TWI736569B - 快速霍爾效應量測系統 - Google Patents
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Abstract
一種用於量測一材料中之霍爾效應之方法及系統包含在兩個測試狀態中量測一電壓,各狀態交替改變相對於各狀態中之一磁場的跨該材料而施加之一電流或跨該材料所量測之電壓之方向及定向。根據一實施例,各狀態處之量測頻率不同。
Description
本發明大體上係關於一種用於量測材料性質之方法,且更特定言之係關於一種用於量測霍爾效應電壓之方法。
當施加垂直於流動於一有限大小半導材料中之一電流的一磁場時,電流及磁場之組合產生一羅倫茲(Lorentz)力於半導材料內之載流子上。此力推動載流子至在磁場線周圍之圓形路徑中。載流子被約束於材料中,其產生垂直於電流及磁場兩者之一電場。由此電場產生之電壓被稱作霍爾效應電壓或霍爾電壓。 當來自橫向電場之力準確地抵消羅倫茲力時達到一平穩狀態條件。據此,在此狀態中,霍爾電壓係與磁場及電流成比例,且相反地取決於材料之厚度。比例常數被稱作霍爾係數。霍爾係數及材料之電阻率可與材料性質載流子密度及載流子遷移率有關。霍爾電壓之符號係相同於載流子之電荷之符號且因此提供載流子類型之一判定(電洞或電子)。 在一理想幾何形狀中,所量測霍爾電壓當所施加磁場係零時為零。然而,在一實際實驗中所量測之電壓通常不為零,且包含一未對準電壓及一熱電壓。未對準電壓係與材料之電阻率、電流及取決於幾何形狀之一因數成比例。此因數將電阻率轉換成兩個霍爾電壓極性之間的電阻。熱電壓自兩個不同材料之間的接觸產生且係取決於所呈現之熱梯度。 一種用於量測霍爾效應之方法涉及一DC磁場至材料件之施加。在此方法中,熱電壓之效應可藉由改變跨材料所施加之電流之方向及針對兩個電流方向量測電壓而經移除。熱電壓不取決於電流。因此,熱電壓之效應藉由在兩個不同電流處減去所量測電壓而經移除。 類似地,使用一DC磁場,未對準電壓可藉由改變磁場之方向及針對兩個場方向量測電壓而經移除。未對準電壓不取決於磁場。因此,未對準電壓之效應藉由在兩個不同電流處減去所量測電壓而經移除。 儘管DC場方法可針對高遷移率材料係有利的,但其針對低遷移率材料(即,具小於1 cm2
/Vs之一遷移率之材料)通常無法提供準確量測。在低遷移率材料中,在各場方向處之電壓量測之間的差相較於未對準電壓變得更小。因此,系統中之雜訊可主導量測且產生不準確結果。據此,對低遷移率材料使用DC場方法之霍爾量測通常給予不一致值及載流子符號。 為增加對低遷移率材料之量測之精確度,有時使用較大磁場,其逆轉可花較長一段時間(例如幾分鐘),取決於一磁鐵之結構設計。在花費時間逆轉DC場期間,所量測材料之溫度可改變。溫度之一改變將致使量測之間的未對準電壓中之一改變,當減去兩個量測時導致一不正確結果。 量測霍爾效應之另一方法使用一AC磁場。因為未對準電壓不取決於磁場,所以當霍爾電壓係一AC電壓時,未對準電壓將保持為一DC電壓。在此方法中仍使用一DC電流,意謂熱電壓亦保持一DC電壓。一鎖定放大器可接著用以容易地使AC電壓及DC電壓分離且因此未對準電壓與霍爾電壓分離。 AC場方法解決DC場方法中固有之一些問題。特定言之,頻率間隔中之電壓之分離允許較小電壓差之更容易偵測,例如當量測低遷移率載流子時。 然而,AC場方法遭遇一大缺點:在實際使用中,其可為緩慢的。速度係由磁場之頻率判定。針對真實磁鐵及電源供應,最高操作頻率可為近似0.1赫茲(每循環10秒),如藉由磁鐵之電感所判定。通常,一鎖定放大器針對輸出信號之最佳平均化使用6個輸入循環。因此,一單一霍爾電壓量測可花60秒。進一步言之,添加電流逆轉,其經需要以移除熱電壓及相位誤差,需要一總數6次的量測,使量測一霍爾電壓之時間為6分鐘。實際上,此霍爾量測重複10倍至100倍以獲得平均值及統計變動之一估計。總而言之,在此方法下,一單一材料之完整量測可花達10小時。 若一材料之載流子密度係大的,則霍爾電壓將為小的。為量測此等材料,增加電流將增加霍爾電壓。然而,當電流增加時,自熱可致使材料之溫度改變。明確言之,樣品及接觸將具有一些電阻且將在樣品中消耗功率。此功率將加熱樣品。未對準電壓係與材料之電阻率成比例。隨著樣品之溫度改變,電阻改變且因此未對準電壓改變。實際上,曾係一DC信號之一術語變成一時間相依信號,其將除霍爾電壓外由鎖定放大器偵測。緩慢改變之未對準電壓將看起來像量測中之雜訊。額外雜訊來自歸因於材料電阻之熱燥雜訊。對量測之此等兩個雜訊貢獻限制AC場霍爾方法用以量測小霍爾電壓之能力。 據此,需要一系統及方法來更加快速並準確地量測霍爾電壓,特定言之針對低遷移率材料。
