TWI706592B - 具耦合裝置及波導之通訊裝置及系統 - Google Patents

具耦合裝置及波導之通訊裝置及系統 Download PDF

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TWI706592B
TWI706592B TW105112318A TW105112318A TWI706592B TW I706592 B TWI706592 B TW I706592B TW 105112318 A TW105112318 A TW 105112318A TW 105112318 A TW105112318 A TW 105112318A TW I706592 B TWI706592 B TW I706592B
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迪潘卡爾 高許
金載源
奎格Ｗ 琳賽
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Abstract

本揭露之至少一些態樣描述用於繞著一阻擋結構傳播電磁波之一通訊裝置之特徵。該通訊裝置包括一被動耦合裝置以擷取該電磁波，以及電磁耦合至該耦合裝置的一波導。該波導係繞著該阻擋結構設置。該波導具有與該耦合裝置匹配的一共振頻率。該波導經組態以傳播該耦合裝置所擷取之電磁波。

Description

具耦合裝置及波導之通訊裝置及系統
本揭露係關於使用高介電質共振器及耦合裝置之波導。
本揭露之至少一些態樣描述用於繞著一阻擋結構傳播電磁波之一通訊裝置之特徵，其包含：近接該阻擋結構之一第一側設置並且經組態以擷取該電磁波之一被動耦合裝置，近接該阻擋結構之一第二側設置之一發送器，以及電磁耦合至該耦合裝置及該發送器並繞著該阻擋結構設置之一波導。該波導具有與該耦合裝置匹配的一共振頻率。該波導經組態以傳播該耦合裝置所擷取之電磁波。該發送器經組態以再輻射該電磁波。
80:球狀HDR、HDR球體、對稱球狀HDR
82:圓柱狀HDR
84:立方體HDR
88:球狀HDR
90:底材
100:系統
110:波導
115:底材
120:HDR
130:收發器
140:收發器
200A:通訊系統
200D:通訊系統
210A:閉迴路波導；波導
210D:「L」形波導；波導
215A:底材
215D:底材
220A:HDR
220D:HDR
230A:收發器
230D:收發器
240A:收發器
240D:收發器
300A:波導
300B:波導
300C:波導
300D:波導
300F:波導
300G:波導
301G:節段
302G:節段
303G:節段
310A:HDR
310B:HDR
310C:HDR
310D:HDR
310F:HDR
310G:HDR
315A:矩形形狀
315B:平行四邊形
315C:正方形
315D:矩形形狀；重疊節段
317B:矩形形狀
317C:矩形形狀
500A:人體區域網路(BAN)
500B:通訊系統
500C:通訊系統
510A:波導
510B:波導
510C:波導
520A:衣服
520B:通訊組件
520C:收發器
530A:人體感測單元(BSU)
530B:通訊組件
530C:收發器
540A:控制單元
540C:封閉空間
550A:胞狀網路
560A:無線網路
600:通訊裝置
610:第一被動耦合裝置
615:電磁波
620:第二被動耦合裝置
625:電磁波
630:波導
650:阻擋結構
651:第一側
652:第二側
700A:通訊裝置
700B:通訊裝置
700C:通訊裝置
710A:耦合裝置；介電質透鏡
710B:耦合裝置；貼片天線
710C:耦合裝置；Yagi天線
710D:耦合裝置
712B:貼片天線陣列
712C:指向器
712D:頂部層
714B:饋送網路
714C:貼片
715D:環元件
716B:二級貼片
716C:接地平面/反射器
718B:接地
718C:支撐件
720D:接地元件
730:波導
750:阻擋結構
a:晶格常數；半徑；邊長
c:光速
D:直徑
f GHz :共振頻率
L:長度
n:極點
S:間隔；模式
ε r:相對介電率
λ:波長
λeff:波長
隨附圖式併入並構成本說明書之一部分，且與詳細說明一起釋明本發明之優勢與理論。在圖式中：圖1係一方塊立體透視圖，其繪示包括具有高介電質共振器(high dielectric resonator)之一波導的系統或裝置實例；圖2A繪示一通訊系統之一個實例之示意圖，該通訊系統使用具有HDR之一波導；圖2B係圖2A所繪示之通訊系統之一EM振幅圖 表；圖2C顯示圖2A所繪示之通訊系統之具有HDR及不具有HDR的一比較圖表；圖2D繪示一通訊系統之一個實例之示意圖，該通訊系統使用具有HDR之一波導；圖2E係圖2D所繪示之通訊系統之一EM振幅圖表；圖2F顯示圖2D所繪示之通訊系統之具有HDR及不具有HDR的一比較圖表；圖3A至圖3G繪示HDR配置的一些實例；圖4A至圖4C係方塊立體透視圖，其等繪示可用於HDR之結構的各種形狀；圖4D係一方塊立體透視圖，其繪示經底材(base material)塗布之球形HDR實例；圖5A繪示使用具有HDR之一波導之一人體區域網路(「BAN」)的一實例；圖5B繪示用於通訊系統之一波導之一實例；圖5C繪示欲用於一封閉空間之一通訊系統之一實例；圖6繪示一方塊立體透視圖，該方塊立體透視圖繪示欲與一阻擋結構一起使用之一通訊裝置600之一個實施例；以及圖7A至圖7D繪示耦合裝置的一些實例。
圖式中，相似元件符號指代相似元件。雖然以上所識別(可未按比例繪製)之圖式闡述本揭露之數個實施例，其他在實施方式中所提到的實施例亦被考慮。在所有情況中，本揭露係藉由例示性實施例的表示之方式而非明確的限制來說明所揭示之揭露。應理解， 所屬技術領域中具有通常知識者可擬定出許多其他修改及實施例，其仍屬於本揭露之範疇及精神。
