擇的基板上，形成塗佈膜。 基板方面，在形成圖像傳感器時，可使用例如在矽等之半導體層上具備RGB的著色膜，在該著色膜上具備微透鏡之基板。 [0267] 塗佈膜之形成方法雖不特別限制，可使用例如輥式塗佈機、逆式塗佈機、棒塗佈機等之接觸轉印型塗佈裝置或旋塗機(旋轉式塗佈裝置)、淋幕式塗佈機等之非接觸型塗佈裝置進行。 [0268] 塗佈的感光性樹脂組成物，因應必要使其乾燥，構成塗佈膜。乾燥方法不特別限制，可舉例如(1)以加熱板在80～120℃、較佳為90～100℃的溫度，進行60～120秒鐘乾燥之方法、(2)在室溫放置數小時～數日之方法、(3)置入溫風加熱器或紅外線加熱器中數十分鐘～數小時，將溶劑除去之方法等。 [0269] 接著對塗佈膜進行曝光。曝光係照射紫外線、準分子雷射光等之活性能量線來進行。曝光，例如藉由透過負型之遮罩，進行曝光之方法等，位置選擇性地進行。 [0270] 將塗佈膜位置選擇性地曝光後，藉由將曝光後的膜以顯影液進行顯影，未曝光部溶於顯影液而被除去，形成經圖型化的硬化膜。顯影方法不特別限制，可使用例如浸漬法、噴霧法等。顯影液係因應感光性樹脂組成物的組成而適宜選擇。顯影液方面，可使用例如氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉、氨、4級銨鹽等之鹼性的水溶液。 [0271] 接著，亦可對經圖型化的硬化膜進行烘烤(曝光後烘烤)。烘烤溫度雖不特別限制，以180～250℃為佳、220～230℃更佳。烘烤時間典型上為10～90分鐘、以20～60分鐘為佳。 如以上般藉由進行烘烤，可得到感光性樹脂組成物的硬化膜。 [0272] 如此而形成的硬化膜，例如可宜用作為低折射率膜。硬化膜用作為低折射率膜時，硬化膜之折射率(波長633nm、測定溫度25℃)以1.35以下為佳、1.23～1.34更佳、1.25～1.33特別佳。 上述低折射率膜，例如可宜用在於圖像傳感器等之光學裝置中。圖像傳感器中，將上述低折射率膜用作為被覆RGB的著色膜上所形成的微透鏡之被覆層，則藉由改善入射至微透鏡之光的反射，抑制圖像傳感器中之眩光的產生。[Problems to be Solved by the Invention] [0005] However, in the coating of microlenses in image sensors, it is necessary to form a cured film as a low-refractive-index film with the correct size at a specified position, and the photosensitive material described in Patent Document 1 is used. In the case of the composition, residues are likely to be generated near the pattern after development, and as a result, the apparent size of the pattern of the cured film may be larger than the desired size. [0006] The present invention was made in view of the above-mentioned problems to provide a photosensitive resin composition for pattern formation that can easily form a pattern with a desired size and a good shape under a wide range of exposure doses and does not generate residues. Curing of the cured film and low-refractive index film formed by curing the photosensitive resin composition for pattern formation, the optical device provided with the cured film or the low refractive index, and the curing of the aforementioned photosensitive resin composition for pattern formation It is the purpose of the manufacturing method of film or low-refractive index film. [0007] The inventors found that the photosensitive resin composition for pattern formation containing resin (A), photopolymerizable compound (B), and polymerization initiator (C) has a molecular weight of 230 to 1500 blended. The hindered phenol compound of as a polymerization inhibitor (D) can solve the above-mentioned problems and complete the present invention. Specifically, the present invention provides the following. [0008] The first aspect of the present invention contains a resin (A), a photopolymerizable compound (B), a polymerization initiator (C), and a polymerization inhibitor (D), and the polymerization inhibitor (D) has a molecular weight of 230 ~1500 photosensitive resin composition for pattern formation of hindered phenol compounds. [0009] The second aspect of the present invention is a cured film formed by curing the photosensitive resin composition for pattern formation of the first aspect. [0010] The third aspect of the present invention is a low refractive index film formed by curing the photosensitive resin composition for pattern formation of the first aspect used for forming a low refractive index film. [0011] The fourth aspect of the present invention is an optical device provided with the cured film of the second aspect or the low refractive index film of the third aspect. [0012] The fifth aspect of the present invention includes: forming a coating film of the photosensitive resin composition for pattern formation of the first aspect, subjecting the coating film to position-selective exposure in response to a specified pattern, and subjecting the coating film to A method of forming a patterned cured film or a low-refractive-index film by developing the exposed coating film. [Effects of the Invention] [0013] According to the present invention, it is possible to provide a