本發明之實施例包括量測一材料之霍爾效應電壓之系統及方法。在一個實施例中,提供一第一測試狀態,其以一第一頻率交替改變一第一測試參數。提供一第二測試狀態,其以一第二頻率交替改變一第二測試參數。該第一測試參數係一測試激發、該測試激發之一位置、一磁場之一方向及該磁場之一位置之一者,且該第二測試參數係該測試激發、該測試激發之該位置、一磁場之該方向及該磁場之該位置之另一者。 根據另一實施例,一種用於量測一材料之該霍爾效應電壓之系統包含一磁鐵、測試激發機構、一電壓量測裝置及一控制件,該控制件經結構設計以提供以一第一頻率交替改變一第一測試參數之一第一測試狀態及以一第二頻率交替改變一第二測試參數之一第二測試狀態。該第一測試參數係一測試激發、該測試激發之一位置、一磁場之一方向及該磁場之一位置之一者,且該第二測試參數係該測試激發、該測試激發之該位置、一磁場之該方向或該磁場之該位置之另一者。 透過比較此等方法與如在本申請案之剩餘部分中參考圖式所述的本發明之一些實施例,熟習此項技術者將明白習知、傳統及所提議方法之進一步限制及缺點。
本申請案主張2016年1月15日針對FAST HALL EFFECT MEASUREMENT SYSTEM申請之美國專利申請案第14/996,719號之優先權及所有權利,該案之全部內容以引用的方式併入本文中。 圖1a至圖1h繪示用於偵測一例示性材料件100中之霍爾電壓之兩個例示性系統之若干狀態。一般而言,針對一給定材料件,當一電流I及磁場B係垂直地施加至該材料時,理論上來說,可垂直於由該電流及磁場產生之該平面量測取決於材料之霍爾因數RH
之一所得霍爾電壓VH
。參考軸101及103繪示在兩個不同結構設計中此等元件之間的物理關係。然而,如上文所描述,真實所量測電壓Vm
包含其他電壓組件。明確言之,一未對準電壓Vma
可基於電阻率ρ及材料件之幾何因數α產生(。進一步言之,該量測可包含一熱電壓Vte
。隨著此等組件的添加,所量測電壓應等於:圖1a至圖1d之例示性材料件100之形狀係實質上正方形,然如本文中更完整解釋,可使用其他形狀。材料件100包含四個接觸點102、104、106及108,配置於材料100之外邊緣周圍,產生兩對大體上相對接觸點。該材料件可為霍爾量測所期望之任何材料。一般而言,該材料之厚度可為任何大小,但針對實際量測,該厚度應小於2毫米。較小厚度將增加霍爾電壓,但亦將增加未對準電壓。一電流流動I 110在藉由箭頭指示之方向上運動。一磁場B (未展示,除在軸101中外)經引導垂直於材料件100之該表面區域。 圖1a繪示一第一量測狀態120。在狀態120中,電流I 110自接觸點106運動通過材料100至接觸點102。一第一電壓130跨接觸點104及108量測且可如下定義:圖1b繪示一第二量測狀態122。在狀態122中,相同電流I 110現在自接觸點108運動通過材料100至接觸點104且一第二電壓132跨接觸點106及102量測。翁薩格(Onsager)關係及H.H.樣品(樣品H. H.及Bruno, W. J.及樣品S. B.及Sichel, E. K.,Journal of Applied Physics, 61, 1079-1084 (1987))教導吾人電流流動I 110相對於磁場B之位置之改變致使針對之上文方程式改變,使得使用-B替換B。同樣地,因為電壓引線係在不同接觸點上,所以熱電壓將為不同的,導致以下方程式:圖1c繪示一第三量測狀態124。在狀態124中,相同電流I 110現在自接觸點102運動通過材料100至接觸點106且一第三電壓134跨接觸點104及108量測。電流流動I 110相對於第一狀態120之逆轉將致使電流I 110在該方程式中為負,但因為使用相同接觸點,所以熱電壓將為相同於狀態120中之。以下方程式定義狀態124:圖1d繪示一第四量測狀態126。在狀態126中,相同電流I 110現在自接觸點104運動通過材料100至接觸點108且一第四電壓136跨接觸點102及106量測。電流流動I 100相對於第二狀態122之逆轉將再次致使電流I 110在方程式中為負,但因為使用相同接觸點,所以熱電壓將相同於彼狀態中之。同樣地,如同狀態122,電流流動I 110相對於磁場B之位置之改變致使該方程式改變,使得使用-B替換B:針對材料件100之霍爾電壓可接著自上文方程式計算為,其將自該方程式移除未對準電壓及熱電壓。在狀態120、122、124及126之間切換僅要求切換針對電壓量測及電流流動之接觸點。因為場逆轉係不必要的,所以針對大磁鐵之極性逆轉之時間不再是一個問題。 一般技術者將瞭解,如在上文方程式中所見,一材料之霍爾係數及有關性質可藉由一電流之施加及一所得電壓之量測或藉由用以產生一電流之一電壓之施加及一所得電壓之量測判定。圖1e至圖1h繪示此替代實施例,其中使用所產生之所得電流142b、144b、146b及148b施加一特定電壓142a、144a、146a及148a,且所得電壓Vm