除非另有所指，本說明書及申請專利範圍中用以表示特徵之尺寸、數量、以及物理特性的所有數字，皆應理解為在所有情況下以「約(about)」一詞修飾之。因此，除非另有相反指示，否則在前述說明書以及隨附申請專利範圍中所提出的數值參數係近似值，其可依據所屬技術領域中具有通常知識者運用本文所揭示之教示所欲獲得的所欲特性而有所不同。使用端點來敘述之數字範圍包括所有歸於該範圍內的數字(例如，1至5包括1、1.5、2、2.75、3、3.80、4及5)以及該範圍內的任何範圍。
如本說明書以及隨附申請專利範圍中所使用，單數形「一(a、an)」以及「該(the)」涵蓋具有複數個指稱物的實施例，除非內文明確另有所指。如本說明書以及隨附申請專利範圍中所使用，「或(or)」一詞一般是用來包括「及/或(and/or)」的意思，除非內文明確另有所指。
本揭露之至少一些態樣導向一波導，該波導具有一低相對介電率的一底材以及複數個高介電質共振器(HDR)，其中隔開HDR的方式可讓能量在HDR之間轉移。HDR係被製造以在特定頻率共振的物體，且可例如由陶瓷類型的材料所構成。當所具有的頻率達到或接近HDR之共振頻率的電磁(EM)波通過HDR時，該波的能量會被有效轉移。當HDR之間的能量轉移結合由HDR的共振引起之高效率而 低損耗的EM波能量轉移來進行時，EM波可比初始接收之波之功率比多於三倍的功率比。在一些情況下，HDR係設置於底材中。在一些情況下，HDR係經底材塗布。在一些實施例中，該波導係電磁耦合至一第一收發器及一第二收發器，使得信號可以經過該波導從該第一收發器發送至該第二收發器(或反之亦然)，而且之後自該第一收發器及/或第二收發器無線發送。在一些情況下，該波導可設置於一衣物上或者與衣物整合，使得衣物能促進及/或傳播人體上的信號收集。在一些情況下，該第一收發器及/或該第二收發器係電耦合至一或多個感測器並經組態以發送或接收該等感測器信號。
本揭露之至少一些態樣導向欲用於一阻擋結構上的一通訊裝置或系統，該阻擋結構不允許一波長段內的電磁波傳播。在一些情況下，該通訊系統可包括近接該阻擋結構之一側設置的一第一耦合裝置、設置於該阻擋結構上或者與該阻擋結構整合的一波導、以及近接該阻擋結構之另一側(例如，相對側)設置的一第二耦合裝置。該波導係電磁耦合至該第一耦合裝置及該第二耦合裝置。耦合裝置係指能有效擷取EM波並再輻射EM波之一裝置。例如，一耦合裝置可以是一介電質透鏡、一貼片天線(patch antenna)陣列、一Yagi天線、一超材料耦合元件、或類似者。在一些實施例中，該第一耦合裝置可擷取一進入的EM波、經由該波導傳播該EM波至該第二耦合裝置、而該第二耦合裝置可再輻射一對應之EM波。
圖1係一方塊立體透視圖，其繪示根據本揭露之一或多項技術的實例系統或裝置，該實例系統或裝置包括具有高介電質共振 器的一波導。於此系統100中，波導110係電磁耦合至收發器(130,140)。波導包括一底材115及依一圖案分佈於波導110各處的複數個HDR 120。波導110接收來自兩個收發器之一者的一信號，該信號傳播經過HDR 120而進入波導110的一相對端部。信號可以例如是一電磁波、一聲波、或類似者。在一些實例中，信號係一60GHz毫米波信號。該信號經過該等兩個收發器之一者離開波導110。在所繪示的實例中，一波導係與兩個收發器耦合；然而，一波導可與三或更多個收發器耦合。在一些情況下，一或多個收發器係僅為發送器。在一些情況下，一或多個收發器係僅為接收器。
波導110係一引導波的結構。波導110大致上將信號侷限在一維度中行進。當在開放空間中時，波一般在眾多方向上傳播，例如球狀波。當此發生時，波以所行進之距離的平方成比例損失它們的功率。在理想的情況下，當一波導接收一波並將之侷限於在僅僅單一單一方向上行進時，該波在傳播的同時損失極少功率至無功率損失。
在一些實施例中，底材115可包括材料，舉例而言，諸如Teflon®、石英玻璃、堇青石、硼矽玻璃、全氟烷氧基、聚胺甲酸酯、聚乙烯、氟化乙烯丙烯、或類似者。在一些情況下，該底材可例如包括銅、黃銅、銀、鋁、或其他具有低體電阻率的金屬。在一項實例中，波導110具有2.5mm×1.25mm的大小，且由Teflon®製成，其具有相對介電率εr,=2.1以及損耗正切=0.0002，於波導110的內壁上具有1mm厚的鋁覆層。
波導110係以低相對介電率材料製成的一結構，譬如例如Teflon®。在其他實例中，波導110的基材部分可例如由諸如石英玻璃、堇青石、硼矽玻璃、全氟烷氧基、聚乙烯、或氟化乙烯丙烯的材料製成。在一些實例中，波導110具有一梯形形狀，其中一漸縮端經定位成與波導110之一端相鄰。在一項實例中，波導110係由長46cm厚25.5mm的Teflon®基材所形成，其具有相對介電率40、半徑8.5mm、晶格常數25.5mm的HDR球體，其中在收發器130與波導110之間的間隔係5mm。
在一些實施例中，波導110含有配置於底材115內的複數個HDR 120，使得相鄰HDR之間的該晶格距離小於經設計以用於傳播的該電磁波之該波長。在一些實施例中，波導110含有依一陣列配置在底材115內的複數個HDR 120。在一些實例中，此陣列係一個二維柵陣列。在一些情況下，此陣列係一規則陣列。一規則陣列可以例如是一個週期性陣列，使得相鄰的HDR沿著一維度具有大致上相同的距離。
在一些實例中，該等HDR之該共振頻率經選擇以匹配該電磁波的頻率。在一些實例中，複數個共振器的共振頻率係在一毫米波段內。在一項實例中，複數個共振器的共振頻率係60GHz。這些HDR之各者可隨後將波折射朝向在單一垂直線的三個等間隔HDR中具有相同垂直配置的各別HDR。以大振幅振盪的駐波形成於波導110中。
HDR 120亦可以具有具體間隔的其他陣列來配置。例如，HDR 120係依具有預定間隔之線來配置。在一些情況下，該等HDR可依三維陣列來配置。例如，該等HDR可依一圓柱狀形狀、一個堆疊矩陣、一管形狀、或類似者來配置。HDR 120會以一個HDR的共振能夠轉移能量到任何周圍HDR的此一方式來予以隔開。此間隔係關於HDR 120的米氏共振(Mie resonance)以及系統效率。藉由考慮在系統中之任何電磁波的波長，可選擇間隔來改善系統效率。各HDR 120具有一直徑與一晶格常數。在一些實例中，至少部分基於該波導以及該等HDR之相對介電率來選擇晶格常數與共振頻率。晶格常數係從一個HDR的中心至一相鄰HDR的中心的距離。在一些實例中，HDR 120可具有1mm的一晶格常數。在一些實例中，該晶格常數小於該電磁波的該波長。
