TWI656921B - 磁控去除矽化物顆粒的尾氣處理裝置 - Google Patents

磁控去除矽化物顆粒的尾氣處理裝置 Download PDF

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Abstract

本發明提供一種磁控去除矽化物顆粒的尾氣處理裝置，包括：第一收容腔體；第二收容腔體，連接於第一收容腔體下方，並與第一收容腔體連通；進氣管，連接於第一收容腔體，用於向第一收容腔體內輸入尾氣；刮刀，設於第一收容腔體內；被動磁鐵，鑲嵌於刮刀內；主動磁鐵，設於第一收容腔體外，用於驅動被動磁鐵，使刮刀沿第一收容腔體內側壁運動，以刮除附著在第一收容腔體內側壁上的矽化物顆粒；噴灑頭，設於第二收容腔體內，用於噴灑出水。本發明的尾氣處理裝置通過磁力控制刮刀的運動，擁有良好的密封性能，主動磁鐵可以被完全放置在管線外部，不會影響管線的密封性。同時，主動磁鐵很容易被馬達驅動，無需使用高純氮氣，有利於降低成本。

Description

磁控去除矽化物顆粒的尾氣處理裝置
本發明屬於半導體製造領域，涉及一種磁控去除矽化物顆粒的尾氣處理裝置。
濕式尾氣處理器(Wet scrubber)廣泛應用於磊晶(EPI)系統中，用來去除反應氣體，例如TCS(三氯氫矽)、HCl(氯化氫)及摻雜劑。圖1顯示為現有的一種濕式尾氣處理器，其包括進氣管道，圖中採用箭頭示出了氣流方向。TCS將會與水反應生成二氧化矽顆粒，反應式如下：TCS(SiHCl3)+H2O->SiO2+H2+Cl-。二氧化矽顆粒通常在TCS分子與水直接接觸時產生，並被噴淋頭的水流沖洗進完全濕潤區。
但是，在全乾區域(進氣區域)與完全潮濕區域(從噴淋頭開始)之間存在一個潮濕過渡區域，在這個區域內，SiO2顆粒傾向於粘附在進氣管道的內壁上。這些二氧化矽顆粒會堵塞管線，影響負壓穩定性。因此，有必要採取措施來去除這些堆積的二氧化矽顆粒。
現有的一種改進技術方案如圖2所示，是增加一個刮刀，刮刀在馬達帶動下旋轉，將二氧化矽殘留物去除。其優點是結構簡單、大大延長預防性維護(PM)週期，缺點是由於刮刀是旋轉部件，刮刀與管線之間的密封不是很好，從而增加了凸起洩漏的風險。
現有的另一種改進技術方案如圖3所示，其設置了兩個氮氣(N2)進氣口。當氣缸上部的氮氣進氣口開啟，活塞向下運動，去除殘留二氧化矽顆粒；當氣缸下部的氮氣進氣口開啟，活塞向上運動，讓製程氣流容易通過管線。其優點是擁有良好的密封性，不會洩露，並同樣可以大大延長預防性維護週期，缺點是需要耗費大量的高純氮氣，並且當TCS、摻雜及氧氣發生反應時，壓縮空氣(CDA)可能會導致爆炸。
因此，如何提供一種氣密性良好、能夠安全去除矽化物顆粒的尾氣處理裝置，成為本領域技術人員亟待解決的一個重要技術問題。
鑒於以上所述現有技術的缺點，本發明的目的在於提供一種磁控去除矽化物顆粒的尾氣處理裝置，用於解決現有技術中尾氣處理裝置維護週期短、密封性不好、存在安全隱患等問題。
為實現上述目的及其他相關目的，本發明提供一種磁控去除矽化物顆粒的尾氣處理裝置，包括：第一收容腔體；第二收容腔體，連接於所述第一收容腔體下方，並與所述第一收容腔體連通；進氣管，連接於所述第一收容腔體，用於向所述第一收容腔體內輸入尾氣；刮刀，設於所述第一收容腔體內；被動磁鐵，鑲嵌於所述刮刀內；主動磁鐵，設於所述第一收容腔體外，用於驅動所述被動磁鐵，使所述刮刀沿第一收容腔體內側壁運動，以刮除附著在所述第一收容腔體內側壁上的矽化物顆粒；噴淋頭，設於所述第二收容腔體內，用於噴灑出水，使由所述第一收容腔體進入所述第二收容腔體的尾氣與水反應，並將反應生成的矽化物顆粒沖入所述第二收容腔體。
可選地，所述刮刀為條形且縱向設置於所述第一收容腔體內；所述刮刀上端透過一彎折部與設置於所述第一收容腔體頂部的軸承連接。