140經量測。無論哪一激發方法用於該材料上(即,電流或電壓),其在使用本方法或系統量測電流之後仍可使用上文方程式以判定霍爾效應性質。然而,在任一實施例中,交替改變磁場B而非電流I 110可用以產生具類似結果之狀態。 然而,上文方法仍可能無法使用高未對準電壓準確地量測低遷移率載流子中之霍爾電壓。當上文狀態按順序重複時,霍爾電壓及未對準電壓將以相同頻率改變,但具兩者之間的一相移。在具正常或高載流子遷移率之材料中,該未對準電壓係相同數量級或小於霍爾電壓。因此,相位空間中之分離足以在沒有來自未對準電壓之貢獻的情況下得到霍爾電壓之一量測。針對一高遷移率載流子之一例示性電壓量測展示於圖2中。如點200及信號之類似點處之振幅之改變所見之未對準電壓係可容易地與霍爾電壓分離,其係如202及類似點處之振幅之大改變所見。 然而,針對低遷移率材料,未對準電壓相較於霍爾電壓係通常非常大的。據此,其可能難以(但並非不可能)使霍爾電壓與未對準電壓分離,如兩者以相同頻率發生。一例示性電壓量測展示於圖3中。如可見,如點300及信號之類似點處之振幅之改變所見之未對準電壓主導正方形波。藉由對照,霍爾電壓、302及類似點處之振幅之微小改變將非常難以量測。 在針對低遷移率載流子量測霍爾電壓中之上文問題可藉由修改上文方法克服以改變未對準電壓與霍爾電壓之間的頻率。簡潔返回至圖1a至圖1d,不取決於磁場之未對準電壓在狀態120與122之間及在狀態124與126之間保持恆定,同時取決於磁場之霍爾電壓反號。因此,非連續切換技術在未對準電壓與霍爾電壓之間產生不同頻率。例如,藉由在狀態122與124之間切換數個循環,且接著在狀態124與126之間切換數個循環,而非簡單地按順序量測各狀態一單一循環,霍爾電壓與未對準電壓經設定為不同頻率。 圖4展示使用如上文所描述之一例示性切換圖案之一例示性電壓量測技術。儘管此未對準電壓400相較於霍爾電壓402仍為非常大的,但現以不同於未對準電壓400之一頻率轉變霍爾電壓402。接著可對該信號使用一解調變(例如一雙解調變)以分離出霍爾電壓,接著一放大器(例如一AC耦合放大器)以量測霍爾電壓。來自圖4之經解調變霍爾電壓之一經放大版本經展示於圖5中。如可見,霍爾電壓現係可容易地量測。 如下文將進一步詳細描述,不同量測係更容易自圖4之電壓量測辨識。例如,第一狀態與第二狀態之間的切換在週期410 (或如下文所使用之n個循環)上發生且第三狀態與第四狀態之間的切換在週期412 (如下文所使用之m個循環)上發生。量測414之整個週期對應於量測之總循環數目(p,如下文所使用)。 用於量測一材料之霍爾電壓之上文所描述方法更清楚地繪示於圖6之流程圖中。在步驟610處,在一第一狀態中量測電壓,其中一電流在跨該材料之一第一方向上流動且一電壓信號跨一垂直方向量測。在步驟620處,在一第二狀態中量測電壓,其中該電流經切換以垂直於其先前方向流動且垂直於該新的電流方向量測該電壓信號。在步驟630處,在移動至步驟640之前重複步驟610及620 n次。重複計數n可為任何數目次數,例如在1次至10次之範圍中,但可更大。 在步驟640處,該電流經切換以在相對於步驟610之方向上流動,其中在此第三狀態中再次跨一垂直方向量測該電壓信號。在步驟650處,在一第四狀態中量測電壓,其中該電流經切換以垂直於其先前方向且相對於步驟620之電流流動。該電壓信號垂直於該新的電流方向量測。在步驟660處重複步驟640及650 m次。該重複計數m可為任何數目次數,例如在1次至10次之範圍中,但可為更大。該方法接著返回至步驟610且在步驟670處步驟610至660如上文所描述重複p次,直至所要量測數量已經完成為止。重複計數p可為任何數目次數,例如在1次至10次之範圍中,但可更大。 簡單參考圖1a至圖1h,展示例示性對應狀態。例如,使用上文所描述圖案,一量測可在狀態120與122之間轉變n次,接著在狀態124與126之間轉變m次,重複該程序一總數p次。 使用以上技術,許多轉變圖案係可行的。例如,n及m可為相等的,導致兩個頻率,各者用於霍爾電壓及未對準電壓,或n及m可為不同的,產生兩個頻率,各用於兩個電壓。在n及m之一些情況下,量測之總數p可不大於個別循環組n及m之各者,且在其他情況下,p可大大得大於n及m,提供一更大量測樣品。在所有情況下,在各狀態處該等個別量測即時記錄以產生一連續電壓量測信號。 返回至圖6,一旦步驟610至660處之所要量測數量已在步驟670處完成,則該方法移動至步驟680,其中該經量測信號經解調變,例如藉由雙解調變。最終,在步驟690處,該經解調變信號經放大,例如藉由AC耦合放大。 應注意,根據本發明存在許多方式來達成霍爾電壓與未對準電壓之間的頻率分離。例如,圖6展示步驟610及620重複n次。經重複循環n之數目可為足以實現實際解調變之任何數目。而且,儘管圖6展示步驟640及650重複一不同數目次數(即m次),但預想到步驟640與650之間重複之循環之數目可相同於步驟610與620之間重複之循環之數目(即n次)。 圖7展示根據本發明之用以量測一材料件702之霍爾電壓之一例示性系統700之一示意圖。系統700包含用於產生一磁場之一磁鐵704。磁鐵704可為任何合適磁鐵,因據理解可需要更多強大磁鐵以誘發高度摻雜材料中之一可量測霍爾電壓。例如,能夠產生一1 T或更大場之磁鐵且針對一些應用,9 T或更大之超導磁鐵可為必要的。針對圖7之例示性系統,針對n循環次數之典型值將為0.5秒至5秒且針對m循環次數之典型值亦將為0.5秒至5秒,然亦預想其他值,諸如(但不限於)各針對n及m循環次數0.5秒,各針對m及n循環次數1秒,各針對n及m循環次數5秒或各針對n循環次數0.5秒及針對m循環次數1.5秒。針對此等循環次數之n及m值可大約為100。此提供10秒或更少之一高品質霍爾電壓量測。此時間應相較於使用AC場方法之一類似品質霍爾量測將需要之近似1小時。此係在該樣品之量測時間中之超過300倍之一改良因數。 