HDR之直徑與HDR之晶格常數的比率(直徑D/晶格常數a)可被使用來表徵在波導110中之HDR 120的幾何配置。此比率可隨著該底材及HDR的相對介電率對比度而改變。在一些實例中，共振器的直徑對晶格常數的比率係小於一。在一項實例中，D可係0.7mm且a可係1mm，比率係0.7。此比率越高，波導的耦合效率變得越低。在一項實例中，用於如圖1所示之HDR 120之幾何配置之晶格常數的最大極限將是發射波的波長。晶格常數應該小於波長，但對於強效率而言，晶格常數應該遠小於波長。這些參數的相對大小可隨著該底材及該等HDR的相對介電率對比度而改變。可選擇晶格常數，以在發射波之波長內得到所需的性能。在一項實例中，晶格常數可係1 mm且波長可係5mm，亦即，是波長五分之一的一晶格常數。通常，波長(λ)係在空氣介質中的波長。假如使用另一介電質材料用於該介質，此式的波長則應該由λeff所取代，其係：
Figure 105112318-A0305-02-0011-1
 其中ε r係該介質材料的相對介電率。
在HDR 120與波導110之底材115之間的高相對介電率對比度導致在HDR 120之良好定義共振模式中的激發。換言之，相較於波導110之底材的相對介電率，形成HDR 120的材料具有高的相對介電率。較高的對比度將提供更高的性能，且因此HDR 120的相對介電率係決定HDR 120之共振性質時的一重要參數。因為能量將洩漏到波導110的底材內，所以低對比度可能造成HDR 120的弱共振。一高對比度提供一完美邊界條件(boundary condition)的近似，其意指極少能量至沒有能量洩漏到波導110的底材內。對於形成HDR 120的材料具有比波導110之底材115之相對介電率多於5至10倍的相對介電率的一實例可假設有此近似。在一些情況下，HDR 120之各者具有一相對介電率，該相對介電率至少為該底材115之一相對介電率的五倍。在一些實例中，複數個共振器之各者具有一相對介電率，該相對介電率係該底材115之一相對介電率的至少兩倍大。在其他實例中，複數個共振器之各者具有一相對介電率，該相對介電率係該底材115之一相對介電率的至少十倍大。就給定的共振頻率而言，相對介電率越高，介電質共振器越小，且能量會更集中在介電質共振器內。在一 些實施例中，該複數個共振器之各者具有大於20的一相對介電率。在一些情況下，該複數個共振器之各者具有大於50的一相對介電率。在一些情況下，該複數個共振器之各者具有大於100的一相對介電率。在一些情況下，該複數個共振器之各者具有在200至20,000的範圍內的一相對介電率。
在一些實施例中，HDR可經處理以增加相對介電率。例如，HDR之至少一者經熱處理。於另一實例，HDR之至少一者經燒結。在這樣的實例中，HDR之該至少一者可在高於600℃之溫度燒結二至四小時的一段時間。在其他情況下，HDR之該至少一者可在高於900℃之溫度燒結二至四小時的一段時間。在一些實施例中，該底材可包括Teflon®、石英玻璃、堇青石、硼矽玻璃、全氟烷氧基、聚胺甲酸酯、聚乙烯、氟化乙烯丙烯、其一組合、或類似者。在一些情況下，該底材具有在1至20之範圍內的一相對介電率。在一些情況下，該底材具有在1至10之範圍內的一相對介電率。在一些情況下，該底材具有在1至7之範圍內的一相對介電率。在一些情況下，該底材具有在1至5之範圍內的一相對介電率。
在一些實例中，複數個共振器係由一陶瓷材料製成。HDR 120可由多種陶瓷材料的任一者製成，例如，除了其他事物以外包括例如BaZnTa氧化物(BaZnTa oxide)、BaZnCoNb氧化物(BaZnCoNb oxide)、基於鋯的陶瓷、基於鈦的陶瓷、基於鈦酸鋇的材料、基於氧化鈦的材料、Y5V、以及X7R組成物。HDR 120可以一摻雜或未摻雜鈦酸鋇(BaTiO3)、鈦酸鋇鍶(BaSrTiO3)、Y5V、及X7R組 成物、TiO2(二氧化鈦)、鈦酸銅鈣(CaCu3Ti4O12)、鈦酸鋯鉛(PbZr x Ti1-x O3)、鈦酸鉛(PbTiO3)、鈦酸鎂鉛(PbMgTiO3)、鈮酸鉛鎂-鈦酸鉛(Pb(Mg1/3Nb2/3)O3.-PbTiO3)、鉭酸鐵鈦(FeTiTaO6)、以Li及Ti共摻雜之NiO(La1.5 Sr0.5NiO4,Nd1.5 Sr0.5 NiO4)、及其組合之至少一者製成。在一項實例中，HDR 120可具有40之一相對介電率。在一些實施例中，該波導係可撓。例如，該波導具有聚矽氧複合物的底材及以BaTiO3製成之HDR。
雖然在圖1中以舉例為目的而繪示成球狀，但在其他實例中，HDR 120可以各種不同形狀形成。在其他實例中，HDR 120之各者可具有圓柱狀形狀。仍在其他的實例中，HDR 120之各者可具有一立方體或其他平行六面體形狀。在一些實例中，HDR之各者可具有一矩形形狀、或一橢圓形狀。HDR 120可採用其他幾何形狀。HDR 120的功能可依據形狀而改變，如在下文關於圖4A至圖4C的進一步詳細說明。
收發器130及/或140可為發射一電磁波信號的一裝置。收發器130及/或140亦可為接收來自波導110之波的一裝置。該等波可為在射頻頻譜中的任何電磁波，例如包括60GHz毫米波。在一些實施例中，該複數個共振器的共振頻率係在一毫米波範圍內。在一些情況下，該複數個共振器的共振頻率係近似60GHz。在一些情況下，該複數個共振器的共振頻率係在紅外線頻率範圍內。只要HDR直徑與晶格常數遵循上文所陳述的限制，則系統100的波導110可例如使用於在一段射頻頻譜中的任何波。在一些實例中，波導110可用於 電磁波頻譜的毫米波段中。在一些實例中，波導110可與例如頻率範圍從10GHz至120GHz的信號一起使用。在其他實例中，波導110可與例如頻率範圍從10GHz至300GHz的信號一起使用。