可選地，所述第一收容腔體為圓柱形，所述軸承設於所述第一收容腔體的頂部中心，所述彎折部的橫向寬度大致等於所述第一收容腔體的半徑。
可選地，所述刮刀的長度大於所述第一收容腔體高度的一半。
可選地，所述進氣管設置於所述第一收容腔體側壁上。
可選地，所述刮刀之首尾相接且水平地設置於所述第一收容腔體內，所述刮刀在所述主動磁鐵的帶動下上下移動。
可選地，所述第一收容腔體為圓柱形；所述刮刀為圓環形，所述刮刀在上下移動的同時還可以在所述主動磁鐵的帶動下水平地旋轉。
可選地，所述刮刀的縱截面寬度自上而下先逐漸增大再逐漸減小。
可選地，所述進氣管設置於所述第一收容腔體頂部。
可選地，所述刮刀的材質包括聚四氟乙烯。
如上所述，本發明的種磁控去除矽化物顆粒的尾氣處理裝置，具有以下有益效果：本發明的磁控去除矽化物顆粒的尾氣處理裝置透過磁力控制刮刀的運動，其中，主動磁鐵控制被動磁鐵，進而控制刮刀的運動。本發明的磁控去除矽化物顆粒的尾氣處理裝置擁有良好的密封性 能，主動磁鐵可以被完全放置在管線外部，不會影響管線的密封性。同時，主動磁鐵很容易被馬達驅動，無需使用高純氮氣，有利於降低成本。
1‧‧‧第一收容腔體
2‧‧‧第二收容腔體
3‧‧‧進氣管
4‧‧‧刮刀
5‧‧‧被動磁鐵
6‧‧‧主動磁鐵
7‧‧‧矽化物顆粒
8‧‧‧噴灑頭
9‧‧‧彎折部
10‧‧‧軸承
圖1顯示為現有的一種濕式尾氣處理器的結構示意圖。
圖2顯示為現有的一種帶有旋轉刮刀的濕式尾氣處理器的結構示意圖。
圖3顯示為現有的一種帶有氮氣驅動氣缸的濕式尾氣處理器的結構示意圖。
圖4顯示為本發明的磁控去除矽化物顆粒的尾氣處理裝置於實施例一中的結構示意圖。
圖5顯示為圖4所示尾氣處理裝置的俯視圖。
圖6顯示為本發明的磁控去除矽化物顆粒的尾氣處理裝置於實施例二中的結構示意圖。
圖7顯示為圖6所示尾氣處理裝置的俯視圖。
圖8顯示為圖7所示結構的A-A1向剖面圖。
以下透過特定的具體實例說明本發明的實施方式，本領域技術人員可由本說明書所揭露的內容輕易地瞭解本發明的其他優點與功效。本發明還可以透過另外不同的具體實施方式加以實施或應用，本說明書中的各項細節也可以基於不同觀點與應用，在沒有背離本發明的精神下進行各種修飾或改變。
請參閱圖4至圖8。需要說明的是，本實施例中所提供的圖 示僅以示意方式說明本發明的基本構想，遂圖式中僅顯示與本發明中有關的組件而非按照實際實施時的元件數目、形狀及尺寸繪製，其實際實施時各元件的型態、數量及比例可為一種隨意的改變，且其元件佈局型態也可能更為複雜。
實施例一：
本發明提供一種磁控去除矽化物顆粒的尾氣處理裝置，請參閱圖4，顯示為該尾氣處理裝置的結構示意圖，包括：第一收容腔體1；第二收容腔體2，連接於所述第一收容腔體1下方，並與所述第一收容腔體1連通；進氣管3，連接於所述第一收容腔體1，用於向所述第一收容腔體1內輸入尾氣；刮刀4，設於所述第一收容腔體1內；被動磁鐵5，鑲嵌於所述刮刀4內；主動磁鐵6，設於所述第一收容腔體1外，用於驅動所述被動磁鐵5，使所述刮刀4沿第一收容腔體1之內側壁運動，以刮除附著在所述第一收容腔體1之內側壁上的矽化物顆粒7；噴灑頭8，設於所述第二收容腔體2內，用於噴灑出水，使由所述第一收容腔體1進入所述第二收容腔體2的尾氣與水反應，並將反應生成的矽化物顆粒沖入所述第二收容腔體2。
具體的，所述尾氣為磊晶製程產生的尾氣，包括TCS(三氯氫矽)、HCl(氯化氫)、摻雜劑等。
本實施例中，所述進氣管3設置於所述第一收容腔體1之側壁上，圖2中採用較粗的箭頭示出了尾氣的氣流方向。所述噴灑頭8透過支架固定於所述第二收容腔體2內，圖2中採用較細的箭頭示出了噴灑的水流方向。其中，附著在所述第一收容腔體1內側壁上的矽化物顆粒7來源於TCS與水的反應產物。雖然理論上矽化物顆粒只在設有噴灑頭8的第二收容 腔體2內生成，但是由於所述第一收容腔體1與所述第二收容腔體2連通，所述第一收容腔體1內也會存在潮濕的水汽，而由於沒有水流的沖淋作用，生成於所述第一收容腔體1內的矽化物顆粒會在所述第一收容腔體1內側壁上聚集。本發明設置於所述第一收容腔體1內的刮刀4正是用於刮除附著在所述第一收容腔體1內側壁上的矽化物顆粒7。