例示性系統700亦包含電流源706,其可為任何標準DC電流源,[例如Keithley 6220]。系統700進一步包含能夠量測一電壓信號之一電壓量測裝置708,[諸如Signal Recovery 7230鎖定放大器]。 電流源706及電壓量測裝置708經連接至一控制器710。控制器710可為(例如)一陣列之開關。控制器710繼而連接至材料702之四個接觸點720、722、724及726。控制器710經組態以在任何給定時間處改變接觸點720、722、724及726之哪些連接至電流源706及哪些連接至電壓量測裝置708,促進上文所描述方法之狀態之快速切換。 本文中所描述之方法使用一電流源作為激發用於量測。另一實施例可使用一電壓源(諸如一Keysight B2987A靜電計)及一電流計(諸如一Keithley 6485)以量測由該電壓源產生之電流。此等儀器將替換圖7中之電流源706。 圖8a及圖8b描繪根據本發明所量測之一件材料之兩個例示性形狀。一般技術者將理解,其他形狀係可行的,只要在量測期間材料之幾何形狀及接觸點之位置將對量測結果具有顯著影響即可。例如,圖8a描繪呈具有接觸點802、804、806及808之一霍爾棒形狀之一材料件。圖8b描繪呈具有接觸點812、814、816及818之一希臘十字架形狀之一材料件。 雖然已藉由本發明之實施例之描述而繪示本發明,且雖然已相當詳細地描述該等實施例,但並非意欲約束或依任何方式將隨附申請專利範圍之範疇限制於此細節。熟習技術者將易於明白額外優點及修改。而且,使用一個實施例描述之元件可容易地經調適用於與其他實施例一起使用。因此,本發明在其更廣泛態樣上不限於特定細節、代表性裝置及方法以及所展示及描述之闡述性實例。相應地,可在不背離一般發明概念之精神及範疇之情況下偏離此等細節。
100‧‧‧材料件101‧‧‧參考軸102‧‧‧接觸點103‧‧‧參考軸104‧‧‧接觸點106‧‧‧接觸點108‧‧‧接觸點110‧‧‧電流流動I120‧‧‧第一量測狀態122‧‧‧第二量測狀態124‧‧‧第三量測狀態126‧‧‧第四量測狀態130‧‧‧第一電壓132‧‧‧第二電壓134‧‧‧第三電壓136‧‧‧第四電壓140‧‧‧電壓Vm‧‧‧142a‧‧‧電壓142b‧‧‧電流144a‧‧‧電壓144b‧‧‧電流146a‧‧‧電壓146b‧‧‧電流148a‧‧‧電壓148b‧‧‧電流200‧‧‧點202‧‧‧點300‧‧‧點302‧‧‧點400‧‧‧未對準電壓402‧‧‧霍爾電壓410‧‧‧週期412‧‧‧週期414‧‧‧量測610‧‧‧步驟620‧‧‧步驟630‧‧‧步驟640‧‧‧步驟650‧‧‧步驟660‧‧‧步驟670‧‧‧步驟680‧‧‧步驟690‧‧‧步驟700‧‧‧系統702‧‧‧材料件704‧‧‧磁鐵706‧‧‧電流源708‧‧‧電壓量測裝置710‧‧‧控制器720‧‧‧接觸點722‧‧‧接觸點724‧‧‧接觸點726‧‧‧接觸點802‧‧‧接觸點804‧‧‧接觸點806‧‧‧接觸點808‧‧‧接觸點812‧‧‧接觸點814‧‧‧接觸點816‧‧‧接觸點818‧‧‧接觸點
參考以下詳細描述及附圖將更佳理解本發明之此等及其他特徵及優點,其中: 圖1a至圖1h係根據本發明之一霍爾量測裝置之若干不同狀態之例示性示意圖; 圖2係針對一高遷移率材料之來自一第一例示性霍爾量測裝置之一信號輸出; 圖3係針對一低遷移率材料之來自第一例示性霍爾量測裝置之一信號輸出; 圖4係根據本發明之針對一低遷移率材料之來自一第二例示性霍爾量測裝置之一信號輸出; 圖5係根據本發明之在例示性條件化之後圖4之信號輸出; 圖6係根據本發明之繪示量測一霍爾電壓之一方法之一流程圖; 圖7係根據本發明之用於量測一霍爾電壓之一例示性系統。 圖8a及圖8b係根據本發明之由一霍爾感測裝置量測之例示性材料形狀之示意圖。
100‧‧‧材料件
101‧‧‧參考軸
102‧‧‧接觸點
104‧‧‧接觸點
106‧‧‧接觸點
108‧‧‧接觸點
110‧‧‧電流流動I
120‧‧‧第一量測狀態
Claims (76)
- 一種量測一霍爾效應電壓以特徵化一材料之一電子性質之方法,該方法包括:配置在一磁場方向中之一已知磁場的存在下,在一激發方向上穿過該材料提供一電激發,並同時在一量測方向上量測跨過該材料被誘發之一電壓,其中該激發方向、該磁場方向及該量測方向均互相不同;以一第一頻率在兩方向之間切換該激發方向、該磁場方向及該量測方向之至少其中之一;以一第二頻率在兩方向之間切換該激發方向、該磁場方向及該量測方向之至少其中之一,其中該第二頻率不同於該第一頻率;依據切換期間所量測之電壓判定該霍爾效應電壓。
- 如請求項1之方法,其中該電壓量測包含在該第一頻率轉變之一霍爾電壓。
- 如請求項1之方法,其中該電壓量測包含在該第二頻率轉變之一未對準電壓。