具有HDR 120之波導110可用於多種系統，包括例如人體區域網路、人體感測器網路、60GHz通訊、地下通訊、或類似者。在一些實例中，諸如圖1之波導110的一波導可經形成，以包括一基材與複數個高介電質共振器，其中在該基材內之HDR的配置係在形成期間內受到控制，使得HDR能夠以經選擇的距離彼此隔開。HDR之間的距離(亦即，晶格常數)可基於欲與波導一起使用之一電磁波信號的一波長而經選擇。例如，晶格常數可遠小於波長。在一些實例中，在波導110的形成期間內，波導110的基材材料可被分成多個部分。在決定HDR之平面的位置之處，基材材料可被分段。半球狀溝槽可在各HDR之位置處被包括在基材材料之多個部分中。在具有不同形狀HDR的其他實例中，半圓柱狀或半矩形溝槽可被包括在基材材料中。HDR隨後可放置於基材材料的溝槽中。基材材料之多個部分隨後可被結合，以形成具有HDR嵌入於各處的一單一波導結構。雖然圖1繪示具有兩個收發器耦合至一波導之一通訊裝置/系統，所屬技術領域中具有通常知識者可輕易設計具有多個收發器耦合至一或多個波導之通訊裝置/系統。
圖2A繪示通訊系統200A之實例之示意圖，通訊系統200A使用具有HDR之一波導；圖2B係通訊系統200A之一EM振幅圖表；圖2C顯示通訊系統200A之具有HDR及不具有HDR的一比 較圖表。通訊系統200A包括耦合至兩個收發器230A及240A的一閉迴路波導210A，其中收發器230A在圖2B中較可看見。波導210A包括一底材215A及複數個HDR 220A。收發器230A接收一2.4GHz EM波信號並經由波導210A傳播該信號。如圖2B之圖表所示，EM場強度在收發器230A處係強，並且沿著該等HDR 220A保持大於5.11V/m。如圖2C所繪示，在2.4GHz處，如圖2A所繪示之具有HDR之一波導的S參數係-38.16dB，而不具有HDR之一波導的S參數係-80.85dB，其中S參數說明該兩個收發器之間的信號關係。
圖2D繪示通訊系統200D之實例之示意圖，通訊系統200D使用具有HDR之波導；圖2E係通訊系統200D之一EM振幅圖表；圖2F顯示通訊系統200D具有HDR及不具HDR之一比較圖表；通訊系統200D包括耦合至兩個收發器230D及240D的一「L」形波導210D。波導210D包括一底材215D及複數個HDR 220D。收發器240D接收一2.4GHz EM波信號並經由波導210D傳播該信號。如圖2D之圖表所示，該EM場強度在收發器240D處係強，並且沿著HDR 220A保持大於5.11V/m。如圖2F所繪示，在2.4GHz處，如圖2C所繪示之具有HDR之一波導的S參數係-29.68dB，而不具有HDR之一波導的S參數係-45.38dB。
圖3A至圖3G繪示HDR的一些配置實例。該等圖式使用一圓圈表示一HDR；然而，各HDR可使用在本文中說明的任意HDR組態。圖3A繪示具有依一陣列配置複數個HDR 310A之一波導300A的實例，其中該陣列在各列之間具有大致上相同的排列。在一些 情況下，兩相鄰列的四個相鄰HDR形成一矩形形狀315A。在一些情況下，315A大致上係一正方形，亦即兩相鄰列之間的距離與一列中兩相鄰HDR之間的距離相同。在一些實施例中，一列中的該等相鄰HDR具有大致上相同的間隔。在一些實施例中，對於相鄰HDR之間所需間隔S的一列，一列中任意兩相鄰HDR之間的距離係在S*(1±40%)的範圍內。圖3B繪示具有依一陣列配置複數個HDR 310B之波導300B的另一實例，其中該陣列的兩相鄰列之間具有不同的排列。在一些情況下，兩相鄰列的四個相鄰HDR形成一平行四邊形315B。在一些情況下，每隔兩列的四個HDR形成一矩形形狀317B。在一些情況下，每兩相鄰列具有大致上相同的距離。
圖3C繪示具有依一陣列配置複數個HDR 310C之波導300C的一個實例，其中該陣列的兩相鄰列之間具有不同的排列。在一些情況下，三相鄰列的四個相鄰HDR形成一正方形315C。在另一些情況下，一列中兩相鄰HDR之間的距離大致上與兩列之間的兩相鄰HDR之間的距離相同。在一些情況下，每隔兩列的四個HDR形成一矩形形狀317C。在一些情況下，矩形形狀317C係一正方形。
圖3D繪示具有依一圖案配置複數個HDR 310D之波導300D的一個實例，其中該等HDR具有各種大小及/或形狀。在一些情況下，至少兩HDR具有彼此不同的大小及/或形狀。在一些情況下，一第一組HDR具有的大小及/或形狀與一第二組HDR的大小及/或形狀不同。在一些情況下，一第一組HDR係以具有一第一相對介電率之一材料形成，該第一介電率與用於一第二組HDR之材料之一第二相對 介電率不同。各別大小、形狀、及/或材料的該等組HDR的圖案可使用本文描述的圖案的任一者，例如，圖3A至圖3C所繪示之該等圖案。圖3D中所繪示之該實例中，兩相鄰列中的四個相鄰HDR形成一矩形形狀315D。圖3E繪示一波導300D之一實例，波導300D具有依一種受到控制的方式設置的複數個HDR 310D，使得相鄰HDR的距離小於要傳播的EM波波長。在一些情況下，HDR 310D具有大致上相同的大小、形狀、及/或材料。在另一些情況下，HDR 310D可具有不同的大小、形狀、及/或材料。在此類例子中，以一種方式設置該等HDR使同一組中相鄰HDR的距離小於要傳播的EM波波長。在如圖3D及圖3E所繪示的一些情況下，不同大小及/或形狀的HDR可傳播不同波長範圍中的EM波。例如，使用具有一相對介電率40的一材料，直徑0.68mm的小HDR傳播60GHz範圍中的EM波；直徑7mm的中HDR傳播5.8GHz範圍中的EM波；而直徑17mm的大HDR傳播2.4GHz範圍中的EM波。
在一些實施例中，一波導內的該等HDR可包括以不同的介電材料製成之相異組的HDR，使HDR之各組具有一相異的相對介電率並且能傳播特定波長範圍之EM波。在一些情況下，該波導包括具有一第一相對介電率之一第一組HDR以及具有不同於該第一相對介電率之一第二相對介電率的一第二組HDR。在一些組態中，該第一組HDR係依一第一圖案設置而該第二組HDR係依一第二圖案設置，其中該第二圖案可與該第一圖案相同或不同。在如圖3D所繪示的一些組態中，HDR的各組係依一規則圖案設置。在圖3E所繪示的一些 組態中，HDR的各組係依一種受到控制的方式設置，使得相鄰HDR的距離小於要傳播的該EM波的該波長。