作為示例，所述刮刀4為條形且縱向設置於所述第一收容腔體1內；所述刮刀4上端透過一彎折部9與設置於所述第一收容腔體1頂部的軸承10連接。其中，所述第一收容腔體1為圓柱形，所述軸承10設於所述第一收容腔體1的頂部中心，所述彎折部9的橫向寬度大致等於所述第一收容腔體1的半徑。
此處，所述彎折部9的橫向寬度大致等於所述第一收容腔體1的半徑是指所述刮刀4的刀刃理論上與所述第一收容腔體1內壁緊貼，但不排除由於誤差等原因而與所述第一收容腔體1內部之間具有微小的空隙。本實施例中，該空隙不大於5mm。
為了達到較大的刮除區域，本實施例中，所述刮刀4的長度優選為大於所述第一收容腔體1高度的一半。所述刮刀4的材質包括但不限於聚四氟乙烯。
特別的，所述刮刀4是透過磁力驅動。圖5顯示為所述尾氣處理裝置的俯視圖，其中採用箭頭示出了所述主動磁鐵6及被動磁鐵5的運動方向。所述主動磁鐵6及被動磁鐵5既可以為順時針，也可以為逆時針。
具體的，所述主動磁鐵6是透過設於所述第一收容腔體1、第二收容腔體2外的馬達驅動，當所述主動磁鐵6環繞所述第一收容腔體 1、第二收容腔體2運動時，鑲嵌於所述刮刀4內的被動磁鐵5被磁力帶動，進而使得所述刮刀4沿第一收容腔體1內側壁運動，刮除附著在所述第一收容腔體1內側壁上的矽化物顆粒7。本發明的磁控去除矽化物顆粒的尾氣處理裝置擁有良好的密封性能，主動磁鐵6可以被完全放置在管線外部，不會影響管線的密封性。同時，主動磁鐵6很容易被馬達驅動，無需使用高純氮氣，有利於降低成本。
實施例二：
本實施例與實施例一的不同之處在於，刮刀的結構與運動軌跡不同。
請參閱圖6，顯示為本實施例中所述尾氣處理裝置的結構示意圖。其中，所述刮刀4首尾相接且水平地設置於所述第一收容腔體1內，可以在所述主動磁鐵6的帶動下上下移動。
具體的，所述第一收容腔體1可以為但不限於圓柱形，所述刮刀4的外緣輪廓與所述第一收容腔體1的橫截面內緣輪廓相互對應，以利於所述刮刀4的上下移動。
本實施例中，所述第一收容腔體1優選為圓柱形，所述刮刀4為圓環形，使得所述刮刀4在上下移動的同時還可以在所述主動磁鐵6的帶動下水平地旋轉，有利於提高去除矽化物顆粒的效率。
本實施例中，所述進氣管3設置於所述第一收容腔體1頂部。所述刮刀4的材質包括但不限於聚四氟乙烯。
請參閱圖7，顯示為本實施例中所述尾氣處理裝置的俯視圖，其中採用箭頭示出了所述主動磁鐵6及被動磁鐵5的運動方向。所述主 動磁鐵6及被動磁鐵5既可以為順時針，也可以為逆時針。
請參閱圖8，顯示為圖7所示結構的A-A1向剖面圖，可見所述刮刀4的縱截面寬度自上而下先逐漸增大再逐漸減小。寬度漸變的刮刀邊緣可以更有效地將矽化物顆粒7鏟下。本實施例中，所述逐漸增大或逐漸減小為線性變化，在其它實施例中，也可以為非線性變化，此處不應過分顯示本發明的保護範圍。
綜上所述，本發明的磁控去除矽化物顆粒的尾氣處理裝置通過磁力控制刮刀的運動，其中，主動磁鐵控制被動磁鐵，進而控制刮刀的運動。本發明的磁控去除矽化物顆粒的尾氣處理裝置擁有良好的密封性能，主動磁鐵可以被完全放置在管線外部，不會影響管線的密封性。同時，主動磁鐵很容易被馬達驅動，無需使用高純氮氣，有利於降低成本。所以，本發明有效克服了現有技術中的種種缺點而具高度產業利用價值。
上述實施例僅例示性說明本發明的原理及其功效，而非用於限制本發明。任何熟悉此技術的人士皆可在不違背本發明的精神及範疇下，對上述實施例進行修飾或改變。因此，舉凡所屬技術領域中具有通常知識者在未脫離本發明所揭示的精神與技術思想下所完成的一切等效修飾或改變，仍應由本發明的申請專利範圍所涵蓋。