- 一種量測一霍爾效應電壓以特徵化一材料之一電子性質之方法,該方法包括:跨一件該材料之一第一對相對點提供一電激發且在一已知磁場存在下,同時跨該件材料之一第二對相對點量測一第一電壓(狀態1); 跨該件材料之該第二對相對點提供一電激發且在該已知磁場存在下,同時跨該件材料之該第一對相對點量測一第二電壓(狀態2);在一第一週期內,以一第一頻率在該狀態1與狀態2之間切換;在相對於該電激發狀態1之一方向上跨該件材料之該第一對相對點提供一電激發且在該已知磁場存在下,同時跨該件材料之該第二對相對點量測一第三電壓(狀態3);在相對於該電激發狀態2之一方向上跨該件材料之該第二對相對點提供一電激發且在該已知磁場存在下,同時跨該件材料之該第一對相對點量測一第四電壓(狀態4);在一第二週期內,以一第二頻率在該狀態3與狀態4之間切換;在一第三週期內,以一第三頻率在該第一週期與該第二週期之間切換,其中該第一頻率不同於該第三頻率;及依據該第一電壓、第二電壓、第三電壓及第四電壓量測,在該已知磁場存在下,判定電激發材料所誘發之該霍爾效應電壓。
- 如請求項4之方法,其進一步包括依據該所判定的霍爾效應電壓判定該材料之霍爾係數。
- 如請求項4之方法,其中該判定該霍爾效應電壓包含自該電壓量測移除一熱電壓組件。
- 如請求項4之方法,其中該判定該霍爾效應電壓包含自該電壓量測移除一未對準電壓組件。
- 如請求項4之方法,其中該第一頻率與該第二頻率相同。
- 如請求項4之方法,其中該第一週期與該第二週期相同。
- 如請求項4之方法,其中該第一頻率與該第二頻率大於該第三頻率。
- 如請求項4之方法,各電激發包括直接使用一電流源施加之一電流。
- 如請求項4之方法,各電激發包括藉由使用一電壓源施加一電壓而產生之一電流。
- 如請求項4之方法,其進一步包括以下步驟:自狀態1至狀態4之電壓量測產生一電壓量測信號;解調變該電壓量測信號;及放大該電壓量測信號。
- 如請求項4之方法,其中該材料具有一低載流子遷移率。
- 如請求項4之方法,其中該材料具有小於1cm2/Vs之一載流子遷移率。
- 如請求項4之方法,其中狀態之間的切換在該第一頻率下轉變為該霍爾效應電壓,並在該第三頻率下轉變為一未對準電壓。
- 如請求項4之方法,其中該第一週期與該第二週期之至少其中之一係少於5秒。
- 如請求項4之方法,其中該第一週期與該第二週期係各自少於5秒。
- 如請求項4之方法,其中該第三週期係少於或等於10秒。
- 如請求項4之方法,其中該第一週期與該第二週期之至少其中之一係少於0.5秒。
- 如請求項4之方法,其中該第一週期與該第二週期係各自少於0.5秒。
- 如請求項4之方法,其中該第三週期係少於或等於1秒。
- 一種量測一霍爾效應電壓以特徵化一材料之一電子性質之方法,該方法包括:提供一第一測試狀態,其在一第一測試參數之一第一狀態及該第一測試參數之一第二狀態之間在一第一頻率下交替改變,其中該第一測試狀態包含在一已知磁場存在下,藉由誘發電流流動通過該材料以電激發該材料;提供一第二測試狀態,其在一第二測試參數之一第一狀態及該第二測試參數之一第二狀態之間在一第二頻率下交替改變,其中該第二測試狀態 包含在該已知磁場存在下,藉由誘發電流流動通過該材料以電激發該材料;其中該第一測試參數係下列四者中之一者:一測試電激發期間該電流之一方向、該測試電激發之一位置、該已知磁場之一方向及該已知磁場之一位置,且該第二測試參數係前述測試電激發期間該電流之該方向、該測試電激發之該位置、一已知磁場之該方向及該已知磁場之該位置中之另一者;以一第三頻率在該第一測試狀態與該第二測試狀態之間切換,其中該第三頻率少於該第一頻率與該第二頻率;在該第一測試狀態與該第二測試狀態期間,在該已知磁場存在下,量測藉由電激發該材料所誘發跨過該材料之電壓;及依據電壓量測以判定該霍爾效應電壓。
- 如請求項23之方法,其中該激發電流流動、該已知磁場與該被量測之誘發電壓均實質上互相垂直地配置。
- 一種量測一霍爾效應電壓以特徵化一材料之一電子性質之系統,該系統包括:一磁鐵;一測試電激發機構;一電壓量測裝置;一控制件,其經結構設計以:提供一第一測試狀態,其在一第一測試參數之一第一狀態及該第一測試參數之一第二狀態之間以一第一頻率交替改變,其中該第一測試 狀態在該磁鐵所產生之一已知磁場存在下,藉由誘發電流流動通過該材料以電激發該材料;及提供一第二測試狀態,其在一第二測試參數之一第一狀態及該第二測試參數之一第二狀態之間以一第二頻率交替改變,其中該第二測試狀態在該磁鐵所產生之該已知磁場存在下,藉由誘發電流流動通過該材料以電激發該材料,其中該第一測試參數係以下列四者中之一者:一測試電激發期間該電流之一方向、該測試電激發之一位置、該已知磁場之一方向及該已知磁場之一位置之一者,且該第二測試參數係前述測試電激發期間該電流之該方向、該測試電激發之該位置、一已知磁場之該方向及該已知磁場之該位置中之另一者;以一第三頻率在該第一測試狀態與該第二測試狀態之間切換,其中該第三頻率少於該第一頻率與該第二頻率,從而該霍爾效應電壓相較於一未對準電壓以一不同頻率轉變;在該第一測試狀態與該第二測試狀態期間,在該已知磁場存在下,量測藉由電激發該材料所誘發跨過該材料之電壓;及依據電壓量測以判定該霍爾效應電壓。
- 如請求項25之系統,該控制器進一步經建構為依據該電壓量測而產生一電壓量測信號,且該系統進一步包含:一解調變器,其經建構以解調變該電壓量測信號,其中該霍爾效應電壓自該電壓量測信號分離;及一放大器,其放大該解調變信號。
- 如請求項25之系統,該測試電激發機構包括一電流源。