圖3F繪示具有一列HDR 310F之波導300F之一實例。相鄰HDR 310F可具有大致上相同的距離，如所繪示。在另一些情況下，相鄰HDR 310F之間的距離係在S*(1±40%)的範圍內，其中S係相鄰HDR 310F之間的該所需距離。在一些情況下，HDR 310F係依一種控制方式設置，使得相鄰HDR的距離小於要傳播的該EM波的該波長。在一些實施方案中，波導300F可包括一附接裝置，例如黏著條、黏著段、(一或多個)鉤或環固定器、或類似者。
圖3G繪示呈堆疊的波導300G之一實例。波導300G具有三節段：301G、302G、及303G。各節段(301G、302G、或303G)包括複數個HDR 310G。各節段(301G、302G、或303G)可具有依圖3A至圖3F中所繪示之任意圖案設置的HDR 310G。於所繪示的該實例中，對於各節段，HDR 310G係設置成一列。兩個相鄰節段具有一重疊節段315D，其包括至少兩個HDR以允許跨越該等節段的EM波傳播。
圖4A至圖4C係方塊立體透視圖，其等繪示根據本揭露之一或多項技術之可用於一HDR之結構的各種形狀。圖4A繪示根據本揭露目前之一或多項技術之球狀HDR的一實例。球狀HDR 80可由各種陶瓷材料製成，包括例如BaZnTa氧化物、BaZnCoNb氧化物、基於Zr的陶瓷、基於鈦的陶瓷、基於鈦酸鋇的材料、基於氧化鈦的材料、Y5V、以及X7R組成物、或類似者。圖4B與圖4C的HDR 82與84可由類似材料製成。球狀HDR 80係對稱的，如此天線與發射波的入射角不會整體地影響系統。HDR球體80的相對介電率與共振頻率直接相關。例如，以相同的共振頻率，HDR球體80的大小可藉由使用較高的相對介電率材料來減少。HDR球體80的TM共振頻率可使用下列公式來計算，對於模式S與極點n：
Figure 105112318-A0305-02-0019-2
HDR球體80的TE共振頻率可使用下列公式來計算，對於模式S與極點n：
Figure 105112318-A0305-02-0019-3
 其中，a係圓柱共振器的半徑。
圖4B係一方塊立體透視圖，其繪示根據本揭露目前之一或多項技術之一圓柱狀HDR的一實例。圓柱狀HDR 82並未繞著全部軸而對稱。因此，與圖4A的對稱球狀HDR 80相反，天線與發射波相對於圓柱狀HDR 82的入射角可在波上具有一偏振效應(當其等通過圓柱狀HDR 82時)，其取決於入射角。用於獨立的圓柱狀HDR 82之TE01n 模式的近似共振頻率可使用下列公式來計算：
Figure 105112318-A0305-02-0019-4
 其中，a係圓柱狀共振器的半徑且L係其長度。a以及L兩者係以毫米為單位。共振頻率f GHz 係以吉赫為單位。在0.5<a/L<2且30<ε r <50的範圍中，此公式係精確至約2%。
圖4C係一方塊立體透視圖，其繪示根據本揭露目前之一或多項技術之立方體HDR的實例。立方體HDR 84並非繞著所有軸對稱。因此，與圖4A的對稱球狀HDR 80相反，天線與發射波相對於圓柱狀HDR 82的入射角可在波上具有偏振效應(當其等通過立方體HDR 84時)。近似地，用於立方體HDR 84的最低共振頻率係：
Figure 105112318-A0305-02-0020-5
 其中，a係四方體邊長且c係在空氣中的光速。
圖4D係一方塊立體透視圖，其繪示經底材90塗布之球形HDR 88的一實例。這可用於控制HDR之間的該間隔。在一些情況下，這可用於製造程序以控制一HDR陣列之規則晶格常數。例如，球狀HDR 88具有17mm的一直徑以及為4.25mm的底材90塗布厚度。
圖5A繪示使用具HDR之一波導510A之人體區域網路(「BAN」)500A的一實例。波導510A可使用本文所述的組態之任一者。如該實例所繪示，波導510A係設置於一衣物520A上或者與衣物520A整合。在一些情況下，波導510A可以是可附接於衣物520A之一帶條(tape strip)形式。在另一些情況下，波導510A係衣物520A的 一整合部件。在一些情況下，BAN 500A包括若干小型化人體感測器單元(「BSU」)530A。BSU 530A可包括，例如，血壓感測器、胰島素泵感測器、ECG感測器、EMG感測器、運動感測器、及類似者。BSU 530A係電耦合至波導510A。「電耦合」係指電連接或無線連接。在一些情況下，BAN 500A可與施加於人的周圍環境(例如，頭盔、身體護具、使用設備、或類似者)的感測器一起使用。
在一些情況下，BSU 530A的一或多個組件係與一收發器(未繪示)整合，該收發器電磁耦合至波導510A。在一些情況下，BSU 530A的一或多個組件係設置於衣物520A上。在一些情況下，BSU 530A的一或多個組件係設置於人體上並電磁耦合至一收發器或波導510A。BSU 530A可經過波導510A與一控制單元540A無線通訊。控制單元540A可進一步經由胞狀網路550A或無線網路560A通訊。
圖5B繪示用於一通訊系統500B之一波導510B之一實例。通訊系統500B包括傳播一EM波之兩個通訊組件520B及530B。例如，組件520B及/或530B包括介電質共振器。如另一實例，介電質共振器係設置於組件520B及/或530B之表面上。通訊系統500B進一步包括一波導510B，其設置於兩個組件520B及530B之間並且能從一組件傳播該EM波到另一組件。波導510B可使用本文所述的組態之任一者。
圖5C繪示欲用於一封閉空間540C(例如，一車輛)之一通訊系統500C之一實例。通訊系統500C包括位於封閉空間 540C內的一收發器520C、位於封閉空間540C外部或位在允許EM波空氣傳播之處的一收發器530C、以及與收發器520C及530C電磁耦合的一波導510C。在一封閉空間阻斷EM波傳播的一實例中，通訊系統500C允許該EM波承載之信號進及出該封閉空間之雙向或單向通訊。波導510C可使用本文所述的組態之任一者。