Claims (10)

  1. 一種磁控去除矽化物顆粒的尾氣處理裝置，包括：一第一收容腔體；一第二收容腔體，連接於所述第一收容腔體下方，並與所述第一收容腔體連通；一進氣管，連接於所述第一收容腔體，用於向所述第一收容腔體內輸入尾氣；一刮刀，設於所述第一收容腔體內；一被動磁鐵，鑲嵌於所述刮刀內；一主動磁鐵，設於所述第一收容腔體外，用於驅動所述被動磁鐵，使所述刮刀沿第一收容腔體內側壁運動，以刮除附著在所述第一收容腔體內側壁上的矽化物顆粒；一噴灑頭，設於所述第二收容腔體內，用於噴灑出水，使由所述第一收容腔體進入所述第二收容腔體的尾氣與水反應，並將反應生成的矽化物顆粒沖入所述第二收容腔體。
  2. 如請求項1所述的磁控去除矽化物顆粒的尾氣處理裝置，其中所述刮刀為條形且縱向設置於所述第一收容腔體內；所述刮刀之上端透過一彎折部與設置於所述第一收容腔體之頂部的軸承相連接。
  3. 如請求項2所述的磁控去除矽化物顆粒的尾氣處理裝置，其中所述第一收容腔體為圓柱形，所述軸承設於所述第一收容腔體的頂部中心，所述彎折部的橫向寬度大致等於所述第一收容腔體的半徑。
  4. 如請求項2所述的磁控去除矽化物顆粒的尾氣處理裝置，其中所述刮刀的長度大於所述第一收容腔體高度的一半。
  5. 如請求項2所述的磁控去除矽化物顆粒的尾氣處理裝置，其中所述進氣管設置於所述第一收容腔體側壁上。
  6. 如請求項1所述的磁控去除矽化物顆粒的尾氣處理裝置，其中所述刮刀之首尾相接且水平地設置於所述第一收容腔體內，在所述主動磁鐵的帶動下上下移動。
  7. 如請求項6所述的磁控去除矽化物顆粒的尾氣處理裝置，其中所述第一收容腔體為圓柱形；所述刮刀為圓環形，所述刮刀在上下移動的同時還可以在所述主動磁鐵的帶動下水平地旋轉。
  8. 如請求項6所述的磁控去除矽化物顆粒的尾氣處理裝置，其中所述刮刀的縱截面寬度自上而下先逐漸增大再逐漸減小。
  9. 如請求項6所述的磁控去除矽化物顆粒的尾氣處理裝置，其中所述進氣管設置於所述第一收容腔體之頂部。
  10. 如請求項1所述的磁控去除矽化物顆粒的尾氣處理裝置，其中所述刮刀的材質包括聚四氟乙烯。
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108816990A (zh) * 2018-08-23 2018-11-16 芜湖职业技术学院 磁性清洁装置及清洁方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5785929A (en) * 1996-08-08 1998-07-28 Samsung Electronics Co., Ltd. Waste gas disposal apparatus
TWM353050U (en) * 2008-10-29 2009-03-21 Univ Far East Water tower cleaning apparatus
TWI321062B (en) * 2003-11-17 2010-03-01 Edwards Ltd Exhaust gas treatment

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6759018B1 (en) * 1997-05-16 2004-07-06 Advanced Technology Materials, Inc. Method for point-of-use treatment of effluent gas streams
CN201644459U (zh) * 2010-04-02 2010-11-24 上海晶盟硅材料有限公司 管路清洁装置及生产外延片的尾气处理用管路系统
US20130168317A1 (en) * 2011-12-30 2013-07-04 Vanderbeken Enterprises Ltd. Dba Drycake Method and apparatus for removal of tars, resins, chars or volatiles from a liquid
CN103624014A (zh) * 2013-11-06 2014-03-12 江苏君鑫谊石油机械有限公司 油田设备用除垢除蜡装置
CN104154773B (zh) * 2014-05-15 2016-04-06 东南大学常州研究院 用于水冷式垂直冷凝管外的除液装置
CN204114967U (zh) * 2014-09-30 2015-01-21 昆山国显光电有限公司 尾气处理设备
CN204851387U (zh) * 2015-06-12 2015-12-09 天津北洋净达科技有限责任公司 一种环保尾气处理器

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5785929A (en) * 1996-08-08 1998-07-28 Samsung Electronics Co., Ltd. Waste gas disposal apparatus
TWI321062B (en) * 2003-11-17 2010-03-01 Edwards Ltd Exhaust gas treatment
TWM353050U (en) * 2008-10-29 2009-03-21 Univ Far East Water tower cleaning apparatus

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