- 如請求項25之系統,該測試電激發機構包括一電壓源及一電流量測裝置。
- 如請求項25之系統,其中該材料具有一低載流子遷移率。
- 如請求項25之系統,其中該材料之一測試件具有一實質上正方形形狀。
- 如請求項25之系統,其中該材料之一測試形狀係一正方形或一希臘十字架。
- 一種量測一材料之霍爾效應電壓之方法,該方法包括:a)跨一件該材料之一第一對相對點提供一電激發且同時跨該件材料之一第二對相對點量測一所得測試電壓;b)跨該件材料之該第二對相對點提供一電激發且同時跨該件材料之該第一對相對點量測一所得測試電壓;c)在相對於該電激發步驟(a)之一方向上跨該件材料之該第一對相對點提供一電激發且同時跨該件材料之該第二對相對點量測一所得測試電壓;及d)在相對於該電激發步驟(b)之一方向上跨該件材料之該第二對相對 點提供一電激發且同時跨該件材料之該第一對相對點量測一所得測試電壓;其中在一第一測試狀態期間以一第一頻率重複步驟(a)與(b),其中在一第二測試狀態期間以一第二頻率重複步驟(c)與(d),且其中該第一測試狀態及該第二測試狀態在一第三頻率下交替改變。
- 如請求項32之方法,各電激發包括直接使用一電流源施加之一電流。
- 如請求項32之方法,各電激發包括藉由使用一電壓源施加一電壓而產生之一電流。
- 如請求項32之方法,其進一步包括以下步驟:自在步驟(a)至(d)處量測之複數個測試電壓產生一信號;解調變該信號;及放大該信號。
- 如請求項32之方法,其中該材料具有一低載流子遷移率。
- 一種量測一材料之霍爾效應電壓之方法,該方法包括:提供一第一測試狀態,其在一第一測試參數之一第一狀態與該第一測試參數之一第二狀態之間以一第一頻率交替改變;提供一第二測試狀態,其在一第二測試參數之一第一狀態與該第二測試參數之一第二狀態之間以一第二頻率交替改變; 使用一已知恆定電流電激發該材料;在該第一測試狀態及該第二測試狀態期間量測一電壓以產生一信號;解調變該信號;及放大該信號;其中該第一測試參數係以下列四者中之一者:一測試電激發、該測試電激發之一位置、一磁場之一方向及該磁場之一位置,且該第二測試參數係前述之該測試電激發、該測試電激發之該位置、一磁場之該方向及該磁場之該位置中之另一者。
- 如請求項37之方法,其中該材料具有一低載流子遷移率。
- 如請求項37之方法,其中該第一頻率及該第二頻率係相等的。
- 如請求項37之方法,其中該第一頻率及該第二頻率係不相等的。
- 一種量測一材料之霍爾效應電壓之方法,該方法包括:提供一第一測試狀態,其在一第一測試參數之一第一狀態及該第一測試參數之一第二狀態之間以一第一頻率交替改變;提供一第二測試狀態,其在一第二測試參數之一第一狀態及該第二測試參數之一第二狀態之間以一第二頻率交替改變;使用一已知恆定電壓電激發該材料且量測所產生電流;在該第一測試狀態及該第二測試狀態期間量測一電壓以產生一信號;解調變該信號;及 放大該信號;其中該第一測試參數係以下列四者中之一者:一測試電激發、該測試電激發之一位置、一磁場之一方向及該磁場之一位置,且該第二測試參數係前述之該測試電激發、該測試電激發之該位置、一磁場之該方向及該磁場之該位置中之另一者。
- 如請求項41之方法,其中該材料具有一低載流子遷移率。
- 如請求項41之方法,其中該第一頻率及該第二頻率係相等的。
- 如請求項41之方法,其中該第一頻率及該第二頻率係不相等的。
- 一種量測一材料之霍爾效應電壓之方法,該方法包括:提供一第一測試狀態,其在一第一測試參數之一第一狀態及該第一測試參數之一第二狀態之間以一第一頻率交替改變;及提供一第二測試狀態,其在一第二測試參數之一第一狀態及該第二測試參數之一第二狀態之間以一第二頻率交替改變;其中該第一測試參數係下列四者中之一者:一測試電激發、該測試電激發之一位置、一磁場之一方向及該磁場之一位置,且該第二測試參數係前述之該測試電激發、該測試電激發之該位置、一磁場之該方向及該磁場之該位置中之另一者;及其中該材料具有一低載流子遷移率。
- 如請求項45之方法,其進一步包括:使用一已知恆定電流電激發該材料;在該第一測試狀態及該第二測試狀態期間量測一電壓以產生一信號;解調變該信號;及放大該信號。
- 如請求項45之方法,其進一步包括:使用一已知恆定電壓電激發該材料且量測所產生電流;在該第一測試狀態及該第二測試狀態期間量測一電壓以產生一信號;解調變該信號;及放大該信號。
- 如請求項45之方法,其中該第一頻率及該第二頻率係相等的。
- 如請求項45之方法,其中該第一頻率及該第二頻率係不相等的。
- 一種量測一材料之霍爾效應電壓之方法,該方法包括:提供一第一測試狀態,其在一第一測試參數之一第一狀態及該第一測試參數之一第二狀態之間以一第一頻率交替改變;及提供一第二測試狀態,其在一第二測試參數之一第一狀態及該第二測試參數之一第二狀態之間以一第二頻率交替改變;其中該第一測試參數係下列四者中之一者:一測試電激發、該測試電激發之一位置、一磁場之一方向及該磁場之一位置,且該第二測試參數係 前述之該測試電激發、該測試電激發之該位置、一磁場之該方向及該磁場之該位置中之另一者;及其中該第一頻率及該第二頻率係不相等的。