圖6繪示一方塊立體透視圖，其繪示欲與阻擋結構650一起使用之一通訊裝置600之實施例。一阻擋結構係指會導致某波長內的無線信號顯著損失或阻斷之一結構。該阻擋結構可導致所發送無線信號之反射及折射並且造成信號損失。例如，阻擋結構可以例如是含有金屬的混凝土壁、金屬化玻璃、含鉛玻璃、金屬壁、或類似者。在一些情況下，通訊裝置600係一被動裝置，其能夠於一端部(例如，在一壁的前面)上擷取無線信號、以預先定義的路線(例如，繞著該壁)引導該等信號並且於另一端部(例如，該壁的後側)再發送該等無線信號。通訊裝置600包括一第一被動耦合裝置610、一第二被動耦合裝置620、以及一波導630。波導630可使用本文所述的任意波導組態。
阻擋結構650具有一第一側651及一第二側652。在一些情況下，第一側651係與第二側652相鄰。在一些情況下，第一側651係與第二側652相對。在一些情況下，該第一耦合裝置係近接該阻擋結構之一第一側設置並且經組態以擷取一傳入電磁波615(或稱為一無線信號)。第二耦合裝置620係近接該阻擋結構之一第二側設置。波導630係電磁耦合至該第一及該第二耦合裝置(610,620)並且係 繞著阻擋結構650設置。在一些情況下，波導630具有與該第一及該第二耦合裝置(610,620)匹配的一共振頻率。波導630係經組態以朝該第二耦合裝置傳播第一耦合裝置610所擷取之電磁波615。第二耦合裝置620係經組態以發送一電磁波625，電磁波625對應於傳入電磁波615。在一些實施例中，電磁波可以反向傳播，使得第二耦合裝置620可擷取一傳入電磁波、耦合該電磁波至波導630中、波導630朝向該第一耦合裝置610傳播該電磁波、然後第一耦合裝置610可發送該電磁波。
在一些實施例中，該兩個耦合裝置(610,620)之至少一者係一被動EM收集器，該被動EM收集器經設計以擷取某波長範圍內的EM波。一耦合裝置可以例如是一介電質透鏡、一貼片天線、一Yagi天線、一超材料耦合元件、或類似者。在一些情況下，該耦合裝置具有至少1的一增益。在一些情況下，該耦合裝置具有在1.5至3的範圍中的一增益。在一些情況下，該耦合裝置至少1的一增益。在一些情況下如果需要指向性，例如，為了僅耦合來自具體來源的能量，或者阻擋來自其他角度或來源(如干擾源)之能量，該耦合裝置可具有至少10至30之一增益。
圖7A至圖7D繪示耦合裝置的一些實例。在圖7A中，耦合裝置710A係一介電質透鏡。通訊裝置700A包括耦合裝置710A及電磁耦合至耦合裝置710A的一波導730。耦合裝置710A係近接一阻擋結構750之一側設置。介電質透鏡710A可收集來自周圍環境之電磁波並耦合該等電磁波至波導730。在圖7B中，耦合裝置710B係 一貼片天線。通訊裝置700B包括耦合裝置710B及電磁耦合至耦合裝置710B的波導730。耦合裝置710B係近接一阻擋結構750之一側設置。所繪示之該實例中，貼片天線710B包括可自周圍環境收集電磁波的貼片天線陣列712B、用以發送該等電磁波的饋送網路714B、耦合該等電磁波至波導730的二級貼片716B、以及一接地718B。
在圖7C中，耦合裝置710C係一Yagi天線。通訊裝置700C包括耦合裝置710C且波導730電磁耦合至耦合裝置710C。耦合裝置710C係近接一阻擋結構750之一側設置。所繪示之該實例中，Yagi天線710C包括可自周圍環境收集電磁波之指向器712C、一接地平面/反射器716C、一支撐件718C、以及貼片714C耦合該等電磁波至波導730。支撐件718C可由非導電材料形成。
圖7D繪示耦合裝置710D的實例。耦合裝置710D係包括一頂部層712D及一接地元件720D之一超材料耦合元件。頂部層712D係設置於波導730之一側上而接地元件720D係設置於波導730之相對側。在一些實施例中，頂部層712D可由固體金屬形成。頂部層712D包括設置其上的複數個環元件715D。在一些實施例中，環元件715D可設置在任意介電基材上，或直接在波導730之一表面上。環元件715D可以導電材料製成，例如諸如銅、銀、金、或類似者。在一些情況下，環元件可印製於頂部層712D上。在一些情況下，接地元件720D可以是一固體金屬接地平面。在一些情況下，接地元件720D可具有如頂部層712D的一相同環元件715D(未圖示)圖案。 在一些情況下，頂部層712D可包括一導電層，其中該導電層在環元件715D處經蝕刻。
例示性實施例
項目A1.一種裝置，其包含：兩個收發器，傳播一電磁波並電磁耦合至該兩個收發器之一波導，該波導包含一底材(base material)及依一圖案設置的複數個共振器，該複數個共振器具有一共振頻率，其中該複數個共振器之各者具有大於該底材之一相對介電率的一相對介電率，其中，該複數個共振器之至少兩者根據一晶格常數予以隔開，該晶格常數定義介於該等共振器之一第一者的一中心與該等共振器之一相鄰第二者的一中心之間的一距離。
項目A2.如項目A1之裝置，其進一步包含：一基材，其中該波導係設置於該基材上或與該基材整合。
項目A3.如項目A2之裝置，其中該等兩個收發器係設置於該基材上。
項目A4.如項目A1至A3中任一項之裝置，其中該波導係可撓。
項目A5.如項目A1至A4中任一項之裝置，其中該複數個共振器係設置於該底材之中或之上。
項目A6.如項目A1至A5中任一項之裝置，其中該底材塗布於該複數個共振器的至少一些之上。
項目A7.如項目A1至A6中任一項之裝置，其中該等兩個收發器之至少一者為一發送器。
項目A8.如項目A1至A7中任一項之裝置，其進一步包含：一第一感測器電耦合至該等兩個收發器之一第一收發器並且經組態以產生一第一感測信號。
項目A9.如項目A8之裝置，其中該第一收發器係經組態成經由該波導發送該第一感測信號至該第二收發器。
項目A10.如項目A8之裝置，其進一步包含：一第二感測器電耦合至該等兩個收發器之一第二收發器。
項目A11.如項目A1至A10中任一項之裝置，其中該晶格常數小於該電磁波的該波長。
項目A12.如項目A1至A11中任一項之裝置，其中至少部分基於該電磁波之一頻率選擇該複數個共振器之該共振頻率。
項目A13.如項目A1至A12中任一項之裝置，其中該複數個共振器之該共振頻率係經選擇以匹配該電磁波之一頻率。
項目A14.如項目A1至A13中任一項之裝置，其中該等共振器的該直徑對該晶格常數的一比率係小於一。
項目A15.如項目A1至A14中任一項之裝置，其中該複數個共振器之各者具有一相對介電率，該相對介電率係該底材之一相對介電率的至少五倍。