photosensitive resin composition for pattern formation that is easy to form a pattern with a desired size and a good shape without residue generation under a wide range of exposure doses. A cured film and a low-refractive index film formed by curing a photosensitive resin composition for pattern formation, an optical device provided with the cured film or the low refractive index, and a cured film using the photosensitive resin composition for pattern formation, or Manufacturing method of low refractive index film. [Best Mode for Carrying Out the Invention] [0014] Hereinafter, the present invention will be described based on a suitable embodiment. In addition, the "-" in the specification of the present invention means from above (lower limit) to below (upper limit), unless it is particularly limited. In the specification of the present invention, only the case described as "photosensitive resin composition", unless otherwise specified, means "photosensitive composition for pattern formation". In the specification of the present invention, "(meth)acrylate" includes both acrylate and methacrylate. In the specification of the present invention, the "(meth)acrylic group" includes both an acrylic group and a methacrylic group. In the specification of the present invention, the "(meth)acryloyl group" includes both an acryloyl group and a methacryloyl group. [0015] ≪Photosensitive resin composition for pattern formation≫ The photosensitive resin composition for pattern formation contains a resin (A), a photopolymerizable compound (B), a polymerization initiator (C), and a polymerization inhibitor ( D). In addition, the polymerization inhibitor (D) contains a hindered phenol compound having a molecular weight of 230 to 1500. The essential or optional components contained in the photosensitive resin composition for pattern formation are explained below. [0016] <Resin (A)> The photosensitive resin composition for pattern formation contains resin (A). The resin (A) is a component that imparts film forming properties to the photosensitive resin composition for pattern formation that can form a coating film and a patterned film. As resin (A), it is not specifically limited if it is resin blended in the photosensitive resin composition for pattern formation conventionally. As the resin (A), a patterned cured film having a good shape can be easily formed, and an alkali-soluble resin is preferred. The photosensitive resin composition containing an alkali-soluble resin is soluble in an alkali developer, and the photosensitive resin composition exposed to light hardens. Therefore, when a coating film of a photosensitive resin composition that has been selectively exposed to a position is developed using an alkali developer, only the unexposed part is dissolved in the alkali developer and the exposed part hardened remains, forming a patterned hardening membrane. [0017] Alkali-soluble resin refers to a resin solution with a resin concentration of 20% by mass (solvent: propylene glycol monomethyl ether acetate), a resin film with a thickness of 1 μm is formed on a substrate, and a tetramethyl group with a concentration of 0.05% by mass is used. When immersed in an aqueous solution of ammonium hydroxide (TMAH) for 1 minute, a film thickness of 0.01 μm or more dissolved. [0018] A preferable example of the alkali-soluble resin includes, for example, a resin (A1) having a Cardo structure. By using a photosensitive resin composition containing a resin (A1) having a Cardo structure as an alkali-soluble resin, it is easy to form an excellent cured film with a balance of heat resistance, mechanical properties, solvent resistance, and chemical resistance. [0019] The resin (A1) having a Cardo structure is not particularly limited, and conventionally known resins can be used. Among them, the resin represented by the following formula (a-1) is preferred. [0020] 