- 如請求項50之方法,其進一步包括:使用一已知恆定電流電激發該材料;在該第一測試狀態及該第二測試狀態期間量測一電壓以產生一信號;解調變該信號;及放大該信號。
- 如請求項50之方法,其進一步包括:使用一已知恆定電壓電激發該材料且量測所產生電流;在該第一測試狀態及該第二測試狀態期間量測一電壓以產生一信號;解調變該信號;及放大該信號。
- 如請求項50之方法,其中該材料具有一低載流子遷移率。
- 一種用於量測一材料之霍爾效應電壓之系統,該系統包括:一磁鐵;一測試電激發機構;一電壓量測裝置;一解調變器及一放大器;及 一控制件,其經結構設計以:提供一第一測試狀態,其在一第一測試參數之一第一狀態及該第一測試參數之一第二狀態之間以一第一頻率交替改變;及提供一第二測試狀態,其在一第二測試參數之一第一狀態及該第二測試參數之一第二狀態之間以一第二頻率交替改變,其中該第一測試參數係下列四者中之一者:一測試電激發、該測試電激發之一位置、一磁場之一方向及該磁場之一位置,且該第二測試參數係前述之該測試電激發、該測試電激發之該位置、一磁場之該方向或該磁場之該位置中之另一者。
- 如請求項54之系統,該測試電激發機構包括一電流源。
- 如請求項54之系統,該測試電激發機構包括一電壓源及一電流量測裝置。
- 如請求項54之系統,其中該材料具有一低載流子遷移率。
- 如請求項54之系統,其中第一頻率及第二頻率係相等的。
- 如請求項54之系統,其中該第一頻率及該第二頻率係不相等的。
- 如請求項54之系統,其中該件材料具有一實質上正方形形狀。
- 如請求項54之系統,其中該材料之該形狀係一正方形、一霍爾棒或一希臘十字架。
- 一種用於量測一材料之霍爾效應電壓之系統,該系統包括:一磁鐵;一測試電激發機構;一電壓量測裝置;及一控制件,其經結構設計以:提供一第一測試狀態,其在一第一測試參數之一第一狀態及該第一測試參數之一第二狀態之間以一第一頻率交替改變;及提供一第二測試狀態,其在一第二測試參數之一第一狀態及該第二測試參數之一第二狀態之間以一第二頻率交替改變一第二測試參數,其中該第一測試參數係下列四者中之一者:一測試電激發、該測試電激發之一位置、一磁場之一方向及該磁場之一位置,且該第二測試參數係前述之該測試電激發、該測試電激發之該位置、一磁場之該方向或該磁場之該位置中之另一者;及其中該材料具有一低載流子遷移率。
- 如請求項62之系統,該測試電激發機構包括一電流源。
- 如請求項62之系統,該測試電激發機構包括一電壓源及一電流量測裝置。
- 如請求項62之系統,其進一步包括一解調變器及一放大器。
- 如請求項62之系統,其中第一頻率及第二頻率係相等的。
- 如請求項62之系統,其中該第一頻率及該第二頻率係不相等的。
- 如請求項62之系統,其中該件材料具有一實質上正方形形狀。
- 如請求項62之系統,其中該材料之該形狀係一正方形、一霍爾棒或一希臘十字架。
- 一種用於量測一材料之霍爾效應電壓之系統,該系統包括:一磁鐵;一測試電激發機構;一電壓量測裝置;及一控制件,其經結構設計以:提供一第一測試狀態,其在一第一測試參數之一第一狀態及該第一測試參數之一第二狀態之間以一第一頻率交替改變;及提供一第二測試狀態,其在一第二測試參數之一第一狀態及該第二測試參數之一第二狀態之間以一第二頻率交替改變,其中該第一測試參數係下列四者中之一者:一測試電激發、該測試電激發之一位置、一磁場之一方向及該磁場之一位置,且該第二測試參數係前述之該測試電激發、該測試電激發之該位置、一磁場之該方向或該磁場 之該位置中之另一者;及其中該第一頻率及該第二頻率係不相等的。
- 如請求項70之系統,該測試電激發機構包括一電流源。
- 如請求項70之系統,該測試電激發機構包括一電壓源及一電流量測裝置。
- 如請求項70之系統,其進一步包括一解調變器及一放大器。
- 如請求項70之系統,其中該材料具有一低載流子遷移率。
- 如請求項70之系統,其中該件材料具有一實質上正方形形狀。
- 如請求項70之系統,其中該材料之該形狀係一正方形、一霍爾棒或一希臘十字架。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US14/996,719 US9797965B2 (en) | 2016-01-15 | 2016-01-15 | Fast hall effect measurement system |
US14/996,719 | 2016-01-15 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW201732301A TW201732301A (zh) | 2017-09-16 |
TWI736569B true TWI736569B (zh) | 2021-08-21 |
Family
ID=59311541
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW105143270A TWI736569B (zh) | 2016-01-15 | 2016-12-27 | 快速霍爾效應量測系統 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US9797965B2 (zh) |