項目A16.如項目A1至A15中任一項之裝置，其中該複數個共振器之各者具有一相對介電率，該相對介電率係該底材之一相對介電率的至少十倍。
項目A17.如項目A1至A16中任一項之裝置，其中該複數個共振器的該共振頻率係在一毫米波範圍內。
項目A18.如項目A1至A17中任一項之裝置，其中該複數個共振器的該共振頻率係近似60GHz。
項目A19.如項目A1至A18中任一項之裝置，其中該複數個共振器的該共振頻率係在紅外線頻率範圍內。
項目A20.如項目A1至A19中任一項之裝置，其中該複數個共振器係由一陶瓷材料製成。
項目A21.如項目A1至A20中任一項之裝置，其中該複數個共振器之各者具有大於10的一相對介電率。
項目A22.如項目A1至A21中任一項之裝置，其中該複數個共振器之各者具有大於20的一相對介電率。
項目A23.如項目A1至A22中任一項之裝置，其中該複數個共振器之各者具有大於50的一相對介電率。
項目A24.如項目A1至A23中任一項之裝置，其中該複數個共振器之各者具有大於100的一相對介電率。
項目A25.如項目A1至A24中任一項之裝置，其中該複數個共振器之各者具有在200至20,000之範圍內的一相對介電率。
項目A26.如項目A1至A25中任一項之裝置，其中該複數個共振器係以一摻雜或未摻雜鈦酸鋇(BaTiO3)、鈦酸鋇鍶(BaSrTiO3)、Y5V、及X7R組成物、TiO2(二氧化鈦)、鈦酸銅鈣(CaCu3Ti4O12)、鈦酸鋯鉛(PbZr x Ti1-x O3)、鈦酸鉛(PbTiO3)、鈦酸鎂鉛(PbMgTiO3)、鈮酸鉛鎂-鈦酸鉛(Pb(Mg1/3Nb2/3)O3.-PbTiO3)、鉭酸鐵鈦(FeTiTaO6)、以Li及Ti共摻雜之NiO(La1.5 Sr0.5NiO4,Nd1.5 Sr0.5 NiO4)、及其組合製成。
項目A27.如項目A1至A26中任一項之該裝置，其中該複數個共振器之至少一者係經熱處理。
項目A28.如項目A1至A27中任一項之該裝置，其中該複數個共振器之至少一者係經燒結。
項目A29.如項目A28之裝置，其中該複數個共振器之至少一者係在高於600℃之溫度燒結二至四小時的一段時間。
項目A30.如項目A28之裝置，其中該複數個共振器之至少一者係在高於900℃之溫度燒結二至四小時的一段時間。
項目A31.如項目A4之裝置，其中該底材包含Teflon®、石英玻璃、堇青石、硼矽玻璃、全氟烷氧基、聚胺甲酸酯、聚乙烯、以及氟化乙烯丙烯之至少一者。
項目A32.如項目A1至A31中任一項之裝置，其中該底材具有在1至20之範圍中的一相對介電率。
項目A33.如項目A1至A32中任一項之裝置，其中該底材具有在1至10之範圍中的一相對介電率。
項目A34.如項目A1至A33中任一項之裝置，其中該底材具有在1至7之範圍中的一相對介電率。
項目A35.如項目A1至A34中任一項之裝置，其中該底材具有在1至5之範圍中的一相對介電率。
項目A36.如項目A1至A35中任一項之裝置，其中該複數個共振器經形成為具有一球狀形狀、一圓柱狀形狀、一立方體形狀、一矩形形狀、或一橢圓狀形狀之一者。
項目A37.一種穿戴裝置包含：項目A1之裝置.
項目A38.項目A37之穿戴裝置，其進一步包含：一或多個感測器，各感測器與該等兩個收發器之各別一者相關聯。
項目A39.項目A38之穿戴裝置，其中一收發器與兩個或更多個感測器相關聯。
項目A40.如項目A37至A39中任一項之穿戴裝置，其中該穿戴裝置係一衣物。
項目A41.一種無線通訊系統，其包含：第一及第二收發器；以及共振器之一規則陣列形成一波導，該波導延伸於該等第一及第二收發器之間並耦合至該等第一及第二收發器。
項目A42.項目A41之無線通訊系統，其中該波導包含一非線性的部分。
項目A43.一種用於傳播電磁波的波導，其包含：具有一共振頻率之複數個共振器，其中該複數個共振器之各者係經一底材塗布，其中該複數個共振器之各者具有大於該底材之一相對介電率的一相對介電率。
項目A44.如項目A43之波導，其中該複數個共振器之各者具有一相對介電率，該相對介電率係該底材之一相對介電率的至少五倍。
項目A45.如項目A43或A44之波導，其中該複數個共振器之各者具有一相對介電率，該相對介電率係該底材之一相對介電率的至少十倍。
項目A46.如項目A43至A45中任一項之波導，其中該複數個共振器之該共振頻率係經選擇以匹配一電磁波之一頻率。
項目A47.如項目A43至A46中任一項之波導，其中該複數個共振器經形成為具有一球狀形狀、一圓柱狀形狀、一立方體形狀、一矩形形狀、或一橢圓狀形狀之一者。
項目A48.一種用於傳播電磁波的波導，其包含：一底材，一第一組介電質共振器，該第一組介電質共振器之各者大致上具有一第一尺寸，以及一第二組介電質共振器，該第二組介電質共振器之各者大致上具有大於該第一尺寸的一第二尺寸， 其中該第一組介電質及該第二組介電質共振器之各者具有大於該底材之一相對介電率的一相對介電率。
項目B1.一種用於繞著一阻擋結構傳播電磁波之通訊裝置，包含：近接該阻擋結構之一第一側設置並且經組態以擷取該電磁波之一被動耦合裝置，近接該阻擋結構之一第二側設置之一發送器，電磁耦合至該耦合裝置及該發送器並且繞著該阻擋結構設置之一波導，該波導具有與該耦合裝置匹配的一共振頻率，該波導經組態以傳播該耦合裝置所擷取之該電磁波，其中該發送器係經組態以再輻射該電磁波。
項目B2.如項目B1之裝置，其中該耦合裝置包含一介電質透鏡。
項目B3.如項目B1或B2之裝置，其中該耦合裝置包含一貼片天線(patch antenna)。
項目B4.如項目B1至B3中任一項之裝置，其中該耦合裝置包含一超材料(metamaterial)耦合元件。
項目B5.如項目B1至B4中任一項之裝置，其中該波導包含一底材(base material)及複數個共振器。
項目B6.如項目B5之裝置，其中該複數個共振器係依一圖案設置。
項目B7.如項目B5之裝置，其中該複數個共振器係依一陣列設置。
項目B8.如項目B5之裝置，其中，該複數個共振器之至少兩者根據一晶格常數予以隔開，該晶格常數定義介於該等共振器之一第一者的一中心與該等共振器之一相鄰第二者的一中心之間的一距離。