EP (2) | EP3403083B1 (zh) |
JP (1) | JP6757038B2 (zh) |
KR (1) | KR102521705B1 (zh) |
CN (1) | CN108700554B (zh) |
TW (1) | TWI736569B (zh) |
WO (1) | WO2017123353A1 (zh) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9797965B2 (en) * | 2016-01-15 | 2017-10-24 | Lake Shore Cryotronics, Inc. | Fast hall effect measurement system |
EP3415902B1 (en) * | 2017-06-14 | 2023-12-27 | Rolls-Royce Corporation | System for nondestructive residual stress profiling using inductive sensing |
US11605778B2 (en) | 2019-02-07 | 2023-03-14 | Lake Shore Cryotronics, Inc. | Hall effect sensor with low offset and high level of stability |
KR102210577B1 (ko) | 2019-07-26 | 2021-02-02 | 이종욱 | 에어컨 냉매 배관의 메쉬 감지방법 |
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US9797965B2 (en) * | 2016-01-15 | 2017-10-24 | Lake Shore Cryotronics, Inc. | Fast hall effect measurement system |
-
2016
- 2016-01-15 US US14/996,719 patent/US9797965B2/en active Active
- 2016-12-09 KR KR1020187023520A patent/KR102521705B1/ko active IP Right Grant
- 2016-12-09 EP EP16885412.3A patent/EP3403083B1/en active Active
- 2016-12-09 CN CN201680082029.6A patent/CN108700554B/zh active Active
- 2016-12-09 EP EP22172028.7A patent/EP4060333A1/en active Pending
- 2016-12-09 JP JP2018536502A patent/JP6757038B2/ja active Active
- 2016-12-09 WO PCT/US2016/065747 patent/WO2017123353A1/en active Application Filing
- 2016-12-27 TW TW105143270A patent/TWI736569B/zh active
-
2017
- 2017-10-12 US US15/782,067 patent/US10073151B2/en active Active
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---|---|
EP3403083B1 (en) | 2022-06-22 |
CN108700554A (zh) | 2018-10-23 |
US9797965B2 (en) | 2017-10-24 |
US10073151B2 (en) | 2018-09-11 |
JP2019508681A (ja) | 2019-03-28 |
EP3403083A1 (en) | 2018-11-21 |
JP6757038B2 (ja) | 2020-09-16 |
US20170205475A1 (en) | 2017-07-20 |
US20180031648A1 (en) | 2018-02-01 |
EP3403083A4 (en) | 2019-09-04 |
TW201732301A (zh) | 2017-09-16 |
WO2017123353A1 (en) | 2017-07-20 |
CN108700554B (zh) | 2020-11-03 |
KR20180104007A (ko) | 2018-09-19 |
KR102521705B1 (ko) | 2023-04-13 |
EP4060333A1 (en) | 2022-09-21 |
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