項目B9.如項目B7之裝置，其中該晶格常數小於該電磁波的該波長。
項目B10.如項目B1至B9中任一項之裝置，其中該耦合裝置之該共振頻率經選擇以匹配該電磁波之該頻率。
項目B11.如項目B7之裝置，其中該等共振器的該直徑對該晶格常數的一比率係小於一。
項目B12.如項目B5之裝置，其中該複數個共振器係設置於該底材之中或之上。
項目B13.如項目B5之裝置，其中該底材塗布於該複數個共振器的至少一些之上。
項目B14.如項目B5之裝置，其中至少部分基於該電磁波之一頻率選擇該複數個共振器之該共振頻率。
項目B15.如項目B5之裝置，其中該複數個共振器之該共振頻率係經選擇以匹配該電磁波之一頻率。
項目B16.如項目B5之裝置，其中該等共振器的該直徑對該晶格常數的一比率係小於一。
項目B17.如項目B5之裝置，其中該複數個共振器之各者具有一相對介電率，該相對介電率係該底材之一相對介電率的至少五倍。
項目B18.如項目B5之裝置，其中該複數個共振器之各者具有一相對介電率，該相對介電率係該底材之一相對介電率的至少十倍。
項目B19.如項目B1至B18中任一項之裝置，其中該波導的該共振頻率係在一毫米波段內。
項目B20.如項目B1至B19中任一項之裝置，其中該波導的該共振頻率係近似4.8GHz。
項目B21.如項目B1至B20中任一項之裝置，其中該波導的該共振頻率係在紅外線頻率範圍內。
項目B22.如項目B5之裝置，其中該複數個共振器係由一陶瓷材料製成。
項目B23.如項目B5之裝置，其中該複數個共振器之各者具有大於20的一相對介電率。
項目B24.如項目B5之裝置，其中該複數個共振器之各者具有大於100的一相對介電率。
項目B25.如項目B5之裝置，其中該複數個共振器之各者具有在200至20,000之範圍內的一相對介電率。
項目B26.如項目B5之裝置，其中該複數個共振器係以一摻雜或未摻雜鈦酸鋇(BaTiO3)、鈦酸鋇鍶(BaSrTiO3)、Y5V、及 X7R組成物、TiO2(二氧化鈦)、鈦酸銅鈣(CaCu3Ti4O12)、鈦酸鋯鉛(PbZr x Ti1-x O3)、鈦酸鉛(PbTiO3)、鈦酸鎂鉛(PbMgTiO3)、鈮酸鉛鎂-鈦酸鉛(Pb(Mg1/3Nb2/3)O3.-PbTiO3)、鉭酸鐵鈦(FeTiTaO6)、以Li及Ti共摻雜之NiO(La1.5 Sr0.5NiO4,Nd1.5 Sr0.5 NiO4)、及其組合製成。
項目B27.如項目B5之裝置，其中該複數個共振器之至少一者係經熱處理。
項目B28.如項目B5之裝置，其中該複數個共振器之至少一者係經燒結。
項目B29.如項目B28之該裝置，其中該複數個共振器之至少一者係在高於600℃之溫度燒結二至四小時的一段時間。
項目B30.如項目B28之該裝置，其中該複數個共振器之至少一者係在高於900℃之溫度燒結二至四小時的一段時間。
項目B31.如項目B5之裝置，其中該底材包含Teflon®、石英玻璃、堇青石、硼矽玻璃、全氟烷氧基、聚胺甲酸酯、聚乙烯、以及氟化乙烯丙烯之至少一者。
項目B32.如項目B1至B31中任一項之裝置，其中該第二側係相對於該阻擋結構之該第一側。
本發明不應被認為是限於本文所描述的特定實例及實施例，因為詳細描述這些實施例是為了利於解說本發明的各種態樣。而是，應理解本發明涵蓋本發明的所有態樣，包括屬於如隨附申請專利範圍與其均等物所界定的本發明之精神及範疇內的各種修改、均等程序、和替代裝置。
600‧‧‧通訊裝置
610‧‧‧第一被動耦合裝置
615‧‧‧電磁波
620‧‧‧第二被動耦合裝置
625‧‧‧電磁波
630‧‧‧波導
650‧‧‧阻擋結構
651‧‧‧第一側
652‧‧‧第二側

Claims (12)

  1. 一種用於繞著(around)一阻擋結構傳播電磁波之通訊裝置，其包含：一被動耦合裝置，近接該阻擋結構之一第一側而設置並且經組態以擷取該電磁波，一發送器，近接該阻擋結構之一第二側而設置，以及一波導，電磁耦合至該耦合裝置及該發送器並且繞著該阻擋結構而設置，該波導具有與該耦合裝置匹配的一共振頻率，該波導經組態以傳播該耦合裝置所擷取之該電磁波，其中該發送器係經組態以再輻射該電磁波，其中該波導包含一底材(base material)及複數個共振器，其中，該複數個共振器之至少兩者根據一晶格常數予以隔開，該晶格常數定義介於該等共振器之一第一者的一中心與該等共振器之一相鄰第二者的一中心之間的一距離，其中該等共振器的一直徑對該晶格常數的一比率係小於一。
  2. 如請求項1之裝置，其中該耦合裝置包含一介電質透鏡。
  3. 如請求項1之裝置，其中該耦合裝置包含一貼片天線(patch antenna)。
  4. 如請求項1之裝置，其中該耦合裝置包含一超材料(metamaterial)耦合元件。
  5. 如請求項1之裝置，其中該複數個共振器係依一圖案設置。
  6. 如請求項1之裝置，其中該複數個共振器係依一陣列設置。
  7. 如請求項1之裝置，其中該晶格常數小於該電磁波的該波長。
  8. 如請求項1之裝置，其中該耦合裝置之該共振頻率經選擇以匹配該電磁波之該頻率。
  9. 如請求項1之裝置，其中至少部分基於該電磁波之一頻率選擇該複 數個共振器之該共振頻率。
  10. 如請求項1之裝置，其中該波導的該共振頻率係近似4.8GHz。
  11. 如請求項1之裝置，其中該複數個共振器係以一摻雜或未摻雜鈦酸鋇(BaTiO3)、鈦酸鋇鍶(BaSrTiO3)、Y5V、及X7R組成物、TiO2(二氧化鈦)、鈦酸銅鈣(CaCu3Ti4O12)、鈦酸鋯鉛(PbZr x Ti1-x O3)、鈦酸鉛(PbTiO3)、鈦酸鎂鉛(PbMgTiO3)、鈮酸鉛鎂-鈦酸鉛(Pb(Mg1/3Nb2/3)O3.-PbTiO3)、鉭酸鐵鈦(FeTiTaO6)、以Li及Ti共摻雜之NiO(La1.5 Sr0.5NiO4,Nd1.5 Sr0.5 NiO4)、及其組合製成。
  12. 如請求項1之裝置，其中該第二側係相對於該阻擋結構之該第一側。
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